WO2020166212A1 - 硬化性樹脂組成物、硬化物、酸変性マレイミド樹脂および硬化剤 - Google Patents

硬化性樹脂組成物、硬化物、酸変性マレイミド樹脂および硬化剤 Download PDF

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WO2020166212A1
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WO
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acid
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aliphatic hydrocarbon
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雅樹 迫
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Dic株式会社
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits

Definitions

  • the present invention relates to an acid-modified maleimide resin, a curing agent, a curable resin composition containing the curing agent, in particular, a curable resin composition for forming a solder resist used for a printed wiring board, and a dry method using the same.
  • the present invention relates to a film and a printed wiring board.
  • the curable resin composition for resin insulating layers such as solder resists has improved performance and improved workability in response to the higher density of printed wiring boards that accompany lighter, thinner, shorter, and smaller electronic devices. Is required.
  • electric control of automobiles, especially the drive section is progressing, and printed wiring boards are often mounted in places where the ambient temperature is high, such as the engine room and its surroundings. Automotive printed wiring boards are exposed to high temperatures of 80°C to 150°C for a long time depending on the mounting location, so they are excellent for high-performance solder resists used in in-vehicle printed wiring boards. Heat resistance is required.
  • a material suitable for such a solder resist is a bismaleimide compound.
  • Bismaleimide compound is a resin having excellent heat resistance, flame retardancy, dielectric properties, etc., but a known bismaleimide compound that does not show curing reactivity with an epoxy resin, when used in combination with a curable resin of epoxy curing type, There was a problem of insufficient heat resistance. Therefore, an amine-modified bismaleimide compound obtained by reacting an amino group of a monoamine compound such as aminophenol with an unsaturated N-substituted maleimide group of a bismaleimide compound may be used in combination with a curable resin of epoxy curing type. It has been proposed (for example, see Patent Document 1). However, since the compound has insufficient alkali developability, it is insufficient as a solder resist material, particularly as a solder resist material required for a recent printed wiring board having a miniaturized circuit.
  • the problem to be solved by the present invention is to provide an acid-modified maleimide resin capable of obtaining a cured product having excellent alkali developability and heat resistance, a curable resin composition containing the resin, and a solder resist forming composition.
  • Another object of the present invention is to provide a dry film and a printed wiring board using the curable resin composition.
  • an acid-modified maleimide resin obtained by adding a fatty acid having a conjugated diene to an N-substituted maleimide group in a maleimide resin using a Diels-Alder reaction is used as a curing agent.
  • a cured product having excellent heat resistance and good alkali developability was obtained, and the above problems were solved.
  • the present invention provides an acid-modified maleimide resin (A) containing a structure (1) obtained by adding a fatty acid having a conjugated diene or its derivative (a1) to an N-substituted maleimide group, and a curable resin (B).
  • A acid-modified maleimide resin
  • B curable resin
  • the present invention provides a curable resin composition containing the same, an application thereof, a cured product, and an acid-modified maleimide resin having a specific structure which can be suitably used as a curing agent.
  • an acid-modified maleimide resin capable of obtaining a cured product having excellent heat resistance and alkali developability, a curable resin composition containing the compound, a solder resist forming composition, and the curable resin described above.
  • a dry film and a printed wiring board using the composition can be provided.
  • FIG. 3 is an FT-IR chart of the acid-modified maleimide resin obtained in Example 1 of the present invention. It is a GPC chart figure of the acid-modified maleimide resin obtained in Example 1 of this invention.
  • the curable resin composition of the present invention comprises an acid-modified maleimide resin (A) containing a structure (1) formed by adding a fatty acid having a conjugated diene or its derivative (a1) to an N-substituted maleimide group, and a curable resin. It is characterized in that it contains a resin (B).
  • the N-substituted maleimide group represents a so-called unsaturated N-substituted maleimide group of maleimide, that is, maleimide is preferably used as a raw material.
  • maleimide examples include a bismaleimide compound having two maleimide groups in one molecule and a maleimide resin having three or more maleimide groups in one molecule.
  • any compound can be used as long as it is a compound having at least two unsaturated N-substituted maleimide groups in its molecular structure, for example, the following formula (a1)
  • R 1 is a divalent organic group having an aromatic ring or an aliphatic hydrocarbon
  • the bismaleimide compound represented by can be illustrated as a preferable example.
  • the R 1 is more preferably a divalent organic group having an aromatic ring from the viewpoint that the obtained cured product is more excellent in heat resistance.
  • the divalent organic group having an aromatic ring or an aliphatic hydrocarbon represented by R 1 is an alkylene group, a cycloalkylene group, a monocyclic or polycyclic arylene group, or an atomic group in which these groups are divalent.
  • a divalent group bonded by an alkylene group, a cycloalkylene group, an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfone group, a sulfinyl group, a disulfide group, a carbonyl group, etc. is mentioned as a preferable structure.
  • bismaleimide compound examples include N,N'-ethylene bismaleimide, N,N'-hexamethylene bismaleimide, N,N'-(1,3-phenylene)bismaleimide, N,N'- [1,3-(2-methylphenylene)]bismaleimide, N,N′-[1,3-(4-methylphenylene)]bismaleimide, N,N′-(1,4-phenylene)bismaleimide, Bis(4-maleimidophenyl)methane, bis(3-methyl-4-maleimidophenyl)methane, 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide, bis(4-maleimidophenyl)ether , Bis(4-maleimidophenyl)sulfone, bis(4-maleimidophenyl)sulfide, bis(4-maleimidophenyl)ketone, bis(4-maleimidocyclohe
  • bis(4-maleimidophenyl)methane bis(4-maleimidophenyl)sulfone, bis(4-maleimidophenyl)sulfide, bis(4-maleimidophenyl) ) Disulfide, N,N'-(1,3-phenylene)bismaleimide, and 2,2-bis(4-(4-maleimidophenoxy)phenyl)propane are preferable, and bis(4-maleimidophenyl) is inexpensive.
  • Methane and N,N'-(1,3-phenylene)bismaleimide are more preferable, and bis(4-maleimidophenyl)methane is particularly preferable from the viewpoint of solubility in a solvent.
  • maleimide resin having three or more N-substituted maleimide groups in one molecule include those represented by any of the following structural formulas (a2) to (a4).
  • R2 is independently a polymerizable unsaturated bond-containing group, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, an aryl group or an aralkyl group.
  • R3 is a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, Any of halogen atoms, p is an integer of 0 or 1 to 4, q is an integer of 0 or 1 to 3.
  • V is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an arylmethylene group, an alkylenearylenealkylene group.
  • the resin represented by the structural formula (a2) from the viewpoint of easy control of the reaction when carrying out acid modification and from the viewpoint of being superior in heat resistance of the obtained cured product, and particularly It is more preferable to use a resin in which V is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and p and q are 0.
  • BMI series manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd. BMI-1000, 2000, 2300, 3000, 4000, 6000, 7000, 8000, TMH, etc.
  • BMI, BMI-70, BMI-80 and the like manufactured by KI Kasei Co., Ltd. B1109, B4807, P0778, P0976 and the like manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • the fatty acid having a conjugated diene or a derivative thereof (a1) used in the present invention has a conjugated diene capable of a Diels-Alder reaction with the N-substituted maleimide group, and has a carboxy group or a derivative thereof.
  • a conjugated diene capable of a Diels-Alder reaction with the N-substituted maleimide group
  • carboxy group or a derivative thereof There is no particular limitation as long as it is a compound.
  • Derivatives are those in which the carboxy group has a salt structure or a halide, which do not inhibit the Diels-Alder reaction, and which should be converted to the carboxy group after the addition reaction. Is possible. From the viewpoint of easy control of the reaction, it is preferable to use a fatty acid as a raw material.
  • Examples of the fatty acid having the conjugated diene include sorbic acid, 2,4-decadienoic acid, 2,4-dodecadienoic acid, 10,12-octadecadienoic acid, 9-hydroxy-10,12-octadecadienoic acid, 13-hydroxy-9,11-octadecadienoic acid, 9,14-dihydroxy-10,12-octadecadienoic acid, 9,12,14-octadecatrienoic acid, 8,10,12-octadecatrienoic acid,
  • Examples thereof include conjugated diene fatty acids obtained by selectively hydrogenating eleostearic acid and the like, or fatty acids having various alkyl groups, and may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the Diels-Alder reaction is a known reaction and is not particularly limited in the present invention.
  • the reaction temperature may be 20 to 150° C. and the reaction time may be 1 to 80 hours.
  • an organic solvent can be used.
  • the organic solvent that can be used include alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, and propylene glycol monomethyl ether; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ether solvents such as tetrahydrofuran.
  • Solvents aromatic solvents such as toluene, xylene, mesitylene; S atom-containing solvents such as dimethyl sulfoxide; N atom-containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone; ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene Ethylene glycol dialkyl ethers such as glycol dibutyl ether; polyethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dibutyl ether; ethylene glycol monomethyl ether Ethylene glycol monoalkyl ether acetates such as acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate; diethylene glycol monomethyl
  • organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • a solvent containing no alcoholic hydroxyl group is preferable from the viewpoint of suppressing side reactions.
  • a ketone solvent such as cyclohexanone or methyl ethyl ketone, or an ester solvent is preferable.
  • the amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is usually 0.5 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the maleimide as a raw material and the fatty acid having a conjugated diene or its derivative (a1). %, preferably 0.5 to 70 parts by mass, more preferably 0.5 to 50 parts by mass.
  • the acid-modified maleimide resin (A) of the present invention is obtained by the above-mentioned addition reaction and has the following structural formula (1) in the molecule.
  • R is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • X is a direct bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • X is a direct bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 1 is a divalent organic group having an aromatic ring or an aliphatic hydrocarbon
  • R is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • X is directly It is a bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • X is a direct bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • s is an integer of 0 to 10
  • t is an integer of 0 to 10
  • s+t is 2 or more.
  • the repeating structure may be random or block, and when s is 1 or more, it may be a structure in which the terminal is not acid-modified.
  • the resin is Among these, the cured product obtained is a resin in which the addition ratio of the fatty acid having a conjugated diene or its derivative (a1) is 0.02 to 1 mol per mol of the N-substituted maleimide group. It is preferable from the viewpoint of heat resistance.
  • the acid-modified maleimide resin (A) of the present invention thus obtained usually shows a colorless to brown solid resinous state or liquid state, and in some cases crystallizes.
  • the hue of the acid-modified maleimide resin according to the present invention is poor, the hue may be improved by hydrogenating it in the presence of a hydrogenation catalyst.
  • the hydrogenation catalyst used at that time is preferably one containing an iron group element such as nickel or a platinum group element such as palladium, rhodium or platinum as an active component, and more preferably a form in which the active component is held on a carrier. ..
  • the carboxy group equivalent of the acid-modified maleimide resin in the present invention is not particularly limited, but when used as a curing agent described later, it is 200 to 10000 [g/eq] from the viewpoint of heat resistance of the obtained cured product. It is preferably in the range, and more preferably in the range of 350 to 2000 [g/eq] from the viewpoint of the alkali developability of the composition.
  • the molecular weight of the acid-modified maleimide resin in the present invention is not particularly limited, but when used as a curing agent described later, from the viewpoint of shortening the molding time of the cured product and imparting an arbitrary shape.
  • the weight average molecular weight is preferably 300 to 10,000, and more preferably 330 to 5,000. This weight average molecular weight is a polystyrene conversion value measured by the method described in the examples.
  • the acid-modified maleimide resin can be used as a curing agent for a curable resin, and can be used, for example, with the following components.
  • the curable resin (B) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin curable by heating or active energy rays, and examples thereof include epoxy resins, melamine resins, benzoguanamine resins, and melamine. Derivatives, amino resins such as benzoguanamine derivatives, blocked isocyanate compounds, cyclocarbonate compounds, polyfunctional oxetane compounds, episulfide resins, bismaleimide, carbodiimide resins, known curable resins such as cyanate resins can be exemplified as preferable ones, Of these, epoxy resins are preferred.
  • examples of the epoxy resin include novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, and phenol aralkyl type epoxy resin.
  • bisphenol A bisphenol S, thiodiphenol, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, 3,3',5,5'-tetramethyl-[ 1,1'-biphenyl]-4,4'-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris-(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1,2,2-tetrakis(4-hydroxyphenyl)ethane, phenol (Phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde
  • the composition ratio of the acid-modified maleimide resin (A) and the curable resin (B) is not particularly limited, but an epoxy resin having excellent heat resistance and moist heat resistance is used.
  • the epoxy group of the curable resin (B) is preferably in the range of 1.0 to 2.0 equivalents relative to 1 equivalent of the carboxyl group of the acid-modified maleimide resin (A), and further alkali development is performed. From the viewpoint of sex, the range of 1.0 to 1.5 equivalents is more preferable.
  • a known photopolymerization initiator (C) can be appropriately added to the curable resin composition of the present invention as needed.
  • the photopolymerization initiator include an oxime ester photopolymerization initiator having an oxime ester group, an alkylphenone photopolymerization initiator, an ⁇ -aminoacetophenone photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide photopolymerization initiator, and a titanocene photopolymerization initiator.
  • One or more photopolymerization initiators selected from the group consisting of polymerization initiators can be preferably used.
  • the compounding amount is excellent in photocurability and resolution, adhesiveness and PCT resistance are improved, and further chemical resistance such as electroless gold plating resistance is improved. Also, from the viewpoint that an excellent solder resist can be obtained, it is preferably 0.01 to 5% by mass, and more preferably 0.25 to 3% by mass of the entire composition.
  • the compounding amount is preferably 0.2 to 30% by mass, and more preferably 2 to 20% by mass of the entire composition.
  • the compounding amount thereof is preferably 0.1 to 25% by mass of the entire composition from the same point of view. It is more preferably 20% by mass.
  • Irgacure 389 manufactured by BASF Japan can be preferably used as a photopolymerization initiator.
  • the suitable amount of Irgacure 389 is 0.1 to 20% by mass, and more preferably 1 to 15% by mass, based on the entire composition.
  • titanocene-based photopolymerization initiator such as Irgacure 784 can also be preferably used.
  • the titanocene-based photopolymerization initiator is preferably added in an amount of 0.01 to 5% by mass, and more preferably 0.01 to 3% by mass, based on the entire composition.
  • the photocurability and resolution are excellent, the adhesion and PCT resistance are improved, and the chemical resistance such as electroless gold plating resistance is also excellent. It can be a solder resist.
  • a photoinitiator aid and a sensitizer can be used if necessary.
  • the photoinitiator aid and sensitizer that can be preferably used in the curable resin composition include benzoin compounds, acetophenone compounds, anthraquinone compounds, thioxanthone compounds, ketal compounds, benzophenone compounds, tertiary amine compounds, and xanthone compounds. Can be mentioned.
  • photoinitiator aids and sensitizers can be used alone or as a mixture of two or more kinds.
  • the total amount of such photoinitiator aid and sensitizer is preferably 30 mass% or less of the total composition. If it exceeds 30 mass %, the deep-part curability tends to decrease due to the absorption of light.
  • the diluent (D) can be appropriately added to the curable resin composition, if necessary.
  • the diluent (D) it is preferable to add a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule.
  • the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule can be photocured by irradiation with an active energy ray to insolubilize the resin composition of the present invention in an alkaline aqueous solution, or to help insolubilization.
  • a conventionally known polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, carbonate (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate can be used, Specifically, hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate; diacrylates of glycols such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol and propylene glycol; N,N-dimethylacrylamide , Acrylamides such as N-methylolacrylamide, N,N-dimethylaminopropylacrylamide; aminoalkyl acrylates such as N,N-dimethylaminoethyl acrylate and N,N-dimethylaminopropyl acrylate; hexanediol, trimethylolpropane, Polyhydric alcohols such as pentaerythrito
  • a polyfunctional epoxy resin such as a cresol novolac type epoxy resin, an epoxy acrylate resin obtained by reacting acrylic acid, or a hydroxyl group of the epoxy acrylate resin, a hydroxy acrylate such as pentaerythritol triacrylate and a diisocyanate such as isophorone diisocyanate.
  • a polyfunctional epoxy resin such as a cresol novolac type epoxy resin, an epoxy acrylate resin obtained by reacting acrylic acid, or a hydroxyl group of the epoxy acrylate resin, a hydroxy acrylate such as pentaerythritol triacrylate and a diisocyanate such as isophorone diisocyanate.
  • examples thereof include an epoxy urethane acrylate compound obtained by reacting a half urethane compound, and an acid-modified epoxy acrylate resin obtained by similarly reacting an acid anhydride to contain a carboxylic acid group.
  • Such an epoxy acrylate resin can improve the photocurability without
  • the compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule as described above may be used alone or in combination of two or more.
  • a compound having 4 to 6 ethylenically unsaturated groups in one molecule is preferable from the viewpoint of photoreactivity and resolution, and a compound having two ethylenically unsaturated groups in one molecule is used. It is preferable that the cured product has a low coefficient of linear thermal expansion and the occurrence of peeling during PCT is reduced.
  • the amount of the diluent used in the curable resin composition of the present invention is such that photocurability is improved, pattern formation is improved by alkali development after irradiation with active energy rays, and solubility in a dilute alkaline aqueous solution is obtained. Is improved and the impact resistance of the coating film tends to be improved, so 2 to 50 mass% of the total composition is preferable.
  • a hardening accelerator can be added to the curable resin composition of the present invention as needed.
  • the curing accelerator include imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-methylimidazole, tertiary amines such as benzyldimethylamine and N,N-dimethylaniline, tetramethylammonium chloride and benzyltriethylammonium chloride.
  • the compounding amount is preferably 0.01 to 8% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.
  • the amount of the curing accelerator is 0.01% by mass or more, a sufficient effect can be obtained, which is preferable.
  • the compounding amount of the curing accelerator is 8% by mass or less, transparency and heat resistance of the obtained cured product can be maintained, which is preferable.
  • An inorganic filler may be appropriately added to the curable resin composition of the present invention as needed.
  • the inorganic filler is used for suppressing the curing shrinkage of the cured product of the curable resin composition and improving the properties such as adhesion and hardness.
  • the inorganic filler for example, barium sulfate, barium titanate, amorphous silica, crystalline silica, Neuburg silica, fused silica, spherical silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, nitriding Silicon, aluminum nitride, etc. can be mentioned.
  • the average particle size of the inorganic filler is preferably 5 ⁇ m or less.
  • the blending ratio is preferably 75% by mass or less of the total composition, and more preferably 0.1 to 60% by mass. When the blending ratio of the inorganic filler exceeds 75% by mass, the viscosity of the composition becomes high, the coatability may be lowered, and the cured product of the curable resin composition may become brittle.
  • the curable resin composition of the present invention further, as an optional component, an organic solvent, an elastomer, a mercapto compound, a colorant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an adhesion promoter, a polymerization inhibitor, fine silica, organic bentonite, At least one of thickeners such as montmorillonite, silicone-based, fluorine-based, polymer-based defoaming agents and leveling agents, imidazole-based, thiazole-based, triazole-based silane coupling agents, rust preventives, Known additives such as flame retardants such as phosphinic acid salts, phosphoric acid ester derivatives, phosphorus compounds such as phosphazene compounds, and block copolymers may be added.
  • an organic solvent can be used for the preparation of the above resin composition or for the adjustment of the viscosity for coating on the base material or the carrier film.
  • the organic solvent for adjusting the viscosity for preparing such a resin composition or for applying it to a substrate or a carrier film include ketones, aromatic hydrocarbons, glycol ethers and glycol ether acetates. Examples thereof include esters, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbons, petroleum-based solvents and the like.
  • ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene
  • cellosolve methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol.
  • Glycol ethers such as monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether Esters such as acetate and propylene glycol butyl ether acetate; alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, solvent naphtha, etc. A petroleum solvent etc. can be mentioned. One kind of such organic solvent may be used alone, or two or more kinds thereof may be used as a mixture.
  • the dry film of the present invention has a curable resin layer formed by applying and drying the curable resin composition of the present invention.
  • the dry film of the present invention can be used by laminating the curable resin layer so as to be in contact with the substrate.
  • a curable resin composition is uniformly applied to a carrier film by an appropriate method such as a blade coater, a lip coater, a comma coater, or a film coater, and dried to form the curable resin layer described above.
  • a cover film thereon.
  • the cover film and the carrier film may be the same film material or different films.
  • the film material for the carrier film and the cover film any of those known as those used for dry films can be used.
  • thermoplastic film such as a polyester film such as polyethylene terephthalate having a thickness of 2 to 150 ⁇ m is used.
  • cover film polyethylene film, polypropylene film or the like can be used, but it is preferable that the adhesive force with the curable resin layer is smaller than that of the carrier film.
  • the thickness of the curable resin layer on the carrier film of the present invention is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 5 to 50 ⁇ m.
  • the printed wiring board of the present invention is preferably produced using the curable resin layer of the present invention which constitutes the dry film of the present invention.
  • a resin insulating layer by laminating a dry film including a curable resin layer and heating it to a temperature of, for example, about 140 to 180° C. to thermally cure it.
  • a curable resin composition is directly applied to a substrate and dried to form a resin insulating layer by an appropriate method such as a blade coater, a lip coater, a comma coater, or a film coater.
  • an appropriate method such as a blade coater, a lip coater, a comma coater, or a film coater.
  • the resin insulating layer of the printed wiring board of the present invention can be patterned by irradiating a semiconductor laser such as a CO 2 laser or a UV-YAG laser. Moreover, a hole can be formed by a CO 2 laser, a UV-YAG laser, or a drill.
  • a semiconductor laser such as a CO 2 laser or a UV-YAG laser.
  • a hole can be formed by a CO 2 laser, a UV-YAG laser, or a drill.
  • the resin insulation layer consists of multiple holes, even if the hole is a through hole that allows conduction with any layer of the resin insulation layer (through hole), it is a partial hole (conformal via) for the purpose of conduction between the circuit in the inner layer and the surface of the resin insulation layer. Either) can be opened.
  • the residue (smear) existing on the inner wall and bottom of the hole is removed, and in order to develop the anchor effect with the conductor layer (the metal plating layer to be formed later), the surface has fine unevenness.
  • a commercially available Desmear solution (roughening agent) or a solution containing an oxidizing agent such as permanganate, dichromate, ozone, hydrogen peroxide/sulfuric acid, nitric acid, etc. for the purpose of forming a converted surface.
  • a circuit is formed by a subtractive method or a semi-additive method on the hole from which the residue has been removed with a desmear solution or on the surface of the film roughened into fine irregularities.
  • heat treatment at about 80 to 180° C. for about 10 to 60 minutes for the purpose of stress removal of metal and strength improvement ( Annealing treatment) may be performed.
  • metal plating used here such as copper, tin, solder, nickel, and it is also possible to use a combination of multiple metals. Further, it is also possible to substitute metal sputtering or the like instead of the plating used here.
  • the curable resin layer or the dry coating film formed on the substrate (substrate) may be used.
  • the film is exposed by a contact type (or non-contact type) through a patterned photomask, selectively by an active energy ray or directly by a laser direct exposure machine.
  • the exposed portion is cured.
  • a direct drawing device for example, a laser direct imaging device that draws an image directly with a laser from CAD data from a computer
  • an exposure device equipped with a metal halide lamp for example, a laser direct imaging device that draws an image directly with a laser from CAD data from a computer
  • an exposure device equipped with a metal halide lamp for example, a metal halide lamp
  • a (super) high-pressure mercury lamp It is possible to use an exposure machine equipped with an LED, an exposure machine equipped with an LED, and an exposure apparatus equipped with a mercury short arc lamp.
  • the active energy ray it is preferable to use light having a maximum wavelength in the range of 350 to 410 nm. By setting the maximum wavelength within this range, radicals can be efficiently generated from the photopolymerization initiator.
  • the exposure dose varies depending on the film thickness and the like, but can be generally in the range of 5 to 500 mJ/cm 2 , preferably 10 to 300 mJ/cm 2 .
  • the direct drawing device for example, those manufactured by Nippon Orbotech Co., Ltd., Pentax Co., Ltd., Oak Co., Ltd., Dainippon Screen Co., Ltd., etc. can be used, and the maximum energy wavelength is 350 to 410 nm. Any device may be used as long as it is a device for irradiating.
  • the unexposed portion is diluted with a dilute alkaline aqueous solution (for example, 0.
  • a dilute alkaline aqueous solution for example 0.
  • a pattern is formed on the curable resin layer or the dried coating film.
  • the developing method can be a dipping method, a shower method, a spray method, a brush method, or the like.
  • an alkaline aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines or the like can be used as the developing solution.
  • the curable resin layer by heating the curable resin layer to a temperature of, for example, about 140 to 180° C. and thermally curing it, the carboxy group of the acid-modified maleimide resin (A) and the curable resin (B) react with each other, resulting in heat resistance. It is possible to form a resin insulating layer (pattern) having excellent characteristics such as chemical resistance, moisture absorption resistance, adhesion, and insulation reliability.
  • the total thickness of the resin insulating layer in the printed wiring board of the present invention is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 5 to 50 ⁇ m.
  • the resin insulation layer of the printed wiring board of the present invention is suitable as a permanent coating, and is particularly suitable as a solder resist or an interlayer insulation material.
  • the laminated structure of the present invention has a base material and a plurality of resin insulating layers formed on the base material, and at least one of the plurality of resin insulating layers is formed from the curable resin composition of the present invention. Any insulating resin layer may be formed.
  • the basic structure of the laminated structure of the present invention may be a general one, for example, an insulating resin layer (L1) provided in contact with the base material (S) and a surface layer, that is, an outermost layer. The thing which has a layer is mentioned. Another layer may be provided between the insulating resin layer (L1) and the surface layer.
  • the insulating resin layer (L1) and the resin insulating layer (L2) may be alternate layers without providing another layer.
  • insulating resin layer (L1)/resin insulating layer (L2)/insulating resin layer (L1)/resin insulating layer (L2) may be used.
  • FT-IR measurement conditions Measuring instrument: FT/IR-4100 (JASCO Corporation) Sample preparation conditions: A solution was applied to a KBr plate and dried with warm air to obtain a measurement sample.
  • Example 1 A flask equipped with a thermometer, a cooling tube, and a stirrer was charged with 30 parts of a maleimide compound (BMI-2300 manufactured by Daiwa Kasei), 5.7 parts of sorbic acid, and 35.7 parts of cyclohexanone while purging with a nitrogen gas, and at 60° C. Hold for 5 hours. After confirming disappearance of sorbic acid by GPC, it was taken out to obtain an acid-modified maleimide resin (A-1). The obtained resin had a solid content acid value of 77 mgKOH/g and a carboxy group equivalent of 729 g/eq.
  • a maleimide compound BMI-2300 manufactured by Daiwa Kasei
  • sorbic acid 5.7 parts of sorbic acid
  • 35.7 parts of cyclohexanone cyclohexanone
  • Example 2 A flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer was charged with 30 parts of a maleimide compound (BMI-1000 manufactured by Daiwa Kasei), 5.7 parts of sorbic acid and 35.7 parts of cyclohexanone while purging with a nitrogen gas, and the mixture was heated at 60° C. Held for hours. After confirming disappearance of sorbic acid by GPC, it was taken out to obtain an acid-modified maleimide resin (A-1). The obtained resin had a solid content acid value of 77 mgKOH/g and a carboxy group equivalent of 729 g/eq.
  • a maleimide compound BMI-1000 manufactured by Daiwa Kasei
  • Comparative Example 1 In a 2 L reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet, 294.8 parts of ethyl diglycol acetate (hereinafter EDGAc), 196.5 parts of N,N-dimethylacetamide (hereinafter DMAc) and BMI were added. -1000 (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd., 4,4'-diphenylmethane bismaleimide) (400.0 parts) and p-aminophenol (243.3 parts) were added, and the temperature was raised to 120°C over 150 minutes in a liquid nitrogen flow. ..
  • EDGAc ethyl diglycol acetate
  • DMAc N,N-dimethylacetamide
  • BMI BMI
  • Comparative example 2 In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, and a nitrogen inlet, 563 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate (EDGAc), 4,4′-diphenylmethane bismaleimide (Daiwa Chemical Industry Co., Ltd., “BMI-1000”) 400 1 part by mass and 60.9 parts by mass of p-aminophenol were added, the temperature was raised to 120° C. over 150 minutes in a liquid nitrogen flow, and the reaction was carried out for 3 hours to obtain a resin solution (A′-) having a nonvolatile content of 45%. 2) was obtained.
  • EDGAc diethylene glycol monoethyl ether acetate
  • BMI-1000 4,4′-diphenylmethane bismaleimide
  • Tg glass transition temperature
  • the curable resin composition blended in the above proportion was applied onto a glass substrate with a 6 MIL applicator, and placed in a hot air dryer at 80°C for 30 minutes, 120°C. The mixture was heated at 30°C for 30 minutes and 200°C for 2 hours. After that, the cured film was isolated from the substrate and used as a test piece. The dynamic viscoelasticity of the measurement sample was measured under the following conditions, and the temperature of the maximum value of Tan ⁇ in the obtained spectrum was taken as the glass transition temperature (Tg). The obtained results are shown in Table 1 as "Tg (°C) of film".
  • Alkali developable curable resin composition was coated on a tin plate so that the film thickness after drying was 25 to 35 ⁇ m. Next, this coated plate was dried in a drier at 80° C. for 30 minutes to prepare a test piece. This was immersed in an aqueous 1% potassium carbonate solution at 30° C. for 3 minutes and shaken, washed with tap water, and the residual state of the coating film was visually observed to evaluate the alkali developability. When the coating film was completely dissolved, " ⁇ " was given, and when a part of the coating film remained, it was given "X".

Abstract

アルカリ現像性および耐熱性に優れた硬化物を得ることが可能な酸変性マレイミド樹脂および当該樹脂を含む硬化性樹脂組成物、ソルダーレジスト形成用組成物、並びに上記硬化性樹脂組成物を用いたドライフィルムおよびプリント配線板を提供することを目的とする。N-置換マレイミド基に共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)を付加してなる構造(1)を含有する酸変性マレイミド樹脂(A)と、硬化性樹脂(B)を含む硬化性樹脂組成物を用いる。当該酸変性マレイミド樹脂(A)は下記構造式(i)〔式(i)中、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基である。〕 で表される構造を1分子中に2個以上有することが好ましい。

Description

硬化性樹脂組成物、硬化物、酸変性マレイミド樹脂および硬化剤
 本発明は、酸変性マレイミド樹脂、硬化剤、当該硬化剤を含む硬化性樹脂組成物、特に、プリント配線板に用いられるソルダーレジストを形成するための硬化性樹脂組成物、並びにそれを用いたドライフィルムおよびプリント配線板に関する。
 近年、電子機器(エレクトロニクス機器)の軽薄短小化に伴うプリント配線板の高密度化に対応して、ソルダーレジスト等の樹脂絶縁層用の硬化性樹脂組成物にも高性能化および作業性の向上が要求されている。特に、自動車、中でも駆動部の電気制御化が進んでおり、エンジンルームおよびその周辺等の、環境温度が高い場所にプリント配線板が搭載されることが多くなっている。車載用のプリント配線板は、搭載箇所によっては80℃から150℃の高温下に長期に亘って曝されることになるため、車載用プリント配線板に用いられる高性能ソルダーレジストには、優れた耐熱性が求められている。
 このようなソルダーレジストに適した材料としてビスマレイミド化合物が挙げられる。ビスマレイミド化合物は耐熱性、難燃性、誘電特性などに優れる樹脂であるものの、エポキシ樹脂との硬化反応性を示さない公知のビスマレイミド化合物は、エポキシ硬化系の硬化性樹脂と併用した場合、耐熱性が不足する問題があった。そこで、アミノフェノール等のモノアミン化合物のアミノ基を、ビスマレイミド化合物の不飽和N-置換マレイミド基と反応させることによって得られたアミン変性ビスマレイミド化合物をエポキシ硬化系の硬化性樹脂と併用することが提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、当該当該化合物はアルカリ現像性が十分でないため、ソルダーレジスト材料、特に、近年の微細化された回路を有するプリント配線板に求められるソルダーレジスト材料としては不十分であった。
 また、アミノ安息香酸等のカルボキシ基を有するアミン化合物で変性したビスマレイミド化合物をエポキシ硬化系の硬化性樹脂と併用することも提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、当該化合物は熱分解温度が低く、近年要求される鉛フリーはんだへの耐熱性に不足するものである。
特開2012-166515号公報 特開2007-302843号公報
 そこで、本発明が解決しようとする課題は、アルカリ現像性および耐熱性に優れた硬化物を得ることが可能な酸変性マレイミド樹脂および当該樹脂を含む硬化性樹脂組成物、ソルダーレジスト形成用組成物、並びに上記硬化性樹脂組成物を用いたドライフィルムおよびプリント配線板を提供することにある。
 本願発明者らは種々の検討を行った結果、マレイミド樹脂中のN-置換マレイミド基に共役ジエンを有する脂肪酸をディールス・アルダー反応を利用して付加させてなる酸変性マレイミド樹脂を硬化剤として用いることで、耐熱性に優れるとともに、アルカリ現像性が良好な硬化物が得られることを見出し、上記課題を解決するに至った。
 すなわち本発明は、N-置換マレイミド基に共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)を付加してなる構造(1)を含有する酸変性マレイミド樹脂(A)と、硬化性樹脂(B)を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物、その用途、硬化物、及び硬化剤として好適に用いることができる特定構造の酸変性マレイミド樹脂を提供するものである。
 本発明によれば、耐熱性およびアルカリ現像性に優れた硬化物を得ることが可能な酸変性マレイミド樹脂および当該化合物を含む硬化性樹脂組成物、ソルダーレジスト形成用組成物、並びに上記硬化性樹脂組成物を用いたドライフィルムおよびプリント配線板を提供することができる。
本発明の実施例1で得られた酸変性マレイミド樹脂のFT-IRチャート図である。 本発明の実施例1で得られた酸変性マレイミド樹脂のGPCチャート図である。
 本発明の硬化性樹脂組成物は、N-置換マレイミド基に共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)を付加してなる構造(1)を含有する酸変性マレイミド樹脂(A)と、硬化性樹脂(B)を含むことを特徴とする。
 前記N-置換マレイミド基は、いわゆるマレイミドの不飽和N-置換マレイミド基を示すものであり、すなわち、原料としてマレイミドを用いることが好ましい。
 前記マレイミドとしては、例えば、1分子中に2個のマレイミド基を有するビスマレイミド化合物や、1分子中に3個以上のマレイミド基を有するマレイミド樹脂が挙げられる。
 前記ビスマレイミド化合物としては、分子構造中に少なくとも2個の不飽和N-置換マレイミド基を有する化合物であれば任意のものを使用することができ、例えば、下記式(a1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
〔式(a1)中、Rは芳香環または脂肪族炭化水素を有する二価の有機基である)
で表されるビスマレイミド化合物を好ましいものとして例示することができる。当該Rは、得られる硬化物においてより耐熱性に優れる点から、芳香環を有する二価の有機基であることがより好ましい。
 ここでRの芳香環または脂肪族炭化水素を有する二価の有機基としては、アルキレン基、シクロアルキレン基、単環式または多環式のアリーレン基、またはそれらの基が2価の原子団(たとえばアルキレン基やシクロアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、スルホン基、スルフィニル基、ジスルフィド基、カルボニル基など)によって結合された2価の基が好ましい構造として挙げられる。
 前記ビスマレイミド化合物として、具体的には、N,N’-エチレンビスマレイミド、N,N’-ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N’-(1,3-フェニレン)ビスマレイミド、N,N’-〔1,3-(2-メチルフェニレン)〕ビスマレイミド、N,N’-〔1,3-(4-メチルフェニレン)〕ビスマレイミド、N,N’-(1,4-フェニレン)ビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、3,3-ジメチル-5,5-ジエチル-4,4-ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)ケトン、ビス(4-マレイミドシクロヘキシル)メタン、1,4-ビス(4-マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、1,1-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,1-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,2-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、2,2-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,2-ビス〔[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4,4-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、4,4-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕ケトン、2,2’-ビス(4-マレイミドフェニル)ジスルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)ジスルフィド、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エーテル、ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕エーテル、1,4-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3-ビス〔4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル〕ベンゼン、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、ポリフェニルメタンマレイミドなどが挙げられ、これらのマレイミド化合物は、単独で用いても2種類以上を混合して用いてもよい。
 これらの中で、2,2-ビス〔4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、ポリフェニルメタンマレイミド、およびビス(4-マレイミドフェニル)スルホンが好ましい。なお、反応率が高く、より高耐熱性化できる点からは、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4-マレイミドフェニル〕スルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)ジスルフィド、N,N’-(1,3-フェニレン)ビスマレイミド、2,2-ビス(4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンが好ましく、安価である点からビス(4-マレイミドフェニル)メタン、N,N’-(1,3-フェニレン)ビスマレイミドがより好ましく、溶剤への溶解性の点から、ビス(4-マレイミドフェニル)メタンが特に好ましい。
 また、1分子中にN-置換マレイミド基を3つ以上有するマレイミド樹脂の具体例としては、例えば、下記構造式(a2)~(a4)の何れかで表されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
(式中R2は互いに独立して重合性不飽和結合含有基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基の何れかである。R3は水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子の何れかである。pは0又は1~4の整数、qは0又は1~3の整数である。Vは炭素原子数1~4のアルキレン基、アリールメチレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキレンビフェニレンアルキレン基、シクロアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基の何れかである。Zは炭素原子又は窒素原子である。mは1以上の整数、nは3~6の整数である。)
 これらの中でも、酸変性を行う際の反応の制御が容易である観点および、得られる硬化物の耐熱性により優れる観点より、前記構造式(a2)で表される樹脂を用いることが好ましく、特にVが炭素原子数1~4のアルキレン基であり、pおよびqが0である樹脂を用いることがより好ましい。
 これらマレイミドとしては、市販されているものをそのまま使用してもよく、例えば、大和化成工業株式会社製BMIシリーズ(BMI-1000、2000、2300、3000、4000、6000、7000、8000、TMH等)、ケイ・アイ化成株式会社製BMI、BMI-70、BMI-80等、東京化成工業株式会社製B1109、B4807、P0778、P0976等が挙げられる。
 本発明で用いる共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)は、前記N-置換マレイミド基に対してディールス・アルダー反応が可能な共役ジエンを有しており、かつ、カルボキシ基又はその誘導体を有する化合物であればよく、特に限定されない。なお、誘導体は、カルボキシ基が塩構造となっているものやハライドになっているものを示し、ディールス・アルダー反応を阻害することがないものであって、かつ付加反応後、カルボキシ基とすることが可能なものをいう。反応の制御が容易である観点からは、脂肪酸を原料して用いることが好ましい。
 前記共役ジエンを有する脂肪酸としては、例えば、ソルビン酸、2,4-デカジエン酸、2,4-ドデカジエン酸、10,12-オクタデカジエン酸、9-ヒドロキシ-10,12-オクタデカジエン酸、13-ヒドロキシ-9,11-オクタデカジエン酸、9,14-ジヒドロキシ-10,12-オクタデカジエン酸、9,12,14-オクタデカトリエン酸、8,10,12-オクタデカトリエン酸、エレオステアリン酸等、或いは各種アルキル基を有する脂肪酸を選択的水素化してなる共役ジエン脂肪酸が挙げられ、単独でも2種以上を併用してもよい。とくに付加反応の制御が容易であり、また得られる硬化物の耐熱性により優れる観点からは、炭素原子数が8以下の共役ジエン脂肪酸を用いることが好ましく、原料入手の容易性も鑑みれば、ソルビン酸を用いることがより好ましい。
 前記ディールス・アルダー反応は、公知の反応であり、特段本発明において限定されるものではなく、例えば、反応温度20~150℃、反応時間1~80時間で行うことができる。この時、N-置換マレイミド基1モルに対して、共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)のモル数を0.01~1.5モルの範囲で用いることが好ましく、0.02~1.1モルの範囲で用いることがより好ましい。
 ディールス・アルダー反応を行う際に、有機溶剤を用いることもできる。使用できる有機溶剤としては、例えば、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤;ジメチルスルホキシド等のS原子含有溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のN原子含有溶剤;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル等のポリエチレングリコールジアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のポリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジブチルエーテル等のポリプロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のポリプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;低分子のエチレン-プロピレン共重合体等の共重合ポリエーテルグリコールのジアルキルエーテル類;共重合ポリエーテルグリコールのモノアセテートモノアルキルエーテル類;共重合ポリエーテルグリコールのアルキルエステル類;および共重合ポリエーテルグリコールのモノアルキルエステルモノアルキルエーテル類等が挙げられる。これら有機溶剤は1種又は2種以上を混合して使用できる。これらの中で、副反応を抑制する観点から、アルコール性水酸基を含有しない溶剤が好ましい。更に溶解性の点からシクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤や、エステル系溶剤が好ましい。有機溶剤の使用量としては、特に制限はないが、原料のマレイミドと共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)を合わせた総質量100質量部に対して、通常0.5~100質量部であり、好ましくは0.5~70質量部、より好ましくは0.5~50質量部である。
 本発明での酸変性マレイミド樹脂(A)は、前記の付加反応で得られるものであり、分子中に下記構造式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
〔式(i)中、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基である。〕
で表される構造を有することが好ましく、特に、この構造を、1分子中に2個以上有するものであることが、得られる硬化物の耐熱性の観点からより好ましいものである。
 特に前述のビスマレイミド樹脂を用いた場合には、下記構造式(ii)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
〔式(ii)中、Rは芳香環または脂肪族炭化水素を有する二価の有機基であり、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基である。〕
で表される樹脂であることが好ましい。
 更に前述の構造式(a2)で表されるマレイミド樹脂を原料とした場合には、下記構造式(iii)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
〔式(iii)中、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基であり、sは0~10の整数であり、tは0~10の整数であり、かつs+tは2以上である。ただし、繰返し構造はランダムでもブロックであってもよく、sが1以上の場合、末端が酸変性されていない構造であってもよい。〕
で表される樹脂であることが好ましい。これらの中でも、特に共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)の付加の割合が、N-置換マレイミド基1モルに対し、0.02~1モルである樹脂であることが、得られる硬化物の耐熱性の観点から好ましいものである。
 このようにして得られる本発明の酸変性マレイミド樹脂(A)は、通常、無色~褐色の固形の樹脂状または液状を示し、場合によっては結晶化する。
 本発明での酸変性マレイミド樹脂の色相が悪い場合は、水素化触媒存在下で水素化することで色相改善を行っても良い。その際に用いる水素化触媒としては、ニッケルなどの鉄族元素またはパラジウム、ロジウム、白金などの白金族元素を活性成分として含むものが好ましく、活性成分を担体に保持させた形態のものがより好ましい。
 また本発明での酸変性マレイミド樹脂のカルボキシ基当量は特に制限されるものではないが、後述する硬化剤として用いる際、得られる硬化物の耐熱性の観点から200~10000〔g/eq〕の範囲であることが好ましく、さらに配合物のアルカリ現像性の観点から350~2000〔g/eq〕の範囲であることが好ましい。
 また本発明での酸変性マレイミド樹脂の分子量は、特に制限されるものではないが、後述する硬化剤として用いる際、硬化物の成形時間の短縮と、任意の形状を付与させることができる観点から、重量平均分子量が、300~10000であることが好ましく、さらに330~5000であることがより好ましい。この重量平均分子量は実施例中に記載の方法で測定したポリスチレン換算値である。
 当該酸変性マレイミド樹脂は、硬化性樹脂の硬化剤として使用することができ、例えば、以下の成分とともに使用することができる。
 本発明で用いる硬化性樹脂(B)としては加熱または活性エネルギー線により硬化性を示す樹脂であれば特に制限されることなく用いることができるが、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体等のアミノ樹脂、ブロックイソシアネート化合物、シクロカーボネート化合物、多官能オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂、ビスマレイミド、カルボジイミド樹脂、シアネート樹脂等の公知の硬化性樹脂を好ましいものとして例示することができ、このうちエポキシ樹脂が好ましいものとして挙げられる。
 さらに具体的にエポキシ樹脂としては、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂などが挙げられる。具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールS、チオジフェノール、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、3,3’,5,5’-テトラメチル-[1,1’-ビフェニル]-4,4’-ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、o-ヒドロキシベンズアルデヒド、p-ヒドロキシアセトフェノン、o-ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’-ビス(クロルメチル)-1,1’-ビフェニル、4,4’-ビス(メトキシメチル)-1,1’-ビフェニル、1,4-ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4-ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、アルコール類から誘導されるグリシジルエーテル化物、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、シルセスキオキサン系のエポキシ樹脂(鎖状、環状、ラダー状、あるいはそれら少なくとも2種以上の混合構造のシロキサン構造にグリシジル基、および/またはエポキシシクロヘキサン構造を有するエポキシ樹脂)等の固形または液状エポキシ樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
 本発明の硬化性樹脂組成物において、酸変性マレイミド樹脂(A)と硬化性樹脂(B)との組成比率は特に限定されるものではないが、耐熱性、耐湿熱性に優れる点から、エポキシ樹脂を用いる場合、酸変性マレイミド樹脂(A)のカルボキシル基1当量に対して、硬化性樹脂(B)のエポキシ基が1.0~2.0当量となる範囲であることが好ましく、さらにアルカリ現像性の観点から1.0~1.5当量の範囲であることがより好ましい。
 本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて公知の光重合開始剤(C)を適宜添加することができる。光重合開始剤としては、オキシムエステル基を有するオキシムエステル系光重合開始剤、アルキルフェノン系光重合開始剤、α-アミノアセトフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤からなる群から選択される1種以上の光重合開始剤を好適に使用することができる。
 このようなオキシムエステル系光重合開始剤を用いる場合の配合量は、光硬化性および解像性に優れ、密着性やPCT耐性も向上し、さらには無電解金めっき耐性などの耐薬品性にも優れるソルダーレジストを得ることができる点から、組成物全体の0.01~5質量%とすることが好ましく、0.25~3質量%とすることがより好ましい。
 アルキルフェノン系光重合開始剤を用いる場合の配合量は、同様の点から、組成物全体の0.2~30質量%とすることが好ましく、2~20質量%とすることがより好ましい。
 α-アミノアセトフェノン系光重合開始剤またはアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤を用いる場合の配合量は、同様の点から、組成物全体の0.1~25質量%であることが好ましく、1~20質量%であることがより好ましい。
 また光重合開始剤としてはBASFジャパン製のイルガキュア389も好適に用いることができる。イルガキュア389の好適な配合量は、組成物全体の0.1~20質量%であり、さらに1~15質量%が好適である。
 そして、イルガキュア784等のチタノセン系光重合開始剤も好適に用いることができる。チタノセン系光重合開始剤の好適な配合量は、組成物全体の0.01~5質量%であり、さらに、0.01~3質量%が好適である。
 これらの光重合開始剤を好適な配合量とすることにより、光硬化性および解像性に優れ、密着性やPCT耐性も向上し、さらには無電解金めっき耐性などの耐薬品性にも優れたソルダーレジストとすることができる。
 本発明の硬化性樹脂組成物には、光重合開始剤の他に、さらに必要に応じて光開始助剤、増感剤を用いることができる。硬化性樹脂組成物に好適に用いることができる光開始助剤および増感剤としては、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アントラキノン化合物、チオキサントン化合物、ケタール化合物、ベンゾフェノン化合物、3級アミン化合物、およびキサントン化合物などを挙げることができる。
 これらの光開始助剤および増感剤は、単独でまたは2種類以上の混合物として使用することができる。このような光開始助剤、および増感剤の総量は、組成物全体の30質量%以下であることが好ましい。30質量%を超えると、これらの光吸収により深部硬化性が低下する傾向にある。
 硬化性樹脂組成物は、必要に応じて希釈剤(D)を適宜添加することができる。希釈剤(D)として、分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物を配合することが好ましい。分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物は、活性エネルギー線の照射により光硬化して、本発明の樹脂組成物をアルカリ水溶液に不溶化し、または不溶化を助けることができる。このような化合物としては、慣用公知のポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カーボネート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートが使用でき、具体的には、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレートなどのヒドロキシアルキルアクリレート類;エチレングリコール、メトキシテトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコールのジアクリレート類;N,N-ジメチルアクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリルアミドなどのアクリルアミド類;N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリレートなどのアミノアルキルアクリレート類;ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリス-ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどの多価アルコールまたはこれらのエチレオキサイド付加体、プロピレンオキサイド付加体、もしくはε-カプロラクトン付加体などの多価アクリレート類;フェノキシアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、およびこれらのフェノール類のエチレンオキサイド付加体もしくはプロピレンオキサイド付加体などの多価アクリレート類;グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレートなどのグリシジルエーテルの多価アクリレート類;上記に限らず、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートジオール、水酸基末端ポリブタジエン、ポリエステルポリオールなどのポリオールを直接アクリレート化、もしくは、ジイソシアネートを介してウレタンアクリレート化したアクリレート類およびメラミンアクリレート、および上記アクリレートに対応する各メタクリレート類の少なくとも何れか1種などを挙げることができる。
 さらに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の多官能エポキシ樹脂に、アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート樹脂や、さらにそのエポキシアクリレート樹脂の水酸基に、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートとイソホロンジイソシアネート等のジイソシアネートのハーフウレタン化合物を反応させたエポキシウレタンアクリレート化合物等、又は同様に酸無水物を反応させてカルボン酸基を含有させた酸変性エポキシアクリレート樹脂等を挙げることができる。このようなエポキシアクリレート系樹脂は、指触乾燥性を低下させることなく、光硬化性を向上させることができる。
 上記のような分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。特に1分子内に4個から6個のエチレン性不飽和基を有する化合物が光反応性と解像性の観点から好ましく、さらに1分子内に2個のエチレン性不飽和基を有する化合物を用いると、硬化物の線熱膨張係数が低下し、PCT時における剥がれの発生が低減されることから好ましい。
 本発明の硬化性樹脂組成物に希釈剤を用いる場合の配合量は、光硬化性が向上し、活性エネルギー線照射後のアルカリ現像により、パターン形成が良好となり、かつ、希アルカリ水溶液に対する溶解性が向上して、塗膜の耐衝撃性が向上する傾向にあることから、組成物全体の2~50質量%が好ましい。
 本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて硬化促進剤を適宜添加することができる。硬化促進剤としては、例えば2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-メチルイミダゾール等のイミダゾール類、ベンジルジメチルアミン、N,N-ジメチルアニリン等の三級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウム塩、テトラ-n-ブチルホスホニウム、o,o-ジエチルホスホロジチオネート、テトラブチルホスホニウムベンゾトリアゾラート等のホスホニウム塩、オクチル酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛等の金属塩、アセチルアセトン亜鉛、ベンゾイルアセトン亜鉛等の金属錯体などが挙げられる。
 本発明の硬化性樹脂組成物に硬化促進剤を用いる場合の配合量は、0.01~8質量%とするのが好ましく、0.1~5質量%とするのがより好ましい。硬化促進剤の配合量が0.01質量%以上であると、十分な効果が得られるため好ましい。また、硬化促進剤の配合量が8質量%以下であれば、得られる硬化物の、透明度や耐熱性を維持することができるため好ましい。
 本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて無機フィラーを適宜添加することができる。無機フィラーは、硬化性樹脂組成物の硬化物の硬化収縮を抑制し、密着性、硬度などの特性を向上させるために使用される。無機フィラーとしては、例えば、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、無定形シリカ、結晶性シリカ、ノイブルグ珪土、溶融シリカ、球状シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、等を挙げることができる。
 上記無機フィラーの平均粒子径は5μm以下であることが好ましい。配合割合は、組成物全体の75質量%以下が好ましく、より好ましくは0.1~60質量%である。無機フィラーの配合割合が75質量%を超えると、組成物の粘度が高くなり、塗布性が低下したり、硬化性樹脂組成物の硬化物が脆くなることがある。
 本発明の硬化性樹脂組成物には、さらに、任意成分として、有機溶剤、エラストマー、メルカプト化合物、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、密着促進剤、重合禁止剤、微粉シリカ、有機ベントナイト、モンモリロナイト等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系等の消泡剤およびレベリング剤の少なくとも何れか1種、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系等のシランカップリング剤、防錆剤、ホスフィン酸塩、燐酸エステル誘導体、フォスファゼン化合物等のリン化合物等の難燃剤、ブロック共重合体といった公知の添加剤類を配合してもよい。
 本発明の硬化性樹脂組成物において、上記樹脂組成物の調製のため、または基材やキャリアフィルムに塗布するための粘度調整のため、有機溶剤を使用することができる。このような上記樹脂組成物の調製のための、または基材やキャリアフィルムに塗布するための粘度調整のための有機溶剤としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、グリコールエーテル類、グリコールエーテルアセテート類、エステル類、アルコール類、脂肪族炭化水素、石油系溶剤などを挙げることができる。より詳細には、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤などを挙げることができる。このような有機溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合物として用いてもよい。
 本発明のドライフィルムは、本発明の硬化性樹脂組成物を塗布・乾燥して形成される硬化性樹脂層を有する。本発明のドライフィルムは、硬化性樹脂層を、基材に接するようにラミネートして使用することができる。
 本発明のドライフィルムは、キャリアフィルムに硬化性樹脂組成物をブレードコーター、リップコーター、コンマコーター、フィルムコーター等の適宜の方法により均一に塗布し、乾燥して、前記した硬化性樹脂層を形成し、好ましくはその上にカバーフィルムを積層することにより、製造することができる。カバーフィルムとキャリアフィルムは同一のフィルム材料であっても、異なるフィルムを用いてもよい。
 本発明のドライフィルムにおいてキャリアフィルム、カバーフィルムのフィルム材料は、ドライフィルムに用いられるものとして公知のものをいずれも使用することができる。
 キャリアフィルムとしては、例えば2~150μmの厚さのポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムなどの熱可塑性フィルムが用いられる。
 カバーフィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等を使用することができるが、硬化性樹脂層との接着力が、キャリアフィルムよりも小さいものが良い。
 本発明のキャリアフィルム上の硬化性樹脂層の膜厚は、100μm以下が好ましく、5~50μmの範囲がより好ましい。
 本発明のプリント配線板は、本発明のドライフィルムを構成する本発明の硬化性樹脂層を用いて作製されることが好ましい。例えば、硬化性樹脂層を含むドライフィルムをラミネートし、例えば約140~180℃の温度に加熱して熱硬化させることにより、樹脂絶縁層を形成することが好ましい。
 なお、本発明のプリント配線板は、ブレードコーター、リップコーター、コンマコーター、フィルムコーター等の適宜の方法により、基材に硬化性樹脂組成物を直接塗布・乾燥して樹脂絶縁層を形成することにより得ることができる。
 本発明のプリント配線板の樹脂絶縁層は、COレーザーやUV-YAGレーザー等の半導体レーザーを照射することによりパターニングが可能である。また、COレーザーやUV-YAGレーザー、またはドリルにより、穴を開けることができる。樹脂絶縁層が複数からなる場合、穴は樹脂絶縁層の任意の層と導通が可能な貫通穴(スルーホール)でも内層の回路と樹脂絶縁層表面の導通を目的とする部分穴(コンフォーマルビア)のどちらもあけることができる。
 穴あけ加工後、穴の内壁や底部に存在する残渣(スミヤ)を除去することと、導体層(その後に形成する金属めっき層)とのアンカー効果を発現させるために表面に微細な凹凸状の粗化面を形成することを目的として、市販のデスミヤ液(粗化剤)または過マンガン酸塩、重クロム酸塩、オゾン、過酸化水素/硫酸、硝酸等の酸化剤を含有する液で処理を行う。
 次に、デスミヤ液で残渣を除去した穴や、微細な凹凸状に粗化した皮膜表面にサブトラクティブ法やセミアディティブ法により、回路を形成する。いずれの方法においても、無電解めっき、または電解めっき後、或いは両方のめっきを施した後に、金属のストレス除去、強度向上の目的で約80℃~180℃で10分~60分程度の熱処理(アニール処理)を施しても良い。
 ここで用いる金属めっきとしては、銅、錫、はんだ、ニッケル等特に制限は無く、複数組み合わせて使用することもできる。また、ここで用いるめっきの代わりに金属のスパッタリング等で代用することも可能である。
 また、樹脂絶縁層を、感光性の硬化性樹脂層や硬化性樹脂組成物を塗布・乾燥した乾燥塗膜により形成する場合、基材(基板)上に形成された硬化性樹脂層や乾燥塗膜を、接触式(または非接触方式)により、パターンを形成したフォトマスクを通して、選択的に活性エネルギー線により露光もしくはレーザーダイレクト露光機により直接パターン露光する。硬化性樹脂層や乾燥塗膜は、露光部(活性エネルギー線により照射された部分)が硬化する。
 活性エネルギー線照射に用いられる露光機としては、直接描画装置(例えばコンピューターからのCADデータにより直接レーザーで画像を描くレーザーダイレクトイメージング装置)、メタルハライドランプを搭載した露光機、(超)高圧水銀ランプを搭載した露光機、LEDを搭載した露光機、水銀ショートアークランプを搭載した露光装置を用いることができる。
 活性エネルギー線としては、最大波長が350~410nmの範囲にある光を用いることが好ましい。最大波長をこの範囲とすることにより、光重合開始剤から効率よくラジカルを生成することができる。また、その露光量は膜厚等によって異なるが、一般には5~500mJ/cm、好ましくは10~300mJ/cmの範囲内とすることができる。
 直接描画装置としては、例えば、日本オルボテック株式会社製、ペンタックス株式会社製、オーク株式会社製、大日本スクリーン株式会社製等のものを使用することができ、最大波長が350~410nmの活性エネルギー線を照射する装置であればいずれの装置を用いてもよい。
 そして、このようにして硬化性樹脂層や乾燥塗膜を露光することにより、露光部(活性エネルギー線により照射された部分)を硬化させた後、未露光部を希アルカリ水溶液(例えば、0.3~3wt%炭酸ソーダ水溶液)により現像して、硬化性樹脂層や乾燥塗膜にパターンが形成される。
 このとき、現像方法としては、ディッピング法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法等によることができる。また、現像液としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類等のアルカリ水溶液を用いることができる。
 さらに、硬化性樹脂層を、例えば約140~180℃の温度に加熱して熱硬化させることにより、酸変性マレイミド樹脂(A)のカルボキシ基と、硬化性樹脂(B)が反応し、耐熱性、耐薬品性、耐吸湿性、密着性、絶縁信頼性等の諸特性に優れた樹脂絶縁層(パターン)を形成することができる。
 本発明のプリント配線板中の樹脂絶縁層の全膜厚は、100μm以下が好ましく、5~50μmの範囲がより好ましい。
 前記基材としては、予め回路形成されたプリント配線板やフレキシブルプリント配線板の他、紙-フェノール樹脂、紙-エポキシ樹脂、ガラス布-エポキシ樹脂、ガラス-ポリイミド、ガラス布/不繊布-エポキシ樹脂、ガラス布/紙-エポキシ樹脂、合成繊維-エポキシ樹脂、フッ素樹脂・ポリエチレン・ポリフェニレンエーテル,ポリフェニレンオキシド・シアネートエステル等の複合材を用いた全てのグレード(FR-4等)の銅張積層板、ポリイミドフィルム、PETフィルム、ガラス基板、セラミック基板、ウエハ板等を用いることができる。
 本発明のプリント配線板が有する樹脂絶縁層は、永久被膜として好適であり、中でもソルダーレジストや層間絶縁材料として好適である。
 本発明の積層構造体は、基材と、該基材上に形成された複数の樹脂絶縁層を有し、複数の樹脂絶縁層のうちの少なくとも一層が、本発明の硬化性樹脂組成物から形成された絶縁樹脂層であればよい。
 本発明の積層構造体の基本構成としては、一般なものであればよく、例えば、基材(S)に接して設けられた絶縁樹脂層(L1)と、表面層、即ち最外層との2層を有する物が挙げられる。絶縁樹脂層(L1)と、表面層の間に、さらに他の層を設けても良い。他の層を設けなくても、例えば絶縁樹脂層(L1)と樹脂絶縁層(L2)との交互層としても良い。例えば、絶縁樹脂層(L1)/樹脂絶縁層(L2)/絶縁樹脂層(L1)/樹脂絶縁層(L2)とすることもできる。
 以下に実施例および比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものではない。尚、以下において「部」および「%」とあるのは、特に断りのない限り全て質量基準である。
 GPCの測定条件
 測定機器:HLC8320GPC(東ソー株式会社製)
 検出器:屈折率
 溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
 カラム構成:TSKguardcolumn  HxL-L,TSKgel-G4000HxL,G3000HxL,G2000HxL, G1000HxL
 温度:40℃
 流速:1.0ml/分
 FT-IRの測定条件
 測定機器:FT/IR-4100(日本分光株式会社)
 サンプル作成条件:KBr板に溶液を塗布し、温風乾燥したものを測定サンプルとした。
 実施例1
 温度計、冷却管、撹拌器を取り付けたフラスコに窒素ガスパージを施しながら、マレイミド化合物(大和化成製BMI-2300)30部、ソルビン酸5.7部、シクロヘキサノン35.7部を仕込み、60℃で5時間保持した。GPCにてソルビン酸の消失を確認した後、取り出して酸変性マレイミド樹脂(A-1)を得た。得られた樹脂の固形分酸価は77mgKOH/g、カルボキシ基当量は729g/eqであった。
 実施例2
 温度計、冷却管、撹拌器を取り付けたフラスコに窒素ガスパージを施しながら、マレイミド化合物(大和化成製BMI-1000)30部、ソルビン酸5.7部シクロヘキサノン35.7部を仕込み、60℃で5時間保持した。GPCにてソルビン酸の消失を確認した後、取り出して酸変性マレイミド樹脂(A-1)を得た。得られた樹脂の固形分酸価は77mgKOH/g、カルボキシ基当量は729g/eqであった。
 比較例1
 温度計、攪拌機、還流冷却器および窒素導入口を備えた2Lの反応容器に、エチルジグリコールアセテート(以下EDGAc)294.8部、N,N-ジメチルアセトアミド(以下DMAc)196.5部、BMI-1000(大和化成工業社製、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド)400.0部、p-アミノフェノール243.3部を入れ、液中窒素流下にて120℃まで150分間かけて昇温した。この反応容器に、リカシッドTH(新日本理化社製、1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸)339.3部を入れ、120℃にて反応を継続した。150℃昇温から4.5時間後、樹脂のFT-IRスペクトルに変化がなくなった事を確認した後、EDGAcを709.7部加え、140℃にて減圧操作を行い、DMAcを留去した。留出が終了した後、EDGAc196.5部を加え冷却し、不揮発分50%のイミド樹脂溶液(A’-1)を得た。
 比較例2
 温度計、撹拌機、窒素導入口を備えた反応容器に、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(EDGAc)563質量部、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(大和化成工業株式会社、「BMI-1000」)400質量部、p-アミノフェノール60.9質量部を入れ、液中窒素流通下にて120℃まで150分間かけて昇温し、3時間反応を行い、不揮発分45%の樹脂溶液(A’-2)を得た。
 樹脂組成物の調製
 表1に示す組成割合で、最終的に不揮発分(N.V)が50質量%となるように、EDGAcを配合して、硬化性樹脂組成物を調製した。
 フィルムのガラス転移温度(Tg)の測定
 上記の割合で配合した硬化性樹脂組成物を、ガラス基材の上に6MILのアプリケータで塗工し、熱風乾燥機に入れ、80℃30分、120℃30分、200℃2時間加熱した。その後基板から硬化フィルムを単離し、試験片とした。下記条件で、測定用試料の動的粘弾性を測定し、得られたスペクトルのTanδの最大値の温度をガラス転移温度(Tg)とした。得られた結果を表1に「フィルムのTg(℃)」として示した。
 測定機器:レオバイブロンRSA-II(レオメトリック社製)
 治具:引っ張り
 チャック間:20mm
 測定温度:25℃~400℃
 測定周波数:1Hz
 昇温速度:3℃/min
 アルカリ現像性
 硬化性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が25~35μmになるように、ブリキ基板上に塗装した。次いでこの塗装板を80℃の乾燥機で30分乾燥して試験片を作成した。これを、30℃の1%炭酸カリウム水溶液に3分間浸積振とうした後、水道水で洗浄し、塗膜の残存状況を目視観察してアルカリ現像性を評価した。塗膜が全て溶解した場合「○」、一部でも残存した場合「×」とした。
 なお、表中の語は以下の通り
 N-680:DIC株式会社、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量212g/eq
 2E4MZ:2-エチル-4-メチルイミダゾール
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011

Claims (18)

  1.  N-置換マレイミド基に共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)を付加してなる構造(1)を含有する酸変性マレイミド樹脂(A)と、硬化性樹脂(B)を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。
  2.  前記酸変性マレイミド樹脂(A)のカルボキシ基当量が200~10000〔g/eq〕の範囲である請求項1記載の硬化性樹脂組成物。
  3.  前記酸変性マレイミド樹脂(A)の重量平均分子量が300~10000の範囲である請求項1又は2記載の硬化性樹脂組成物。
  4.  前記酸変性マレイミド樹脂(A)が、1分子中に少なくとも2個の前記構造(1)を有するものである請求項1~3の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物。
  5.  前記N-置換マレイミド基に共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)を付加してなる構造(1)が下記構造式(i)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    〔式(i)中、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基である。〕
    で表される構造である請求項1~4の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物。
  6.  前記酸変性マレイミド樹脂(A)が下記構造式(ii)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    〔式(ii)中、Rは芳香環または脂肪族炭化水素を有する二価の有機基であり、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基である。〕
    で表されるものである請求項1~5の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物。
  7.  前記酸変性マレイミド樹脂(A)が下記構造式(iii)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    〔式(iii)中、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基であり、sは0~10の整数であり、tは0~10の整数であり、かつs+tは2以上である。ただし、繰返し構造はランダムでもブロックであってもよく、sが1以上の場合、末端が酸変性されていない構造であってもよい。〕
    で表されるものである請求項1~5の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物。
  8.  前記硬化性樹脂(B)がエポキシ樹脂である請求項1~7の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物。
  9.  さらに、光重合開始剤(C)を含む請求項1~8の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物。
  10.  さらに、希釈剤(D)を含む請求項1~8の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物。
  11.  請求項1~10の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
  12.  請求項1~10の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物を含むソルダーレジスト形成用硬化性樹脂組成物。
  13.  請求項1~10の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物を含む硬化性樹脂層を有するドライフィルム。
  14.  請求項1~10の何れか1項記載の硬化性樹脂組成物を含む硬化性樹脂層を熱硬化してなる樹脂絶縁層を有するプリント配線板。
  15.  基材と、該基材上に形成された複数の樹脂絶縁層とを有する積層構造体であって、前記複数の樹脂絶縁層のうちの少なくとも一層が、請求項1~10のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物から形成された層であることを特徴とする積層構造体。
  16.  下記構造式(ii)又は(iii)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    〔式(ii)中、Rは芳香環または脂肪族炭化水素を有する二価の有機基であり、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基である。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    〔式(iii)中、Rは水素原子又は炭素原子数1~20の脂肪族炭化水素基であり、Xは直接結合又は炭素原子数1~20の二価の脂肪族炭化水素基であり、nは0~10の整数であり、mは0~10の整数であり、かつn+mは2以上である。ただし、繰返し構造はランダムでもブロックであってもよく、nが1以上の場合、末端が酸変性されていない構造であってもよい。〕
    で表されることを特徴とする酸変性マレイミド樹脂。
  17.  前記構造式(iii)で表される酸変性マレイミド樹脂であって、共役ジエンを有する脂肪酸又はその誘導体(a1)の付加の割合が、N-置換マレイミド基1モルに対し、0.02~1モルである請求項16記載の酸変性マレイミド樹脂。
  18.  請求項16又は17記載の酸変性マレイミド樹脂からなる硬化剤。
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