WO2021106423A1 - 組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置 - Google Patents

組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置 Download PDF

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WO2021106423A1
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全弘 森
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富士フイルム株式会社
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    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures

Definitions

  • the present invention relates to a composition for forming a member having a high refractive index such as a microlens.
  • the present invention also relates to a film, a microlens, a solid-state image sensor, and a display device.
  • Patent Document 1 describes an invention relating to a resin composition for forming a microlens, which contains a copolymer having a predetermined structural unit and a solvent.
  • anomalous dispersion of the refractive index tends to occur in the vicinity of the maximum absorption wavelength of the substance.
  • the refractive index of a substance tends to decrease as the wavelength of light becomes longer.
  • Such a phenomenon is called normal dispersion of the refractive index.
  • anomalous dispersion of the refractive index a phenomenon in which the refractive index rapidly increases or decreases as the wavelength becomes longer due to a large deviation from the normal dispersion.
  • microlenses In microlenses, it has been thought that the light collection rate of visible light decreases when the refractive index is abnormally dispersed. Therefore, conventionally, microlenses have high transparency to visible light and near infrared light. It was used. In addition, attempts to include a near-infrared absorbing dye in a microlens have not been studied so far.
  • an object of the present invention is to provide a novel composition, a film, a microlens, a solid-state image sensor, and a display device.
  • composition according to ⁇ 1> wherein when a film having a thickness of 0.35 ⁇ m is formed using the above composition, the average transmittance of light having a wavelength of 800 to 870 nm of the film is 80% or less. .. ⁇ 3>
  • the organic compound A is a compound having at least one structure selected from a fluorene structure, a triazine structure and a carbazole structure.
  • ⁇ 4> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, which contains two or more of the above organic compounds A.
  • ⁇ 5> In the total amount of the organic compound A contained in the above composition, the content of the organic compound having a refractive index of 1.63 or more with respect to light having a wavelength of 633 nm is 5 to 100% by mass, ⁇ 1> to ⁇ 4. > The composition according to any one of. ⁇ 6> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the content of the organic compound A in the total solid content of the composition is 50% by mass or more. ⁇ 7> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the content of the near-infrared absorbing dye in the total solid content of the composition is 1 to 20% by mass.
  • the near-infrared absorbing dye is at least one selected from a pyrrolopyrrole compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, and a polymethine compound. .. ⁇ 10> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>, which is for a microlens.
  • ⁇ 11> A film obtained by using the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>.
  • ⁇ 12> A microlens having the film according to ⁇ 11>.
  • ⁇ 13> A solid-state image sensor having the microlens according to ⁇ 12>.
  • ⁇ 14> The display device having the microlens according to ⁇ 12>.
  • a novel composition capable of forming a film such as a microlens having a near-infrared shielding property and a high collecting performance of visible light.
  • a film, a microlens, a solid-state image sensor, and a display device using the composition can be provided.
  • the notation not describing substitution and non-substitution includes a group having no substituent (atomic group) as well as a group having a substituent (atomic group).
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the term "exposure” as used herein includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as an electron beam and an ion beam.
  • the emission line spectrum of a mercury lamp far ultraviolet rays typified by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, active rays such as electron beams, or radiation
  • the numerical range represented by using "-" in the present specification means a range including the numerical values before and after "-" as the lower limit value and the upper limit value.
  • the total solid content means the total mass of all the components of the composition excluding the solvent.
  • “(meth) acrylate” represents both acrylate and methacrylate, or either
  • “(meth) acrylic” represents both acrylic and methacrylic, or either.
  • Allyl represents both allyl and methacrylic, or either, and“ (meth) acryloyl ”represents both acryloyl and methacrylic, or either.
  • process is included in this term not only as an independent process but also as long as the desired action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
  • weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are defined as polystyrene-equivalent values measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • composition Organic compound A having a refractive index of 1.58 or more with respect to light having a wavelength of 633 nm, Near-infrared absorbing pigment and A composition containing a solvent and The organic compound A is at least one selected from a polymerizable compound and a resin, and is When a film having a thickness of 0.35 ⁇ m is formed using the above composition, the above-mentioned film has a refractive index of 1.58 or more with respect to light having a wavelength of 633 nm, and the above-mentioned film transmits light having a wavelength of 400 to 600 nm.
  • the minimum value of the rate is 85% or more.
  • the composition of the present invention can provide a novel composition that has near-infrared shielding property and can form a film such as a microlens having high visible light condensing performance. That is, since the composition of the present invention contains a near-infrared absorbing dye, a film having near-infrared shielding property can be formed.
  • the composition of the present invention further contains the organic compound A having a refractive index of 1.58 or more with respect to light having a wavelength of 633 nm, and when a film having a thickness of 0.35 ⁇ m is formed, the wavelength of the film is described above.
  • the refractive index with respect to light of 633 nm is 1.58 or more and the minimum value of the light transmission of the above-mentioned film having a wavelength of 400 to 600 nm is 85% or more, it has near-infrared shielding property. While doing so, it is possible to form a film such as a microlens having a high ability to collect visible light.
  • the composition of the present invention can be preferably used as a composition for a microlens. More preferably, it can be used for a microlens of a solid-state image sensor. More preferably, it can be used for a microlens of a solid-state image sensor provided with a color filter, which is arranged on an optical path on the light incident side to the color filter.
  • the refractive index of the film with respect to light having a wavelength of 633 nm is 1.58 or more, preferably 1.60 or more. It is more preferably .62 or more.
  • the average refractive index of the above-mentioned film with respect to light having a wavelength of 400 to 600 nm is preferably 1.60 or more, more preferably 1.62 or more, and further preferably 1.64 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 1.75 or less.
  • Such a characteristic of refractive index can be achieved by adjusting the type and content of the organic compound A and the near-infrared absorbing dye. For example, it can be achieved by increasing the content of the organic compound A in the total solid content in the composition, using the organic compound A having a higher refractive index, or the like.
  • the minimum value of the light transmittance of the film having a wavelength of 400 to 600 nm is 85% or more, and 90% or more. It is preferably 95% or more, and more preferably 95% or more.
  • the average transmittance of light having a wavelength of 400 to 600 nm of the above-mentioned film is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and further preferably 96% or more.
  • the content of a material having absorption in the visible region such as a chromatic colorant or a black colorant in the total solid content in the composition is reduced, and the visible transparency is achieved. This can be achieved by methods such as using a high near-infrared absorbing dye.
  • the average transmittance of light having a wavelength of 800 to 870 nm of the above-mentioned film is preferably 80% or less, preferably 75% or less. Is more preferable, and 70% or less is further preferable. Further, the minimum value of the light transmittance of the above-mentioned film having a wavelength of 800 to 870 nm is preferably 70% or less, more preferably 65% or less, and further preferably 60% or less.
  • the maximum value of the light transmittance of the above-mentioned film having a wavelength of 800 to 870 nm is preferably 85% or less, more preferably 82% or less, and further preferably 80% or less.
  • Such a transmittance characteristic can be achieved by adjusting the type and content of the near-infrared absorbing dye. For example, it can be achieved by increasing the content of the near-infrared absorbing dye or using a near-infrared absorbing dye having a high absorption coefficient at the maximum absorption wavelength.
  • the composition of the present invention does not substantially contain a chromatic colorant and a black colorant.
  • the total content of the chromatic colorant and the black colorant is 0.1% by mass in the total solid content of the composition. It means that it is less than or equal to, preferably 0.05% by mass or less, further preferably 0.01% by mass or less, and particularly preferably not contained.
  • the viscosity of the composition of the present invention at 25 ° C. is preferably 3 to 20 mPa ⁇ s from the viewpoint of coatability.
  • the lower limit is preferably 4 mPa ⁇ s or more, and more preferably 5 mPa ⁇ s or more.
  • the upper limit is preferably 15 mPa ⁇ s or less, and more preferably 13 mPa ⁇ s or less.
  • the solid content concentration of the composition of the present invention is preferably 10 to 30% by mass from the viewpoint of coatability.
  • the lower limit is preferably 13% by mass or more, more preferably 15% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 27% by mass or less, more preferably 25% by mass or less.
  • the composition of the present invention contains an organic compound A having a refractive index of 1.58 or more with respect to light having a wavelength of 633 nm.
  • the refractive index of the organic compound A with respect to light having a wavelength of 633 nm is preferably 1.63 or more.
  • the upper limit of the refractive index is not particularly limited, but can be 1.80 or less.
  • the content of the organic compound having a refractive index of 1.63 or more with respect to light having a wavelength of 633 nm in the total amount of the organic compound A contained in the composition is preferably 5 to 100% by mass, preferably 20 to 100% by mass. % Is more preferable, and 40 to 100% by mass is further preferable.
  • the value of the refractive index of the organic compound A is such that the organic compound A is coated on a support such as a silicon wafer so that the film thickness after coating is 0.3 ⁇ m, and heated at 100 ° C. for 2 minutes and 200 ° C. for 5 minutes, and then an ellipsometer. It is a value measured using.
  • Organic compound A is at least one selected from polymerizable compounds and resins.
  • the polymerizable compound used as the organic compound A includes a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a cyclic ether group, a compound having a hydroxy group, a compound having a carboxy group, and a compound having an -NH 2 group.
  • Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • Examples of the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the polymerizable compound used as the organic compound A may contain two or more kinds of polymerizable compounds.
  • the polymerizable compound used as the organic compound A preferably contains at least one of a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and a compound having a cyclic ether group.
  • the organic compound A is preferably a monomer.
  • the molecular weight of the organic compound A is preferably 200 to 1000.
  • the upper limit is preferably 900 or less, more preferably 800 or less.
  • the lower limit is preferably 250 or more, and more preferably 300 or more.
  • the weight average molecular weight of the organic compound A is preferably 2000 to 100,000.
  • the upper limit is preferably 90,000 or less, and more preferably 80,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3000 or more, and more preferably 4000 or more.
  • the resin may have a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond-containing group, a cyclic ether group, a hydroxy group, a carboxy group, or -NH 2 group.
  • the composition of the present invention preferably contains two or more kinds of organic compounds A. Among them, it is preferable that one or more of the resin type organic compound A and the polymerizable compound type organic compound A are contained. According to such an aspect, it is possible to form a film having a small film shrinkage after film formation and a high strength.
  • the composition of the present invention is a polymerizable compound type organic compound with respect to 100 parts by mass of the resin type organic compound A.
  • the compound A is preferably contained in an amount of 10 to 800 parts by mass, more preferably 50 to 700 parts by mass. According to this aspect, the above-mentioned effect can be obtained more remarkably.
  • the organic compound A is preferably a compound having at least one structure selected from a fluorene structure, a triazine structure and a carbazole structure. By using a compound having such a structure, a film having a high refractive index can be formed.
  • the above-mentioned compound may be a monomer type compound or a resin type compound.
  • Examples of the compound having a fluorene structure include a compound having a partial structure represented by the following formula (Fr). (Fr)
  • R f1 and R f2 each represent a substituent
  • m and n independently represent an integer of 0 to 5.
  • m R f1s may be the same or different, and two R f1s out of m R f1s are bonded to each other to form a ring. May be good.
  • n R f2s may be the same or different from each other, and two R f2s out of n R f2s are bonded to each other to form a ring. May be good.
  • Examples of the substituent represented by R f1 and R f2 include a substituent T described later.
  • Examples of the compound having a triazine structure include a compound having a partial structure represented by the following formula (Ta). The wavy line in the formula represents the bond. (Ta)
  • the compound having a triazine structure is also preferably a compound having a group represented by the following formula (Ta-1). (Ta-1)
  • C 1 to C 3 independently represent -NR N- , -O-, or -S-, respectively.
  • RN represents a hydrogen atom, an alkyl group (preferably 1 to 7 carbon atoms), or an aryl group.
  • C 1 to C 3 are preferably -NH-, -N (CH 3 )-, -O-, or -S-, and more preferably -NH-.
  • Ar 1 and Ar 2 independently represent an aryl group or a heterocyclic group, respectively. As the aryl group, a phenyl group is preferable. Heterocyclic groups may or may not exhibit aromaticity, but are preferably aromatic.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocycle is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the hetero ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the aryl group and the heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include a substituent T described later and a polymerizable group.
  • the polymerizable group includes an ethylenically unsaturated bond-containing group such as a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group, a cyclic ether group such as an epoxy group and an oxetanyl group, a hydroxy group, a carboxy group, and -NH 2. The group and the like can be mentioned.
  • Ar 3 represents an arylene group or a divalent heterocyclic group.
  • arylene group a phenylene group is preferable.
  • L A represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group includes -NH-, -O-, -CO-, -CO-O-, an alkylene group (preferably 1 to 3 carbon atoms), or a combination thereof (for example, -O-alkylene).
  • a group consisting of a group (etc.) is preferable.
  • a preferable example of the compound having a triazine structure is a compound represented by the following formula (I).
  • m represents an integer of 2 or more.
  • n represents an integer of 0 or more.
  • A represents a group represented by the formula (Ta-1).
  • X represents a linking group having an m + n valence.
  • B represents a polymer chain or substituent. It should be noted that the plurality of A's existing may be the same or different from each other. When there are a plurality of B's, the plurality of B's may be the same or different.
  • the m + n-valent linking group represented by X is not particularly limited, and examples thereof include a group composed of the following structural units or a combination of two or more of the following structural units (which may form a ring structure). it can.
  • the polymer chain represented by B is a chain having a plurality of predetermined repeating units.
  • the structure of the polymer chain is not particularly limited and can be selected according to the purpose and the like.
  • the polymer chain is a polymer selected from the group consisting of a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, and a silicone polymer.
  • a polymer chain composed of a polymer chain is preferable, and a polymer chain composed of a polymer or copolymer of a (meth) acrylic compound is more preferable.
  • the polymer chain may have a substituent.
  • the weight average molecular weight of the polymer chain represented by B is preferably 200 to 10000, more preferably 300 to 5000. Further, as the substituent represented by B, a substituent T described later can be mentioned.
  • the compound having a triazine structure it is also preferable that the compound is represented by the following formula (Ta-10). (Ta-10)
  • C 1 to C 3 independently represent -NR N- , -O-, or -S-, respectively.
  • RN represents a hydrogen atom, an alkyl group (preferably 1 to 7 carbon atoms), or an aryl group.
  • C 1 to C 3 are preferably -NH-, -N (CH 3 )-, -O-, or -S-, and more preferably -NH-.
  • Rt 1 to Rt 15 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and at least one of Rt 1 to Rt 15 represents a polymerizable group. Examples of the substituent include a substituent T described later and a polymerizable group.
  • the polymerizable group includes an ethylenically unsaturated bond-containing group such as a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group, a cyclic ether group such as an epoxy group and an oxetanyl group, a hydroxy group, a carboxy group, and -NH. Two and the like can be mentioned. At least one of Rt 1 to Rt 5 and at least one of Rt 6 to Rt 10 preferably represent a polymerizable group, respectively, and any one of Rt 1 to Rt 5 and any one of Rt 6 to Rt 10 It is more preferable that each represents a polymerizable group.
  • Examples of the compound having a carbazole structure include a compound having a partial structure represented by the following formula (Cz). (Cz)
  • R c1 and R c2 each represent a substituent
  • m2 and n2 independently represent an integer of 0 to 5.
  • m2 R c1s may be the same or different, and two R c1s out of m2 R c1s are bonded to each other to form a ring. May be good.
  • n2 is 2 or more, n2 pieces of R c2 may be the same or different, respectively, to form a n2 ring two R c2 are bonded to each other among the R c2 May be good.
  • Examples of the substituent represented by R c1 and R c1 include the substituent T described later.
  • organic compound A as a polymerizable compound examples include a compound having the following structure, Ogsol PG-100 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., an epoxy compound having a fluorene structure), and Ogsol EG-200 (Osaka Gas). (Epoxy compound having a fluorene structure, manufactured by Chemical Co., Ltd.) and the like.
  • organic compound A as a resin examples include a compound having the following structure, a resin described in Synthesis Example 1 of JP2013-139588A, and a resin described in Example 1 of JP2017-031311A. And so on.
  • the content of the organic compound A in the total solid content of the composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 55% by mass or more, still more preferably 60% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less.
  • the content of the organic compound A in the total amount of the resin and the polymerizable compound contained in the composition is preferably 50 to 100% by mass, preferably 60 to 100%.
  • the mass% is more preferable, and 70 to 100% by mass is further preferable.
  • the composition of the present invention contains a near-infrared absorbing dye.
  • the near-infrared absorbing dye used in the present invention is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 750 to 1000 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 770 to 950 nm. It is more preferable that the compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 800 to 900 nm.
  • the ratio A 1 / A 2 between the absorbance A 1 at the wavelength 500nm near-infrared absorbing dye and absorbance A 2 at the maximum absorption wavelength is more be preferably 0.08 or less, 0.04 or less preferable.
  • the near-infrared absorbing dye may be a pigment or a dye.
  • a pigment When a pigment is used, a film having excellent heat resistance and light resistance can be formed.
  • a dye When a dye is used, a film having a small haze can be formed.
  • Near-infrared absorbing dyes include pyrolopyrrole compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, polymethine compounds, iminium compounds, quaterylene compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, pyromethene compounds, azomethine compounds, anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds and dithiolene metals. Examples thereof include at least one selected from a pyrolopyrrole compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound and a polymethine compound, and more preferably a pyrolopyrrole compound.
  • the polymethine compound include a cyanine compound, a squarylium compound, and a croconium compound.
  • the pyrrolopyrrole compound is preferably a compound represented by the formula (PP).
  • R 1a and R 1b each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 2 and R 3 are. They may be bonded to each other to form a ring
  • R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 4A R 4B , or a metal atom, where R 4 is R. It may be covalently or coordinated with at least one selected from 1a, R 1b and R 3 , where R 4A and R 4B each independently represent a substituent.
  • R 1a and R 1b are each independently preferably an aryl group or a heteroaryl group, and more preferably an aryl group. Further, the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by R 1a and R 1b may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents described in paragraphs 0020 to 0022 of JP-A-2009-263614 and the following substituents T. When the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by R 1a and R 1b have two or more substituents, the substituents may be bonded to each other to form a ring.
  • Alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an alkynyl group preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an alkyl group having 2 to 30 carbon atoms.
  • an amino group preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms
  • an alkoxy group preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms
  • an aryloxy group preferably 6 to 30 carbon atoms.
  • aryloxy group preferably acyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkoxycarbonyl group preferably alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • aryloxycarbonyl group preferably an acyl group having 2 to 30 carbon atoms.
  • an acyloxy group preferably an acyloxy group having 2 to 30 carbon atoms
  • an acylamino group preferably an acylamino group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkoxycarbonylamino group preferably).
  • a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms an alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms), an arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 30 carbon atoms), a heteroarylthio group (preferably a heteroarylthio group).
  • alkylsulfonyl group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • arylsulfonyl group preferably 6 to 30 carbon atoms
  • heteroarylsulfonyl group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • alkylsulfinyl group Preferably 1 to 30 carbon atoms
  • arylsulfinyl group preferably 6 to 30 carbon atoms
  • heteroarylsulfinyl group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • ureido group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • hydroxyl group , a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a carboxylic acid amide group (preferably a group represented by -NHCOR A1, R A1 represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • a sulfonic acid amide group preferably by -NHSO 2 R A2 a is .
  • R A2 is a group that is, a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • hydrocarbon The group and the heterocyclic group may further have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Imidate group (preferably, -SO 2 NHSO 2 R A3, -CONHSO 2 R A4, .R A3 ⁇ R A6 is a group represented by -CONHCOR A5 or -SO 2 NHCOR A6 are each independently Represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • the hydrocarbon group and the heterocyclic group may further have a substituent), a mercapto group, a halogen atom, a cyano group, an alkylsulfino group, an arylsulfino group. , Hydradino group, imino group, heteroaryl group (preferably 1 to 30 carbon atoms).
  • These groups may have additional substituents if they are further substitutable groups. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
  • R 1a and R 1b include an aryl group having an alkoxy group as a substituent, an aryl group having a hydroxyl group as a substituent, an aryl group having an acyloxy group as a substituent, and the like.
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or substituent.
  • the substituent include the above-mentioned Substituent T.
  • At least one of R 2 and R 3 is preferably an electron attracting group.
  • a substituent having a positive Hammett substituent constant ⁇ value acts as an electron-attracting group.
  • the substituent constants obtained by Hammett's law include ⁇ p value and ⁇ m value. These values can be found in many common books.
  • a substituent having a Hammett substituent constant ⁇ value of 0.20 or more can be exemplified as an electron-attracting group.
  • the ⁇ value is preferably 0.25 or more, more preferably 0.30 or more, and even more preferably 0.35 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 0.80 or less.
  • Me represents a methyl group and Ph represents a phenyl group.
  • ⁇ value for example, paragraphs 0017 to 0018 of JP2011-066731A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • R 2 preferably represents an electron-attracting group (preferably a cyano group) and R 3 preferably represents a heteroaryl group.
  • the heteroaryl group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of 2 to 8, and more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of 2 to 4.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • hetero atom examples include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.
  • the heteroaryl group preferably has one or more nitrogen atoms.
  • Two R 2 together in the formula (PP) may be the same or may be different.
  • two R 3 together in the formula (PP) may be the same or may be different.
  • R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a group represented by -BR 4A R 4B, preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or -BR. more preferably a group represented by 4A R 4B, and more preferably a group represented by -BR 4A R 4B.
  • R 4A and R 4B a substituent represented by R 4A and R 4B , a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or a heteroaryl group is preferable, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group is more preferable, and an aryl group is preferable. Especially preferable.
  • These groups may further have substituents.
  • Two R 4 together in the formula (PP) may be the same or may be different.
  • R 4A and R 4B may be coupled to each other to form a ring.
  • Examples of the compound represented by the formula (PP) include the compounds described in Examples described later.
  • Examples of the pyrrolopyrrole compound include the compounds described in paragraphs 0016 to 0058 of JP2009-263614, the compounds described in paragraphs 0037 to 0052 of JP2011-066731, and International Publication No. 2015/166783. Examples thereof include the compounds described in paragraph numbers 0010 to 0033 of the issue.
  • Examples of the squarylium compound include the compounds described in paragraphs 0044 to 0049 of JP2011-208101A, the compounds described in paragraphs 0060 to 0061 of Patent No. 6065169, and paragraph numbers 0040 of International Publication No. 2016/181987. , The compound described in JP-A-2015-176046, the compound described in paragraph number 0072 of International Publication No. 2016/190162, the compound described in paragraph number 0196-0228 of JP-A-2016-074649. , The compound described in paragraph No. 0124 of JP-A-2017-067963, the compound described in International Publication No.
  • Examples of the croconium compound include the compounds described in JP-A-2017-082029.
  • Examples of the iminium compound include the compounds described in JP-A-2008-528706, the compounds described in JP-A-2012-012399, the compounds described in JP-A-2007-092060, and International Publication No. 2018/043564.
  • the compounds described in paragraph numbers 0048 to 0063 of the above are mentioned.
  • Examples of the phthalocyanine compound include the compound described in paragraph No. 0093 of JP2012-077153, the oxytitanium phthalocyanine described in JP2006-343631, and paragraphs 0013 to 0029 of JP2013-195480.
  • Examples of the naphthalocyanine compound include the compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-077153.
  • Examples of the dithiolene metal complex include the compounds described in Japanese Patent No.
  • Examples of the near-infrared absorbing dye include a squarylium compound described in JP-A-2017-197437, a squarylium compound described in JP-A-2017-025311, a squarylium compound described in International Publication No. 2016/154782, and Patent No. Squalylium compounds described in 5884953, squalylium compounds described in Japanese Patent No. 6036689, squalylium compounds described in Japanese Patent No. 5810604, squalylium compounds described in paragraph numbers 0090 to 0107 of International Publication No.
  • An amide-linked squalylium compound a compound having a pyrrolbis-type squalylium skeleton or a croconium skeleton described in JP-A-2017-141215, a dihydrocarbazolebis-type squarylium compound described in JP-A-2017-082029, JP-A-2017-
  • the content of the near-infrared absorbing dye in the total solid content of the composition is preferably 1 to 20% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, and more preferably 3% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 17% by mass or less, more preferably 15% by mass or less.
  • the total content of the above-mentioned organic compound A and the near-infrared absorbing dye in the total solid content of the composition is preferably 70% by mass or more, more preferably 75% by mass or more, and 80% by mass. It is more preferably% or more.
  • the upper limit can be 100% by mass or less, and can be 98% by mass or less.
  • the composition preferably contains 1 to 30 parts by mass of the near-infrared absorbing dye with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned organic compound A.
  • the lower limit is preferably 2 parts by mass or more, and more preferably 3 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 25 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less. According to this aspect, it is possible to achieve both high near-infrared absorption performance and high refractive index.
  • composition of the present invention only one type of near-infrared absorbing dye may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention contains a solvent.
  • the solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the coatability of the composition.
  • the solvent is preferably an organic solvent.
  • the organic solvent include ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents and the like.
  • paragraph No. 0223 of WO 2015/166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • an ester solvent substituted with a cyclic alkyl group and a ketone solvent substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvent examples include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, cyclohexanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N , N-Dimethylpropanamide and the like.
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may need to be reduced for environmental reasons (for example, 50 mass ppm (parts) with respect to the total amount of organic solvent. Per million) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per parts) or less. If necessary, a solvent at the mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such a high-purity solvent is provided by, for example, Toyo Synthetic Co., Ltd. (The Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one kind of isomer may be contained, or a plurality of kinds may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the composition is preferably 70 to 90% by mass.
  • the lower limit is preferably 73% by mass or more, and more preferably 75% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 87% by mass or less, and more preferably 85% by mass or less.
  • the composition of the present invention can contain a polymerizable compound other than the above-mentioned organic compound A (hereinafter, also referred to as another polymerizable compound).
  • the other polymerizable compound include a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a cyclic ether group, and the like, and a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferable.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group may be in any chemical form such as a monomer, a prepolymer, or an oligomer, but a monomer is preferable.
  • the molecular weight of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferably 100 to 3000.
  • the upper limit is more preferably 2000 or less, and even more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, and even more preferably 250 or more.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferably a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, and preferably a compound containing 3 to 15 ethylenically unsaturated bond-containing groups. More preferably, it is a compound containing 3 to 6 ethylenically unsaturated bond-containing groups.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 15 functionalities, and more preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 6 functionalities.
  • Specific examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group include paragraphs 0905 to 0108 of JP2009-288705A, paragraph 0227 of JP2013-209760A, and paragraphs of JP2008-292970. Nos. 0254 to 0257, paragraphs 0034 to 0038 of JP2013-253224, paragraph numbers 0477 of JP2012-208494A, JP-A-2017-048367, JP-A-6057891 and Patent No. 6031807. , JP2017-194662, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group include dipentaerythritol triacrylate (commercially available KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available KAYARAD).
  • KAYARAD D-320 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol penta (meth) acrylate commercially available KAYARAD D-310; manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol hexa (meth) acrylate commercially available
  • KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • NK ester A-DPH-12E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • these (meth) acryloyl groups are ethylene glycol and / or propylene glycol residues.
  • Examples thereof include compounds having a structure bound to each other (for example, SR454 and SR499 commercially available from Sartmer).
  • Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propyleneoxy-modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethyleneoxy-modified tri (meth) acrylate, and isocyanuric acid.
  • Trifunctional (meth) acrylate compounds such as ethyleneoxy-modified tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate can also be used.
  • trifunctional (meth) acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, and M-305. , M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.), NK ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) And so on.
  • a compound having an acid group can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the acid group include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxyl group is preferable.
  • examples of commercially available products include Aronix M-510, M-520, and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferably a compound having a caprolactone structure.
  • Compounds having a caprolactone structure are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series, and examples thereof include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group (hereinafter, also referred to as an epoxy compound).
  • the epoxy compound include compounds having one or more epoxy groups in one molecule, and compounds having two or more epoxy groups are preferable.
  • the epoxy compound is preferably a compound having 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the epoxy group may be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the epoxy group is preferably two or more.
  • Examples of the epoxy compound include the compounds described in paragraphs 0034 to 0036 of JP2013-011869, the compounds described in paragraphs 0147 to 0156 of JP2014-043556, and JP2014-089408.
  • the compounds described in paragraph Nos. 0085 to 0092 of the above, and the compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used.
  • the epoxy compound may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 2000, further, a molecular weight of less than 1000), or a high molecular weight compound (macromolecule) (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more). It may be any of.
  • the weight average molecular weight of the epoxy compound is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and even more preferably 3000 or less.
  • EHPE3150 manufactured by Daicel Co., Ltd.
  • EPICLON N-695 manufactured by DIC Corporation
  • Marproof G-0150M Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G. -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (all manufactured by Nichiyu Co., Ltd., epoxy group-containing polymer) and the like can be mentioned.
  • the content of the other polymerizable compound in the total solid content of the composition is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, still more preferably 20% by mass or less. It is also preferable that the composition of the present invention does not substantially contain other polymerizable compounds. According to this aspect, a film having a higher refractive index can be formed.
  • the composition of the present invention does not substantially contain other polymerizable compounds, it means that the content of the other polymerizable compounds is 0.1% by mass or less in the total solid content of the composition. However, it is preferably 0.05% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, and particularly preferably not contained.
  • the composition of the present invention can contain a resin other than the above-mentioned organic compound A (hereinafter, also referred to as another resin).
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing particles such as pigments in the composition and for the purpose of a binder.
  • the resin mainly used for dispersing particles and the like in the composition is also referred to as a dispersant.
  • a dispersant such an application of the resin is an example, and the resin can be used for purposes other than such an application.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the other resin is preferably 2000 to 2000000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3000 or more, more preferably 4000 or more, and even more preferably 5000 or more.
  • Examples of other resins include (meth) acrylic resin, (meth) acrylamide resin, epoxy resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, and the like.
  • Examples thereof include polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, and siloxane resin.
  • resins may have an acid group.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group. These acid groups may be only one kind or two or more kinds.
  • the resin having an acid group can also be used as an alkali-soluble resin or a dispersant.
  • the acid value of the acid group of the other resin is preferably 30 to 500 mgKOH / g.
  • the lower limit is more preferably 50 mgKOH / g or more, and even more preferably 70 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is more preferably 400 mgKOH / g or less, further preferably 200 mgKOH / g or less, particularly preferably 150 mgKOH / g or less, and most preferably 120 mgKOH / g or less.
  • the other resin is a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer"). It is also preferable that the resin contains the resin.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • paragraph number 0317 of JP2013-209760A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • resins may have an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • Commercially available products of resins having an ethylenically unsaturated bond-containing group include Dianal NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (carboxyl group-containing polyurethane acrylate oligomer, Diamond Shamlock Co., Ltd.), and Viscort R.
  • KS Resist 106 (all manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Cyclomer P series (for example, ACA230AA), Praxel CF200 series (all manufactured by Daicel Co., Ltd.), Ebeclyl3800 (manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.) ), Acrycure RD-F8 (manufactured by Nippon Catalyst Co., Ltd.), DP-1305 (manufactured by Fujifilm Fine Chemicals Co., Ltd.) and the like.
  • Cyclomer P series for example, ACA230AA
  • Praxel CF200 series all manufactured by Daicel Co., Ltd.
  • Ebeclyl3800 manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.
  • Acrycure RD-F8 manufactured by Nippon Catalyst Co., Ltd.
  • DP-1305 manufactured by Fujifilm Fine Chemicals Co., Ltd.
  • the other resin is a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups accounts for 70 mol% or more when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%, and is substantially an acid. A resin consisting only of groups is more preferable.
  • the acid group of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 40 to 105 mgKOH / g, more preferably 50 to 105 mgKOH / g, and even more preferably 60 to 105 mgKOH / g.
  • the basic dispersant (basic resin) represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%.
  • the basic group contained in the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft copolymer. Since the graft copolymer has an affinity with a solvent due to the graft chain, it is excellent in the dispersibility of the pigment and the dispersion stability after aging.
  • the description in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • Specific examples of the graft copolymer include the following resins. Further, examples of the graft copolymer include the resins described in paragraphs 0072 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • an oligoimine resin containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain is also preferable to use as the dispersant.
  • the oligoimine-based resin has a structural unit having a partial structure X having a functional group of pKa14 or less, a side chain containing a side chain Y having 40 to 10,000 atoms, and at least a main chain and a side chain.
  • a resin having a basic nitrogen atom on one side is preferable.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP2012-255128A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • As the oligoimine-based resin a resin having the following structure or the resin described in paragraphs 0168 to 0174 of JP2012-255128A can be used.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include the Disperbyk series manufactured by Big Chemie (for example, Disperbyk-111, 2001, etc.) and the Solsparse series manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd. For example, Solsparse 20000, 76500, etc.), Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.'s Ajispar series and the like can be mentioned. Further, the product described in paragraph number 0129 of JP2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the content of the other resin in the total solid content of the composition is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, still more preferably 20% by mass or less. It is also preferable that the composition of the present invention does not substantially contain other resins. According to this aspect, a film having a higher refractive index can be formed.
  • the case where the composition of the present invention does not substantially contain another resin means that the content of the other resin is 0.1% by mass or less in the total solid content of the composition, and 0. It is preferably 05% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, and particularly preferably not contained.
  • the composition of the present invention can contain a pigment derivative.
  • the composition preferably contains a pigment derivative.
  • the pigment derivative include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to the pigment skeleton.
  • the pigment skeletons constituting the pigment derivatives include quinoline pigment skeleton, benzoimidazolone pigment skeleton, benzoisoindole pigment skeleton, benzothiazole pigment skeleton, inimium pigment skeleton, squarylium pigment skeleton, croconium pigment skeleton, oxonol pigment skeleton, and pyrolopyrrole pigment.
  • Examples of the acid group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group and salts thereof.
  • the atoms or groups that make up the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K +, etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+, etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • Examples include phosphonium ions.
  • Examples of the basic group include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimide methyl group.
  • Examples of the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • pigment derivative examples include the compounds described in Examples described later, JP-A-56-118462, JP-A-63-246674, JP-A-01-217777, and JP-A-03-009961.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-026767 Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-153780
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-045662 Japanese Patent Application Laid-Open No. 04-285669
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-145546 Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-212088, Kaihei 06-240158
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-030063 Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 3 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. Only one type of pigment derivative may be used, or two or more types may be used in combination. When two or more types are used in combination, the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the composition of the present invention may contain a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and may be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, a compound having photosensitivity to light rays in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazoles, oxime compounds, organic peroxides, and thio compounds. , Ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • the photopolymerization initiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyl dimethyl ketal compound, an ⁇ -hydroxyketone compound, an ⁇ -aminoketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, an oxime compound, or a triarylimidazole.
  • It is preferably a dimer, an onium compound, a benzothiazole compound, a benzophenone compound, an acetophenone compound, a cyclopentadiene-benzene-iron complex, a halomethyloxaziazole compound and a 3-aryl substituted coumarin compound, and an oxime compound and an ⁇ -hydroxyketone compound.
  • ⁇ -Aminoketone compound, and an acylphosphine compound are more preferable, and an oxime compound is further preferable.
  • the photopolymerization initiator the compounds described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 and JP-A-6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds Commercially available products of the ⁇ -hydroxyketone compound include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins BV), Irgacare 184, Irgacare 1173, Irgacare 1173, Irgacure29. (Manufactured by the company) and the like.
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, IGM Resins BV), Irgacare 907, Irgacare 369, Irgacure 369, Irgacure 369, Irgar (Made) and so on.
  • acylphosphine compounds examples include Omnirad 819, Omnirad TPO (above, manufactured by IGM Resins BV), Irgacure 819, and Irgacure TPO (above, manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound include the compounds described in JP-A-2001-233842, the compounds described in JP-A-2000-080068, and the compounds described in JP-A-2006-342166.
  • oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3-propionyloxyiminovtan-2-one, 2-acetoxyimiminopentane-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropane-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropane-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutane-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy Examples thereof include imino-1-phenylpropane-1-one.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include the compounds described in JP-A-2014-137466.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such an oxime compound include the compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom are described in the compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36-40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. Compound (C-3) and the like.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A and paragraphs 0008-0012 and 0070-0079 of JP2014-137466. Examples thereof include the compound described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, ADEKA ARKULS NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high, more preferably 1000 to 300,000, further preferably 2000 to 300,000, and more preferably 5000 to 200,000. It is particularly preferable to have.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • two or more radicals are generated from one molecule of the photoradical polymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation is less likely to occur with time, and the stability of the composition with time can be improved.
  • Specific examples of the bifunctional or trifunctional or higher functional photo-radical polymerization initiators include JP-A-2010-527339, JP-A-2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the composition is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less.
  • only one type of photopolymerization initiator may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain a white or colorless pigment (hereinafter, also referred to as a white pigment).
  • a white pigment at least one element selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S can be used.
  • oxide particles containing, and preferably oxide particles containing at least one element selected from Ti, Zr, Sn, Al, and Si As the oxide, titanium oxide and zirconium oxide are preferable, and titanium oxide is more preferable.
  • titanium oxide examples include rutile-type titanium oxide, anatase-type titanium oxide, and amorphous titanium oxide, and rutile-type titanium oxide is preferable. It is also preferable that the above oxide is surface-treated with a surface treatment agent.
  • the surface treatment agent include inorganic compounds and organic compounds. Inorganic compounds and organic compounds may be used in combination. Specific examples of the surface treatment agent include polyol, aluminum oxide, aluminum hydroxide, amorphous silica, hydrous silica, alkanolamine, stearic acid, organosiloxane, zirconium oxide, hydrogen dimethicone, silane coupling agent, and titanate coupling agent. And so on.
  • an isotropic shape for example, a spherical shape, a polyhedral shape, etc.
  • an anisotropic shape for example, a needle shape, a rod shape, a plate shape, etc.
  • an amorphous shape and the like can be mentioned.
  • the weight average particle size of the primary particles of the white pigment is preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less, and further preferably 80 nm or less. There is no particular lower limit, but it is preferably 1 nm or more.
  • the mixed liquid or the dispersion liquid containing the white pigment is diluted 80 times with propylene glycol monomethyl ether acetate, and the obtained diluted liquid is dynamically diluted. It is obtained by measuring using the light scattering method. The measured value in this case is the weight average particle diameter obtained by using the Microtrack (trade name) UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
  • the specific surface area of the white pigment is preferably 10 to 400 m 2 / g, more preferably 20 to 200 m 2 / g, and even more preferably 30 to 150 m 2 / g.
  • the refractive index of the white pigment is preferably 1.6 to 3.0.
  • the lower limit is preferably 1.7 or more, and more preferably 1.8 or more.
  • the upper limit is preferably 2.9 or less, and more preferably 2.8 or less.
  • the method for measuring the refractive index of white pigments conforms to the Japanese Industrial Standards (JIS K 0062: 1992).
  • a commercially available product may be used as the white pigment.
  • TTO series TTO-51 (A), TTO-51 (C), TTO-55 (C), etc.
  • TTO-S V series (TTO-S-1, TTO-S-).
  • TTO-V-3, etc. above, product name, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.
  • MT series MT-01, MT-05, etc.
  • TAYCA Corporation product name
  • the composition of the present invention can contain a curing accelerator.
  • the curing accelerator include thiol compounds, methylol compounds, amine compounds (aliphatic amines, aromatic amines, heterocyclic amines, etc.), phosphonium salt compounds, amidin salt compounds, amide compounds, base generators, isocyanate compounds, and alkoxysilanes. Examples thereof include compounds, onium salt compounds, and phosphorus compounds.
  • Specific examples of the curing accelerator include the compounds described in paragraphs 0094 to 0097 of WO2018 / 056189, the compounds described in paragraphs 0246 to 0253 of JP2015-034963, and JP2013-014165.
  • the content of the curing accelerator in the total solid content of the composition is preferably 0.3 to 8.9% by mass, more preferably 0.8 to 6.4% by mass.
  • only one type of curing accelerator may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent a silane compound having at least two kinds of functional groups having different reactivity in one molecule is preferable.
  • the silane coupling agent includes at least one group selected from a vinyl group, an epoxy group, a styrene group, a methacryl group, an amino group, an isocyanurate group, a ureido group, a mercapto group, a sulfide group, and an isocyanate group, and an alkoxy group.
  • silane coupling agent examples include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., KBM-602), N-2- (aminoethyl) -3.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the composition is preferably 0.001 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass, and particularly preferably 0.1% to 5% by mass. ..
  • the composition of the present invention may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types of silane coupling agent. When two or more types are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, quaternary-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), and the like. Examples thereof include 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salt (ammonium salt, first cerium salt, etc.).
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the composition is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the composition of the present invention may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types of polymerization inhibitors. When two or more types are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indol compounds, and triazine compounds. Examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP2009-217221A, paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A, and paragraph numbers 0317 to 0334 of JP2013-068814. Examples include the compounds described in paragraphs 0061 to 0080 of JP 2016-162946, the contents of which are incorporated herein.
  • benzotriazole compound examples include the MYUA series made by Miyoshi Oil & Fat Co., Ltd. (The Chemical Daily, February 1, 2016). Further, as the ultraviolet absorber, the compounds described in paragraphs 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the composition is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, and particularly preferably 0.1 to 3% by mass.
  • the composition of the present invention may contain only one kind of ultraviolet absorber, or may contain two or more kinds of ultraviolet absorbers. When two or more types are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxy group is preferable.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable.
  • the antioxidant a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule is also preferable.
  • a phosphorus-based antioxidant can also be preferably used.
  • a phosphorus-based antioxidant tris [2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosfepine-6 -Il] Oxy] Ethyl] amine, Tris [2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosfepin-2-yl] ) Oxy] ethyl] amine, ethylbis phosphite (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) and the like.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330 (above, manufactured by ADEKA Corporation) and the like.
  • the antioxidant the compounds described in paragraphs 0023 to 0048 of Japanese Patent No. 6268967, the compounds described in International Publication No. 2017/006600, and the compounds described in International Publication No. 2017/164024 are used. It can also be used.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass.
  • the composition of the present invention may contain only one type of antioxidant, or may contain two or more types of antioxidants. When two or more types are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicon-based surfactant can be used.
  • the surfactant the surfactant described in paragraph Nos. 0238 to 0245 of International Publication No. 2015/166779 is mentioned, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant.
  • the liquid characteristics particularly, fluidity
  • the liquid saving property can be further improved. It is also possible to form a film having a small thickness unevenness.
  • the fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid saving property, and has good solubility in the composition.
  • fluorine-based surfactant examples include the surfactants described in paragraphs 0060 to 0064 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-041318 (paragraphs 0060 to 0064 of the corresponding International Publication No. 2014/017669) and the like, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-.
  • the surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP 132503 are mentioned and their contents are incorporated herein by reference.
  • fluorine-based surfactants include, for example, Megafuck F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatilizes when heat is applied.
  • fluorine-based surfactants include the Megafuck DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Megafuck. DS-21 can be mentioned.
  • fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorine-based surfactant include the fluorine-based surfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • the fluorine-based surfactant a block polymer can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as the fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compounds is preferably 3000-50000, for example 14000.
  • % indicating the ratio of the repeating unit is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain can also be used.
  • the compounds described in paragraphs 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP2010-164965, Megafuck RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation, RS-72-K and the like can be mentioned.
  • the fluorine-based surfactant the compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP2015-117327A can also be used.
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ethers, polyoxyethylene stearyl ethers, etc.
  • Examples of the silicon-based surfactant include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torre Silicone SH28PA, Torre Silicone SH29PA, Torre Silicone SH30PA, Torre Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.). ), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (above, manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6001, KF-6002 (above, (Shinetsu Silicone Co., Ltd.), BYK307, BYK323, BYK330 (all manufactured by Big Chemie) and the like.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the composition is preferably 0.001 to 5.0% by mass, more preferably 0.005 to 3.0% by mass.
  • the surfactant may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • additives such as fillers, adhesion promoters, antioxidants, anti-aggregation agents and the like can be added to the composition of the present invention, if necessary.
  • additives include the additives described in paragraphs 0155 to 0156 of JP-A-2004-295116, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • the composition of the present invention may contain a latent antioxidant.
  • the latent antioxidant is a compound whose site that functions as an antioxidant is protected by a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst.
  • Specific examples of the latent antioxidant include the compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Examples of commercially available products include ADEKA ARKULS GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation) and the like.
  • the composition of the present invention may contain a sensitizer and a photostabilizer described in paragraph No. 0078 of JP-A-2004-295116, and a thermal polymerization inhibitor described in paragraph No. 1981 of the same publication. ..
  • the storage container for the composition of the present invention is not particularly limited, and a known storage container can be used.
  • a storage container for the purpose of suppressing impurities from being mixed into raw materials and compositions, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types and 6 layers of resin and a bottle in which 6 types of resin are composed of 7 layers are used. It is also preferable to use it. Examples of such a container include the container described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-123351.
  • the composition of the present invention can be produced by mixing the above-mentioned components. In the production of the composition, all the components may be simultaneously dissolved and / or dispersed in a solvent to produce the composition, or if necessary, each component may be appropriately prepared as two or more solutions or dispersions. , These may be mixed at the time of use (at the time of application) to produce a composition.
  • a process of dispersing particles such as pigments may be included.
  • the mechanical force used for dispersing the pigment includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion and the like.
  • the pulverization of the pigment in the sand mill it is preferable to use beads having a small diameter and to process under the condition that the pulverization efficiency is increased by increasing the filling rate of the beads. Further, it is preferable to remove coarse particles, beads, impurities mixed due to wear of the beads, impurities mixed due to wear of the disperser, and the like by filtration, centrifugation, or the like after the pulverization treatment.
  • the amount of impurities mixed from the beads and the disperser is preferably 2000 ppm or less with respect to the total composition.
  • the process and disperser for dispersing pigments are "Dispersion Technology Taizen, published by Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005” and "Dispersion technology and industrial application centered on suspension (solid / liquid dispersion system)".
  • the process and disperser described in Paragraph No. 0022 of JP-A-2015-157893, "Comprehensive Data Collection, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978” can be preferably used.
  • the particles may be miniaturized in the salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling step for example, the descriptions in JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-046629 can be referred to.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resins such as nylon (eg, nylon-6, nylon-6,6), and polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultrahigh molecular weight).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon eg, nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultrahigh molecular weight).
  • PP polypropylene
  • the pore size of the filter is preferably 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore size of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the nominal value of the filter manufacturer can be referred to.
  • various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. (DFA4201NIEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Integris Co., Ltd. (formerly Nippon Microlith Co., Ltd.), KITZ Microfilter Co., Ltd., etc. can be used.
  • fibrous filter medium examples include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like.
  • examples of commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.) and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno Co., Ltd.
  • filters for example, a first filter and a second filter
  • the filtration with each filter may be performed only once or twice or more.
  • filters having different pore diameters may be combined within the above-mentioned range.
  • the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing the other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • the film of the present invention is obtained by using the composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be preferably used for a microlens or the like.
  • the microlens of the present invention has the film of the present invention described above.
  • the refractive index of the microlens of the present invention with respect to light having a wavelength of 633 nm is preferably 1.58 or more, more preferably 1.60 or more, and even more preferably 1.62 or more.
  • the average refractive index of the microlens of the present invention with respect to light having a wavelength of 400 to 600 nm is preferably 1.60 or more, more preferably 1.62 or more, and further preferably 1.64 or more. ..
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 1.75 or less.
  • the minimum value of the transmittance of light having a wavelength of 400 to 600 nm is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more.
  • the average transmittance of light having a wavelength of 400 to 600 nm is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and further preferably 96% or more.
  • the average transmittance of light having a wavelength of 800 to 870 nm is preferably 80% or less, more preferably 75% or less, and further preferably 70% or less.
  • the minimum value of the transmittance of light having a wavelength of 800 to 870 nm is preferably 70% or less, more preferably 65% or less, and further preferably 60% or less. preferable.
  • the maximum value of the transmittance of light having a wavelength of 800 to 870 nm is preferably 85% or less, more preferably 82% or less, and further preferably 80% or less. preferable.
  • the lens shape of the microlens is not particularly limited, and various shapes derived by the optical system design can be taken. For example, a convex shape, a concave shape, and the like can be mentioned. Further, the radius of curvature of the lens is not particularly limited, and it is preferable to appropriately set it within a range in which a desired effect is obtained.
  • the thickness of the microlens is preferably 0.1 to 1.0 ⁇ m.
  • the upper limit is preferably 0.9 ⁇ m or less, and more preferably 0.8 ⁇ m or less.
  • the lower limit is preferably 0.15 ⁇ m or more, and more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the thickness of the microlens means the thickness of the thickest portion of the microlens. For example, in the case of a double-sided convex lens, it is the distance from the apex of one convex surface to the apex of the other convex surface.
  • the method for producing a microlens preferably includes a step of applying the composition of the present invention described above on a support to form a composition layer, and a step of processing the composition layer into a lens shape.
  • a step of applying the composition of the present invention described above on a support to form a composition layer preferably includes a step of applying the composition of the present invention described above on a support to form a composition layer, and a step of processing the composition layer into a lens shape.
  • each step will be described.
  • the composition layer of the present invention is used to form the composition layer on the support.
  • the support include a glass substrate, a polycarbonate substrate, a polyester substrate, an aromatic polyamide substrate, a polyamide-imide substrate, a polyimide substrate, and the like.
  • An organic light emitting layer may be formed on these substrates.
  • a color filter may be further formed on the organic light emitting layer.
  • the substrate or the color filter may be provided with an undercoat layer for improving the adhesion with the upper layer, preventing the diffusion of substances, or flattening the surface.
  • a known method can be used as a method for applying the composition.
  • a dropping method drop casting
  • a slit coating method for example, a spray method; a roll coating method; a rotary coating method (spin coating); a casting coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP-A-2009-145395).
  • Methods described in the publication Inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • Various printing methods; transfer method using a mold or the like; nano-imprint method and the like can be mentioned.
  • the method of application to inkjet is not particularly limited, and is, for example, the method shown in "Expandable and usable inkjet-infinite possibilities seen in patents-, published in February 2005, Sumi Betechno Research" (especially from page 115). (Page 133), and the methods described in JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261827, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, and the like. Can be mentioned. Further, regarding the method of applying the composition, the description of International Publication No. 2017/030174 and International Publication No. 2017/018419 can be referred to, and these contents are incorporated in the present specification.
  • the composition layer formed on the support may be dried (prebaked).
  • the prebaking temperature is preferably 100 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or lower, further preferably 80 ° C. or lower, and particularly preferably 70 ° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 40 ° C. or higher.
  • the prebaking time is preferably 10 to 3600 seconds. Pre-baking can be performed on a hot plate, an oven, or the like.
  • a method for processing the composition layer into a lens shape As a method for processing the composition layer into a lens shape, a conventionally known processing method can be used. For example, it can be produced by using a transfer method, an imprint method, a heat dripping method, or the like. Of these, the transfer method is preferable because it is easy to control the lens shape.
  • the composition layer formed on the support is cured to form a cured product layer, a resist layer is formed on the cured product layer, and the resist layer is patterned into a lens shape, and this pattern is formed.
  • the cured product layer can be dry-etched using the formed resist layer as a mask, and the lens shape can be transferred to the cured product layer for production.
  • a method for manufacturing a lens using a transfer method is described in JP-A-2006-073655, JP-A-2006-190903, JP-A-2008-281414, JP-A-2014-029524 and the like. Methods can also be used and these contents are incorporated herein by reference.
  • a mold having a pattern is pressed onto a composition layer formed on a support to sandwich the composition layer between the mold and the support, and the composition layer is exposed in such a sandwiched state. It can be cured by peeling the mold from the support and then manufactured.
  • the composition layer formed on the support is cured to form a cured product layer, and the cured product layer is heated to cause the surface of the cured product layer to be heat-dripping to form the cured product layer. It can be processed into a lens shape.
  • the step of processing into a lens shape may include a step of exposing the composition layer.
  • the exposure is used as a curing process for the composition layer.
  • the exposure is preferably performed by irradiating the composition layer with radiation.
  • radiation include g-line and i-line.
  • light having a wavelength of 300 nm or less preferably light having a wavelength of 180 to 300 nm
  • examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF line (wavelength 248 nm) and ArF line (wavelength 193 nm), and KrF line (wavelength 248 nm) is preferable.
  • a long wave light source having a diameter of 300 nm or more can also be used.
  • pulse exposure is an exposure method of a method of repeatedly irradiating and pausing light in a cycle of a short time (for example, a millisecond level or less).
  • Irradiation dose for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to the operation in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially). It may be exposed in an oxygen-free environment) or in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15,000 W / m 2 , or 35,000 W / m 2). Can be done. Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
  • the solid-state image sensor of the present invention has the microlens of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it includes the microlens of the present invention and functions as a solid-state image sensor, and examples thereof include the following configurations.
  • a solid-state image sensor CCD (charge-coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.
  • a transfer electrode made of polysilicon or the like.
  • the color filter may have a structure in which each colored pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall preferably has a lower refractive index than each colored pixel. Examples of an imaging apparatus having such a structure are described in JP2012-227478A, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-179757, International Publication No. 2018/043654, and US Patent Application Publication No. 2018/0040656. Equipment is mentioned.
  • the image pickup device provided with the solid-state image pickup device of the present invention can be used not only for digital cameras and electronic devices having an image pickup function (mobile phones and the like), but also for in-vehicle cameras and surveillance cameras.
  • the display device of the present invention has the microlens of the present invention described above.
  • Examples of the display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device.
  • Examples of each display device see, for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1990)", “Display Device (Junaki Ibuki, Sangyo Tosho Co., Ltd.)” (Issued in 1989) ”and so on.
  • liquid crystal display device is described in, for example, "Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1994)".
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and for example, it can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the above-mentioned "next-generation liquid crystal display technology".
  • the organic electroluminescence display device may have a light source composed of a white organic electroluminescence element.
  • the white organic electroluminescence device preferably has a tandem structure.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-045676 supervised by Akiyoshi Mikami, "Frontiers of Organic EL Technology Development-High Brightness, High Precision, Long Life, Know-how Collection-", Technical Information Association It is described on pages 326-328, 2008 and the like.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has strong maximum emission peaks in the blue region (430 nm-485 nm), the green region (530 nm-580 nm), and the yellow region (580 nm-620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 nm-700 nm) are more preferable.
  • P-1 to P-4 Compounds with the following structure
  • P-5 Near-infrared absorbing compound A-43 (croconium compound) described in International Publication No. 2018/043185.
  • P-6 Cyanine compound e described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-172004
  • P-1 to P-6 are compounds having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 800 to 900 nm.
  • Dispersions 1 to 12 Dispersions 1 to 12 described above
  • Dye-1 compound having the following structure (part of i-C 8 H 17 and i-C 10 H 21 is an isomeric mixture of branched positional difference between the number of carbon atoms.)
  • M-1 Compound with the following structure (refractive index for light with a wavelength of 633 nm is 1.63 or more)
  • M-2 Compound with the following structure (refractive index for light with a wavelength of 633 nm is 1.63 or more)
  • M-3 Compound with the following structure (refractive index for light with a wavelength of 633 nm is 1.58 or more and less than 1.63)
  • M-4 Ogsol PG-100 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., an epoxy compound having a fluorene structure.
  • Refractive index with respect to light having a wavelength of 633 nm is 1.63 or more
  • M-5 Ogsol EG-200 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., an epoxy compound having a fluorene structure. Refractive index with respect to light having a wavelength of 633 nm is 1.58 or more and less than 1.63)
  • M-6 EHPE3150 (Epoxy compound manufactured by Daicel Corporation. Refractive index with respect to light with a wavelength of 633 nm is less than 1.58)
  • B-7 Resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio.
  • A-1 ADEKA STAB AO-80 (manufactured by ADEKA Corporation)
  • A-2 2-Ethyl-4-methylimidazole
  • A-3 Triphenylphosphine
  • A-4 Compound with the following structure
  • A-5 Tris (4-methylphenyl) phosphine
  • the refractive index (refractive index 1) of the obtained film with respect to light having a wavelength of 633 nm was measured using ellipsometry VUV-VASE (manufactured by JA Woolam Japan). Further, with respect to the obtained film, the transmittance of light having a wavelength of 400 to 1100 nm was measured using a multi-channel spectroscope MCPD-9800 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), and the minimum value of the transmittance for light having a wavelength of 400 to 600 nm was determined. The average transmittance for light having a wavelength of 800 to 870 nm was measured. When measuring the refractive index, the back surface was polished so that there was no reflection from the back surface of the glass, and the back surface was processed into a frosted glass shape for measurement.
  • Example 1 to 25 the minimum value of the transmittance of light having a wavelength of 400 to 600 nm was 85% or more. Further, in Examples 1 to 25, the average transmittance of light having a wavelength of 800 to 870 nm was 80% or less.
  • a coloring composition for forming green pixels was applied onto an 8-inch (20.32 cm) silicon wafer by a spin coating method so that the film thickness after film formation was 0.5 ⁇ m. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) , exposure was performed at an exposure amount of 1000 mJ / cm 2 through a mask having a Bayer pattern of 0.8 ⁇ m square. Then, paddle development was carried out at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • a lens material composition layer having a film thickness of 1.2 ⁇ m was formed by heating at 200 ° C. for 5 minutes. Then, a microlens was manufactured by processing the lens material composition layer so that the height from the lens top to the lens bottom was 400 nm by using a transfer method by etch back, which is a known technique.
  • the microlenses produced using the compositions of Examples 1 to 25 had high light transmittance and refractive index in the visible region, and were also excellent in near-infrared shielding property. For this reason, the solid-state image sensor in which a microlens is manufactured using the composition of the example enhances the ability to collect visible light on each pixel of the color filter, and also causes near-infrared rays to be incident on each pixel of the color filter. I was able to suppress it. Therefore, a clear image can be detected, and the image recognition accuracy is excellent. Further, the same result can be obtained when the surfactant is removed from Example 1. Similar results can be obtained when the polymerization inhibitor is removed from Example 1.
  • P-7 to P-10 are compounds having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 800 to 900 nm.
  • P-7 Compound No. described in JP2012-224595A. 1
  • P-8 Near-infrared absorbing compound A-44 (croconium compound) described in International Publication No. 2018/043185.
  • P-9 Compound with the following structure
  • P-10 Compound with the following structure
  • the microlens produced by using the composition of Comparative Example 1 had a low refractive index of light in the visible region, so that the ability to collect visible light to each pixel of the color filter was inferior to that of the example. Therefore, the solid-state image sensor in which a microlens is manufactured using the composition of the comparative example is inferior in image recognition accuracy to that of the example.
  • Coloring composition for forming green pixels The following components were mixed, stirred, and then filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m to prepare a coloring composition for forming green pixels.
  • Coloring composition for forming red pixels The following components were mixed, stirred, and then filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m to prepare a coloring composition for forming red pixels.
  • Coloring composition for forming blue pixels The following components were mixed, stirred, and then filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m to prepare a coloring composition for forming blue pixels.
  • the raw materials used for preparing the coloring composition for forming green pixels, the coloring composition for forming red pixels, and the coloring composition for forming blue pixels are as follows.
  • a high-pressure disperser with a decompression mechanism NANO-3000-10 manufactured by Nippon BEE Co., Ltd. was used to perform dispersion treatment at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm3. This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a green pigment dispersion liquid.
  • a mixed solution consisting of 4.3 parts by mass of Pigment Yellow 139, 6.8 parts by mass of a dispersant (Disperbyk-161, manufactured by BYK Chemie), and 79.3 parts by mass of PGMEA was mixed with a bead mill (zirconia beads 0. 3 mm diameter) was mixed and dispersed for 3 hours to prepare a pigment dispersion.
  • a high-pressure disperser with a decompression mechanism NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) was used to perform dispersion treatment at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm3. This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a red pigment dispersion liquid.

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Abstract

新規な組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置を提供する。波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上の有機化合物Ａと、近赤外線吸収色素と、溶剤と、を含む組成物であり、有機化合物Ａは、重合性化合物および樹脂から選ばれる少なくとも１種であり、前述の組成物を用いて厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前述の膜の波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上であり、前述の膜の波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値が８５％以上である組成物。

Description

組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置
　本発明は、マイクロレンズなどの屈折率の高い部材の形成用の組成物に関する。また、本発明は、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置に関する。
　従来より、電荷結合素子（ＣＣＤ）イメージセンサなどの固体撮像素子においては、カラーフィルタを用いて画像のカラー化などの試みが行われている。また、カラーフィルタの光路上にマイクロレンズを設けて、各カラーフィルタにおける画素の感度を高めることも行なわれている。
　特許文献１には、所定の構造単位を有する共重合体と、溶剤とを含むマイクロレンズ形成用樹脂組成物に関する発明が記載されている。
国際公開第２０１５／１１５１５５号
　一般的に、ある波長の光に吸収を有する物質においては、その物質の極大吸収波長近傍において屈折率の異常分散が生じる傾向があることが知られている。ここで、一般的に物質の屈折率は、光の波長が長くなるに伴い低下する傾向にある。このような現象を屈折率の正常分散という。これに対し、正常分散から大きく逸脱して波長が長くなるに伴い、屈折率が急激に増大または低下する現象を屈折率の異常分散という。
　マイクロレンズにおいては、屈折率の異常分散が生じると、可視光の集光率が低下すると考えられていたので、従来は、マイクロレンズには可視光および近赤外線に対して透過性の高いものが用いられていた。また、マイクロレンズに近赤外線吸収色素を含有させる試みはこれまで検討されていなかった。
　よって、本発明の目的は、新規な組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置を提供することにある。
　本発明者は以下を提供する。
　＜１＞　波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上の有機化合物Ａと、
　近赤外線吸収色素と、
　溶剤と、を含む組成物であり、
　上記有機化合物Ａは、重合性化合物および樹脂から選ばれる少なくとも１種であり、
　上記組成物を用いて厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、上記膜の波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上であり、上記膜の波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値が８５％以上である、組成物。
　＜２＞　上記組成物を用いて厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、上記膜の波長８００～８７０ｎｍの光の平均透過率が８０％以下である、＜１＞に記載の組成物。
　＜３＞　上記有機化合物Ａは、フルオレン構造、トリアジン構造およびカルバゾール構造から選ばれる少なくとも１種の構造を有する化合物である、＜１＞または＜２＞に記載の組成物。
　＜４＞　上記有機化合物Ａを２種以上含む、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜５＞　上記組成物に含まれる有機化合物Ａの全量中における、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上の有機化合物の含有量が５～１００質量％である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜６＞　上記組成物の全固形分中における上記有機化合物Ａの含有量が５０質量％以上である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜７＞　上記組成物の全固形分中における上記近赤外線吸収色素の含有量が１～２０質量％である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜８＞　上記近赤外線吸収色素は、波長７５０～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜９＞　上記近赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、およびポリメチン化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜１０＞　マイクロレンズ用である、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜１１＞　＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の組成物を用いて得られる膜。
　＜１２＞　＜１１＞に記載の膜を有するマイクロレンズ。
　＜１３＞　＜１２＞に記載のマイクロレンズを有する固体撮像素子。
　＜１４＞　＜１２＞に記載のマイクロレンズを有する表示装置。
　本発明によれば、近赤外線遮蔽性を有し可視光の集光性能の高いマイクロレンズなどの膜を形成できる新規な組成物を提供することができる。また、組成物を用いた膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置を提供することができる。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の合計質量をいう。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アリル」は、アリルおよびメタリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
　本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。
＜組成物＞
　本発明の組成物は、
　波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上の有機化合物Ａと、
　近赤外線吸収色素と、
　溶剤と、を含む組成物であり、
　上記有機化合物Ａは、重合性化合物および樹脂から選ばれる少なくとも１種であり、
　上記組成物を用いて厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前述の膜の波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上であり、前述の膜の波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値が８５％以上であることを特徴とする。
　本発明の組成物は、近赤外線遮蔽性を有し、可視光の集光性能の高いマイクロレンズなどの膜を形成できる新規な組成物を提供することができる。すなわち、本発明の組成物は、近赤外線吸収色素を含むので、近赤外線遮蔽性を有する膜を形成できる。そして、本発明の組成物は、更に、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上の有機化合物Ａを含み、かつ、厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前述の膜の波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上であり、前述の膜の波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値が８５％以上である特性を有しているので、近赤外線遮蔽性を有しつつ、可視光の集光性能の高いマイクロレンズなどの膜を形成することができる。
　よって、例えば、本発明の組成物を用いて得られるマイクロレンズなどの膜を固体撮像素子の画素への光入射側に設定することで、画素に入射される可視光の集光性能を高めて画素の可視光の感度を高めることができるとともに、近赤外線が画素へ入射することを抑制でき、鮮明な画像などを検出することができる。このため、本発明の組成物は、マイクロレンズ用の組成物として好ましく用いることができる。より好ましくは、固体撮像素子のマイクロレンズ用として用いることができる。更に好ましくは、カラーフィルタを備えた固体撮像素子の、カラーフィルタへの光入射側の光路上に配置されるマイクロレンズ用として用いることができる。
　本発明の組成物は、厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前述の膜の波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上であり、１．６０以上であることが好ましく、１．６２以上であることがより好ましい。また、前述の膜の波長４００～６００ｎｍの光に対する平均屈折率が１．６０以上であることが好ましく、１．６２以上であることがより好ましく、１．６４以上であることが更に好ましい。上限は、特に限定されないが、１．７５以下とすることができる。このような屈折率の特性は、有機化合物Ａと近赤外線吸収色素の種類や含有量を調整することで達成することができる。例えば、組成物中の全固形分中における有機化合物Ａの含有量を高める、より屈折率の高い有機化合物Ａを用いるなどの方法で達成できる。
　本発明の組成物は、厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前述の膜の波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値が８５％以上であり、９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。また、前述の膜の波長４００～６００ｎｍの光の平均透過率が９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましく、９６％以上であることが更に好ましい。このような透過率の特性を達成するためには、組成物中の全固形分中における有彩色着色剤や黒色着色剤などの可視領域に吸収を有する素材の含有量を減らす、可視透明性の高い近赤外線吸収色素を使用するなどの方法で達成できる。
　本発明の組成物は、厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前述の膜の波長８００～８７０ｎｍの光の平均透過率が８０％以下であることが好ましく、７５％以下であることがより好ましく、７０％以下であることが更に好ましい。また、前述の膜の波長８００～８７０ｎｍの光の透過率の最小値は７０％以下であることが好ましく、６５％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましい。また、前述の膜の波長８００～８７０ｎｍの光の透過率の最大値は８５％以下であることが好ましく、８２％以下であることがより好ましく、８０％以下であることが更に好ましい。このような透過率の特性は、近赤外線吸収色素の種類や含有量を調整するなどの方法で達成できる。例えば、近赤外線吸収色素の含有量を高める、極大吸収波長での吸光係数の高い近赤外線吸収色素を使用するなどの方法で達成できる。
　本発明の組成物は、有彩色着色剤および黒色着色剤を実質的に含有しないことが好ましい。本発明の組成物が有彩色着色剤および黒色着色剤を実質的に含有しない場合とは、有彩色着色剤および黒色着色剤の合計の含有量が組成物の全固形分中０．１質量％以下であることを意味し、０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。
　本発明の組成物の２５℃での粘度は、塗布性の観点から３～２０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、４ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、５ｍＰａ・ｓ以上がより好ましい。上限は、１５ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１３ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
　本発明の組成物の固形分濃度は、塗布性の観点から１０～３０質量％であることが好ましい。下限は、１３質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。上限は、２７質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。
　以下、本発明の組成物について詳細に説明する。
＜＜有機化合物Ａ＞＞
　本発明の組成物は、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上の有機化合物Ａを含む。有機化合物Ａの波長６３３ｎｍの光に対する屈折率は、１．６３以上であることが好ましい。屈折率の上限は特にされないが１．８０以下とすることができる。
　また、組成物に含まれる有機化合物Ａの全量中における、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上の有機化合物の含有量は、５～１００質量％であることが好ましく、２０～１００質量％がより好ましく、４０～１００質量％が更に好ましい。
　なお、有機化合物Ａの屈折率の値は、シリコンウエハなどの支持体上に塗布後の膜厚が０．３μｍとなるように塗布し、１００℃２分、２００℃５分加熱し、エリプソメーターを用いて測定した値である。
　有機化合物Ａは、重合性化合物及び樹脂から選ばれる少なくとも１種である。
　有機化合物Ａとして用いられる重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物、ヒドロキシ基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、－ＮＨ２基を有する化合物が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。有機化合物Ａとして用いられる重合性化合物は、２種以上の重合性化合物を含んでもよい。有機化合物Ａとして用いられる重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物および環状エーテル基を有する化合物のいずれかを少なくとも含むことが好ましい。
　有機化合物Ａが重合性化合物の場合、有機化合物Ａはモノマーであることが好ましい。また、有機化合物Ａの分子量としては、２００～１０００であることが好ましい。上限は、９００以下であることが好ましく、８００以下であることがより好ましい。下限は、２５０以上であることが好ましく、３００以上であることがより好ましい。
　有機化合物Ａが樹脂の場合、有機化合物Ａの重量平均分子量としては、２０００～１０００００であることが好ましい。上限は、９００００以下であることが好ましく、８００００以下であることがより好ましい。下限は、３０００以上であることが好ましく、４０００以上であることがより好ましい。なお、樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基、環状エーテル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＮＨ２基などの重合性基を有していてもよい。
　本発明の組成物は、有機化合物Ａを２種以上含むことが好ましい。なかでも、樹脂タイプの有機化合物Ａと、重合性化合物タイプの有機化合物Ａとをそれぞれ１種以上含むことが好ましい。このような態様によれば、製膜後の膜収縮が小さく、かつ、強度の高い膜を形成することができる。また、樹脂タイプの有機化合物Ａと、重合性化合物タイプの有機化合物Ａとを併用する場合、本発明の組成物は、樹脂タイプの有機化合物Ａの１００質量部に対して重合性化合物タイプの有機化合物Ａを１０～８００質量部含有することが好ましく、５０～７００質量部含有することがより好ましい。この態様によれば、上述した効果がより顕著に得られる。
　有機化合物Ａは、フルオレン構造、トリアジン構造およびカルバゾール構造から選ばれる少なくとも１種の構造を有する化合物であることが好ましい。このような構造を有する化合物を用いることで高い屈折率を有する膜を形成することができる。前述の化合物は、モノマータイプの化合物であってもよく、樹脂タイプの化合物であってもよい。
　フルオレン構造を有する化合物としては、下記式（Ｆｒ）で表される部分構造を有する化合物が挙げられる。
（Ｆｒ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式中波線は、結合手を表し、Ｒｆ１およびＲｆ２はそれぞれ置換基を表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立して０～５の整数を表す。ｍが２以上の場合、ｍ個のＲｆ１は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよく、ｍ個のＲｆ１のうち２個のＲｆ１同士が結合して環を形成していてもよい。ｎが２以上の場合、ｎ個のＲｆ２は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよく、ｎ個のＲｆ２のうち２個のＲｆ２同士が結合して環を形成していてもよい。Ｒｆ１およびＲｆ２が表す置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
　トリアジン構造を有する化合物としては、下記式（Ｔａ）で表される部分構造を有する化合物が挙げられる。式中波線は、結合手を表す。
（Ｔａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　トリアジン構造を有する化合物は、下記式（Ｔａ－１）で表される基を有する化合物であることも好ましい。
（Ｔａ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式中波線は、結合手を表す。
　Ｃ１～Ｃ３はそれぞれ独立に、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１～７）、又は、アリール基を表す。Ｃ１～Ｃ３はそれぞれ独立に、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ３）－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－が好ましく、－ＮＨ－がより好ましい。
　Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、アリール基又はヘテロ環基を表す。アリール基としては、フェニル基が好ましい。ヘテロ環基は、芳香族性を示しても、示さなくてもよいが、芳香族性を示すのが好ましい。ヘテロ環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。アリール基及びヘテロ環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔや、重合性基が挙げられる。重合性基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などのエチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基などの環状エーテル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＮＨ２基などが挙げられる。
　Ａｒ３は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基を表す。アリーレン基としては、フェニレン基が好ましい。
　ＬＡは、単結合又は二価の連結基を表す。二価の連結基としては、－ＮＨ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、アルキレン基（好ましくは炭素数１～３）、又は、これらの組み合わせ（例えば、－Ｏ－アルキレン基－など）からなる基が好ましい。
　トリアジン構造を有する化合物の好ましい一例として、下記式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。
　（Ａ）ｍ－Ｘ－（Ｂ）ｎ　　　　　（Ｉ）
　式（Ｉ）中、ｍは、２以上の整数を表す。ｎは、０以上の整数を表す。
　Ａは、式（Ｔａ－１）で表される基を表す。
　Ｘは、ｍ＋ｎ価の連結基を表す。
　Ｂは、ポリマー鎖又は置換基を表す。
　なお、複数存在するＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｂが複数存在する場合、複数存在するＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
　Ｘが表すｍ＋ｎ価の連結基としては、特に限定されないが、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　Ｂが表すポリマー鎖とは、所定の繰り返し単位を複数有する鎖である。ポリマー鎖の構造は特に制限されず、目的等に応じて選択できる。中でも、ポリマー鎖は、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、及び、シリコーン系ポリマーからなる群より選択されるポリマーで構成されるポリマー鎖が好ましく、（メタ）アクリル化合物の重合体又は共重合体で構成されるポリマー鎖がより好ましい。ポリマー鎖は、置換基を有していてもよい。なお、置換基が複数存在する場合、複数存在する置換基は、同一でも異なっていてもよい。Ｂで表されるポリマー鎖の重量平均分子量は、２００～１００００が好ましく、３００～５０００がより好ましい。また、Ｂが表す置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
　トリアジン構造を有する化合物としては、下記式（Ｔａ－１０）で表される化合物であることも好ましい。
（Ｔａ－１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　Ｃ１～Ｃ３はそれぞれ独立に、－ＮＲＮ－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１～７）、又は、アリール基を表す。Ｃ１～Ｃ３はそれぞれ独立に、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ３）－、－Ｏ－、又は、－Ｓ－が好ましく、－ＮＨ－がより好ましい。
　Ｒｔ１～Ｒｔ１５はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒｔ１～Ｒｔ１５の少なくとも一つは重合性基を表す。置換基としては、後述する置換基Ｔや、重合性基が挙げられる。重合性基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などのエチレン性不飽和結合含有基や、エポキシ基、オキセタニル基などの環状エーテル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＮＨ２基などが挙げられる。
　Ｒｔ１～Ｒｔ５の少なくとも一つと、Ｒｔ６～Ｒｔ１０の少なくとも一つはそれぞれ重合性基を表すことが好ましく、Ｒｔ１～Ｒｔ５のいずれか一つと、Ｒｔ６～Ｒｔ１０のいずれか一つがそれぞれ重合性基を表すことがより好ましい。
　カルバゾール構造を有する化合物としては、下記式（Ｃｚ）で表される部分構造を有する化合物が挙げられる。
（Ｃｚ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式中波線は、結合手を表し、Ｒｃ１およびＲｃ２はそれぞれ置換基を表し、ｍ２およびｎ２はそれぞれ独立して０～５の整数を表す。ｍ２が２以上の場合、ｍ２個のＲｃ１は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよく、ｍ２個のＲｃ１のうち２個のＲｃ１同士が結合して環を形成していてもよい。ｎ２が２以上の場合、ｎ２個のＲｃ２は同一であってもよく、それぞれ異なっていてもよく、ｎ２個のＲｃ２のうち２個のＲｃ２同士が結合して環を形成していてもよい。Ｒｃ１およびＲｃ１が表す置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
　重合性化合物としての有機化合物Ａの具体例としては、以下に示す構造の化合物や、オグソールＰＧ－１００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン構造を有するエポキシ化合物）、オグソールＥＧ－２００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン構造を有するエポキシ化合物）などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　樹脂としての有機化合物Ａの具体例としては、以下に示す構造の化合物、特開２０１３－１３９５８８号公報の合成例１に記載の樹脂、特開２０１７－０３１３１１号公報の実施例１に記載の樹脂などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　組成物の全固形分中における有機化合物Ａの含有量は５０質量％以上が好ましく、５５質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が更に好ましい。上限は、９８質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましい。
　また、有機化合物Ａが重合性化合物または樹脂の場合、組成物中に含まれる樹脂と重合性化合物との合計量中における有機化合物Ａの含有量は、５０～１００質量％が好ましく、６０～１００質量％がより好ましく、７０～１００質量％が更に好ましい。
＜＜近赤外線吸収色素＞＞
　本発明の組成物は、近赤外線吸収色素を含有する。本発明で用いられる近赤外線吸収色素は、波長７５０～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましく、波長７７０～９５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることがより好ましく、波長８００～９００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが更に好ましい。また、近赤外線吸収色素の波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ１と極大吸収波長における吸光度Ａ２との比率Ａ１／Ａ２は、０．０８以下であることが好ましく、０．０４以下であることがより好ましい。
　近赤外線吸収色素は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料を用いた場合は耐熱性や耐光性などに優れた膜を形成できる。染料を用いた場合は、ヘイズの小さい膜を形成することができる。
　近赤外線吸収色素としては、ピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ポリメチン化合物、イミニウム化合物、クアテリレン化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物およびジチオレン金属錯体などが挙げられ、ピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物及びポリメチン化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、ピロロピロール化合物であることがより好ましい。ポリメチン化合物としては、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物などが挙げられる。
　ピロロピロール化合物としては、式（ＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ２およびＲ３は、各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、または金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ３から選ばれる少なくとも一つと共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、各々独立に置換基を表す。式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１７～００４７、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００１１～００３６、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　式（ＰＰ）において、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、各々独立に、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ１ａおよびＲ１ｂが表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００２０～００２２に記載された置換基や、以下の置換基Ｔが挙げられる。また、Ｒ１ａおよびＲ１ｂが表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基が２個以上の置換基を有している場合、置換基同士が結合して環を形成していてもよい。
（置換基Ｔ）
　アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基、アシル基（好ましくは炭素数１～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０）、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基（好ましくは－ＮＨＣＯＲＡ１で表される基であり、ＲＡ１は、炭化水素基または複素環基を表す。炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。）、スルホン酸アミド基（好ましくは－ＮＨＳＯ２ＲＡ２で表される基である。ＲＡ２は、炭化水素基または複素環基を表す。炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。）、イミド酸基（好ましくは、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＡ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＡ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＡ６で表される基である。ＲＡ３～ＲＡ６は、それぞれ独立して炭化水素基または複素環基を表す。炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。）、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０）。
　これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　Ｒ１ａ、Ｒ１ｂで表される基の具体例としては、アルコキシ基を置換基として有するアリール基、水酸基を置換基として有するアリール基、アシルオキシ基を置換基として有するアリール基などが挙げられる。
　式（ＰＰ）において、Ｒ２およびＲ３は、各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は電子求引性基が好ましい。ハメットの置換基定数σ値（シグマ値）が正の置換基は、電子求引性基として作用する。ここで、ハメット則で求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値がある。これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。本発明においては、ハメットの置換基定数σ値が０．２０以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σ値は、０．２５以上が好ましく、０．３０以上がより好ましく、０．３５以上が更に好ましい。上限は特に制限はないが、好ましくは０．８０以下である。電子求引性基の具体例としては、シアノ基（σｐ値＝０．６６）、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ：σｐ値＝０．４５）、アルコキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＭｅ：σｐ値＝０．４５）、アリールオキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＰｈ：σｐ値＝０．４４）、カルバモイル基（例えば、－ＣＯＮＨ２：σｐ値＝０．３６）、アルキルカルボニル基（例えば、－ＣＯＭｅ：σｐ値＝０．５０）、アリールカルボニル基（例えば、－ＣＯＰｈ：σｐ値＝０．４３）、アルキルスルホニル基（例えば、－ＳＯ２Ｍｅ：σｐ値＝０．７２）、アリールスルホニル基（例えば、－ＳＯ２Ｐｈ：σｐ値＝０．６８）などが挙げられ、シアノ基が好ましい。ここで、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、ハメットの置換基定数σ値については、例えば、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００１７～００１８を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　式（ＰＰ）において、Ｒ２は電子求引性基（好ましくはシアノ基）を表し、Ｒ３はヘテロアリール基を表すことが好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。式（ＰＰ）における２個のＲ２同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式（ＰＰ）における２個のＲ３同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　式（ＰＰ）において、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基または－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基または－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることがより好ましく、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることが更に好ましい。Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、または、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基はさらに置換基を有していてもよい。式（ＰＰ）における２個のＲ４同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（ＰＰ）で表される化合物の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。また、ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。
　スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。
　また、近赤外線吸収色素としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　組成物の全固形分中における近赤外線吸収色素の含有量は１～２０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、１７質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。
　また、組成物の全固形分中における上述した有機化合物Ａと近赤外線吸収色素との合計の含有量は７０質量％以上であることが好ましく、７５質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましい。上限は１００質量％以下とすることができ、９８質量％以下とすることもできる。
　組成物は、上述した有機化合物Ａの１００質量部に対して近赤外線吸収色素を１～３０質量部含有することが好ましい。下限は、２質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましい。上限は、２５質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。この態様によれば、高い近赤外線吸収性能と高屈折率との両立を図ることができる。
　本発明の組成物において、近赤外線吸収色素は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の組成物は、溶剤を含有する。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。溶剤は、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　本発明において、有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　組成物中における溶剤の含有量は、７０～９０質量％であることが好ましい。下限は７３質量％以上であることが好ましく、７５質量％以上であることがより好ましい。上限は、８７質量％以下であることが好ましく、８５質量％以下であることがより好ましい。
＜＜他の重合性化合物＞＞
　本発明の組成物は、上述した有機化合物Ａ以外の重合性化合物（以下、他の重合性化合物ともいう）を含有することができる。他の重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物などが挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、モノマーが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～１５個含む化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～６個含む化合物であることが更に好ましい。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることもできる。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。市販品としては、アロニックスＭ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）であることが好ましい。エポキシ化合物としては、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ化合物はエポキシ基を１分子内に１～１００個有する化合が好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載された化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載された化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。
　エポキシ化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
　組成物の全固形分中における他の重合性化合物の含有量は３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。
　また、本発明の組成物は他の重合性化合物を実質的に含有しないことも好ましい。この態様によれば、より屈折率の高い膜を形成することができる。なお、本発明の組成物が他の重合性化合物を実質的に含有しない場合とは、他の重合性化合物の含有量が組成物の全固形分中０．１質量％以下であることを意味し、０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。
＜＜他の樹脂＞＞
　本発明の組成物は上述した有機化合物Ａ以外の樹脂（以下、他の樹脂ともいう）を含有することができる。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に粒子等を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。
　他の樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、３０００以上が好ましく、４０００以上がより好ましく、５０００以上が更に好ましい。
　他の樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。
　他の樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂や、分散剤として用いることもできる。
　他の樹脂が酸基を有する場合、他の樹脂の酸基の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　他の樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の詳細については、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　他の樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を有していてもよい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基を有する樹脂の市販品としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（カルボキシル基含有ポリウレタンアクリレートオリゴマー、Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業（株）製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、アクリキュアーＲＤ－Ｆ８（（株）日本触媒製）、ＤＰ－１３０５（富士フイルムファインケミカルズ（株）製）などが挙げられる。
　他の樹脂は、分散剤としての樹脂であることも好ましい。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例としては、下記の樹脂が挙げられる。また、グラフト共重合体としては特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００７２～００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　また、分散剤には、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系樹脂を用いることも好ましい。オリゴイミン系樹脂としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する構造単位と、原子数４０～１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂であることが好ましい。オリゴイミン系樹脂については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系樹脂としては、下記構造の樹脂や、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１６８～０１７４に記載の樹脂を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋシリーズ（例えば、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、２００１など）、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパースシリーズ（例えば、ソルスパース２００００、７６５００など）、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　組成物の全固形分中における他の樹脂の含有量は３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。
　また、本発明の組成物は他の樹脂を実質的に含有しないことも好ましい。この態様によれば、より屈折率の高い膜を形成することができる。なお、本発明の組成物が他の樹脂を実質的に含有しない場合とは、他の樹脂の含有量が組成物の全固形分中０．１質量％以下であることを意味し、０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の組成物は、顔料誘導体を含有することができる。顔料タイプの近赤外線吸収色素を用いた場合は、組成物は顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体を構成する色素骨格としては、キノリン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、イニミウム色素骨格、スクアリリウム色素骨格、クロコニウム色素骨格、オキソノール色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、アゾ色素骨格、アゾメチン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、アントラキノン色素骨格、キナクリドン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリノン色素骨格、ペリレン色素骨格、チオインジゴ色素骨格、イソインドリン色素骨格、イソインドリノン色素骨格、キノフタロン色素骨格、イミニウム色素骨格、ジチオール色素骨格、トリアリールメタン色素骨格、ピロメテン色素骨格等が挙げられる。酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基及びこれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　顔料誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４、国際公開第２０１７／０３８２５２号の段落番号００８２、国際公開第２０１７／１４６０９２号の段落番号００５２、特開２０１５－１５１５３０号公報の段落番号０１７１、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３、特開２００３－０８１９７２号公報、特許第５２９９１５１号公報、特開２０１５－１７２７３２号公報、特開２０１４－１９９３０８号公報、特開２０１４－０８５５６２号公報、特開２０１４－０３５３５１号公報、特開２００８－０８１５６５号公報に記載の化合物が挙げられる。
　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対して１～３０質量部が好ましく、３～２０質量部が更に好ましい。顔料誘導体は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合はそれらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の組成物は光重合開始剤を含有していてもよい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
　組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は０．１～３０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。本発明の組成物において、光重合開始剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜白色または無色の顔料（白色系顔料）＞＞
　本発明の組成物は白色または無色の顔料（以下、白色系顔料ともいう）を含有することができる。白色系顔料としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳから選択される少なくとも一種の元素を含む酸化物の粒子が挙げられ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、ＡｌおよびＳｉから選択される少なくとも一種の元素を含む酸化物の粒子であることが好ましい。酸化物としては、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが好ましく、酸化チタンがより好ましい。また、酸化チタンとしては、ルチル型酸化チタン、アナターゼ型酸化チタン、アモルファス型酸化チタンが挙げられ、ルチル型酸化チタンが好ましい。また、上記の酸化物は、表面処理剤で表面処理されていることも好ましい。表面処理剤としては、無機化合物、有機化合物が挙げられる。無機化合物と有機化合物とを併用してもよい。表面処理剤の具体例としては、ポリオール、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、非晶質シリカ、含水シリカ、アルカノールアミン、ステアリン酸、オルガノシロキサン、酸化ジルコニウム、ハイドロゲンジメチコン、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。
　白色系顔料の形状には特に制限はない。例えば、等方性形状（例えば、球状、多面体状等）、異方性形状（例えば、針状、棒状、板状等）、不定形状等の形状が挙げられる。
　白色系顔料の１次粒子の重量平均粒径は、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値は特にないが、１ｎｍ以上であることが好ましい。なお、白色系顔料の重量平均粒径については、特に断らない限り、白色系顔料を含む混合液または分散液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで８０倍に希釈し、得られた希釈液について動的光散乱法を用いて測定することにより得られる。この場合の測定値は、日機装株式会社製マイクロトラック（商品名）ＵＰＡ－ＥＸ１５０を用いて行って得られた重量平均粒径のことである。
　白色系顔料の比表面積としては、１０～４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０～２００ｍ２／ｇであることがより好ましく、３０～１５０ｍ２／ｇであることがさらに好ましい。
　白色系顔料の屈折率は、１．６～３．０であることが好ましい。下限は１．７以上であることが好ましく、１．８以上であることがより好ましい。上限は、２．９以下であることが好ましく、２．８以下であることがより好ましい。なお、白色系顔料の屈折率の測定方法は、日本工業規格（ＪＩＳ　Ｋ　００６２：１９９２）に準ずる。
　白色系顔料は市販品を用いてもよい。例えば、酸化チタンとしては、ＴＴＯシリーズ（ＴＴＯ－５１（Ａ）、ＴＴＯ－５１（Ｃ）、ＴＴＯ－５５（Ｃ）など）、ＴＴＯ－Ｓ、Ｖシリーズ（ＴＴＯ－Ｓ－１、ＴＴＯ－Ｓ－２、ＴＴＯ－Ｖ－３など）（以上、商品名、石原産業（株）製）、ＭＴシリーズ（ＭＴ－０１、ＭＴ－０５など）（テイカ（株）製、商品名）などが挙げられる。
＜＜硬化促進剤＞＞
　本発明の組成物は、硬化促進剤を含有することができる。硬化促進剤としては、チオール化合物、メチロール化合物、アミン化合物（脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミンなど）、ホスホニウム塩化合物、アミジン塩化合物、アミド化合物、塩基発生剤、イソシアネート化合物、アルコキシシラン化合物、オニウム塩化合物、リン化合物などが挙げられる。硬化促進剤の具体例としては、国際公開第２０１８／０５６１８９号の段落番号００９４～００９７に記載の化合物、特開２０１５－０３４９６３号公報の段落番号０２４６～０２５３に記載の化合物、特開２０１３－０４１１６５号公報の段落番号０１８６～０２５１に記載の化合物、特開２０１４－０５５１１４号公報に記載のイオン性化合物、特開２０１２－１５０１８０号公報の段落番号００７１～００８０に記載の化合物、特開２０１１－２５３０５４号公報に記載のエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、特許第５７６５０５９号公報の段落番号００８５～００９２に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載のカルボキシル基含有エポキシ硬化剤などが挙げられる。
　組成物の全固形分中における硬化促進剤の含有量は０．３～８．９質量％が好ましく、０．８～６．４質量％がより好ましい。本発明の組成物において、硬化促進剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。シランカップリング剤としては、一分子中に少なくとも２種の反応性の異なる官能基を有するシラン化合物が好ましい。シランカップリング剤は、ビニル基、エポキシ基、スチレン基、メタクリル基、アミノ基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、および、イソシアネート基から選ばれる少なくとも１種の基と、アルコキシ基とを有するシラン化合物が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ－６０２）、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ－６０３）、３－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ－９０３）、３－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＥ－９０３）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ－５０３）、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ－４０３）等が挙げられる。シランカップリング剤の詳細については、特開２０１３－２５４０４７号公報の段落番号０１５５～０１５８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．００１～２０質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．１質量％～５質量％が特に好ましい。本発明の組成物は、シランカップリング剤を、１種のみを含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）等が挙げられる。
　組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％が好ましい。本発明の組成物は、重合禁止剤を１種のみを含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などが挙げられる。このような化合物としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９に記載された化合物を用いることもできる。
　組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．１～３質量％が特に好ましい。本発明の組成物は、紫外線吸収剤を１種のみを含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物を使用することもできる。
　組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。本発明の組成物は、酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明において、界面活性剤はフッ素系界面活性剤であることが好ましい。組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　シリコン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他添加剤＞＞
　本発明の組成物には、必要に応じて、各種添加剤、例えば、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤等を配合することができる。これらの添加剤としては、特開２００４－２９５１１６号公報の段落番号０１５５～０１５６に記載の添加剤を挙げることができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　また、本発明の組成物は、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の具体例としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。また、本発明の組成物は、特開２００４－２９５１１６号公報の段落番号００７８に記載の増感剤や光安定剤、同公報の段落番号００８１に記載の熱重合防止剤を含有することができる。
＜収容容器＞
　本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
＜組成物の製造方法＞
　本発明の組成物は、前述の成分を混合して製造できる。組成物の製造に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解および／または分散して組成物を製造してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜２つ以上の溶液または分散液としておいて、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物を製造してもよい。
　また、組成物の製造に際して、顔料などの粒子を分散させるプロセスを含んでいてもよい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子、ビーズ、ビーズの摩耗で混入した不純物、分散機の摩耗で混入した不純物などを除去することが好ましい。ビーズや分散機から混入する不純物は全組成物に対し２０００ｐｐｍ以下とすることが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　組成物の製造にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　本発明の膜は、上述した本発明の組成物を用いて得られたものである。本発明の膜は、マイクロレンズなどに好ましく用いることができる。
＜マイクロレンズ＞
　本発明のマイクロレンズは、上述した本発明の膜を有する。
　本発明のマイクロレンズの波長６３３ｎｍの光に対する屈折率は１．５８以上であることが好ましく、１．６０以上であることがより好ましく、１．６２以上であることが更に好ましい。また、本発明のマイクロレンズの波長４００～６００ｎｍの光に対する平均屈折率は１．６０以上であることが好ましく、１．６２以上であることがより好ましく、１．６４以上であることが更に好ましい。上限は、特に限定されないが、１．７５以下とすることができる。
　本発明のマイクロレンズについては、波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。本発明のマイクロレンズについては、波長４００～６００ｎｍの光の平均透過率が９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましく、９６％以上であることが更に好ましい。
　本発明のマイクロレンズについては、波長８００～８７０ｎｍの光の平均透過率が８０％以下であることが好ましく、７５％以下であることがより好ましく、７０％以下であることが更に好ましい。また、本発明のマイクロレンズについては、波長８００～８７０ｎｍの光の透過率の最小値は７０％以下であることが好ましく、６５％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましい。また、本発明のマイクロレンズについては、波長８００～８７０ｎｍの光の透過率の最大値は８５％以下であることが好ましく、８２％以下であることがより好ましく、８０％以下であることが更に好ましい。
　マイクロレンズのレンズ形状としては、特に限定されず、光学系設計により導出された様々な形状を取ることができる。例えば、凸形状、凹形状などが挙げられる。また、レンズの曲率半径は、特に限定されず、所望の効果を奏する範囲内で適宜設定することが好ましい。
　マイクロレンズの厚みは、０．１～１．０μｍであることが好ましい。上限は、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．８μｍ以下であることがより好ましい。下限は、０．１５μｍ以上であることが好ましく、０．２μｍ以上であることがより好ましい。ここでマイクロレンズの厚みとは、マイクロレンズの最も厚い部分の厚みのことを意味する。例えば両面凸レンズの場合、一方の凸面の頂点から他方の凸面の頂点までの距離のことである。
＜マイクロレンズの製造方法＞
　次に、マイクロレンズの製造方法について説明する。マイクロレンズの製造方法は、支持体上に上述した本発明の組成物を塗布して組成物層を形成する工程と、組成物層をレンズ形状に加工する工程とを含むことが好ましい。以下、各工程について説明する。
　（組成物層を形成する工程）
　組成物層を形成する工程では、本発明の組成物を用いて、支持体上に組成物層を形成する。支持体としては、ガラス基板、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、芳香族ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板等が挙げられる。これらの基板上には有機発光層が形成されていてもよい。また、有機発光層上には更にカラーフィルタが形成されていてもよい。また、基板やカラーフィルタには、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
　組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、組成物の塗布方法については、国際公開第２０１７／０３０１７４号、国際公開第２０１７／０１８４１９号の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　支持体上に形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１００℃以下が好ましく、９０℃以下がより好ましく、８０℃以下が更に好ましく、７０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、４０℃以上とすることができる。プリベーク時間は、１０～３６００秒が好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
（レンズ形状に加工する工程）
　組成物層をレンズ形状に加工する方法としては、従来公知の加工方法を用いることができる。例えば、転写法、インプリント法、熱だれ法などを用いて製造できる。なかでも、レンズ形状の制御が行いやすいという理由から転写法が好ましい。
　転写法では、支持体上に形成した組成物層を硬化処理して硬化物層を形成し、この硬化物層上にレジスト層を形成し、このレジスト層をレンズ形状にパターン形成し、このパターン形成されたレジスト層をマスクとして硬化物層をドライエッチングして、レンズ形状を硬化物層に転写して製造することができる。また、転写法を用いたレンズの製造方法については、特開２００６－０７３６０５号公報、特開２００６－１９０９０３号公報、特開２００８－２８１４１４号公報、特開２０１４－０２９５２４号公報などに記載された方法を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　インプリント法では、支持体上に形成した組成物層上にパターンを有するモールドを押し当てて組成物層をモールドと支持体とで挟持し、このように挟持した状態で組成物層を露光して硬化させ、その後、支持体からモールドを剥離して製造することができる。
　熱だれ法では、支持体上に形成した組成物層を硬化処理して硬化物層を形成し、この硬化物層を加熱し、硬化物層の表面を熱だれさせることにより、硬化物層をレンズ形状に加工することができる。
　レンズ形状に加工する工程では、組成物層を露光する工程を含んでいてもよい。露光は組成物層の硬化処理として用いられる。露光は、組成物層に対して放射線を照射して行うことが好ましい。放射線としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明のマイクロレンズを有する。固体撮像素子の構成としては、本発明のマイクロレンズを備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
　基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上にカラーフィルタし、カラーフィルタ上にマイクロレンズを有する構成が挙げられる。カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各着色画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報、国際公開第２０１８／０４３６５４号、米国特許出願公開第２０１８／００４０６５６号明細書に記載の装置が挙げられる。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。
＜表示装置＞
　本発明の表示装置は、上述した本発明のマイクロレンズを有する。表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
　有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、白色有機エレクトロルミネッセンス素子からなる光源を有するものであってもよい。白色有機エレクトロルミネッセンス素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機エレクトロルミネッセンス素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６－３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ－４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ－５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ－６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ－７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
　以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、以下に示す構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
＜分散液の調製＞
　下記の表に記載の原料を混合し、更に直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
　上記表に記載の原料は以下の通りである。
　（近赤外線吸収色素）
　Ｐ－１～Ｐ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 　Ｐ－５：国際公開第２０１８／０４３１８５号に記載の近赤外線吸収化合物Ａ－４３（クロコニウム化合物）
　Ｐ－６：特開２０１５－１７２００４号公報に記載のシアニン化合物ｅ
　Ｐ－１～Ｐ－６は、波長８００～９００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物である。
　（顔料誘導体）
　Ｓｙ－１～Ｓｙ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
（分散剤）
　Ｄ－１：下記構造の樹脂。主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２０，０００。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 　Ｄ－２：下記構造の樹脂。主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２４，０００。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 　Ｄ－３：下記構造の樹脂。主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。ｒ／ｓ／ｔ／ｕ＝１５／５９／７／１９、Ｍｗ＝１８３００。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
＜組成物の調製＞
　下記の表に記載の原料を混合して、実施例および比較例の組成物を調製した。下記の表に記載の数値は質量部である。
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
　上記表に記載の原料は以下の通りである。
（分散液）
　分散液１～１２：上述した分散液１～１２
（近赤外線吸収色素）
　Ｄｙｅ－１：下記構造の化合物（ｉ－Ｃ８Ｈ１７とｉ－Ｃ１０Ｈ２１の部分は、炭素数と分岐位置違いの異性体混合物である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
（重合性化合物）
　Ｍ－１：下記構造の化合物（波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｍ－２：下記構造の化合物（波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｍ－３：下記構造の化合物（波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上１．６３未満）
　Ｍ－４：オグソールＰＧ－１００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン構造を有するエポキシ化合物。波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｍ－５：オグソールＥＧ－２００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン構造を有するエポキシ化合物。波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上１．６３未満）
　Ｍ－６：ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製、エポキシ化合物。波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８未満）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
（樹脂）
　Ｂ－１：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝５０００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上１．６３未満）
　Ｂ－２：特開２０１３－１３９５８８号公報の段落番号０１２２～０１２６の合成例１に記載の方法で製造したフルオレン構造を有する樹脂（Ｍｗ＝４３００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｂ－３：特開２０１７－０３１３１１号公報の段落番号００８５～００８６の実施例１に記載の方法で製造したフルオレン構造を有する樹脂（Ｍｗ＝２８８００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｂ－４：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝１００００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｂ－５：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝８０００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｂ－６：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝１３０００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｂ－７：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１００００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８未満）
　Ｂ－８：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝３１００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｂ－９：下記構造の樹脂（鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝２００００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上）
　Ｂ－１０：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝４００００、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上、１．６３未満）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
（添加剤）
　Ａ－１：アデカスタブ　ＡＯ－８０（（株）ＡＤＥＫＡ製）
　Ａ－２：２－エチル－４－メチルイミダゾール
　Ａ－３：トリフェニルホスフィン
　Ａ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 　Ａ－５：トリス（４－メチルフェニル）ホスフィン
（界面活性剤）
　Ｓｕ－１：下記構造の化合物（Ｍｗ＝１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である、フッ素系界面活性剤）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
（重合禁止剤）
　Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
　Ｓ－３：シクロヘキサノン
＜屈折率、透過率の測定＞
　各組成物をポストベーク後の膜厚が０．３５μｍとなるようにスピンコーター（ミカサ（株）製）を用いて石英ガラス基板上に塗布して塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間の加熱（プリベーク）を行った後、再度ホットプレートを用いて２００℃、３００秒間の加熱（ポストベーク）を行い、厚さ０．３５μｍの膜を得た。得られた膜について、エリプソメトリー　ＶＵＶ－ＶＡＳＥ（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製）を用いて波長６３３ｎｍの光に対する屈折率（屈折率１）を測定した。また、得られた膜について、波長４００～１１００ｎｍの光の透過率をマルチチャンネル分光器　ＭＣＰＤ－９８００（大塚電子社製）を用いて測定し、波長４００～６００ｎｍの光に対する透過率の最小値、波長８００～８７０ｎｍの光に対する平均透過率をそれぞれ測定した。屈折率測定の際は、ガラス裏面からの反射がないように裏面を研磨し、すりガラス状に加工し測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
　実施例１～２５において、いずれも波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値は８５％以上であった。また、実施例１～２５において、いずれも波長８００～８７０ｎｍの光の平均透過率は８０％以下であった。
　＜マイクロレンズの製造＞
　８インチ（２０．３２ｃｍ）のシリコンウエハ上に、緑色画素形成用着色組成物を製膜後の膜厚が０．５μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用い、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量にて、０．８μｍ四方のＢａｙｅｒパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用い、２００℃で５分間加熱することで、シリコンウエハ上に緑色画素（パターンサイズ０．８μｍ、厚さ０．５μｍ）を形成した。次いで、赤色画素形成用着色組成物、青色画素形成用着色組成物を順次パターニングし、緑色画素の抜け部に、赤色画素（パターンサイズ０．８μｍ、厚さ０．５μｍ）、青色画素（パターンサイズ０．８μｍ、厚さ０．５μｍ）をそれぞれ形成してカラーフィルタを形成した。
　次に、カラーフィルタ上に、実施例１～２５および比較例１の組成物をスピンコート法で塗布し、次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱し、次いで、ホットプレートを用いて２００℃で５分間加熱して膜厚１．２μｍのレンズ材組成物層を形成した。
　その後、公知の技術であるエッチバックによる転写方法を用いて、レンズトップからレンズボトムまでの高さが４００ｎｍになるようにレンズ材組成物層を加工することにより、マイクロレンズを製造した。
　実施例１～２５の組成物を用いて製造したマイクロレンズは、可視領域の光の透過率及び屈折率が高く、更には、近赤外線遮蔽性にも優れていた。このため、実施例の組成物を用いてマイクロレンズを製造した固体撮像素子は、カラーフィルタの各画素への可視光の集光性能を高めつつ、カラーフィルタの各画素への近赤外線の入射も抑制することができた。このため、鮮明な画像を検出することができ、画像認識精度に優れていた。また、実施例１から界面活性剤を除いた場合も同様の結果が得られる。実施例１から重合禁止剤を除いた場合も同様の結果が得られる。また、近赤外線吸収色素として、Ｐ－５のかわりに、以下のＰ－７、Ｐ－８、Ｐ－９またはＰ－１０に置き換えても同様の結果が得られる。
Ｐ－７～Ｐ－１０は、波長８００～９００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物である。
　Ｐ－７：特開２０１２－２２４５９３号公報に記載の化合物Ｎｏ．１
　Ｐ－８：国際公開第２０１８／０４３１８５号に記載の近赤外線吸収化合物Ａ－４４（クロコニウム化合物）
　Ｐ－９：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 　Ｐ－１０：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
　一方、比較例１の組成物を用いて製造したマイクロレンズは、可視領域の光の屈折率が低いため、カラーフィルタの各画素への可視光の集光性能は実施例よりも劣っていた。このため、比較例の組成物を用いてマイクロレンズを製造した固体撮像素子は、実施例よりも画像認識精度が劣っていた。
（緑色画素形成用着色組成物）
　下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、緑色画素形成用着色組成物を調製した。
　緑色顔料分散液　　・・・８８．７４質量部
　樹脂１　　・・・０．４０質量部
　重合性化合物１　　・・・１．６２質量部
　光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ製）　　・・・１．０９質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）・・・０．０００８質量部
　界面活性剤１　　・・・４．１７質量部
　紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）　　・・・０．３質量部
　ＰＧＭＥＡ　　・・・３．６８質量部
（赤色画素形成用着色組成物）
　下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、赤色画素形成用着色組成物を調製した。
　赤色顔料分散液　　・・５１．７質量部
　樹脂１　　・・・０．６質量部
　重合性化合物４　　・・・０．６質量部
　光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ製）　　・・・０．４質量部
　界面活性剤１　　・・・４．２質量部
　紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）　　・・・０．３質量部
　ＰＧＭＥＡ　　・・・４２．６質量部
（青色画素形成用着色組成物）
　下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、青色画素形成用着色組成物を調製した。
　青色顔料分散液　　・・・４４．９質量部
　樹脂１　　・・・２．１質量部
　重合性化合物１　　・・・１．５質量部
　重合性化合物４　　・・・０．７質量部
　光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ製）　　・・・０．８質量部
　界面活性剤１　　・・・４．２質量部
　紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）　　・・・０．３質量部
　ＰＧＭＥＡ　　・・・４５．８質量部
　緑色画素形成用着色組成物、赤色画素形成用着色組成物、青色画素形成用着色組成物の調製に使用した原料は以下の通りである。
　・緑色顔料分散液
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　３６の８．１５質量部と、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１５０の３．３３質量部と、以下に示す分散剤１の０．９７質量部と、以下に示す分散剤２の２．５０質量部と、ＰＧＭＥＡの６６．０１質量部と、ＰＧＭＥの１．０９質量部と、シクロヘキサノンの５．０９質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、緑色顔料分散液を得た。
　分散剤１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝４４ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　分散剤２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２０，０００、酸価＝３６ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　・赤色顔料分散液
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４の９．６質量部と、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９の４．３質量部と、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）の６．８質量部と、ＰＧＭＥＡの７９．３質量部とからなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、赤色顔料分散液を得た。
　・青色顔料分散液
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６の９．７質量部と、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３の２．４質量部と、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）の５．５質量部と、ＰＧＭＥＡの８２．４質量部とからなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、青色顔料分散液を得た。
　・重合性化合物１：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
　・重合性化合物４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　・樹脂１：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度＝４６℃）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　・界面活性剤１：下記混合物（Ｍｗ＝１４０００）の１質量％ＰＧＭＥＡ溶液。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042

Claims (14)

  1. 　波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上の有機化合物Ａと、
    　近赤外線吸収色素と、
    　溶剤と、を含む組成物であり、
    　前記有機化合物Ａは、重合性化合物および樹脂から選ばれる少なくとも１種であり、
    　前記組成物を用いて厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前記膜の波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．５８以上であり、前記膜の波長４００～６００ｎｍの光の透過率の最小値が８５％以上である、組成物。
  2. 　前記組成物を用いて厚さ０．３５μｍの膜を形成した際に、前記膜の波長８００～８７０ｎｍの光の平均透過率が８０％以下である、請求項１に記載の組成物。
  3. 　前記有機化合物Ａは、フルオレン構造、トリアジン構造およびカルバゾール構造から選ばれる少なくとも１種の構造を有する化合物である、請求項１または２に記載の組成物。
  4. 　前記有機化合物Ａを２種以上含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 　前記組成物に含まれる有機化合物Ａの全量中における、波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６３以上の有機化合物の含有量が５～１００質量％である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 　前記組成物の全固形分中における前記有機化合物Ａの含有量が５０質量％以上である、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 　前記組成物の全固形分中における前記近赤外線吸収色素の含有量が１～２０質量％である、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. 　前記近赤外線吸収色素は、波長７５０～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物である、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 　前記近赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、およびポリメチン化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物。
  10. 　マイクロレンズ用である、請求項１～９のいずれか１項に記載の組成物。
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の組成物を用いて得られる膜。
  12. 　請求項１１に記載の膜を有するマイクロレンズ。
  13. 　請求項１２に記載のマイクロレンズを有する固体撮像素子。
  14. 　請求項１２に記載のマイクロレンズを有する表示装置。
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