WO2019128959A1 - 液晶显示面板及其制作方法 - Google Patents

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武汉华星光电技术有限公司
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Definitions

  • the present application relates to the field of display panel manufacturing, and in particular, to a liquid crystal display panel and a method of fabricating the same.
  • Liquid crystal display is the most widely used display product on the market. Its production process technology is very mature, its product yield is high, its production cost is relatively low, and its market acceptance is high.
  • the liquid crystal display panel comprises a color filter (CF) substrate, an array (Array) substrate, and a liquid crystal sandwiched between the color filter substrate and the array substrate.
  • the CF substrate mainly includes a color filter layer that forms colored light through a color resistance unit (R/G/B), and a black matrix that prevents light leakage at the edge of the pixel (Black) Matrix, BM).
  • FIG. 1 is a structural diagram of a film layer of a peripheral BM trenching area in the prior art. After the incident light passes through the first substrate 10, it passes through the red color blocking block 30 and the blue color blocking block 40 in sequence to enter the liquid crystal display. Due to the different thickness of the red and blue color block, the outgoing light is still red, which causes the problem of red light leakage in the peripheral BM trench area, causing the liquid crystal display to display abnormality.
  • the present application provides a liquid crystal display panel and a manufacturing method thereof to solve the technical problem of red light leakage in a peripheral BM trench area of a conventional liquid crystal display panel.
  • the present application provides a liquid crystal display panel including a display area and a non-display area, the non-display area surrounding the display area, and the display panel includes:
  • the color film substrate comprising:
  • the color resist layer comprising:
  • the second color resisting region includes a first color resist and a second color resist, and the second color resist is formed on the first color resist.
  • the first color resistance is one of a red color block, a green color block, and a blue color block;
  • the second color resistance is another one of the red color block, the green color block, and the blue color block different from the first color resistance.
  • the thickness of the first color resist is the same as the thickness of the second color resist.
  • the thickness of the first color resist and the thickness of the second color resist are smaller than the thickness of the color resist layer in the first color resist region.
  • the thickness of the first color resist and the thickness of the second color resist are the same as the thickness of the color resist layer in the first color resist region.
  • the present application also provides a method for fabricating a liquid crystal display panel, which includes:
  • the first color resist area corresponds to the display area of the display panel
  • the second color resist area corresponds to the non-display area of the display panel
  • the second color resist area includes a first color resist
  • the second color resist is formed on the first color resist, and the thickness of the first color resist is the same as the thickness of the second color resist;
  • step S20 includes:
  • the second mask process is a halftone mask or a gray scale mask
  • the multi-segment transmittance mask includes a first transmittance region, a second transmittance region, and a third transmittance region.
  • the third transmittance region corresponds to the first color resist region
  • the second transmittance region corresponds to the second color resist region
  • the first transmittance region corresponds to the first color resist region and a region other than the second color resisting region.
  • the first color resistance is one of a red color block, a green color block, and a blue color block;
  • the second color resistance is another one of the red color block, the green color block, and the blue color block different from the first color block.
  • the thickness of the first color resist and the thickness of the second color resist are smaller than the thickness of the color resist layer in the first color resist region.
  • the thickness of the first color resist and the thickness of the second color resist are the same as the thickness of the color resist layer in the first color resist region.
  • the mask opening corresponding to the first color resist is larger than the mask opening corresponding to the color block age in the display area.
  • the present application also provides a method for fabricating a liquid crystal display panel, which includes:
  • the first color resist area corresponds to the display area of the display panel
  • the second color resist area corresponds to the non-display area of the display panel
  • the second color resist area includes a first color resist
  • the second color resist is formed on the first color resist
  • step S20 includes:
  • the second mask process is a halftone mask or a gray scale mask
  • the multi-segment transmittance mask includes a first transmittance region, a second transmittance region, and a third transmittance region.
  • the third transmittance region corresponds to the first color resist region
  • the second transmittance region corresponds to the second color resist region
  • the first transmittance region corresponds to the first color resist region and a region other than the second color resisting region.
  • the first color resistance is one of a red color block, a green color block, and a blue color block;
  • the second color resistance is another one of the red color block, the green color block, and the blue color block different from the first color block.
  • the thickness of the first color resist and the thickness of the second color resist are small in thickness of the color resist layer in the first color resist region.
  • the thickness of the first color resist and the thickness of the second color resist are the same as the thickness of the color resist layer in the first color resist region.
  • the mask opening corresponding to the first color resist is larger than the mask opening corresponding to the color block age in the display area.
  • the application reduces the thickness of the first color resist corresponding to the non-display area of the display panel, and sets a second color resist of different colors of equal thickness on the first color resist to eliminate leakage of the peripheral BM trench
  • the technical problem of colored light makes the liquid crystal display panel display normal.
  • FIG. 1 is a structural diagram of a film layer of a prior art color film substrate
  • FIG. 2 is a structural diagram of a film layer of a color film substrate according to an embodiment of the present application.
  • FIG. 3 is a structural diagram of a film layer of a color film substrate according to Embodiment 2 of the present application.
  • FIG. 4 is a step diagram of a method for fabricating a liquid crystal display panel according to Embodiment 3 of the present application.
  • 5A to 5D are process flowcharts of a method for fabricating a liquid crystal display panel according to Embodiment 3 of the present application;
  • 6A-6D are process flow diagrams of a method for fabricating a liquid crystal display panel according to a fourth embodiment of the present application.
  • a liquid crystal display panel includes a display area and a non-display area, the non-display area surrounding the display area.
  • the liquid crystal display panel includes an array substrate, a color filter substrate, and a liquid crystal layer between the array substrate and the color filter substrate.
  • FIG. 2 is a structural diagram of a film layer of a color film substrate according to an embodiment of the present application.
  • the color filter substrate is disposed opposite to the array substrate.
  • the color filter substrate includes a first substrate 101, a color resist layer 102, and a first black matrix 103.
  • the first substrate 101 is the same material as the glass substrate in the array substrate.
  • the color resist layer 102 is located on the surface of the first substrate 101.
  • the color resist layer 102 includes a first color resistive region N and a second color resistive region M.
  • the first color resistive region N corresponds to a display region of the display panel.
  • the first color resistive region N includes at least one of a red color block, a green color block, and a blue color block.
  • the second color resistive region M corresponds to a non-display region of the display panel.
  • the second color resistive region M includes one of a red color block, a green color block, and a blue color block.
  • the 103 black matrix is used to divide adjacent color resists, block color gaps, and prevent light leakage or color mixing.
  • the color film substrate includes a first black matrix 103.
  • the first black matrix 103 is formed on the first substrate 101 to separate the color resist blocks in the color resist layer 102 from each other.
  • the second color resistive region M includes a first color resist 104 and a second color resist 105.
  • the second color resist 105 is formed on the first color resist 104.
  • the second color resist 105 is another one of the red color block, the green color block, and the blue color block different from the first color resist 104.
  • the first color resist 104 in the present application is a red color block
  • the second color resist 105 is a blue color block.
  • the thickness of the first color resist 104 and the thickness of the second color resist 105 need to be the same or similar.
  • the first color resist 104 and the second color resist 105 have the same thickness.
  • the thickness of the color block in the first color resistive region N is the same as the thickness of the first color resist 104 and the second color resist 105.
  • the specific thickness of the first color resist 104 and the second color resist 105 can be considered according to actual conditions.
  • the thickness of the first color resist 104 may be less than or greater than the thickness of the color block in the first color resistive region N.
  • the film structure diagram shown in FIG. 2 is formed.
  • FIG. 3 is a structural diagram of a film layer of a color film substrate according to an embodiment of the present application.
  • the first color resist 204 and the second color resist 205 have the same thickness.
  • the thickness of the color block in the first color resistive region N is larger than the thickness of the first color resist 204 and the second color resist 205.
  • the thickness of the first color resist 204 and the second color resist 205 is equal to the thickness of the color block in the display area, which is small or large. The specific thickness can be considered according to actual conditions.
  • the application reduces the thickness of the first color resist corresponding to the non-display area of the display panel, and sets a second color resist of different colors of equal thickness on the first color resist to eliminate leakage of the peripheral BM trench
  • the technical problem of colored light makes the liquid crystal display panel display normal.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of a method for fabricating a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present application.
  • FIG. 5A-5D are process flowcharts of a method for fabricating a liquid crystal display panel according to Embodiment 3 of the present application.
  • the crystal display panel manufacturing method includes:
  • a black photoresist material is coated on the first substrate 301, and the black photoresist material is patterned by a first mask process to form a first black matrix 303. .
  • the black photoresist material can be a negative photoresist or a positive photoresist.
  • the black photoresist is a negative photoresist.
  • a color resist layer is coated on the first substrate, and the color resist layer is subjected to a second mask process by using a multi-segment transmittance mask. a color resisting region and a second color resisting region.
  • the first color resistive region N corresponds to a display region of the display panel.
  • the first color resistive region N includes at least one of a red color block, a green color block, and a blue color block.
  • the second color resistive region M corresponds to a non-display region of the display panel.
  • the second color resistive region M includes one of a red color block, a green color block, and a blue color block;
  • the multi-segment transmittance mask includes a first transmittance region, a second transmittance region, and a third transmittance region.
  • the first transmittance region corresponds to a color resistance in the first color resistive region N.
  • the second transmittance region corresponds to the first color resistance 304 in the second color resistive region M.
  • the third transmittance region corresponds to a region other than the first color resist region N and the second color resist region M.
  • the first transmittance region and the second transmittance region have a transmittance of 100%, and the third transmittance region has a transmittance of zero.
  • the transmittance of the second transmittance region of the mask may be adjusted according to actual conditions to adjust the thickness of the first color resist 304;
  • the reticle opening corresponding to the first color resist 304 is larger than the reticle opening corresponding to the color block in the display area to form a first color with a groove as shown. Resistance 304.
  • a second color resist material is first coated on the color resist layer 302, and the color resist layer is exposed through a third mask process. After development, only the first color is retained.
  • the second color resist material in the recess 304 is formed to form a second color resist 305.
  • the first color resist 304 is one of a red color block, a green color block, and a blue color block.
  • the second color resist 305 is another one of the red color block, the green color block, and the blue color block different from the first color resist 304.
  • the thickness of the first color resist 104 and the thickness of the second color resist 105 need to be the same or similar.
  • the first color resist 104 and the second color resist 105 have the same thickness.
  • the thickness of the color block in the first color resistive region N is the same as the thickness of the first color resist 104 and the second color resist 105.
  • the specific thickness of the first color resist 104 and the second color resist 105 can be considered according to actual conditions.
  • the thickness of the first color resist 104 may be less than or greater than the thickness of the color block in the first color resistive region N.
  • FIG. 6A-6D are process flowcharts of a method for fabricating a liquid crystal display panel according to Embodiment 4 of the present application.
  • a halftone mask or a gray scale mask may be used, and the corresponding mask is reselected according to conditions. That is, the transmittance of the second transmittance region of the mask corresponding to the first color resist 404 is between the first transmittance region and the third transmittance region.
  • the second transmittance region has a transmittance of 50%.
  • the first color resist 404 and the second color resist 405 have the same thickness.
  • the thickness of the color block in the first color resistive region N is greater than the thickness of the first color resist 404 and the second color resist 405.
  • the thickness of the first color resist 404 and the second color resist 405 may be equal to the thickness of the color block in the display area, which may be smaller or larger. The specific thickness may be considered according to actual conditions.
  • the color resist layer and the black matrix there is no specific order for the formation of the color resist layer and the black matrix, and the color resist layer may be formed first, and then a black matrix may be formed; or a black matrix may be formed first, and then a color resist layer is formed.
  • the present application provides a liquid crystal display panel including a display area and a non-display area, the non-display area surrounding the display area, the display panel includes: an array substrate, a liquid crystal layer, and color a color filter substrate comprising a first color resistive region N and a second color resistive region M, wherein the first color resistive region N corresponds to the display region, The second color resistive region M corresponds to the non-display region, the second color resisting region M includes a first color resist and a second color resist, and the second color resist is formed on the first color resist

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Abstract

一种液晶显示面板及其制作方法，显示面板包括彩膜基板；彩膜基板包括色阻层（102），色阻层（102）包括第一色阻区域（N）和第二色阻区域（M），其中，第一色阻区域（N）与显示区域对应，第二色阻区域（M）与非显示区域对应，第二色阻区域（M）包括第一色阻（104）和第二色阻（105），第二色阻（105）形成于第一色阻（104）上。

Description

液晶显示面板及其制作方法 技术领域
本申请涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制作方法。
 背景技术
液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）是目前市场上应用最为广泛的显示产品，其生产工艺技术十分成熟，产品良率高，生产成本相对较低，市场接受度高。
液晶显示面板由彩膜（Color Filter，CF）基板、阵列（Array）基板、夹于彩膜基板与阵列基板之间的液晶。CF基板主要包括通过色阻单元（R/G/B）形成有色光的彩色滤光层、防止像素边缘漏光的黑色矩阵（Black Matrix，BM）。
图1为现有技术中外围BM挖槽区的膜层结构图，入射光经过第一基板10后，依次经过红色色阻块30以及蓝色色阻块40而进入液晶显示器，从图中可知，由于红色与蓝色色阻块厚度不同的问题，使得出射光仍然呈红色，因此，导致外围BM挖槽区出现漏红色光线的问题，使得液晶显示器出现显示异常。
 技术问题
本申请提供一种液晶显示面板及其制作方法，以解决现有液晶显示面板中外围BM挖槽区出现漏红色光线的技术问题。
 技术解决方案
本申请提出了一种液晶显示面板，包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域围绕所述显示区域，所述显示面板包括：
阵列基板；
彩膜基板，与所述阵列基板相对设置，所述彩膜基板包括：
第一基板；
第一黑色矩阵，形成于所述第一基板上；
色阻层，形成于所述第一基板上，所述色阻层包括：
第一色阻区域，与所述显示区域对应；
第二色阻区域，与所述非显示区域对应，所述第二色阻区域包括第一色阻和第二色阻，所述第二色阻形成于所述第一色阻上。
在本申请的液晶显示面板中，所述第一色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的其中一种；
所述第二色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中不同于所述第一色阻的另一种。
在本申请的液晶显示面板中，所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度相同。
在本申请的液晶显示面板中，
所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度较所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度小。
在本申请的液晶显示面板中，
所述第一色阻的厚度、所述第二色阻的厚度与所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度相同。
本申请还提出了一种液晶显示面板的制作方法，其包括：
S10、提供第一基板，在所述第一基板上涂布一层黑色光阻材料，经第一光罩制程工艺，形成第一黑色矩阵；
S20、在所述第一基板上涂布色阻层，经第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域，
其中，所述第一色阻区域与所述显示面板的显示区域对应，所述第二色阻区域与所述显示面板的非显示区域对应，所述第二色阻区域包括第一色阻；
S30、在所述色阻层上涂覆第二色阻材料，利用第三光罩制程工艺，形成第二色阻，
其中，所述第二色阻形成于所述第一色阻上，所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度相同；
S40、提供第二基板，将第二基板与所述第一基板进行对组贴合，并将液晶材料滴注于所述第二基板与所述第一基板之间。
在本申请的制作方法中，步骤S20包括：
S201、在所述第一基板上涂布色阻层；
S202、利用一多段式穿透率掩膜板对所述色阻层进行第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域。
在本申请的制作方法中，
所述第二光罩制程工艺为半色调光罩或灰阶光罩；
所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域以及第三穿透率区域，
所述第三穿透率区域对应第一色阻区域，所述第二穿透率区域对应所述第二色阻区域，所述第一穿透率区域对应除所述第一色阻区域和所述第二色阻区域以外的区域。
在本申请的制作方法中，所述第一色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一种；
所述第二色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中不同于第一色阻块的另一种。
在本申请的制作方法中，
所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度较所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度小。
在本申请的制作方法中，
所述第一色阻的厚度、所述第二色阻的厚度与所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度相同。
在本申请的制作方法中，所述第一色阻所对应的掩模板开口比所述显示区域中色阻块岁对应的掩模板开口大。
本申请还提出了一种液晶显示面板的制作方法，其包括：
S10、提供第一基板，在所述第一基板上涂布一层黑色光阻材料，经第一光罩制程工艺，形成第一黑色矩阵；
S20、在所述第一基板上涂布色阻层，经第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域，
其中，所述第一色阻区域与所述显示面板的显示区域对应，所述第二色阻区域与所述显示面板的非显示区域对应，所述第二色阻区域包括第一色阻；
S30、在所述色阻层上涂覆第二色阻材料，利用第三光罩制程工艺，形成第二色阻，
其中，所述第二色阻形成于所述第一色阻上；
S40、提供第二基板，将第二基板与所述第一基板进行对组贴合，并将液晶材料滴注于所述第二基板与所述第一基板之间。
在本申请的制作方法中，步骤S20包括：
S201、在所述第一基板上涂布色阻层；
S202、利用一多段式穿透率掩膜板对所述色阻层进行第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域。
在本申请的制作方法中，
所述第二光罩制程工艺为半色调光罩或灰阶光罩；
所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域以及第三穿透率区域，
所述第三穿透率区域对应第一色阻区域，所述第二穿透率区域对应所述第二色阻区域，所述第一穿透率区域对应除所述第一色阻区域和所述第二色阻区域以外的区域。
在本申请的制作方法中，所述第一色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一种；
所述第二色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中不同于第一色阻块的另一种。
在本申请的制作方法中，所述第一色阻的厚度、所述第二色阻的厚度所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度小。
在本申请的制作方法中，
所述第一色阻的厚度与、述第二色阻的厚度与所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度相同。
在本申请的制作方法中，所述第一色阻所对应的掩模板开口比所述显示区域中色阻块岁对应的掩模板开口大。
 有益效果
本申请通过降低所述显示面板非显示区域所对应的第一色阻的厚度，并在所述第一色阻上设置等厚度的不同颜色的第二色阻，以消除外围BM挖槽区漏有色光线的技术问题，使得液晶显示面板显示正常。
 附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术彩膜基板的膜层结构图；
图2为本申请实施例一彩膜基板的膜层结构图；
图3为本申请实施例二彩膜基板的膜层结构图；
图4为本申请实施例三液晶显示面板制作方法的步骤图；
图5A~5D为本申请实施例三液晶显示面板制作方法的工艺流程图；
图6A~6D为本申请实施例四液晶显示面板制作方法的工艺流程图。
 本发明的实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本申请所涉及的液晶显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域围绕所述显示区域。
在一种实施例中，所述液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。
请参阅图2，图2为本申请实施例一彩膜基板的膜层结构图。
所述彩膜基板，与所述阵列基板相对设置。所述彩膜基板包括：第一基板101、色阻层102以及第一黑色矩阵103。
在一种实施例中，所述第一基板101与所述阵列基板中的玻璃基板材质相同。
所述色阻层102位于所述第一基板101表面。
所述色阻层102包括第一色阻区域N和第二色阻区域M。
所述第一色阻区域N与所述显示面板的显示区域对应。
在一种实施例中，第一色阻区域N包括红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的至少一种。
所述第二色阻区域M与所述显示面板的非显示区域所对应。
在一种实施例中，第二色阻区域M包括红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一种。
所述103黑色矩阵用于分割相邻色阻，遮挡色彩的空隙，防止漏光或者混色。
在一种实施例中，所述彩膜基板包括第一黑色矩阵103。
所述第一黑色矩阵103形成于所述第一基板101上，使色阻层102中的各色阻块相互分离。
所述第二色阻区域M包括第一色阻104和第二色阻105。
所述第二色阻105形成于所述第一色阻104上。
在一种实施例中，所述第二色阻105为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中不同于所述第一色阻104的另一种。
请参阅图2，为了更好的对实施例一进行说明，本申请中的所述第一色阻104为红色色阻块，所述第二色阻105为蓝色色阻块。
入射光经红色色阻块输出红色光线后，但当所述红色光线再次作为入射光进入蓝色色阻块时，不会有有色光线从蓝色色阻块中射出，消除了显示面板中非显示区域中出现漏红色光线的技术问题。为了达到这种技术效果，所述第一色阻104的厚度和所述第二色阻105的厚度需要相同或相近。
在一种实施例中，第一色阻104和第二色阻105的厚度相同。
在一种实施例中，第一色阻区域N中的色阻块厚度与第一色阻104和第二色阻105的厚度相同。第一色阻104和第二色阻105具体的厚度，可以根据实际情况去考虑。
在一种实施例中，第一色阻104的厚度可以小于或者大于第一色阻区域N中的色阻块厚度。
由于所述第一色阻104所对应的掩模板开口比所述显示区域中色阻块所对应的掩模板开口大，因此形成了图2所示的膜层结构图。
请参阅图3，图3为本申请实施例二彩膜基板的膜层结构图。
第一色阻204和第二色阻205的厚度相同。
在本实施例的显示区域中，第一色阻区域N中的色阻块厚度较第一色阻204和第二色阻205的厚度大。第一色阻204和第二色阻205叠加的厚度与显示区域中色阻块厚度相等、较小或较大都可以，具体的厚度，可以根据实际情况去考虑。
本申请通过降低所述显示面板非显示区域所对应的第一色阻的厚度，并在所述第一色阻上设置等厚度的不同颜色的第二色阻，以消除外围BM挖槽区漏有色光线的技术问题，使得液晶显示面板显示正常。
请参阅图4，图4为本申请实施例液晶显示面板制作方法的步骤图。
请参阅图5A~5D，图5A~5D为本申请实施例三液晶显示面板制作方法的工艺流程图。
所述晶显示面板制作方法包括：
S10、提供第一基板301，在所述第一基板301上涂布一层黑色光阻材料，经第一光罩制程工艺，形成第一黑色矩阵303；
请参阅图5A~5B，在所述第一基板301上涂布一层黑色光阻材料，经第一光罩制程工艺，对所述黑色光阻材料进行图案化处理，形成第一黑色矩阵303。
在一种实施例中，黑色光阻材料可以为负性光阻或正性光阻。
在本实施例中，所述黑色光阻为负性光阻。
S20、在所述第一基板301上涂布一色阻层302，经第二光罩制程工艺，在所述色阻层302上形成第一色阻区域和第二色阻区域；
请参阅图5C，在所述第一基板上涂布色阻层，利用一多段式穿透率的掩膜板对所述色阻层进行第二光罩制程工艺，经图案化处理形成第一色阻区域和第二色阻区域。
所述第一色阻区域N与所述显示面板的显示区域对应。
在一种实施例中，所述第一色阻区域N包括红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的至少一种。
所述第二色阻区域M与所述显示面板的非显示区域所对应。
在一种实施例中，第二色阻区域M包括红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一种；
所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域以及第三穿透率区域。
所述第一穿透率区域对应所述第一色阻区域N中的色阻。所述第二穿透率区域对应所述第二色阻区域M中的所述第一色阻304。所述第三穿透率区域对应除所述第一色阻区域N和所述第二色阻区域M以外的区域。
在一种实施例中，所述第一穿透率区域和所述第二穿透率区域的穿透率为100%、所述第三穿透率区域的穿透率为0。所述掩膜板第二穿透率区域的穿透率可以根据实际情况进行调整，以调节第一色阻304的厚度；
在一种实施例中，所述第一色阻304所对应的掩模板开口比所述显示区域中色阻块所对应的掩模板开口大，以形成如图所示带凹槽的第一色阻304。
S30、在所述色阻层302上涂覆第二色阻305材料，利用第三光罩制程工艺，形成第二色阻305；
请参阅图5D，首先在所述色阻层302上涂覆第二色阻材料，并通过第三光罩制程工艺，对该色阻层进行曝光，经显影后，仅保留所述第一色阻304凹槽内的第二色阻材料，形成第二色阻305。
在一种实施例中，所述第一色阻304为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一种。
在一种实施例中，所述第二色阻305为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的不同于所述第一色阻304的另一种。
S40、提供第二基板，将第二基板与所述第一基板301进行对组贴合，并将液晶材料滴注于所述第二基板与所述第一基板301之间。
在本申请的液晶显示面板中，入射光经红色色阻块输出红色光线后，但当所述红色光线再次作为入射光进入蓝色色阻块时，不会有有色光线从蓝色色阻块中射出，消除了显示面板中非显示区域中出现漏红色光线的技术问题。为了达到这种技术效果，所述第一色阻104的厚度和所述第二色阻105的厚度需要相同或相近。
请参阅图5D，第一色阻104和第二色阻105的厚度相同。
在一种实施例中，第一色阻区域N中的色阻块厚度与第一色阻104和第二色阻105的厚度相同。第一色阻104和第二色阻105具体的厚度，可以根据实际情况去考虑。
在一种实施例中，第一色阻104的厚度可以小于或者大于第一色阻区域N中的色阻块厚度。
请参阅图6A~6D，图6A~6D为本申请实施例四液晶显示面板制作方法的工艺流程图。
在本实施例中，该第二光罩制程工艺中，可以采用半色调光罩或灰阶光罩，对应的掩膜板则根据条件进行重新选择。即第一色阻404所对应掩膜板的第二穿透率区域的穿透率介于第一穿透率区域和第三穿透率区域之间。
在一种实施例中，所述第二穿透率区域的穿透率为50%。
在一种实施例中，第一色阻404和第二色阻405的厚度相同。而在显示区域中，第一色阻区域N中的色阻块厚度较第一色阻404和第二色阻405的厚度大。第一色阻404和第二色阻405叠加的厚度大小与显示区域中色阻块厚度相等、较小或较大都可以，具体的厚度，可以根据实际情况去考虑。
另外，对于色阻层和黑色矩阵的形成没有具体的顺序，可以先形成色阻层，然后形成黑色矩阵；也可以先形成黑色矩阵，后形成色阻层。
本申请提出了一种液晶显示面板及其制作方法，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域围绕所述显示区域，所述显示面板包括：阵列基板、液晶层以及彩膜基板；所述彩膜基板包括色阻层，所述色阻层包括第一色阻区域N和第二色阻区域M，其中，所述第一色阻区域N与所述显示区域对应，所述第二色阻区域M与所述非显示区域对应，所述第二色阻区域M包括第一色阻和第二色阻，所述第二色阻形成于所述第一色阻上，通过两种不同颜色的色阻块的叠加，消除了外围BM挖槽区出现漏有色光线的技术问题，使得液晶显示面板显示正常。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (19)

  1. 一种液晶显示面板，包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域围绕所述显示区域，其中，所述显示面板包括：
    阵列基板；
    彩膜基板，与所述阵列基板相对设置，所述彩膜基板包括：
    第一基板；
    第一黑色矩阵，形成于所述第一基板上；
    色阻层，形成于所述第一基板上，所述色阻层包括：
    第一色阻区域，与所述显示区域对应；
    第二色阻区域，与所述非显示区域对应，所述第二色阻区域包括第一色阻和第二色阻，所述第二色阻形成于所述第一色阻上。
  2. 根据权利要求1所述的液晶显示面板，其中，所述第一色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的其中一种；
    所述第二色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中不同于所述第一色阻的另一种。
  3. 根据权利要求1所述的液晶显示面板，其中，所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度相同。
  4. 根据权利要求1所述的液晶显示面板，其中，
    所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度较所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度小。
  5. 根据权利要求1所述的液晶显示面板，其中，
    所述第一色阻的厚度、所述第二色阻的厚度与所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度相同。
  6. 一种液晶显示面板的制作方法，其包括：
    S10、提供第一基板，在所述第一基板上涂布一层黑色光阻材料，经第一光罩制程工艺，形成第一黑色矩阵；
    S20、在所述第一基板上涂布色阻层，经第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域，
    其中，所述第一色阻区域与所述显示面板的显示区域对应，所述第二色阻区域与所述显示面板的非显示区域对应，所述第二色阻区域包括第一色阻；
    S30、在所述色阻层上涂覆第二色阻材料，利用第三光罩制程工艺，形成第二色阻，
    其中，所述第二色阻形成于所述第一色阻上，所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度相同；
    S40、提供第二基板，将第二基板与所述第一基板进行对组贴合，并将液晶材料滴注于所述第二基板与所述第一基板之间。
  7. 根据权利要求6所述的制作方法，其中，步骤S20包括：
    S201、在所述第一基板上涂布色阻层；
    S202、利用一多段式穿透率掩膜板对所述色阻层进行第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域。
  8. 根据权利要求7所述的制作方法，其中，
    所述第二光罩制程工艺为半色调光罩或灰阶光罩；
    所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域以及第三穿透率区域，
    所述第三穿透率区域对应第一色阻区域，所述第二穿透率区域对应所述第二色阻区域，所述第一穿透率区域对应除所述第一色阻区域和所述第二色阻区域以外的区域。
  9. 根据权利要求6所述的制作方法，其中，所述第一色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一种；
    所述第二色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中不同于第一色阻块的另一种。
  10. 根据权利要求6所述的制作方法，其中，
    所述第一色阻的厚度与所述第二色阻的厚度较所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度小。
  11. 根据权利要求6所述的制作方法，其中，
    所述第一色阻的厚度、所述第二色阻的厚度与所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度相同。
  12. 根据权利要求6所述的制作方法，其中，所述第一色阻所对应的掩模板开口比所述显示区域中色阻块岁对应的掩模板开口大。
  13. 一种液晶显示面板的制作方法，其包括：
    S10、提供第一基板，在所述第一基板上涂布一层黑色光阻材料，经第一光罩制程工艺，形成第一黑色矩阵；
    S20、在所述第一基板上涂布色阻层，经第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域，
    其中，所述第一色阻区域与所述显示面板的显示区域对应，所述第二色阻区域与所述显示面板的非显示区域对应，所述第二色阻区域包括第一色阻；
    S30、在所述色阻层上涂覆第二色阻材料，利用第三光罩制程工艺，形成第二色阻，
    其中，所述第二色阻形成于所述第一色阻上；
    S40、提供第二基板，将第二基板与所述第一基板进行对组贴合，并将液晶材料滴注于所述第二基板与所述第一基板之间。
  14. 根据权利要求13所述的制作方法，其中，步骤S20包括：
    S201、在所述第一基板上涂布色阻层；
    S202、利用一多段式穿透率掩膜板对所述色阻层进行第二光罩制程工艺，在所述色阻层上形成第一色阻区域和第二色阻区域。
  15. 根据权利要求14所述的制作方法，其中，
    所述第二光罩制程工艺为半色调光罩或灰阶光罩；
    所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域以及第三穿透率区域，
    所述第三穿透率区域对应第一色阻区域，所述第二穿透率区域对应所述第二色阻区域，所述第一穿透率区域对应除所述第一色阻区域和所述第二色阻区域以外的区域。
  16. 根据权利要求13所述的制作方法，其中，所述第一色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一种；
    所述第二色阻为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中不同于第一色阻块的另一种。
  17. 根据权利要求13所述的制作方法，其中，所述第一色阻的厚度、所述第二色阻的厚度所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度小。
  18. 根据权利要求13所述的制作方法，其中，
    所述第一色阻的厚度与、述第二色阻的厚度与所述第一色阻区域中的所述色阻层的厚度相同。
  19. 根据权利要求13所述的制作方法，其中，所述第一色阻所对应的掩模板开口比所述显示区域中色阻块岁对应的掩模板开口大。
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