WO2018159356A1 - Composition pour formation de film contenant du silicium, film contenant du silicium, procédé de formation de motif et polysiloxane - Google Patents

Composition pour formation de film contenant du silicium, film contenant du silicium, procédé de formation de motif et polysiloxane Download PDF

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Abstract

La présente invention a pour objet de réaliser : une composition pour la formation de film contenant du silicium capable de former un film contenant du silicium qui conserve l'aptitude à l'enlèvement par gravure avec un gaz à base de fluor et qui est excellent en termes d'inhibition de la chute des parois de motif de réserve ; le film contenant du silicium ; un procédé de formation de motif ; et un polysiloxane. La composition pour la formation de film contenant du silicium comprend un polysiloxane ayant un groupe représenté par la formule (1) et un solvant. Dans la formule (1), L est une liaison simple ou un groupe organique en C1-20 (n+1)-valent, E est un groupe représenté par la formule (2-1) ou (2-2), Y1 est un groupe aryle (non) substitué en C6-20 ou un groupe hydrocarboné aliphatique monovalent en C1-20 dans lequel un atome d'hydrogène a été remplacé par un groupe attirant les électrons, et Y2 est un groupe arylénediyle (non) substitué en C6-20 ou un groupe hydrocarboné aliphatique divalent en C1-20 dans lequel un atome d'hydrogène a été remplacé par un groupe attirant les électrons.
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