WO2018154991A1 - 偏光解消フィルム、偏光解消部材および偏光解消フィルムの製造方法 - Google Patents

偏光解消フィルム、偏光解消部材および偏光解消フィルムの製造方法 Download PDF

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WO2018154991A1
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depolarizing
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liquid crystal
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齊藤 之人
大助 柏木
彩子 村松
雄二郎 矢内
秀樹 兼岩
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富士フイルム株式会社
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    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3016Polarising elements involving passive liquid crystal elements

Definitions

  • the present invention relates to a depolarizing film that eliminates the polarization of incident light, a depolarizing member, and a method for manufacturing the depolarizing film.
  • a depolarizing element is used.
  • a method of arranging a plurality of birefringent materials in a plane so that slow axes are oriented in a plurality of directions is generally used.
  • a simple transmission member that does not give a phase difference to a region where a half-wave plate ( ⁇ / 2 plate) is provided on the light incident surface for the purpose of reducing speckle noise.
  • a depolarizing element having a stripe-like or checkered planar pattern in which regions provided with s are alternately arranged is disclosed.
  • the inclination between the optical axis (slow axis) of the ⁇ / 2 plate and the polarization axis of the incident linearly polarized light is 45 ° (or ⁇ 45). )
  • a depolarization effect can be obtained.
  • the polarization axis of incident light is not 45 ° (or ⁇ 45 °)
  • the depolarizer of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-47421 there is a problem that high depolarization can be obtained only for a specific wavelength due to the characteristics of the ⁇ / 2 plate.
  • Japanese Patent Laid-Open No. 2013-130810 discloses a configuration that solves this problem and can realize depolarization regardless of the direction of the polarization axis of incident linearly polarized light with respect to light in a wide wavelength range.
  • a depolarizing element having a structure in which a birefringent material layer and a second birefringent medium layer are stacked and each birefringent medium layer includes two or more regions having different fast axis directions has been proposed. ing.
  • the present invention provides a depolarizing film and a depolarizing member that are capable of good depolarization without depending on the wavelength of incident light and the direction of the polarization axis, and have a simple configuration and high productivity.
  • the purpose is to do.
  • an object of this invention is to provide the manufacturing method which can produce easily the depolarizing film which can depolarize without depending on the wavelength of incident light.
  • the depolarizing film of the present invention is a depolarizing film including a depolarizing layer composed of a first region and a second region having different optical properties, In the depolarization layer, the ratio of the area of the first region to the area of the second region is 0.45: 0.55 to 0.55: 0.45,
  • the first region is an optically anisotropic region that rotates light incident from one surface of the depolarization layer by 90 ° before exiting from the other surface
  • the second region is an optically isotropic region having optical isotropy.
  • the liquid crystal phase in which the first region is twisted by 90 ° between one surface of the depolarizing layer and the other surface is preferably fixed.
  • the second region when the first region is composed of a liquid crystal phase, the second region may be composed of an isotropic phase made of the same liquid crystal material as the liquid crystal material constituting the first region. preferable.
  • the depolarizing film of the present invention is preferably formed by laminating a ⁇ / 4 plate on one surface or the other surface of the depolarizing layer.
  • the depolarizing film having the depolarizing layer and the depolarizing film further including the ⁇ / 4 plate on the depolarizing layer are opposed to each other through the ⁇ / 4 plate. It is characterized by being arranged.
  • the method for producing a depolarizing film according to the present invention uniformly distributes a polymerizable liquid crystal composition having a cationic polymerization group and a radical photopolymerization group, a chiral agent and a cationic polymerization initiator on a support.
  • the polymerizable liquid crystal composition preferably contains a polymerizable liquid crystal compound represented by the following formula (1).
  • Q represents a polymerizable group; one of Sp 1 and Sp 2 is selected from the group consisting of branched alkylene, or —O—, —C ⁇ C— and —S—.
  • R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, X 1 represents —O—, —S—, —OCO—, or —COO—, and X 2 represents a single bond or a carbon number.
  • * is the binding site of the Sp 2.
  • the depolarizing film of the present invention is a depolarizing film including a depolarizing layer composed of a first region and a second region having different optical characteristics.
  • the area of the first region and the second region The area ratio of the region is 0.45: 0.55 to 0.55: 0.45, and the first region has a length of time until light incident from one surface of the depolarization layer is emitted from the other surface. Since the optically anisotropic region rotates 90 ° and the second region is an optically isotropic region having optical isotropy, the first region and the second region are incident on the depolarizing film. The light that has passed through can be mixed to obtain depolarized outgoing light.
  • this optically anisotropic region it can be rotated by 90 ° regardless of the direction of the polarization axis, so that good depolarization can be achieved without depending on the direction of the polarization axis. Further, when a ⁇ / 2 plate is used as in the conventional configuration, chromatic dispersion may occur, but in this configuration, good depolarization can be realized regardless of the wavelength. Further, since it is not a complicated structure that forms regions having different fast axis directions in one layer, productivity is high and high definition is possible.
  • Drawing 1 is a mimetic diagram showing the section and plane of depolarization film 1 of a 1st embodiment of the present invention.
  • the depolarizing film 1 of this embodiment includes a depolarizing layer 20 on a support 10.
  • the depolarizing film of this invention may be comprised only from the depolarizing layer.
  • the depolarization layer 20 has a first region 21 and a second region 22 that have different optical characteristics.
  • the first region 21 is shown in gray to distinguish the first region 21 from the second region 22 (the same applies to FIGS. 2 to 5 described later). It is. ).
  • Area area ratio of S 2 S 1 between the area S 1 of the first region 21 second region 22: S 2 is 0.45: from 0.55 to 0.55: 0.45.
  • the first region 21 and the second region 22 have the same stripe shape, and are alternately arranged in the width direction, for example, with a period P of 0.5 ⁇ m to 2.0 ⁇ m.
  • the area ratio S 1 : S 2 being in the range of 0.45: 0.55 to 0.55: 0.45 means that the area S 1 and the area S 2 are substantially equal. If the area ratio S 1 : S 2 is 0.45: 0.55 to 0.55: 0.45, the first region 21 and the second region are not limited to the alternately arranged patterns shown in FIG. The area 22 may be arranged in any pattern. The area of the first region and the area of the second region can be obtained by measuring the length and width of the region by length measurement using an electron microscope and calculating the area.
  • the first region 21 is an optically anisotropic region having a function of rotating the light by 90 ° before the light incident from one surface 20a of the depolarization layer 20 is emitted from the other surface 20b.
  • the light incident on the first region 21 is output with its electric field vector rotated by 90 °. Therefore, when the incident light is linearly polarized light, the emitted light has a polarization axis that is inclined by 90 ° with respect to the polarization axis at the time of incidence, regardless of the direction of the polarization axis.
  • the incident light when the incident light is circularly polarized or non-polarized, the apparent polarization state does not change even when the electric field vector is rotated by 90 °, and the outgoing light has a polarization state equivalent to the incident light. .
  • “having a function of rotating light by 90 °” has the effect of rotating the electric field vector of incident light by 90 ° regardless of the polarization state of the incident light, like a ⁇ / 2 plate.
  • the effect of rotating the polarization axis by 90 ° only for polarized light having a polarization axis inclined at a specific angle, such as 45 ° (or ⁇ 45 °) with respect to the optical axis, It does not correspond to “having a function of rotating light by 90 °”.
  • the first region 21 may be formed using a liquid crystal material (polymerizable liquid crystal composition), for example, as long as it has a function of rotating incident light by 90 ° and emitting it. be able to.
  • the liquid crystal layer can be constituted by a region in which a liquid crystal phase (90 ° twisted liquid crystal phase) twisted and aligned by 90 ° between one surface and the other surface is fixed.
  • the Gooch-Tarry condition is known for twisting 90 °, and a liquid crystal material under this condition can be used.
  • the second region 22 is an optically isotropic region having optical isotropy. Therefore, the second region 22 does not affect the polarization state of the light passing therethrough and emits the light without changing the characteristics of the incident light.
  • the constituent material is not limited and may be an air layer.
  • the second region 22 is composed of an isotropic phase made of the same liquid crystal material as the constituent material.
  • Whether the first region in the depolarization layer has a 90 ° optical rotation function and the second region is isotropic can be determined by using, for example, an AxoStep high-precision Mueller matrix imaging polarimeter manufactured by Axometrics. It can be confirmed by a known method such as measurement.
  • the arrangement pattern of the first region 21 and the second region 22 in the depolarization layer of the depolarization film of the present invention is not limited as long as both areas are substantially equal.
  • 2 to 5 are schematic plan views showing examples of arrangement patterns of the first region 21 and the second region 22 in the depolarization layer.
  • the first region 21 and the second region 22 have the same rectangular shape, and are arranged in an arrangement pattern that is alternately arranged vertically and horizontally (in the directions of arrows x and y in the figure). Can do.
  • an arrangement pattern in which the first areas 21 are arranged two-dimensionally in the second areas 22 may be used.
  • the first region 22 is formed from one continuous region.
  • the area S1 of the first region 22 and the total area S2 of the plurality of second regions 22 are substantially equal.
  • first area 21 and the second area 22 are not limited to patterns having the same shape and periodically arranged as shown in FIGS. 1 to 3, but differ in size as shown in FIG.
  • the first region 21 may be provided randomly in the second region 22.
  • both or one of the first area 21 and the second area 22 is composed of a plurality of areas. As shown in FIG. It may consist only of.
  • the light incident on the first region 21 of the depolarizing layer 20 is rotated 90 ° and emitted, and the light incident on the second region 22 maintains the polarization characteristics at the time of incidence. Emitted.
  • the areas of the first region 21 and the second region 22 in the depolarization film 1 are equal, approximately half of the light incident on the depolarization film 1 passes through the first region 21. Then, the light is rotated by 90 ° and emitted, and the remaining half passes through the second region 22 and is emitted with the polarization characteristics at the time of incidence. Both are equivalent, and the light added with both regions is mixed (synthesized), so that the outgoing light becomes depolarized light.
  • the linearly polarized light incident on the depolarization film 1 from one surface 1a is emitted from the other surface 1b as depolarized light.
  • the depolarization film 1 can acquire the effect of depolarizing similarly, even if it makes linearly polarized light enter from the other surface 1b, and radiate
  • FIG. 6 is a schematic diagram for explaining the principle of depolarization with respect to linearly polarized light.
  • the incident light is linearly polarized light
  • the inclination of the polarization axis with respect to the + x axis in the plane of the depolarization film 1 (xy plane) is 0 ° (P 0 ), 90 ° (P 90 ), 45 °.
  • the polarization state after emission from 20 is shown. 6 shows the polarization state of the incident light before and after passing when the light passes in the z direction of the depolarization film 1 (FIG. 1).
  • the depolarization layer 20 has an xz cross section and a polarization state. Indicates polarization in the xy plane. The same applies to FIGS. 8 and 10 described later.
  • the incident light is linearly polarized and has a polarization axis P 0 along the x axis (the inclination is 0 ° with respect to the + x axis)
  • the light passing through the first region 21 of the incident light is The polarization axis is rotated by 90 ° and emitted as linearly polarized light having a polarization axis P 90 inclined by 90 ° with respect to the + x axis.
  • the light passing through the second region 22 is emitted with an inclination of 0 ° without changing the polarization axis.
  • the light emitted from the first region 21 and the light emitted from the second region have polarization axes P 90 and P 0 orthogonal to each other. Since the areas of the first and second regions in the depolarization layer 20 are substantially equal, the light that has passed through the first and second regions is mixed (synthesized) to obtain outgoing light from which linearly polarized light has been eliminated. be able to.
  • the incident light is linearly polarized light and has a polarization axis P 90 inclined by 90 ° with respect to the + x axis
  • the light that has passed through the first region 21 of the incident light is rotated by 90 ° and + x
  • the light that has passed through the second region 22 is emitted with an inclination of 90 ° without changing the polarization axis.
  • the light emitted from the first region 21 and the light emitted from the second region have polarization axes P 180 and P 90 that are orthogonal to each other.
  • the lights that have passed through the first and second regions are combined, and as a result, outgoing light from which linearly polarized light has been eliminated can be obtained.
  • the incident light is linearly polarized light and has a polarization axis P 45 inclined by 45 ° with respect to the + x axis
  • the light passing through the first region 21 of the incident light is rotated by 90 °. Is output as linearly polarized light having a polarization axis P 135 inclined by 135 ° with respect to the + x axis.
  • the light that has passed through the second region 22 is emitted with an inclination of 45 ° without changing the polarization axis. Therefore, the light emitted from the first region 21 and the light emitted from the second region have polarization axes P 135 and P 45 orthogonal to each other.
  • the lights that have passed through the first and second regions are combined, and as a result, outgoing light from which linearly polarized light has been eliminated can be obtained.
  • the incident light is linearly polarized light and has a polarization axis P 135 tilted 135 ° with respect to the + x axis
  • the light that has passed through the second region 22 is emitted with an inclination of 135 ° without changing the polarization axis.
  • the light emitted from the first region 21 and the light emitted from the second region have polarization axes P 225 and P 135 that are orthogonal to each other.
  • the lights that have passed through the first and second regions are combined, and as a result, outgoing light from which linearly polarized light has been eliminated can be obtained.
  • the inclination ⁇ of the polarization axis with respect to the x-axis is not limited, and the inclination of the polarization axis after passing through the first region 21 is ⁇ + ⁇ / 2 and passes through the second region 22.
  • the inclination ⁇ of the polarization axis of the light is maintained as it is. Therefore, the polarization axes of the light that has passed through the first region 21 and the light that has passed through the second region 22 must be orthogonal to each other, so that the depolarized light is output regardless of the inclination ⁇ of the polarization axis of the incident light. You can get light.
  • the depolarizing film of this configuration can obtain the same depolarizing effect for any incident wavelength regardless of the wavelength of the incident light.
  • the incident light is circularly polarized and is counterclockwise circularly polarized light P L
  • the light that has passed through the first region 21 and the second region 22 is emitted as left circularly polarized light P L. Therefore, the emitted light is the one in which the polarization state of the counterclockwise circularly polarized light P L is maintained.
  • the incident light is clockwise circularly polarized light
  • the emitted light remains in the clockwise circularly polarized light.
  • FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the depolarizing film 2 of the second embodiment.
  • the depolarizing film 2 of the second embodiment is formed by laminating a depolarizing layer 20 and a ⁇ / 4 plate 30.
  • the configuration of the depolarization layer 20 is the same as that of the depolarization layer 20 in the depolarization film of the first embodiment.
  • the ⁇ / 4 plate 30 is preferably a broadband ⁇ / 4 plate capable of giving a constant phase difference ( ⁇ / 4) to any wavelength from the viewpoint of suppressing chromatic dispersion.
  • the depolarizing film 2 exhibits a depolarizing effect on the circularly polarized light incident from the surface 2a on the ⁇ / 4 plate 30 side.
  • the light incident from the ⁇ / 4 plate 30 side of the depolarization film 2 is emitted from the other surface 2b through the ⁇ / 4 plate 30 and the depolarization layer 20 in order.
  • the principle of depolarization will be described with reference to FIG.
  • FIG. 8 is a schematic diagram for explaining the principle of depolarization with respect to circularly polarized light by the depolarization film.
  • FIG. 8 shows a case where the incident light is circularly polarized light and is counterclockwise circularly polarized light (P L ) and clockwise circularly polarized light (P R ).
  • Incident light is a circularly polarized light, when a left-handed circularly polarized light P L, the light passed through the lambda / 4 plate 30 is converted into linearly polarized light.
  • the polarization axis of this linearly polarized light is the + x axis direction.
  • the light that passes through the first region 21 in the depolarization layer 20 is the light that passes through the second region 22 with the polarization axis rotated 90 °.
  • the polarized light is emitted as it is without being rotated.
  • the polarization axes of the light emitted from the first region 21 of the depolarization layer 20 and the light emitted from the second region 22 are orthogonal to each other.
  • the circularly polarized light incident from the surface 2a on the ⁇ / 4 plate 30 side of the depolarizing film 2 is emitted as depolarized light from the surface 2b on the depolarizing layer 20 side.
  • the incident light is a circular polarized light
  • a right-handed circularly polarized light P R the light passed through the lambda / 4 plate 30 is converted into linearly polarized light.
  • the lambda / 4 plate 30 having a function of converting the linearly polarized light having a polarization axis in the x-axis direction to the left-handed circularly polarized light P L, right-handed circularly polarized light P R is inclined 90 ° with respect to the x-axis It is converted into linearly polarized light having a polarization axis in the y-axis direction.
  • the light that passes through the first region 21 in the depolarization layer 20 has its polarization axis rotated 90 °, and the light that passes through the second region 22 remains unchanged. Emitted.
  • the polarization axes of the light emitted from the first region 21 and the light emitted from the second region 22 are orthogonal to each other.
  • Circularly polarized light incident from the surface 2a on the ⁇ / 4 plate 30 side of the depolarization film 2 is emitted as depolarized light from the surface 2b on the depolarization layer 20 side.
  • the incident light is linearly polarized light having the polarization axis P 0 in the x-axis direction
  • the light passing through the ⁇ / 4 plate 30 is converted into circularly polarized light in a predetermined direction (here, counterclockwise).
  • the circularly polarized light maintains its polarization state even after passing through the depolarization layer 20. Therefore, when linearly polarized light is incident on the depolarizing film 2, the linearly polarized light itself is canceled, but circularly polarized light in a predetermined direction remains in the emitted light.
  • a support is provided between the ⁇ / 4 plate 30 and the depolarizing layer 20 or on the surface of the depolarizing layer 20 opposite to the ⁇ / 4 plate 30. It may be.
  • the depolarizing film 1 of the first embodiment has an effect of depolarizing linearly polarized light
  • the depolarizing film 2 of the second embodiment has an effect of depolarizing circularly polarized light. It is. Therefore, by combining both, it is possible to configure a depolarizing member that can obtain the effect of depolarizing both linearly polarized light and circularly polarized light.
  • FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the depolarizing member of the present invention.
  • the depolarizing member 5 of the present embodiment has a configuration in which two layers of depolarizing layers 120 and 220 are opposed to each other with the ⁇ / 4 plate 30 interposed therebetween. Both the first and second depolarization layers 120 and 220 have the same configuration as that of the depolarization layer 20 in the first embodiment.
  • the first depolarization layer 120 and the second depolarization layer 120 are arranged such that the first regions 121 and 221 and the second regions 122 and 222 coincide with each other. The area may be shifted.
  • the arrangement pattern of the first region 121 and the second region 122 in the first depolarization layer 120 and the arrangement pattern of the first region 221 and the second region 222 in the second depolarization layer 220 are as follows. It may be different.
  • the first depolarizing layer 120 has the checkered pattern shown in FIG. 2, and the second depolarizing layer 220 is randomly arranged with first regions of various sizes shown in FIG. It may have a patterned pattern.
  • the ⁇ / 4 plate 30 is preferably a broadband ⁇ / 4 plate as in the case of the depolarizing film 2 of the second embodiment.
  • the depolarizing member 5 of the present embodiment can obtain a depolarizing effect regardless of whether the incident light is linearly polarized light or circularly polarized light.
  • the light incident from one surface 5 a of the depolarizing member 5 is emitted from the other surface 5 b through the first depolarizing layer 120, the ⁇ / 4 plate 30 and the second depolarizing layer 220.
  • the same effect can be acquired even if incident light is entered from any surface 5a, 5b.
  • FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the principle of depolarization for linearly polarized light and circularly polarized light by the depolarizing member 5.
  • the incident light is linearly polarized light
  • the inclination of the polarization axis with respect to the + x axis in the plane of the depolarization member 5 (xy plane) is 0 ° (polarization axis P 0 ), 90 ° (polarization axis P 90).
  • the left-handed circular incident light is a circularly polarized light polarization P L, for the case where the right-handed circularly polarized light P R, the first Depolarization layer 12 Before entering 0 (before entering the depolarization member 5), after passing through the first depolarization layer 120, after passing through the ⁇ / 4 plate 30, and further after passing through the second depolarization layer 220 (polarization)
  • the polarization state after emission to the canceling member 5 is shown.
  • the incident light When the incident light is linearly polarized light and has a polarization axis P 0 along the x axis (the inclination is 0 ° with respect to the + x axis), it passes through the first region 121 of the first depolarization layer 120.
  • the emitted light is emitted as linearly polarized light having a polarization axis P 90 whose polarization axis is rotated by 90 ° and inclined by 90 ° with respect to the + x axis.
  • the light passing through the second region 122 of the first depolarization layer 120 is emitted with the inclination of 0 ° without changing the polarization axis.
  • the light that has passed through the first region 121 and the light that has passed through the second region 122 of the first depolarization layer 120 is then converted into circularly polarized light in opposite directions by passing through the ⁇ / 4 plate 30. Is done. Circularly polarized light is emitted from the first region 221 and the second region 222 as circularly polarized light in opposite directions since the polarization state does not change in the second depolarization layer 220. Since the areas of the first region and the second region are substantially equal, the circularly polarized light in the opposite directions are canceled by mixing (combining), so that the circularly polarized light is canceled and finally the polarized light is canceled. Output light can be obtained.
  • the first depolarization layer 120, the ⁇ / 4 plate 30, and the second depolarization layer 220 are formed according to the same principle regardless of the inclination of the polarization axis with respect to the x axis. After that, depolarized light can be obtained.
  • the incident light is circularly polarized light and is counterclockwise circularly polarized light P L
  • the light that has passed through the first region 121 and the second region 122 in the first depolarization layer 120 is both counterclockwise circularly polarized light.
  • the light is emitted as P L.
  • the light passes through the ⁇ / 4 plate 30 and is converted into linearly polarized light.
  • the light passing through the first region 221 has its polarization axis rotated 90 °, and the light passing through the second region 222 is emitted as it is.
  • the polarization axes of the light emitted from the first region 221 and the light emitted from the second region 222 are orthogonal to each other, and as a result, depolarized outgoing light can be obtained.
  • the incident light is circularly polarized light P R clockwise also by the same principle, the first depolarization layer 120, is depolarized through the lambda / 4 plate 30 and the second depolarization layer 220 Light can be obtained.
  • the depolarizing member 5 has a structure in which the first depolarizing layer 120, the ⁇ / 4 plate 30, and the second depolarizing layer 220 are laminated.
  • a support may be provided, and there may be voids between the layers.
  • first region 21 and the second region 22 of the depolarizing layer 20 are made of the same liquid crystal material, the material and the manufacturing method will be described.
  • liquid crystal material As the liquid crystal material for forming the depolarizing layer 20, a composition containing a polymerizable liquid crystal compound having a cationic polymerizable group and a radical polymerizable group, a chiral agent and a cationic polymerization initiator is preferable. Further, the wavelength characteristics of the polymerizable liquid crystal compound may be forward dispersive or reverse dispersible. Furthermore, you may contain other components, such as an orientation control agent and an alignment aid. In particular, a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound described in JP-A-2008-127336 can be suitably used.
  • a polymerizable liquid crystal compound represented by the following formula (1) is preferable.
  • Q represents a polymerizable group.
  • the polymerizable group Q is a radical polymerizable group. Since Ox, which will be described in detail later, is a cationically polymerizable group, the polymerization reaction can proceed under different conditions by using a radically polymerizable group.
  • the radical polymerizable group a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloyl group is preferable, and a (meth) acryloyloxy group is more preferable.
  • one of Sp 1 and Sp 2 is at least a branched alkylene or a divalent linking group selected from the group consisting of —O—, —C ⁇ C— and —S—.
  • Alkylene contained in one chain, and the other represents linear alkylene.
  • branched alkylenes or alkylenes containing at least one divalent linking group selected from the group consisting of —O—, —C ⁇ C— and —S— in the chain preferably —O— or —C Alkylene containing ⁇ C— in the chain, more preferably — (CH 2 ) n1 —X— (CH 2 ) n2 —.
  • n1 and n2 are each independently an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2.
  • —X— is —O— or —C ⁇ C—, and preferably —O—. When —X— is —O—, both n1 and n2 are preferably 2.
  • n1 and n2 are preferably 1.
  • the carbon number of the branched alkylene (including the carbon number of the branched chain) is preferably 4 to 12, more preferably 4 to 8, and further preferably 4 to 6.
  • a methyl group or an ethyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • the other linear alkylene preferably has 2 to 12 carbon atoms, more preferably 4 to 8 carbon atoms, and still more preferably 4 to 6 carbon atoms.
  • Sp 1 and Sp are branched alkylene or alkylene containing at least one divalent linking group selected from the group consisting of —O—, —C ⁇ C— and —S— in the chain, and linear alkylene. selection of whether either of the two is not limited in particular, the intended use, the method can be appropriately selected.
  • —Ox is polymerized first, so that Sp 2 is a linear alkylene, Sp 1 is a branched alkylene, or —O—, —C ⁇ C— and It is preferably an alkylene containing at least one divalent linking group selected from the group consisting of —S— in the chain.
  • the flow rate of the second polymerization is lower than that of the first polymerization, and therefore the polymerization rate tends to be lower.
  • the spacer on the polymerizable group side to be polymerized for the first time is branched alkylene, or at least one divalent linking group selected from the group consisting of —O—, —C ⁇ C— and —S—.
  • the alkylene is contained therein, the mesogenic site is likely to fluctuate thermally, resulting in poor heat resistance. Therefore, by making the spacer on the polymerizable group side polymerized for the first time linear alkylene, thermal fluctuation of the mesogen site is suppressed, and as a result, heat resistance is improved.
  • L 1 and L 2 each independently represent a divalent linking group.
  • L 1 and L 2 are not particularly limited as long as they are groups linking Sp 1 and M 1 , Sp 2 and M 1 , but preferably a single bond, —O—, —S—. , —OCO—, —COO—, —CO—, —CH 2 —, —CONH—, or —NHCO—. More preferred is a single bond, —O—, —S—, —OCO—, or —COO—, still more preferred is a single bond, —O—, —CH 2 —, and most preferred is —O—. It is.
  • L 1 and L 2 are preferably the same divalent linking group, and more preferably —O—.
  • the —O— is treated as L 1 or L 2 and does not constitute Sp 1 or Sp 2 .
  • M 1 is at least one divalent group selected from the group consisting of the following formulas (2-1) to (2-12), preferably 3 or more groups, more preferably 3 Represents a mesogenic group having the following group.
  • the divalent group represented by the formula (2-1) is an unsubstituted 1,4-cyclohexylene group
  • the divalent group represented by the formula (2-2) is an unsubstituted 1,4- It represents a 4-phenylene group.
  • Ox represents a group represented by the following formula (3).
  • R ⁇ 2 > is a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, Preferably it is a methyl group or an ethyl group, More preferably, it is a methyl group.
  • X 1 is —O—, —S—, —OCO— or —COO—, preferably —O— or —OCO— (Ox side is O and Sp side is CO), more preferably —O—. .
  • X 2 is a single bond or alkylene having 1 to 4 carbon atoms, preferably alkylene having 1 to 2 carbon atoms, more preferably alkylene having 1 carbon atoms (methylene).
  • * is the binding site of the Sp 2.
  • the concentration of the polymerizable liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition is preferably 30% by mass to 99.9% by mass, more preferably 50% by mass to 99.9% by mass, and still more preferably with respect to the total mass of the composition. May be 70 mass% to 99.9 mass%.
  • the chiral agent has a function of inducing a twisted liquid crystal phase.
  • the chiral agent is not particularly limited, and known compounds (for example, liquid crystal device handbook, Chapter 3-4-3, TN, chiral agent for STN, 199 pages, Japan Society for the Promotion of Science, 142nd edition, 1989) Description), isosorbide, and isomannide derivatives can be used.
  • a chiral agent generally contains an asymmetric carbon atom, but an axially asymmetric compound or a planar asymmetric compound containing no asymmetric carbon atom can also be used as the chiral agent.
  • Examples of the axial asymmetric compound or the planar asymmetric compound include binaphthyl, helicene, paracyclophane, and derivatives thereof.
  • the chiral agent may have a polymerizable group.
  • both the chiral agent and the liquid crystal compound have a polymerizable group, they are derived from the repeating unit derived from the polymerizable liquid crystal compound and the chiral agent by a polymerization reaction between the polymerizable chiral agent and the polymerizable liquid crystal compound.
  • a polymer having repeating units can be formed.
  • the polymerizable group possessed by the polymerizable chiral agent is preferably the same group as the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound.
  • the polymerizable group of the chiral agent is also preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and an ethylenically unsaturated polymerizable group.
  • the chiral agent may be a liquid crystal compound.
  • the chiral agent may have a photoisomerization group.
  • a photoisomerization group the isomerization part of the compound which shows photochromic property, an azo, an azoxy, and a cinnamoyl group are preferable.
  • Specific examples of the compound include JP2002-80478, JP200280851, JP2002-179668, JP2002-179669, JP2002-179670, and JP2002.
  • the content of the chiral agent in the polymerizable liquid crystal composition is preferably from 0.01 mol% to 200 mol%, more preferably from 1 mol% to 30 mol%, based on the amount of the polymerizable liquid crystal compound.
  • photocation generator Any photocation generator may be used as long as it has an action of generating an acid by light irradiation and initiating cationic polymerization of an oxetanyl group, but an onium salt is preferred.
  • the counter anion may be either an organic anion or an inorganic anion.
  • the onium salt include an iodonium salt, a diazonium salt, a sulfonium salt, and the like.
  • a sulfonium salt and an iodonium salt are preferable, and a sulfonium salt is more preferable in consideration of thermal stability.
  • the photocation generator those described in paragraph [0053] of JP-A-2008-127336 can be appropriately used.
  • the addition amount of the photo cation generator varies depending on the structure of the mesogenic group and spacer in the polymerizable liquid crystal compound, the oxetanyl group equivalent, the alignment condition of the liquid crystal, etc.
  • the range is from ppm to 20 mass%, preferably from 1000 mass ppm to 10 mass%, more preferably from 0.2 mass% to 7 mass%, and most preferably from 0.5 mass% to 5 mass%.
  • composition used for forming the twisted liquid crystal phase may contain other components such as an alignment control agent and an alignment aid, in addition to the liquid crystal compound, chiral agent, and cationic initiator. Any known material can be used.
  • organic solvent As a solvent for the composition for realizing the twisted liquid crystal phase and the isotropic phase, an organic solvent is preferably used.
  • organic solvents include amides (eg N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg dimethyl sulfoxide), heterocyclic compounds (eg pyridine), hydrocarbons (eg benzene, hexane), alkyl halides (eg , Chloroform, dichloromethane), esters (eg, methyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone), ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane). Alkyl halides and ketones are preferred. Two or more organic solvents may be used in combination.
  • a polymerizable liquid crystal composition is uniformly applied to the surface of the support 10 (or an alignment film provided on the support) to form a coating film 20A (S1).
  • the polymerizable liquid crystal composition is performed by appropriately applying a liquid crystal composition such as a roll coating method, a gravure printing method, or a spin coating method in which the polymerizable liquid crystal composition is made into a solution state with a solvent or a liquid material such as a melt by heating. It can be performed by a method that develops by various methods. Furthermore, it can be performed by various methods such as a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, and a die coating method. In addition, a coating film can be formed by discharging a liquid crystal composition from a nozzle using an inkjet apparatus.
  • a liquid crystal composition such as a roll coating method, a gravure printing method, or a spin coating method in which the polymerizable liquid crystal composition is made into a solution state with a solvent or a liquid material such as a melt by heating. It can be performed by a method that develops by various methods. Furthermore, it can be performed by various methods such
  • the coating film 20A is held (ripened) for a certain period of time at the liquid crystal twist phase formation temperature, and the liquid crystal is aligned in the twist phase (S2).
  • the aging temperature and aging time may be determined according to the liquid crystal compound.
  • UV curing After the aging step, ultraviolet curing is performed to fix the alignment state of the molecules of the liquid crystal compound.
  • a polymerization reaction by a photocationic polymerization group photocationic polymerization reaction
  • a polymerization reaction by a photoradical polymerization group photoradical polymerization reaction
  • the coating film after the first polymerization process in the two-stage polymerization in the ultraviolet curing process is referred to as a liquid crystal semi-fixed film. The procedure of the curing process will be described.
  • “Semi-fixed” refers to a state in which the liquid crystal composition has lost fluidity in the present invention, and refers to a state before the heat treatment step. For example, it means that only one side functional group of a bifunctional liquid crystal is cross-linked and is in a polymer liquid crystal state.
  • a polymerizable liquid crystal compound having a cationic polymerization group and a radical photopolymerization group one of the cationic polymerization group and the radical photopolymerization group is selectively crosslinked.
  • a state in which the cationic polymerization group is selectively cross-linked is indicated, but a part of the photo-radical polymerization group may be cross-linked.
  • Initiator application step An initiator supply liquid containing a photoradical polymerization initiator is applied to the surface of the liquid crystal semi-fixed film 20C and dried.
  • the depolarization layer 20 in which the first region 21 made of the twisted liquid crystal phase and the second region 22 made of the isotropic phase are formed in a pattern can be obtained (S6).
  • the depolarizing film may be provided with a support, and the support is preferably a transparent support, a polyacrylic resin film such as polymethyl methacrylate, a cellulose resin film such as cellulose triacetate, and a cycloolefin polymer. And the like (for example, trade name “ARTON”, manufactured by JSR Corporation, trade name “ZEONOR”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and the like.
  • the support is not limited to a flexible film but may be a non-flexible substrate such as a glass substrate.
  • the depolarizing film of the present invention may be used while being supported by a support when forming a film.
  • the support used when forming a film is a temporary support, and another support. And may be used after the temporary support is peeled off.
  • An alignment film may be provided on the support for forming the liquid crystal layer.
  • the alignment film can be provided by means such as a rubbing treatment of an organic compound (preferably a polymer), oblique deposition of an inorganic compound, or formation of a layer having a microgroove.
  • an alignment film in which an alignment function is generated by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation is also known.
  • the alignment film is preferably formed by rubbing the surface of the polymer film. When the depolarizing film is peeled off from the support used at the time of film formation, the alignment film is preferably peeled off together with the support.
  • the support can be functioned as an alignment film by direct alignment treatment (for example, rubbing treatment) without providing an alignment film.
  • direct alignment treatment for example, rubbing treatment
  • An example of such a support is PET (polyethylene terephthalate).
  • ⁇ / 4 plate As described above, a broadband ⁇ / 4 plate is preferable, and a commercially available ⁇ / 4 plate can be used as appropriate.
  • Adhesive layer (adhesive layer)
  • adheresion is used in a concept including “adhesion”.
  • the depolarization layer 20 and the ⁇ / 4 plate 30 may be laminated via an adhesive layer.
  • the pressure-sensitive adhesive used for the adhesive layer include resins such as polyester resins, epoxy resins, polyurethane resins, silicone resins, and acrylic resins. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.
  • an acrylic resin is preferable because it is excellent in reliability such as water resistance, heat resistance, and light resistance, has good adhesion and transparency, and can easily adjust the refractive index to be compatible with a liquid crystal display.
  • the epoxy group-containing polyorganosiloxane had a weight average molecular weight Mw of 2,200 and an epoxy equivalent of 186 g / mol.
  • the rod-like liquid crystal (LC-1-1) was synthesized based on the method described in JP-A No. 2004-12382.
  • the rod-like liquid crystal (LC-1-1) is a liquid crystal compound having two reactive groups, one of the two reactive groups is an acrylic group which is a radical reactive group, and the other is a cationic reactive group. It is a certain oxetane group.
  • the horizontal alignment agent (LC-1-2) was prepared by Tetrahedron Lett.
  • initiator supply liquid AD-1 (Preparation of initiator supply liquid AD-1) After preparing the following composition, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 ⁇ m and used as the initiator supply liquid AD-1. ------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------ Photoradical polymerization initiator (2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) 1,3,4-oxadiazole) 0.12 Hydroquinone monomethyl ether 0.002 Megafuck F-176PF (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 0.05 Propylene glycol monomethyl ether acetate 34.80 Methyl ethyl ketone 50.538 Methanol 1.61 ------------------------------------------------------------------------------------------
  • Example 1 The production of the depolarizing film of Example 1 was performed according to the following procedure.
  • the alignment film composition B prepared above was uniformly coated on a glass substrate using a slit coater and then dried in an oven at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a glass substrate with an alignment film having a thickness of 0.5 ⁇ m. .
  • the alignment film was rubbed in a direction parallel to the coating direction.
  • the polymerizable liquid crystal composition LC-2 was applied on the rubbing-treated surface of the alignment film to form a coating film (coating process).
  • the coating film was heated and aged at a film surface temperature of 80 ° C. for 60 seconds to align it in the twisted liquid crystal phase (aging process).
  • the initiator supply liquid AD-1 prepared above was applied and dried at 80 ° C. for 60 seconds (UV curing process: initiator application process).
  • the predetermined mask has openings and non-openings alternately in a cycle of 10 ⁇ m, that is, openings having a width of 5 ⁇ m and non-openings having a width of 5 ⁇ m are alternately formed in a stripe shape.
  • the entire substrate including the liquid crystal semi-fixed film subjected to the mask exposure was baked in an oven at 200 ° C. for 30 minutes (heat treatment step) to obtain a depolarization layer having a first region and a second region.
  • the first region irradiated with UV corresponding to the opening region of the mask is a region having a function of rotating 90 ° with the liquid crystal layer being twisted by 90 °, whereas the second region not irradiated with UV corresponding to the non-opening region of the mask. Confirmed that the birefringence of the liquid crystal layer was lost and that the region was optically isotropic.
  • the cross section of the completed depolarizing layer was cut, and the film thickness was measured from the SEM image. Measurement was performed at a plurality of three or more points, and the average value was taken as the thickness of the depolarization layer.
  • the thickness of the obtained depolarizing layer was 3 ⁇ m.
  • Example 2 The depolarizing film of Example 1 was bonded to a separately prepared ⁇ / 4 plate to obtain a depolarizing film of Example 2.
  • ⁇ / 4 plate Luceo broadband wavelength plate B-RETAX-1 / 4 ⁇ -30 was used.
  • the depolarizing film of Example 1 and the ⁇ / 4 plate were bonded together using an adhesive (SK-2057, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.).
  • the degree of depolarization was measured using an elliptical polarization measuring device KOBRA-WPR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., using the company's elliptical polarization measurement PR software and transmittance measurement TR software. About the depolarization film of each example, the sample for a measurement of 20 square mm was produced and it used for the measurement. The sample of Example 1 and Comparative Example 1 was irradiated with incident light as a linearly polarized light on a circular area of 5 mm ⁇ (diameter), and the degree of depolarization was measured.
  • the polarization axis of the incident light is shifted by 45 °, the initial measurement is 0 ° (P 0 ), and the angles of the polarization axis of the incident light are 45 ° (P 45 ), 90 ° (P 90 ), 135 ° (P 135) and is changed to measure the degree of depolarization in the same manner for each.
  • the degree of depolarization was measured using incident light as circularly polarized light. At this time, measurements were performed for counterclockwise circularly polarized light and clockwise circularly polarized light, respectively.
  • the wavelength of incident light was 550 nm.
  • the same measurement was performed for wavelengths other than 550 nm (450 nm and 630 nm), and the results were substantially the same as those of 550 nm.
  • the result at 550 nm is representatively shown.
  • Table 1 summarizes the configuration and evaluation results of each example.
  • Example 1 when the incident light was linearly polarized light, the depolarization film of Example 1 was able to realize good depolarization regardless of the angle of the polarization axis. In addition, the depolarization film of Example 2 was able to achieve good depolarization when the incident light was circularly polarized. Since Comparative Example 1 uses a ⁇ / 2 plate, good depolarization was achieved for linearly polarized light having a polarization axis inclined by 45 ° or 135 ° with respect to the slow axis of the ⁇ / 2 plate. However, the effect of depolarization could hardly be obtained with the other polarization axes. From the results of Examples 1 and 2, it is possible to achieve good depolarization for both linearly polarized light and circularly polarized light by constructing a depolarizing member by overlapping the depolarizing films of Examples 1 and 2. It is guessed that.

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Abstract

光学特性が互いに異なる第1の領域および第2の領域からなる偏光解消層を含む偏光解消フィルムの偏光解消層において、第1の領域の面積と第2の領域の面積の比が0.45:0.55~0.55:0.45であり、第1の領域は、偏光解消層の一方の面から入射した光を他方の面から出射するまでに90°旋光させる光学異方性領域とし、第2の領域は光学的に等方性を有する光学等方性領域とする。

Description

偏光解消フィルム、偏光解消部材および偏光解消フィルムの製造方法
 本発明は、入射光の偏光性を解消する偏光解消フィルム、偏光解消部材および偏光解消フィルムの製造方法に関する。
 ディスプレイ表面偏光板の偏光を等方的にする色づき抑止、センサの偏光依存性解消、または、レーザ光を用いてスクリーン上に画像を投射する画像投射装置におけるスペックルノイズの低減等のために、偏光解消素子が用いられている。従来の偏光解消素子においては、その偏光解消方法として複数の複屈折材料を遅相軸が複数方向に配向するように面内配置させる方法が一般的に用いられている。
 例えば、特開2006-47421号公報においては、スペックルノイズ低減を目的とし、光入射面において、1/2波長板(λ/2板)が設けられた領域と位相差を与えない単なる透過部材を設けた領域とを交互に配置したストライプ状または市松模様状の平面パターンを有する偏光解消素子が開示されている。
 しかしながら、上記の第1の領域と第2の領域を備えた構成の場合、λ/2板の光学軸(遅相軸)と入射する直線偏光の偏光軸との傾きが45°(あるいは-45°)である場合には、偏光解消の効果を得ることができるが、入射光の偏光軸が45°(あるいは-45°)でない場合には、偏光解消の効果が生じないという問題がある。
 また、特開2006-47421号公報の偏光解消素子によれば、λ/2板の特性上、特定の波長に対してしか高い偏光解消性を得ることができないという問題もある。
 この問題を解決し、広い波長域の光に対して、あるいは入射する直線偏光の偏光軸の方向に拘わらず偏光解消を実現可能とする構成として、特開2013-130810号公報では、第1の複屈折性材質層と第2の複屈折性媒質層を積層し、かつ、両複屈折性媒質層が、それぞれ進相軸方向が異なる2つ以上の領域を含む構成の偏光解消素子が提案されている。
 しかしながら、特開2013-130810号公報の偏光解消素子のように、1つの層中において進相軸方向が異なる領域を形成するには複雑な配向制御が必要であるために、生産性が低いとういう問題がある。また、進行軸方向が異なる領域の境界領域では配向方向が不安定になるために、高精細化が難しいという問題がある。
 本発明は、上記事情に鑑みて、入射光の波長や偏光軸の向きに依存することなく良好な偏光解消が可能であり、簡単な構成で生産性の高い偏光解消フィルムおよび偏光解消部材を提供することを目的とする。また、本発明は入射光の波長に依存することなく偏光解消が可能な偏光解消フィルムを容易に作製することができる製造方法を提供することを目的とする。
 本発明の偏光解消フィルムは、光学特性が互いに異なる第1の領域および第2の領域からなる偏光解消層を含む偏光解消フィルムであり、
 偏光解消層において、第1の領域の面積と第2の領域の面積の比が0.45:0.55~0.55:0.45であり、
 第1の領域は、偏光解消層の一方の面から入射した光を他方の面から出射するまでに90°旋光させる光学異方性領域であり、
 第2の領域は光学的に等方性を有する光学等方性領域であることを特徴とする。
 本発明の偏光解消フィルムは、第1の領域が、偏光解消層の一方の面から他方の面までの間で90°捻じれて配向した液晶相が固定化されてなることが好ましい。
 本発明の偏光解消フィルムは、第1の領域が液晶相から構成されてなる場合において、第2の領域が、第1の領域を構成する液晶材料と同じ液晶材料による等方相からなることが好ましい。
 本発明の偏光解消フィルムは、偏光解消層の一方の面もしくは他方の面にλ/4板が積層されてなることが好ましい。
 本発明の偏光解消部材は、偏光解消層を備えた偏光解消フィルムと、偏光解消層にλ/4板をさらに備えた偏光解消フィルムとがλ/4板を介して2つの偏光解消層が対向して配置されてなることを特徴とする。
 本発明の偏光解消フィルムの製造方法は、カチオン重合基および光ラジカル重合基を備えた重合性液晶化合物、キラル剤およびカチオン重合開始剤を含む重合性液晶組成物を、支持体上に一様に塗布して塗布膜を形成する塗布工程と、
 塗布膜中においてツイスト液晶相に配向させる熟成工程と、
 熟成工程後の塗布膜の全面に紫外線を照射して、光カチオン重合反応を生じさせ、塗布膜を一部硬化させて液晶半固定膜とする全面露光工程、光ラジカル重合開始剤を含む開始剤供給液を液晶半固定膜の表面に塗布する開始剤塗布工程、および、面積の比が0.45:0.55~0.55:0.45である非開口部と開口部を有するマスクを液晶半固定膜上に位置させた状態でマスクを介して液晶半固定膜に紫外線を照射するマスク露光工程を含む紫外線硬化工程と、
 紫外線硬化工程後に得られた液晶半固定膜を等方相への相転移温度以上の温度で熱処理する熱処理工程とを有し、
 マスクの開口部に対応する第1の領域と、非開口部に対応する第2の領域とを備えた偏光解消層を形成することを特徴とする。
 本発明の偏光解消フィルムの製造方法は、重合性液晶組成物が、下記式(1)で表される重合性液晶化合物を含有することが好ましい。
   Q-Sp1-L1-M1-L2-Sp2-Ox   (1)
式(1)中、Qは重合性基を表し;Sp1およびSp2のうちいずれか一方は、分岐アルキレン、または-O-、-C≡C-および-S-からなる群から選択される2価の連結基を少なくとも一つ鎖中に含むアルキレン、もう一方が直鎖アルキレンを表し;L1およびL2は、それぞれ独立に2価の連結基を表し;M1は下記式(2-1)~(2-12)からな
る群から選択される2価の基を少なくとも一つ有するメソゲン基を表し;Oxは下記式(3)で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

式(3)中、R2は水素原子、メチル基、またはエチル基を表し、Xは-O-、-S-、-OCO-または-COO-を表し、Xは単結合または炭素数1~4のアルキレンを表す。なお、*はSp2との結合部位である。
 本発明の偏光解消フィルムは、光学特性が互いに異なる第1の領域および第2の領域からなる偏光解消層を含む偏光解消フィルムであり、偏光解消層において、第1の領域の面積と第2の領域の面積の比が0.45:0.55~0.55:0.45であり、第1の領域は、偏光解消層の一方の面から入射した光を他方の面から出射するまでに90°旋光させる光学異方性領域であり、第2の領域は光学的に等方性を有する光学等方性領域であるので、偏光解消フィルムに入射されて第1の領域、第2の領域を通過した光が混合されて偏光解消された出射光を得ることができる。本光学異方性領域では、偏光軸の向きに拘わらず90°回転させることができるので、偏光軸の向きに依存することなく良好な偏光解消が可能である。また、従来の構成のようにλ/2板を用いた場合には、波長分散が生じる可能性があるが、本構成では波長に拘わらず、良好な偏光解消を実現できる。また、1つの層中において進相軸方向が異なる領域を形成するような複雑な構造でないために、生産性も高く、高精細化も可能である。
第1の実施形態の偏光解消フィルムを模式的に示す断面図および平面図である。 偏光解消層の第1および第2の領域の配置パターンの他の例を示す平面図である(その1)。 偏光解消層の第1および第2の領域の配置パターンの他の例を示す平面図である(その2)。 偏光解消層の第1および第2の領域の配置パターンの他の例を示す平面図である(その3)。 偏光解消層の第1および第2の領域の配置パターンの他の例を示す平面図である(その4)。 第1の実施形態の偏光解消フィルムにおける偏光解消の原理を説明するための模式図である。 第2の実施形態の偏光解消フィルムを模式的に示す断面図である。 第2実施形態の偏光解消フィルムにおける偏光解消の原理を説明するための模式図である。 実施形態の偏光解消部材を模式的に示す断面図である。 偏光解消部材における偏光解消の原理を説明するための模式図である。 偏光解消層の形成工程を示すフロー図である。
 以下、本発明の第1の偏光解消フィルムの実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図面においては、視認しやすくするため、構成要素の縮尺は実際のものとは適宜異ならせてある。
<偏光解消フィルム>
 図1は、本発明の第1の実施形態の偏光解消フィルム1の断面および平面を示す模式図である。
 本実施形態の偏光解消フィルム1は、支持体10上に偏光解消層20を備えている。なお、本発明の偏光解消フィルムは偏光解消層のみから構成されていてもよい。
 偏光解消層20は、光学特性が互いに異なる第1の領域21と第2の領域22とを有している。図1の平面図においては、第1の領域21と第2の領域22とを区別するために第1の領域21をグレーで示している(後出の図2~図5)おいても同様である。)。第1の領域21の面積Sと第2の領域22の面積Sの面積比S:Sは0.45:0.55~0.55:0.45である。ここで、第1の領域21の面積S、第2の領域22の面積Sは、それぞれの領域が複数ある場合には、総面積で定義する。本実施形態においては、第1の領域21と第2の領域22とは同一のストライプ形状を有し、その幅方向に、例えば、0.5μm~2.0μmの周期Pで交互に配置されてなる。図1において、第1の領域21の並び方向の幅wと第2の領域22の並び方向の幅wは同一であり、配置周期Pの半分である(w=w=P/2)。
 面積比S:Sが0.45:0.55~0.55:0.45の範囲である、とは、面積Sと面積Sがほぼ同等であることを意味する。面積比S:Sが0.45:0.55~0.55:0.45であれば、図1に示す交互に配置されたパターンに限らず、第1の領域21と第2の領域22とはどのようなパターンで配置されていても構わない。
 第1の領域の面積と第2の領域の面積は、電子顕微鏡を用いた測長により領域の縦横長さを測定し、面積を算出することで求めることができる。
 第1の領域21は、偏光解消層20の一方の面20aから入射した光が他方の面20bから出射するまでに、その光を90°旋光させる機能を有する光学異方性領域である。第1の領域21に入射した光は、その電場ベクトルが90°回転された状態で出力される。したがって、入射光が直線偏光である場合、その偏光軸の向きに拘わらず、出射光は、入射時の偏光軸に対して90°の傾きをなす偏光軸を有するものとなる。一方、入射光が円偏光あるいは非偏光である場合には、電場ベクトルが90°回転しても見かけ上の偏光状態は変化せず、出射光は入射光と同等の偏光状態を有するものとなる。
 本発明において「光を90°旋光させる機能を有する」とは、入射光の偏光状態にかかわらず、入射光の電場ベクトルを90°回転させる効果を奏するものであり、λ/2板のように、その光学軸に対して45°(あるいは-45°)など、特定の角度で傾いた偏光軸を有する偏光に対してのみ偏光軸を90°回転させる効果を奏するものは、本発明における、「光を90°旋光させる機能を有する」ものに相当しない。
 第1の領域21は、入射光を90°旋光させて出射させる機能を有していれば、その構成材料に制限はないが、例えば、液晶材料(重合性液晶組成物)を用いて形成することができる。具体的には、液晶層において、一方の面から他方の面までの間で90°捻じれて配向した液晶相(90°ツイスト液晶相)が固定化されてなる領域から構成することができる。一般には90°捩れる為には、Gooch-Tarry条件が知られており、この条件の液晶材料を用いることが出来る。具体的には、John Wiley & Sons社の書籍:Fundamentals of Liquid Crystal Devices、著者: Shin-Tson Wu、Deng-Ke Yang(以下において参照文献 1)の201頁に詳しく記載がある。また、波長に対して十分に捩れのピッチが大きい、Mauguin条件も知られており、この条件の液晶材料を用いることができる。具体的には、上記参照文献1の64頁に詳しく記載がある。
 第2の領域22は光学的に等方性を有する光学等方性領域である。したがって第2の領域22は通過する光の偏光状態に対して影響を与えず、入射光の特性を変化させることなく出射させる。第2の領域22は光学的に等方性であれば構成材料は限定されず、空気層であってもよい。また、第1の領域21が上述の90°ツイスト液晶相からなるものであるとき、その構成材料と同じ液晶材料による等方相から第2の領域22が構成されていることが好ましい。
 なお、偏光解消層における第1の領域が90°旋光機能を有し、第2の領域が等方性を有するかどうかは、例えば、Axometrics社のAxoStep高精度ミュラー行列イメージングポラリメータ等を用いて測定するなどの公知の方法で確認することができる。
 既述の通り、本発明の偏光解消フィルムの偏光解消層における第1の領域21と第2の領域22は、両者の面積が略同等であれば、配置パターンに制限はない。図2~図5は、偏光解消層における第1の領域21と第2の領域22との配置パターンの例を示す平面模式図である。
 図2に示すように、第1の領域21と第2の領域22とが同一の矩形状を有し、縦横(図中矢印x、y方向)に交互に配置されてなる配置パターンとすることができる。矩形状の各領域21、22は、長方形(w1x≠w1y,w2x≠w2y)であっても、正方形(w1x=w1y,w2x=w2y)であってもよい。
 また、図3に示すように、第2の領域22中に第1の領域21が二次元周期的に配置されている配置パターンであってもよい。このとき、第1の領域22は連続した1つの領域から形成されている。そして、第1の領域22の面積S1と複数の第2の領域22の総面積S2とがほぼ同等である。
 また、第1の領域21と第2の領域22とは図1~図3に示すように同一の形状で周期的に配置されているパターンに限らず図4に示すように、大きさの異なる第1の領域21が第2の領域22中にランダムに設けられていてもよい。
 光の入射領域における第1の領域21と第2の領域22の面積SとSがほぼ同等であれば、各領域の形状、配置に制限はない。図1~図4の配置パターンは第1の領域21および第2の領域22の両方もしくは一方が複数の領域から構成されているものであるが、図5に示すように、いずれも1つの領域のみから構成されていてもよい。
 本偏光解消フィルム1において、偏光解消層20の第1の領域21に入射した光は90°旋光されて出射し、第2の領域22に入射した光は、入射時の偏光特性を維持したまま出射される。既述の通り、偏光解消フィルム1における第1の領域21と第2の領域22の面積が同等であれば、偏光解消フィルム1に入射した光のうちの略半分が第1の領域21を通過して90°旋光されて出射され、残りの略半分が第2の領域22を通過して入射時の偏光特性のまま出射される。両者が同等であり、両領域を追加した光が混合(合成)されることにより出射光は偏光解消された光となる。すなわち、偏光解消フィルム1に、一方の面1aから入射した直線偏光は、偏光解消された光として他方の面1bから出射される。なお、偏光解消フィルム1は、直線偏光を他方の面1bから入射し、一方の面1aから出射させても、同様に偏光解消の効果を得ることができる。第1の領域21における光の旋光方向が逆向きになるだけで、原理は同様だからである。
 本偏光解消フィルム1による偏光解消の原理について図6を参照してより詳細に説明する。図6は直線偏光に対する偏光解消の原理を説明するための模式図である。図6には、入射光が直線偏光であって、偏光解消フィルム1の面(xy面)内における+x軸に対する偏光軸の傾きが0°(P0)、90°(P90)、45°(P45)および135°(P135)である場合、および、入射光が円偏光であって左回り円偏光(P)である場合について、偏光解消層20への入射前および偏光解消層20からの出射後の偏光状態を示す。なお、図6においては、偏光解消フィルム1のz方向に光が通過する際(図1)の、通過前後の入射光の偏光状態を示すものであり、偏光解消層20はxz断面、偏光状態はxy面内における偏光を示している。後出の図8および図10についても同様である。
 入射光が直線偏光であって、x軸に沿った(+x軸に対して傾きが0°である)偏光軸P0を有する場合、入射光のうち第1の領域21を通過する光は、偏光軸が90°旋回されて+x軸に対して90°傾いた偏光軸P90を有する直線偏光として出射される。一方、第2の領域22を通過する光は、偏光軸が変化することなく傾き0°のまま出射される。したがって、第1の領域21から出射された光と第2の領域から出射された光は、互いに直交する偏光軸P90、P0を有するものとなる。偏光解消層20における第1および第2の領域の面積は略同等であるので、第1および第2領域を通過した光が混合(合成)されることにより直線偏光が解消された出射光を得ることができる。
 入射光が直線偏光であって、+x軸に対して90°傾いた偏光軸P90を有する場合、入射光のうち第1の領域21を通過した光は、偏光軸が90°旋回されて+x軸に対し180°傾いた(x軸に沿った)偏光軸P180(=P0)を有する直線偏光として出射される。一方、第2の領域22を通過した光は、偏光軸が変化することなく傾き90°のまま出射される。したがって、第1の領域21から出射された光と第2の領域から出射された光は、互いに直交する偏光軸P180、P90を有するものとなる。このとき、上記と同様に、第1および第2の領域を通過した光が合成され、結果として直線偏光が解消された出射光を得ることができる。
 また、入射光が直線偏光であって、+x軸に対して45°傾いた偏光軸P45を有する場合、入射光のうち第1の領域21を通過した光は、偏光軸が90°旋回されて+x軸に対し135°傾いた偏光軸P135を有する直線偏光として出射される。一方、第2の領域22を通過した光は、偏光軸が変化することなく傾き45°のまま出射される。したがって、第1の領域21から出射された光と第2の領域から出射された光は、互いに直交する偏光軸P135、P45を有するものとなる。このとき、上記と同様に、第1および第2の領域を通過した光が合成され、結果として直線偏光が解消された出射光を得ることができる。
 同様に、入射光が直線偏光であって、+x軸に対して135°傾いた偏光軸P135,を有する場合、入射光のうち第1の領域21を通過した光は、偏光軸が90°旋回されて+x軸に対し225°傾いた偏光軸P225(=P45)を有する直線偏光として出射される。
一方、第2の領域22を通過した光は、偏光軸が変化することなく傾き135°のまま出射される。したがって、第1の領域21から出射された光と第2の領域から出射された光は、互いに直交する偏光軸P225、P135を有するものとなる。このとき、上記と同様に、第1および第2の領域を通過した光が合成され、結果として直線偏光が解消された出射光を得ることができる。
 入射光が直線偏光であるとき、偏光軸のx軸に対する傾きαに制限はなく、第1の領域21を通過した後の偏光軸の傾きはα+π/2であり、第2の領域22を通過した光の偏光軸の傾きαはそのまま維持される。したがって、第1の領域21を通過した光と第2の領域22を通過した光の偏光軸は必ず直交するものとなるため、入射光の偏光軸の傾きαにかかわらず、偏光解消された出射光を得ることができる。
 また、本構成の偏光解消フィルムは、入射光の波長に拘わらず、いかなる入射波長に対しても同様の偏光解消効果を得ることができる。
 他方、入射光が円偏光であって、左回り円偏光PLである場合、第1の領域21および第2の領域22を通過した光はいずれも左回り円偏光PLのまま出射されるため、出射光は左回り円偏光PLの偏光状態が維持されたものとなる。なお、図示していないが、入射光が右回りの円偏光である場合も同様に、出射光は右回り円偏光のままである。
 図7は第2の実施形態の偏光解消フィルム2の断面模式図である。
 第2の実施形態の偏光解消フィルム2は、偏光解消層20とλ/4板30とが積層されてなる。
 偏光解消層20の構成は第1の実施形態の偏光解消フィルムにおける偏光解消層20と同じである。λ/4板30、どのような波長にも一定の位相差(λ/4)を与えることができる広帯域λ/4板であることが、波長分散抑制の観点から好ましい。
 偏光解消フィルム2は、そのλ/4板30側の面2aから入射させた円偏光に対し、偏光解消効果を奏するものである。偏光解消フィルム2のλ/4板30側から入射された光はλ/4板30および偏光解消層20を順に経て他方の面2bから出射される。偏光解消の原理について図8を参照して説明する。図8は、偏光解消フィルムによる円偏光に対する偏光解消の原理を説明するための模式図である。図8には、入射光が円偏光であって、左回りの円偏光(PL)、右周り円偏光(PR)である場合、および、入射光が直線偏光であって、偏光解消フィルム2の面(xy面)内における+x軸に対する偏光軸の傾きが0°(偏光軸P0)である場合について、λ/4板30への入射前(フィルム2への入射前
)およびλ/4板30を経た後の偏光状態、および、さらに偏光解消層20を経た後(フィルム2からの出射後)の偏光状態をそれぞれ示す。
 入射光が円偏光であって、左回り円偏光Pである場合、λ/4板30を経た光は、直線偏光に変換される。この直線偏光の偏光軸を+x軸方向としている。λ/4板を経て直線偏光となった光のうち、偏光解消層20において第1の領域21を通過する光は、偏光軸が90°旋回されて、第2の領域22を通過する光は、偏光軸が回転されることなくそのまま出射される。したがって、偏光解消層20の第1の領域21から出射された光と第2の領域22から出射された光の偏光軸は直交するものとなる。以上の作用により、偏光解消フィルム2のλ/4板30側の面2aから入射した円偏光は偏光解消層20側の面2bから偏光解消された光として出射される。
 同様に、入射光が円偏光であった、右回り円偏光PRである場合、λ/4板30を経た光は、直線偏光に変換される。このとき、左回り円偏光PLをx軸方向の偏光軸を有する直線偏光に変換する作用を有するλ/4板30において、右回り円偏光PRは、x軸に対して90°傾いたy軸方向の偏光軸を有する直線偏光に変換される。λ/4板を経て直線偏光となった光のうち、偏光解消層20において第1の領域21を通過する光は偏光軸が90°旋回されて、第2の領域22を通過する光はそのまま出射される。これにより、第1の領域21から出射された光と第2の領域22から出射された光の偏光軸は直交するものとなる。偏光解消フィルム2のλ/4板30側の面2aから入射した円偏光は偏光解消層20側の面2bから偏光解消された光として出射される。
 他方、入射光がx軸方向の偏光軸P0を有する直線偏光である場合、λ/4板30を経た光は、所定の向き(ここでは左回り)の円偏光に変換される。既述の通り、円偏光は偏光解消層20を通過してもそのままの偏光状態が維持される。したがって、本偏光解消フィルム2に対して直線偏光を入射させた場合、直線偏光自体は解消されるが、出射光において所定の向きの円偏光が残留する。
 第2の実施形態の偏光解消フィルム2においては、λ/4板30と偏光解消層20との間、あるいは偏光解消層20の、λ/4板30とは反対の面側に支持体を備えていてもよい。
 以上の通り、第1の実施形態の偏光解消フィルム1は直線偏光に対して偏光解消の効果を奏し、第2の実施形態の偏光解消フィルム2は円偏光に対して偏光解消の効果を奏するものである。そこで、両者を組み合わせることにより、直線偏光および円偏光のいずれに対しても偏光解消の効果を得ることができる偏光解消部材を構成することができる。
 図9は、本発明の偏光解消部材の実施形態の断面模式図である。本実施形態の偏光解消部材5は、λ/4板30を挟んで2層の偏光解消層120、220が対向配置された構成である。
 第1および第2の偏光解消層120、220はいずれも第1の実施形態における偏光解消層20の構成と同様である。図9において、第1の偏光解消層120と第2の偏光解消層120は互いの第1の領域121と221および第2の領域122と222が一致するように配置されているが、互いの領域はずれていてもよい。また、第1の偏光解消層120における第1の領域121と第2の領域122の配置パターンと、第2の偏光解消層220における第1の領域221と第2の領域222の配置パターンとが異なるものであってもよい。例えば、第1の偏光解消層120が図2に示す市松模様のパターンを有するものであって、第2の偏光解消層220が図4に示す種々の大きさの第1の領域がランダムに配置されたパターンを有するものであってもよい。また、λ/4板30は、第2の実施形態の偏光解消フィルム2の場合と同様に、広帯域λ/4板であることが好ましい。
 本実施形態の偏光解消部材5は、入射光が直線偏光であっても円偏光であっても、偏光解消効果を得ることができる。偏光解消部材5の一方の面5aから入射された光は、第1の偏光解消層120、λ/4板30および第2の偏光解消層220を経て他方の面5bから出射される。なお、入射光はいずれの面5a、5bから入射させても同様の効果を得ることができる。
 偏光解消部材5の偏光解消の原理について図10を参照して説明する。図10は、偏光解消部材5による直線偏光および円偏光に対する偏光解消の原理を説明するための模式図である。図10には、入射光が直線偏光であって、偏光解消部材5の面(xy面)内における+x軸に対する偏光軸の傾きが0°(偏光軸P0)、90°(偏光軸P90)、45°
(偏光軸P45)および135°(偏光軸P135)である場合、および、入射光が円偏光で
あって左回り円偏光P、右回り円偏光PRである場合について、第1の偏光解消層12
0への入射前(偏光解消部材5への入射前)、第1の偏光解消層120を経た後、λ/4板30を経た後、さらには第2の偏光解消層220を経た後(偏光解消部材5への出射後)の偏光状態をそれぞれ示す。
 入射光が直線偏光であって、x軸に沿った(+x軸に対して傾きが0°である)偏光軸P0を有する場合、第1の偏光解消層120の第1の領域121を通過する光は、偏光軸
が90°旋回されて+x軸に対して90°傾いた偏光軸P90を有する直線偏光として出射される。一方、第1の偏光解消層120の第2の領域122を通過する光は、偏光軸が変化することなく傾き0°のまま出射される。第1の偏光解消層120の第1の領域121を通過した光と、第2の領域122を通過した光は、その後、λ/4板30を経ることにより、互いに逆向きの円偏光に変換される。円偏光は第2の偏光解消層220において、偏光状態は変化しないため、互いに逆向きの円偏光のまま、第1の領域221および第2の領域222から出射される。第1の領域と第2の領域の面積は略同等であるので、互いに逆向きの円偏光は混合(合成)されることにより相殺されて円偏光が解消され、最終的に偏光が解消された出射光を得ることができる。
 入射光が直線偏光である場合には、その偏光軸のx軸に対する傾きにかかわらず、同様の原理により、第1の偏光解消層120、λ/4板30および第2の偏光解消層220を経て偏光解消された光を得ることができる。
 入射光が円偏光であって、左回り円偏光PLである場合、第1の偏光解消層120において、第1の領域121および第2の領域122を通過した光はいずれも左回り円偏光PLのまま出射される。その後、λ/4板30を通過して直線偏光に変換される。さらに、第2の偏光解消層220において、第1の領域221を通過する光は偏光軸が90°旋回されて、第2の領域222を通過する光はそのまま出射される。第1の領域221から出射された光と第2の領域222から出射された光の偏光軸は直交するものとなり、結果として偏光解消された出射光を得ることができる。
 入射光が右回りの円偏光PRである場合も同様にも、同様の原理により、第1の偏光解消層120、λ/4板30および第2の偏光解消層220を経て偏光解消された光を得ることができる。
 なお、偏光解消部材5は、図9において、第1の偏光解消層120、λ/4板30、第2の偏光解消層220が積層された構成としたが、各層間もしくは光入出射面に支持体を備えていてもよいし、また、各層間に空隙があってもよい。
 次に、偏光解消層20の第1の領域21および第2の領域22が同一の液晶材料から構成されている場合について、その材料および製造方法を説明する。
(液晶材料)
 偏光解消層20を形成するための液晶材料としては、カチオン重合性基とラジカル重合性基を備えた重合性液晶化合物、キラル剤およびカチオン系重合開始剤を含む組成物が好ましい。また、重合性液晶化合物の波長特性は順分散性であっても逆分散性であってもよい。さらに配向制御剤および配向助剤などのその他の成分を含有してもよい。特に特開2008-127336号公報に記載の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を好適に利用することができる。
-重合性液晶化合物-
 カチオン重合性基とラジカル重合性基を備えた重合性液晶化合物としてしては、下記式(1)で表される重合性液晶化合物が好適である。
   Q-Sp1-L1-M1-L2-Sp2-Ox   (1)
式(1)中において、Qは重合性基を表す。なお、本明細書において、重合性基Qには、重合性の二重結合等に-CO-、-OCO-および-COO-等が結合している場合には、当該-CO-、-OCO-および-COO-等も含めて重合性基とする。ここで重合性基Qは、ラジカル重合性基である。後に詳述するOxはカチオン重合性基であるため、ラジカル重合性基とすることにより、異なる条件により、重合反応を進めることができる。ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイルオキシ基または(メタ)アクリロイルが好ましく、(メタ)アクリロイルオキシ基がより好ましい。
 式(1)中において、Sp1およびSp2のうちいずれか一方は、分岐アルキレン、または-O-、-C≡C-および-S-からなる群から選択される2価の連結基を少なくとも一つ鎖中に含むアルキレン、もう一方が直鎖アルキレンを表す。このように、Sp1およびSp2を異なる構造、即ち、非対称な構造とすることにより、有機溶媒、特にMEK等に対する溶解性が向上する。分岐アルキレン、または-O-、-C≡C-および-S-からなる群から選択される2価の連結基を少なくとも一つ鎖中に含むアルキレンのうち、好ましくは、-O-または-C≡C-を鎖中に含むアルキレンであり、より好ましくは、-(CH2n1-X-(CH2n2-である。ここで、n1およびn2はそれぞれ独立に1~4の整数であり、好ましくは1または2である。-X-は、-O-または-C≡C-であり、好ましくは、-O-である。-X-が、-O-である場合、n1およびn2はともに2であることが好ましく、-X-が-C≡C-である場合、n1およびn2はともに1であることが好ましい。分岐アルキレンの炭素数(分岐鎖の炭素数を含む)は、好ましくは4~12、より好ましくは4~8、更に好ましくは4~6である。分岐鎖としては、メチル基またはエチル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。
 もう一方の直鎖アルキレンの炭素数は、好ましくは2~12、より好ましくは4~8、更に好ましくは4~6である。分岐アルキレン、または-O-、-C≡C-および-S-からなる群から選択される2価の連結基を少なくとも一つ鎖中に含むアルキレンと、直鎖アルキレンとを、Sp1およびSp2のどちらにするかの選択は特に制限されるものではなく、使用の用途、方法により適宜、選択することができる。本発明においては、重合性基Qおよび-Oxのうち、-Oxを先に重合させるため、Sp2が直鎖アルキレンであり、Sp1が分岐アルキレン、または-O-、-C≡C-および-S-からなる群から選択される2価の連結基を少なくとも一つ鎖中に含むアルキレンであることが好ましい。なお、このように、重合を段階的に行う場合、一回目の重合に比べて、二回目の重合の方が流動性は低くなっているため、重合率が低くなる傾向にある。このことから、一回目に重合させる重合性基側のスペーサーが分岐アルキレン、または-O-、-C≡C-および-S-からなる群から選択される2価の連結基を少なくとも一つ鎖中に含むアルキレンであると、メソゲン部位が熱的に揺らぎやすくなり、結果として、耐熱性が悪くなる。そこで、一回目に重合させる重合性基側のスペーサーを直鎖アルキレンにすることにより、メソゲン部位の熱的な揺らぎが抑制され、結果として、耐熱性が良くなる。
 式(1)において、L1およびL2は、それぞれ独立に2価の連結基を表す。L1およびL2は、それぞれ、Sp1およびM1、SpおよびM1、を連結する基であれば特に制限されるものではないが、好ましくは、単結合、-O-、-S-、-OCO-、-COO-、-CO-、-CH2-、-CONH-、または-NHCO-である。より好ましくは、単結合、-O-、-S-、-OCO-、または-COO-であり、さらに好ましくは、単結合、-O-、-CH2-であり、最も好ましくは-O-である。L1およびL2が同じ2価の連結基であることが好ましく、ともに-O-であることがより好ましい。なお、本明細書において、M1に直接-O-が結合している場合には、当該-O-は、L1またはL2として扱い、Sp1またはSpを構成するものではない。
 式(1)において、M1は下記式(2-1)~(2-12)からなる群から選択される2価の基を少なくとも一つ好ましくは3個以上の基、より好ましくは3個の基を有するメソゲン基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 なお、例えば式(2-1)で表される2価の基は無置換の1,4-シクロへキシレン基、式(2-2)で表される2価の基は無置換の1,4-フェニレン基を表すものである。
 M1で表されるメソゲン基が前述の基の2個以上から構成されている場合は、前述の基は、それぞれ、単結合、アセチレン基(-C≡C-)、-N=N-、-N=CH-、-C(CN)=CH-、-CONHCONHCO-、-O-、-S-、-OCO-、-COO-、-OCOO-、-CO-、-CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-CONH-、-NHCO-、-NHCOO-、および-OCONH-からなる群から選択される連結基によって結合していればよく、好ましくは単結合、アセチレン基(-C≡C-)、-OCO-、-COO-、-OCH2-、-CH2O-、-N=N-、-N=CH-、-C(CN)=CH-、-CONH-、-NHCO-、および-CONHCONHCO-からなる群から選択される連結基によって結合していればよく、さらに好ましくは、単結合、アセチレン基(-C≡C-)、-OCO-、-COO-、-CONH-、および-NHCO-からなる群から選択される連結基によって結合していればよい。
 上記式(1)において、Oxは下記式(3)で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 上記式(3)中、R2は水素原子、メチル基、またはエチル基であり、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくは、メチル基である。Xは-O-、-S-、-OCO-または-COO-であり、好ましくは-O-または-OCO-(Ox側がOでSp側がCO)であり、より好ましくは-O-である。Xは単結合または炭素数1~4のアルキレンであり、好ましくは炭素数1~2のアルキレン、より好ましくは炭素数1のアルキレン(メチレン)である。なお、*はSp2との結合部位である。
 なお、式(1)で表される重合性液晶化合物の具体例は特開2008-127336号公報に挙げられており、それらを適宜用いることができる。重合性液晶組成物中における重合性液晶化合物の濃度は、組成物の総質量に対して好ましくは30質量%~99.9質量%、より好ましくは50質量%~99.9質量%、さらに好ましくは70質量%~99.9質量%であればよい。
-キラル剤(光学活性化合物)-
 キラル剤はツイスト液晶相を誘起する機能を有する。キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4-3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)、イソソルビド、イソマンニド誘導体を用いることができる。
 キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
 また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
 キラル剤が光異性化基を有していてもよい。光異性化基としては、フォトクロッミック性を示す化合物の異性化部位、アゾ、アゾキシ、シンナモイル基が好ましい。具体的な化合物として、特開2002-80478号公報、特開2002-80851号公報、特開2002-179668号公報、特開2002-179669号公報、特開2002-179670号公報、特開2002-179681号公報、特開2002-179682号公報、特開2002-338575号公報、特開2002-338668号公報、特開2003-313189号公報、特開2003-313292号公報に記載の化合物を用いることができる。
 重合性液晶組成物における、キラル剤の含有量は、重合性液晶性化合物量の0.01モル%~200モル%が好ましく、1モル%~30モル%がより好ましい。
-カチオン系開始剤(光カチオン発生剤)-
 光カチオン発生剤としては、光照射により酸を発生し、オキセタニル基のカチオン重合を開始させる作用を有するものであれば何でもよいが、オニウム塩が好ましい。この場合、対アニオンは有機アニオンおよび無機アニオンのいずれでもよい。オニウム塩としては、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩などが挙げられるが、スルホニウム塩およびヨードニウム塩が好ましく、熱安定性を考慮するとスルホニウム塩がより好ましい。光カチオン発生剤としては、特開2008-127336号公報の段落[0053]に記載のものを適宜利用することができる。
 光カチオン発生剤の添加量は重合性液晶化合物におけるメソゲン基やスペーサーの構造や、オキセタニル基当量、液晶の配向条件などにより異なるが、通常、液晶性組成物におけるモノマー総質量に対し、通常100質量ppm~20質量%、好ましくは1000質量ppm~10質量%、より好ましくは0.2質量%~7質量%、最も好ましくは0.5質量%~5質量%の範囲である。
-その他の成分-
 ツイスト液晶相を形成するために用いられる組成物には、上記液晶化合物およびキラル剤およびカチオン系開始剤の他、配向制御剤および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。いずれも公知の材料を利用することができる。
-溶媒-
 ツイスト液晶相および等方相を実現するための組成物の溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N、N-ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1、2-ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
<偏光解消層の形成>
 偏光解消層の形成方法について、図11に示す作製工程を参照して説明する。
<<塗布工程>>
 支持体10の表面(もしくは支持体上に設けられた配向膜上)に重合性液晶組成物を一様に塗布して塗布膜20Aを形成する(S1)。
 重合性液晶組成物の塗布は、重合性液晶組成物を溶媒により溶液状態としたり、加熱による溶融液等の液状物としたりしたものを、ロールコーティング方式やグラビア印刷方式、スピンコート方式などの適宜な方式で展開する方法などにより行うことができる。さらにワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、等の種々の方法によって行うことができる。また、インクジェット装置を用いて、液晶組成物をノズルから吐出して、塗布膜を形成することもできる。
<<熟成工程>>
 塗布膜20Aを液晶のツイスト相形成温度で一定時間保持して(熟成して)、液晶をツイスト相に配向させる(S2)。熟成温度および熟成時間は、液晶化合物に応じて定めればよい。
<<紫外線(UV)硬化工程>>
 熟成工程後、液晶化合物の分子の配向状態を固定するために紫外線硬化を行う。紫外線硬化工程では、光カチオン重合基による重合反応(光カチオン重合反応)と光ラジカル重合基による重合反応(光ラジカル重合反応)を別々に進行させる。本明細書においては、紫外線硬化工程における二段階の重合のうちの最初の重合工程後の塗布膜を液晶半固定膜と称する。硬化工程の手順を説明する。
1)全面露光工程
 上記ツイスト液晶相に配向した状態の塗布膜20Bの全面に露光量100~2000mJ/cmの紫外線を大気下にて照射して、塗布膜20Bの全面にほぼ均一な露光を行う(S3)。このとき、塗布膜20Bに含まれるカチオン重合開始剤の作用により主にはカチオン重合が進行する。なお、一部ラジカル重合が生じていてもよい。この全面露光により、全面に亘って一部が架橋(一部硬化)して液晶の配向状態が半固定された液晶半固定膜20Cを得る。「半固定」とは、本発明において液晶組成物が流動性を失っている状態を指し、熱処理工程前の状態を指す。例えば、二官能性液晶の片側官能基のみが架橋し、高分子液晶状態になっている事を指す。カチオン重合基および光ラジカル重合基を備えた重合性液晶化合物の場合は、カチオン重合基あるいは光ラジカル重合基のうちの一方が選択的に架橋された状態を指す。本全面露光工程においては、カチオン重合基が選択的に架橋された状態を指すが、一部に光ラジカル重合基による架橋が生じていてもよい。
2)開始剤塗布工程
 上記の液晶半固定膜20Cの表面に、光ラジカル重合開始剤を含む開始剤供給液を塗布し、乾燥させる。
3)マスク露光工程
 その後、液晶半固定膜20C上に所定のマスク40を配置した状態で、室温大気下にて露光量30~100mJ/cmの紫外線を所定のマスク40を介して液晶半固定膜20Cに照射する(S4)。所定のマスク40は所望のパターンの第1の領域および第2の領域を得るために、第1の領域に応じた開口部42と、第2の領域に応じた非開口部44が形成されたものである。これにより、液晶半固定膜20Cの、マスク開口部42に露出する領域は露光され、マスク非開口部44で覆われた部分は露光されないパターン露光がなされる。このとき、露光された領域では、光ラジカル重合開始剤の作用による光ラジカル重合が進行する。
<<熱処理工程>>
 上記露光工程を得た液晶半固定膜20D、支持体を含む基板全体を液晶化合物の等方相形成温度(等方相への相転移温度以上の温度)で所定時間加熱する(S5)。
 この熱処理により、マスク露光されていない領域において液晶が等方相を形成することとなる。なお、熱処理後にポスト露光をして等方相をより安定化させてもよい。
 以上の工程によりツイスト液晶相からなる第1の領域21と等方相からなる第2の領域22とがパターン状に形成されてなる偏光解消層20を得ることができる(S6)。
 なお、上記においては、カチオン重合基と光ラジカル重合基とを有する重合性液晶化合物のカチオン重合基を先に重合させ、その後光ラジカル重合基を重合させる場合について説明したが、光ラジカル重合基を先に重合させ、その後カチオン重合基を重合させる手順でも同様のツイスト相と等方相とを有する偏光解消層を形成することができる。この場合には、上記の重合性液晶組成物は、カチオン重合開始剤に代えて、光ラジカル重合開始剤を含むものを用いればよい。そして、光ラジカル重合開始剤塗布工程は不要となり、別途カチオン重合させる前に、カチオン開始剤塗布工程を設ければよい。
 次に、偏光解消フィルムを構成する、偏光解消層以外の要素について説明する。
[支持体]
 偏光解消フィルムには支持体が備えられていてもよく、支持体としては、透明支持体が好ましく、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、セルローストリアセテート等のセルロース系樹脂フィルム、およびシクロオレフィンポリマー系フィルム[例えば、商品名「アートン」、JSR社製、商品名「ゼオノア」、日本ゼオン社製]等を挙げることができる。支持体は、可撓性のフィルムに限らず、ガラス基板等の非可撓性の基板であってもよい。
 なお、本発明の偏光解消フィルムは、製膜する際の支持体に支持されたまま使用されるものであってもよいし、製膜する際の支持体は仮支持体とし、他の支持体に転写され、仮支持体を剥離して用いられるものであってもよい。
[配向膜]
 液晶層を形成するための支持体上には配向膜が備えられていてもよい。配向膜は有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成等の手段で設けることができる。さらには、電場の付与、磁場の付与、或いは光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜は、ポリマーの膜の表面を、ラビング処理することにより形成することが好ましい。偏光解消フィルムを製膜時に用いた支持体から剥離して用いる場合には、配向膜を支持体と共に剥離することが好ましい。
 樹脂製の支持体を用いる場合、そのポリマー種によっては、配向膜を設けなくても、支持体を直接配向処理(例えば、ラビング処理)することで、配向膜として機能させることもできる。そのような支持体の一例としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)を挙げることができる。
[λ/4板]
 既述の通り、広帯域λ/4板が好ましく、市販のλ/4板を適宜使用することができる。
[接着層(粘着剤層)]
 本明細書において、「接着」は「粘着」も含む概念で用いられる。
 偏光解消層20とλ/4板30とは、接着層を介して積層されていてもよい。
 接着層に用いられる粘着剤の例としては、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂等の樹脂をあげることができる。これらは単独もしくは2種以上混合して使用してもよい。特に、アクリル系樹脂は、耐水性、耐熱性、耐光性等の信頼性に優れ、接着力、透明性が良く、更に、屈折率を液晶ディスプレイに適合するように調整し易い等から好ましい。
 以下、本発明の偏光解消フィルムの実施例および比較例について説明する。
 まず、実施例および比較例の偏光解消フィルムの作製に用いた各種組成物の調製について説明する。
(配向膜組成物Bの調製)
<配向膜組成物用重合体の合成>
 撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン100質量部、メチルイソブチルケトン500質量部、および、トリエチルアミン10質量部を仕込み、室温で混合した。
 次いで、脱イオン水100質量部を滴下漏斗より30分かけて反応容器内の溶液に滴下した後、得られた溶液を還流下で混合しつつ、80℃で6時間反応させた。反応終了後、溶液から有機相を取り出し、0.2質量%硝酸アンモニウム水溶液により有機相を洗浄後の水が中性になるまで、有機相を洗浄した。その後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
 このエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンについて、1H-NMR(Nuclear Magnetic Resonance)分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwは2,200、エポキシ当量は186g/モルであった。
 次に、100mLの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基含有ポリオルガノシロキサン10.1質量部、アクリル基含有カルボン酸(東亜合成株式会社、商品名「アロニックスM-5300」、アクリル酸ω-カルボキシポリカプロラクトン(重合度n≒2))0.5質量部、酢酸ブチル20質量部、特開2015-26050号公報の合成例1の方法で得られた桂皮酸誘導体1.5質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド0.3質量部を仕込み、得られ反応溶液を90℃で12時間撹拌した。
 反応終了後、反応溶液と等量(質量)の酢酸ブチルで希釈し、3回水洗した。
 得られた溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を2回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン(重合体)を含む溶液を得た。この重合体の重量平均分子量Mwは9,000であった。また、1H-NMR分析の結果、重合体中のシンナメート基を有する成分は23.7質量%であった。
<配向膜組成物Bの調製>
 酢酸ブチルを溶媒として、先に作製した重合体、ならびに、下記の化合物D1および化合物D2を、以下の量で添加し、配向膜組成物Bを調製した。
---------------------------------
配向膜組成物B(質量部)
---------------------------------
酢酸ブチル                 100
配向膜組成物用重合体            4.35
化合物D1                 0.48
化合物D2                 1.15
---------------------------------
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(重合性液晶組成物LC-2の調製)
 下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、重合性液晶組成物LC-2として用いた。
 棒状液晶(LC-1-1)は特開2004-12382号公報に記載の方法を元に合成した。棒状液晶(LC-1-1)は2つの反応性基を有する液晶化合物であり、2つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。水平配向剤(LC-1-2)はTetrahedron Lett.誌、第43巻、6793頁(202)に記載の方法に準じて合成した。
---------------------------------
重合性液晶組成物LC-2(質量部)
---------------------------------
棒状液晶(LC-1-1)               19.57
水平配向剤(LC-1-2)               0.01
下記構造のキラル剤                   0.035
カチオン系モノマー(OXT-121、東亞合成(株)製) 0.98
カチオン重合開始剤
(Curacure UVI6974、ダウ・ケミカル製)  0.4
重合制御剤(IRGANOX1076、BASF製)    0.02
メチルエチルケトン                  80.0
---------------------------------
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(開始剤供給液AD-1の調製)
 下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、開始剤供給液AD-1として用いた。
---------------------------------
開始剤供給液AD-1(質量部)
---------------------------------
光ラジカル重合開始剤(2-トリクロロメチル-5-(p-スチリルスチリル)1,3,4-オキサジアゾール)             0.12
ハイドロキノンモノメチルエーテル             0.002
メガファックF-176PF(大日本インキ化学工業(株)製) 0.05
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート     34.80
メチルエチルケトン                   50.538
メタノール                         1.61
---------------------------------
[実施例1]
 実施例1の偏光解消フィルムの作製は以下の手順で行った。
<配向膜の形成>
 上記で調製した配向膜組成物Bを、ガラス基板上にスリットコーターを用いて均一塗布した後、100℃のオーブン内で2分乾燥し、膜厚0.5μmの配向膜付きガラス基板を得た。この配向膜に塗布方向と平行方向にラビング処理を施した。
<偏光解消層の形成>
 配向膜のラビング処理面上に上記重合性液晶組成物LC-2を塗布して塗布膜を形成した(塗布工程)。
 次いで、塗布膜を膜面温度80℃で60秒間加熱熟成してツイスト液晶相に配向させた(熟成工程)。
 その後ただちに、膜面温度70℃空気下にて空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、塗布膜の全面に500mJ/cmの紫外線を照射し全面露光を行い(UV硬化工程:全面露光工程)、光カチオン重合を進行させてその配向状態を半固定化することにより、液晶半固定膜を形成した。
 こうして得られた液晶半固定膜上に、上記で調製した開始剤供給液AD-1を塗布し、80℃、60秒間乾燥した(UV硬化工程:開始剤塗布工程)。
 その後、25℃空気下にて、キヤノン(株)製PLA-501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、50mJ/cmの露光量で所定のマスクを介し紫外線を照射して露光し(UV硬化工程:マスク露光工程)、露光領域(マスク開口領域)における光ラジカル重合を進行させた。所定のマスクは開口部と非開口部が交互に10μm周期で、すなわち5μm幅の開口部と5μm幅の非開口部が交互にストライプ状に形成されたものである。
 その後、上記マスク露光された液晶半固定膜を含む基板全体を200℃のオーブン内で30分焼成し(熱処理工程)、第1の領域と第2の領域を有する偏光解消層を得た。
 以上のようにして、実施例1の偏光解消フィルムを作製した。
 マスクの開口領域に当たるUV照射した第1の領域は液晶層が90°捩れており90°旋光する機能を有する領域であるのに対し、マスクの非開口領域に当たるUV照射しなかった第2の領域は液晶層の複屈折が失われ、光学的に等方な領域になっていることを確認した。
 出来上がった偏光解消層を断面切削し、SEM画像から膜厚を測定した。3点以上の複数箇所について測定を行い、その平均値を偏光解消層の膜厚とした。得られた偏光解消層の膜厚は3μmであった。
[実施例2]
 実施例1の偏光解消フィルムを、別途に用意したλ/4板と貼りあわせて実施例2の偏光解消フィルムとした。
 λ/4板として、ルケオ社 広帯域波長板 B-RETAX-1/4λ-30を用いた。広帯域波長板のフィルムの波長λにおける面内レターデーションRe(λ)および厚さ方向レターデーションRth(λ)は、それぞれRe(550)=125nm、Rth(550)=1nmであった。実施例1の偏光解消フィルムとλ/4板とを粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を用いて貼りあわせた。
[比較例1]
 特開2006-047421号公報を参照して、λ/2板からなる第1の領域と、光学等方部材からなる第2の領域とが交互に配置されてなる偏光解消フィルムを作製した。
[評価]
 各偏光解消フィルムについて、直線偏光もしくは円偏光を入射させて偏光解消度を測定した。
(偏光解消度の測定方法)
 王子計測機器株式会社の楕円偏光測定装置KOBRA-WPRを用い、同社の楕円偏光測定用PRソフト、透過率測定用TRソフトを用いて、偏光解消度を測定した。
 各例の偏光解消フィルムについて20mm角の測定用サンプルを作製して測定に供した。実施例1および比較例1のサンプルに入射光を直線偏光として5mmφ(直径)の円形領域に照射して偏光解消度を測定した。その後、装置において、入射光の偏光軸を45°ずつずらし、最初の測定を0°(P0)として、入射光の偏光軸の角度を45°(P45)、90°(P90)、135°(P135)と変化させ、それぞれについて同様に偏光解消度を測定した。また、実施例2のサンプルに対しては、入射光を円偏光として偏光解消度を測定した。このとき、左回り円偏光、右回り円偏光について、それぞれ測定を行った。
 入射光の波長は550nmとした。なお、550nm以外の波長(450nm、630nm)についても同じ測定を行い、結果は550nmと略同様であった。ここでは代表して550nmでの結果を示す。
(評価基準)
 測定された偏光解消度について、以下の基準にて評価した。
 A:95%超
 B:90%超95%以下
 C:50%超90%以下
 D:50%以下
 表1に各例の構成および評価結果を纏めて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
 表1に示す通り、実施例1の偏光解消フィルムは、入射光が直線偏光であるとき、偏光軸の角度に拘わらず良好な偏光解消が実現できた。また、実施例2の偏光解消フィルムは、入射光が円偏光であるとき良好な偏光解消が実現できた。比較例1はλ/2板を用いているために、λ/2板の遅相軸に対して45°もしくは135°傾いた偏光軸を有する直線偏光については、良好な偏光解消が実現できたが、他の傾きの偏光軸ではほとんど偏光解消の効果を得ることができなかった。なお、実施例1、2の結果から、この実施例1、2の偏光解消フィルムを重ねて偏光解消部材を構成すれば、直線偏光、円偏光のいずれに対しても良好な偏光解消を実現可能であると推察される。
 1、2 偏光解消フィルム
 1a、2a 偏光解消フィルムの一方の面
 1b、2b 偏光解消フィルムの他方の面
 5 偏光解消部材
 5a 偏光解消部材の一方の面
 5b 偏光解消部材の他方の面
 10 支持体
 20、120、220 偏光解消層
 20A 塗布膜
 20B ツイスト液晶相に配向した塗布膜
 20C 液晶半固定膜
 21、121、221 第1の領域
 22、122、222 第2の領域
 30 λ/4板
 40 マスク
 42 開口部
 44 非開口部

Claims (7)

  1.  光学特性が互いに異なる第1の領域および第2の領域からなる偏光解消層を含む偏光解消フィルムであり、
     前記偏光解消層において、前記第1の領域の面積と前記第2の領域の面積の比が0.45:0.55~0.55:0.45であり、
     前記第1の領域は、前記偏光解消層の一方の面から入射し、他方の面から出射する光を90°旋光させる光学異方性領域であり、
     前記第2の領域は光学的に等方性を有する光学等方性領域である偏光解消フィルム。
  2.  前記第1の領域が、前記偏光解消層の前記一方の面から前記他方の面の間で90°捻じれて配向した液晶相が固定化されてなる請求項1記載の偏光解消フィルム。
  3.  前記第2の領域が、前記第1の領域を構成する液晶材料と同じ液晶材料による等方相からなる請求項2記載の偏光解消フィルム。
  4.  前記偏光解消層の前記一方の面もしくは前記他方の面にλ/4板が積層されてなる請求項1から3いずれか1項記載の偏光解消フィルム。
  5.  請求項1記載の偏光解消フィルムと、請求項4記載の偏光解消フィルムとが、前記λ/4板を介してそれぞれの偏光解消層が対向して配置されてなる偏光解消部材。
  6.  請求項1から4いずれか1項に記載の偏光解消フィルムの製造方法であって、
     カチオン重合基および光ラジカル重合基を備えた重合性液晶化合物、キラル剤およびカチオン重合開始剤を含む重合性液晶組成物を、支持体上に一様に塗布して塗布膜を形成する塗布工程と、
     前記塗布膜中においてツイスト液晶相に配向させる熟成工程と、
     該熟成工程後の前記塗布膜の全面に紫外線を照射して、光カチオン重合反応を生じさせ、前記塗布膜を一部硬化させて液晶半固定膜とする全面露光工程、光ラジカル重合開始剤を含む開始剤供給液を前記液晶半固定膜の表面に塗布する開始剤塗布工程、および、面積の比が0.45:0.55~0.55:0.45である非開口部と開口部を有するマスクを前記液晶半固定膜上に位置させた状態で該マスクを介して前記液晶半固定膜に紫外線を照射するマスク露光工程を含む紫外線硬化工程と、
     該紫外線硬化工程後に得られた前記液晶半固定膜を等方相への相転移温度以上の温度で熱処理する熱処理工程とを有し、
     前記マスクの前記開口部に対応する第1の領域と、前記非開口部に対応する第2の領域とを備えた前記偏光解消層を形成する偏光解消フィルムの製造方法。
  7.  前記重合性液晶組成物が、下記式(1)で表される重合性液晶化合物を含有する請求項6記載の偏光解消フィルムの製造方法。
       Q-Sp1-L1-M1-L2-Sp2-Ox   (1)
    式(1)中、Qは重合性基を表し;Sp1およびSp2のうちいずれか一方は、分岐アルキレン、または-O-、-C≡C-および-S-からなる群から選択される2価の連結基を少なくとも一つ鎖中に含むアルキレン、もう一方が直鎖アルキレンを表し;L1およびL2は、それぞれ独立に2価の連結基を表し;M1は下記式(2-1)~(2-12)からな
    る群から選択される2価の基を少なくとも一つ有するメソゲン基を表し;Oxは下記式(3)で表される基を表す。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

    式(3)中、R2は水素原子、メチル基、またはエチル基を表し、Xは-O-、-S-、-OCO-または-COO-を表し、Xは単結合または炭素数1~4のアルキレンを表す。なお、*はSp2との結合部位である。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09113862A (ja) * 1995-10-24 1997-05-02 Mitsubishi Electric Corp 立体映像表示装置
JPH1090675A (ja) * 1996-07-04 1998-04-10 Sharp Corp 旋光光学素子およびその製造方法と、それを用いた画像表示装置
JP2001066429A (ja) * 1999-08-31 2001-03-16 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光光学素子
JP2004133179A (ja) * 2002-10-10 2004-04-30 Dainippon Printing Co Ltd 偏光素子およびその製造方法
JP2008226405A (ja) * 2007-03-15 2008-09-25 Asahi Glass Co Ltd 偏光解消素子
JP2010181473A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Toppan Printing Co Ltd 位相型回折素子、その製造方法、および撮像装置
WO2018016549A1 (ja) * 2016-07-21 2018-01-25 富士フイルム株式会社 パターン化光学異方性層、および、光学積層体

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6046849A (en) * 1996-09-12 2000-04-04 Sharp Kabushiki Kaisha Parallax barrier, display, passive polarisation modulating optical element and method of making such an element
JP2006047421A (ja) 2004-07-30 2006-02-16 Canon Inc 表示光学系および画像投射装置
JP2013130810A (ja) 2011-12-22 2013-07-04 Asahi Glass Co Ltd 偏光解消素子、光計測機器および投射型表示装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09113862A (ja) * 1995-10-24 1997-05-02 Mitsubishi Electric Corp 立体映像表示装置
JPH1090675A (ja) * 1996-07-04 1998-04-10 Sharp Corp 旋光光学素子およびその製造方法と、それを用いた画像表示装置
JP2001066429A (ja) * 1999-08-31 2001-03-16 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光光学素子
JP2004133179A (ja) * 2002-10-10 2004-04-30 Dainippon Printing Co Ltd 偏光素子およびその製造方法
JP2008226405A (ja) * 2007-03-15 2008-09-25 Asahi Glass Co Ltd 偏光解消素子
JP2010181473A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Toppan Printing Co Ltd 位相型回折素子、その製造方法、および撮像装置
WO2018016549A1 (ja) * 2016-07-21 2018-01-25 富士フイルム株式会社 パターン化光学異方性層、および、光学積層体

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