WO2019022020A1 - マスク - Google Patents

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WO2019022020A1
WO2019022020A1 PCT/JP2018/027540 JP2018027540W WO2019022020A1 WO 2019022020 A1 WO2019022020 A1 WO 2019022020A1 JP 2018027540 W JP2018027540 W JP 2018027540W WO 2019022020 A1 WO2019022020 A1 WO 2019022020A1
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WO
WIPO (PCT)
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mask
fabric
facing surface
skin facing
wearer
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/027540
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
慶 若杉
柴田 彰
友亮 中村
Original Assignee
ユニ・チャーム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ユニ・チャーム株式会社 filed Critical ユニ・チャーム株式会社
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Priority to KR1020197036207A priority patent/KR20200037136A/ko
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A41WEARING APPAREL
    • A41DOUTERWEAR; PROTECTIVE GARMENTS; ACCESSORIES
    • A41D13/00Professional, industrial or sporting protective garments, e.g. surgeons' gowns or garments protecting against blows or punches
    • A41D13/05Professional, industrial or sporting protective garments, e.g. surgeons' gowns or garments protecting against blows or punches protecting only a particular body part
    • A41D13/11Protective face masks, e.g. for surgical use, or for use in foul atmospheres
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A62LIFE-SAVING; FIRE-FIGHTING
    • A62BDEVICES, APPARATUS OR METHODS FOR LIFE-SAVING
    • A62B18/00Breathing masks or helmets, e.g. affording protection against chemical agents or for use at high altitudes or incorporating a pump or compressor for reducing the inhalation effort
    • A62B18/02Masks
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A62LIFE-SAVING; FIRE-FIGHTING
    • A62BDEVICES, APPARATUS OR METHODS FOR LIFE-SAVING
    • A62B18/00Breathing masks or helmets, e.g. affording protection against chemical agents or for use at high altitudes or incorporating a pump or compressor for reducing the inhalation effort
    • A62B18/02Masks
    • A62B18/025Halfmasks
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06CFINISHING, DRESSING, TENTERING OR STRETCHING TEXTILE FABRICS
    • D06C23/00Making patterns or designs on fabrics
    • D06C23/04Making patterns or designs on fabrics by shrinking, embossing, moiréing, or crêping

Definitions

  • the present disclosure relates to masks.
  • Patent Document 1 comprises a mask body, a cord for fixing the mask body to a predetermined position on the wearer's face by hanging on the wearer's ears or head, and the mask It is a mask which has a nose grip part which stands up in the direction which faces to a wearer's face from the field on the side which contacts the wearer's face in a main part, and covers a wearer's nose bridge from above at the time of wear.
  • the mask disclosed in the following Patent Document 1 includes a nose grip portion that rises in a direction toward the face of the wearer from the side of the mask main body that is in contact with the face of the wearer. It is said that it is possible to control the shift from the initial position of wear by the movement of the face and the face.
  • Patent Document 1 The conventional mask disclosed in Patent Document 1 is worn during use because it is likely to be in close contact with the face of the mask main body that contacts the face of the wearer and the face of the wearer, in particular the nose. It was easy for a person to feel discomfort such as itching or pain on his face. In particular, when the surface of the mask main body that is in contact with the wearer's face is made of a cloth that may have fuzzing, such as gauze, the cloth is likely to stimulate the wearer's face, It was easy to feel a sense of discomfort. Then, this indication aims to provide the mask which is easy to control the discomfort in a wearer's face at the time of use, and is excellent in a wearing feeling.
  • the mask according to the present disclosure is A mask comprising: a mask body having a longitudinal direction and a lateral direction; and an ear hook portion extending from each of both side edges of the mask body extending along the longitudinal direction,
  • the mask main body includes a cloth facing surface and a non-skin facing surface located on the opposite side, and has a cloth constituting a part of the skin facing surface,
  • the mask body has a nose cover portion extending in the longitudinal direction from the upper end edge extending along the lateral direction and covering the nose of the wearer, and the synthetic fiber fabric, wherein the synthetic fiber
  • the MIU (average coefficient of friction) of the fabric facing surface of the fabric is 0.09 to 0.20 and the MMD (variation of average coefficient of friction) is 0.005 to 0.015,
  • the MIU of the skin facing surface of the fabric is more than 0.20 or the MMD is more than 0.015, It is characterized by
  • the present disclosure it is possible to provide a mask that is easy to suppress discomfort in the face of the wearer during use, and is excellent in the wearing feeling.
  • FIG. 1 is a plan view of a mask 1 according to an embodiment of the present disclosure as viewed from the non-skin facing surface S2 side.
  • FIG. 2 is a plan view of the mask 1 according to the embodiment of the present disclosure as viewed from the skin facing surface S1 side.
  • FIG. 3 is an end view taken along line III-III of FIG.
  • FIG. 4 is an electron micrograph (magnification: 50 times) of the side of the cellulose fabric 9 facing the skin viewed from the side.
  • FIG. 5 is an electron micrograph (magnification: 50 times) of the skin-facing surface of the nose cover 39 as viewed from the side.
  • FIG. 6 is an electron micrograph (magnification: 20 ⁇ ) of the skin-facing surface of the nose cover 39 as viewed from above.
  • FIG. 7 is a schematic view showing the worn state of the mask 1 according to the embodiment of the present disclosure.
  • a mask comprising: a mask body having a longitudinal direction and a lateral direction; and an ear hook portion extending from each of both side edges of the mask body extending along the longitudinal direction,
  • the mask main body includes a cloth facing surface and a non-skin facing surface located on the opposite side, and has a cloth constituting a part of the skin facing surface,
  • the mask body has a nose cover portion extending in the longitudinal direction from the upper end edge extending along the lateral direction and covering the nose of the wearer, and the synthetic fiber fabric, wherein the synthetic fiber
  • the MIU (average coefficient of friction) of the fabric facing surface of the fabric is 0.09 to 0.20 and the MMD (variation of average coefficient of friction) is 0.005 to 0.015,
  • the MIU of the skin facing surface of the fabric is more than 0.20 or the MMD is more than 0.015, Said mask.
  • the mask according to this aspect includes the nose cover portion which is disposed on the mask body so as to cover the nose of the wearer and which is made of a synthetic fiber fabric having a predetermined friction characteristic.
  • the mask of the present aspect has a higher MIU or MMD than the synthetic fiber cloth by providing the nose cover portion in the mask body, and when the wearer's face is touched, the face is stimulated.
  • the fabric that is easy to control is likely to prevent direct contact with the wearer's face, particularly the nose portion. Therefore, the mask of this aspect is easy to suppress discomfort in a wearer's face, and is excellent in a wearing feeling.
  • Aspect 2 The mask according to Aspect 1, wherein the fabric is a cellulose fabric.
  • the cloth of the mask of this aspect is made of a cellulose cloth, the hygroscopicity of the mask main body can be easily secured, and the wearing feeling is excellent.
  • the mask of this aspect since the fibers constituting the fabric are formed by twisting a plurality of short fibers, the mask is protruded from the fiber end of the short fibers or the fiber bundle formed by twisting the short fibers.
  • the short fibers tend to protrude from the skin-facing surface of the fabric in the direction in which the wearer's face is present, and tend to give a prickly sensation or the like to the wearer's face, particularly to the nose.
  • the mask of this aspect is provided with the nose cover portion having the above-described configuration at a predetermined position, the mask body is thus composed of the fabric having a texture that easily stimulates the wearer's face, particularly the nose. Even if it is, it is easy to suppress the discomfort in a wearer's face, and it is excellent in a wearing feeling.
  • the synthetic fiber cloth has a plurality of point-like embossed parts, and the total area of the plurality of point-like embossed parts is 15 to 30% with respect to the area of the synthetic fiber cloth,
  • the synthetic fiber fabric constituting the nose cover portion has an SMD within a predetermined range despite the provision of a plurality of dot-like embossed portions, at the stage of start of use of the mask
  • the unevenness on the nose cover portion is not easily felt by the wearer, and the discomfort on the wearer's face is easily suppressed.
  • the mask since the mask has a plurality of predetermined point-like embossed portions, it is easy to suppress fuzzing of the synthetic fiber cloth constituting the nose cover portion, and fuzzing is suppressed even after a certain period of use time has elapsed in particular. Is easy to maintain, and it is easy to suppress discomfort on the wearer's face. Therefore, the mask of this aspect is easy to suppress discomfort in the face of the wearer at any of the use start stage and the stage after a certain amount of time has elapsed from the start of use, and the fit feeling is excellent.
  • the mask body has a pleated structure for raising to the non-skin facing side during use;
  • the pleated structure includes a first base and a second base that respectively constitute the upper end edge and the lower end edge of the mask body, and a ridge between them. 5.
  • the nose cover portion and the pleat structure are in a predetermined positional relationship, it is easier to prevent the fabric from touching the wearer's face, and the discomfort on the wearer's face can be made more reliably. It is easy to control.
  • the mask body is formed with a notch that is concave toward the center in the lateral direction, and a notch forming region and the notch are not formed. And a notch non-forming region,
  • the mask body has a side sheet that covers the notches from the non-skin facing surface side and the skin facing surface side at least in the notch forming region of each of the both side edge parts,
  • the mask body has side edge embossed portions extending along the longitudinal direction in the not-noted areas of the both side edges, 6.
  • the mask of the present embodiment is easy to maintain the shape retention property of the three-dimensional structure of the mask main body during use by the pleated structure and the side edge emboss portion having the above configuration, and by providing the notches. Since the notch portion becomes a starting point of deformation induction, it is easy to improve the fit of the mask body to the face during use.
  • the mask main body covers the side sheet from the non-skin opposing surface side and the skin opposing surface side at least in the cutout forming region of each of the side edges.
  • the mask of this aspect is easy to suppress the discomfort in a wearer's face more reliably, improving the fit property to the face of a mask main body at the time of use.
  • the mask of this aspect is less likely to give irritation to the wearer's face since the part does not have the side edge embossed part, and the wearer's face It is easy to control the discomfort in
  • the mask main body has a laminated structure in which a non-skin facing surface side fabric is disposed closer to the non-skin facing surface side than the fabric,
  • the fabric is a textile
  • the non-skin facing surface side fabric is made of synthetic fiber fabric,
  • the fabric is a woven fabric, it has moisture permeability while maintaining hygroscopicity, so it is difficult to be stuffed. Furthermore, in the mask main body, the non-skin facing surface side fabric is fused by cutting in the notch portions in each of the side edge portions, so the non-skin facing surface side fabric and the cloth are fused in the fused portion. Since it is easy to weld, to control the positional deviation of both fabrics, to secure the strength of the mask more reliably, and to maintain the shape retention of the three-dimensional structure of the mask body, the fit of the mask body to the face is further enhanced. It is easy to ensure reliably, and it is easy to more reliably suppress discomfort on the wearer's face.
  • the non-skin facing surface side fabric has a first folded portion folded back to the skin facing surface side at the lower end edge of the mask body extending in the lateral direction, Aspect 9.
  • the fabric Since the fabric is covered with the non-skin facing surface fabric in the vicinity of the lower edge, the fabric is not likely to be in direct contact with the wearer's face in the vicinity of the lower edge, and the mask of this embodiment is It is easy to more reliably suppress the discomfort on the wearer's face.
  • the fabric has a second folded portion folded back to the skin facing surface at the lower end edge, 10.
  • the rigidity in the vicinity of the lower end edge is increased, the shape retention property of the three-dimensional structure of the mask body is enhanced, and the mask of this aspect more reliably secures and secures the fit of the mask body to the face. It is easy to control the discomfort in
  • the mask of the present embodiment can more reliably ensure the fit of the mask main body to the face, and can be used on the wearer's face. It is easy to suppress unnaturalness more reliably.
  • plan view viewing an object (for example, a mask or the like) placed on a horizontal surface in the thickness direction of the object from the upper side in the vertical direction” is simply “planar” unless otherwise specified. Further, the plan view is referred to as a "plan view”.
  • longitudinal direction refers to “upper and lower direction of rectangular shaped object in plan view”
  • horizontal direction refers to “right and left direction of rectangular shaped object in plan view”
  • the thickness direction refers to "perpendicular to an object placed on a horizontal surface”.
  • the longitudinal direction, the lateral direction and the thickness direction are orthogonal to each other.
  • the “planar direction” refers to a direction in which a plane formed by the longitudinal direction and the lateral direction of the object extends.
  • proximal to the skin surface of the wearer at the time of wearing the object in the thickness direction of the object (for example, a mask) unless otherwise noted. It is called “skin facing surface side”, and “when the object is worn, the distal side relative to the skin surface of the wearer” is called “non-skin facing surface side”.
  • “on the skin facing surface side” of various members for example, a mask body, a cloth forming a part of the skin facing surface of the mask body, a non-skin facing surface side fabric, etc.
  • the "surface” and “the surface on the non-skin facing surface side” are simply referred to as “skin facing surface” and “non-skin facing surface”, respectively.
  • FIG. 1 is a plan view of a mask 1 according to an embodiment of the present disclosure as viewed from the non-skin facing surface S2 side.
  • FIG. 2 is a plan view of the mask 1 according to the embodiment of the present disclosure as viewed from the skin facing surface S1 side.
  • FIG. 3 is an end view taken along line III-III of FIG.
  • FIG. 4 is an electron micrograph (magnification: 50 times) of the side of the cellulose fabric 9 facing the skin viewed from the side.
  • FIG. 5 is an electron micrograph (magnification: 50 times) of the skin-facing surface of the nose cover 39 as viewed from the side.
  • FIG. 6 is an electron micrograph (magnification: 20 ⁇ ) of the skin-facing surface of the nose cover 39 as viewed from above.
  • FIG. 7 is a schematic view showing the worn state of the mask 1 according to the embodiment of the present disclosure.
  • the mask 1 As shown in FIGS. 1 to 3, the mask 1 according to the present embodiment includes a mask body 3 and ear hooks 5, 5 extending from the side edges 3c of the mask body 3, respectively.
  • the mask main body 3 When the wearer wears the mask 1, the mask main body 3 is put on the wearer's face so as to face the wearer's face, and the ear hooks 5 are put on the wearer's ears.
  • the mask main body 3 has a longitudinal direction (L) and a lateral direction (C), and in the state (C) in plan view before wearing (unused) It has a long rectangular shape. Further, the mask main body 3 includes a skin facing surface S1 and a non-skin facing surface S2 located on the opposite side to the skin facing surface S1.
  • the base sheet 7 constituting the mask main body 3 is a cellulose fabric 9 constituting a part of the skin facing surface S1 of the mask main body 3 (in the present disclosure, the “cloth” or “skin facing of the mask main body It may be called “a cloth which constitutes a part of the surface") and a synthetic fiber cloth 11 which constitutes the non-skin facing surface S2 (in the present disclosure, it may be called “a non-skin facing surface side fabric”). And a two-layer structure.
  • the fabric constituting a part of the skin facing surface of the mask main body in the present disclosure can be formed by appropriately selecting a material having good hygroscopicity, air permeability, and touch, but, for example, gauze number 80 to 120 It is particularly preferable that the sheet material is made of a sheet material made of woven fabric, knitted fabric or non-woven fabric made of cellulose fiber, cotton fabric, etc.
  • the fabric constituting a part of the skin facing surface of the mask body in the present disclosure has an MIU (average friction coefficient) of more than 0.20 or an MMD (variation of average friction coefficient) of more than 0.015 on the skin facing surface of the fabric. It is.
  • the MIU on the skin-facing surface of the fabric is an indicator of slipperiness or difficulty in sliding when the wearer rubs on the skin-facing surface of the fabric, and as this value increases, the wearer has difficulty in slipping. It is easy to take
  • the MMD of the skin facing surface of the fabric is an index of smoothness or roughness that the wearer feels when rubbing the skin facing surface of the fabric, and the larger the value, the more the wearer feels the roughness. It is easy to feel good.
  • the fabric that constitutes a part of the skin-facing surface of the mask body in the present disclosure has the above-mentioned MIU or MMD, and thus may cause a certain degree of irritation or discomfort to the wearer's face, in particular the nose portion.
  • the measurement method of MIU of fabric and MMD is taken as follows. After cutting out a test piece of a predetermined size (for example, 100 mm ⁇ 10 mm) from the fabric to be measured, the MIU and MMD in each direction of the test piece (ie, the direction corresponding to the longitudinal direction and the transverse direction of the measurement object fabric) By measuring using a friction tester KES SE (manufactured by Kato Tech Co., Ltd.) and calculating the average value of each direction, MIU and MMD of the fabric can be obtained.
  • a friction tester KES SE manufactured by Kato Tech Co., Ltd.
  • the cloth having hygroscopicity refers to the following case.
  • a sample of the fabric to be evaluated for the presence or absence of hygroscopicity is vacuum dried at 110 ° C. for 24 hours, and the mass (W 0 ) of the sample at the time of absolute drying is measured.
  • the sample is allowed to stand for 24 hours in a constant temperature and humidity chamber adjusted to a temperature of 20 ° C. and a humidity of 90% RH for 24 hours, and the mass (W 1 ) of the sample after standing is measured.
  • the mass of the sample is W 1 > W 0
  • the fabric according to the sample is evaluated as having hygroscopicity.
  • the non-skin facing surface side fabric in the present disclosure is, for example, breathable among various known synthetic fiber non-woven sheets such as meltblown non-woven fabric, spun bond non-woven fabric, SMS non-woven fabric and air-through non-woven fabric having a basis weight of 10 to 40 g / m 2 .
  • a good material can be selected appropriately and formed.
  • the non-skin facing surface side fabric in the present disclosure may be a sheet material made of a woven fabric or a knitted fabric, from the viewpoint that each of the upper edge and the lower edge of the fabric is less likely to give irritation to the wearer's face, It is preferable that it is a sheet material which consists of nonwoven fabrics.
  • the synthetic fiber which comprises the said nonwoven fabric sheet
  • polyolefin-type fibers such as polyethylene (PE) fiber and a polypropylene (PP) fiber
  • polyester-type fibers such as nylon, etc.
  • polyamide-type fibers such as nylon, etc.
  • the synthetic fiber is a heat-fusible fiber from the viewpoint that embossing is preferably performed.
  • the base material sheet which comprises a mask main body is not limited to the said structure, The thing of 1 layer structure comprised only from the cloth which comprises a part of skin opposing surface of a mask main body may be sufficient.
  • the base material sheet according to the present disclosure may have, for example, a filter function and / or an aromatic agent that causes fine particles to be adsorbed between the fabric forming the skin opposing surface and the non-skin opposing surface side fabric forming the non-skin opposing surface.
  • An intermediate sheet containing an antibacterial agent may be interposed.
  • one or more cloths made of natural fiber or synthetic fiber woven fabric, knitted fabric or non-woven fabric may be interposed between the fabric constituting a part of the skin facing surface of the mask body and the non-skin facing surface fabric. .
  • the cellulose fabric 9 is made of gauze made of a knit of yarn in which a plurality of cellulosic short fibers are twisted together.
  • the fiber end of the cellulosic short fiber tends to protrude from the skin opposing surface T1 in the thickness direction T, and the fiber end contacts the skin of the wearer.
  • the wearer may be irritated with a prickly sensation or the like.
  • the synthetic fiber cloth 11 is made of a spunbonded nonwoven fabric of long fibers. Unlike the cellulose fabric 9, the fiber end of the synthetic fiber fabric 11 is unlikely to protrude in the thickness direction T from the surface (skin facing surface or non-skin facing surface) of the synthetic fiber fabric 11. Therefore, even if the synthetic fiber fabric 11 comes in contact with the skin of the wearer, there is little possibility that the wearer will be stimulated with a feeling such as a prickly feeling.
  • short fibers mean fibers having an average fiber length of 0.5 to 100 mm.
  • a long fiber means an average fiber length more than 100 mm, and a continuous fiber is contained in it.
  • the average fiber length of synthetic fibers such as heat fusible fibers and cellulose fibers other than pulp, such as regenerated cellulose fibers and semi-synthetic fibers, is defined in Annex A of JIS L 1015: 2010. Measure according to “A 7.1.1 Measuring the length of individual fibers on a glass plate calibrated with method A (standard method)” in “A 7.1 Measurement of fiber length”. The above method is a test method corresponding to ISO 6989 issued in 1981.
  • the number of fiber ends per unit area in the fabric that constitutes a part of the skin-facing surface of the mask body is larger than the number of fiber ends per unit area in the non-skin-facing surface side fabric.
  • the cloth which comprises a part of skin opposing surface of a mask main body, and the non-skin opposing surface side cloth can evaluate the number of the fiber end per each unit area by the following method.
  • a sample of 10 mm ⁇ 10 mm is cut out from the fabric constituting a part of the skin facing surface of the mask body and the non-skin facing surface side fabric, and in each sample, the fabric constituting a part of the skin facing surface of the mask body It can be obtained by observing the skin-facing surface and the non-skin-facing surface of the non-skin-facing surface side fabric with an electron microscope and visually counting the number of fiber ends protruding in the thickness direction from the surface of each sample.
  • the mask body 3 has an upper end 3a and a lower end 3b extending in the lateral direction (C). Further, the mask main body 3 has an upper end edge 3A which is a rectangular area extending downward 10 mm in the longitudinal direction (L) from the entire upper end edge 3a. Furthermore, the mask body 3 has side edges 3c extending along the longitudinal direction (L) on both sides in the lateral direction (C). In the present embodiment, the length in the lateral direction (C) of each of the side edges 3c, 3c is 10 mm, but the length in the lateral direction of the side edges in the present disclosure is in the range of about 5 mm to 20 mm. Can be changed as appropriate.
  • each of the side edge portions 3c and 3c of the mask main body 3 has a notch forming region 17 in which a notch 15 described later is formed and a notch non-forming region 19 in which the notch 15 is not formed.
  • the longitudinal dimension of the mask body that is, the lengths of the upper end edge and the lower end edge is preferably about 60 mm to 100 mm before wearing (unused), that is, in the undeployed state.
  • the lateral dimension of is about 140 to 180 mm. This configuration of the longitudinal and lateral dimensions of the mask body is preferred in that it can adequately cover the cheek and chin portions of a standard size of an adult wearer.
  • the mask main body 3 has a pleated structure P for protruding toward the non-skin facing surface S2 side when worn. More specifically, as shown in FIG. 3, the base sheet 7 constituting the mask main body 3 includes the first ridge 27 a and the second ridge 27 b from the proximal side of the upper edge 3 a of the mask main 3. And the third ridge 27c are formed.
  • the configuration or positional relationship of each of the first to third ridge portions 27a to 27c is as follows in a state before wearing (unused) of the mask main body 3, that is, in a non-deployed state.
  • the first collar portion 27a includes a first base portion 21a; a skirt portion S3 between the first base portion 21a and the first top portion 23a; a first top portion 23a; and a first top portion 23a and the second base portion 21b. And the foot portion S4.
  • the first top portion 23a is located closer to the lower end 3b than the upper end 3a.
  • the length in the longitudinal direction (L) of the foot portion S3 is shorter than the length in the longitudinal direction (L) of the foot portion S4.
  • the second collar portion 27b has a second base portion 21b; a skirt portion S5 between the second base portion 21b and the second top portion 23b; a second top portion 23b; a second top portion 23b and a third base portion 21c And the foot portion S6.
  • the second ridge 27b is positioned closer to the non-skin facing surface S2 than the first ridge 27a.
  • the second top 23b is located further to the lower end 3b side than the first top 23a of the first ridge 27a
  • the second base 21b is the first ridge of the first ridge 27a. It is located further on the lower end 3b side than the base 21a.
  • the length in the longitudinal direction (L) of the foot portion S5 is shorter than the length in the longitudinal direction (L) of the foot portion S6.
  • the third collar portion 27c has a third base portion 21c; a foot portion S7 between the third base portion 21c and the third top portion 23c; a third top portion 23c; a foot portion between the third top portion 23c and the bottom portion 25 A bottom S25; a skirt S9 between the bottom 25 and the fourth base 21d; and a fourth base 21d.
  • the third ridge 27c is located closer to the non-skin facing surface S2 than the second ridge 27b. Further, in the third ridge 27c, the third top 23c is located further to the lower end 3b side than the second top 23b of the second ridge 27b, and the third base 21c is the second ridge 27b. It is located further on the lower end 3b side than the base 21b.
  • the fourth base portion 21d is positioned closer to the lower end 3b than the third base portion 21c.
  • the bottom 25 is positioned closer to the upper end 3a than the lower edge 3b of the mask main body 3 and is positioned closer to the lower end 3b than the fourth base 21d.
  • the sum of the length in the longitudinal direction (L) of the foot S7 and the length in the longitudinal direction (L) of the foot S9 is greater than the length in the longitudinal direction (L) of the foot S8. short.
  • the mask body 3 includes a base S10 between the upper end 3a and the first base 21a, and a base S11 between the fourth base 21d and the lower end 3b.
  • the pleated structure P of the mask main body 3 is the bellows-like structure formed by the first to third ridges 27a to 27c, the base S10, and the base S11.
  • the mask body 3 is at least a part of the base S10 and the foot S3, at least a part of the foot S4 and the foot S5, and the foot S6 and the foot S7 before wearing (unused)
  • a flat structure is provided in the thickness direction T by at least partially overlapping at least a portion of the skirt portion S9 and at least a portion of the base portion S11.
  • the lower end 3b of the mask 3 is stretched downward in the longitudinal direction (L) according to the length of the jaw of the wearer when the mask 1 is worn.
  • the mask main body 3 bulges toward the non-skin facing surface S2 side and deforms into an ⁇ shape.
  • the skirt portion S8 is the most raised surface, and is disposed at a position corresponding to the tip or mouth of the wearer's nose.
  • the mask main body does not necessarily have a pleated structure, and even if a pleated structure is provided, the structure is not limited to the above, and the mask main body is on the non-skin facing side when worn As long as it is configured to bulge, the specific configuration such as the number of ridges and the direction of ridges can be changed as appropriate.
  • the mask body 3, both side edge portions 3c, at each 3c, than longitudinal central axis C L has a notch 15 in the lower position There is.
  • the notch 15 has a shape that is concave toward the central portion in the lateral direction (C) of the mask main body 3, more specifically, inward in the lateral direction (C) from each of the side edges 3 c and 3 c It has a substantially V shape gradually narrowing toward the end.
  • the notches 15 are likely to be the starting points of deformation induction of the both side edges 3c, 3c when the mask 1 is used, so the both side edges 3c, 3c
  • the adhesion between the face of the wearer and the face of the wearer can be enhanced, and the fit of the mask body 3 to the face can be enhanced.
  • the notches 15 are formed by cutting the cellulose cloth 9 in a substantially V-shape and melting the synthetic fiber cloth 11 at each of the side edges 3 c and 3 c of the mask main body 3.
  • the mask body 3 has the notch forming region 17 in which the notch 15 is formed and the notch non-formation region in which the notch 15 is not formed in each of the side edges 3 c and 3 c. It is divided into nineteen.
  • the notch part in this indication is not limited to the said structure, Various known shapes, such as single shape or several straight shape, a curve shape, may be sufficient.
  • the notch part in this indication may be provided only by cut
  • the mask main body 3 covers the skin facing surface S1 and the non-skin facing surface S2 of the side edges 3c, 3c at each of the side edges 3c, 3c. It has a side sheet 13.
  • the side sheet 13 is disposed in a state in which both side edges 3 c and 3 c of the base sheet 7 of the mask main body 3 having a two-layer structure of the cellulose fabric 9 and the synthetic fiber fabric 11 are sandwiched.
  • the side sheet in the present disclosure is not limited to the above configuration, and covers the notches from the non-skin facing surface side and the skin facing surface side at least in the respective notch forming regions of both side edges of the mask body. What is necessary is just to be comprised from the cloth.
  • the fabric constituting the side sheet is, for example, similar to the non-skin facing surface fabric constituting the mask body, various known materials such as meltblown nonwoven spunbond nonwoven, SMS nonwoven and air through nonwoven etc. having a basis weight of 10 to 40 g / m 2 A material having good air permeability can be appropriately selected and formed among the synthetic fiber non-woven sheets.
  • the cloth which comprises the side sheet in this indication may be sheet material which consists of textiles or a knit, it is a sheet material which consists of nonwoven fabrics from a viewpoint which a side sheet does not give stimulus to a wearer's face easily. Is preferred.
  • the mask body 3 has an embossed portion 29 extending in the longitudinal direction (L) at each of the side edges 3c, 3c (in the present disclosure, referred to as "side edge embossed portion” There is). More specifically, the embossed portion 29 has a thickness of the base sheet 7 constituting the mask main body 3, that is, the cellulose fabric 9 and the synthetic fiber fabric 11, and the side sheet 13 in the notch non-formation region 19. It is formed by embossing in the direction T.
  • the embossing part 29 in this embodiment is arrange
  • the mask main body 3 does not have the embossed portion 29 in the notch forming region 17 of each of the side edges 3 c and 3 c.
  • the rigidity of the notch forming region 17 of each of the side edges 3c, 3c is lower than the rigidity of the notch non-forming region 19 of each of the side edges 3c, 3c.
  • the rigidity value of each of the notch forming area and the notch non-forming area at both side edges is not particularly limited, but the rigidity value is a bending stiffness test, that is, a predetermined size (for example, a sheet material to be measured) , 100 mm ⁇ 10 mm), and then the positions corresponding to the notched area or the not-notd area in each direction of the test piece (that is, the direction corresponding to the longitudinal direction of the measuring object member)
  • the flexural rigidity in can be obtained by measuring using a pure bending tester KES FB-2 (manufactured by Kato Tech Co., Ltd.).
  • the synthetic fiber fabric 11 constituting the base sheet 7 is folded back toward the skin facing surface S1 at the lower end edge 3 b extending in the lateral direction (C) of the mask main body 3.
  • the first folded portion 31 is configured to cover the cellulose fabric 9.
  • the cellulose fabric 9 has a second folded portion 33 folded back to the skin facing surface S1 at the lower end edge 3b.
  • the length L1 of the first folded portion 31 of the synthetic fiber fabric 11 in the longitudinal direction (L) is longer than the length L2 of the second folded portion 33 of the cellulose fabric 9 in the longitudinal direction (L). It is done.
  • first folded portion 31 of the synthetic fiber fabric 11 and the second folded portion 33 of the cellulose fabric 9 are both fixed by the embossed portion 35 in the vicinity of the lower end edge 3 b of the mask main body 3.
  • first folded portion of the non-skin facing surface side fabric and the second folded portion of the fabric constituting a part of the skin facing surface of the mask main body may be fixed by an adhesive such as HMA. .
  • the mask body 3 further has an auxiliary embossing portion 37 extending in the lateral direction (C) at the central portion in the longitudinal direction (L). More specifically, the auxiliary embossing portion 37 configures the mask main body 3 in a portion not overlapping with the skirt portion S5 in the state before wearing (unused) of the mask 1 in the skirt portion S6 in the second collar portion 27b.
  • the base sheet 7 is formed by embossing the cellulose cloth 9 and the synthetic fiber cloth 11.
  • the mask main body 3 is a nose cover portion extending in the longitudinal direction (L) from the upper end edge portion 3A on the skin facing surface S1 side further than the cellulose fabric 9 It has 39.
  • L3 is about 30% of the length in the longitudinal direction (L) of the mask main body 3 before wearing (not using) the mask 1 is there.
  • the nose cover portion 39 has a fixed end 38 fixed by a hot melt adhesive at the upper edge 3 A of the mask body 3 and a free end 40 extending in the lateral direction (C) below the fixed end 38.
  • the central portion in the lateral direction (C) of the fixed end 38 of the nose cover portion 39 is the nose root portion of the wearer and the central portion in the lateral direction (C) of the free end 40 is the wearer. It is easy to abut on the tip of the nose.
  • the joining form to the upper end edge part of the mask main body of the nose cover part in this indication is not limited above, You may join by other joining forms, such as heat sealing.
  • the nose cover part 39 is comprised from a synthetic fiber cloth, and when a wearer wears the mask 1, it is comprised so that a wearer's nose may be contact
  • the MIU of the synthetic fiber fabric constituting the nose cover portion is 0.09 to 0.20, more preferably 0.09 to 0.0.18, still more preferably 0.09 to 0.15. It has a numerical range. It is from a viewpoint of making a wearer easy to sense the slipperiness of the skin opposing surface of a nose cover part.
  • the MMD of the synthetic fiber cloth constituting the nose cover portion has a numerical range of 0.005 to 0.015, more preferably 0.005 to 0.012, still more preferably 0.005 to 0.010. . It is from a viewpoint of making a wearer easy to sense the smoothness of the skin opposing surface of a nose cover part.
  • the synthetic fiber cloth constituting the nose cover part in the present disclosure has a lower MIU and MMD than the cloth constituting the part of the skin facing surface of the mask main body in the present disclosure, and one of the skin facing surface of the mask main body in the present disclosure There is less risk of giving a certain degree of irritation or discomfort to the wearer's face, in particular the nose part, relatively than the cloth constituting the part.
  • the nose cover portion 39 is, like the synthetic fiber cloth 11 constituting the mask main body 3, formed of a spunbonded nonwoven fabric of long fibers. As shown in FIG. 5, in the skin facing surface U1 of the nose cover portion 39, the fiber end of the long fibers hardly protrudes from the skin facing surface U1 in the thickness direction T, and even if it contacts the skin of the wearer. , There is little risk of giving the wearer a sensation such as a prickly feeling.
  • the synthetic fiber fabric constituting the nose cover portion in the present disclosure is, for example, a meltblown non-woven spunbond non-woven fabric, SMS non-woven fabric, air-through non-woven fabric, etc. having a basis weight of 10 to 40 g / m 2 as the non-skin facing surface side fabric constituting the mask body Among various known synthetic fiber non-woven fabric sheets of the above, it is possible to appropriately select and form a breathable material.
  • the length in the longitudinal direction of the nose cover portion in the present disclosure is not limited to the above, and is preferably at least 30% of the length in the longitudinal direction of the mask body.
  • the length of the nose cover in the longitudinal direction is preferably 30 to 80% of the longitudinal length of the mask body, more preferably 30 to 60% of the longitudinal length of the mask body, and still more preferably 30 to 50% of the longitudinal length of the mask body.
  • the lower limit value of the preferable range of the length in the longitudinal direction of the nose cover makes it easier to prevent the cloth from touching the face of the wearer, and the upper limit value is that the nose cover portion abuts on the wearer's mouth It is determined from the viewpoint of making it difficult for the wearer to feel discomfort.
  • it is easier to prevent the cloth from touching the face of the wearer and it is possible to more reliably suppress the discomfort on the face of the wearer. It is desirable to extend beyond the end on the lower edge side of the base.
  • the nose cover portion 39 has a plurality of point-like embossed portions 45.
  • Each of the plurality of point-like embossed portions 45 is formed by embossing the synthetic fiber cloth constituting the nose cover portion 39 in the thickness direction T.
  • the total area of the point-like embossed portions is preferably 15 to 30%, more preferably 18 to 25%, with respect to the area of the synthetic fiber fabric constituting the nose cover portion. It is from a viewpoint of coexistence with the touch of the synthetic fiber cloth which constitutes a nose cover part, and intensity.
  • the SMD (surface roughness) of the synthetic fiber fabric constituting the nose cover portion on the surface facing the skin is 2.0 to 4.5 ⁇ m, more preferably 2.0 to 4.0 ⁇ m, and still more preferably Have a numerical range of 2.0 to 3.5 ⁇ m.
  • the SMD on the skin facing surface of the synthetic fiber fabric indicates the degree of unevenness on the skin facing surface of the fabric, and the greater the value, the more severe the unevenness.
  • the measurement method of SMD of a fabric is taken as follows like MIU and MMD. After cutting out a test piece of a predetermined size (for example, 100 mm ⁇ 10 mm) from the cloth to be measured, the SMD in each direction of the test piece (ie, the direction corresponding to the longitudinal direction and the transverse direction of the measurement target cloth)
  • the SMD of the said fabric can be obtained by measuring using a feeling tester KES SE (made by Kato Tech Co., Ltd.) and calculating the average value of each of the said each direction.
  • the mask main body 3 is provided on the upper end edge 3a side, and has a holding member 41 for holding a part of the upper end edge 3a in a predetermined shape.
  • the holding member 41 is disposed between the synthetic fiber fabric 11 and the cellulose fabric 9, and is fixed by the embossed portion 43 disposed around the periphery so as not to shift its position.
  • the holding member in the present disclosure preferably has a thin plate rectangular shape and is formed of a flexible thermoplastic resin (for example, plastic) or the like.
  • the holding member 41 can be easily bent by the wearer, and once deformed into a predetermined shape, the holding member 41 holds the predetermined shape unless an external force is applied again. Therefore, when the wearer wears the mask 1 and then deforms the holding member 41 in accordance with the shape of the nose, the holding member 41 conforms to the shape of the wearer's nose in the vicinity of the upper end edge 3a of the mask main body 3. It can be held in the state. Thereby, holding member 41 can control that a crevice arises between upper end 3a and a wearer's face.
  • the ear hooking portion is preferably elastically stretchable, and can be formed of a known material such as a non-woven fabric, a woven fabric, a plastic film, a rubber string or the like.
  • the mask 1 of this embodiment has a three-dimensional structure of the mask main body 3 in use by the embossed portions 29 extending along the longitudinal direction (L) in each of the pleated structure P and the both side edges 3c, 3c. Easy to maintain shape retention.
  • the mask body 3 since the mask body 3 includes the notches 15 at both side edges 3c, 3c, the notches 15 serve as a starting point of deformation induction, and therefore, the fit of the mask body 3 to the face during use It is easy to raise
  • the mask 1 of the present embodiment is provided with the nose cover portion 39 which is disposed so as to cover the wearer's nose in the mask body 3 and is made of a synthetic fiber cloth having predetermined friction characteristics, the nose cover portion 39 Contact with the wearer's face, in particular the nose, is less likely to irritate.
  • MIU or MMD is higher than the synthetic fiber cloth which comprises the nose cover part 39, and when a wearer's face is touched. It is easy to suppress that the cellulose fabric 9 which is easy to irritate the said face directly contacts the wearer's face, especially the nose part.
  • the mask 1 of this embodiment is easy to suppress the discomfort in a wearer's face, and is excellent in a wearing feeling. More specifically, since at least a part of the skin facing surface S1 of the mask main body 3 is formed of the cellulose fabric 9, the hygroscopicity of the cellulose fiber absorbs and absorbs moisture exhaled by the wearer in the mask main body 3. It is easy to do it and it is hard to get stuffy.
  • the cellulose fabric 9 constituting a part of the skin facing surface S1 of the mask main body 3 is formed of a knitted fabric of yarns obtained by twisting cellulose short fibers such as, for example, gauze, the fibers of the cellulose short fibers The end tends to protrude from the skin opposing surface T1 in the thickness direction T, and the fiber end may contact the wearer's skin to give the wearer a stimulus such as a pricking feeling.
  • the mask main body 3 has the nose cover portion 39 made of a synthetic fiber cloth at a predetermined position, it is possible to make it difficult for the wearer to feel a stimulus such as a prickly feeling or a sense of discomfort.
  • the mask 1 of this embodiment is easy to suppress the discomfort in a wearer's face, improving the hygroscopicity of the mask 1, and is excellent in a wearing feeling.
  • the mask 1 of the present embodiment is provided with the holding member 41 in the mask main body 3, and the mask main body 3 is particularly easy to be in close contact with the nose root portion of the wearer at the portion where the holding member 41 is provided. Further, due to the rigidity of the holding member 41, in the portion where the holding member 41 is provided, the wearer's nose root portion is rubbed through the skin facing surface S1 of the mask main body 3 to particularly stimulate the wearer. easy. Therefore, as in the present embodiment, when the nose cover portion 39 is provided to cover the holding member 41, it is possible to more reliably suppress the discomfort on the wearer's face.
  • the cloth which comprises a part of skin opposing surface S1 of the mask main body 3 consists of cellulose cloths of the mask 1 of this embodiment, it is easy to ensure the hygroscopicity of a mask main body more reliably.
  • the fibers constituting the cellulose fabric 9 are formed by twisting a plurality of short fibers, they are formed by twisting the fiber ends of the short fibers and the short fibers.
  • the short fibers protruding from the fiber bundle tend to protrude from the skin-facing surface S1 of the cellulose fabric 9 in the direction in which the wearer's face is present, and are likely to give irritation such as a feeling of pricking to the wearer's face, particularly the nose.
  • the mask 1 of this embodiment is provided with the nose cover portion 39 having the above-described configuration at a predetermined position, the texture of the mask body 3 is thus easy to stimulate the wearer's face, particularly the nose. Even if it is comprised by the fabric 9, it is easy to suppress the discomfort in a wearer's face, and it is excellent in a wearing feeling.
  • the mask 1 of the present embodiment since the synthetic fiber cloth constituting the nose cover portion 39 is provided with the plurality of point-like embossed portions 45, the mask 1 has an SMD within a predetermined range. At the stage of the start of use, it is difficult for the wearer to sense the unevenness of the nose cover portion 39, and it is easy to suppress the discomfort on the wearer's face. Further, since the mask 1 has a plurality of predetermined emboss portions 45, it is easy to suppress fuzzing of the synthetic fiber cloth constituting the nose cover portion 39, and fuzzing is particularly suppressed even after a certain period of use time passes. It is easy to maintain the worn state, and it is easy to suppress the discomfort in the wearer's face. Therefore, the mask 1 of this embodiment is easy to suppress discomfort in the face of the wearer at any of the use start stage and the stage at which a certain time has elapsed from the start of use, and the fit feeling is excellent.
  • the nose cover portion 39 and the pleat structure P are in the above-described positional relationship, it is easier to prevent the cellulose fabric 9 from touching the wearer's face, and It is easy to suppress unnaturalness more reliably.
  • the shape retention property of the three-dimensional structure of the mask main body 3 can be easily maintained at the time of use by the pleated structure P and the embossed portion 29 having the above-described configuration.
  • the provision of the portion 15 makes the notch 15 a starting point of deformation induction, so that the fit of the mask main body 3 to the face can be easily improved during use.
  • the mask main body 3 covers the notches 15 from the non-skin facing surface S2 and the skin facing surface S1 at least in the notch forming regions 17 of the both side edges 3c.
  • the side sheet 13 Since the side sheet 13 is provided, it is easy to prevent the notch 15 from touching the wearer's face directly, and the rigidity of the notch formation region 17 is configured to be lower than the rigidity of the notch non-formation region 19 Therefore, even if the notch forming area 17 touches the wearer's face, it is easy to suppress the discomfort on the wearer's face.
  • the mask 1 of this embodiment is easy to suppress the discomfort in a wearer's face more reliably, improving the fit property to the face of the mask main body 3 at the time of use.
  • the mask 1 of this embodiment since the notch formation area 17 does not have an embossed part, even if the notch formation area 17 touches the face of the wearer, the mask 1 of this embodiment wears It is difficult to give irritation to the person's face, and it is easy to more reliably suppress the discomfort on the wearer's face.
  • the cellulose fabric 9 is a woven fabric and has air permeability while maintaining hygroscopicity, it is hard to be stuffed. Furthermore, in the mask main body 3, since the synthetic fiber fabric 11 is melted down at the notches 15 in each of the side edges 3c, the synthetic fiber fabric 11 and the cellulose fabric 9 are welded at the melted portion, As displacement is easily suppressed, strength of the mask 1 can be secured more reliably, and shape retention of the three-dimensional structure of the mask main body 3 can be easily maintained, fit of the mask main body 3 to the face can be secured more reliably. It is easy to control the discomfort in the wearer's face more reliably.
  • the mask 1 of the present embodiment since the cellulose fabric 9 is covered with the synthetic fiber fabric 11 in the vicinity of the lower end 3b of the mask main body 3, the cellulose fabric 9 is on the wearer's face in the vicinity of the lower end 3b. Hard to touch directly. Therefore, the mask 1 of this embodiment can suppress the discomfort in a wearer's face more reliably.
  • the rigidity in the vicinity of the lower end edge 3 b is increased by the second folded portion 33 of the mask main body 3, so the shape retention of the three-dimensional structure of the mask main body 3 is enhanced. Therefore, the mask 1 of the present embodiment can ensure and secure the fit of the mask main body 3 to the face more reliably, and can suppress the discomfort on the wearer's face more reliably.
  • the mask 1 of the present embodiment can more easily maintain the shape retaining property of the three-dimensional structure of the mask main body 3 by the auxiliary embossing portion 37. Therefore, the mask 1 of the present embodiment can more reliably ensure the fit of the mask main body 3 to the face, and can more reliably suppress the discomfort of the wearer's face.
  • Example 1 The nose cover portion having a dimension of 35 mm in the longitudinal direction and 148 mm in the lateral direction is made of the spunbond nonwoven fabric A having a basis weight of 25 g / m 2 , and the fabric that constitutes a part of the skin facing surface of the mask main body is 90 A mask (1) consisting of book gauze a was prepared.
  • the MIU of the skin-facing surface of the spunbond nonwoven fabric A was 0.17, and the MMD was 0.011.
  • Example 2 The nose cover portion having the same dimensions as in Example 1 is made of spunbonded nonwoven fabric B having a basis weight of 30 g / m 2 , and the fabric that constitutes a part of the skin facing surface of the mask body is a 90 gauze-lined gauze a A mask (2) was produced.
  • the MIU of the skin-facing surface of the spunbond nonwoven fabric B was 0.14, and the MMD was 0.008.
  • Example 3 The nose cover portion having the same dimensions as in Example 1 is made of air-through non-woven fabric C having a basis weight of 40 g / m 2 , and the fabric that constitutes a part of the skin facing surface of the mask main body is 90 gauze a A mask (3) was produced.
  • the MIU of the air facing nonwoven fabric C facing surface was 0.13 and the MMD was 0.007.
  • Example 4 The nose cover portion having the same dimensions as in Example 1 is made of the spunbonded nonwoven fabric D having a basis weight of 25 g / m 2 , and the fabric that constitutes a part of the skin facing surface of the mask body is a 90 gauze gauze a A mask (4) was produced.
  • the MIU of the skin-facing surface of the spunbond nonwoven fabric D was 0.14, and the MMD was 0.012.
  • Example 5 The nose cover portion having the same dimensions as in Example 1 is made of a spunbond nonwoven fabric E having a basis weight of 23 g / m 2 , and the fabric constituting a part of the skin facing surface of the mask body is a 90 gauze gauze a A mask (5) was produced.
  • the MIU of the skin-facing surface of the spunbond nonwoven fabric E was 0.15, and the MMD was 0.010.
  • the fabric which comprises the skin opposing surface of a mask main body consisted of the gauze a of 90 numbers of driving
  • the MIU of the skin-facing surface of the gauze a was 0.14, and the MMD was 0.020.
  • the fabric which comprises the skin opposing surface of a mask main body consisted of the gauze b of the number of driving in 80, and produced the mask (7) which does not have a nose cover part.
  • the MIU of the skin-facing surface of the gauze b was 0.20 and the MMD was 0.025.
  • the fabric which comprises the skin opposing surface of a mask main body consists of the spun bond nonwoven fabric F of 20 g / m ⁇ 2 > of basic weights, and produced the mask (8) which is not equipped with a nose cover part.
  • the MIU of the skin-facing surface of the spunbond nonwoven fabric F was 0.24, and the MMD was 0.009.
  • the masks according to the present disclosure are not limited to the above-described embodiments and exemplary descriptions, and can be appropriately combined or changed without departing from the purpose and the purpose of the present disclosure.
  • the ordinal numbers such as “first”, “second” and the like are used to distinguish the items to which the ordinal numbers are attached, and mean the order, priority, importance, etc. of each item. It is not a thing.

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Abstract

本開示は、使用時において、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れるマスクを提供するものである。 マスク(1)は、縦方向(L)及び横方向(C)を有するマスク本体(3)と、耳掛け部(5)とを備え、マスク本体(3)は、肌対向面(S1)と非肌対向面(S2)とを備え、肌対向面(S1)の一部を構成する布帛(9)及び、着用者の鼻を覆うように横方向(C)に沿って延在する上端縁部(3A)から縦方向(L)に延在し且つ合成繊維布帛からなる鼻カバー部(39)を有し、合成繊維布帛の肌対向面のMIU(平均摩擦係数)が0.09~0.20且つMMD(平均摩擦係数の変動)が0.005~0.015であり、布帛(9)の肌対向面のMIUが0.25超又はMMDが0.015超である。

Description

マスク
 本開示は、マスクに関する。
 近年、花粉用マスクや衛生マスクなど、種々の形状のマスクが知られている。
 例えば、下記特許文献1に開示された発明は、マスク本体と、着用者の両耳又は頭部に掛けることによって前記マスク本体を前記着用者の顔面の所定の位置に固定する紐と、前記マスク本体における前記着用者の顔面に当接する側の面から前記着用者の顔面に向かう方向に起立すると共に、着用時に前記着用者の鼻梁を上方から覆うノーズグリップ部と、を有するマスクである。
 下記特許文献1に開示されたマスクは、前記マスク本体における前記着用者の顔面に当接する側の面から前記着用者の顔面に向かう方向に起立するノーズグリップ部を備えることにより、着用者の口や顔面の動きによって着用当初の位置からずれるのを抑制できるとされている。
特開2014-30654号公報
 上記特許文献1に開示される従来のマスクは、使用時では、前記マスク本体における前記着用者の顔面に当接する側の面と着用者の顔面、特に鼻の部分と密着し易いがゆえに、着用者が、その顔面において痒みや痛みなどの違和感を覚えやすかった。特に、前記マスク本体における前記着用者の顔面に当接する側の面が、例えばガーゼ等、毛羽立ちを有することがある布帛から構成される場合、当該布帛が着用者の顔面に刺激を与え易く、その違和感を感取され易かった。
 そこで、本開示は、使用時において、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れるマスクを提供することを目的とする。
 そこで、本開示に係るマスクは、
縦方向及び横方向を有するマスク本体と、前記縦方向に沿って延在する前記マスク本体の両側縁部のそれぞれから延出する耳掛け部とを備えるマスクであって、
 前記マスク本体は、肌対向面とその反対側に位置する非肌対向面とを備え、前記肌対向面の一部を構成する布帛を有し、
 前記マスク本体は、着用者の鼻を覆うように、前記横方向に沿って延在する上端縁部から前記縦方向に延在し且つ合成繊維布帛からなる鼻カバー部を有し、前記合成繊維布帛の肌対向面のMIU(平均摩擦係数)が0.09~0.20且つMMD(平均摩擦係数の変動)が0.005~0.015であり、
 前記布帛の肌対向面のMIUが0.20超又はMMDが0.015超である、
 ことを特徴とする。
 本開示によれば、使用時において、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れるマスクを提供することができる。
図1は、本開示の実施形態に係るマスク1を非肌対向面S2側から見た平面図である。 図2は、本開示の実施形態に係るマスク1を肌対向面S1側から見た平面図である。 図3は、図1のIII-III線に沿った端面図である。 図4は、セルロース布帛9の肌対向面を側面からみた電子顕微鏡写真(倍率は50倍)である。 図5は、鼻カバー部39の肌対向面を側面からみた電子顕微鏡写真(倍率は50倍)である。 図6は、鼻カバー部39の肌対向面を上方からみた電子顕微鏡写真(倍率は20倍)である。 図7は、本開示の実施形態に係るマスク1の着用状態を示す模式図である。
[態様1]
 縦方向及び横方向を有するマスク本体と、前記縦方向に沿って延在する前記マスク本体の両側縁部のそれぞれから延出する耳掛け部とを備えるマスクであって、
 前記マスク本体は、肌対向面とその反対側に位置する非肌対向面とを備え、前記肌対向面の一部を構成する布帛を有し、
 前記マスク本体は、着用者の鼻を覆うように、前記横方向に沿って延在する上端縁部から前記縦方向に延在し且つ合成繊維布帛からなる鼻カバー部を有し、前記合成繊維布帛の肌対向面のMIU(平均摩擦係数)が0.09~0.20且つMMD(平均摩擦係数の変動)が0.005~0.015であり、
 前記布帛の肌対向面のMIUが0.20超又はMMDが0.015超である、
 前記マスク。
 本態様のマスクは、前記マスク本体において、着用者の鼻を覆うように配置され且つ所定の摩擦特性を有する合成繊維布帛からなる鼻カバー部を備えるので、当該鼻カバー部が着用者の顔面、特に鼻の部分に接触しても、当該部分に刺激を与えにくい。また、前記本態様のマスクは、前記マスク本体において、前記鼻カバー部を備えることにより、前記合成繊維布帛よりもMIU又はMMDが高く、着用者の顔面に触れたときに当該顔面に刺激を与え易い前記布帛が、着用者の顔面、特に鼻の部分に直接接触することを抑制し易い。したがって、本態様のマスクは、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れる。
[態様2]
 前記布帛がセルロース布帛である、態様1に記載のマスク。
 本態様のマスクは、前記布帛がセルロース布帛からなるので、マスク本体の吸湿性を確保し易く、装着感に優れる。
[態様3]
 前記布帛を構成する繊維は、複数の短繊維を撚り合わせて構成されている、態様1又は2に記載のマスク。
 本態様のマスクは、前記布帛を構成する繊維が、複数の短繊維を撚り合わせて構成されているので、前記短繊維の繊維端や前記短繊維を撚り合わせて構成された繊維束からはみ出た短繊維が、当該布帛における肌対向面から着用者の顔面が存在する方向に突出し易く、着用者の顔面、特に鼻の部分にチクチク感等の刺激を与え易い。しかし、本態様のマスクは、前記構成を有する鼻カバー部を所定の位置に備えるので、マスク本体がこのように着用者の顔面、特に鼻の部分に刺激を与え易い質感の前記布帛により構成されていても、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れる。
[態様4]
 前記合成繊維布帛は、複数の点状エンボス部を有し、前記複数の点状エンボス部の面積の合計が前記合成繊維布帛の面積に対して15~30%であり、
 前記合成繊維布帛のSMD(表面粗さ)が2.0~4.5μmである、態様1~3のいずれかに記載のマスク。
 本態様のマスクは、鼻カバー部を構成する前記合成繊維布帛が複数の点状エンボス部が設けられているにもかかわらず所定の範囲内のSMDを有するので、前記マスクの使用開始の段階において、前記鼻カバー部の凹凸感を着用者に感取され難く、着用者の顔面における違和感を抑制し易い。また、前記マスクは、所定の点状エンボス部を複数有するので、前記鼻カバー部を構成する前記合成繊維布帛の毛羽立ちを抑制し易く、特に使用時間が一定程度経過しても、毛羽立ちが抑制された状態を維持し易く、着用者の顔面における違和感を抑制し易い。したがって、本態様のマスクは、使用開始段階及び使用開始から一定程度時間が経過した段階のいずれにおいても、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れる。
[態様5]
 前記マスク本体は、使用時において、非肌対向面側に隆起するためのプリーツ構造を有し、
 前記プリーツ構造は、前記マスク本体の前記上端縁部及び下端縁をそれぞれ構成する第1基底部及び第2基底部と、それらの間の襞部とを備え、
 前記鼻カバー部が、前記縦方向において、前記第1基底部の、前記下端縁側の端部を越えて延在する、態様1~4のいずれかに記載のマスク。
 本態様のマスクは、前記鼻カバー部と前記プリーツ構造とが所定の位置関係にあるので、前記布帛が着用者の顔面に触れることをより抑制し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
[態様6]
 前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれにおいて、前記横方向の中央部に向かって凹となる切欠き部が形成された、切欠き部形成領域と、前記切欠き部が形成されていない、切欠き部非形成領域とを備え、
 前記マスク本体は、少なくとも前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部形成領域において、前記切欠き部を非肌対向面側及び肌対向面側から覆うサイドシートを有し、
 前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部非形成領域において、前記縦方向に沿って延在する側縁部エンボス部を有し、
 前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部形成領域の剛性は、前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部非形成領域の剛性よりも低い、態様1~5のいずれかに記載のマスク。
 本態様のマスクは、前記プリーツ構造及び前記構成を有する側縁部エンボス部により、使用時において、前記マスク本体の立体構造の保形性を維持し易いと共に、前記切欠き部を備えることにより、当該切欠き部が変形誘導の起点となるので、使用時において、マスク本体の顔面へのフィット性を高め易い。
 また、本態様のマスクは、前記マスク本体が、少なくとも前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部形成領域において、前記切欠き部を前記非肌対向面側及び肌対向面側から覆うサイドシートを備えるので、切欠き部が着用者の顔面に直接触れることを抑制し易いと共に、前記切欠き部形成領域の剛性は、前記切欠き部非形成領域の剛性よりも低く構成されているので、当該切欠き部形成領域が着用者の顔面に触れても、着用者の顔面における違和感を抑制し易い。
 以上より、本態様のマスクは、使用時において、マスク本体の顔面へのフィット性を高めつつ、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
[態様7]
 前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部形成領域において、前記側縁部エンボス部を有しない、態様6に記載のマスク。
 前記切欠き部形成領域が着用者の顔面に触れても、当該部分が前記側縁部エンボス部を有しないので、本態様のマスクは、着用者の顔面に刺激を与えにくく、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
[態様8]
 前記マスク本体は、前記布帛よりも非肌対向面側に非肌対向面側布帛が配置された積層構造を有し、
 前記布帛は、織物であり、
 前記非肌対向面側布帛は、合成繊維布帛からなり、
 前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれにおける前記切欠き部において、前記非肌対向面側布帛が溶断されている、態様6または7に記載のマスク。
 前記布帛は、織物であるので吸湿性を維持しつつ通気性を有するので蒸れにくい。さらに、前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれにおける前記切欠き部において、前記非肌対向面側布帛が溶断されているので、当該溶断部分において前記非肌対向面側布帛と前記布帛とが溶着し、両布帛の位置ずれを抑制し易いと共にマスクの強度をより確実に確保し易く、前記マスク本体の立体構造の保形性を維持し易いので、マスク本体の顔面へのフィット性をより確実に確保し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
[態様9]
 前記非肌対向面側布帛は、前記マスク本体の前記横方向に延びる下端縁において前記肌対向面側に折り返された第1折り返し部を有し、
 前記第1折り返し部が、前記布帛を覆っている、態様8に記載のマスク。
 上記下端縁部近傍において、前記布帛が前記非肌対向面側布帛に覆われているので、上記下端縁部近傍において、前記布帛が着用者の顔面に直接接触し難く、本態様のマスクは、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
[態様10]
 前記布帛は、前記下端縁において前記肌対向面側に折り返された第2折り返し部を有し、
 前記第1折り返し部の前記縦方向の長さが、前記第2折り返し部の前記縦方向の長さよりも長い、態様9に記載のマスク。
 上記下端縁部近傍における剛性が増すのでマスク本体の立体構造の保形性が高まり、本態様のマスクは、マスク本体の顔面へのフィット性をより確実に確保し確保し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
[態様11]
 前記マスク本体は、前記縦方向の中央部において、前記横方向の少なくとも一部に延在する補助エンボス部を有する、態様1~10のいずれかに記載のマスク。
 前記補助エンボス部により前記マスク本体の立体構造の保形性をより一層維持し易いので、本態様のマスクは、マスク本体の顔面へのフィット性をより確実に確保し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
 以下、本開示のマスクの好適な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本開示においては、特に断りのない限り、「水平面上に置いた対象物(例えば、マスク等)を、垂直方向の上方側から対象物の厚さ方向に見ること」を、単に「平面視」といい、さらに、当該平面視による図を「平面図」という。
 本開示において用いる各種方向等については、特に断りのない限り、以下のとおりである。
 本明細書において、「縦方向」は「平面視における矩形状の対象物の上下の方向」を指し、「横方向」は「平面視における矩形状の対象物の左右の方向」を指し、「厚さ方向」は「水平面上に置いた対象物に対して垂直方向」を指す。これらの縦方向、横方向及び厚さ方向は、それぞれ互いに直交する関係にある。
 また、「平面方向」とは、対象物の縦方向及び横方向からなる平面が延在する方向を指すものとする。
 また、本明細書では、特に断りのない限り、対象物(例えば、マスク等)の厚さ方向において、「対象物の着用時に、着用者の肌面に対して相対的に近位側」を「肌対向面側」といい、「対象物の着用時に、着用者の肌面に対して相対的に遠位側」を「非肌対向面側」という。なお、本明細書においては、対象物を構成する各種部材(例えば、マスク本体、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛、非肌対向面側布帛等)の「肌対向面側の表面」及び「非肌対向面側の表面」を、それぞれ単に「肌対向面」及び「非肌対向面」という。
[実施形態]
 図1は、本開示の実施形態に係るマスク1を非肌対向面S2側から見た平面図である。図2は、本開示の実施形態に係るマスク1を肌対向面S1側から見た平面図である。図3は、図1のIII-III線に沿った端面図である。図4は、セルロース布帛9の肌対向面を側面からみた電子顕微鏡写真(倍率は50倍)である。図5は、鼻カバー部39の肌対向面を側面からみた電子顕微鏡写真(倍率は50倍)である。図6は、鼻カバー部39の肌対向面を上方からみた電子顕微鏡写真(倍率は20倍)である。図7は、本開示の実施形態に係るマスク1の着用状態を示す模式図である。
 図1~3に示すように、本実施形態に係るマスク1は、マスク本体3と、マスク本体3の両側縁部3c、3cのそれぞれから延出する耳掛け部5、5とを備える。着用者がマスク1を着用する際には、マスク本体3を着用者の顔面に対向するようにあてがい、着用者の両耳のそれぞれに耳掛け部5を掛けて装着される。
[マスク本体]
 図1及び2に示すように、マスク本体3は、縦方向(L)と横方向(C)とを有し、着用前(未使用)の状態において、平面視にて横方向(C)に長尺な矩形形状を有している。また、マスク本体3は、肌対向面S1と、肌対向面S1とは反対側に位置する非肌対向面S2とを備える。
 本実施形態において、マスク本体3を構成する基材シート7は、マスク本体3の肌対向面S1の一部を構成するセルロース布帛9(本開示においては、「布帛」又は「マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛」と称することがある。)と非肌対向面S2を構成する合成繊維布帛11(本開示においては、「非肌対向面側布帛」と称することがある。)との2層構造を有する。
 本開示におけるマスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛は、吸湿性、通気性や肌触りの良好な材料を適宜選択して形成することができるが、例えば打ち込み本数80~120本のガーゼ、木綿布、等セルロース系繊維からなる織物、編物又は不織布からなるシート材料から形成されることが特に好ましい。
 本開示におけるマスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛は、当該布帛の肌対向面のMIU(平均摩擦係数)が0.20超又はMMD(平均摩擦係数の変動)が0.015超である。
 当該布帛の肌対向面のMIUは、着用者が布帛の肌対向面を擦るときに感取する滑り易さ又は滑り難さの指標であり、この値が大きくなるほど、着用者がその滑り難さを感取し易い。また、当該布帛の肌対向面のMMDは、着用者が布帛の肌対向面を擦るときに感取する滑らかさ又はざらつき感の指標であり、この値が大きくなるほど、着用者がそのざらつき感を感取し易い。
 本開示におけるマスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛は、上記のMIU又はMMDを有するので、着用者の顔面、特に鼻の部分に一定程度の刺激や違和感を与える虞がある。
 なお、本明細書において、布帛のMIU及びMMDの測定方法は、以下の通りとする。
 測定対象の布帛から所定サイズ(例えば、100mm×10mm)の試験片を切り出した後、該試験片の各方向(すなわち、測定対象布帛の縦方向及び横方向に対応する方向)におけるMIU及びMMDを、摩擦感テスター KES SE(カトーテック株式会社製)を用いて測定し、当該各方向のそれぞれの平均値を算出することにより、当該布帛のMIU及びMMDをそれぞれ得ることができる。
 なお、本開示において、布帛が吸湿性を有するとは、以下の場合をいう。
 吸湿性の有無の評価対象となる布帛のサンプルを110℃で24時間真空乾燥し、絶乾時のサンプルの質量(W)を測定する。次に、温度20℃、湿度90%RHに調湿された恒温恒湿機に当該サンプルを24時間静置し、静置後のサンプルの質量(W)を測定する。サンプルの質量がW>Wの場合に、当該サンプルに係る布帛が吸湿性を有すると評価する。
 また、本開示における非肌対向面側布帛は、例えば坪量10~40g/mのメルトブローン不織布、スパンボンド不織布、SMS不織布及びエアスルー不織布等の各種公知の合成繊維不織布シートのうち、通気性の良好な材料を適宜選択して形成することができる。なお、本開示における非肌対向面側布帛は、織物や編物からなるシート材料であってもよいが、当該布帛の上端縁、下端縁のそれぞれが着用者の顔面に刺激を与えにくい観点から、不織布からなるシート材料であることが好ましい。
 また、当該不織布シートを構成する合成繊維としては、ポリエチレン(PE)繊維、ポリプロピレン(PP)繊維等のポリオレフィン系繊維、ポリエステル系繊維、ナイロンなどのポリアミド系繊維等が挙げられる。後述するように、マスク本体を構成する基材シートは、好ましくはエンボス処理が行われる観点から、前記合成繊維は、熱融着性繊維であることが好ましい。
 なお、マスク本体を構成する基材シートは、上記構成に限定されず、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛のみから構成される1層構造のものであってもよい。あるいは、本開示に係る基材シートは、例えば肌対向面を形成する布帛と非肌対向面を形成する非肌対向面側布帛との間に、微粒子を吸着させるフィルター機能及び/又は芳香剤、抗菌剤を含む中間シートを介在させてもよい。また、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛と非肌対向面側布帛との間に、天然繊維又は合成繊維の織物、編物又は不織布からなる布帛を1枚以上介在させてもよい。
 本実施形態において、セルロース布帛9は、複数のセルロース系短繊維を撚り合わせた糸の編物からなるガーゼにより構成されている。セルロース布帛9の肌対向面T1は、図4に示すように、セルロース系短繊維の繊維端が当該肌対向面T1から厚さ方向Tに突出し易く、当該繊維端が着用者の肌に接触することにより、着用者にチクチク感等の刺激を与えることがある。
 一方、本実施形態において、合成繊維布帛11は、長繊維によるスパンボンド不織布により構成されている。合成繊維布帛11は、セルロース布帛9とは異なり、その繊維端が合成繊維布帛11の表面(肌対向面又は非肌対向面)から厚さ方向Tに突出し難い。したがって、合成繊維布帛11は、着用者の肌に接触しても、着用者にチクチク感等の刺激を与える虞が少ない。
 なお、本明細書において、短繊維とは、平均繊維長が0.5~100mmの繊維をいう。また、長繊維とは、平均繊維長が100mm超をいい、その中には連続繊維が含まれる。
 本開示では、熱融着性繊維等の合成繊維、並びにセルロース系繊維のうち、パルプ以外のもの、例えば、再生セルロース繊維及び半合成繊維の平均繊維長は、JIS L 1015:2010の附属書Aの「A7.1 繊維長の測定」の「A7.1.1 A法(標準法)目盛りが付いたガラス板上で個々の繊維の長さを測定する方法」に従って測定する。
 なお、上記方法は、1981年に発行されたISO 6989に相当する試験方法である。
 本開示において、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛における単位面積当たりの繊維端の数は、非肌対向面側布帛における単位面積当たりの繊維端の数より多いことが好ましい。なお、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛及び非肌対向面側布帛は、それぞれの単位面積当たりの繊維端の本数を以下の方法により評価することができる。
 マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛と非肌対向面側布帛とからそれぞれ10mm×10mmのサンプルを切り出し、それぞれのサンプルにおいて、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛の肌対向面と非肌対向面側布帛の非肌対向面とを電子顕微鏡により観察し、各サンプル表面から厚さ方向に突出する繊維端の本数を目視で数えることにより得ることができる。
 本実施形態において、マスク本体3は、横方向(C)に延びる上端縁3a及び下端縁3bを有する。また、マスク本体3は、上端縁3a全域から縦方向(L)に10mm下方に延びる矩形状領域である上端縁部3Aを有する。さらに、マスク本体3は、横方向(C)における両側部のそれぞれに、縦方向(L)に沿って延在する側縁部3cを有する。本実施形態において、側縁部3c、3cのそれぞれの、横方向(C)における長さは、10mmであるが、本開示における側縁部の横方向における長さは、5mm~20mm程度の範囲で適宜変更可能である。マスク本体3の側縁部3c、3cのそれぞれには、後述するサイドシート13が配設されている。また、マスク本体3の側縁部3c、3cそれぞれは、後述の切欠き部15が形成された切欠き部形成領域17と当該切欠き部15が形成されていない切欠き部非形成領域19とに区画される。
 本開示において、マスク本体の縦方向の寸法、すなわち上端縁と下端縁との長さは、着用前(未使用)の状態、すなわち非展開状態において、好ましくは60mm~100mm程度であり、マスク本体の横方向の寸法は、140~180mm程度である。マスク本体の縦方向及び横方向の寸法をこのように構成すると、大人の着用者の標準的な大きさの頬及び顎の部分を十分に被覆できる点で好ましい。
 本実施形態において、マスク本体3は、着用時において、非肌対向面S2側に隆起するためのプリーツ構造Pを有する。
 より具体的には、図3に示すように、マスク本体3を構成する基材シート7には、マスク本体3の上端縁3aの近位側から、第1襞部27aと第2襞部27bと第3襞部27cとが形成されている。第1襞部27a~第3襞部27cのそれぞれの構成乃至位置関係は、マスク本体3の着用前(未使用)の状態、すなわち非展開状態において以下の通りである。
 第1襞部27aは、第1基部21aと;第1基部21aと第1頂部23aとの間の裾部S3と;第1頂部23aと;第1頂部23aと第2基部21bとの間の裾部S4とを含む。第1襞部27aにおいて、第1頂部23aは、上端縁3aよりも下端縁3b側に位置する。また、第1襞部27aにおいて、裾部S3の縦方向(L)の長さは、裾部S4の縦方向(L)の長さよりも短い。
 第2襞部27bは、第2基部21bと;第2基部21bと第2頂部23bとの間の裾部S5と;第2頂部23bと;第2頂部23bと第3基部21cとの間の裾部S6とを含む。第2襞部27bは、第1襞部27aよりも非肌対向面S2側に位置する。また、第2襞部27bにおいて、第2頂部23bは、第1襞部27aの第1頂部23aよりもさらに下端縁3b側に位置し、第2基部21bは、第1襞部27aの第1基部21aよりもさらに下端縁3b側に位置する。また、第2襞部27bにおいて、裾部S5の縦方向(L)の長さは、裾部S6の縦方向(L)の長さよりも短い。
 第3襞部27cは、第3基部21cと;第3基部21cと第3頂部23cとの間の裾部S7と;第3頂部23cと;第3頂部23cと底部25との間の裾部S8と;底部25と;底部25と第4基部21dとの間の裾部S9と;第4基部21dとを含む。第3襞部27cは、第2襞部27bよりも非肌対向面S2側に位置する。また、第3襞部27cにおいて、第3頂部23cは、第2襞部27bの第2頂部23bよりもさらに下端縁3b側に位置し、第3基部21cは、第2襞部27bの第2基部21bよりもさらに下端縁3b側に位置する。また、第3襞部27cにおいて、第4基部21dは、第3基部21cよりも下端縁3b側に位置する。また、第3襞部27cにおいて、底部25は、マスク本体3の下端縁3bよりも上端縁3a側に位置すると共に、第4基部21dよりも下端縁3b側に位置する。また、第3襞部27cにおいて、裾部S7の縦方向(L)の長さと裾部S9の縦方向(L)の長さとの和は、裾部S8の縦方向(L)の長さよりも短い。
 さらに、マスク本体3は、上端縁3aと第1基部21aとの間の基底部S10、第4基部21dと下端縁3bとの間の基底部S11を含む。
 このように、上記の第1襞部27a~第3襞部27c及び基底部S10、基底部S11により形成される蛇腹状の構造がマスク本体3のプリーツ構造Pである。
 マスク本体3は、着用前(未使用)の状態において、基底部S10と裾部S3との少なくとも一部、裾部S4と裾部S5との少なくとも一部、裾部S6と裾部S7との少なくとも一部、裾部S9と基底部S11との少なくとも一部がそれぞれ重なって折り畳まれることにより、厚さ方向Tにおいて、扁平な構造を有する。
 一方、マスク本体3は、マスク1の着用状態においては、図4に示すように、着用者の顎の長さに応じてマスク本体3の下端縁3bが縦方向(L)の下方に引き延ばされると共に、マスク本体3が非肌対向面S2側に隆起し、Ω形状に変形する。本実施形態においては、マスク1の着用状態において、裾部S8は最も隆起する面であり、着用者の鼻の先端又は口元に対応する位置に配置される。
 なお、本開示において、マスク本体は必ずしもプリーツ構造を備える必要はなく、またプリーツ構造を備える場合であっても、その構造は上記に限定されず、着用時において、マスク本体が非肌対向面側に隆起するように構成されている限り、その襞の数や襞の向き等の具体的な構成は適宜変更可能である。
[切欠き部]
 図1及び図2に示すように、本実施形態において、マスク本体3は、両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて、縦方向中央軸線Cよりも下方の位置に切欠き部15を有している。切欠き部15は、マスク本体3の横方向(C)の中央部に向かって凹となる形状、より具体的には、両側縁部3c、3cのそれぞれから横方向(C)の内方へ向かって次第に幅狭となる略V字状を有している。マスク本体3は、切欠き部15を有することにより、マスク1の使用時において、当該切欠き部15が両側縁部3c、3cそれぞれの変形誘導の起点となり易いので、前記両側縁部3c、3cのそれぞれと着用者の顔面との密着性を高め、マスク本体3の顔面へのフィット性を高めることができる。
 切欠き部15は、マスク本体3の両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて、略V字状にセルロース布帛9が切断されると共に、合成繊維布帛11が溶断されることにより形成される。
 また、マスク本体3は、両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて、切欠き部15が形成された、切欠き部形成領域17と、切欠き部15が形成されていない、切欠き部非形成領域19とに区画されている。
 なお、本開示における切欠き部は、上記構成に限定されず、単数又は複数の直状、曲状等の各種公知の形状であってもよい。また、本開示における切欠き部は、基材シートを切断することのみにより設けられていてもよいし、当該基材シートが複数のシートから構成される場合にあっては、当該基材シートを構成するシート同士を切断及び圧着することにより形成されていてもよい。
[サイドシート、エンボス部、折り返し部]
 図1及び2に示すように、本実施形態において、マスク本体3は、両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて、両側縁部3c、3cのそれぞれの肌対向面S1及び非肌対向面S2を覆うサイドシート13を有する。サイドシート13は、セルロース布帛9及び合成繊維布帛11の2層構造からなるマスク本体3の基材シート7の両側縁部3c、3cのそれぞれを挟んだ状態で配設されている。
 なお、本開示におけるサイドシートは、上記構成に限定されず、マスク本体の、少なくとも両側縁部のそれぞれの切欠き部形成領域において、切欠き部を非肌対向面側及び肌対向面側から覆う布帛から構成されていればよい。
 また、サイドシートを構成する布帛は、マスク本体を構成する非肌対向面側布帛と同様、例えば坪量10~40g/mのメルトブローン不織布スパンボンド不織布、SMS不織布及びエアスルー不織布等の各種公知の合成繊維不織布シートのうち、通気性の良好な材料を適宜選択して形成することができる。なお、本開示におけるサイドシートを構成する布帛は、織物や編物からなるシート材料であってもよいが、サイドシートが着用者の顔面に刺激を与えにくい観点から、不織布からなるシート材料であることが好ましい。
 本実施形態において、マスク本体3は、両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて、縦方向(L)に沿って延在するエンボス部29(本開示においては、「側縁部エンボス部」と称することがある。)を有する。より具体的には、エンボス部29は、切欠き部非形成領域19において、マスク本体3を構成する基材シート7、すなわち、セルロース布帛9及び合成繊維布帛11と、サイドシート13とを厚さ方向Tにエンボスすることにより形成されるものである。なお、本実施形態におけるエンボス部29は、両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて2列ずつ配置されているが、本開示においては、この構成に限定されず、1列又は3列以上から形成されていてもよい。
 また、本実施形態において、マスク本体3は、両側縁部3c、3cのそれぞれの切欠き部形成領域17においては、エンボス部29を有しない。
 本実施形態において、両側縁部3c、3cのそれぞれの切欠き部形成領域17の剛性は、両側縁部3c、3cのそれぞれの切欠き部非形成領域19の剛性よりも低い。
 なお、両側縁部における切欠き部形成領域及び切欠き部非形成領域のそれぞれの剛性値は、特に制限されないが、剛性値は、曲げ剛性試験、すなわち、測定対象のシート材から所定サイズ(例えば、100mm×10mm)の試験片を切り出した後、該試験片の各方向(すなわち、測定対象部材の縦方向に対応する方向)における切欠き部形成領域又は切欠き部非形成領域に対応する位置における曲げ剛性を、純曲げ試験機 KES FB-2(カトーテック株式会社製)を用いて測定することにより、得ることができる。
 図3に示すように、本実施形態において、基材シート7を構成する合成繊維布帛11は、マスク本体3の横方向(C)に延びる下端縁3bにおいて肌対向面S1側に折り返された第1折り返し部31を有し、当該第1折り返し部31が、セルロース布帛9を覆うように構成されている。さらに、セルロース布帛9は、下端縁3bにおいて肌対向面S1側に折り返された第2折り返し部33を有する。
 また、合成繊維布帛11の第1折り返し部31の縦方向(L)の長さL1は、セルロース布帛9の第2折り返し部33の縦方向(L)の長さL2よりも長くなるように構成されている。
 また、合成繊維布帛11の第1折り返し部31と、セルロース布帛9の第2折り返し部33とはいずれもマスク本体3の下端縁3b近傍においてエンボス部35により固定されている。
 なお、本開示における非肌対向面側布帛の第1折り返し部とマスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛の第2折り返し部とは、HMA等の接着剤で固定されていてもよい。
 本実施形態において、図2に示すように、マスク本体3はさらに、縦方向(L)の中央部において、横方向(C)延在する補助エンボス部37を有する。より具体的には、補助エンボス部37は、第2襞部27bにおける裾部S6における、マスク1の着用前(未使用)の状態において裾部S5と重なり合っていない部分において、マスク本体3を構成する基材シート7、すなわち、セルロース布帛9及び合成繊維布帛11をエンボスすることにより形成されている。
[鼻カバー部]
 図2及び図3に示すように、本実施形態において、マスク本体3は、セルロース布帛9よりもさらに肌対向面S1側において、上端縁部3Aから縦方向(L)に延在する鼻カバー部39を有する。鼻カバー部39の縦方向(L)における長さをL3とすると、L3は、マスク1の着用前(未使用)の状態におけるマスク本体3の縦方向(L)の長さの30%程度である。
 鼻カバー部39は、マスク本体3の上端縁部3Aにおいてホットメルト接着剤により固定された固定端38と、固定端38の下方において横方向(C)に延在する自由端40とを有する。マスク1の使用時においては、鼻カバー部39の固定端38の横方向(C)における中央部分が着用者の鼻根部分に、自由端40の横方向(C)における中央部分が着用者の鼻の先端部分に、それぞれ当接し易い。なお、本開示における鼻カバー部のマスク本体の上端縁部への接合形態は上記に限定されず、熱融着など他の接合形態により接合されていてもよい。
 鼻カバー部39は、合成繊維布帛から構成されており、着用者がマスク1を着用した際に、着用者の鼻に当接するように構成されている。
 本開示において、鼻カバー部を構成する合成繊維布帛のMIUは、0.09~0.20、より好ましくは0.09~0.0.18、より一層好ましくは0.09~0.15の数値範囲を有する。着用者が鼻カバー部の肌対向面の滑り易さを感取し易くする観点からである。また、鼻カバー部を構成する合成繊維布帛のMMDは、0.005~0.015、より好ましくは0.005~0.012、より一層好ましくは0.005~0.010の数値範囲を有する。着用者が鼻カバー部の肌対向面の滑らかさを感取し易くする観点からである。
 本開示における鼻カバー部を構成する合成繊維布帛は、本開示におけるマスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛よりもMIU及びMMDがそれぞれ低く、本開示におけるマスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛よりも相対的に着用者の顔面、特に鼻の部分に一定程度の刺激や違和感を与える虞が少ない。
 本実施形態において、鼻カバー部39は、マスク本体3を構成する合成繊維布帛11と同様、長繊維によるスパンボンド不織布により構成されている。鼻カバー部39の肌対向面U1は、図5に示すように、長繊維の繊維端が当該肌対向面U1から厚さ方向Tに殆ど突出しておらず、着用者の肌に接触しても、着用者にチクチク感等の刺激を与える虞が少ない。
 本開示における鼻カバー部を構成する合成繊維布帛は、マスク本体を構成する非肌対向面側布帛と同様、例えば坪量10~40g/mのメルトブローン不織布スパンボンド不織布、SMS不織布及びエアスルー不織布等の各種公知の合成繊維不織布シートのうち、通気性の良好な材料を適宜選択して形成することができる。
 なお、本開示における鼻カバー部の縦方向における長さは、上記に限定されず、マスク本体の縦方向の長さの少なくとも30%の長さであることが好ましい。また、鼻カバー部の縦方向における長さは、好ましくはマスク本体の縦方向の長さの30~80%、より好ましくはマスク本体の縦方向の長さの30~60%、より一層好ましくはマスク本体の縦方向の長さの30~50%の長さである。鼻カバーの縦方向における長さの好ましい範囲の下限値は、布帛が着用者の顔面に触れることをより抑制し易くする観点、当該上限値は、鼻カバー部が着用者の口元に当接して着用者に違和感を生じ難くする観点から決定される。
 また、本開示における鼻カバー部は、布帛が着用者の顔面に触れることをより抑制し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易くする観点から、マスク本体のプリーツ構造における、第1基底部の下端縁側の端部を越えて延在することが望ましい。
 図6に示すように、本実施形態において、鼻カバー部39は、複数の点状エンボス部45を有する。当該複数の点状エンボス部45のそれぞれは、鼻カバー部39を構成する合成繊維布帛を厚さ方向Tにエンボスすることにより形成されるものである。
 本開示において、点状エンボス部の面積の合計は、鼻カバー部を構成する合成繊維布帛の面積に対して、好ましくは15~30%、より好ましくは18~25%である。鼻カバー部を構成する合成繊維布帛の肌触りと強度との両立の観点からである。
 また、本開示において、鼻カバー部を構成する合成繊維布帛の肌対向面におけるSMD(表面粗さ)は、2.0~4.5μm、より好ましくは2.0~4.0μm、より一層好ましくは2.0~3.5μmの数値範囲を有する。
 当該合成繊維布帛の肌対向面のSMDは、当該布帛の肌対向面における凹凸の度合いを示し、この値が大きくなるほど、凹凸が激しい。
 なお、本明細書において、布帛のSMDの測定方法は、MIU及びMMDと同様、以下の通りとする。
 測定対象の布帛から所定サイズ(例えば、100mm×10mm)の試験片を切り出した後、該試験片の各方向(すなわち、測定対象布帛の縦方向及び横方向に対応する方向)におけるSMDを、摩擦感テスター KES SE(カトーテック株式会社製)を用いて測定し、当該各方向のそれぞれの平均値を算出することにより、当該布帛のSMDを得ることができる。
[保持部材]
 図1~図4に示すように、本実施形態において、マスク本体3は、上端縁3a側に設けられ、上端縁3aの一部を所定の形状で保持する保持部材41を有する。保持部材41は、合成繊維布帛11とセルロース布帛9との間に配設され、周囲に配置されたエンボス部43によりその位置がずれないように固定されている。
 本開示における保持部材は、薄板矩形形状を有し、可撓性の熱可塑性樹脂(例えばプラスチック)などで形成されていることが好ましい。保持部材41は、着用者が容易に曲げることができると共に、一旦所定形状に変形すると、再び外力がかからない限りその所定形状を保持するようになっている。このため、着用者がマスク1を着用した後に保持部材41を鼻の形状に合わせて変形させると、保持部材41は、マスク本体3の上端縁3aの近傍を着用者の鼻の形状に合った状態で保持できる。これにより、保持部材41は、上端縁3aと着用者の顔面との間に隙間が生じることを抑制できる。
[耳掛け部]
 耳掛け部は、好ましくは弾性的に伸縮可能なものであって、不織布や織布、プラスチックフィルム、ゴム紐等の公知の材料によって形成できる。
 続いて、本実施形態に係るマスク1の作用を説明する。
 本実施形態のマスク1は、前記プリーツ構造P及び両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて、縦方向(L)に沿って延在するエンボス部29により、使用時において、マスク本体3の立体構造の保形性を維持し易い。また、マスク本体3が切欠き部15を両側縁部3c、3cのそれぞれにおいて備えることにより、切欠き部15が変形誘導の起点となるので、使用時において、マスク本体3の顔面へのフィット性を高め易い。
 また、本実施形態のマスク1は、マスク本体3において、着用者の鼻を覆うように配置され且つ所定の摩擦特性を有する合成繊維布帛からなる鼻カバー部39を備えるので、鼻カバー部39が着用者の顔面、特に鼻の部分に接触しても、当該部分に刺激を与えにくい。また、本実施形態のマスク1は、マスク本体3において、鼻カバー部39を備えることにより、鼻カバー部39を構成する合成繊維布帛よりもMIU又はMMDが高く、着用者の顔面に触れたときに当該顔面に刺激を与え易いセルロース布帛9が、着用者の顔面、特に鼻の部分に直接接触することを抑制し易い。したがって、本実施形態のマスク1は、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れる。
 より具体的には、マスク本体3の肌対向面S1の少なくとも一部がセルロース布帛9により構成されるので、セルロース系繊維の吸湿性により着用者がマスク本体3内で吐いた息を吸湿・蒸散させ易く、蒸れにくい。一方、マスク本体3の肌対向面S1の一部を構成するセルロース布帛9が、例えばガーゼ等、セルロース系の短繊維を撚り合わせた糸の編物から構成される場合、当該セルロース系短繊維の繊維端が当該肌対向面T1から厚さ方向Tに突出し易く、当該繊維端が着用者の肌に接触することにより、着用者にチクチク感等の刺激を与えることがある。しかしながら、マスク本体3が所定の位置に、合成繊維布帛からなる鼻カバー部39を有することにより、当該チクチク感等の刺激や違和感を着用者に感取させにくくすることができる。
 以上より、本実施形態のマスク1は、マスク1の吸湿性を高めつつ、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れる。
 なお、本実施形態のマスク1は、マスク本体3において、保持部材41を備え、当該保持部材41が設けられている部分においてはマスク本体3が着用者の鼻根部分に特に密着し易い。また、保持部材41の剛性により、当該保持部材41が設けられている部分においては、マスク本体3の肌対向面S1を介して着用者の鼻根部分に擦れ等、特に着用者に刺激を与え易い。そこで、本実施形態のように、鼻カバー部39が保持部材41を覆うように設けられていると、より確実に着用者の顔面における違和感を抑制し易い。
 また、本実施形態のマスク1は、マスク本体3の肌対向面S1の一部を構成する布帛がセルロース布帛からなるので、マスク本体の吸湿性をより確実に確保し易い。
 また、本実施形態のマスク1は、セルロース布帛9を構成する繊維が、複数の短繊維を撚り合わせて構成されているので、前記短繊維の繊維端や前記短繊維を撚り合わせて構成された繊維束からはみ出た短繊維が、当該セルロース布帛9における肌対向面S1から着用者の顔面が存在する方向に突出し易く、着用者の顔面、特に鼻の部分にチクチク感等の刺激を与え易い。しかし、本実施形態のマスク1は、前記構成を有する鼻カバー部39を所定の位置に備えるので、マスク本体3がこのように着用者の顔面、特に鼻の部分に刺激を与え易い質感のセルロース布帛9により構成されていても、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れる。
 また、本実施形態のマスク1において、鼻カバー部39を構成する前記合成繊維布帛に複数の点状エンボス部45が設けられているにもかかわらず所定の範囲内のSMDを有するので、マスク1の使用開始の段階において、鼻カバー部39の凹凸感を着用者に感取され難く、着用者の顔面における違和感を抑制し易い。また、マスク1は、所定の点状エンボス部45を複数有するので、鼻カバー部39を構成する前記合成繊維布帛の毛羽立ちを抑制し易く、特に使用時間が一定程度経過しても、毛羽立ちが抑制された状態を維持し易く、着用者の顔面における違和感を抑制し易い。したがって、本実施形態のマスク1は、使用開始段階及び使用開始から一定程度時間が経過した段階のいずれにおいても、着用者の顔面における違和感を抑制し易く、装着感に優れる。
 また、本実施形態のマスク1は、鼻カバー部39とプリーツ構造Pとが上述の位置関係にあるので、セルロース布帛9が着用者の顔面に触れることをより抑制し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
 また、本実施形態のマスク1において、プリーツ構造P及び上述の構成を有するエンボス部29により、使用時において、マスク本体3の立体構造の保形性を維持し易いと共に、マスク本体3が切欠き部15を備えることにより、当該切欠き部15が変形誘導の起点となるので、使用時において、マスク本体3の顔面へのフィット性を高め易い。
 また、本実施形態のマスク1は、マスク本体3が、少なくとも両側縁部3cのそれぞれの切欠き部形成領域17において、切欠き部15を非肌対向面側S2及び肌対向面側S1から覆うサイドシート13を備えるので、切欠き部15が着用者の顔面に直接触れることを抑制し易いと共に、切欠き部形成領域17の剛性は、切欠き部非形成領域19の剛性よりも低く構成されているので、切欠き部形成領域17が着用者の顔面に触れても、着用者の顔面における違和感を抑制し易い。
 以上より、本実施形態のマスク1は、使用時において、マスク本体3の顔面へのフィット性を高めつつ、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
 また、本実施形態のマスク1において、切欠き部形成領域17がエンボス部を有しないので、当該切欠き部形成領域17が着用者の顔面に触れても、本実施形態のマスク1は、着用者の顔面に刺激を与えにくく、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
 また、本実施形態のマスク1において、セルロース布帛9は、織物であるので吸湿性を維持しつつ通気性を有するので蒸れにくい。さらに、マスク本体3は、両側縁部3cのそれぞれにおける切欠き部15において、合成繊維布帛11が溶断されているので、溶断部分において合成繊維布帛11とセルロース布帛9とが溶着し、両布帛の位置ずれを抑制し易いと共にマスク1の強度をより確実に確保し易く、マスク本体3の立体構造の保形性を維持し易いので、マスク本体3の顔面へのフィット性をより確実に確保し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
 また、本実施形態のマスク1は、マスク本体3の下端縁3b近傍において、セルロース布帛9が合成繊維布帛11に覆われているので、下端縁3b近傍において、セルロース布帛9が着用者の顔面に直接接触し難い。したがって、本実施形態のマスク1は、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
 また、本実施形態のマスク1は、マスク本体3の第2折り返し部33により、下端縁3b近傍における剛性が増すのでマスク本体3の立体構造の保形性が高まる。したがって、本実施形態のマスク1は、マスク本体3の顔面へのフィット性をより確実に確保し確保し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
 また、本実施形態のマスク1は、補助エンボス部37によりマスク本体3の立体構造の保形性をより一層維持し易い。したがって、本実施形態のマスク1は、マスク本体3の顔面へのフィット性をより確実に確保し易く、着用者の顔面における違和感をより確実に抑制し易い。
[実施例]
 以下の実施例1~5及び比較例1~3に係るマスク(1)~(8)のサンプルを作製し、下記記載の方法に従ってマスク(1)~(8)の評価試験を行った。
(実施例1)
 縦方向に35mm、横方向に148mmの寸法を有する鼻カバー部が、坪量25g/mのスパンボンド不織布Aからなり、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛が、打ち込み本数90本のガーゼaからなるマスク(1)を作製した。
 スパンボンド不織布Aの肌対向面のMIUは0.17、MMDは0.011であった。
(実施例2)
 実施例1と同様の寸法を有する鼻カバー部が、坪量30g/mのスパンボンド不織布Bからなり、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛が、打ち込み本数90本のガーゼaからなるマスク(2)を作製した。
 スパンボンド不織布Bの肌対向面のMIUは0.14、MMDは0.008であった。
(実施例3)
 実施例1と同様の寸法を有する鼻カバー部が、坪量40g/mのエアスルー不織布Cからなり、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛が、打ち込み本数90本のガーゼaからなるマスク(3)を作製した。
 エアスルー不織布Cの肌対向面のMIUは0.13、MMDは0.007であった。
(実施例4)
 実施例1と同様の寸法を有する鼻カバー部が、坪量25g/mのスパンボンド不織布Dからなり、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛が、打ち込み本数90本のガーゼaからなるマスク(4)を作製した。
 スパンボンド不織布Dの肌対向面のMIUは0.14、MMDは0.012であった。
(実施例5)
 実施例1と同様の寸法を有する鼻カバー部が、坪量23g/mのスパンボンド不織布Eからなり、マスク本体の肌対向面の一部を構成する布帛が、打ち込み本数90本のガーゼaからなるマスク(5)を作製した。
 スパンボンド不織布Eの肌対向面のMIUは0.15、MMDは0.010であった。
(比較例1)
 マスク本体の肌対向面を構成する布帛が、打ち込み本数90本のガーゼaからなり、鼻カバー部を備えないマスク(6)を作製した。
 ガーゼaの肌対向面のMIUは0.14、MMDは0.020であった。
(比較例2)
 マスク本体の肌対向面を構成する布帛が、打ち込み本数80本のガーゼbからなり、鼻カバー部を備えないマスク(7)を作製した。
 ガーゼbの肌対向面のMIUは0.20、MMDは0.025であった。
(比較例3)
 マスク本体の肌対向面を構成する布帛が、坪量20g/mのスパンボンド不織布Fからなり、鼻カバー部を備えないマスク(8)を作製した。
 スパンボンド不織布Fの肌対向面のMIUは0.24、MMDは0.009であった。
(評価試験方法)
 マスク(1)~マスク(8)のそれぞれを20人の被験者に5分間着用してもらい、顔面、特に鼻の部分において刺激や違和感を感取したかどうかを評価してもらった。なお、マスク(1)~(8)の評価基準は、以下の通りとした。
 ○:顔面、特に鼻の部分において刺激や違和感を感取したと回答した被験者が0~4人であった。
 △:顔面、特に鼻の部分において刺激や違和感を感取したと回答した被験者が5~12人であった。
 ×:顔面、特に鼻の部分において刺激や違和感を感取したと回答した被験者が13~20人であった。
 マスク(1)~(8)における、着用者の鼻に当接する布帛の肌対向面のMIU及びMMD乃至評価試験結果は、以下の表1に示す通りであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 なお、本開示に係るマスクは、上述の実施形態や例示的記載に制限されることなく、本開示の目的、趣旨を逸脱しない範囲内において、適宜組み合わせや変更等が可能である。
 また、本開示において、「第1」、「第2」等の序数は、当該序数が付された事項を区別するためのものであり、各事項の順序や優先度、重要度等を意味するものではない。
 1  マスク
 3  マスク本体
 3a  上端縁
 3A  上端縁部
 3b  下端縁
 3c  側縁部
 5  耳掛け部
 7  基材シート
 9  セルロース布帛
 11  合成繊維布帛
 13  サイドシート
 15  切欠き部
 17  切欠き部形成領域
 19  切欠き部非形成領域
 21a  第1基部
 21b  第2基部
 21c  第3基部
 21d  第4基部
 23a  第1頂部
 23b  第2頂部
 23c  第3頂部
 25  底部
 27a  第1襞部
 27b  第2襞部
 27c  第3襞部
 29  エンボス部
 31  第1折り返し部
 33  第2折り返し部
 35  エンボス部
 37  補助エンボス部
 38  固定端
 39  鼻カバー部
 40  自由端
 41  保持部材
 43  エンボス部
 45  点状エンボス部
 S1  肌対向面
 S2  非肌対向面
 S3~S9  裾部
 P  プリーツ構造
 L1  第1折り返し部31の縦方向(L)の長さ
 L2  第2折り返し部33の縦方向(L)の長さ
 L3  鼻カバー部39の縦方向(L)における長さ

Claims (11)

  1.  縦方向及び横方向を有するマスク本体と、前記縦方向に沿って延在する前記マスク本体の両側縁部のそれぞれから延出する耳掛け部とを備えるマスクであって、
     前記マスク本体は、肌対向面とその反対側に位置する非肌対向面とを備え、前記肌対向面の一部を構成する布帛を有し、
     前記マスク本体は、着用者の鼻を覆うように、前記横方向に沿って延在する上端縁部から前記縦方向に延在し且つ合成繊維布帛からなる鼻カバー部を有し、前記合成繊維布帛の肌対向面のMIU(平均摩擦係数)が0.09~0.20且つMMD(平均摩擦係数の変動)が0.005~0.015であり、
     前記布帛の肌対向面のMIUが0.20超又はMMDが0.015超である、
     前記マスク。
  2.  前記布帛がセルロース布帛である、請求項1に記載のマスク。
  3.  前記布帛を構成する繊維は、複数の短繊維を撚り合わせて構成されている、請求項1又は2に記載のマスク。
  4.  前記合成繊維布帛は、複数の点状エンボス部を有し、前記複数の点状エンボス部の面積の合計が前記合成繊維布帛の面積に対して15~30%であり、
     前記合成繊維布帛のSMD(表面粗さ)が2.0~4.5μmである、請求項1~3のいずれか一項に記載のマスク。
  5.  前記マスク本体は、使用時において、非肌対向面側に隆起するためのプリーツ構造を有し、
     前記プリーツ構造は、前記マスク本体の前記上端縁部及び下端縁をそれぞれ構成する第1基底部及び第2基底部と、それらの間の襞部とを備え、
     前記鼻カバー部が、前記縦方向において、前記第1基底部の、前記下端縁側の端部を越えて延在する、請求項1~4のいずれか一項に記載のマスク。
  6.  前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれにおいて、前記横方向の中央部に向かって凹となる切欠き部が形成された、切欠き部形成領域と、前記切欠き部が形成されていない、切欠き部非形成領域とを備え、
     前記マスク本体は、少なくとも前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部形成領域において、前記切欠き部を非肌対向面側及び肌対向面側から覆うサイドシートを有し、
     前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部非形成領域において、前記縦方向に沿って延在する側縁部エンボス部を有し、
     前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部形成領域の剛性は、前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部非形成領域の剛性よりも低い、請求項1~5のいずれか一項に記載のマスク。
  7.  前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれの前記切欠き部形成領域において、前記側縁部エンボス部を有しない、請求項6に記載のマスク。
  8.  前記マスク本体は、前記布帛よりも非肌対向面側に非肌対向面側布帛が配置された積層構造を有し、
     前記布帛は、織物であり、
     前記非肌対向面側布帛は、合成繊維布帛からなり、
     前記マスク本体は、前記両側縁部のそれぞれにおける前記切欠き部において、前記非肌対向面側布帛が溶断されている、請求項6または7に記載のマスク。
  9.  前記非肌対向面側布帛は、前記マスク本体の前記横方向に延びる下端縁において前記肌対向面側に折り返された第1折り返し部を有し、
     前記第1折り返し部が、前記布帛を覆っている、請求項8に記載のマスク。
  10.  前記布帛は、前記下端縁において前記肌対向面側に折り返された第2折り返し部を有し、
     前記第1折り返し部の前記縦方向の長さが、前記第2折り返し部の前記縦方向の長さよりも長い、請求項9に記載のマスク。
  11.  前記マスク本体は、前記縦方向の中央部において、前記横方向の少なくとも一部に延在する補助エンボス部を有する、請求項1~10のいずれか一項に記載のマスク。
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