JP2019172846A - 重合体及びそれを含む樹脂組成物 - Google Patents
重合体及びそれを含む樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019172846A JP2019172846A JP2018063303A JP2018063303A JP2019172846A JP 2019172846 A JP2019172846 A JP 2019172846A JP 2018063303 A JP2018063303 A JP 2018063303A JP 2018063303 A JP2018063303 A JP 2018063303A JP 2019172846 A JP2019172846 A JP 2019172846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polymer
- formula
- resin composition
- bis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Description
また、本発明の重合体は、優れた紫外線吸収性、可視光透明性、耐熱性及び耐光性を有する塗膜を形成できる樹脂組成物に使用される重合体として有用である。
該重合体を含む樹脂組成物から形成される塗膜は、優れた透明性、耐熱性及び耐光性を有する紫外線吸収膜、保護膜、平坦化膜、絶縁膜、反射防止膜、屈折率制御膜、マイクロレンズ、層内レンズ、光導波路、フィルム基材等の光学部材として好適である。
前記式(5a)又は式(5b)で表されるジエポキシ化合物としては、例えば、
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAPジグリシジルエーテル、ビスフェノールAFジグリシジルエーテル、ビスフェノールBPジグリシジルエーテル、ビスフェノールCジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールMジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ビスフェノールPジグリシジルエーテル、ビスフェノールPHジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物、並びにこれらの水素化物及び臭素化物、
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−へキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、炭素原子数が2乃至9(好ましくは2乃至4)のアルキレン基を含むポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル、
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、ジシクロペンタジエンジエポキシド、1,2:8,9−ジエポキシリモネン、(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル、ビシクロノナジエンジエポキシド等の脂環式エポキシ化合物、
フタル酸ジグリシジル、イソフタル酸ジグリシジル、テレフタル酸ジグリシジル、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸ジグリシジル、ジグリシジル−p−オキシ安息香酸、フマル酸ジグリシジル、マレイン酸ジグリシジル等のグリシジルエステル型エポキシ化合物及びこれらの水素化物、
モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、モノメチルジグリシジルイソシアヌレート、モノエチルジグリシジルイソシアヌレート、モノプロピルジグリシジルイソシアヌレート、モノブチルジグリシジルイソシアヌレート、フェニルジグリシジルイソシアヌレート、2−クロロフェニルジグリシジルイソシアヌレート、ベンジルジグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジグリシジルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5,5−ジエチルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5−エチル−5−フェニルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5−アリル−5−イソプロピルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5−アリル−5−イソブチルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5−エチル−5−イソアミルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5−β−ブロモアリル−sec−ブチルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5−イソプロピル−5−β−ブロモアリルバルビツール酸、1,3−ジグリシジル−5−エチル−5−ノルマルブチルバルビツール酸、1,3−ジグリシジルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−メチルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−エチルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−フェニルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−ベンジルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5,5−ジエチルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5,5−ジフェニルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−エチル−5−メチルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−エチル−5−フェニルヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−ヒドロキシメチル−ヒダントイン、1,3−ジグリシジル−5−(2−シアノエチル)ヒダントイン、ジ(4,5−エポキシペンチル)ヒダントイン等の含窒素複素環を有するエポキシ化合物、
9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジフェニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)−3−フェニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)−3−フェニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)−3,5−ジフェニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)−3,5−ジフェニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス{4−[2−(2−グリシジルオキシエトキシ)エトキシ]フェニル}フルオレン、9,9−ビス(5−グリシジルオキシ−1−ナフチル)フルオレン、9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン、9,9−ビス[6−(2−グリシジルオキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[6−(2−グリシジルオキシプロポキシ)−2−ナフチル]フルオレン等のビスアリールフルオレン骨格を有するエポキシ化合物が挙げられる。
なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
前記式(6a)又は式(6b)で表されるベンゾフェノン誘導体としては、例えば、少なくとも2位又は2’位にヒドロキシ基が置換されたトリヒドロキシベンゾフェノン、少なくとも2位又は2’位にヒドロキシ基が置換されたテトラヒドロキシベンゾフェノン、少なくとも2位又は2’位にヒドロキシ基が置換されたペンタヒドロキシベンゾフェノン、少なくとも2位又は2’位にヒドロキシ基が置換されたヘキサヒドロキシベンゾフェノン、少なくとも2位又は2’位にヒドロキシ基が置換されたヘプタヒドロキシベンゾフェノン、少なくとも2位又は2’位にヒドロキシ基が置換されたオクタヒドロキシベンゾフェノン、少なくとも2位又は2’位にヒドロキシ基が置換されたノナヒドロキシベンゾフェノン、デカヒドロキシベンゾフェノンが挙げられる。入手性の観点から、下記式(6−1)乃至式(6−5)で表される化合物が好ましい。なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
また、本発明においては、重合体の相溶性や溶解性、光学特性を調整することを目的として、前記ジエポキシ化合物との重付加反応の相手として、前記ベンゾフェノン誘導体に加えてさらに他の化合物(以下、本明細書では化合物Xと略称する。)を用いてもよい。化合物Xとしては、本発明の効果を損なわない限り特に制限は無く、例えば、
レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシアリール化合物、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、5,5’−(1−メチルエチリデン)−ビス[1,1’−(ビスフェニル)−2−オール]プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)イソブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)ブタン、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタン、ビス(5−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタン、ビス(6−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,4,4−トリメチルシクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロドデカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン、1,4−ビス(2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル)ベンゼン、1,3−ビス(2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル)ベンゼン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、1,4−ビス(2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル)ベンゼン、1,3−ビス(2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル)ベンゼン、4,4’−ビフェノール、1,1’−ビ−2−ナフトール、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジフェニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(5−ヒドロキシ−1−ナフチル)フルオレン、9,9−ビス(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)フルオレン、4−ヒドロキシ安息香酸−4−ヒドロキシフェニル等のビス(ヒドロキシアリール)化合物、
フタル酸、イソフタル酸、5−ヒドロキシイソフタル酸、テレフタル酸、1,2,3,6‐テトラヒドロフタル酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、酒石酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ジグリコール酸、アセトンジカルボン酸、2,2’−チオジグリコール酸、3,3’−ジチオジプロピオン酸等のジカルボン酸化合物、
モノアリルイソシアヌル酸、モノメチルイソシアヌル酸、モノエチルイソシアヌル酸、モノプロピルイソシアヌル酸、モノブチルイソシアヌル酸、フェニルイソシアヌル酸、2−クロロフェニルイソシアヌル酸、ベンジルイソシアヌル酸、バルビツール酸、5,5−ジメチルバルビツール酸、5,5−ジエチルバルビツール酸、5−エチル−5−フェニルバルビツール酸、5−アリル−5−イソプロピルバルビツール酸、5−アリル−5−イソブチルバルビツール酸、5−エチル−5−イソアミルバルビツール酸、5−β−ブロモアリル−sec−ブチルバルビツール酸、5−イソプロピル−5−β−ブロモアリルバルビツール酸、5−エチル−5−ノルマルブチルバルビツール酸、ヒダントイン、5−メチルヒダントイン、5−エチルヒダントイン、5−フェニルヒダントイン、5−ベンジルヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、5,5−ジエチルヒダントイン、5,5−ジフェニルヒダントイン、5−エチル−5−メチルヒダントイン、5−エチル−5−フェニルヒダントイン、5−(ヒドロキシメチル)ヒダントイン、5−(2−シアノエチル)ヒダントイン等の含窒素複素環式化合物が挙げられるが、これらの例に限定されるわけではない。なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−ノニルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン等のホスフィン類、
テトラフェニルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、エチルトリフェニルホスホニウムクロリド、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ(4−メチルフェニル)ボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ(4−メトキシフェニル)ボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ(4−フルオロフェニル)ボレート等の四級ホスホニウム塩類、
トラエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリプロピルアンモニウムクロリド、ベンジルトリプロピルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムクロリド、テトラプロピルアンモニウムブロミド等の四級アンモニウム塩類を触媒として用いることも可能である。
本発明の樹脂組成物に含まれる溶剤としては、該樹脂組成物に含まれる重合体を溶解するものであれば特に限定されない。そのような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、2−ヘプタノン、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、及びN−エチルピロリドンを挙げることができる。これらの溶剤は、単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
また、本発明の樹脂組成物は、塗布性を向上させる目的で、界面活性剤を含有することもできる。該界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ〔登録商標〕EF301、同EF303、同EF352(以上、三菱マテリアル電子化成(株)製)、メガファック〔登録商標〕F171、同F173、同R−30、同R−40、同R−40−LM(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431(以上、住友スリーエム(株)製)、アサヒガード〔登録商標〕AG710、サーフロン〔登録商標〕S−382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106(旭硝子(株)製)、DFX−18、FTX−206D、FTX−212D、FTX−218、FTX−220D、FTX−230D、FTX−240D、FTX−212P、FTX−220P、FTX−228P、FTX−240G等フタージェントシリーズ((株)ネオス製)等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)を挙げることができる。これらの界面活性剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、本発明の樹脂組成物から形成される塗膜に耐薬品性を向上させる目的で、硬化剤を含有することもできる。
アロニックス〔登録商標〕M−208、同M−210、同M−211B、同M−215、同M−220、同M−225、同M−233、同M−240、同M−245、同M−260、同M−270、同M−303、同M−305、同M−306、同M−309、同M−310、同M−313、同M−315、同M−321、同M−350、同M−360、同M−400、同M−402、同M−403、同M−404、同M−405、同M−406、同M−408、同M−450、同M−452、同M−460、同M−510、同M−520、同M−1100、同M−1200、同M−1210、同M−1310、同M−1600、同M−1960、同M−6100、同M−6200、同M−6250、同M−6500、同M−7100、同M−7300K、同M−8030、同M−8060、同M−8100、同M−8530、同M−8560、同M−9050(以上、東亜合成(株)製)、
KAYARAD〔登録商標〕NPGDA、同PEG400DA、同FM−400、同R−167、同HX−220、同HX−620、同R−526、同R−551、同R−712、同R−604、同R−684、同GPO−303、同TMPTA、同HDDA、同TPGDA、同KS−HDDA、同KS−TPGDA、同MANDA、同THE−330、同TPA−320、同TPA−330、同PET−30、同T−1420、同T−1420(T)、同RP−1040、同DPHA、同DPEA−12、同D−310、同D−330、同DPCA−20、同DPCA−30、同DPCA−60、同DPCA−120、同FM−700、同DN−0075、同DN−2475、同TC−120S、同R−115、同R−130、同R−381、同EAM−2160、同CCR−1291H、同CCR−1235、同ZAR−1035、同ZAR−2000、同ZFR−1401H、同ZFA−1491H、同ZCR−1569H、同ZCR−1601H、同ZCR−1797H、同ZCR−1798H、同UXE−3000、同UXE−3024、同UX−3204、同UX−4101、同UXT−6100、同UX−6101、同UX−7101、同UX−8101、同UX−0937、同UXF−4001−M35、同UXF−4002、同DPHA−40H、同UX−5000、同UX−5102D−M20、同UX−5103D、同UX−5005(以上、日本化薬(株)製)、
NKエステルA−200、同A−400、同A−600、同A−1000、同A−1500、同A−2000、同ABE−300、同A−BPE−4、同A−BPE−6、同A−BPE−10、同A−BPE−20、同A−BPE−30、同A−BPEF、同A−BPP−3、同A−DCP、同A−DOD−N、同A−HD−N、同A−NOD、同A−GLY−3E、同A−GLY−9E、同A−GLY−20E、同A−TMPT、同A−TMPT−3EO、同A−TMPT−9EO、同ATM−4E、同ATM−35E、同APG−100、同APG−200、同APG−400、同APG−700、同A−PTMG−65、同A−1000PER、同A−B1206PE、同701A、同A−9300、同A−9300−1CL、同A−9300−6CL、同A−9530、同ADP−51EH、同ATM−31EH、同A−TMM−3、同A−TMM−3L、同A−TMM−3LM−N、同AD−TMP、同A−TMMT、同A−9550、同A−DPH、同A−DPH−12E、同1G、同2G、同3G、同4G、同9G、同14G、同23G、同BPE−80N、同BPE−100、同BPE−100N、同BPE−200、同BPE−500、同BPE−900、同BPE−1300N、同DCP、同DOD−N、同HD−N、同NOD−N、同NPG、同1206PE、同701、同3PG、同9PG、同TMPT、NKエコノマーA−PG5009E、同A−PG5027E、同A−PG5054E、NKオリゴU−2PPA、同U−6LPA、同U−10HA、同U−10PA、同UA−1100H、同U−4H、同U−6H、同U−4HA、同U−6HA、同U−15HA、同UA−32P、同UA−33H、同UA−53H、同U−200PA、同U−324A、同UA−160TM、同UA−290TM、同UA−4200、同UA−4400、同UA−122P、同UA−7100、同UA−W2A(以上、新中村化学工業(株)製)、
ビスコート#195、同#230、同#260、同#310HP、同#335HP、同#700HV、同#540、同#802、同#295、同#300、同#360、同#230D、BAC−45、SPDBA−S30、STAR−501(以上、大阪有機化学工業(株)製)、
ライトエステルP−2M、同EG、同2EG、同3EG、同4EG、同9EG、同14EG、同1.4BG、同NP、同1.6HX、同1.9ND、同G−101P、同G−201P、同BP−2EMK、同TMP、ライトアクリレート〔登録商標〕3EG−A、同4EG−A、同9EG−A、同14EG−A、同PTMGA−250、同NP−A、同MPD−A、同1.6HX−A、同1.9ND−A、同MOD−A、同DCP−A、同BP−4EAL、同BP−4PA、同HPP−A、同G−201P、同TMP−A、同PE−3A、同PE−4A、同DPE−6A、エポキシエステル40EM、同70PA、同200PA、同80MFA、同3002M(N)、同3002A(N)、同3000MK、同3000A、同EX−0205、AH−600、AT−600、UA−306H、UA−306T、UA−306I、UA−510H、UF−8001G、DAUA−167(以上、共栄社化学(株)製)、
アートレジン〔登録商標〕UN−333、同UN−350、同UN−1255、同UN−2600、同UN−2700、同UN−5200、同UN−5500、同UN−5590、同UN−5507、同UN−6060PTM、同UN−6200、同UN−6202、同UN−6300、同UN−6301、同UN−7600、同UN−7700、同UN−9000H、同UN−9000PEP、同UN−9200A、同UN−3320HA、同UN−3200HB、同UN−3320HC、同UN−3320HS、同UN−904、同UN−906S、同UN−901T、同UN−905、UN−906、同UN−952、同HDP−4T、同HMP−2、同H−61、同HDP−M20(以上、根上工業(株)製)、
紫光〔登録商標〕UV−1400B、同UV−1700B、同UV−2000B、同UV−2010B、同UV−2750B、同UV−3000B、同UV−3200B、同UV−3210EA、同UV−3300B、同UV−3310B、同UV−3500BA、同UV−3520TL、同UV−3610D80、同UV−3630D80、同UV−3640PE80、同UV−3700B、同UV−6100B、同UV−6300B、同UV−6640B、同UV−7000、同UV−7000B、同UV−7461TE、同UV−7510B、同UV−7550B、同UV−7600B、同UV−7605B、同UV−7610B、同UV−7620EA、同UV−7630B、同UV−7640B、同UV−7650B、同UV−NS001、同UV−NS034、同UV−NS054、同UV−NS063、同UV−NS077(以上、日本合成化学工業(株)製)、
ビームセット〔登録商標〕243NS、同255、同261、同271、同502H、同504H、同505A−6、同550B、同575、同577、同700、同710、同730、同750、同AQ−17、同EM−90、同EM−92、同371、同381(以上、荒川化学工業(株)製)、
ファンクリル〔登録商標〕FA−124AS、同FA−129AS、同FA−222A、同FA−240A、同FA−P240A、同FA−P270A、同FA−321A、同FA−324A、同FA−PTG9A、同FA−731A、同FA−121M、同FA−124M、同FA−125M、同FA−220M、同FA−240M、同FA−320M、同FA−321M、同FA−3218M、同FA−PTG9M、同FA−137M(以上、日立化成工業(株)製)、
SR212、SR213、SR230、SR238F、SR259、SR268、SR272、SR306H、SR344、SR349、SR508、CD560、CD561、CD564、SR601、SR602、SR610、SR833S、SR9003、CD9043、SR9045、SR9209、SR205、SR206、SR209、SR210、SR214、SR231、SR239、SR248、SR252、SR297、SR348、SR480、CD540、CD541、CD542、SR603、SR644、SR9036、SR351S、SR368、SR415、SR444、SR454、SR492、SR499、CD501、SR502、SR9020、CD9021、SR9035、SR350、SR295、SR355、SR399、SR494、SR9041、SR9041、CN929、CN961E75、CN961H81、CN962、CN963、CN963A80、CN963B80、CN963E75、CN963E80、CN963J85、CN964、CN964E75、CN964A85、CN965、CN965A80、CN966A80、CN966H90、CN966J75、CN966R60、CN968、CN980、CN981、CN981A75、CN981B88、CN982、CN982A75、CN982B88、CN982E75、CN983、CN985B88、CN996、CN9001、CN9002、CN9788、CN9893、CN970A60、CN970E60、CN971、CN971A80、CN972、CN973A80、CN973H85、CN973J75、CN975、CN977C70、CN978、CN9782、CN9783、CN104、CN104A80、CN104B80、CN111、CN112C60、CN115、CN116、CN118、CN120、CN120A60、CN120A75、CN120B60、CN120B80、CN120C60、CN120C80、CN120D80、CN102E50、CN120M50、CN124、CNUVE151、CNUVE151/80、CN151、CN2203、CN2270、CN2271、CN2273、CN2274、CN307、CN371、CN550、CN551、SB401、SB402、SB404、SB500E50、SB500K60、SB510E35、SB520E35、SB520M35(以上、サートマー社製)、
DPGDA、HODA、TPGDA、PEG400DA−D、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、OTA480、DPHA、IRR214−K、IRR679、IRR742、IRR793、(ACA)Z200M、(ACA)Z230AA、(ACA)Z250、(ACA)Z251、(ACA)Z300、(ACA)Z320、(ACA)Z254F、EBECRYL〔登録商標〕145、同150、同11、同135、同40、同140、同1142、同180、同204、同205、同210、同215、同220、同230、同244、同245、同264、同265、同270、同280/151B、同284、同285、同294/25HD、同1259、同1290、同4820、同4858、同5129、同8210、同8254、同8301R、同8307、同8402、同8405、同8411、同8465、同8800、同8804、同8807、同9260、同9270、同8311、同8701、同9227EA、同436、同438、同446、同450、同524、同525、同770、同800、同810、同811、同812、同1830、同846、同851、同852、同853、同1870、同884、同885、同600、同605、同645、同648、同860、同1606、同3500、同3603、同3608、同3700、同3701、同3702、同3703、同3708、同6040、同8110、同271、同1258、同1291、同4100、同4200、同4500、同4680、同4220、同4265、同4491、同4513、同4587、同4666、同4683、同4738、同4740、同4250、同4510、KRM〔登録商標〕8200、同8200AE、同8296、同8452、同8904、同8667、同8912、同8981、同8762、同8713B、同8528(以上、ダイセル・オルネクス(株)製)、
BAEA−100、BAEM−100、BAEM−50、BEEM−50、BFEA−50、HPEA−100、CNEA−100、PNEM−50、RNEA−100、TEA−100、KUA−4I、KUA−6I、KUA−9N、KUA−10H、KUA−15N、KUA−C2I、KUA−PC2I、KUA−PEA2I、KUA−PEB2I、KUA−PEC2I、RP−274S、RP−310(以上、ケーエスエム(株)製)。
タケネート〔登録商標〕B−815N、同B−830、同B−842N、同B−846N、同B−870、同B−870N、同B−874、同B−874N、同B−882、同B−882N、同B−5010、同B−7005、同B−7030、同B−7075(以上、三井化学(株)製)、
デュラネート〔登録商標〕ME20−B80S、同MF−B60B、同MF−B60X、同MF−B90B、同MF−K60B、同MF−K60X、同SBN−70D、同17B−60P、同17B−60PX、同TPA−B80E、同TPA−B80X、同E402−B80B、同E402−B80T、同K6000(以上、旭化成ケミカルズ(株)製)、
コロネート〔登録商標〕2503、同2507、同2512、同2513、同2515、同2520、同2554、同BI−301、同AP−M、ミリオネート MS−50(以上、東ソー(株)製)、
バーノック〔登録商標〕D−500、同D−550、同DB−980K(以上、DIC(株)製)、
スミジュール〔登録商標〕BL−3175、同BL−4165、同BL−4265、同BL−1100、同BL−1265、デスモジュール〔登録商標〕TPLS−2957、同TPLS−2062、同TPLS−2078、同TPLS−2117、同BL−3475、デスモサーム〔登録商標〕2170、同2265(以上、住化バイエルウレタン(株)製)、
TRIXENE BI−7641、同BI−7642、同BI−7986、同BI−7987、同BI−7950、同BI−7951、同BI−7960、同BI−7961、同BI−7963、同BI−7981、同BI−7982、同BI−7984、同BI−7986、同BI−7990、同BI−7991、同BI−7992、同BI−7770、同BI−7772、同BI−7779、同DP9C/214(以上、バクセンデンケミカルズ社製)、
VESTANAT〔登録商標〕B1358A、同B1358/100、同B1370、VESTAGON〔登録商標〕B1065、同B1400、同B1530、同BF1320、同BF1540(以上、エボニックインダストリーズ社製)。
<塗膜の作製方法>
本発明の重合体を含有する樹脂組成物を用いた塗膜の作製方法について説明する。基材(例えば、PETフィルム、TACフィルム、半導体基板、ガラス基板、石英基板、シリコンウエハー及びこれらの表面に各種金属膜又はカラーフィルター等が形成された基板)上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明の重合体を含有する樹脂組成物を塗布後、ホットプレート、オーブン等の加熱手段を用いてベークして塗膜を作製する。ベーク条件は、ベーク温度50℃乃至300℃、ベーク時間0.1分乃至360分間の中から適宜選択される。前記塗膜を作製する際のベークは2ステップ以上処理してもよい。また、本発明の重合体を含有する樹脂組成物から形成される塗膜の膜厚としては、例えば0.001μm乃至1000μmであり、好ましくは0.01μm乃至100μmであり、より好ましくは0.1μm乃至10μmである。
本発明の重合体を含有する樹脂組成物を用いたマイクロレンズの作製方法について説明する。基材(例えば、PETフィルム、TACフィルム、半導体基板、ガラス基板、石英基板、シリコンウエハー及びこれらの表面に各種金属膜又はカラーフィルター等が形成された基板)上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明の重合体を含有する樹脂組成物を塗布後、ホットプレート、オーブン等の加熱手段を用いてベークして硬化させ、樹脂膜を作製する。ベーク条件は、ベーク温度50℃乃至300℃、ベーク時間0.1分乃至360分間の中から適宜選択される。前記樹脂膜を作製する際のベークは2ステップ以上処理してもよい。また、本発明の重合体を含有する樹脂組成物から形成される樹脂膜の膜厚としては、例えば0.001μm乃至1000μmであり、好ましくは0.01μm乃至100μmであり、より好ましくは0.1μm乃至10μmである。
〔下記合成例で得られた重合体の重量平均分子量の測定〕
装置:日本分光(株)製GPCシステム
カラム:Shodex〔登録商標〕KF−804L及び803L
カラムオーブン:40℃
流量:1mL/分
溶離液:テトラヒドロフラン
<合成例1>
ビスフェノールAジグリシジルエーテル[jER〔登録商標〕828(三菱化学(株)製)、エポキシ当量:185.7g/eq]9.00g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン5.86g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.40g及びシクロヘキサノン60.87gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−1)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは17,100であった。
9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン(エポキシ当量:236.0g/eq)10.00g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン5.12g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.31g及びシクロヘキサノン61.74gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−2)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは14,500であった。
9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(エポキシ当量:290.0g/eq)10.00g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン4.76g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.26g及びシクロヘキサノン60.08gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−3)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは4,400であった。
9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン(エポキシ当量:311.7g/eq)10.00g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン4.43g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.24g及びシクロヘキサノン58.68gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−4)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは6,100であった。
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート[セロキサイド〔登録商標〕2021P((株)ダイセル製)、エポキシ当量:131.0g/eq]7.50g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン6.92g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.43g及びシクロヘキサノン59.38gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(3−1)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは3,000であった。
モノアリルジグリシジルイソシアヌレート[MA−DGIC(四国化成工業(株)製)、エポキシ当量:143.5g/eq]7.50g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン6.62g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.39g及びシクロヘキサノン58.02gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−5)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは5,600であった。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル[jER〔登録商標〕828(三菱化学(株)製)、エポキシ当量:185.7g/eq]4.50g、9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン(エポキシ当量:293.0g/eq)4.50g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン5.47g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.29g及びシクロヘキサノン59.05gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−1)及び下記式(1−6)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは6,000であった。
9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン(エポキシ当量:293.0g/eq)9.00g、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン5.66g、L−(+)−酒石酸0.46g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.23g及びシクロヘキサノン61.39gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−6)及び下記式(7a−1)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは2,900であった。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル[jER〔登録商標〕828(三菱化学(株)製)、エポキシ当量:185.7g/eq]8.50g、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン2.63g、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン4.01g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.34g及びシクロヘキサノン61.94gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(2−1)及び下記式(7a−2)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは5,100であった。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル[jER〔登録商標〕828(三菱化学(株)製)、エポキシ当量:185.7g/eq]9.00g、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン2.39g、テレフタル酸3.22g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.36g及びシクロヘキサノン59.87gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−7)及び下記式(7a−3)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは15,100であった。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル[jER〔登録商標〕828(三菱化学(株)製)、エポキシ当量:185.7g/eq]8.00g、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン2.12g、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン5.28g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.32g及びシクロヘキサノン62.90gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(1−8)及び下記式(7a−4)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは6,200であった。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル[jER〔登録商標〕828(三菱化学(株)製)、エポキシ当量:185.7g/eq]9.00g、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン6.23g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.36g及びシクロヘキサノン62.36gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(9)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは7,700であった。
9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン(エポキシ当量:236.0g/eq)9.50g、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン5.17g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.30g及びシクロヘキサノン59.89gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(10)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは7,900であった。
9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン(エポキシ当量:311.7g/eq)10.50g、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン4.33g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.25g及びシクロヘキサノン60.32gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(11)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは6,000であった。
9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン(エポキシ当量:293.0g/eq)10.00g、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン4.39g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.25g及びシクロヘキサノン58.56gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(12)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは9,400であった。
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(セロキサイド〔登録商標〕2021P((株)ダイセル製)、エポキシ当量:131.0g/eq)7.50g、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン6.93g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.43g及びシクロヘキサノン59.42gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(13)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは2,800であった。
9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン(エポキシ当量:236.0g/eq)10.50g、テレフタル酸4.07g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.33g及びシクロヘキサノン59.58gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(7a−5)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは8,200であった。
9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン(エポキシ当量:293.0g/eq)10.00g、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン5.134g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.25g及びシクロヘキサノン61.51gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(7a−6)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは9,500であった。
9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン(エポキシ当量:293.0g/eq)9.50g、1,1’−ビ−2−ナフトール5.57g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.24g及びシクロヘキサノン61.24gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(7a−7)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは4,200であった。
9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン(エポキシ当量:236.0g/eq)8.00g、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン6.53g、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.25g及びシクロヘキサノン59.14gを混合し、窒素雰囲気下において120℃で18時間反応させて、下記式(7a−8)で表されると考えられる構造単位を有する重合体を含む溶液(固形分濃度20質量%)を得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは9,000であった。
<実施例1乃至実施例11>
前記合成例1乃至合成例11で得られた重合体を含む溶液を、それぞれシクロヘキサノンで希釈して固形分濃度10質量%の重合体溶液を作製し、孔径0.45μmのポリテトラフルオロエチレン(以下、本明細書ではPTFEと略称する。)製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。本実施例1乃至実施例11の樹脂組成物に含まれる重合体は、前記式(1)乃至式(4)で表される構造単位のうち、少なくとも1種の構造単位を有する。
前記合成例12乃至合成例20で得られた重合体を含む溶液を、それぞれシクロヘキサノンで希釈して固形分濃度10質量%の重合体溶液を作製し、孔径0.45μmのPTFE製ミクロフィルターを用いてろ過して樹脂組成物を調製した。本比較例1乃至比較例9の樹脂組成物に含まれる重合体は、前記式(1)乃至式(4)で表される構造単位のいずれも有さない。
<比較例10>
合成例20で得られた重合体を含む溶液5.00g、及び前記式(6a)又は式(6b)で表されるベンゾフェノン誘導体として2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン0.10gを、シクロヘキサノン5.90gに溶解させて溶液とした。その後、得られた溶液を孔径0.45μmのPTFE製ミクロフィルターを用いてろ過して、樹脂組成物を調製した。本比較例10及び後述する比較例11乃至比較例14の樹脂組成物に含まれる重合体は、前記式(1)乃至式(4)で表される構造単位のいずれも有さない。
前記式(6a)又は式(6b)で表されるベンゾフェノン誘導体として2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンを用いた以外は、前記比較例10と同じ条件で樹脂組成物を調製した。
前記式(6a)又は式(6b)で表されるベンゾフェノン誘導体として2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンを用いた以外は、前記比較例10と同じ条件で樹脂組成物を調製した。
前記式(6a)又は式(6b)で表されるベンゾフェノン誘導体として2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンを用いた以外は、前記比較例10と同じ条件で溶液を調製した。
前記式(6a)又は式(6b)で表されるベンゾフェノン誘導体として2,3,3’,4,4’,5−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンを用いた以外は、前記比較例10と同じ条件で樹脂組成物を調製した。
実施例1乃至実施例11並びに比較例1乃至比較例14で調製した樹脂組成物をそれぞれ、石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で5分間ベークを行い、膜厚1μmの膜を形成した。これらの膜に対して、紫外線可視分光光度計UV−2600((株)島津製作所製)を用いて、波長200nm乃至800nmの範囲で透過率を測定した。さらにこの膜を200℃で5分間ベークした後、再び波長200nm乃至800nmの範囲で透過率を測定した。さらにこの膜を260℃で5分間ベークした後、再び波長200nm乃至800nmの範囲で透過率を測定した。100℃で5分間、200℃で5分間、260℃で5分間それぞれの条件でベーク後の膜について、波長365nmでの透過率を表1に示す。また、前記各条件でのベーク後の膜について、波長400nm乃至800nmの範囲で測定された最低透過率を表1に示す。
実施例1乃至実施例11並びに比較例1乃至比較例14で調製した樹脂組成物をそれぞれ、石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で1分間、さらに200℃で5分間ベークを行い、膜厚1μmの膜を形成した。これらの膜に対して、紫外線可視分光光度計UV−2600((株)島津製作所製)を用いて、波長400nm乃至800nmの範囲で透過率を測定した。さらに、これらの膜に対して下記の耐光性試験を行った後、再び波長400nm乃至800nmの範囲で透過率を測定した。耐光性試験前及び耐光性試験後での、波長400nm乃至800nmの範囲で測定された最低透過率を表2に示す。
〔耐光性試験内容〕
装置:キセノン促進耐候性試験機Q−Sun Xe‐1‐B(Q−Lab Corporation製)
光源:キセノンアークランプ
光学フィルター:Window−B/SL
照度:60W/m2(波長300nm乃至400nm)
ブラックパネル温度:63℃
試験時間:20時間
実施例1乃至実施例11並びに比較例1乃至比較例14で調製した樹脂組成物をシクロヘキサノンで希釈した溶液をそれぞれ、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において100℃で1分間、さらに200℃で5分間ベークを行い、膜厚0.1μmの膜を形成した。これらの膜に対して、分光エリプソメーターM−2000(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株))を用いて波長550nmの屈折率を測定した。評価結果を表2に示す。
Claims (13)
- 下記式(1)乃至式(4)で表される構造単位のうち、少なくとも1種の構造単位を有する、重量平均分子量1,000乃至500,000の重合体。
- 前記重合体の原料モノマーは、下記式(5a)又は式(5b)で表される化合物及び下記式(6a)又は式(6b)で表される化合物である、請求項1に記載の重合体。
- 前記式(6a)又は式(6b)で表される化合物は、下記式(6−1)乃至式(6−5)で表される化合物のうちいずれかである、請求項1又は請求項2に記載の重合体。
- 前記式(5a)で表される化合物が、ビスフェノール型エポキシ化合物、ビスフェノール型エポキシ化合物の水素化物、ビスフェノール型エポキシ化合物の臭素化物、ポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物の水素化物、含窒素複素環を有するエポキシ化合物、又はビスアリールフルオレン骨格を有するエポキシ化合物である、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の重合体。
- さらに、下記式(7a)又は式(8a)で表される構造単位を有する、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の重合体。
- さらに、下記式(7b)又は式(8b)で表される構造単位を有する、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の重合体。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の重合体を50質量%以上含む紫外線吸収剤。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の重合体のみからなる紫外線吸収剤。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の重合体を含有する樹脂組成物。
- 硬化剤をさらに含有する請求項9に記載の樹脂組成物。
- 溶剤をさらに含有する請求項9又は請求項10に記載の樹脂組成物。
- 波長365nmでの透過率が70%未満の紫外線吸収膜形成用樹脂組成物である請求項9乃至請求項11のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- レンズ形成用樹脂組成物である請求項9乃至請求項12のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018063303A JP7073845B2 (ja) | 2018-03-28 | 2018-03-28 | 重合体及びそれを含む樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018063303A JP7073845B2 (ja) | 2018-03-28 | 2018-03-28 | 重合体及びそれを含む樹脂組成物 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019172846A true JP2019172846A (ja) | 2019-10-10 |
JP2019172846A5 JP2019172846A5 (ja) | 2021-02-04 |
JP7073845B2 JP7073845B2 (ja) | 2022-05-24 |
Family
ID=68170112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018063303A Active JP7073845B2 (ja) | 2018-03-28 | 2018-03-28 | 重合体及びそれを含む樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7073845B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110776617A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-02-11 | 浩力森涂料(上海)有限公司 | 耐候型环氧乳液 |
WO2021106423A1 (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置 |
WO2022196673A1 (ja) * | 2021-03-16 | 2022-09-22 | 日産化学株式会社 | ナフタレンユニット含有レジスト下層膜形成組成物 |
WO2023277016A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 日産化学株式会社 | 光導波路形成用組成物 |
WO2023195346A1 (ja) * | 2022-04-08 | 2023-10-12 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 紫外線吸収剤 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61295549A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Dainippon Ink & Chem Inc | 感光性組成物 |
JPH05202228A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-08-10 | Tosoh Corp | 平坦化材料及び平坦化方法 |
WO2005098542A1 (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-20 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 縮合系ポリマーを有する半導体用反射防止膜 |
WO2006027950A1 (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ポリアミド酸を含む下層反射防止膜形成組成物 |
WO2017064992A1 (ja) * | 2015-10-13 | 2017-04-20 | 日産化学工業株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
-
2018
- 2018-03-28 JP JP2018063303A patent/JP7073845B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61295549A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Dainippon Ink & Chem Inc | 感光性組成物 |
JPH05202228A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-08-10 | Tosoh Corp | 平坦化材料及び平坦化方法 |
WO2005098542A1 (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-20 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 縮合系ポリマーを有する半導体用反射防止膜 |
WO2006027950A1 (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ポリアミド酸を含む下層反射防止膜形成組成物 |
WO2017064992A1 (ja) * | 2015-10-13 | 2017-04-20 | 日産化学工業株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110776617A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-02-11 | 浩力森涂料(上海)有限公司 | 耐候型环氧乳液 |
WO2021106423A1 (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置 |
WO2022196673A1 (ja) * | 2021-03-16 | 2022-09-22 | 日産化学株式会社 | ナフタレンユニット含有レジスト下層膜形成組成物 |
WO2023277016A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 日産化学株式会社 | 光導波路形成用組成物 |
WO2023195346A1 (ja) * | 2022-04-08 | 2023-10-12 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 紫外線吸収剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7073845B2 (ja) | 2022-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7073845B2 (ja) | 重合体及びそれを含む樹脂組成物 | |
CN108137808B (zh) | 聚合物和含有该聚合物的树脂组合物 | |
JP6421964B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
KR101388998B1 (ko) | 환구조를 갖는 고분자 화합물을 함유하는 포지티브형 감광성 수지조성물 | |
JP5067146B2 (ja) | 保護膜用熱硬化性組成物、硬化物、tftアクティブマトリックス基板、及び液晶表示装置 | |
JP4753040B2 (ja) | 重合性基を有する化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物 | |
JP6225921B2 (ja) | 硬化膜形成用樹脂組成物 | |
CN110573963B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
CN111684358A (zh) | 感光性树脂组合物 | |
WO2020044918A1 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物 | |
JP5077526B2 (ja) | 末端に不飽和基を有する化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物 | |
KR101334753B1 (ko) | 하프노광용 포지티브형 감광성 수지층을 이용하는 투명성 경화막의 제조방법 | |
KR101411294B1 (ko) | 고평탄화막 형성용 수지 조성물 | |
KR20150052080A (ko) | 경화막 형성 조성물 | |
JP5585796B2 (ja) | 末端に不飽和基を有する化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物 | |
JP6112296B2 (ja) | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | |
CN110537146A (zh) | 感光性树脂组合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201216 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201216 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20201216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211109 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220412 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220425 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7073845 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |