WO2019058888A1 - 組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、化合物 - Google Patents

組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、化合物 Download PDF

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WO2019058888A1
WO2019058888A1 PCT/JP2018/031658 JP2018031658W WO2019058888A1 WO 2019058888 A1 WO2019058888 A1 WO 2019058888A1 JP 2018031658 W JP2018031658 W JP 2018031658W WO 2019058888 A1 WO2019058888 A1 WO 2019058888A1
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group
compound
substituent
composition
crosslinkable
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PCT/JP2018/031658
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金子　祐士
貴規 田口
大貴 瀧下
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富士フイルム株式会社
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
    • C07D251/40—Nitrogen atoms
    • C07D251/54—Three nitrogen atoms
    • C07D251/70—Other substituted melamines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics

Definitions

  • the present invention relates to a composition, a film, a lens, a solid-state imaging device, and a compound.
  • Patent Document 1 discloses a compound represented by the following general formula as a raw material that can be used as a heat resistant material and an electronic material.
  • Patent Document 2 discloses a compound represented by the following general formula as a novel polymerizable compound useful for producing a functional film of a charge transport material.
  • the refractive index of the film formed using the composition containing this compound did not reach the required standard.
  • the present inventors examined the compound described in Patent Document 2 fine irregularities, etc. (hereinafter, also referred to as “defects”) are formed on the surface of a coating film formed using a composition containing this compound. ) was found to occur easily.
  • defects are more likely to increase when the period from the formation of the coating film to the treatment such as exposure to the coating film is long. There is a concern that such defects may lead to a decrease in film performance.
  • the property that defects do not easily occur in the coating film is also referred to as “defect suppression property”.
  • this invention makes it a subject to provide the composition which can form the coating film which is excellent in defect suppression property, and can form the film which is excellent in refractive index.
  • Another object of the present invention is to provide a film obtained using the composition, a lens including the film, a solid-state imaging device including the film or the lens, and a compound included in the composition. .
  • a composition comprising a compound represented by General Formula (I) described later and a solvent.
  • C and D represent —NH— in the general formula (I) described later.
  • at least one A is an aryl group, a cyano group, an arylthio group, a halogen atom, a heterocyclic group, a nitro group, an alkoxy group, and a group obtained by combining these.
  • an aryl group or a heterocyclic group having at least one substituent selected from the group consisting of biphenyl and cyanophenyl In the general formula (I) described later, an aryl group or a heterocyclic group having at least one substituent selected from the group consisting of biphenyl and cyanophenyl.
  • the aryl group represented by A is a benzene ring group, a naphthalene ring group, or an anthracene ring group
  • at least one A represents a benzene ring group having a substituent having no crosslinkable group at the para position relative to the bonding position with C, [1 ]
  • composition according to any one of [1] to [6], wherein at least one of the crosslinkable groups is a group having an ethylenically unsaturated bond or an epoxy group.
  • composition according to any one of [1] to [7], wherein at least one of the crosslinkable groups is an acryloyl group, a methacryloyl group, a maleimide group, or an epoxy group.
  • at least one of the crosslinkable groups is an acryloyl group.
  • Q in the general formula (I) described later represents a triazine ring group.
  • the composition according to any one of [1] to [12], wherein the molecular weight of the compound is 300 to 2000.
  • a lens comprising the film of [15].
  • a solid-state imaging device comprising the film according to [15] or the lens according to [16].
  • the composition which can form the coating film which is excellent in defect suppression property, and can form the film which is excellent in refractive index can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a film obtained using the above composition, a lens including the above film, a solid imaging device including the above film or the above lens, and a compound contained in the above composition.
  • a numerical range represented using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as the lower limit value and the upper limit value.
  • actinic ray or “radiation” means, for example, a bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, electron beams and the like.
  • light as used herein means an actinic ray or radiation.
  • the "exposure” in the present specification means not only exposure by far ultraviolet rays represented by a mercury lamp or excimer laser, X-rays, EUV light, etc., but also particle beams such as electron beams and ion beams. The drawing by is also included in the exposure.
  • “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate
  • “(meth) acrylic” represents acrylic and methacrylic
  • “(meth) acryloyl” represents acryloyl and methacryloyl.
  • the term "process” is included in the term if the intended function of the process is achieved, even if it can not be clearly distinguished from other processes, not only the independent process. .
  • the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corp.) as a measuring device and TSKgel Super AWM-H (manufactured by Tosoh Corp.) as a column. It is determined using a 6.0 mm ID (inner diameter) ⁇ 15.0 cm) and a 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methyl pyrrolidinone) solution as an eluent.
  • the total solid content refers to the total mass of components excluding the solvent from the entire composition.
  • the notation not describing substitution and non-substitution includes a group having a substituent as well as a group having no substituent.
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the following substituent T is mentioned, for example.
  • substituent T halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group; phenoxy group, and p-tolyloxy group Aryloxy group; Alkoxy carbonyl group such as methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group and phenoxy carbonyl group; Acyloxy group such as acetoxy group, propionyloxy group and benzoyloxy group; Acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group An acyl group such as methacryloyl group and methoxalyl group; an alkylsulfanyl group such as methylsulfanyl group and a tert-butylsulfanyl group; an arylsulfanyl group such as a phenylsulf
  • composition of the present invention is a composition containing a compound represented by the general formula (I) described below (hereinafter also referred to as “specific compound”) and a solvent.
  • composition of the present invention include, as described above, the point of containing a specific compound.
  • the specific compound is a group having no crosslinkable group (in general formula (I), a group represented by A) and a group having a crosslinkable group (in general formula (I), a group represented by B) Have both.
  • the specific compound is at least as a linking group between the central ring (a group represented by Q in General Formula (I)) and the group having no crosslinkable group and the group having the crosslinkable group. It has one -NH-.
  • the specific compound has both a group having no crosslinkable group and a group having a crosslinkable group, so the compound as a whole has a structure with low symmetry, and crystallization hardly progresses. Therefore, it is thought that generation
  • -NH- existing as a linking group between the central ring of a specific compound and a group having no crosslinkable group and / or a group having a crosslinkable group is a film formed using a composition It is thought that it contributes to the improvement of the refractive index.
  • a film formed from such a composition of the present invention is less likely to cause roughening and cracking on the film surface, and also has an advantage of being excellent in surface appearance.
  • the coating film excellent in photolithography property can be obtained by using the composition of this invention.
  • the coating film formed using the composition of this invention is excellent in developability, and can form the pattern which has a favorable shape.
  • the specific compound is a compound represented by the general formula (I). (A-C-) l -Q-(-D-B) m (I)
  • l represents an integer of 1 to 10. 1 is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and still more preferably 1 to 2. When l is 2 or more, a plurality of A may be the same or different, a plurality of C may be the same or different, and a plurality of (-CA) may be the same or different Good.
  • m represents an integer of 1 to 10.
  • m is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and still more preferably 1 to 2.
  • a plurality of B may be the same or different
  • a plurality of D may be the same or different
  • a plurality of (-D-B) may be the same or different Good.
  • the total of l and m (l + m) is preferably 2 to 16, more preferably 2 to 6, and still more preferably 3 to 4.
  • each independently represents an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent which does not have a crosslinkable group. That is, A represents an aryl group which may have a substituent which does not have a crosslinkable group, or a heterocyclic group which may have a substituent which does not have a crosslinkable group.
  • the definition of the crosslinkable group is described in detail later.
  • the aryl group is preferably an aryl group having a carbon number of 6 to 14, such as a benzene ring group, a naphthalene ring group, or an anthracene ring group, more preferably an aryl group having a carbon number of 6 to 10, still more preferably a benzene ring group. .
  • the heterocyclic group may or may not have aromaticity, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the number of member rings of the heterocyclic group is preferably 3 to 24, more preferably 4 to 15, and still more preferably 5 to 10.
  • the number of heteroatoms in the heterocyclic group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 4.
  • Examples of the hetero atom of the heterocyclic group include a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, a selenium atom, a tellurium atom, a phosphorus atom, a silicon atom and a boron atom. Among them, nitrogen atom, sulfur atom or oxygen atom is preferable.
  • heterocyclic group examples include thiophene ring group, thiazole ring group, benzothiazole ring group, carbazole ring group, indole ring group, pyrrol ring group, furan ring group, selenophen ring group, tellurophen ring group, imidazole ring group, pyrazole Ring group, oxazole ring group, isoxazole ring group, isothiazole ring group, pyridine ring group, pyridone-2-one ring group, pyrimidine ring group, pyridazine ring group, pyrazine ring group, triazine ring group, selenopyran ring group, and And aromatic heterocyclic groups such as telluropyran ring group; pyrrolidine ring group, silole ring group, perhydrosilole ring group, piperidine ring group, piverazine ring group, and morpholine ring group.
  • A is a benzene ring group, a thiophene ring group, a naphthalene ring group, an anthracene ring group, a thiazole ring group, or a benzothiazole ring group which may have a substituent having no crosslinkable group, Is preferred. That is, the aryl group represented by A is preferably a benzene ring group, a naphthalene ring group, or an anthracene ring group, and the heterocyclic group represented by A is a thiophene ring group, a thiazole ring group, or It is preferably a benzothiazole ring group. In the general formula (I), it is preferable that at least one A is any of these groups, and it is more preferable that all of the A be any of these groups.
  • the aryl group and the heterocyclic group may or may not have a substituent that does not have a crosslinkable group. It is preferable to have a substituent which does not have a crosslinkable group, from the viewpoint that the refractive index of the film is more excellent.
  • the aryl group and the heterocyclic group do not have a substituent having a crosslinkable group.
  • the number of substituents that do not have a crosslinkable group is not particularly limited, but is independently preferably 1 to 10, 1 to 2 is more preferable, and 1 is more preferable.
  • the benzene ring group preferably has a substituent having no crosslinkable group, and the substituent having no crosslinkable group is bonded at the para position relative to the bonding position with C. It is more preferable that
  • the substituent that A has is not particularly limited as long as it does not have a crosslinkable group.
  • the substituent which does not have a crosslinkable group that A can have is also referred to as a non-crosslinkable group.
  • the non-crosslinkable group is required to be stable to the polymerization initiator or crosslinking agent which the composition may contain.
  • Groups that can be used as non-crosslinkable groups differ depending on the combination with the polymerization initiator or crosslinking agent, but typically, from the viewpoint of excellent refractive index of the film, aryl groups, cyano groups, arylthio groups (preferably phenylthio groups) ), A halogen atom, a heterocyclic group, a nitro group, an alkoxy group, an alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 3), an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an alkylthio group, or a combination thereof, preferably an aryl group A cyano group, an arylthio group, a halogen atom, a heterocyclic group, a nitro group, an alkoxy group, or a group combining these is more preferable, and a biphenyl group and a cyanophenyl group are more preferable.
  • At least one A has one or more of these substituents. In the general formula (I), it is also preferred that all A's have one or more of these substituents. When A is a heterocyclic group, it is also preferable that it has no substituent.
  • the molecular weight of A is independently preferably 65 to 500, more preferably 70 to 400, and still more preferably 75 to 300.
  • B each independently represents an aryl group or a heterocyclic group having a substituent having a crosslinkable group. That is, B represents an aryl group having a substituent having a crosslinkable group or a heterocyclic group having a substituent having a crosslinkable group.
  • the aryl group and heterocyclic group represented by B may have a substituent that does not have a crosslinkable group.
  • the aryl group and the said heterocyclic group As an example of the said aryl group and the said heterocyclic group, the aryl group and heterocyclic group demonstrated as group which may be represented by A are mentioned similarly, A preferable range can also be referred similarly. Among them, as the aryl group or heterocyclic group represented by B, a benzene ring group is preferable.
  • (Substituent Having a Crosslinkable Group) B has a substituent having a crosslinkable group. More specifically, the aryl group and heterocyclic group in B have a substituent having a crosslinkable group.
  • the substituent having a crosslinkable group may be a crosslinkable group itself as long as at least a part of the crosslinkable group is contained.
  • one substituent having a crosslinkable group may have a plurality of (for example, 2 to 4) crosslinkable groups.
  • the number of substituents having a crosslinkable group is 2 or more, or the substituent having a crosslinkable group It is preferable to satisfy one or more conditions of whether or not the group has a plurality of crosslinkable groups.
  • the specific compound preferably has two or more crosslinkable groups in one molecule.
  • the crosslinkable group is preferably a radical, an acid, or a group which causes a crosslinking reaction by heat or the like.
  • a crosslinking agent it is preferable to use a group capable of reacting with the crosslinking agent as a crosslinking group.
  • Groups that can be used as crosslinkable groups differ depending on the combination with the polymerization initiator or crosslinking agent that the composition may contain, but representative examples include groups having an ethylenically unsaturated bond, epoxy groups, Examples include oxetanyl group (preferably 3-ethyloxetanyl group), isocyanate group, methylol group, alkoxysilyl group, hydroxyl group, amino group and carboxy group.
  • Examples of the group having an ethylenically unsaturated bond include an acryloyl group, a methacryloyl group, a haloallyl group, a haloacryloyl group, a hydroxymethyl allyl group, a hydroxymethyl acryloyl group, a maleimide group, an allyl group, a methallyl group, and a vinyl group. It can be mentioned.
  • the crosslinkable group is preferably a group having an ethylenically unsaturated bond or an epoxy group, more preferably an acryloyl group, a methacryloyl group, a maleimide group, or an epoxy group, and still more preferably an acryloyl group.
  • crosslinkable groups When a plurality of crosslinkable groups are present, they may be the same or different, but at least one of the crosslinkable groups is a group having an ethylenically unsaturated bond or an epoxy group (more preferably a (meth) acryloyl group, It is preferably a maleimide group or an epoxy group, more preferably an acryloyl group, and all of the crosslinkable groups each independently have an ethylenically unsaturated bond or an epoxy group (more preferably an acryloyl group or methacryloyl group) More preferably, it is a group, a maleimide group or an epoxy group, more preferably an acryloyl group. In addition, an acryloyl group or a methacryloyl group is preferable from the viewpoint that the surface appearance of the obtained film is excellent.
  • the position at which the crosslinkable group is present is not particularly limited, but is preferably present at the end of the substituent.
  • the substituent having a crosslinkable group include a crosslinkable group itself or a group obtained by combining a crosslinkable group and a linking group.
  • a linking group a divalent linking group, a trivalent or higher linking group, or a combination of these can be mentioned.
  • divalent linking group examples include an ether group (-O-), a carbonyl group (-CO-), an ester group (-COO-), a thioether group (-S-), -SO 2- , -NR- (R represents a hydrogen atom or an alkyl group), a divalent hydrocarbon group (such as an alkylene group or an arylene group), and a combination of these.
  • Rx represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a group mentioned as an example of a non-crosslinkable group which A may have. * Represents a bonding position.
  • linking group having a valence of 3 or more other than cycloalkanes, aromatic hydrocarbons (benzene, naphthalene, anthracene etc.) and heterocycles (eg, heterocycles where A can be used as a heterocycle group), 3 And groups in which more than one hydrogen atom has been removed.
  • the substituent having a crosslinkable group is preferably a group represented by the following general formula (P). -L (-E) n1 (P)
  • n1 represents an integer of 1 to 6, preferably 1 to 2.
  • E each independently represents a crosslinkable group.
  • the preferred range for the crosslinkable group is as described above.
  • L represents a single bond or a (n1 + 1) -valent linking group.
  • the (n1 + 1) -valent linking group include an ether group, a carbonyl group, an ester group, an imino group (-NH-), an alkylene group which may have a substituent having no crosslinkable group, and a crosslinkable group
  • a divalent linking group such as an arylene group which may not have a substituent, a trivalent linking group shown below, or a group combining these is preferable.
  • the alkylene group may be linear or branched and may have a ring structure.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 4, and in the case of having a substituent, the substituent is preferably a hydroxyl group.
  • the arylene group is preferably an arylene group having 6 to 14 carbon atoms, such as a benzene ring group, a naphthalene ring group, and an anthracene ring group, more preferably an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and still more preferably a benzene ring group.
  • the substituent is preferably an alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 3).
  • the substituent having a crosslinkable group is more preferably a group represented by the following general formula (P '). -L 1 -L 2 -(-L 3 -E) n2 (P ')
  • E each independently represents a crosslinkable group.
  • the preferred range for the crosslinkable group is as described above.
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • L 2 represents a single bond or a trivalent linking group.
  • Each L 3 independently represents a single bond or a divalent linking group. However, when L 2 is a single bond, L 3 also represents a single bond.
  • n 2 represents 1; when L 2 is a trivalent linking group, n 2 represents 2;
  • Examples of the trivalent linking group for L 2 include any one of the trivalent linking groups shown in the description of L in General Formula (P).
  • the divalent linking group of L 1 and L 3 is each independently an ether group, a carbonyl group, an ester group, an imino group, an alkylene group optionally having no crosslinkable group, a crosslinkability
  • the arylene group which may have the substituent which does not have a group, or the group which combined these is represented.
  • the alkylene group may be linear or branched and may have a ring structure.
  • the carbon number is preferably 1 to 4, and when it has a substituent, a hydroxyl group is preferred.
  • the arylene group is preferably an arylene group having 6 to 14 carbon atoms, such as a benzene ring group, a naphthalene ring group, and an anthracene ring group, more preferably an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and still more preferably a benzene ring group.
  • the substituent is preferably an alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 3).
  • L 1 and L 3 can represent, groups independently shown below are preferable.
  • AL represents an alkylene group which may have a substituent which does not have a crosslinkable group
  • AR represents an arylene group which may have a substituent which does not have a crosslinkable group.
  • the bond on the left end is a bond facing the Q side
  • the bond on the right end is a bond facing the E side.
  • (Substituent having no crosslinkable group) B may further have a substituent which does not have a crosslinkable group. More specifically, the aryl group and heterocyclic group in B may have a substituent which does not have a crosslinkable group.
  • the number of substituents having no crosslinkable group which B has is not particularly limited, and each of them is independently preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, and still more preferably 0 to 1.
  • the substituent which does not have a crosslinkable group the example of the non-crosslinkable group which A may have is mentioned similarly. Among them, a methyl group is preferable as a substituent having no crosslinkable group that B may have.
  • the molecular weight of B is preferably independently 75 to 650, more preferably 80 to 500, still more preferably 85 to 400, and particularly preferably 90 to 300.
  • C and D each independently represent a single bond, -NH-, -NR N- , -O- or -S-.
  • R N may have a substituent, an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl group may be linear or branched and may have a cyclic structure.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2, and still more preferably 1.
  • the aryl group is preferably an aryl group having a carbon number of 6 to 14, such as a benzene ring group, a naphthalene ring group, or an anthracene ring group, more preferably an aryl group having a carbon number of 6 to 10, and still more preferably a benzene ring group.
  • R N is preferably a methyl group, an unsubstituted methyl group is more preferable.
  • C and D are preferably each independently -NH- or -NR N- from the viewpoint that the defect suppression property of the coating film and the refractive index of the film are more excellent, and -NH-or -N (CH 3 More preferred is-), and further preferred is -NH-.
  • at least one of C and D represents -NH-.
  • at least one D is preferably -NH-, more preferably all D is -NH-, and still more preferably all C and D are -NH-.
  • Q represents a heterocyclic group which may have a substituent.
  • the heterocyclic group represented by Q may or may not have aromaticity, and preferably has aromaticity.
  • the heterocyclic group of Q may be monocyclic or polycyclic, and is preferably monocyclic.
  • the number of member rings of the heterocyclic group of Q is preferably 3 to 10, more preferably 5 to 8, and still more preferably 6.
  • the number of heteroatoms in the heterocyclic group of Q is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and still more preferably 3.
  • hetero atom of Q examples include nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, tellurium atom, phosphorus atom, silicon atom, and boron atom. Among them, a nitrogen atom, a sulfur atom or an oxygen atom is preferable, and a nitrogen atom is more preferable.
  • the heterocyclic group represented by Q the heterocyclic group mentioned as an example of the heterocyclic group represented by A is mentioned similarly.
  • the heterocyclic group represented by Q is preferably a triazine ring group, a pyridine ring group or a pyrimidine ring group, and the triazine ring group is more preferable, from the viewpoint that the defect suppression property of the coating film and the film refractive index are more excellent.
  • the substituent which a heterocyclic group may have For example, the substituent which A may have is mentioned, A cyano group is preferable.
  • the molecular weight of the specific compound is preferably 300 to 2,000, more preferably 400 to 1,500, and still more preferably 500 to 1,000.
  • 1.65 or more is preferable, as for the refractive index in wavelength 589 nm of a specific compound, 1.70 or more is more preferable, 1.75 or more is still more preferable, and 1.80 or more is especially preferable.
  • the upper limit of the refractive index is not particularly limited, but 2.50 or less is common.
  • the method of measuring the refractive index of a specific compound is, for example, after forming a film consisting of only a specific compound to be measured on a silicon wafer with a thickness of 300 nm, ellipsometry of the refractive index at a wavelength of 589 nm of the obtained film It measures using lambda ace RE-3300 (brand name), Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. make.
  • the specific compound is preferably a compound represented by the general formula (I ′).
  • l ′ represents an integer of 1 to 2.
  • a plurality of A 0 may be the same or different, and a plurality of C 0 may be the same or different, and a plurality of (-C 0 -A 0 ) may be the same. It may be different.
  • m ′ represents an integer of 1 to 2.
  • a plurality of v may be the same or different
  • a plurality of x may be the same or different
  • a plurality of R 0 may be the same or different
  • a plurality of P 0 which may be the same or different
  • two or more Q 0 may be the same or different
  • two or more exist (-NR 0 -Ph (-P 0 ) v (-Q 0 ) x )
  • the groups represented may be the same or different.
  • the above Ph means a benzene ring group.
  • v each independently represents an integer of 1 to 5.
  • v is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2.
  • x each independently represents an integer of 0 to 4. x is preferably 0 to 3, and 0 to 2 Is more preferable, and 0 to 1 is even more preferable.
  • each group represented by (-NR 0 -Ph (-P 0 ) v (-Q 0 ) x ) in the general formula (I ') the sum (v + x) of v and x in each group is independently of each other , 1 to 5.
  • a 0 is synonymous with A in General formula (I), and its preferable range is also the same.
  • C 0 has the same meaning as C in Formula (I), and preferred ranges are also the same.
  • R 0 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
  • the alkyl group may be linear or branched and may have a cyclic structure.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2, and still more preferably 1.
  • the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms such as a benzene ring group, a naphthalene ring group, and an anthracene ring group, more preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and a benzene ring group having 6 carbon atoms Is more preferred.
  • R 0 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or an unsubstituted methyl group, and still more preferably a hydrogen atom.
  • At least one C 0 which is —NH— or R 0 which is a hydrogen atom is present.
  • P 0 represents a substituent having a crosslinkable group, which is the same as the substituent having a crosslinkable group which B in general formula (I) has, and preferred ranges are also the same.
  • m ' is 1, it is preferable to satisfy one or more conditions of whether v is 2 or more or P 0 has 2 or more crosslinkable groups.
  • Q 0 represents a substituent having no crosslinkable group, and has the same meaning as a substituent having no crosslinkable group that B in the general formula (I) may have, Preferred ranges are also the same.
  • the specific compound is more preferably a compound represented by General Formula (II) or General Formula (III).
  • v and w each independently represent an integer of 1 to 5, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2.
  • v is 2 or more
  • a plurality of P 1 may be the same or different
  • w is 2 or more
  • the plurality of P 2 may be the same or different.
  • x and y each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, and still more preferably 0 to 1.
  • x is 2 or more
  • the plurality of Q 1 may be the same or different
  • y is 2 or more
  • the plurality of Q 2 may be the same or different.
  • the sum (v + x) of v and x is 1 to 5
  • the sum (w + y) of w and y is 1 to 5.
  • a 1 represents an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent which does not have a crosslinkable group.
  • a 1 is the formula has the same meanings as A 0 of (I'), and preferred ranges are also the same.
  • C 1 represents a single bond, -NH-, -NR N- , -O- or -S-.
  • R N may have a substituent, an alkyl group or an aryl group.
  • C 1 has the same meaning as C 0 in formula (I ′), and the preferred range is also the same.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
  • R 1 and R 2 have the same meaning as R 0 in General Formula (I ′), and the preferred ranges are also the same.
  • C 1 represents other than —NH—
  • at least one of R 1 and R 2 represents a hydrogen atom.
  • P 1 and P 2 each independently represent a substituent having a crosslinkable group.
  • P 1 and P 2 have the same meaning as P 0 in formula (I ′), and the preferred ranges are also the same.
  • Q 1 and Q 2 each independently represent a substituent having no crosslinkable group.
  • Q 1 and Q 2 have the same meaning as Q 0 in formula (I ′), and the preferred ranges are also the same.
  • v represents an integer of 1 to 5, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2.
  • v represents an integer of 1 to 5, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1 to 2.
  • P 3 s may be the same or different.
  • x each independently represents an integer of 0 to 4, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, and still more preferably 0 to 1.
  • x is 2 or more, a plurality of Q 3 may be the same or different.
  • each of A 2 and A 3 independently represents an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent having no crosslinking group.
  • a 2 and A 3 the general formula has the same meanings as A 0 of (I'), and preferred ranges are also the same.
  • C 2 and C 3 each independently represent a single bond, —NH—, —NR N —, —O— or —S—.
  • R N may have a substituent, an alkyl group or an aryl group.
  • C 2 and C 3 have the same meaning as C 0 in formula (I ′), and the preferred ranges are also the same.
  • R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
  • R 3 has the same meaning as R 0 in formula (I ′), and the preferred range is also the same.
  • R 3 represents a hydrogen atom.
  • both C 2 and C 3 be —NH— and R 3 be a hydrogen atom.
  • P 3 represents a substituent having a crosslinkable group.
  • P 1 and P 2 have the same meaning as P 0 in formula (I ′), and the preferred ranges are also the same.
  • P 3 preferably has two or more crosslinkable groups.
  • Q 3 represents a substituent having no crosslinkable group.
  • Q 1 and Q 2 have the same meaning as Q 0 in formula (I ′), and the preferred ranges are also the same.
  • the specific compound has an acid group from the viewpoint of the excellent developability of the composition.
  • the acid group include, in addition to the above-mentioned carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a monosulfate ester group, a phosphate group, a monophosphate ester group, a phosphonate group, a phosphinate group, a phenolic hydroxyl group, and A boric acid group is mentioned.
  • a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a monosulfuric acid ester group, a phosphoric acid group, a monophosphoric acid ester group, a phosphonic acid group or a phosphinic acid group is preferable, and a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, phosphoric acid Groups, phosphonic acid groups or phosphinic acid groups are more preferred, and carboxy groups are even more preferred.
  • Specific compounds can be synthesized using known methods.
  • the specific compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the specific compound is preferably 40 to 95% by mass, more preferably 50 to 90% by mass, and still more preferably 60 to 90% by mass with respect to the total solid content in the composition. .
  • membrane mentioned later is intended, and a solvent is not contained.
  • the composition of the present invention preferably further comprises a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate the crosslinking reaction by the crosslinkable group possessed by the specific compound by either light or heat, or both, but it is a photopolymerization initiator preferable. When polymerization is initiated by light, a photopolymerization initiator having photosensitivity to ultraviolet light to visible light is preferred.
  • the composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator.
  • a photoinitiator There is no restriction
  • the photopolymerization initiator is preferably a compound having photosensitivity to light in the ultraviolet region to the visible light region.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator or a photocationic polymerization initiator.
  • crosslinkable group which a specific compound has is a group which has an ethylenically unsaturated bond
  • a radical photopolymerization initiator is preferable
  • the crosslinkable group which a specific compound has is an epoxy group
  • a photocationic polymerization initiator is preferable.
  • a halogenated hydrocarbon derivative for example, a compound having a triazine skeleton, a compound having an oxadiazole skeleton, etc.
  • an acylphosphine compound such as an acylphosphine oxide, a hexaarylbiimidazole
  • an oxime examples include oxime compounds such as derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, hydroxyacetophenones, iodonium salts, and sulfonium salts.
  • Photopolymerization initiators are, from the viewpoint of exposure sensitivity, trihalomethyl triazine compounds, benzyl dimethyl ketal compounds, ⁇ -hydroxy ketone compounds, ⁇ -amino ketone compounds, acyl phosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds (oxime sulfonate compounds Etc.), triarylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyl oxadiazole compounds, 3-aryl substituted coumarin compounds And compounds selected from the group consisting of triarylsulfonium salts are preferred.
  • the description in paragraphs [0065] to [0111] of JP-A-2014-130173 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • ⁇ -hydroxy ketone compounds As the photopolymerization initiator, ⁇ -hydroxy ketone compounds, ⁇ -amino ketone compounds, and acyl phosphine compounds are also suitably used.
  • ⁇ -amino ketone compound described in JP-A-10-291969 an acyl phosphine compound described in Japanese Patent No. 4225898, and an ⁇ -aminoalkylphenone described in paragraph Nos. 0011 to 0033 of WO 2016/017537 brochure.
  • Compounds are also used.
  • Examples of commercially available ⁇ -hydroxy ketone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, and IRGACURE-127 (manufactured by BASF Corp.).
  • Commercially available products of ⁇ -amino ketone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, and IRGACURE-379EG (manufactured by BASF AG).
  • Examples of commercially available products of acyl phosphine compounds include IRGACURE-819 which is a commercially available product, and DAROCUR-TPO (manufactured by BASF Corp.).
  • oxime compounds include IRGACURE-OXE01, IRGACURE-OXE02, IRGACURE-OXE03, and IRGACURE-OXE04 (above, made by BASF Corporation), TR-PBG-304 (made by Changzhou Strong Electronic New Materials Co., Ltd.), Adeka Arclez NCI-831 (made by ADEKA Co., Ltd.), Adeka Arkles NCI-930 (made by ADEKA Co., Ltd.), and light described in Adeka Optomer N-1919 (made by ADEKA Co., Ltd., JP-A-2012-14052) Polymerization initiator 2) etc. are mentioned.
  • An oxime compound having a fluorene ring can also be used as a photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a fluorene ring compounds described in JP-A-2014-137466 can be mentioned. This content is incorporated herein.
  • An oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include the compounds described in JP-A-2010-262028, the compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. And the compound (C-3) described in and the like. The contents of these are incorporated herein.
  • An oxime compound having a nitro group is used as a photopolymerization initiator. It is also preferable to make the oxime compound which has a nitro group into a dimer.
  • the oxime compound having a nitro group compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A and paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP2014-137466A, Examples thereof include the compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of Patent No. 4223071, and Adeka ARKLS NCI-831 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • the oxime compound is preferably a compound having an absorption maximum in a wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having an absorption maximum in a wavelength range of 360 to 480 nm. Moreover, the oxime compound is preferably a compound having a high absorbance at 365 nm and 405 nm. From the viewpoint of sensitivity, the molar absorption coefficient of the oxime compound at 365 nm or 405 nm is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, 5,000 to 200, More preferably, it is 000.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent with a UV-visible spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • the photopolymerization initiator contains an oxime compound and an ⁇ -amino ketone compound.
  • an oxime compound and an ⁇ -amino ketone compound When the two are used in combination, developability is improved and a pattern having excellent rectangularity can be easily formed.
  • the oxime compound and the ⁇ -amino ketone compound it is preferable to contain 50 to 600 parts by mass of the ⁇ -amino ketone compound with respect to 100 parts by mass of the oxime compound, and more preferably 150 to 400 parts by mass.
  • the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, still more preferably 1 to 20% by mass, with respect to the total solid content in the composition. 1 to 10% by mass is particularly preferred.
  • the content of the photopolymerization initiator is in the above range, it is easy to form a pattern which is more excellent in sensitivity and is excellent in rectangularity.
  • thermal polymerization initiator When the polymerization is initiated by heat, a thermal polymerization initiator which decomposes at 150 to 250 ° C. is preferred. Known thermal polymerization initiators can be used as the thermal polymerization initiator.
  • the thermal polymerization initiator is preferably a compound which generates a radical by the energy of heat and starts or accelerates a polymerization reaction of the radically polymerizable compound.
  • thermal polymerization initiator aromatic ketones, onium salt compounds, organic peroxides, thio compounds, hexaarylbiimidazole compounds, ketoxime ester compounds, borate compounds, azinium compounds, metallocene compounds, active ester compounds, carbon halogen Compounds having a bond, azo compounds and the like can be mentioned.
  • organic peroxides or azo compounds are more preferable, and peroxides are particularly preferable.
  • compounds described in Paragraph Nos. 0074 to 0118 of JP-A-2008-63554 can be mentioned.
  • tert-butyl dodecaneperoxyate is preferable as the thermal polymerization initiator.
  • Percmil D manufactured by NOF Corporation, Percyl P, Peroyl IB, Percyl ND, Peroyl NPP, Peroyl IP, Peroyl SBP, Perocta ND, Peroyl TCP, Peroyl OPP, Perhexyl ND, Perbutyl ND, Perbutyl NHP, Perhexyl PV, Perbutyl D, Perbutyl PV, Perbutyl P, Perbutyl 355, Peroyl L, Perocta O, Perroy SA, Perhexa SA, Perhexyl O, Nipar PMB, Perbutyl O, Nipar BMT, Nipar BW, Perhexa MC, Perhexa TM, Perhexa V, Perhexa 25B, and Perhexine 25B etc. are mentioned.
  • the thermal polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the thermal polymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, relative to the total solid content in the composition, 0.1 to 30 mass%. % Is more preferable, and 0.1 to 20% by mass is more preferable.
  • the composition of the present invention may contain a crosslinking agent.
  • the composition of the present invention preferably contains at least one of the above-mentioned polymerization initiator and crosslinking agent, and more preferably contains the polymerization initiator. It is preferable to select a crosslinking agent having a functional group capable of reacting with the crosslinkable group, according to the type of the crosslinkable group in the group represented by B in the specific compound described above. Moreover, it is preferable to select the crosslinking agent which has a functional group which does not react with a non-crosslinkable group according to the kind of non-crosslinkable group in group represented by A.
  • the crosslinking agent is preferably a compound having two or more functional groups that react with the crosslinkable group.
  • a functional group which a crosslinking agent has a hydroxyl group, a halogenated benzyl group, a carboxylic acid anhydride group, a cyanate ester group, an isocyanate group, an amino group, an aldehyde group, an aziridine group, and the alkoxy silyl group are mentioned, for example.
  • the content of the crosslinking agent is preferably determined appropriately depending on the number of crosslinkable groups present in the composition.
  • the composition of the present invention comprises a solvent.
  • the type of solvent is not particularly limited and includes water and organic solvents.
  • the organic solvent include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons, and amides. Specifically, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, cyclopentanone, 1 -Methoxy-2-propanol, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, N-ethyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, dimethylformamide, 3-methoxy- Examples thereof include N, N-di
  • organic solvent The details of the organic solvent can be referred to the description of Paragraph No. 0223 of WO 2015/166779 pamphlet, the contents of which are incorporated herein.
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene etc.
  • aromatic hydrocarbons may be better to reduce due to environmental reasons etc. (For example, 50 mass ppm relative to the total amount of organic solvents (Parts per million) or less, 10 mass ppm or less, 1 mass ppm or less).
  • the organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the mixed solution comprised by 2 or more types selected from is preferable.
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 parts per billion or less. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such a high purity solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, and still more preferably 3 nm or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms and different structures). Moreover, only one type of isomer may be contained, or two or more types may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and the organic solvent is more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the composition of the present invention is not particularly limited, but it is preferably such an amount that the solid content in the composition is 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 25% by mass, An amount of up to 20% by mass is more preferable.
  • composition of the present invention may contain optional components other than the specific compound and the solvent.
  • optional components a resin, a curable compound, an antioxidant, a silane coupling agent, a polymerization inhibitor, a surfactant, an ultraviolet light absorber, a filler, a curing accelerator and the like can be mentioned.
  • a resin a curable compound
  • an antioxidant a silane coupling agent
  • a polymerization inhibitor a surfactant
  • an ultraviolet light absorber an ultraviolet light absorber
  • filler a curing accelerator and the like
  • composition of the present invention further comprises a curable compound different from the specific compound and the crosslinker described above.
  • a curable compound the compound which has the above-mentioned crosslinkable group is mentioned, for example.
  • the curable compound is also preferably a radically polymerizable compound.
  • the curable compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the curable compound is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content in the composition.
  • the lower limit is more preferably 3% by mass or more, further preferably 5% by mass or more. 70 mass% or less is more preferable, 60 mass% or less is still more preferable, and 30 mass% or less is especially preferable.
  • polymerizable compound 1 a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter, also simply referred to as “polymerizable compound 1”) is used.
  • the molecular weight of the polymerizable compound 1 is preferably 100 to 3,000.
  • the upper limit is more preferably 2000 or less, still more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, and still more preferably 250 or more.
  • the polymerizable compound 1 is preferably a 2 to 15 functional (meth) acrylate compound, and more preferably a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound.
  • the description in paragraphs 0033 to 0034 of JP 2013-253224 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the polymerizable compound 1 include ethyleneoxy-modified pentaerythritol tetraacrylate (as a commercial product, NK ester ATM-35E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipentaerythritol triacrylate (as a commercial product, KAYARAD D-330).
  • Nippon Kayaku Co., Ltd. dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available as KAYARAD D-320; Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (commercially available as KAYARAD D-310) Nippon Kayaku Co., Ltd., dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (as a commercial product, KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Co., Ltd., A-DPH-12E; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and These (meta) Acryloyl group, structure linked via an ethylene glycol residue and / or propylene glycol residues is preferred.
  • diglycerin EO ethylene oxide
  • methacrylate commercially available M-460; manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMMT
  • 6-hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • oligomer types can also be used.
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • the like can be mentioned.
  • the polymerizable compound 1 may have an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, and a phosphoric acid group.
  • examples of the polymerizable compound 1 having an acid group include esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids.
  • the polymerizable compound 1 is preferably obtained by reacting a nonaromatic carboxylic acid anhydride with an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound to give an acid group, and in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or Or the polymeric compound 1 which is dipentaerythritol is more preferable.
  • the acid value of the polymerizable compound 1 having an acid group is preferably 0.1 to 40 mg KOH / g.
  • the lower limit is more preferably 5 mg KOH / g or more.
  • the upper limit is more preferably 30 mg KOH / g or less.
  • the polymerizable compound 1 is also a preferred embodiment as a compound having a caprolactone structure.
  • the polymerizable compound 1 having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule, and examples thereof include trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and triol.
  • ⁇ -caprolactone-modified polyfunctional (meth) acrylates obtained by esterifying (meth) acrylic acid and ⁇ -caprolactone with polyhydric alcohols such as pentaerythritol, glycerin, diglycerol and trimethylolmelamine.
  • polyhydric alcohols such as pentaerythritol, glycerin, diglycerol and trimethylolmelamine.
  • DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120 which are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series, and commercially available from Sartmar Co.
  • SR-494 which is a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains
  • TPA-330 which is a trifunctional acrylate having three isobutylene oxy chains.
  • urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765 are also included. It is suitable.
  • addition polymerization described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 has an amino structure and / or a sulfide structure in the molecule. Compounds are used.
  • urethane oligomers UAS-10 and UAB-140 manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.
  • UA-7200 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • DPHA-40H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • UA -306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600, and light acrylate POB-A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • One of the preferable embodiments of the polymerizable compound 1 is a polymerizable compound 1 having two or more polymerizable groups and having a fluorene skeleton.
  • the fluorene skeleton is a skeleton containing at least a fluorene structure, and the aromatic ring group in the fluorene structure may be a so-called single ring structure (benzene ring) or a polycyclic structure (polycyclic aromatic ring structure).
  • the polymerizable compound 1 may be used alone or in combination of two or more.
  • polymerizable compound 2 a compound having an epoxy group
  • the polymerizable compound 2 include a compound having one or more epoxy groups in one molecule, and a compound having two or more epoxy groups in one molecule is preferable. It is preferable to have 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit is preferably 2 or more.
  • the polymerizable compound 2 may be either a low molecular weight compound (for example, having a molecular weight of less than 1000) or a macromolecular compound (for example, having a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more).
  • the weight average molecular weight of the polymerizable compound 2 is preferably 200 to 100,000, and more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is more preferably 10000 or less, still more preferably 5000 or less, and particularly preferably 3000 or less.
  • One preferable embodiment of the polymerizable compound 2 includes a compound having two or more epoxy groups and having a fluorene skeleton. Specific examples include 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene. Further, a compound having two or more epoxy groups and having a naphthalene skeleton is also preferable.
  • a commercial item can also be used for the polymeric compound 2. For example, EHPE 3150 (manufactured by Daicel Co., Ltd.), EPICLON N-695, and EPICLON HP-4700 (manufactured by DIC Corporation) may, for example, be mentioned.
  • the polymerizable compound 2 is a compound described in paragraphs 0034 to 0036 in JP 2013-011869 A, a compound described in paragraphs 0147 to 0156 in JP 2014-043556 A, JP 2014-089408 A
  • the compounds described in paragraphs 0085 to 0092 of the gazette, the compounds described in paragraphs 0020 to 0090 of JP-A-2017-036379 (carboxy group-containing epoxy compounds and the like), and the like can also be used. The contents of these are incorporated herein.
  • the polymerizable compound 2 may be used alone or in combination of two or more.
  • composition of the present invention may contain a resin which is different from the specific compound and the curable compound described above.
  • Resins are formulated, for example, in binder applications.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • 3,000 or more are preferable and, as for a minimum, 5,000 or more are more preferable.
  • acrylic resin for example, acrylic resin, methacrylic resin, acrylamide resin, methacrylamide resin, epoxy resin, ene / thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, poly Arylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamide imide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, siloxane resin and the like can be mentioned.
  • a resin having a refractive index of 1.70 or more with respect to near infrared rays (hereinafter, also referred to as a high refractive index resin) may be used.
  • the refractive index of the resin to near-infrared light is preferably 1.70 to 4.00.
  • the lower limit is preferably 1.75 or more, more preferably 1.80 or more, and still more preferably 1.85 or more.
  • the upper limit is preferably 3.90 or less, more preferably 3.50 or less, and still more preferably 3.00 or less.
  • the above refractive index is preferably a value for light of any wavelength of 810 nm, 850 nm and 940 nm.
  • the value of said refractive index is a value with respect to the near infrared rays of the wavelength used for the detection with the same infrared sensor.
  • the high refractive index resin is used as a binder or dispersant.
  • the refractive index of the resin can be measured in the uncured state by the following method.
  • a specific measurement method involves forming a film consisting of only a resin to be measured on a silicon wafer to a thickness of 300 nm, and then ellipsometry measuring the refractive index of the obtained film (Lambda Ace RE-3300 (trade name) And Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.).
  • the resin may have an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, and a phosphoric acid group. These acid groups may be of only one type, or of two or more types.
  • the resin having an acid group can also be used as an alkali-soluble resin.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 500 mg KOH / g.
  • the lower limit is more preferably 50 mg KOH / g or more, and still more preferably 70 mg KOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mg KOH / g or less, more preferably 200 mg KOH / g or less, 150 mg KOH / g or less is particularly preferred, and 120 mg KOH / g or less is most preferred.
  • a polymer having a carboxy group in a side chain is preferable.
  • Specific examples thereof include methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, and novolac resin
  • examples thereof include alkali-soluble phenol resins, acidic cellulose derivatives having a carboxy group in a side chain, and resins obtained by adding an acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group.
  • a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is suitable as the alkali-soluble resin.
  • alkyl (meth) acrylates examples include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, and vinyl compounds.
  • alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Examples include hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate.
  • styrene, ⁇ -methylstyrene, vinyl toluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethyl methacrylate macromonomer, etc. may be mentioned.
  • N-substituted maleimide monomers for example, N-phenyl maleimide, N-cyclohexyl maleimide, etc.
  • JP-A-10-300922 can also be mentioned.
  • These other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid may be only one type, or two or more types.
  • benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer As a resin having an acid group, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer, or benzyl A multicomponent copolymer consisting of (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers is preferred.
  • Polymer 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, or 2 Hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer etc. are also preferred.
  • the resin having an acid group is a monomer component containing a compound represented by the following general formula (ED1) and / or a compound represented by the following general formula (ED2) (hereinafter, these compounds are also referred to as “ether dimer”) It is also preferable to include a polymer formed by polymerization.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • ED2 general formula (ED2)
  • JP-A-2010-168539 the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • ether dimer for example, paragraph [0317] of JP-A-2013-29760 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the ether dimer may be only one type, or two or more types.
  • the resin having an acid group may contain a repeating unit derived from a compound represented by the following general formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 represents a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 7 which may contain a benzene ring.
  • n represents an integer of 1 to 15.
  • the resin may have a crosslinkable group as described above.
  • a resin having a crosslinkable group Dianal NR series (made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (containing COOH containing polyurethane acrylic oligomer, made by Diamond Shamrock Co., Ltd.), Viscote R-264 and KS Resist 106 (all of them) Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Cyclomer P series (for example, ACA 230 AA), Plaxel CF 200 series (all from Daicel Co., Ltd.), Ebecryl 3800 (Daicel UBC Co., Ltd.), and Acrycure RD-F8 (Nippon Catalyst) And the like.
  • Dianal NR series made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
  • Photomer 6173 containing COOH containing polyurethane acrylic oligomer, made by Diamond Shamrock Co., Ltd.
  • Viscote R-264 and KS Resist 106 all of them Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
  • Cyclomer P series for
  • a resin having a fluorene structure may be used as the resin.
  • a resin having a fluorene structure for example, the description of paragraph numbers 0013 to 0075 of JP-A-2015-069164 and the description of paragraph numbers 0031 to 0088 of JP-A-2013-221980 can be referred to, and the contents thereof are Incorporated herein.
  • the content of the resin is preferably 0.1 to 99.9% by mass relative to the total solid content in the composition. As for a minimum, 1 mass% or more is more preferable, and 2 mass% or more is still more preferable. The upper limit is more preferably 50% by mass or less and still more preferably 30% by mass or less.
  • the high refractive index resin is used as the resin, only the high refractive index resin may be used as the resin, or the high refractive index resin and a resin having a refractive index of less than 1.70 for near infrared rays may be used in combination.
  • the content of the high refractive index resin in the total amount of the resin is preferably 1 to 100% by mass, and more preferably 10 to 100% by mass.
  • the resins may be used alone or in combination of two or more.
  • the composition of the present invention may contain various surfactants from the viewpoint of further improving the coatability.
  • various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant can be used.
  • the surfactant can be referred to in paragraphs “0238 to 0245” of WO 2015/166779 pamphlet, the contents of which are incorporated herein.
  • the liquid properties (in particular, the fluidity) when prepared as a coating liquid can be further improved, and the uniformity of coating thickness and the liquid saving property can be further improved.
  • the interfacial tension between the surface to be coated and the coating liquid is reduced, and the wettability to the surface to be coated is improved, The coatability on the surface to be coated is improved. For this reason, film formation with small uniform thickness can be more suitably performed.
  • the content of fluorine in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and still more preferably 7 to 25% by mass.
  • the fluorine-based surfactant having a fluorine content in this range is effective in terms of the uniformity of the thickness of the coating film and the liquid saving property, and the solubility in the composition is also good.
  • fluorine-based surfactant examples include surfactants described in paragraph Nos. 0060 to 0064 of JP-A-2014-41318 (paragraph Nos. 0060 to 0064 of corresponding international publication 2014/17669) and the like, and And JP-A-2011-132503, paragraphs 0117 to 0132, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the fluorine-based surfactant is a molecular structure having a functional group having a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group having a fluorine atom is cleaved when heat is applied and the fluorine atom is volatilized can also be suitably used.
  • a fluorochemical surfactant Megafuck DS series (Chemical Chemical Daily, February 22, 2016) (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016) manufactured by DIC Corporation, for example, Megafuck DS- 21 can be mentioned.
  • the fluorosurfactant block polymers can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a fluorine atom-containing (meth) acrylate compound and two or more (preferably five or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy or propyleneoxy) (meth)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound is also preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as the fluorosurfactant used in the composition of the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above-mentioned compounds is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. In the above-mentioned compounds,% indicating the proportion of repeating units is mass%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain can also be used.
  • compounds described in paragraph Nos. 0050 to 0090 and paragraphs 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965 for example, Megaface RS-101, RS-102, RS-718K, manufactured by DIC Corporation. And RS-72-K.
  • compounds described in paragraphs [0015] to [0158] of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate and glycerol ethoxylate).
  • polyoxyethylene lauryl ether polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, pluronic L10 , L31, L61, L62, 10R5, 17R2, and 25R2 (manufactured by BASF Corporation), Tetronics 304, 701, 704, 901, 904, and 150R1 (manufactured by BASF Corporation), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Corporation) ), NCW-101, NCW-1001, and NCW-1002 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), Pionin D-6112, D-6112-W, Beauty, (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) D-6315, as well as Olfine
  • a vinyl ether polymerized fluorine-based surfactant can also be used.
  • the vinyl ether-polymerized fluorosurfactant include surfactants described in the example section of JP-A-2016-216602 (eg, fluorosurfactant (1)).
  • the surfactant may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 5.0% by mass with respect to the total solid content in the composition, and 0.005 to 3 .0 mass% is more preferable.
  • the composition of the present invention may contain an antioxidant.
  • an antioxidant a phenol compound, a phosphorous acid ester compound, a thioether compound, etc. are mentioned.
  • a phenol compound having a molecular weight of 500 or more, a phosphite compound having a molecular weight of 500 or more, or a thioether compound having a molecular weight of 500 or more is preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a phenol compound any phenol compound known as a phenol type antioxidant can be used, and a polysubstituted phenol type compound is preferable.
  • the polysubstituted phenolic compounds are roughly classified into three types (hindered type, semi-hindered type and less hindered type) having different substitution positions and structures.
  • the antioxidant a compound having a phenol group and a phosphite group in the same molecule is preferably used.
  • phosphorus antioxidant is also used preferably.
  • a commercial item can also be used for antioxidant. Examples of commercially available antioxidants include Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80.
  • Adekastab AO-330 manufactured by ADEKA Co., Ltd.
  • Adekastab AO-330 manufactured by ADEKA Co., Ltd.
  • the description in paragraphs 0033 to 0043 of JP-A-2014-032380 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the antioxidant may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, preferably 0.3 to 15% by mass, based on the total solid content in the composition. Is more preferred.
  • the composition of the present invention may contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group is a substituent which is directly bonded to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • a hydrolysable group a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group etc. are mentioned, for example, An alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • functional groups other than hydrolyzable groups are preferably groups that form an interaction or bond with the resin to exhibit affinity.
  • vinyl group, styryl group, (meth) acryloyl group, mercapto group, epoxy group, oxetanyl group, amino group, ureido group, sulfide group, isocyanate group, phenyl group and the like can be mentioned, and (meth) acryloyl group, Or, an epoxy group is preferred.
  • silane coupling agent examples include, for example, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and the like. Further, as the silane coupling agent, compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP2009-288703A and compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP2009-242604A can be mentioned, The contents of these are incorporated herein. Commercially available silane coupling agents can also be used. Commercial products of silane coupling agents include KBM-13, KBM-22, KBM-103, KBE-13, KBE-22, KBE-103, KBM-3033, KBE-3033, KBM-30 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.
  • the silane coupling agent may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, relative to the total solid content in the composition, and 0.05 It is more preferable that the content be 10.0% by mass.
  • the composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butyl catechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2 And 2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (such as ammonium salts and cerous salts). Among them, p-methoxyphenol is preferred.
  • the polymerization inhibitor can function as an antioxidant.
  • the polymerization inhibitor may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 10 parts by mass, and 0.01 to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerization initiator. More preferably, 0.01 to 5 parts by mass is more preferable.
  • the composition of the present invention may contain a UV absorber.
  • the UV absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, and hydroxyphenyl triazine compounds. The details of these can be referred to the description in paragraphs “0052” to “0072” of JP 2012-208374 A and the paragraphs “0317 to 0334” in JP 2013-68814 A, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of commercial products of conjugated diene compounds include UV-503 (manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.).
  • the benzotriazole compound MYUA series (Chemical Industry Daily, February 1, 2016) made by Miyoshi Yushi may be used.
  • the ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the UV absorber is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the total solid content in the composition. Is more preferably 0.1 to 3% by mass.
  • an inorganic particle is mentioned, for example.
  • inorganic particles inorganic particles having high refractive index and being colorless, white or transparent are preferable, and titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), silicon (Si), zinc (Zn), or Oxide particles such as magnesium (Mg) are preferred, and titanium dioxide (TiO 2 ) particles, zirconium oxide (ZrO 2 ) particles or silicon dioxide (SiO 2 ) particles are more preferred.
  • the primary particle diameter of the inorganic particles is not particularly limited, and is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 80 nm, and still more preferably 1 to 50 nm.
  • the refractive index of the inorganic particles is not particularly limited, but is preferably 1.75 to 2.70, more preferably 1.90 to 2.70, from the viewpoint of obtaining a high refractive index.
  • the specific surface area is not particularly limited in the inorganic particles is preferably 10 ⁇ 400m 2 / g, more preferably 20 ⁇ 200m 2 / g, more preferably 30 ⁇ 150m 2 / g.
  • the inorganic particles may be inorganic particles surface-treated with an organic compound.
  • an organic compound used for surface treatment a polyol, an alkanolamine, a stearic acid, a silane coupling agent, and a titanate coupling agent are mentioned, for example.
  • stearic acid or a silane coupling agent is preferred.
  • the surface of the inorganic particles be covered with an oxide such as aluminum, silicon, and zirconia in terms of further improving the weather resistance.
  • inorganic particles commercially available inorganic particles are preferably used.
  • the inorganic particles may be used alone or in combination of two or more.
  • the composition of the present invention has a cationically polymerizable group (for example, a compound having an epoxy group (polymerizable compound 2)), the composition may also contain a curing accelerator.
  • a curing accelerator for improving the curing rate, acid anhydride, base (aliphatic amine, aromatic amine, modified amine etc.), acid (sulfonic acid, phosphoric acid, carboxylic acid etc.), polymercaptan etc. may be mentioned.
  • acid anhydrides are preferable, and aliphatic acid anhydrides are more preferable.
  • composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned components.
  • each component may be blended at once, or may be sequentially blended after being dissolved or dispersed in a solvent.
  • the composition may be prepared by simultaneously dissolving or dispersing all the components in the solvent.
  • the method of preparing the composition comprises a process of dispersing the particles.
  • mechanical force used to disperse the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high-speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high-pressure wet atomization, and ultrasonic dispersion.
  • a bead having a small diameter a condition of enhancing the pulverizing efficiency by increasing the packing ratio of beads, or the like.
  • JP-A-2015-157893 can be suitably used.
  • the particles may be subjected to a refinement process in a salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions, and the like used in the salt milling step can be referred to, for example, the descriptions of JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-04629.
  • the composition is preferably filtered through a filter for the purpose of removing foreign matter and reducing defects.
  • the filter is not particularly limited as long as it is a filter conventionally used for filtration applications and the like.
  • a fluorocarbon resin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide-based resin such as nylon (for example, nylon-6 and nylon-6,6), and a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density And / or a filter using a material such as an ultrahigh molecular weight polyolefin resin).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon for example, nylon-6 and nylon-6,6
  • PP polypropylene
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferable.
  • the pore diameter of the filter is preferably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably about 0.01 to 3.0 ⁇ m, and still more preferably about 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is in the above range, fine foreign particles can be reliably removed. It is also preferred to use a fibrous filter medium.
  • fibrous filter media include polypropylene fibers, nylon fibers, and glass fibers.
  • filter cartridges such as SBP type series (SBP 008 and the like), TPR type series (TPR 002 and TPR 005 and the like), and SHPX type series (SHPX 003 and the like) manufactured by Loki Techno Co., Ltd. can be mentioned.
  • filters When using filters, different filters (eg, a first filter and a second filter, etc.) may be combined. In that case, filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more. Moreover, you may combine the filter of a different hole diameter within the range mentioned above.
  • the pore size here can refer to the nominal value of the filter manufacturer.
  • Commercially available filters include, for example, various filters provided by Nippon Pall Co., Ltd. (DFA 4201 NXEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Entegris Co., Ltd. (formerly Japan Microlith Co., Ltd.), Kitz Micro Filter Co., Ltd., etc. You can choose from The second filter can use a filter formed of the same material as the first filter.
  • the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • composition of the present invention is not particularly limited, for example, high refractive members of solid-state imaging devices (microlenses, underlayers of color filters, transparent films such as adjacent layers, and white pixels of color filters) Lenses (eyeglass lenses, lenses for digital cameras, Fresnel lenses, prism lenses, etc.), optical overcoating agents, hard coating agents, antireflection films, optical fibers, optical waveguides, sealing materials for LEDs (Light Emitting Diodes) It is useful as a planarizing material for LED, and a coating material for solar cells.
  • the membrane of the present invention is a membrane obtained from the composition of the present invention.
  • a cured film can be obtained by curing the composition.
  • the refractive index of the film is not particularly limited, but is preferably 1.65 or more, more preferably 1.70 or more, still more preferably 1.75 or more, and particularly preferably 1.80 or more at a wavelength of 589 nm.
  • the upper limit of the refractive index is not particularly limited, but 2.50 or less is common.
  • the obtained film is subjected to J. A. Measure using Woollam VASE.
  • the light transmittance of the film is not particularly limited, but is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and still more preferably 100% over the entire wavelength range of 400 to 700 nm.
  • the thickness of the film is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 ⁇ m, more preferably 0.1 to 10 ⁇ m, and still more preferably 0.5 to 4 ⁇ m.
  • the method for curing the composition of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include heating and exposure.
  • the apparatus used for heating is not particularly limited, and a blower drier, an oven, an infrared drier, a heating drum, etc. may be used.
  • the apparatus used for exposure is not particularly limited, and a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon (Xe) lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, etc. may be used.
  • the method for producing a patterned cured film comprises the steps of applying the composition of the present invention on a substrate to form a composition layer (coated film) (hereinafter also referred to as “composition layer forming step”), and A step of exposing the composition layer of the invention through a mask (hereinafter also referred to as “exposure step”) and a step of developing the composition layer after exposure to form a patterned cured film (hereinafter referred to as “development (Also referred to as “process”).
  • the composition used above usually contains a photopolymerization initiator.
  • composition layer forming step a composition layer
  • exposed step Only the composition layer irradiated with light may be cured (exposure step) and developed with a developer (developing step) to form a cured film in a pattern.
  • developer step developer
  • composition layer forming step In the composition layer forming step, the composition of the present invention is applied onto a substrate to form a composition layer (coated film).
  • the substrate is not particularly limited, and, for example, non-alkali glass used in liquid crystal display devices, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, glass in which a transparent conductive film is attached thereto, solid-state imaging device And photoelectric conversion element substrates (for example, silicon substrates), CCD (Charge Coupled Device) substrates, CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) substrates, and the like.
  • non-alkali glass used in liquid crystal display devices soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, glass in which a transparent conductive film is attached thereto
  • solid-state imaging device And photoelectric conversion element substrates for example, silicon substrates), CCD (Charge Coupled Device) substrates, CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) substrates, and the like.
  • various coating methods such as slit coating, ink jet method, spin coating, cast coating, roll coating, or screen printing can be applied.
  • the coating thickness of the composition may be appropriately selected depending on the application, but is, for example, 0.1 to 20 ⁇ m, more preferably 0.1 to 10 ⁇ m, and still more preferably 0.5 to 4 ⁇ m.
  • the composition applied on the substrate is usually dried at 70 to 110 ° C. for about 2 to 4 minutes. Thereby, a composition layer can be formed.
  • the composition layer (coating film) formed in the composition layer forming step is exposed through a mask to cure only the coating film portion irradiated with light.
  • the exposure is preferably performed by irradiation with actinic rays or radiation, and in particular, ultraviolet rays such as g-rays, h-rays or i-rays are more preferable.
  • the irradiation intensity is preferably 5 ⁇ 1500mJ / cm 2, more preferably 10 ⁇ 1000mJ / cm 2.
  • an alkali development process (Development process) Following the exposure step, an alkali development process (development step) is performed to elute the non-light-irradiated portion in the exposure step into an aqueous alkaline solution. As a result, only the photocured portion (the coated film portion irradiated with light) remains.
  • an organic alkaline developing solution which does not cause damage to the circuit of the base or the like is desirable.
  • the development temperature is usually 20 to 30 ° C., and the development time is 20 to 90 seconds.
  • Examples of the alkaline aqueous solution include inorganic developers and organic developers.
  • As the inorganic developer sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium borate or sodium metaborate, the concentration of which is 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 10%.
  • organic developers include aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, or 1,8-diazabicyclo- [5.4.
  • an aqueous solution in which an alkaline compound such as -7-undecene is dissolved to a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass.
  • An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol and / or a surfactant may be added to the alkaline aqueous solution.
  • the developing solution which consists of such alkaline aqueous solution, generally it wash
  • a developing method for example, a paddle developing method or a shower developing method may be used.
  • the film (preferably a cured film) of the present invention can also be used as a lens.
  • the lens is suitably used as a microlens of a solid-state imaging device.
  • Solid-state imaging device The film (preferably a cured film) of the present invention and the lens of the present invention can be suitably applied to a solid-state imaging device.
  • the configuration of the solid-state imaging device of the present invention includes, for example, on a substrate, a plurality of photodiodes constituting a light-receiving area of a solid-state imaging device (CCD image sensor or CMOS image sensor, etc.)
  • the undercoat film which is the film of the present invention is provided under the color filter.
  • compositions used in the examples or comparative examples were prepared using the components shown below.
  • Synthesis Example 2 Compound (A-2) The same as in Synthesis Example 1 except that the compound (a-1) and p-aminophenylethanol are changed to the compound (a-2) and p-aminobenzyl alcohol shown in the latter part, respectively, and reacted at the same molar equivalent. The following procedure was carried out to give compound (A-2).
  • Synthesis Example 3 Compound (A-4) The compound (a-1), p-aminophenylethanol and acetic acid are respectively changed to the compound (a-4), 1,4-diaminobenzene and N-methylpyrrolidone, which will be shown later, -The same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that diaminobenzene was reacted at 20 molar equivalents relative to the compound (a-4), to obtain a compound (A-4).
  • Synthesis Example 4 Compound (A-5) The compound (a-1) and p-aminophenylethanol were changed to the compound (a-5) and m-aminobenzyl alcohol shown in the latter part, respectively, and the reaction was carried out at the same molar equivalent except that they were reacted at the same molar equivalent. The same operation was performed to give compound (A-5).
  • Synthesis Example 5 Compound (A-7) The same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that the compound (a-1) was changed to the compound (a-7) shown in the latter part and reacted at the same molar equivalent, to obtain a compound (A-7) .
  • Synthesis Example 6 Compound (A-11) Compound (a-1) was changed to compound (a-11) shown in the latter part, and the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that reaction was performed at the same molar equivalent, to obtain compound (A-11) .
  • Synthesis Example 7 Compound (A-12) The compound (a-1) was changed to the compound (a-12) shown in the latter part, and the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that the reaction was performed at the same molar equivalent, to obtain a compound (A-12) .
  • Synthesis Example 8 Compound (A-18) Compound (a-1) was changed to compound (a-18) shown in the latter part, and the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that reaction was performed at the same molar equivalent, to obtain compound (A-18) .
  • Synthesis Example 9 Compound (A-20) Compound (a-1) was changed to compound (a-20) shown in the latter part, and the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that reaction was performed at the same molar equivalent, to obtain compound (A-20) .
  • Synthesis Example 11 Compound (A-24) Compound (a-1) was changed to compound (a-24) shown in the latter part, and the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that reaction was performed at the same molar equivalent, to obtain compound (A-24) .
  • Synthesis Example 12 Compound (A-26) The same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that the compound (a-1) was changed to the compound (a-26) shown in the latter part and reacted at the same molar equivalent to obtain a compound (A-26) .
  • Synthesis Example 13 Compound (A-27) The same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that the compound (a-1) was changed to the compound (a-27) shown in the latter part and reacted at the same molar equivalent to obtain a compound (A-27) .
  • Synthesis Example 14 Compound (A-29) The same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that the compound (a-1) was changed to the compound (a-29) shown in the latter part and reacted at the same molar equivalent, to obtain a compound (A-29) .
  • compound (a-36a) (42.1 g).
  • Compound (a-36a) (4.5 g), Karenz BEI (2.4 g, 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate, manufactured by Showa Denko KK), N-methylpyrrolidone (20 g), Neostan U- A solution obtained by mixing 600 (0.050 g, urethanation reaction catalyst, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) and 2,6-di-tert-butyl-p-cresol (0.050 g) is prepared at 100.degree. C. Heated for 8 hours.
  • Synthesis Example 16 Compound (A-39) The compound (a-36) was changed to the compound (a-39) shown in the latter part, and the same operation as in Synthesis Example 15 was carried out except that the reaction was performed with the same molar equivalent, to obtain a compound (A-39) .
  • Synthesis Example 17 Compound (A-41) The compound (a-36) was changed to the compound (a-41) shown in the latter part, and the same operation as in Synthesis Example 15 was carried out except that the reaction was performed at the same molar equivalent, to obtain a compound (A-41) .
  • Each compound obtained was identified by MS (Mass Spectrum) measurement. Specifically, the sample is dissolved (suspended) in dimethyl sulfoxide and mixed with a dimethyl sulfoxide solution containing a CHCA ( ⁇ -cyano-4-hydroxycinnamic acid) matrix, and the resulting mixture is subjected to MALDI (Matrix Assisted Laser Deterioration / Ionization was applied to a plate and measured. The measurement was performed by Bryker autoflex, and was performed in positive mode. The results are shown in Table 1.
  • the compound (A-1) was dissolved in N-ethyl-2-pyrrolidone (NEP) to a solid content of 10% by mass, and the obtained solution was spin-coated on a silicon wafer.
  • the spin coating was performed so that the film thickness of the compound film consisting only of the compound (A-1) formed on the silicon wafer after drying was 300 nm.
  • the refractive index at a wavelength of 589 nm of the compound film consisting only of the compound (A-1) formed on the silicon wafer is ellipsometry (Lambda Ace RE-3300 ( It measured using brand name) and Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. make.
  • the refractive index of the compound (A-1) at a wavelength of 589 nm was 1.79.
  • the refractive index of the compound (H-2) was measured by the same method, and it was ascertained that the refractive index of the compound (H-2) at a wavelength of 589 nm is 1.63.
  • compositions 1 to 27 for the examples and comparative compositions 1 to 2 for the comparative examples were prepared.
  • the composition of each composition obtained is shown in Table 2 below.
  • the coating film B was left to stand for 72 hours at room temperature (23 ° C.), and the coating film B was used as the coating film B, and the number of defects was similarly measured for the coating film B. The smaller the number of defects, the better the defect suppression property of the coating film.
  • the number of defects measured was classified according to the following criteria to evaluate the defect inhibition of the coating film.
  • D Number of defects is 100 or more / cm 2
  • the refractive index of the film was evaluated in light of the following criteria: AA: refractive index 1.80 or more A: refractive index 1.75 to 1.80 B: refractive index 1.70 to 1.75 C: refractive index 1.65 to 1.70 D: Refractive index less than 1.65
  • Table 2 The results of the evaluation are shown in Table 2 below.
  • the numerical value described in the column of "addition amount” shows a mass part.
  • the column “Q (central ring)” means the type of group represented by Q when the compound is fitted with the general formula (I).
  • triazine means triazine ring group
  • pyridine means pyrimidine ring group.
  • the column of "number” in the column of "A (group having no crosslinkable group)” is the group represented by A in the case where the compound is fitted with the general formula (I) Means number (value of l).
  • the column of "substituent” in the column of "A (group having no crosslinkable group)" in Table 2 is a group represented by A when the compound is fitted with the general formula (I). Means the type of substituent that
  • “Ph” in a column means a phenyl group or a phenylene group.
  • the group represented by A has no substituent, and the group represented by A is a thiophene ring group. It means that there is.
  • the column of “bonding position” indicates the bonding position of a substituent when A is a benzene ring group having a substituent. means. “P” is para-position, “m” is meta-position, “o” means that a substituent is attached to the meta-position.
  • the column “C” in the column “A (group having no crosslinkable group)” is a group represented by C in the case where the compound is fitted with the general formula (I) Means kind.
  • the column “Number” in the column “B (group having a crosslinkable group)” indicates the number of groups represented by B when the compound is fitted with the general formula (I) means the value of m).
  • the composition of the present invention can form a coating film excellent in defect suppression properties and can form a film excellent in refractive index. Moreover, it was confirmed that the film formed using the composition of the present invention is also excellent in surface appearance. In addition, when the central ring of the specific compound was a triazine ring, it was confirmed that the defect suppression property of the coating film and the refractive index of the film were more excellent (comparison with Examples 10 and 15; Examples 18 and 19). Comparison).
  • the refractive index of the film tends to be more excellent (comparison of Example 2 and 4) Examples 1, 3-9, 11-12, 16-17, and 20-27)).
  • the substituent has a biphenyl group or a cyanophenyl group
  • the refractive index of the film tends to be further excellent (comparison of Examples 1, 9 and 11).
  • the substituent of the group represented by A is bonded at the para-position relative to the bonding position with C, the surface appearance of the film tends to be more excellent (Examples 1, 6 and 7) Comparison).
  • thermosetting composition (Example 28)
  • the photopolymerization initiator (I-1) of the composition 1 is changed to a thermal polymerization initiator tert-butyl dodecaneperoxylate (exothermic onset temperature: 129 ° C.) to prepare a composition 28 which is a thermosetting composition.
  • the above evaluation was performed.
  • the composition 28 was spin-coated, and then the solvent was volatilized for 2 hours at room temperature (23 ° C.) to form the coating film A having a thickness of 1 ⁇ m, except that In the same manner as in the above, “Evaluation of coating film defects” was performed using the composition 28.
  • composition of the present invention can form a coating film excellent in defect suppression property and can form a film excellent in refractive index even when a thermal polymerization initiator is used. Furthermore, it was confirmed that a film excellent in surface appearance can be formed.
  • Composition 26 is spin-coated on a silicon wafer on which an epoxy resin layer is formed using an epoxy resin (JER-827, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), and baked (heated) at 100 ° C. for 3 minutes to form a coating film did.
  • the coated film was left to stand at room temperature for 72 hours.
  • an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 +, Canon Inc.
  • FPA-3000i5 + Canon Inc.
  • the silicon wafer is placed on a horizontal rotation table of a spin shower developing machine (DW-30, manufactured by Chemitronics, Inc.), and a developer (CD-2000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials, Inc.) is used.
  • DW-30 manufactured by Chemitronics, Inc.
  • CD-2000 manufactured by Fujifilm Electronics Materials, Inc.
  • the pattern was formed by performing paddle development at 23 ° C. for 60 seconds.
  • the silicon wafer having a pattern formed on the surface was rotated at a rotation speed of 50 rpm, and pure water was supplied in the form of a shower from above the rotation center to perform rinse processing, and then dried. .
  • the pattern shape of the dried pattern was evaluated using a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) (S-9260A, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). As a result, it is observed that the shape of the obtained pattern is good, and the coating film formed using the composition 26 has good developability and photocurability, and is excellent also in photolithography confirmed. Thus, it was confirmed that a pattern having a good shape can be formed by using the composition of the present invention.
  • Such a composition of the present invention can also be suitably used for the production of a lens, and the produced lens is also preferably used for a solid-state imaging device.

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Abstract

本発明は、欠陥抑制性に優れる塗布膜を形成でき、かつ、屈折率に優れる膜を形成できる組成物を提供する。また、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子、及び、上記組成物に含まれる化合物を提供する。本発明の、組成物は、一般式（Ｉ）で表される化合物、重合開始剤、及び、溶剤を含む。 （Ａ－Ｃ－）ｌ－Ｑ－（－Ｄ－Ｂ）ｍ　（Ｉ）

Description

組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、化合物
　本発明は、組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、及び、化合物に関する。
　光学材料に使用可能な化合物が広く検討されている。
　例えば、特許文献１では耐熱性材料及び電子材料として使用可能な原料として、下記一般式で表される化合物が開示されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　また、特許文献２では電荷輸送材料の機能膜の作製に有用な新規な重合性化合物として、下記一般式で表される化合物が開示されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
特開平０４－３３００６６号公報 特開２００９－２２１１２４号公報
　近年、光学機器（固体撮像素子、表示装置等）の高機能化又は小型化等の要求に伴い、高い屈折率を有する膜を形成できる組成物が求められている。また、製造プロセス上、組成物を用いて塗布膜を形成してから、露光等の次の処理までの期間（例えば７２時間）が空いた場合であっても、安定した性能の膜を得られる必要がある。
　本発明者らが、特許文献１に記載の化合物について検討したところ、この化合物を含む組成物を用いて形成された膜の屈折率は求められる基準に達していなかった。
　また、本発明者らが、特許文献２に記載の化合物について検討したところ、この化合物を含む組成物を用いて形成された塗布膜の表面には微細な凹凸等（以下、「欠陥」ともいう）が生じやすいことが分かった。また、塗布膜の形成をしてから、塗布膜に露光等の処理をするまでの期間が長い場合、このような欠陥は更に増えやすくなることが分かった。このような欠陥があると、膜の性能低下につながることが懸念される。
　以下、塗布膜に欠陥が生じにくい性質を「欠陥抑制性」ともいう。
　そこで、本発明は、欠陥抑制性に優れる塗布膜を形成でき、かつ、屈折率に優れる膜を形成できる組成物を提供することを課題とする。
　また、本発明は、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子、及び、上記組成物に含まれる化合物を提供することも課題とする。
　本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、所定の構造の化合物を含む組成物が、所望の性能を有することを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
　〔１〕　後述する一般式（Ｉ）で表される化合物、及び、溶剤を含む、組成物。
　〔２〕　後述する一般式（Ｉ）中、Ｃ及びＤが、－ＮＨ－を表す、〔１〕に記載の組成物。
　〔３〕　後述する一般式（Ｉ）中、少なくとも１個のＡが、アリール基、シアノ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、ヘテロ環基、ニトロ基、アルコキシ基、及び、これらを組み合わせた基からなる群から選択される１個以上の置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基を表す、〔１〕又は〔２〕に記載の組成物。
　〔４〕　後述する一般式（Ｉ）中、少なくとも１個のＡが、ビフェニル基、及び、シアノフェニル基からなる群から選択される１個以上の置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基を表す、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の組成物。
　〔５〕　後述する一般式（Ｉ）中、Ａで表されるアリール基が、ベンゼン環基、ナフタレン環基、又は、アントラセン環基であり、
　後述する一般式（Ｉ）中、Ａで表されるヘテロ環基が、チオフェン環基、チアゾール環基、又は、ベンゾチアゾール環基である、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の組成物。
　〔６〕　後述する一般式（Ｉ）中、少なくとも１個のＡが、Ｃとの結合位置に対してパラ位に架橋性基を有さない置換基を有する、ベンゼン環基を表す、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の組成物。
　〔７〕　上記架橋性基のうち少なくとも１個が、エチレン性不飽和結合を有する基又はエポキシ基である、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の組成物。
　〔８〕　上記架橋性基のうち少なくとも１個が、アクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基、又は、エポキシ基である、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の組成物。
　〔９〕　上記架橋性基のうち少なくとも１個が、アクリロイル基である、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１０〕　後述する一般式（Ｉ）中、Ｑが、トリアジン環基を表す、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１１〕　後述する一般式（Ｉ）中、少なくとも１個のＡが、分子量が６５～５００である基を表す、〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１２〕　後述する一般式（Ｉ）中、少なくとも１個のＢが、分子量が７５～６５０である基を表す、〔１〕～〔１１〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１３〕　上記化合物の分子量が３００～２０００である、〔１〕～〔１２〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１４〕　上記化合物の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上である、〔１〕～〔１３〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１５〕　〔１〕～〔１４〕のいずれかに記載の組成物を用いて形成される、膜。
　〔１６〕　〔１５〕に記載の膜からなる、レンズ。
　〔１７〕　〔１５〕に記載の膜、又は、〔１６〕に記載のレンズを備える、固体撮像素子。
　〔１８〕　後述する一般式（ＩＩ）で表される化合物。
　〔１９〕　後述する一般式（ＩＩＩ）で表される化合物。
　本発明によれば、欠陥抑制性に優れる塗布膜を形成でき、かつ、屈折率に優れる膜を形成できる組成物を提供できる。
　また、本発明によれば、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子、及び、上記組成物に含まれる化合物を提供できる。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、及び、電子線等を意味する。また本明細書において「光」とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、及び、ＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線及びイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタアクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタアクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
　本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、測定装置としてＨＬＣ－８２２０（東ソー株式会社製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＡＷＭ―Ｈ（東ソー株式会社製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ　リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ－メチルピロリジノン）溶液を用いて求められる。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全体から溶剤を除いた成分の合計質量をいう。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。置換基としては、例えば、下記置換基Ｔが挙げられる。
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基及びｔｅｒｔ－ブトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基、及び、ｐ－トリルオキシ基等のアリールオキシ基；メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、及び、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、及び、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及び、メトキサリル基等のアシル基；メチルスルファニル基、及び、ｔｅｒｔ－ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基；フェニルスルファニル基、及び、ｐ－トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基；アルキル基；シクロアルキル基；アリール基；ヘテロアリール基；水酸基；カルボキシ基；ホルミル基；スルホ基；シアノ基；アルキルアミノカルボニル基；アリールアミノカルボニル基；スルホンアミド基；シリル基；ニトロ基；アミノ基；モノアルキルアミノ基；ジアルキルアミノ基；アリールアミノ基；チオール基；並びに、これらの組み合わせが挙げられる。
〔組成物〕
　本発明の組成物は、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物（以下「特定化合物」ともいう）、及び、溶剤を含む組成物である。
　本発明の組成物の特徴点としては、上述のとおり、特定化合物を含む点が挙げられる。
　特定化合物は、架橋性基を有さない基（一般式（Ｉ）中、Ａで表される基）と架橋性基を有する基（一般式（Ｉ）中、Ｂで表される基）との両方を有している。更に、特定化合物は中心環（一般式（Ｉ）中、Ｑで表される基）と、上記架橋性基を有さない基及び上記架橋性基を有する基との間の連結基として、少なくとも１個の－ＮＨ－を有している。
　このような構造の特定化合物を用いることで本発明の課題を解決できる理由は必ずしも明らかではないが、本発明者らは以下のように考えている。
　特定化合物は、架橋性基を有さない基と架橋性基を有する基との両方を有しているため、化合物全体として対称性が低い構造となっており、結晶化が進行しにくい。そのため、塗布膜における欠陥の発生を抑制できると考えられている。
　また、特定化合物の中心環と、架橋性基を有さない基及び／又は架橋性基を有する基との間の連結基として存在する－ＮＨ－が、組成物を用いて形成される膜の屈折率の向上に寄与していると考えられている。
　また、このような本発明の組成物から形成される膜は、膜面に荒れ及び亀裂が生じにくく、表面外観に優れる利点もある。
　更に、本発明の組成物を用いることでフォトリソグラフィ性に優れた塗布膜を得られる。本発明の組成物を用いて形成される塗布膜は現像性に優れ、かつ、良好な形状を有するパターンを形成できる。
［特定化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物）］
　特定化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物である。
（Ａ－Ｃ－）ｌ－Ｑ－（－Ｄ－Ｂ）ｍ　　　（Ｉ）
　一般式（Ｉ）中、ｌは、１～１０の整数を表す。
　ｌは、１～８が好ましく、１～４がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　ｌが２以上である場合、複数存在するＡは同一でも異なっていてもよく、複数存在するＣは同一でも異なっていてもよく、複数存在する（－Ｃ－Ａ）は同一でも異なっていてもよい。
　一般式（Ｉ）中、ｍは、１～１０の整数を表す。
　ｍは、１～８が好ましく、１～４がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　ｍが２以上である場合、複数存在するＢは同一でも異なっていてもよく、複数存在するＤは同一でも異なっていてもよく、複数存在する（－Ｄ－Ｂ）は同一でも異なっていてもよい。
　ｌとｍとの合計（ｌ＋ｍ）は、２～１６が好ましく、２～６がより好ましく、３～４が更に好ましい。
＜Ａの構造＞
　一般式（Ｉ）中、Ａは、それぞれ独立に、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。つまり、Ａは、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいアリール基、又は、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいヘテロ環基を表す。
　架橋性基の定義は、後段で詳述する。
　上記アリール基としては、ベンゼン環基、ナフタレン環基、及び、アントラセン環基等の炭素数６～１４のアリール基が好ましく、炭素数６～１０のアリール基がより好ましく、ベンゼン環基が更に好ましい。
　上記ヘテロ環基は、芳香族性を有していても有していなくてもよく、単環でも多環でもよい。
　ヘテロ環基の員環数は、３～２４が好ましく、４～１５がより好ましく、５～１０が更に好ましい。
　ヘテロ環基が有するヘテロ原子の数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。
　ヘテロ環基のヘテロ原子の例としては、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子、リン原子、ケイ素原子、及び、ホウ素原子が挙げられる。中でも、窒素原子、硫黄原子、又は、酸素原子が好ましい。
　ヘテロ環基の例としては、チオフェン環基、チアゾール環基、ベンゾチアゾール環基、カルバゾール環基、インドール環基、ピロール環基、フラン環基、セレノフェン環基、テルロフェン環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、オキサゾール環基、イソオキサゾール環基、イソチアゾール環基、ピリジン環基、ピリドン－２－オン環基、ピリミジン環基、ピリダジン環基、ピラジン環基、トリアジン環基、セレノピラン環基、及び、テルロピラン環基等の芳香族へテロ環基；ピロリジン環基、シロール環基、パーヒドロシロール環基、ピペリジン環基、ピベラジン環基、及び、モルホリン環基が挙げられる。
　中でも、チオフェン環基、チアゾール環基、及び、ベンゾチアゾール環基が好ましい。
　Ａとしては、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい、ベンゼン環基、チオフェン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基、チアゾール環基、又は、ベンゾチアゾール環基であるのが好ましい。つまり、Ａで表されるアリール基は、ベンゼン環基、ナフタレン環基、又は、アントラセン環基であることが好ましく、Ａで表されるヘテロ環基は、チオフェン環基、チアゾール環基、又は、ベンゾチアゾール環基であることが好ましい。
　一般式（Ｉ）中、少なくとも１個のＡがこれらの基のいずれかであるのが好ましく、全てのＡがこれらの基のいずれかであるのがより好ましい。
　上記アリール基及び上記ヘテロ環基は、架橋性基を有さない置換基を有していても有していなくてもよい。膜の屈折率がより優れる点から、架橋性基を有さない置換基を有するのが好ましい。なお、上記アリール基及び上記ヘテロ環基は、架橋性基を有する置換基を有することはない。
　上記アリール基及び上記ヘテロ環基が架橋性基を有さない置換基を有する場合、架橋性基を有さない置換基の数に特に制限はないが、それぞれ独立に、１～１０が好ましく、１～２がより好ましく、１が更に好ましい。
　Ａがベンゼン環基である場合、ベンゼン環基は架橋性基を有さない置換基を有するのが好ましく、架橋性基を有さない置換基がＣとの結合位置に対してパラ位に結合しているのがより好ましい。
　Ａが有する置換基は、架橋性基を有さない限り特に制限はない。Ａが有し得る架橋性基を有さない置換基を非架橋性基ともいう。非架橋性基は、組成物が含んでいてもよい重合開始剤または架橋剤に対して安定であることが求められる。重合開始剤または架橋剤との組み合わせによって非架橋性基として使用可能な基は異なるが、代表的には、膜の屈折率が優れる点から、アリール基、シアノ基、アリールチオ基（好ましくはフェニルチオ基）、ハロゲン原子、ヘテロ環基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキル基（好ましくは炭素数１～３）、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルチオ基、又は、これらを組み合わせた基が好ましく、アリール基、シアノ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、ヘテロ環基、ニトロ基、アルコキシ基、又は、これらを組み合わせた基がより好ましく、ビフェニル基、及び、シアノフェニル基が更に好ましい。
　一般式（Ｉ）中、少なくとも１個のＡが、これらの置換基のうち１個以上を有するのが好ましい。一般式（Ｉ）中、全てのＡが、これらの置換基のうち１個以上を有するのも好ましい。Ａがヘテロ環基の場合は、置換基を有さないのも好ましい。
　Ａの分子量は、それぞれ独立に、６５～５００が好ましく、７０～４００がより好ましく、７５～３００が更に好ましい。
　Ａで表される基としては、例えば、以下で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
＜Ｂの構造＞
　一般式（Ｉ）中、Ｂは、それぞれ独立に、架橋性基を有する置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基を表す。つまり、Ｂは、架橋性基を有する置換基を有するアリール基又は架橋性基を有する置換基を有するヘテロ環基を表す。
　なお、Ｂで表されるアリール基及びヘテロ環基は、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい。
　上記アリール基及び上記ヘテロ環基の例としては、Ａで表され得る基として説明したアリール基及びヘテロ環基が同様に挙げられ、好ましい範囲も同様に参照できる。
　中でも、Ｂで表されるアリール基又はヘテロ環基としては、ベンゼン環基が好ましい。
（架橋性基を有する置換基）
　Ｂは、架橋性基を有する置換基を有する。より具体的には、Ｂ中のアリール基及びヘテロ環基は、架橋性基を有する置換基を有する。
　本明細書において、架橋性基を有する置換基は、架橋性基を少なくとも一部に含んでいればよく、架橋性基そのものであってもよい。
　Ｂが有する架橋性基を有する置換基の数に特に制限はなく、それぞれ独立に、１～４が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　また、架橋性基を有する置換基１個が、複数個（例えば２～４個）の架橋性基を有していてもよい。
　中でも、膜を高分子化して膜の強度を向上できる点から、ｍの値が１である場合は、架橋性基を有する置換基の数が２以上であるか、架橋性基を有する置換基が複数個の架橋性基を有しているかの一方以上の条件を満たすのが好ましい。言い換えると、特定化合物は、１分子中に２個以上の架橋性基を有するのが好ましい。
　架橋性基は、ラジカル、酸、又は、熱等により架橋反応を生ずる基が好ましい。また、本発明の組成物が架橋剤を更に含む場合、その架橋剤と反応可能な基を架橋性基として用いるのが好ましい。
　組成物が含んでいてもよい重合開始剤または架橋剤との組み合わせによって、架橋性基として使用可能な基は異なるが、代表的な例としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、オキセタニル基（好ましくは３－エチルオキセタニル基）、イソシアネート基、メチロール基、アルコキシシリル基、水酸基、アミノ基、及び、カルボキシ基が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合を有する基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ハロアリル基、ハロアクリロイル基、ヒドロキシメチルアリル基、ヒドロキシメチルアクリロイル基、マレイミド基、アリル基、メタリル基、及び、ビニル基が挙げられる。
　架橋性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基又はエポキシ基が好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基、又は、エポキシ基がより好ましく、アクリロイル基が更に好ましい。架橋性基が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよいが、架橋性基のうち少なくとも１個は、エチレン性不飽和結合を有する基又はエポキシ基（より好ましくは（メタ）アクリロイル基、マレイミド基、又は、エポキシ基、更に好ましくはアクリロイル基）であるのが好ましく、架橋性基の全てが、それぞれ独立に、エチレン性不飽和結合を有する基又はエポキシ基（より好ましくはアクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基、又は、エポキシ基、更に好ましくはアクリロイル基）であるのがより好ましい。
　また、得られる膜の表面外観が優れる点からは、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。
　架橋性基を有する置換基において、架橋性基が存在する位置は特に制限されないが、置換基中の末端に存在するのが好ましい。
　架橋性基を有する置換基としては、例えば、架橋性基自体、又は、架橋性基と連結基とを組み合わせた基が挙げられる。連結基としては、２価の連結基、３価以上の連結基、又は、これらを組み合わせた基が挙げられる。
　２価の連結基としては、例えば、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－ＣＯ－）、エステル基（－ＣＯＯ－）、チオエーテル基（－Ｓ－）、－ＳＯ２－、－ＮＲ－（Ｒは、水素原子又はアルキル基を表す。）、２価の炭化水素基（アルキレン基、アリーレン基等）、及び、これらを組み合わせた基が挙げられる。
　３価以上の連結基としては以下に示す基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記においてＲｘは水素原子、水酸基、又は、Ａが有し得る非架橋性基の例として挙げた基を表す。＊は結合位置を表す。
　３価以上の連結基としては、他にも、シクロアルカン、芳香族炭化水素（ベンゼン、ナフタレン、アントラセン等）、及び、ヘテロ環（例えばＡがヘテロ環基として使用し得るヘテロ環）から、３個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。
・一般式（Ｐ）
　架橋性基を有する置換基は、以下の一般式（Ｐ）で表される基であるのが好ましい。
－Ｌ（－Ｅ）ｎ１　　　（Ｐ）
　一般式（Ｐ）中、
　ｎ１は、１～６の整数を表し、１～２が好ましい。
　Ｅは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。架橋性基として好ましい範囲は上述の通りである。
　Ｌは、単結合又は（ｎ１＋１）価の連結基を表す。
　（ｎ１＋１）価の連結基としては、エーテル基、カルボニル基、エステル基、イミノ基（－ＮＨ－）、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいアルキレン基、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいアリーレン基等の２価の連結基、以下に示す３価の連結基、又は、これらを組み合わせた基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　上記アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、環構造を有していてもよい。炭素数は１～４が好ましく、置換基を有する場合、置換基は水酸基が好ましい。
　上記アリーレン基は、ベンゼン環基、ナフタレン環基、及び、アントラセン環基等の炭素数６～１４のアリーレン基が好ましく、炭素数６～１０のアリーレン基がより好ましく、ベンゼン環基が更に好ましい。置換基を有する場合、置換基はアルキル基（好ましくは炭素数１～３）が好ましい。
・一般式（Ｐ´）
　架橋性基を有する置換基は、以下の一般式（Ｐ´）で表される基であるのがより好ましい。
－Ｌ１－Ｌ２－（－Ｌ３－Ｅ）ｎ２　　　（Ｐ´）
　一般式（Ｐ´）中、
　Ｅは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。架橋性基として好ましい範囲は上述の通りである。
　Ｌ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
　Ｌ２は、単結合又は３価の連結基を表す。
　Ｌ３は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。ただし、Ｌ２が単結合である場合、Ｌ３も単結合を表す。
　Ｌ２が単結合である場合、ｎ２は１を表し、Ｌ２が３価の連結基である場合、ｎ２は２を表す。
　Ｌ２の３価の連結基としては、一般式（Ｐ）中のＬの説明において示した３価の連結基のうちのいずれか１個が挙げられる。
　Ｌ１及びＬ３の二価の連結基は、それぞれ独立に、エーテル基、カルボニル基、エステル基、イミノ基、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいアルキレン基、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいアリーレン基、又は、これらを組み合わせた基を表す。
　上記アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、環構造を有していてもよい。炭素数は１～４が好ましく、置換基を有する場合は水酸基が好ましい。
　上記アリーレン基は、ベンゼン環基、ナフタレン環基、及び、アントラセン環基等の炭素数６～１４のアリーレン基が好ましく、炭素数６～１０のアリーレン基がより好ましく、ベンゼン環基が更に好ましい。置換基を有する場合、置換基はアルキル基（好ましくは炭素数１～３）が好ましい。
　中でも、Ｌ１及びＬ３が表し得る２価の連結基の具体例としては、それぞれ独立に、以下に示す基が好ましい。なお、以下においてＡＬは、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、ＡＲは、架橋性基を有さない置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
　なお下記において、左端の結合手がＱ側に向いた結合手であり、右端の結合手がＥ側に向いた結合手である。
－エーテル基－
－エーテル基－ＡＬ－
－エステル基－
－エステル基－ＡＬ－
－エステル基－ＡＬ－エーテル基－
－エステル基－ＡＬ－エーテル基－ＡＬ－エーテル基
－イミノ基－
－イミノ基－カルボニル基－イミノ基－ＡＬ－エーテル基－
－カルボニル基－イミノ基－
－ＡＬ－エーテル基－
－ＡＬ－エステル基－イミノ基－
－ＡＬ－エステル基－イミノ基－ＡＬ－エーテル基－
－ＡＲ－イミノ基－
（架橋性基を有さない置換基）
　Ｂは、更に、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい。より具体的には、Ｂ中のアリール基及びヘテロ環基は、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい。
　Ｂが有する架橋性基を有さない置換基の数に特に制限はなく、それぞれ独立に、０～３が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が更に好ましい。
　架橋性基を有さない置換基の例としては、Ａが有し得る非架橋性基の例が同様に挙げられる。中でもＢが有し得る架橋性基を有さない置換基としては、メチル基が好ましい。
　Ｂの分子量は、それぞれ独立に、７５～６５０が好ましく、８０～５００がより好ましく、８５～４００がさらに好ましく、９０～３００が特に好ましい。
　Ｂで表される基としては、例えば、以下で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
＜Ｃ及びＤの構造＞
　一般式（Ｉ）中、Ｃ及びＤは、それぞれ独立に、単結合、－ＮＨ－、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表す。ＲＮは、置換基を有していてもよい、アルキル基又はアリール基を表す。
　上記アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、環状構造を有していてもよい。炭素数は１～４が好ましく、１～２がより好ましく、１が更に好ましい。上記アリール基は、ベンゼン環基、ナフタレン環基、及び、アントラセン環基等の炭素数６～１４のアリール基が好ましく、炭素数６～１０のアリール基がより好ましく、ベンゼン環基が更に好ましい。上記アルキル基及び上記アリール基が有し得る置換基に特に制限はなく、例えば、Ａが有し得る置換基が挙げられる。
　中でも、ＲＮは、メチル基が好ましく、無置換のメチル基がより好ましい。
　Ｃ及びＤは、塗布膜の欠陥抑制性と膜の屈折率とがより優れる点から、それぞれ独立に、－ＮＨ－又は－ＮＲＮ－であるのが好ましく、－ＮＨ－又は－Ｎ（ＣＨ３）－であるのがより好ましく、－ＮＨ－であるのが更に好ましい。
　なお、Ｃ及びＤのうち、少なくとも１個は、－ＮＨ－を表す。なかでも、少なくとも１個のＤが－ＮＨ－であるのが好ましく、全てのＤが－ＮＨ－であるのがより好ましく、全てのＣ及びＤが－ＮＨ－であるのが更に好ましい。
＜Ｑの構造＞
　一般式（Ｉ）中、Ｑは、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表す。
　Ｑで表されるヘテロ環基は、芳香族性を有していても有していなくてもよく、芳香族性を有するのが好ましい。
　Ｑのヘテロ環基は、単環でも多環でもよく、単環であるのが好ましい。
　Ｑのヘテロ環基の員環数は、３～１０が好ましく、５～８がより好ましく、６が更に好ましい。
　Ｑのヘテロ環基が有するへテロ原子の数は、１～５が好ましく、１～４がより好ましく、３が更に好ましい。
　Ｑのヘテロ原子の具体例としては、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子、リン原子、ケイ素原子、及び、ホウ素原子が挙げられる。中でも、窒素原子、硫黄原子、又は、酸素原子が好ましく、窒素原子がより好ましい。
　Ｑで表されるヘテロ環基の例としては、Ａで表されるへテロ環基の例として挙げたヘテロ環基が同様に挙げられる。
　中でも、塗布膜の欠陥抑制性と膜の屈折率とがより優れる点から、Ｑで表されるヘテロ環基はトリアジン環基、ピリジン環基、又は、ピリミジン環基が好ましく、トリアジン環基がより好ましい。
　ヘテロ環基が有し得る置換基に特に制限はなく、例えば、Ａが有し得る置換基が挙げられ、シアノ基が好ましい。
　特定化合物の分子量は、３００～２０００が好ましく、４００～１５００がより好ましく、５００～１０００が更に好ましい。
　特定化合物の波長５８９ｎｍにおける屈折率は、１．６５以上が好ましく、１．７０以上がより好ましく、１．７５以上が更に好ましく、１．８０以上が特に好ましい。屈折率の上限については特に制限されないが、２．５０以下が一般的である。
　特定化合物の屈折率の測定方法は、例えば、シリコンウエハ上に測定対象となる特定化合物のみからなる膜を厚さ３００ｎｍで製膜した後、得られた膜の波長５８９ｎｍにおける屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ－３３００（商品名）、大日本スクリーン製造株式会社製）を用いて測定する。
＜一般式（Ｉ´）＞
　特定化合物は、一般式（Ｉ´）で表される化合物であるのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　一般式（Ｉ´）中、ｌ´は１～２の整数を表す。
　ｌ´が２である場合、複数存在するＡ０は同一でも異なっていてもよく、複数存在するＣ０は同一でも異なっていてもよく、複数存在する（－Ｃ０－Ａ０）は同一でも異なっていてもよい。
　一般式（Ｉ´）中、ｍ´は１～２の整数を表す。
　ｍ´が２である場合、複数存在するｖは同一でも異なっていてもよく、複数存在するｘは同一でも異なっていてもよく、複数存在するＲ０は同一でも異なっていてもよく、複数存在するＰ０は同一でも異なっていてもよく、複数存在し得るＱ０は同一でも異なっていてもよく、複数存在する（－ＮＲ０－Ｐｈ（－Ｐ０）ｖ（－Ｑ０）ｘ）で表される基は同一でも異なっていてもよい。
　なお、上記Ｐｈは、ベンゼン環基を意味する。
　また、ｌ´とｍ´との合計（ｌ´＋ｍ´）は、３である。
　一般式（Ｉ´）中、ｖは、それぞれ独立に、１～５の整数を表す。
　ｖは、１～４が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　一般式（Ｉ´）中、ｘは、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。
　ｘは、０～３が好ましく、０～２
がより好ましく、０～１が更に好ましい。
　一般式（Ｉ´）中、（－ＮＲ０－Ｐｈ（－Ｐ０）ｖ（－Ｑ０）ｘ）で表される各基中における、ｖとｘとの合計（ｖ＋ｘ）は、それぞれ独立に、１～５である。
　一般式（Ｉ´）中、Ｚは、それぞれ独立に、－Ｎ＝、－ＣＨ＝、又は、－Ｃ（ＣＮ）＝を表す。ただし、複数存在するＸのうち少なくとも１個は－Ｎ＝である。中でも、全てのＸが－Ｎ＝であるのが好ましい。
　一般式（Ｉ´）中、Ａ０は、一般式（Ｉ）におけるＡと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（Ｉ´）中、Ｃ０は、一般式（Ｉ）におけるＣと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（Ｉ´）中、Ｒ０は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
　上記アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、環状構造を有していてもよい。炭素数は１～４が好ましく、１～２がより好ましく、１が更に好ましい。上記アリール基は、ベンゼン環基、ナフタレン環基、及び、アントラセン環基等の炭素数６～１４のアリール基が好ましく、炭素数６～１０のアリール基がより好ましく、炭素数６のベンゼン環基が更に好ましい。上記アルキル基及び上記アリール基が有し得る置換基に特に制限はなく、例えば、Ａが有し得る置換基が挙げられる。
　中でもＲ０は、水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子又は無置換のメチル基がより好ましく、水素原子が更に好ましい。
　一般式（Ｉ´）中には、少なくとも１個の、－ＮＨ－であるＣ０又は水素原子であるＲ０が存在する。中でも、複数存在し得るＣ０の全てが－ＮＨ－であり、かつ、複数存在し得るＲ０の全てが水素原子であるのが好ましい。
　一般式（Ｉ´）中、Ｐ０は、架橋性基を有する置換基を表し、一般式（Ｉ）におけるＢが有する、架橋性基を有する置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　なお、ｍ´が１である場合、ｖが２以上であるか、Ｐ０が２個以上の架橋性基を有しているかの一方以上の条件を満たすのが好ましい。
　一般式（Ｉ´）中、Ｑ０は、架橋性基を有さない置換基を表し、一般式（Ｉ）におけるＢが有し得る、架橋性基を有さない置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
＜一般式（ＩＩ）及び一般式（ＩＩＩ）＞
　特定化合物は、一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表される化合物であるのがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　一般式（ＩＩ）中、ｖ及びｗは、それぞれ独立に、１～５の整数を表し、１～４が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　ｖが２以上である場合、複数存在するＰ１は同一でも異なっていてもよく、ｗが２以上である場合、複数存在するＰ２は同一でも異なっていてもよい。
　一般式（ＩＩ）中、ｘ及びｙは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、０～３が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が更に好ましい。
　ｘが２以上である場合、複数存在するＱ１は同一でも異なっていてもよく、ｙが２以上である場合、複数存在するＱ２は同一でも異なっていてもよい。
　ただし、ｖとｘとの合計（ｖ＋ｘ）は１～５であり、ｗとｙとの合計（ｗ＋ｙ）は１～５である。
　一般式（ＩＩ）中、Ａ１は、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ａ１は、一般式（Ｉ´）のＡ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＩＩ）中、Ｃ１は、単結合、－ＮＨ－、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表す。ＲＮは、置換基を有していてもよい、アルキル基又はアリール基を表す。Ｃ１は、一般式（Ｉ´）のＣ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＩＩ）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ１及びＲ２は、一般式（Ｉ´）のＲ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　ただし、Ｃ１が－ＮＨ－以外を表す場合、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は水素原子を表す。中でも、Ｃ１が－ＮＨ－であり、かつ、Ｒ１及びＲ２のいずれも水素原子であるのが好ましい。
　一般式（ＩＩ）中、Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立に、架橋性基を有する置換基を表す。Ｐ１及びＰ２は、一般式（Ｉ´）のＰ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＩＩ）中、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、架橋性基を有さない置換基を表す。Ｑ１及びＱ２は、一般式（Ｉ´）のＱ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＩＩＩ）中、ｖは、１～５の整数を表し、１～４が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　ｖが２以上である場合、複数存在するＰ３は同一でも異なっていてもよい。
　一般式（ＩＩＩ）中、ｘは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、０～３が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が更に好ましい。
　ｘが２以上である場合、複数存在するＱ３は同一でも異なっていてもよい。
　ただし、ｖとｘとの合計（ｖ＋ｘ）は１～５である。
　一般式（ＩＩＩ）中、Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立に、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ａ２及びＡ３は、一般式（Ｉ´）のＡ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＩＩＩ）中、Ｃ２及びＣ３は、それぞれ独立に、単結合、－ＮＨ－、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表す。ＲＮは、置換基を有していてもよい、アルキル基又はアリール基を表す。Ｃ２及びＣ３は、一般式（Ｉ´）のＣ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ３は、一般式（Ｉ´）のＲ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　ただし、Ｃ２及びＣ３がいずれも－ＮＨ－以外を表す場合、Ｒ３は水素原子を表す。中でも、Ｃ２及びＣ３がいずれも－ＮＨ－であり、かつ、Ｒ３が水素原子であるのが好ましい。
　一般式（ＩＩＩ）中、Ｐ３は、架橋性基を有する置換基を表す。Ｐ１及びＰ２は、一般式（Ｉ´）のＰ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｐ３は、ｖが１である場合、２個以上の架橋性基を有しているのが好ましい。
　一般式（ＩＩＩ）中、Ｑ３は、架橋性基を有さない置換基を表す。Ｑ１及びＱ２は、一般式（Ｉ´）のＱ０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
＜酸基＞
　また、上述した特定化合物の要件に反しない限りにおいて、特定化合物が酸基を有するのも、組成物の現像性が優れる点から好ましい。
　酸基の具体例としては、上述のカルボキシ基の他、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、フェノール性水酸基、及び、ホウ酸基が挙げられる。中でも、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、又は、ホスフィン酸基が好ましく、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、又は、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボキシ基が更に好ましい。
　以下に、特定化合物の好ましい例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 
　特定化合物は、公知の方法を用いて合成できる。
　特定化合物は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物において、特定化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、４０～９５質量％が好ましく、５０～９０質量％がより好ましく、６０～９０質量％が更に好ましい。
　なお、固形分とは、後述する膜を形成する成分を意図し、溶剤は含まれない。
［重合開始剤］
　本発明の組成物は、更に重合開始剤を含むのが好ましい。
　重合開始剤としては、光及び熱のいずれか、又は、その双方により特定化合物が有する架橋性基による架橋反応を開始する能力を有する限り、特に制限はないが、光重合開始剤であるのが好ましい。光で重合を開始させる場合、紫外線から可視光線に対して感光性を有する光重合開始剤が好ましい。
＜光重合開始剤＞
　本発明の組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択できる。例えば、光重合開始剤は、紫外線領域から可視光線領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。
　光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤又は光カチオン重合開始剤が好ましい。
　中でも、特定化合物が有する架橋性基がエチレン性不飽和結合を有する基の場合、光ラジカル重合開始剤が好ましく、特定化合物が有する架橋性基がエポキシ基の場合、光カチオン重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、及び、オキサジアゾール骨格を有する化合物等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノン、ヨードニウム塩、及び、スルホニウム塩等が挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物（オキシムスルホネート化合物等の光カチオン重合開始剤も含む）、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３－アリール置換クマリン化合物、及び、トリアリールスルホニウム塩からなる群より選択される化合物が好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落番号００６５～０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　光重合開始剤としては、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いられる。例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のα－アミノケトン化合物、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン化合物、及び、ＷＯ２０１６／０１７５３７号パンフレットの段落番号００１１～００３３に記載のα－アミノアルキルフェノン化合物も用いられる。α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９、及び、ＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、並びに、アデカオプトマーＮ－１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）等が挙げられる。
　光重合開始剤としてフルオレン環を有するオキシム化合物も使用できる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
　光重合開始剤としてフッ素原子を有するオキシム化合物も使用できる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、及び、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）等が挙げられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　光重合開始剤としてニトロ基を有するオキシム化合物を用いられる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とするのも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２及び００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、並びに、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　本発明の組成物において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示す。
　オキシム化合物は、３５０～５００ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物が好ましく、３６０～４８０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。
　オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００～３００，０００であるのが好ましく、２，０００～３００，０００であるのがより好ましく、５，０００～２００，０００であるのが更に好ましい。
　化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定できる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定するのが好ましい。
　光重合開始剤は、オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用する場合、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α－アミノケトン化合物を５０～６００質量部含むことが好ましく、１５０～４００質量部がより好ましい。
　以下に、光重合開始剤の好ましい例を示す。
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　光重合開始剤は１種単独で用いても、２種以上併用してもよい。
　光重合開始剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましく、１～１０質量％が特に好ましい。
　光重合開始剤の含有量が上記範囲の場合、感度により優れ、かつ、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。
＜熱重合開始剤＞
　熱で重合を開始させる場合には、１５０～２５０℃で分解する熱重合開始剤が好ましい。
　熱重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤を使用できる。
　熱重合開始剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、ラジカル重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物が好ましい。
　熱重合開始剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物等が挙げられる。中でも、有機過酸化物又はアゾ系化合物がより好ましく、過酸化物が特に好ましい。
　具体的には、特開２００８－６３５５４号公報の段落番号００７４～０１１８に記載されている化合物が挙げられる。
　中でも、熱重合開始剤としては、ドデカンペルオキシ酸ｔｅｒｔ－ブチルが好ましい。
　市販品では、日油株式会社製のパークミルＤ、パークミルＰ、パーロイルＩＢ、パークミルＮＤ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＩＰ、パーロイルＳＢＰ、パーオクタＮＤ、パーロイルＴＣＰ，パーロイルＯＰＰ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ，パーヘキシルＰＶ、パーブチルＤ、パーブチルＰＶ、パーブチルＰ、パーブチルＺ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーオクタＯ、パーロイルＳＡ、パーヘキサ２５Ｏ、パーヘキシルＯ、ナイパーＰＭＢ、パーブチルＯ、ナイパーＢＭＴ、ナイパーＢＷ、パーヘキサＭＣ、パーヘキサＴＭＨ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２５Ｂ、及び、パーヘキシン２５Ｂ等が挙げられる。
　熱重合開始剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物が熱重合開始剤を含む場合、熱重合開始剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１～５０質量％が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましく、０．１～２０質量％が更に好ましい。
［架橋剤］
　本発明の組成物は、架橋剤を含んでいてもよい。
　本発明の組成物は、上述した重合開始剤及び架橋剤の少なくとも一方を含むのが好ましく、重合開始剤を含むのがより好ましい。
　上述した特定化合物が有するＢで表される基における、架橋性基の種類に応じて、架橋性基と反応可能な官能基を有する架橋剤を選択するのが好ましい。また、Ａで表される基における、非架橋性基の種類に応じて、非架橋性基と反応しない官能基を有する架橋剤を選択するのが好ましい。
　架橋剤は、上記架橋性基と反応する官能基を２個以上有する化合物であるのが好ましい。
　架橋剤が有する官能基としては、例えば、水酸基、ハロゲン化ベンジル基、無水カルボン酸基、シアネートエステル基、イソシアネート基、アミノ基、アルデヒド基、アジリジン基、および、アルコキシシリル基が挙げられる。
　本発明の組成物が架橋剤を含む場合、架橋剤の含有量は、組成物中に存在する架橋性基の数に応じて適宜定められるのが好ましい。
［溶剤］
　本発明の組成物は、溶剤を含む。
　溶剤の種類は特に制限されず、水及び有機溶媒が挙げられる。有機溶剤としては、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、及び、アミド類等が挙げられる。具体例としては、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、１－メトキシ－２－プロパノール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、及び、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。有機溶剤の詳細は、ＷＯ２０１５／１６６７７９号パンフレットの段落番号０２２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。ただし、溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、及び、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下にもでき、１０質量ｐｐｍ以下にもでき、１質量ｐｐｍ以下にもできる）。
　有機溶剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。有機溶剤を２種以上組み合わせて用いる場合、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、１－メトキシ－２－プロパノール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及び、Ｎ－エチル－２－ピロリドンから選択される２種以上で構成される混合溶液が好ましい。
　金属含有量の少ない溶剤を使用するのが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であるのが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留又は薄膜蒸留等）又はフィルタを用いたろ過が挙げられる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、又は、ナイロンが好ましい。
　溶剤には、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有量は０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下が好ましく、有機溶媒は過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　本発明の組成物における溶剤の含有量は特に制限されないが、組成物中の固形分含有量が、１～３０質量％になる量が好ましく、３～２５質量％になる量がより好ましく、５～２０質量％になる量が更に好ましい。
［その他の任意成分］
　本発明の組成物は、特定化合物及び溶剤以外の任意成分を含んでいてもよい。例えば、任意成分としては、樹脂、硬化性化合物、酸化防止剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、充填剤、及び、硬化促進剤等が挙げられる。
　以下、任意成分の代表例について説明する。
＜硬化性化合物＞
　本発明の組成物は、上述の特定化合物及び架橋剤とは異なる、硬化性化合物を更に含むことも好ましい。
　硬化性化合物としては、例えば上述の架橋性基を有する化合物が挙げられる。硬化性化合物は、ラジカル重合性化合物であるのも好ましい。
　硬化性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物が硬化性化合物を含む場合において、硬化性化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、１～８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。
・エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（重合性化合物１）
　硬化性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（以下、単に「重合性化合物１」ともいう）を用いられる。重合性化合物１の分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。重合性化合物１は、２～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であるのが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であるのがより好ましい。
　重合性化合物１の例としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３３～００３４の記載を参酌するでき、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物１としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業株式会社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業株式会社製）、及び、これらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成株式会社製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ－ＴＭＭＴ）、又は、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬株式会社製）等が挙げられる。
　重合性化合物１は、カルボキシ基、スルホ基、及び、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物１としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル等が挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基をもたせた重合性化合物１が好ましく、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールである重合性化合物１がより好ましい。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、及び、Ｍ－５２０等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物１の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
　重合性化合物１は、カプロラクトン構造を有する化合物であるのも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物１としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、及び、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε－カプロラクトンをエステル化して得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げられる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物１としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００４２～００４５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬株式会社からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、及び、ＤＰＣＡ－１２０等、並びに、サートマー社製から市販されているエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、及び、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０等が挙げられる。
　重合性化合物１としては、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、及び、特公平２－１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類、並びに、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、及び、特公昭６２－３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、及び、特開平１－１０５２３８号公報に記載されている、分子内にアミノ構造及び／又はスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いられる。市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ－１０及びＵＡＢ－１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ－７２００（新中村化学工業株式会社製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬株式会社製）、並びに、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、及び、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ（共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。
　重合性化合物１の好適態様の一つとしては、重合性基を２個以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物１が挙げられる。なお、フルオレン骨格とは、フルオレン構造を少なくとも含む骨格であり、フルオレン構造中の芳香環基は、いわゆる単環構造（ベンゼン環）でも、多環構造（多環芳香族環構造）でもよい。
　重合性化合物１は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
・エポキシ基を有する化合物（重合性化合物２）
　硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物（以下、単に「重合性化合物２」ともいう）を用いるのも好ましい。重合性化合物２は、１分子内にエポキシ基を１個以上有する化合物が挙げられ、１分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は１分子内に１～１００個有するのが好ましい。上限は、例えば、１０個以下にもでき、５個以下にもできる。下限は、２個以上が好ましい。
　重合性化合物２は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物（重合性化合物２）の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／当量以下であるのが好ましく、１００～４００ｇ／当量であるのがより好ましく、１００～３００ｇ／当量であるのが更に好ましい。
　重合性化合物２は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。重合性化合物２の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下がより好ましく、５０００以下が更に好ましく、３０００以下が特に好ましい。
　重合性化合物２の好適態様の一つとしては、エポキシ基を２個以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する化合物が挙げられる。具体例としては、９，９－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）フルオレンが挙げられる。
　また、エポキシ基を２個以上有し、かつ、ナフタレン骨格を有する化合物も好ましい。
　重合性化合物２は、市販品も使用できる。例えば、ＥＨＰＥ３１５０（株式会社ダイセル製）並びに、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５、及び、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ－４７００（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。また、重合性化合物２は、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載の化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載の化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載の化合物、及び、特開２０１７－０３６３７９号公報の段落番号００２０～００９０に記載の化合物（カルボキシ基含有エポキシ化合物等）、等も使用できる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
　重合性化合物２は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
＜樹脂＞
　本発明の組成物は、上述した特定化合物とも硬化性化合物とも異なる、樹脂を含んでいてもよい。
　樹脂は、例えば、バインダーの用途で配合される。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２，０００～２，０００，０００が好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、３，０００以上が好ましく、５，０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、アクリルアミド樹脂、メタクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、及び、シロキサン樹脂等が挙げられる。
　本発明の組成物において、樹脂として、近赤外線に対する屈折率が１．７０以上である樹脂（以下、高屈折率樹脂ともいう）を用いてもよい。樹脂の近赤外線に対する屈折率は、１．７０～４．００であるのが好ましい。下限は、１．７５以上が好ましく、１．８０以上がより好ましく、１．８５以上が更に好ましい。上限は、３．９０以下が好ましく、３．５０以下がより好ましく、３．００以下が更に好ましい。上記の屈折率は、８１０ｎｍ、８５０ｎｍ、及び、９４０ｎｍのいずれかの波長の光に対する値であるのが好ましい。また、本発明の組成物から形成される膜を赤外線センサに用いる場合においては、上記の屈折率の値は、同赤外線センサでの検出に用いられる波長の近赤外線に対する値であるのも好ましい。高屈折率樹脂は、バインダー又は分散剤として用いられる。
　樹脂の屈折率は、以下の方法で未硬化の状態で測定できる。具体的な測定方法は、シリコンウエハ上に測定対象となる樹脂のみからなる膜を厚さ３００ｎｍで製膜した後、得られた膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ－３３００（商品名）、大日本スクリーン製造株式会社製）を用いて測定する。
　現像性が優れる観点から、上記樹脂は、カルボキシ基、スルホ基、及び、リン酸基等の酸基を有していてもよい。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂としても使用できる。
　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、
１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシ基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、及び、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシ基を有する酸性セルロース誘導体、並びに、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体がアルカリ可溶性樹脂として好適である。
　（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、及び、ビニル化合物等が挙げられる。
　アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、及び、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　また、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、及び、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。
　また、他のモノマーとしては、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー（例えば、Ｎ－フェニルマレイミド、及び、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等）も挙げられる。
　なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　酸基を有する樹脂としては、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、又は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましい。また、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合した共重合体、又は、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、若しくは、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体等も好ましい。
　酸基を有する樹脂は、下記一般式（ＥＤ１）で示される化合物及び／又は下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」ともいう）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　一般式（ＥＤ１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子又は炭素数１～３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　酸基を有する樹脂は、下記一般式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　一般式（Ｘ）において、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子又はベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。
　酸基を有する樹脂としては、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、及び、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂は、上述したような架橋性基を有していてもよい。
　架橋性基を有する樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ、Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４及びＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれも株式会社ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、並びに、アクリキュアＲＤ－Ｆ８（日本触媒株式会社製）等が挙げられる。
　また、樹脂としてはフルオレン構造を有する樹脂を使用してもよい。このような樹脂としては、例えば、特開２０１５－０６９１６４号公報の段落番号００１３～００７５の記載、及び、特開２０１３－２２１９８０号公報の段落番号００３１～００８８の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、及び、Ｇ－０１７５８（日油株式会社製、エポキシ基含有ポリマー）、並びに、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ株式会社製）等も挙げられる。
　本発明の組成物が樹脂を含む場合において、樹脂の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１～９９．９質量％であるのが好ましい。下限は、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上が更に好ましい。上限は、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。
　樹脂として、上記高屈折率樹脂を用いる場合、樹脂として高屈折率樹脂のみを用いてもよく、高屈折率樹脂と近赤外線に対する屈折率が１．７０未満の樹脂を併用してもよい。また、樹脂全量中における高屈折率樹脂の含有量は、１～１００質量％であるのが好ましく、１０～１００質量％であるのがより好ましい。
　樹脂は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
＜界面活性剤＞
　本発明の組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含んでもよい。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及び、シリコーン系界面活性剤等の各種界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、ＷＯ２０１５／１６６７７９号パンフレットの段落番号０２３８～０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明の組成物にフッ素系界面活性剤を含ませることで、塗布液として調製した場合の液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性及び省液性をより改善できる。フッ素系界面活性剤を含む組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有量は、３～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、７～２５質量％が更に好ましい。フッ素含有量がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性及び省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、及び、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｒ４０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、及び、同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、及び、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム株式会社製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ３９３、及び、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子株式会社製）、並びに、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及び、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーも使用できる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いられる。下記化合物も本発明の組成物で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体も使用できる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０及び段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、及び、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物も使用できる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、並びに、それらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、及び、グリセロールエトキシレート等）等が挙げられる。また、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、及び、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、及び、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、及び、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業株式会社製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、及び、Ｄ－６３１５（竹本油脂株式会社製）、並びに、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、及び、４４０（日信化学工業株式会社製）等も挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤も使用できる。ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤としては、例えば、特開２０１６－２１６６０２号公報の実施例欄に記載された界面活性剤（例えば、フッ素系界面活性剤（１））等が挙げられる。
　界面活性剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物が界面活性剤を含む場合において、界面活性剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．００１～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。
＜酸化防止剤＞
　本発明の組成物は、酸化防止剤を含んでもよい。
　酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、及び、チオエーテル化合物等が挙げられる。酸化防止剤としては、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物、又は、分子量５００以上のチオエーテル化合物が好ましい。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用でき、多置換フェノール系化合物が好ましい。多置換フェノール系化合物は、大きく分けてその置換位置及び構造の異なる３種類（ヒンダードタイプ、セミヒンダードタイプ、及び、レスヒンダードタイプ）がある。また、酸化防止剤としては、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物が好ましく用いられる。また、酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤も好ましく用いられる。酸化防止剤は市販品も使用できる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、及び、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。また、酸化防止剤としては、特開２０１４－０３２３８０号公報の段落番号００３３～００４３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　酸化防止剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物が酸化防止剤を含む場合において、酸化防止剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．３～１５質量％がより好ましい。
＜シランカップリング剤＞
　本発明の組成物は、シランカップリング剤を含んでもよい。
　本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、及び、アシルオキシ基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂との間で相互作用若しくは結合を形成して親和性を示す基が好ましい。例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、及び、フェニル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は、エポキシ基が好ましい。
　シランカップリング剤の具体例としては、例えば、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。また、シランカップリング剤としては、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、及び、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤は市販品も使用できる。シランカップリング剤の市販品としては、信越シリコーン株式会社製のＫＢＭ－１３、ＫＢＭ－２２、ＫＢＭ－１０３、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１０３、ＫＢＭ－３０３３、ＫＢＥ－３０３３、ＫＢＭ－３０６３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－３０８６、ＫＢＥ－３０６３、ＫＢＥ－３０８３、ＫＢＭ－３１０３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－７１０３、ＳＺ－３１、ＫＰＮ－３５０４、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７、Ｘ－４０－１０５３、Ｘ－４１－１０５９Ａ、Ｘ－４１－１０５６、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１８、Ｘ－４１－１８１０、Ｘ－４０－２６５１、Ｘ－４０－２６５５Ａ、ＫＲ－５１３、ＫＣ－８９Ｓ、ＫＲ－５００、ＫＲ－５１６、ＫＲ－５１７、Ｘ－４０－９２９６、Ｘ－４０－９２２５、Ｘ－４０－９２４６、Ｘ－４０－９２５０、ＫＲ－４０１Ｎ、Ｘ－４０－９２２７、Ｘ－４０－９２４７、ＫＲ－５１０、ＫＲ－９２１８、ＫＲ－２１３、Ｘ－４０－２３０８、及び、Ｘ－４０－９２３８等が挙げられる。
　シランカップリング剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物がシランカップリング剤を含む場合において、シランカップリング剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。
＜重合禁止剤＞
　本発明の組成物は、重合禁止剤を含んでもよい。
　重合禁止剤は、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、並びに、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、及び、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能し得る。
　重合禁止剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物が重合禁止剤を含む場合において、重合禁止剤の含有量は、重合開始剤１００質量部に対して、０．０１～１０質量部が好ましく、０．０１～８質量部がより好ましく、０．０１～５質量部が更に好ましい。
＜紫外線吸収剤＞
　本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含んでもよい。
　紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、及び、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物等が挙げられる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、及び、特開２０１３－６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学株式会社製）等が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
　紫外線吸収剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の組成物が紫外線吸収剤を含む場合において、紫外線吸収剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．１～３質量％が更に好ましい。
＜充填材＞
　充填材としては、例えば無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、屈折率が高く、無色、白色、又は、透明な無機粒子が好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、又は、マグネシウム（Ｍｇ）等の酸化物粒子が好ましく、二酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）粒子、又は、二酸化珪素（ＳｉＯ２）粒子がより好ましい。
　無機粒子の一次粒子径は特に制限されず、１～１００ｎｍが好ましく、１～８０ｎｍがより好ましく、１～５０ｎｍが更に好ましい。無機粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、分散性がより優れると共に、屈折率及び透過率がより向上する。
　無機粒子の屈折率は特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、１．７５～２．７０が好ましく、１．９０～２．７０がより好ましい。
　無機粒子の比表面積は特に制限はないが、１０～４００ｍ２／ｇが好ましく、２０～２００ｍ２／ｇがより好ましく、３０～１５０ｍ２／ｇが更に好ましい。
　また、無機粒子の形状には特に制限はなく、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、及び、不定形状等が挙げられる。
　無機粒子は、有機化合物により表面処理された無機粒子であってもよい。表面処理に用いる有機化合物としては、例えば、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤、及び、チタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、ステアリン酸又はシランカップリング剤が好ましい。
　また、無機粒子の表面は、耐候性がより向上する点で、アルミニウム、ケイ素、及び、ジルコニア等の酸化物により覆われているのも好ましい。
　無機粒子としては、市販されている無機粒子を好ましく用いられる。
　無機粒子は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
＜硬化促進剤＞
　本発明の組成物が、特定化合物及び硬化性化合物等が、カチオン重合性基（例えば、エポキシ基を有する化合物（重合性化合物２））を有する場合、組成物は、硬化促進剤を含むことも好ましい。
　硬化速度を向上させる硬化促進剤としては、酸無水物、塩基（脂肪族アミン、芳香族アミン、変性アミン等）、酸（スルホン酸、リン酸、カルボン酸等）、及び、ポリメルカプタン等が挙げられる。中でも、酸無水物が好ましく、脂肪族酸無水物がより好ましい。
＜組成物の調製方法＞
　本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解又は分散した後に逐次配合してもよい。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解又は分散して組成物を調製してもよい。
　本発明の組成物が粒子を含む場合、組成物の調製方法において、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、及び、キャビテーション等が挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、及び、超音波分散等が挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする等により粉砕効率を高めた条件で処理するのが好ましい。また、粉砕処理後にろ過又は遠心分離等で粗粒子を除去するのが好ましい。また、粒子を分散させるプロセス及び分散機としては、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」及び「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用できる。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、及び、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、及び、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　本発明の組成物の調製にあたり、異物の除去及び欠陥の低減等の目的で、組成物をフィルタでろ過するのが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されず用いられる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６及びナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、並びに、ポリエチレン、及び、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度及び／又は超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が好ましく、０．０１～３．０μｍ程度がより好ましく、０．０５～０．５μｍ程度が更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。ファイバ状のろ材を用いるのも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えば、ポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、及び、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８等）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２及びＴＰＲ００５等）、及び、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３等）等のフィルタカートリッジが挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタ等）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照できる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ等）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）、及び、株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択できる。第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたフィルタを使用できる。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
〔用途〕
　本発明の組成物の用途は特に制限されないが、例えば、固体撮像素子の高屈折部材（マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層、及び、隣接層等の透明膜、並びに、カラーフィルタのホワイトピクセル等）、レンズ（眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及び、プリズムレンズ等）、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）用封止材料、ＬＥＤ用平坦化材料、及び、太陽光電池用コーティング材として有用である。
［膜］
　本発明の膜は、本発明の組成物から得られる膜である。組成物に硬化処理を施すことにより、硬化膜を得られる。
　上記膜の屈折率は特に制限されないが、波長５８９ｎｍにおいて、１．６５以上が好ましく、１．７０以上がより好ましく、１．７５以上が更に好ましく、１．８０以上が特に好ましい。屈折率の上限については特に制限されないが、２．５０以下が一般的である。
　膜の屈折率の測定方法は、例えば、エポキシ樹脂層を形成したガラス基板上に、膜厚が１μｍの膜を形成した後、得られた膜をＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて測定する。
　上記膜の光透過率は特に制限されないが、４００～７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であるのが好ましく、９５％以上であるのがより好ましく、１００％であるのが更に好ましい。
　上記膜の厚みは特に制限されないが、０．１～２０μｍであるのが好ましく、０．１～１０μｍであるのがより好ましく、０．５～４μｍであるのが更に好ましい。
　本発明の組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱及び露光等が挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、及び、加熱ドラム等を用いられる。露光に使用する装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン（Ｘｅ）ランプ、ケミカルランプ、及び、カーボンアーク灯等を用いられる。
＜パターン状の硬化膜の製造方法＞
　以下、硬化膜の製造方法の一例として、パターン状の硬化膜を製造する方法について詳述する。
　パターン状の硬化膜の製造方法は、基板上に、本発明の組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する工程（以下、「組成物層形成工程」ともいう）と、本発明の組成物層を、マスクを介して露光する工程（以下、「露光工程」ともいう）と、露光後の組成物層を現像してパターン状の硬化膜を形成する工程（以下、「現像工程」ともいう）と、を含む。
　なお、上記で使用される組成物には、通常、光重合開始剤が含まれる。
　具体的には、本発明の組成物を、直接又は他の層を介して基板上に塗布して、組成物層を形成し（組成物層形成工程）、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された組成物層部分だけを硬化させ（露光工程）、現像液で現像して（現像工程）、パターン状の硬化膜を形成できる。
　以下、各工程について説明する。
（組成物層形成工程）
　組成物層形成工程では、基板上に、本発明の組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する。
　基板としては特に限定されず、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、及び、これらに透明導電膜を付着させたガラス、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板（例えば、シリコン基板等）、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｄｅｖｉｃｅ）基板、並びに、ＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ　Ｍｅｔａｌ　Ｏｘｉｄｅ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）基板等が挙げられる。
　基板上への本発明の組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、又は、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用できる。
　組成物の塗布膜厚としては、用途により適宜選択され得るが、例えば、０．１～２０μｍであり、０．１～１０μｍがより好ましく、０．５～４μｍが更に好ましい。
　基板上に塗布された組成物は、通常、７０～１１０℃で２～４分程度の条件下で乾燥する。これにより、組成物層を形成できる。
（露光工程）
　露光工程では、組成物層形成工程において形成された組成物層（塗布膜）を、マスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
　露光は、活性光線又は放射線の照射により行うことが好ましく、特に、ｇ線、ｈ線、又は、ｉ線等の紫外線がより好ましい。照射強度は５～１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０～１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
（現像工程）
　露光工程に次いで、アルカリ現像処理（現像工程）を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分（光照射された塗布膜部分）だけが残る。
　現像液としては、下地の回路等にダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０～３０℃であり、現像時間は２０～９０秒である。
　アルカリ性の水溶液としては、例えば、無機系現像液及び有機系現像液が挙げられる。無機系現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、又は、メタ硅酸ナトリウムを、濃度が０．００１～１０質量％、好ましくは０．０１～１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。有機系現像液としては、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、又は、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１～１０質量％、好ましくは０．０１～１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール又はエタノール等の水溶性有機溶剤、及び／又は、界面活性剤等を適量添加してもよい。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）する。
　現像方法としては、例えば、パドル現像方法又はシャワー現像方法等を用いられる。
［レンズ］
　本発明の膜（好ましくは硬化膜）は、レンズとしても使用できる。レンズとしては、中でも、固体撮像素子のマイクロレンズに好適に用いられる。
［固体撮像素子］
　本発明の膜（好ましくは硬化膜）及び本発明のレンズは、固体撮像素子に好適に適用できる。
　本発明の固体撮像素子の構成としては、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ又はＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有すると共に、カラーフィルタの下に本発明の膜である下塗り膜を備えた構成等が挙げられる。
　以下、実施例により、本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
〔組成物〕
［組成物の成分］
　以下に示す成分を使用して、実施例又は比較例で用いる組成物を調製した。
＜化合物＞
　以下に示す方法で、上記に例示した一般式（Ｉ）で表される化合物（特定化合物）のうちの化合物（Ａ－１）、（Ａ－２）、（Ａ－４）、（Ａ－５）、（Ａ－７）、（Ａ－１１）、（Ａ－１２）、（Ａ－１４）、（Ａ－１８）、（Ａ－２０）、（Ａ－２２）、（Ａ－２４）、（Ａ－２６）、（Ａ－２７）、（Ａ－２９）、（Ａ－３１）、（Ａ－３６）、（Ａ－３９）、（Ａ－４１）、（Ａ－４２）、及び、（Ａ－４８）、並びに、比較用の化合物（Ｈ－１）及び（Ｈ－２）を合成し、組成物の調製に使用した。
（合成例１：化合物（Ａ－１））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ａ－１）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　化合物（ａ－１）（１７．０ｇ、６４ｍｍｏｌ）、ｐ－アミノフェニルエタノール（３１．５ｇ、２３０ｍｍｏｌ、化合物（ａ－１）に対して３．６モル当量）、及び、酢酸（１４０．４ｇ）を混合して得られた混合液を、１１０℃で１時間撹拌して反応させた。この混合液を、３．５質量％塩酸（３００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水で洗浄した。得られた固体を、メタノール（１００ｍＬ）及び水酸化リチウム（無水）（３．１ｇ）と混合して、更に７時間撹拌し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、メタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（ａ－１ａ）（２６．７ｇ）を得た。
　化合物（ａ－１ａ）（６．０ｇ、１３ｍｍｏｌ）と、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（３０．０ｇ）とを混合し、得られた溶液を、氷浴で冷却した。この溶液に、アクリル酸クロリド（１５．６ｇ、１７２ｍｍｏｌ）を内温５℃以下に保持しながら滴下した。この溶液を、濃塩酸（３５質量％、１２ｍＬ）と蒸留水（２４０ｍＬ）の混合液に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水で洗浄した。固体を送風乾燥して化合物（Ａ－１）（４．１ｇ）を得た。
（合成例２：化合物（Ａ－２））
　化合物（ａ－１）とｐ－アミノフェニルエタノールとを、それぞれ、後段で示す化合物（ａ－２）とｐ－アミノベンジルアルコールに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２）を得た。
（合成例３：化合物（Ａ－４））
　化合物（ａ－１）、ｐ－アミノフェニルエタノール、及び、酢酸を、それぞれ、後段で示す化合物（ａ－４）、１，４－ジアミノベンゼン、及び、Ｎ－メチルピロリドンに変更し、１，４－ジアミノベンゼンを化合物（ａ－４）に対して２０モル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－４）を得た。
（合成例４：化合物（Ａ－５））
　化合物（ａ－１）とｐ－アミノフェニルエタノールとを、それぞれ、後段で示す化合物（ａ－５）とｍ－アミノベンジルアルコールとに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－５）を得た。
（合成例５：化合物（Ａ－７））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－７）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－７）を得た。
（合成例６：化合物（Ａ－１１））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－１１）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－１１）を得た。
（合成例７：化合物（Ａ－１２））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－１２）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－１２）を得た。
（合成例８：化合物（Ａ－１８））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－１８）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－１８）を得た。
（合成例９：化合物（Ａ－２０））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－２０）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２０）を得た。
（合成例１０：化合物（Ａ－２２））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－２２）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２２）を得た。
（合成例１１：化合物（Ａ－２４））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－２４）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２４）を得た。
（合成例１２：化合物（Ａ－２６））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－２６）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２６）を得た。
（合成例１３：化合物（Ａ－２７））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－２７）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２７）を得た。
（合成例１４：化合物（Ａ－２９））
　化合物（ａ－１）を、後段で示す化合物（ａ－２９）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２９）を得た。
　以下に、合成例１～１４で使用した化合物（ａ－１）、（ａ－２）、（ａ－４）、（ａ－５）、（ａ－７）、（ａ－１１）、（ａ－１２）、（ａ－１８）、（ａ－２０）、（ａ－２２）、（ａ－２４）、（ａ－２６）、（ａ－２７）、及び、（ａ－２９）を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
（合成例１５：化合物（Ａ－３６））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ａ－３６）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　化合物（ａ－３６）（３４．８ｇ、１００ｍｍｏｌ）、ｐ－アミノフェニルエタノール（２７．４ｇ、２００ｍｍｏｌ、化合物（ａ－３６）に対して２．０モル当量）、及び、酢酸（１８０．４ｇ）を混合して得られた混合液を、１１０℃で１時間撹拌して反応させた。この混合液を、３．５質量％塩酸（１０００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水で洗浄した。得られた固体をメタノール（５００ｍＬ）、水酸化リチウム（無水）（９．３ｇ）と混合して、７時間撹拌し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、メタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（ａ－３６ａ）（４２．１ｇ）を得た。
　化合物（ａ－３６ａ）（４．５ｇ）、カレンズＢＥＩ（２．４ｇ、１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート、昭和電工株式会社製）、Ｎ－メチルピロリドン（２０ｇ）、ネオスタンＵ－６００（０．０５０ｇ、ウレタン化反応触媒、日東化成株式会社製）、及び、２，６－ジｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール（０．０５０ｇ）を混合して得られた溶液を、１００℃で８時間加熱した。放冷後、この溶液を３．５質量％塩酸（１００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。固体を送風乾燥して化合物（Ａ－３６）（５．１ｇ）を得た。
（合成例１６：化合物（Ａ－３９））
　化合物（ａ－３６）を、後段で示す化合物（ａ－３９）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１５と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－３９）を得た。
（合成例１７：化合物（Ａ－４１））
　化合物（ａ－３６）を、後段で示す化合物（ａ－４１）に変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１５と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－４１）を得た。
　以下に、合成例１５～１７で使用した化合物（ａ－３６）、（ａ－３９）、及び、（ａ－４１）を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
（合成例１８：化合物（Ａ－１４））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ａ－１４）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　化合物（ａ－１）（１３．３ｇ）、ｐ－（アリルオキシ）アニリン（３０．０ｇ）、及び、酢酸（１４０．４ｇ）を混合して得られた混合液を、１１０℃で１時間撹拌した。混合液を、３．５質量％塩酸（５００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（Ａ－１４）（２４．０ｇ）を得た。
（合成例１９：化合物（Ａ－４２））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ａ－４２）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　化合物（Ａ－１４）（４．９ｇ）、ｍ－クロロ過安息香酸（含率７０質量％（残りはｍ－クロロ安息香酸と水との混合物））（３．０ｇ）、及び、Ｎ－メチルピロリドン（２０．０ｇ）の混合液を室温で２４時間撹拌した。混合液を、３．５質量％塩酸（５００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（Ａ－４２）（４．２ｇ）を得た。
（合成例２０：化合物（Ａ－３１））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ａ－３１）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　化合物（ａ－１）（１３．３ｇ）、ｐ－アミノ安息香酸（２０．０ｇ）、及び、酢酸（１５０．１）ｇを混合して得られた混合液を、１１０℃で１時間撹拌した。混合液を、３．５質量％塩酸（５００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（ａ－３１ａ）（２２．１ｇ）を得た。
　化合物（ａ－３１ａ）（４．７ｇ）、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（６．０ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．５ｇ）、ｐ－メトキフェノール（０．１ｇ）、及び、Ｎ－メチルピロリドン（２０．０ｇ）を混合して得られた溶液を９０℃で２４時間加熱した。放冷後、溶液を３．５質量％塩酸（５００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（Ａ－３１）（７．１ｇ）得た。
（合成例２１：化合物（Ａ－４８））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ａ－４８）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　化合物（Ａ－３１）（４．３ｇ）、無水こはく酸（１．５ｇ）、Ｎ－メチルピロリドン（３０ｇ）、及び、２，６－ジｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール（０．１ｇ）を混合して混合液を得た。この混合液に、４－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（０．５ｇ）及びトリエチルアミン（５．０）の混合溶液を滴下し、１００℃で３時間加熱撹拌した。放冷後、混合液を３．５質量％塩酸（５００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（Ａ－４８）（４．２ｇ）を得た。
（比較合成例１：化合物（Ｈ－１））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ｈ－１）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　塩化シアヌル（９．２ｇ）、ｐ－（アリルオキシ）アニリン（２４．６ｇ）、及び、酢酸（８０ｇ）を混合して得られた混合液を、１１０℃で１時間撹拌した。混合液を、３．５質量％塩酸（５００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（Ｈ－１）（２４．０ｇ）を得た。
（比較合成例２：化合物（Ｈ－２））
　以下に示すスキームに従って化合物（Ｈ－２）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　塩化シアヌル（９．２ｇ）、ｐ－（アリルオキシ）フェノール（２４．６ｇ）、炭酸カリウム（４１．４ｇ）、及び、Ｎ－メチルピロリドン（１５０ｇ）を混合して得られた混合液を、１１０℃で２４時間撹拌した。混合液を、３．５質量％塩酸（１０００ｍＬ）に添加し、固体を析出させた。析出した固体をろ取し、蒸留水及びメタノールで洗浄した。得られた固体を５０℃で送風乾燥して、化合物（Ｈ－２）を２１．２ｇ得た。
　得られた各化合物を、ＭＳ（Ｍａｓｓ　Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）測定により同定した。
　具体的には、試料をジメチルスルホキシドに溶解（懸濁）し、ＣＨＣＡ（α－ｃｙａｎｏ－４－ｈｙｄｒｏｘｙｃｉｎｎａｍｉｃ　ａｃｉｄ）マトリックスを含むジメチルスルホキシド溶液と混合し、得られた混合物をＭＡＬＤＩ（Ｍａｔｒｉｘ　Ａｓｓｉｓｔｅｄ　Ｌａｓｅｒ　Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ／Ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ）プレートに塗布して測定した。測定はＢｒｙｋｅｒ社製ａｕｔｏｆｌｅｘにて行い、ポジモードで行った。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
　化合物（Ａ－１）を、固形分が１０質量％になるようにＮ－エチル－２－ピロリドン（ＮＥＰ）に溶解させ、得られた溶解液をシリコンウエハ上にスピン塗布した。スピン塗布は、乾燥後にシリコンウエハ上に形成される化合物（Ａ－１）のみからなる化合物膜の膜厚が３００ｎｍとなるように行った。
　シリコンウエハを室温（２３℃）で２時間乾燥させた後、シリコンウエハ上に形成された化合物（Ａ－１）のみからなる化合物膜の波長５８９ｎｍにおける屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ－３３００（商品名）、大日本スクリーン製造株式会社製）を用いて測定した。
　その結果、化合物（Ａ－１）の波長５８９ｎｍにおける屈折率は１．７９であることが確認された。
　化合物（Ｈ－２）について同様の方法で屈折率を測定したところ、化合物（Ｈ－２）の波長５８９ｎｍにおける屈折率は１．６３であることが確認された。
＜硬化性化合物＞
　以下に示す硬化性化合物を使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
＜バインダー（樹脂）＞
　以下に示すバインダー（樹脂）を使用した。
　構造式中「Ｍｅ」はメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
＜光重合開始剤＞
　以下に示す光重合開始剤を使用した。
　構造式中「Ｍｅ」はメチル基を示し、「Ｐｈ」はフェニル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
＜溶剤＞
　以下に示す溶剤を使用した。
　ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
　ＮＥＰ：Ｎ－エチル－２－ピロリドン
　ＭＦＧ：１－メトキシ－２－プロパノール
　ＣＰＮ：シクロペンタノン
＜界面活性剤＞
　以下に示す界面活性剤を使用した。
　メガファックＲ－４０（ＤＩＣ株式会社製）
［組成物の調製］
　上述の各種成分を用いて、実施例用の組成物１～２７、及び、比較例用の比較組成物１～２を調製した。
　得られた各組成物の配合を下記表２に示す。
〔評価〕
　得られた組成物を用いて、塗布膜の欠陥の評価、膜の屈折率評価、膜の表面外観評価を行った。
［塗布膜の欠陥の評価（欠陥抑制性）］
　エポキシ樹脂（ＪＥＲ－８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成したシリコンウエハ上に、表２に記載の組成物及び比較組成物をそれぞれスピン塗布し、更に１００℃で３分間ベーク（加熱）し、膜厚１μｍの塗布膜Ａを形成した。形成してから１０分以内に、この塗布膜Ａについて、欠陥検査装置（アプライドマテリアルズ社製ＣｏｍＰｌｕｓ）を用いて欠陥数（個／ｃｍ２）測定を行った。
　更に、塗布膜Ａを室温（２３℃）で７２時間放置した塗布膜を塗布膜Ｂとして、この塗布膜Ｂについても同様に、欠陥数測定を行った。
　欠陥数が少ないほど、塗布膜の欠陥抑制性が優れる。
　測定された欠陥数を以下の基準に区分し、塗布膜の欠陥抑制性を評価した。
　Ａ：欠陥数が０個／ｃｍ２以上１０個／ｃｍ２未満
　Ｂ：欠陥数が１０個／ｃｍ２以上２０個／ｃｍ２未満
　Ｃ：欠陥数が２０個／ｃｍ２以上１００個／ｃｍ２未満
　Ｄ：欠陥数が１００個以上／ｃｍ２
［膜の屈折率の評価］
　エポキシ樹脂（ＪＥＲ－８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に、表２に記載の組成物及び比較組成物をそれぞれスピン塗布し、１００℃で３分間ベーク（加熱）した。次に、得られた塗布膜に対して、高圧水銀灯を用いて、積算露光量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を行った。その後、ガラス基板を、２００℃で３分間ベークし、膜厚が１μｍの膜（硬化膜）を得た。得られた膜をＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて、波長３００～１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を各膜の屈折率とした。
　測定された屈折率の値を以下の基準に照らして、膜の屈折率を評価した。
　ＡＡ：屈折率が１．８０以上
　　Ａ：屈折率が１．７５以上１．８０未満
　　Ｂ：屈折率が１．７０以上１．７５未満
　　Ｃ：屈折率が１．６５以上１．７０未満
　　Ｄ：屈折率が１．６５未満
［膜の表面外観の評価］
　上記屈折率の評価で得られた膜の外観を光学顕微鏡で観察した。
　膜の表面外観の評価の基準は以下のとおりである。
　Ａ：膜面に荒れ及び亀裂がない
　Ｂ：膜面の一部に凹凸が見られるが実用上問題ないレベルである
　Ｃ：膜面に荒れ及び／又は亀裂が観測され、実用上問題となるレベルである
　下記表２に、評価の結果を示す。
　表２中、「添加量」の欄に記載された数値は質量部を示す。
　表２中、「Ｑ（中心環）」の欄は、化合物を一般式（Ｉ）にてはめた場合における、Ｑで表される基の種類を意味する。なお、欄中の「トリアジン」はトリアジン環基を意味し、「ピリジン」環基を意味し、「ピリミジン」はピリミジン環基を意味する。
　表２中、「Ａ（架橋性基を有さない基）」の欄中の、「数」の欄は、化合物を一般式（Ｉ）にてはめた場合における、Ａで表される基の数（ｌの値）を意味する。
　表２中、「Ａ（架橋性基を有さない基）」の欄中の、「置換基」の欄は、化合物を一般式（Ｉ）にてはめた場合における、Ａで表される基が有する置換基の種類を意味する。なお、欄中の「Ｐｈ」はフェニル基又はフェニレン基を意味する。また、化合物（Ａ－２４）について「（チオフェン環）」と記載されているのは、Ａで表される基は置換基を有しておらず、Ａで表される基がチオフェン環基であることを意味する。
　表２中、「Ａ（架橋性基を有さない基）」の欄中の、「結合位置」の欄は、Ａが置換基を有するベンゼン環基である場合における、置換基の結合位置を意味する。「ｐ」はパラ位、「ｍ」はメタ位、「ｏ」はメタ位に置換基が結合していることを意味する。
　表２中、「Ａ（架橋性基を有さない基）」の欄中の、「Ｃ」の欄は、化合物を一般式（Ｉ）にてはめた場合における、Ｃで表される基の種類を意味する。
　表２中、「Ｂ（架橋性基を有する基）」の欄中の、「数」の欄は、化合物を一般式（Ｉ）にてはめた場合における、Ｂで表される基の数（ｍの値）を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
　表２に示す結果から、本発明の組成物は欠陥抑制性に優れる塗布膜を形成でき、かつ、屈折率に優れる膜を形成できることが確認された。また、本発明の組成物を用いて形成された膜は、表面外観にも優れることが確認された。
　また、特定化合物の中心環がトリアジン環である場合、塗布膜の欠陥抑制性と膜の屈折率がより優れる傾向が確認された（実施例１０と１５との比較。実施例１８と１９との比較）。
　特定化合物のＡで表される基が特定の置換基（シアノ基、アリールチオ基、ハロゲン原子等）を有する場合、膜の屈折率がより優れる傾向が確認された（実施例２と４との比較。実施例１、３～９、１１～１２、１６～１７、及び、２０～２７の結果）。
　中でも、置換基がビフェニル基又はシアノフェニル基を有する場合、膜の屈折率が更に優れる傾向が確認された（実施例１、９、及び、１１の比較）。
　Ａで表される基が有する置換基が、Ｃとの結合位置に対してパラ位に結合する場合、膜の表面外観がより優れる傾向が確認された（実施例１、６、及び、７の比較）。
　特定化合物のＡで表される基がチオフェン環基等のヘテロ環基である場合も、塗布膜の欠陥抑制性と膜の屈折率とがより優れる傾向が確認された（実施例１２の結果）。
　特定化合物のＢで表される基の架橋性基がアクリロイル基又はエポキシ基である場合、膜の表面外観がより優れる傾向が確認された（実施例１、８、及び、２０の比較）。
［熱硬化性組成物の評価（実施例２８）］
　組成物１の光重合開始剤（Ｉ－１）を、熱重合開始剤ドデカンペルオキシ酸ｔｅｒｔ－ブチル（発熱開始温度：１２９℃）に変更し、熱硬化性組成物である組成物２８を調製して、上述の評価を行った。
　「塗布膜の欠陥の評価」において、組成物２８をスピン塗布した後、室温（２３℃）で２時間溶剤を揮発させて、膜厚１μｍの塗布膜Ａを形成した点以外は、上述したのと同様にして、組成物２８を用いて「塗布膜の欠陥の評価」を行った。
　「膜の屈折率の評価」及び「膜の表面外観の評価」において、組成物２８をスピン塗布した後、室温（２３℃）で２時間溶剤を揮発させてから、ガラス基板を２００℃で３分間加熱して膜厚１μｍの硬化膜を得た点以外は、上述したのと同様にして、組成物２８を用いて「膜の屈折率の評価」及び「膜の表面外観の評価」を行った。
　その結果は、欠陥数（塗布膜Ａ：Ａ、塗布膜Ｂ：Ａ）、屈折率：Ａ、表面外観：Ａであった。このことから、本発明の組成物は、熱重合開始剤を用いて場合でも、欠陥抑制性に優れる塗布膜を形成でき、かつ、屈折率に優れる膜を形成できることが確認された。更に、表面外観にも優れる膜を形成できることが確認された。
［フォトリソグラフィを用いたパターン形成（実施例２９）］
　エポキシ樹脂（ＪＥＲ－８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成したシリコンウエハ上に、組成物２６をスピン塗布し、１００℃で３分間ベーク（加熱）し、塗布膜を形成した。この塗布膜を室温で７２時間放置した。
　次いで、ｉ線ステッパー露光装置（ＦＰＡ－３０００ｉ５＋、Ｃａｎｏｎ株式会社製）を使用して３６５ｎｍの波長で、パターンが１０μｍ四方のアイランドパターンを有するマスクを通して５０～１２００ｍＪ／ｃｍ２の種々の露光量で、シリコンウエハ上の塗布膜を露光した。その後、このシリコンウエハをスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、株式会社ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、現像液（ＣＤ－２０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行い、パターンを形成した。
　上記パドル現像を経て、表面にパターンが形成されたシリコンウエハを、回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方から純水をシャワー状に供給してリンス処理を行い、その後、乾燥させた。
　乾燥したパターンについて、測長ＳＥＭ（ＣＤ－ＳＥＭ：Ｃｒｉｔｉｃａｌ　Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ　Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）（Ｓ－９２６０Ａ、日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、パターン形状を評価した。
　その結果、得られたパターンの形状は良好であることが観察され、組成物２６を用いて形成された塗布膜は現像性及び光硬化性が良好で、フォトリソグラフィ性にも優れていることが確認された。
　このように、本発明の組成物を用いることで、良好な形状を有するパターンを形成可能であることが確認された。このような本発明の組成物は、レンズの製造にも好適に使用でき、製造されたレンズは固体撮像素子に使用することも好ましい。

Claims (19)

  1. 　一般式（Ｉ）で表される化合物、及び、溶剤を含む、組成物。
    （Ａ－Ｃ－）ｌ－Ｑ－（－Ｄ－Ｂ）ｍ　　　（Ｉ）
    　一般式（Ｉ）中、
    　ｌは、１～１０の整数を表す。
    　ｍは、１～１０の整数を表す。
    　Ａは、それぞれ独立に、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。
    　Ｂは、それぞれ独立に、架橋性基を有する置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｂで表されるアリール基及びヘテロ環基は、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい。
    　Ｃ及びＤは、それぞれ独立に、単結合、－ＮＨ－、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表し、Ｃ及びＤのうち少なくとも１個は－ＮＨ－を表す。ＲＮは、置換基を有していてもよい、アルキル基又はアリール基を表す。
    　Ｑは、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表す。
  2. 　Ｃ及びＤが、－ＮＨ－を表す、請求項１に記載の組成物。
  3. 　少なくとも１個のＡが、アリール基、シアノ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、ヘテロ環基、ニトロ基、アルコキシ基、及び、これらを組み合わせた基からなる群から選択される１個以上の置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基を表す、請求項１又は２に記載の組成物。
  4. 　少なくとも１個のＡが、ビフェニル基、及び、シアノフェニル基からなる群から選択される１個以上の置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基を表す、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 　Ａで表されるアリール基が、ベンゼン環基、ナフタレン環基、又は、アントラセン環基であり、
    　Ａで表されるヘテロ環基が、チオフェン環基、チアゾール環基、又は、ベンゾチアゾール環基である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 　少なくとも１個のＡが、Ｃとの結合位置に対してパラ位に架橋性基を有さない置換基を有する、ベンゼン環基を表す、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 　前記架橋性基のうち少なくとも１個が、エチレン性不飽和結合を有する基又はエポキシ基である、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. 　前記架橋性基のうち少なくとも１個が、アクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基、又は、エポキシ基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 　前記架橋性基のうち少なくとも１個が、アクリロイル基である、請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物。
  10. 　Ｑが、トリアジン環基を表す、請求項１～９のいずれか１項に記載の組成物。
  11. 　少なくとも１個のＡが、分子量が６５～５００である基を表す、請求項１～１０のいずれか１項に記載の組成物。
  12. 　少なくとも１個のＢが、分子量が７５～６５０である基を表す、請求項１～１１のいずれか１項に記載の組成物。
  13. 　前記化合物の分子量が３００～２０００である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の組成物。
  14. 　前記化合物の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の組成物。
  15. 　請求項１～１４のいずれか１項に記載の組成物を用いて形成される、膜。
  16. 　請求項１５に記載の膜からなる、レンズ。
  17. 　請求項１５に記載の膜、又は、請求項１６に記載のレンズを備える、固体撮像素子。
  18. 　一般式（ＩＩ）で表される化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    　一般式（ＩＩ）中、
    　ｖ及びｗは、それぞれ独立に、１～５の整数を表す。
    　ｘ及びｙは、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。
    　ただし、ｖとｘとの合計は１～５であり、ｗとｙとの合計は１～５である。
    　Ａ１は、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。
    　Ｃ１は、単結合、－ＮＨ－、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表す。ＲＮは、置換基を有していてもよい、アルキル基又はアリール基を表す。
    　Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
    　ただし、Ｃ１が－ＮＨ－以外を表す場合、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は水素原子を表す。
    　Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立に、架橋性基を有する置換基を表す。
    　Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、架橋性基を有さない置換基を表す。
  19. 　一般式（ＩＩＩ）で表される化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    　一般式（ＩＩＩ）中、
    　ｖは、１～５の整数を表す。
    　ｘは、０～４の整数を表す。
    　ただし、ｖとｘとの合計は１～５である。
    　Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立に、架橋性基を有さない置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。
    　Ｃ２及びＣ３は、それぞれ独立に、単結合、－ＮＨ－、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表す。ＲＮは、置換基を有していてもよい、アルキル基又はアリール基を表す。
    　Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
    　ただし、Ｃ２及びＣ３がいずれも－ＮＨ－以外を表す場合、Ｒ３は水素原子を表す。
    　Ｐ３は、架橋性基を有する置換基を表す。
    　Ｑ３は、架橋性基を有さない置換基を表す。
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