WO2018159781A1 - ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品 - Google Patents

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Definitions

  • the mass ratio of the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A) to the aromatic polycarbonate resin (B) (A ) / (B) is usually 0.1 / 99.9 to 99.9 / 0.1, preferably 1/99 to 99/1, more preferably 2/98 to 50/50, more preferably 5 / 95-20 / 80.
  • the viscosity average molecular weight (Mv) of the polycarbonate-based resin (S) can be appropriately adjusted by using a molecular weight regulator (terminal terminator) or the like so as to obtain a target molecular weight depending on the intended use or product.
  • the viscosity-average molecular weight of the polycarbonate resin (S) is preferably 9,000 or more, more preferably 12,000 or more, further preferably 14,000 or more, particularly preferably 16,000 or more, preferably 50, 000 or less, more preferably 30,000 or less, even more preferably 23,000 or less, and particularly preferably 22,000 or less. If the viscosity average molecular weight is 9,000 or more, sufficient strength of the molded product can be obtained.
  • the average distance between all domains of neighboring particles is 500nm or less. If the average distance between adjacent particles in all domains is 500 nm or less, more excellent impact resistance can be obtained. Moreover, it is preferable that the average of the distance between adjacent particles of all domains is 50 nm or more. If the average distance between adjacent particles in all domains is 50 nm or more, more excellent impact resistance can be obtained.
  • Y is -R 7 O -, - R 7 COO -, - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - COO -, - S -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R 7 O—R 10 —O—, and a plurality of Y may be the same or different from each other.
  • R 7 represents a single bond, a linear, branched or cyclic alkylene group, an aryl-substituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, or a diarylene group.
  • R 8 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
  • the polycarbonate oligomer can be produced by reacting a dihydric phenol with a carbonate precursor such as phosgene or triphosgene in an organic solvent such as methylene chloride, chlorobenzene, or chloroform.
  • a carbonate precursor such as phosgene or triphosgene
  • organic solvent such as methylene chloride, chlorobenzene, or chloroform.
  • carbonate precursor like dihydric phenol and diphenyl carbonate.
  • dihydric phenol it is preferable to use a dihydric phenol represented by the following general formula (viii). In the formula, R 1 , R 2 , a, b and X are as described above.
  • test piece (length 127 mm, width 12.7 mm, thickness 3.2 mm) was obtained by injection molding. Using this test piece, in accordance with ASTM standard D-648, when the heating rate is 120 ° C./h, the distance between the fulcrums is 100 mm, and the load is 1.8 MPa, the deflection of the test piece due to edgewise is 0.26 mm. The temperature at which it was reached was recorded.

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Abstract

下記要件（１）及び（２）を満たすポリカーボネート系樹脂（Ｓ）に対して、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合してなり、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）及び前記スチレン系樹脂の合計量１００質量％に占める前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の割合が５０質量％以上９９質量％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物： （１）特定の繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び特定の繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）、並びに前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を含む。 （２）前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を主成分とするマトリックス中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）が存在し、前記ドメイン（ｄ－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）が存在する構造を有する。

Description

ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品
　本発明は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品に関する。具体的には、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、複数種類の樹脂を含有する。
　ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（以下、「ＰＣ－ＰＯＳ共重合体」と略記することがある）は、その高い耐衝撃性、耐薬品性、及び難燃性等の優れた性質から注目されている。そのため、電気・電子機器分野、自動車分野等の様々な分野において幅広い利用が期待されている。特に、携帯電話、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、電動工具、通信基地局、バッテリーなどの筐体、及びその他の日用品への利用が広がっている。
　上記ＰＣ－ＰＯＳ共重合体を含むポリカーボネート樹脂組成物において、耐衝撃性や難燃性をさらに向上させること、及び流動性等の他の特性を付与することについても検討が行われている。例えば特許文献１，２には、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトリル－スチレン共重合体（以下（「ＡＳ」ともいう）やアクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（以下「ＡＢＳ」ともいう）、ポリシロキサン－ポリカーボネートコポリマー、及びリン含有難燃剤をそれぞれ所定量含有し、衝撃強さを実質的に悪化させることなく流動性や難燃性を向上した熱可塑性樹脂が開示されている。
　特許文献３，４には、優れた難燃性を維持しながら、成形性、耐衝撃性、剛性を満足し、熱安定性に優れた成形体を成形可能なポリカーボネート樹脂組成物として、ポリカーボネート樹脂、スチレン系樹脂、及びポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体及び／又は官能基含有シリコーン化合物等を含有するポリカーボネート樹脂組成物が開示されている。
特開２００６－５２４０１号公報 特表２００８－５１６０１３号公報 特開２０００－１９１８９８号公報 特開２００１－５５５００号公報
　薄肉でかつ大型の成形体を成形することが可能なポリカーボネート樹脂組成物には、ＡＢＳ樹脂レベルの高い流動性が求められる。しかしながら、従来はＰＣ－ＰＯＳ共重合体を含むポリカーボネート樹脂組成物の流動性を向上させようとすると衝撃強度が低下する傾向にあり、高いレベルで流動性と衝撃強度とを両立させることは困難であった。
　本発明は、流動性に優れ、かつ高い衝撃強度を有する成形体を得ることが可能なポリカーボネート系樹脂組成物を提供することを目的とする。
　本発明者等は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を含み、かつ、特定のドメイン構造を有するポリカーボネート系樹脂組成物に対してスチレン系樹脂を添加することで、ポリオルガノシロキサンブロックの鎖長を伸ばす、あるいは含有量を増加させることなく、より優れた耐衝撃性を有しかつ流動性に優れる、ポリカーボネート系樹脂組成物が得られることを見出した。
　すなわち、本発明は下記［１］～［２４］に関する。
［１］下記要件（１）及び（２）を満たすポリカーボネート系樹脂（Ｓ）に対して、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合してなり、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）及び前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％に占める前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の割合が５０質量％以上９９質量％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物：
（１）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）、並びに前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を含む。
（２）前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を主成分とするマトリックス中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）が存在し、前記ドメイン（ｄ－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）が存在する構造を有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
　［２］下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）、並びに前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）５０質量％以上９９質量％以下、及びスチレン系樹脂（Ｃ）を１質量％以上５０質量％以下含み、
　前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を主成分とするマトリックス中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄC－１）が存在し、前記ドメイン（ｄC－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄC－２）が存在する構造を有し、かつ
　前記ドメイン（ｄC－１）内部に前記ドメイン（ｄC－２）が存在するドメイン（ｄC）と、前記ドメイン（ｄC－１）のみからなるドメイン（ｄ’C）との合計数に占める前記ドメイン（ｄC）の数割合が２％以上１００％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
　［３］前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）における前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と、前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）との質量比率（Ａ）／（Ｂ）が、０．１／９９．９～９９．９／０．１である、上記［１］または［２］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［４］前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロックを含む、上記［１］～［３］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
［式中、Ｒ30及びＲ31は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
　［５］前記ドメイン（ｄ－１）または（ｄC－１）が前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）から主に形成されている、上記［１］～［４］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［６］前記ドメイン（ｄ－２）または（ｄC－２）が前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つから主に形成されている、上記［１］～［５］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［７］前記ドメイン（ｄ－１）内部に前記ドメイン（ｄ－２）が１つのみ存在する、または前記ドメイン（ｄC－１）内部に前記ドメイン（ｄC－２）が１つのみ存在する、上記［１］～［６］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［８］前記ドメイン（ｄ－１）内部に前記ドメイン（ｄ－２）が２以上存在する、または前記ドメイン（ｄC－１）内部に前記ドメイン（ｄC－２）が２以上存在する、上記［１］～［６］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［９］前記ドメイン（ｄ－１）内部に前記ドメイン（ｄ－２）が存在するドメイン（ｄ）と、前記ドメイン（ｄ－１）のみからなるドメイン（ｄ’）との合計数に占める前記ドメイン（ｄ）の数割合が２％以上１００％以下である、上記［１］または［３］～［８］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１０］前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの平均断面積が２００ｎｍ2以上である、上記［９］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１１］前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの平均断面積が２０，０００ｎｍ2以下である、上記［９］または［１０］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１２］前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５００ｎｍ以下である、上記［９］～［１１］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１３］前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５０ｎｍ以上である、上記［９］～［１２］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１４］前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長が３０以上５００以下である、上記［１］～［１３］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１５］前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長が５５以上５００以下である、上記［１］～［１４］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１６］前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の含有率が１０質量％以上７０質量％以下である、上記［１］～［１５］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１７］前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の含有率が０．１質量％以上１０質量％以下である、上記［１］～［１６］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１８］前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、上記［１］～［１７］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［１９］前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、上記［１］～［１８］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［２０］前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有する、上記［１］～［１９］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［２１］前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体及びアクリロニトリル－スチレン共重合体から選ばれる少なくとも一つである、上記［１］～［２０］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
　［２２］上記［１］～［２１］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形品。
　［２３］電気及び電子機器用筐体である、上記［２２］に記載の成形品。
　［２４］自動車及び建材の部品である、上記［２２］に記載の成形品。
　本発明によればポリオルガノシロキサンブロックの鎖長を伸ばす、あるいは含有量を増加させることなく、より優れた耐衝撃性を有しかつ流動性に優れる、ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品を得ることが出来る。
開口部を１つ有するドメインの、ドメインの長軸距離と、開口部の端部２点を接点として有するドメインの接線を引いた際の上記接点２点間の距離を示す図。 開口部を２つ有するドメインの、ドメインの長軸距離と、開口部の端部２点を接点として有するドメインの接線を引いた際の上記接点２点間の距離をそれぞれ示す図。 開口部を１つ有するドメインの、ドメインの長軸距離と、開口部の端部２点を接点として有するドメインの接線を引いた際の上記接点２点間の距離を示す走査型プローブ顕微鏡画像。 Ｉｚｏｄ試験片からの、ＳＰＭによるドメイン構造の観察に供する試験片の切り出し位置を示す図。 ＳＰＭ観察用の、切り出したＩｚｏｄ試料片の面出し調整手順を示す図。 ミクロトームによる切削を行う際に用いたガラスナイフの形状を示す図。 低倍率（１０×１０ミクロン）において、ＳＰＭ観察箇所の選定方法を示す図。 実施例６におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例２におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例１１におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例１３におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例９におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例７におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例４におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 比較例８におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像。 比較例６におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像。 比較例３におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像。 低倍率（１０×１０ミクロン）において、ＳＰＭ観察箇所の選定方法を示す図。 実施例２５におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例２０におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 実施例２６におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像、及び解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。 参考例１におけるＳＰＭによるドメイン構造の観察画像を解析するにあたり、ドメインと認識した箇所を黒く塗り潰した解析画像。
　本発明者等は、鋭意検討の結果、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を含み、かつ、特定のドメイン構造を有するポリカーボネート系樹脂に対して、スチレン系樹脂を添加することで、ポリオルガノシロキサンブロックの鎖長や含有量を変更せずとも、より優れた耐衝撃性を有し、かつ流動性に優れる、ポリカーボネート系樹脂組成物が得られることを見出した。以下、詳細に説明する。
　本明細書において、「ＸＸ～ＹＹ」の記載は、「ＸＸ以上ＹＹ以下」を意味する。また、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましい。
＜ポリカーボネート系樹脂組成物＞
　本発明の第一の実施形態におけるポリカーボネート系樹脂組成物は、下記要件（１）及び（２）を満たすポリカーボネート系樹脂（Ｓ）に対して、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合してなり、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）及び前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％に占める前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の割合が５０質量％以上９９質量％以下であることを特徴とする：
（１）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）、並びに前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を含む。
（２）前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を主成分とするマトリックス中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）が存在し、前記ドメイン（ｄ－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）が存在する構造を有する。
［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～４の整数を示す。
　上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。］
　式中の各Ｒ1～Ｒ4、Ｘ、ａ及びｂの具体例は後述する。
　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）におけるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の含有量は、耐衝撃性等の所望の性質を有する樹脂組成物を得る観点から、通常０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上であり、通常９９．９質量％以下、好ましくは９９質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、さらに好ましくは２５質量％以下、特に好ましくは１７質量％以下、最も好ましくは１３質量％以下である。
　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）における芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の含有量は、耐衝撃性等の所望の性質を有する樹脂組成物を得る観点から、通常０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは７０質量%以上、さらに好ましくは８０質量％以上であり、通常９９．９質量％以下、好ましくは９９質量％以下、より好ましくは９５質量％以下、さらに好ましくは９０質量％以下である。
　なお、本実施形態の１つの側面においては、ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）を構成する上記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の合計量は、１００質量％である。
　本発明においては、耐衝撃性等の所望の性質を有する樹脂組成物を得る観点から、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と、芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）との質量比率（Ａ）／（Ｂ）が、通常０．１／９９．９～９９．９／０．１，好ましくは１／９９～９９／１，より好ましくは２／９８～５０／５０，さらに好ましくは５／９５～２０／８０である。
　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）は、少なくとも上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）成分を主成分とするマトリックス中に、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）が存在し、該ドメイン（ｄ－１）の内部にはさらに上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及び上記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）が存在する。上記１つのドメイン（ｄ－１）内部にはドメイン（ｄ－２）が１つのみ存在していてもよく、あるいは上記１つのドメイン（ｄ－１）内部にドメイン（ｄ－２）が２以上存在していてもよい。このように、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）は、ドメイン（ｄ－１）の内部に少なくとも１つのドメイン（ｄ－２）が存在するドメイン（ｄ）を必ず有する。
　なお、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）におけるマトリックスは、前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）との合計に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の割合が５０質量％を超えない限り、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及びポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つから主に形成されている。
　上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）は、好ましくは上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）から主に形成されている。
　上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及び上記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）は、好ましくは上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及びポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つから主に形成されていて、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック又はポリカーボネートブロック（Ａ－１）のいずれかから主に形成されていてもよいし、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及びポリカーボネートブロック（Ａ－１）の両方から主に形成されていてもよい。
　検出したドメインが、どのブロックから主に形成されているかは、走査型プローブ顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｐｒｏｂｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＳＰＭ）観察により取得した画像のコントラストから判断する。検出したドメインのうち、マトリックスと同等程度のコントラストを示すドメインは、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及び上記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つから主に形成されているものとする。同様に、検出したドメインのうち、マトリックスとは明確に区別される程度の暗いコントラストを示すドメインは、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）によって主に形成されているものとする。
　本実施形態において、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）は、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）から実質的に形成されている。上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及び上記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）は、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及びポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つから実質的に形成されていて、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック又はポリカーボネートブロック（Ａ－１）のいずれかから実質的に形成されていてもよいし、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及びポリカーボネートブロック（Ａ－１）の両方から実質的に形成されていてもよい。
　より詳細に構造の一例を記載すると、本願発明のポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリカーボネート樹脂（Ｓ）は、マトリックス中にシェルを構成する上記ドメイン（ｄ－１）と、コアを構成する１つの上記ドメイン（ｄ－２）とを有する、コアシェル構造を有する。また、１つの上記ドメイン（ｄ－１）内部に２つ以上の球状もしくはシリンダ状のドメイン（ｄ－２）を含有する構造、または、ジャイロイド構造、ラメラ構造もしくはサラミ構造などのミクロ相分離構造を有していてもよい。
　上記ドメイン（ｄ）とは別に、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）のみからなる（すなわち、（ｄ－１）内部に（ｄ－２）を含まない）ドメインを（ｄ’）とした時、ドメイン（ｄ）と、ドメイン（ｄ’）との合計数に占める上記ドメイン（ｄ）の数割合が２％以上１００％以下であることが好ましい。ドメイン（ｄ）の数割合が上記範囲内であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。上記ドメイン（ｄ）の数割合は、より好ましくは５％以上、さらに好ましくは１０％以上、よりさらに好ましくは１５％以上、よりさらに好ましくは３０％以上、特に好ましくは５０％以上であり、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは４５％以下、特に好ましくは３０％以下である。なお、各ドメイン（ｄ）及び（ｄ’）の数は、ＳＰＭにより目視で測定した。
　上記ドメイン（ｄ）および上記ドメイン（ｄ’）を合わせた、全ドメインの平均断面積は、２００ｎｍ2以上であることが好ましい。上記全ドメインの平均断面積が２００ｎｍ2以上であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。また、上記ドメイン（ｄ）および上記ドメイン（ｄ’）を合わせた、全ドメインの平均断面積は２０，０００ｎｍ2以下であることが好ましい。上記全ドメインの平均断面積が２０，０００ｎｍ2以下であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。上記ドメイン（ｄ）および上記ドメイン（ｄ’）を合わせた、全ドメインの平均断面積は、より好ましくは３００ｎｍ2以上、さらに好ましくは５００ｎｍ2以上、特に好ましくは１０００ｎｍ2以上であり、より好ましくは６，０００ｎｍ2以下、さらに好ましくは５，０００ｎｍ2以下、よりさらに好ましくは４，０００ｎｍ2以下である。
　上記各ドメイン（ｄ）及び（ｄ’）の平均断面積は、ＳＰＭにより観察し、得られた画像を画像解析ソフト（SPIP）で処理することにより算出した。ここで、ＳＰＭにより観察した際に上記ドメイン（ｄ）及び（ｄ’）が開口部を有する場合の平均断面積は以下のように計算した。図１に示すように、１つのドメインが１つの開口部を有する場合には、ドメインの長軸距離に対して、開口部の端部２点を接点として有するドメインの接線を引いた際の上記接点２点間の距離が１／２以下であるときは、開口部を有さないドメインの断面積とみなして、ドメイン（ｄ）および上記ドメイン（ｄ’）のそれぞれの平均断面積として算出した。また、図２に示すように、１つのドメインが２つ以上の開口部（図１１では２つの開口部）を有する場合には、各開口部が、ドメインの長軸距離に対して開口部の端部２点を接点として有するドメインの接線を引いた際の接点２点間の距離がそれぞれ１／２以下であるときは、それぞれの開口部を有さないドメインの断面積とみなした。図３に開口部を１つ有する場合のドメインの走査型プローブ顕微鏡画像を示す。
　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）に含まれる上記ドメイン（ｄ）および上記ドメイン（ｄ’）を合わせた、全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５００ｎｍ以下であることが好ましい。全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５００ｎｍ以下であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。また、全ドメインの隣接粒子間距離の平均は５０ｎｍ以上であることが好ましい。全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５０ｎｍ以上であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。
　上記全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、より好ましくは７０ｎｍ以上、さらに好ましくは１１０ｎｍ以上、よりさらに好ましくは１３０ｎｍ以上、特に好ましくは１８０ｎｍ以上であり、より好ましくは３５０ｎｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以下、特に好ましくは２００ｎｍ以下である。なお、この全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、マトリックス中に含まれる全ドメインの存在頻度を示す。全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、マトリックス中に含まれる全ドメインの存在頻度を示す。全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、ＳＰＭにより観察し、画像解析ソフト（SPIP）で処理することにより算出した。
　上記ドメイン（ｄ）およびドメイン（ｄ’）の総数に占める上記ドメイン（ｄ）の数割合、全ドメインの平均断面積及び全ドメインの隣接粒子間距離の平均測定に用いた走査型プローブ顕微鏡の詳細な観察条件は実施例に記載する。
　ポリオルガノシロキサンブロックの鎖長を伸ばす、あるいは含有量を増加させることなく、上記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）を含む本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の耐衝撃性がより優れる結果となる原因は定かではないが、以下のことが推測される。
　すなわち、本発明に係るポリカーボネート系樹脂組成物が有するドメイン（ｄ）は、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）が存在している。
　ポリカーボネート系樹脂組成物中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の量が同じであれば、ドメイン（ｄ－１）のみからなるドメイン（ｄ’）と比較して、ドメイン（ｄ－２）を内包するドメイン（ｄ）のサイズは嵩増しされて、ドメイン（ｄ’）のサイズよりも大きくなる。マトリックス中に存在するドメイン（ｄ）のサイズが全体的に大きくなることにより、ポリカーボネート系樹脂組成物に衝撃荷重が加わった際に、応力波の伝播をさらに抑止していると考えられる。
　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の含有率は、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．４質量％以上、さらに好ましくは０．８質量％以上、よりさらに好ましくは１質量％以上、特に好ましくは３質量％以上であり、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは７．０質量％以下、さらに好ましくは６質量％以下、特に好ましくは５質量％以下、最も好ましくは４質量％以下である。ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の含有率が上記範囲にあれば、優れた耐衝撃特性を得ることができる。
　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、使用される用途や製品により、目的の分子量となるように分子量調節剤（末端停止剤）等を用いることにより適宜調整ことができる。前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量は、好ましくは９，０００以上、より好ましくは１２，０００以上、さらに好ましくは１４，０００以上、特に好ましくは１６，０００以上であり、好ましくは５０，０００以下、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは２３，０００以下、特に好ましくは２２，０００以下である。粘度平均分子量が９，０００以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。５０，０００以下であれば、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
　なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、以下のＳｃｈｎｅｌｌの式から算出した値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
　本発明の第二の実施形態におけるポリカーボネート系樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）、並びに前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）５０質量％以上９９質量％以下、及びスチレン系樹脂（Ｃ）を１質量％以上５０質量％以下含み、
　前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を主成分とするマトリックス中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄC－１）が存在し、前記ドメイン（ｄC－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄC－２）が存在する構造を有し、かつ
　前記ドメイン（ｄC－１）内部に前記ドメイン（ｄC－２）が存在するドメイン（ｄC）と、前記ドメイン（ｄC－１）のみからなるドメイン（ｄ’C）との合計数に占める前記ドメイン（ｄC）の数割合が２％以上１００％以下であることを特徴とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
［式中のＲ1、Ｒ2、Ｘ、Ｒ3、Ｒ4、ａ及びｂは、上記した通りである。］
　本発明の第二の実施形態におけるポリカーボネート系樹脂組成物は、上述した第一の実施形態に記載のポリカーボネート系樹脂（Ｓ）と同様のドメイン構造を有する。検出したドメインが、どのブロックから主に形成されているかは、ポリカーボネート樹脂（Ｓ）と同様に、走査型プローブ顕微鏡観察により取得した画像のコントラストから判断する。
　すなわち、第一の実施形態と同様に、芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）成分を主成分とするマトリックス中に、ドメイン（ｄ－１）に対応する（ｄC－１）が存在し、該ドメイン（ｄC－１）の内部には、ドメイン（ｄ－２）に対応する（ｄC－２）が存在する。上記１つのドメイン（ｄC－１）内部にはドメイン（ｄC－２）が１つのみ存在していてもよく、あるいは上記１つのドメイン（ｄC－１）内部にドメイン（ｄC－２）が２以上存在していてもよい。このように、前記ポリカーボネート系樹脂組成物は、ドメイン（ｄC－１）の内部に少なくとも１つのドメイン（ｄC－２）が存在するドメイン（ｄC）を必ず有する。
　ポリカーボネート系樹脂組成物におけるマトリックスは、樹脂成分であるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）との合計に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の割合が５０質量％を超えない限り、芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロック及びポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つから主に形成されていることも同様である。
　ドメイン（ｄC－１）及びドメイン（ｄC－２）を形成する樹脂成分は、ドメイン（ｄ－１）及びドメイン（ｄ－２）と同様である。また、ポリカーボネート樹脂（Ｓ）の場合と同様に、マトリックス中にシェルを構成する上記ドメイン（ｄC－１）と、コアを構成する１つの上記ドメイン（ｄC－２）とを有する、コアシェル構造を有する。また、１つの上記ドメイン（ｄC－１）内部に２つ以上の球状もしくはシリンダ状のドメイン（ｄC－２）を含有する構造、または、ジャイロイド構造、ラメラ構造もしくはサラミ構造などのミクロ相分離構造を有していてもよい。
　本第二の実施形態においては、ドメイン（ｄC－１）内部にドメイン（ｄC－２）を含まないドメインを（ｄ’C）としたとき、（すなわち、第一の実施形態における（ｄ’）に対応する）、ドメイン（ｄC）と、ドメイン（ｄ’C）との合計数に占める上記ドメイン（ｄC）の数割合が２％以上１００％以下であることを要する。ドメイン（ｄC）の数割合が上記範囲内であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。上記ドメイン（ｄC）の数割合は、より好ましくは５％以上、さらに好ましくは１５％以上、さらにより好ましくは３０％以上、さらにより好ましくは５０％以上であり、特に好ましくは６０％以上であり、より好ましくは９０％以下、さらに好ましくは８０％以下、さらにより好ましくは７５％以下、さらにより好ましくは５０％以下、さらにより好ましくは４５％以下、特に好ましくは３０％以下である。なお、各ドメイン（ｄC）及び（ｄ’C）の数は、ＳＰＭにより目視で測定した。
　上記ドメイン（ｄC）および上記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの平均断面積は、２００ｎｍ2以上であることが好ましい。上記全ドメインの平均断面積が２００ｎｍ2以上であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。また、上記ドメイン（ｄC）および上記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの平均断面積は２０，０００ｎｍ2以下であることが好ましい。上記全ドメインの平均断面積が２０，０００ｎｍ2以下であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。上記ドメイン（ｄC）および上記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの平均断面積は、全ドメインの平均断面積は、より好ましくは３００ｎｍ2以上、さらに好ましくは５００ｎｍ2以上、特に好ましくは１０００ｎｍ2以上であり、より好ましくは６，０００ｎｍ2以下、さらに好ましくは５，０００ｎｍ2以下、よりさらに好ましくは４，０００ｎｍ2以下である。
　第一の態様と同様に、上記各ドメイン（ｄC）及び（ｄ’C）の平均断面積は、ＳＰＭにより観察し、得られた画像を画像解析ソフト（SPIP）で処理することにより算出し、平均断面積の算出の仕方、開口部の有無の判断の仕方も第一の実施形態に記載した通りである。
　前記ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれる上記ドメイン（ｄC）および上記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５００ｎｍ以下であることが好ましい。全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５００ｎｍ以下であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。また、全ドメインの隣接粒子間距離の平均は５０ｎｍ以上であることが好ましい。全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５０ｎｍ以上であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。
　上記全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、より好ましくは７０ｎｍ以上、さらに好ましくは１１０ｎｍ以上、よりさらに好ましくは１３０ｎｍ以上、特に好ましくは１８０ｎｍ以上であり、より好ましくは３５０ｎｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以下、特に好ましくは２００ｎｍ以下である。なお、この全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、第一の実施形態と同様に、マトリックス中に含まれる全ドメインの存在頻度を示す。全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、マトリックス中に含まれる全ドメインの存在頻度を示す。全ドメインの隣接粒子間距離の平均は、ＳＰＭにより観察し、画像解析ソフト（SPIP）で処理することにより算出した。
　上記ドメイン（ｄC）およびドメイン（ｄ’C）の総数に占める上記ドメイン（ｄC）の数割合、全ドメインの平均断面積及び全ドメインの隣接粒子間距離の平均測定に用いた走査型プローブ顕微鏡の詳細な観察条件は実施例に記載する。
＜ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）＞
　以下、上記第一の実施形態及び第二の実施形態における各成分について、さらに詳述する。
　上述した通り、上記ドメイン（ｄ－１）は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の下記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含み、好ましくは該ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）から主に形成されている。ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）は、上述した通り、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含む：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中のＲ1～Ｒ4，Ｘ，ａ及びｂは上述した通りである。
　上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
　Ｒ1及びＲ2がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、明細書中同様である。）、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ1及びＲ2がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位として前記アルキル基を有するものが挙げられる。
　Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１～５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５～１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５－トリメチルシクロヘキシリデン基、２－アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５～１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５～８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６～１４のアリール基が挙げられ、アルキレン基としては上述したアルキレンが挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６～１４のアリール基が挙げられ、アルキリデン基としては上述したアルキリデン基を挙げることができる。
　ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示し、好ましくは０～２、より好ましくは０又は１である。
　中でも、ａおよびｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数１～８のアルキレン基であるもの、またはａおよびｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキレン基、特にイソプロピリデン基であるものが好適である。
　上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ3又はＲ4で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ3又はＲ4で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ3又はＲ4で示されるアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ3又はＲ4で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　なお、Ｒ3及びＲ4としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
　上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）は、より具体的には、下記一般式（ＩＩ－Ｉ）～（ＩＩ－ＩＩＩ）で表される単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
［式中、Ｒ3～Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示し、複数のＲ3～Ｒ6は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｙは－Ｒ7Ｏ－、－Ｒ7ＣＯＯ－、－Ｒ7ＮＨ－、－Ｒ7ＮＲ8－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－Ｒ7ＣＯＯ－Ｒ9－Ｏ－、または－Ｒ7Ｏ－Ｒ10－Ｏ－を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。前記Ｒ7は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ8は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ9は、ジアリーレン基を示す。Ｒ10は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、又はジアリーレン基を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｎはポリオルガノシロキサンの鎖長を示す。ｎ－１、及びｐとｑはそれぞれポリオルガノシロキサン単位の繰り返し数を示し、１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ－２である。］
　Ｒ3～Ｒ6がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ3～Ｒ6がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ3～Ｒ6がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ3～Ｒ6がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　Ｒ3～Ｒ6としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基である。
　一般式（ＩＩ－Ｉ）、（ＩＩ－ＩＩ）及び／または（ＩＩ－ＩＩＩ）中のＲ3～Ｒ6がいずれもメチル基であることが好ましい。
　Ｙが示す－Ｒ7Ｏ－、－Ｒ7ＣＯＯ－、－Ｒ7ＮＨ－、－Ｒ7ＮＲ8－、－Ｒ7ＣＯＯ－Ｒ9－Ｏ－、または－Ｒ7Ｏ－Ｒ10－Ｏ－におけるＲ7が表す直鎖又は分岐鎖アルキレン基としては、炭素数１～８、好ましくは炭素数１～５のアルキレン基が挙げられ、環状アルキレン基としては、炭素数５～１５、好ましくは炭素数５～１０のシクロアルキレン基が挙げられる。
　Ｒ7が表すアリール置換アルキレン基としては、芳香環にアルコキシ基、アルキル基のような置換基を有していてもよく、その具体的構造としては、例えば、下記の一般式（ｉ）または（ｉｉ）の構造を示すことができる。なお、アリール置換アルキレン基を有する場合、アルキレン基がＳｉに結合している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
（式中ｃは正の整数を示し、通常１～６の整数である）
　Ｒ7、Ｒ9及びＲ10が示すジアリーレン基とは、二つのアリーレン基が直接、又は二価の有機基を介して連結された基のことであり、具体的には－Ａｒ1－Ｗ－Ａｒ2－で表わされる構造を有する基である。ここで、Ａｒ1及びＡｒ2は、アリーレン基を示し、Ｗは単結合、又は２価の有機基を示す。Ｗの示す２価の有機基は、例えばイソプロピリデン基、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基である。
　Ｒ7、Ａｒ1及びＡｒ2が表すアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントリレン基などの環形成炭素数６～１４のアリーレン基が挙げられる。これらアリーレン基は、アルコキシ基、アルキル基等の任意の置換基を有していてもよい。
　Ｒ8が示すアルキル基としては炭素数１～８、好ましくは１～５の直鎖または分岐鎖のものである。アルケニル基としては、炭素数２～８、好ましくは２～５の直鎖または分岐鎖のものが挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
　Ｒ10が示す直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基は、Ｒ7と同様である。
　Ｙとしては、好ましくは－Ｒ7Ｏ－であって、Ｒ7が、アリール置換アルキレン基であって、特にアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
　なお、式（ＩＩ－ＩＩ）中のｐ及びｑについては、ｐ＝ｑであることが好ましい。
　また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基又はジカルボン酸又はジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（ｉｉｉ）～（ｖｉｉ）で表される２価の基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長ｎは、好ましくは３０以上、より好ましくは３５以上、さらに好ましくは４０以上、よりさらに好ましくは５０以上、特に好ましくは５５以上、最も好ましくは６０以上である。また、好ましくは５００以下、より好ましくは４００以下、さらに好ましくは３００以下、よりさらに好ましくは２００以下、特に好ましくは１２０以下、最も好ましくは８５以下である。該平均鎖長は核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。平均鎖長ｎが３０以上５００以下の範囲であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。また、ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長ｎが５５以上５００以下の範囲にあることも、より優れた耐衝撃性を得る観点から好ましい。
　ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の含有率は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは６質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上、さらにより好ましくは１４質量％以上、さらにより好ましくは１８質量％以上、特に好ましくは２１質量％以上である。また、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは４５質量％以下、特に好ましくは４０質量％以下である。ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）中のポリオルガノシロキサン量が上記範囲内であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。
　ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、使用される用途や製品により、目的の分子量となるように分子量調節剤（末端停止剤）等を用いることにより適宜調整することができるが、好ましくは９，０００以上、より好ましくは１２，０００以上、さらに好ましくは１４，０００以上、特に好ましくは１６，０００以上であり、好ましくは５０，０００以下、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは２３，０００以下、特に好ましくは２２，０００以下、最も好ましくは２０，０００以下である。粘度平均分子量が９，０００以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。５０，０００以下であれば、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
　粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、下記Ｓｃｈｎｅｌｌの式から算出した値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
　上記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）は、界面重合法（ホスゲン法）、ピリジン法、エステル交換法等の公知の製造方法により製造することができる。特に界面重合法の場合に、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）を含む有機相と未反応物や触媒残渣等を含む水相との分離工程が容易となり、アルカリ洗浄、酸洗浄、純水洗浄による各洗浄工程におけるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）を含む有機相と水相との分離が容易となり、効率よくＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）が得られる。ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）を製造する方法として、例えば、特開２０１０－２４１９４３号公報等に記載の方法を参照することができる。
　具体的には、後述する予め製造されたポリカーボネートオリゴマーと、ポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。また、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）は、ポリオルガノシロキサンと、二価フェノールと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。
　なお、本願のポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）を、例えばポリカーボネートオリゴマーとポリオルガノシロキサン原料とを有機溶媒中で反応させた後に二価フェノールと反応させる等して製造する場合には、上記有機溶媒とポリカーボネートオリゴマーとの混合溶液１Ｌ中におけるポリカーボネートオリゴマーの固形分重量（ｇ／Ｌ）が８０ｇ／Ｌ以上２００ｇ／Ｌ以下の範囲にあることが好ましい。より好ましくは９０ｇ／Ｌ以上、さらに好ましくは１００ｇ／Ｌ以上であり、より好ましくは１８０ｇ／Ｌ以下、さらに好ましくは１７０ｇ／Ｌ以下である。
　原料となるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式（１）、（２）及び／または（３）に示すものを用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　式中、Ｒ3～Ｒ6、Ｙ、β、ｎ－１、ｐ及びｑは上記した通りであり、具体例及び好ましいものも同様である。
　Ｚは、水素原子又はハロゲン原子を示し、複数のＺは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
　例えば、一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式（１－１）～（１－１１）の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　上記一般式（１－１）～（１－１１）中、Ｒ3～Ｒ6、ｎ及びＲ8は上記の定義の通りであり、好ましいものも同じである。ｃは正の整数を示し、通常１～６の整数である。
　これらの中でも、重合の容易さの観点においては、上記一般式（１－１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、上記一般式（１－２）で表される化合物中の一種であるα，ω－ビス［３－（ｏ－ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、上記一般式（１－３）で表される化合物中の一種であるα，ω－ビス［３－（４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
　その他、ポリオルガノシロキサン原料として以下の一般式（４）を有するものを用いてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　式中、Ｒ3及びＲ4は上述したものと同様である。一般式（４）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長は（ｒ×ｍ）となり、（ｒ×ｍ）の範囲は上記ｎと同一である。
　上記（４）をポリオルガノシロキサン原料として用いた場合には、ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）は下記一般式（ＩＩ－ＩＶ）で表わされる単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
［式中のＲ3、Ｒ4、ｒ及びｍは上述した通りである］
　ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）として、下記一般式（ＩＩ－Ｖ）で表される構造を有していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
［式中、Ｒ18～Ｒ21はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～１３のアルキル基である。Ｒ22は炭素数１～６のアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルコキシ基、又は炭素数６～１４のアリール基である。Ｑ2は炭素数１～１０の２価の脂肪族基である。ｎは平均鎖長を示し、３０～７０である。］
　一般式（ＩＩ－Ｖ）中、Ｒ18～Ｒ21がそれぞれ独立して示す炭素数１～１３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、２－エチルヘキシル基、各種ノニル基、各種デシル基、各種ウンデシル基、各種ドデシル基、各種トリデシル基が挙げられる。これらの中でも、Ｒ18～Ｒ21としては、好ましくは水素原子又は炭素数１～６のアルキル基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
　Ｒ22が示す炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ22が示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ22が示す炭素数１～６のアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。また、Ｒ22が示す炭素数６～１４のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
　上記の中でも、Ｒ22は水素原子、又は炭素数１～６のアルコキシ基が好ましく、水素原子又は炭素数１～３のアルコキシ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
　Ｑ2が示す炭素数１～１０の２価の脂肪族基としては、炭素数１～１０の、直鎖又は分岐鎖の２価の飽和脂肪族基が好ましい。当該飽和脂肪族基の炭素数は、好ましくは１～８、より好ましくは２～６、さらに好ましくは３～６、よりさらに好ましくは４～６である。また、平均鎖長ｎは上記の通りである。
　構成単位（ＩＩ－Ｖ）の好ましい態様としては、下記式（ＩＩ－ＶＩ）で表される構造を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
［式中、ｎは前記と同じである。］
　上記一般式（ＩＩ－Ｖ）または（ＩＩ－ＶＩ）で表されるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）は、下記一般式（５）または（６）で表されるポリオルガノシロキサン原料を用いることにより得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
［式中、Ｒ18～Ｒ22、Ｑ2、及びｎは上記した通りである。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
［式中、ｎは上記した通りである。］
　前記ポリオルガノシロキサンの製造方法は特に限定されない。例えば、特開平１１－２１７３９０号公報に記載の方法によれば、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させて、α，ω－ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンを合成し、次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、該α，ω－ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンにフェノール性化合物（例えば２－アリルフェノール、４－アリルフェノール、オイゲノール、２－プロペニルフェノール等）等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。また、特許第２６６２３１０号公報に記載の方法によれば、オクタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシロキサンとを硫酸（酸性触媒）の存在下で反応させ、得られたα，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを上記と同様に、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下でフェノール性化合物等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、α，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンは、その重合条件によりその鎖長ｎを適宜調整して用いることもできるし、市販のα，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いてもよい。
　上記ヒドロシリル化反応用触媒としては、遷移金属系触媒が挙げられるが、中でも反応速度及び選択性の点から白金系触媒が好ましく用いられる。白金系触媒の具体例としては、塩化白金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，白金のオレフィン錯体，白金とビニル基含有シロキサンとの錯体，白金担持シリカ，白金担持活性炭等が挙げられる。
　粗ポリオルガノシロキサンを吸着剤と接触させることにより、粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる、上記ヒドロシリル化反応用触媒として使用された遷移金属系触媒に由来する遷移金属を、吸着剤に吸着させて除去することが好ましい。
　吸着剤としては、例えば、１０００Å以下の平均細孔直径を有するものを用いることができる。平均細孔直径が１０００Å以下であれば、粗ポリオルガノシロキサン中の遷移金属を効率的に除去することができる。このような観点から、吸着剤の平均細孔直径は、好ましくは５００Å以下、より好ましくは２００Å以下、更に好ましくは１５０Å以下、より更に好ましくは１００Å以下である。また同様の観点から、吸着剤は多孔性吸着剤であることが好ましい。
　吸着剤としては、上記の平均細孔直径を有するものであれば特に限定されないが、例えば活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ、シリカ－マグネシア系吸着剤、珪藻土、セルロース等を用いることができ、活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ及びシリカ－マグネシア系吸着剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる遷移金属を吸着剤に吸着させた後、吸着剤を任意の分離手段によってポリオルガノシロキサンから分離することができる。ポリオルガノシロキサンから吸着剤を分離する手段としては、例えばフィルタや遠心分離等が挙げられる。フィルタを用いる場合は、メンブランフィルタ、焼結金属フィルタ、ガラス繊維フィルタ等のフィルタを用いることができるが、特にメンブランフィルタを用いることが好ましい。
　遷移金属の吸着後に吸着剤をポリオルガノシロキサンから分離する観点から、吸着剤の平均粒子径は、通常１μｍ以上４ｍｍ以下、好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。
　前記吸着剤を使用する場合には、その使用量は特に限定されない。粗ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上３０質量部以下、より好ましくは２質量部以上２０質量部以下の範囲の量の多孔性吸着剤を使用することができる。
　なお、処理する粗ポリオルガノシロキサンの分子量が高いために液体状態でない場合は、吸着剤による吸着及び吸着剤の分離を行う際に、ポリオルガノシロキサンが液体状態となるような温度に加熱してもよい。または、塩化メチレンやヘキサン等の溶剤に溶かして行ってもよい。
　所望の分子量分布のポリオルガノシロキサンは、例えば、複数のポリオルガノシロキサンを配合することにより分子量分布を調節して得られる。配合は、複数のα，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを配合したあと、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下でフェノール性化合物等を付加反応させることで所望の分子量分布となる粗ポリオルガノシロキサンを得ることもできる。また、複数の粗ポリオルガノシロキサンを配合したのち、ヒドロシリル化反応触媒を除去させるなどの精製を行ってもよい。精製後の複数のポリオルガノシロキサンを配合してもよい。また、ポリオルガノシロキサン製造時の重合条件により適宜調整することもできる。また、既存のポリオルガノシロキサンから各種分離等の手段によって一部のみを分取する事で得ることも出来る。
　ポリカーボネートオリゴマーは、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の有機溶剤中で、二価フェノールとホスゲンやトリホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することができる。なお、エステル交換法を用いてポリカーボネートオリゴマーを製造する際には、二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することもできる。
　二価フェノールとしては、下記一般式（ｖｉｉｉ）で表される二価フェノールを用いることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　式中、Ｒ1、Ｒ2、ａ、ｂ及びＸは上述した通りである。
　上記一般式（ｖｉｉｉ）で表される二価フェノールとしては、例えば、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、４，４'－ジヒドロキシジフェニル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
　これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた場合、上記一般式（ｉ）において、Ｘがイソプロピリデン基であり、且つａ＝ｂ＝０のＰＣ－ＰＯＳ共重合体となる。
　ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、例えば、ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、ジヒドロキシアリールエーテル類、ジヒドロキシジアリールスルフィド類、ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、ジヒドロキシジアリールスルホン類、ジヒドロキシジフェニル類、ジヒドロキシジアリールフルオレン類、ジヒドロキシジアリールアダマンタン類等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
　ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類としては、例えばビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－ブロモフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－クロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）プロパン等が挙げられる。
　ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類としては、例えば１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，５，５－トリメチルシクロヘキサン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等が挙げられる。ジヒドロキシアリールエーテル類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルフェニルエーテル等が挙げられる。
　ジヒドロキシジアリールスルフィド類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホキシド類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホキシド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホン類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホン等が挙げられる。
　ジヒドロキシジフェニル類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニル等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールフルオレン類としては、例えば９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールアダマンタン類としては、例えば１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－５，７－ジメチルアダマンタン等が挙げられる。
　上記以外の二価フェノールとしては、例えば４，４’－［１，３－フェニレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－９－アントロン、１，５－ビス（４－ヒドロキシフェニルチオ）－２，３－ジオキサペンタン等が挙げられる。
　得られるＰＣ－ＰＯＳ共重合体の分子量を調整するために、末端停止剤（分子量調節剤）を使用することができる。末端停止剤としては、例えば、フェノール、ｐ－クレゾール、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、ｐ－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール、ｐ－クミルフェノール、ｐ－ノニルフェノール、ｍ－ペンタデシルフェノール及びｐ－ｔｅｒｔ－アミルフェノール等の一価フェノールを挙げることができる。これら一価フェノールは、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
　上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と有機溶媒相とに分離し［分離工程］、有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、及び乾燥する［乾燥工程］ことによって、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ）を得ることができる。
＜（Ｂ）芳香族ポリカーボネート系樹脂＞
　上記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）のマトリックス部分を構成し、ドメイン（ｄ－２）にも含まれ得る。
　芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有する。上記ポリカーボネート系樹脂としては、特に制限はなく種々の公知のポリカーボネート系樹脂を使用できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
［式中、Ｒ30及びＲ31は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
　Ｒ30及びＲ31の具体例としては、前記Ｒ1及びＲ2と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。Ｒ30及びＲ31としては、より好ましくは、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基である。Ｘ’の具体例としては、前記Ｘと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。ｄ及びｅは、それぞれ独立に、好ましくは０～２、より好ましくは０又は１である。
　上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）としては、具体的には、反応に不活性な有機溶媒、アルカリ水溶液の存在下、二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、二価フェノール系化合物をピリジン又はピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等従来のポリカーボネートの製造法により得られるものを使用できる。
　上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤（末端停止剤）、分岐化剤等が使用される。
　なお、上記二価フェノール系化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ’）で表されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
［式中、Ｒ30、Ｒ31、Ｘ’、ｄ及びｅは前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。］
　該二価フェノール系化合物の具体例としては、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の製造方法で上述したものを挙げることができ、好ましいものも同じである。中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。
　上記芳香族ポリカーボネート系樹脂は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。なお、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｂ）は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と異なり、式（ＩＩ）で表されるようなポリオルガノシロキサンブロックを有さない構造であってもよい。例えば、芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）はホモポリカーボネート樹脂であってもよい。
＜スチレン系樹脂（Ｃ）＞
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるスチレン形樹脂（Ｃ）は、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有することが好ましく、ブタジエン、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有することがより好ましく、非晶質スチレン系樹脂及び結晶性スチレン系樹脂を用いることができる。本発明においては、スチレン系樹脂（Ｃ）として、スチレン系樹脂を１種用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　前記ポリカーボネート系樹脂組成物中のスチレン系樹脂（Ｃ）の配合量は、ポリカーボネート系樹脂組成物の成形加工性及び流動性を改善する観点から、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）及び前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％中、好ましくは１質量％以上５０質量％以下、より好ましくは３質量％以上４５質量％以下、更に好ましくは１５質量％以上４０質量％以下、特に好ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。
　非晶質スチレン系樹脂としては、スチレン、α－メチルスチレン等のモノビニル系芳香族単量体２０質量％以上１００質量％以下、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル系単量体０質量％以上６０質量％以下、及びこれらと共重合可能なマレイミド、（メタ）アクリル酸メチル等の他のビニル系単量体０質量％以上５０質量％以下からなる単量体、又は単量体混合物を重合して得られる結晶構造を有さない重合体が挙げられる。
　これらの重合体としては、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等がある。
　また、非晶質スチレン系樹脂としてはゴム状重合体で強化されたゴム変性スチレン系樹脂が好ましく利用できる。このゴム変性スチレン系樹脂としては、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体であることが好ましく、例えば、ポリブタジエン等のゴムにスチレンが重合した耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）、ポリブタジエンにアクリロニトリルとスチレンとが重合したアクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリブタジエンにメタクリル酸メチルとスチレンが重合したメタクリル酸メチル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＭＢＳ樹脂）等があり、ゴム変性スチレン系樹脂は、２種以上を併用することができると共に、前記のゴム未変性である非晶質スチレン系樹脂との混合物としても使用できる。
　ゴム変性スチレン系樹脂中のゴムの含有量は、好ましくは２質量％以上５０質量％以下、より好ましくは５質量％以上３０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以上１５質量％以下である。ゴムの割合が２質量％以上であれば、耐衝撃性が充分であり、又、５０質量％以下であれば、熱安定性の低下、溶融流動性の低下、ゲルの発生、着色等の問題が生じない。
　上記ゴムの具体例としては、ポリブタジエン、アクリレート及び／又はメタクリレートを含有するゴム質重合体、スチレン－ブタジエン－スチレンゴム（ＳＢＳ）、スチレン－ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエン－アクリルゴム、イソプレンゴム、イソプレン－スチレンゴム、イソプレン－アクリルゴム、エチレン－プロピレンゴム等が挙げられる。このうち、特に好ましいものは、ポリブタジエンである。ここで用いるポリブタジエンは、１，４－シス結合含有量の低いポリブタジエン（例えば、１，２－ビニル結合を１モル％以上３０モル％以下、１，４－シス結合を３０モル％以上４２モル％以下含有するもの）、１，４－シス結合含有量の高いポリブタジエン（例えば、１，２－ビニル結合を２０モル％以下、１，４－シス結合を７８モル％以上含有するもの）のいずれを用いてもよく、また、これらの混合物であってもよい。
　また、結晶性スチレン系樹脂としては、シンジオタクチック構造、アイソタクチック構造を有するスチレン系（共）重合体が挙げられるが、本発明では流動性をより改善する目的から、非晶質スチレン系樹脂を用いることが好ましい。さらに非晶質スチレン系樹脂の中でも、２００℃、５ｋｇ荷重におけるメルトフローレート（ＭＦＲ）が、好ましくは０．５ｇ／１０分以上１００ｇ／１０分以下、より好ましくは２ｇ／１０分以上８０ｇ／１０分以下、さらに好ましくは２ｇ／１０分以上５０ｇ／１０分以下のものが用いられる。メルトフローレート（ＭＦＲ）が５ｇ／１０分以上であれば十分な流動性となり、１００ｇ／１０分以下であれば、ポリカーボネート系樹脂組成物の耐衝撃性が良好になる。
　さらに非晶質スチレン系樹脂の中でも、耐衝撃性ポリスチレン樹脂（ＨＩＰＳ）、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）及びアクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、メタクリル酸メチル－スチレン共重合体（ＭＳ樹脂）、メタクリル酸メチル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＭＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－アクリル酸メチル－スチレン共重合体（ＡＡＳ樹脂）、アクリロニトリル－（エチレン／プロピレン／ジエン共重合体）－スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）が好ましく、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、及びメタクリル酸メチル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＭＢＳ樹脂）がより好ましく、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）及びアクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）がよりさらに好ましい。
＜その他の成分＞
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の添加剤を含ませることができる。その他の添加剤としては、難燃剤や難燃助剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、補強材、充填剤、耐衝撃性改良用のエラストマー、染料、顔料、帯電防止剤等を挙げることができる。
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、前記の各成分を上記割合で、更に必要に応じて用いられる各種任意成分を適当な割合で配合し、混練することにより得られる。
　本発明の一態様において、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の合計含有量は、ポリカーボネート樹脂組成物の全量（１００質量％）基準で、好ましくは８０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％である。
　本発明の他の態様においては、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及びその他成分の合計含有量は、ポリカーボネート樹脂組成物の全量（１００質量％）基準で、好ましくは９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％である。
　配合及び混練は、通常用いられている機器、例えば、リボンブレンダー、ドラムタンブラーなどで予備混合して、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、多軸スクリュー押出機及びコニーダ等を用いる方法で行うことができる。混練の際の加熱温度は、通常、２４０℃以上３２０℃以下の範囲で適宜選択される。この溶融混練としては、押出機、特に、ベント式の押出機の使用が好ましい。
［成形品］
　上記の溶融混練した本発明のポリカーボネート系樹脂組成物、又は得られたペレットを原料として、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等により各種成形体を製造することができる。特に、溶融混練により得られたペレットを用いて、射出成形及び射出圧縮成形による射出成形体の製造に好適に用いることができる。
　本発明の難燃性ポリカーボネート系樹脂組成物からなる成型品は、例えば、テレビ、ラジオ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダ、オーディオプレーヤー、ＤＶＤプレーヤー、エアコンディショナ、携帯電話、ディスプレイ、コンピュータ、レジスター、電卓、複写機、プリンター、ファクシミリ、通信基地局、バッテリー等の電気・電子機器用部品の筐体等、並びに自動車及び建材の部品として好適に用いることができる。
　次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。なお、各例における特性値、評価結果は、以下の要領に従って求めた。
（１）ポリジメチルシロキサン鎖長および含有率
　ＮＭＲ測定によって、ポリジメチルシロキサンのメチル基の積分値比により算出した。なお、本明細書においては、ポリジメチルシロキサンを「ＰＤＭＳ」と略記することがある。
＜ポリジメチルシロキサンの鎖長の定量方法＞
　1Ｈ－ＮＭＲ測定条件
　ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ　ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製　ＥＣＡ５００
　プローブ：ＴＨ５　５φＮＭＲ試料管対応
　観測範囲：－５～１５ｐｐｍ
　観測中心：５ｐｐｍ
　パルス繰り返し時間：９秒
　パルス幅：４５°
　ＮＭＲ試料管：５φ
　サンプル量：３０～４０ｍｇ
　溶媒：重クロロホルム
　測定温度：室温
　積算回数：２５６回
　アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
　Ａ：δ－０．０２～０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
　Ｂ：δ２．５０～２．７５付近に観測されるアリルフェノールのメチレン基の積分値
　ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）
　オイゲノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
　Ａ：δ－０．０２～０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
　Ｂ：δ２．４０～２．７０付近に観測されるオイゲノールのメチレン基の積分値
　ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）
＜ポリジメチルシロキサン含有率の定量方法＞
　アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンを共重合したＰＴＢＰ末端ポリカーボネート中のポリジメチルシロキサン共重合量の定量方法
　ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ　ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製　ＥＣＡ－５００
　プローブ：ＴＨ５　５φＮＭＲ試料管対応
　観測範囲：－５～１５ｐｐｍ
　観測中心：５ｐｐｍ
　パルス繰り返し時間：９秒
　パルス幅：４５°
　積算回数：２５６回
　ＮＭＲ試料管：５φ
　サンプル量：３０～４０ｍｇ
　溶媒：重クロロホルム
　測定温度：室温
　Ａ：δ１．５～１．９付近に観測されるＢＰＡ部のメチル基の積分値
　Ｂ：δ－０．０２～０．３付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
　Ｃ：δ１．２～１．４付近に観測されるｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル部のブチル基の積分値
　ａ＝Ａ／６
　ｂ＝Ｂ／６
　ｃ＝Ｃ／９
　Ｔ＝ａ＋ｂ＋ｃ
　ｆ＝ａ／Ｔ×１００
　ｇ＝ｂ／Ｔ×１００
　ｈ＝ｃ／Ｔ×１００
　ＴＷ＝ｆ×２５４＋ｇ×７４．１＋ｈ×１４９
　ＰＤＭＳ（ｗｔ％）＝ｇ×７４．１／ＴＷ×１００
（２）粘度平均分子量
　粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式（Ｓｃｈｎｅｌｌ式）にて算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000026
　また、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）の粘度平均分子量の相加平均の値から求めた。
＜ＳＰＭによるドメイン構造の観察方法＞
　ＳＰＭ装置：Nano-IM（PNI社製）
　プローブ：PPP-NCHR（NANOSENSORS社製）
　観察視野サイズ：１μｍ四方、２μｍ四方、５μｍ四方
　観察部位：後述のＩｚｏｄ試験片（長さ６３．５ｍｍ，幅１２．７ｍｍ，厚さ３．２ｍｍ）のゲート反対側端部から約５ｍｍの断面中央部の機械方向（ＭＤ）と厚み方向（ＮＤ）で形成される面
　前処理方法：後述のＩｚｏｄ試験片を切削し、得られた切削試料について面出し調整を行い、続いて凍結ミクロトーム）を使用した切削断面加工によって観察面を作製した。それぞれの手順についての詳細は以下の通りである。
［１．Ｉｚｏｄ試験片の切削］
　Ｉｚｏｄ試験片を図４に示す位置で切り出し、長さ７ｍｍ、幅５ｍｍ×厚み３．２ｍｍの試料片を得た。
［２．切り出し試料からの面出し調整］
　上記１．で得られた試験片の観察面側を、トリム装置（「Ｌｅｉｃａ　ＥＭ　ＴＲＩＭ」［ライカマイクロシステムズ社製］）にて四角錐形状にトリミングした。
続いて、ミクロトーム（「ＵＬＴＲＡＣＵＴ Ｓ」［ライカマイクロシステムズ社製］）を用い、常温にて約１５０μｍ四方の面が出るよう四角錐の頂点を切り落とした。
　なお、ミクロトームに使用したガラスナイフの形状は、図６に示す通りである。材料として、「ガラスナイフ用ガラス棒（長さ４００ｍｍ，幅２５ｍｍ、厚さ６ｍｍ）」［ＮＩＳＳＨＩＮ　ＥＭ　Ｃｏ.,　Ｌｔｄ．ＴＯＫＹＯ］を用い、加工装置としてガラスナイフメーカー（「Ｌｅｉｃａ ＥＭ ＫＭＲ２」［ライカマイクロシステムズ社製］）を用いた。作製されたガラスナイフの破断面を顕微鏡で観察し、切削に用いる辺に欠けが視認されないものを用いた。
［３．凍結ミクロトーム切削による観察面の作成］
　上記２．で面出しした試料を、ガラスナイフと共に、凍結用のミクロトーム（「ＵＬＴＲＡＣＵＴ Ｒ」［ライカマイクロシステムズ社製］）に設置された冷却ボックス内に設置し、液体窒素を用いてボックス内の雰囲気温度を－１２０℃で１時間冷却した。
　続いて、当該試料を冷却ボックスから取り出すことなく、図５に示す通り、約２００μｍ～５００μｍ四方の面となるよう切り出し、観察面とした。
　測定モード：位相差モード
　評価対象のドメイン：観察視野内にドメインの全体が映っているものを評価対象のドメインとした。
　ドメイン評価に用いる観察視野サイズ：１μｍ四方で観察した場合の評価対象のドメイン数が２１以上の場合は１μｍ四方を、６以上２０以下は２μｍ四方を、５以下は５μｍ四方をドメイン評価に用いる観察視野サイズとした。
　観察するドメインの数：ドメイン（ｄ）の数割合、ドメインの平均断面積およびドメインの平均隣接粒子間距離の算出に用いる評価対象のドメインの観察数は、７０以上とした。１観察視野当たりの評価対象のドメインが７０未満の場合は、その数が７０以上となるまで追加観察した。
　画像解析ソフト：SPIP
　なお、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（以下、ＡＢＳと呼ぶことがある）及びアクリロニトリル－スチレン樹脂（以下、ＡＳと呼ぶことがある）は前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）と非相溶であることから、ポリカーボネート樹脂（Ｓ）からなるマトリックス中に図７及び図１８に示すようなＡＢＳ又はＡＳからなるドメインを形成する。ＡＢＳドメインの特徴は、ＡＳ中にブタジエンブロックが球状に分散しているところにある。ＡＳは物性（粘弾性）においてポリカーボネート樹脂（Ｓ）からなるマトリックスと大きな差異は無いため、前記マトリックスとの界面が不鮮明であるが、位相差像においても前記マトリックスと高低差があるかのような輪郭を示すことが特徴である。ＡＢＳやＡＳからなるドメインは前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）と相分離していることから、前記ポリカーボネート（Ｂ）中に存在するドメイン（ｄ）を観察するには、ＡＢＳ又はＡＳからなるドメインの存在しない箇所を測定する必要がある。
　このため、始めに１０μｍ×１０μｍ程度の広い視野でＳＰＭ測定を実施し、ＡＢＳ又はＡＳからなるドメインの無い領域を確認し、その後、当該領域を拡大視野（１μｍ×１μｍ、２μｍ×２μｍ）で観察した。
＜ＳＰＭによるドメイン（ｄ）のあり／なしの判定、（ｄ－１）内部の（ｄ－２）の数および全ドメインの合計数に占めるドメイン（ｄ）の数割合の算出方法＞
　評価対象の全ドメイン数をSPIPで自動算出し、ドメイン（ｄ）は目視でカウントした。
＜ＳＰＭによるドメイン平均断面積の算出方法＞
　それぞれのドメインに対し、SPIPで画像処理してドメイン断面積を自動算出し、その平均値を計算した。
＜ＳＰＭによる隣接粒子間距離の平均の算出方法＞
　それぞれのドメインに対し、SPIPで隣接粒子間距離を自動算出し、その平均値を算出した。
＜ポリカーボネートオリゴマーの製造＞
　５．６質量％の水酸化ナトリウム水溶液に、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）（後から溶解する）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加えた。これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％となるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレンを１５Ｌ／ｈｒ、及びホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液を、後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入し、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％の水酸化ナトリウム水溶液を０．０７Ｌ／ｈｒ、水を１７Ｌ／ｈｒ、１質量％のトリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒの流量で添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
　このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度３４１ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７１ｍｏｌ／Ｌであった。
製造例１
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ－１ａ）＞
　以下に記載する（ｉ）～（ｘｉｖ）の値は、表１に示すとおりである。
　邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記の通り製造したポリカーボネートオリゴマー溶液（ＰＣＯ）（ｉ）Ｌ、塩化メチレン（ＭＣ）（ｉｉ）Ｌおよび、平均鎖長ｎ＝（ｉｉｉ）のアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ｉｖ）ｇを塩化メチレン（ＭＣ）（ｖ）Ｌに溶解したもの、ならびに、トリエチルアミン（ＴＥＡ）（ｖｉ）ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨａｑ）（ｖｉｉ）ｇを加え、２０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
　この重合液に、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ（ｖｉｉｉ）ｇを塩化メチレン（ＭＣ）（ｉｘ）Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ（ｘ）ｇと亜二チオン酸ナトリウム（Ｎａ2Ｓ2Ｏ4）（ｘｉ）ｇとを水（ｘｉｉ）Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ（ｘｉｉｉ）ｇを溶解させたもの）を添加し４０分間重合反応を実施した。
　希釈のため塩化メチレン（ＭＣ）（ｘｉｖ）Ｌを加え１０分間攪拌した後、ＰＣ－ＰＯＳを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
　こうして得られたＰＣ－ＰＯＳの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／Ｌ　ＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で順次洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
　洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥し、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ１）～（Ａ１７）を得た。得られたフレークのＰＤＭＳ含有率、未反応ＰＤＭＳ量及び粘度平均分子量の測定を行った。
製造例２
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ－１ｂ）＞
　前記（ｉ）～（ｘｉｖ）の値を表１に記載の通りに変更した以外は、製造例１と同様の方法で製造と測定を行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ａ－２）＞
　ＰＣ－ＰＯＳ共重合体Ａ－２ａ：「ＦＧ１７００」［ＰＣ－ＰＯＳ共重合体、ポリオルガノシロキサンブロック鎖長８８、ポリオルガノシロキサン含有量６質量％、粘度平均分子量Ｍｖ１７，７００］
＜芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）＞
　芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ－１：「ＦＮ２５００」［粘度平均分子量Ｍｖ２３，５００］
　芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ－２：「ＦＮ２２００」［粘度平均分子量Ｍｖ２１，３００］
　芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ－３：「ＦＮ１９００」［粘度平均分子量Ｍｖ１９，３００］
　芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ－４：「ＦＮ１７００」［粘度平均分子量Ｍｖ１７，７００］
＜スチレン系樹脂（Ｃ）＞
　「クラスチックＳＸＨ－３３０」［アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン三元共重合体（ＡＢＳ），ＫＵＭＨＯ ＰＥＴＲＯＣＨＥＭＩＣＡＬ社製、ブタジエンに由来する構成単位の含有量：６０質量％］
　「サンタックＡＴ－０５」［アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン３元共重合体（ＡＢＳ），日本エイアンドエル（株）製，ブタジエンに由来する構成単位の含有量：１４質量％］
　「キビサンＰＮ－１１７Ｃ」［アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ），奇美実業社製，アクリロニトリルに由来する構成単位の含有量：２４質量％］
＜その他の成分＞
　酸化防止剤：「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（商品名）」［トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ＢＡＳＦジャパン株式会社製］
　酸化防止剤：「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（商品名）」［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）ピロピオン酸オクタデシル，ＢＡＳＦジャパン株式会社製］
参考例１～２、実施例１～２７、比較例１～２２
　製造例１及び２で得られたＰＣ－ＰＯＳ共重合体Ａ１およびＡ２、並びにその他の各成分を表２～表６に示す配合割合で混合し、ベント式二軸押出機（東芝機械株式会社製、ＴＥＭ３５Ｂ）に供給し、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量２０ｋｇ／ｈｒ、樹脂温度２９５～３００℃にて溶融混練し、評価用ペレットサンプルを得た。この評価用ペレットサンプルを用いて上記ＳＰＭによる画像観察及び画像解析を行った。なお、参考例、実施例１～２７及び比較例１～２２でそれぞれ得られた無機充填剤含有ポリカーボネート樹脂組成物のＳＰＭによる観察結果の代表画像（画像は１μｍ四方）を図８～１７、及び１９～２２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
［評価試験］
＜流動性評価＞（ＭＦＲ）
　上記ペレットを用いて、ＪＩＳ Ｋ ７２１０－１：２０１４に準拠し、３００℃、１．２ｋｇの荷重下にて、直径２．０９５±０．００５ｍｍ、長さ８．０００±０．０２５ｍｍのダイから流出する溶融樹脂量（ｇ／１０分）を測定した。
＜Ｑ値（流れ値）〔単位；１０－2ｍＬ／秒〕＞
　上記ペレットを用いて、ＪＩＳ Ｋ ７２１０－１：２０１４：付属書ＪＡに準拠し、高架式フローテスターを用いて、２８０℃、１６０ｋｇｆの圧力下にて、直径１．００ｍｍ、長さ１０．００ｍｍのノズルより流出する溶融樹脂量（ｍＬ／ｓｅｃ）を測定した。Ｑ値は単位時間当たりの流出量を表しており、数値が高いほど、流動性が良いことを示す。
＜耐衝撃性＞
　上記得られたペレットを１２０℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍφ）を用いて、シリンダ温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形してＩＺＯＤ試験片（長さ６３．５ｍｍ、幅１２．７ｍｍ，厚さ３．２ｍｍ）を作成した。この試験片に後加工でノッチ（ｒ＝０．２５ｍｍ±０．０５ｍｍ）を付与した試験片を用いて、ＡＳＴＭ規格Ｄ－２５６に準拠して、－４０℃、－３０℃、－２０℃、－１０℃、０℃及び２３℃におけるノッチ付きアイゾット衝撃強度を測定した。
＜荷重たわみ温度（単位；℃）＞
　上記得られたペレットを１２０℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍφ）を用いて、シリンダ温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形して試験片（長さ１２７ｍｍ、幅１２．７ｍｍ、厚み３．２ｍｍ）を得た。この試験片を用い、ＡＳＴＭ規格Ｄ－６４８に準拠して、昇温速度１２０℃／ｈ、支点間距離１００ｍｍ、１．８ＭＰａの荷重を掛けて、エッジワイズによる試験片のたわみが０．２６ｍｍに達した時の温度を記録した。
　本発明で得られるポリカーボネート樹脂組成物は耐衝撃性に優れ、かつ流動性に優れる。本ポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形品は、電気・電子機器用部品の筐体等、自動車及び建材の部品等として好適に用いることができる。

Claims (24)

  1. 　下記要件（１）及び（２）を満たすポリカーボネート系樹脂（Ｓ）に対して、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合してなり、前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）及び前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％に占める前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の割合が５０質量％以上９９質量％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物：
    （１）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）、並びに前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を含む。
    （２）前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を主成分とするマトリックス中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄ－１）が存在し、前記ドメイン（ｄ－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄ－２）が存在する構造を有する。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
  2. 　下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）、並びに前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）５０質量％以上９９質量％以下、及びスチレン系樹脂（Ｃ）を１質量％以上５０質量％以下含み、
    　前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）を主成分とするマトリックス中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）を含むドメイン（ｄC－１）が存在し、前記ドメイン（ｄC－１）の内部に、前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つを含むドメイン（ｄC－２）が存在する構造を有し、かつ
    　前記ドメイン（ｄC－１）内部に前記ドメイン（ｄC－２）が存在するドメイン（ｄC）と、前記ドメイン（ｄC－１）のみからなるドメイン（ｄ’C）との合計数に占める前記ドメイン（ｄC）の数割合が２％以上１００％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
  3. 　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）における前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と、前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）との質量比率（Ａ）／（Ｂ）が、０．１／９９．９～９９．９／０．１である、請求項１または２に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  4. 　前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロックを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    ［式中、Ｒ30及びＲ31は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
  5. 　前記ドメイン（ｄ－１）または（ｄC－１）が前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）から主に形成されている、請求項１～４のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  6. 　前記ドメイン（ｄ－２）または（ｄC－２）が前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）に由来するブロックおよび前記ポリカーボネートブロック（Ａ－１）から選ばれる少なくとも１つから主に形成されている、請求項１～５のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  7. 　前記ドメイン（ｄ－１）内部に前記ドメイン（ｄ－２）が１つのみ存在する、または前記ドメイン（ｄC－１）内部に前記ドメイン（ｄC－２）が１つのみ存在する、請求項１～６のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  8. 　前記ドメイン（ｄ－１）内部に前記ドメイン（ｄ－２）が２以上存在する、または前記ドメイン（ｄC－１）内部に前記ドメイン（ｄC－２）が２以上存在する、請求項１～６のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  9. 　前記ドメイン（ｄ－１）内部に前記ドメイン（ｄ－２）が存在するドメイン（ｄ）と、前記ドメイン（ｄ－１）のみからなるドメイン（ｄ’）との合計数に占める前記ドメイン（ｄ）の数割合が２％以上１００％以下である、請求項１または３～８のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  10. 　前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの平均断面積が２００ｎｍ2以上である、請求項９に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  11. 　前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの平均断面積が２０，０００ｎｍ2以下である、請求項９または１０に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  12. 　前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５００ｎｍ以下である、請求項９～１１のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  13. 　前記ドメイン（ｄ）および前記ドメイン（ｄ’）、または前記ドメイン（ｄC）及び前記ドメイン（ｄ’C）を合わせた、全ドメインの隣接粒子間距離の平均が５０ｎｍ以上である、請求項９～１２のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  14. 　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長が３０以上５００以下である、請求項１～１３のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  15. 　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長が５５以上５００以下である、請求項１～１４のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  16. 　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の含有率が１０質量％以上７０質量％以下である、請求項１～１５のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  17. 　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の含有率が０．１質量％以上１０質量％以下である、請求項１～１６のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  18. 　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、請求項１～１７のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  19. 　前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、請求項１～１８のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  20. 　前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有する、請求項１～１９のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  21. 　前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体及びアクリロニトリル－スチレン共重合体から選ばれる少なくとも一つである、請求項１～２０のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  22. 　請求項１～２１のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形品。
  23. 　電気及び電子機器用筐体である、請求項２２に記載の成形品。
  24. 　自動車及び建材の部品である、請求項２２に記載の成形品。
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