WO2019155948A1 - フレキシブルプリント基板の製造方法 - Google Patents

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WO2019155948A1
WO2019155948A1 PCT/JP2019/003043 JP2019003043W WO2019155948A1 WO 2019155948 A1 WO2019155948 A1 WO 2019155948A1 JP 2019003043 W JP2019003043 W JP 2019003043W WO 2019155948 A1 WO2019155948 A1 WO 2019155948A1
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WO
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resin layer
layer
flexible printed
printed circuit
circuit board
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PCT/JP2019/003043
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English (en)
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源太郎 鈴木
智 海老原
高久 加藤
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日本メクトロン株式会社
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board.
  • a polyimide is generally used for a base material and a cover material of a flexible printed circuit board from the viewpoint of supporting dimensional stability and heating in a solder reflow process.
  • black polyimide or white-coated polyimide coated with a white film has been used.
  • the printed circuit board which used the highly transparent polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN) as a base material exists.
  • a carrier sheet (carrier film) is used in order to improve the handleability by imparting stiffness to a thin material and to protect the surface by preventing wrinkling, bending and warping of the material. It may be used (for example, patent documents 1 and 2).
  • a transparent printed circuit board based on PET or PEN has a low heat resistant temperature. Therefore, this transparent printed circuit board cannot withstand a high-temperature manufacturing process (for example, a solder reflow process at 260 ° C. for about 4 minutes).
  • the carrier sheet as described above has problems in terms of heat resistance and releasability when subjected to a high-temperature manufacturing process.
  • the present disclosure can be applied to the production of a printed circuit board having a high design property such as a transparent printed circuit board, and a flexible material that can be used as a base material for a flexible printed circuit board even with a material that does not have reflow resistance alone. It aims at providing the manufacturing method of a printed circuit board.
  • thermosetting resin for the first resin layer used as the base material and further providing a support layer. That is, in the method for manufacturing a flexible printed board according to the present disclosure, a support layer, a second resin layer, a first resin layer containing a thermoplastic resin, and a conductor on which a circuit pattern is formed are laminated in this order. After the step of forming the laminated body contained, forming the coating layer on the conductor, and forming the coating layer, the obtained flexible printed circuit board is soldered in a state having the support layer. Subjecting to a reflow process.
  • the method for producing a flexible printed circuit board provided by the present disclosure can also be applied to the production of a printed circuit board having high design properties such as a transparent printed circuit board. Furthermore, according to this manufacturing method, even a single material that does not have reflow resistance can be used as the base material of the flexible printed circuit board.
  • a support layer, a second resin layer, a first resin layer containing a thermoplastic resin, and a conductor on which a circuit pattern is formed are laminated in this order.
  • the obtained flexible printed circuit board is subjected to a solder reflow process in a state having the support layer.
  • thermosetting resin a resin layer containing a thermosetting resin
  • the first resin layer can withstand reflow at a high temperature.
  • thermosetting resin A known thermoplastic resin can be used.
  • the thermosetting resin does not have a melting point or has a melting point of 260 ° C. or higher. The upper limit of the melting point is not particularly limited.
  • the melting point is, for example, 350 ° C. or less.
  • a commercially available material can also be used for the thermosetting resin.
  • a transparent adhesive sheet SAFS manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd.
  • the melting point Tm can be measured according to JIS K7121 by differential scanning calorimetry (DSC) at a heating rate of 10 ° C./min and a measuring temperature range of 25 to 300 ° C.
  • the temperature at the peak of the melting peak is defined as the melting point Tm.
  • thermosetting resin as a base material
  • a transparent flexible printed board using a transparent thermosetting resin is preferable.
  • Transparent means that visible light having a wavelength of 380 to 780 nm is transmitted ().
  • the light transmittance of visible light is preferably 60% or more, and more preferably 70% or more.
  • the thickness of the first resin layer is not particularly limited.
  • the thickness is preferably 5 to 50 ⁇ m, more preferably 12.5 to 40 ⁇ m, and particularly preferably 12.5 to 30 ⁇ m. It is preferable to select the thickness as appropriate according to the application such as when used for a conductor laminate or when used for a cover film.
  • the same material can be used for the first resin layer of the conductor laminate and the first resin layer of the cover film. Alternatively, different materials can be used.
  • ⁇ Conductor> There is no restriction
  • ⁇ Second resin layer> There is no restriction
  • Known resins can be employed. Preferable examples include at least one selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, acrylic urethane resins, polyester urethane resins, and mixed resins thereof. From the viewpoint of adhesion to the support layer, more preferred resins are acrylic urethane resins and / or polyester urethane resins. From the viewpoint of improving heat resistance, the second resin layer preferably has no melting point, or has a melting point of 260 ° C. or higher. The upper limit of the melting point is not particularly limited. The upper limit is 350 degrees C or less, for example.
  • a known resin such as an alkyd resin may be mixed as needed in order to control the adhesion with the support layer.
  • 1 to 30 alkyd resins are added to 100 parts by mass of at least one resin selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, acrylic urethane resins, polyester urethane resins, and mixed resins thereof. Examples thereof include resins prepared by mixing parts by mass.
  • the content of the alkyd resin is preferably 5 to 15 parts by mass.
  • a commercially available material can be used for the second resin layer.
  • Byron UR1700 manufactured by Toyobo Co., Ltd.
  • MS8 manufactured by Seiko Advance
  • a transparent material or a material having color tone can also be used for the second resin layer.
  • the first resin layer and the second resin layer should not be deformed even if a heat treatment test at 260 ° C. for 4 minutes is performed on the flexible printed circuit board using the first resin layer and the second resin layer.
  • the heat treatment test can be performed, for example, by the following method. After the polyimide film, the second resin layer, the first resin layer, the copper foil, the first resin layer, the second resin layer, and the polyimide film are laminated in this order, the flexible printed circuit board is obtained by heat laminating. can get.
  • the polyimide film used has a thickness of 25 ⁇ m (manufactured by Kaneka Corporation).
  • the thickness of the copper foil used is 18 ⁇ m (Mitsui Metals).
  • the thickness of the first resin layer is set to 25 ⁇ m.
  • the thickness of the second resin layer is set to 5 ⁇ m.
  • the temperature is set to 260 ° C. using a perfect oven (manufactured by Espec).
  • the sample of the obtained flexible printed circuit board is left to stand for 4 minutes and then heat-treated. After the heat treatment, the presence or absence of deformation of the sample is observed. Specifically, the presence or absence of wrinkles and the presence or absence of creases in the second resin layer and the first resin layer are visually observed. Also, the dimensional change rate of the second resin layer and the first resin layer [(
  • the thickness of the second resin layer is not particularly limited.
  • the thickness is preferably 1 to 15 ⁇ m, more preferably 1 to 10 ⁇ m. It is preferable to select the thickness appropriately according to the use of the carrier film or the cover film.
  • the same material can be used for the second resin layer of the carrier film and the second resin layer of the cover film. Alternatively, different materials can be used.
  • the interface between the first resin layer and the second resin layer and / or the interface between the second resin layer and the support layer can be peeled off.
  • peeling strength tester with a peeling force when a sample having a width of 50 mm is measured at a peeling angle of 170 ° and a speed of 2.5 mm / sec as an index.
  • a preferred index is 400 g / 50 mm. If the peel force is less than or equal to the index, the sample is determined to be peelable. A more preferable index is 1 to 50 g / 50 mm. A more preferable index is 15 to 35 g / 50 mm.
  • the peel force can be measured by the following method.
  • a peel strength tester (PFT-50S, manufactured by PALMEC) a flexible printed circuit board sample cut to a width of 50 mm and a length of 150 mm was measured at room temperature (25 ° C.) at an angle of 170 ° and 2.5 mm / sec.
  • the peeling force can be measured by peeling.
  • the sample is set so that peeling starts from the side in the width direction of 50 mm of the sample. Thereby, the peeling force between the first resin layer and the second resin layer and the peeling force between the second resin layer and the support layer can be measured.
  • a coating layer is formed on the conductor on which the circuit pattern is formed.
  • the coating layer is not particularly limited.
  • the coating layer is a cover film or a cover coat layer including a support layer, a second resin layer, and a first resin layer laminated in this order.
  • the step of forming the covering layer includes the step of forming the first resin layer surface of the cover film including the support layer, the second resin layer, and the first resin layer laminated in this order. It is preferable to include bonding to a conductor on which a circuit pattern is formed.
  • a known material and a known method can be applied to the cover coat layer.
  • the cover coat layer can be formed by applying and curing a resin by a screen printing method or the like.
  • the material of the cover coat layer used include the same material as the second resin.
  • PAF-300 manufactured by Tamura Corporation can be used.
  • the thickness of the cover coat layer is not particularly limited. The thickness is preferably 5 to 40 ⁇ m, more preferably 10 to 30 ⁇ m.
  • the support layer can be used for a carrier film and a cover film.
  • the support layer protects the surface by suppressing, for example, wrinkles, bending, and warping of the first resin layer that is the base material.
  • materials usually used for carrier films and the like can be used.
  • the support layer preferably has no melting point or has a melting point of 260 ° C. or higher.
  • the upper limit of the melting point is not particularly limited.
  • the melting point is, for example, 350 ° C. or less.
  • the support layer preferably contains, for example, polyimide, PEN (polyethylene naphthalate), PPS (polyphenylene sulfide), or other super engineering plastic.
  • the support layer includes polyimide.
  • the thickness of the support layer is not particularly limited. The thickness is preferably 5 to 50 ⁇ m, more preferably 12.5 to 30 ⁇ m. It is preferable to select the thickness appropriately according to the use of the carrier film or the cover film. By using such a support layer, even a single material having no reflow resistance can be used as a base material of a flexible printed circuit board. The same material can be used for the support layer of the carrier film and the support layer of the cover film. Alternatively, different materials can be used.
  • the method for manufacturing a flexible printed board according to the present embodiment includes a support layer, a second resin layer, a first resin layer, and a conductor on which a circuit pattern is formed, which are stacked in this order. Including obtaining a laminate. For example, such a laminate is formed by laminating a support layer, a second resin layer, a first resin layer, and a conductor in this order and thermally laminating them, and then forming a circuit pattern on the conductor. Can get. As long as the effect of the present embodiment is not impaired, for example, a known adhesive layer may be used as the other layer.
  • the step of obtaining a laminate preferably includes the following steps.
  • Step (1) a conductor laminate including a laminated conductor and a first resin layer, and a carrier film including a laminated support layer and a second resin layer, the first resin layer and The step of bonding so that the second resin layer is in contact
  • Step (2) The step of forming a circuit pattern on the conductor layer of the laminated body bonded
  • the manufacturing method of the flexible printed circuit board of this embodiment includes forming a coating layer on the conductor on which the circuit pattern is formed after the laminate is obtained.
  • the covering layer is preferably a cover coat layer.
  • the process of forming a coating layer is the following process (3).
  • Step (3) The circuit pattern is formed on the first resin layer surface of the cover film including the support layer, the second resin layer, and the first resin layer laminated in this order. Steps for bonding to the conductors The steps (1) to (3) will be described below with reference to the drawings.
  • the method for laminating the conductor 11 and the first resin layer 12 to obtain the conductor laminate 10 is not particularly limited.
  • a known method can be employed.
  • a method of heat laminating under conditions of 5 to 20 seconds is mentioned. If necessary, a curing treatment at 60 to 200 ° C. for 1 to 6 hours may be performed for resin curing.
  • the method for obtaining the carrier film 15 by laminating the second resin layer 14 on the support layer 13 is not particularly limited. A known method can be employed.
  • a method of laminating a second resin layer on a support layer heat laminating under conditions of a temperature of 80 to 120 ° C., a pressure of 1 to 2 MPa, and a time of 5 to 20 seconds;
  • An example is a method in which a resin is applied to a support layer and dried under conditions of a temperature of 140 to 180 ° C. and a time of 1 to 10 minutes. If necessary, the resin may be cured at 60 to 200 ° C. for 1 to 6 hours.
  • the conductor laminate 10 and the carrier film 15 obtained as described above are bonded so that the first resin layer 12 and the second resin layer 14 are in contact with each other (FIG. 1). .
  • heat treatment such as heat lamination may be performed as necessary.
  • Preferred conditions for the heat treatment are, for example, a temperature of 90 to 185 ° C., a pressure of 1 to 2 MPa, and a time of 10 to 300 seconds.
  • a curing treatment at 60 to 200 ° C. for 1 to 6 hours may be performed for resin curing.
  • a circuit pattern is formed on the conductor 11 of the multilayer body obtained in the step (1) (FIG. 2).
  • the formation of the circuit pattern is not particularly limited.
  • a known method can be used.
  • a method of forming a circuit pattern using a photofabrication technique can be given.
  • a cover film including a support layer, a second resin layer, and a first resin layer laminated in this order is used.
  • the method for obtaining the cover film 16 is not particularly limited. A known method can be employed.
  • the second resin layer 14 and the first resin layer 12 are laminated on the support layer 13 in this order, and thermal lamination is performed under conditions of a temperature of 80 to 120 ° C., a pressure of 1 to 2 MPa, and a time of 5 to 20 seconds. The method of doing is mentioned.
  • a liquid second resin is applied to the support layer, dried under conditions of a temperature of 140 to 180 ° C. and a time of 1 to 10 minutes, and then the first resin as described above.
  • a method of thermally laminating the layers is mentioned. If necessary, after the second resin is applied or after heat lamination, a curing treatment may be performed at 60 to 200 ° C. for 1 to 6 hours for resin curing.
  • the cover film 16 obtained as described above, and the laminate on which the circuit pattern obtained in the step (2) is formed are the first resin layer 12 of the cover film 16 and the conductor 11 of the laminate. Are attached so that they touch each other (FIG. 3).
  • a heat laminating process such as flat plate heat laminating is performed.
  • the conditions for laminating are not particularly limited. The conditions can be appropriately selected depending on the material to be used.
  • Preferred laminating conditions are, for example, a temperature of 90 to 185 ° C., a pressure of 1 to 2 MPa, and a time of 10 to 300 seconds. If necessary, a curing treatment at 60 to 200 ° C. for 1 to 6 hours may be performed for resin curing.
  • the flexible printed circuit board 20 is obtained in which the first resin layer 12, the second resin layer 14, and the support layer 13 are laminated in this order around the conductor 11. be able to.
  • the resin may be applied and cured by screen printing or the like on the conductor of the laminated body in which the circuit pattern is formed obtained in the step (2). .
  • the cover coat layer 17 can be formed and the flexible printed circuit board 20 can be obtained (FIG. 5).
  • the obtained flexible printed circuit board 20 may be appropriately subjected to processing such as drilling or cutting.
  • the processed flexible printed circuit board 20 can be subjected to a component mounting process including solder reflow.
  • the solder reflow includes, for example, heat treatment under preheating conditions of 140 to 210 ° C., 40 to 120 seconds, reflow 220 to 260 ° C., and 20 to 90 seconds. Drilling or the like may be performed on the cover film in advance.
  • the flexible printed circuit board 20 For the production of the flexible printed circuit board 20, various production methods such as a single wafer method can be adopted.
  • the flexible printed circuit board 20 can be reflowed with the support layer 13.
  • the flexible printed circuit board 20 has high heat resistance. That is, after the step of forming the coating layer, the obtained flexible printed board can be subjected to a solder reflow step in a state having a support layer. Since the flexible printed circuit board has the support layer 13, even the first resin layer and / or the second resin layer that do not have reflow resistance alone can withstand the reflow process.
  • a laminate including a support layer, a second resin layer, a first resin layer, and a conductor in which a circuit pattern is formed in this order includes a support layer, a second resin layer, It is also a preferred embodiment that the laminate includes the first resin layer A, the conductor 1 on which the circuit pattern is formed, the first resin layer B, and the conductor 2 on which the circuit pattern is formed in this order. .
  • conductors on which circuit patterns are formed are arranged on the plurality of surfaces of the first resin layer B.
  • the material for the double-sided flexible printed board the same materials as described above can be used.
  • the step of obtaining the above-mentioned laminate is preferably by laminating the conductor 1 and the conductor 2 on each of both surfaces of the first resin layer B, the conductor 1 And forming a circuit pattern on the conductor 2, and the carrier film including the support layer, the second resin layer, and the first resin layer A laminated in this order. It includes bonding the first resin layer A surface to the conductor 1 on which the circuit pattern is formed.
  • the conductor 11 (conductor 11-1 and conductor 11-2) is laminated on both surfaces of the first resin layer 12B (first resin layer B) (FIG. 6).
  • first resin layer B first resin layer B
  • circuit patterns are formed on the conductors 11 (conductor 11-1 and conductor 11-2) on both surfaces of the first resin layer 12B (FIG. 6).
  • a known method can be adopted as in the above step (2).
  • a carrier film 15 in which the support layer 13, the second resin layer 14, and the first resin layer 12A are laminated in this order is produced.
  • the surface of the first resin layer 12A of the carrier film 15 is bonded to the conductor 11-1 on which the circuit pattern is formed (FIG. 7).
  • the carrier film 15 can be produced by the same method as the cover film produced in the step (3).
  • the method similar to the said process (3) is employable also as the method of bonding the carrier film 15 together. That is, after the carrier film 15 is bonded, a heat laminating process such as a flat plate heat laminating is preferably performed.
  • the conditions for laminating are not particularly limited. The conditions can be appropriately selected according to the material used.
  • Preferred conditions are, for example, a temperature of 90 to 185 ° C., a pressure of 1 to 2 MPa, and a time of 10 to 300 seconds. If necessary, a curing treatment at 60 to 200 ° C. for 1 to 6 hours may be performed for resin curing.
  • a coating layer is formed on the conductor 2 (conductor 11-2) on which the circuit pattern is formed.
  • a method similar to the above can also be applied to the coating layer.
  • the covering layer is preferably a cover coat layer.
  • the step of forming the coating layer is the following step (3-2). Step (3-2): The first resin layer C surface of the cover film including the support layer, the second resin layer, and the first resin layer C laminated in this order is formed on the circuit pattern. Bonding to conductor 2 (conductor 11-2) formed with
  • the cover film 16 can be manufactured by the same method as in the above step (3).
  • the method similar to the said process (3) is employable also as the method of bonding the cover film 16.
  • the conditions for laminating are not particularly limited. The conditions can be appropriately selected depending on the material to be used.
  • Preferred conditions are, for example, a temperature of 90 to 185 ° C., a pressure of 1 to 2 MPa, and a time of 10 to 300 seconds. If necessary, a curing treatment at 60 to 200 ° C. for 1 to 6 hours may be performed for resin curing.
  • the coating layer is a cover coat layer
  • the cover coat layer 17 is formed by applying and curing a resin to the conductor 11-2 of the laminate obtained by the above method by a screen printing method or the like.
  • the flexible printed circuit board 20 can be obtained (FIG. 9).
  • the flexible printed circuit board 20 can be obtained (FIGS. 8 and 9). As described above, after appropriately performing processing such as drilling or cutting, the obtained flexible printed circuit board 20 can be subjected to a component mounting process including solder reflow. The flexible printed circuit board 20 is subjected to a reflow process in a state having the support layer 13. Since the flexible printed circuit board has the support layer 13, even the first resin layer and / or the second resin layer that do not have reflow resistance alone can withstand the reflow process. As described above, the same material can be used for each support layer, each first resin, each second resin, and each conductor. Alternatively, different materials can be used.
  • the flexible printed circuit board 20 is preferably peelable at the interface between the first resin layer 12 and the second resin layer 14.
  • the flexible printed circuit board 20 peeled off at the interface can be used, for example, in a mode as shown in FIG.
  • an adhesive layer containing an adhesive or the like is preferably used between the first resin layer and the second resin layer. Absent.
  • the peel strength may be lowered by making the heating temperature as low as possible.
  • the laminating temperature is not particularly limited because it depends on the resin material.
  • a preferable temperature is, for example, 90 to 185 ° C.
  • the flexible printed circuit board 20 can be peeled off at the interface between the support layer 13 and the second resin layer 14.
  • the flexible printed circuit board 20 peeled off at the interface can be used, for example, in a mode as shown in FIG.
  • an adhesive layer containing an adhesive or the like is preferably not used between the support layer and the second resin layer.
  • the peeling force at the interface between the first resin layer 12 and the second resin layer 14 and the peeling force at the interface between the support layer 13 and the second resin layer 14 are controlled by, for example, prescription of the second resin. You can also For example, when a resin in which the main agent and the curing agent are blended in the second resin layer is employed, the peeling force between the support layer and the second resin layer may be reduced by changing the blending ratio. . In this way, the interface between the support layer and the second resin layer becomes easier to peel.
  • the first resin layer 12 and the second resin layer 14 An embodiment in which the interface is not peeled is also preferable.
  • a method for preventing peeling at the interface between the first resin layer 12 and the second resin layer 14 the peeling force between the support layer and the second resin layer is changed between the first resin layer and the second resin layer 14. Examples thereof include a method of setting lower than the peeling force between the second resin layer and a method of providing an adhesive layer between the first resin layer and the second resin layer.
  • the peeling force between the support layer and the second resin and the peeling force between the first resin layer and the second resin layer can be controlled by selection of the second resin layer.
  • the peeling force can also be controlled by adding an additive to the second resin layer.
  • An embodiment in which the interface between the support layer 13 and the second resin layer 14 does not peel is preferable in each step (including steps (1) to (3)) of the flexible printed circuit board manufacturing method of the present embodiment.
  • Such an embodiment can be achieved, for example, by increasing the temperature or pressure of the laminate when manufacturing the carrier film or when manufacturing the cover film.
  • the interface between the first resin layer 12 and the second resin layer 14 or the support layer 13 and the first layer The flexible printed circuit board can be peeled off at the interface with the second resin layer 14.
  • the heat treatment test is performed as follows. The temperature of the perfect oven (Espec Corp.) is set to 260 ° C. The sample of the flexible printed circuit board is heat-treated by being left in an oven for 4 minutes. After heat treatment, the sample is cooled to room temperature. The peel strength of the sample is measured with the aforementioned peel strength tester. Based on the measured value, it is determined whether or not peeling is possible.
  • each layer can be peeled from the viewpoint of heat resistance, particularly from the viewpoint of being able to withstand high temperature reflow.
  • the melting point of each layer of the first resin layer, the second resin layer, and the support layer is 260 ° C. or higher, or each layer does not have a melting point.
  • Example 1 The following materials were used for each layer.
  • Conductor Copper foil, thickness 18 ⁇ m (Mitsui Metals)
  • First resin layer transparent adhesive sheet SAFS, thickness 25 ⁇ m (manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd.)
  • Support layer polyimide film, thickness 25 ⁇ m (manufactured by Kaneka Corporation)
  • the conductor and the first resin layer were pressed at 90 ° C. for 10 seconds with a flat plate heat press to obtain a conductor laminate.
  • the liquid second resin was applied to the support layer so that the thickness after drying was 5 ⁇ m.
  • the second resin layer was laminated on the support layer by drying in an atmosphere at 160 ° C. for 3 minutes. In this way, a carrier film was obtained.
  • the obtained conductor laminate and the carrier film were bonded together so that the first resin layer and the second resin layer were in contact with each other.
  • the laminated body was obtained by pressurizing at 90 degreeC for 10 second with a flat plate heat press.
  • the obtained laminate was heated in an oven at 140 ° C. for 4 hours. In this way, the first thermosetting resin was cured.
  • the obtained laminate is subjected to a general flexible printed circuit board FPC photofabrication method, that is, a lamination process of a dry film to a conductor, an exposure process using a pattern mask, a development process, an etching process, and a dry process.
  • the circuit pattern was formed through the film peeling process.
  • a liquid second resin was separately applied to the support layer so as to have a thickness of 5 ⁇ m after drying.
  • the 2nd resin layer was laminated
  • the flexible printed circuit board 1 was obtained by superimposing the 1st resin layer surface of a cover film on the circuit pattern of the obtained laminated body, and carrying out flat plate thermal lamination at 130 degreeC and 2 Mpa for 120 seconds.
  • the peeling force between the support layer and the second resin layer of the flexible printed circuit board 1 was 25 g / 50 mm. That is, the flexible printed circuit board 1 was peelable.
  • the upper and lower peeling forces of the flexible printed circuit board 1 having the support layer, the second resin layer, and the first resin layer above and below the substrate were the same.
  • Example 2 A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1, except that the curing ratio (MS8BS cure) and the mixing ratio of the main component and curing agent of MS8 were changed as shown in Table 1 below.
  • alkyd resin Tesfine 314 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
  • UFO-3 vacuum stirrer
  • the table shows these mixing ratios.
  • MS8BS cure was heated in a 120 ° C. atmosphere for 2 hours after “coating the second resin on the support layer and drying in a 160 ° C. atmosphere for 3 minutes” in the production of the carrier film and the cover film. This is a curing process.
  • the peel force (g / 50 mm) before heat treatment indicates the peel force before the heat treatment test.
  • the peel strength after heat treatment indicates the peel strength after the heat treatment test. “ ⁇ ” Indicates that the peel force was not measured.
  • the case where the interface between the polyimide and MS8 is exfoliated is indicated as PI / MS8.
  • a case where the interface between MS8 and SAFS is peeled is indicated as MS8 / SAFS.
  • the presence of PI / MS8 and MS8 / SAFS indicates that the peeling interface is not stable.
  • Example 10 The same method is used except that the resin used in the second resin layer in Example 1 is changed to Byron UR1700 (polyester urethane resin, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and the thickness is set to 10 ⁇ m.
  • a flexible printed circuit board 21 was obtained.
  • the peeling force between the support layer and the second resin layer of the flexible printed circuit board 20 was 200 g / 50 mm. That is, the flexible printed circuit board 21 was peelable.
  • the flexible printed circuit board 21 could not be peeled off at the interface between the first resin layer and the second resin layer. No wrinkles or creases were observed in the first resin layer and the second resin layer of the flexible printed circuit board 21 after the heat treatment test.
  • the dimensional change rate was also less than 1%.
  • the peeling force between the support layer and the second resin layer of the flexible printed circuit board 21 after the heat treatment test was 80 g / 50 mm. That is, the flexible printed circuit board 21 was peelable. The flexible printed circuit board 21 could not be peeled off at the interface between the first resin layer and the second resin layer.
  • the flexible printed circuit board manufacturing method may be the following first to thirteenth flexible printed circuit board manufacturing methods.
  • the first flexible printed circuit board manufacturing method is a flexible printed circuit board manufacturing method, and includes at least a support layer, a second resin layer, a first resin layer, and a conductor on which a circuit pattern is formed in this order. And a step of forming a coating layer on the conductor on which the circuit pattern is formed, the first resin layer is a thermosetting resin, and a step of forming the coating layer is obtained after the step of forming the coating layer.
  • the obtained flexible printed circuit board is subjected to a solder reflow process in a state having the support layer.
  • the step of obtaining the laminate includes a conductor laminate in which the conductor and the first resin layer are laminated, and the support layer and the second resin layer.
  • the first flexible print including a step of bonding a carrier film so that the first resin layer and the second resin layer are in contact with each other, and a step of forming a circuit pattern on the conductor of the bonded laminate A method for manufacturing a substrate.
  • the step of forming the covering layer includes the step of forming the first resin layer surface of the cover film in which the support layer, the second resin layer, and the first resin layer are laminated in this order.
  • the method for producing the first or second flexible printed circuit board which is a step of bonding to the conductor on which the circuit pattern is formed.
  • the fourth flexible printed circuit board manufacturing method is the first or second flexible printed circuit board manufacturing method in which the coating layer is a cover coat layer.
  • the laminate includes the support layer, the second resin layer, the first resin layer A, the conductor 1 on which the circuit pattern is formed, and the first resin layer B. And the conductor 2 on which the circuit pattern is formed are laminated in this order, and the step of obtaining the laminate is a step of laminating the conductor 1 and the conductor 2 on both surfaces of the first resin layer B, respectively.
  • the A surface is a step of bonding the conductor pattern 1 on which the circuit pattern is formed
  • the step of forming the covering layer is a step of forming the covering layer on the conductor 2 on which the circuit pattern is formed.
  • Production of the first flexible printed circuit board It is a method.
  • the step of forming the covering layer on the conductor 2 includes the step of forming a cover film in which a support layer, a second resin layer, and a first resin layer C are laminated in this order.
  • the seventh flexible printed circuit board manufacturing method is the fifth flexible printed circuit board manufacturing method, wherein the coating layer is a cover coat layer.
  • the eighth flexible printed circuit board manufacturing method includes the flexible printed circuit board according to any one of the first to seventh aspects, wherein an interface between the first resin layer and the second resin layer in the flexible printed circuit board is peelable. It is a manufacturing method.
  • the ninth flexible printed circuit board manufacturing method is the flexible printed circuit board manufacturing method according to any one of the first to eighth aspects, wherein an interface between the support layer and the second resin layer in the flexible printed circuit board is peelable. It is.
  • the tenth flexible printed circuit board manufacturing method is any one of the first to ninth flexible printed circuit board manufacturing methods in which the interface between the support layer and the second resin layer is not peeled in each step.
  • the obtained flexible printed circuit board is heat-treated at 260 ° C. for 4 minutes, and then the first resin layer and the first 11.
  • the thermosetting resin is at least selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, a silicon resin, an epoxy resin, and a mixed resin thereof.
  • the second resin layer is selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins, acrylic urethane resins, polyester urethane resins, and mixed resins thereof.

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Abstract

透明プリント基板など意匠性の高いプリント基板の製造にも適応でき、かつ、単体ではリフロー耐性のない材料でもフレキシブルプリント基板のベース材として使用することが可能なフレキシブルプリント基板の製造方法が提供される。 支持層と、第二の樹脂層と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層と、回路パターンが形成されている導体がこの順に積層されて含まれている積層体を得ること、及び、前記導体に被覆層を形成すること、を含むフレキシブルプリント基板の製造方法。

Description

フレキシブルプリント基板の製造方法
 本開示は、フレキシブルプリント基板の製造方法に関する。
 従来、フレキシブルプリント基板は、寸法安定性及びはんだリフロー工程での加熱に対応する観点から、ベース材及びカバー材には、一般的にポリイミドが使用されている。しかし、近年意匠性への要求が増えてきている。そこで、従来のアンバー系のポリイミドに替わり、黒色ポリイミドあるいは白色膜を塗工した白色付きポリイミドなども使用されてきている。また、透明プリント基板の要求に応じて、透明度の高いポリエチレンテレフタレート(PET)、あるいは、ポリエチレンナフタレート(PEN)などをベース材料としたプリント基板が存在する。一方、プリント基板の製造では、薄い材料にコシを持たせてハンドリング性を向上させるため、及び、材料のシワ、折れ、及び反りを防いで表面を保護するために、キャリアシート(キャリアフィルム)が使用される場合がある(例えば、特許文献1及び2)。
特開平7-99379号公報 特開2016-131233号公報
 しかし、PETあるいはPENなどをベース材とした透明プリント基板は、耐熱温度が低い。そのため、この透明プリント基板は、高温の製造工程(例えば、260℃、4分程度のはんだリフロー工程)に耐えられない。また、上記のようなキャリアシートは、高温の製造工程を経た場合の、耐熱性及び離型性の観点で課題を有している。本開示は、透明プリント基板のような意匠性の高いプリント基板の製造にも適応することができ、かつ、単体ではリフロー耐性のない材料でもフレキシブルプリント基板のベース材として使用することが可能なフレキシブルプリント基板の製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、鋭意検討の結果、ベース材として使用する第一の樹脂層に熱硬化性樹脂を用い、さらに、支持層を設けることで上記課題を解決しうることを見出した。すなわち、本開示のフレキシブルプリント基板の製造方法は、支持層と、第二の樹脂層と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層と、回路パターンが形成されている導体と、がこの順に積層されて含まれている積層体を得ること、前記導体に被覆層を形成すること、及び、前記被覆層を形成する工程後、得られたフレキシブルプリント基板を、前記支持層を有する状態で、はんだリフロー工程に供すること、を含む。
 本開示により提供されるフレキシブルプリント基板の製造方法は、透明プリント基板のような意匠性の高いプリント基板の製造にも適用することができる。さらに、この製造方法によれば、単体ではリフロー耐性のない材料でもフレキシブルプリント基板のベース材として使用することができる。
フレキシブルプリント基板の製造工程を説明する概略図 フレキシブルプリント基板の製造工程を説明する概略図 フレキシブルプリント基板の製造工程を説明する概略図 フレキシブルプリント基板の層構成を説明する概略図 カバーコート層を有するフレキシブルプリント基板の概略図 両面フレキシブルプリント基板の製造工程を説明する概略図 両面フレキシブルプリント基板の製造工程を説明する概略図 両面フレキシブルプリント基板の製造工程を説明する概略図 両面フレキシブルプリント基板の製造工程を説明する概略図
 本開示において、「X以上Y以下」及び「X~Y」などの記載により示される数値範囲は、特に断りのない限り、端点である下限及び上限を含む。
 本開示のフレキシブルプリント基板の製造方法は、支持層と、第二の樹脂層と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層と、回路パターンが形成されている導体と、がこの順に積層されて含まれている積層体を得ること、前記導体に被覆層を形成すること、及び、前記被覆層を形成する工程後、得られたフレキシブルプリント基板を、前記支持層を有する状態で、はんだリフロー工程に供すること、を含む。
 まず、本実施形態に用いることのできる各材料について説明する。
<第一の樹脂層>
 本実施形態では、第一の樹脂層として熱硬化性樹脂を含む樹脂層が用いられる。熱硬化性樹脂を含むことにより、第一の樹脂層は、高温でのリフローにも耐えうる。熱硬化性樹脂には、特に制限はない。公知の熱可塑性樹脂を用いることができる。例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、及びこれらの混合樹脂からなる群から選択される少なくとも一種が、好適に用いられる。耐熱性を良好にする観点から、好ましくは、熱硬化性樹脂は、融点を有しない、あるいは、260℃以上の融点を有する。融点の上限は特に制限されない。融点は、例えば350℃以下である。熱硬化性樹脂には、市販の材料を用いることもできる。例えば、透明接着剤シートSAFS(ニッカン工業株式会社製)などを用いることができる。なお、融点Tmは、JIS K7121に準拠し、示差走査熱量測定(DSC)により、昇温速度10℃/min、測定温度範囲25~300℃で測定することができる。融解ピーク頂点の温度を融点Tmとする。
 本実施形態によれば、熱硬化性樹脂をベース材としたリフローに耐えうるフレキシブルプリント基板を得ることができる。熱硬化性樹脂に透明性あるいは色調を持たせることにより、意匠性の高いフレキシブルプリント基板を得ることもできる。例えば、透明な熱硬化性樹脂が使用された、透明フレキシブルプリント基板が好ましい。なお、透明とは、波長380~780nmの可視光を透過することを意味()する。可視光の光透過率が、好ましくは60%以上であり、より好ましくは70%以上である。
 第一の樹脂層の厚みは特に制限されない。その厚みは、好ましくは5~50μm、より好ましくは12.5~40μm、特に好ましくは12.5~30μmである。導体積層板に用いる場合、あるいは、カバーフィルムに用いる場合などの用途に応じて、適宜、厚みを選択することが好ましい。導体積層板の第一の樹脂層、及び、カバーフィルムの第一の樹脂層には、同一の材料を用いることができる。あるいは、異なる材料を用いることもできる。
<導体>
 導体積層板に用いる導体としてに、特に制限はない。公知の材料を用いることができる。例として、銅、銀、金、錫、アルミニウム、インジウム、及びこれらの合金が挙げられる。好ましくは、導体は、銅を含む。より好ましい導体は、銅箔である。導体の厚みに、特に制限はない。その厚みは、好ましくは5~70μm、より好ましくは12.5~35μmである。
<第二の樹脂層>
 第二の樹脂層に、特に制限はない。公知の樹脂を採用することができる。好ましい例として、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、並びにこれらの混合樹脂からなる群から選択される少なくとも一種が挙げられる。支持層との密着性の観点から、より好ましい樹脂は、アクリルウレタン系樹脂及び/又はポリエステルウレタン系樹脂である。耐熱性を良好にする観点から、好ましくは、第二の樹脂層は融点を有しない、あるいは、260℃以上の融点を有する。融点の上限は特に制限されない。その上限は、例えば350℃以下である。第二の樹脂層には、必要に応じて、支持層との密着力を制御するために、アルキッド樹脂などの公知の樹脂が混合されてもよい。例として、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、並びにこれらの混合樹脂などからなる群から選択される少なくとも一種の樹脂100質量部に対し、アルキッド樹脂を1~30質量部を混合して調製される樹脂が挙げられる。アルキッド樹脂の含有量は、好ましくは5~15質量部である。第二の樹脂層には、市販の材料を用いることができる。例えば、バイロンUR1700(東洋紡(株)製)、MS8(セイコーアドバンス社製)などを用いることができる。フレキシブルプリント基板に透明性あるいは色調を持たせるという観点から、好ましい態様として、第二の樹脂層に、透明材料あるいは色調を有する材料を使用することもできる。
 また、第一の樹脂層及び第二の樹脂層が、該第一の樹脂層及び第二の樹脂層を用いたフレキシブルプリント基板を下記260℃、4分間の熱処理試験を行っても変形しないことが好ましい。該熱処理試験は、例えば、以下の方法で、実施することができる。ポリイミドフィルム、第二の樹脂層、第一の樹脂層、銅箔、第一の樹脂層、第二の樹脂層、及びポリイミドフィルムをこの順に積層したのち、熱ラミネートすることにより、フレキシブルプリント基板が得られる。なお、用いられるポリイミドフィルムの厚みは、25μm(カネカ社製)である。用いられる銅箔の厚みは、18μm(三井金属社製)である。なお、第一の樹脂層の厚みは25μmに設定される。第二の樹脂層の厚みは、5μmに設定される。パーフェクトオーブン(エスペック社製)を用いて、温度が260℃に設定される。得られたフレキシブルプリント基板のサンプルは、4分間静置されたのち、熱処理される。熱処理後に、試料の変形の有無が観察される。具体的には、目視で、第二の樹脂層及び第一の樹脂層のシワの有無、および、折れの有無が観察される。また、第二の樹脂層及び第一の樹脂層の寸法変化率[(|熱処理前の長さ-熱処理後の長さ|)/熱処理前の長さ×100](%)が、1%未満かどうかを確認する。シワも折れも認められず、かつ、寸法変化率が1%未満であれば、その資料は、「変形していない」と判定される。
 第二の樹脂層の厚みは特に制限されない。その厚みは、好ましくは1~15μm、より好ましくは1~10μmである。キャリアフィルムあるいはカバーフィルムなどの用途に応じて、適宜、厚みを選択することが好ましい。キャリアフィルムの第二の樹脂層、及び、カバーフィルムの第二の樹脂層には、同一の材料を用いることができる。あるいは、異なる材料を用いることもできる。
 本実施形態のフレキシブルプリント基板においては、好ましくは、第一の樹脂層と第二の樹脂層との界面、及び/又は、第二の樹脂層と支持層との界面が剥離可能である。剥離可能か否かは、剥離強度テスターにより、50mm幅の試料を剥離角度170°、速度:2.5mm/secで測定したときの剥離力を指標として、判定することができる。好ましい指標は、400g/50mmである。剥離力が指標以下の場合、そのサンプルは、剥離可能と判定される。より好ましい指標は、1~50g/50mmである。さらに好ましい指標は、15~35g/50mmである。剥離力の測定は、以下の方法で行うことができる。剥離強度テスター(PFT-50S、PALMEC社製)を用いて、幅50mm、長さ150mmに切り出されたフレキシブルプリント基板のサンプルを、室温(25℃)で、角度170°、2.5mm/secで剥離することにより、剥離力を測定することができる。サンプルの50mmの幅方向の辺から、剥離が始まるように、サンプルがセットされる。これにより、第一の樹脂層と第二の樹脂層との剥離力、及び、第二の樹脂層と支持層との剥離力を測定することができる。
<被覆層>
 本実施形態では、回路パターンが形成された導体に被覆層が形成される。被覆層は、特に制限されない。好ましくは、被覆層は、支持層、第二の樹脂層、及び第一の樹脂層がこの順に積層されて含まれているカバーフィルム、あるいはカバーコート層である。カバーフィルムを用いる場合は、前記被覆層を形成する工程が、支持層、第二の樹脂層、及び第一の樹脂層がこの順に積層されて含まれているカバーフィルムの第一の樹脂層面を、回路パターンが形成された導体に貼り合わせることを含むことが好ましい。
 カバーコート層には、公知の材料および公知の方法を適用しうる。例えば、スクリーン印刷法等により、樹脂を塗布および硬化することにより、カバーコート層を形成しうる。用いられるカバーコート層の材料の例として、上記第二の樹脂と同じ材料を挙げることができる。その他、(株)タムラ製作所製PAF-300などを用いることができる。カバーコート層の厚みは特に制限されない。その厚みは、好ましくは5~40μm、より好ましくは10~30μmである。
<支持層>
 支持層は、キャリアフィルム及びカバーフィルムに用いることができる。支持層は、ベース材である第一の樹脂層の、例えば、シワ、折れ、及び反り抑制することにより、表面を保護する。支持層として、通常キャリアフィルムなどに用いる材料を使用することができる。耐熱性を良好にする観点から、好ましくは、支持層は、融点を有しない、又は、260℃以上の融点を有する。融点の上限は特に制限されない。その融点は、例えば350℃以下である。耐熱性の観点から、支持層が、例えば、ポリイミド、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、あるいはその他スーパーエンジニアリングプラスティックを含むことが好ましい。より好ましくは、支持層は、ポリイミドを含む。支持層の厚みは、特に制限されない。その厚みは、好ましくは5~50μm、より好ましくは12.5~30μmである。キャリアフィルムあるいはカバーフィルムなどの用途に応じて、適宜、厚みを選択することが好ましい。このような支持層を用いることにより、単体ではリフロー耐性のない材料でも、フレキシブルプリント基板のベース材として使用しうる。キャリアフィルムの支持層及びカバーフィルムの支持層には、同一の材料を用いることができる。あるいは、異なる材料を用いることもできる。
 本実施形態の、フレキシブルプリント基板の製造方法は、支持層と、第二の樹脂層と、第一の樹脂層と、回路パターンが形成されている導体と、がこの順に積層されて含まれている積層体を得ることを含む。このような積層体は、例えば、支持層と、第二の樹脂層と、第一の樹脂層と、導体と、をこの順に積層して熱ラミネートした後に、導体に回路パターンを形成することによって、得ることができる。本実施形態の効果を損なわない限り、例えば、公知の接着層が、その他の層として、用いられてもよい。本実施形態のフレキシブルプリント基板の製造方法において、積層体を得る工程は、好ましくは、以下の各工程を有する。
 工程(1):積層されている導体及び第一の樹脂層を含む導体積層板と、積層されている支持層及び第二の樹脂層を含むキャリアフィルムと、を、該第一の樹脂層及び該第二の樹脂層が接するように、貼り合わせる工程
 工程(2):貼り合わせされた積層体の導体層に回路パターンを形成する工程
 本実施形態のフレキシブルプリント基板の製造方法は、積層体が得られた後に、回路パターンが形成されている導体に、被覆層を形成することを含む。被覆層は、好ましくはカバーコート層である。あるいは、被覆層を形成する工程が、下記工程(3)であることも好ましい態様である。
 工程(3):支持層と、第二の樹脂層と、第一の樹脂層と、がこの順に積層されて含まれているカバーフィルムの該第一の樹脂層面を、該回路パターンが形成されている導体に貼りあわせる工程
 以下、(1)~(3)の各工程について図面を参照しながら説明する。
 <工程(1)>
 導体11及び第一の樹脂層12を積層して、導体積層板10を得る方法は、特に制限されない。公知の方法を採用することができる。例として、未硬化又は半硬化の状態の第一の樹脂層を導体に接着する方法、および、導体と第一の樹脂層とを貼りあわせて、温度80~120℃、圧力1~2MPa、時間5~20秒の条件で熱ラミネートする方法が、挙げられる。必要に応じて、樹脂硬化の為、60~200℃で、1~6時間の硬化処理を行ってもよい。支持層13に第二の樹脂層14を積層してキャリアフィルム15を得る方法は、特に制限されない。公知の方法を採用することができる。例えば、支持層に第二の樹脂層を貼りあわせて、温度80~120℃、圧力1~2MPa、時間5~20秒の条件で熱ラミネートする方法、および、溶剤などで液状にした第二の樹脂を支持層に塗工して、温度140~180℃、時間1~10分の条件で乾燥させる方法が挙げられる。必要に応じて樹脂硬化の為、60~200℃で、1~6時間の硬化処理を行ってもよい。工程(1)では、上記のようにして得られた、導体積層板10とキャリアフィルム15とが、第一の樹脂層12及び第二の樹脂層14が接するように貼り合わせられる(図1)。貼りあわせの後、必要に応じて熱ラミネートなどの加熱処理が行われてもよい。加熱処理の好ましい条件は、例えば、温度90~185℃、圧力1~2MPa、時間10~300秒である。また、必要に応じて樹脂硬化の為、60~200℃で、1~6時間の硬化処理を行ってもよい。
<工程(2)>
 工程(2)では、工程(1)で得られた積層体の導体11に、回路パターンが形成される(図2)。回路パターンの形成は、特に制限されない。公知の方法を用いることができる。例として、フォトファブリケーション手法を用いて、回路パターンを形成する方法が挙げられる。
<工程(3)>
 工程(3)では、支持層と、第二の樹脂層と、第一の樹脂層と、がこの順に積層されて含まれているカバーフィルムが用いられる。カバーフィルム16を得る方法は、特に制限されない。公知の方法を採用することができる。例として、支持層13に、第二の樹脂層14と第一の樹脂層12とをこの順に積層して、温度80~120℃、圧力1~2MPa、時間5~20秒の条件で熱ラミネートする方法が挙げられる。あるいは、別の例として、液状の第二の樹脂を支持層に塗工して、温度140~180℃、時間1~10分の条件で乾燥させて、さらに、上記と同様に第一の樹脂層を熱ラミネートする方法が挙げられる。また、必要に応じて、第二の樹脂を塗工した後に、あるいは、熱ラミネート後に、樹脂硬化の為、60~200℃で、1~6時間の硬化処理を行ってもよい。上記のようにして得られたカバーフィルム16と、工程(2)で得られた回路パターンが形成されている積層体とと、がカバーフィルム16の第一の樹脂層12と積層体の導体11とが接するように、貼りあわされる(図3)。貼りあわせの後、好ましくは、平板熱ラミネートなど熱ラミネート処理が行われる。ラミネートの条件は、特に制限されない。使用する材料に応じて、適宜、その条件を選択することができる。好ましいラミネートの条件は、例えば、温度90~185℃、圧力1~2MPa、時間10~300秒である。必要に応じて、樹脂硬化の為、60~200℃、1~6時間の硬化処理を行ってもよい。以上のようにして、導体11を中心に、第一の樹脂層12と、第二の樹脂層14と、支持層13とが、この順に、両面に積層されている、フレキシブルプリント基板20を得ることができる。
 被覆層が、カバーコート層である場合は、上記工程(2)で得られた、回路パターンが形成されている積層体の導体に、スクリーン印刷法等により、樹脂が塗布および硬化されてもよい。このようにして、カバーコート層17を形成して、フレキシブルプリント基板20を得ることができる(図5)。得られたフレキシブルプリント基板20に、適宜、穴あけあるいは裁断などの加工を行ってもよい。加工後のフレキシブルプリント基板20を、はんだリフローを含む部品の実装工程に供することができる。はんだリフローは、例えば、予熱140~210℃、40~120秒、リフロー220~260℃、20~90秒の条件での加熱処理を含む。穴あけなどは、前もってカバーフィルムに行っておいてもよい。フレキシブルプリント基板20の製造には、枚葉方式など様々な製造方式を採用することができる。フレキシブルプリント基板20は、支持層13を有した状態でリフローを行うことができる。その結果、フレキシブルプリント基板20は、高い耐熱性を有する。すなわち、被覆層を形成する工程後、得られたフレキシブルプリント基板を、支持層を有する状態ではんだリフロー工程に供することができる。フレキシブルプリント基板が支持層13を有しているため、単体ではリフロー耐性を有しない第一の樹脂層及び/又は第二の樹脂層でも、リフロー工程に耐えることができる。リフローを含む部品の実装工程の後、第一の樹脂層12と第二の樹脂層14との界面、又は、支持層13と第二の樹脂層14との界面で、第二の樹脂層14から、又は、支持層13から剥離されたフレキシブルプリント基板20をして用いることが好ましい(図4)。
(両面フレキシブルプリント基板)
 本実施形態では、支持層と、第二の樹脂層と、第一の樹脂層と、回路パターンが形成されている導体をこの順に含む積層体が、支持層と、第二の樹脂層と、第一の樹脂層Aと、回路パターンが形成されている導体1と、第一の樹脂層Bと、回路パターンが形成されている導体2をこの順に含む積層体であることも好ましい態様である。当該態様は、第一の樹脂層B複数の面に、回路パターンが形成されている導体が配置されている。これにより、いわゆる両面フレキシブルプリント基板を得ることができる。両面フレキシブルプリント基板の材料としては、前述と同じ材料を用いることができる。なお、本実施形態の効果を損なわない限り、例えば、公知の接着層を、その他の層として、用いてもよい。
 両面フレキシブルプリント基板の製造方法における、前述の積層体を得る工程は、好ましくは、前記第一の樹脂層Bの両面のそれぞれに、該導体1と該導体2とを積層すること、該導体1及び該導体2に回路パターンを形成すること、及び、前記支持層と、前記第二の樹脂層と、前記第一の樹脂層Aと、がこの順に積層されて含まれているキャリアフィルムの前記第一の樹脂層A面を、該回路パターンが形成されている導体1に貼り合わせることを含む。
 以下、各工程について図面を参照しながら説明する。まず、第一の樹脂層12B(第一の樹脂層B)の両面に、導体11(導体11-1及び導体11-2)が積層される(図6)。第一の樹脂層と導体との積層には、前述の工程(1)と同様の方法を採用することができる。次に、第一の樹脂層12Bの両面の導体11(導体11-1及び導体11-2)に回路パターンが形成される(図6)。回路パターンの形成には、上記工程(2)と同様に公知の方法を採用することができる。
 続いて、支持層13と、第二の樹脂層14と、第一の樹脂層12Aと、がこの順に積層されているキャリアフィルム15が作製される。そして、キャリアフィルム15の第一の樹脂層12A面が、回路パターンが形成された導体11-1に貼り合わされる(図7)。当該キャリアフィルム15は、上記工程(3)で製造されたカバーフィルムと同様の方法で作製することができる。キャリアフィルム15を貼り合わせる方法にも、上記工程(3)と同様の方法を採用することができる。すなわち、キャリアフィルム15が貼り合わされたのち、好ましくは、平板熱ラミネートなどの熱ラミネート処理が行われる。ラミネートの条件は、特に制限されない。使用される材料に応じて、適宜、その条件を選択することができる。好ましい条件は、例えば、温度90~185℃、圧力1~2MPa、時間10~300秒である。必要に応じて、樹脂硬化の為、60~200℃、1~6時間の硬化処理を行ってもよい。
 このようにして積層体を得た後に、回路パターンが形成されている導体2(導体11-2)に、被覆層が形成される。被覆層にも、上記と同様の方法を適用することができる。被覆層は、好ましくはカバーコート層である。あるいは、被覆層を形成する工程が、下記工程(3-2)であることも好ましい態様である。
 工程(3-2):支持層と、第二の樹脂層と、第一の樹脂層Cと、がこの順に積層されて含まれているカバーフィルムの第一の樹脂層C面を、回路パターンが形成された導体2(導体11-2)に貼り合わせる工程
 工程(3-2)では、例えば、支持層13と、第二の樹脂層14と、第一の樹脂層12Aと、をこの順に積層して得られるカバーフィルム16の第一の樹脂層12C面が、図7に示される方法で得られる積層体の導体11-1に、貼り合わされる。図8は、カバーフィルムが貼り合わせた後の積層体を示す。カバーフィルム16は、上記工程(3)と同様の方法で製造することができる。カバーフィルム16を貼り合わせる方法にも、上記工程(3)と同様の方法を採用することができる。すなわち、カバーフィルム16が貼り合わされたのち、好ましくは、平板熱ラミネートなどの熱ラミネート処理が行われる。ラミネートの条件は、特に制限されない。使用する材料に応じて、適宜、その条件を選択することができる。好ましい条件は、例えば、温度90~185℃、圧力1~2MPa、及び時間10~300秒である。必要に応じて、樹脂硬化の為、60~200℃、1~6時間の硬化処理を行ってもよい。
 なお、被覆層がカバーコート層である場合は、上記の方法で得られた積層体の導体11-2に、スクリーン印刷法等により、樹脂を塗布および硬化させることにより、カバーコート層17を形成して、フレキシブルプリント基板20を得ることができる(図9)。
 このような工程を経て、フレキシブルプリント基板20を得ることができる(図8、9)。上述のように、適宜穴あけあるいは裁断などの加工を行なったのちに、得られたフレキシブルプリント基板20を、はんだリフローを含む部品の実装工程に供することができる。フレキシブルプリント基板20は、支持層13を有した状態でリフロー工程に供される。フレキシブルプリント基板が支持層13を有しているため、単体ではリフロー耐性を有しない第一の樹脂層及び/又は第二の樹脂層でも、リフロー工程に耐えることができる。上述のように、各支持層、各第一の樹脂、各第二の樹脂、及び各導体には、同一の材料を用いることができる。あるいは、異なる材料を用いることもできる。
 以下、片面フレキシブルプリント基板20及び両面フレキシブルプリント基板20両方の様、好ましい態様を説明する。フレキシブルプリント基板20は、好ましくは、第一の樹脂層12と第二の樹脂層14との界面で、剥離可能である。該界面で剥離されたフレキシブルプリント基板20を、例えば、図4の(a)に示すような態様で用いることができる。第一の樹脂層12に透明性あるいは色調を持たせることにより、意匠性の高いフレキシブルプリント基板を得ることができる。第一の樹脂層と第二の樹脂層との界面での剥離の観点から、第一の樹脂層とび第二の樹脂層との間には、好ましくは接着剤などを含む接着層は用いられない。第一の樹脂層及び第二の樹脂層の界面を剥離可能にするために、例えば、工程(1)あるいは(3)において、キャリアフィルムとカバーフィルムとを貼り合わせる際の熱ラミネート条件のうち、その加熱温度を、可能な限り低温にすることにより、剥離強度を下げてもよい。ラミネート温度は、樹脂材料にもよるため、特に制限されない。好ましい温度は、例えば、90~185℃である。
 一方、フレキシブルプリント基板20が、支持層13と第二の樹脂層14との界面で剥離可能であることも好ましい態様である。該界面で剥離されたフレキシブルプリント基板20を、例えば、図4の(b)に示すような態様で用いることができる。第一の樹脂層12及び第二の樹脂層14に透明性あるいは色調を持たせることにより、意匠性の高いフレキシブルプリント基板を得ることができる。支持層と第二の樹脂層との界面での剥離の観点から、支持層と第二の樹脂層との間には、好ましくは接着剤などを含む接着層は用いられない。支持層と第二の樹脂層との界面を剥離可能にするために、上述のように、例えば、工程(1)あるいは(3)において、キャリアフィルムとカバーフィルムとを貼り合わせる際の熱ラミネート条件のうち、その加熱温度を、可能な限り低温にすることにより、剥離強度を下げてもよい。
 第一の樹脂層12と第二の樹脂層14との界面の剥離力、並びに、支持層13と第二の樹脂層14との界面の剥離力は、例えば、第二の樹脂の処方により制御することもできる。例えば、第二の樹脂層に主剤と硬化剤とが配合されている樹脂を採用する場合、その配合比を変えることにより、支持層と第二の樹脂層との剥離力を低下させてもよい。このようにして、支持層と第二の樹脂層との界面がより剥離しやすくなる。
 また、支持層13と第二の樹脂層14との界面で剥離する態様のうち、例えば、図4の(b)に示すように、第一の樹脂層12と第二の樹脂層14との界面が剥離されない態様も好ましい。第一の樹脂層12と第二の樹脂層14との界面での剥離が起きないようにする方法の例として、支持層と第二の樹脂層との剥離力を第一の樹脂層と第二の樹脂層との剥離力より低く設定する方法、および、第一の樹脂層と第二の樹脂層との間に接着層を設ける方法等が挙げられる。支持層と第二の樹脂との剥離力、及び、第一の樹脂層と第二の樹脂層との剥離力は、第二の樹脂層の選択により制御しうる。また、第二の樹脂層に添加剤を加えること等によっても、その剥離力を制御しうる。
 本実施形態のフレキシブルプリント基板製造法の各工程(工程(1)~(3)を含む)内において、支持層13と第二の樹脂層14との界面が剥離しない態様も好ましい。このような態様は、例えば、キャリアフィルム製造時、あるいは、カバーフィルム製造時のラミネートの温度あるいは圧力を高めることにより達成しうる。
 本開示の製造方法により得られたフレキシブルプリント基板を、260℃で4分間熱処理した後、好ましくは、第一の樹脂層12と第二の樹脂層14との界面、又は、支持層13と第二の樹脂層14との界面で、フレキシブルプリント基板が剥離可能である。熱処理試験は、具体的には以下のように行う。パーフェクトオーブン(エスペック社製)の温度を260℃に設定する。フレキシブルプリント基板のサンプルをオーブン内に4分間静置することにより、サンプルを熱処理する。熱処理後、サンプルを常温まで冷却する。前述の剥離強度テスターにより、サンプルの剥離力を測定する。測定値に基づいて、剥離可能か否かが判される。このような熱処理を行った後でも、各層が剥離可能であることが、耐熱性の観点、とりわけ高温リフローに耐えうる観点、から好ましい。熱処理後も、第一の樹脂層12と第二の樹脂層14との界面、又は、支持層13と第二の樹脂層14との界面で、フレキシブルプリント基板が剥離可能であるためには、好ましくは、第一の樹脂層、第二の樹脂層、及び支持層の各層の融点が260℃以上、又は、各層が融点を有しない。また、該熱処理までに、硬化処理などにより、熱硬化性樹脂を含む第一の樹脂層の硬化を完了させておくことが好ましい。
 以下、実施例を参照して本実施形態を具体的に説明する。ただし、本実施形態は、以下の実施例の態様に限定されない。
 以下、実施例で用いる装置などについて説明する。
<ラミネート装置>
 ラミネート装置として、平板熱ラミネート装置を使用した。
(実施例1)
 各層には以下の材料を用いた。
 導体:銅箔、厚み18μm(三井金属社製)
 第一の樹脂層:透明接着剤シートSAFS、厚み25μm(ニッカン工業株式会社製)
 第二の樹脂層:MS8を主剤:硬化剤=100:0の比率で使用、アクリルウレタン系樹脂(セイコーアドバンス社製)
 支持層:ポリイミドフィルム、厚み25μm(カネカ社製)
 導体及び第一の樹脂層を、平板熱プレス機にて90℃、10秒加圧して、導体積層板を得た。また、支持層に液状の第二の樹脂を乾燥後の厚さが5μmになるように塗工した。次いで、160℃雰囲気下3分乾燥することにより、支持層上に第二の樹脂層を積層した。このようにして、キャリアフィルムが得られた。得られた導体積層板とキャリアフィルムとを、第一の樹脂層と第二の樹脂層とが接するように、貼りあわせた。その後、平板熱プレス機にて、90℃、10秒加圧することにより、積層体を得た。得られた積層体を、140℃でオーブンにより4時間加熱した。このようにして、第一の熱硬化性樹脂を硬化させた。得られた積層体に、一般的なフレキシブルプリント基板FPCのフォトファブリケーション手法により、すなわち、ドライフィルムの導体へのラミネート工程、パターンマスクを使用しての露光工程、現像工程、エッチング工程、及びドライフィルム剥離工程を経て、回路パターンが形成された。一方、別途、支持層に液状の第二の樹脂を、乾燥後の厚さ5μmになるように、塗工した。次いで、160℃雰囲気下で3分乾燥することにより、支持層上に第二の樹脂層を積層した。その後、第二の樹脂層上に第一の樹脂層を積層して、120℃、2MPaで10秒熱ラミネートすることにより、カバーフィルムを得た。得られた積層体の回路パターンに、カバーフィルムの第一の樹脂層面を重ねて、130℃、2MPaで120秒、平板熱ラミネートすることにより、フレキシブルプリント基板1を得た。フレキシブルプリント基板1の、支持層と第二の樹脂層との剥離力は、25g/50mmであった。すなわち、フレキシブルプリント基板1は、剥離可能であった。なお、例えば図3に示すように、基板の上下に、支持層、第二の樹脂層、及び第一の樹脂層を有するフレキシブルプリント基板1の上下の剥離力は同等であった。
<熱処理試験、剥離力の測定>
 上記のようにして得られたフレキシブルプリント基板を用いて、リフロー工程より厳しい熱処理の代替試験として以下の試験を行った。パーフェクトオーブン(エスペック社製)の温度を260℃設定した。フレキシブルプリント基板1のサンプルを4分間静置することにより、サンプルが熱処理された。熱処理後、サンプルは常温まで冷却された。前述の剥離強度テスターにより、サンプルの剥離力が測定された。測定値に基づいて、剥離可能か否かが判定された。上記熱処理試験後の、フレキシブルプリント基板1の、第一の樹脂層及び第二の樹脂層には、シワも折れ観察されなかった。また、その寸法変化率も1%未満であった。上記熱処理試験後の、フレキシブルプリント基板1の、支持層と第二の樹脂層との剥離力は、24g/50mmであった。すなわち、フレキシブルプリント基板1は、剥離可能であった。
(実施例2~9)
 実施例1における、硬化処理(MS8BSキュア)、MS8の主剤と硬化剤との混合比を下記表1のように変更したこと以外は、同じ方法にて、フレキシブルプリント基板を得た。なお、実施例7~9では、MS8にアルキッド樹脂(日立化成社製テスファイン314)が真空撹拌装置((株)EME製UFO-3)を用いて混合されている。表は、これらの混合比率を示す。なお、表中、MS8BSキュアは、キャリアフィルム及びカバーフィルムの作製において、「支持層に第二の樹脂を塗工して160℃雰囲気下3分乾燥」した後に、120℃雰囲気下で2時間加熱硬化する処理である。表中、熱処理前の剥離力(g/50mm)は、上記熱処理試験前の剥離力を示す。熱処理後の剥離力(g/50mm)は、上記熱処理試験後の剥離力を示す。剥離力の測定実施されなかったことが「-」で表記されている。表中の「剥離界面」のセルには、支持層であるポリイミドの剥離を試みた際に、ポリイミドとMS8との界面が剥がれる場合が、PI/MS8と表記されている。MS8とSAFSとの界面が剥がれる場合が、MS8/SAFSと表記されている。PI/MS8,MS8/SAFS混在とは、剥離界面が安定していないことを示す。なお、実施例1~9では、ポリイミドとMS8との界面、及び、MS8とSAFSとの界面のうち、どちらか一方の界面での剥離が可能であった。なお、基板の上下に、支持層、第二の樹脂層、及び第一の樹脂層を有する実施例2~9のフレキシブルプリント基板の上下の剥離力は同等であった。

 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
(実施例10)
 実施例1における、第二の樹脂層に用いる樹脂を、バイロンUR1700(ポリエステルウレタン系樹脂、東洋紡(株)製)に変更すること、および、その厚みを10μmに設定すること以外は、同じ方法にて、フレキシブルプリント基板21を得た。フレキシブルプリント基板20の、支持層と第二の樹脂層との剥離力は、200g/50mmであった。すなわち、フレキシブルプリント基板21は、剥離可能であった。第一の樹脂層と第二の樹脂層との界面では、フレキシブルプリント基板21を剥離することができなかった。上記熱処理試験後の、フレキシブルプリント基板21の、第一の樹脂層及び第二の樹脂層には、シワも折れも観察されなかった。また、その寸法変化率も1%未満であった。また、上記熱処理試験後の、フレキシブルプリント基板21の、支持層と第二の樹脂層との剥離力は、80g/50mmであった。すなわち、フレキシブルプリント基板21は、剥離可能であった。第一の樹脂層と第二の樹脂層との界面では、フレキシブルプリント基板21を剥離することはできなかった。
(比較例1)
 実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板1を得た後、支持層であるポリイミドを剥がして(図4の(b)に示す状態で)、上記と同様の熱処理を行ったところ、MS8が溶融し変形してしまった。
(変形例1)
 実施例1と同じ方法にて、回路パターンを形成する迄の工程を実施した。MS8を主剤:硬化剤=100:20の比率で混合して得られた混合物を、得られた回路パターン上にスクリーン印刷した。そして、100℃で5分乾燥の後、120℃3時間の加熱硬化処理が行われた。表面に厚み10μmのカバーコート層を有するフレキシブルプリント基板22が得られた。上記熱処理試験後の、フレキシブルプリント基板22の、第一の樹脂層及び第二の樹脂層などには、シワも折れも観察されなかった。また、その寸法変化率も1%未満であった。また、カバーコート層と第一の樹脂層との界面では、通常のテープピールでは、フレキシブルプリント基板22を剥離することは出来なかった。
 本開示の実施形態に係るフレキシブルプリント基板の製造方法は、以下の第1~13のフレキシブルプリント基板の製造方法であってもよい。
 上記第1のフレキシブルプリント基板の製造方法は、フレキシブルプリント基板の製造方法であって、少なくとも支持層、第二の樹脂層、第一の樹脂層及び回路パターンが形成された導体をこの順に含む積層体を得る工程、及び該回路パターンが形成された該導体に被覆層を形成する工程を有し、該第一の樹脂層が熱硬化性樹脂であり、該被覆層を形成する工程後、得られたフレキシブルプリント基板を、該支持層を有する状態ではんだリフロー工程に供する。
 上記第2のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記積層体を得る工程が、前記導体及び前記第一の樹脂層を積層した導体積層板と、前記支持層及び前記第二の樹脂層を積層したキャリアフィルムとを、前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層が接するように貼り合わせる工程、及び貼り合わせた積層体の前記導体に回路パターンを形成する工程を有する上記第1のフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第3のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記被覆層を形成する工程が、支持層、第二の樹脂層及び第一の樹脂層をこの順に積層したカバーフィルムの該第一の樹脂層面を、前記回路パターンが形成された前記導体に貼りあわせる工程である上記第1又は2のフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第4のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記被覆層がカバーコート層である上記第1又は2のフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第5のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記積層体が、前記支持層、前記第二の樹脂層、第一の樹脂層A、回路パターンが形成された導体1、第一の樹脂層B及び回路パターンが形成された導体2をこの順に積層した積層体であり、前記積層体を得る工程が、該第一の樹脂層Bの両面にそれぞれ、該導体1及び該導体2を積層する工程、該導体1及び該導体2に回路パターンを形成する工程、及び前記支持層、前記第二の樹脂層、及び該第一の樹脂層Aをこの順に積層したキャリアフィルムの該第一の樹脂層A面を、該回路パターンが形成された導体1に貼り合わせる工程であり、前記被覆層を形成する工程が、該回路パターンが形成された導体2に前記被覆層を形成する工程、である上記第1のフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第6のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記導体2に前記被覆層を形成する工程が、支持層、第二の樹脂層及び第一の樹脂層Cをこの順に積層したカバーフィルムの該第一の樹脂層C面を、前記回路パターンが形成された前記導体2に貼り合わせる工程である上記第5のフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第7のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記被覆層がカバーコート層である上記第5のフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第8のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記フレキシブルプリント基板における、前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の界面が剥離可能である上記第1~7のいずれかのフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第9のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記フレキシブルプリント基板における、前記支持層及び前記第二の樹脂層の界面が剥離可能である上記第1~8のいずれかのフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第10のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記各工程内において、支持層及び第二の樹脂層の界面が剥離しない上記第1~9のいずれかのフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第11のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記被覆層を形成する工程後、得られたフレキシブルプリント基板を、260℃で4分の熱処理を行った後、前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の界面、又は前記支持層及び前記第二の樹脂層の界面が剥離可能である上記第1~10のいずれかのフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第12のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記熱硬化性樹脂が、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン樹脂、及びエポキシ樹脂並びにこれらの混合樹脂からなる群から選択される少なくとも一種である上記第1~11のいずれかのフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 上記第13のフレキシブルプリント基板の製造方法は、前記第二の樹脂層が、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、及びポリエステルウレタン系樹脂並びにこれらの混合樹脂からなる群から選択される少なくとも一種である上記第1~12のいずれかのフレキシブルプリント基板の製造方法である。
 10:導体積層板、11(11-1、11-2):導体、12(12A、12B、12C):第一の樹脂層、13:支持層、14:第二の樹脂層、15:キャリアフィルム、16:カバーフィルム、17:カバーコート層、20、21、22:フレキシブルプリント基板

 

Claims (13)

  1.  支持層と、第二の樹脂層と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層と、回路パターンが形成されている導体と、がこの順に積層されて含まれている積層体を得ること、
     前記導体に被覆層を形成すること、及び、
    前記被覆層を形成する工程後、得られたフレキシブルプリント基板を、前記支持層を有する状態ではんだリフロー工程に供すること、を含むフレキシブルプリント基板の製造方法。
  2.  前記積層体を得る工程が、
     積層されている前記導体と前記第一の樹脂層とを含む導体積層板と、積層されている前記支持層と前記第二の樹脂層とを含むキャリアフィルムとを、前記第一の樹脂層と前記第二の樹脂層とが接するように貼り合わせること、及び
     貼り合わされた積層体の前記導体に、回路パターンを形成すること、
    を含む、請求項1に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  3.  前記被覆層を形成する工程が、
     支持層と、第二の樹脂層と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層とがこの順に積層されて含まれているカバーフィルムの前記第一の樹脂層面を、前記回路パターンが形成されている前記導体に貼りあわせることを含む、請求項1又は2に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  4.  前記被覆層がカバーコート層である請求項1又は2に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  5.  前記積層体が、前記支持層と、前記第二の樹脂層と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層Aと、回路パターンが形成されている導体1と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層Bと、回路パターンが形成されている導体2と、がこの順に積層されて含まれている積層体であり、
     前記積層体を得る工程が、
     前記第一の樹脂層Bの二つの面のそれぞれに、前記導体1と前記導体2とを積層すること、
     前記導体1及び前記導体2に回路パターンを形成すること、及び
     前記支持層と、前記第二の樹脂層と、前記第一の樹脂層Aとが、この順に積層されて含まれているキャリアフィルムの前記第一の樹脂層A面を、前記回路パターンが形成されている前記導体1に貼り合わせること、を含み、
     前記被覆層を形成する工程が、前記回路パターンが形成されている前記導体2に前記被覆層を形成すことを含む、
    請求項1に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  6.  前記導体2に前記被覆層を形成する工程が、
     前記支持層と、前記第二の樹脂層と、熱可塑性樹脂を含む第一の樹脂層Cとが、この順に積層されて含まれているカバーフィルムの前記第一の樹脂層C面を、前記回路パターンが形成されている前記導体2に貼り合わせることを含む、
    請求項5に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  7.  前記被覆層がカバーコート層である請求項5に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  8.  前記フレキシブルプリント基板が、前記第一の樹脂層と前記第二の樹脂層との界面で剥離可能である、請求項1~7のいずれか一項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  9.  前記フレキシブルプリント基板が、前記支持層と前記第二の樹脂層との界面で剥離可能である、請求項1~8のいずれか一項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  10.  前記すべての工程内において、支持層と第二の樹脂層との界面で、前記フレキシブルプリント基板が剥離することのない、請求項1~9のいずれか一項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  11.  前記被覆層を形成する工程後、260℃で4分熱処理されたフレキシブルプリント基板が、前記第一の樹脂層と前記第二の樹脂層との界面、又は、前記支持層と前記第二の樹脂層との界面で剥離可能である、請求項1~10のいずれか一項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  12.  前記熱硬化性樹脂が、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、並びにこれらの混合樹脂からなる群から選択される少なくとも一種である請求項1~11のいずれか一項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
  13.  前記第二の樹脂層が、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、並びにこれらの混合樹脂からなる群から選択される少なくとも一種である請求項1~12のいずれか一項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。

     
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