WO2020059809A1 - プラズマ照射装置 - Google Patents

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WO2020059809A1
WO2020059809A1 PCT/JP2019/036798 JP2019036798W WO2020059809A1 WO 2020059809 A1 WO2020059809 A1 WO 2020059809A1 JP 2019036798 W JP2019036798 W JP 2019036798W WO 2020059809 A1 WO2020059809 A1 WO 2020059809A1
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WO
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plasma
electric wiring
electromagnetic wave
wave shielding
gas
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PCT/JP2019/036798
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English (en)
French (fr)
Inventor
悠 長原
達也 松尾
安宅　元晴
井上　毅
上原　剛
Original Assignee
積水化学工業株式会社
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Publication date
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Priority to JP2020548606A priority Critical patent/JP6912674B2/ja
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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C1/00—Dental machines for boring or cutting ; General features of dental machines or apparatus, e.g. hand-piece design
    • A61C1/08—Machine parts specially adapted for dentistry
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C19/00—Dental auxiliary appliances
    • A61C19/06—Implements for therapeutic treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches

Definitions

  • the present invention relates to a plasma irradiation device.
  • Priority is claimed on Japanese Patent Application No. 2018-176582 filed on Sep. 20, 2018, the content of which is incorporated herein by reference.
  • a plasma irradiation apparatus which irradiates an affected part such as a wound with plasma or an active gas generated by plasma in dental treatment or the like to cure the affected part.
  • the plasma irradiation device include a plasma jet irradiation device (for example, see Patent Document 1) and an active gas irradiation device (for example, see Patent Document 2).
  • the plasma jet irradiation apparatus discharges plasma and active species generated by the plasma from a nozzle, and irradiates the object with irradiation.
  • the active gas irradiation device discharges an active gas containing active species generated by plasma from a nozzle and irradiates the object with the active gas.
  • Such a plasma irradiation device generates an electromagnetic wave. Electromagnetic waves may adversely affect the human body and need to be shielded.
  • the irradiation tool has a housing, so that electromagnetic waves can be shielded.
  • the electric wiring that connects the irradiation tool and a power supply unit that supplies electricity to the plasma generation unit is not shielded. Therefore, the plasma irradiation apparatus has a problem that an electromagnetic wave is generated from the electric wiring.
  • a countermeasure against electromagnetic waves there is known a method of shielding electromagnetic waves leaking to the outside of the device by using a shielding material.
  • the present invention has been made in view of the above-described circumstances, and suppresses generation of electromagnetic waves from electric wiring that connects an irradiation device and a power supply unit that supplies electricity to a plasma generation unit, and impairs operability. It is an object of the present invention to provide a plasma irradiation apparatus having high safety and stable operation without any problem.
  • a plasma irradiation apparatus includes a plasma generation unit, an irradiation tool for discharging at least one of plasma generated in the plasma generation unit and active gas generated by the plasma, and supplying electricity to the plasma generation unit.
  • a power supply unit having a control unit for controlling the power supply unit, a power supply unit for controlling the power supply unit, an electric wiring for electrically connecting the irradiation device and the supply unit, the irradiation device, and the supply unit.
  • Two or more electric wires may be provided, and the outer circumferences of the two or more electric wires may be individually covered with the electromagnetic wave shielding material.
  • the electromagnetic wave shielding material may be a tubular knitted or woven fabric made of a conductive fiber or a conductive wire.
  • the electric wiring may include a first resin sheath material on the electromagnetic wave shielding material, and all the electric wiring connecting the irradiation device and the supply unit may be bundled with the first resin sheath material. .
  • the thickness of the first resin sheath material may be 0.5 mm to 2.0 mm.
  • ⁇ A space may be provided between the first resin sheath material and the electric wiring.
  • the volume occupied by the space may be 30% to 70% based on 100% of the total volume of the internal space of the first resin sheath material.
  • a second resin sheath material may be provided between the electromagnetic wave shielding material and the internal space of the first resin sheath material.
  • the thickness of the second resin sheath material may be 0.1 mm to 2.0 mm.
  • a surface of the second resin sheath material opposite to the electromagnetic wave shielding material may be coated with a lubricant.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a plasma irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view of an irradiation tool included in the plasma irradiation apparatus according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line xx of the irradiation device of FIG. 2. It is a block diagram showing a schematic structure of a plasma irradiation device of one embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to a first modification of the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic diagram illustrating electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to a second modification of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a plasma irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view of an irradiation tool included in the plasma
  • FIG. 9 is a schematic diagram illustrating electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to a third modification of the present invention.
  • FIG. 8 is a yy sectional view of the electric wiring and the electromagnetic wave shielding material of FIG. 7.
  • FIG. 13 is a schematic diagram illustrating electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to a fourth modification of the present invention.
  • FIG. 13 is a schematic diagram showing electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to a fifth modification of the present invention.
  • FIG. 13 is a schematic diagram showing electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to a sixth modification of the present invention.
  • FIG. 14 is a schematic diagram illustrating electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to a seventh modification example of the present invention.
  • FIG. 14 is a schematic diagram showing electric wiring constituting a plasma irradiation apparatus according to an eighth modification of the present invention. It is a schematic diagram showing electric wiring constituting a plasma irradiation device according to a ninth modification of the present invention.
  • the plasma irradiation device of the present invention may be a plasma jet irradiation device or an active gas irradiation device as long as it has a plasma generation unit, a nozzle, and a temperature measurement unit.
  • the plasma jet irradiation device generates plasma.
  • the plasma jet irradiation device directly irradiates the object to be irradiated with the generated plasma and active species.
  • the active species are generated by a reaction between a gas in the plasma or a gas around the plasma and the plasma. Examples of the active species include active oxygen species and active nitrogen species. Examples of the active oxygen species include a hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, and a superoxide anion radical.
  • the active nitrogen species include nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, nitrous oxide, nitrous oxide and the like.
  • the active gas irradiation device generates plasma.
  • the active gas irradiation device irradiates an object to be irradiated with an active gas containing active species.
  • the active species are generated by a reaction between a gas in the plasma or a gas around the plasma and the plasma.
  • the plasma irradiation device of the present embodiment is an active gas irradiation device.
  • the plasma irradiation apparatus 100 of the present embodiment includes an irradiation device 10 (instrument), a supply unit 20, a gas pipe 30, an electric wiring 40, and an electromagnetic wave shielding material.
  • the irradiation device 10 discharges the active gas generated in the irradiation device 10.
  • the supply unit 20 supplies the irradiation tool 10 with electricity and a gas for generating plasma.
  • the gas line 30 connects the irradiation device 10 and the supply unit 20.
  • the electric wiring 40 connects the irradiation device 10 and the supply unit 20.
  • the electromagnetic wave shielding material covers (shields) the outer periphery of the supply unit 20 (housing 21).
  • the electromagnetic wave shielding material 50 covers (shields) the outer periphery of the electric wiring 40.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a cross section of the irradiation device 10 along the axis.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line xx of the irradiation device of FIG.
  • the irradiation device 10 includes a long cowling 2, a nozzle 1 protruding from the tip of the cowling 2, a plasma generation unit 12 located in the cowling 2, and an operation switch 9 (operation) provided on an outer peripheral surface of the cowling 2. Part).
  • the cowling 2 includes a body 2b and a head 2a that closes a tip of the body 2b.
  • the body 2b is a cylindrical member extending in the tube axis O1 direction.
  • the body 2b is not limited to a cylindrical shape, and may be a polygonal tube such as a square tube, a hexagonal tube, and an octagonal tube.
  • the material of the body 2b is not particularly limited, but a material having conductivity is preferable.
  • the body 2b may be formed of a metal material, or may have a multilayer structure having an insulating material and a metal material layer on its surface. Examples of the metal material include stainless steel, titanium, and aluminum. With such a configuration, the body 2b functions as an electromagnetic wave shielding material.
  • the size of the body 2b is not particularly limited, and may be a size that can be easily grasped with fingers.
  • the head portion 2a is gradually narrowed toward the tip. That is, the head portion 2a has a conical shape.
  • the head portion 2a is not limited to a conical shape, and may be a polygonal pyramid such as a quadrangular pyramid, a hexagonal pyramid, or an octagonal pyramid.
  • the head 2a has a fitting hole 2c at the tip.
  • the fitting hole 2c is a hole for receiving the nozzle 1.
  • the nozzle 1 is detachable from the head 2a.
  • the head portion 2a has a first active gas flow path 7 extending in the tube axis O1 direction therein.
  • the tube axis O1 is the tube axis of the body 2b.
  • the material of the head portion 2a is not particularly limited, and may have insulating properties or may not have insulating properties.
  • a material of the head portion 2a a material having excellent wear resistance and corrosion resistance is preferable. Examples of the material having excellent wear resistance and corrosion resistance include metals such as stainless steel.
  • the material of the head portion 2a and the body portion 2b may be the same or different.
  • the size of the head section 2a can be determined in consideration of the use of the plasma irradiation apparatus 100 and the like. For example, when the plasma irradiation device 100 is an intraoral treatment instrument, the size of the head portion 2a is preferably a size that can be inserted into the oral cavity.
  • the nozzle 1 includes a pedestal 1b fitted into the fitting hole 2c, and an irradiation tube 1c protruding from the pedestal 1b.
  • the pedestal portion 1b and the irradiation tube 1c are integrated.
  • the nozzle 1 has a second active gas flow path 8 therein.
  • the nozzle 1 has an irradiation port 1a at the tip.
  • the second active gas channel 8 and the first active gas channel 7 are in communication.
  • the material of the nozzle 1 is not particularly limited, and may have an insulating property or a conductive property.
  • a material having excellent wear resistance and corrosion resistance is preferable. Examples of the material having excellent wear resistance and corrosion resistance include metals such as stainless steel.
  • the nozzle 1 may be of a disposable type in terms of hygiene. In this case, the material of the nozzle 1 is preferably a disposable material.
  • the length of the flow path in the irradiation tube 1c of the nozzle 1 (that is, the distance L2) can be appropriately determined in consideration of the application of the plasma irradiation apparatus 100 and the like.
  • the opening diameter of the irradiation port 1a is preferably, for example, 0.5 mm to 5 mm. When the opening diameter is equal to or more than the lower limit, the pressure loss of the active gas can be suppressed. When the opening diameter is equal to or less than the upper limit, the flow rate of the active gas to be irradiated can be increased to promote the healing of the affected part.
  • the irradiation tube 1c is bent with respect to the tube axis O1. The angle ⁇ between the tube axis O2 and the tube axis O1 of the irradiation tube 1c can be determined in consideration of the use of the plasma irradiation apparatus 100 and the like.
  • the plasma generator 12 includes the tubular dielectric 3, the internal electrode 4, and the external electrode 5.
  • the tubular dielectric 3, the internal electrode 4, and the external electrode 5 are concentrically located around the tube axis O1.
  • the outer peripheral surface of the internal electrode 4 and the inner peripheral surface of the external electrode 5 face each other with the tubular dielectric 3 interposed therebetween.
  • the tubular dielectric 3 is a cylindrical member extending in the direction of the tube axis O1.
  • the tubular dielectric 3 has a gas flow path 6 extending in the direction of the tube axis O1 therein.
  • the first active gas channel 7 and the gas channel 6 communicate with each other.
  • the tube axis O1 is the same as the tube axis of the tubular dielectric 3.
  • a dielectric material used for a known plasma device can be applied.
  • the material of the tubular dielectric 3 include glass, ceramics, and synthetic resin. The lower the dielectric constant of the tubular dielectric 3, the better.
  • the inner diameter R of the tubular dielectric 3 can be appropriately determined in consideration of the outer diameter d of the internal electrode 4.
  • the inner diameter R is determined so that a distance s described later is in a desired range.
  • the internal electrode 4 is a substantially columnar member extending in the tube axis O1 direction.
  • the internal electrode 4 is located inside the tubular dielectric 3 and is separated from the inner surface of the tubular dielectric 3.
  • the internal electrode 4 includes a shaft portion extending in the tube axis O1 direction, and a thread on the outer peripheral surface of the shaft portion.
  • the shaft may be solid or hollow.
  • the shaft is preferably solid. If the shaft is solid, processing is easy and mechanical durability can be improved.
  • the screw thread of the internal electrode 4 is a spiral screw thread that orbits in the circumferential direction of the shaft portion.
  • the form of the internal electrode 4 is the same as that of the male screw.
  • the internal electrode 4 Since the internal electrode 4 has a thread on the outer peripheral surface, the electric field at the tip of the thread is locally increased, and the discharge starting voltage is reduced. Therefore, plasma can be generated and maintained with low power.
  • the internal electrode 4 may not have unevenness such as a thread on the outer peripheral surface. That is, the internal electrode 4 may be a cylindrical member having no irregularities on the outer peripheral surface.
  • the outer diameter d of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the application of the plasma irradiation apparatus 100 (that is, the size of the irradiation apparatus 10) and the like.
  • the outer diameter d is preferably 0.5 mm to 20 mm, and more preferably 1 mm to 10 mm.
  • the outer diameter d is equal to or larger than the lower limit, the internal electrode 4 can be easily manufactured.
  • the outer diameter d is equal to or larger than the lower limit, the surface area of the internal electrode 4 is increased, and plasma is generated more efficiently, and healing and the like can be further promoted.
  • the outer diameter d is equal to or less than the upper limit, plasma can be more efficiently generated without excessively increasing the size of the irradiation device 10, and healing and the like can be further promoted.
  • the height h of the thread of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the outer diameter d of the internal electrode 4.
  • the pitch p of the thread of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the length, the outer diameter d, and the like of the internal electrode 4.
  • the pitch p is preferably from 0.2 mm to 3.0 mm, more preferably from 0.2 mm to 2.5 mm, and even more preferably from 0.2 mm to 2.0 mm.
  • the material of the internal electrode 4 is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal used for an electrode of a known plasma device can be applied.
  • Examples of the material of the internal electrode 4 include metals such as stainless steel, copper, and tungsten, and carbon.
  • JIS B 0205 Standard metric screw thread (M2, M2.2, M2.5, M3, M3.5, etc.) of 2001
  • JIS B 2016 1987 standard metric screw thread (Tr8) ⁇ 1.5, Tr9 ⁇ 2, Tr9 ⁇ 1.5, etc.)
  • JIS B 0206 1973, standardized unified coarse thread (No. 1-64UNC, No. 2-56UNC, No. 3-48UNC) Specifications equivalent to the above are preferable. If the specifications are equivalent to these standard products, the cost is superior.
  • the distance s between the outer surface of the internal electrode 4 and the inner surface of the tubular dielectric 3 is preferably 0.05 mm to 5 mm, more preferably 0.1 mm to 1 mm.
  • the distance s is equal to or greater than the lower limit, a desired amount of the plasma generating gas can easily flow.
  • the distance s is equal to or less than the upper limit, the plasma is generated more efficiently, and the temperature of the active gas can be lowered.
  • the length L3 of the region where the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other is preferably 1 mm to 50 mm, more preferably 3 mm to 40 mm, and even more preferably 5 mm to 30 mm. If the length L3 is equal to or more than the above lower limit, plasma generation locations can be increased and plasma can be generated more efficiently. When the length L3 is equal to or less than the upper limit, the rise in the temperature of the active gas can be more favorably suppressed. In the present embodiment, the length L3 is equal to the length of the external electrode 5.
  • the external electrode 5 may be divided into two or more in the direction of the tube axis O1.
  • the length L3 is a length of a region where the internal electrode 4 and the rear end to the front end of the two external electrodes are opposed to each other. It shall include the distance between the electrodes.
  • the external electrode 5 is an annular electrode that circulates along the outer peripheral surface of the tubular dielectric 3.
  • the external electrode 5 exists on a part of the outer peripheral surface of the tubular dielectric 3.
  • the material of the external electrode 5 is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal used for an electrode of a known plasma device can be applied.
  • Examples of the material of the external electrode 5 include metals such as stainless steel, copper, and tungsten, and carbon.
  • the sum of the distance L1 from the distal end Q1 of the region where the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other to the distal end Q2 of the head 2a and the distance L2 from the distal end Q2 to the irradiation port 1a (that is, the internal electrode 4
  • the distance from the region facing the external electrode 5 to the irradiation port 1a) is appropriately determined in consideration of the size required for the plasma irradiation device 100, the temperature on the surface (irradiation surface) to which the irradiated active gas is applied, and the like. I do. If the sum of the distance L1 and the distance L2 is long, the temperature of the irradiated surface can be lowered.
  • the tip Q2 is the intersection of the tube axis O1 and the tube axis O2.
  • the operation switch 9 transmits an electric signal for starting discharge of the active gas from the nozzle 1 when operated by a user.
  • the operation switch 9 is, for example, a push button.
  • the operation switch 9 may have a configuration in which an electric signal is transmitted only once when the user presses the push button once, and the user keeps pressing the push button. During this time, a configuration may be adopted in which an electric signal is continuously transmitted.
  • FIG. 4 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the plasma irradiation apparatus 100.
  • the supply unit 20 includes a power supply unit 60, a gas adjustment unit 70, a gas supply source 80, a control unit 90, a housing 21 for accommodating them, and an electromagnetic wave shielding material (not shown) covering the outer periphery of the housing 21.
  • the housing 21 accommodates the gas supply source 80 in a detachable manner. Thereby, when the gas in the gas supply source 80 housed in the housing 21 runs out, the gas supply source 80 can be replaced.
  • the material of the electromagnetic wave shielding material is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal film such as a plate-like metal, a metal fiber, a carbon fiber, and a plastic is coated by plating or vacuum deposition. Can be exemplified.
  • the power supply unit 60 supplies electricity to the operation switch 9 of the irradiation device 10, the plasma generation unit 12, and each component in the supply unit 20.
  • the power supply unit 60 can adjust the voltage and frequency applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 of the plasma generation unit 12.
  • the power supply unit 60 is connected to a power supply (not shown) such as a 100 V household power supply.
  • the gas adjusting unit 70 includes a gas pipe 75 connecting the gas supply source 80 and the gas pipeline 30.
  • a solenoid valve 71, a pressure regulator 73, a flow rate controller 74 (flow rate adjustment unit), and a pressure sensor 72 are attached to the gas pipe 75.
  • the electromagnetic valve 71 switches between start and stop of the supply of the plasma generating gas from the gas supply source 80 to the irradiation device 10 by switching between opening and closing.
  • the electromagnetic valve 71 is not configured to be able to adjust the valve opening, but is configured to be able to switch only between opening and closing.
  • the electromagnetic valve 71 may have a configuration in which the valve opening can be adjusted.
  • the pressure regulator 73 is arranged between the solenoid valve 71 and the gas supply source 80.
  • the pressure regulator 73 reduces the pressure of the plasma generation gas from the gas supply source 80 toward the electromagnetic valve 71 (reduces the plasma generation gas).
  • the flow controller 74 is arranged between the solenoid valve 71 and the gas line 30.
  • the flow rate controller 74 adjusts the flow rate (supply amount per unit time) of the plasma generating gas that has passed through the electromagnetic valve 71.
  • the flow controller 74 adjusts the flow rate of the plasma generating gas to, for example, 3 L / min.
  • the pressure sensor 72 measures the pressure (residual pressure) in the gas supply source 80.
  • the pressure sensor 72 measures the pressure (primary pressure) of the plasma generating gas passing between the pressure regulator 73 and the gas supply source 80 (primary side of the pressure regulator 73) as the pressure of the gas supply source 80.
  • an AP-V80 series specifically, for example, AP-15S
  • Keyence Corporation can be adopted.
  • a joint 76 is provided at an end of the gas pipe 75 on the gas supply source 80 side.
  • a gas supply source 80 is detachably attached to the joint 76.
  • the gas supply source 80 can be replaced while the gas adjustment unit 70 is fixed to the housing 21.
  • a common gas adjustment unit 70 can be used for both the gas supply source 80 before replacement and the gas supply source 80 after replacement.
  • the gas adjustment unit 70 may be fixed to the gas supply source 80 and may be detachable from the housing 21 integrally with the gas supply source 80.
  • the gas supply source 80 supplies a plasma generation gas to the plasma generation unit 12.
  • the gas supply source 80 is a pressure-resistant container containing a plasma generating gas therein.
  • the gas supply source 80 is detachably attached to the gas adjustment unit 70 disposed in the housing 21.
  • the control unit 90 is electrically connected to an electromagnetic valve 71, a pressure sensor 72, a flow rate controller 74, a power supply unit 60, and an operation switch 9 of the irradiation device 10.
  • the control unit 90 controls the solenoid valve 71, the flow controller 74, and the power supply unit 60.
  • the control unit 90 is configured using an information processing device. That is, the control unit 90 includes a CPU (Central Processor Unit), a memory, and an auxiliary storage device connected by a bus.
  • the control unit 90 operates by executing a program.
  • the operation switch 9 of the irradiation device 10 is electrically connected to the control unit 90 via the electric wiring 40.
  • an electric signal is sent from the operation switch 9 to the control unit 90.
  • the control unit 90 receives an electric signal from the operation switch 9, the control unit 90 operates the electromagnetic valve 71, the flow controller 74, and the power supply unit 60.
  • the control unit 90 controls the electromagnetic valve 71, the flow rate controller 74 and the power supply as follows, for example.
  • the unit 60 is controlled.
  • the control unit 90 receives the electric signal from the operation switch 9, the control unit 90 opens the electromagnetic valve 71 for a predetermined time and causes the flow controller 74 to adjust the flow rate of the plasma generating gas passing through the electromagnetic valve 71.
  • the control unit 90 controls the power supply unit 60 to apply a voltage between the internal electrode 4 and the external electrode 5 for a predetermined time.
  • a certain amount of plasma generating gas is supplied from the gas supply source 80 to the plasma generating unit 12, and the active gas is continuously discharged from the nozzle 1 for a predetermined time (for example, about several seconds to several tens of seconds).
  • the control unit 90 includes, for example, the electromagnetic valve 71, the flow rate controller 74, and the power supply unit 60 as follows. Control. While the control unit 90 receives the electric signal from the operation switch 9, the control unit 90 opens the solenoid valve 71 and causes the flow rate controller 74 to adjust the flow rate of the plasma generating gas passing through the solenoid valve 71. Further, the control unit 90 controls the power supply unit 60 to apply a voltage between the internal electrode 4 and the external electrode 5. As a result, while the user keeps pressing the operation switch 9, the gas for plasma generation is supplied from the gas supply source 80 to the plasma generation unit 12, and the active gas is continuously discharged from the nozzle 1.
  • the gas pipe 30 is a path for supplying a plasma generation gas from the supply unit 20 to the irradiation device 10.
  • the gas line 30 is connected to the rear end of the tubular dielectric 3 of the irradiation device 10.
  • the material of the gas pipe 30 is not particularly limited, and a known material used for a gas pipe can be applied. Examples of the material of the gas pipeline 30 include resin piping and rubber tubes, and a flexible material is preferable.
  • the electric wiring 40 electrically connects the irradiation device 10 and the supply unit 20.
  • the electric wiring 40 includes a first electric wiring 40 ⁇ / b> A for supplying electricity from the power supply unit 60 of the supply unit 20 to the plasma generating unit 12 of the irradiation device 10, and a second electric wiring 40 ⁇ / b> B (earth wire) for connecting the irradiation device 10 to ground. ).
  • the material of the electric wiring 40 is not particularly limited, and a known material used for electric wiring can be applied. Examples of the material of the electric wiring 40 include a metal conductor covered with an insulating material.
  • the electromagnetic wave shielding member 50 may collectively cover the two electric wirings 40 and cover their outer peripheries. However, as shown in FIG. 1, the outer peripheries of the two electric wirings 40 are individually covered with the electromagnetic wave shielding member 50. Is preferred. That is, it is preferable to cover the outer periphery of the first electric wiring 40A with the first electromagnetic wave shielding material 50A and cover the outer periphery of the second electric wiring 40B with the second electromagnetic wave shielding material 50B.
  • the braid density of the first electromagnetic wave shielding material 50A and the second electromagnetic wave shielding material 50B is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. , 99.9%.
  • the material of the electromagnetic wave shielding material 50 is not particularly limited as long as it is a conductive material.
  • the material of the electromagnetic wave shielding material 50 include a plate-shaped metal, a metal fiber, a carbon fiber, a material such as a plastic, a metal film formed by coating such as plating or vacuum deposition, a conductive fiber or the like.
  • Examples include a tubular knitted or woven fabric made of a conductive wire, a coil tube shown in a second modified example described later, a coil tube shown in a third modified example described later, and the like.
  • the conductive fiber include a fiber formed by forming a metal film on a metal fiber, a carbon fiber, and a chemical fiber by coating such as plating or vacuum deposition.
  • the conductive wire examples include a wire formed by forming a metal film on a metal wire, a carbon wire, or a plastic wire by coating such as plating or vacuum deposition.
  • the electromagnetic wave shielding material 50 has flexibility. Among these, from the viewpoint of reducing the weight of the electric wiring 40 covered with the electromagnetic wave shielding material 50 and improving the operability of the irradiation device 10, the electromagnetic wave shielding material 50 is made of a conductive fiber or a conductive wire. A tubular knit or woven fabric is preferred.
  • a method of using the plasma irradiation apparatus 100 will be described.
  • a user such as a doctor moves the irradiation device 10 while holding it, and directs the nozzle 1 to an irradiation target described later.
  • the operation switch 9 is pressed, and a gas for plasma generation is supplied from the gas supply source 80 of the supply unit 20 to the plasma generation unit 12 of the irradiation device 10 through the gas adjustment unit 70 and the gas line 30.
  • the gas for plasma generation supplied to the plasma generator 12 flows into the inner space of the tubular dielectric 3 from the rear end of the tubular dielectric 3.
  • the plasma generating gas is ionized at a position where the internal electrode 4 and the external electrode 5 to which the voltage is applied oppose, and becomes plasma.
  • the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other in a direction orthogonal to the direction in which the plasma generating gas flows.
  • the plasma generated at a position where the outer peripheral surface of the internal electrode 4 and the inner peripheral surface of the external electrode 5 face each other has a gas flow path 6, a first active gas flow path 7, and a second active gas flow path 8. Flow in this order.
  • the plasma flows while changing the gas composition, and becomes an active gas containing active species such as radicals.
  • the generated active gas is discharged from the irradiation port 1a of the nozzle 1.
  • the discharged active gas further activates a part of the gas near the irradiation port 1a to generate an active species.
  • An object to be irradiated is irradiated with an active gas containing these active species.
  • Examples of the irradiation object include a cell, a living tissue, and a living individual.
  • Examples of the living tissue include various organs (eg, internal organs), epithelial tissue covering the body surface and the inner surface of body cavity, periodontal tissue (gingiva, alveolar bone, periodontal ligament, cementum, etc.), teeth, bones, and the like.
  • Examples of diseases and symptoms that can be treated by irradiation with active gas include diseases in the oral cavity such as gingivitis and periodontal disease, and wounds on the skin.
  • Examples of living organisms include mammals (humans, dogs, cats, pigs, etc.), birds, fish, and the like.
  • the plasma generating gas examples include a rare gas (such as helium, neon, argon, and krypton), nitrogen, oxygen, and air. One of these gases may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
  • the plasma generating gas preferably contains nitrogen as a main component.
  • “mainly containing nitrogen” means that the content of nitrogen in the plasma generating gas is more than 50% by volume. That is, the content of nitrogen in the plasma generating gas is preferably more than 50% by volume, more preferably 70% by volume or more, further preferably 80% by volume to 100% by volume, and more preferably 90% by volume. % To 100% by volume is particularly preferred.
  • gas components other than nitrogen in the plasma generation gas include oxygen, a rare gas, and the like.
  • the oxygen concentration of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is preferably 1% by volume or less.
  • the oxygen concentration is equal to or lower than the upper limit, generation of ozone can be reduced.
  • the flow rate of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is preferably 1 L / min to 10 L / min.
  • the flow rate of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is equal to or more than the above lower limit, it is easy to suppress a rise in the temperature of the irradiated surface of the irradiated object.
  • the flow rate of the plasma generating gas is equal to or less than the upper limit, cleaning, activation, or healing of the irradiation target can be further promoted.
  • the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 5 kVpp or more and 20 kVpp or less.
  • the unit “Vpp (Volt peak to peak)” representing the AC voltage is a potential difference between the highest value and the lowest value of the AC voltage waveform.
  • the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 10 kVpp or more.
  • the applied AC voltage is equal to or lower than the above upper limit, the temperature of the generated plasma can be kept low.
  • the applied AC voltage is equal to or higher than the lower limit, plasma can be generated more efficiently.
  • the frequency of the alternating current applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 0.5 kHz or more and less than 20 kHz, more preferably 1 kHz or more and less than 15 kHz, and more preferably 2 kHz or more and less than 10 kHz. It is particularly preferably at least 3 kHz and less than 9 kHz, most preferably at least 4 kHz and less than 8 kHz.
  • the AC frequency is equal to or lower than the upper limit, the temperature of the generated plasma can be kept low.
  • the AC frequency is equal to or higher than the lower limit, plasma can be generated more efficiently.
  • the temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is preferably 50 ° C. or lower, more preferably 45 ° C. or lower, even more preferably 40 ° C. or lower.
  • the temperature of the irradiated surface is easily reduced to 40 ° C or lower.
  • the lower limit of the temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is not particularly limited, and is, for example, 10 ° C.
  • the temperature of the active gas is a value obtained by measuring the temperature of the active gas at the irradiation port 1a with a thermocouple.
  • the distance (irradiation distance) from the irradiation port 1a to the irradiated surface is preferably, for example, 1.0 mm to 10 mm.
  • the irradiation distance is equal to or longer than the lower limit, the temperature of the irradiated surface can be lowered, and the stimulus to the irradiated surface can be further reduced.
  • the irradiation distance is equal to or less than the upper limit, effects such as healing can be further enhanced.
  • the temperature of the irradiated surface at a distance of 1 mm or more and 10 mm or less from the irradiation port 1 a is preferably 40 ° C. or less.
  • the lower limit of the temperature of the irradiated surface is not particularly limited, but is, for example, 10 ° C.
  • the temperature of the surface to be irradiated is determined by the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5, the discharge amount of the active gas to be applied, and the irradiation from the front end Q1 of the region where the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other. It can be adjusted by a combination such as the distance to the mouth 1a.
  • the temperature of the irradiated surface can be measured using a thermocouple.
  • the active species contained in the active gas include hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, superoxide anion radical, nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, nitrous oxide, nitrous oxide and the like. Can be illustrated.
  • the type of the active species contained in the active gas can be adjusted by, for example, the type of the gas for generating plasma.
  • the density (radical density) of hydroxyl radicals in the active gas is preferably 0.1 ⁇ mol / L to 300 ⁇ mol / L, more preferably 0.1 ⁇ mol / L to 100 ⁇ mol / L, and 0.1 ⁇ mol / L. More preferably, it is ⁇ 50 ⁇ mol / L.
  • the radical density is greater than or equal to the above lower limit, it is easy to promote the cleaning, activation, or healing of abnormalities of an irradiation target selected from cells, living tissues, and living organisms.
  • the radical density is equal to or less than the upper limit, the stimulation to the irradiated surface can be reduced.
  • the radical density can be measured, for example, by the following method.
  • An active gas is irradiated to 0.2 mL of a 0.2 mol / L solution of DMPO (5,5-dimethyl-1-pyrroline-N-oxide) for 30 seconds.
  • the distance from the irradiation port 1a to the liquid surface is set to 5.0 mm.
  • the hydroxyl radical concentration of the solution irradiated with the active gas is measured by using an electron spin resonance (ESR) method, and this is defined as a radical density.
  • ESR electron spin resonance
  • the density of singlet oxygen (singlet oxygen density) in the active gas is preferably 0.1 ⁇ mol / L to 300 ⁇ mol / L, more preferably 0.1 ⁇ mol / L to 100 ⁇ mol / L, and 0.1 ⁇ mol / L to 100 ⁇ mol / L. More preferably, it is 1 ⁇ mol / L to 50 ⁇ mol / L.
  • the singlet oxygen density is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to promote the cleaning, activation, or healing of an object to be irradiated such as a cell, a biological tissue, or an individual organism.
  • the value is equal to or less than the above upper limit, the stimulus to the irradiated surface can be reduced.
  • the singlet oxygen density can be measured, for example, by the following method.
  • An active gas is irradiated for 30 seconds to 0.4 mL of a 0.1 mol / L solution of TPC (2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrroline-3-carboxamide).
  • the distance from the irradiation port 1a to the liquid surface is set to 5.0 mm.
  • a singlet oxygen concentration of the solution irradiated with the active gas is measured by using an electron spin resonance (ESR) method, and the measured singlet oxygen concentration is defined as a singlet oxygen density.
  • ESR electron spin resonance
  • the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is preferably 1 L / min to 10 L / min.
  • the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is equal to or more than the lower limit, the effect of the active gas acting on the irradiated surface can be sufficiently enhanced.
  • the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is equal to or less than the upper limit, it is possible to prevent the temperature of the active gas irradiation surface from excessively increasing.
  • the irradiated surface is wet, rapid drying of the irradiated surface can be prevented.
  • the irradiated surface is an affected area, stimulation to the patient can be suppressed.
  • the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1 a can be adjusted by the supply amount of the plasma generating gas to the tubular dielectric 3.
  • the active gas generated by the plasma irradiation device 100 has an effect of promoting healing of a wound or an abnormality.
  • a cell a living tissue or a living individual with an active gas
  • cleaning or activation of the irradiated portion or healing of the irradiated portion can be promoted.
  • the frequency of irradiation, the number of irradiations, and the irradiation period are not particularly limited.
  • irradiation conditions such as once to five times a day, 10 seconds to 10 minutes each time, and one day to 30 days are used. It is preferable from the viewpoint of promoting healing.
  • the plasma irradiation apparatus 100 of the present embodiment is particularly useful as an intraoral treatment instrument and a dental treatment instrument. Further, the plasma irradiation apparatus 100 of the present embodiment is also suitable as an animal treatment instrument.
  • the outer periphery of the first electric wiring 40A and the outer periphery of the second electric wiring 40B are covered with the electromagnetic wave shielding material 50.
  • generation of electromagnetic waves from the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B can be suppressed. Therefore, it is possible to prevent the user of the plasma irradiation apparatus 100 and the object to be irradiated with the plasma from being adversely affected by the electromagnetic waves.
  • the electric wiring 40 is covered with the flexible electromagnetic wave shielding material 50, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • the outer diameter of the electromagnetic wave shielding material 50 is reduced by individually covering the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B with the electromagnetic wave shielding material 50. As a result, the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are easily bent, and the workability of the user is improved.
  • each configuration of the plasma irradiation apparatus according to the first to ninth modifications as shown in FIGS. 5 to 14 may be adopted.
  • the same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted, and only different points will be described.
  • the electromagnetic wave shielding material 200 may be a tubular knit or woven fabric made of conductive fibers or conductive wires.
  • two electric wires 40 may be put together and the outer periphery thereof may be covered with an electromagnetic shielding material 200 made of a tubular knitted or woven fabric.
  • the conductive fiber constituting the electromagnetic wave shielding material 200 is not particularly limited as long as the conductive fiber is made of a conductive material, and the metal fiber, the carbon fiber, and the chemical fiber are coated with a metal such as plating or vacuum evaporation. A fiber formed with a film can be exemplified.
  • the thickness of the conductive fiber constituting the electromagnetic wave shielding material 200 is not particularly limited as long as the electromagnetic wave generated from the electric wiring 40 can be shielded.
  • the braid density of the electromagnetic wave shielding material 200 (the number of thread driving per unit length, the number of courses / wales per unit length) is not particularly limited as long as the electromagnetic waves generated from the electric wiring 40 can be shielded.
  • the conductive wire constituting the electromagnetic wave shielding material 200 is not particularly limited as long as it is made of a conductive material, and a metal wire, a carbon wire, and a plastic wire can be plated or vacuumed. A wire formed by forming a metal film by coating such as evaporation can be exemplified.
  • the thickness of the metal wire constituting the electromagnetic wave shielding material 200 is not particularly limited as long as it can shield electromagnetic waves generated from the electric wiring 40, but is preferably, for example, 0.04 mm to 0.2 mm.
  • the plasma irradiation device 100 since the outer periphery of the first electric wiring 40A and the outer periphery of the second electric wiring 40B are covered with the electromagnetic wave shielding member 200 made of a tubular knitted or woven fabric, the plasma irradiation device 100 The generation of electromagnetic waves from the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B during the operation using the. Further, in the first modified example, since the electric wiring 40 is covered with the flexible electromagnetic wave shielding material 200, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired. Further, in the first modified example, the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are individually covered with the electromagnetic shielding material 200 made of a tubular knitted or woven fabric, so that the electromagnetic shielding material 200 is formed. Is reduced, the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are easily bent, and the workability of the user is improved.
  • the electromagnetic wave shielding material 300 may be a coil tube formed by winding a conductive wire 301 concentrically and spirally.
  • two electric wires 40 may be collectively covered and their outer circumferences may be covered with an electromagnetic wave shielding material 300 made of a coil tube.
  • the electromagnetic wave shielding material 300 made of a coil tube has flexibility since the wires 301 are in close contact with each other without any gap, but the wires 301 are easily shifted.
  • the conductive wire 301 constituting the electromagnetic wave shielding material 300 is not particularly limited as long as it is made of a conductive material, and a metal wire, a carbon wire, and a plastic wire may be plated or plated. A wire formed by forming a metal film by coating such as vacuum deposition can be exemplified. The thickness of the conductive wire 301 constituting the electromagnetic wave shielding member 300 is not particularly limited as long as the electromagnetic wave generated from the electric wiring 40 can be shielded.
  • the outer periphery of the first electric wiring 40A and the outer periphery of the second electric wiring 40B are covered with the electromagnetic wave shielding material 300 made of a coil tube. During this, generation of electromagnetic waves from the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B can be suppressed. Further, in the second modification, since the electric wiring 40 is covered with the flexible electromagnetic wave shielding material 300, it is possible to prevent the operability of the irradiation device 10 from being impaired. Further, in the second modification, the outer diameter of the electromagnetic wave shielding material 300 is reduced by individually covering the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B with the electromagnetic wave shielding material 300 made of a coil tube. Since the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are suppressed to be small, the workability of the user is improved.
  • the electromagnetic wave shielding member 400 may be a coil tube formed by concentrically and spirally winding a conductive wire 410.
  • the two electric wires 40 may be combined and the outer periphery thereof may be covered with an electromagnetic wave shielding material 400 made of a coil tube.
  • the electromagnetic shielding material 400 made of a coil tube has flexibility since the wires 410 are in close contact with each other without any gap, but the wires 410 are easily shifted from each other.
  • the wire 410 has a first portion 411 having a large thickness based on the surface (outer peripheral surface) 40a of the electric wiring 40 and a second portion 411 having a small thickness based on the surface (outer peripheral surface) 40a of the electric wiring 40. And a site 412.
  • One end of the second portion 412 (the end opposite to the first portion 411) forms an engagement protrusion 412a that protrudes in the thickness direction of the wire 410.
  • Inside one end of the first part 411 (the end on the second part 412 side), there is provided an engagement recess 411a for engaging the engagement protrusion 412a of the second part 412.
  • the engagement protrusions 412a of the second portion 412 are engaged with the engagement recesses 411a of the first portion 411, so that the wires 410 are in close contact with no gap.
  • a second portion 412 having a thickness smaller than that of the first portion 411 is provided, and the adjacent wires 410 are joined to each other via the second portion 412. Becomes easy to bend at the second portion 412.
  • the second portion 412 has a small thickness, if there is a concern that the electromagnetic wave shielding property is inferior to the first portion 411, the second portion 412 is made of a material having excellent electromagnetic wave shielding property. It may be formed.
  • the conductive wire 410 constituting the electromagnetic wave shielding material 400 is not particularly limited as long as it is made of a conductive material, and a metal wire, a carbon wire, a plastic wire, A wire formed by forming a metal film by coating such as vacuum deposition can be exemplified.
  • the thickness of the conductive wire 410 constituting the electromagnetic wave shielding material 400 is not particularly limited as long as the electromagnetic wave generated from the electric wiring 40 can be shielded.
  • the third modification since the outer periphery of the first electric wiring 40A and the outer periphery of the second electric wiring 40B are covered with the electromagnetic wave shielding material 400 made of a coil tube, the operation using the plasma irradiation device 100 is performed. During this, generation of electromagnetic waves from the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B can be suppressed. Further, in the third modification, since the electric wiring 40 is covered with the flexible electromagnetic wave shielding material 400, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired. In the third modified example, the outer diameter of the electromagnetic wave shielding member 400 is reduced by individually covering the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B with the electromagnetic wave shielding member 400 formed of a coil tube. Since the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are suppressed to be small, the workability of the user is improved.
  • the outer periphery of the first electric wiring 40A is covered with the first electromagnetic wave shielding material 50A
  • the outer periphery of the second electric wiring 40B is covered with the second electromagnetic wave shielding material 50B.
  • the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 are bundled with the first resin sheath material 500. That is, it is preferable that the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 are covered with the first resin sheath material 500 from the outer periphery thereof.
  • the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas pipeline 30 are in contact with each other at their outer circumferences.
  • a space 510 is formed between the first resin sheath member 500, the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30.
  • all spaces formed inside the first resin sheath material 500 are referred to as “inner space (large space)”, and the first resin sheath material 500, the first electric wiring 40A, and the second electric
  • space formed between the wiring 40B and the gas pipeline 30 is referred to as “space (small space)”.
  • the first electric wiring 40A covered with the first electromagnetic wave shielding material 50A, the second electric wiring 40B covered with the second electromagnetic wave shielding material 50B, and the gas conduit 30 are bundled with the first resin sheath material 500.
  • the space 510 is formed between the first resin sheath material 500 and the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30, the first electric wiring 40A, It is difficult for the electric wiring 40B and the gas conduit 30 to hinder each other's movement, and the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 bundled by the first resin sheath material 500 are: Excellent flexibility.
  • the volume occupied by the space 510 is preferably 30% to 70% with respect to 100% of the total volume of the internal space of the first resin sheath material 500.
  • the volume occupied by the space 510 is equal to or larger than the lower limit, the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are easily bent, and the workability of the user is improved.
  • the volume occupied by the space 510 is equal to or less than the upper limit, the outer diameter of the cable including the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B and the first resin sheath material 500 may be too large, Since the weight of the irradiation device 10 does not become too heavy, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • the resin constituting the first resin sheath material 500 is not particularly limited as long as it is insulating.
  • the thickness of the first resin sheath material 500 is not particularly limited as long as the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 are bundled and the flexibility is not impaired.
  • the thickness of the first resin sheath material 500 is preferably 0.5 mm to 2.0 mm. When the thickness of the first resin sheath material 500 is equal to or larger than the lower limit, the aesthetic appearance of the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B can be maintained, and the durability of the first resin sheath material 500 can be maintained. Excellent in nature.
  • the thickness of the first resin sheath material 500 is equal to or less than the above upper limit, the weight of the cable including the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the first resin sheath material 500 may become too heavy. Therefore, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • the fourth modified example since the outer periphery of the first electric wiring 40A and the outer periphery of the second electric wiring 40B are covered with the electromagnetic wave shielding material 50, during the operation using the plasma irradiation device 100, Generation of electromagnetic waves from the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B can be suppressed. Further, in the fourth modification, since the electric wiring 40 is covered with the flexible electromagnetic wave shielding material 50, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • the first electric wiring 40A covered with the first electromagnetic wave shielding material 50A, the second electric wiring 40B covered with the second electromagnetic wave shielding material 50B, and the gas pipeline 30 are bundled with the first resin sheath material 500, but a space 510 is formed between the first resin sheath material 500 and the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas pipe 30. Therefore, the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas pipeline 30 are unlikely to hinder each other's movement, and the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas pipe 30 are covered with an electromagnetic wave shielding material 600 so as to be bundled.
  • the first resin sheath material 500 is used. That is, the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas pipe 30 are covered with the electromagnetic wave shielding material 600 from the outer periphery thereof, and the electromagnetic wave shielding material 600 is covered with the first resin sheath material 500. Is preferred. Further, it is preferable that a space 610 is formed between the first resin sheath material 500 and the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 via the electromagnetic wave shielding material 600.
  • the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 are bundled with the electromagnetic wave shielding material 600 and the first resin sheath material 500, the electromagnetic wave shielding material 600 and the first electric wiring 40A, Since the space 610 is formed between the second electric wiring 40B and the gas conduit 30, the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B and the gas conduit 30 are less likely to hinder each other's movement.
  • the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 bundled with the electromagnetic wave shielding material 600 and the first resin sheath material 500 are excellent in flexibility.
  • the volume occupied by the space 610 is preferably 30% to 70% with respect to 100% of the total volume of the internal space of the first resin sheath material 500.
  • the volume occupied by the space 610 is equal to or larger than the lower limit, the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are easily bent, and the workability of the user is improved.
  • the volume occupied by the space 610 is equal to or less than the upper limit, the outer diameter of the cable including the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the first resin sheath material 500 may be too large, Since the weight of the irradiation device 10 does not become too heavy, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • the same material as the electromagnetic wave shielding material 50 can be used.
  • the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are covered with the electromagnetic wave shielding material 600, so that the first electric wiring Generation of electromagnetic waves from 40A and second electric wiring 40B can be suppressed.
  • the electric wiring 40 since the electric wiring 40 is covered with the flexible electromagnetic wave shielding material 600 and the first resin sheath material 500, the operability of the irradiation device 10 is impaired. Can be prevented.
  • the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 are bundled with the electromagnetic wave shielding material 600 and the first resin sheath material 500.
  • the space 610 is formed between the first resin sheath material 500 and the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas pipeline 30 via the electromagnetic wave shielding material 600, the first electric The wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas conduit 30 are unlikely to hinder each other's movement, so that the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • a second resin sheath material 520 is provided between the first electromagnetic wave shielding material 50A and the internal space (space 510) of the first resin sheath material 500.
  • a second resin sheath material 530 be provided between the second electromagnetic wave shielding material 50B and the internal space (space 510) of the first resin sheath material 500. That is, as shown in FIG. 11, the outer periphery of the first electromagnetic wave shielding material 50A that covers the first electric wiring 40A may be further covered with the second resin sheath material 520. Further, the outer periphery of the second electromagnetic wave shielding material 50B that covers the second electric wiring 40B may be further covered with a second resin sheath material 530. Accordingly, it is possible to prevent the first electromagnetic wave shielding material 50A and the second electromagnetic wave shielding material 50B from rubbing each other, thereby reducing the durability of the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B.
  • the thickness of the second resin sheath members 520 and 530 is preferably 0.1 mm to 0.5 mm. When the thickness of the second resin sheath members 520, 530 is equal to or greater than the lower limit, the durability of the second resin sheath members 520, 530 is excellent. When the thickness of the second resin sheath members 520, 530 is equal to or less than the above upper limit, the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the first electric wiring 40B, which are covered with the second resin sheath materials 520, 530, respectively. Since the weight of the cable including the resin sheath material 500 does not become too heavy, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • a second resin sheath material 540 may be provided between the electromagnetic wave shielding material 600 and the internal space (space 610) of the first resin sheath material 500. . That is, as shown in FIG. 12, the inner periphery of the electromagnetic wave shielding material 600 may be further covered with the second resin sheath material 540. Thus, even after the cable including the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the first resin sheath material 500 is bent, the shape of the electromagnetic wave shielding material 600 is restored to the original shape. The operability of the device can be prevented from being impaired.
  • the thickness of the second resin sheath material 540 is preferably 0.5 mm to 2.0 mm.
  • the thickness of the second resin sheath material 540 is equal to or more than the above lower limit, the durability of the second resin sheath material 540 is excellent, and the shape of the electromagnetic wave shielding material 600 is easily restored to the original shape.
  • the thickness of the second resin sheath material 540 is equal to or less than the upper limit, the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the first resin sheath material 500 covered with the second resin sheath material 540 are provided. Since the weight of the cable including is not excessively increased, the operability of the irradiation device 10 can be prevented from being impaired.
  • the surface of the second resin sheath material 520 opposite to the first electromagnetic wave shield material 50A and the second electromagnetic wave shield material of the second resin sheath material 530 It is preferable that the lubricant 700 is coated on the surface opposite to 50B. Further, it is preferable that the outer periphery of the gas pipe 30 be coated with the lubricant 700. By this lubricant 700, the first electric wiring 40A and the second electric wiring 40B are easily moved in the first resin sheath material 500. As a result, the cable including the one electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the first resin sheath material 500 has excellent flexibility.
  • the surface of the second resin sheath member 540 opposite to the electromagnetic wave shielding member 600 be coated with the lubricant 700.
  • the outer periphery of the first electric wiring 40A, the second electric wiring 40B, and the gas pipe 30 is coated with a lubricant 700.
  • the operation switch 9 may be different from the above embodiment.
  • a foot pedal instead of providing the operation switch 9 on the irradiation device 10, a foot pedal may be provided on the supply unit 20.
  • the foot pedal is used as the operation unit, and the plasma generating gas is supplied from the supply source 80 to the plasma generating unit 12 when the user steps on the foot pedal, for example.
  • the shape of the internal electrode 4 of the present embodiment described above is a screw shape.
  • the shape of the internal electrode is not limited as long as plasma can be generated between the internal electrode and the external electrode.
  • the internal electrode may have irregularities on the surface or may not have irregularities on the surface.
  • a shape having irregularities on the outer peripheral surface is preferable.
  • the shape of the internal electrode may be a coil shape, a rod shape or a cylindrical shape having a plurality of protrusions, holes, and through holes formed on the outer peripheral surface.
  • the cross-sectional shape of the internal electrode is not particularly limited, and examples thereof include a circle such as a perfect circle and an ellipse, and a polygon such as a square and a hexagon.
  • the plasma irradiation apparatus of the present invention is useful for applications such as intraoral treatment, dental treatment, and animal treatment.
  • diseases and symptoms that can be treated by irradiation with active gas include diseases in the oral cavity such as gingivitis and periodontal disease, and wounds on the skin.
  • the treatment method of the present invention is effective for promoting healing of living tissue.
  • the treatment method of the present invention is effective for treating not only humans but also animals other than humans.

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Abstract

本発明のプラズマ照射装置（１００）は、プラズマ発生部を有し、プラズマ発生部にて発生したプラズマおよびプラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出する照射器具（１０）と、プラズマ発生部に電気を供給し、かつ電圧を調整する給電部、および、給電部を制御する制御部を有する供給ユニット（２０）と、照射器具（１０）と供給ユニット（２０）を電気的に接続する電気配線（４０）と、照射器具（１０）、供給ユニット（２０）および電気配線（４０）の外周をそれぞれ覆う電磁波シールド材と、を備え、電気配線（４０）の外周を覆う電磁波シールド材（５０）は可撓性を有する。

Description

プラズマ照射装置
　本発明は、プラズマ照射装置に関する。
　本願は、２０１８年９月２０日に、日本に出願された特願２０１８－１７６５８２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　歯科治療等において創傷等の患部にプラズマやプラズマによって発生した活性ガスを照射して患部の治癒を図るプラズマ照射装置が知られている。プラズマ照射装置としては、プラズマジェット照射装置（例えば、特許文献１参照）および活性ガス照射装置（例えば、特許文献２参照）がある。プラズマジェット照射装置は、プラズマおよびプラズマによって発生した活性種をノズルから吐出し、被照射物に照射する。活性ガス照射装置は、プラズマによって発生した活性種を含む活性ガスをノズルから吐出し、被照射物に照射する。
特許第５４４１０６６号公報 特開２０１７－５０２６７号公報
　このようなプラズマ照射装置は、電磁波を発生する。電磁波は人体に悪影響を及ぼすことがあるため、遮蔽する必要がある。プラズマ照射装置では、照射器具が筐体を有するため、電磁波を遮蔽することができる。しかしながら、プラズマ照射装置では、照射器具とプラズマ発生部に電気を供給する給電部等を接続する電気配線は遮蔽されていない。そのため、プラズマ照射装置では、電気配線から電磁波が発生するという課題があった。
　電磁波対策として、シールド材を用いて装置の外部に漏れる電磁波を遮蔽する方法は知られている。しかしながら、照射器具を手で持って使用するプラズマ照射装置に関しては、シールド材で電気配線を覆うと、電気配線が硬くなり、操作性が損なわれるという課題があった。
　また、プラズマ照射装置から電磁波が発生すると周囲の機器を誤作動させるという課題があった。さらに、シールド材がないと、周囲からの電磁波によりプラズマ照射装置が誤作動するという課題があった。
　本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、照射器具とプラズマ発生部に電気を供給する給電部等を接続する電気配線から電磁波が発生することを抑えるとともに、操作性を損なうことなく、高い安全性と動作の安定性を有するプラズマ照射装置を提供することを目的とする。
　前記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提案している。
　本発明に係るプラズマ照射装置は、プラズマ発生部を有し、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマおよび前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出する照射器具と、前記プラズマ発生部に電気を供給し、かつ電圧を調整する給電部、および、前記給電部を制御する制御部を有する供給ユニットと、前記照射器具と前記供給ユニットを電気的に接続する電気配線と、前記照射器具、前記供給ユニットおよび前記電気配線の外周をそれぞれ覆う電磁波シールド材と、を備え、前記電気配線の外周を覆う電磁波シールド材は可撓性を有する。
　前記電気配線を２本以上備え、該２本以上の電気配線の外周を個別に前記電磁波シールド材で覆っていてもよい。
　前記電磁波シールド材は、導電性の繊維または導電性の線材からなる筒状の編物または織物であってもよい。
　前記電気配線は、前記電磁波シールド材の上に第１の樹脂シース材を有し、前記照射器具と前記供給ユニットを接続する全ての前記電気配線を前記第１の樹脂シース材で束ねてもよい。
　前記第１の樹脂シース材の厚さが０．５ｍｍ～２．０ｍｍであってもよい。
　前記第１の樹脂シース材と前記電気配線の間に空間を有してもよい。
　前記第１の樹脂シース材の内部空間の全体積１００％に対して、前記空間の占める体積が３０％～７０％であってもよい。
　前記電磁波シールド材と前記第１の樹脂シース材の内部空間との間に第２の樹脂シース材を有していてもよい。
　前記第２の樹脂シース材の厚さが０．１ｍｍ～２．０ｍｍであってもよい。
　前記第２の樹脂シース材における前記電磁波シールド材とは反対側の面に潤滑剤がコーティングされていてもよい。
　本発明によれば、照射器具とプラズマ発生部に電気を供給する給電部等を接続する電気配線から電磁波が発生することを抑えるとともに、操作性を損なうことなく、高い安全性を有するプラズマ照射装置を提供することができる。
本発明の一実施形態のプラズマ照射装置を示す模式図である。 本発明の一実施形態のプラズマ照射装置を構成する照射器具の部分断面図である。 図２の照射器具のｘ－ｘ断面図である。 本発明の一実施形態のプラズマ照射装置の概略構成を示すブロック図である。 本発明の第１の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 本発明の第２の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 本発明の第３の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 図７の電気配線および電磁波シールド材のｙ－ｙ断面図である。 本発明の第４の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 本発明の第５の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 本発明の第６の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 本発明の第７の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 本発明の第８の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。 本発明の第９の変形例に係るプラズマ照射装置を構成する電気配線を示す模式図である。
　本発明のプラズマ照射装置の実施の形態について説明する。
　なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、その数値範囲の両端を含むものとする。
　本発明のプラズマ照射装置は、プラズマ発生部とノズルと温度測定部とを備えたものであれば、プラズマジェット照射装置であってもよく、活性ガス照射装置であってもよい。
　プラズマジェット照射装置は、プラズマを発生させる。プラズマジェット照射装置は、発生したプラズマと活性種とを被照射物に直接照射する。活性種は、プラズマ中の気体またはプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。活性種としては、活性酸素種、活性窒素種等を例示できる。活性酸素種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等を例示できる。活性窒素種としては、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。
　活性ガス照射装置は、プラズマを発生させる。活性ガス照射装置は、活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。活性種は、プラズマ中の気体またはプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。
　以下、本発明のプラズマ照射装置の一実施形態について説明する。
　本実施形態のプラズマ照射装置は、活性ガス照射装置である。
　図１に示すように、本実施形態のプラズマ照射装置１００は、照射器具１０（インスツルメント）と、供給ユニット２０と、ガス管路３０と、電気配線４０と、電磁波シールド材と、を備える。
　照射器具１０は、照射器具１０内で発生した活性ガスを吐出する。供給ユニット２０は、照射器具１０に電気およびプラズマ発生用ガスを供給する。ガス管路３０は、照射器具１０と供給ユニット２０を接続している。電気配線４０は、照射器具１０と供給ユニット２０を接続している。電磁波シールド材（図示略）は、供給ユニット２０（筐体２１）の外周を覆っている（遮蔽している）。電磁波シールド材５０は、電気配線４０の外周を覆っている（遮蔽している）。
（照射器具）
　図２は、照射器具１０における軸線に沿う断面を示す部分断面図である。図３は、図２の照射器具のｘ－ｘ断面図である。
　照射器具１０は、長尺状のカウリング２と、カウリング２の先端から突出するノズル１と、カウリング２内に位置するプラズマ発生部１２と、カウリング２の外周面に設けられた操作スイッチ９（操作部）と、を備える。
　カウリング２は、胴体部２ｂと、胴体部２ｂの先端を塞ぐヘッド部２ａとを備える。
　胴体部２ｂは、管軸Ｏ１方向に延びる円筒状の部材である。胴体部２ｂは、円筒形に限らず、四角筒、六角筒、八角筒等の多角筒形でもよい。
　胴体部２ｂの材料としては、特に限定されないが、導電性を有する材料が好ましい。胴体部２ｂは、金属材料で形成されてもよいし、絶縁材料とその表面に金属材料の層を有する多層構造でもよい。
　金属材料としては、ステンレス、チタン、アルミニウム等が挙げられる。
　このような構成とすることにより、胴体部２ｂは電磁波シールド材として機能する。
　胴体部２ｂの大きさは、特に制限はなく、手指で把持しやすい大きさとすることができる。
　ヘッド部２ａは、先端に向かい漸次窄んでいる。すなわち、ヘッド部２ａは、円錐形である。ヘッド部２ａは、円錐形に限らず、四角錘、六角錘、八角錘等の多角錘形であってもよい。
　ヘッド部２ａは、先端に嵌合孔２ｃを有している。嵌合孔２ｃは、ノズル１を受け入れる孔である。ノズル１は、ヘッド部２ａに着脱可能になっている。ヘッド部２ａは、管軸Ｏ１方向に延びる第１の活性ガス流路７を内部に有している。管軸Ｏ１は、胴体部２ｂの管軸である。
　ヘッド部２ａの材料は、特に制限はなく、絶縁性を有していてもよいし、絶縁性を有していなくてもよい。ヘッド部２ａの材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。
　耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス鋼等の金属を例示できる。ヘッド部２ａと胴体部２ｂとの材料は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
　ヘッド部２ａの大きさは、プラズマ照射装置１００の用途等を勘案して決定できる。例えば、プラズマ照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、ヘッド部２ａの大きさは、口腔内に挿入できる大きさが好ましい。
　ノズル１は、嵌合孔２ｃに嵌合する台座部１ｂと、台座部１ｂから突出する照射管１ｃと、を備える。台座部１ｂと照射管１ｃとは一体になっている。ノズル１は、その内部に、第２の活性ガス流路８を有している。ノズル１は、先端に照射口１ａを有している。第２の活性ガス流路８と第１の活性ガス流路７とは、連通している。
　ノズル１の材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、導電性を有してもよい。ノズル１の材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス鋼等の金属を例示できる。ノズル１は、衛生上の点から、ディスポーザブル式であってもよい。この場合のノズル１の材料は、ディスポーザブル材料が好ましい。
　ノズル１における照射管１ｃ内の流路の長さ（すなわち、距離Ｌ２）は、プラズマ照射装置１００の用途等を勘案して、適宜決定できる。
　照射口１ａの開口径は、例えば、０．５ｍｍ～５ｍｍであることが好ましい。開口径が上記下限値以上であると、活性ガスの圧力損失を抑制できる。開口径が上記上限値以下であると、照射する活性ガスの流速を高めて、患部の治癒等を促進できる。
　照射管１ｃは、管軸Ｏ１に対して屈曲している。
　照射管１ｃの管軸Ｏ２と管軸Ｏ１とのなす角度θは、プラズマ照射装置１００の用途等を勘案して決定できる。
　プラズマ発生部１２は、管状誘電体３と、内部電極４と、外部電極５と、を備える。
　管状誘電体３と内部電極４と外部電極５とは、管軸Ｏ１を中心として同心円状に位置している。
　内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とは、管状誘電体３を挟んで互いに対向している。
　管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びる円筒状の部材である。管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びるガス流路６を内部に有している。第１の活性ガス流路７とガス流路６とは連通している。なお、管軸Ｏ１は、管状誘電体３の管軸と同じである。
　管状誘電体３の材料としては、公知のプラズマ装置に使用する誘電体材料を適用できる。管状誘電体３の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等を例示できる。管状誘電体３の誘電率は低いほど好ましい。
　管状誘電体３の内径Ｒは、内部電極４の外径ｄを勘案して、適宜決定できる。内径Ｒは、後述する距離ｓを所望の範囲とするように決定する。
　内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる略円柱状の部材である。内部電極４は、管状誘電体３の内部に位置し、管状誘電体３の内面と離間している。
　内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる軸部と、軸部の外周面のねじ山とを備える。軸部は、中実でもよいし、中空でもよい。軸部は中実が好ましい。軸部が中実であれば、加工が容易であり、かつ機械的な耐久性を高められる。内部電極４のねじ山は、軸部の周方向に周回する螺旋状のねじ山である。内部電極４の形態は、雄ねじと同様の形態である。
　内部電極４は、外周面にねじ山を有することで、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなる。このため、低電力でプラズマを生成し、維持できる。
　なお、内部電極４は、外周面にねじ山等の凹凸を有しなくてもよい。すなわち、内部電極４は、外周面に凹凸を有しない円柱の部材でもよい。
　内部電極４の外径ｄは、プラズマ照射装置１００の用途（すなわち、照射器具１０の大きさ）等を勘案して、適宜決定できる。プラズマ照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、外径ｄは、０．５ｍｍ～２０ｍｍであることが好ましく、１ｍｍ～１０ｍｍであることがより好ましい。外径ｄが上記下限値以上であると、内部電極４を容易に製造できる。加えて、外径ｄが上記下限値以上であると、内部電極４の表面積が大きくなり、プラズマをより効率的に発生して、治癒等をより促進できる。外径ｄが上記上限値以下であると、照射器具１０を過度に大きくすることなく、プラズマをより効率的に発生し、治癒等をより促進できる。
　内部電極４のねじ山の高さｈは、内部電極４の外径ｄを勘案して、適宜決定できる。
　内部電極４のねじ山のピッチｐは、内部電極４の長さや外径ｄ等を勘案して、適宜決定できる。ピッチｐは、０．２ｍｍ～３．０ｍｍであることが好ましく、０．２ｍｍ～２．５ｍｍであることがより好ましく、０．２ｍｍ～２．０ｍｍであることがさらに好ましい。
　内部電極４の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。内部電極４の材料としては、ステンレス鋼、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。
　内部電極４としては、ＪＩＳ　Ｂ　０２０５：２００１のメートルねじの規格品（Ｍ２、Ｍ２．２、Ｍ２．５、Ｍ３、Ｍ３．５等）、ＪＩＳ　Ｂ　２０１６：１９８７のメートル台形ねじの規格品（Ｔｒ８×１．５、Ｔｒ９×２、Ｔｒ９×１．５等）、ＪＩＳ　Ｂ　０２０６：１９７３のユニファイ並目ねじの規格品（Ｎｏ．１－６４ＵＮＣ、Ｎｏ．２－５６ＵＮＣ、Ｎｏ．３－４８ＵＮＣ等）等と同等の仕様が好ましい。これらの規格品と同等の仕様であれば、コスト面で優位である。
　内部電極４の外面と管状誘電体３の内面との距離ｓは、０．０５ｍｍ～５ｍｍであることが好ましく、０．１ｍｍ～１ｍｍであることがより好ましい。距離ｓが上記下限値以上であると、所望量のプラズマ発生用ガスを容易に通流できる。距離ｓが上記上限値以下であると、プラズマをさらに効率的に発生し、活性ガスの温度を低くできる。
　内部電極４と外部電極５とが対向している領域の長さＬ３は、１ｍｍ～５０ｍｍであることが好ましく、３ｍｍ～４０ｍｍであることがより好ましく、５ｍｍ～３０ｍｍであることがさらに好ましい。長さＬ３が上記下限値以上であれば、プラズマの発生個所を増やして、より効率的にプラズマを発生できる。長さＬ３が上記上限値以下であれば、活性ガスの温度の上昇をより良好に抑制できる。本実施形態において、長さＬ３は、外部電極５の長さと等しい。
　なお、外部電極５は、管軸Ｏ１方向に２つ以上に分かれていてもよい。外部電極５が管軸Ｏ１方向に分かれている場合、長さＬ３は、内部電極４と、２つの外部電極の後端から先端までとが対向している領域の長さであり、２つの外部電極の間の距離を含むものとする。
　外部電極５は、管状誘電体３の外周面に沿って周回する環状の電極である。外部電極５は、管状誘電体３の外周面の一部に存在する。
　外部電極５の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。外部電極５の材料としては、ステンレス鋼、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。
　内部電極４と外部電極５とが対向している領域の先端Ｑ１からヘッド部２ａの先端Ｑ２までの距離Ｌ１と、先端Ｑ２から照射口１ａまでの距離Ｌ２との合計（すなわち、内部電極４と外部電極５とが対向している領域から照射口１ａまでの道のり）は、プラズマ照射装置１００に求める大きさや、照射した活性ガスが当たる面（被照射面）における温度等を勘案して適宜決定する。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が長ければ、被照射面の温度を低くできる。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が短ければ、活性ガスのラジカル密度がさらに高くなり、被照射面における清浄化、賦活化、治癒等の効果がさらに高くなる。なお、先端Ｑ２は、管軸Ｏ１と管軸Ｏ２との交点である。
　操作スイッチ９は、使用者が操作することによって、ノズル１からの活性ガスの吐出を開始するための電気信号を発信する。
　操作スイッチ９は、例えば、押釦である。操作スイッチ９が押釦である場合、操作スイッチ９は、使用者が押釦を１回押したときに電気信号を１回だけ発信する構成を有してもよく、使用者が押釦を押し続けている間、電気信号を発信し続ける構成を有してもよい。
（供給ユニット）
　図４は、プラズマ照射装置１００の概略構成を示すブロック図である。
　供給ユニット２０は、給電部６０と、ガス調整部７０と、ガス供給源８０と、制御部９０と、これらを収容する筐体２１と、筐体２１の外周を覆う電磁波シールド材（図示略）と、を備える。
　筐体２１は、ガス供給源８０を離脱可能に収容する。これにより、筐体２１に収容されたガス供給源８０内のガスがなくなったとき、ガス供給源８０を交換できる。
　電磁波シールド材の材料としては、導電性の材料であれば、特に制限はなく、板状の金属、金属繊維、炭素繊維、プラスチック等の素材に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなるもの等を例示できる。
　給電部６０は、照射器具１０の操作スイッチ９、プラズマ発生部１２および供給ユニット２０内の各構成要素に電気を供給する。
　給電部６０は、プラズマ発生部１２の内部電極４と外部電極５との間に印加する電圧および周波数を調整できる。
　給電部６０は、例えば、１００Ｖの家庭用電源等の電源（図示略）と接続されている。
　ガス調整部７０は、ガス供給源８０とガス管路３０とを接続するガス配管７５を備える。ガス配管７５には、電磁弁７１、圧力レギュレータ７３、流量コントローラ７４（流量調整部）および圧力センサ７２が取り付けられている。
　電磁弁７１は、開閉の切り替えによって、ガス供給源８０から照射器具１０へのプラズマ発生用ガスの供給の開始および停止を切り替える。図示例では、電磁弁７１は、弁開度が調節できる構成ではなく、開閉の切り替えのみができる構成である。なお、電磁弁７１は、弁開度が調節できる構成であってもよい。
　圧力レギュレータ７３は、電磁弁７１とガス供給源８０との間に配置される。圧力レギュレータ７３は、ガス供給源８０から電磁弁７１に向かうプラズマ発生用ガスの圧力を低下（プラズマ発生用ガスを減圧）させる。
　流量コントローラ７４は、電磁弁７１とガス管路３０との間に配置される。流量コントローラ７４は、電磁弁７１を通過したプラズマ発生用ガスの流量（単位時間当たりの供給量）を調整する。流量コントローラ７４は、プラズマ発生用ガスの流量を、例えば、３Ｌ／ｍｉｎに調整する。
　圧力センサ７２は、ガス供給源８０内の圧力（残圧）を計測する。圧力センサ７２は、圧力レギュレータ７３とガス供給源８０との間（圧力レギュレータ７３よりも一次側）を通過するプラズマ発生用ガスの圧力（一次圧）を、ガス供給源８０の圧力として計測する。圧力センサ７２としては、例えば、キーエンス社のＡＰ－Ｖ８０シリーズ（具体的には、例えば、ＡＰ－１５Ｓ）等を採用できる。
　ガス配管７５のガス供給源８０側の端部には、継手７６が設けられている。継手７６には、ガス供給源８０が着脱可能に装着されている。ガス供給源８０を継手７６に着脱させることで、ガス調整部７０を筐体２１に固定したまま、ガス供給源８０を交換できる。この場合、交換前のガス供給源８０、交換後のガス供給源８０のいずれについても共通のガス調整部７０を使用できる。なお、ガス調整部７０は、ガス供給源８０に固定され、ガス供給源８０と一体的に筐体２１から離脱可能であってもよい。
　ガス供給源８０は、プラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスを供給する。ガス供給源８０は、内部にプラズマ発生用ガスが収容された耐圧容器である。ガス供給源８０は、筐体２１内に配置されたガス調整部７０に対して着脱可能に装着されている。
　制御部９０には、電磁弁７１、圧力センサ７２、流量コントローラ７４、給電部６０および照射器具１０の操作スイッチ９が電気的に接続されている。
　制御部９０は、電磁弁７１、流量コントローラ７４および給電部６０を制御する。
　制御部９０は、情報処理装置を用いて構成される。すなわち、制御部９０は、バスで接続されたＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ　Ｕｎｉｔ）、メモリおよび補助記憶装置を備える。制御部９０は、プログラムを実行することによって動作する。
　制御部９０には、照射器具１０の操作スイッチ９が電気配線４０を介して電気的に接続されている。使用者が操作スイッチ９を操作することによって、操作スイッチ９から制御部９０に電気信号が送られる。制御部９０が操作スイッチ９からの電気信号を受け付けると、制御部９０は、電磁弁７１、流量コントローラ７４および給電部６０を作動させる。
　操作スイッチ９が押釦であり、使用者が押釦を１回押したときに電気信号を１回だけ発信する場合は、制御部９０は、例えば、以下のように電磁弁７１、流量コントローラ７４および給電部６０を制御する。
　操作スイッチ９からの電気信号を制御部９０が受け付けると、制御部９０が、電磁弁７１を所定時間、開放して電磁弁７１を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ７４に調整させる。また、制御部９０が、給電部６０を制御して内部電極４と外部電極５との間に電圧を所定時間、印加する。その結果、ガス供給源８０からプラズマ発生部１２に一定量のプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル１から活性ガスが所定時間（例えば、数秒から数十秒程度）、継続して吐出される。
　操作スイッチ９が押釦であり、使用者が押釦を押し続けている間、電気信号を発信し続ける場合は、制御部９０は、例えば、以下のように電磁弁７１、流量コントローラ７４および給電部６０を制御する。
　制御部９０が操作スイッチ９からの電気信号を受け付けている間、制御部９０が、電磁弁７１を開放して、電磁弁７１を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ７４に調整させる。また、制御部９０が、給電部６０を制御して内部電極４と外部電極５との間に電圧を印加する。その結果、使用者が操作スイッチ９を押し続けている間、ガス供給源８０からプラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル１から活性ガスが継続して吐出される。
（ガス管路）
　ガス管路３０は、供給ユニット２０から照射器具１０にプラズマ発生用ガスを供給する経路である。ガス管路３０は、照射器具１０の管状誘電体３の後端部に接続している。ガス管路３０の材料は特に制限はなく、公知のガス管に用いる材料を適用できる。ガス管路３０の材料としては、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等を例示でき、可撓性を有する材料が好ましい。
（電気配線）
　電気配線４０は、照射器具１０と供給ユニット２０を電気的に接続する。電気配線４０は、供給ユニット２０の給電部６０から照射器具１０のプラズマ発生部１２に電気を供給する第１の電気配線４０Ａと、照射器具１０をアース接続する第２の電気配線４０Ｂ（アース線）と、を備える。
　電気配線４０の材料は特に制限はなく、公知の電気配線に用いる材料を適用できる。電気配線４０の材料としては、絶縁材料で被覆した金属導線等を例示できる。
（電磁波シールド材）
　電磁波シールド材５０は、２つの電気配線４０を纏めて、それらの外周を覆っていてもよいが、図１に示すように、２つの電気配線４０の外周を個別に電磁波シールド材５０で覆うことが好ましい。すなわち、第１の電気配線４０Ａの外周を第１の電磁波シールド材５０Ａで覆い、第２の電気配線４０Ｂの外周を第２の電磁波シールド材５０Ｂで覆うことが好ましい。なお、十分な電磁波遮蔽効果を得るためには、第１の電磁波シールド材５０Ａおよび第２の電磁波シールド材５０Ｂの編組密度が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９９．９％であることが最も好ましい。
　電磁波シールド材５０の材料としては、導電性の材料であれば、特に制限はない。電磁波シールド材５０の材料としては、板状の金属、金属繊維、炭素繊維、プラスチック等の素材に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなるもの、導電性の繊維または導電性の線材からなる筒状の編物または織物、後述する第２の変形例に示すコイルチューブ、後述する第３の変形例に示すコイルチューブ等を例示できる。なお、導電性の繊維としては、金属繊維、炭素繊維、化学繊維に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなる繊維等を例示できる。また、導電性の線材としては、金属線材、炭素線材、プラスチック線材に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなる線材等を例示できる。また、電磁波シールド材５０は、可撓性を有する。これらのなかでも、電磁波シールド材５０で覆われた電気配線４０を軽量化して、照射器具１０の操作性を高める観点から、電磁波シールド材５０としては、導電性の繊維または導電性の線材からなる筒状の編物または織物が好ましい。
（使用方法）
　次に、プラズマ照射装置１００の使用方法を説明する。
　例えば、医師等の使用者は、照射器具１０を持って移動させ、ノズル１を後述する被照射物に向ける。この状態で操作スイッチ９を押し、供給ユニット２０のガス供給源８０からガス調整部７０およびガス管路３０を介して照射器具１０のプラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスを供給し、供給ユニット２０の給電部６０から照射器具１０のプラズマ発生部１２に電気を供給する。
　プラズマ発生部１２に供給したプラズマ発生用ガスは、管状誘電体３の後端部から管状誘電体３の内空部に流入する。プラズマ発生用ガスは、電圧を印加した内部電極４と外部電極５とが対向する位置において電離し、プラズマになる。
　本実施形態においては、内部電極４と外部電極５とが、プラズマ発生用ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、ガス流路６と、第１の活性ガス流路７と、第２の活性ガス流路８とをこの順に通流する。この間、プラズマは、ガス組成を変化しつつ通流し、ラジカル等の活性種を含む活性ガスとなる。
　生じた活性ガスは、ノズル１の照射口１ａから吐出される。吐出された活性ガスは、照射口１ａ近傍の気体の一部をさらに活性化して活性種を生成する。これらの活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。
　被照射物としては、例えば、細胞、生体組織、生物個体等を例示できる。
　生体組織としては、各器官（内臓等）、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯周組織（歯肉、歯槽骨、歯根膜、セメント質等）、歯、骨等を例示できる。活性ガスの照射によって処理可能な疾患および症状としては、例えば、歯肉炎、歯周病等の口腔内の疾患、皮膚の創傷等を例示できる。
　生物個体としては、哺乳類（ヒト、犬、猫、豚等）、鳥類、魚類等を例示できる。
　プラズマ発生用ガスとしては、例えば、希ガス（ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等）、窒素、酸素、空気等を例示できる。これらのガスは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　プラズマ発生用ガスは、窒素を主成分とすることが好ましい。ここで、窒素を主成分とするとは、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量が５０体積％超であることをいう。
　すなわち、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量は、５０体積％超であることが好ましく、７０体積％以上であることがより好ましく、８０体積％～１００体積％であることがさらに好ましく、９０体積％～１００体積％であることが特に好ましい。プラズマ発生用ガス中の窒素以外のガス成分としては、例えば、酸素、希ガス等を例示できる。
　プラズマ照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの酸素濃度は、１体積％以下が好ましい。酸素濃度が上限値以下であると、オゾンの発生を低減できる。
　管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ～１０Ｌ／ｍｉｎであることが好ましい。管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量が上記下限値以上であると、被照射物における被照射面の温度の上昇を抑制しやすい。プラズマ発生用ガスの流量が上記上限値以下であると、被照射物の清浄化、賦活化または治癒をさらに促進できる。
　内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、５ｋＶｐｐ以上２０ｋＶｐｐ以下であることが好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Ｖｐｐ（Ｖｏｌｔ　ｐｅａｋ　ｔｏ　ｐｅａｋ）」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。
　なお、内部電極４が外周面に凹凸を有しない円柱の部材である場合、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、１０ｋＶｐｐ以上であることが好ましい。外周面に凹凸を有さない内部電極４を用いる場合、外周面に凹凸を有する内部電極４を用いる場合に比べて、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧を高める必要がある。
　印加する交流電圧が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。印加する交流電圧が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。
　内部電極４と外部電極５との間に印加する交流の周波数は、０．５ｋＨｚ以上２０ｋＨｚ未満であることが好ましく、１ｋＨｚ以上１５ｋＨｚ未満であることがより好ましく、２ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ未満であることがさらに好ましく、３ｋＨｚ以上９ｋＨｚ未満であることが特に好ましく、４ｋＨｚ以上８ｋＨｚ未満であることが最も好ましい。交流の周波数が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。交流の周波数が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。
　ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度は、５０℃以下であることが好ましく、４５℃以下であることがより好ましく、４０℃以下であることがさらに好ましい。ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度が上記上限値以下であると、被照射面の温度を４０℃以下にしやすい。被照射面の温度を４０℃以下にすることで、被照射部分が患部である場合にも、患部への刺激を低減できる。ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度の下限値は、特に制限はなく、例えば、１０℃である。活性ガスの温度は、照射口１ａにおける活性ガスの温度を熱電対で測定した値である。
　照射口１ａから被照射面までの距離（照射距離）は、例えば、１．０ｍｍ～１０ｍｍであることが好ましい。照射距離が上記下限値以上であると、被照射面の温度を低くし、被照射面への刺激をさらに緩和できる。照射距離が上記上限値以下であると、治癒等の効果をさらに高められる。
　照射口１ａから１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離で離れた位置の被照射面の温度は、４０℃以下が好ましい。被照射面の温度が４０℃以下であると、被照射面への刺激を低減できる。被照射面の温度の下限値は特に制限はないが、例えば、１０℃である。
　被照射面の温度は、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧、照射する活性ガスの吐出量、内部電極４と外部電極５とが対向している領域の先端Ｑ１から照射口１ａまでの道のり等の組み合わせで調節できる。被照射面の温度は、熱電対を用いて測定できる。
　活性ガスに含まれる活性種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。活性ガスに含まれる活性種の種類は、例えば、プラズマ発生用ガスの種類等によって調節できる。
　活性ガス中におけるヒドロキシルラジカルの密度（ラジカル密度）は、０．１μｍｏｌ／Ｌ～３００μｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～１００μｍｏｌ／Ｌであることがより好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～５０μｍｏｌ／Ｌであることがさらに好ましい。ラジカル密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織および生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化または異常の治癒を促進しやすい。ラジカル密度が上記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。
　ラジカル密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
　ＤＭＰＯ（５，５－ジメチル－１－ピロリン－Ｎ－オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．２ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口１ａから液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用してヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル密度とする。
　活性ガス中における一重項酸素の密度（一重項酸素密度）は、０．１μｍｏｌ／Ｌ～３００μｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～１００μｍｏｌ／Ｌであることがより好ましく、０．１μｍｏｌ／Ｌ～５０μｍｏｌ／Ｌであることがさらに好ましい。一重項酸素密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織および生物個体等の被照射物の清浄化、賦活化または異常の治癒を促進しやすい。上記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。
　一重項酸素密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
　ＴＰＣ（２，２，５，５－テトラメチル－３－ピロリン－３－カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口１ａから液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用して一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素密度とする。
　照射口１ａから吐出する活性ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ～１０Ｌ／ｍｉｎであることが好ましい。
　照射口１ａから吐出する活性ガスの流量が上記下限値以上であると、活性ガスが被照射面に作用する効果を充分に高められる。照射口１ａから吐出する活性ガスの流量が上記上限値以下であると、活性ガスの被照射面の温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射面が濡れている場合には、被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者への刺激を抑制できる。プラズマ照射装置１００において、照射口１ａから吐出する活性ガスの流量は、管状誘電体３へのプラズマ発生用ガスの供給量で調節できる。
　プラズマ照射装置１００によって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。活性ガスを細胞、生体組織または生物個体に照射することによって、その被照射部分の清浄化、賦活化、またはその被照射部分の治癒を促進できる。
　外傷や異常の治癒を促進する目的で活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数および照射期間は特に制限はない。例えば、１Ｌ／ｍｉｎ～５．０Ｌ／ｍｉｎの照射量で活性ガスを患部に照射する場合、１日１回～５回、毎回１０秒～１０分、１日～３０日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。
　本実施形態のプラズマ照射装置１００は、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。また、本実施形態のプラズマ照射装置１００は、動物治療用器具としても好適である。
（作用機序）
　以上説明した本実施形態のプラズマ照射装置１００にあっては、第１の電気配線４０Ａの外周および第２の電気配線４０Ｂの外周を電磁波シールド材５０で覆っているため、プラズマ照射装置１００を用いた作業中に、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂから電磁波が発生することを抑えられる。したがって、プラズマ照射装置１００の使用者やプラズマの被照射物が電磁波により悪影響を受けることを防止できる。また、本実施形態のプラズマ照射装置１００にあっては、電気配線４０を、可撓性の電磁波シールド材５０で覆うため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。また、本実施形態のプラズマ照射装置１００にあっては、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂを、個別に電磁波シールド材５０で覆うことにより、電磁波シールド材５０の外径が小さく抑えられて、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂが曲がりやすくなり、使用者の作業性が向上する。
＜他の実施形態＞
　なお、本発明は、上記の実施形態に限定するものではない。
　例えば、図５～図１４に示すような第１の変形例～第９の変形例に係るプラズマ照射装置の各構成を採用してもよい。なお、変形例に係るプラズマ照射装置では、前記実施形態における構成と同一の部分については同一の符号を付し、その説明を省略し、異なる点についてのみ説明する。
　図５に示す第１の変形例のように、電磁波シールド材２００は、導電性の繊維または導電性の線材からなる筒状の編物または織物であってもよい。図５に示す第１の変形例では、２つの電気配線４０を纏めて、それらの外周を筒状の編物または織物からなる電磁波シールド材２００で覆ってもよいが、２つの電気配線４０の外周を個別に筒状の編物または織物からなる電磁波シールド材２００で覆うことが好ましい。すなわち、第１の電気配線４０Ａの外周を筒状の編物または織物からなる第１の電磁波シールド材２００Ａで覆い、第２の電気配線４０Ｂの外周を筒状の編物または織物からなる第２の電磁波シールド材２００Ｂで覆うことが好ましい。電磁波シールド材２００は、導電性の繊維または導電性の線材からなる筒状の編物または織物であるため、可撓性を有する。
　電磁波シールド材２００を構成する導電性の繊維は、導電性の材料からなるものであれば、特に制限はなく、金属繊維、炭素繊維、化学繊維に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなる繊維等を例示できる。
　電磁波シールド材２００を構成する導電性の繊維の太さは、電気配線４０から発生する電磁波を遮蔽することができれば、特に制限はない。
　電磁波シールド材２００の編組密度（単位長さ当たりの糸打ち込み本数、単位長さ当たりのコース数・ウェール数）は、電気配線４０から発生する電磁波を遮蔽することができれば、特に制限はない。
　電磁波シールド材２００を構成する導電性の線材は、導電性の材料からなるものであれば、特に制限はなく、金属製の線材、炭素製の線材、プラスチック製の線材に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなる線材等を例示できる。
　電磁波シールド材２００を構成する金属線の太さは、電気配線４０から発生する電磁波を遮蔽することができれば、特に制限はないが、例えば、０．０４ｍｍ～０．２ｍｍであることが好ましい。
　第１の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａの外周および第２の電気配線４０Ｂの外周を筒状の編物または織物からなる電磁波シールド材２００で覆っているため、プラズマ照射装置１００を用いた作業中に、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂから電磁波が発生することを抑えられる。また、第１の変形例にあっては、電気配線４０を、可撓性の電磁波シールド材２００で覆っているため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。また、第１の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂを、個別に筒状の編物または織物からなる電磁波シールド材２００で覆うことにより、電磁波シールド材２００の外径が小さく抑えられて、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂが曲がりやすくなり、使用者の作業性が向上する。
　図６に示す第２の変形例のように、電磁波シールド材３００は、導電性の線材３０１を同心円状かつ螺旋状に巻き回してなるコイルチューブであってもよい。図６に示す第２の変形例では、２つの電気配線４０を纏めて、それらの外周をコイルチューブからなる電磁波シールド材３００で覆ってもよいが、２つの電気配線４０の外周を個別にコイルチューブからなる電磁波シールド材３００で覆うことが好ましい。すなわち、第１の電気配線４０Ａの外周をコイルチューブからなる第１の電磁波シールド材３００Ａで覆い、第２の電気配線４０Ｂの外周をコイルチューブからなる第２の電磁波シールド材３００Ｂで覆うことが好ましい。コイルチューブからなる電磁波シールド材３００は、線材３０１同士が隙間なく密接しているものの、線材３０１同士がずれやすくなっているため、可撓性を有する。
　電磁波シールド材３００を構成する導電性の線材３０１は、導電性の材料からなるものであれば、特に制限はなく、金属製の線材、炭素製の線材、プラスチック製の線材に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなる線材等を例示できる。
　電磁波シールド材３００を構成する導電性の線材３０１の太さは、電気配線４０から発生する電磁波を遮蔽することができれば、特に制限はない。
　第２の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａの外周および第２の電気配線４０Ｂの外周をコイルチューブからなる電磁波シールド材３００で覆っているため、プラズマ照射装置１００を用いた作業中に、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂから電磁波が発生することを抑えられる。また、第２の変形例にあっては、電気配線４０を、可撓性の電磁波シールド材３００で覆っているため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。また、第２の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂを、個別にコイルチューブからなる電磁波シールド材３００で覆うことにより、電磁波シールド材３００の外径が小さく抑えられて、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂが曲がりやすくなり、使用者の作業性が向上する。
　図７および図８に示す第３の変形例のように、電磁波シールド材４００は、導電性の線材４１０を同心円状かつ螺旋状に巻き回してなるコイルチューブであってもよい。図７および図８に示す第３の変形例では、２つの電気配線４０を纏めて、それらの外周をコイルチューブからなる電磁波シールド材４００で覆ってもよいが、２つの電気配線４０の外周を個別にコイルチューブからなる電磁波シールド材４００で覆うことが好ましい。すなわち、第１の電気配線４０Ａの外周をコイルチューブからなる第１の電磁波シールド材４００Ａで覆い、第２の電気配線４０Ｂの外周をコイルチューブからなる第２の電磁波シールド材４００Ｂで覆うことが好ましい。コイルチューブからなる電磁波シールド材４００は、線材４１０同士が隙間なく密接しているものの、線材４１０同士がずれやすくなっているため、可撓性を有する。
　線材４１０は、電気配線４０の表面（外周面）４０ａを基準とする厚さが大きい第１の部位４１１と、電気配線４０の表面（外周面）４０ａを基準とする厚さが小さい第２の部位４１２と、を有する。
　第２の部位４１２の一端部（第１の部位４１１とは反対側の端部）は、線材４１０の厚さ方向に突出する係合凸部４１２ａをなしている。
　第１の部位４１１の一端部（第２の部位４１２側の端部）の内側には、第２の部位４１２の係合凸部４１２ａを係合する係合凹部４１１ａが設けられている。
　隣接する線材４１０同士において、第２の部位４１２の係合凸部４１２ａを、第１の部位４１１の係合凹部４１１ａに係合することにより、線材４１０同士が隙間なく密接している。また、線材４１０において、第１の部位４１１よりも厚さが小さい第２の部位４１２を設けて、第２の部位４１２を介して、隣接する線材４１０同士を接合することにより、電磁波シールド材４００は、第２の部位４１２において、曲がりやすくなる。
　また、第２の部位４１２は厚さが小さいため、第１の部位４１１よりも電磁波の遮蔽性が劣ることが懸念される場合には、第２の部位４１２を電磁波の遮蔽性に優れる材料で形成してもよい。
　電磁波シールド材４００を構成する導電性の線材４１０は、導電性の材料からなるものであれば、特に制限はなく、金属製の線材、炭素製の線材、プラスチック製の線材に対して、めっきや真空蒸着等のコーティングにより金属膜を形成してなる線材等を例示できる。
　電磁波シールド材４００を構成する導電性の線材４１０の厚さは、電気配線４０から発生する電磁波を遮蔽することができれば、特に制限はない。
　第３の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａの外周および第２の電気配線４０Ｂの外周をコイルチューブからなる電磁波シールド材４００で覆っているため、プラズマ照射装置１００を用いた作業中に、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂから電磁波が発生することを抑えられる。また、第３の変形例にあっては、電気配線４０を、可撓性の電磁波シールド材４００で覆っているため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。また、第３の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂを、個別にコイルチューブからなる電磁波シールド材４００で覆うことにより、電磁波シールド材４００の外径が小さく抑えられて、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂが曲がりやすくなり、使用者の作業性が向上する。
　図９に示す第４の変形例のように、第１の電気配線４０Ａの外周を第１の電磁波シールド材５０Ａで覆い、第２の電気配線４０Ｂの外周を第２の電磁波シールド材５０Ｂで覆い、さらに、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を、第１の樹脂シース材５００で束ねていることが好ましい。すなわち、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を、それらの外周から第１の樹脂シース材５００で覆うことが好ましい。これにより、図９に示すように、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂとガス管路３０は、それぞれの外周で接している。また、第１の樹脂シース材５００と第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の間に空間５１０を形成していることが好ましい。なお、第１の樹脂シース材５００の内部に形成される全ての空間を「内部空間（大空間）」と言い、第１の樹脂シース材５００と、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の間に形成される空間を「空間（小空間）」と言う。第１の電磁波シールド材５０Ａで覆った第１の電気配線４０Ａ、第２の電磁波シールド材５０Ｂで覆った第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を、第１の樹脂シース材５００で束ねているものの、第１の樹脂シース材５００と第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の間に空間５１０を形成しているため、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０が互いの動きを妨げ難くなっており、第１の樹脂シース材５００で束ねた第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０は、可撓性に優れる。
　第１の樹脂シース材５００の内部空間の全体積１００％に対して、空間５１０の占める体積は３０％～７０％であることが好ましい。空間５１０の占める体積が上記下限値以上であると、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂが曲がりやすくなり、使用者の作業性が向上する。空間５１０の占める体積が上記上限値以下であると、第１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルの外径が大きくなりすぎることも、前記のケーブルの重量が重くなりすぎることもないため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　第１の樹脂シース材５００を構成する樹脂は、絶縁性であれば、特に制限はない。
　第１の樹脂シース材５００の厚さは、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を束ねた状態で、可撓性が損なわなければ、特に制限はない。第１の樹脂シース材５００の厚さは、０．５ｍｍ～２．０ｍｍであることが好ましい。第１の樹脂シース材５００の厚さが上記下限値以上であると、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂの美観を保つことができるとともに、第１の樹脂シース材５００の耐久性に優れる。第１の樹脂シース材５００の厚さが上記上限値以下であると、第１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルの重量が重くなりすぎることがないため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　第４の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａの外周および第２の電気配線４０Ｂの外周を電磁波シールド材５０で覆っているため、プラズマ照射装置１００を用いた作業中に、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂから電磁波が発生することを抑えられる。また、第４の変形例にあっては、電気配線４０を、可撓性の電磁波シールド材５０で覆っているため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。また、第４の変形例にあっては、第１の電磁波シールド材５０Ａで覆った第１の電気配線４０Ａ、第２の電磁波シールド材５０Ｂで覆った第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を、第１の樹脂シース材５００で束ねているものの、第１の樹脂シース材５００と第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の間に空間５１０を形成しているため、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０が互いの動きを妨げ難くなっており、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　図１０に示す第５の変形例のように、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を電磁波シールド材６００で束ねるようにして覆い、さらに、電磁波シールド材６００を、第１の樹脂シース材５００で覆っていることが好ましい。すなわち、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を、それらの外周から電磁波シールド材６００で覆い、その電磁波シールド材６００を、第１の樹脂シース材５００で覆っていることが好ましい。また、電磁波シールド材６００を介して第１の樹脂シース材５００と第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の間に空間６１０を形成していることが好ましい。第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を、電磁波シールド材６００および第１の樹脂シース材５００で束ねているものの、電磁波シールド材６００と第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の間に空間６１０を形成しているため、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０が互いの動きを妨げ難くなっており、電磁波シールド材６００および第１の樹脂シース材５００で束ねた第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０は、可撓性に優れる。
　第１の樹脂シース材５００の内部空間の全体積１００％に対して、空間６１０の占める体積は３０％～７０％であることが好ましい。空間６１０の占める体積が上記下限値以上であると、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂが曲がりやすくなり、使用者の作業性が向上する。空間６１０の占める体積が上記上限値以下であると、第１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルの外径が大きくなりすぎることも、前記のケーブルの重量が重くなりすぎることもないため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　電磁波シールド材６００としては、電磁波シールド材５０と同様のものを用いることができる。
　第５の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂを電磁波シールド材６００で覆っているため、プラズマ照射装置１００を用いた作業中に、第１の電気配線４０Ａおよび第２の電気配線４０Ｂから電磁波が発生することを抑えられる。また、第５の変形例にあっては、電気配線４０を、可撓性の電磁波シールド材６００および第１の樹脂シース材５００で覆っているため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。また、第５の変形例にあっては、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０を、電磁波シールド材６００および第１の樹脂シース材５００で束ねているものの、電磁波シールド材６００を介して、第１の樹脂シース材５００と第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の間に空間６１０を形成しているため、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０が互いの動きを妨げ難くなっており、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　図１１に示す第６の変形例のように、第１の電磁波シールド材５０Ａと第１の樹脂シース材５００の内部空間（空間５１０）との間に第２の樹脂シース材５２０を有していることが好ましい。また、第２の電磁波シールド材５０Ｂと第１の樹脂シース材５００の内部空間（空間５１０）との間に第２の樹脂シース材５３０を有していることが好ましい。すなわち、図１１に示すように、第１の電気配線４０Ａを覆う第１の電磁波シールド材５０Ａの外周を、さらに、第２の樹脂シース材５２０で覆っていてもよい。また、第２の電気配線４０Ｂを覆う第２の電磁波シールド材５０Ｂの外周を、さらに、第２の樹脂シース材５３０で覆っていてもよい。これにより、第１の電磁波シールド材５０Ａと第２の電磁波シールド材５０Ｂが擦れ合って、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂの耐久性が低下することを防止できる。
　第２の樹脂シース材５２０，５３０の厚さは、０．１ｍｍ～０．５ｍｍであることが好ましい。第２の樹脂シース材５２０，５３０の厚さが上記下限値以上であると、第２の樹脂シース材５２０，５３０の耐久性に優れる。第２の樹脂シース材５２０，５３０の厚さが上記上限値以下であると、第２の樹脂シース材５２０，５３０で覆われた第１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルの重量が重くなりすぎることがないため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　図１２に示す第７の変形例のように、電磁波シールド材６００と第１の樹脂シース材５００の内部空間（空間６１０）との間に第２の樹脂シース材５４０を有していてもよい。すなわち、図１２に示すように、電磁波シールド材６００の内周を、さらに、第２の樹脂シース材５４０で覆っていてもよい。これにより、第１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルを屈曲させた後も、電磁波シールド材６００の形状が元通りに復元するため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　第２の樹脂シース材５４０の厚さは、０．５ｍｍ～２．０ｍｍであることが好ましい。第２の樹脂シース材５４０の厚さが上記下限値以上であると、第２の樹脂シース材５４０の耐久性に優れ、電磁波シールド材６００の形状が元通りに復元し易くなる。第２の樹脂シース材５４０の厚さが上記上限値以下であると、第２の樹脂シース材５４０で覆われた第１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルの重量が重くなりすぎることがないため、照射器具１０の操作性が損なわれることを防止できる。
　図１３に示す第８の変形例のように、第２の樹脂シース材５２０における第１の電磁波シールド材５０Ａとは反対側の面、および第２の樹脂シース材５３０における第２の電磁波シールド材５０Ｂとは反対側の面に潤滑剤７００がコーティングされていることが好ましい。また、ガス管路３０の外周に潤滑剤７００がコーティングされていることが好ましい。この潤滑剤７００により、第１の樹脂シース材５００内において、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂとが動きやすくなる。その結果、１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルは、可撓性に優れる。
　図１４に示す第９の変形例のように、第２の樹脂シース材５４０における電磁波シールド材６００とは反対側の面に潤滑剤７００がコーティングされていることが好ましい。また、第１の電気配線４０Ａ、第２の電気配線４０Ｂおよびガス管路３０の外周に潤滑剤７００がコーティングされていることが好ましい。この潤滑剤７００により、第１の樹脂シース材５００内において、第１の電気配線４０Ａと第２の電気配線４０Ｂとが動きやすくなる。その結果、１の電気配線４０Ａ第２の電気配線４０Ｂおよび第１の樹脂シース材５００を含むケーブルは、可撓性に優れる。
　操作スイッチ９が、上記の実施形態と異なっていてもよい。例えば、照射器具１０に操作スイッチ９を設けることに代えて、供給ユニット２０に足踏みペダルを設けてもよい。
　この場合、足踏みペダルを操作部とし、例えば使用者が足踏みペダルを踏んだときに、供給源８０からプラズマ発生用ガスをプラズマ発生部１２に供給する構成を採用すること等ができる。
　上述の本実施形態の内部電極４の形状は、ねじ状である。しかしながら、内部電極は、外部電極との間にプラズマを発生できれば、内部電極の形状は限定されない。
　内部電極は、表面に凹凸を有してもよいし、表面に凹凸を有していなくてもよい。内部電極としては、外周面に凹凸を有する形状が好ましい。
　例えば、内部電極の形状は、コイル状でもよいし、外周面に突起、穴、貫通孔が複数形成された棒形状または筒形状でもよい。内部電極の断面形状は、特に限定されず、例えば、真円形、楕円形等の円形、四角形、六角形等の多角形を例示できる。
　その他、本発明の趣旨に逸脱しない範囲で、前記実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、前記した変形例を適宜組み合わせてもよい。
　本発明のプラズマ照射装置は、口腔内の治療、歯科の治療、動物の治療等の用途に有用である。活性ガスの照射によって処理可能な疾患および症状としては、例えば、歯肉炎、歯周病等の口腔内の疾患、皮膚の創傷等を例示できる。
　本発明の治療方法は、生体組織の治癒促進に有効である。本発明の治療方法は、ヒトのみならず、ヒトを除く動物の治療にも有効である。
１　ノズル
１０　照射器具
１２　プラズマ発生部
２０　供給ユニット
４０　電気配線
５０，２００，３００，４００，６００　電磁波シールド材
６０　給電部
９０　制御部
１００　プラズマ照射装置
５００　第１の樹脂シース材
５１０，６１０　空間
５２０，５３０，５４０　第２の樹脂シース材
７００　充填剤

Claims (10)

  1. 　プラズマ発生部を有し、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマおよび前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出する照射器具と、
    　前記プラズマ発生部を制御する制御部を有する供給ユニットと、
    　前記照射器具と前記供給ユニットを電気的に接続する電気配線と、
    　前記照射器具、前記供給ユニットおよび前記電気配線の外周をそれぞれ覆う電磁波シールド材と、を備え、
    　前記電気配線の外周を覆う電磁波シールド材は可撓性を有するプラズマ照射装置。
  2. 　前記電気配線を２本以上備え、該２本以上の電気配線の外周が個別に前記電磁波シールド材で覆われている請求項１に記載のプラズマ照射装置。
  3. 　前記電磁波シールド材は、導電性の繊維または導電性の線材からなる筒状の編物または織物である請求項１または２に記載のプラズマ照射装置。
  4. 　前記電気配線は、前記電磁波シールド材の上に第１の樹脂シース材を有し、前記照射器具と前記供給ユニットを接続する全ての前記電気配線が前記第１の樹脂シース材で束ねられている請求項２または３に記載のプラズマ照射装置。
  5. 　前記第１の樹脂シース材の厚さが０．５ｍｍ～２．０ｍｍである請求項４に記載のプラズマ照射装置。
  6. 　前記第１の樹脂シース材と前記電気配線の間に空間を有する請求項４または５に記載のプラズマ照射装置。
  7. 　前記第１の樹脂シース材の内部空間の全体積１００％に対して、前記空間の占める体積が３０％～７０％である請求項６に記載のプラズマ照射装置。
  8. 　前記電磁波シールド材と前記第１の樹脂シース材の内部空間との間に第２の樹脂シース材を有する請求項４～７のいずれか１項に記載のプラズマ照射装置。
  9. 　前記第２の樹脂シース材の厚さが０．１ｍｍ～２．０ｍｍである請求項８に記載のプラズマ照射装置。
  10. 　前記第２の樹脂シース材における前記電磁波シールド材とは反対側の面に潤滑剤がコーティングされている請求項８または９に記載のプラズマ照射装置。
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