WO2019188652A1 - 感光性組成物 - Google Patents

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    • H10F39/10—Integrated devices
    • H10F39/12—Image sensors

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive composition for pulse exposure. More specifically, the present invention relates to a photosensitive composition for pulse exposure used for a solid-state imaging device, a color filter and the like.
  • a color filter or the like has been produced using a photosensitive composition containing a radical polymerizable compound and a photo radical polymerization initiator (see Patent Documents 1 and 2).
  • the inventor has intensively studied a photosensitive composition containing a radical polymerizable compound and a radical photopolymerization initiator. By exposing the photosensitive composition to pulse exposure, curability is good, and a mask is obtained.
  • the present inventors have found that it is easy to form a good pattern along the opening shape. Further, as a result of further investigation by the present inventors, in the case of pulse exposure, the line width of the pattern obtained even when the exposure amount is changed is less likely to be thicker or thinner than the opening size of the mask. It has been found that it is easy to form a good pattern along the opening shape of the mask. For this reason, it is easy to form a pattern with a desired line width by changing the opening size of the mask.
  • the line width of the pattern obtained by adjusting the formulation of the composition is made thicker or thinner than the opening size of the mask without changing the opening size of the mask.
  • an object of the present invention is to provide a photosensitive composition for pulse exposure that can adjust the line width of the pattern obtained without changing the opening size of the mask.
  • the present invention provides the following. ⁇ 1> a radical polymerizable compound; A radical photopolymerization initiator; At least one selected from chain transfer agents and radical trapping agents; A photosensitive composition for pulse exposure, comprising: ⁇ 2> The photosensitive composition according to ⁇ 1>, further including a coloring material.
  • ⁇ 3> The photosensitive composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the chain transfer agent is at least one selected from a dimer of a thiol compound, a thiocarbonylthio compound, and an aromatic ⁇ -methylalkenyl.
  • the radical trapping agent is at least one selected from a hindered phenol compound, a hindered amine compound, an N-oxyl compound, a hydrazyl compound, and a ferdazyl compound.
  • ⁇ 5> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the content of the chain transfer agent in the total solid content of the photosensitive composition is 0.01 to 10% by mass.
  • ⁇ 6> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, comprising 0.1 to 100 parts by mass of a chain transfer agent with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound.
  • ⁇ 7> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, comprising 0.2 to 200 parts by mass of a chain transfer agent with respect to 100 parts by mass of the radical photopolymerization initiator.
  • ⁇ 8> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the content of the radical trapping agent in the total solid content of the photosensitive composition is 0.01 to 10% by mass.
  • the photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8> comprising 0.1 to 100 parts by mass of a radical trapping agent with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound.
  • the photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9> comprising 0.2 to 200 parts by mass of a radical trapping agent with respect to 100 parts by mass of the photoradical polymerization initiator.
  • the photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10> comprising a resin having an acid group.
  • the photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11> which is a photosensitive composition for pulse exposure with light having a wavelength of 300 nm or less.
  • the photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12> which is a photosensitive composition for pulse exposure under conditions of a maximum instantaneous illuminance of 50000000 W / m 2 or more.
  • ⁇ 15> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>, which is a photosensitive composition for a color filter.
  • a photosensitive composition for pulse exposure that can adjust the line width of an obtained pattern without changing the opening size of the mask.
  • ⁇ is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • the notation in which neither substitution nor substitution is described includes a group (atomic group) having a substituent together with a group (atomic group) having no substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • (meth) acrylate represents both and / or acrylate and methacrylate
  • (meth) acryl represents both and / or acrylic and “(meth) acrylic”.
  • "Acryloyl” represents both and / or acryloyl and methacryloyl.
  • a weight average molecular weight and a number average molecular weight are the polystyrene conversion values measured by GPC (gel permeation chromatography) method.
  • infrared refers to light having a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • the total solid content refers to the total mass of components obtained by removing the solvent from all components of the composition.
  • the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended action of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • the photosensitive composition of the present invention is a photosensitive composition for pulse exposure containing a radical polymerizable compound, a photo radical polymerization initiator, and at least one selected from a chain transfer agent and a radical trap agent. It is characterized by that.
  • the photosensitive composition of the present invention is a photosensitive composition for pulse exposure.
  • radicals are removed from components such as a photoradical polymerization initiator in the exposed portion.
  • a large amount can be generated instantaneously.
  • the radically polymerizable monomer can be efficiently cured by the effect that, for example, a large amount of radicals are instantaneously generated in the exposed portion, thereby suppressing the deactivation due to oxygen.
  • the photosensitive composition of this invention is excellent in sclerosis
  • the pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeatedly irradiating and pausing light in a short cycle (for example, a millisecond level or less).
  • the line width of the resulting pattern can be adjusted. That is, by including a radical trapping agent in the photosensitive composition of the present invention, the line width of the resulting pattern can be reduced, and by increasing the amount of the radical trapping agent, the line width of the resulting pattern can be increased. Can be made thinner. Moreover, by including a chain transfer agent in the photosensitive composition of the present invention, the line width of the resulting pattern can be increased, and by increasing the blending amount of the chain transfer agent, the line width of the obtained pattern can be increased. Can be fattened.
  • the blending amount of the photo radical polymerization initiator is adjusted.
  • the line width of the pattern has been conventionally adjusted, but when the photosensitive composition is pulse-exposed, the amount of the radical photopolymerization initiator is reduced as shown in the examples below, Increasing the number has little effect on the line width of the pattern obtained.
  • the photosensitive composition of the present invention is a photosensitive composition for pulse exposure.
  • the light used for exposure may be light having a wavelength exceeding 300 nm or may be light having a wavelength of 300 nm or less.
  • the light having a wavelength of 300 nm or less is preferable, light having a wavelength of 270 nm or less is more preferable, and light having a wavelength of 250 nm or less is still more preferable because excellent curability is easily obtained.
  • the above-described light is preferably light having a wavelength of 180 nm or more. Specific examples include KrF rays (wavelength 248 nm), ArF rays (wavelength 193 nm), and KrF rays (wavelength 248 nm) are preferred for the reason that better curability is easily obtained.
  • the exposure conditions for pulse exposure are preferably the following conditions.
  • the pulse width is preferably 100 nanoseconds (ns) or less, more preferably 50 nanoseconds or less, and further preferably 30 nanoseconds or less, because it is easy to generate a large amount of radicals instantaneously.
  • the lower limit of the pulse width is not particularly limited, but can be 1 femtosecond (fs) or more, and can be 10 femtoseconds or more.
  • the frequency is preferably 1 kHz or more, more preferably 2 kHz or more, and further preferably 4 kHz or more.
  • the upper limit of the frequency is preferably 50 kHz or less, more preferably 20 kHz or less, and even more preferably 10 kHz or less because it is easy to suppress deformation of the substrate or the like due to exposure heat.
  • Maximum instantaneous intensity is preferably from the viewpoint of curability is 50000000W / m 2 or more, more preferably 100000000W / m 2 or more, more preferably 200000000W / m 2 or more.
  • the upper limit of the maximum instantaneous intensity is preferably high intensity reciprocity law failure is the perspective from 1000000000W / m 2 or less inhibition, more preferably 800000000W / m 2 or less, further preferably 500000000W / m 2 or less .
  • the pulse width is the length of time during which light is irradiated in the pulse period.
  • the frequency is the number of pulse periods per second.
  • the maximum instantaneous illuminance is the average illuminance within the time during which light is irradiated in the pulse period.
  • the pulse period is a period in which light irradiation and pause in pulse exposure are one cycle.
  • the photosensitive composition of the present invention is preferably used as a composition for forming color filters, light-shielding films, infrared transmission filters and the like.
  • the color filter include a filter having a colored pixel that transmits light of a specific wavelength, and at least one colored pixel selected from a red pixel, a blue pixel, a green pixel, a yellow pixel, a cyan pixel, and a magenta pixel. It is preferable that the filter has
  • the infrared transmission filter is a filter that transmits at least part of infrared rays.
  • the infrared transmission filter has a maximum transmittance of 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less) in the wavelength range of 400 to 640 nm, and the minimum transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm. Examples thereof include a filter that satisfies the spectral characteristics having a value of 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the infrared transmission filter is preferably a filter that satisfies any of the following spectral characteristics (1) to (4).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 640 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 800 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 900 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1000 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the photosensitive composition of the present invention When the photosensitive composition of the present invention is used as a composition for an infrared transmission filter, the photosensitive composition of the present invention has a minimum absorbance Amin in the wavelength range of 400 to 640 nm and an absorbance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm. It is preferable that Amin / Bmax, which is a ratio with respect to the maximum value Bmax, satisfies a spectral characteristic of 5 or more. Amin / Bmax is more preferably 7.5 or more, further preferably 15 or more, and particularly preferably 30 or more.
  • the absorbance A ⁇ at a certain wavelength ⁇ is defined by the following equation (1).
  • a ⁇ ⁇ log (T ⁇ / 100) (1)
  • a ⁇ is the absorbance at the wavelength ⁇
  • T ⁇ is the transmittance (%) at the wavelength ⁇ .
  • the absorbance value may be a value measured in a solution state or may be a value in a film formed using a photosensitive composition.
  • the photosensitive composition is applied on a glass substrate by a method such as spin coating so that the film thickness after drying becomes a predetermined thickness, and a hot plate is used. It is preferable to measure using a film prepared by drying at 100 ° C. for 120 seconds.
  • the photosensitive composition of the present invention When the photosensitive composition of the present invention is used as a composition for an infrared transmission filter, it is more preferable that the photosensitive composition of the present invention satisfies any of the following spectral characteristics (11) to (14).
  • Amin2 / Bmax2 which is a ratio of the minimum absorbance Amin2 in the wavelength range of 400 to 750 nm and the maximum absorbance Bmax2 in the wavelength range of 900 to 1300 nm, is 5 or more, and is 7.5 or more Preferably, it is 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to form a film capable of blocking light in the wavelength range of 400 to 750 nm and transmitting light having a wavelength of 850 nm or more.
  • Amin3 / Bmax3 which is a ratio of the minimum absorbance Amin3 in the wavelength range of 400 to 850 nm and the maximum absorbance Bmax3 in the wavelength range of 1000 to 1300 nm, is 5 or more and 7.5 or more Preferably, it is 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to form a film capable of blocking light in the wavelength range of 400 to 850 nm and transmitting light having a wavelength of 940 nm or more.
  • Amin4 / Bmax4 which is a ratio of the minimum absorbance Amin4 in the wavelength range of 400 to 950 nm and the maximum absorbance Bmax4 in the wavelength range of 1100 to 1300 nm, is 5 or more and 7.5 or more Preferably, it is 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to form a film capable of blocking light in the wavelength range of 400 to 950 nm and transmitting light having a wavelength of 1040 nm or more.
  • the photosensitive composition of the present invention can be preferably used as a photosensitive composition for a solid-state imaging device.
  • the photosensitive composition of this invention can be used preferably as a photosensitive composition for color filters. Specifically, it can be preferably used as a photosensitive composition for forming a pixel of a color filter, and can be more preferably used as a photosensitive composition for forming a pixel of a color filter used in a solid-state imaging device.
  • the photosensitive composition of this invention contains a radically polymerizable compound.
  • the radical polymerizable compound include compounds having an ethylenically unsaturated bond group such as vinyl group, allyl group, methallyl group, styrene group, styryl group, (meth) acryloyl group.
  • the radical polymerizable compound may be a monomer (hereinafter also referred to as a radical polymerizable monomer) or a polymer (hereinafter also referred to as a radical polymerizable polymer).
  • the molecular weight of the radical polymerizable monomer is preferably less than 2000, more preferably 1500 or less, and even more preferably 1000 or less.
  • the lower limit is preferably 100 or more, and more preferably 150 or more.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the radical polymerizable polymer is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1000000 or less, and more preferably 500000 or less.
  • the lower limit is preferably 3000 or more, and more preferably 5000 or more.
  • a radically polymerizable polymer can also be used as resin mentioned later.
  • a radical polymerizable monomer and a radical polymerizable polymer may be used in combination as the radical polymerizable compound.
  • the content of the radical polymerizable monomer is preferably 10 to 1000 parts by weight, more preferably 20 to 500 parts by weight, based on 100 parts by weight of the radical polymerizable polymer, More preferably, it is -200 parts by mass.
  • the radical polymerizable monomer is preferably a compound (bifunctional or higher compound) having two or more radical polymerizable groups (preferably ethylenically unsaturated bond groups), and has 2 to 15 radical polymerizable groups. More preferably, it is a compound (2 to 15 functional compound), more preferably a compound having 2 to 10 radical polymerizable groups (2 to 10 functional compound), and 2 to 6 radical polymerizable groups. It is particularly preferable that the compound has two (bi to hexafunctional compounds).
  • the radical polymerizable monomer is preferably a bifunctional or higher functional (meth) acrylate compound, more preferably a 2 to 15 functional (meth) acrylate compound, and more preferably a 2 to 10 functional (meth) acrylate (meth) acrylate compound.
  • Acrylate compounds are more preferred, and bi- to hexafunctional (meth) acrylate compounds are particularly preferred. Specific examples thereof include compounds described in JP-A 2009-288705, paragraph numbers 0095 to 0108, JP-A 2013-29760, paragraph number 0227, and JP-A 2008-292970, paragraphs 0254 to 0257. The contents of which are incorporated herein.
  • the radical polymerizable group value of the radical polymerizable monomer is preferably 1 mmol / g or more, more preferably 6 mmol / g or more, and still more preferably 10 mmol / g or more.
  • the upper limit is preferably 30 mmol / g or less.
  • the radical polymerizable group value of the radical polymerizable monomer was calculated by dividing the number of radical polymerizable groups contained in one molecule of the radical polymerizable monomer by the molecular weight of the polymerizable monomer.
  • radical polymerizable monomer having a fluorene skeleton it is also preferable to use a radical polymerizable monomer having a fluorene skeleton as the radical polymerizable monomer.
  • a radically polymerizable monomer having a fluorene skeleton undergoes self-reactions such as reaction of radically polymerizable groups within the same molecule even when a large amount of radicals are instantaneously generated from a photoradical polymerization initiator by pulse exposure.
  • the radically polymerizable monomer can be efficiently cured by pulse exposure to form a film having a high crosslink density.
  • the radical polymerizable monomer having a fluorene skeleton is preferably a compound having a partial structure represented by the formula (Fr). Further, the radical polymerizable monomer having a fluorene skeleton is preferably a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups, more preferably a compound having 2 to 15 ethylenically unsaturated bond groups, A compound having 2 to 10 ethylenically unsaturated bond groups is more preferable, and a compound having 2 to 6 ethylenically unsaturated bond groups is particularly preferable.
  • R f1 and R f2 each independently represent a substituent
  • m and n each independently represent an integer of 0 to 5.
  • m R f1 s may be the same or different from each other, and two R f1s out of m R f1s are bonded to form a ring.
  • n R f2 s may be the same or different from each other, and two R f2s out of n R f2s are bonded to form a ring. Also good.
  • R f1 and R f2 examples include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, —OR f11 , —COR f12 , —COOR f13 , —OCOR f14 , —NR f15 R f16 , —NHCOR f17 , —CONR f18 R f19 , —NHCONR f20 R f21 , —NHCOOR f22 , —SR f23 , —SO 2 R f24 , —SO 2 OR f25 , —NHSO 2 R f26 or —SO 2 NR f27 R f28 may be mentioned.
  • R f11 ⁇ R f28 are each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
  • radical polymerizable monomer having a fluorene skeleton examples include compounds having the following structure.
  • examples of commercially available radical polymerizable monomers having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200, EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., (meth) acrylate monomers having a fluorene skeleton).
  • radical polymerizable monomer compounds represented by the following formulas (MO-1) to (MO-6) can also be preferably used.
  • T is an oxyalkylene group
  • the terminal on the carbon atom side is bonded to R.
  • n is 0 to 14, and m is 1 to 8.
  • a plurality of R and T present in one molecule may be the same or different.
  • at least one of a plurality of R is —OC ( ⁇ O) CH ⁇ CH 2 , —OC ( ⁇ O).
  • C (CH 3 ) ⁇ CH 2 , —NHC ( ⁇ O) CH ⁇ CH 2 or —NHC ( ⁇ O) C (CH 3 ) ⁇ CH 2 is represented.
  • Specific examples of the compounds represented by the above formulas (MO-1) to (MO-6) include compounds described in paragraphs 0248 to 0251 of JP-A No. 2007-267979.
  • the compound having a caprolactone structure is preferably a compound represented by the following formula (Z-1).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • m represents a number of 1 or 2
  • “*” represents a bond.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • “*” represents a bond
  • radical polymerizable monomer a compound represented by the formula (Z-4) or (Z-5) can also be used.
  • each E independently represents — ((CH 2 ) y CH 2 O) — or — ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O) —.
  • Each represents independently an integer of 0 to 10
  • each X independently represents a (meth) acryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.
  • the total number of (meth) acryloyl groups is 3 or 4
  • each m independently represents an integer of 0 to 10
  • the total of each m is an integer of 0 to 40.
  • the total number of (meth) acryloyl groups is 5 or 6
  • each n independently represents an integer of 0 to 10, and the total of each n is an integer of 0 to 60.
  • m is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
  • the total of each m is preferably an integer of 2 to 40, more preferably an integer of 2 to 16, and particularly preferably an integer of 4 to 8.
  • n is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
  • the total of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.
  • — ((CH 2 ) y CH 2 O) — or — ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O) — represents an oxygen atom side.
  • a form in which the terminal of X is bonded to X is preferred.
  • Radical polymerizable monomers include compounds described in JP-A-2017-48367, JP-A-6057891, JP-A-6031807, compounds described in JP-A-2017-194462, 8UH-1006, It is also preferable to use 8UH-1012 (above, Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), or the like.
  • radical polymerizable polymer examples include a resin containing a repeating unit having a radical polymerizable group.
  • Examples of the repeating unit having a radical polymerizable group include the following (A2-1) to (A2-4).
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • L 51 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO—, —SO 2 —, —NR 10 — (R 10 represents a hydrogen atom or Represents an alkyl group, preferably a hydrogen atom), or a group consisting of a combination thereof.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • the alkylene group may have a substituent, but is preferably unsubstituted.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic. Further, the cyclic alkylene group may be monocyclic or polycyclic.
  • the number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and still more preferably 6 to 10.
  • P 1 represents a radical polymerizable group.
  • the radical polymerizable group include an ethylenically unsaturated bond group such as vinyl group, allyl group, methallyl group, styrene group, styryl group, and (meth) acryloyl group.
  • the radical polymerizable group value of the polymerizable polymer is preferably 0.5 to 3 mmol / g.
  • the upper limit is preferably 2.5 mmol / g or less, and more preferably 2 mmol / g or less.
  • the lower limit is preferably 0.9 mmol / g or more, and more preferably 1.2 mmol / g or more.
  • the radical polymerizable group value of the radical polymerizable polymer is a numerical value representing the molar amount of the radical polymerizable group value per 1 g of the solid content of the radical polymerizable polymer.
  • the C ⁇ C value of the radical polymerizable polymer is preferably 0.6 to 2.8 mmol / g.
  • the upper limit is preferably 2.3 mmol / g or less, and more preferably 1.8 mmol / g or less.
  • the lower limit is preferably 1.0 mmol / g or more, and more preferably 1.3 mmol / g or more.
  • the radical polymerizable polymer includes a repeating unit having an acid group.
  • a polymer can be used as an alkali-soluble resin.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphate group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group, and a carboxyl group is preferable.
  • the acid value of the radical polymerizable polymer is preferably 30 to 200 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH / g or more, more preferably 70 mgKOH / g or more, and still more preferably 100 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 180 mgKOH / g or less, and more preferably 150 mgKOH / g or less.
  • radical polymerizable polymer examples include resins having the following structure.
  • Me represents a methyl group.
  • the content of the radical polymerizable compound in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and further preferably 15% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and still more preferably 8% by mass or more from the viewpoint of curability.
  • the content of the radical polymerizable monomer in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, because it is easy to suppress pattern thickening. More preferably, it is at most mass%.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and still more preferably 5% by mass or more from the viewpoint of curability.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a radical photopolymerization initiator.
  • the radical photopolymerization initiator is preferably a compound that generates radicals in response to light having a wavelength of 300 nm or less.
  • the radical photopolymerization initiator is also preferably a compound that easily absorbs two photons. Two-photon absorption is an excitation process that simultaneously absorbs two photons.
  • the photo radical polymerization initiator is preferably at least one compound selected from alkylphenone compounds, acylphosphine compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, triazine compounds, and oxime compounds, and more preferably oxime compounds.
  • alkylphenone compounds include benzyl dimethyl ketal compounds, ⁇ -hydroxyalkylphenone compounds, ⁇ -aminoalkylphenone compounds, and the like.
  • Examples of the benzyldimethyl ketal compound include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone.
  • Examples of commercially available products include IRGACURE-651 (manufactured by BASF).
  • ⁇ -Hydroxyalkylphenone compounds include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl ] -2-Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl ⁇ -2-methyl -Propan-1-one and the like.
  • Examples of commercially available ⁇ -hydroxyalkylphenone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (above, manufactured by BASF).
  • Examples of ⁇ -aminoalkylphenone compounds include 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) Examples include -1-butanone, 2-dimethylamino-2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone, and the like. Examples of commercially available ⁇ -aminoalkylphenone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (manufactured by BASF).
  • acylphosphine compound examples include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide.
  • examples of commercially available acylphosphine compounds include IRGACURE-819 and IRGACURE-TPO (above, manufactured by BASF).
  • benzophenone compounds include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone 2,4,6-trimethylbenzophenone and the like.
  • thioxanthone compound examples include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone and the like.
  • triazine compounds examples include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl)- 1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis ( Trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-
  • Examples of the oxime compound include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A No. 2000-80068, compounds described in JP-A No. 2006-342166, J.P. C. S. Perkin II (1979, pp.1653-1660), J.M. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp. 156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp. 202-232), compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-66385, Compounds described in JP-A No. 2000-80068, compounds described in JP-T No. 2004-534797, compounds described in JP-A No.
  • oxime compound examples include, for example, 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3- ON, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, and 2-ethoxy And carbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.
  • oxime compounds include IRGACURE-OXE01, IRGACURE-OXE02, IRGACURE-OXE03, IRGACURE-OXE04 (above, manufactured by BASF), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Power Electronic New Materials Co., Ltd.), Adekaoptomer N-1919 (manufactured by ADEKA Corporation, photopolymerization initiator 2 described in JP 2012-14052 A).
  • Examples of commercially available products include Adeka Arcles NCI-730, NCI-831, and NCI-930 (above, manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466. This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP 2010-262028 A, compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A 2013-164471. Compound (C-3). This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the oxime compound.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A, paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP2014-137466A, Examples include compounds described in paragraph Nos. 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, Adeka Arcles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. WO2015 / 036910.
  • oxime compounds that are preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photo radical polymerization initiator may be used as the photo radical polymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered and the solubility in a solvent is improved, so that it is difficult to precipitate over time, and the temporal stability of the photosensitive composition can be improved. it can.
  • bifunctional or trifunctional or higher functional photopolymerization initiators are disclosed in JP 2010-527339 A, JP 2011-524436 A, International Publication WO 2015/004565, and JP 2016-532675 A.
  • a pinacol compound can also be used as a radical photopolymerization initiator.
  • the pinacol compound include benzopinacol, 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-diethoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-diphenoxy- 1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetra (4-methylphenyl) ethane, 1,2-diphenoxy-1,1,2,2-tetra (4-methoxyphenyl) ethane, 1,2-bis (trimethylsiloxy) -1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-bis (triethylsiloxy) -1,1,2,2-tetraphenyl Ethane, 1,2-bis (t-butyldimethylsiloxy) -1,1,2,2-tetraphenylethane, 1-hydroxy-2-trimethylsiloxy-1,1,2,2-tetraphen
  • radical photopolymerization initiator b1 which satisfy
  • Condition 1 A propylene glycol monomethyl ether acetate solution containing 0.035 mmol / L of radical photopolymerization initiator b1 is irradiated with light having a wavelength of 355 nm under conditions of a maximum instantaneous illuminance of 375000000 W / m 2 , a pulse width of 8 nanoseconds, and a frequency of 10 Hz.
  • the quantum yield q 355 after pulse exposure is 0.05 or more.
  • the quantum yield q 355 of the radical photopolymerization initiator b1 is preferably 0.10 or more, more preferably 0.15 or more, still more preferably 0.25 or more, and 0.35 or more. Is even more preferable, and is particularly preferably 0.45 or more.
  • the quantum yield q 355 of the photoradical polymerization initiator b1 is the number of decomposed molecules of the photoradical polymerization initiator b1 after the pulse exposure under the condition 1 described above, and the absorption of the photoradical polymerization initiator b1. It is a value obtained by dividing by the number of photons.
  • the number of absorbed photons the number of irradiated photons is obtained from the exposure time in pulse exposure under the above condition 1, the average of the absorbance at 355 nm before and after exposure is converted into transmittance, and the number of irradiated photons is (1-transmitted). The number of absorbed photons was obtained by multiplying the rate.
  • the decomposition rate of the photo radical polymerization initiator b1 is obtained from the absorbance of the photo radical polymerization initiator b1 after exposure, and the number of decomposing molecules is obtained by multiplying the decomposition rate by the number of existing molecules of the photo radical polymerization initiator b1. Asked. Moreover, about the light absorbency of radical photopolymerization initiator b1, the propylene glycol monomethyl ether acetate solution containing 0.035 mmol / L radical photopolymerization initiator b1 is put into an optical cell of 1 cm ⁇ 1 cm ⁇ 4 cm, and a spectrophotometer is used. Can be measured.
  • HP8453 made from Agilent can be used, for example.
  • the radical photopolymerization initiator b1 that satisfies the above condition 1 include IRGACURE-OXE01, OXE02, OXE03 (above, manufactured by BASF).
  • a compound having the following structure can also be preferably used as the photoradical polymerization initiator b1 that satisfies the above-mentioned condition 1.
  • IRGACURE-OXE01 and OXE02 are preferably used from the viewpoint of adhesion. From the viewpoint of curability, a compound represented by the following formula (I3) is preferably used.
  • the radical photopolymerization initiator b1 preferably further satisfies the following condition 2.
  • Condition 2 a light having a wavelength of 265 nm, a maximum instantaneous illuminance of 375000000 W / m 2 , a pulse width of 8 nanoseconds, with respect to a 1.0 ⁇ m-thick film containing 5% by mass of a radical photopolymerization initiator b1 and 95% by mass of a resin,
  • the quantum yield q 265 after pulse exposure under the condition of a frequency of 10 Hz is 0.05 or more.
  • the quantum yield q 265 of the radical photopolymerization initiator b1 is preferably 0.10 or more, more preferably 0.15 or more, and further preferably 0.20 or more.
  • the quantum yield q 265 of the photoradical polymerization initiator b1 is the number of decomposed molecules of the photoradical polymerization initiator b1 per 1 cm 2 of the film after pulse exposure under the condition 2 above. It is a value obtained by dividing by the number of absorbed photons of the polymerization initiator b1.
  • the number of absorbed photons the number of irradiated photons is obtained from the exposure time in the pulse exposure under the above condition 2, and the number of absorbed photons is obtained by multiplying the number of irradiated photons per 1 cm 2 of the film by (1-transmittance). It was.
  • the decomposition rate of the photoradical polymerization initiator b1 is obtained from the change in absorbance of the film before and after exposure, and the decomposition of the photoradical polymerization initiator b1 is performed. It was calculated by multiplying the rate by the number of existing molecules of the photoradical polymerization initiator b1 in the film per cm 2 .
  • the radical photopolymerization initiator b1 used in the present invention preferably satisfies the following condition 3.
  • Condition 3 a light having a wavelength in the range of 248 to 365 nm is irradiated with light having a maximum instantaneous illuminance of 625000000 W / m 2 , a pulse width of 8 nanoseconds, with respect to a film containing 5% by weight of the radical photopolymerization initiator b1 and a resin. After exposing one pulse under the condition of a frequency of 10 Hz, the radical concentration in the film reaches 0.000000001 mmol or more per cm 2 of film.
  • the radical concentration in the film under the above condition 3 preferably reaches 0.000000005 mmol or more per 1 cm 2 of film, more preferably reaches 0.00000001 mmol or more, still more preferably reaches 0.00000003 mmol or more. It is particularly preferable to reach 0000001 mmol or more.
  • the radical concentration in the film described above is obtained by multiplying the quantum yield of the initiator b1 in the light of the measured wavelength by (1 ⁇ film transmittance), and the decomposition rate per incident photon number. And the concentration of the photoradical polymerization initiator b1 that decomposes per 1 cm 2 of the film is calculated from “mol number of photons per pulse” ⁇ “decomposition rate of the initiator b1 per number of incident photons”. It was. In calculating the radical concentration, it is a value calculated on the assumption that all the photoradical polymerization initiator b1 decomposed by light irradiation becomes a radical (reacts on the way and does not disappear).
  • the resin used in the measurement under the above conditions 2 and 3 is not particularly limited as long as it is compatible with the radical photopolymerization initiator b1.
  • a resin (A) having the following structure is preferably used.
  • the numerical value attached to the repeating unit is a molar ratio, the weight average molecular weight is 40000, and the dispersity (Mn / Mw) is 5.0.
  • the photo radical polymerization initiator b1 is preferably an alkylphenone compound and an oxime compound, more preferably an oxime compound, because radicals are easily generated instantaneously in large quantities by pulse exposure.
  • the radical photopolymerization initiator b1 is preferably a compound that can easily absorb two-photons. Two-photon absorption is an excitation process that simultaneously absorbs two photons.
  • the radical photopolymerization initiator used in the present invention may be only one kind or may contain two or more kinds of radical photopolymerization initiators.
  • each radical photopolymerization initiator may be the radical photopolymerization initiator b1 that satisfies the condition 1 described above.
  • fill the conditions 1 mentioned above may be included respectively.
  • radical photopolymerization initiators contained in the radical photopolymerization initiator are only the radical photopolymerization initiator b1 satisfying the above-mentioned condition 1, it is necessary for curing the radical polymerizable compound by pulse exposure. It is easy to generate an amount of radicals instantaneously.
  • Two or more kinds of radical photopolymerization initiators contained in the radical photopolymerization initiator are each one of radical photopolymerization initiator b1 that satisfies the above-mentioned condition 1 and radical photopolymerization initiator b2 that does not satisfy the above-mentioned condition 1. When more than one species is included, it is easy to suppress desensitization with time due to pulse exposure.
  • the radical photopolymerization initiator used in the present invention preferably contains two or more kinds of radical photopolymerization initiators because the sensitivity can be easily adjusted. Moreover, when the radical photopolymerization initiator used by this invention contains 2 or more types of radical photopolymerization initiators, it is preferable that radical photopolymerization initiator satisfy
  • Condition 1a Light having a wavelength of 355 nm and maximum instantaneous illuminance with respect to a propylene glycol monomethyl ether acetate solution containing 0.035 mmol / L of a mixture in which two or more kinds of radical photopolymerization initiators are mixed in a ratio contained in the photosensitive composition
  • the quantum yield q 355 after pulse exposure under the conditions of 375000000 W / m 2 , pulse width 8 nanoseconds, and frequency 10 Hz is preferably 0.05 or more, more preferably 0.10 or more, and It is still more preferably 15 or more, still more preferably 0.25 or more, still more preferably 0.35 or more, and particularly preferably 0.45 or more.
  • radical photopolymerization initiator used by this invention contains 2 or more types of radical photopolymerization initiators, it is preferable that radical photopolymerization initiator satisfy
  • Condition 2a Light having a wavelength of 265 nm is applied to a film having a thickness of 1.0 ⁇ m containing 5% by mass of a mixture of two or more kinds of photoradical initiators in a ratio contained in the photosensitive composition and 95% by mass of a resin.
  • the quantum yield q 265 after pulse exposure under the conditions of maximum instantaneous illuminance of 375000000 W / m 2 , pulse width of 8 nanoseconds and frequency of 10 Hz is preferably 0.05 or more, more preferably 0.10 or more. Preferably, it is 0.15 or more, more preferably 0.20 or more.
  • radical photopolymerization initiator used by this invention contains 2 or more types of radical photopolymerization initiators, it is preferable that radical photopolymerization initiator satisfy
  • Condition 3a Light having a wavelength in the range of 248 to 365 nm with respect to a film containing 5% by mass of a mixture obtained by mixing two or more kinds of photoradical initiators in a ratio contained in the photosensitive composition and a resin Is preferably exposed to a maximum instantaneous illuminance of 625000000 W / m 2 , a pulse width of 8 nanoseconds, and a frequency of 10 Hz for 0.1 second, and then the radical concentration in the film reaches 0.000000001 mmol or more per 1 cm 2 of film. More preferably, it reaches 0.000000005 mmol or more, more preferably 0.00000001 mmol or more, particularly preferably 0.00000003 mmol or more, and most preferably 0.0000001 mmol or more.
  • the content of the photo radical polymerization initiator in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 7% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and still more preferably 3% by mass or more.
  • the content of the photo radical polymerization initiator is preferably 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound from the viewpoint of curability.
  • the upper limit is preferably 100 parts by mass or less, and more preferably 50 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 20 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass or more.
  • the content of the above-mentioned photo radical polymerization initiator b1 in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 7% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and still more preferably 3% by mass or more.
  • the content of the above-mentioned photo radical polymerization initiator b1 is preferably 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound from the viewpoint of curability.
  • the upper limit is preferably 100 parts by mass or less, and more preferably 50 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 20 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass or more.
  • the photosensitive composition of this invention contains at least 1 sort (s) chosen from a chain transfer agent and a radical trap agent.
  • the line width of the resulting pattern can be reduced by adding a radical trapping agent to the photosensitive composition of the present invention. And the line width of the pattern obtained can be made thinner by increasing the compounding quantity of a radical trap agent. Moreover, by including a chain transfer agent in the photosensitive composition of the present invention, the line width of the resulting pattern can be increased, and by increasing the blending amount of the chain transfer agent, the line width of the obtained pattern can be increased. Can be fattened.
  • chain transfer agent used for the photosensitive composition of this invention.
  • chain transfer agents include thiol compounds, thiocarbonylthio compounds, and aromatic ⁇ -methylalkenyl dimers, and thiol compounds because the line width of the pattern can be easily adjusted even with a small amount. Is preferred.
  • a chain transfer agent is a compound with little coloring.
  • the thiol compound is a compound having one or more thiol groups, and preferably a compound having two or more thiol groups.
  • the upper limit of the number of thiol groups contained in the thiol compound is preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, and particularly preferably 6 or less.
  • the lower limit of the number of thiol groups contained in the thiol compound is preferably 3 or more. It is particularly preferable that the thiol compound is a compound having four thiol groups because the effects of the present invention are more easily obtained.
  • the thiol compound is also preferably a compound derived from a polyfunctional alcohol.
  • the thiol compound is preferably a compound represented by the following formula (SH-1).
  • L 1- (SH) n Formula (SH-1) (In the formula, SH represents a thiol group, L 1 represents an n-valent group, and n represents an integer of 1 or more.)
  • the n-valent group represented by L 1 is a hydrocarbon group, a heterocyclic group, —O—, —S—, —NR—, —CO—, —COO—, —OCO—. , —SO 2 —, or a combination thereof.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom.
  • the hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be cyclic or acyclic.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group.
  • the hydrocarbon group may have a substituent or may not have a substituent.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group may be monocyclic or condensed rings.
  • the heterocyclic group may be a single ring or a condensed ring.
  • the heterocyclic group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the heterocyclic group may be an aliphatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • a hetero atom which comprises a heterocyclic group a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, etc. are mentioned.
  • the number of carbon atoms constituting L 1 is preferably 3 to 100, and more preferably 6 to 50.
  • n represents an integer of 1 or more.
  • the upper limit of n is preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, and particularly preferably 6 or less.
  • the lower limit of n is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more. n is particularly preferably 4.
  • thiol compound examples include compounds having the following structure.
  • PEMP manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd., thiol compounds
  • Sunseller M manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., thiol compounds
  • Karenz MT BD1 manufactured by Showa Denko KK Thiol compounds
  • the thiocarbonylthio compound is a compound having a thiocarbonylthio group (—S—C ( ⁇ S) —) in the molecule, represented by the bis (thiocarbonyl) disulfide compound (formula (SC-1) below).
  • SC-1 bis (thiocarbonyl) disulfide compound
  • Compound dithioester compound (compound represented by the following formula (SC-2)), trithiocarbonate compound (compound represented by the following formula (SC-3)), dithiocarbamate compound (following formula ( SC-4)), xanthate compounds (compounds represented by the following formula (SC-5)), and the like.
  • Z 1 to Z 11 each independently represents a substituent.
  • Examples of the substituent represented by Z 1 to Z 11 include an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, —SR Z1 , —NR Z1 R Z2 , —NR Z1 —NR Z2 R Z3 , —COOR Z1 , —OCOR Z1 , — CONR Z1 R Z2 , —P ( ⁇ O) (OR Z1 ) 2 or —OP ( ⁇ O) R Z1 R Z2 (wherein R Z1 , R Z2 and R Z3 each independently represents an alkyl group or an aryl group) Or a heteroaryl group).
  • one or more hydrogen atoms bonded to the carbon atom may be substituted with a cyano group, a carboxyl group, or the like.
  • the alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 8 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic heteroaryl group or a condensed ring heteroaryl group having a condensation number of 2 to 8, more preferably a monocyclic heteroaryl group or a condensed ring heteroaryl group having a condensation number of 2 to 4. preferable.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the ring of the heteroaryl group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the heteroaryl group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and more preferably 3 to 12.
  • bis (thiocarbonyl) disulfide compounds include tetraethylthiuram disulfide, tetramethylthiuram disulfide, bis (n-octylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n-dodecylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (benzylmercapto).
  • -Thiocarbonyl) disulfide bis (n-butylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (t-butylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n-heptylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n-hexylmercapto-thio) Carbonyl) disulfide, bis (n-pentylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n-nonylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n Decylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (t-dodecylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n-tetradecylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n-hexadecylmercapto-thiocarbonyl) disulfide, bis (n- And o
  • dithioester compound examples include 2-phenyl-2-propylbenzothioate, 4-cyano-4- (phenylthiocarbonylthio) pentanoic acid, 2-cyano-2-propylbenzodithioate and the like.
  • trithiocarbonate compounds include S- (2-cyano-2-propyl) -S-dodecyl trithiocarbonate, 4-cyano-4-[(dodecylsulfanyl-thiocarbonyl) sulfanyl] pentanoic acid, cyano Examples include methyldodecyl trithiocarbonate, 2- (dodecylthiocarbonothiolthio) -2-methylpropionic acid, and the like.
  • dithiocarbamate compound examples include cyanomethylmethyl (phenyl) carbamodithioate, cyanomethyldiphenylcarbamodithioate, and the like.
  • xanthate compounds include xanthate esters.
  • dimer of aromatic ⁇ -methylalkenyl examples include 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene.
  • the molecular weight of the chain transfer agent is preferably 200 or more for reasons such as suppressing device contamination due to sublimation.
  • the upper limit is preferably 1000 or less, more preferably 800 or less, and even more preferably 600 or less because the SH valence per weight can be increased.
  • radical trapping agent used for the photosensitive composition of the present invention.
  • the radical trapping agent include naphthalene derivatives, thioether compounds, hindered phenol compounds, hindered amine compounds, N-oxyl compounds, hydrazyl compounds and ferdazyl compounds. Ferdazyl compounds are preferred.
  • the radical trapping agent is quantitatively compared with radicals for the purpose of adjusting the sensitivity of the photosensitive composition by controlling the amount of radicals generated from the photoradical polymerization initiator contained in the photosensitive composition during exposure.
  • a compound that reacts is preferred.
  • the radical trapping agent is preferably an N-oxyl compound and a hydrazyl compound. From the viewpoint of radical trapping ability, N-oxyl compounds are preferably used.
  • a hydrazyl compound is preferably used from the viewpoint of easy control of sensitivity adjustment.
  • the radical trapping agent is preferably a compound with little coloring.
  • naphthalene derivatives examples include naphthohydroquinone compounds such as naphthohydroquinone sulfonate onium salts. Specific examples thereof include 1,4-dihydroxynaphthalene, 6-amino-2,3-dihydro-5,8-dihydroxynaphthalene-1,4-dione, 6-methylamino-2,3-dihydro-5,8.
  • the thioether compound is not particularly limited as long as it is a compound having at least one thioether group in the molecule.
  • Examples of the hindered amine compound include compounds having a partial structure represented by the following formula (HA1).
  • Formula (HA1) In the formula, a wavy line represents a bond, R T1 to R T4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R T5 represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an oxygen radical.
  • R T1 to R T4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • R T5 represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an oxygen radical.
  • As the alkyl group a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • the alkoxy group is preferably a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • the molecular weight of the hindered amine compound is preferably 2000 or less, and more preferably 1000 or less.
  • hindered amine compounds include ADK STAB LA-52, LA-57, LA-72, LA-77Y, LA-77G, LA-81, LA-82, LA-87, LA-402AF, LA-502XP (( And TINUVIN 765, TINUVIN 770 DF, TINUVIN XT 55 FB, TINUVIN 111 FDL, TINUVIN 783 FDL, TINUVIN 791 FB, TINUVIN 123, TINUVIN 144, and TINUVIN 152 (manufactured by BASF).
  • Examples of the hindered phenol compound include a compound including a structure represented by the following formula (HP1).
  • Formula (HP1) In the formula, a wavy line represents a bond, Rp1 represents an alkyl group having 3 or more carbon atoms, Rp2 represents a substituent, m represents an integer of 1 or more, n represents an integer of 0 or more, and m + n is 4 It is as follows.
  • hindered phenol compound examples include 4-tert-butylcatechol, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t- Butylphenol), pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and the like.
  • hindered phenol compounds include ADK STAB AO-20, ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-50F, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-60G, ADK STAB AO-80, ADK STAB AO-330 (above, ADEKA Co., Ltd.) and the like.
  • N-oxyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having an N-oxyl group, and a known compound can be used. Examples include piperidine 1-oxyl compounds, pyrrolidine 1-oxyl compounds, and the like.
  • piperidine 1-oxyl compounds include piperidine 1-oxyl, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl, 4-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl, 4 -Hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl, 4-acetamido-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl, 4-maleimide-2,2,6,6-tetra Examples include methylpiperidine 1-oxyl and 4-phosphonooxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl.
  • the pyrrolidine 1-oxyl compounds include 3-carboxyproxyl, 3-carboxy-2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine 1-oxyl.
  • the hydrazyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having a hydrazyl group, and a known compound can be used.
  • a known compound can be used.
  • 2,2-diphenyl-1-picrylhydrazyl, 2,2-di (4-tert-octylphenyl) -1-picrylhydrazyl and the like can be mentioned.
  • the ferdazyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having a ferdazyl group, and a known compound can be used. For example, triphenyl ferdazyl etc. are mentioned.
  • the content of the chain transfer agent in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10% by mass.
  • the upper limit is preferably 9% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, and still more preferably 7% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.02% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, and further preferably 0.1% by mass or more.
  • the chain transfer agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound.
  • the upper limit is preferably 20 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5 parts by mass or more, and more preferably 1 part by mass or more.
  • the chain transfer agent is preferably contained in an amount of 0.2 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical photopolymerization initiator.
  • the upper limit is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less, and still more preferably 20 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 1 part by mass or more, more preferably 1.5 parts by mass or more, and still more preferably 2 parts by mass or more.
  • the content of the radical trapping agent in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10.0% by mass.
  • the upper limit is preferably 9% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, and still more preferably 7% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.02% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, and further preferably 0.1% by mass or more.
  • the radical trapping agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound.
  • the upper limit is preferably 20 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5 parts by mass or more, and more preferably 1 part by mass or more. Further, it is preferable to contain 0.2 to 200 parts by mass of a radical trapping agent with respect to 100 parts by mass of the radical photopolymerization initiator.
  • the upper limit is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less, and still more preferably 20 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 1 part by mass or more, more preferably 1.5 parts by mass or more, and still more preferably 2 parts by mass or more.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a chain transfer agent and a radical trap agent
  • the upper limit is preferably 250 parts by mass or less, and more preferably 200 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 20 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass or more.
  • the total content of the chain transfer agent and the radical trapping agent in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10.0% by mass.
  • the upper limit is preferably 9% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, and still more preferably 7% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.02% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, and further preferably 0.1% by mass or more.
  • the total amount of the chain transfer agent and the radical trapping agent is preferably 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound.
  • the upper limit is preferably 20 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5 parts by mass or more, and more preferably 1 part by mass or more.
  • the total amount of the chain transfer agent and the radical trapping agent is preferably 0.2 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical photopolymerization initiator.
  • the upper limit is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less, and still more preferably 20 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 1 part by mass or more, more preferably 1.5 parts by mass or more, and still more preferably 2 parts by mass or more.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a color material.
  • the color material include chromatic colorants, black colorants, infrared absorbing dyes, and the like.
  • the color material used in the photosensitive composition of the present invention preferably contains at least a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant examples include a red colorant, a green colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and an orange colorant.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye.
  • a pigment is preferable.
  • the average particle diameter (r) of the pigment is preferably 20 nm ⁇ r ⁇ 300 nm, more preferably 25 nm ⁇ r ⁇ 250 nm, and still more preferably 30 nm ⁇ r ⁇ 200 nm.
  • the “average particle size” here means the average particle size of secondary particles in which primary particles of the pigment are aggregated.
  • the particle size distribution of secondary particles of the pigment that can be used (hereinafter also simply referred to as “particle size distribution”) is such that the secondary particles contained in the range of the average particle size ⁇ 100 nm are 70% by mass or more of the total. It is preferable that it is 80% by mass or more.
  • the pigment is preferably an organic pigment.
  • the following are mentioned as an organic pigment.
  • C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 22
  • a metal containing at least one anion selected from an azo compound represented by the following formula (I) and an azo compound having a tautomer structure thereof, two or more metal ions, and a melamine compound Azo pigments can also be used.
  • R 1 and R 2 are each independently —OH or —NR 5 R 6
  • R 3 and R 4 are each independently ⁇ O or ⁇ NR 7
  • R 5 to R 7 Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group represented by R 5 to R 7 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a cyano group or an amino group.
  • R 1 and R 2 are preferably —OH.
  • R 3 and R 4 are preferably ⁇ O.
  • the melamine compound in the metal azo pigment is preferably a compound represented by the following formula (II).
  • R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent.
  • the substituent is preferably a hydroxy group.
  • at least one of R 11 ⁇ R 13 is a hydrogen atom, more preferably all of R 11 ⁇ R 13 is a hydrogen atom.
  • the metal azo pigment includes at least one anion selected from the azo compound represented by the above formula (I) and an azo compound having a tautomer structure thereof, a metal ion containing at least Zn 2+ and Cu 2+ , It is preferable that it is a metal azo pigment of the aspect containing a melamine compound.
  • the total amount of Zn 2+ and Cu 2+ is preferably 95 to 100 mol%, more preferably 98 to 100 mol%, based on 1 mol of all metal ions of the metal azo pigment.
  • the content is more preferably 99.9 to 100 mol%, particularly preferably 100 mol%.
  • the metal azo pigment may further contain a divalent or trivalent metal ion (hereinafter also referred to as metal ion Me1) other than Zn 2+ and Cu 2+ .
  • the metal ions Me1 include Ni 2+ , Al 3+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , La 3+ , Ce 3+ , Pr 3+ , Nd 2+ , Nd 3+ , Sm 2+ , Sm 3+ , Eu 2+ , Eu 3+ , Gd 3+, Tb 3+, Dy 3+, Ho 3+, Yb 2+, Yb 3+, Er 3+, Tm 3+, Mg 2+, Ca 2+, Sr 2+, Mn 2+, Y 3+, Sc 3+, Ti 2+, Ti 3+, Nb 3+ , Mo 2+ , Mo 3+ , V 2+ , V 3+ , Zr 2+ , Zr 3+ , Cd 2+ , Cr 3+ , Pb 2+ , Ba 2+ , Al 3+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , la 3+, Ce 3+,
  • the content of the metal ion Me1 is preferably 5 mol% or less, more preferably 2 mol% or less, and more preferably 0.1 mol% or less, based on 1 mol of all metal ions of the metal azo pigment. More preferably it is.
  • paragraph numbers 0011 to 0062 and 0137 to 0276 in JP-A-2017-171912 paragraph numbers 0010 to 0062 and 0138 to 0295 in JP-A-2017-171913, and JP-A-2017-171914.
  • the descriptions of paragraph numbers 0011 to 0062 and 0139 to 0190 of the publication and paragraph numbers 0010 to 0065 and 0142 to 0222 of JP-A-2017-171915 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • red pigment a compound having a structure in which an aromatic ring group in which a group in which an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom is bonded to an aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton can be used.
  • a compound represented by the formula (DPP1) is preferable, and a compound represented by the formula (DPP2) is more preferable.
  • R 11 and R 13 each independently represent a substituent
  • R 12 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group
  • n11 and n13 each independently X 12 and X 14 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom
  • m12 represents 1, If 12 is a nitrogen atom, m12 represents 2, if X 14 is an oxygen atom or a sulfur atom, m14 represents 1, if X 14 is a nitrogen atom, m14 represents 2.
  • Examples of the substituent represented by R 11 and R 13 include an alkyl group, aryl group, halogen atom, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group, amide group, cyano group, nitro group, trifluoro group.
  • a methyl group, a sulfoxide group, a sulfo group and the like are preferable examples.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, bromine atoms of 8 to 12 and chlorine atoms of 2 to 5 is used. You can also. Specific examples include the compounds described in International Publication No. WO2015 / 118720.
  • an aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can be used as a blue pigment.
  • Specific examples include compounds described in paragraphs 0022 to 0030 of JP2012-247491A and paragraph 0047 of JP2011-157478A.
  • the dye is not particularly limited, and a known dye can be used.
  • a known dye can be used.
  • pyrazole azo, anilinoazo, triarylmethane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, xanthene Examples include phthalocyanine-based, benzopyran-based, indigo-based, and pyromethene-based dyes. Moreover, you may use the multimer of these dyes. Further, the dyes described in JP-A-2015-028144 and JP-A-2015-34966 can also be used.
  • Black colorant examples include inorganic black colorants such as carbon black, metal oxynitrides (titanium black, etc.), metal nitrides (titanium nitride, etc.), bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, azo compounds, etc.
  • Organic black colorant is preferably a bisbenzofuranone compound or a perylene compound.
  • the bisbenzofuranone compounds include compounds described in JP-T 2010-534726, JP-2012-515233, JP-2012-515234 and the like, for example, “Irgaphor Black” manufactured by BASF It is available.
  • perylene compounds include C.I. I.
  • the bisbenzofuranone compound is preferably a compound represented by any of the following formulas or a mixture thereof.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 3 and R 4 each independently represent a substituent
  • a and b each independently represent an integer of 0 to 4
  • the plurality of R 3 may be the same or different
  • the plurality of R 3 may be bonded to form a ring
  • b is 2 or more
  • the plurality of R 4 may be the same or different, and the plurality of R 4 may be bonded to form a ring.
  • the substituents represented by R 1 to R 4 are a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, —OR 301 , —COR 302 , —COOR 303 , —OCOR 304 , —NR 305 R 306 , —NHCOR 307 , —CONR 308 R 309 , —NHCONR 310 R 311 , —NHCOOR 312 , —SR 313 , —SO 2 R 314 , —SO 2 OR 315 , —NHSO 2 R 316 or —SO 2 NR 317 R 318 , each of R 301 to R 318 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • the infrared absorbing dye is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1300 nm, more preferably in the wavelength range of 700 to 1000 nm.
  • the infrared absorbing dye may be a pigment or a dye.
  • the infrared absorbing dye a compound having a ⁇ -conjugated plane containing a monocyclic or condensed aromatic ring can be preferably used.
  • the number of atoms other than hydrogen constituting the ⁇ -conjugated plane of the infrared absorbing dye is preferably 14 or more, more preferably 20 or more, further preferably 25 or more, and 30 or more. It is particularly preferred that For example, the upper limit is preferably 80 or less, and more preferably 50 or less.
  • the ⁇ -conjugated plane of the infrared absorbing dye preferably includes two or more monocyclic or condensed aromatic rings, more preferably includes three or more of the aforementioned aromatic rings, and includes four or more of the aforementioned aromatic rings.
  • the aromatic ring includes benzene ring, naphthalene ring, pentalene ring, indene ring, azulene ring, heptalene ring, indacene ring, perylene ring, pentacene ring, quaterylene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, naphthacene ring, Chrysene ring, triphenylene ring, fluorene ring, pyridine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, imidazole ring, benzimidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, triazole ring, be
  • Infrared absorbing dyes are pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, diimonium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, pyromethene compounds, azomethine compounds
  • At least one selected from anthraquinone compounds and dibenzofuranone compounds is preferred, and at least one selected from pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds and diimonium compounds is more preferred, pyrrolopyrrole compounds, cyanine More preferably at least one selected from a compound and a squarylium compound, Ropiroru compounds are particularly preferred.
  • Examples of the pyrrolopyrrole compound include compounds described in paragraph Nos. 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraph Nos. 0037 to 0052 of JP-A-2011-68731, and international publication WO2015 / 166873. Examples include the compounds described in paragraphs 0010 to 0033, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the squarylium compound include compounds described in paragraph Nos. 0044 to 0049 of JP2011-208101A, compounds described in paragraph Nos. 0060 to 0061 of JP6065169A, paragraph No. 0040 of International Publication WO2016 / 181987.
  • Compounds described in WO2013 / 133099, compounds described in WO2014 / 088063, compounds described in JP2014-126642, and described in JP2016-146619A A compound described in JP-A-2015-176046, a compound described in JP-A-2017-25311, a compound described in International Publication WO2016 / 154882, a compound described in Japanese Patent No. 5884953, and a patent 603668
  • Compounds described in JP-A compound according to Japanese Patent No. 5810604 can be mentioned compounds described in JP-A-2017-068120, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the cyanine compound include compounds described in paragraph Nos. 0044 to 0045 of JP-A-2009-108267, compounds described in paragraph Nos. 0026 to 0030 of JP-A No. 2002-194040, and JP-A-2015-172004.
  • the compounds described in JP-A-2015-172102, the compounds described in JP-A-2008-88426, the compounds described in JP-A-2017-031394, and the like are described in the present specification. Incorporated into.
  • Examples of the diimonium compound include compounds described in JP-T-2008-528706, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • Examples of the phthalocyanine compound include compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-77153A, oxytitanium phthalocyanine described in JP2006-343631, paragraph Nos. 0013 to 0029 of JP2013-195480A. And the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the naphthalocyanine compound include compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-77153A, the contents of which are incorporated herein.
  • a commercially available product can be used as the infrared absorbing dye.
  • SDO-C33 manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.
  • e-ex color IR-14 e-ex color IR-10A
  • e-ex color TX-EX-801B e-ex color TX-EX-805K (inc.
  • the content of the coloring material in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and 55% by mass from the viewpoint of thinning the resulting film. More preferably, it is more preferably 60% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, and still more preferably 70% by mass or less from the viewpoint of film formability.
  • the color material used in the photosensitive composition of the present invention preferably contains at least one selected from chromatic colorants and black colorants. Further, the content of the chromatic colorant and the black colorant in the total mass of the colorant is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and 70% by mass or more. Is more preferable. The upper limit can be 100% by mass, or 90% by mass or less. Moreover, it is preferable that the color material used for the photosensitive composition of this invention contains a green colorant at least. Further, the content of the green colorant in the total mass of the coloring material is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and further preferably 50% by mass or more. The upper limit can be 100% by mass, or 75% by mass or less.
  • the pigment content in the total mass of the color material is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and 90% by mass. It is still more preferable that it is above.
  • the content of the pigment in the total mass of the color material is in the above range, a film in which spectral fluctuation due to heat is suppressed is easily obtained.
  • the photosensitive composition of the present invention is used as a composition for a color filter (more specifically, a composition for forming a colored pixel of a color filter), chromatic coloring in the total solid content of the photosensitive composition.
  • the content of the agent is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, still more preferably 55% by mass or more, and particularly preferably 60% by mass or more.
  • the content of the chromatic colorant in the total mass of the coloring material is preferably 25% by mass or more, more preferably 45% by mass or more, and further preferably 65% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass, or 75% by mass or less.
  • the colorant preferably contains at least a green colorant.
  • the content of the green colorant in the total mass of the coloring material is preferably 35% by mass or more, more preferably 45% by mass or more, and further preferably 55% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass, and can also be 80% by mass or less.
  • content of the black coloring agent (preferably inorganic black coloring agent) in the total solid of a photosensitive composition is 40 mass% or more. It is preferably 50% by mass or more, more preferably 55% by mass or more, and particularly preferably 60% by mass or more. Further, the content of the black colorant in the total mass of the coloring material is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more. The upper limit can be 100% by mass, or 90% by mass or less.
  • the color material used in the present invention preferably satisfies at least one of the following requirements (1) to (3).
  • Black is formed by a combination of two or more chromatic colorants including two or more chromatic colorants. It is preferable that black is formed by a combination of two or more colorants selected from a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant and a green colorant.
  • Examples of the preferred combination of the above aspect (1) include the following.
  • (1-1) An embodiment containing a red colorant and a blue colorant.
  • (1-2) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, and a yellow colorant.
  • (1-3) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, and a purple colorant.
  • (1-4) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and a green colorant.
  • (1-5) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, and a green colorant.
  • (1-6) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, and a green colorant.
  • (1-7) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant.
  • a chromatic colorant By using the organic black colorant and the chromatic colorant in combination, excellent spectral characteristics can be easily obtained.
  • the chromatic colorant used in combination with the organic black colorant include a red colorant, a blue colorant, and a purple colorant, and a red colorant and a blue colorant are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of the chromatic colorant and the organic black colorant is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 15 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic black colorant.
  • the content of the infrared absorbing dye in the total mass of the coloring material is preferably 5 to 40% by mass.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, and more preferably 25% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a resin.
  • the resin refers to an organic compound other than a color material and having a molecular weight of 2000 or more. Resin is mix
  • a resin that is mainly used for dispersing particles such as pigment is also referred to as a dispersant.
  • such use of the resin is an example, and the resin can be used for purposes other than such use.
  • resin which has a radically polymerizable group is a component applicable also to the radically polymerizable compound mentioned above.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1000000 or less, and more preferably 500000 or less.
  • the lower limit is preferably 3000 or more, and more preferably 5000 or more.
  • Resins include (meth) acrylic resin, ene / thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin , Polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin and the like. One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • the cyclic olefin resin a norbornene resin can be preferably used from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Examples of commercially available norbornene resins include the ARTON series (for example, ARTON F4520) manufactured by JSR Corporation.
  • the resin includes a resin described in Examples of International Publication WO2016 / 088845, a resin described in JP2017-57265A, a resin described in JP2017-32685A, and JP2017.
  • the resin described in JP-A-075248 and the resin described in JP-A-2017-0666240 can also be used, the contents of which are incorporated herein.
  • a resin having an acid group as the resin.
  • the developability of the photosensitive composition can be improved, and a pixel excellent in rectangularity can be easily formed.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphate group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group, and a carboxyl group is preferable.
  • the resin having an acid group can be used as an alkali-soluble resin, for example.
  • the resin having an acid group preferably contains a repeating unit having an acid group in the side chain, and more preferably contains 5 to 70 mol% of the repeating unit having an acid group in the side chain in the total repeating unit of the resin.
  • the upper limit of the content of the repeating unit having an acid group in the side chain is preferably 50 mol% or less, and more preferably 30 mol% or less.
  • the lower limit of the content of the repeating unit having an acid group in the side chain is preferably 10 mol% or more, and more preferably 20 mol% or more.
  • the resin having an acid group is a monomer containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”). It is also preferable to include a repeating unit derived from the component.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the details of the formula (ED2) can be referred to the description of JP 2010-168539 A, the content of which is incorporated herein.
  • paragraph number 0317 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the resin used in the present invention preferably contains a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 represents a hydrogen atom or 1 to 20 carbon atoms that may contain a benzene ring.
  • n represents an integer of 1 to 15.
  • Examples of the resin having an acid group include resins having the following structure. Of the resins listed in the specific examples below, the resin having a radical polymerizable group also corresponds to the above-described radical polymerizable compound.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 500 mgKOH / g.
  • the lower limit is more preferably 50 mgKOH / g or more, further preferably 70 mgKOH / g or more, and particularly preferably 80 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is more preferably 400 mgKOH / g or less, and even more preferably 250 mgKOH / g or less.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin having an acid group is preferably 5000 to 100,000.
  • the number average molecular weight (Mn) of the resin having an acid group is preferably 1000 to 20000.
  • the photosensitive composition of the present invention can also contain a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups occupies 70 mol% or more when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%. A resin consisting only of groups is more preferred.
  • the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant is preferably 40 to 105 mgKOH / g, more preferably 50 to 105 mgKOH / g, and still more preferably 60 to 105 mgKOH / g.
  • the basic dispersant (basic resin) represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant preferably contains a repeating unit having an acid group.
  • the resin used as a dispersant contains a repeating unit having an acid group, so that when a pixel is formed by a photolithography method, a residue generated on the base of the pixel can be further reduced, and a photosensitive composition having excellent developability. It can be a thing.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft copolymer. Since the graft copolymer has an affinity for the solvent by the graft chain, it is excellent in pigment dispersibility and dispersion stability after aging. Details of the graft copolymer can be referred to the descriptions in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A, the contents of which are incorporated herein. Specific examples of the graft copolymer include the following resins. The following resins are also resins having acid groups (alkali-soluble resins). Examples of the graft copolymer include resins described in JP-A-2012-255128, paragraphs 0072 to 0094, the contents of which are incorporated herein.
  • an oligoimine copolymer containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain is also preferable to use as the resin (dispersant).
  • the oligoimine copolymer has a structural unit having a partial structure X having a functional group of pKa14 or less, and a side chain containing a side chain Y having 40 to 10,000 atoms, and has a main chain and side chains
  • a resin having a basic nitrogen atom in at least one of them is preferred.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a basic nitrogen atom.
  • oligoimine-based copolymer the description of paragraph numbers 0102 to 0166 in JP 2012-255128 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • a resin having the following structure, or a resin described in paragraph numbers 0168 to 0174 of JP 2012-255128 A can be used.
  • the alkali-soluble resin described above can be used as a dispersant.
  • the resin used as the dispersant is preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond group in the side chain.
  • the content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, more preferably 20 to 70 mol% in all repeating units of the resin. % Is more preferable.
  • a commercially available product can also be used as the dispersant.
  • the product described in paragraph No. 0129 of JP2012-137564A can be used as a dispersant.
  • the DISPERBYK series for example, DISPERBYK-161, etc.
  • the resin described as the dispersant can be used for purposes other than the dispersant. For example, it can be used as a binder.
  • the content of the resin in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 5 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less, and still more preferably 30% by mass or less.
  • the content of the resin having an acid group in the total solid content of the photosensitive composition (when the radical polymerizable compound includes a radical polymerizable polymer having an acid group, the content of the radical polymerizable polymer having an acid group Is also preferably 5 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less, and still more preferably 30% by mass or less.
  • the content of the resin having an acid group in the total amount of the resin is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, still more preferably 70% by mass or more, because excellent developability is easily obtained. 80 mass% or more is particularly preferable.
  • the upper limit can be 100% by mass, 95% by mass, or 90% by mass or less.
  • the total content of the radical polymerizable monomer and the resin in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 15 to 65% by mass because the curability, the developability, and the film property are easily aligned.
  • the lower limit is preferably 20% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, and further preferably 30% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 60% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, and further preferably 50% by mass or less. Further, it is preferable to contain 30 to 300 parts by mass of the resin with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable monomer.
  • the lower limit is preferably 50 parts by mass or more, and more preferably 80 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 250 parts by mass or less, and more preferably 200 parts by mass or less.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a compound having a cyclic ether group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group.
  • the compound having an epoxy group include compounds having one or more epoxy groups in one molecule, and compounds having two or more epoxy groups are preferable. It is preferable to have 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the epoxy group can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the epoxy group is preferably 2 or more.
  • Examples of the compound having an epoxy group include paragraph numbers 0034 to 0036 of JP2013-011869A, paragraphs 0147 to 0156 of JP2014043556A, and paragraphs 0085 to 0092 of JP2014089408A.
  • the described compounds and the compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used. These contents are incorporated herein.
  • the compound having an epoxy group may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 2000, or even a molecular weight of less than 1000), or a macromolecule (for example, a molecular weight of 1000 or more, in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000 or more).
  • the weight average molecular weight of the compound having an epoxy group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and still more preferably 3000 or less.
  • An epoxy resin can be preferably used as the compound having an epoxy group.
  • the epoxy resin include an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and a glycidyl ester type.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 310 to 3300 g / eq, more preferably 310 to 1700 g / eq, and still more preferably 310 to 1000 g / eq.
  • Examples of commercially available compounds having a cyclic ether group include EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation), EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation), Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (above, manufactured by NOF Corporation, epoxy group-containing polymer).
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is, for example, preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
  • the compound having a cyclic ether group may be only one type or two or more types. In the case of two or more types, the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a silane coupling agent. According to this aspect, it is possible to improve the adhesion of the obtained film to the support.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and can generate a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • a hydrolysable group a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group etc. are mentioned, for example, An alkoxy group is preferable.
  • the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl groups, (meth) allyl groups, (meth) acryloyl groups, mercapto groups, epoxy groups, oxetanyl groups, amino groups, ureido groups, sulfide groups, and isocyanate groups.
  • a phenyl group, and an amino group, a (meth) acryloyl group and an epoxy group are preferable.
  • silane coupling agent examples include compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703, and compounds described in paragraph numbers 0056 to 0066 of JP-A-2009-242604. Is incorporated herein by reference.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 5% by mass.
  • the upper limit is preferably 3% by mass or less, and more preferably 2% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the silane coupling agent may be only one type or two or more types. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention can further contain a pigment derivative.
  • the pigment derivative include compounds having a structure in which a part of the pigment is substituted with an acid group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group.
  • a compound represented by the formula (B1) is preferable.
  • P represents a dye structure
  • L represents a single bond or a linking group
  • X represents an acid group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group
  • m is an integer of 1 or more.
  • N represents an integer of 1 or more.
  • pyrrolopyrrole dye structure As the dye structure represented by P, pyrrolopyrrole dye structure, diketopyrrolopyrrole dye structure, quinacridone dye structure, anthraquinone dye structure, dianthraquinone dye structure, benzoisoindole dye structure, thiazine indigo dye structure, azo dye structure, quinophthalone
  • a dye structure At least one selected from a dye structure, a phthalocyanine dye structure, a naphthalocyanine dye structure, a dioxazine dye structure, a perylene dye structure, a perinone dye structure, a benzimidazolone dye structure, a benzothiazole dye structure, a benzimidazole dye structure, and a benzoxazole dye structure
  • linking group represented by L examples include a hydrocarbon group, a heterocyclic group, —NR—, —SO 2 —, —S—, —O—, —CO—, or a combination thereof.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • Examples of the acid group represented by X include a carboxyl group, a sulfo group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, and an imido acid group.
  • a carboxylic acid amide group a group represented by —NHCOR X1 is preferable.
  • a group represented by —NHSO 2 R X2 is preferable.
  • the imido acid group a group represented by —SO 2 NHSO 2 R X3 , —CONHSO 2 R X4 , —CONHCOR X5 or —SO 2 NHCOR X6 is preferable.
  • R X1 to R X6 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • the hydrocarbon group and heterocyclic group represented by R X1 to R X6 may further have a substituent.
  • a halogen atom is preferable, and a fluorine atom is more preferable.
  • An amino group is mentioned as a basic group which X represents. Examples of the salt structure represented by X include the salts of the acid groups or basic groups described above.
  • pigment derivative examples include compounds having the following structure. Also, JP-A-56-118462, JP-A-63-264673, JP-A-1-217077, JP-A-3-9961, JP-A-3-26767, JP-A-3-153780.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, and more preferably 30 parts by mass or less. If content of a pigment derivative is the said range, the dispersibility of a pigment can be improved and aggregation of a pigment can be suppressed efficiently. Only one pigment derivative may be used, or two or more pigment derivatives may be used. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the solvent is basically not particularly limited as long as the solubility of each component and the coating property of the composition are satisfied.
  • the organic solvent include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons and the like. Regarding these details, paragraph number 0223 of International Publication No. WO2015 / 1666779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein. Further, ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvent examples include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, -Heptanone, cyclohexanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like.
  • the organic solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide and 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide are preferable from the viewpoint of improving solubility.
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
  • aromatic hydrocarbons as a solvent may be better reduced for environmental reasons (for example, 50 ppm by weight per part of organic solvent). (million) or less, or 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trillation) level may be used, and such a high-purity solvent is provided, for example, by Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only 1 type may be included and the isomer may be included multiple types.
  • the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent in the photosensitive composition is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and further preferably 30 to 90% by mass.
  • the photosensitive composition of the present invention does not substantially contain an environmentally regulated substance from the viewpoint of environmental regulations.
  • “substantially containing no environmentally regulated substance” means that the content of the environmentally regulated substance in the photosensitive composition is 50 mass ppm or less, and is 30 mass ppm or less. Preferably, it is more preferably 10 mass ppm or less, and particularly preferably 1 mass ppm or less.
  • environmentally regulated substances include benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; halogenated benzenes such as chlorobenzene, and the like.
  • VOC Volatile Organic Registered
  • VOC Volatile Organic Substances
  • the method is strictly regulated. These compounds may be used as a solvent when producing each component used in the photosensitive composition of the present invention, and may be mixed into the photosensitive composition as a residual solvent. It is preferable to reduce these substances as much as possible from the viewpoint of human safety and consideration for the environment.
  • As a method for reducing the environmentally regulated substance there is a method of heating and depressurizing the system so as to make it equal to or higher than the boiling point of the environmentally regulated substance to distill off the environmentally regulated substance from the system.
  • distilling off a small amount of environmentally regulated substances it is also useful to azeotrope with a solvent having a boiling point equivalent to that of the corresponding solvent in order to increase efficiency.
  • a polymerization inhibitor or the like is added and the solvent is distilled off under reduced pressure in order to prevent the radical polymerization reaction from proceeding during the vacuum distillation and causing cross-linking between molecules. May be.
  • These distillation methods can be performed either at the raw material stage, the product obtained by reacting the raw material (for example, a resin solution after polymerization or a polyfunctional monomer solution), or a composition stage prepared by mixing these compounds. It is also possible in stages.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, benzoquinone, and N-nitrosophenylhydroxyamine salt (ammonium salt, primary cerium salt, etc.). Of these, p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.001 to 5% by mass.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicon-based surfactant can be used.
  • paragraph numbers 0238 to 0245 of International Publication No. WO2015 / 166679 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the surfactant is preferably a fluorosurfactant.
  • a fluorosurfactant in the photosensitive composition, liquid properties (particularly fluidity) can be further improved, and liquid-saving properties can be further improved.
  • a film with small thickness unevenness can be formed.
  • the fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in the composition.
  • fluorosurfactant examples include surfactants described in paragraph Nos. 0060 to 0064 of JP-A No. 2014-41318 (paragraph Nos. 0060 to 0064 of International Publication No. 2014/17669), JP-A No. 2011-2011, and the like. Examples include surfactants described in paragraph Nos. 0117 to 0132 of No. 132503, the contents of which are incorporated herein. Examples of commercially available fluorosurfactants include Megafac F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which the fluorine atom is volatilized by cleavage of the functional group containing the fluorine atom when heat is applied. It can be used suitably.
  • a fluorosurfactant include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (Chemical Industry Daily, February 22, 2016) (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016). -21.
  • fluorosurfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorine-based surfactant can be referred to the description in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated herein.
  • a block polymer can be used. Examples thereof include compounds described in JP2011-89090A.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group or propyleneoxy group) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as the fluorosurfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. In the above compounds,% indicating the ratio of repeating units is mol%.
  • a fluoropolymer having an ethylenically unsaturated bond group in the side chain can also be used.
  • Specific examples thereof include compounds described in paragraph Nos. 0050 to 0090 and paragraph Nos. 0289 to 0295 of JP2010-164965A, for example, Megafac RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation. RS-72-K and the like.
  • the fluorine-based surfactant compounds described in paragraph numbers 0015 to 0158 of JP-A No. 2015-117327 can also be used.
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF ), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (BAS) Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (manufactured by FUJIF
  • silicone-based surfactant examples include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torree Silicone SH28PA, Torree Silicone SH29PA, Torree Silicone SH30PA, Torree Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) ), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4442 (above, manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6001, KF-6002 (above, Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), BYK307, BYK323, BYK330 (above, manufactured by BYK Chemie) and the like.
  • the compound of the following structure can also be used for a silicon-type surfactant.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, and more preferably 0.005% by mass to 3.0% by mass. Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be used. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, an indole compound, a triazine compound, or the like can be used. Details of these are described in paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A, paragraph numbers 0317 to 0334 of JP2013-68814A, and paragraph numbers 0061 to 0080 of JP2016-162946A. Which are incorporated herein by reference. Specific examples of the ultraviolet absorber include compounds having the following structure.
  • UV-503 manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.
  • MYUA series Chemical Industry Daily, February 1, 2016
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.
  • the photosensitive composition of the present invention may be a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermal curing accelerator, a plasticizer, and other auxiliary agents (for example, conductive particles, a filler, an antifoaming agent) as necessary. , Flame retardants, leveling agents, peeling accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, and the like). Properties such as film properties can be adjusted by appropriately containing these components. These components are described, for example, in paragraphs No. 0183 and later of JP2012-003225A (corresponding to paragraph No. 0237 of US Patent Application Publication No. 2013/0034812) and paragraphs of JP2008-250074A.
  • the photosensitive composition of this invention may contain a latent antioxidant as needed.
  • the latent antioxidant is a compound in which a site functioning as an antioxidant is protected with a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or heated at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst.
  • a compound that functions as an antioxidant due to elimination of the protecting group can be mentioned.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication WO2014 / 021023, International Publication WO2017 / 030005, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-008219.
  • Examples of commercially available products include Adeka Arcles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • the viscosity (23 ° C.) of the photosensitive composition of the present invention is preferably 1 to 100 mPa ⁇ s, for example, when a film is formed by coating.
  • the lower limit is more preferably 2 mPa ⁇ s or more, and further preferably 3 mPa ⁇ s or more.
  • the upper limit is more preferably 50 mPa ⁇ s or less, further preferably 30 mPa ⁇ s or less, and particularly preferably 15 mPa ⁇ s or less.
  • a storage container of the photosensitive composition of this invention A well-known storage container can be used.
  • a container for the purpose of suppressing impurities from being mixed into raw materials and compositions, a multilayer bottle in which the inner wall of the container is composed of six types and six layers of resin, and a bottle having six types of resin and a seven layer structure are used. It is also preferable to use it. Examples of such a container include a container described in JP-A-2015-123351.
  • the photosensitive composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned components. In preparing the photosensitive composition, all the components may be simultaneously dissolved or dispersed in a solvent to prepare the photosensitive composition. If necessary, two or more solutions in which each component is appropriately blended or A dispersion liquid may be prepared in advance, and these may be mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a photosensitive composition.
  • the photosensitive composition of the present invention contains particles such as pigment
  • the mechanical force used for dispersing the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include a bead mill, a sand mill, a roll mill, a ball mill, a paint shaker, a microfluidizer, a high speed impeller, a sand grinder, a flow jet mixer, a high pressure wet atomization, and an ultrasonic dispersion.
  • the particles may be refined in the salt milling process.
  • materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling process for example, descriptions in JP-A Nos. 2015-194521 and 2012-046629 can be referred to.
  • any filter can be used without particular limitation as long as it is a filter that has been conventionally used for filtration.
  • fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resin such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight)
  • PP polypropylene
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferable.
  • the pore size of the filter is suitably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, preferably about 0.01 to 3.0 ⁇ m, and more preferably about 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is in the above range, fine foreign matters can be reliably removed. It is also preferable to use a fiber-shaped filter medium.
  • the fiber-shaped filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, and glass fiber.
  • filter cartridges of SBP type series (such as SBP008), TPR type series (such as TPR002 and TPR005), and SHPX type series (such as SHPX003) manufactured by Loki Techno Co., Ltd. may be mentioned.
  • filters for example, a first filter and a second filter
  • filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more.
  • filtration with a 1st filter may be performed only with respect to a dispersion liquid, and after mixing other components, it may filter with a 2nd filter.
  • the method for producing an optical filter in the present invention comprises a step of forming a photosensitive composition layer by applying the above-described photosensitive composition of the present invention on a support (photosensitive composition layer forming step), and a photosensitive composition.
  • Photosensitive composition layer forming step In the photosensitive composition layer forming step, the above-described photosensitive composition of the present invention is applied onto a support to form a photosensitive composition layer.
  • the support include a substrate made of a material such as silicon, alkali-free glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, or quartz glass. It is also preferable to use an InGaAs substrate or the like.
  • the support may be formed with a charge coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like.
  • the support may be formed with a black matrix that isolates each pixel. Further, the support may be provided with an undercoat layer for improving adhesion to the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the substrate surface, if necessary.
  • a known method can be used as a method for applying the photosensitive composition to the support.
  • a dropping method drop casting
  • a slit coating method for example, a spray method; a roll coating method; a spin coating method (spin coating); a casting coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP 2009-145395 A).
  • Methods described in the publication inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc.
  • the application method in the ink jet is not particularly limited.
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, and even more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit may be 50 ° C. or higher, and may be 80 ° C. or higher.
  • the pre-bake time is preferably 10 to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and still more preferably 80 to 2200 seconds. Drying can be performed with a hot plate, oven, or the like.
  • the photosensitive composition layer on the support formed as described above is irradiated with light in a pulse manner to be exposed in a pattern (pulse exposure).
  • the photosensitive composition layer By exposing the photosensitive composition layer to pulse through a mask having a predetermined mask pattern, the photosensitive composition layer can be pulse-exposed in a pattern. Thereby, the exposed part of the photosensitive composition layer can be hardened.
  • the light used for the pulse exposure may be light having a wavelength of more than 300 nm, or may be light having a wavelength of 300 nm or less, but is light having a wavelength of 300 nm or less for the reason that better curability is easily obtained. It is preferable that the light has a wavelength of 270 nm or less, and it is more preferable that the light has a wavelength of 250 nm or less. Further, the above-described light is preferably light having a wavelength of 180 nm or more. Specific examples include KrF rays (wavelength 248 nm), ArF rays (wavelength 193 nm), and KrF rays (wavelength 248 nm) are preferred for the reason that better curability is easily obtained.
  • the pulse exposure conditions are preferably the following conditions.
  • the pulse width is preferably 100 nanoseconds (ns) or less, more preferably 50 nanoseconds or less, and more preferably 30 nanoseconds or less from the viewpoint of easily generating a large amount of active species such as radicals instantaneously. More preferably it is.
  • the lower limit of the pulse width is not particularly limited, but can be 1 femtosecond (fs) or more, and can be 10 femtoseconds or more.
  • the frequency is preferably 1 kHz or more, more preferably 2 kHz or more, and further preferably 4 kHz or more.
  • the upper limit of the frequency is preferably 50 kHz or less, more preferably 20 kHz or less, and even more preferably 10 kHz or less because it is easy to suppress deformation of the substrate or the like due to exposure heat.
  • Maximum instantaneous intensity is preferably from the viewpoint of curability is 50000000W / m 2 or more, more preferably 100000000W / m 2 or more, more preferably 200000000W / m 2 or more.
  • the upper limit of the maximum instantaneous intensity is preferably high intensity reciprocity law failure is the perspective from 1000000000W / m 2 or less inhibition, more preferably 800000000W / m 2 or less, further preferably 500000000W / m 2 or less .
  • the exposure amount is preferably 1 to 1000 mJ / cm 2 .
  • the upper limit is preferably 500 mJ / cm 2 or less, and more preferably 200 mJ / cm 2 or less.
  • the lower limit is desirably 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 20 mJ / cm 2 or more, 30 mJ / cm 2 or more is more preferable.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected.
  • a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less for example, 15% by volume, 5% by volume, substantially oxygen-free
  • a high oxygen atmosphere for example, 22% by volume, 30% by volume, 50% by volume
  • the unexposed photosensitive composition layer in the photosensitive composition layer after the exposure process is developed and removed to form a pixel (pattern).
  • the development removal of the photosensitive composition layer of an unexposed part can be performed using a developing solution.
  • the photosensitive composition layer of an unexposed part elutes in a developing solution, and only the part photocured by said exposure process remains on a support body.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30 ° C., for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the process of shaking off the developer every 60 seconds and further supplying a new developer may be repeated several times.
  • the developer is preferably an alkaline aqueous solution obtained by diluting an alkaline agent with pure water.
  • alkaline agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide.
  • Organic compounds such as ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene
  • Alkaline compounds sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate Um, and inorganic alkaline compound such as sodium metasilicate.
  • the alkaline agent a compound having a large molecular weight is preferable in terms of environment and safety.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • the surfactant include the above-described surfactants, and nonionic surfactants are preferable.
  • the developer may be once manufactured as a concentrated solution and diluted to a necessary concentration at the time of use from the viewpoint of convenience of transportation and storage.
  • the dilution factor is not particularly limited, but can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • alkaline aqueous solution is used as a developing solution, it is preferable to wash
  • additional exposure processing and heat treatment can be performed.
  • the additional exposure processing and post-baking are post-development processing for complete film curing.
  • the light used for exposure is light with a wavelength of 400 nm or less.
  • the film thickness of the pixel (pattern) to be formed is appropriately selected according to the type of pixel.
  • it is preferably 2.0 ⁇ m or less, more preferably 1.0 ⁇ m or less, and still more preferably 0.3 to 1.0 ⁇ m.
  • the upper limit is preferably 0.8 ⁇ m or less, and more preferably 0.6 ⁇ m or less.
  • the lower limit is preferably 0.4 ⁇ m or more.
  • the size (line width) of the pixel (pattern) to be formed is preferably selected as appropriate according to the application and the type of pixel. For example, 2.0 ⁇ m or less is preferable.
  • the upper limit is preferably 1.0 ⁇ m or less, and more preferably 0.9 ⁇ m or less.
  • the lower limit is preferably 0.4 ⁇ m or more.
  • At least one type of pixels may be formed through the above-described steps, and the first pixel to be formed (first type of pixels) is formed through the above-described steps. Is preferred.
  • the second and subsequent pixels may be formed through the same steps as described above, or pixels may be formed by performing exposure with continuous light.
  • compositions 1 to 26, R1-R3 were prepared.
  • the solid content concentrations of the compositions 1 to 8, 10 to 26, and R1 to R3 were adjusted by changing the blending amount of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA).
  • the numerical values in the blending amount column shown in the table below are parts by mass.
  • (Pigment dispersion) A1 Pigment dispersion prepared by the following method I. 10.7 parts by mass of Pigment Green 58, C.I. I. Pigment Yellow 185 2.7 parts by mass, Pigment derivative 1 1.3 parts by mass, Dispersant 1 5.3 parts by mass, and Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) 80 parts by mass.
  • PGMEA Propylene glycol monomethyl ether acetate
  • This pigment dispersion A1 had a solid content concentration of 20% by mass and a pigment content of 13.4% by mass.
  • Pigment derivative 1 a compound having the following structure.
  • Pigment dispersion prepared by the following method I. Pigment Blue 15: 6, 11.8 parts by mass, C.I. I. Pigment Violet 23 (3.0 parts by mass), Dispersant 2 (5.2 parts by mass), and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) (80 parts by mass) were mixed in a mixed solution of zirconia beads having a diameter of 0.3 mm (230 mass).
  • the pigment dispersion liquid A2 was prepared by dispersing the beads for 3 hours using a paint shaker and separating the beads by filtration. This pigment dispersion had a solid content concentration of 20% by mass and a pigment content of 14.8% by mass.
  • Pigment dispersion prepared by the following method I. Pigment Red 254, 11.8 parts by mass, C.I. I. Pigment Yellow 139 (3.0 parts by mass), Dispersant 2 (5.2 parts by mass), and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) (80 parts by mass) were mixed with a mixed solution of zirconia beads having a diameter of 0.3 mm (230 mass).
  • the pigment dispersion liquid A3 was prepared by carrying out a dispersion treatment for 3 hours using a paint shaker and separating the beads by filtration. This pigment dispersion had a solid content concentration of 20% by mass and a pigment content of 14.8% by mass.
  • (resin) B1 Resin having the following structure (the numerical values attached to the main chain are molar ratios. Mw: 10,000, acid value: 70 mgKOH / g)
  • B2 Acrybase FF-426 (Fujikura Kasei Co., Ltd., alkali-soluble resin)
  • I1 IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF, oxime compound)
  • I2 Compound having the following structure (oxime compound)
  • I3 IRGACURE-379 (manufactured by BASF, ⁇ -aminoalkylphenone compound)
  • CT1 pentaerythritol tetra (3-mercaptopropionate)
  • CT2 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene
  • CT3 Cyanomethyldodecyltrithiocarbonate
  • CT4 Sunseller M (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., thiol compound)
  • CT5 2-cyano-2-propyldodecyltrithiocarbonate
  • CT6 Karenz MT BD1 (manufactured by Showa Denko KK, thiol compound)
  • RT1 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl
  • RT2 2,2-diphenyl-1-picrylhydrazyl
  • RT3 ADK STAB AO-20 (manufactured by ADEKA)
  • RT4 ADK STAB LA-52 (manufactured by ADEKA Corporation)
  • RT5 Triphenylferdazil
  • RT6 Adeka Stub AO-60G (manufactured by ADEKA Corporation)
  • UV1 UV-503 (Daito Chemical Co., Ltd., UV absorber)
  • Each photosensitive composition obtained above was applied on an 8-inch (203.2 mm) silicon wafer with an undercoat layer by spin coating so that the film thickness after application was 0.5 ⁇ m. Subsequently, it post-baked for 2 minutes at 100 degreeC using the hotplate. Next, pulse exposure was performed using a KrF scanner exposure machine through a mask having a 0.9 ⁇ m square Bayer pattern under the following conditions. Subsequently, paddle development was performed at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH). Then, it rinsed with the spin shower and further washed with pure water.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • a pixel (pattern) was formed by heating (post-baking) at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate.
  • the pulse exposure conditions are as follows. Exposure light: KrF line (wavelength 248nm) Exposure: 200 mJ / cm 2 for 200 mJ / cm 2, Test Examples R1 ⁇ R3 for Test Examples 1 to 26, 250 or 300 mJ / cm 2 Maximum instantaneous illuminance: 250000000 W / m 2 (average illuminance: 30000 W / m 2 ) Pulse width: 30 nanoseconds Frequency: 4 kHz The formed pixel (pattern) was observed with a scanning electron microscope, and the line width of the pixel was measured. The following table shows the line width of the formed pixel (pattern) for each exposure amount.
  • Test Examples 1 to 3, 7, 9, and 11 to 22 using compositions 1 to 3, 7, 9, and 11 to 22 containing a chain transfer agent are based on Test Examples R1 to R3.
  • the line width of the pixel (pattern) could be increased.
  • Test Examples 4 to 6, 8, 10, 23 to 26 using the compositions 4 to 6, 8, 10, 23 to 26 containing the radical trapping agent had pixels (patterns) more than Test Examples R1 to R3.
  • the line width of can be reduced.
  • the line width of the pattern obtained can be adjusted without changing the opening size of the mask.
  • the pixels obtained in Test Examples 1 to 26 are sufficiently cured to the bottom, and have excellent adhesion and solvent resistance characteristics equivalent to those obtained in Test Examples R1 to R3. It was.
  • Test Examples R1 to R3 the line width of the pattern obtained was almost unchanged even when the exposure amount was changed.

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Abstract

ラジカル重合性化合物と、光ラジカル重合開始剤と、連鎖移動剤およびラジカルトラップ剤から選ばれる少なくとも１種と、を含む感光性組成物。

Description

感光性組成物
　本発明は、パルス露光用の感光性組成物に関する。更に詳しくは、固体撮像素子やカラーフィルタなどに用いられるパルス露光用の感光性組成物に関する。
　ラジカル重合性化合物と光ラジカル重合開始剤とを含む感光性組成物を用いて、カラーフィルタなどを製造することが行なわれている（特許文献１、２参照）。
特表２０１２－５３２３３４号公報 ＫＲ１０１５７３９３７Ｂ
　本発明者がラジカル重合性化合物と光ラジカル重合開始剤とを含む感光性組成物について鋭意検討したところ、このような感光性組成物に対してパルス露光することで、硬化性が良好で、マスクの開口形状に沿った良好なパターンを形成し易いことを見出した。また、本発明者らが更に検討を進めたところ、パルス露光の場合、露光量を変化させても得られるパターンの線幅については、マスクの開口サイズよりも太くなったり、細くなったりし難く、マスクの開口形状に沿った良好なパターンを形成し易いことが分かった。このため、マスクの開口サイズを変更することで、所望の線幅のパターンを形成し易い。
　一方で、マスクの開口サイズは変えずに、組成物の処方調整などにより得られるパターンの線幅をマスクの開口サイズよりも太らせたり細らせたりすることも検討されている。
　よって、本発明の目的は、マスクの開口サイズを変更しなくても、得られるパターンの線幅を調整できるパルス露光用の感光性組成物を提供することにある。
　本発明者の検討によれば、ラジカル重合性化合物と光ラジカル重合開始剤とを含む感光性組成物において、更に、連鎖移動剤およびラジカルトラップ剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることで、マスクの開口サイズを変更しなくても、得られるパターンの線幅を調整できるパルス露光用の感光性組成物とすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
　＜１＞　ラジカル重合性化合物と、
　光ラジカル重合開始剤と、
　連鎖移動剤およびラジカルトラップ剤から選ばれる少なくとも１種と、
　を含む、パルス露光用の感光性組成物。
　＜２＞　さらに色材を含む、＜１＞に記載の感光性組成物。
　＜３＞　連鎖移動剤が、チオール化合物、チオカルボニルチオ化合物および芳香族α－メチルアルケニルの二量体から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞または＜２＞に記載の感光性組成物。
　＜４＞　ラジカルトラップ剤が、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、Ｎ－オキシル化合物、ヒドラジル化合物およびフェルダジル化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞または＜２＞に記載の感光性組成物。
　＜５＞　感光性組成物の全固形分中における連鎖移動剤の含有量が０．０１～１０質量％である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜６＞　ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して、連鎖移動剤を０．１～１００質量部含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜７＞　光ラジカル重合開始剤の１００質量部に対して、連鎖移動剤を０．２～２００質量部含む、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜８＞　感光性組成物の全固形分中におけるラジカルトラップ剤の含有量が０．０１～１０質量％である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜９＞　ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して、ラジカルトラップ剤を０．１～１００質量部含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１０＞　光ラジカル重合開始剤の１００質量部に対して、ラジカルトラップ剤を０．２～２００質量部含む、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１１＞　酸基を有する樹脂を含む、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１２＞　波長３００ｎｍ以下の光でのパルス露光用の感光性組成物である、＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１３＞　最大瞬間照度５０００００００Ｗ／ｍ２以上の条件でのパルス露光用の感光性組成物である、＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１４＞　固体撮像素子用の感光性組成物である、＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１５＞　カラーフィルタ用の感光性組成物である、＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　本発明によれば、マスクの開口サイズを変更しなくても、得られるパターンの線幅を調整できるパルス露光用の感光性組成物を提供することができる。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）法により測定したポリスチレン換算値である。
　本明細書において、赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜感光性組成物＞
　本発明の感光性組成物は、ラジカル重合性化合物と、光ラジカル重合開始剤と、連鎖移動剤およびラジカルトラップ剤から選ばれる少なくとも１種と、を含む、パルス露光用の感光性組成物であることを特徴とする。
　本発明の感光性組成物はパルス露光用の感光性組成物であり、本発明の感光性組成物に対してパルス露光することで、露光部において、光ラジカル重合開始剤などの成分からラジカルを瞬間的に大量に発生させることができる。露光部においてラジカルが瞬間的に大量に発生することで、酸素による失活が抑えられるなどの効果により、ラジカル重合性モノマーを効率よく硬化させることができる。このため、本発明の感光性組成物は、硬化性およびパターン形成性に優れている。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。そして、本発明の感光性組成物によれば、マスクの開口サイズを変更しなくても、得られるパターンの線幅を調整できる。すなわち、本発明の感光性組成物にラジカルトラップ剤を含有させることにより、得られるパターンの線幅を細らせることができ、ラジカルトラップ剤の配合量を増やすことで、得られるパターンの線幅をより細らせることができる。また、本発明の感光性組成物に連鎖移動剤を含有させることにより、得られるパターンの線幅を太らせることができ、連鎖移動剤の配合量を増やすことにより、得られるパターンの線幅をより太らせることができる。
　なお、ラジカル重合性化合物と光ラジカル重合開始剤とを含む感光性組成物に対してｉ線などの連続光で露光してパターンを形成する場合においては、光ラジカル重合開始剤の配合量を調整してパターンの線幅を調整することが従来より行われているが、感光性組成物をパルス露光した場合、後述の実施例に示されるように光ラジカル重合開始剤の配合量を減らしたり、増やしたりしても、得られるパターンの線幅についてはほとんど影響がない。しかしながら、連鎖移動剤やラジカルトラップ剤を配合することにより線幅を調整可能となったことは驚くべき効果である。
　本発明の感光性組成物は、パルス露光用の感光性組成物である、露光に用いられる光は、波長３００ｎｍを超える光であってもよく、波長３００ｎｍ以下の光であってもよいが、優れた硬化性が得られやすい等の理由から波長３００ｎｍ以下の光であることが好ましく、波長２７０ｎｍ以下の光であることがより好ましく、波長２５０ｎｍ以下の光であることが更に好ましい。また、前述の光は、波長１８０ｎｍ以上の光であることが好ましい。具体的には、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、より優れた硬化性が得られやすい等の理由からＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。
　パルス露光の露光条件は次の条件であることが好ましい。パルス幅は、瞬間的にラジカルを大量に発生させやすいという理由から１００ナノ秒（ｎｓ）以下であることが好ましく、５０ナノ秒以下であることがより好ましく、３０ナノ秒以下であることが更に好ましい。パルス幅の下限は、特に限定はないが、１フェムト秒（ｆｓ）以上とすることができ、１０フェムト秒以上とすることもできる。周波数は、硬化性の観点から１ｋＨｚ以上であることが好ましく、２ｋＨｚ以上であることがより好ましく、４ｋＨｚ以上であることが更に好ましい。周波数の上限は、露光熱による基板などの変形を抑制させ易いという理由から５０ｋＨｚ以下であることが好ましく、２０ｋＨｚ以下であることがより好ましく、１０ｋＨｚ以下であることが更に好ましい。最大瞬間照度は、硬化性の観点から５０００００００Ｗ／ｍ２以上であることが好ましく、１００００００００Ｗ／ｍ２以上であることがより好ましく、２００００００００Ｗ／ｍ２以上であることが更に好ましい。また、最大瞬間照度の上限は、高照度不軌抑制の観点から１０００００００００Ｗ／ｍ２以下であることが好ましく、８００００００００Ｗ／ｍ２以下であることがより好ましく、５００００００００Ｗ／ｍ２以下であることが更に好ましい。なお、パルス幅とは、パルス周期における光が照射されている時間の長さのことである。また、周波数とは、１秒あたりのパルス周期の回数のことである。また、最大瞬間照度とは、パルス周期における光が照射されている時間内での平均照度のことである。また、パルス周期とは、パルス露光における光の照射と休止を１サイクルとする周期のことである。
　本発明の感光性組成物は、カラーフィルタ、遮光膜、赤外線透過フィルタなどの形成用の組成物として好ましく用いられる。カラーフィルタとしては、特定の波長の光を透過させる着色画素を有するフィルタが挙げられ、赤色画素、青色画素、緑色画素、黄色画素、シアン色画素およびマゼンタ色画素から選ばれる少なくとも１種の着色画素を有するフィルタであることが好ましい。赤外線透過フィルタは、赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタである。赤外線透過フィルタとしては、波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である分光特性を満たしているフィルタなどが挙げられる。赤外線透過フィルタは、以下の（１）～（４）のいずれかの分光特性を満たしているフィルタであることが好ましい。
　（１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長８００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　本発明の感光性組成物を赤外線透過フィルタ用の組成物として用いる場合、本発明の感光性組成物は、波長４００～６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎと、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘとの比であるＡｍｉｎ／Ｂｍａｘが５以上である分光特性を満たしていることが好ましい。Ａｍｉｎ／Ｂｍａｘは、７．５以上であることがより好ましく、１５以上であることが更に好ましく、３０以上であることが特に好ましい。
　ある波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（１）により定義される。
Ａλ＝－ｌｏｇ（Ｔλ／１００）　　　・・・（１）
Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率（％）である。
　本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、感光性組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように感光性組成物を塗布し、ホットプレートを用いて１００℃、１２０秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。
　本発明の感光性組成物を赤外線透過フィルタ用の組成物として用いる場合、本発明の感光性組成物は、以下の（１１）～（１４）のいずれかの分光特性を満たしていることがより好ましい。
　（１１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ１と、波長８００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ１との比であるＡｍｉｎ１／Ｂｍａｘ１が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７２０ｎｍ以上の光を透過可能な膜を形成することができる。
　（１２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ２と、波長９００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ２との比であるＡｍｉｎ２／Ｂｍａｘ２が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍ以上の光を透過可能な膜を形成することができる。
　（１３）：波長４００～８５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ３と、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ３との比であるＡｍｉｎ３／Ｂｍａｘ３が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９４０ｎｍ以上の光を透過可能な膜を形成することができる。
　（１４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ４と、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ４との比であるＡｍｉｎ４／Ｂｍａｘ４が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０４０ｎｍ以上の光を透過可能な膜を形成することができる。
　本発明の感光性組成物は、固体撮像素子用の感光性組成物として好ましく用いることができる。また、本発明の感光性組成物は、カラーフィルタ用の感光性組成物として好ましく用いることができる。具体的には、カラーフィルタの画素形成用の感光性組成物として好ましく用いることができ、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタの画素形成用の感光性組成物としてより好ましく用いることができる。
　以下、本発明の感光性組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜ラジカル重合性化合物＞＞
　本発明の感光性組成物はラジカル重合性化合物を含む。ラジカル重合性化合物としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、スチレン基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基などエチレン性不飽和結合基を有する化合物が挙げられる。
　ラジカル重合性化合物は、モノマー（以下、ラジカル重合性モノマーともいう）であってもよく、ポリマー（以下、ラジカル重合性ポリマーともいう）であってもよい。ラジカル重合性モノマーの分子量は２０００未満であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましく、１０００以下であることが更に好ましい。下限は、１００以上が好ましく、１５０以上が更に好ましい。ラジカル重合性ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００であることが好ましい。上限は、１００００００以下であることが好ましく、５０００００以下であることがより好ましい。下限は、３０００以上であることが好ましく、５０００以上であることがより好ましい。なお、ラジカル重合性ポリマーは後述する樹脂として用いることもできる。
　本発明において、ラジカル重合性化合物として、ラジカル重合性モノマーとラジカル重合性ポリマーとを併用してもよい。両者を併用することで、塗布性と硬化性とを両立させやすい。両者を併用する場合、ラジカル重合性モノマーの含有量は、ラジカル重合性ポリマーの１００質量部に対して１０～１０００質量部であることが好ましく、２０～５００質量部であることがより好ましく、５０～２００質量部であることが更に好ましい。
（ラジカル重合性モノマー）
　ラジカル重合性モノマーとしては、ラジカル重合性基（好ましくはエチレン性不飽和結合基）を２個以上有する化合物（２官能以上の化合物）であることが好ましく、ラジカル重合性基を２～１５個有する化合物（２～１５官能の化合物）であることがより好ましく、ラジカル重合性基を２～１０個有する化合物（２～１０官能の化合物）であることが更に好ましく、ラジカル重合性基を２～６個有する化合物（２～６官能の化合物）であることが特に好ましい。具体的には、ラジカル重合性モノマーは、２官能以上の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、２～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましく、２～１０官能の（メタ）アクリレート化合物であることが更に好ましく、２～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることが特に好ましい。具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ラジカル重合性モノマーのラジカル重合性基価は、１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、６ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。上限は３０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましい。なお、ラジカル重合性モノマーのラジカル重合性基価は、ラジカル重合性モノマーの１分子中に含まれるラジカル重合性基の数を重合性モノマーの分子量で割ることで算出した。また、ラジカル重合性モノマーのエチレン性不飽和結合基価（以下、Ｃ＝Ｃ価という）は、１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、６ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、硬化性の観点から１０ｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。上限は３０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましい。ラジカル重合性モノマーのＣ＝Ｃ価は、ラジカル重合性モノマーの１分子中に含まれるエチレン性不飽和結合基の数をラジカル重合性モノマーの分子量で割ることで算出した。
　ラジカル重合性モノマーは、フルオレン骨格を有するラジカル重合性モノマーを用いることも好ましい。フルオレン骨格を有するラジカル重合性モノマーは、パルス露光によって光ラジカル重合開始剤からラジカルが瞬間的に大量に発生しても、同一の分子内でラジカル重合性基同士が反応するなどの自己反応が生じにくいと考えられ、パルス露光によってラジカル重合性モノマーを効率よく硬化させて架橋密度等の高い膜を形成することができる。
　フルオレン骨格を有するラジカル重合性モノマーとしては、式（Ｆｒ）で表される部分構造を有する化合物であることが好ましい。また、フルオレン骨格を有するラジカル重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合基を２個以上有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合基を２～１５個有する化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合基を２～１０個有する化合物であることが更に好ましく、エチレン性不飽和結合基を２～６個有する化合物であることが特に好ましい。
（Ｆｒ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式中波線は、結合手を表し、Ｒｆ１およびＲｆ２はそれぞれ独立して置換基を表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立して０～５の整数を表す。ｍが２以上の場合、ｍ個のＲｆ１は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよく、ｍ個のＲｆ１のうち２個のＲｆ１同士が結合して環を形成していてもよい。ｎが２以上の場合、ｎ個のＲｆ２は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよく、ｎ個のＲｆ２のうち２個のＲｆ２同士が結合して環を形成していてもよい。Ｒｆ１およびＲｆ２が表す置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲｆ１１、－ＣＯＲｆ１２、－ＣＯＯＲｆ１３、－ＯＣＯＲｆ１４、－ＮＲｆ１５Ｒｆ１６、－ＮＨＣＯＲｆ１７、－ＣＯＮＲｆ１８Ｒｆ１９、－ＮＨＣＯＮＲｆ２０Ｒｆ２１、－ＮＨＣＯＯＲｆ２２、－ＳＲｆ２３、－ＳＯ２Ｒｆ２４、－ＳＯ２ＯＲｆ２５、－ＮＨＳＯ２Ｒｆ２６または－ＳＯ２ＮＲｆ２７Ｒｆ２８が挙げられる。Ｒｆ１１～Ｒｆ２８は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
　フルオレン骨格を有するラジカル重合性モノマーの具体例としては下記構造の化合物が挙げられる。また、フルオレン骨格を有するラジカル重合性モノマーの市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　ラジカル重合性モノマーは、下記式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－６）で表される化合物を好ましく用いることもできる。なお、式中、Ｔがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がＲに結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　上記の式において、ｎは０～１４であり、ｍは１～８である。一分子内に複数存在するＲ、Ｔ、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。
　上記式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－６）で表される化合物の各々において、複数のＲの内の少なくとも１つは、－ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２または－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２を表す。
　上記式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－６）で表される化合物の具体例としては、特開２００７－２６９７７９号公報の段落０２４８～０２５１に記載されている化合物が挙げられる。
　ラジカル重合性モノマーは、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることも好ましい。カプロラクトン構造を有する化合物は、下記式（Ｚ－１）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式（Ｚ－１）中、６個のＲは全てが式（Ｚ－２）で表される基であるか、又は６個のＲのうち１～５個が式（Ｚ－２）で表される基であり、残余が式（Ｚ－３）で表される基、酸基またはヒドロキシ基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　式（Ｚ－２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又は２の数を示し、「＊」は結合手であることを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　式（Ｚ－３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、「＊」は結合手であることを示す。
　ラジカル重合性モノマーとして、式（Ｚ－４）又は（Ｚ－５）で表される化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式（Ｚ－４）及び（Ｚ－５）中、Ｅは、各々独立に、－（（ＣＨ２）ｙＣＨ２Ｏ）－、又は－（（ＣＨ２）ｙＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）－を表し、ｙは、各々独立に０～１０の整数を表し、Ｘは、各々独立に、（メタ）アクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。式（Ｚ－４）中、（メタ）アクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは各々独立に０～１０の整数を表し、各ｍの合計は０～４０の整数である。式（Ｚ－５）中、（メタ）アクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは各々独立に０～１０の整数を表し、各ｎの合計は０～６０の整数である。
　式（Ｚ－４）中、ｍは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。また、各ｍの合計は、２～４０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～８の整数が特に好ましい。
　式（Ｚ－５）中、ｎは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。また、各ｎの合計は、３～６０の整数が好ましく、３～２４の整数がより好ましく、６～１２の整数が特に好ましい。
　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）中の－（（ＣＨ２）ｙＣＨ２Ｏ）－又は－（（ＣＨ２）ｙＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）－は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。
　ラジカル重合性モノマーは、特開２０１７－４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。
（ラジカル重合性ポリマー）
　ラジカル重合性ポリマーとしては、ラジカル重合性基を有する繰り返し単位を含む樹脂が挙げられる。
　ラジカル重合性基を有する繰り返し単位としては、下記（Ａ２－１）～（Ａ２－４）などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　Ｒ１は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｒ１は、水素原子またはメチル基が好ましい。
　Ｌ５１は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１０－（Ｒ１０は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　Ｐ１は、ラジカル重合性基を表す。ラジカル重合性基としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、スチレン基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基などエチレン性不飽和結合基が挙げられる。
　重合性ポリマーのラジカル重合性基価は、０．５～３ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。上限は、２．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、２ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。下限は、０．９ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。なお、ラジカル重合性ポリマーのラジカル重合性基価は、ラジカル重合性ポリマーの固形分１ｇあたりのラジカル重合性基価のモル量を表した数値である。また、ラジカル重合性ポリマーのＣ＝Ｃ価は、０．６～２．８ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。上限は、２．３ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、１．８ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。下限は、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．３ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。なお、ラジカル重合性ポリマーのＣ＝Ｃ価は、ラジカル重合性ポリマーの固形分１ｇあたりのエチレン性不飽和結合基のモル量を表した数値である。
　ラジカル重合性ポリマーは、酸基を有する繰り返し単位を含むことも好ましい。このようなポリマーは、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。ラジカル重合性ポリマーが酸基を有する繰り返し単位を含む場合、ラジカル重合性ポリマーの酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
　ラジカル重合性ポリマーの具体例としては、下記構造の樹脂が挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　感光性組成物の全固形分中におけるラジカル重合性化合物の含有量は、３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることが更に好ましい。下限は、硬化性の観点から３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、８質量％以上が更に好ましい。
　感光性組成物の全固形分中におけるラジカル重合性モノマーの含有量は、パターン太りを抑制し易いという理由から１５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。下限は、硬化性の観点から１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。
＜＜光ラジカル重合開始剤＞＞
　本発明の感光性組成物は光ラジカル重合開始剤を含む。光ラジカル重合開始剤は、波長３００ｎｍ以下の光に反応してラジカルを発生する化合物であることが好ましい。
　光ラジカル重合開始剤は、二光子吸収しやすい化合物であることも好ましい。なお、二光子吸収とは二個の光子を同時に吸収する励起過程のことである。
　光ラジカル重合開始剤は、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、トリアジン化合物およびオキシム化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、オキシム化合物であることがより好ましい。
　アルキルフェノン化合物としては、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α－アミノアルキルフェノン化合物などが挙げられる。
　ベンジルジメチルケタール化合物としては、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－６５１（ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物としては、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オンなどが挙げられる。α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　α－アミノアルキルフェノン化合物としては、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－１－ブタノン、２－ジメチルアミノ－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノンなどが挙げられる。α－アミノアルキルフェノン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　アシルホスフィン化合物としては、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。
　チオキサントン化合物としては、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
　トリアジン化合物としては、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－［２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル］－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－１，３，５－トリアジンなどが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１５２１５３号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１７／０５１６８０号公報に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、例えば、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物は、着色性が無い化合物や、透明性が高く、その他の成分を変色させにくい化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　また、オキシム化合物としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
　また、オキシム化合物としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
　また、オキシム化合物としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　また、オキシム化合物としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開ＷＯ２０１５／０３６９１０号公報に記載されるＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　本発明は、光ラジカル重合開始剤として、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、感光性組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開ＷＯ２０１５／００４５６５号公報、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開ＷＯ２０１７／０３３６８０号公報の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開ＷＯ２０１６／０３４９６３号公報に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光ラジカル重合開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）などが挙げられる。
　本発明は、光ラジカル重合開始剤として、ピナコール化合物を用いることもできる。ピナコール化合物としては、ベンゾピナコール、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジエトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メチルフェニル）エタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メトキシフェニル）エタン、１，２－ビス（トリメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（トリエチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（ｔ－ブチルジメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリエチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－ｔ－ブチルジメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタンなどが挙げられる。また、ピナコール化合物については、特表２０１４－５２１７７２号公報、特表２０１４－５２３９３９号公報、および、特表２０１４－５２１７７２号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明では、光ラジカル重合開始剤として、下記の条件１を満たす光ラジカル重合開始剤ｂ１を含むものを用いることが好ましい。
　条件１：光ラジカル重合開始剤ｂ１を０．０３５ｍｍｏｌ／Ｌ含むプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液に対し、波長３５５ｎｍの光を、最大瞬間照度３７５００００００Ｗ／ｍ２、パルス幅８ナノ秒、周波数１０Ｈｚの条件でパルス露光した後の量子収率ｑ３５５が０．０５以上である。
　光ラジカル重合開始剤ｂ１の量子収率ｑ３５５は、０．１０以上であることが好ましく、０．１５以上であることがより好ましく、０．２５以上であることが更に好ましく、０．３５以上であることがより一層好ましく、０．４５以上であることが特に好ましい。
　本明細書において、光ラジカル重合開始剤ｂ１の量子収率ｑ３５５は、上記条件１の条件でのパルス露光後の光ラジカル重合開始剤ｂ１の分解分子数を、光ラジカル重合開始剤ｂ１の吸収フォトン数で割ることで求めた値である。吸収フォトン数については、上記条件１の条件でのパルス露光での露光時間から照射フォトン数を求め、露光前後での３５５ｎｍの吸光度の平均を透過率に換算し、照射フォトン数に（１－透過率）をかけることで吸収フォトン数を求めた。分解分子数については、露光後の光ラジカル重合開始剤ｂ１の吸光度から光ラジカル重合開始剤ｂ１の分解率を求め、分解率に光ラジカル重合開始剤ｂ１の存在分子数をかけることで分解分子数を求めた。また、光ラジカル重合開始剤ｂ１の吸光度については、光ラジカル重合開始剤ｂ１を０．０３５ｍｍｏｌ／Ｌ含むプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を１ｃｍ×１ｃｍ×４ｃｍの光学セルに入れ、分光光度計を用いて測定することができる。分光光度計としては、例えば、Ａｇｉｌｅｎｔ社製のＨＰ８４５３を用いることができる。上記の条件１を満たす光ラジカル重合開始剤ｂ１としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３（以上、ＢＡＳＦ製）などが挙げられる。また、下記構造の化合物も上記の条件１を満たす光ラジカル重合開始剤ｂ１として好ましく用いることができる。なかでも、密着性の観点からＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２が好ましく用いられる。また、硬化性の観点から下記式（Ｉ３）で表される化合物が好ましく用いられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　また、光ラジカル重合開始剤ｂ１は、更に、下記の条件２を満たすものであることが好ましい。
　条件２：光ラジカル重合開始剤ｂ１を５質量％、樹脂を９５質量％含む厚さ１.０μｍの膜に対し、波長２６５ｎｍの光を、最大瞬間照度３７５００００００Ｗ／ｍ２、パルス幅８ナノ秒、周波数１０Ｈｚの条件でパルス露光した後の量子収率ｑ２６５が０．０５以上である。
　光ラジカル重合開始剤ｂ１の量子収率ｑ２６５は、０．１０以上であることが好ましく、０．１５以上であることがより好ましく、０．２０以上であることが更に好ましい。
　本明細書において、光ラジカル重合開始剤ｂ１の量子収率ｑ２６５は、上記条件２の条件でのパルス露光後の膜の１ｃｍ２あたりの光ラジカル重合開始剤ｂ１の分解分子数を、光ラジカル重合開始剤ｂ１の吸収フォトン数で割ることで求めた値である。吸収フォトン数については、上記条件２の条件でのパルス露光での露光時間から照射フォトン数を求め、膜１ｃｍ２あたりの照射フォトン数に（１－透過率）をかけることで吸収フォトン数を求めた。露光後の膜の１ｃｍ２あたりの光ラジカル重合開始剤ｂ１の分解分子数については、露光前後の膜の吸光度変化から光ラジカル重合開始剤ｂ１の分解率を求め、光ラジカル重合開始剤ｂ１の分解率に１ｃｍ２あたりの膜中の光ラジカル重合開始剤ｂ１の存在分子数をかけることで求めた。１ｃｍ２あたりの膜中の光ラジカル重合開始剤ｂ１の存在分子数は、膜密度を１．２ｇ／ｃｍ３として膜面積１ｃｍ２あたりの膜重量を求め、「（（１ｃｍ２あたりの膜重量×５質量％（光ラジカル重合開始剤ｂ１の含有率）／光ラジカル重合開始剤ｂ１の分子量）×６．０２×１０２３個（アボガドロ数））」として求めた。
　また、本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤ｂ１は、下記の条件３を満たすものが好ましい。
　条件３：光ラジカル重合開始剤ｂ１を５質量％と樹脂とを含む膜に対して波長２４８～３６５ｎｍの範囲のいずれかの波長の光を最大瞬間照度６２５００００００Ｗ／ｍ２、パルス幅８ナノ秒、周波数１０Ｈｚの条件で１パルスを露光した後に、膜中のラジカル濃度が膜１ｃｍ２あたり０．００００００００１ｍｍｏｌ以上に達する。
　上記条件３における上記膜中のラジカル濃度は、膜１ｃｍ２あたり０．００００００００５ｍｍｏｌ以上に達することが好ましく、０．０００００００１ｍｍｏｌ以上に達することがより好ましく、０．０００００００３ｍｍｏｌ以上に達することが更に好ましく、０．００００００１ｍｍｏｌ以上に達することが特に好ましい。
　なお、本明細書において、上述した膜中のラジカル濃度は、測定した波長の光における開始剤ｂ１の量子収率に、（１－膜の透過率）を乗じて、入射フォトン数あたりの分解率を算出し、「１パルスあたりの光子のｍｏｌ数」×「入射フォトン数あたりの開始剤ｂ１の分解率」から、膜１ｃｍ２あたりで分解する光ラジカル重合開始剤ｂ１の濃度を算出して求めた。なお、ラジカル濃度の算出にあたり、光照射によって分解した光ラジカル重合開始剤ｂ１は全てラジカルとなる（途中で反応して消失しない）と仮定して算出した値である。
　上記条件２、３における測定で用いられる樹脂としては、光ラジカル重合開始剤ｂ１と相溶するものであれば特に限定はない。例えば下記構造の樹脂（Ａ）が好ましく用いられる。繰り返し単位に付記した数値はモル比であり、重量平均分子量は４００００であり、分散度（Ｍｎ／Ｍｗ）は５．０である。
　樹脂（Ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　光ラジカル重合開始剤ｂ１は、パルス露光によってラジカルを瞬間的に大量に発生させ易いという理由からアルキルフェノン化合物およびオキシム化合物が好ましく、オキシム化合物がより好ましい。また、光ラジカル重合開始剤ｂ１は、二光子吸収しやすい化合物が好ましい。なお、二光子吸収とは二個の光子を同時に吸収する励起過程のことである。
　本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤は、１種のみであってもよく、２種以上の光ラジカル重合開始剤を含むものであってもよい。光ラジカル重合開始剤が２種以上の光ラジカル重合開始剤を含む場合は、それぞれの光ラジカル重合開始剤が上述した条件１を満たす光ラジカル重合開始剤ｂ１であってもよい。また、上述した条件１を満たす光ラジカル重合開始剤ｂ１と、上述した条件１を満たさない光ラジカル重合開始剤ｂ２とをそれぞれ１種以上含んでいてもよい。光ラジカル重合開始剤に含まれる２種以上の光ラジカル重合開始剤が、上述した条件１を満たす光ラジカル重合開始剤ｂ１のみである場合は、パルス露光によって、ラジカル重合性化合物の硬化に必要な量のラジカルを瞬間的に発生させ易い。光ラジカル重合開始剤に含まれる２種以上の光ラジカル重合開始剤が、上述した条件１を満たす光ラジカル重合開始剤ｂ１と、上述した条件１を満たさない光ラジカル重合開始剤ｂ２とをそれぞれ１種以上含む場合は、パルス露光による経時減感を抑制させやすい。
　本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤は、感度調整し易いという理由から２種以上の光ラジカル重合開始剤を含むものであることが好ましい。また、本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤が２種以上の光ラジカル重合開始剤を含む場合、硬化性の観点から光ラジカル重合開始剤は下記の条件１ａを満たすことが好ましい。
　条件１ａ：２種以上の光ラジカル重合開始剤を感光性組成物に含まれる比率で混合した混合物を０．０３５ｍｍｏｌ／Ｌ含むプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液に対し、波長３５５ｎｍの光を、最大瞬間照度３７５００００００Ｗ／ｍ２、パルス幅８ナノ秒、周波数１０Ｈｚの条件でパルス露光した後の量子収率ｑ３５５が０．０５以上であることが好ましく、０．１０以上であることがより好ましく、０．１５以上であることが更に好ましく、０．２５以上であることがより一層好ましく、０．３５以上であることがより更に一層好ましく、０．４５以上であることが特に好ましい。
　また、本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤が２種以上の光ラジカル重合開始剤を含む場合、硬化性の観点から光ラジカル重合開始剤は下記の条件２ａを満たすことが好ましい。
　条件２ａ：２種以上の光ラジカル開始剤を感光性組成物に含まれる比率で混合した混合物を５質量％、樹脂を９５質量％含む厚さ１．０μｍの膜に対し、波長２６５ｎｍの光を、最大瞬間照度３７５００００００Ｗ／ｍ２、パルス幅８ナノ秒、周波数１０Ｈｚの条件でパルス露光した後の量子収率ｑ２６５が０．０５以上であることが好ましく、０．１０以上であることがより好ましく、０．１５以上であることが更に好ましく、０．２０以上であることが特に好ましい。
　また、本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤が２種以上の光ラジカル重合開始剤を含む場合、硬化性の観点から光ラジカル重合開始剤は下記の条件３ａを満たすことが好ましい。
　条件３ａ：２種以上の光ラジカル開始剤を感光性組成物に含まれる比率で混合した混合物を５質量％と樹脂とを含む膜に対して波長２４８～３６５ｎｍの範囲のいずれかの波長の光を最大瞬間照度６２５００００００Ｗ／ｍ２、パルス幅８ナノ秒、周波数１０Ｈｚの条件で０．１秒間パルス露光した後に、膜中のラジカル濃度が膜１ｃｍ２あたり０．００００００００１ｍｍｏｌ以上に達することが好ましく、０．００００００００５ｍｍｏｌ以上に達することがより好ましく、０．０００００００１ｍｍｏｌ以上に達することが更に好ましく、０．０００００００３ｍｍｏｌ以上に達することが特に好ましく、０．００００００１ｍｍｏｌ以上に達することが最も好ましい。
　感光性組成物の全固形分中における光ラジカル重合開始剤の含有量は、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、７質量％以下が更に好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上が更に好ましい。また、光ラジカル重合開始剤の含有量は、硬化性の観点からラジカル重合性化合物の１００質量部に対して１０～２００質量部であることが好ましい。上限は、１００質量部以下であることが好ましく、５０質量部以下であることがより好ましい。下限は、２０質量部以上であることが好ましく、３０質量部以上であることがより好ましい。本発明の感光性組成物が光ラジカル重合開始剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
　また、感光性組成物の全固形分中における上述した光ラジカル重合開始剤ｂ１の含有量は、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、７質量％以下が更に好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上が更に好ましい。また、上述した光ラジカル重合開始剤ｂ１の含有量は、硬化性の観点からラジカル重合性化合物の１００質量部に対して１０～２００質量部であることが好ましい。上限は、１００質量部以下であることが好ましく、５０質量部以下であることがより好ましい。下限は、２０質量部以上であることが好ましく、３０質量部以上であることがより好ましい。本発明の感光性組成物が光ラジカル重合開始剤ｂ１を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜連鎖移動剤、ラジカルトラップ剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、連鎖移動剤およびラジカルトラップ剤から選ばれる少なくとも１種を含む。
　上述したように、本発明の感光性組成物にラジカルトラップ剤を含有させることにより、得られるパターンの線幅を細らせることができる。そして、ラジカルトラップ剤の配合量を増やすことで、得られるパターンの線幅をより細らせることができる。また、本発明の感光性組成物に連鎖移動剤を含有させることにより、得られるパターンの線幅を太らせることができ、連鎖移動剤の配合量を増やすことにより、得られるパターンの線幅をより太らせることができる。
（連鎖移動剤）
　まず、本発明の感光性組成物に用いられる連鎖移動剤について説明する。連鎖移動剤としては、チオール化合物、チオカルボニルチオ化合物、芳香族α－メチルアルケニルの２量体などが挙げられ、少量の配合量であってもパターンの線幅を調整し易いという理由からチオール化合物が好ましい。また、連鎖移動剤は、着色が少ない化合物であることが好ましい。
［チオール化合物］
　チオール化合物は、チオール基を１個以上有する化合物であり、チオール基を２個以上有する化合物であることが好ましい。チオール化合物に含まれるチオール基の数の上限は、２０以下が好ましく、１５以下がより好ましく、１０以下が更に好ましく、８以下がより一層好ましく、６以下が特に好ましい。チオール化合物に含まれるチオール基の数の下限は、３以上が好ましい。本発明の効果がより顕著に得られやすいという理由から、チオール化合物はチオール基を４個有する化合物であることが特に好ましい。
　また、チオール化合物は多官能アルコールから誘導される化合物であることも好ましい。
　チオール化合物は、下記式（ＳＨ－１）で表される化合物であることが好ましい。
　Ｌ１－（ＳＨ）ｎ　　　・・・式（ＳＨ－１）
（式中、ＳＨはチオール基を表し、Ｌ１は、ｎ価の基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）
　式（ＳＨ－１）において、Ｌ１が表すｎ価の基としては、炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Ｒは、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、水素原子が好ましい。炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、環状であってもよく、非環状であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。炭化水素基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基、および、芳香族炭化水素基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基としては、５員環または６員環が好ましい。複素環基は、脂肪族複素環基であっても、芳香族複素環基であってもよい。また、複素環基を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。Ｌ１を構成する炭素原子の数は、３～１００であることが好ましく、６～５０であることがより好ましい。
　式（ＳＨ－１）において、ｎは１以上の整数を表す。ｎの上限は、２０以下が好ましく、１５以下がより好ましく、１０以下が更に好ましく、８以下がより一層好ましく、６以下が特に好ましい。ｎの下限は、２以上が好ましく、３以上がより好ましい。ｎは４であることが特に好ましい。
　チオール化合物の具体例としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、チオール化合物の市販品としては、ＰＥＭＰ（ＳＣ有機化学株式会社製、チオール化合物）、サンセラー　Ｍ（三新化学工業（株）製、チオール化合物）、カレンズＭＴ　ＢＤ１（昭和電工（株）製、チオール化合物）なども挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
［チオカルボニルチオ化合物］
　チオカルボニルチオ化合物としては、分子内にチオカルボニルチオ基（－Ｓ－Ｃ（＝Ｓ）－）を有する化合物であって、ビス（チオカルボニル）ジスルフィド化合物（下記式（ＳＣ－１）で表される化合物）、ジチオエステル化合物（下記式（ＳＣ－２）で表される化合物）、トリチオカルボナート化合物（下記式（ＳＣ－３）で表される化合物）、ジチオカルバマート化合物（下記式（ＳＣ－４）で表される化合物）、キサンタート化合物（下記式（ＳＣ－５）で表される化合物）等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　式（ＳＣ－１）～式（ＳＣ－５）中、Ｚ１～Ｚ１１はそれぞれ独立に置換基を表す。
　Ｚ１～Ｚ１１が表す置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＳＲＺ１、－ＮＲＺ１ＲＺ２、－ＮＲＺ１－ＮＲＺ２ＲＺ３、－ＣＯＯＲＺ１、－ＯＣＯＲＺ１、－ＣＯＮＲＺ１ＲＺ２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＺ１）２又は－Ｏ－Ｐ（＝Ｏ）ＲＺ１ＲＺ２（ただし、ＲＺ１、ＲＺ２及びＲＺ３は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基である。）等が挙げられる。また、上記の基のうち、炭素原子に結合する水素原子の１個以上がシアノ基、カルボキシル基等で置換されていてもよい。
　アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環のヘテロアリール基または縮合数が２～８の縮合環のヘテロアリール基が好ましく、単環のヘテロアリール基または縮合数が２～４の縮合環のヘテロアリール基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。
　ビス（チオカルボニル）ジスルフィド化合物の具体例としては、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、ビス（ｎ－オクチルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－ドデシルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ベンジルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－ブチルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｔ－ブチルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－ヘプチルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－ヘキシルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－ペンチルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－ノニルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－デシルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｔ－ドデシルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－テトラデシルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－ヘキサデシルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド、ビス（ｎ－オクタデシルメルカプト－チオカルボニル）ジスルフィド等が挙げられる。
　ジチオエステル化合物の具体例としては、２－フェニル－２－プロピルベンゾチオエート、４－シアノ－４－（フェニルチオカルボニルチオ）ペンタン酸、２－シアノ－２－プロピルベンゾジチオエート等が挙げられる。
　トリチオカルボナート化合物の具体例としては、Ｓ－（２－シアノ－２－プロピル）－Ｓ－ドデシルトリチオカーボネート、４－シアノ－４－［（ドデシルスルファニル－チオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸、シアノメチルドデシルトリチオカルボナート、２－（ドデシルチオカルボノチオールチオ）－２－メチルプロピオン酸等が挙げられる。
　ジチオカルバマート化合物の具体例として、シアノメチルメチル（フェニル）カルバモジチオエート、シアノメチルジフェニルカルバモ－ジチオエート等が挙げられる。
　キサンタート化合物の具体例として、キサントゲン酸エステル等が挙げられる。
［芳香族α－メチルアルケニルの２量体］
　芳香族α－メチルアルケニルの２量体としては、２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテンなどが挙げられる。
　連鎖移動剤の分子量は、昇華による装置汚染を抑制できる等の理由から、２００以上であることが好ましい。上限は、重量あたりのＳＨ価数を高めることができるという理由から１０００以下が好ましく、８００以下がより好ましく、６００以下が更に好ましい。
（ラジカルトラップ剤）
　次に、本発明の感光性組成物に用いられるラジカルトラップ剤について説明する。ラジカルトラップ剤としては、ナフタレン誘導体、チオエーテル化合物、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、Ｎ－オキシル化合物、ヒドラジル化合物およびフェルダジル化合物が挙げられ、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、Ｎ－オキシル化合物、ヒドラジル化合物およびフェルダジル化合物が好ましい。また、ラジカルトラップ剤については、露光時に感光性組成物に含まれる光ラジカル重合開始剤などから発生するラジカルの量を制御して感光性組成物の感度を調整する目的上、ラジカルと定量的に反応する化合物であることが好ましい。その観点からは、ラジカルトラップ剤は、Ｎ－オキシル化合物およびヒドラジル化合物であることが好ましい。また、ラジカルトラップ能の観点からは、Ｎ－オキシル化合物が好ましく用いられる。また、感度調整の制御のし易さの観点からは、ヒドラジル化合物が好ましく用いられる。また、ラジカルトラップ剤は、着色が少ない化合物であることが好ましい。
［ナフタレン誘導体］
　ナフタレン誘導体としては、ナフトヒドロキノンスルホナートオニウム塩等のナフトヒドロキノン化合物などが挙げられる。その具体例としては、１，４－ジヒドロキシナフタレン、６－アミノ－２，３－ジヒドロ－５，８－ジヒドロキシナフタレン－１，４－ジオン、６－メチルアミノ－２，３－ジヒドロ－５，８－ジヒドロキシナフタレン－１，４－ジオン、６－エチルアミノ－２，３－ジヒドロ－５，８－ジヒドロキシナフタレン－１，４－ジオン、６－プロピルアミノ－２，３－ジヒドロ－５，８－ジヒドロキシナフタレン－１，４－ジオン、６－ブチルアミノ－２，３－ジヒドロ－５，８－ジヒドロキシナフタレン－１，４－ジオン、２－（α，α－ジメチル）ナフタレン、２－（α，αジメチルベンジル）ナフタレン、２－ｔ－アミルナフタレン、２－トリメチルシリル－１，４，５，８，－ジメチル－１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ－オクタヒドロナフタレン等が挙げられる。これらの中でも、１，４－ジヒドロキシナフタレンが特に好ましい。
［チオエーテル化合物］
　チオエーテル化合物としては、分子内に少なくとも一個のチオエーテル基を有する化合物であれば特に限定されない。例えば、３，３’－チオジプロピオン酸ジメチル、ジヘキシルチオジプロピオネート、ジノニルチオジプロピオネート、ジデシルチオジプロピオネート、ジウンデシルチオジプロピオネート、ジドデシルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート、ジテトラデシルチオジプロピオネート、ジペンタデシルチオジプロピオネート、ヘキサデシルチオジプロピオネート、ジヘプタデシルチオジプロピオネート、ジオクタデシルチオジプロピオネート、ジヘキシルチオジブチレート、ジノニルチオジブチレート、ジデシルチオジブチレート、ジウンデシルチオジブチレート、ジドデシルチオジブチレート、ジトリデシルチオジブチレート、ジテトラデシルチオジブチレート、ジペンタデシルチオジブチレート、ヘキサデシルチオジブチレート、３－メトキシ－２－［２－［シクロプロピル（３－フルオロフェニルイミノ）メチルチオメチル］フェニル］アクリル酸メチルエステル、ジヘプタデシルチオジブチレート等が挙げられる。これらの中でも、３，３’－チオジプロピオン酸ジメチルが特に好ましい。
［ヒンダードアミン化合物］
　ヒンダードアミン化合物としては、例えば、下記式（ＨＡ１）で表される部分構造を有する化合物が挙げられる。
　式（ＨＡ１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式中、波線は結合手を表し、ＲＴ１～ＲＴ４はそれぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、ＲＴ５はアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基または酸素ラジカルを表す。
　アルキル基としては、直鎖状の炭素数１～３のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アルコキシ基は、直鎖状の炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。
　ヒンダードアミン化合物の分子量は、２０００以下が好ましく、１０００以下がより好ましい。ヒンダードアミン化合物の市販品としては、アデカスタブＬＡ－５２、ＬＡ－５７、ＬＡ－７２、ＬＡ－７７Ｙ、ＬＡ－７７Ｇ、ＬＡ－８１、ＬＡ－８２、ＬＡ－８７、ＬＡ－４０２ＡＦ、ＬＡ－５０２ＸＰ（（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＴＩＮＵＶＩＮ７６５、ＴＩＮＵＶＩＮ７７０　ＤＦ、ＴＩＮＵＶＩＮ　ＸＴ　５５　ＦＢ、ＴＩＮＵＶＩＮ１１１　ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ７８３　ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ７９１　ＦＢ、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３、ＴＩＮＵＶＩＮ１４４、ＴＩＮＵＶＩＮ１５２（ＢＡＳＦ製）などが挙げられる。
［ヒンダードフェノール化合物］
　ヒンダードフェノール化合物としては、下記式（ＨＰ１）で表される構造を含む化合物が挙げられる。
式（ＨＰ１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 　式中、波線は結合手を表し、Ｒｐ１は炭素数３以上のアルキル基を表し、Ｒｐ２は置換基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍ＋ｎは４以下である。
　ヒンダードフェノール化合物の具体例としては、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、ペンタエリトリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオナート］等が挙げられる。ヒンダードフェノール化合物の市販品としては、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。
［Ｎ－オキシル化合物］
　Ｎ－オキシル化合物としては、Ｎ－オキシル基を有する化合物であれば特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、ピペリジン１－オキシル化合物類、ピロリジン１－オキシル化合物類などが挙げられる。ピペリジン１－オキシル化合物類としては、例えばピペリジン１－オキシル、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル、４－アセトアミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル、４－マレイミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル、及び４－ホスホノオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルなどが挙げられる。ピロリジン１－オキシル化合物類としては、例えば３－カルボキシプロキシル、３－カルボキシ－２，２，５，５－テトラメチルピロリジン１－オキシルなどが挙げられる。
［ヒドラジル化合物］
　ヒドラジル化合物としては、ヒドラジル基を有する化合物であれば特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、２，２－ジフェニル－１－ピクリルヒドラジル、２，２－ジ（４－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）－１－ピクリルヒドラジルなどが挙げられる。
［フェルダジル化合物］
　フェルダジル化合物としては、フェルダジル基を有する化合物であれば特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、トリフェニルフェルダジルなどが挙げられる。
　本発明の感光性組成物が連鎖移動剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における連鎖移動剤の含有量は０．０１～１０質量％であることが好ましい。上限は、９質量％以下が好ましく、８質量％以下がより好ましく、７質量％以下が更に好ましい。下限は０．０２質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１質量％以上が更に好ましい。
　また、ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して、連鎖移動剤を０．１～１００質量部含むことが好ましい。上限は、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。下限は０．５質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。
　また、光ラジカル重合開始剤の１００質量部に対して、連鎖移動剤を０．２～２００質量部含むことが好ましい。上限は、１００質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、２０質量部以下が更に好ましい。下限は１質量部以上が好ましく、１．５質量部以上がより好ましく、２質量部以上が更に好ましい。
　本発明の感光性組成物がラジカルトラップ剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中におけるラジカルトラップ剤の含有量は０．０１～１０．０質量％であることが好ましい。上限は、９質量％以下が好ましく、８質量％以下がより好ましく、７質量％以下が更に好ましい。下限は０．０２質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１質量％以上が更に好ましい。
　また、ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して、ラジカルトラップ剤を０．１～１００質量部含むことが好ましい。上限は、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。下限は０．５質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。
　また、光ラジカル重合開始剤の１００質量部に対して、ラジカルトラップ剤を０．２～２００質量部含むことが好ましい。上限は、１００質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、２０質量部以下が更に好ましい。下限は１質量部以上が好ましく、１．５質量部以上がより好ましく、２質量部以上が更に好ましい。
　本発明の感光性組成物が連鎖移動剤とラジカルトラップ剤とを含有する場合、連鎖移動剤の１００質量部に対してラジカルトラップ剤を３００～１０質量部含むことが好ましい。上限は、２５０質量部以下が好ましく、２００質量部以下がより好ましい。下限は２０質量部以上が好ましく、３０質量部以上がより好ましい。
　また、感光性組成物の全固形分中における連鎖移動剤とラジカルトラップ剤との合計の含有量は０．０１～１０．０質量％であることが好ましい。上限は、９質量％以下が好ましく、８質量％以下がより好ましく、７質量％以下が更に好ましい。下限は０．０２質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１質量％以上が更に好ましい。
　また、ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して、連鎖移動剤とラジカルトラップ剤を合計で０．１～１００質量部含むことが好ましい。上限は、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。下限は０．５質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。
　また、光ラジカル重合開始剤の１００質量部に対して、連鎖移動剤とラジカルトラップ剤を合計で０．２～２００質量部含むことが好ましい。上限は、１００質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、２０質量部以下が更に好ましい。下限は１質量部以上が好ましく、１．５質量部以上がより好ましく、２質量部以上が更に好ましい。
＜＜色材＞＞
　本発明の感光性組成物は、色材を含むことが好ましい。色材としては、有彩色着色剤、黒色着色剤、赤外線吸収色素などが挙げられる。本発明の感光性組成物に用いられる色材は、有彩色着色剤を少なくとも含むことが好ましい。
（有彩色着色剤）
　有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤、オレンジ色着色剤などが挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。好ましくは顔料である。顔料の平均粒径（ｒ）は、２０ｎｍ≦ｒ≦３００ｎｍであることが好ましく、２５ｎｍ≦ｒ≦２５０ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ≦ｒ≦２００ｎｍであることが更に好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。また、使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」ともいう。）は、平均粒径±１００ｎｍの範囲に含まれる二次粒子が全体の７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。
　顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては以下のものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）。
　これら有機顔料は、単独で若しくは種々組合せて用いることができる。
　また、黄色顔料として、下記式（Ｉ）で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも１種のアニオンと、２種以上の金属イオンと、メラミン化合物とを含む金属アゾ顔料を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 　式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、－ＯＨまたは－ＮＲ５Ｒ６であり、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、＝Ｏまたは＝ＮＲ７であり、Ｒ５～Ｒ７はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基である。Ｒ５～Ｒ７が表すアルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれであってもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基およびアミノ基が好ましい。
　式（Ｉ）において、Ｒ１およびＲ２は－ＯＨであることが好ましい。また、Ｒ３およびＲ４は＝Ｏであることが好ましい。
　金属アゾ顔料におけるメラミン化合物は、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 　式中Ｒ１１～Ｒ１３は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれであってもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基はヒドロキシ基が好ましい。Ｒ１１～Ｒ１３の少なくとも一つは水素原子であることが好ましく、Ｒ１１～Ｒ１３の全てが水素原子であることがより好ましい。
　上記の金属アゾ顔料は、上述した式（Ｉ）で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも１種のアニオンと、Ｚｎ２＋およびＣｕ２＋を少なくとも含む金属イオンと、メラミン化合物とを含む態様の金属アゾ顔料であることが好ましい。この態様においては、金属アゾ顔料の全金属イオンの１モルを基準として、Ｚｎ２＋およびＣｕ２＋を合計で９５～１００モル％含有することが好ましく、９８～１００モル％含有することがより好ましく、９９．９～１００モル％含有することが更に好ましく、１００モル％であることが特に好ましい。また、金属アゾ顔料中のＺｎ２＋とＣｕ２＋とのモル比は、Ｚｎ２＋：Ｃｕ２＋＝１９９：１～１：１５であることが好ましく、１９：１～１：１であることがより好ましく、９：１～２：１であることが更に好ましい。また、この態様において、金属アゾ顔料は、更にＺｎ２＋およびＣｕ２＋以外の二価もしくは三価の金属イオン（以下、金属イオンＭｅ１ともいう）を含んでいてもよい。金属イオンＭｅ１としては、Ｎｉ２＋、Ａｌ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋、Ｃｏ３＋、Ｌａ３＋、Ｃｅ３＋、Ｐｒ３＋、Ｎｄ２＋、Ｎｄ３＋、Ｓｍ２＋、Ｓｍ３＋、Ｅｕ２＋、Ｅｕ３＋、Ｇｄ３＋、Ｔｂ３＋、Ｄｙ３＋、Ｈｏ３＋、Ｙｂ２＋、Ｙｂ３＋、Ｅｒ３＋、Ｔｍ３＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｍｎ２＋、Ｙ３＋、Ｓｃ３＋、Ｔｉ２＋、Ｔｉ３＋、Ｎｂ３＋、Ｍｏ２＋、Ｍｏ３＋、Ｖ２＋、Ｖ３＋、Ｚｒ２＋、Ｚｒ３＋、Ｃｄ２＋、Ｃｒ３＋、Ｐｂ２＋、Ｂａ２＋が挙げられ、Ａｌ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋、Ｃｏ３＋、Ｌａ３＋、Ｃｅ３＋、Ｐｒ３＋、Ｎｄ３＋、Ｓｍ３＋、Ｅｕ３＋、Ｇｄ３＋、Ｔｂ３＋、Ｄｙ３＋、Ｈｏ３＋、Ｙｂ３＋、Ｅｒ３＋、Ｔｍ３＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｍｎ２＋およびＹ３＋から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、Ａｌ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋、Ｃｏ３＋、Ｌａ３＋、Ｃｅ３＋、Ｐｒ３＋、Ｎｄ３＋、Ｓｍ３＋、Ｔｂ３＋、Ｈｏ３＋およびＳｒ２＋から選ばれる少なくとも１種であることが更に好ましく、Ａｌ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋およびＣｏ３＋から選ばれる少なくとも１種であることが特に好ましい。金属イオンＭｅ１の含有量は、金属アゾ顔料の全金属イオンの１モルを基準として、５モル％以下であることが好ましく、２モル％以下であることがより好ましく、０．１モル％以下であることが更に好ましい。
　上記の金属アゾ顔料については、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　また、赤色顔料として、芳香族環に酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。このような化合物としては、式（ＤＰＰ１）で表される化合物であることが好ましく、式（ＤＰＰ２）で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　上記式中、Ｒ１１およびＲ１３はそれぞれ独立して置換基を表し、Ｒ１２およびＲ１４はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、ｎ１１およびｎ１３はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、Ｘ１２およびＸ１４はそれぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または窒素原子を表し、Ｘ１２が酸素原子または硫黄原子の場合は、ｍ１２は１を表し、Ｘ１２が窒素原子の場合は、ｍ１２は２を表し、Ｘ１４が酸素原子または硫黄原子の場合は、ｍ１４は１を表し、Ｘ１４が窒素原子の場合は、ｍ１４は２を表す。Ｒ１１およびＲ１３が表す置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、スルホキシド基、スルホ基などが好ましい具体例として挙げられる。
　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子が平均８～１２個であり、塩素原子が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開ＷＯ２０１５／１１８７２０号公報に記載の化合物が挙げられる。
　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落００４７に記載の化合物などが挙げられる。
　染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が挙げられる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。
（黒色着色剤）
　黒色着色剤としては、カーボンブラック、金属酸窒化物（チタンブラック等）、金属窒化物（チタンナイトライド等）などの無機黒色着色剤や、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などの有機黒色着色剤が挙げられる。有機黒色着色剤は、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１－１７０６０１号公報、特開平２－３４６６４号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。ビスベンゾフラノン化合物は、下記式のいずれかで表される化合物またはこれらの混合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して置換基を表し、ａおよびｂはそれぞれ独立して０～４の整数を表し、ａが２以上の場合、複数のＲ３は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ３は結合して環を形成していてもよく、ｂが２以上の場合、複数のＲ４は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ４は結合して環を形成していてもよい。
　Ｒ１～Ｒ４が表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ３０１、－ＣＯＲ３０２、－ＣＯＯＲ３０３、－ＯＣＯＲ３０４、－ＮＲ３０５Ｒ３０６、－ＮＨＣＯＲ３０７、－ＣＯＮＲ３０８Ｒ３０９、－ＮＨＣＯＮＲ３１０Ｒ３１１、－ＮＨＣＯＯＲ３１２、－ＳＲ３１３、－ＳＯ２Ｒ３１４、－ＳＯ２ＯＲ３１５、－ＮＨＳＯ２Ｒ３１６または－ＳＯ２ＮＲ３１７Ｒ３１８を表し、Ｒ３０１～Ｒ３１８は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
　ビスベンゾフラノン化合物の詳細については、特表２０１０－５３４７２６号公報の段落番号００１４～００３７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
（赤外線吸収色素）
　赤外線吸収色素としては、波長７００～１３００ｎｍの範囲、より好ましくは波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。赤外線吸収色素は、顔料であってもよく、染料であってもよい。
　本発明において、赤外線吸収色素としては、単環または縮合環の芳香族環を含むπ共役平面を有する化合物を好ましく用いることができる。赤外線吸収色素が有するπ共役平面を構成する水素以外の原子数は、１４個以上であることが好ましく、２０個以上であることがより好ましく、２５個以上であることが更に好ましく、３０個以上であることが特に好ましい。上限は、例えば、８０個以下であることが好ましく、５０個以下であることがより好ましい。赤外線吸収色素が有するπ共役平面は、単環または縮合環の芳香族環を２個以上含むことが好ましく、前述の芳香族環を３個以上含むことがより好ましく、前述の芳香族環を４個以上含むことが更に好ましく、前述の芳香族環を５個以上含むことが特に好ましい。上限は、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、３０個以下が更に好ましい。前述の芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、クアテリレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、キノキサリン環、ピリミジン環、キナゾリン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピロール環、インドール環、イソインドール環、カルバゾール環、および、これらの環を有する縮合環が挙げられる。
　赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびジイモニウム化合物から選ばれる少なくとも１種がより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール化合物が特に好ましい。
　ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１６／１８１９８７号公報の段落番号００４０に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１３／１３３０９９号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１４／０８８０６３号公報に記載の化合物、特開２０１４－１２６６４２号公報に記載の化合物、特開２０１６－１４６６１９号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、特開２０１７－２５３１１号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１６／１５４７８２号公報に記載の化合物、特許５８８４９５３号公報に記載の化合物、特許６０３６６８９号公報に記載の化合物、特許５８１０６０４号公報に記載の化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－８８４２６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ジイモニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明において、赤外線吸収色素は市販品を用いることもできる。例えば、ＳＤＯ－Ｃ３３（有本化学工業（株）製）、イーエクスカラーＩＲ－１４、イーエクスカラーＩＲ－１０Ａ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０１Ｂ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０５Ｋ（（株）日本触媒製）、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４１、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４２、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８１４、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８２０、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８３９（ハッコーケミカル社製）、ＥｐｏｌｉｔｅＶ－６３、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３８０１、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３０３６（ＥＰＯＬＩＮ社製）、ＰＲＯ－ＪＥＴ８２５ＬＤＩ（富士フイルム（株）製）、ＮＫ－３０２７、ＮＫ－５０６０（（株）林原製）、ＹＫＲ－３０７０（三井化学（株）製）などが挙げられる。
　感光性組成物の全固形分中における色材の含有量は、得られる膜の薄膜化の観点から４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。色材の含有量が４０質量％以上であれば、薄膜で分光特性の良い膜を形成し易い。上限は、製膜性の観点から８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が更に好ましい。
　本発明の感光性組成物に用いられる色材は、有彩色着色剤および黒色着色剤から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。また、色材の全質量中における有彩色着色剤および黒色着色剤の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、９０質量％以下とすることもできる。
　また、本発明の感光性組成物に用いられる色材は、緑色着色剤を少なくとも含むことが好ましい。また、色材の全質量中における緑色着色剤の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、７５質量％以下とすることもできる。
　本発明の感光性組成物に用いられる色材は、色材の全質量中における顔料の含有量が５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが更に好ましい。色材の全質量中における顔料の含有量が上記範囲であれば、熱による分光変動が抑制された膜が得られやすい。
　本発明の感光性組成物をカラーフィルタ用の組成物（より具体的にはカラーフィルタの着色画素形成用の組成物）として用いる場合においては、感光性組成物の全固形分中における有彩色着色剤の含有量は４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。また、色材の全質量中における有彩色着色剤の含有量は、２５質量％以上であることが好ましく、４５質量％以上であることがより好ましく、６５質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、７５質量％以下とすることもできる。また、上記色材は、緑色着色剤を少なくとも含むことが好ましい。また、上記色材の全質量中における緑色着色剤の含有量は、３５質量％以上であることが好ましく、４５質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、８０質量％以下とすることもできる。
　本発明の感光性組成物を遮光膜形成用の組成物として用いる場合においては、感光性組成物の全固形分中における黒色着色剤（好ましくは無機黒色着色剤）の含有量は４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。また、色材の全質量中における黒色着色剤の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、９０質量％以下とすることもできる。
　本発明の感光性組成物を赤外線透過フィルタ用の組成物として用いる場合、本発明で用いられる色材は、以下の（１）～（３）の少なくとも一つの要件を満たすことが好ましい。
（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。赤色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤および緑色着色剤から選ばれる２種類以上の着色剤の組み合わせで黒色を形成していることが好ましい。
（２）：有機黒色着色剤を含む。
（３）：上記（１）または（２）において、更に赤外線吸収色素を含む。
　上記（１）の態様の好ましい組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
（１－１）赤色着色剤と青色着色剤とを含有する態様。
（１－２）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤とを含有する態様。
（１－３）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
（１－４）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（１－５）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（１－６）赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（１－７）黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
　上記の（２）の態様においては、更に有彩色着色剤を含有することも好ましい。有機黒色着色剤と有彩色着色剤とを併用することで、優れた分光特性が得られ易い。有機黒色着色剤と組み合わせて用いる有彩色着色剤としては、例えば、赤色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤などが挙げられ、赤色着色剤および青色着色剤が好ましい。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、有彩色着色剤と有機黒色着色剤との混合割合は、有機黒色着色剤１００質量部に対して、有彩色着色剤が１０～２００質量部が好ましく、１５～１５０質量部がより好ましい。
　上記の（３）の態様においては、色材の全質量中における赤外線吸収色素の含有量は、５～４０質量％であることが好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明の感光性組成物は、樹脂を含有することができる。なお、本発明において樹脂とは、色材以外の有機化合物であって、分子量が２０００以上の有機化合物のことを言う。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で使用することもできる。なお、ラジカル重合性基を有する樹脂は、上述したラジカル重合性化合物にも該当する成分である。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、３０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましく用いることができる。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂は、国際公開ＷＯ２０１６／０８８６４５号公報の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明において、樹脂として酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。この態様によれば、感光性組成物の現像性を向上させることができ、矩形性に優れた画素を形成しやすい。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する樹脂は、例えば、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。
　酸基を有する樹脂は、側鎖に酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましく、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中５～７０モル％含むことがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の上限は、５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の下限は、１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましい。
　酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の詳細については、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明で用いられる樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　式（Ｘ）中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。
　酸基を有する樹脂としては、例えば下記構造の樹脂などが挙げられる。なお、以下の具体例に挙げた樹脂のうち、ラジカル重合性基を有する樹脂は上述したラジカル重合性化合物にも該当する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－３２７６７号公報の段落番号００２９～００６３に記載の共重合体（Ｂ）および実施例で用いられているアルカリ可溶性樹脂、特開２０１２－２０８４７４号公報の段落番号００８８～００９８に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－１３７５３１号公報の段落番号００２２～００３２に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１３－０２４９３４号公報の段落番号０１３２～０１４３に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１１－２４２７５２号公報の段落番号００９２～００９８および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－０３２７７０号公報の段落番号００３０～００７２に記載のバインダー樹脂を用いることもできる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。
　酸基を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００～１０００００が好ましい。また、酸基を有する樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０００～２００００が好ましい。
　本発明の感光性組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。分散剤として用いる樹脂が酸基を有する繰り返し単位を含むことにより、フォトリソグラフィ法により画素を形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができ、現像性に優れた感光性組成物とすることができる。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例は、下記の樹脂が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、グラフト共重合体としては特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００７２～００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　また、本発明において、樹脂（分散剤）として、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系共重合体を用いることも好ましい。オリゴイミン系共重合体としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する構造単位と、原子数４０～１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系共重合体については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系共重合体としては、下記構造の樹脂や、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１６８～０１７４に記載の樹脂を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　また、上述したアルカリ可溶性樹脂を分散剤として用いることもできる。
　また、分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
　分散剤は市販品を用いることもできる。例えば、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品を分散剤として用いることもできる。例えば、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ（たとえば、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６１など）などが挙げられる。なお、上記分散剤として説明した樹脂は、分散剤以外の用途で使用することもできる。例えば、バインダーとして用いることもできる。
　本発明の感光性組成物が樹脂を含む場合、感光性組成物の全固形分中における樹脂の含有量（ラジカル重合性化合物がラジカル重合性ポリマーを含む場合は、ラジカル重合性ポリマーの含有量も含む）は、５～５０質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。
　また、感光性組成物の全固形分中における酸基を有する樹脂の含有量（ラジカル重合性化合物が酸基を有するラジカル重合性ポリマーを含む場合は、酸基を有するラジカル重合性ポリマーの含有量も含む）は、５～５０質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。
　また、樹脂全量中における酸基を有する樹脂の含有量は、優れた現像性が得られやすいという理由から３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が更に好ましく、８０質量％以上が特に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、９５質量％とすることもでき、９０質量％以下とすることもできる。
　また、感光性組成物の全固形分中におけるラジカル重合性モノマーと樹脂との合計含有量は、硬化性、現像性、被膜性を並立させ易いという理由から１５～６５質量％が好ましい。下限は、２０質量％以上が好ましく、２５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５５質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましい。また、ラジカル重合性モノマーの１００質量部に対して、樹脂を３０～３００質量部含有することが好ましい。下限は５０質量部以上が好ましく、８０質量部以上がより好ましい。上限は２５０質量部以下が好ましく、２００質量部以下がより好ましい。
＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞
　本発明の感光性組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１～１００個有することが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
　エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　エポキシ基を有する化合物としては、エポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、３１０～３３００ｇ／ｅｑであることが好ましく、３１０～１７００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、３１０～１０００ｇ／ｅｑであることが更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
　本発明の感光性組成物が環状エーテル基を有する化合物を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、０．１～２０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、例えば、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。環状エーテル基を有する化合物は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。この態様によれば、得られる膜の支持体との密着性を向上させることができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　感光性組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．１～５質量％が好ましい。上限は、３質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。シランカップリング剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の感光性組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、顔料の一部を、酸基、塩基性基、塩構造を有する基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　式（Ｂ１）中、Ｐは色素構造を表し、Ｌは単結合または連結基を表し、Ｘは酸基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミドメチル基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。
　Ｐが表す色素構造としては、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造およびベンゾオキサゾール色素構造から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造およびベンゾイミダゾロン色素構造から選ばれる少なくとも１種が更に好ましい。
　Ｌが表す連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲ－、－ＳＯ2－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－もしくはこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Ｒは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
　Ｘが表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基等が挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＸ１で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＸ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＸ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ６で表される基が好ましい。ＲＸ１～ＲＸ６は、それぞれ独立に、炭化水素基または複素環基を表す。ＲＸ１～ＲＸ６が表す、炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。さらなる置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。Ｘが表す塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。Ｘが表す塩構造としては、上述した酸基または塩基性基の塩が挙げられる。
　顔料誘導体としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平１－２１７０７７号公報、特開平３－９９６１号公報、特開平３－２６７６７号公報、特開平３－１５３７８０号公報、特開平３－４５６６２号公報、特開平４－２８５６６９号公報、特開平６－１４５５４６号公報、特開平６－２１２０８８号公報、特開平６－２４０１５８号公報、特開平１０－３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開ＷＯ２０１１／０２４８９６号公報の段落番号００８６～００９８、国際公開ＷＯ２０１２／１０２３９９号公報の段落番号００６３～００９４、国際公開ＷＯ２０１７／０３８２５２号公報の段落番号００８２等に記載の化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。本発明において有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　感光性組成物中における溶剤の含有量は、１０～９５質量％であることが好ましく、２０～９０質量％であることがより好ましく、３０～９０質量％であることが更に好ましい。
　また、本発明の感光性組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、感光性組成物中における環境規制物質の含有量が５０質量ｐｐｍ以下であることを意味し、３０質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１質量ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えばベンゼン；トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類；クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、ＲＥＡＣＨ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ　Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ　Ａｕｔｈｏｒｉｚａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ　ｏｆ　ＣＨｅｍｉｃａｌｓ）規則、ＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ　Ｒｅｌｅａｓｅ　ａｎｄ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｒｅｇｉｓｔｅｒ）法、ＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、本発明の感光性組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒として感光性組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物（例えば重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液）の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製した組成物の段階いずれの段階でも可能である。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ベンゾキノン、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。感光性組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．００１～５質量％が好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８～０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明において、界面活性剤はフッ素系界面活性剤であることが好ましい。感光性組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　シリコン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。また、シリコン系界面活性剤は、下記構造の化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　感光性組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の具体例としては、下記構造の化合物などが挙げられる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　感光性組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の感光性組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の感光性組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開ＷＯ２０１４／０２１０２３号公報、国際公開ＷＯ２０１７／０３０００５号公報、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
　本発明の感光性組成物の粘度（２３℃）は、例えば、塗布により膜を形成する場合、１～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
＜収容容器＞
　本発明の感光性組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
＜感光性組成物の調製方法＞
　本発明の感光性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。感光性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して感光性組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して感光性組成物として調製してもよい。
　また、本発明の感光性組成物が顔料などの粒子を含む場合は、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　本発明の感光性組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で感光性組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１～３．０μｍ程度であり、更に好ましくは０．０５～０．５μｍ程度である。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジが挙げられる。フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜光学フィルタの製造方法＞
　次に、本発明の感光性組成物を用いた光学フィルタの製造方法について説明する。光学フィルタの種類としては、カラーフィルタ、赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　本発明における光学フィルタの製造方法は、上述した本発明の感光性組成物を支持体上に適用して感光性組成物層を形成する工程（感光性組成物層形成工程）と、感光性組成物層に対して光をパルス的に照射してパターン状に露光（パルス露光）する工程（露光工程）と、未露光部の感光性組成物層を現像除去して画素を形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。以下、各工程について説明する。
（感光性組成物層形成工程）
　感光性組成物層形成工程では、上述した本発明の感光性組成物を支持体上に適用して感光性組成物層を形成する。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。また、ＩｎＧａＡｓ基板などを用いることも好ましい。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
　支持体への感光性組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、感光性組成物の適用方法については、国際公開ＷＯ２０１７／０３０１７４号公報、国際公開ＷＯ２０１７／０１８４１９号公報の記載された方法を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　支持体に感光性組成物を適用した後、更に乾燥（プリベーク）を行ってもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２００秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
（露光工程）
　次に、上述のようにして形成した支持体上の感光性組成物層に対して、光をパルス的に照射してパターン状に露光（パルス露光）する。感光性組成物層に対し、所定のマスクパターンを有するマスクを介してパルス露光することで、感光性組成物層をパターン状にパルス露光することができる。これにより、感光性組成物層の露光部分を硬化することができる。
　パルス露光に際して用いる光は、波長３００ｎｍを超える光であってもよく、波長３００ｎｍ以下の光であってもよいが、より優れた硬化性が得られやすい等の理由から波長３００ｎｍ以下の光であることが好ましく、波長２７０ｎｍ以下の光であることがより好ましく、波長２５０ｎｍ以下の光であることが更に好ましい。また、前述の光は、波長１８０ｎｍ以上の光であることが好ましい。具体的には、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、より優れた硬化性が得られやすい等の理由からＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。
　パルス露光条件は次の条件であることが好ましい。パルス幅は、瞬間的にラジカル等の活性種を大量に発生させ易いという観点から１００ナノ秒（ｎｓ）以下であることが好ましく、５０ナノ秒以下であることがより好ましく、３０ナノ秒以下であることが更に好ましい。パルス幅の下限は、特に限定はないが、１フェムト秒（ｆｓ）以上とすることができ、１０フェムト秒以上とすることもできる。周波数は、硬化性の観点から１ｋＨｚ以上であることが好ましく、２ｋＨｚ以上であることがより好ましく、４ｋＨｚ以上であることが更に好ましい。周波数の上限は、露光熱による基板などの変形を抑制させ易いという理由から５０ｋＨｚ以下であることが好ましく、２０ｋＨｚ以下であることがより好ましく、１０ｋＨｚ以下であることが更に好ましい。最大瞬間照度は、硬化性の観点から５０００００００Ｗ／ｍ２以上であることが好ましく、１００００００００Ｗ／ｍ２以上であることがより好ましく、２００００００００Ｗ／ｍ２以上であることが更に好ましい。また、最大瞬間照度の上限は、高照度不軌抑制の観点から１０００００００００Ｗ／ｍ２以下であることが好ましく、８００００００００Ｗ／ｍ２以下であることがより好ましく、５００００００００Ｗ／ｍ２以下であることが更に好ましい。露光量は、１～１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。上限は５００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。下限は、１０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ２以上が更に好ましい。
　露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。
（現像工程）
　次に、露光工程後の感光性組成物層における未露光部の感光性組成物層を現像除去して画素（パターン）を形成する。未露光部の感光性組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、未露光部の感光性組成物層が現像液に溶出し、上記の露光工程で光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。なお、アルカリ性水溶液を現像液として使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。追加露光処理や、ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の処理である。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。
　形成される画素（パターン）の膜厚としては、画素の種類に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、２．０μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましく、０．３～１．０μｍが更に好ましい。上限は、０．８μｍ以下が好ましく、０．６μｍ以下がより好ましい。下限値は、０．４μｍ以上が好ましい。
　また、形成される画素（パターン）のサイズ（線幅）としては、用途や、画素の種類に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、２．０μｍ以下が好ましい。上限は、１．０μｍ以下が好ましく、０．９μｍ以下がより好ましい。下限値は、０．４μｍ以上が好ましい。
　複数種類の画素を有する光学フィルタを製造する場合、少なくとも１種類の画素を上述した工程を経て形成すればよく、最初に形成する画素（１種類目の画素）を上述した工程を経て形成することが好ましい。２番目以降に形成する画素（２種類目以降の画素）については、上記と同様の工程を経て形成してもよく、露光を連続光で行って画素を形成してもよい。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
＜樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）の測定）
　樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により、以下の条件で測定した。
カラムの種類：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺＭ－Ｈと、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ４０００と、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ２０００とを連結したカラム
展開溶媒：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流量（サンプル注入量）：１．０μＬ（サンプル濃度：０．１質量％）
装置名：東ソー製　ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
検量線ベース樹脂：ポリスチレン樹脂
＜感光性組成物の調製＞
　下記表に記載の原料を混合した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、固形分濃度２０質量％の感光性組成物（組成物１～２６、Ｒ１～Ｒ３）を調製した。なお、組成物１～８、１０～２６、Ｒ１～Ｒ３の固形分濃度はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の配合量を変えることで調整した。また、組成物９の固形分濃度はＰＧＭＥＡとポリエチレングリコールモノメチルエーテルとの混合溶剤（ＰＧＭＥＡ：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル＝９：１（質量比））の配合量を変えることで調整した。下記表に示す配合量の欄の数値は質量部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
　上記表に記載の原料は以下の通りである。
　（顔料分散液）
　Ａ１：以下の方法で調製した顔料分散液
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　５８の１０．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１８５の２．７質量部、顔料誘導体１の１．３質量部、分散剤１の５．３質量部、および、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の８０質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ１を調製した。この顔料分散液Ａ１は、固形分濃度が２０質量％であり、顔料含有量が１３．４質量％であった。
　顔料誘導体１：下記構造の化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 　分散剤１：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝２６０００、主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　Ａ２：以下の方法で調製した顔料分散液
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６の１１．８質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３の３．０質量部、分散剤２の５．２質量部、および、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の８０質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ２を調製した。この顔料分散液は、固形分濃度が２０質量％であり、顔料含有量が１４．８質量％であった。
　分散剤２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ：２００００、Ｃ＝Ｃ価：０．７ｍｍｏｌ／ｇ、酸価：７２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　Ａ３：以下の方法で調製した顔料分散液
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４の１１．８質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９の３．０質量部、分散剤２の５．２質量部、および、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の８０質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ３を調製した。この顔料分散液は、固形分濃度が２０質量％であり、顔料含有量が１４．８質量％であった。
　（樹脂）
　Ｂ１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ：１０，０００、酸価：７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｂ２：アクリベースＦＦ－４２６（藤倉化成（株）製、アルカリ可溶性樹脂）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
（ラジカル重合性モノマー）
　Ｍ１：下記構造の化合物（アクリレートモノマー、ラジカル重合性基価：１１．４ｍｍｏｌ／ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 　Ｍ２：オグソールＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）
（光ラジカル重合開始剤）
　Ｉ１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシム化合物）
　Ｉ２：下記構造の化合物（オキシム化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 　Ｉ３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９（ＢＡＳＦ社製、α－アミノアルキルフェノン化合物）
　（界面活性剤）
　Ｗ１：ＫＦ－６００２（信越シリコーン（株）製）
　Ｗ２：下記構造の化合物（Ｍｗ：１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
　（連鎖移動剤）
　ＣＴ１：ペンタエリトリトールテトラ（３－メルカプトプロピオナート）
　ＣＴ２：２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン
　ＣＴ３：シアノメチルドデシルトリチオカルボナート
　ＣＴ４：サンセラー　Ｍ（三新化学工業（株）製、チオール化合物）
　ＣＴ５：２－シアノ－２－プロピルドデシルトリチオカルボナート
　ＣＴ６：カレンズＭＴ　ＢＤ１（昭和電工社（株）製、チオール化合物）
　（ラジカルトラップ剤）
　ＲＴ１：２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル
　ＲＴ２：２，２－ジフェニル－１－ピクリルヒドラジル
　ＲＴ３：アデカスタブＡＯ－２０（（株）ＡＤＥＫＡ製）
　ＲＴ４：アデカスタブ　ＬＡ－５２（（株）ＡＤＥＫＡ製）
　ＲＴ５：トリフェニルフェルダジル
　ＲＴ６：アデカスタブＡＯ－６０Ｇ（（株）ＡＤＥＫＡ製）
　（添加剤）
　ＵＶ１：ＵＶ－５０３（大東化学（株）製、紫外線吸収剤）
＜評価＞
　上記で得られた各感光性組成物を、下塗り層付き８インチ（２０３．２ｍｍ）のシリコンウェハ上に塗布後の膜厚が０．５μｍとなるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用い、１００℃で２分間ポストベークした。次いで、ＫｒＦスキャナ露光機を用い、０．９μｍ四方のベイヤーパターンを有するマスクを介して、以下の条件でパルス露光を行った。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用い、２００℃で５分間加熱（ポストベーク）することで、画素（パターン）を形成した。パルス露光条件は以下の通りである。
　露光光：ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）
　露光量：試験例１～２６については２００ｍＪ／ｃｍ２、試験例Ｒ１～Ｒ３については２００ｍＪ／ｃｍ２、２５０または３００ｍＪ／ｃｍ２
　最大瞬間照度：２５０００００００Ｗ／ｍ２（平均照度：３００００Ｗ／ｍ２）
　パルス幅：３０ナノ秒
　周波数：４ｋＨｚ
　形成された画素（パターン）を走査型電子顕微鏡で観察し、画素の線幅を測定した。下記表に、各露光量に対する形成された画素（パターン）の線幅を記す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
　上記表に示すように、連鎖移動剤を含有する組成物１～３、７、９、１１～２２を用いた試験例１～３、７、９、１１～２２は、試験例Ｒ１～Ｒ３よりも画素（パターン）の線幅を太らせることができた。また、ラジカルトラップ剤を含有する組成物４～６、８、１０、２３～２６を用いた試験例４～６、８、１０、２３～２６は、試験例Ｒ１～Ｒ３よりも画素（パターン）の線幅を細くすることができた。このように、本発明によれば、マスクの開口サイズを変更しなくても、得られるパターンの線幅を調整できた。
　また、試験例１～２６によって得られた画素は底部まで十分に硬化しており、試験例Ｒ１～Ｒ３によって得られた画素と同等の優れた密着性や耐溶剤性などの特性を有していた。
　一方、試験例Ｒ１～Ｒ３については、露光量を変化させても得られるパターンの線幅はほとんど変化がなかった。
　組成物１～２６において、顔料分散液Ａ１のかわりに以下の方法で調製した顔料分散液Ａ１００を用いて調製した組成物を用いた場合であっても、試験例１～２６と同様の効果が得られる。
　（顔料分散液Ａ１００）
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　３６の１０．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１８５の２．７質量部、顔料誘導体１の１．３質量部、分散剤１の５．３質量部、および、ＰＧＭＥＡの８０質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ１００を調製した。
 

Claims (15)

  1. 　ラジカル重合性化合物と、
    　光ラジカル重合開始剤と、
    　連鎖移動剤およびラジカルトラップ剤から選ばれる少なくとも１種と、
    　を含む、パルス露光用の感光性組成物。
  2. 　さらに色材を含む、請求項１に記載の感光性組成物。
  3. 　前記連鎖移動剤が、チオール化合物、チオカルボニルチオ化合物および芳香族α－メチルアルケニルの二量体から選ばれる少なくとも１種である、請求項１または２に記載の感光性組成物。
  4. 　前記ラジカルトラップ剤が、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、Ｎ－オキシル化合物、ヒドラジル化合物およびフェルダジル化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１または２に記載の感光性組成物。
  5. 　感光性組成物の全固形分中における前記連鎖移動剤の含有量が０．０１～１０質量％である、請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  6. 　前記ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して、前記連鎖移動剤を０．１～１００質量部含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  7. 　前記光ラジカル重合開始剤の１００質量部に対して、前記連鎖移動剤を０．２～２００質量部含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  8. 　感光性組成物の全固形分中における前記ラジカルトラップ剤の含有量が０．０１～１０質量％である、請求項１～７のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  9. 　ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して、ラジカルトラップ剤を０．１～１００質量部含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  10. 　光ラジカル重合開始剤の１００質量部に対して、ラジカルトラップ剤を０．２～２００質量部含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  11. 　酸基を有する樹脂を含む、請求項１～１０のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  12. 　波長３００ｎｍ以下の光でのパルス露光用の感光性組成物である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  13. 　最大瞬間照度５０００００００Ｗ／ｍ２以上の条件でのパルス露光用の感光性組成物である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  14. 　固体撮像素子用の感光性組成物である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  15. 　カラーフィルタ用の感光性組成物である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の感光性組成物。
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