WO2020066510A1 - 高分子化合物及び発光素子の製造方法 - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 250
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 249
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 71
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims abstract description 39
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 14
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 claims abstract description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims abstract description 5
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims abstract description 5
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 149
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 94
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 89
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 65
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 63
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 63
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 52
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 46
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 35
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 16
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 16
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 12
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 claims description 11
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 74
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 32
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 30
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 abstract description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 186
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 81
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 74
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 59
- -1 2-ethylhexyl Chemical group 0.000 description 54
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 42
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 description 34
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 30
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 29
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 29
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 26
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 26
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 26
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 26
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 25
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 24
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 22
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 20
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 14
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 12
- 229910021654 trace metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 12
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 11
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 0 Cc(c(*)c1*)c(*)c2c1SC1C(*)=C(*)C(C)=C(*)C1N2* Chemical compound Cc(c(*)c1*)c(*)c2c1SC1C(*)=C(*)C(C)=C(*)C1N2* 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 7
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 6
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 6
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- KBXGMZXLKCUSEB-UHFFFAOYSA-M sodium;[ethyl(oxidosulfinothioyl)amino]ethane Chemical compound [Na+].CCN(CC)S([O-])=S KBXGMZXLKCUSEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 3
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 10H-phenoxazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3OC2=C1 TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 2
- IIOSDXGZLBPOHD-UHFFFAOYSA-N tris(2-methoxyphenyl)phosphane Chemical compound COC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)OC)C1=CC=CC=C1OC IIOSDXGZLBPOHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- UXJHQQLYKUVLIE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydroacridine Chemical compound C1=CC=C2N=C(C=CCC3)C3=CC2=C1 UXJHQQLYKUVLIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005978 1-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- DJMUYABFXCIYSC-UHFFFAOYSA-N 1H-phosphole Chemical compound C=1C=CPC=1 DJMUYABFXCIYSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005979 2-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IGDNJMOBPOHHRN-UHFFFAOYSA-N 5h-benzo[b]phosphindole Chemical class C1=CC=C2C3=CC=CC=C3PC2=C1 IGDNJMOBPOHHRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N Benzopyrane Chemical compound C1=CC=C2C=CCOC2=C1 KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[Ca] Chemical compound [AlH3].[Ca] ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N cinnoline Chemical compound N1=NC=CC2=CC=CC=C21 WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004431 deuterium atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- VBXDEEVJTYBRJJ-UHFFFAOYSA-N diboronic acid Chemical compound OBOBO VBXDEEVJTYBRJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N indium lithium Chemical compound [Li].[In] LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N indium silver Chemical compound [Ag].[In] YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N lithium magnesium Chemical compound [Li].[Mg] GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000006611 nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N phenylphosphine Chemical compound PC1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- WWGXHTXOZKVJDN-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-diethylcarbamodithioate;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Na+].CCN(CC)C([S-])=S WWGXHTXOZKVJDN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
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- H10K50/14—Carrier transporting layers
- H10K50/16—Electron transporting layers
- H10K50/166—Electron transporting layers comprising a multilayered structure
Abstract
微量金属が十分に低減されている高分子化合物の製造方法を提供すること。 式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ａを精製して、式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ｂを製造する方法であって、 該精製が、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土からなる群より選ばれる３種類以上の異なる吸着剤を、該高分子化合物Ａと有機溶媒とを含む溶液と接触させる工程、ならびに
該高分子化合物Ａ、該吸着剤及び該有機溶媒を含む混合液から、該吸着剤及び／又は該有機溶媒を除去する工程
を含み、 該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである、製造方法［式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位は明細書に記載の通り］。
Description
本発明は、高分子化合物の製造方法及び高分子化合物を用いた発光素子の製造方法に関する。
有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられている材料では、有機化合物中に含まれている微量金属が劣化の原因として考えられている（特許文献１）。ここで、有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられている材料の中でも、高分子化合物は、例えば、触媒である遷移金属錯体の存在下、芳香族ジボロン酸と芳香族ジハロゲン化物とを鈴木カップリング反応させることにより合成することができる（特許文献２）。この際、触媒に用いられた微量金属が残留することがある。
しかし、前記高分子化合物は、微量金属が十分に低減されていなかった。
そこで、本発明は、微量金属が十分に低減されている高分子化合物の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、微量金属が十分に低減されている当該高分子化合物を用いた発光素子の製造方法を提供することも目的とする。
そこで、本発明は、微量金属が十分に低減されている高分子化合物の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、微量金属が十分に低減されている当該高分子化合物を用いた発光素子の製造方法を提供することも目的とする。
本発明は、以下の［１］～［６］を提供する。
［１］
式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ａ（以下、高分子化合物Ａと表記する場合がある）を精製して、式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ｂ（以下、高分子化合物Ｂと表記する場合がある）を製造する方法であって、
該精製が、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土からなる群より選ばれる３種類以上の異なる吸着剤を、該高分子化合物Ａを含む有機溶媒の溶液と接触させる工程、ならびに
該高分子化合物Ａ、該吸着剤及び該有機溶媒を含む混合液から、該吸着剤及び／又は該有機溶媒を除去する工程を含み、
該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである、製造方法。
［１］
式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ａ（以下、高分子化合物Ａと表記する場合がある）を精製して、式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ｂ（以下、高分子化合物Ｂと表記する場合がある）を製造する方法であって、
該精製が、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土からなる群より選ばれる３種類以上の異なる吸着剤を、該高分子化合物Ａを含む有機溶媒の溶液と接触させる工程、ならびに
該高分子化合物Ａ、該吸着剤及び該有機溶媒を含む混合液から、該吸着剤及び／又は該有機溶媒を除去する工程を含み、
該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである、製造方法。
ｎＡ及びｎＢは、それぞれ独立に、０～５の整数を表し、ｎａ及びｎｂは、それぞれ独立に、１又は２を表す。ｎＡ及びｎＢが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＬA及びＬBは、それぞれ独立に、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、２価の複素環基、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ'は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＬA及びＬBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。ＬA及びＬBが、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表す場合、別の－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子が隣接することはない。
ＸAは、式（ＸＬ－１）～式（ＸＬ－８）、式（ＸＬ－１４）～式（ＸＬ－１６）若しくは式（ＸＬ－１９）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸAのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－１）～前記式（ＸＬ－８）、前記式（ＸＬ－１４）～前記式（ＸＬ－１６）若しくは前記 式（ＸＬ－１９）で表される架橋基である。ＸAが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ＸBは、式（ＸＬ－９）～式（ＸＬ－１３）、式（ＸＬ－１７）、式（ＸＬ－１８）若しくは式（ＸＬ－２０）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸBのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－９）～前記式（ＸＬ－１３）、前記式（ＸＬ－１７）、前記式（ＸＬ－１８）若しくは前記式（ＸＬ－２０）で表される架橋基である。ＸBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
ｍＡ及びｍＢは、それぞれ独立に、０～５の整数を表し、ｍａ及びｍｂは、それぞれ独立に、１～４の整数を表し、ｃａ及びｃｂは、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｍＡ及びｍＢが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ａｒ4及びＡｒ7は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基、又は、芳香族炭化水素基と複素環基とが直接結合した基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ3、Ａｒ5、Ａｒ6及びＡｒ8は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ5、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8はそれぞれ、当該基が結合している窒素原子に結合している当該基以外の基と、直接又は酸素原子若しくは硫黄原子を介して結合して、環を形成していてもよい。
ＫA及びＫBは、それぞれ独立に、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、２価の複素環基、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ'は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＫA及びＫBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。ＫA及びＫBが、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表す場合、別の－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子が隣接することはない。
ＸMは、式（ＸＬ－１）～式（ＸＬ－８）、式（ＸＬ－１４）～式（ＸＬ－１６）若しくは式（ＸＬ－１９）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸMのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－１）～前記式（ＸＬ－８）、前記式（ＸＬ－１４）～前記式（ＸＬ－１６）若しくは前記式（ＸＬ－１９）で表される架橋基である。
ＸMが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ＸNは、式（ＸＬ－９）～式（ＸＬ－１３）、式（ＸＬ－１７）、式（ＸＬ－１８）若しくは式（ＸＬ－２０）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸNのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－９）～前記式（ＸＬ－１３）、前記式（ＸＬ－１７）、前記式（ＸＬ－１８）若しくは前記式（ＸＬ－２０）で表される架橋基である。ＸNが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
［２］
前記高分子化合物Ａが前記式（２－２）で表される構成単位及び前記式（２－４）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、［１］に記載の製造方法。
［３］
前記高分子化合物Ａが前記式（２－１）で表される構成単位及び前記式（２－３）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類、ならびに前記式（２－２）で表される構成単位及び前記式（２－４）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類、を併せて含む、［２］に記載の製造方法。
［４］
前記３種類以上の異なる吸着剤のうち、少なくとも１種類は活性炭、酸性白土又は活性白土である、［１］～［３］のいずれかに記載の製造方法。
［５］
前記３種類以上の異なる吸着剤のうち、少なくとも１種類はシリカゲル又は珪藻土である、［１］～［４］のいずれかに記載の製造方法。
［６］
陽極、有機層及び陰極を積層する工程を含む、発光素子の製造方法であって、前記発光素子が前記陽極及び前記陰極の間に前記有機層を有し、前記有機層を構成する層のうち少なくとも一層の積層工程が、［１］～［５］のいずれか一項に記載の製造方法を用いて得られる高分子化合物Ｂを含む原料の熱硬化により行われる、方法。
本発明によれば、微量金属が十分に低減されている高分子化合物の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、微量金属が十分に低減されている当該高分子化合物を用いた発光素子の製造方法を提供することもできる。
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
＜共通する用語の説明＞
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基、i-Prはイソプロピル基、t-Buはtert-ブチル基を表す。
水素原子は、重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。
金属錯体を表す式中、中心金属との結合を表す実線は、共有結合又は配位結合を意味する。
「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の数平均分子量が１×104～１×108である重合体を意味する。
「構成単位」とは、高分子化合物中に１個以上存在する単位を意味する。なお、高分子化合物中に２個以上の構成単位が存在する場合、一般に「繰り返し単位」と呼ばれる。
「アルキル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。
アルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、２－エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、３－プロピルヘプチル基、デシル基、３，７－ジメチルオクチル基、２－エチルオクチル基、２－ヘキシルデシル基、ドデシル基、及び、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基（例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、３－フェニルプロピル基、３－（４－メチルフェニル）プロピル基、３－（３，５－ジ－ヘキシルフェニル）プロピル基、６－エチルオキシヘキシル基）が挙げられる。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。
シクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。
アルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、２－エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、３－プロピルヘプチル基、デシル基、３，７－ジメチルオクチル基、２－エチルオクチル基、２－ヘキシルデシル基、ドデシル基、及び、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基（例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、３－フェニルプロピル基、３－（４－メチルフェニル）プロピル基、３－（３，５－ジ－ヘキシルフェニル）プロピル基、６－エチルオキシヘキシル基）が挙げられる。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。
シクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。
「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～２０であり、より好ましくは６～１０である。
アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントラセニル基、２－アントラセニル基、９－アントラセニル基、１－ピレニル基、２－ピレニル基、４－ピレニル基、２－フルオレニル基、３－フルオレニル基、４－フルオレニル基、２－フェニルフェニル基、３－フェニルフェニル基、４－フェニルフェニル基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントラセニル基、２－アントラセニル基、９－アントラセニル基、１－ピレニル基、２－ピレニル基、４－ピレニル基、２－フルオレニル基、３－フルオレニル基、４－フルオレニル基、２－フェニルフェニル基、３－フェニルフェニル基、４－フェニルフェニル基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
「アルコキシ基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～４０であり、好ましくは４～１０である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７－ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、及び、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。
シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７－ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、及び、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。
シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～４８である。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、１－ナフチルオキシ基、２－ナフチルオキシ基、１－アントラセニルオキシ基、９－アントラセニルオキシ基、１－ピレニルオキシ基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、１－ナフチルオキシ基、２－ナフチルオキシ基、１－アントラセニルオキシ基、９－アントラセニルオキシ基、１－ピレニルオキシ基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
「ｐ価の複素環基」（ｐは、１以上の整数を表す。）とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。ｐ価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団である「ｐ価の芳香族複素環基」が好ましい。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、及び、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、及び、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
１価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、２～６０であり、好ましくは４～２０である。
１価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。
１価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基が好ましい。
置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基及びジアリールアミノ基が挙げられる。
アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス（４－メチルフェニル）アミノ基、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基、ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基が挙げられる。
置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基及びジアリールアミノ基が挙げられる。
アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス（４－メチルフェニル）アミノ基、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基、ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基が挙げられる。
「アルケニル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～３０であり、好ましくは３～２０である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～３０であり、好ましくは４～２０である。
「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～３０であり、好ましくは４～２０である。
アルケニル基及びシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、１－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、７－オクテニル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～３０であり、好ましくは４～２０である。
アルケニル基及びシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、１－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、７－オクテニル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
「アルキニル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常２～２０であり、好ましくは３～２０である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４～３０であり、好ましくは４～２０である。
「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４～３０であり、好ましくは４～２０である。
アルキニル基及びシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基、１－ヘキシニル基、５－ヘキシニル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４～３０であり、好ましくは４～２０である。
アルキニル基及びシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基、１－ヘキシニル基、５－ヘキシニル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子２個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、６～６０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。
アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。
アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。
２価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、２～６０であり、好ましくは、３～２０であり、より好ましくは、４～１５である。
２価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち２個の水素原子を除いた２価の基が挙げられ、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。２価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
２価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち２個の水素原子を除いた２価の基が挙げられ、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。２価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
「架橋基」とは、加熱、紫外線照射、近紫外線照射、可視光照射、赤外線照射、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成することが可能な基であり、好ましくは、前記式（ＸＬ－１）～式（ＸＬ－２０）で表される架橋基である。
「置換基」とは、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基及びシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。
微量金属の含量は、ＩＣＰ／ＭＳ法又はＩＣＰ／ＡＥＳ法により測定することができる。即ち、微量金属の含量とは、ＩＣＰ／ＭＳ法又はＩＣＰ／ＡＥＳ法により測定した際の微量の金属原子の質量濃度を意味する。実施例及び比較例では、ＩＣＰ／ＭＳ法又はＩＣＰ／ＡＥＳ法によりパラジウムの質量濃度を測定した。
＜製造方法＞
本発明の製造方法は、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ａを精製して、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ｂを得る製造方法であって、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土の中からなる群より選ばれる３種類以上の異なる吸着剤を、該高分子化合物Ａを含む有機溶媒の溶液と接触させる工程を含み、該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである製造方法である。本発明の方法において原料として用いる、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物を、高分子化合物Ａと示すこともある。そして、本発明の方法により得られる、微量金属の含有量が低減された、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物を、高分子化合物Ｂと示すこともある。本発明の製造方法により、高分子化合物Ａから微量金属を十分に除去でき、微量金属の含有量（質量分率）の少ない高分子化合物Ｂを製造することができる。従って、高分子化合物Ａは、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物及び微量金属を含む組成物と解釈することもできる。また、同様に高分子化合物Ｂは、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物及び微量金属を含む組成物と解釈することもできる。
本発明の製造方法は、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ａを精製して、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ｂを得る製造方法であって、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土の中からなる群より選ばれる３種類以上の異なる吸着剤を、該高分子化合物Ａを含む有機溶媒の溶液と接触させる工程を含み、該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである製造方法である。本発明の方法において原料として用いる、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物を、高分子化合物Ａと示すこともある。そして、本発明の方法により得られる、微量金属の含有量が低減された、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物を、高分子化合物Ｂと示すこともある。本発明の製造方法により、高分子化合物Ａから微量金属を十分に除去でき、微量金属の含有量（質量分率）の少ない高分子化合物Ｂを製造することができる。従って、高分子化合物Ａは、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物及び微量金属を含む組成物と解釈することもできる。また、同様に高分子化合物Ｂは、前記式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物及び微量金属を含む組成物と解釈することもできる。
［式（２－１）で表される構成単位］
ｎＡは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは１～４の整数であり、より好ましくは１である。
ｎＡは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは１～４の整数であり、より好ましくは１である。
ｎａは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは２である。
Ａｒ1は、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
Ａｒ1で表される芳香族炭化水素基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。
Ａｒ1で表される芳香族炭化水素基のｎａ個の置換基を除いたアリーレン基部分としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１０）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）又は式（Ａ－９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ1で表される芳香族炭化水素基のｎａ個の置換基を除いたアリーレン基部分としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１０）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）又は式（Ａ－９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ1で表される複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～６０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～１８である。
Ａｒ1で表される複素環基のｎａ個の置換基を除いた２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
Ａｒ1で表される複素環基のｎａ個の置換基を除いた２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
Ａｒ1で表される芳香族炭化水素基及び複素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基及びシアノ基が挙げられる。
ＬAで表されるアルキレン基は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～２０であり、好ましくは１～１５であり、より好ましくは１～１０であり、更に好ましくは１～３である。ＬAで表されるシクロアルキレン基は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～２０である。
アルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が好ましい。
アルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が好ましい。
ＬAで表されるアルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよい。
アルキレン基及びシクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基及びシアノ基が挙げられる。
アルキレン基及びシクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基及びシアノ基が挙げられる。
ＬAで表されるアリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基としては、ｏ－フェニレン、ｍ－フェニレン、ｐ－フェニレンが挙げられる。アリーレン基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基及びシアノ基が挙げられる。
ＬAは、高分子化合物Ａの製造が容易になるため、好ましくはフェニレン基又はアルキレン基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＸAが架橋基の場合、高分子化合物Ｂの微量金属の低減が優れるので、好ましくは式（ＸＬ－１）、式（ＸＬ－３）、式（ＸＬ－５）、式（ＸＬ－７）、式（ＸＬ－１６）又は式（ＸＬ－１９）で表される架橋基であり、より好ましくは式（ＸＬ－１）、式（ＸＬ－１６）又は式（ＸＬ－１９）で表される架橋基であり、更に好ましくは式（ＸＬ－１）で表される架橋基である。
式（２－１）で表される構成単位は、高分子化合物Ｂの微量金属の低減が優れるので、高分子化合物Ａに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～５０モル％であり、より好ましくは３～３０モル％であり、更に好ましくは５～２５モル％である。
式(２－１)で表される構成単位は、高分子化合物Ａ中に、１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
式(２－１)で表される構成単位としては、例えば、式(２－１－１)～式(２－１－３０)で表される構成単位が挙げられる。
［式（２－２）で表される構成単位］
ｎＢは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは０又は１であり、より好ましくは０である。
ｎＢは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは０又は１であり、より好ましくは０である。
ｎｂは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは２である。
Ａｒ2は、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
Ａｒ2で表される芳香族炭化水素基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。
Ａｒ2で表される芳香族炭化水素基のｎｂ個の置換基を除いたアリーレン基部分としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１１）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－６）、式（Ａ－９）、式（Ａ－１０）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１０）で表される基である。これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ2で表される芳香族炭化水素基のｎｂ個の置換基を除いたアリーレン基部分としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１１）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－６）、式（Ａ－９）、式（Ａ－１０）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１０）で表される基である。これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ2で表される複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～６０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～１８である。
Ａｒ2で表される複素環基のｎｂ個の置換基を除いた２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
Ａｒ2で表される複素環基のｎｂ個の置換基を除いた２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
Ａｒ2で表される芳香族炭化水素基及び複素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基及びシアノ基が挙げられる。
ＬBで表されるアルキレン基は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～２０であり、好ましくは１～１５であり、より好ましくは１～１０である。ＫAで表されるシクロアルキレン基は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～２０である。
アルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基が挙げられる。
アルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基が挙げられる。
ＬBで表されるアルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよい。
アルキレン基及びシクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基及びシアノ基が挙げられる。
アルキレン基及びシクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基及びシアノ基が挙げられる。
ＬBで表されるアリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基としては、ｏ－フェニレン、ｍ－フェニレン、ｐ－フェニレンが挙げられる。アリーレン基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、シアノ基及び式（ＸＬ－１）～式（ＸＬ－２０）で表される架橋基が挙げられる。
ＬBは、高分子化合物Ｂの製造が容易になるため、好ましくはフェニレン基又はアルキレン基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＸBが架橋基の場合、高分子化合物Ｂの微量金属の低減が優れるので、好ましくは式（ＸＬ－１７）又は式（ＸＬ－１８）で表される架橋基であり、より好ましくは式（ＸＬ－１７）で表される基である。
式(２－２)で表される構成単位は、高分子化合物Ｂの架橋性が優れるので、高分子化合物Ａに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～５０モル％であり、より好ましくは３～３０モル％であり、更に好ましくは５～２５モル％である。
式(２－２)で表される構成単位は、高分子化合物Ａ中に、１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
式(２－２)で表される構成単位としては、例えば、式(２－２－１)～式(２－２－３０)で表される構成単位が挙げられる。
［式（２－３）で表される構成単位］
ｍＡは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは１～４であり、より好ましくは１である。
ｍＡは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは１～４であり、より好ましくは１である。
ｃａは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは０である。
ｍａは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは２である。
Ａｒ4は、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
Ａｒ4で表される芳香族炭化水素基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。
Ａｒ4で表される芳香族炭化水素基のｍａ個の置換基を除いたアリーレン基部分としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１０）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）又は式（Ａ－９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ4で表される芳香族炭化水素基のｍａ個の置換基を除いたアリーレン基部分としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１０）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）又は式（Ａ－９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ4で表される複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～６０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～１８である。
Ａｒ4で表される複素環基のｍａ個の置換基を除いた２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
Ａｒ4で表される複素環基のｍａ個の置換基を除いた２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
Ａｒ4で表される芳香族炭化水素基及び複素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基及びシアノ基が挙げられる。
Ａｒ3及びＡｒ5は、高分子化合物Ｂの製造が容易になるため、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。
Ａｒ3及びＡｒ5で表されるアリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。
Ａｒ3及びＡｒ5で表されるアリーレン基としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１０）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ3及びＡｒ5で表されるアリーレン基としては、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基であり、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－６）～式（Ａ－１０）、式（Ａ－１９）又は式（Ａ－２０）で表される基であり、さらに好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、特に好ましくは、式（Ａ－１）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ3及びＡｒ5で表される２価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～６０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～１８である。
Ａｒ3及びＡｒ5で表される２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
Ａｒ3及びＡｒ5で表される２価の複素環基部分としては、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。
ＫAで表されるアルキレン基は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～２０であり、好ましくは１～１５であり、より好ましくは１～１０である。ＫAで表されるシクロアルキレン基は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～２０である。
アルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基が挙げられる。
アルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基が挙げられる。
ＫAで表されるアルキレン基及びシクロアルキレン基は、置換基を有していてもよい。
アルキレン基及びシクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基及びシアノ基が挙げられる。
アルキレン基及びシクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基及びシアノ基が挙げられる。
ＫAで表されるアリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基としては、ｏ－フェニレン、ｍ－フェニレン、ｐ－フェニレンが挙げられる。アリーレン基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基及びシアノ基が挙げられる。
ＫAは、高分子化合物Ｂの製造が容易になるため、好ましくはフェニレン基又はアルキレン基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＸMが架橋基の場合、高分子化合物Ｂの微量金属の低減が優れるので、好ましくは式（ＸＬ－１）、式（ＸＬ－３）、式（ＸＬ－５）、式（ＸＬ－７）、式（ＸＬ－１６）又は式（ＸＬ－１９）で表される架橋基であり、より好ましくは式（ＸＬ－１）、式（ＸＬ－１６）又は式（ＸＬ－１９）で表される架橋基である。
式（２－３）で表される構成単位は、高分子化合物Ｂの微量金属の低減が優れるので、高分子化合物Ａに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～５０モル％であり、より好ましくは３～３０モル％であり、更に好ましくは５～２５モル％である。
式(２－３)で表される構成単位は、高分子化合物Ｂ中に、１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
式（２－３）で表される構成単位としては、例えば、式（２－３－Ｆ１）～式（２－３－Ｆ５３）で表される構成単位が挙げられ、これらの構成単位は置換基を有していてもよい。これらの中でも、高分子化合物Ｂの架橋性がより優れるので、好ましくは、式（２－３－Ｆ１）～式（２―３－Ｆ６）、式（２－３－Ｆ１３）～式（２－３－Ｆ２０）、式（２－３－Ｆ２２）～式（２－３－Ｆ２５）、式（２－３－Ｆ３１）～式（２－３－Ｆ４０）又は式（２－３－Ｆ４８）～式（２－３－Ｆ５３）で表される構成単位であり、より好ましくは、式（２－３－Ｆ１）～式（２－３－Ｆ６）、式（２－３－Ｆ３１）～式（２－３－Ｆ３４）、式（２－３－Ｆ３６）、又は式（２－３－Ｆ３７）で表される構成単位であり、更に好ましくは、式（２－３－Ｆ１）～式（２－３－Ｆ６）、式（２－３－Ｆ３２）、式（２－３－Ｆ３４）、式（２－３－Ｆ３６）、又は式（２－３－Ｆ３７）で表される構成単位である。
［式（２－４）で表される構成単位］
ｍＢは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは０～２であり、より好ましくは０又は１である。
ｍＢは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは０～２であり、より好ましくは０又は１である。
ｃｂは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは１である。
ｍｂは、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは２である。
Ａｒ7の好ましい範囲は、前記Ａｒ4の好ましい範囲と同じである。
Ａｒ6及びＡｒ8の好ましい範囲は、前記Ａｒ3及びＡｒ5の好ましい範囲と同じである。
ＫBの好ましい範囲は、前記ＫAの好ましい範囲と同じである。
ＸNの好ましい範囲は、前記ＸBの好ましい範囲と同じである。
式(２－４)で表される構成単位は、高分子化合物Ｂの微量金属の低減が優れるので、高分子化合物Ａに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～５０モル％であり、より好ましくは３～３０モル％であり、更に好ましくは５～２５モル％である。
式(２－４)で表される構成単位は、高分子化合物Ａ中に、１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
式（２－４）で表される構成単位としては、例えば、式（２－４－Ｆ１）～式（２－４－Ｆ５３）で表される構成単位が挙げられ、これらの構成単位は置換基を有していてもよい。これらの中でも、高分子化合物Ｂの架橋性がより優れるので、好ましくは、式（２－４－Ｆ１）～式（２―４－Ｆ６）、式（２－４－Ｆ１３）～式（２－４－Ｆ２０）、式（２－４－Ｆ２２）～式（２－４－Ｆ２５）、式（２－４－Ｆ３１）～式（２－４－Ｆ４０）又は式（２－４－Ｆ４８）～式（２－４－Ｆ５３）で表される構成単位であり、より好ましくは、式（２－４－Ｆ１）～式（２－４－Ｆ６）、式（２－４－Ｆ３１）～式（２－４－Ｆ３４）又は式（２－４－Ｆ３６）で表される構成単位であり、更に好ましくは、式（２－４－Ｆ１）～式（２－４－Ｆ６）、式（２－４－Ｆ３２）、式（２－４－Ｆ３４）又は式（２－４－Ｆ３６）で表される構成単位である。
前記式（２－１）～前記式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ａ及びＢについて説明する。
該高分子化合物Ａ及びＢ中の構成単位は、前記式（２－２）で表される構成単位、及び、前記式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含むことが好ましく、前記式（２－１）で表される構成単位、及び、前記式（２－３）で表される構成単位から少なくとも１種類、並びに、前記式（２－２）で表される構成単位、及び、前記式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類併せて含むことがより好ましい。
該高分子化合物Ａ及びＢ中の構成単位は、前記式（２－１）で表される構成単位、及び、前記式（２－３）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む場合、前記式（２－３）で表される構成単位がより好ましい。
該高分子化合物Ａ及びＢは、前記式（２－１）～前記式（２－４）で表される構成単位以外の構成単位として、式（Ｘ）、式（Ｙ）又は式（Ｚ）で表される構成単位から少なくとも一種類を含むことが好ましい。式（Ｘ）、式（Ｙ）又は式（Ｚ）で表される構成単位については後述する。
該高分子化合物Ａ及びＢとしては、例えば、高分子化合物Ｐ－１～Ｐ－８が挙げられる。ここで、「その他」とは、式（２－１）～式（２－４）、式（Ｘ）、式（Ｙ）又は式（Ｚ）で表される構成単位以外の構成単位を意味する。その他の構成単位としては特に限定されないが、例えば、アルキレン基、－ＣＯ－で表される基、－Ｏ－で表される基等が挙げられる。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂの末端基は、重合活性基がそのまま残っていると、高分子化合物を発光素子の作製に用いた場合に発光特性や輝度寿命が低下する可能性があるので、好ましくは安定な基である。この末端基としては、主鎖と共役結合している基が好ましく、炭素－炭素結合を介してアリール基又は１価の複素環基と結合している基が挙げられる。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよいが、複数種の原料モノマーを共重合してなる共重合体であることが好ましい。
［式（Ｘ）で表される構成単位］
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、下記式（Ｘ）で表される構成単位を含んでもよい。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、下記式（Ｘ）で表される構成単位を含んでもよい。
ａ1及びａ2は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
ＡｒX1及びＡｒX3は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒX2及びＡｒX4は、それぞれ独立に、アリーレン基、２価の複素環基、又は、アリーレン基と２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＡｒX2及びＡｒX4が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
ＲX1、ＲX2及びＲX3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲX2及びＲX3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。］
式（Ｘ）で表される構成単位は、前記式（２－３）又は前記式（２－４）で表される構成単位とは異なり、通常、非架橋性の構成単位である。
ａ1は、本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂを用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、好ましくは２以下の整数であり、より好ましくは０又は１であり、更に好ましくは０である。
ａ2は、本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂを用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、好ましくは２以下の整数であり、より好ましくは０である。
ＲX1、ＲX2及びＲX3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒX1及びＡｒX3で表されるアリーレン基は、より好ましくは式（Ａ－１）又は式（Ａ－９）で表される基であり、更に好ましくは式（Ａ－１）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒX1及びＡｒX3で表される２価の複素環基は、より好ましくは式（ＡＡ－１）、式（ＡＡ－２）又は式（ＡＡ－７）～式（ＡＡ－２６）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒX1及びＡｒX3は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。
ＡｒX2及びＡｒX4で表されるアリーレン基は、より好ましくは式（Ａ－１）、式（Ａ－６）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）～式（Ａ－１１）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、更に好ましくは式（Ａ－１）又は式（Ａ－９）で表される基であり、特に好ましくは式（Ａ－９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒX2及びＡｒX4で表される２価の複素環基のより好ましい範囲は、ＡｒX1及びＡｒX3で表される２価の複素環基のより好ましい範囲と同じである。
ＡｒX2及びＡｒX4で表されるアリーレン基と２価の複素環基とが直接結合した２価の基における、アリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、ＡｒX1及びＡｒX3で表されるアリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同じである。
ＡｒX2及びＡｒX4で表されるアリーレン基と２価の複素環基とが直接結合した２価の基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられ、これらは置換基を有していてもよい。
ＲXXは、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒX2及びＡｒX4は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。
ＡｒX1～ＡｒX4及びＲX1～ＲX3で表される基が有してもよい置換基としては、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
式(Ｘ)で表される構成単位としては、好ましくは式（Ｘ－１）～式（Ｘ－７）で表される構成単位であり、より好ましくは式（Ｘ－１）～式（Ｘ－６）で表される構成単位であり、更に好ましくは式（Ｘ－１）～式（Ｘ－５）で表される構成単位である。
式(Ｘ)で表される構成単位の含有量は、正孔輸送性がより優れるので、高分子化合物Ａに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．１～５０モル％であり、より好ましくは１～５０モル％であり、更に好ましくは５～５０モル％である。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂにおいて、式(Ｘ)で表される構成単位は、１種のみ含まれていても、２種以上含まれていてもよい。
［式（Ｙ）で表される構成単位］
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、式(Ｙ)で表される構成単位を含んでいてもよい。式（Ｙ）で表される構成単位は、前記式（２－１）、前記式（２－２）で表される構成単位及び後述する式（Ｚ）で表される構成単位とは異なり、通常、非架橋性の構成単位である。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、式(Ｙ)で表される構成単位を含んでいてもよい。式（Ｙ）で表される構成単位は、前記式（２－１）、前記式（２－２）で表される構成単位及び後述する式（Ｚ）で表される構成単位とは異なり、通常、非架橋性の構成単位である。
ＡｒY1で表されるアリーレン基は、より好ましくは式（Ａ－１）、式（Ａ－６）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）～式（Ａ－１１）、式（Ａ－１３）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、更に好ましくは式（Ａ－１）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）又は式（Ａ－１９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒY1で表される２価の複素環基は、より好ましくは式（ＡＡ－４）、式（ＡＡ－１０）、式（ＡＡ－１３）、式（ＡＡ－１５）、式（ＡＡ－１８）又は式（ＡＡ－２０）で表される基であり、更に好ましくは式（ＡＡ－４）、式（ＡＡ－１０）、式（ＡＡ－１８）又は式（ＡＡ－２０）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒY1で表されるアリーレン基と２価の複素環基とが直接結合した２価の基における、アリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、前述のＡｒY1で表されるアリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。
ＡｒY1で表されるアリーレン基と２価の複素環基とが直接結合した２価の基としては、式(Ｘ)のＡｒX2及びＡｒX4で表されるアリーレン基と２価の複素環基とが直接結合した２価の基と同様のものが挙げられる。
ＡｒY1で表される基としては、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。
ＡｒY1で表される基が有してもよい置換基は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
ＡｒY1で表される基が有してもよい置換基は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
式(Ｙ)で表される構成単位としては、例えば、式（Ｙ－１）～（Ｙ－７）で表される構成単位が挙げられ、本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂを用いた発光素子の輝度寿命の観点からは、好ましくは式（Ｙ－１）又は（Ｙ－２）で表される構成単位であり、電子輸送性の観点からは、好ましくは式（Ｙ－３）又は（Ｙ－４）で表される構成単位であり、正孔輸送性の観点からは、好ましくは式（Ｙ－５）～（Ｙ－７）のいずれかで表される構成単位である。
ＲY1は、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、より好ましくは水素原子又はアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
式（Ｙ－１）で表される構成単位は、好ましくは、式（Ｙ－１'）で表される構成単位である。
ＲY11は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、より好ましくは、アルキル基又はシクロアルキル基であり、更に好ましくはアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＲY1は、前記と同じ意味を表す。
ＸY1は、－Ｃ(ＲY2)2－、－Ｃ(ＲY2)＝Ｃ(ＲY2)－又は－Ｃ(ＲY2)2－Ｃ(ＲY2)2－で表される基を表す。ＲY2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲY2は、同一でも異なっていてもよく、ＲY2同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。］
ＲY2は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＸY1において、－Ｃ(ＲY2)2－で表される基中の２個のＲY2の組み合わせは、好ましくは双方がアルキル基若しくはシクロアルキル基、双方がアリール基、双方が１価の複素環基、又は、一方がアルキル基若しくはシクロアルキル基で他方がアリール基若しくは１価の複素環基であり、より好ましくは一方がアルキル基若しくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。２個存在するＲY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、ＲY2が環を形成する場合、－Ｃ(ＲY2)2－で表される基としては、好ましくは式（Ｙ－Ａ１）～式（Ｙ－Ａ５）で表される基であり、より好ましくは式（Ｙ－Ａ４）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＸY1において、－Ｃ(ＲY2)＝Ｃ(ＲY2)－で表される基中の２個のＲY2の組み合わせは、好ましくは双方がアルキル基若しくはシクロアルキル基、又は、一方がアルキル基若しくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＸY1において、－Ｃ(ＲY2)2－Ｃ(ＲY2)2－で表される基中の４個のＲY2は、好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基又はシクロアルキル基である。複数あるＲY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、ＲY2が環を形成する場合、－Ｃ(ＲY2)2－Ｃ(ＲY2)2－で表される基は、好ましくは式（Ｙ－Ｂ１）～式（Ｙ－Ｂ５）で表される基であり、より好ましくは式（Ｙ－Ｂ３）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
式（Ｙ－２）で表される構成単位は、式（Ｙ－２'）で表される構成単位であることが好ましい。
ＲY1は、前記と同じ意味を表す。
ＲY3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
ＲY3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＲY1は、前記を同じ意味を表す。
ＲY4は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
ＲY4は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
式(Ｙ)で表される構成単位であって、ＡｒY1がアリーレン基である構成単位の含有量は、本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂを用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、高分子化合物Ａに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～８０モル％であり、より好ましくは３０～６０モル％である。
式(Ｙ)で表される構成単位であって、ＡｒY1が２価の複素環基、又は、アリーレン基と２価の複素環基とが直接結合した２価の基である構成単位の含有量は、本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂを用いた発光素子の電荷輸送性が優れるので、高分子化合物Ａに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～６０モル％であり、より好ましくは３～５０モル％である。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂにおいて、式(Ｙ)で表される構成単位は、一種のみ含まれていても二種以上含まれていてもよい。
［式（Ｚ）で表される構成単位］
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、式(Ｚ)で表される構成単位を含んでいてもよい。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、式(Ｚ)で表される構成単位を含んでいてもよい。
Ｒ1～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。また、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。
Ｚａは、－Ｃ(ＲY3)2－、－Ｃ(ＲY3)＝Ｃ(ＲY3)－又は－Ｃ(ＲY3)2－Ｃ(ＲY3)2－で表される基を表す。ＲY3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲY3は、同一でも異なっていてもよく、ＲY3同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。］
ＲY3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｚａにおいて、－Ｃ(ＲY3)2－で表される基中の２個のＲY3の組み合わせは、好ましくは双方がアルキル基若しくはシクロアルキル基、双方がアリール基、双方が１価の複素環基、又は、一方がアルキル基若しくはシクロアルキル基で他方がアリール基若しくは１価の複素環基である。これらの基は置換基を有していてもよい。２個存在するＲY3は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。
Ｒ1～Ｒ10は、高分子化合物Ｂの微量金属の低減がより優れるので、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、より好ましくは水素原子である。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂにおいて、式(Ｚ)で表される構成単位は、一種のみ含まれていても二種以上含まれていてもよい。
本発明の製造方法で得られる高分子化合物Ｂは、式（２－１）で表される構成単位及び式（２－２）で表される構成単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構成単位と、式（Ｘ）で表される構成単位と、式（Ｙ）で表される構成単位とを有する高分子化合物であること、式（２－３）で表される構成単位及び式（２－４）で表される構成単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構成単位と、式（Ｘ）で表される構成単位と、式（Ｙ）で表される構成単位とを有する高分子化合物であることが好ましい。
＜吸着剤＞
吸着剤は、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土からなる群より選ばれる異なる３種類以上を用い、該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである。吸着剤は、高分子化合物Ａと有機溶媒とを含む溶液と接触させることによって、高分子化合物Ａに残留した微量金属を低減させる。
吸着剤は、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土からなる群より選ばれる異なる３種類以上を用い、該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである。吸着剤は、高分子化合物Ａと有機溶媒とを含む溶液と接触させることによって、高分子化合物Ａに残留した微量金属を低減させる。
３種類の異なる吸着剤のうち、少なくとも１種類は、アルミナであることが好ましい。
３種類以上の異なる吸着剤のうち、少なくとも１種類は活性炭、酸性白土又は活性白土であることが好ましく、活性炭又は活性白土であることがより好ましく、活性白土であることが更に好ましい。
３種類以上の異なる吸着剤のうち、少なくとも１種類はシリカゲル又は珪藻土であることが好ましい。
３種類以上の異なる吸着剤は、如何なる順番で用いてもよいが、第一にアルミナ又はケイ酸マグネシウムを用い、第二に活性炭、酸性白土又は活性白土を用い、第三にシリカゲル又は珪藻土を用いることが好ましい。
３種類以上の異なる吸着剤は、同時に用いても、分離して用いてもよい。
３種類以上の異なる吸着剤による吸着において、溶媒を用いる際の温度は、通常、－８０℃～１８０℃であり、好ましくは０℃～８０℃であり、より好ましくは０℃～５０℃である。溶媒を用いる際の温度は、吸着剤ごとに変えても同一でもよい。
吸着剤による吸着において、各々の吸着剤の使用量は、高分子化合物Ａ100質量部に対して、通常、１～１００００質量部であり、好ましくは１０～７０００質量部であり、より好ましくは５０～４０００質量部である。吸着剤の使用量は、吸着剤ごとに変えても同一でもよい。
本発明の製造方法において、前記３種類以上の異なる吸着剤を、高分子化合物Ａと有機溶媒とを含む溶液と接触させる工程の前後に、その他の工程（例えば、前工程、後工程）を有していてもよい。
前工程としては、例えば、鈴木カップリング反応等の重合反応により高分子化合物Ａを得る工程が挙げられる。
後工程としては、該高分子化合物Ａ、該吸着剤及び有機溶媒を含む混合液から、吸着剤及び／又は有機溶媒を除去する工程を含む。当該工程により、微量金属が低減された高分子化合物Ｂを得ることができる。
吸着剤及び／又は有機溶媒を除去する工程には、公知の方法を適宜、用いることができる。公知の方法としては例えば、貧溶媒と接触させる晶析法、溶媒を減圧下取り除く方法、溶媒を加熱下留去する方法等が挙げられる。晶析法により得られた固体をさらに加熱し、減圧下乾燥させ、固体として取り出す方法が好ましい。
当該晶析法は、通常、高分子化合物Ｂ及びその良溶媒を含む溶液に貧溶媒を接触させることにより実施することができる。例えば、高分子化合物Ｂ及びその良溶媒を含む溶液に貧溶媒を添加して撹拌する方法、貧溶媒に高分子化合物Ｂ及びその良溶媒を含む溶液を添加して撹拌する方法等が挙げられる。
良溶媒は、高分子化合物Ｂの特性に応じて、種々の溶媒の中から選択することができる。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒及びテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル溶媒が好ましく、芳香族炭化水素溶媒がより好ましく、トルエン、キシレン及びメシチレンがさらに好ましい。良溶媒の使用量は、高分子化合物Ｂ １質量部に対して、通常、１０～１０００質量部であり、好ましくは５０～３００質量部である。
貧溶媒は、高分子化合物Ｂの溶解度（２０℃）が１ｇ／１００ｇ未満となる溶媒として定義することができる。例えば、アミド溶媒、アルコール溶媒、ケトン溶媒、脂肪族炭化水素溶媒、エステル溶媒、及びニトリル溶媒が挙げられ、アルコール溶媒が好ましい。アミド溶媒として、N-メチル-2-ピロリドン等が挙げられる。アルコール溶媒として、メタノール、エタノール、イソプロパノール等が挙げられる。ケトン溶媒として、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。エステル溶媒として、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。中でも、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、酢酸エチルが好ましく、メタノールがより好ましい。
本発明の高分子化合物Ｂを製造する方法には、上記以外の工程も包含し得る。例えば、重合工程；重合後の高分子化合物の末端封止工程；酸、アルカリ、水、食塩水等のうち少なくとも一種と混合し、水層と有機層に分離精製する分液工程；常圧で又は減圧しながら共沸脱水させる共沸脱水工程；ソックスレー抽出器による連続抽出工程；カラムクロマトグラフィ処理により精製する工程；晶析工程等が挙げられる。
＜発光素子＞
高分子化合物Ｂを用いて得られる有機エレクトロルミネッセンス等の発光素子（以下、「本発明の発光素子」とも言う。）には、例えば、高分子化合物Ｂを含む発光素子、高分子化合物Ｂが分子内、分子間、又は、それらの両方で架橋した発光素子がある。
高分子化合物Ｂを用いて得られる有機エレクトロルミネッセンス等の発光素子（以下、「本発明の発光素子」とも言う。）には、例えば、高分子化合物Ｂを含む発光素子、高分子化合物Ｂが分子内、分子間、又は、それらの両方で架橋した発光素子がある。
本発明の発光素子の構成としては、例えば、陽極及び陰極からなる電極と、該電極間に設けられた高分子化合物Ｂを用いて得られる層とを有する。
［層構成］
高分子化合物Ｂを用いて得られる層は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の１種以上の層であり、好ましくは、正孔輸送層、正孔注入層等である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を、上述した溶媒に溶解させ、インクを調製して用い、上述した膜の作製と同じ方法を用いて形成することができる。
高分子化合物Ｂを用いて得られる層は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の１種以上の層であり、好ましくは、正孔輸送層、正孔注入層等である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を、上述した溶媒に溶解させ、インクを調製して用い、上述した膜の作製と同じ方法を用いて形成することができる。
発光素子は、陽極と陰極の間に発光層を有する。本発明の発光素子は、正孔注入性及び正孔輸送性の観点からは、陽極と発光層との間に、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくとも１層を有することが好ましく、電子注入性及び電子輸送性の観点からは、陰極と発光層の間に、電子注入層及び電子輸送層の少なくとも１層を有することが好ましい。本発明において、発光層；陽極と発光層との間に任意選択で形成される正孔注入層及び／又は正孔輸送層；陰極と発光層の間に任意選択で形成される電子注入層及び／又は電子輸送層を総称して、有機層と示す。上記のように有機層は複数の層を有し得る。正孔輸送層、正孔注入層、発光層、電子輸送層及び電子注入層は、各々、２層以上の積層構造としてもよい。
正孔輸送層、電子輸送層、発光層、正孔注入層、及び、電子注入層の材料としては、高分子化合物Ｂの他、各々、上述した正孔輸送材料、電子輸送材料、発光材料、正孔注入材料、及び、電子注入材料が挙げられる。また、高分子化合物Ａは、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料を更に含有する組成物より、層を形成してもよい。
正孔輸送層の材料、電子輸送層の材料、及び、発光層の材料は、発光素子の作製において、各々、正孔輸送層、電子輸送層、及び、発光層に隣接する層の形成時に使用される溶媒に溶解する場合、該溶媒に該材料が溶解することを回避するために、該材料が架橋基を有することが好ましい。架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該架橋基を架橋させることにより、該層を不溶化させることができる。
本発明の発光素子において、発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等の各層の形成方法としては、低分子化合物を用いる場合、例えば、粉末からの真空蒸着法、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が挙げられ、高分子化合物を用いる場合、例えば、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が挙げられる。
積層する層の順番、数、及び、厚さは、発光効率及び素子寿命を勘案して調整すればよい。
［基板/電極］
発光素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明又は半透明であることが好ましい。
発光素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明又は半透明であることが好ましい。
陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ；インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物；銀とパラジウムと銅との複合体(APC)；NESA、金、白金、銀、銅である。
陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属；それらのうち２種以上の合金；それらのうち１種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち１種以上との合金；並びに、グラファイト及びグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム－銀合金、マグネシウム－インジウム合金、マグネシウム－アルミニウム合金、インジウム－銀合金、リチウム－アルミニウム合金、リチウム－マグネシウム合金、リチウム－インジウム合金、カルシウム－アルミニウム合金が挙げられる。
陽極及び陰極は、各々、２層以上の積層構造としてもよい。
本発明の発光素子は、例えば、陽極、有機層及び陰極を積層する工程を含む方法であって、前記発光素子が前記陽極及び前記陰極の間に前記有機層を有し、前記有機層を構成する層のうち少なくとも一層の積層工程が、前記高分子化合物Ｂを含む原料の熱硬化により行われる、方法により製造することができる。また、本発明における発光素子の製造方法は、前述の方法により高分子化合物Ｂを製造する工程をさらに含んでいてもよい。
［用途］
本発明の発光素子は、例えば、ディスプレイ及び照明に好適に使用することが可能である。
本発明の発光素子は、例えば、ディスプレイ及び照明に好適に使用することが可能である。
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例において、高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)及びポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、移動相にテトラヒドロフランを用い、サイズエクスクルージョンクロマトグラフィー(SEC)により求めた。
＜測定条件＞
測定する高分子化合物を約０．０５質量％の濃度でテトラヒドロフランに溶解させ、ＳＥＣに１０μＬ注入した。移動相は、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムとして、ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ－Ｂ（ポリマーラボラトリーズ製）を用いた。検出器にはＵＶ－ＶＩＳ検出器（東ソー製、商品名：ＵＶ－８３２０ＧＰＣ）を用いた。
測定する高分子化合物を約０．０５質量％の濃度でテトラヒドロフランに溶解させ、ＳＥＣに１０μＬ注入した。移動相は、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムとして、ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ－Ｂ（ポリマーラボラトリーズ製）を用いた。検出器にはＵＶ－ＶＩＳ検出器（東ソー製、商品名：ＵＶ－８３２０ＧＰＣ）を用いた。
＜合成例ＭＭ１～ＭＭ４＞ 化合物ＭＭ１～ＭＭ４の合成
化合物ＭＭ１は、特開２０１０－１８９６３０号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ２は、特開２００２－５３９２９２号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ３は、特開２０１０－２１５８８６号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ４は、特開２００８－１０６２４１号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１は、特開２０１０－１８９６３０号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ２は、特開２００２－５３９２９２号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ３は、特開２０１０－２１５８８６号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ４は、特開２００８－１０６２４１号公報記載の合成法に従い合成した。
＜合成例１＞ 高分子化合物１の合成
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(７．４ｇ)、化合物ＭＭ２(５．５ｇ)、化合物ＭＭ３(０．８０ｇ)、化合物ＭＭ４(０．６９ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１３ｍｇ)及びトルエン(２００ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(１４０ｍＬ)を滴下し、３時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．７３ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１３ｍｇ)を加え、６時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１を５．８ｇ得た。高分子化合物１のＭｎは３．８６×１０4であり、Ｍｗは９．８４×１０4であり、Ｍｗ／Ｍｎは２．５５であった。高分子化合物１のパラジウム含量は１６０質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(７．４ｇ)、化合物ＭＭ２(５．５ｇ)、化合物ＭＭ３(０．８０ｇ)、化合物ＭＭ４(０．６９ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１３ｍｇ)及びトルエン(２００ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(１４０ｍＬ)を滴下し、３時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．７３ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１３ｍｇ)を加え、６時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１を５．８ｇ得た。高分子化合物１のＭｎは３．８６×１０4であり、Ｍｗは９．８４×１０4であり、Ｍｗ／Ｍｎは２．５５であった。高分子化合物１のパラジウム含量は１６０質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
高分子化合物１は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ＭＭ１から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ２から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ３から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ４から誘導される構成単位とが、50：40：5：5のモル比で構成されてなる共重合体である。
＜実施例１＞ 高分子化合物１－ｐ１の製造
合成例１で合成した高分子化合物１（４．２ｇ）をトルエン（４２０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（１１５ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１８０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液の分子量を測定したところ、Ｍｎは３．３５×１０4であり、Ｍｗは９．６３×１０4であった。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａを４．０ｇ得た。高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａのＭｎは３．６８×１０4であり、Ｍｗは９．８４×１０4であった。
合成例１で合成した高分子化合物１（４．２ｇ）をトルエン（４２０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（１１５ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１８０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液の分子量を測定したところ、Ｍｎは３．３５×１０4であり、Ｍｗは９．６３×１０4であった。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａを４．０ｇ得た。高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａのＭｎは３．６８×１０4であり、Ｍｗは９．８４×１０4であった。
高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａ（０．７５ｇ）をトルエン（１１３ｇ）に溶解させ、活性白土（２０ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（４５ｇ）を加え、シリカゲル（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１２０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約７５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ｐ１を０．５６ｇ得た。高分子化合物１－ｐ１のＭｎは５．８２×１０4であり、Ｍｗは１．０４×１０5であった。高分子化合物１－ｐ１のパラジウム含量は２．３質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
＜実施例２＞ 高分子化合物１－ｐ２の製造
実施例１で調製した高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａ（０．７５ｇ）をトルエン（１１３ｇ）に溶解させ、活性白土（２０ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（４５ｇ）を加え、珪藻土（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１２０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約７５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ｐ２を０．５９ｇ得た。高分子化合物１－ｐ２のＭｎは５．８３×１０4であり、Ｍｗは１．０４×１０5であった。高分子化合物１－ｐ２のパラジウム含量は２．６質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
＜比較例１＞ 高分子化合物１－ｃ１の製造
実施例１で調製した高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａ（０．６０ｇ）をトルエン（９０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をシリカゲル（１６ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（６０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約６０ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ｃ１を０．５１ｇ得た。高分子化合物１－ｃ１のＭｎは３．５４×１０4であり、Ｍｗは９．４８×１０4であった。高分子化合物１－ｃ１のパラジウム含量は１２質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
実施例１で調製した高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａ（０．７５ｇ）をトルエン（１１３ｇ）に溶解させ、活性白土（２０ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（４５ｇ）を加え、珪藻土（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１２０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約７５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ｐ２を０．５９ｇ得た。高分子化合物１－ｐ２のＭｎは５．８３×１０4であり、Ｍｗは１．０４×１０5であった。高分子化合物１－ｐ２のパラジウム含量は２．６質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
＜比較例１＞ 高分子化合物１－ｃ１の製造
実施例１で調製した高分子化合物１－ａｌｕｍｉｎａ（０．６０ｇ）をトルエン（９０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をシリカゲル（１６ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（６０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約６０ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ｃ１を０．５１ｇ得た。高分子化合物１－ｃ１のＭｎは３．５４×１０4であり、Ｍｗは９．４８×１０4であった。高分子化合物１－ｃ１のパラジウム含量は１２質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
＜比較例２＞ 高分子化合物１－ｃ２の製造
合成例１で合成した高分子化合物１（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、活性白土（１２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液をシリカゲル（１２ｇ）と珪藻土（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ｃ２を０．３５ｇ得た。高分子化合物１－ｃ２のＭｎは５．３２×１０4であり、Ｍｗは９．８８×１０4であった。高分子化合物１－ｃ２のパラジウム含量は７．２質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
合成例１で合成した高分子化合物１（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、活性白土（１２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液をシリカゲル（１２ｇ）と珪藻土（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物１－ｃ２を０．３５ｇ得た。高分子化合物１－ｃ２のＭｎは５．３２×１０4であり、Ｍｗは９．８８×１０4であった。高分子化合物１－ｃ２のパラジウム含量は７．２質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
＜合成例２＞ 高分子化合物２の合成
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(３．７ｇ)、化合物ＭＭ２(２．８ｇ)、化合物ＭＭ４(０．８０ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(６．７ｍｇ)及びトルエン(１００ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(７４ｍＬ)を滴下し、５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．３７ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(６．７ｍｇ)を加え、３時間還流させた。（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物２を２．５ｇ得た。高分子化合物２のＭｎは３．５２×１０4であり、Ｍｗは９．１８×１０4であった。高分子化合物２のパラジウム含量は１００質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(３．７ｇ)、化合物ＭＭ２(２．８ｇ)、化合物ＭＭ４(０．８０ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(６．７ｍｇ)及びトルエン(１００ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(７４ｍＬ)を滴下し、５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．３７ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(６．７ｍｇ)を加え、３時間還流させた。（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物２を２．５ｇ得た。高分子化合物２のＭｎは３．５２×１０4であり、Ｍｗは９．１８×１０4であった。高分子化合物２のパラジウム含量は１００質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
高分子化合物２は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ＭＭ１から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ２から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ４から誘導される構成単位とが、50：40：10のモル比で構成されてなる共重合体である。
＜実施例３＞ 高分子化合物２－ｐ１の合成
合成例２で合成した高分子化合物２（２．５ｇ）をトルエン（２５０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（７０ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（３４ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物２－ａｌｕｍｉｎａを２．４ｇ得た。高分子化合物２－ａｌｕｍｉｎａのＭｎは３．７０×１０4であり、Ｍｗは９．３１×１０4であった。
合成例２で合成した高分子化合物２（２．５ｇ）をトルエン（２５０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（７０ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（３４ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物２－ａｌｕｍｉｎａを２．４ｇ得た。高分子化合物２－ａｌｕｍｉｎａのＭｎは３．７０×１０4であり、Ｍｗは９．３１×１０4であった。
高分子化合物２－ａｌｕｍｉｎａ（０．８０ｇ）をトルエン（１２０ｇ）に溶解させ、活性白土（２２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（３０ｇ）加え、シリカゲル（２２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（８０ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約７５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物２－ｐ１を０．６１ｇ得た。高分子化合物２－ｐ１のＭｎは５．６２×１０4であり、Ｍｗは９．９６×１０4であった。高分子化合物２－ｐ１のパラジウム含量は１．３質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
＜合成例３＞ 高分子化合物３の合成
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(４．３ｇ)、化合物ＭＭ２(４．１ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(７．８ｍｇ)及びトルエン(７２ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(４８ｍＬ)を滴下し、２時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．４８ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(７．９ｍｇ)を加え、３．５時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物３を２．１ｇ得た。高分子化合物３のＭｎは３．６３×１０4であり、Ｍｗは９．２２×１０4であった。高分子化合物３のパラジウム含量は１００質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(４．３ｇ)、化合物ＭＭ２(４．１ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(７．８ｍｇ)及びトルエン(７２ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(４８ｍＬ)を滴下し、２時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．４８ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(７．９ｍｇ)を加え、３．５時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物３を２．１ｇ得た。高分子化合物３のＭｎは３．６３×１０4であり、Ｍｗは９．２２×１０4であった。高分子化合物３のパラジウム含量は１００質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
高分子化合物３は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ＭＭ１から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ２から誘導される構成単位とが、50：50のモル比で構成されてなる共重合体である。
＜比較例３＞ 高分子化合物３－ｃ１の合成
合成例３で合成した高分子化合物３（２．０ｇ）をトルエン（２０４ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（５５ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（３１ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物３－ａｌｕｍｉｎａを１．９ｇ得た。高分子化合物３－ａｌｕｍｉｎａのＭｎは３．８２×１０4であり、Ｍｗは９．３６×１０4であった。
合成例３で合成した高分子化合物３（２．０ｇ）をトルエン（２０４ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（５５ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（３１ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物３－ａｌｕｍｉｎａを１．９ｇ得た。高分子化合物３－ａｌｕｍｉｎａのＭｎは３．８２×１０4であり、Ｍｗは９．３６×１０4であった。
高分子化合物３－ａｌｕｍｉｎａ（１．８２ｇ）をトルエン（２７３ｇ）に溶解させ、活性白土（４９ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（１０９ｇ）を加え、シリカゲル（４９ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１８２ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物３－ｃ１を１．３４ｇ得た。高分子化合物３－ｃ１のＭｎは４．２２×１０4であり、Ｍｗは９．５４×１０4であった。高分子化合物３－ｃ１のパラジウム含量は１０質量ｐｐｍであった。得られた結果を表２に記載する。
吸着剤処理前のパラジウム含量をPd-befと記載する。吸着剤処理後のパラジウム含量をPd-aftと記載する。また、吸着剤処理前のパラジウム含量に対して、吸着剤処理後のパラジウム含量の残存した比率をPd-aft/Pd-befで算出した。Pd-aft/Pd-befの値が小さいほど、パラジウムの低減に優れる。表２より、本発明の製造方法で製造された実施例の高分子化合物１－ｐ１、１－ｐ２、２－ｐ１は、比較例の高分子化合物１－ｃ１、１－ｃ２及び３－ｃ１と比較して、Pd-aft/Pd-befの値が小さく、パラジウムの低減に優れる。
＜合成例ＭＭ５～ＭＭ１３＞ 化合物ＭＭ５～ＭＭ１３の合成
化合物ＭＭ５は、国際公開第２０１３／１４６８０６号記載の合成法に従い合成した。
の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ６及び化合物ＭＭ７は、国際公開第２０１７／０４７６４４号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ８は、特開２０１１－１７４０６２号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ９は、特開２００４－１４３４１９号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１０は、ＵＳ２００９／０２２７７６５Ａ１号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１１は、特開２０１２－５１９２１４号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１２は、国際公開第２００９／１３１２５５号記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１３は、特開２０１０－１８９６３０号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ５は、国際公開第２０１３／１４６８０６号記載の合成法に従い合成した。
の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ６及び化合物ＭＭ７は、国際公開第２０１７／０４７６４４号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ８は、特開２０１１－１７４０６２号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ９は、特開２００４－１４３４１９号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１０は、ＵＳ２００９／０２２７７６５Ａ１号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１１は、特開２０１２－５１９２１４号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１２は、国際公開第２００９／１３１２５５号記載の合成法に従い合成した。
化合物ＭＭ１３は、特開２０１０－１８９６３０号公報記載の合成法に従い合成した。
＜合成例４＞ 高分子化合物４の合成
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(１．７ｇ)、化合物ＭＭ５(３．０ｇ)、化合物ＭＭ６(０．３７ｇ)、化合物ＭＭ７(０．３１ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．０ｍｇ)及びトルエン(５７ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(４０ｍＬ)を滴下し、４．５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．１７ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．０ｍｇ)を加え、３時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４を３．３ｇ得た。高分子化合物４のＭｎは２．９４×１０4であり、Ｍｗは９．７１×１０4であり、Ｍｗ／Ｍｎは３．３０であった。高分子化合物４のパラジウム含量は６１質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ１(１．７ｇ)、化合物ＭＭ５(３．０ｇ)、化合物ＭＭ６(０．３７ｇ)、化合物ＭＭ７(０．３１ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．０ｍｇ)及びトルエン(５７ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(４０ｍＬ)を滴下し、４．５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．１７ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．０ｍｇ)を加え、３時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、３０分撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４を３．３ｇ得た。高分子化合物４のＭｎは２．９４×１０4であり、Ｍｗは９．７１×１０4であり、Ｍｗ／Ｍｎは３．３０であった。高分子化合物４のパラジウム含量は６１質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
高分子化合物４は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ＭＭ１から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ５から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ６から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ７から誘導される構成単位とが、50：40：5：5のモル比で構成されてなる共重合体である。
＜実施例４＞ 高分子化合物４－ｐ１の製造
合成例４で合成した高分子化合物４（２．８ｇ）をトルエン（２８０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（７４ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４２ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４－ａｌｕｍｉｎａを２．４ｇ得た。
合成例４で合成した高分子化合物４（２．８ｇ）をトルエン（２８０ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（７４ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４２ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４－ａｌｕｍｉｎａを２．４ｇ得た。
高分子化合物４－ａｌｕｍｉｎａ（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、活性炭（１２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（２７ｇ）を加え、シリカゲル（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４－ｐ１を０．２９ｇ得た。高分子化合物４－ｐ１のＭｎは２．９８×１０4であり、Ｍｗは９．２４×１０4であった。高分子化合物４－ｐ１のパラジウム含量は０．２４質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
＜比較例４＞ 高分子化合物４－ｃ１の製造
実施例４で調製した高分子化合物４－ａｌｕｍｉｎａ（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、得られた溶液をシリカゲル（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４－ｃ１を０．３８ｇ得た。高分子化合物４－ｃ１のＭｎは２．７５×１０4であり、Ｍｗは９．３６×１０4であった。高分子化合物４－ｃ１のパラジウム含量は６．７質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
実施例４で調製した高分子化合物４－ａｌｕｍｉｎａ（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、得られた溶液をシリカゲル（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４－ｃ１を０．３８ｇ得た。高分子化合物４－ｃ１のＭｎは２．７５×１０4であり、Ｍｗは９．３６×１０4であった。高分子化合物４－ｃ１のパラジウム含量は６．７質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
＜比較例５＞ 高分子化合物４－ｃ２の製造
合成例４で合成した高分子化合物４（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、活性炭（１２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液をシリカゲル（１２ｇ）と珪藻土（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。
得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４－ｃ２を０．２７ｇ得た。高分子化合物４－ｃ２のＭｎは２．９０×１０4であり、Ｍｗは９．６６×１０4であった。高分子化合物４－ｃ２のパラジウム含量は２．４質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
合成例４で合成した高分子化合物４（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、活性炭（１２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液をシリカゲル（１２ｇ）と珪藻土（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。
得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物４－ｃ２を０．２７ｇ得た。高分子化合物４－ｃ２のＭｎは２．９０×１０4であり、Ｍｗは９．６６×１０4であった。高分子化合物４－ｃ２のパラジウム含量は２．４質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
＜合成例５＞ 高分子化合物５の合成
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ８(３．５ｇ)、化合物ＭＭ２(１．１ｇ)、化合物ＭＭ９(０．５９ｇ)、化合物ＭＭ１０(０．３４ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．５ｍｇ)及びトルエン(５７ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(４０ｍＬ)を滴下し、５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．２０ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．５ｍｇ)を加え、４時間還流させた。（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、１時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物５を２．８ｇ得た。高分子化合物５のＭｎは３．９３×１０4であり、Ｍｗは１．１２×１０5であった。高分子化合物５のパラジウム含量は２３質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ８(３．５ｇ)、化合物ＭＭ２(１．１ｇ)、化合物ＭＭ９(０．５９ｇ)、化合物ＭＭ１０(０．３４ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．５ｍｇ)及びトルエン(５７ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(４０ｍＬ)を滴下し、５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．２０ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(３．５ｍｇ)を加え、４時間還流させた。（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、１時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物５を２．８ｇ得た。高分子化合物５のＭｎは３．９３×１０4であり、Ｍｗは１．１２×１０5であった。高分子化合物５のパラジウム含量は２３質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
高分子化合物５は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ＭＭ８から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ２から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ９から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ１０から誘導される構成単位とが、50：30：10：10のモル比で構成されてなる共重合体である。
＜実施例５＞ 高分子化合物５－ｐ１の合成
合成例５で合成した高分子化合物５（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、得られた溶液にケイ酸マグネシウム（１２ｇ）を加え、１時間攪拌した。得られた懸濁液をろ紙中に通液させることで濾過し、トルエン（１４ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液に酸性白土（１２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（２７ｇ）を加え、シリカゲル（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物５－ｐ１を０．２９ｇ得た。高分子化合物５－ｐ１のＭｎは４．８９×１０4であり、Ｍｗは１．２０×１０5であった。高分子化合物５－ｐ１のパラジウム含量は０．１２質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
合成例５で合成した高分子化合物５（０．４５ｇ）をトルエン（６８ｇ）に溶解させ、得られた溶液にケイ酸マグネシウム（１２ｇ）を加え、１時間攪拌した。得られた懸濁液をろ紙中に通液させることで濾過し、トルエン（１４ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液に酸性白土（１２ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（２７ｇ）を加え、シリカゲル（１２ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（４５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物５－ｐ１を０．２９ｇ得た。高分子化合物５－ｐ１のＭｎは４．８９×１０4であり、Ｍｗは１．２０×１０5であった。高分子化合物５－ｐ１のパラジウム含量は０．１２質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
＜合成例６＞ 高分子化合物６の合成
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ８(１１ｇ)、化合物ＭＭ２(４．７ｇ)、化合物ＭＭ１１(１．１ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１１ｍｇ)及びトルエン(１７０ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(１２０ｍＬ)を滴下し、７．５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．６２ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１１ｍｇ)を加え、１５時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、１時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物６を１０．３ｇ得た。高分子化合物６のＭｎは３．８６×１０4であり、Ｍｗは９．５９×１０4であり、Ｍｗ／Ｍｎは２．４９であった。
高分子化合物６のパラジウム含量は１９質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
（工程１）反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物ＭＭ８(１１ｇ)、化合物ＭＭ２(４．７ｇ)、化合物ＭＭ１１(１．１ｇ)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１１ｍｇ)及びトルエン(１７０ｍＬ)を加え、85℃に加熱した。
（工程２）反応液に、20質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(１２０ｍＬ)を滴下し、７．５時間還流させた。
（工程３）反応後、そこに、フェニルボロン酸(０．６２ｇ)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(１１ｍｇ)を加え、１５時間還流させた。
（工程４）その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、１時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、１０質量％塩酸水、３質量％アンモニア水溶液、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物６を１０．３ｇ得た。高分子化合物６のＭｎは３．８６×１０4であり、Ｍｗは９．５９×１０4であり、Ｍｗ／Ｍｎは２．４９であった。
高分子化合物６のパラジウム含量は１９質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
高分子化合物６は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ＭＭ８から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ２から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ１１から誘導される構成単位とが、50：40：10のモル比で構成されてなる共重合体である。
＜実施例６＞ 高分子化合物６－ｐ１の製造
合成例６で合成した高分子化合物６（９．０ｇ）をトルエン（９００ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（１６８ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１３５ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物６－ａｌｕｍｉｎａを４．１ｇ得た。
合成例６で合成した高分子化合物６（９．０ｇ）をトルエン（９００ｇ）に溶解させ、得られた溶液をアルミナ（１６８ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１３５ｇ）を加えて洗浄した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物６－ａｌｕｍｉｎａを４．１ｇ得た。
高分子化合物６－ａｌｕｍｉｎａ（１．４ｇ）をトルエン（２０３ｇ）に溶解させ、活性白土（１４ｇ）を加え、２０分間攪拌した。得られた懸濁液にトルエン（８１ｇ）を加え、シリカゲル（３６ｇ）中に通液させることで濾過し、トルエン（１３５ｇ）を加えて洗浄した。得られたろ液を濃縮により約４５ｇのトルエン溶液にし、得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物６－ｐ１を１．０ｇ得た。高分子化合物６－ｐ１のＭｎは７．３２×１０4であり、Ｍｗは１．１７×１０5であった。高分子化合物６－ｐ１のパラジウム含量は０．２４質量ｐｐｍであった。得られた結果を表３に記載する。
＜金属錯体ＭＣ１の合成＞
金属錯体ＭＣ１は国際公開第２００９／１３１２５５号記載の方法に準じて合成した。
金属錯体ＭＣ１は国際公開第２００９／１３１２５５号記載の方法に準じて合成した。
＜高分子化合物Ｅ１の合成＞
不活性ガス雰囲気下、ＭＭ１（２．８ｇ）、ＭＭ１２（２．９ｇ）、ＭＭ１３（０．６２ｇ）、及び、トルエン（８５ｍＬ）を混合し、加熱しながら攪拌した。酢酸パラジウム（１．９ｍｇ）、及び、トリス（２－メトキシフェニル）ホスフィン（１２ｍｇ）を加え、２０質量％テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（２０ｇ）を滴下し、５時間加熱還流させた。
不活性ガス雰囲気下、ＭＭ１（２．８ｇ）、ＭＭ１２（２．９ｇ）、ＭＭ１３（０．６２ｇ）、及び、トルエン（８５ｍＬ）を混合し、加熱しながら攪拌した。酢酸パラジウム（１．９ｍｇ）、及び、トリス（２－メトキシフェニル）ホスフィン（１２ｍｇ）を加え、２０質量％テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（２０ｇ）を滴下し、５時間加熱還流させた。
次に、フェニルホウ酸（０．０６９ｇ）、酢酸パラジウム（１．９ｍｇ）、及び、トリス（２－メトキシフェニル）ホスフィン（１２ｍｇ）を加え、１５．５時間加熱還流させた。
反応液から水層を除いた後、Ｎ，Ｎ－ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム三水和物（３．１ｇ）、及び、イオン交換水（６３ｍＬ）を加え、８５℃で２時間攪拌した。反応液において、有機層を水層と分離した後、有機層をイオン交換水で２回、３質量％酢酸水溶液で２回、イオン交換水で２回の順番で洗浄した。
有機層をメタノールに滴下して生じた沈殿を濾取した後、乾燥し固体を得た。この固体をトルエンに溶解させ、あらかじめトルエンを通液したシリカゲル／アルミナカラムにトルエン溶液を通液させた。通液後の溶出液をメタノールに滴下して生じた沈殿を濾取した後乾燥し、高分子化合物Ｅ１を３．５ｇ得た。高分子化合物Ｅ１のＭｎは１．５×１０5であり、Ｍｗは４．７×１０5であった。
高分子化合物Ｅ１は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ＭＭ１から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ１２から誘導される構成単位と、化合物ＭＭ１３から誘導される構成単位とが、50：40：10のモル比で構成されてなる共重合体である。
＜実施例Ｄ１＞ 発光素子Ｄ１の作製及び評価
［発光素子Ｄ１の作製］
（陽極及び正孔注入層の形成）
ガラス基板にスパッタ法により４５ｎｍの厚みでＩＴＯ膜を付けることにより陽極を形成した。該陽極上に、正孔注入材料であるＮＤ－３２０２（日産化学工業製）をスピンコート法により６５ｎｍの厚さで成膜した。大気雰囲気下、ホットプレート上で２４０℃、１５分間加熱することにより正孔注入層を形成した。
［発光素子Ｄ１の作製］
（陽極及び正孔注入層の形成）
ガラス基板にスパッタ法により４５ｎｍの厚みでＩＴＯ膜を付けることにより陽極を形成した。該陽極上に、正孔注入材料であるＮＤ－３２０２（日産化学工業製）をスピンコート法により６５ｎｍの厚さで成膜した。大気雰囲気下、ホットプレート上で２４０℃、１５分間加熱することにより正孔注入層を形成した。
（正孔輸送層の形成Ｄ１）
キシレンに高分子化合物１－ｐ１を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
キシレンに高分子化合物１－ｐ１を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
（発光層の形成）
キシレンに、高分子化合物Ｅ１及び金属錯体ＭＣ１（高分子化合物Ｅ１／金属錯体ＭＣ１＝７０質量％／３０質量％）を２．０質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔輸送層の上にスピンコート法により８０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、１５０℃、１０分間加熱させることにより発光層を形成した。
キシレンに、高分子化合物Ｅ１及び金属錯体ＭＣ１（高分子化合物Ｅ１／金属錯体ＭＣ１＝７０質量％／３０質量％）を２．０質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔輸送層の上にスピンコート法により８０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、１５０℃、１０分間加熱させることにより発光層を形成した。
（陰極の形成）
発光層を形成した基板を蒸着機内において、１．０×１０-4Ｐａ以下にまで減圧した後、陰極として、発光層の上にフッ化ナトリウムを約７ｎｍ、次いで、フッ化ナトリウム層の上にアルミニウムを約１２０ｎｍ蒸着した。蒸着後、ガラス基板を用いて封止することにより、発光素子Ｄ１を作製した。
発光層を形成した基板を蒸着機内において、１．０×１０-4Ｐａ以下にまで減圧した後、陰極として、発光層の上にフッ化ナトリウムを約７ｎｍ、次いで、フッ化ナトリウム層の上にアルミニウムを約１２０ｎｍ蒸着した。蒸着後、ガラス基板を用いて封止することにより、発光素子Ｄ１を作製した。
［評価］
発光素子Ｄ１に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度が初期輝度の５０％となるまでの時間（以下、「ＬＴ５０」と言う。）を測定したところ、７４．９時間であった。
発光素子Ｄ１に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、輝度が初期輝度の５０％となるまでの時間（以下、「ＬＴ５０」と言う。）を測定したところ、７４．９時間であった。
＜実施例Ｄ２＞ 発光素子Ｄ２の作製及び評価
［発光素子Ｄ２の作製］
実施例Ｄ１における（正孔輸送層の形成Ｄ１）を、下記（正孔輸送層の形成Ｄ２）に変更した以外は、実施例Ｄ１と同様にして、発光素子Ｄ２を作製した。
［発光素子Ｄ２の作製］
実施例Ｄ１における（正孔輸送層の形成Ｄ１）を、下記（正孔輸送層の形成Ｄ２）に変更した以外は、実施例Ｄ１と同様にして、発光素子Ｄ２を作製した。
（正孔輸送層の形成Ｄ２）
キシレンに高分子化合物１－ｐ２を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
キシレンに高分子化合物１－ｐ２を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
［評価］
発光素子Ｄ２に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、ＬＴ５０を測定したところ、７７．４時間であった。
発光素子Ｄ２に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、ＬＴ５０を測定したところ、７７．４時間であった。
＜比較例ＣＤ１＞ 発光素子ＣＤ１の作製及び評価
［発光素子ＣＤ１の作製］
実施例Ｄ１における（正孔輸送層の形成Ｄ１）を、下記（正孔輸送層の形成ＣＤ１）に変更した以外は、実施例Ｄ１と同様にして、発光素子ＣＤ１を作製した。
［発光素子ＣＤ１の作製］
実施例Ｄ１における（正孔輸送層の形成Ｄ１）を、下記（正孔輸送層の形成ＣＤ１）に変更した以外は、実施例Ｄ１と同様にして、発光素子ＣＤ１を作製した。
（正孔輸送層の形成ＣＤ１）
キシレンに高分子化合物１－ｃ１を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
キシレンに高分子化合物１－ｃ１を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
［評価］
発光素子ＣＤ１に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、ＬＴ５０を測定したところ、６１．６時間であった。
発光素子ＣＤ１に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、ＬＴ５０を測定したところ、６１．６時間であった。
＜比較例ＣＤ２＞ 発光素子ＣＤ２の作製及び評価
［発光素子ＣＤ２の作製］
実施例Ｄ１における（正孔輸送層の形成Ｄ１）を、下記（正孔輸送層の形成ＣＤ２）に変更した以外は、実施例Ｄ１と同様にして、発光素子ＣＤ２を作製した。
［発光素子ＣＤ２の作製］
実施例Ｄ１における（正孔輸送層の形成Ｄ１）を、下記（正孔輸送層の形成ＣＤ２）に変更した以外は、実施例Ｄ１と同様にして、発光素子ＣＤ２を作製した。
（正孔輸送層の形成ＣＤ２）
キシレンに高分子化合物１－ｃ２を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
キシレンに高分子化合物１－ｃ２を０．６質量％の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により２０ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下、ホットプレート上で１８０℃、６０分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
［評価］
発光素子ＣＤ２に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、ＬＴ５０を測定したところ、６０．０時間であった。
発光素子ＣＤ２に電圧を印加することによりＥＬ発光が観測された。初期輝度が８０００ｃｄ／ｍ2となるように電流値を設定後、定電流で駆動させ、ＬＴ５０を測定したところ、６０．０時間であった。
発光素子Ｄ１、Ｄ２、ＣＤ１及びＣＤ２の結果より、本発明より得られた微量金属が十分に低減されている高分子化合物を熱硬化させて形成した発光素子は、微量金属が十分に低減されていない高分子化合物と比較して輝度寿命に優れる。
本発明によれば、微量金属が十分に低減されている高分子化合物の製造方法を提供できる。
Claims (6)
- 式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ａを精製して、式（２－１）～式（２－４）で表される構成単位から少なくとも１種類を含む高分子化合物Ｂを製造する方法であって、
該精製が、グラファイトカーボンブラック、モレキュラーシーブ、シリカゲル、ケイ酸マグネシウム、珪藻土、ゼオライト、アルミナ、活性炭、酸性白土及び活性白土からなる群より選ばれる３種類以上の異なる吸着剤を、該高分子化合物Ａと有機溶媒とを含む溶液と接触させる工程、ならびに
該高分子化合物Ａ、該吸着剤及び該有機溶媒を含む混合液から、該吸着剤及び／又は該有機溶媒を除去する工程
を含み、
該吸着剤のうち少なくとも１種類はアルミナ又はケイ酸マグネシウムである、製造方法。
［式中、
ｎＡ及びｎＢは、それぞれ独立に、０～５の整数を表し、ｎａ及びｎｂは、それぞれ独立に、１又は２を表す。ｎＡ及びｎＢが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＬA及びＬBは、それぞれ独立に、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、２価の複素環基、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ'は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＬA及びＬBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。ＬA及びＬBが、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表す場合、別の－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子が隣接することはない。
ＸAは、式（ＸＬ－１）～式（ＸＬ－８）、式（ＸＬ－１４）～式（ＸＬ－１６）若しくは式（ＸＬ－１９）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸAのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－１）～前記式（ＸＬ－８）、前記式（ＸＬ－１４）～前記式（ＸＬ－１６）若しくは前記式（ＸＬ－１９）で表される架橋基である。
ＸAが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ＸBは、式（ＸＬ－９）～式（ＸＬ－１３）、式（ＸＬ－１７）、式（ＸＬ－１８）若しくは式（ＸＬ－２０）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸBのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－９）～前記式（ＸＬ－１３）、前記式（ＸＬ－１７）、前記式（ＸＬ－１８）若しくは前記式（ＸＬ－２０）で表される架橋基である。ＸBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
［式中、
ｍＡ及びｍＢは、それぞれ独立に、０～５の整数を表し、ｍａ及びｍｂは、それぞれ独立に、１～４の整数を表し、ｃａ及びｃｂは、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｍＡ及びｍＢが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ａｒ4及びＡｒ7は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基、又は、芳香族炭化水素基と複素環基とが直接結合した基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ3、Ａｒ5、Ａｒ6及びＡｒ8は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ5、Ａｒ6、Ａｒ7及びＡｒ8は、それぞれ、当該基が結合している窒素原子に結合している当該基以外の基と、直接又は酸素原子もしくは硫黄原子を介して結合して、環を形成していてもよい。
ＫA及びＫBは、それぞれ独立に、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、２価の複素環基、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ'は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＫA及びＫBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。ＫA及びＫBが、－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子を表す場合、別の－ＮＲ'－で表される基、酸素原子又は硫黄原子が隣接することはない。
ＸMは、式（ＸＬ－１）～式（ＸＬ－８）、式（ＸＬ－１４）～式（ＸＬ－１６）若しくは式（ＸＬ－１９）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸMのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－１）～前記式（ＸＬ－８）、前記式（ＸＬ－１４）～前記式（ＸＬ－１６）若しくは前記式（ＸＬ－１９）で表される架橋基である。
ＸMが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ＸNは、式（ＸＬ－９）～式（ＸＬ－１３）、式（ＸＬ－１７）、式（ＸＬ－１８）若しくは式（ＸＬ－２０）で表される架橋基、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。但し、ＸNのうち少なくとも１つは、前記式（ＸＬ－９）～前記式（ＸＬ－１３）、前記式（ＸＬ－１７）、前記式（ＸＬ－１８）若しくは前記式（ＸＬ－２０）で表される架橋基である。ＸNが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
［式中、ＲXLは、メチレン基、酸素原子又は硫黄原子を表し、ｎXLは、０～５の整数を表す。ＲXLが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。複数存在するｎXLは、同一でも異なっていてもよい。＊は結合位置を表す。これらの架橋基は置換基を有していてもよい。］
- 前記高分子化合物Ａが前記式（２－２）で表される構成単位及び前記式（２－４）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１に記載の製造方法。
- 前記高分子化合物Ａが前記式（２－１）で表される構成単位及び前記式（２－３）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類、並びに、前記式（２－２）で表される構成単位及び前記式（２－４）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種類、を併せて含む、請求項２に記載の製造方法。
- 前記３種類以上の異なる吸着剤のうち、少なくとも１種類は活性炭、酸性白土又は活性白土である、請求項１～３のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記３種類以上の異なる吸着剤のうち、少なくとも１種類はシリカゲル又は珪藻土である、請求項１～４のいずれか一項に記載の製造方法。
- 陽極、有機層及び陰極を積層する工程を含む、発光素子の製造方法であって、前記発光素子が前記陽極及び前記陰極の間に前記有機層を有し、前記有機層を構成する層のうち少なくとも一層の積層工程が、請求項１～５のいずれか一項に記載の製造方法を用いて得られる高分子化合物Ｂを含む原料の熱硬化により行われる、方法。
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| WO2020066510A1 true WO2020066510A1 (ja) | 2020-04-02 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| PCT/JP2019/034748 WO2020066510A1 (ja) | 2018-09-28 | 2019-09-04 | 高分子化合物及び発光素子の製造方法 |
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| JP (1) | JP2020056005A (ja) |
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- 2019-08-23 JP JP2019152960A patent/JP2020056005A/ja active Pending
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|---|---|
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 19865585 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 19865585 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |