WO2018173928A1 - 細胞捕捉用フィルタ、細胞捕捉用フィルタの製造方法、および細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法 - Google Patents

細胞捕捉用フィルタ、細胞捕捉用フィルタの製造方法、および細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法 Download PDF

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航 山本
順子 渡邉
近藤　孝志
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Definitions

  • the present invention relates to a cell trapping filter capable of determining deterioration of a cell trapping filter provided with a metal porous membrane, a manufacturing method thereof, and a method of determining deterioration of a cell trapping filter.
  • a filter having a metal porous membrane is known as a cell trapping filter for trapping cells in a fluid (see, for example, Patent Document 1).
  • the metal porous membrane provided in such a filter is subject to deterioration over time, and in some cases, the mechanical strength of the metal porous membrane may be reduced and damaged. In such a case, the filter functions as a filter. It ’s hard to do. In addition, when it becomes possible to distinguish the aging deterioration of the metal porous film in appearance, the deterioration is considerably advanced.
  • an object of the present invention is to solve the above-described conventional problems, and a cell trapping filter capable of determining aged deterioration of a cell trapping filter including a metal porous membrane at an earlier stage, and a method for manufacturing the same.
  • Another object of the present invention is to provide a method for determining deterioration of a cell trapping filter.
  • the filter for capturing cells includes a metal porous membrane having a plurality of through holes penetrating main surfaces facing each other, and the metal porous membrane is selected from gold, platinum, and palladium.
  • An alloy of element and nickel, or a metal containing nickel as a main component, and a metal containing copper as a main component adheres to a part of the main surface of any one of the metal porous films. It is a thing.
  • a method for producing a filter for capturing cells is a method for producing a filter for capturing cells comprising a metal porous membrane having a plurality of through-holes, the surface of the substrate being mainly composed of copper. Forming a metal film; forming a resist film on the surface of the metal film; and exposing the resist film to form a resist image having a plurality of grooves that partially expose the metal film.
  • plating using the metal film as a power supply electrode, and an alloy of nickel selected from gold, platinum and palladium, or a metal containing nickel as a main component is deposited in the groove to form a porous metal
  • a step of forming a film; a step of removing the resist image; and a step of removing the substrate and the metal film is deposited in the groove to form a porous metal
  • the metal film To leave the metal to the copper constituting the main component on the surface of the metallic porous film, those.
  • a degradation determination method for a cell trapping filter is a degradation determination method for determining a degradation degree of a cell trapping filter including a metal porous membrane, wherein the element is selected from gold, platinum, and palladium.
  • Filter for cell trapping in which a metal mainly composed of copper is attached to a part of one main surface of the metal porous film formed of an alloy of nickel and nickel or a metal mainly composed of nickel And a step of determining the degree of deterioration of the metallic porous film based on a change in the state of the metal mainly composed of copper adhering to the metallic porous film. .
  • the filter for cell capture which can determine aged deterioration of the filter for cell capture provided with metal porous membranes earlier, its manufacturing method, and the degradation determination method of the filter for cell capture are provided. Can do.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a cell trapping filter according to an embodiment of the present invention. Partial enlarged view of a metal porous membrane in the filter of FIG. The partial enlarged view which looked at the metal porous membrane of the filter of FIG. 1 from the 2nd main surface side The flowchart of the deterioration judgment method of the filter concerning one embodiment of the present invention. The flowchart of the manufacturing method of the filter concerning one embodiment of the present invention. Schematic cross-sectional view illustrating each step in the method for manufacturing the filter of FIG.
  • the filter for capturing cells includes a metal porous membrane having a plurality of through-holes penetrating main surfaces facing each other, and the metal porous membrane is an element selected from gold, platinum, and palladium. And nickel, or a metal containing nickel as a main component, and a metal containing copper as a main component adheres to a part of one of the main surfaces of the metal porous film. , That is.
  • the metal porous membrane has a central region in which the plurality of through holes are disposed, and a peripheral region disposed so as to surround the central region, and the metal is disposed in the peripheral region. You may make it adhere.
  • the cell capturing filter group of one embodiment of the present invention is a cell capturing filter group of the same lot, comprising a metal porous membrane having a plurality of through holes penetrating main surfaces facing each other.
  • the cell capturing filter according to the aspect may be included in at least one.
  • the method for producing a filter for capturing cells is a method for manufacturing a filter for capturing cells comprising a metal porous membrane having a plurality of through-holes, and a metal containing copper as a main component on the surface of a substrate.
  • the metal film is used as a power supply electrode, and a metal porous film is formed by depositing an alloy of nickel selected from gold, platinum and palladium with an alloy of nickel or a metal having nickel as a main component in the groove.
  • the step of removing the resist image, the step of removing the substrate and the metal film A metal containing copper as a main component for forming so as to leave the surface of the metallic porous film, those.
  • the metal film used as the feeding electrode in the plating process for forming the metal porous film is not removed, but one I try to leave a part.
  • the state changes more than a metal mainly composed of nickel, which is the main material of a metal porous membrane, or an alloy of nickel selected from gold, platinum and palladium. It is possible to place a metal containing copper as a main component in the metal film removal step without adding a step for arranging a metal containing copper as a main component which is easy to proceed quickly on the surface of the metal porous membrane. . Therefore, it is possible to provide a method for producing a cell trapping filter that can determine the deterioration over time of a cell trapping filter including a metal porous membrane at an earlier stage.
  • the deterioration determination method for a cell trapping filter is a deterioration determination method for determining the degree of deterioration of a cell trapping filter including a metal porous membrane, and an element selected from gold, platinum, and palladium.
  • a cell trapping filter in which a metal containing copper as a main component is attached to a part of one of the principal surfaces of the metal porous film made of an alloy with nickel or a metal containing nickel as a main component.
  • a step of determining a degree of deterioration of the metal porous film based on a state change of a metal mainly composed of copper adhering to the metal porous film.
  • FIG. 1 shows a schematic diagram of a cell trapping filter 1 (hereinafter referred to as filter 1) according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 shows a partially enlarged view of the filter 1.
  • the X and Y directions in FIG. 2 are directions along the surface of the filter 1 and perpendicular to each other, and the Z direction is the thickness direction of the filter 1 and is a direction perpendicular to the X and Y directions. is there.
  • the filter 1 includes a metal porous film 10 having a plurality of through holes 11 penetrating in the thickness direction.
  • the metal porous film 10 has a central region R1 in which a plurality of through holes 11 are disposed, and a peripheral region R2 disposed so as to surround the central region R1.
  • the central region R1 is a circular region
  • the peripheral region R2 is an annular region
  • the through hole 11 is not formed in the peripheral region R2.
  • the filter 1 may be provided with a frame that sandwiches the peripheral region R2 of the metal porous film 10 so that the handling property of the filter 1 is improved.
  • the metal porous membrane 10 separates the filtration object from the fluid by allowing the fluid containing the filtration object (or the capture object) to pass through the through hole 11.
  • the “filtering object” means an object to be filtered by the metal porous membrane 10.
  • the filtering object include biological substances and PM2.5.
  • the “biological substance” means a substance derived from a living organism such as a cell (eukaryotic organism), a bacterium (eubacteria), or a virus.
  • cells include artificial pluripotent stem cells (iPS cells), ES cells, stem cells, mesenchymal stem cells, mononuclear cells, single cells, cell masses, suspension cells, adhesive cells, nerves.
  • bacteria includes Escherichia coli and tuberculosis.
  • the metal porous membrane 10 is a circular metal mesh. Further, as shown in FIG. 2, the metal porous film 10 has a first main surface PS1 and a second main surface PS2 facing each other, and has a plurality of through holes 11 penetrating both main surfaces. is there. The plurality of through holes 11 are periodically arranged on the first main surface PS1 and the second main surface PS2 in the central region R1 of the metal porous film 10.
  • the metal porous film 10 is formed using nickel as a main material.
  • the metal porous membrane 10 has, for example, a diameter of 6 mm and a thickness of 1.2 ⁇ m.
  • the metal porous membrane 10 is a plate-like structure (lattice-like structure) in which a plurality of through holes 11 are arranged in a matrix at regular intervals.
  • the plurality of through holes 11 have a square shape when viewed from the first main surface PS1 side of the metal porous film 10, that is, when viewed in the Z direction.
  • the plurality of through holes 11 are provided at equal intervals in two arrangement directions parallel to each side of the square, that is, in the X direction and the Y direction in FIG.
  • the through-hole 11 is not limited to a square, For example, a rectangle, a circle
  • the arrangement of the holes is not limited to the square lattice arrangement, and for example, if the arrangement is a square arrangement, a rectangular arrangement in which the intervals in the two arrangement directions are not equal may be used, and a triangular lattice arrangement or a quasi-periodic arrangement may be used.
  • the through-hole 11 is, for example, a square when viewed from the first main surface PS1 side of the metal porous film 10, that is, when viewed from the Z direction, and has a vertical length of 0.1 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less, and a horizontal width of 0. Designed to be 1 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less.
  • the interval between the through holes 11 is, for example, greater than 1 time and less than or equal to 10 times that of the through hole 11, more preferably less than or equal to 3 times that of the through hole 11.
  • the aperture ratio is preferably 10% or more.
  • FIG. 3 shows a partially enlarged view of the vicinity of the boundary between the central region R1 and the peripheral region R2 when viewed from the second main surface PS2 side of the metal porous membrane 10.
  • the indicator 20 is disposed in the peripheral region R2 on the second main surface PS2 of the metal porous membrane 10.
  • the metal forming the indicator 20 may be a metal whose state change proceeds faster than the main material of the metal porous membrane 10 in an environment for capturing cells.
  • nickel is used as the main material of the metal porous film 10
  • copper is used as the material of the indicator 20.
  • the state change of the copper forming the indicator 20 proceeds faster than the nickel which is the main material of the metallic porous film 10.
  • the dense oxide layer protects the inside of the metal layer containing nickel as a main component, the oxidation does not easily proceed to the inside of the metal layer, and the oxide layer is kept thin. Therefore, the metallic luster of the metal layer is maintained, and the color of the metal layer is not easily changed with time.
  • copper is an oxide to produce the copper surface (CuO, Cu 2 O) is porous, it proceeds easily oxidized to the inside of the metal layer mainly composed of copper. Therefore, the thickness of the oxide layer increases with time, and the color tone of the oxide appears strongly on the metal layer. That is, copper is more likely to be discolored with time than nickel. From such a viewpoint, it is preferable that the metal porous film 10 is formed of a metal whose main component is nickel, and the indicator 20 is formed of a metal whose main component is copper.
  • the metal having nickel as a main component is a metal having the highest component ratio (mass ratio) of nickel among one or more components contained in the metal.
  • the metal which has copper as a main component is a metal with the highest component ratio (mass ratio) of copper among one or a plurality of components contained in the metal.
  • the metal porous film 10 may be formed of an alloy of nickel and one or more elements selected from the group consisting of gold, platinum and palladium.
  • an alloy for example, an alloy of 80 wt% palladium and 20 wt% nickel, an alloy of 95 wt% gold and 5 wt% nickel, or an alloy of 90 wt% platinum and 10 wt% nickel may be used.
  • the ratio of these metal components may be measured using, for example, ICP-AES (Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometer).
  • the indicator 20 should just be arrange
  • FIG. Indicator 20 may be arranged in central side field R1 in any one principal surface, and may be arranged in both central side field R1 and peripheral field R2. Moreover, the indicator 20 may be arrange
  • the indicator 20 may be of any size that can confirm the change in state of the indicator 20 itself over time.
  • the indicator 20 when the state change is confirmed visually, the indicator 20 is preferably a size that can be visually recognized.
  • the indicator 20 may be of a size that can be analyzed by the analyzer even if the indicator 20 is not visible.
  • the indicator 20 is formed in a size of about 3 ⁇ m in diameter when viewed from the direction orthogonal to the second main surface PS2.
  • the indicator is preferably arranged at least in the peripheral region R2.
  • step S11 the filter 1 including the metal porous film 10 on which the indicator 20 is arranged is prepared. Even if the filter 1 in which the indicator 20 is arranged is prepared by attaching a metal whose state change proceeds faster than the main material of the metal porous membrane 10 to the metal porous membrane 10 in an environment for capturing cells. Good. Moreover, you may prepare the filter 1 by manufacturing the filter 1 in which the indicator 20 is arrange
  • step S12 the state change of the indicator 20 is analyzed, and the degree of deterioration of the metallic porous film 10 is determined based on the analysis result.
  • an oxidation state is analyzed as a state change of the indicator 20 using an X-ray analyzer.
  • the analysis result is compared with the threshold value of the oxidation state to determine the degree of deterioration of the metal porous membrane 10.
  • the degree of deterioration may be determined using only one threshold, or the degree of deterioration (degradation progress) may be determined in multiple stages using a plurality of thresholds.
  • the currently used filter 1 is replaced with a new filter 1.
  • the state change of the indicator 20 may be visually confirmed (for example, the degree of discoloration due to oxidation may be visually confirmed).
  • the state change may be confirmed by confirming the volume change due to oxidation of the indicator 20. May be performed. As the oxidation of the indicator 20 proceeds, the volume of the indicator 20 tends to increase. For example, the state change of the indicator 20 may be confirmed by light scattering. As the oxidation of the indicator 20 proceeds, the smoothness of the surface of the indicator 20 is lost, and unevenness is formed on the surface, so that higher-order scattering of light tends to become stronger.
  • FIG. 5 shows a flowchart of the manufacturing method of the filter 1
  • FIG. 6A shows a partial cross-sectional view (partial cross-sectional view near the boundary between the central region R1 and the peripheral region R2) of each manufacturing process in the manufacturing method of the filter 1. )
  • FIG. 6 (F) To FIG. 6 (F).
  • a feeding film is formed.
  • a metal film made of a first metal is formed on a substrate 31 such as silicon.
  • the first metal is a metal whose state change proceeds faster than the main material that becomes the metal porous film 10 in an environment for capturing cells.
  • a metal mainly composed of copper is used, and the copper thin film 32 is used. Is formed on the substrate 31.
  • the copper thin film 32 can be formed, for example, by vapor deposition or sputtering. Compared with the case where it forms by sputtering, the surface film quality can be made favorable.
  • the copper thin film 32 is used as a power supply electrode in the later-described plating process.
  • a resist film 33 is formed on the copper thin film 32 (step S22: formation of resist film). Specifically, a resist film 33 is formed on the copper thin film 32 by, for example, applying a resist by spin coating and performing a drying process. The resist film 33 is formed to a thickness of about 2 ⁇ m, for example.
  • step S23 exposure / development (resist image formation)
  • step S23 exposure / development (resist image formation)
  • a second metal mainly composed of nickel is deposited in the groove 34 to form the metal porous film 10 in the groove 34 (step).
  • the metal porous film 10 is formed, for example, by performing an electrolytic plating method using the copper thin film 32 as a feeding electrode.
  • step S25 removal of the resist image.
  • a solvent for example, acetone
  • step S26 removal of the substrate / copper thin film.
  • the substrate 31 is peeled from the metal porous film 10 by removing the copper thin film 32 by etching using an etching solution.
  • the entire copper thin film 32 is not removed, but the copper thin film 32 is etched such that a part of the copper thin film 32 remains attached to the main surface of the metal porous film 10.
  • a part of the copper thin film 32 left on the main surface of the metal porous film 10 becomes the indicator 20.
  • the indicator 20 is attached to the peripheral region R2 on the second main surface PS2 of the metal porous film 10. Etching that leaves part of the copper thin film 32 can be realized by adjusting one or more of the parameters of the thickness of the copper thin film 32, the composition of the etching solution, and the etching time.
  • the filter 1 in which the indicator 20 is arranged on the second main surface PS2 of the metal porous membrane 10 is produced.
  • the manufacturing method demonstrated using FIG. 5 and FIG. 6 (A) to (F) is an example, and another manufacturing method may be employ
  • step S26 after the copper thin film 32 is completely removed, a step of forming the indicator 20 on the main surface of the metal porous film may be provided.
  • the filter 1 a metal whose state changes more easily in an environment in which cells are captured than the main material of the metal porous membrane 10 is formed on any one main surface of the metal porous membrane 10.
  • the formed indicator 20 is attached. Thereby, by confirming the state of the indicator 20, it is possible to determine the aging deterioration of the metallic porous film 10. Therefore, the aging deterioration of the filter 1 provided with the metal porous membrane 10 can be determined earlier.
  • the indicator 20 is disposed not in the central region R1 where the plurality of through holes 11 are disposed, but in the peripheral region R2. With such a configuration, it is possible to determine the aging deterioration of the filter 1 using the indicator 20 arranged in the peripheral region R2 without affecting the filtration process or the like in the central region R1 serving as a filter. it can.
  • the filters 1 of the same lot are manufactured at the same time, it is estimated that the aging deterioration proceeds in the same manner.
  • the filters 1 of the same lot are manufactured at the same time, it is estimated that the aging deterioration proceeds in the same manner.
  • the filter group since the filters 1 of the same lot are manufactured at the same time, it is estimated that the aging deterioration proceeds in the same manner.
  • the filter group by including at least one filter 1 in which the indicator 20 is arranged in the filter group in the same lot, it is possible to determine the aging deterioration of the filter group in the same lot.
  • acquisition of this invention is described.
  • a metal mainly composed of copper is used as the first metal
  • nickel is used as the second metal
  • a part of the main surface of any one of the metal porous films 10 mainly composed of the second metal is used.
  • the filter 1 with the indicator 20 made of the first metal attached thereto was produced. Specifically, the filter 1 was produced by performing steps S21 to S26 of FIG. A metal with 99 wt% copper was used as the first metal, and a metal with 99 wt% nickel was used as the second metal.
  • the component ratio of these metals is a value measured using ICP-AES (Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometer).
  • a copper thin film was formed on the upper surface of a silicon substrate using a sputtering apparatus.
  • a copper thin film was formed by using argon gas as a sputtering gas and a degree of vacuum of 5.0 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa and an applied power of DC 500 W in a sputtering apparatus.
  • the sputtering time was 120 minutes, and a copper thin film having a thickness of 2 ⁇ m was formed.
  • Step 22 a resist film having a predetermined thickness was formed on the copper thin film using a spin coater. Specifically, after a resist agent was applied on the copper thin film, the resist film was formed by cooling after volatilizing the solvent at 130 ° C. in a nitrogen atmosphere. As a resist agent, a novolac resin and an organic solvent were used, and a resist film having a thickness of 2 ⁇ m was formed at a spin coater rotation speed of 1130 rpm.
  • step S23 the resist film was exposed and developed to form a resist image in which grooves corresponding to the metal porous film were formed in the resist film. Exposure was performed by irradiating the resist film with light having an energy density of 2500 J / m 2 including a wavelength of 365 nm for 0.25 seconds. Thereafter, the exposed portion of the resist film was brought into contact with an alkaline solution, whereby the exposed portion was removed to form a groove.
  • step S24 a metal porous film made of a plating film containing a nickel material as a main material was formed in the groove portion of the resist image by electrolytic plating using the previously formed copper thin film as a feeding electrode.
  • the substrate on which the copper thin film and the resist image were formed was immersed in dilute sulfuric acid for 60 seconds to activate the surface of the copper thin film exposed at the bottom of the groove portion of the resist image.
  • an electrolytic plating process was performed using the copper thin film as a feeding electrode while the substrate was swung in a nickel sulfamate plating solution (solution temperature 55 ° C., pH 4.0). The plating rate was 0.5 ⁇ m / min.
  • step S25 the resist image was dissolved by immersing in a solvent and peeled off from the copper thin film. Using an acetone solution as a solvent and applying ultrasonic waves in the acetone solution for 15 minutes promoted dissolution and peeling of the resist image.
  • step S22 and step S26 in the above-described embodiment are different, only the difference will be described.
  • a copper thin film was formed on the upper surface of a silicon substrate using a sputtering apparatus.
  • a copper thin film was formed by using argon gas as a sputtering gas and a degree of vacuum of 5.0 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa and an applied power of DC 500 W in a sputtering apparatus.
  • Sputtering time was 30 minutes shorter than that of the example, and a copper thin film having a thickness of 0.5 ⁇ m thinner than that of the example was formed.
  • the metal porous membrane of the filter for capturing cells of Example When the metal porous membrane of the filter for capturing cells of Example was confirmed, it was confirmed that a part of the copper thin film remained as an indicator on the main surface on which the copper thin film was formed. On the other hand, in the metal porous membrane of the filter for capturing cells of the comparative example, the remaining copper thin film corresponding to the indicator was not confirmed. In order to leave a part of the copper thin film as an indicator, for example, it is preferable to increase the film thickness of the copper thin film and perform the etching for a short time with an etching solution whose composition is adjusted.
  • a state change is more likely to proceed faster than a material for forming a metal porous membrane in a part of one of the main surfaces of the metal porous membrane included in the cell trapping filter in an environment for capturing cells.

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Abstract

金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの経年劣化をより早期に判定する。　細胞捕捉用フィルタが、互いに対向する主面を貫通する複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備え、金属製多孔膜は、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属により形成されており、金属製多孔膜のいずれか一方の主面の一部に、銅を主成分とする金属が付着している。銅を主成分とする金属の状態変化を確認することにより、金属製多孔膜の経年劣化をより早期に判定することができる。

Description

細胞捕捉用フィルタ、細胞捕捉用フィルタの製造方法、および細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法
　本発明は、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの劣化を判定することができる細胞捕捉用フィルタおよびその製造方法、ならびに細胞捕捉用フィルタの劣化を判定する方法に関する。
　近年、流体中の細胞を捕捉する細胞捕捉用フィルタとして、金属製多孔膜を備えるフィルタが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
特表２０１０－５２０４４６号公報
　このようなフィルタが備える金属製多孔膜は経年による劣化が進行し、場合によっては金属製多孔膜の機械的強度が低下して損傷するおそれがあり、そのような場合にはフィルタとしての機能を果たしがたくなる。また、金属製多孔膜の経年劣化を外観上判別可能になったときには、劣化がかなり進んだ状態となっている。
　従って、本発明の目的は、上記従来の課題を解決することにあって、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの経年劣化をより早期に判定することができる細胞捕捉用フィルタおよびその製造方法、ならびに細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法を提供することにある。
　本発明の一の態様の細胞捕捉用フィルタは、互いに対向する主面を貫通する複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備え、前記金属製多孔膜は、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属により形成されており、前記金属製多孔膜のいずれか一方の前記主面の一部に、銅を主成分とする金属が付着している、ものである。
　本発明の一の態様の細胞捕捉用フィルタの製造方法は、複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの製造方法であって、基板の表面に、銅を主成分とする金属膜を形成する工程と、前記金属膜の表面にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を露光して、前記金属膜を部分的に露出させる複数の溝部を有するレジスト像を形成する工程と、前記金属膜を給電電極としてめっき処理を行い、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属を、前記溝部内に析出させて金属製多孔膜を形成する工程と、前記レジスト像を除去する工程と、前記基板および前記金属膜を除去する工程と、を含み、前記基板および前記金属膜を除去する工程において、前記金属膜を構成する銅を主成分とする金属を前記金属製多孔膜の表面に残すようにする、ものである。
　本発明の一の態様の細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法は、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの劣化度合いを判定する劣化判定方法であって、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属により形成された前記金属製多孔膜のいずれか一方の主面の一部に、銅を主成分とする金属を付着させた細胞捕捉用フィルタを準備する工程と、前記金属製多孔膜に付着している銅を主成分とする金属の状態変化に基づいて、前記金属製多孔膜の劣化度合いを判定する工程と、を含む、ものである。
　本発明によれば、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの経年劣化をより早期に判定することができる細胞捕捉用フィルタおよびその製造方法、ならびに細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法を提供することができる。
本発明の一の実施の形態にかかる細胞捕捉用フィルタの概略構成図 図１のフィルタにおける金属製多孔膜の部分拡大図 図１のフィルタの金属製多孔膜を第２主面側から見た部分拡大図 本発明の一の実施の形態にかかるフィルタの劣化判定方法のフローチャート 本発明の一の実施の形態にかかるフィルタの製造方法のフローチャート 図５のフィルタの製造方法における各工程を説明する模式断面図
　本発明の一態様の細胞捕捉用フィルタは、互いに対向する主面を貫通する複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備え、前記金属製多孔膜は、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属により形成されており、前記金属製多孔膜のいずれか一方の前記主面の一部に、銅を主成分とする金属が付着している、ものである。
　このような構成によれば、銅を主成分とする金属の状態変化を確認することにより、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの経年劣化をより早期に判定することができる。
　また、前記金属製多孔膜は、前記複数の貫通孔が配置された中央側領域と、前記中央側領域を囲むように配置された周縁領域と、を有し、前記金属は、前記周縁領域に付着している、ようにしてもよい。
　このような構成により、細胞捕捉用フィルタとしての機能を担う中央側領域に影響を与えることなく、周縁領域に配置された金属を用いて、細胞捕捉用フィルタの経年劣化を判定することができる。
　本発明の一態様の細胞捕捉用フィルタ群は、互いに対向する主面を貫通する複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備える、同一ロットの細胞捕捉用フィルタ群であって、上記いずれかの態様の前記細胞捕捉用フィルタが少なくとも１つ含まれている、ようにしてもよい。
　同一ロットの細胞捕捉用フィルタは、同一時期に製造されたものであることから、経年劣化も同じように進むものと推定される。よって、同一ロット内の細胞捕捉用フィルタ群において上記金属を付着した少なくとも１つの細胞捕捉用フィルタを含ませておくことにより、同一ロットの細胞捕捉用フィルタ群の経年劣化の判定を行うことができる。
　本発明の一態様の細胞捕捉用フィルタの製造方法は、複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの製造方法であって、基板の表面に、銅を主成分とする金属膜を形成する工程と、前記金属膜の表面にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を露光して、前記金属膜を部分的に露出させる複数の溝部を有するレジスト像を形成する工程と、前記金属膜を給電電極としてめっき処理を行い、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属を、前記溝部内に析出させて金属製多孔膜を形成する工程と、前記レジスト像を除去する工程と、前記基板および前記金属膜を除去する工程と、を含み、前記基板および前記金属膜を除去する工程において、前記金属膜を構成する銅を主成分とする金属を前記金属製多孔膜の表面に残すようにする、ものである。
　このような構成によれば、金属製多孔膜を備えるフィルタの製造過程において、金属製多孔膜を形成するめっき処理の際に給電電極として利用される金属膜を、全部除去するのではなく、一部を残すようにしている。これにより、細胞を捕捉する環境下において、金属製多孔膜の主材料であるニッケルを主成分とする金属、または金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金よりも、状態変化が早く進行しやすい銅を主成分とする金属を金属製多孔膜の表面に配置させるための工程を追加することなく、金属膜の除去工程において銅を主成分とする金属の配置を行うことができる。よって、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの経年劣化を、より早期に判定することができる細胞捕捉用フィルタの製造方法を提供することができる。
　本発明の一態様の細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法は、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの劣化度合いを判定する劣化判定方法であって、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属により形成された前記金属製多孔膜のいずれか一方の主面の一部に、銅を主成分とする金属を付着させた細胞捕捉用フィルタを準備する工程と、前記金属製多孔膜に付着している銅を主成分とする金属の状態変化に基づいて、前記金属製多孔膜の劣化度合いを判定する工程と、を含む、ものである。
　このような構成によれば、銅を主成分とする金属の状態変化を確認することにより、金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの経年劣化をより早期に判定することができる。
　以下、本発明に係る実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。また、各図においては、説明を容易なものとするため、各要素を誇張して示している。
　（実施の形態１）
　（フィルタの全体構成）
　図１は、本発明に係る実施の形態１の細胞捕捉用フィルタ１（以降、フィルタ１とする。）の概略図を示す。図２は、フィルタ１の部分拡大図を示す。図２中のＸ、Ｙ方向は、それぞれフィルタ１の表面沿いの方向であって互いに直交する方向であり、Ｚ方向は、フィルタ１の厚み方向であり、Ｘ方向およびＹ方向に直交する方向である。
　図１に示すように、フィルタ１は、厚み方向に貫通する複数の貫通孔１１を有する金属製多孔膜１０を備える。金属製多孔膜１０は、複数の貫通孔１１が配置されている中央側領域Ｒ１と、中央側領域Ｒ１を囲むように配置された周縁領域Ｒ２とを有する。本実施の形態１では、中央側領域Ｒ１は円形状の領域であり、周縁領域Ｒ２は円環状の領域であり、周縁領域Ｒ２には貫通孔１１が形成されていない。また、フィルタ１において、金属製多孔膜１０の周縁領域Ｒ２を挟持するような枠体が備えられ、フィルタ１のハンドリング性を高めるようにしてもよい。
　金属製多孔膜１０は、濾過対象物（あるいは捕捉対象物）を含む流体を貫通孔１１にて通過させることにより、流体中から濾過対象物を分離するものである。本明細書において、「濾過対象物」とは、金属製多孔膜１０によって濾過する対象物を意味する。濾過対象物の例としては、生物由来物質やＰＭ２．５等が含まれる。「生物由来物質」とは、細胞（真核生物）、細菌（真性細菌）、ウィルス等の生物に由来する物質を意味する。細胞（真核生物）としては、例えば、人工多能性幹細胞（ｉＰＳ細胞）、ＥＳ細胞、幹細胞、間葉系幹細胞、単核球細胞、単細胞、細胞塊、浮遊性細胞、接着性細胞、神経細胞、白血球、再生医療用細胞、自己細胞、がん細胞、血中循環がん細胞（ＣＴＣ）、ＨＬ－６０、ＨＥＬＡ、菌類を含む。細菌（真性細菌）としては、例えば、大腸菌、結核菌を含む。
　図１に示すように、金属製多孔膜１０は、円形の金属メッシュである。また、金属製多孔膜１０は、図２に示すように、互いに対向する第１主面ＰＳ１と第２主面ＰＳ２を有し、両主面を貫通する複数の貫通孔１１を有する構造体である。複数の貫通孔１１は、金属製多孔膜１０の中央側領域Ｒ１において、第１主面ＰＳ１および第２主面ＰＳ２上に周期的に配置されている。金属製多孔膜１０は、ニッケルを主材料として形成されている。金属製多孔膜１０の寸法は、例えば、直径６ｍｍ、厚さ１．２μｍである。
　図２に示すように、金属製多孔膜１０は、マトリックス状に一定の間隔で複数の貫通孔１１が配置された板状構造体（格子状構造体）である。複数の貫通孔１１は、金属製多孔膜１０の第１主面ＰＳ１側から見て、即ちＺ方向に見て正方形の形状を有する。複数の貫通孔１１は、正方形の各辺と平行な２つの配列方向、即ち図２中のＸ方向とＹ方向に等しい間隔で設けられている。なお、貫通孔１１は、正方形に限定されず、例えば長方形や円や楕円などでもよい。また、孔の配列も正方格子配列に限定されず、例えば方形配列であれば、２つの配列方向の間隔は等しくない長方形配列でもよく、三角格子配列や準周期配列などでもよい。
　貫通孔１１の形状や寸法は、濾過する濾過対象物の大きさ、形状に応じて適宜設計される。本実施の形態１において、貫通孔１１は、例えば、金属製多孔膜１０の第１主面ＰＳ１側から見て、即ちＺ方向から見て正方形であり、縦０．１μｍ以上５００μｍ以下、横０．１μｍ以上５００μｍ以下に設計される。貫通孔１１間の間隔は、例えば、貫通孔１１の１倍より大きく１０倍以下であり、より好ましくは貫通孔１１の３倍以下である。あるいは、開口率にして１０％以上が好ましい。
　ここで、金属製多孔膜１０の第２主面ＰＳ２側から見た中央側領域Ｒ１と周縁領域Ｒ２との境界付近の部分拡大図を図３に示す。
　図３に示すように、金属製多孔膜１０の第２主面ＰＳ２上における周縁領域Ｒ２には、インジケータ２０が配置されている。インジケータ２０を形成する金属は、細胞を捕捉する環境下で、金属製多孔膜１０の主材料よりも早く状態変化が進行する金属であればよい。本実施の形態１では、金属製多孔膜１０の主材料としてニッケルが用いられ、インジケータ２０の材料としては銅が用いられている。金属製多孔膜１０の経年劣化が進行すると、金属製多孔膜１０の主材料であるニッケルより、インジケータ２０を形成する銅の状態変化が早く進行する。
　ニッケルは、緻密な酸化物層がニッケルを主成分とする金属層の内部を保護するため金属層内部まで酸化が進行しにくく、酸化物層が薄い状態に保たれる。そのため金属層の金属光沢も保たれることとなり、経時変化に伴う金属層の変色が起こりにくい。一方、銅は銅表面に生成する酸化物（ＣｕＯ、Ｃｕ２Ｏ）がポーラスであるため、銅を主成分とする金属層の内部まで酸化が進行しやすい。そのため経時変化に伴って酸化物層の厚みが大きくなり、金属層に酸化物の色調が強くあらわれる。つまり、銅はニッケルに比べると経時変化に伴う変色が起こりやすくなる。このような観点から、金属製多孔膜１０はニッケルを主成分とする金属により形成され、インジケータ２０は銅を主成分とする金属により形成されることが好ましい。
　ニッケルを主成分とする金属とは、金属が含む１または複数の成分のうち、ニッケルの成分割合（質量比）が最も高い金属のことである。銅を主成分とする金属とは、金属が含む１または複数の成分のうち、銅の成分割合（質量比）が最も高い金属のことである。また、本実施の形態１では、金属製多孔膜１０がニッケルを主成分とする金属により形成されている場合を例としている。このような場合に代えて、金属製多孔膜が、金、白金およびパラジウムからなる群から選択される１または複数の元素とニッケルとの合金により形成されているような場合であってもよい。このような合金としては、例えば、パラジウム８０ｗｔ％とニッケル２０ｗｔ％の合金、金９５ｗｔ％とニッケル５ｗｔ％の合金、または白金９０ｗｔ％とニッケル１０ｗｔ％の合金が用いられてもよい。これら金属の成分割合は、例えばＩＣＰ－ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて測定してもよい。
　インジケータ２０は、金属製多孔膜１０の第１主面ＰＳ１および第２主面ＰＳ２のいずれか一方の主面の一部に配置されていればよい。インジケータ２０が、いずれか一方の主面において、中央側領域Ｒ１に配置されていてもよく、中央側領域Ｒ１および周縁領域Ｒ２の両方に配置されていてもよい。また、金属製多孔膜１０において、複数箇所にインジケータ２０が配置されていてもよい。本実施の形態１では、金属製多孔膜１０の第２主面ＰＳ２上における周縁領域Ｒ２において、１つのインジケータ２０のみが配置されている。
　インジケータ２０は、経年によるインジケータ２０自体の状態変化を確認することができるサイズであればよい。例えば、目視にて状態変化を確認するような場合には、インジケータ２０は視認可能なサイズであることが好ましい。一方、Ｘ線分析などの分析装置による分析結果に基づいてインジケータ２０の酸化状態を確認するような場合には、インジケータ２０が目視できなくても、分析装置により分析可能なサイズであればよい。本実施の形態１では、インジケータ２０は、第２主面ＰＳ２に直交する方向から見て直径３μｍ程度のサイズに形成されている。インジケータ２０を状態確認可能な大きさにするためには、インジケータは少なくとも周縁領域Ｒ２に配置されているのが良い。
　（フィルタの劣化判定方法）
　次に、本実施の形態１の細胞捕捉用フィルタ１において、金属製多孔膜１０の経年劣化を判定する方法の一例を説明する。フィルタ１の劣化判定方法のフローチャートを図４に示す。
　まず、ステップＳ１１にて、インジケータ２０が配置された金属製多孔膜１０を備えるフィルタ１を準備する。金属製多孔膜１０に、細胞を捕捉する環境下で金属製多孔膜１０の主材料よりも早く状態変化が進行する金属を付着させることで、インジケータ２０が配置されたフィルタ１を準備してもよい。また、後述する製造方法により、インジケータ２０が配置されたフィルタ１を製造することで、フィルタ１を準備してもよい。
　次に、ステップＳ１２にて、インジケータ２０の状態変化を分析し、分析結果に基づいて金属製多孔膜１０の劣化度合いを判定する。例えば、Ｘ線分析装置を用いて、インジケータ２０の状態変化として酸化状態の分析を行う。分析結果を酸化状態の閾値と比較して、金属製多孔膜１０の劣化度合いを判定する。１つのみの閾値を用いて劣化度合いを判定してもよく、複数の閾値を用いて劣化度合い（劣化の進行度合い）を多段階に判定してもよい。
　金属製多孔膜１０が経年劣化していると判定された場合には、現在使用しているフィルタ１を、新たなフィルタ１に交換する。
　なお、上述の劣化判定方法では、Ｘ線を用いた分析によりインジケータ２０の状態変化（例えば、酸化状態）を分析する場合を例としたが、Ｘ線を用いずに状態変化の確認を行ってもよい。例えば、インジケータ２０の状態変化を目視にて確認（例えば、酸化による変色の度合いを目視にて確認）してもよく、例えば、インジケータ２０の酸化による体積変化を確認することで、状態変化の確認を行ってもよい。インジケータ２０の酸化が進行すると、インジケータ２０の体積が増加する傾向にある。例えば、インジケータ２０の状態変化を光の散乱で確認しても良い。インジケータ２０の酸化が進行すると、インジケータ２０の表面の平滑性が失われ、表面に凹凸が形成されることによって、光の高次の散乱が強くなる傾向にある。
　（フィルタの製造方法）
　次に、本実施の形態１の細胞捕捉用フィルタ１の製造方法の一例について説明する。フィルタ１の製造方法のフローチャートを図５に示し、フィルタ１の製造方法におけるそれぞれの製造過程の部分断面図（中央側領域Ｒ１と周縁領域Ｒ２との境界近傍の部分断面図）を図６（Ａ）～図６（Ｆ）に示す。
　まず、図５のステップＳ２１（銅薄膜の形成）において、給電膜の形成を行う。図６（Ａ）に示すように、シリコンなどの基板３１上に第１金属による金属膜を形成する。第１金属は、細胞を捕捉する環境下で金属製多孔膜１０となる主材料よりも早く状態変化が進行する金属であり、例えば、銅を主成分とする金属が用いられて、銅薄膜３２が基材３１上に形成される。銅薄膜３２は、例えば蒸着またはスパッタリングにより形成することができる。スパッタリングにて形成した方が、蒸着にて形成される場合と比べて、表面膜質を良好なものとすることができる。この銅薄膜３２が、後述するめっき処理の際に給電電極として用いられる。
　次に、図６（Ｂ）に示すように、銅薄膜３２上にレジスト膜３３を形成する（ステップＳ２２：レジスト膜の形成）。具体的には、銅薄膜３２上に、例えばスピンコートによりレジストの塗布を行い、乾燥処理を行うことにより、レジスト膜３３を形成する。レジスト膜３３は、例えば２μｍ程度の厚さに形成される。
　次に、図６（Ｃ）に示すように、レジスト膜３３に対して、露光および現像処理を行い、レジスト膜３３から金属製多孔膜１０に相当する部分が除去された溝部３４を有するレジスト像３５を形成する（ステップＳ２３：露光・現像（レジスト像形成））。溝部３４の底では、銅薄膜３２が露出（部分的に露出）された状態となっている。
　次に、図６（Ｄ）に示すように、レジスト像３５において、溝部３４内にニッケルを主成分とする第２金属を析出させて、溝部３４内に金属製多孔膜１０を形成する（ステップＳ２４：めっき処理）。金属製多孔膜１０は、例えば、銅薄膜３２を給電電極として電解めっき法を行うことにより形成される。
　次に、図６（Ｅ）に示すように、溶剤（例えば、アセトン等）への浸漬を行って、レジスト像３５を溶解して、銅薄膜３２から剥離させる（ステップＳ２５：レジスト像の除去）。
　その後、図６（Ｆ）に示すように、銅薄膜３２および基板３１の除去を行う（ステップＳ２６：基板・銅薄膜の除去）。具体的には、エッチング液を用いて、銅薄膜３２をエッチングにより除去することにより、金属製多孔膜１０から基板３１を剥離する。このとき、銅薄膜３２を全て除去するのではなく、銅薄膜３２の一部が金属製多孔膜１０の主面に付着した状態で残すようにして、銅薄膜３２に対するエッチングを行う。このように金属製多孔膜１０の主面の一部残された銅薄膜３２の一部が、インジケータ２０となる。インジケータ２０は、金属製多孔膜１０の第２主面ＰＳ２における周縁領域Ｒ２に付着している。銅薄膜３２の厚さ、エッチング液の組成、およびエッチング時間のパラメータの内の１つまたは複数を調整することにより、銅薄膜３２の一部を残すようなエッチングを実現できる。
　このような手順により、金属製多孔膜１０の第２主面ＰＳ２にインジケータ２０が配置されたフィルタ１が作製される。なお、図５および図６（Ａ）から（Ｆ）を用いて説明した製造方法は一例であり、その他の製造方法が採用されてもよい。例えば、ステップＳ２６において、銅薄膜３２を完全に除去した後、金属製多孔膜の主面にインジケータ２０を形成するステップを設けるようにしてもよい。
　本実施の形態１によれば、フィルタ１において、金属製多孔膜１０のいずれか一方の主面に、金属製多孔膜１０の主材料よりも細胞を捕捉する環境下で状態変化しやすい金属により形成されたインジケータ２０が付着している。これにより、インジケータ２０の状態を確認することで、金属製多孔膜１０の経年劣化を判定することができる。よって、金属製多孔膜１０を備えるフィルタ１の経年劣化をより早期に判定することができる。
　また、インジケータ２０が、複数の貫通孔１１が配置された中央側領域Ｒ１ではなく、周縁領域Ｒ２に配置されている。このような構成により、フィルタとしての機能を担う中央側領域Ｒ１において濾過処理などに影響を与えることなく、周縁領域Ｒ２に配置されたインジケータ２０を用いて、フィルタ１の経年劣化を判定することができる。
　また、同一ロットのフィルタ１は、同一時期に製造されたものであることから、経年劣化も同じように進むものと推定される。例えば、同一ロット内のフィルタ群においてインジケータ２０が配置された少なくとも１つのフィルタ１を含ませておくことにより、同一ロットのフィルタ群の経年劣化の判定を行うことができる。
　また、フィルタ１の製造過程において、金属製多孔膜１０を形成するめっき処理の際に給電電極として利用される銅薄膜３２を、金属製多孔膜１０から除去する工程において、全部除去するのではなく、一部を残して、これをインジケータ２０とするようにしている。これにより、金属製多孔膜１０の主材料であるニッケルよりも状態変化が進行しやすい銅を金属製多孔膜１０の主面に配置させるための工程を追加することなく、銅薄膜３２の除去工程において銅の配置、すなわち、インジケータ２０の配置を行うことができる。よって、金属製多孔膜１０を備えるフィルタ１の経年劣化を、より早期に判定することができるフィルタの製造方法を、より効率的な製造方法として提供することができる。
　以下、本発明の細胞捕捉用フィルタの製造方法の実施例について説明する。
　（実施例）
　本実施例では、第１金属として銅を主成分とする金属を用い、第２金属としてニッケルを用いて、第２金属を主材料とする金属製多孔膜１０のいずれかの主面の一部に第１金属によるインジケータ２０が付着したフィルタ１を作製した。具体的には、図５のステップＳ２１からＳ２６のステップを実施することによりフィルタ１を作製した。第１金属としては銅が９９ｗｔ％である金属を用い、第２金属としてはニッケルが９９ｗｔ％である金属を用いた。これらの金属の成分割合は、ＩＣＰ－ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて測定した値である。
　まず、ステップＳ２１において、シリコン製の基板の上面に銅薄膜を、スパッタリング装置を用いて形成した。スパッタリングガスとしてアルゴンガスを用い、スパッタリング装置における真空度５．０×１０－４Ｐａ、印加電力ＤＣ５００Ｗにて、銅薄膜を形成した。スパッタリング時間は１２０分とし、膜厚２μｍの銅薄膜を形成した。
　次に、ステップ２２において、スピンコータを用いて、銅薄膜上に所定の膜厚のレジスト膜を形成した。具体的には、レジスト剤を銅薄膜上に塗布した後、窒素雰囲気下において１３０℃にて溶剤を揮発させた後に冷却することで、レジスト膜を形成した。レジスト剤としては、ノボラック系樹脂と有機溶剤とを用い、スピンコータの回転数１１３０ｒｐｍにて、２μｍの膜厚のレジスト膜を形成した。
　次に、ステップＳ２３において、レジスト膜に対して露光および現像処理を行い、金属製多孔膜に対応する溝部がレジスト膜に形成されたレジスト像を形成した。波長３６５ｎｍを含んだエネルギ密度２５００Ｊ／ｍ２の光線を、レジスト膜に対して０．２５秒間照射することにより露光を行った。その後、レジスト膜における感光部分をアルカリ性溶液に接触されることにより、感露光部分を除去して溝部を形成した。
　次に、ステップＳ２４において、先に形成した銅薄膜を給電電極として、電解めっき法を用いて、ニッケル材料を主材料とするめっき膜からなる金属製多孔膜を、レジスト像の溝部内に形成した。まず、前処理として、銅薄膜およびレジスト像が形成された基板を、希硫酸に６０秒浸漬させて、レジスト像の溝部の底において露出している銅薄膜の表面の活性化を行った。その後、スルファミン酸ニッケルめっき液（液温５５℃、ｐＨ４．０）中にて基板を揺動させながら、銅薄膜を給電電極として電解めっき処理を行った。めっき速度は０．５μｍ／ｍｉｎであった。
　次に、ステップＳ２５において、溶剤への浸漬を行って、レジスト像を溶解して、銅薄膜から剥離させた。溶剤としてアセトン溶液を用い、アセトン溶液中で１５分間超音波をかけることにより、レジスト像の溶解・剥離を促進させた。
　次に、ステップＳ２６において、銅薄膜および基板の除去を行った。具体的には、エッチング液として、酢酸：過酸化水素水：純水＝１０：１０：２０の体積比で混合した液を用いて、２４時間のエッチング時間にて銅薄膜に対するエッチングを行った。これにより、銅薄膜および基板が除去されて、実施例にかかる金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタが完成した。
　（比較例）
　比較例にかかる細胞捕捉用フィルタの製造方法について説明する。
　比較例では、上述の実施例におけるステップＳ２２およびステップＳ２６が相違しているため、相違点についてのみ説明する。
　まず、シリコン製の基板の上面に銅薄膜を、スパッタリング装置を用いて形成した。スパッタリングガスとしてアルゴンガスを用い、スパッタリング装置における真空度５．０×１０－４Ｐａ、印加電力ＤＣ５００Ｗにて、銅薄膜を形成した。スパッタリング時間は実施例よりも短く３０分とし、実施例よりも薄い膜厚０．５μｍの銅薄膜を形成した。
　その後、レジスト膜の形成、露光・現像処理、めっき処理、およびレジスト像の除去を行った後、銅薄膜および基板の除去を行った。具体的には、エッチング液として、酢酸：過酸化水素水：純水＝１：１：２０の体積比で混合した液を用いて、４８時間のエッチング時間にて銅薄膜に対するエッチングを行った。これにより、銅薄膜および基板が除去されて、比較例にかかる金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタが完成した。
　実施例の細胞捕捉用フィルタの金属製多孔膜を確認したところ、銅薄膜が形成されていた側の主面において、銅薄膜の一部がインジケータとして残存していることが確認された。一方、比較例の細胞捕捉用フィルタの金属製多孔膜では、インジケータに相当するような銅薄膜の残存は確認されなかった。また、銅薄膜の一部をインジケータとして残存させるためには、例えば、銅薄膜の膜厚を厚くして、組成が調整されたエッチング液により短時間のエッチングを行うことが好ましい。
　なお、上記様々な実施の形態のうちの任意の実施の形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
　本発明は、細胞捕捉用フィルタが備える金属製多孔膜のいずれか一方の主面の一部に、細胞を捕捉する環境下で金属製多孔膜を形成する材料よりも早く状態変化が進行しやすい金属を付着させており、金属の状態変化を確認することで、金属製多孔膜の経年劣化を判定することができる。よって、このような細胞捕捉用フィルタが利用される種々の技術分野、例えば、化学分析、創薬・製薬、臨床検査、公衆衛生管理、環境計測等の分野への適用が有用である。
　１　フィルタ
１０　金属製多孔膜
１１　貫通孔
２０　インジケータ
ＰＳ１　第１主面
ＰＳ２　第２主面
Ｒ１　中央側領域
Ｒ２　周縁領域

Claims (5)

  1. 　互いに対向する主面を貫通する複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備え、
    　前記金属製多孔膜は、金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属により形成されており、
    　前記金属製多孔膜のいずれか一方の前記主面の一部に、銅を主成分とする金属が付着している、細胞捕捉用フィルタ。
  2. 　前記金属製多孔膜は、前記複数の貫通孔が配置された中央側領域と、前記中央側領域を囲むように配置された周縁領域と、を有し、
    　前記金属は、前記周縁領域に付着している、請求項１に記載の細胞捕捉用フィルタ。
  3. 　互いに対向する主面を貫通する複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備える、同一ロットの細胞捕捉用フィルタ群であって、
    　請求項１または２に記載の前記細胞捕捉用フィルタが少なくとも１つ含まれている、細胞捕捉用フィルタ群。
  4. 　複数の貫通孔を有する金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの製造方法であって、
    　基板の表面に、銅を主成分とする金属膜を形成する工程と、
    　前記金属膜の表面にレジスト膜を形成する工程と、
    　前記レジスト膜を露光して、前記金属膜を部分的に露出させる複数の溝部を有するレジスト像を形成する工程と、
    　前記金属膜を給電電極としてめっき処理を行い、金、白金、パラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属を、前記溝内に析出させて金属製多孔膜を形成する工程と、
    　前記レジスト像を除去する工程と、
    　前記基板および前記金属膜を除去する工程と、を含み、
    　前記基板および前記金属膜を除去する工程において、前記金属膜を構成する銅を主成分とする金属を前記金属製多孔膜の表面に残すようにする、細胞捕捉用フィルタの製造方法。
  5. 　金属製多孔膜を備える細胞捕捉用フィルタの劣化度合いを判定する劣化判定方法であって、
    　金、白金およびパラジウムから選択される元素とニッケルとの合金、またはニッケルを主成分とする金属により形成された前記金属製多孔膜のいずれか一方の主面の一部に、銅を主成分とする金属を付着させた細胞捕捉用フィルタを準備する工程と、
    　前記金属製多孔膜に付着している銅を主成分とする金属の状態変化に基づいて、前記金属製多孔膜の劣化度合いを判定する工程と、を含む、細胞捕捉用フィルタの劣化判定方法。
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