WO2019035408A1 - 化合物の製造方法 - Google Patents

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WO2019035408A1
WO2019035408A1 PCT/JP2018/029884 JP2018029884W WO2019035408A1 WO 2019035408 A1 WO2019035408 A1 WO 2019035408A1 JP 2018029884 W JP2018029884 W JP 2018029884W WO 2019035408 A1 WO2019035408 A1 WO 2019035408A1
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atom
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雅弘 堀口
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Dic株式会社
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    • C07D407/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B61/00—Other general methods

Definitions

  • the present invention provides a method for producing a compound having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group and a 4-alkoxy-2,3-difluorophenyl group or the like in the molecular structure,
  • the present invention relates to a liquid crystal composition using the compound and a display device using the liquid crystal composition.
  • the liquid crystal compound and the additive used for the TFT liquid crystal material have as high purity as possible from the beginning that they do not contain an impurity that causes burn-in to the display.
  • VA vertical alignment
  • PSA polymer sustained alignment
  • n-FFS fin field switching
  • the composition is used.
  • metal impurities contained in the composition have a large effect on the quality of the display element, and thus the metal impurity is low for compounds mixed and used in the composition. The content is determined.
  • a metal impurity contained in a compound when manufacturing a compound by the coupling reaction which used a palladium catalyst, for example, what originates in the used palladium catalyst is mentioned.
  • n-type liquid crystal composition It is a compound useful as a constituent material of an n-type liquid crystal composition because it has a high solubility and a large negative dielectric anisotropy.
  • Non-patent Document 2 Non-patent Document 2
  • the efficiency of removing impurities by recrystallization in each intermediate is low because the crystallinity of the intermediate is low, or purification is not possible because of the liquid being an intermediate, and the compound finally obtained There is a problem that the purity is lowered.
  • a liquid crystal compound with negative dielectric anisotropy such as a compound having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane-2,5-diyl group in the molecular structure It was being done.
  • the problem to be solved by the present invention is to simplify a liquid crystal compound having a negative dielectric anisotropy having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group in its molecular structure. And providing a production method with high purity. Furthermore, a liquid crystal composition using the compound and a display device using the liquid crystal composition are provided.
  • the present invention provides a compound having one or more groups selected from the groups represented by partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) and partial structure (DI) (Ia), the partial structure (Y), partial structure (Y (F, Cl)), partial structure (Y (Cl, F)), and groups represented by partial structure (Y (Cl, Cl)) Partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) by coupling with a compound (ib) having one or more groups selected from: in the presence of a transition metal catalyst And one or more groups selected from groups represented by partial structure (DI), partial structure (Y), partial structure (Y (F, Cl)), partial structure (Y (Cl, F) And 1) and 2) at least one group selected from the groups represented by the partial structure (Y (Cl, Cl)) and And a liquid crystal composition using the compound, a display element using the liquid crystal composition, a personal computer using the same
  • the production method of the present invention can be produced with a small number of steps and with high purity, it is possible to use tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane-2,5- in the molecular structure. It is useful as a method for producing a liquid crystal compound having a negative dielectric anisotropy having a diyl group. Moreover, the compound manufactured by the manufacturing method of this invention is useful as a material for liquid crystal display elements.
  • the production method of the present invention comprises the following partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) and partial structure (DI)
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 —s each independently
  • a 0 represents a group represented by partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) or partial structure (DI)
  • Y represents a group represented by partial structure (Y), partial structure (Y (F, Cl)), partial structure (Y (Cl, F)) or partial structure (Y (Cl, Cl)
  • a 1 , A 2, A 3 and A 4 each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, It represents a tiger tetrahydropyran
  • R 1 and R 2 each independently represent one —CH from the viewpoint of storage stability, solubility, liquid crystallinity, dielectric anisotropy and refractive index anisotropy when added to an n-type liquid crystal composition
  • the optional hydrogen atom of is a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom
  • a 0 represents a group represented by partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) or partial structure (DI).
  • a 0 is preferably a group represented by the partial structure (A), the partial structure (AI) or a partial structure (D), A 0 More preferably represents a group represented by partial structure (A) or partial structure (AI), and particularly preferably represents a group represented by partial structure (A).
  • a Y is a partial structure (Y), a partial structure (Y (F, Cl)), a partial structure (Y (Cl, F)) or a partial structure (Y (Cl, Cl)) Represents a group to be From the viewpoint of availability of raw materials, easiness of synthesis and liquid crystallinity, A Y preferably represents a group represented by partial structure (Y).
  • a 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently 1,4-phenylene, 1,4-cyclohexylene, tetrahydropyran-2,5-diyl or 1, Although a 3-dioxane-2,5-diyl group is represented, these groups may be unsubstituted or substituted by one or more substituents L 1 , and when there are a plurality of A 1 they are identical When there are a plurality of A 2, they may be the same or different, and when there are a plurality of A 3, they may be the same or different, A When a plurality of 4 are present, they may be the same or different. From the viewpoints of availability of raw materials, easiness of synthesis, and liquid crystallinity, A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently independent of Formula (A-1) to Formula (A-9) below.
  • the hydrogen atom of is preferably a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom, and L 1 is a fluorine atom, a chlorine atom or one —CH 2 — is
  • Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently -OCH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 CH 2- , -COO -, -OCO-, -CF 2 O-, -OCF 2 -or a single bond is preferred, and Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently -OCH 2- , -CH 2 O -, -CH 2 CH 2- , -CF 2 O-, -OCF 2 -or a single bond is more preferable, and Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently -OCH 2- , -CH 2 O -, - CH 2 CH 2 - or more preferably a single bond, Z 1, Z 2, Z 3 and Z 4 each independently are -CH 2 CH 2 - or a single bond There still more preferably, Z 1, Z 2, Z 3 and Z 4 are particularly good may represent a single bond Arbitrari
  • m1, m3 and m4 each independently represent an integer of 0 to 3.
  • M1, m3 and m4 each independently represent preferably 0, 1 or 2 from the viewpoint of availability of raw materials, easiness of synthesis and liquid crystallinity, and m1, m3 and m4 are each independently 0 or It is more preferable to represent 1 and it is particularly preferable that m1, m3 and m4 represent 0.
  • m2 represents an integer of 1 to 3, but m1 + m2 + m3 + m4 represents an integer of 1 to 3.
  • m2 preferably represents 1 or 2, and m2 particularly preferably represents 1.
  • m1 + m2 + m3 + m4 preferably represents 1 or 2, and particularly preferably m1 + m2 + m3 + m4 represents 1.
  • R 1 , A 0 , A 1 , A 2 , Z 1 , Z 2 , m 1 and m 2 have the same meaning as in general formula (I), and X 1 is a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine
  • the dihydroxyboryl group is represented by the following formula (XB-1)
  • R XB1 and R XB2 each independently represent a linear or branched alkyl group having 2 to 20 carbon atoms.
  • An alkoxyboryl group is represented by the following formula (XB-3)
  • ring A XB 1 represents a ring structure formed by —O—B—O— and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • a dimethoxyboryl group represented by the following formula (XB-2-1), and diethoxyboryl represented by the formula (XB-2-2) Group a dipropoxyboryl group represented by the formula (XB-2-3), a diisopropoxyboryl group represented by the formula (XB-2-4) and a dibromoboryl group represented by the formula (XB-2-5) tert-Butyl oxyboryl group
  • examples of the cyclic alkoxyboryl group having 1 to 20 carbon atoms include a 1,3,2-dioxaborolan-2-yl group represented by the following formula (XB-3-1), a compound represented by formula (XB-3-2 A 4-methyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group represented by the formula (XB-3-3), 4,5-dimethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- Group represented by the formula (XB-3-4), a 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group represented by the formula (XB-3-4), Hexahydro-5,5-dimethyl-4,6-methano-1,3,2-benzodioxaborolane-2-yl group and a hexahydro-3a, 5, group represented by the formula (XB-3-6) 5-trimethyl-4,6-methano-1,3,2-benzodioxaborolane-2-yl group And the formula (XB-3-6
  • X 1 is a group selected from fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, trifluoromethanesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or p-toluenesulfonyloxy group, or dihydroxyboryl group, carbon atom It represents a group selected from a linear or branched alkoxyboryl group of 2 to 20 or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • X 1 is a group selected from chlorine atom, bromine atom, iodine atom or trifluoromethanesulfonyloxy group or dihydroxyboryl group, linear having 2 to 5 carbon atoms Or a group selected from a branched alkoxyboryl group or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 is a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group it is more preferable that represents, X 1 is a bromine atom, more preferably represents a group selected from an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group, X 1 is particularly preferably a bromine atom.
  • X 2 is a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine A group selected from an atom, trifluoromethanesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or p-toluenesulfonyloxy group, or dihydroxyboryl group, linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms, or 1 to carbon atom A group selected from 20 cyclic alkoxyboryl groups, wherein X 1 is a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group or a p-tolu
  • X 2 is a group selected from fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, trifluoromethanesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or p-toluenesulfonyloxy group, or dihydroxyboryl group, carbon atom
  • X 1 represents a group selected from a linear or branched alkoxyboryl group of the number 2 to 20 or a cyclic alkoxyboryl group having a carbon number of 1 to 20, and X 1 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom,
  • X 2 represents a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms, or a carbon atom, when it represents a group selected from a lomethanesulfonyloxy group, a methane
  • X 2 is a group selected from chlorine atom, bromine atom, iodine atom or trifluoromethanesulfonyloxy group or dihydroxyboryl group, linear having 2 to 5 carbon atoms Or a group selected from a branched alkoxyboryl group or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 2 is a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl having 2 to 5 carbon atoms It is more preferable to represent a group or a group selected from cyclic alkoxyboryl groups having 1 to 10 carbon atoms, and X 2 is a dihydroxyboryl group, a linear dialkoxyboryl group having 2 or 4 carbon atoms, or 6 carbon atoms And a group selected from branched dialkoxyboryl groups and cyclic alkoxyboryl groups having 2 to
  • Examples of the compound represented by the general formula (I) include the following general formula (Ii)
  • a 01 Is the following formula (A0-i-1) or formula (A0-i-2)
  • each of A 11 , A 21 , A 31 and A 41 independently represents a group represented by the following formula (Ai-1) to formula (Ai-9)
  • L 11 is a fluorine atom, a chlorine atom, or one carbon of which one —CH 2 — may be substituted by —O—, and any hydrogen atom in the group may be substituted by a fluorine atom.
  • Z 11 represents a group selected from the atoms 1 represents a linear alkyl group of 6.
  • they if a 11 there are a plurality may be the same or different and if the a 21 there are multiple They may be the same or different, and when there are a plurality of A 31 they may be the same or different, and when there are a plurality of A 41 they may be the same or different Z 11 , Z 21 , Z 31 and Z 41 are each independently -OCH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 CH 2- , -COO-, -OCO-, -CF 2 O- , -OCF 2 - or represents a single bond, Z 11 is They If the number present may be the same or different and they if Z 21 there are a plurality may be the same or different and they if Z 31 there are a plurality in the same M 41 , m 31 and m 41 each independently represent 0, 1 or 2, and m 21 is 1 or 2 However, m11 + m21 +
  • R 11 , A 01 , A 11 , A 21 , Z 11 , Z 21 , m 11 and m 21 have the same meaning as in general formula (Ii), and X 11 is a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom Or a group selected from a trifluoromethanesulfonyloxy group or a group selected from a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms, or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • a compound represented by the general formula (IB) is preferable.
  • X 21 is a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or trifluoromethane group or a dihydroxyboryl group selected from a sulfonyloxy group, represents a linear or branched Arukokishiboriru group or a group selected from cyclic Arukokishiboriru group having 1 to 10 carbon atoms, from 2 to 5 carbon atoms, X 11 And X 21 represents a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms, or the number of carbon atoms, when X represents a group selected from chlorine atom, bromine atom, iodine atom or trifluoromethanesulfonyloxy group Represents a group selected from cyclic
  • Examples of the compound represented by the general formula (I) include the following general formula (Ii-1)
  • a 011 represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted, and A 011 represents a group represented by the following formula (A0-i-1-1) or a formula (A0-i-1-2)
  • a 211 and A 311 are each independently a group represented by the following formula (Ai-1-1) to a formula (Ai-1-5), a formula (Ai-1-8) Or the formula (Ai-1-9)
  • L 111 is a fluorine atom, a chlorine atom, or one carbon of which one —CH 2 — may be substituted by —O—, and any hydrogen atom in the group may be substituted by a fluorine atom Represents a linear alkyl group having 1 to 3 atoms
  • A.sub.211 when a plurality of A.sub.211 is present, they may be the same or different, and when a plurality of A.sub.311 is present They may be the same or different
  • Z 211 and Z 311 are each independently -OCH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 CH 2- , -CF 2 O-, -OCF 2 -Represents a single bond, but when there are a plurality of Z 211, they may be the same or different, and when there are a plurality of Z 311, they may be the same or different
  • m 311 is Each independently 0, 1 or 2 , M211 represents an 1 or 2, M211 + M311 represents 1
  • R 111 , A 011 , A 211 , Z 211 and m 211 have the same meaning as in the general formula (Ii-1), and X 111 is a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group And more preferably a compound represented by the following general formula (IB-i-1) as a compound represented by the general formula (IB):
  • a 311 , Z 311 , m 311 and R 211 have the same meaning as in the general formula (Ii-1), and X 211 is a dihydroxyboryl group, linear or branched having 2 to 5 carbon atoms And R 1 represents a group selected from an alkoxyboryl group or a group selected from cyclic alkoxyboryl groups having 1 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the compound represented by the general formula (I) include the following general formula (Ii-11)
  • 0111 has the following formula (A0-i-11-1) or the formula (A0-i-11-2)
  • a 2111 is a group selected from the following formula (Ai-11-1) to formula (Ai-11-5)
  • L 1111 represents a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a trifluoromethoxy group or a pentafluoroethoxy group);
  • Z 2111 represents -OCH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 CH 2 -or a single bond, but Z 2111 is more than one When present, they may be the same or different, and m2111 represents 1 or 2.
  • m2111 represents 1 or 2.
  • a compound represented by formula (IA) is a compound represented by the following formula (IA-i-11)
  • R 1111 , A 0111 , A 2111 , Z 2111 and m 2111 have the same meaning as in the general formula (Ii-11), and X 1111 is chlorine, bromine, iodine or trifluoromethanesulfonyloxy
  • X 1111 is chlorine, bromine, iodine or trifluoromethanesulfonyloxy
  • the compound represented by the general formula (IB) is a compound represented by the following general formula (IB-i-11)
  • R 2111 has the same meaning as in general formula (Ii-11), and X 2111 is dihydroxyboryl group, dimethoxyboryl group, diethoxyboryl group, diisopropoxyboryl group, 1,3,2-dioxaborolane- 2-yl group, 4-methyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group, 4,5-dimethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group or 4,4,5,5-tetra Further preferred is a compound represented by the above group) which is a group selected from a group selected from a methyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group.
  • Examples of the compound represented by the general formula (I) include the following general formula (Ii-111)
  • R 11111 represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms
  • R 21111 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms
  • a compound represented by the linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable, and as a compound represented by the general formula (IA), a compound represented by the following general formula (IA-i-111) )
  • R 11111 represents the same meaning as in the general formula ( Ii -111), and X 11111 represents a bromine atom).
  • X 11111 represents a bromine atom.
  • Particularly preferred is the compound represented by the general formula (IB) As the following general formula (IB-i-111)
  • R 21111 has the same meaning as in formula ( Ii -111), and X 21111 is a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2-
  • the compound represented by (I) is particularly preferable.
  • R 11112 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms
  • R 21112 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms
  • a compound represented by a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable, and as a compound represented by the general formula (IA), a compound represented by the following general formula (IA-i-112) )
  • R 11112 represents the same meaning as in general formula ( Ii -112), and X 11112 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • a compound represented by Examples of the compound represented by formula (IB) include the following formula (IB-i-112)
  • R 21112 has the same meaning as in general formula ( Ii -112), and X 21112 is a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2-)
  • the compound represented by (I) is particularly preferable.
  • the following General Formula (Ii-113) the following General Formula (Ii-113)
  • R 11113 represents a linear alkyl group or linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms having 1 to 5 carbon atoms
  • R 21113 is a straight chain alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms
  • a compound represented by a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable, and as a compound represented by the general formula (IA), a compound represented by the following general formula (IA-i-113) )
  • R 11113 represents the same meaning as in general formula ( Ii -113), and X 11113 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • X 11113 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Particularly preferred is a compound represented by Examples of the compound represented by formula (IB) include the following formula (IB-i-113)
  • R 21113 has the same meaning as in general formula ( Ii -113), and X 21113 is a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2-)
  • the compound represented by (I) is particularly preferable.
  • R 11114 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms
  • R 21114 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms
  • a compound represented by a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable, and as a compound represented by the general formula (IA), a compound represented by the following general formula (IA-i-114) )
  • R 11114 represents the same meaning as in general formula ( Ii -114), and X 11114 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • a compound represented by The compounds represented by the general formula (IB) include the following general formula (IB-i-114)
  • R 21114 has the same meaning as in general formula ( Ii -114), and X 21114 is a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2-)
  • the compound represented by (I) is particularly preferable.
  • the following general formula (Ii-115) the following general formula (Ii-115)
  • R 11115 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms
  • R 21115 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms
  • a compound represented by a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable, and as a compound represented by the general formula (IA), a compound represented by the following general formula (IA-i-115) )
  • R 11115 represents the same meaning as in general formula ( Ii -115), and X 11115 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • a compound represented by Examples of the compound represented by the general formula (IB) include the following general formula (IB-i-115)
  • R 21115 has the same meaning as in general formula ( Ii -115), and X 21115 is a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2-)
  • the compound represented by (I) is particularly preferable.
  • R 1E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms
  • R 2E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • R 1E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms
  • X 1E represents chlorine, a bromine atom, an iodine atom or trifluoromethanesulfonyloxy
  • the compound represented by this is a group selected from groups is preferable.
  • R 2 E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or 2 carbon atoms
  • X5 is a linear alkenyloxy group
  • X2E is selected from a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms, or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms
  • the compound represented by this is a group selected from groups is preferable.
  • the compound represented by is preferable.
  • the transition metal compound is preferably a compound containing Group 8 to 11 elements, and is a compound containing iron, ruthenium, osmium, cobalt, rhodium, iridium, nickel, palladium, platinum, copper, silver or gold. It is more preferable that the compound contains iron, nickel, palladium or copper from the viewpoint of yield, availability and cost.
  • the compound containing iron include tris (2,4-pentanedionato) iron (III), tris (hexafluoroacetylacetonato) iron (III), iron acetate (II), iron stearate (III) Tris (trifluoro-2,4-pentanedionato) iron (III), tris (dibenzoylmethanato) iron (III), tricarbonyl (cyclooctatetraene) iron, pentacarbonyliron, nonacarbonyldiiron, dodeca Carbonyl triiron, iron (II) chloride, iron (III) chloride, 1,2-phenylenebis [diphenyl] phosphine iron complex, cyclopentadienyl iron (II) dicarbonyl dimer, iron (III) nitrate, iron, trifluoro Ferromethane sulfonate iron (II), trifluoromethane sulfonate iron (III), p-tol
  • nickel examples include [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] nickel (II) dichloride, bis (triphenylphosphine) nickel (II) dichloride, and [1,2-bis (diphenylphos)].
  • compounds containing palladium include palladium (II) acetate, allylpalladium (II) chloride (dimer), bis (dibenzylideneacetone) palladium (0), bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride, bis (Benzonitrile) palladium (II) dichloride, bis (acetonitrile) palladium (II) dichloride, [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (II) dichloride, bis (2,4-pentanedionato) palladium (II), bis (tri-o-tolylphosphine) palladium (II) dichloride, bis (triphenylphosphine) palladium (II) diacetate, bis (tricyclohexylphosphine) palladium (II) dichloride, [1,1′-bis] (Gife Ruphosphino)
  • the compound containing copper include copper (I) acetate, bis (1,3-propanediamine) copper (II) dichloride, bis (8-quinolinolato) copper (II), and bis (2,4-pentanedio).
  • the addition amount of the transition metal compound is preferably 0.00001 equivalent to 10 equivalents, more preferably 0.0001 to 1 equivalent based on the compound (ia) from the viewpoints of cost, yield and ease of purification. Some are more preferable, 0.001 to 0.5 equivalents are more preferable, and 0.01 to 0.1 equivalents are particularly preferable. Furthermore, it is preferably 0.00001 equivalent to 10 equivalents, more preferably 0.0001 equivalent to 1 equivalent, further preferably 0.001 equivalent to 0.5 equivalent with respect to compound (ib). Preferably, 0.01 equivalent to 0.1 equivalent is particularly preferable.
  • the addition amount of compound (ib) is preferably 0.1 equivalent to 10 equivalents relative to compound (ia) from the viewpoint of cost, yield and ease of purification
  • the amount is more preferably 0.5 equivalents to 2 equivalents, still more preferably 0.8 equivalents to 1.2 equivalents, and particularly preferably 0.9 equivalents to 1.1 equivalents.
  • compound (ia) is used in view of control of reaction temperature, workability, yield and purity of obtained compound.
  • a transition metal compound is added to a mixture containing compound (ia) or compound (ib), or a mixture of compound (ib) and a transition metal
  • the compound (ia) is added to the mixture containing the compound, or the mixture of the compound (ia) and the compound (ib) is added to the transition metal compound, and the compound (ia) and the transition metal compound are contained
  • the compound (ib) is added, to the mixture containing the compound (ia) and the compound (ib), the transition metal compound is added, or to the transition metal compound Compound (ia) and it is more preferable to add a mixture of compounds (ib), to a mixture containing the compound (ia) a transition metal compound, it is particularly preferable to add a compound (ib).
  • the base is preferably an inorganic base or an organic base.
  • the inorganic base metal hydroxides, metal acetates, metal formates, metal oxalates, metal phosphates, metal hydrogen phosphates, metal carbonates, metal hydrogen carbonates, ammonia and the like are preferable, and metals are preferable.
  • Alkali metals, alkaline earth metals and magnesium are preferable, and specifically, potassium carbonate, potassium phosphate, ammonia, aluminum hydroxide, barium hydrate, caustic barite, barium hydroxide, bismuth hydroxide, cadmium hydroxide, Cesium hydroxide, calcium hydroxide, cerium hydroxide, chromium hydroxide, cobalt hydroxide, copper hydroxide, ferric oxide hydrate, iron hydroxide, lithium hydroxide, magnesium hydroxide, manganese hydroxide, nickel hydroxide , Potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium hypochlorite, strontium hydroxide, thallium hydroxide, thorium hydroxide , Sodium acetate, sodium aluminum sulfate, sodium ammonium phosphate, sodium hydrogencarbonate, sodium carbonate, calcium carbonate, calcium carbonate, calcium formate, thallium acetate, potassium acetate, sodium phosphate, sodium phosphate, calcium
  • primary amines, secondary amines, tertiary amines, aromatic amines and salts thereof are preferable, and specifically, methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, isopropylamine, dimethyl Amine, N-ethylmethylamine, N-methylpropylamine, N-butylmethylamine, N-methylpentylamine, diethylamine, N-ethylpropylamine, N-butylethylamine, N-ethylpentylamine, dipropylamine, diisopropyl Amine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, triisopropylamine, N, N-diisopropylmethylamine, N, N-diisopropylethylamine, tributylamine, pyrrolidine, piperidine, N-methylpyrrolidine, N Methyl piperidine, morph
  • the addition amount of a base is preferably 0.1 equivalent to 20 equivalents relative to compound (ia) from the viewpoint of cost, yield and easiness of purification, The amount is more preferably 5 equivalents to 5 equivalents, still more preferably 0.8 equivalents to 3 equivalents, and particularly preferably 1 equivalent to 2 equivalents.
  • a base may be used as a solvent, or a base may be used as part of a solvent.
  • the reaction is preferably carried out under air or under an inert gas atmosphere, particularly preferably under an inert gas atmosphere, from the viewpoint of yield and purity of the obtained compound.
  • the inert gas include nitrogen and argon.
  • a solvent for the reaction from the viewpoint of control of reaction temperature, workability, yield and purity of the obtained compound, and it is more preferable to use an organic solvent and / or water. It is particularly preferred to use an organic solvent or a mixture of an organic solvent and water.
  • the organic solvent include aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, aromatic amines, aliphatic amines, ethers, alcohols, halogen solvents, esters, ketones and amides.
  • organic solvent examples include chloroform, carbon tetrachloride, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,2-dichloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, trichloroethylene, 1-chlorobutane, carbon disulfide, Acetone, acetonitrile, benzonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, diethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol diethyl ether, o-dichlorobenzene, xylene, o-xylene, p-xylene, m-xylene, chlorobenzene, isobutyl acetate, isopropyl acetate , Isoacetate,
  • Phase transfer catalysts include, for example, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, polyoxyethylene (10) octyl phenyl ether [Triton X-100], polyoxyethylene (20) sorbitan monopalmitate [Tween 40], sorbitan mono Palmitate [Span 40] and the like can be mentioned.
  • the reaction temperature is preferably ⁇ 20 ° C. to 250 ° C., preferably 0 ° C. to 200 ° C., from the viewpoint of control of reaction temperature, workability, time, yield and purity of the compound obtained.
  • the temperature is more preferably from room temperature to 150 ° C., and particularly preferably from 50 ° C. to 130 ° C.
  • reaction solution and the poor solvent are mixed and the desired product is precipitated as a solid to obtain a crude product of the desired product, or after the reaction, the reaction solution and water are mixed, if necessary After adding an organic solvent and performing liquid separation treatment, the solvent may be distilled off to obtain a crude product of the desired product.
  • the compound (i) obtained as a crude product is preferably further purified. It is preferable to use a purification agent in the purification step.
  • the purification agent include silica gel, alumina, activated carbon, activated clay, celite, zeolite, mesoporous silica, carbon nanotube, carbon nanohorn, bincho charcoal, charcoal, graphene, ion exchange resin, acid clay, silicon dioxide, diatomaceous earth, perlite, cellulose , Organic polymers, porous gels and the like. From the viewpoint of workability, yield and purity of the obtained compound, it is preferable to use silica gel and / or alumina, and it is particularly preferable to use silica gel. Further, recrystallization may be further performed.
  • the organic solvent is preferably concentrated under reduced pressure.
  • Examples of the method for determining the purity of the compound (i) include liquid chromatography, gas chromatography, gel permeation chromatography, nuclear magnetic resonance spectroscopy and the like.
  • the purity of the compound (i) liquid chromatography (UV detector, 210 nm) or gas chromatography from the viewpoint of the balance between the quality of the compound, the quality of the display product when producing a liquid crystal panel and the production cost of the compound (FID detector) is preferably 95.00% to 100.00%, more preferably 98.00% to 100.00%, 99.00% to 100.00% Is more preferably 99.50% to 99.99%, still more preferably 99.90% to 99.99%.
  • inductively coupled plasma mass spectrometry As a method of determining the metal impurity content of the compound (i), inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) is preferable.
  • the metal impurity content of the compound (i) can be determined by inductively coupled plasma mass spectrometry from the viewpoint of difficulty in burning when a liquid crystal panel is manufactured by adding the obtained compound (i) to an n-type liquid crystal composition.
  • the content is preferably 0.00 ppt to 1.00 ppm, more preferably 0.00 ppt to 100 ppb, and still more preferably 0.01 ppt to 10.0 ppb using (ICP-MS). It is even more preferable to be from .01 ppt to 1.00 ppb, and it is particularly preferable to be from 0.01 ppt to 100 ppt.
  • trans form is preferred as the main component from the viewpoint of liquid crystallinity, the ratio of the trans form is more preferably 90% or more, and the proportion of the trans form is 95% or more It is more preferable that the ratio of the trans form is 99% or more, and still more preferably, the ratio of the trans form is 99.9% or more.
  • the compound (i) produced by the production method of the present invention is preferably added to various compositions, and more preferably added to the liquid crystal composition. Since the compound (i) produced by the production method of the present invention has a low content of metal impurities, it is particularly added to an n-type liquid crystal composition having a large influence on the quality of display elements by the metal impurities contained in the composition. Is particularly preferred.
  • the n-type liquid crystal composition has the following general formula (X1)
  • R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 —s each independently
  • the hydrogen atom may be substituted by a fluorine atom
  • a 5 and A 6 each independently represent a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, but these groups are unsubstituted or It may be substituted by one or more substituents L X1 , and when there are a plurality of A 5 they may be the same or different, when there are a plurality of A 6 they may be the same or different L X1 represents a fluorine atom, and may be
  • R 3 E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms
  • R 4 E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms More preferable.
  • the n-type liquid crystal composition has the following general formula (X2)
  • R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 —s each independently
  • the hydrogen atom may be substituted by a fluorine atom
  • a 7 and A 8 each independently represent a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, but these groups are unsubstituted or It may be substituted by one or more substituents L X2 , and when there are a plurality of A 7 they may be the same or different, L X2 represents a fluorine atom and Z 7 is -OCH 2- , -CH 2 O -, -
  • R 5E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or 2 carbon atoms
  • R 6 E is a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear chain having 2 to 6 carbon atoms
  • the compounds represented by the above-mentioned represent a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms.
  • the n-type liquid crystal composition has the following general formula (X3)
  • each R 7 independently represents a hydrogen atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 —s each independently represent —O—, —COO—, —
  • the compound represented by (wherein R 7E represents a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms) is more preferable.
  • the compound represented by the general formula (I-is) can be obtained by reacting the compound represented by the general formula (IA-is) with the compound represented by the general formula (IB-is). Examples of the reaction include, for example, a method of cross coupling in the presence of a metal catalyst and a base.
  • the metal catalyst include [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride, palladium (II) acetate, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) and the like.
  • Specific examples of the base include potassium carbonate, potassium phosphate, cesium carbonate and the like.
  • reaction conditions for example, Metal-Catalyzed Cross-Coupling Reactions (Armin de Meijer, Francois Diedrich co-author, Wiley-VCH), Palladium Reagents and Catalysts: New Perspectives for the 21st Century (by Jiro Tsuji, Wiley & Sons, Ltd.), Cross-Coupling Reactions: A Practical Guide (Topics in Current Chemistry) (S.L. Buchwald, K. Fugami, T. Hiyama, M. Kosugi, M. Miura, N. Miyaura, A. R. Muci, M. Nomur a., E. Shirakawa, K. Tamao, Springer, etc .;
  • reaction conditions other than the above for example, experimental chemistry course (edited by The Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd.), Organic Syntheses (A John Wiley & Sons, Inc., Publication), Beilstein Handbook of Organic Chemistry (Beilstein-Institut fuer Literatur der Those described in the literature such as Organischen Chemie, Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. K), Fiesers' Reagents for Organic Synthesis (John Wiley & Sons, Inc.) or SciFinder (Che ical Abstracts Service, American Chemical Society), include those listed in databases such as Reaxys (Elsevier Ltd.).
  • a reaction solvent can be used suitably in the said process.
  • the solvent include ethanol, tetrahydrofuran, toluene, dichloromethane, water and the like.
  • a phase transfer catalyst include benzyltrimethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide and the like.
  • purification can be carried out as necessary in the above process.
  • the purification method may, for example, be chromatography, recrystallization, distillation, sublimation, reprecipitation, adsorption, liquid separation and the like.
  • Specific examples of the purification agent include silica gel, alumina, activated carbon and the like.
  • % in the composition of the following example and a comparative example means “mass%.”
  • an inert gas such as nitrogen gas or argon gas.
  • operations such as quenching, separation / extraction, neutralization, washing, separation, purification, drying, concentration, etc., which are usually performed among persons skilled in the art, as needed.
  • the compound represented by formula (I-1-1) was produced by the method described in European Journal of Organic Chemistry, 2008, No. 20, 3479-3487. Under a nitrogen atmosphere, 2.0 g of a compound represented by the formula (I-1-1), 1.5 g of potassium carbonate, 20 mL of ethanol and 0.1 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were added to a reaction vessel. While heating under reflux, a solution of 1.4 g of the compound represented by formula (I-1-2) dissolved in 4 mL of ethanol was added dropwise. After heating under reflux for 8 hours, the reaction solution was cooled and poured into water. Extracted with toluene and washed sequentially with water and brine.
  • the compound represented by formula (I-2-1) was produced by the method described in DE102009018067A1.
  • a reaction vessel under a nitrogen atmosphere 2.0 g of the compound represented by the formula (I-2-1), 1.9 g of the compound represented by the formula (I-2-2), 2.3 g of potassium phosphate, 10 mL of tetrahydrofuran 10 mL of water and 0.1 g of [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride dichloromethane adduct were added and heated to reflux for 8 hours. Cool and pour the reaction into water. Extracted with toluene and washed sequentially with water and brine.
  • the compound represented by formula (I-4-4) was manufactured by the method described in CN 102659533A.
  • the compound represented by Formula (I-3-1) was converted to the compound represented by Formula (I-4-1), and the compound represented by Formula (I-3-4) was converted to Formula (I-I)
  • the compound represented by the formula (I-4) was produced by the same method except that the compound represented by -4-4) was substituted.
  • the compound represented by formula (I-82-1) was produced by the method described in European Journal of Organic Chemistry, 2008, No. 20, 3479-3487.
  • a reaction vessel under a nitrogen atmosphere 3.0 g of a compound represented by the formula (I-82-1), 1.7 g of a compound represented by the formula (I-82-2), 1.7 g of potassium carbonate, 15 mL of tetrahydrofuran, 10 mL of water and 0.2 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were added and heated to reflux for 8 hours. Cool and pour the reaction into water. Extracted with toluene and washed sequentially with water and brine.
  • the compound represented by formula (I-241R) was manufactured by the method described in Synthesis Example 2 of JP-A-2017-75095. GC purity: 99.77% LC-MS: 379 [M + 1] From the above results, in the production methods described in Examples 1 to 11, the compounds of Formula (I-1) to Formula (I-5), Formula (I-82), Formula (I-5), Compounds represented by the formula (I-121), the formula (I-151), the formula (I-181), the formula (I-211) and the formula (I-241) could be obtained. On the other hand, in the production methods described in Comparative Example 1 to Comparative Example 7, the purity of the obtained compound was lower in the ordinary purification method than in the production methods described in Examples 1 to 11.
  • a first substrate having a transparent electrode layer formed of a transparent common electrode and a color filter layer, and a second substrate (pixel) having a pixel electrode layer having a transparent pixel electrode driven by an active element
  • An electrode substrate was produced.
  • each pixel electrode substrate in order to divide the alignment of liquid crystal molecules, each pixel electrode was etched with ITO so that a slit having no electrode exists.
  • a vertical alignment film material containing a polyimide precursor is applied by spin coating to each of the common electrode substrate and the pixel electrode substrate, and the coated film is heated at 200 ° C. to form the polyimide precursor in the vertical alignment film material. It was cured to form a vertical alignment film of 100 nm ⁇ 20 nm on the surface of each substrate.
  • a polyimide solution containing 3% of a polyimide precursor (trade name: JALS2131-R6, manufactured by JSR Corporation) was used.
  • the liquid crystal composition to be evaluated was sandwiched between the common electrode substrate on which the vertical alignment film was formed and the pixel electrode substrate, and then the sealing material was cured to form a liquid crystal composition layer.
  • the thickness of the liquid crystal composition layer was set to 3.0 ⁇ m by using a spacer having a thickness of 3.0 ⁇ m.
  • the following table shows the relationship between the compound to be evaluated and the liquid crystal display element.
  • the burn-in evaluations were performed on the display elements of Example 12 to Example 22 and Comparative Example 15 to Comparative Example 28.
  • the burn-in evaluation was performed by displaying the predetermined fixed pattern in the display area for 1000 hours and visually observing the level of the residual image of the fixed pattern when uniform display was performed on the entire screen in the following four steps.
  • C afterimage is too much tolerable level
  • the display elements of Comparative Examples 15 to 28 have the same structures as Formula (I-1) to Formula (I-5), Formula (I-82), Formula (I-121), and Formula (I-151), respectively.
  • the display devices using the compounds represented by the formula (I-181), the formula (I-211) and the formula (I-241) a large amount of burn-in was observed.
  • the production method of the present invention can be produced with a small number of steps and with high purity, it is possible to use tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane in the molecular structure. It is useful as a method for producing a compound having a -2,5-diyl group and a 4-alkoxy-2,3-difluorophenyl group. Moreover, the compound manufactured by the manufacturing method of this invention is useful as a material for liquid crystal display elements.

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Abstract

本願発明は、部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）又は部分構造（ＤＩ）で表される基を有する化合物（ｉａ）と、部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））又は部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基を有する化合物（ｉｂ）とを、遷移金属触媒存在下、カップリングさせることにより、部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）又は部分構造（ＤＩ）　で表される基と、部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））又は部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ）） で表される基とを有する化合物（ｉ）を製造する製造方法である。

Description

化合物の製造方法
　本発明は分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基と４－アルコキシ－２，３－ジフルオロフェニル基等とを有する化合物の製造方法、当該化合物を用いた液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した表示素子に関する。
　ＴＦＴ液晶材料に使用される液晶化合物及び添加剤は、ディスプレイに焼き付きを引き起こす不純物を含有しないことは元より、なるべく高純度であることが好ましいとされている。ＴＦＴ液晶表示素子の種類であるＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌ　ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＰＳＡ（ｐｏｌｙｍｅｒ　ｓｕｓｔａｉｎｅｄ　ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ｎ－ＦＦＳ（ｆｒｉｎｇｅ　ｆｉｅｌｄ　ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示素子には、誘電率異方性が負であるｎ型液晶組成物が使用される。特にｎ型液晶組成物を使用する液晶表示素子においては、組成物中に含まれる金属不純物による表示素子の品質に対する影響が大きいことから、組成物に混合して使用される化合物には低い金属不純物含有量が求められている。化合物に含まれる金属不純物としては、例えば化合物を、パラジウム触媒を使用したカップリング反応によって製造する場合、使用したパラジウム触媒に由来するものが挙げられる。
　分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を有する化合物は、ｐ型及びｎ型液晶組成物の構成材料として一般的な化合物である。しかしながら、テトラヒドロピラン環又はジオキサン環を有する中間体を、パラジウム触媒を用いたカップリング反応に使用した場合、得られた化合物をｎ型液晶組成物に添加し液晶パネルを製造した場合、長期間の使用によって焼き付きが起こりやすくなってしまう問題があった。これは、反応に使用したパラジウムがテトラヒドロピラン環又はジオキサン環上の酸素原子に配位してしまい、精製工程において完全に除去しきれず、不純物として残留してしまったことが原因であると考えられる。そのため、従来、金属不純物による表示素子への影響が特に大きいｎ型液晶組成物に添加される化合物であり、分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を有する化合物の製造においては、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を有する中間体をパラジウム触媒存在下カップリング反応に使用することは避けられていた。
　分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基と４－アルコキシ－２，３－ジフルオロフェニル基とを有する化合物は、ｎ型液晶組成物への溶解性が高く、負に大きな誘電率異方性を有することからｎ型液晶組成物の構成材料として有用な化合物である。前記パラジウム由来の金属不純物による品質低下への懸念から、当該化合物は、テトラヒドロピラン環を構成する前の段階において、カップリング反応を実施しパラジウム由来の不純物を除去した後に、テトラヒドロピラン環を構成する方法が採られていた（非特許文献２）。しかしながら、当該製造方法には中間体の結晶性が低いため各中間体における再結晶による不純物除去効率が低く若しくは中間体が液体であるため再結晶による精製が行えず、最終的に得られる化合物の純度が低くなってしまう問題があった。低純度の化合物を使用し、液晶パネルを製造した場合、長期間の使用によって焼き付きが起こってしまったりムラが発生してしまったりしてしまい、ディスプレイ製品の品質を低下させてしまう可能性がある。そのため、このような問題を解決する、分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基と４－アルコキシ－２，３－ジフルオロフェニル基とを有する化合物等の、分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を有する誘電率異方性が負の液晶化合物の製造方法の開発が求められていた。
特開２０１７－７５０９５号公報
Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ誌、２００８年、２０号、３４７９－３４８７頁 Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ　ａｎｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ誌、２０１１年、５４２巻、１６／［５３８］－２７［５４９］頁
　本発明が解決しようとする課題は、分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を有する誘電率異方性が負の液晶化合物を簡便かつ高純度に得る製造方法を提供することである。さらに、当該化合物を用いた液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した表示素子を提供する。
　本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、特定の製造方法の開発に至った。すなわち、本願発明は、部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）及びは部分構造（ＤＩ）で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉａ）と、上記部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））及びは部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉｂ）とを、遷移金属触媒存在下、カップリングさせることにより、部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）及び部分構造（ＤＩ）で表される基から選択される１種又は２種以上の基と、部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））及びは部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基から選択される１種又は２種以上の基とを有する化合物（ｉ）の製造方法を提供し、当該化合物を用いた液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した表示素子、それらを使用したパーソナルコンピュータ、スマートフォン、テレビ、モニター、ドローン、デジタルサイネージ、電子黒板、家電製品、販売機、券売機、改札機、携帯機器、制御装置、製造装置、現金自動預払機、キャッシュレジスター、カーナビゲーションシステム、ゲーム機、装飾機材、舞台設備、車載モニター、運搬機器、自動車、鉄道、リニアモーターカー、航空機、船舶及び宇宙船を提供する。
　本願発明の製造方法は、少ない工程数によって、且つ高純度で製造することが可能であることから、分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を有する誘電率異方性が負の液晶化合物の製造方法として有用である。また、本願発明の製造方法によって製造された化合物は液晶表示素子用の材料として有用である。
　本願発明の製造方法は下記部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）及びは部分構造（ＤＩ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
で表される基から選択される１種又は２種以上の基と下記部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））及び部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
で表される基から選択される１種又は２種以上の基とを有する化合物（ｉ）の製造方法であって、上記部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）及び部分構造（ＤＩ）で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉａ）と、上記部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））及び部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉｂ）とを、遷移金属触媒存在下、カップリング反応によって製造することを特徴とする。
　化合物（ｉ）としては、下記一般式（Ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ａ０は部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）又は部分構造（ＤＩ）で表される基を表し、ＡＹは部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））又は部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基を表し、Ａ１、Ａ２、Ａ３及びＡ４は各々独立して１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ１によって置換されても良く、Ａ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ３が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すが、Ｚ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ３が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ１、ｍ３及びｍ４は各々独立して０から３の整数を表し、ｍ２は１から３の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１から３の整数を表す。）で表される化合物であることが好ましい。
　一般式（Ｉ）において、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。ｎ型液晶組成物に添加した場合の保存安定性、溶解性、液晶性、誘電率異方性及び屈折率異方性の観点から、Ｒ１及びＲ２は各々独立して１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状アルキル基を表すことが好ましく、Ｒ１及びＲ２は各々独立して１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－又は－ＣＨ＝ＣＨ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表すことがより好ましく、Ｒ１は１個の－ＣＨ２－が－ＣＨ＝ＣＨ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表し、Ｒ２は１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－又は－ＣＨ＝ＣＨ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表すことがさらに好ましく、Ｒ１は炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基、炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表すことがさらにより好ましく、Ｒ１は炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基を表すことが特に好ましい。
　一般式（Ｉ）において、Ａ０は部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）又は部分構造（ＤＩ）で表される基を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、Ａ０は部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）又は部分構造（Ｄ）で表される基を表すことが好ましく、Ａ０は部分構造（Ａ）又は部分構造（ＡＩ）で表される基を表すことがより好ましく、部分構造（Ａ）で表される基を表すことが特に好ましい。
　一般式（Ｉ）において、ＡＹは部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））又は部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、ＡＹは部分構造（Ｙ）で表される基を表すことが好ましい。
　一般式（Ｉ）において、Ａ１、Ａ２、Ａ３及びＡ４は各々独立して１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ１によって置換されても良く、Ａ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ３が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、Ａ１、Ａ２、Ａ３及びＡ４は各々独立して下記の式（Ａ－１）から式（Ａ－９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式（Ａ－１）から式（Ａ－５）、式（Ａ－８）又は式（Ａ－９）から選ばれる基を表すことがより好ましく、上記の式（Ａ－１）から式（Ａ－５）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、上記の式（Ａ－１）から式（Ａ－４）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、上記の式（Ａ－１）、式（Ａ－３）又は式（Ａ－４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
　一般式（Ｉ）において、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表すことが好ましく、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から３の直鎖状アルキル基を表すことがより好ましく、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基を表すことがさらに好ましく、Ｌ１はフッ素原子又は塩素原子を表すことがさらにより好ましく、Ｌ１はフッ素原子を表すことが特に好ましい。
　一般式（Ｉ）において、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すが、Ｚ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ３が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、表示素子にした場合の物性の観点から、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－又は単結合を表すことが好ましく、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－又は単結合を表すことがより好ましく、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－又は単結合を表すことがさらに好ましく、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は各々独立して－ＣＨ２ＣＨ２－又は単結合を表すことがさらにより好ましく、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は単結合を表すことが特に好ましい。
　一般式（Ｉ）において、ｍ１、ｍ３及びｍ４は各々独立して０から３の整数を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、ｍ１、ｍ３及びｍ４は各々独立して０、１又は２を表すことが好ましく、ｍ１、ｍ３及びｍ４は各々独立して０又は１を表すことがより好ましく、ｍ１、ｍ３及びｍ４は０を表すことが特に好ましい。
　一般式（Ｉ）において、ｍ２は１から３の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１から３の整数を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、ｍ２は１又は２を表すことが好ましく、ｍ２は１を表すことが特に好ましい。ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１又は２を表すことが好ましく、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１を表すことが特に好ましい。
　化合物（ｉａ）としては、下記一般式（ＩＡ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
（式中、Ｒ１、Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｍ１及びｍ２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。）で表される化合物であることが好ましい。
　一般式（ＩＡ）において、Ｒ１、Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｍ１及びｍ２の好ましい条件は一般式（Ｉ）と同じである。
　本願発明において、ジヒドロキシボリル基とは下記の式（ＸＢ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
で表される基を意味し、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基とは下記の式（ＸＢ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
（式中、ＲＸＢ１及びＲＸＢ２は各々独立して炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）で表される基を意味し、炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基とは下記の式（ＸＢ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
（式中、環ＡＸＢ１は－Ｏ－Ｂ－Ｏ－と炭素原子数１から２０のアルキレン基によって形成される環構造を表す。）で表される基を意味する。炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基としては例えば下記の式（ＸＢ－２－１）で表されるジメトキシボリル基、式（ＸＢ－２－２）で表されるジエトキシボリル基、式（ＸＢ－２－３）で表されるジプロポキシボリル基、式（ＸＢ－２－４）で表されるジイソプロポキシボリル基及び式（ＸＢ－２－５）で表されるジｔｅｒｔ－ブチルオキシボリル基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
が挙げられる。また、炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基としては例えば下記の式（ＸＢ－３－１）で表される１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、式（ＸＢ－３－２）で表される４－メチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、式（ＸＢ－３－３）で表される４，５－ジメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、式（ＸＢ－３－４）で表される４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、式（ＸＢ－３－５）で表されるヘキサヒドロ－５，５－ジメチル－４，６－メタノ－１，３，２－ベンゾジオキサボロラン－２－イル基及び式（ＸＢ－３－６）で表されるヘキサヒドロ－３ａ，５，５－トリメチル－４，６－メタノ－１，３，２－ベンゾジオキサボロラン－２－イル基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　一般式（ＩＡ）において、Ｘ１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことが好ましく、Ｘ１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことがより好ましく、Ｘ１は臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、Ｘ１は臭素原子を表すことが特に好ましい。
　化合物（ｉｂ）としては、下記一般式（ＩＢ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
（式中、Ａ３、Ａ４、ＡＹ、Ｚ３、Ｚ４、ｍ３、ｍ４及びＲ２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Ｘ１がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Ｘ１がジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物であることが好ましい。
　一般式（ＩＢ）において、Ａ３、Ａ４、ＡＹ、Ｚ３、Ｚ４、ｍ３、ｍ４及びＲ２の好ましい条件は一般式（Ｉ）と同じである。
　一般式（ＩＢ）において、Ｘ２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Ｘ１がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Ｘ１がジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ２は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことが好ましく、Ｘ２はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことがより好ましく、Ｘ２はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２又は４の直鎖状ジアルコキシボリル基、炭素原子数６の分岐状ジアルコキシボリル基、炭素原子数２から６の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、Ｘ２はジヒドロキシボリル基、ジメトキシボリル基、ジエトキシボリル基、ジイソプロポキシボリル基、１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、４－メチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、４，５－ジメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、Ｘ２はジヒドロキシボリル基を表すことが特に好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
（式中、Ｒ１１及びＲ２１は各々独立して１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状アルキル基を表し、Ａ０１は下記の式（Ａ０－ｉ－１）又は式（Ａ０－ｉ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
から選ばれる基を表し、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１及びＡ４１は各々独立して下記の式（Ａ－ｉ－１）から式（Ａ－ｉ－９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
（式中、Ｌ１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表す。）から選ばれる基を表すが、Ａ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ２１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ４１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１及びＺ４１は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－又は単結合を表すが、Ｚ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ２１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ４１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ１１、ｍ３１及びｍ４１は各々独立して０、１又は２を表し、ｍ２１は１又は２を表すが、ｍ１１＋ｍ２１＋ｍ３１＋ｍ４１は１、２又は３を表す。）で表される化合物が好ましく、化合物（ｉａ）（一般式（ＩＡ）で表される化合物）としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
（式中、Ｒ１１、Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ｚ１１、Ｚ２１、ｍ１１及びｍ２１は一般式（Ｉ－ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ１１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。）で表される化合物が好ましく、化合物（ｉｂ）（一般式（ＩＢ）で表される化合物）としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
（式中、Ａ３１、Ａ４１、Ｚ３１、Ｚ４１、ｍ３１、ｍ４１及びＲ２１は一般式（Ｉ－ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ２１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Ｘ１１が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２１はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Ｘ１１がジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物が好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
（式中、Ｒ１１１及びＲ２１１は各々独立して１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－又は－ＣＨ＝ＣＨ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表し、Ａ０１１は下記の式（Ａ０－ｉ－１－１）又は式（Ａ０－ｉ－１－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
から選ばれる基を表し、Ａ２１１及びＡ３１１は各々独立して下記の式（Ａ－ｉ－１－１）から式（Ａ－ｉ－１－５）、式（Ａ－ｉ－１－８）又は式（Ａ－ｉ－１－９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
（式中、Ｌ１１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から３の直鎖状アルキル基を表す。）から選ばれる基を表すが、Ａ２１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ３１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ２１１及びＺ３１１は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－又は単結合を表すが、Ｚ２１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ３１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ３１１は各々独立して０、１又は２を表し、ｍ２１１は１又は２を表すが、ｍ２１１＋ｍ３１１は１又は２を表す。）で表される化合物がより好ましく、一般式（ＩＡ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
（式中、Ｒ１１１、Ａ０１１、Ａ２１１、Ｚ２１１及びｍ２１１は一般式（Ｉ－ｉ－１）と同じ意味を表し、Ｘ１１１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物がより好ましく、一般式（ＩＢ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
（式中、Ａ３１１、Ｚ３１１、ｍ３１１及びＲ２１１は一般式（Ｉ－ｉ－１）と同じ意味を表し、Ｘ２１１はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。）で表される化合物がより好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ－１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
（式中、Ｒ１１１１は１個の－ＣＨ２－が－ＣＨ＝ＣＨ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表し、Ｒ２１１１は１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－又は－ＣＨ＝ＣＨ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表し、Ａ０１１１は下記の式（Ａ０－ｉ－１１－１）又は式（Ａ０－ｉ－１１－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
から選ばれる基を表し、Ａ２１１１は下記の式（Ａ－ｉ－１１－１）から式（Ａ－ｉ－１１－５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
（式中、Ｌ１１１１はフッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基を表す。）から選ばれる基を表すが、Ａ２１１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ２１１１は－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－又は単結合を表すが、Ｚ２１１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ２１１１は１又は２を表す。）で表される化合物がさらに好ましく、一般式（ＩＡ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ－１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
（式中、Ｒ１１１１、Ａ０１１１、Ａ２１１１、Ｚ２１１１及びｍ２１１１は一般式（Ｉ－ｉ－１１）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１は塩素、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物がさらに好ましく、一般式（ＩＢ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ－１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
（式中、Ｒ２１１１は一般式（Ｉ－ｉ－１１）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１はジヒドロキシボリル基、ジメトキシボリル基、ジエトキシボリル基、ジイソプロポキシボリル基、１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、４－メチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基、４，５－ジメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基から選ばれる基から選ばれる基を表す。）で表される化合物がさらに好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ－１１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
（式中、Ｒ１１１１１は炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１１は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＡ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ－１１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
（式中、Ｒ１１１１１は一般式（Ｉ－ｉ－１１１）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１１は臭素原子を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＢ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ－１１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
（式中、Ｒ２１１１１は一般式（Ｉ－ｉ－１１１）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１１はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物が特に好ましい。また、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ－１１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
（式中、Ｒ１１１１２は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１２は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＡ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ－１１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
（式中、Ｒ１１１１２は一般式（Ｉ－ｉ－１１２）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１２は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＢ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ－１１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
（式中、Ｒ２１１１２は一般式（Ｉ－ｉ－１１２）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１２はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物が特に好ましい。また、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ－１１３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
（式中、Ｒ１１１１３は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１３は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＡ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ－１１３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
（式中、Ｒ１１１１３は一般式（Ｉ－ｉ－１１３）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１３は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＢ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ－１１３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
（式中、Ｒ２１１１３は一般式（Ｉ－ｉ－１１３）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１３はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物が特に好ましい。また、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ－１１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
（式中、Ｒ１１１１４は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１４は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＡ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ－１１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
（式中、Ｒ１１１１４は一般式（Ｉ－ｉ－１１４）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１４は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＢ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ－１１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
（式中、Ｒ２１１１４は一般式（Ｉ－ｉ－１１４）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１４はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物が特に好ましい。また、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ－ｉ－１１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
（式中、Ｒ１１１１５は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１５は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＡ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＡ－ｉ－１１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
（式中、Ｒ１１１１５は一般式（Ｉ－ｉ－１１５）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１５は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物が特に好ましく、一般式（ＩＢ）で表される化合物としては、下記の一般式（ＩＢ－ｉ－１１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
（式中、Ｒ２１１１５は一般式（Ｉ－ｉ－１１５）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１５はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物が特に好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の一般式（Ｉ－Ｅ－１）から一般式（Ｉ－Ｅ－３６０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
（式中、Ｒ１Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基、炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物が好ましい。
　一般式（ＩＡ）で表される化合物として具体的には、下記の一般式（ＩＡ－Ｅ－１）から一般式（ＩＡ－Ｅ－１８０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000146
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000169
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000170
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177
（式中、Ｒ１Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基を表し、Ｘ１Ｅは塩素、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物が好ましい。
　一般式（ＩＢ）で表される化合物として具体的には、下記の一般式（ＩＢ－Ｅ－１）から一般式（ＩＢ－Ｅ－１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000179
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180
（式中、Ｒ２Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基、炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表し、Ｘ２Ｅはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基から選ばれる基を表す。）で表される化合物が好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される化合物としてより具体的には、下記の式（Ｉ－１）から式（Ｉ－２７０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000181
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000182
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000183
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000184
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000185
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000186
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000187
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000188
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000189
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000190
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000191
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000192
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000193
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000194
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000195
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000196
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000197
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000198
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000199
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000200
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000201
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000202
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000203
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000204
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000205
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000206
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000207
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000208
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000209
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000210
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000211
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000212
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000213
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000214
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000215
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000216
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000217
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000218
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000219
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000220
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000221
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000222
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000223
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000224
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000225
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000226
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000227
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000228
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000229
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000230
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000231
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000232
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000233
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000234
で表される化合物が好ましい。
　上記の化合物（ｉａ）と化合物（ｉｂ）との反応としては、遷移金属化合物を使用する方法が好ましい。遷移金属化合物としては、第８族から第１１族元素を含む化合物であることが好ましく、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀又は金を含む化合物であることがより好ましく、収率、入手容易さ及びコストの観点から、鉄、ニッケル、パラジウム又は銅を含む化合物であることが特に好ましい。鉄を含む化合物として具体的には、トリス（２，４－ペンタンジオナト）鉄（ＩＩＩ）、トリス（ヘキサフルオロアセチルアセトナト）鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩ）、ステアリン酸鉄（ＩＩＩ）、トリス（トリフルオロ－２，４－ペンタンジオナト）鉄（ＩＩＩ）、トリス（ジベンゾイルメタナト）鉄（ＩＩＩ）、トリカルボニル（シクロオクタテトラエン）鉄、ペンタカルボニル鉄、ノナカルボニル二鉄、ドデカカルボニル三鉄、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、１，２－フェニレンビス［ジフェニル］ホスフィン鉄錯体、シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）ジカルボニルダイマー、硝酸鉄（ＩＩＩ）、鉄、トリフルオロメタンスルホン酸鉄（ＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸鉄（ＩＩＩ）、ｐ－トルエンスルホン酸鉄（ＩＩＩ）、硫酸アンモニウム鉄（ＩＩ）、硫酸鉄（ＩＩ）、硫酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウム、臭化鉄（ＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）トリフルオロアセチルアセトナート、フッ化鉄（ＩＩＩ）、フェロセン誘導体等が挙げられる。ニッケルを含む化合物として具体的には、［１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、［１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、ビス（１，５－シクロオクタジエン）ニッケル（０）、［１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾール－２－イリデン］トリフェニルホスフィンニッケル（ＩＩ）ジクロリド、ブロモ［（２，６－ピリジンジイル）ビス（３－メチル－１－イミダゾリル－２－イリデン）］ニッケルブロミド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、クロロビス［ジシクロヘキシル（フェニル）ホスフィノ］（ｏ－トリル）ニッケル（ＩＩ）、ビス（２，４－ペンタンジオナト）ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、［１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ジクロロニッケル（ＩＩ）、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロニッケル（ＩＩ）、［１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］ジクロロニッケル（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、フッ化ニッケル（ＩＩ）、ヘキサフルオロニッケル（ＩＶ）酸カリウム、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）、硫酸ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）エチレングリコールジメチルエーテル錯体、臭化ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）等が挙げられる。パラジウムを含む化合物として具体的には、酢酸パラジウム（ＩＩ）、アリルパラジウム（ＩＩ）クロリド（ダイマー）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、［１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（２，４－ペンタンジオナト）パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリ－ｏ－トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジアセタート、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド　ジクロロメタン付加物、［１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス［１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（０）、ビス［ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（４－ジメチルアミノフェニル）ホスフィン］パラジウム（０）、クロロ［［１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾール－２－イリデン］（Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン）パラジウム（ＩＩ）］、クロロ［［１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾール－２－イリデン］（アセトアニリド）パラジウム（ＩＩ）］、クロロ［［１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾール－２－イリデン］（Ｎ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメトキシベンジルアミン）パラジウム（ＩＩ）］、クロロ［（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）－２－（２－アミノビフェニル）］パラジウム（ＩＩ）、［ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（クロロ）ホスフィン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド　（ダイマー）、二水素ジ－μ－クロロテトラキス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィナイト）ジパラダート、ジ－μ－クロロビス［５－クロロ－２－［（４－クロロフェニル）（ヒドロキシイミノ）メチル］フェニル］パラジウム（ＩＩ）ダイマー、ジ－μ－クロロビス［５－ヒドロキシ－２－［１－（ヒドロキシイミノ）エチル］フェニル］パラジウム（ＩＩ）ダイマー、ジ－μ－クロロビス［２－［（ジメチルアミノ）メチル］フェニル－Ｃ，Ｎ］ジパラジウム（ＩＩ）、ジ－μ－クロロビス［２－［（ジメチルアミノ）メチル］－４，６－ジメトキシフェニル－Ｃ，Ｎ］ジパラジウム（ＩＩ）、ジ－μ－クロロビス（２’－アミノ－１，１’－ビフェニル－２－イル－Ｃ，Ｎ）ジパラジウム（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、パラジウム、パラジウム／炭素、パラジウム（ＩＩ）（π－シンナミル）クロリド（ダイマー）、パラジウム／アルミナ、テトラクロロパラジウム（ＩＩ）酸ナトリウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、テトラキス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）ビス（トリフルオロメタンスルホナート）、（エチレンジアミン）パラジウム（ＩＩ）クロリド、クロロ［（１，２，５，６－η）－１，５－シクロオクタジエン］（２，２－ジメチルプロピル）パラジウム、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）メチルパラジウム（ＩＩ）、ジクロロ（１，５－シクロオクタジエン）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート、１，１’－ビス（ジイソプロピルホスフィノ）フェロセンパラジウムジクロリド、ビス［（ジシクロヘキシル）（４－ジメチルアミノフェニル）ホスフィン］塩化パラジウム（ＩＩ）、［１，１’－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、［１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、［１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）、塩化パラジウム（ＩＩ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）、硫酸パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、フッ化パラジウム（ＩＩ）等が挙げられる。銅を含む化合物として具体的には、酢酸銅（Ｉ）、ビス（１，３－プロパンジアミン）銅（ＩＩ）ジクロリド、ビス（８－キノリノラト）銅（ＩＩ）、ビス（２，４－ペンタンジオナト）銅（ＩＩ）、シアン化銅（Ｉ）、酢酸銅（ＩＩ）、テトラフルオロほう酸銅（ＩＩ）、ジ－μ－ヒドロキソ－ビス［（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン）銅（ＩＩ）］クロリド、ジクロロ（１，１０－フェナントロリン）銅（ＩＩ）、テトラクロロ銅（ＩＩ）ジリチウム、トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸銅（Ｉ）　ベンゼン　コンプレックス、テトラキス（アセトニトリル）銅（Ｉ）ヘキサフルオロホスファート、テトラキス（アセトニトリル）銅（Ｉ）テトラフルオロボラート、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、硝酸銅（ＩＩ）、銅、フルオロトリス（トリフェニルホスフィン）銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、硫酸銅（ＩＩ）、臭化銅（ＩＩ）等が挙げられる。これらの化合物は水和物であっても良く、誘導化しても良い。
　遷移金属化合物の添加量としては、コスト、収率及び精製の容易さの観点から、化合物（ｉａ）に対して０．００００１当量から１０当量であることが好ましく、０．０００１当量から１当量であることがより好ましく、０．００１当量から０．５当量であることがさらに好ましく、０．０１当量から０．１当量であることが特に好ましい。また、化合物（ｉｂ）に対して０．００００１当量から１０当量であることが好ましく、０．０００１当量から１当量であることがより好ましく、０．００１当量から０．５当量であることがさらに好ましく、０．０１当量から０．１当量であることが特に好ましい。
　化合物（ｉ）の製造において、化合物（ｉｂ）の添加量としては、コスト、収率及び精製の容易さの観点から、化合物（ｉａ）に対して０．１当量から１０当量であることが好ましく、０．５当量から２当量であることがより好ましく、０．８当量から１．２当量であることがさらに好ましく、０．９当量から１．１当量であることが特に好ましい。
　化合物（ｉ）の製造において、化合物（ｉａ）、化合物（ｉｂ）及び遷移金属化合物の混合順序としては、反応温度の制御、作業性、収率及び得られる化合物の純度の観点から、化合物（ｉａ）と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物（ｉｂ）を加えるか、化合物（ｉａ）と化合物（ｉｂ）を含有する混合物に対し、遷移金属化合物を加えるか、化合物（ｉｂ）と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物（ｉａ）を加えるか、遷移金属化合物に対し、化合物（ｉａ）と化合物（ｉｂ）の混合物を加えることが好ましく、化合物（ｉａ）と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物（ｉｂ）を加えるか、化合物（ｉａ）と化合物（ｉｂ）を含有する混合物に対し、遷移金属化合物を加えるか、遷移金属化合物に対し、化合物（ｉａ）と化合物（ｉｂ）の混合物を加えることがより好ましく、化合物（ｉａ）と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物（ｉｂ）を加えることが特に好ましい。
　化合物（ｉ）の製造において、さらに塩基を使用することが好ましい。塩基としては無機塩基又は有機塩基であることが好ましい。無機塩基としては金属水酸化物、金属酢酸塩、金属ギ酸塩、金属シュウ酸塩、金属リン酸塩、金属リン酸水素塩、金属炭酸塩、金属炭酸水素塩、アンモニア等が好ましく、金属としてはアルカリ金属、アルカリ土類金属及びマグネシウム等が好ましく、具体的には炭酸カリウム、リン酸カリウム、アンモニア、水酸化アルミニウム、バリウム水和物、苛性バライト、水酸化バリウム、水酸化ビスマス、水酸化カドミウム、水酸化セシウム、水酸化カルシウム、水酸化セリウム、水酸化クロム、水酸化コバルト、水酸化銅、第二鉄水和物、水酸化鉄、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化マンガン、水酸化ニッケル、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化タリウム、水酸化トリウム、酢酸ナトリウム、硫酸アルミニウムナトリウム、リン酸アンモニウムナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、酢酸カルシウム、炭酸カルシウム、ギ酸カルシウム、酢酸タリウム、酢酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、炭酸水素カリウム、ギ酸カリウム、シュウ酸カリウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム、硫酸アンモニウムが挙げられる。有機塩基としては第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、芳香族アミン及びそれらの塩が好ましく、具体的にはメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン、Ｎ－エチルメチルアミン、Ｎ－メチルプロピルアミン、Ｎ－ブチルメチルアミン、Ｎ－メチルペンチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ－エチルプロピルアミン、Ｎ－ブチルエチルアミン、Ｎ－エチルペンチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、ピロリジン、ピペリジン、Ｎ－メチルピロリジン、Ｎ－メチルピペリジン、モルホリン、ピリジン、Ｎ－メチルピリジン、２－クロロピリジン、２－ブロモピリジン、ピリミジン、キノリン、アクリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン、ピコリン、ビピリジン、２，６－ルチジン、クロロクロム酸ピリジニウム、ピリジニウムパラトルエンスルホナートが挙げられる。
　化合物（ｉ）の製造において、塩基の添加量としては、コスト、収率及び精製の容易さの観点から、化合物（ｉａ）に対して０．１当量から２０当量であることが好ましく、０．５当量から５当量であることがより好ましく、０．８当量から３当量であることがさらに好ましく、１当量から２当量であることが特に好ましい。また、塩基を溶媒として使用しても良く、塩基を溶媒の一部として使用しても良い。
　化合物（ｉ）の製造において、収率及び得られる化合物の純度の観点から、反応は空気下又は不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましく、不活性ガス雰囲気下で行われることが特に好ましい。不活性ガスとしては例えば、窒素及びアルゴン等が挙げられる。
　化合物（ｉ）の製造において、反応温度の制御、作業性、収率及び得られる化合物の純度の観点から、反応には溶媒を用いることが好ましく、有機溶媒及び／又は水を用いることがより好ましく、有機溶媒又は有機溶媒と水の混合物を用いることが特に好ましい。有機溶媒としては例えば、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、芳香族アミン、脂肪族アミン、エーテル、アルコール、ハロゲン系溶媒、エステル、ケトン、アミド等が挙げられる。有機溶媒としては具体的には、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、１，２－ジクロロエチレン、１，１，２，２－テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１－クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ－ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ－キシレン、ｐ－キシレン、ｍ－キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２－メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４－ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１－メチル－２－ピロリジノン、１，１，１－トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリット等が挙げられる。有機溶媒と水の混合物を用いる場合、相関移動触媒を添加しても良い。相間移動触媒としては例えば、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ポリオキシエチレン（１０）オクチルフェニルエーテル［Ｔｒｉｔｏｎ　Ｘ－１００］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノパルミタート［Ｔｗｅｅｎ　４０］、ソルビタンモノパルミタート［Ｓｐａｎ　４０］等が挙げられる。
　化合物（ｉ）の製造において、反応温度の制御、作業性、時間、収率及び得られる化合物の純度の観点から、反応温度は－２０℃から２５０℃であることが好ましく、０℃から２００℃であることがより好ましく、室温から１５０℃であることがさらに好ましく、５０℃から１３０℃であることが特に好ましい。
　化合物（ｉ）の製造において、反応後、反応液と貧溶媒を混合し目的物を固体として析出させ、目的物の粗体を得るか、反応後、反応液と水を混合し必要に応じて有機溶媒を加え分液処理した後に溶媒を留去し、目的物の粗体を得ても良い。
　粗体として得た化合物（ｉ）について、さらに精製を行うことが好ましい。精製工程において、精製剤を用いることが好ましい。精製剤としては例えば、シリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。作業性、収率及び得られる化合物の純度の観点から、シリカゲル及び／又はアルミナを用いることが好ましく、シリカゲルを用いることが特に好ましい。また、さらに再結晶を行っても良い。
　化合物（ｉ）の製造において、有機溶媒を使用した場合、有機溶媒を減圧下濃縮することが好ましい。
　化合物（ｉ）の純度の決定方法としては、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ゲル浸透クロマトグラフィー、核磁気共鳴分光法等が挙げられる。化合物（ｉ）の純度としては、化合物の品質、液晶パネルを製造した場合のディスプレイ製品の品質及び化合物の製造コストとのバランスの観点から、液体クロマトグラフィー（ＵＶ検出器、２１０ｎｍ）又はガスクロマトグラフィー（ＦＩＤ検出器）を使用して、９５．００％から１００．００％であることが好ましく、９８．００％から１００．００％であることがより好ましく、９９．００％から１００．００％であることがさらに好ましく、９９．５０％から９９．９９％であることがさらにより好ましく、９９．９０％から９９．９９％であることが特に好ましい。
　化合物（ｉ）の金属不純物含有量の決定方法としては、誘導結合プラズマ質量分析法（ＩＣＰ－ＭＳ）が好ましい。得られた化合物（ｉ）をｎ型液晶組成物に添加し液晶パネルを製造した場合の焼き付きの起こりにくさの観点から、化合物（ｉ）の金属不純物含有量としては、誘導結合プラズマ質量分析法（ＩＣＰ－ＭＳ）を使用して、０．００ｐｐｔから１．００ｐｐｍであることが好ましく、０．００ｐｐｔから１００ｐｐｂであることがより好ましく、０．０１ｐｐｔから１０．０ｐｐｂであることがさらに好ましく、０．０１ｐｐｔから１．００ｐｐｂであることがさらにより好ましく、０．０１ｐｐｔから１００ｐｐｔであることが特に好ましい。
　化合物（ｉ）、化合物（ｉａ）、化合物（ｉｂ）、一般式（Ｘ１）で表される化合物、一般式（Ｘ２）で表される化合物及び一般式（Ｘ１）で表される化合物に含まれる１，４－シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基及び１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基は、シス体及びトランス体のいずれか一方のみであっても、両方の混合物であっても良いが、液晶性の観点からトランス体が主成分であることが好ましく、トランス体の割合が９０％以上であることがより好ましく、トランス体の割合が９５％以上であることがさらに好ましく、トランス体の割合が９９％以上であることがさらにより好ましく、トランス体の割合が９９．９％以上であることが特に好ましい。
　本願発明の製造方法によって製造された化合物（ｉ）は種々の組成物に添加することが好ましく、液晶組成物に添加することがより好ましい。本願発明の製造方法によって製造された化合物（ｉ）は金属不純物含有量が低いことから、特に組成物中に含まれる金属不純物による表示素子の品質に対する影響が大きいｎ型液晶組成物に添加することが特に好ましい。
　本願発明の製造方法によって製造された化合物（ｉ）をｎ型液晶組成物に添加する場合、ｎ型液晶組成物には下記一般式（Ｘ１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000235
（式中、Ｒ３及びＲ４は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ａ５及びＡ６は各々独立して１，４－フェニレン基又は１，４－シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基ＬＸ１によって置換されても良く、Ａ５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ６が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ＬＸ１はフッ素原子を表し、Ｚ５及びＺ６は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すが、Ｚ５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ６が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ５及びｍ６は各々独立して０から３の整数を表すが、ｍ５＋ｍ６は０から３の整数を表す。）で表される化合物を含むことが好ましく、上記一般式（Ｘ１）で表される化合物としては、下記一般式（Ｘ１－Ｅ－１）から一般式（Ｘ１－Ｅ－９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000236
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000237
（式中、Ｒ３Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ４Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基、炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物がより好ましい。
　本願発明の製造方法によって製造された化合物（ｉ）をｎ型液晶組成物に添加する場合、ｎ型液晶組成物には下記一般式（Ｘ２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000238
（式中、Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ａ７及びＡ８は各々独立して１，４－フェニレン基又は１，４－シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基ＬＸ２によって置換されても良く、Ａ７が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ＬＸ２はフッ素原子を表し、Ｚ７は－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すが、Ｚ７が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ７は各々独立して０から３の整数を表す。）で表される化合物を含むことが好ましく、上記一般式（Ｘ２）で表される化合物としては、下記一般式（Ｘ２－Ｅ－１）から一般式（Ｘ２－Ｅ－７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000239
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000240
（式中、Ｒ５Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基、炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表し、Ｒ６Ｅは炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基、炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数２から６の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物がより好ましい。
　本願発明の製造方法によって製造された化合物（ｉ）をｎ型液晶組成物に添加する場合、ｎ型液晶組成物には下記一般式（Ｘ３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000241
（式中、Ｒ７は各々独立して水素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２５の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ａ９は１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基ＬＸ３によって置換されても良く、Ａ９が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ＬＸ３はフッ素原子、又は、１個の－ＣＨ２－隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ｚ８は－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－又は単結合を表すが、Ｚ８が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ８は各々独立して０から３の整数を表す。）で表される化合物を含むことが好ましく、上記一般式（Ｘ３）で表される化合物としては、下記一般式（Ｘ３－Ｅ－１）から一般式（Ｘ３－Ｅ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000242
（式中、Ｒ７Ｅは炭素原子数１から２０の直鎖状アルキル基を表す。）で表される化合物がより好ましい。
　以下、本願発明の製造方法によって化合物（ｉ）を得る工程の一例を示す。
（製法１）下記一般式（Ｉ－ｉｓ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000243
（式中、Ｒ１１、Ｒ２１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１、Ａ４１、Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１、Ｚ４１、ｍ１１、ｍ２１、ｍ３１及びｍ４１は一般式（Ｉ－ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ１１は一般式（ＩＡ－ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ２１は一般式（ＩＢ－ｉ）と同じ意味を表す。）
　一般式（ＩＡ－ｉｓ）で表される化合物を一般式（ＩＢ－ｉｓ）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｉ－ｉｓ）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒の具体例としては［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等が挙げられる。塩基の具体例としては炭酸カリウム、リン酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。反応条件としては例えばＭｅｔａｌ－Ｃａｔａｌｙｚｅｄ　Ｃｒｏｓｓ－Ｃｏｕｐｌｉｎｇ　Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ（Ａｒｍｉｎ　ｄｅ　Ｍｅｉｊｅｒｅ、Ｆｒａｎｃｏｉｓ　Ｄｉｅｄｒｉｃｈ共著、Ｗｉｌｅｙ－ＶＣＨ）、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ　Ｒｅａｇｅｎｔｓ　ａｎｄ　Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｎｅｗ　Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　２１ｓｔ　Ｃｅｎｔｕｒｙ（Ｊｉｒｏ　Ｔｓｕｊｉ著、Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｌｔｄ．）、Ｃｒｏｓｓ－Ｃｏｕｐｌｉｎｇ　Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ　Ｐｒａｃｔｉｃａｌ　Ｇｕｉｄｅ（Ｔｏｐｉｃｓ　ｉｎ　Ｃｕｒｒｅｎｔ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｋ．Ｆｕｇａｍｉ、Ｔ．Ｈｉｙａｍａ、Ｍ．Ｋｏｓｕｇｉ、Ｍ．Ｍｉｕｒａ、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ａ．Ｒ．Ｍｕｃｉ、Ｍ．Ｎｏｍｕｒａ、Ｅ．Ｓｈｉｒａｋａｗａ、Ｋ．Ｔａｍａｏ著、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ）等の文献に記載の方法が挙げられる。
　前記以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ－Ｉｎｓｔｉｔｕｔ　ｆｕｅｒ　Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ－Ｖｅｒｌａｇ　Ｂｅｒｌｉｎ　ａｎｄ　Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ　ＧｍｂＨ　＆　Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’　Ｒｅａｇｅｎｔｓ　ｆｏｒ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載のもの又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ａｂｓｔｒａｃｔｓ　Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ）、Ｒｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ　Ｌｔｄ．）等のデータベースに収載のものが挙げられる。
　また、前記工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒の具体例としてはエタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン、水等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒の具体例としてはベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。
　また、前記工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤の具体例としてはシリカゲル、アルミナ、活性炭等が挙げられる。
　以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。各工程において酸素及び／又は水分に不安定な物質を取り扱う際は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で作業を行うことが好ましい。以下具体的に記載されている作業に加えて必要に応じて、当業者間において通常行われている反応のクエンチ、分液・抽出、中和、洗浄、分離、精製、乾燥、濃縮等の作業を行っても良い。
（ＧＣ分析条件）
　カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｊ＆Ｗ　Ｃｏｌｕｍｎ　ＤＢ－１ＨＴ，１５ｍ×０．２５ｍｍ×０．１０μｍ
　温度プログラム：１００℃（１分間）－（２０℃／分間）－２５０℃－（１０℃／分間）－３８０℃－（７℃／分間）－４００℃（２．６４分間）
　注入口温度：３５０℃
　検出器温度：４００℃
（ＬＣ分析条件）
　カラム：Ｗａｔｅｒｓ　ＡＣＱＵＩＴＹ　ＵＰＬＣ　ＢＥＨ　Ｃ１８，２．１×１００ｍｍ，１．７μｍ
　溶出溶媒：アセトニトリル／水（９０：１０）、アセトニトリル／水（８５：１５）、０．１％ギ酸－アセトニトリル／水（９０：１０）又は０．１％ギ酸－アセトニトリル／水（７０：３０）
　流速：０．４ｍＬ／ｍｉｎ
　検出器：ＵＶ（ＰＤＡ）
　カラムオーブン：４０℃
（実施例１）式（Ｉ－１）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000244
　Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ誌、２００８年、２０号、３４７９－３４８７頁に記載の方法によって、式（Ｉ－１－１）で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－１－１）で表される化合物２．０ｇ、炭酸カリウム１．５ｇ、エタノール２０ｍＬ及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１ｇを加えた。加熱還流させながら、式（Ｉ－１－２）で表される化合物１．４ｇをエタノール４ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。８時間加熱還流させた後、冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（アセトン／メタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１）で表される化合物１．８ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．９２％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：０．１ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３６１［Ｍ＋１］
（実施例２）式（Ｉ－２）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000245
　ＤＥ１０２００９０１８０６７Ａ１号公報記載の方法によって、式（Ｉ－２－１）で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－２－１）で表される化合物２．０ｇ、式（Ｉ－２－２）で表される化合物１．９ｇ、リン酸カリウム２．３ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、水１０ｍＬ及び［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド　ジクロロメタン付加物０．１ｇを加え、８時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－２）で表される化合物１．７ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．９１％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：０．３ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３５９［Ｍ＋１］
（実施例３）式（Ｉ－３）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000246
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－３－１）で表される化合物２．０ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬを加えた。－２０℃に冷却し、ｔｅｒｔ－ブトキシカリウム１．０ｇを加えた。－２０℃で式（Ｉ－３－２）で表される化合物１．４ｇをテトラヒドロフラン５ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、３時間撹拌した。室温に昇温させた後、水を加えた。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）によって精製することによって、式（Ｉ－３－３）で表される化合物１．８ｇを得た。
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－３－３）で表される化合物１．８ｇ、式（Ｉ－３－４）で表される化合物１．２ｇ、炭酸カリウム１．２ｇ、エタノール２０ｍＬ及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１ｇを加え、８時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）によって精製を行い、式（Ｉ－３－５）で表される化合物１．８ｇを得た。
　窒素雰囲気下、耐圧容器に式（Ｉ－３－５）で表される化合物１．８ｇ、テトラヒドロフラン１８ｍＬ、５％パラジウム／炭素０．２ｇを加えた。水素圧０．５ＭＰａで８時間撹拌した。反応液をセライトで濾過した後、溶媒を減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－３）で表される化合物１．４ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．９５％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：５．０ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３７５［Ｍ＋１］
（実施例４）式（Ｉ－４）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000247
　ＣＮ１０２６５９５３３Ａに記載の方法によって、式（Ｉ－４－４）で表される化合物を製造した。実施例３において式（Ｉ－３－１）で表される化合物を式（Ｉ－４－１）で表される化合物に、式（Ｉ－３－４）で表される化合物を式（Ｉ－４－４）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ－４）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．８６％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：２５ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：４４９［Ｍ＋１］
（実施例５）式（Ｉ－５）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000248
　窒素雰囲気下、反応容器にマグネシウム０．２ｇ、テトラヒドロフラン１ｍＬを加えた。式（Ｉ－５－１）で表される化合物２．０ｇをテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。炭酸ガスを導入し、３時間撹拌した。５％塩酸を滴下し、酢酸エチルで抽出した。水及び食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し減圧乾燥することによって、式（Ｉ－５－２）で表される化合物１．６ｇを得た。
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－５－２）で表される化合物１．６ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。シュウ酸クロリド１．０ｇを滴下し、５時間加熱還流させた。溶媒を留去することによって、式（Ｉ－５－３）で表される化合物１．６ｇを得た。
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－５－３）で表される化合物１．６ｇ、１，３－プロパンジチオール０．８ｇ、トリフルオロメタンスルホン酸１．７ｇ、トルエン２０ｍＬを加え、１００℃で３時間加熱還流させた。冷却し、ジイソプロピルエーテルを加え、結晶を濾過した。得られた結晶を減圧乾燥することによって、式（Ｉ－５－４）で表される化合物２．２ｇを得た。
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－５－５）で表される化合物０．８ｇ、ジクロロメタン２ｍＬ、トリエチルアミン２．３ｇを加えた。－７０℃に冷却しながら、式（Ｉ－５－４）で表される化合物２．２ｇをジクロロメタン６ｍＬに溶解させた溶液を滴下し１時間撹拌した。－７０℃に冷却しながら、トリエチルアミン三フッ化水素１．５ｇを滴下し１時間撹拌した。－７０℃に冷却しながら、臭素０．７ｇを滴下し１時間撹拌した。室温まで昇温し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ－５－６）で表される化合物１．４ｇを得た。
　窒素雰囲気下、反応容器にマグネシウム０．１ｇ、テトラヒドロフラン０．２ｍＬを加えた。式（Ｉ－５－６）で表される化合物１．４ｇをテトラヒドロフラン４ｍＬに溶解させた溶液を加え、グリニャール試薬を調製した。ホウ酸トリメチル０．４ｇを滴下し１時間撹拌した。１０％塩酸１０ｍＬを滴下した。酢酸エチルで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。溶媒を留去することによって、式（Ｉ－５－７）で表される化合物１．２ｇをえた。
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－５－７）で表される化合物１．２ｇ、式（Ｉ－５－８）で表される化合物０．７ｇ、炭酸カリウム０．６ｇ、エタノール１０ｍＬ及びジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）０．１ｇを加え、８時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／ヘキサン）及び再結晶（トルエン／エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－５）で表される化合物１．８ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．８５％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：４０ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：５１９［Ｍ＋１］
（実施例６）式（Ｉ－８２）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000249
　Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ誌、２００８年、２０号、３４７９－３４８７頁に記載の方法によって、式（Ｉ－８２－１）で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－８２－１）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ－８２－２）で表される化合物１．７ｇ、炭酸カリウム１．７ｇ、テトラヒドロフラン１５ｍＬ、水１０ｍＬ及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．２ｇを加え、８時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／ヘキサン）及び再結晶（トルエン／エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－８２）で表される化合物２．０ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．９２％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：１２０ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：４４９［Ｍ＋１］
（実施例７）式（Ｉ－１２１）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000250
　反応容器に式（Ｉ－１２１－２）で表される化合物１．８ｍＬ、トルエン４０ｍＬを加えた。ジプロピルアミン２．８ｍＬをトルエン１０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、１４時間加熱還流させた。溶媒を留去した後、メタノール２５ｍＬ、トルエン１０ｍＬを加えた。式（Ｉ－１２１－１）で表される化合物３．９ｇをトルエン１５ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、５０℃で８時間加熱撹拌した。５％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／ヘキサン）によって精製を行い、式（Ｉ－１２１－３）で表される化合物４．６ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－１２１－３）で表される化合物４．６ｇ、塩化亜鉛２．０ｇ、トルエン２０ｍＬ、ギ酸１５ｍＬ、酢酸１５ｍＬを加えた。１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン１２ｍＬを滴下し、室温で８時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、５％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン）及び再結晶（アセトン／メタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１２１－４）で表される化合物２．３ｇを得た。
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－１２１－４）で表される化合物２．３ｇ、炭酸カリウム１．６ｇ、エタノール２０ｍＬ及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１ｇを加えた。加熱還流させながら、式（Ｉ－１２１－５）で表される化合物１．５ｇをエタノール４ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。８時間加熱還流させた後、冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（アセトン／メタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１２１）で表される化合物１．８ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．９２％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：０．１ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（実施例８）式（Ｉ－１５１）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000251
　反応容器に式（Ｉ－１５１－１）で表される化合物４．９ｇと、トルエン３０ｍＬを加えた。ジプロピルアミン４．０ｍＬをトルエン１０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、１４時間加熱還流させた。溶媒を留去した後、メタノール３０ｍＬ、トルエン２０ｍＬを加えた。式（Ｉ－１５１－２）で表される化合物２．９ｍＬをトルエン１０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、５０℃で１０時間加熱撹拌した。５％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／ヘキサン）によって精製を行い、式（Ｉ－１５１－３）で表される化合物５．３ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－１５１－３）で表される化合物５．３ｇ、塩化亜鉛３．３ｇ、トルエン４０ｍＬ、ギ酸３０ｍＬ、酢酸３０ｍＬを加えた。１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン２２ｍＬ及びメタンスルホン酸１．６ｍＬを順次滴下し、室温で１４時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、５％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン）及び再結晶（アセトン／メタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１５１－４）で表される化合物３．３ｇを得た。
　窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ－１５１－４）で表される化合物３．３ｇ、炭酸カリウム２．４ｇ、エタノール３０ｍＬ及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．２ｇを加えた。加熱還流させながら、式（Ｉ－１２１－５）で表される化合物２．６ｇをエタノール６ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。８時間加熱還流させた後、冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（アセトン／メタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１５１）で表される化合物２．８ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．９１％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：０．１ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３６１［Ｍ＋１］
（実施例９）式（Ｉ－１８１）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000252
　実施例８において、式（Ｉ－１５１－１）で表される化合物を式（Ｉ－１８１－１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ－１８１）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．９３％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：０．２ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（実施例１０）式（Ｉ－２１１）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000253
　実施例７において、式（Ｉ－１２１－１）で表される化合物を式（Ｉ－２１１－１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ－２１１）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．９３％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：０．１ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（実施例１１）式（Ｉ－２４１）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000254
　実施例８において、式（Ｉ－１５１－１）で表される化合物を式（Ｉ－２４１－１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ－２４１）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．９３％
Ｐｄ含有量（ＩＣＰ－ＭＳ）：０．３ｐｐｔ
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（比較例１）式（Ｉ－１Ｒ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000255
　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ　ａｎｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ誌、２０１１年、５４２巻、１６－２７頁に記載の方法によって製造した。反応容器に式（Ｉ－１Ｒ－１）で表される化合物５．０ｇ、塩化アルミニウム（ＩＩＩ）３．１ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化３－クロロプロピオニル３．２ｇを加え１時間撹拌した。反応容器を１０％塩酸２０ｍＬに注ぎ、有機層を１０％水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。再結晶（ヘキサン）によって精製を行い、式（Ｉ－１Ｒ－２）で表される化合物６．２ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－１Ｒ－２）で表される化合物５．０ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。１０％水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え５０℃で１時間加熱撹拌した。トルエン５０ｍＬを加え抽出し、水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。再結晶（ヘキサン）によって精製を行い、式（Ｉ－１Ｒ－３）で表される化合物３．２ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－１Ｒ－３）で表される化合物６．３ｇ及びトルエン５０ｍＬを加えた。ジイソプロピルアミン２．５ｇを加え８０℃で１０時間加熱撹拌した。室温まで冷却した後、水２００ｍＬを加えた。有機層を１０％塩酸１００ｍＬ及び水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。再結晶（ヘキサン）によって精製を行い、式（Ｉ－１Ｒ－４）で表される化合物２０．３ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－１Ｒ－４）で表される化合物１０．０ｇ、酢酸１００ｍＬを加えた。塩化亜鉛（ＩＩ）３．６ｇ及びトリエチルシラン１６．９ｇを加え２５℃で１０時間撹拌した。水２００ｍＬを加え、トルエンで抽出した。有機層を１０％塩酸及び水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（酢酸エチル）によって精製を行い、式（Ｉ－１Ｒ）で表される化合物７．３ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．７３％
ＬＣ－ＭＳ：３６１［Ｍ＋１］
（比較例２）式（Ｉ－２Ｒ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000256
　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ　ａｎｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ誌、２０１４年、５９３巻、６１－７７頁に記載の方法によって製造した。反応容器に式（Ｉ－２Ｒ－２）で表される化合物４．８ｇ、式（Ｉ－２Ｒ－１）で表される化合物５．７ｇ及びトルエン２０ｍＬを加えた。ジプロピルアミン０．２ｇ、メタノール３ｍＬを加え４０℃で１２時間加熱撹拌した。冷却した後、水１０ｍＬを加え酢酸エチル３０ｍＬで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去することによって式（Ｉ－２Ｒ－３）で表される化合物７．３ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－２Ｒ－３）で表される化合物７．３ｇ及びトルエン３０ｍＬを加えた。０℃でトリエチルシラン７．０ｇを加えた。トリフルオロ酢酸９．６ｇを滴下した。室温まで昇温し７時間撹拌した。アセトン３ｍＬを加え、反応液を２０％炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。トルエンで抽出し、水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘプタン／酢酸エチル（２０：１））により精製を行い、式（Ｉ－２Ｒ－４）で表される化合物７．４ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－２Ｒ－４）で表される化合物７．４ｇ及びクロロホルム２５ｍＬを加えた。氷冷しながらトリメチルヨードシラン３．４ｇを滴下し１０℃以下で５時間撹拌した。反応液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、有機層を水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘプタン／酢酸エチル（２：１））によって精製を行い、式（Ｉ－２Ｒ－５）で表される化合物１．６ｇを得た。
　反応容器に式（Ｉ－２Ｒ－５）で表される化合物１４．５ｇ及びジクロロメタン１４０ｍＬを加えた。ヨードベンゼンジアセタート２６．０ｇ及びＴＥＭＰＯ０．７ｇを加え室温で３時間撹拌した。反応液を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。不溶物を濾過により除去し有機層を食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘプタン／酢酸エチル（４：１））により精製を行い、式（Ｉ－２Ｒ－６）で表される化合物８．７ｇを得た。
　反応容器にエチルトリフェニルホスホニウムブロミド１４．１ｇ及びテトラヒドロフラン５０ｍＬを加えた。－４０℃でＬＤＡ（２Ｍ）／テトラヒドロフラン溶液１８ｍＬを滴下し３０分撹拌した。０℃でさらに１時間撹拌した。－５０℃に冷却し式（Ｉ－２Ｒ－６）で表される化合物８．７ｇをテトラヒドロフラン５０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し３０分撹拌した。フェニルリチウム（１．６Ｍ）／ジブチルエーテル溶液２２ｍＬを滴下し３０分間撹拌した。ｔｅｒｔ－ブチルアルコール５ｇ及びテトラヒドロフラン１０ｍＬを滴下した。０℃に昇温し水１００ｍＬ及び食塩水１００ｍＬを加えた。トルエン２００ｍＬで抽出し、有機層を１０％塩酸、食塩水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘプタン／酢酸エチル（１０：１））及び再結晶（エタノール）により精製を行い、式（Ｉ－２Ｒ）で表される化合物４．７ｇを得た。
ＧＣ純度：９９．７６％
ＬＣ－ＭＳ：３５９［Ｍ＋１］
（比較例３）式（Ｉ－１２１Ｒ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000257
　特開２０１７－７５０９５号公報の合成例１に記載の方法によって、式（Ｉ－１２１Ｒ）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．５８％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（比較例４）式（Ｉ－１５１Ｒ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000258
　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ　ａｎｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ誌、２０１１年、５４２巻、１６／［５３８］－２７［５４９］頁に記載の方法によって、式（Ｉ－１５１Ｒ－１）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．７６％
ＬＣ－ＭＳ：３６１［Ｍ＋１］
（比較例５）式（Ｉ－１８１Ｒ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000259
　特開２０１７－７５０９５号公報の合成例３に記載の方法によって、式（Ｉ－１８１Ｒ）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．７１％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（比較例６）式（Ｉ－２１１Ｒ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000260
　特開２０１７－７５０９５号公報の合成例２に記載の方法によって、式（Ｉ－２１１Ｒ）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．７４％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（比較例７）式（Ｉ－２４１Ｒ）で表される化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000261
　特開２０１７－７５０９５号公報の合成例２に記載の方法によって、式（Ｉ－２４１Ｒ）で表される化合物を製造した。
ＧＣ純度：９９．７７％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
　以上の結果から、実施例１から実施例１１に記載の製造方法では、通常の精製方法によって容易に高純度の式（Ｉ－１）から式（Ｉ－５）、式（Ｉ－８２）、式（Ｉ－１２１）、式（Ｉ－１５１）、式（Ｉ－１８１）、式（Ｉ－２１１）及び式（Ｉ－２４１）で表される化合物を得ることができた。一方、比較例１から比較例７に記載の製造方法では、通常の精製方法では実施例１から実施例１１に記載の製造方法に比べ、得られた化合物の純度が低かった。式（Ｉ－１Ｒ）、式（Ｉ－２Ｒ）、式（Ｉ－１２１Ｒ）、式（Ｉ－１５１Ｒ）、式（Ｉ－１８１Ｒ）、式（Ｉ－２１１Ｒ）及び式（Ｉ－２４１Ｒ）で表される化合物について、式（Ｉ－１）、式（Ｉ－２）、式（Ｉ－１２１）、式（Ｉ－１５１）、式（Ｉ－１８１）、式（Ｉ－２１１）及び式（Ｉ－２４１）で表される化合物と精製条件を揃えるために、同じ精製操作を行った。
（比較例８）式（Ｉ－１Ｒ２）で表される化合物の製造
　比較例１で製造した式（Ｉ－１Ｒ）で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（アセトン／メタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１Ｒ２）で表される化合物を得た。
ＧＣ純度：９９．８２％
ＬＣ－ＭＳ：３６１［Ｍ＋１］
（比較例９）式（Ｉ－２Ｒ２）で表される化合物の製造
　比較例２で製造した式（Ｉ－２Ｒ）で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－２Ｒ２）で表される化合物を得た。
ＧＣ純度：９９．８５％
ＬＣ－ＭＳ：３５９［Ｍ＋１］
（比較例１０）式（Ｉ－１２１Ｒ２）で表される化合物の製造
　比較例３で製造した式（Ｉ－１２１Ｒ）で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１２１Ｒ２）で表される化合物を得た。
ＧＣ純度：９９．８６％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（比較例１１）式（Ｉ－１５１Ｒ２）で表される化合物の製造
　比較例４で製造した式（Ｉ－１５１Ｒ）で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１５１Ｒ２）で表される化合物を得た。
ＧＣ純度：９９．８８％
ＬＣ－ＭＳ：３６１［Ｍ＋１］
（比較例１２）式（Ｉ－１８１Ｒ２）で表される化合物の製造
　比較例５で製造した式（Ｉ－１８１Ｒ）で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－１８１Ｒ２）で表される化合物を得た。
ＧＣ純度：９９．８６％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（比較例１３）式（Ｉ－２１１Ｒ２）で表される化合物の製造
　比較例６で製造した式（Ｉ－２１１Ｒ）で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－２１１Ｒ２）で表される化合物を得た。
ＧＣ純度：９９．８５％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（比較例１４）式（Ｉ－２４１Ｒ２）で表される化合物の製造
　比較例７で製造した式（Ｉ－２４１Ｒ）で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）及び再結晶（エタノール）によって精製を行い、式（Ｉ－２４１Ｒ２）で表される化合物を得た。
ＧＣ純度：９９．８８％
ＬＣ－ＭＳ：３７９［Ｍ＋１］
（実施例１２から実施例２２、比較例１５から比較例２８）
　実施例１から実施例１１及び比較例１から比較例１４で製造した化合物を評価対象の化合物とした。下記化合物を下表に示す成分比で混合した液晶組成物を調製し、母体液晶（Ｘ１０）とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000262
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000263
　上記母体液晶（Ｘ１０）１００重量部に対し、評価対象の化合物を１５重量部及び下記化合物（Ｘ３－Ｅ－１－１）を０．２重量部添加し、評価対象の液晶組成物を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000264
　透明な共通電極からなる透明電極層及びカラーフィルター層を具備した第一の基板（共通電極基板）と、アクティブ素子により駆動される透明画素電極を有する画素電極層を具備した第二の基板（画素電極基板）とを作製した。画素電極基板において、各画素電極としては、液晶分子の配向を分割するため、画素電極に電極を有さないスリットが存在するように、ＩＴＯをエッチングしたものを用いた。共通電極基板及び画素電極基板のそれぞれに、ポリイミド前駆体を含む垂直配向膜材料をスピンコート法により塗布し、その塗布膜を２００℃で加熱することにより、垂直配向膜材料中のポリイミド前駆体を硬化させ、各基板の表面に１００ｎｍ±２０ｎｍの垂直配向膜を形成した。垂直配向膜形成材料としては、ポリイミド前駆体を３％含有するポリイミド溶液（商品名：ＪＡＬＳ２１３１－Ｒ６、ＪＳＲ社製）を用いた。垂直配向膜を形成した共通電極基板及び画素電極基板に、評価対象の液晶組成物を挟持した後、シール材を硬化させて、液晶組成物層を形成した。この際、厚さ３．０μｍのスペーサを用いて、液晶組成物層の厚さを３．０μｍとした。下表に評価対象の化合物と液晶表示素子の関係を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000265
　実施例１２から実施例２２、比較例１５から比較例２８の表示素子について、焼き付き評価を行った。焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを１０００時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の４段階評価で行った。
Ａ＋：残像無し
Ａ－：画面の一部に残像ごく僅かに有り
Ｂ＋：画面の一部に残像やや多く有るも許容できるレベル
Ｂ－：残像やや多く有るも許容できるレベル
Ｃ：残像多く有り許容できないレベル
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000266
　比較例１５から比較例２８の表示素子は、各々同じ構造の式（Ｉ－１）から式（Ｉ－５）、式（Ｉ－８２）、式（Ｉ－１２１）、式（Ｉ－１５１）、式（Ｉ－１８１）、式（Ｉ－２１１）及び式（Ｉ－２４１）で表される化合物を使用した表示素子と比較して焼き付きが多く見られた。比較例１から比較例１４に記載の方法によって合成した式（Ｉ－１Ｒ）、式（Ｉ－２Ｒ）、式（Ｉ－１２１Ｒ）、式（Ｉ－１５１Ｒ）、式（Ｉ－１８１Ｒ）、式（Ｉ－２１１Ｒ）、式（Ｉ－２４１Ｒ）、式（Ｉ－１Ｒ２）、式（Ｉ－２Ｒ２）、式（Ｉ－１２１Ｒ２）、式（Ｉ－１５１Ｒ２）、式（Ｉ－１８１Ｒ２）、式（Ｉ－２１１Ｒ２）及び式（Ｉ－２４１Ｒ２）で表される化合物に含まれる微量の不純物が影響していると考えられる。このように、本願発明の製造方法は得られる化合物の純度が高いことがわかる。また、本願発明の製造方法によって製造された化合物を使用して製造した表示素子は焼き付きが起こりにくいことがわかる。
　以上の結果から、本願発明の製造方法は、少ない工程数によって、且つ高純度で製造することが可能であることから、分子構造中にテトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基と４－アルコキシ－２，３－ジフルオロフェニル基とを有する化合物の製造方法として有用である。また、本願発明の製造方法によって製造された化合物は液晶表示素子用の材料として有用である。

Claims (20)

  1. 　下記部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）及び部分構造（ＤＩ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     で表される基から選択される１種又は２種以上の基と下記部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））及び部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     で表される基から選択される１種又は２種以上の基とを有する化合物（ｉ）の製造方法であって、上記部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）及び部分構造（ＤＩ）で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉａ）と、上記部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））及び部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉｂ）とを、遷移金属触媒存在下、カップリングさせることによって製造することを特徴とする製造方法。
  2. 　化合物（ｉ）が下記一般式（Ｉ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ａ０は部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）又は部分構造（ＤＩ）で表される基を表し、ＡＹは部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））又は部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基を表し、Ａ１、Ａ２、Ａ３及びＡ４は各々独立して１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ１によって置換されても良く、Ａ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ３が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すが、Ｚ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ３が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ１、ｍ３及びｍ４は各々独立して０から３の整数を表し、ｍ２は１から３の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は１から３の整数を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉａ）が下記一般式（ＩＡ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ１、Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｍ１及びｍ２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉｂ）が下記一般式（ＩＢ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ａ３、Ａ４、ＡＹ、Ｚ３、Ｚ４、ｍ３、ｍ４及びＲ２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Ｘ１がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Ｘ１がジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から２０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物である、請求項１に記載の製造方法。
  3. 　化合物（ｉ）が下記一般式（Ｉ－ｉ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｒ１１及びＲ２１は各々独立して１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状アルキル基を表し、Ａ０１は下記の式（Ａ０－ｉ－１）又は式（Ａ０－ｉ－２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     から選ばれる基を表し、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１及びＡ４１は各々独立して下記の式（Ａ－ｉ－１）から式（Ａ－ｉ－９）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、Ｌ１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表す。）から選ばれる基を表すが、Ａ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ２１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ４１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１及びＺ４１は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－又は単結合を表すが、Ｚ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ２１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ３１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ４１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ１１、ｍ３１及びｍ４１は各々独立して０、１又は２を表し、ｍ２１は１又は２を表すが、ｍ１１＋ｍ２１＋ｍ３１＋ｍ４１は１、２又は３を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉａ）が下記の一般式（ＩＡ－ｉ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式中、Ｒ１１、Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ｚ１１、Ｚ２１、ｍ１１及びｍ２１は一般式（Ｉ－ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ１１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉｂ）が下記の一般式（ＩＢ－ｉ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、Ａ３１、Ａ４１、Ｚ３１、Ｚ４１、ｍ３１、ｍ４１及びＲ２１は一般式（Ｉ－ｉ）と同じ意味を表し、Ｘ２１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Ｘ１１が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２１はジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Ｘ１１がジヒドロキシボリル基、炭素原子数２から５の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数１から１０の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Ｘ２１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物である、請求項１又は請求項２に記載の製造方法。
  4. 　化合物（ｉ）が下記一般式（Ｉ－ｉ－１１１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     （式中、Ｒ１１１１１は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１１は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉａ）が下記一般式（ＩＡ－ｉ－１１１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     （式中、Ｒ１１１１１は一般式（Ｉ－ｉ－１１１）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉｂ）が下記一般式（ＩＢ－ｉ－１１１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
     （式中、Ｒ２１１１１は一般式（Ｉ－ｉ－１１１）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１１はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物である、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の製造方法。
  5. 　化合物（ｉ）が下記一般式（Ｉ－ｉ－１１２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     （式中、Ｒ１１１１２は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１２は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉａ）が下記一般式（ＩＡ－ｉ－１１２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     （式中、Ｒ１１１１２は一般式（Ｉ－ｉ－１１２）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１２は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉｂ）が下記一般式（ＩＢ－ｉ－１１２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     （式中、Ｒ２１１１２は一般式（Ｉ－ｉ－１１２）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１２はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物である、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の製造方法。
  6. 　化合物（ｉ）が下記一般式（Ｉ－ｉ－１１３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
     （式中、Ｒ１１１１３は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１３は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉａ）が下記一般式（ＩＡ－ｉ－１１３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
     （式中、Ｒ１１１１３は一般式（Ｉ－ｉ－１１３）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１３は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉｂ）が下記一般式（ＩＢ－ｉ－１１３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
     （式中、Ｒ２１１１３は一般式（Ｉ－ｉ－１１３）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１３はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物である、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の製造方法。
  7. 　化合物（ｉ）が下記一般式（Ｉ－ｉ－１１４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
     （式中、Ｒ１１１１４は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１４は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉａ）が下記一般式（ＩＡ－ｉ－１１４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
     （式中、Ｒ１１１１４は一般式（Ｉ－ｉ－１１４）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１４は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉｂ）が下記一般式（ＩＢ－ｉ－１１４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
     （式中、Ｒ２１１１４は一般式（Ｉ－ｉ－１１４）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１４はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物である、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の製造方法。
  8. 　化合物（ｉ）が下記一般式（Ｉ－ｉ－１１５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
     （式中、Ｒ１１１１５は炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニル基を表し、Ｒ２１１１５は炭素原子数１から５の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数２から５の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉａ）が下記一般式（ＩＡ－ｉ－１１５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
     （式中、Ｒ１１１１５は一般式（Ｉ－ｉ－１１５）と同じ意味を表し、Ｘ１１１１５は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。）で表される化合物であり、化合物（ｉｂ）が下記一般式（ＩＢ－ｉ－１１５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
     （式中、Ｒ２１１１５は一般式（Ｉ－ｉ－１１５）と同じ意味を表し、Ｘ２１１１５はジヒドロキシボリル基又は４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル基を表す。）で表される化合物である、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の製造方法。
  9. 　請求項１に記載の部分構造（Ａ）、部分構造（ＡＩ）、部分構造（Ｄ）及び部分構造（ＤＩ）で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉａ）と、部分構造（Ｙ）、部分構造（Ｙ（Ｆ，Ｃｌ））、部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｆ））及びは部分構造（Ｙ（Ｃｌ，Ｃｌ））で表される基から選択される１種又は２種以上の基を有する化合物（ｉｂ）と、遷移金属化合物とを含有する混合物。
  10. 　請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物を、シリカゲルを使用して精製することを特徴とする製造方法。
  11. 　請求項１から請求項８又は請求項１０のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物を、再結晶によって精製することを特徴とする製造方法。
  12. 　請求項１から請求項８、請求項１０又は請求項１１のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物と有機溶媒を含む混合物から、減圧下濃縮することによって有機溶媒を除去する工程を含むことを特徴とする製造方法。
  13. 　化合物（ｉａ）と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物（ｉｂ）を加えることを特徴とする請求項１から請求項８、請求項１０から請求項１２のいずれか一項に記載の製造方法。
  14. 　請求項１から請求項８、請求項１０から請求項１３のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物（ｉ）を含む組成物。
  15. 　請求項１から請求項８、請求項１０から請求項１３のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物（ｉ）と下記一般式（Ｘ１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
     （式中、Ｒ３及びＲ４は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ａ５及びＡ６は各々独立して１，４－フェニレン基又は１，４－シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基ＬＸ１によって置換されても良く、Ａ５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ６が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ＬＸ１はフッ素原子を表し、Ｚ５及びＺ６は各々独立して－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すが、Ｚ５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ６が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ５及びｍ６は各々独立して０から３の整数を表すが、ｍ５＋ｍ６は０から３の整数を表す。）で表される化合物とを含む請求項１４記載の組成物。
  16. 　請求項１から請求項８、請求項１０から請求項１３のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物（ｉ）と下記一般式（Ｘ２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
     （式中、Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から６の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ａ７及びＡ８は各々独立して１，４－フェニレン基又は１，４－シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基ＬＸ２によって置換されても良く、Ａ７が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ＬＸ２はフッ素原子を表し、Ｚ７は－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表すが、Ｚ７が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ７は各々独立して０から３の整数を表す。）で表される化合物とを含む請求項１４又は請求項１５記載の組成物。
  17. 　請求項１から請求項８、請求項１０から請求項１３のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物（ｉ）と下記一般式（Ｘ３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
     （式中、Ｒ７は各々独立して水素原子、又は、１個の－ＣＨ２－若しくは隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から２５の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ａ９は１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基ＬＸ３によって置換されても良く、Ａ９が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ＬＸ３はフッ素原子、又は、１個の－ＣＨ２－隣接していない２個以上の－ＣＨ２－が各々独立して－Ｏ－によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ｚ８は－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－又は単結合を表すが、Ｚ８が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ８は各々独立して０から３の整数を表す。）で表される化合物とを含む請求項１４から請求項１６のいずれか一項に記載の組成物。
  18. 　請求項１４から請求項１７のいずれか一項に記載の組成物からなるｎ型液晶材料。
  19. 　請求項１４から請求項１７のいずれか一項に記載の組成物又はｎ型液晶材料を使用した表示素子。
  20. 　請求項１４から請求項１９のいずれか一項に記載の組成物、ｎ型液晶材料又は表示素子を使用したパーソナルコンピュータ、スマートフォン、テレビ、モニター、ドローン、デジタルサイネージ、電子黒板、家電製品、販売機、券売機、改札機、携帯機器、制御装置、製造装置、現金自動預払機、キャッシュレジスター、カーナビゲーションシステム、ゲーム機、装飾機材、舞台設備、車載モニター、運搬機器、自動車、鉄道、リニアモーターカー、航空機、船舶及び宇宙船。
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