WO2014168260A1

WO2014168260A1 - 光学異方層形成用組成物

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Publication number: WO2014168260A1
Application number: PCT/JP2014/060886
Authority: WO
Inventors: 忠弘小林
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2013-04-11
Filing date: 2014-04-10
Publication date: 2014-10-16
Also published as: JPWO2014168260A1; JP6447495B2; KR102176450B1; US20160053176A1; KR20150143570A

Abstract

重合性液晶化合物、光重合開始剤及び沸点が１２０～２００℃でかつ蒸気圧が０．７ｋＰａ以下であるエステル溶剤を含む光学異方層形成用組成物。

Description

光学異方層形成用組成物

　本発明は、光学異方層形成用組成物に関する。

　フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの光学異方性フィルムを含む部材が用いられている。このような光学異方性フィルムとして、重合性液晶化合物を含む組成物を基材上に塗布することにより製造された光学異方性フィルムが知られている。例えば、特許文献１には、配向処理を施した基材上に、重合性液晶化合物と、光重合開始剤と、沸点が１２０℃未満の溶剤とからなる光学異方層形成用組成物を塗布することにより塗布膜を得、該塗布膜中の重合性液晶化合物を重合させることにより形成された光学異方性フィルムが記載されている。

特開２００７−１４８０９８号公報

　従来の光学異方層形成用組成物を、基材に塗布することにより製造される光学異方性フィルムは、溶剤の乾燥時に生じる乾燥ムラにより透明性が低下する問題があった。

　本発明は以下の発明を含む。
［１］　重合性液晶化合物、光重合開始剤及び沸点が１２０~２００℃でかつ蒸気圧が０．７ｋＰａ以下であるエステル溶剤を含む光学異方層形成用組成物。
［２］　エステル溶剤が、酢酸２−メトキシエチル、酢酸２−エトキシエチル及びアセト酢酸エチルからなる群から選ばれる少なくとも１種である［１］記載の光学異方層形成用組成物。
［３］　光学異方層形成用組成物に対するエステル溶剤の含有量が１０質量％~９５質量％である［１］又は［２］に記載の光学異方層形成用組成物。
［４］　さらにイソシアネート基を有する化合物を含む、［１］~［３］のいずれかに記載の光学異方層形成用組成物。
［５］　［１］~［４］のいずれかに記載の光学異方層形成用組成物を、配向膜の表面に塗布して該光学異方層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することにより得られる光学異方性フィルム。
［６］　位相差フィルムである［５］に記載の光学異方性フィルム。
［７］　表面の算術平均粗さが１００ｎｍ以下である［５］又は［６］に記載の光学異方性フィルム。
［８］　ＩＰＳ（ｉｎ−ｐｌａｎｅ　ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）液晶表示装置用の［５］~［７］のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
［９］　［５］~［８］のいずれかに記載の光学異方性フィルムを有する偏光板。
［１０］　［５］~［８］のいずれかに記載の光学異方性フィルムを備えた表示装置。
［１１］　基材と、配向膜と、［５］~［８］のいずれかに記載の光学異方性フィルムをこの順に有する積層体。
［１２］　基材がポリオレフィン樹脂である［１１］に記載の積層体。
［１３］　配向膜付基材の配向膜表面に、［１］~［４］のいずれかに記載の光学異方層形成用組成物を塗布し、乾燥し、光照射する積層体の製造方法。
［１４］　［１１］又は［１２］に記載の積層体を有する偏光板。
［１５］　［１１］又は［１２］に記載の積層体を備えた表示装置。

　本発明によれば、透明性の高い光学異方性フィルムを製造することができる。

本発明に係る偏光板の一例を示す模式図である。本発明に係る液晶表示装置の一例を示す模式図である。

　本発明の光学異方層形成用組成物は、重合性液晶化合物、光重合開始剤及び沸点が１２０~２００℃でかつ蒸気圧が０．７ｋＰａ以下であるエステル溶剤を含む。

［重合性液晶化合物］
　重合性液晶化合物としては、例えば、式（Ｘ）で表される基を含む化合物（以下「化合物（Ｘ）」という場合がある）が挙げられる。
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３−　　　（Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ^１１は、重合性基を表わす。
　Ａ^１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１~６のアルキル基、炭素数１~６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１~６のアルキル基および該炭素数１~６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
　Ｂ^１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−または単結合を表わす。Ｒ^１６は、水素原子または炭素数１~６のアルキル基を表わす。
　Ｂ^１２およびＢ^１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を表わす。
　Ｅ^１１は、炭素数１~１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１~５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］

　Ａ^１１の芳香族炭化水素基および脂環式炭化水素基の炭素数は、３~１８の範囲であることが好ましく、５~１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ^１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、１，４−フェニレン基が好ましい。

　Ｅ^１１としては、直鎖状の炭素数１~１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
　具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基およびドデカン−１，１２−ジイル基等の炭素数１~１２の直鎖状アルカンジイル基；−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−等が挙げられる。
　Ｂ^１１としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−が好ましく、中でも、−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。
Ｂ^１２およびＢ^１３としては、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が好ましく、中でも、−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−がより好ましい。

　Ｐ^１１で示される重合性基としては、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ−１１）~式（Ｐ−１５）で表わされる基であることが好ましい。

［式（Ｐ−１１）~（Ｐ−１５）中、
　Ｒ^１７~Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１~６のアルキル基または水素原子を表わす。］

　式（Ｐ−１１）~式（Ｐ−１５）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ−１６）~式（Ｐ−２０）で表わされる基が挙げられる。

　Ｐ^１１は、式（Ｐ−１４）~式（Ｐ−２０）で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、ｐ−スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。

　化合物（Ｘ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３−Ａ^１２−Ｂ^１４−Ａ^１３−Ｂ^１５−Ａ^１４−Ｂ^１６−Ｅ^１２−Ｂ^１７−Ｐ^１２　　（Ｉ）
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３−Ａ^１２−Ｂ^１４−Ａ^１３−Ｂ^１５−Ａ^１４−Ｆ^１１　　（ＩＩ）
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３−Ａ^１２−Ｂ^１４−Ａ^１３−Ｂ^１５−Ｅ^１２−Ｂ^１７−Ｐ^１２　　（ＩＩＩ）
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３−Ａ^１２−Ｂ^１４−Ａ^１３−Ｆ^１１　　（ＩＶ）
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３−Ａ^１２−Ｂ^１４−Ｅ^１２−Ｂ^１７−Ｐ^１２　　（Ｖ）
　Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３−Ａ^１２−Ｆ^１１　　（ＶＩ）
（式中、
　Ａ^１２~Ａ^１４はそれぞれ独立に、Ａ^１１と同義であり、Ｂ^１４~Ｂ^１６はそれぞれ独立に、Ｂ^１２と同義であり、Ｂ^１７は、Ｂ^１１と同義であり、Ｅ^１２は、Ｅ^１１と同義である。
　Ｆ^１１は、水素原子、炭素数１~１３のアルキル基、炭素数１~１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１~１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。）

　重合性液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６　ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１液晶材料　ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報および特開２０１１−２０７７６５号公報記載の重合性液晶化合物が挙げられる。

　化合物（Ｘ）の具体例としては、下記式（Ｉ−１）~式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）~式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）~式（ＩＩＩ−２６）、式（ＩＶ−１）~式（ＩＶ−２６）、式（Ｖ−１）~式（Ｖ−２）および式（ＶＩ−１）~式（ＶＩ−６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ１およびｋ２は、それぞれ独立して、２~１２の整数を表わす。これらの化合物（Ｘ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの点で、好ましい。

［光重合開始剤］
　光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、α−アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）を挙げることができる。中でも、α−アセトフェノン化合物が好ましく、α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

　光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部~３０質量部であり、好ましくは０．５質量部~１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合することができる。

［溶剤］
　本明細書におけるエステル溶剤とは、２３℃、１気圧下において液体である、カルボン酸エステルのことをいう。
　沸点が１２０~２００℃でかつ蒸気圧が０．７ｋＰａ以下であるエステル溶剤としては、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸２−メトキシエチル、酢酸２−エトキシエチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸２−エトキシエチル、アセト酢酸エチル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸イソアミル等が挙げられる。好ましくは酢酸２−メトキシエチル、酢酸２−エトキシエチル及びアセト酢酸エチルであり、より好ましくは酢酸２−メトキシエチルである。これらの溶剤は単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。これらの溶剤を含むことで、乾燥時の乾燥ムラが低減され、より均一で透明性に優れた光学異方層を形成することが可能となる。
　なお、本明細書における沸点は１気圧下での値であり、蒸気圧は２３℃での値である。

　光学異方層形成用組成物はさらに他の溶剤を含んでもよい。
　他の溶剤としては、光学異方性フィルムを形成する際の操作性を良好にするものが好ましく、例えば、有機溶剤が挙げられる。中でも、重合性液晶化合物等の光学異方層形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。
　具体的な他の溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等の沸点が１２０℃未満又は蒸気圧が０．７ｋＰａよりも高いエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。これら他の溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

　沸点が１２０~２００℃でかつ蒸気圧が０．７ｋＰａ以下であるエステル溶剤の含有量は、通常、光学異方層形成用組成物に対して１０質量％~９５質量％であり、好ましくは１０質量％~９０質量％であり、より好ましくは５０質量％~８５質量％である。

　他の有機溶剤の含有量は、通常、固形分１００質量部に対して、１０質量部~１００００質量部が好ましく、より好ましくは５０質量部~５０００質量部である。固形分とは、光学異方層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。

　光学異方層形成用組成物中の固形分濃度は、好ましくは１質量％~５０質量％であり、より好ましくは２~５０質量％であり、さらに好ましくは５質量％~５０質量％である。

　沸点が１２０~２００℃でかつ蒸気圧が０．７ｋＰａ以下であるエステル溶剤と他の溶剤との含有量比は、エステル溶剤：他の溶剤で表して、通常１０００：１~５：１であり、好ましくは１００：１~１０：１である。

［反応性添加剤］
　本発明の光学異方層形成用組成物は、好ましくは反応性添加剤を含む。
　反応性添加剤を含むことにより、本発明の積層体における光学異方性フィルムと配向膜との密着性が向上し、加工時の剥離が抑制された積層体を得ることができる。

　反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ_２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する、炭素−炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１~２０個であり、好ましくはそれぞれ１~１０個である。

　反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在することが好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。

　反応性添加剤が有する炭素−炭素不飽和結合とは、炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素−炭素二重結合であることが好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素−炭素不飽和結合を含むことが好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。

　反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び２０イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナトエチルアクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。

　具体的には、下記式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｙ）中、
　ｎは１~１０までの整数を表わし、Ｒ^１’は、炭素数２~２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５~２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ^２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方が＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’で示される基である。Ｒ^３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
　式（Ｙ）中のＲ^３’のうち、少なくとも１つのＲ^３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］

　前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、化合物（ＹＹ）という場合がある。）が特に好ましい（なお、ｎは前記と同じ意味である）。

　化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。

　密着性の評価は、ＪＩＳ−Ｋ５６００に則った密着性試験で行うことができる。例えば、コーテック株式会社製クロスカットガイドＩシリーズ（ＣＣＩ−１、１ｍｍ間隔、２５マス用）等の市販の装置を用いて密着性試験を行えばよい。
　例えば、コーテック株式会社製クロスカットガイドＩシリーズ（ＣＣＩ−１、１ｍｍ間隔、２５マス用）を用いて、密着性試験を行い、光学異方性フィルムが形成された配向膜が樹脂基材から剥離せずに保持されるマスが、２５マス中９マス以上であり、面積基準で、３６％以上が樹脂基材から剥離しない状態であれば密着性が高いと判断できる。

　反応性添加剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部~３０質量部であり、好ましくは０．１質量部~５質量部である。

　光学異方層形成用組成物は、上記に加えて、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、カイラル剤等を含んでもよい。

［重合禁止剤］
　重合禁止剤は、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。
　重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。
　光学異方層形成用組成物における重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部~３０質量部であり、好ましくは０．５質量部~１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合することができるため好ましい。

［光増感剤］
　光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。
　光増感剤は、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部~３０質量部であり、好ましくは０．５質量部~１０質量部である。

［レベリング剤］
　レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ　パフォーマンス　マテリアルズ　ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３、ＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ　Ｃｈｅｍｉｅ社製）が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。

　レベリング剤により、より平滑な光学異方性フィルムを形成することができる。また、光学異方性フィルムの製造過程で、光学異方層形成用組成物の流動性を制御したり、光学異方層の架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部~３０質量部であり、好ましくは０．１質量部~１０質量部である。

［カイラル剤］
　カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）が挙げられる。
　カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物としては、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が挙げられる。
　具体的には、特開２００７−２６９６４０号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−１７６８７０号公報、特開２００３−１３７８８７号公報、特表２０００−５１５４９６号公報、特開２００７−１６９１７８号公報および特表平９−５０６０８８号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ７５６である。
　カイラル剤を用いる場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部~３０質量部であり、好ましくは１．０質量部~２５質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合することができるため好ましい。

　本発明の光学異方性フィルムは、前記光学異方層形成用組成物を、配向膜の表面に塗布して、該光学異方層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することにより得られる。

　配向膜は通常、基材に形成される。
　基材としては、通常、透明基材が用いられる。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透光性を有する基材を意味し、透光性とは、波長３８０~７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、ガラスおよび透光性樹脂基材が挙げられ、透光性樹脂基材が好ましい。基材は、通常、フィルム状のものが用いられる。

　透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシド等が挙げられる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンからなる基材が好ましい。

　基材は、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、例えば、真空下または大気圧下、コロナまたはプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法または基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理する方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プラズマまたは紫外線を照射して反応させるグラフト重合法などが挙げられる。中でも、真空下や大気圧下で、基材表面をコロナまたはプラズマ処理する方法が好ましい。

　コロナまたはプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、
大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、
対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、および、
低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法が挙げられる。

　中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、または、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナまたはプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。

　基材に配向膜を形成する方法としては、基材表面に、配向性ポリマーを塗布し乾燥する方法、配向性ポリマーを塗布し乾燥しその表面をラビングする方法、光配向性ポリマーを塗布し乾燥し偏光を照射する方法、酸化ケイ素を斜方蒸着する方法、及び、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ法）を用いて長鎖アルキル基を有する単分子膜を形成する方法などが挙げられる。中でも、後述する重合性液晶化合物の配向均一性、本発明の積層体の製造の処理時間及び処理コストの観点から、配向性ポリマーを塗布し乾燥する方法及び配向性ポリマーを塗布し乾燥しその表面をラビングする方法が好ましい。
　配向性ポリマー及び光配向性ポリマーは、通常、溶剤に溶解して塗布される。

　本明細書における配向膜は、光学異方層形成用組成物に溶解せず、光学異方層形成用組成物に含まれる溶剤の除去や重合性液晶化合物の液晶配向を調整するための加熱で変質せず、フィルム搬送時の摩擦等による剥がれが起きないものが好ましい。

　配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸またはポリアクリル酸エステル類等を挙げることができる。これらのポリマーは、一種類でもよいし、複数種類のポリマーを組み合わせた組成物でもよいし、複数種類のポリマーを組み合わせた共重合体でもよい。中でも、ポリアミド、ポリイミドまたはポリアミック酸が好ましい。これらのポリマーは、脱水や脱アミン等による重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合、開環重合等で容易に製造することができる。
　市販の配向性ポリマーとしては、サンエバー（登録商標、日産化学社製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ製）等が挙げられる。
　このような配向性ポリマーから形成される配向膜は、重合性液晶化合物の液晶配向を容易にする。また、配向性ポリマーの種類やラビング条件によって、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な液晶配向の制御が可能であり、各種液晶パネルの視野角改善等に利用できる。

　光配向性ポリマーとしては、感光性構造を有するポリマーが挙げられる。感光性構造を有するポリマーに偏光を照射すると、照射された部分の感光性構造が異性化又は架橋することで光配向性ポリマーが配向し、光配向性ポリマーからなる膜に配向規制力が付与される。上記感光性構造としては、例えば、アゾベンゼン構造、マレイミド構造、カルコン構造、桂皮酸構造、１，２−ビニレン構造、１，２−アセチレン構造、スピロピラン構造、スピロベンゾピラン構造及びフルギド構造などが挙げられる。配向膜を形成する光配向性ポリマーは、一種類でもよいし、異なる構造のポリマーを複数組み合わせてもよいし、異なる感光性構造を複数有する共重合体であってもよい。光配向性ポリマーは、感光性構造を有する単量体を、脱水や脱アルコールなどの重縮合、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などの連鎖重合、配位重合又は開環重合等することで製造することができる。光配向性ポリマーとしては、特許第４４５０２６１号、特許第４０１１６５２号、特開２０１０−４９２３０号公報、特許第４４０４０９０号、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−２３２９３４号公報などに記載の光配向性ポリマー等が挙げられる。中でも、光配向性ポリマーとしては、耐久性の観点から、偏光照射によって架橋構造を形成するものが好ましい。

　配向性ポリマー又は光配向性ポリマーを溶解する溶剤としては、例えば、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

　溶剤の量は、配向性ポリマー又は光配向性ポリマー１００質量部に対して、通常１０質量部~１０００００質量部であり、好ましくは１０００質量部~５００００質量部であり、より好ましくは２０００質量部~２００００質量部である。

　配向性ポリマー又は光配向性ポリマーを溶剤に溶解して基材に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法も挙げられる。

　乾燥方法としては、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。乾燥温度は、１０~２５０℃が好ましく、２５~２００℃がより好ましい。乾燥時間は、溶剤の種類にもよるが、５秒間~６０分間が好ましく、１０秒間~３０分間がより好ましい。

　ラビングする方法としては、回転しているラビング布が巻きつけられたラビングロールを、基材に塗布され乾燥された配向ポリマーに接触させる方法が挙げられる。

　偏光を照射する方法としては、特開２００６−３２３０６０号公報に記載の装置を用いる方法等が挙げられる。また、所望の複数領域に対応したフォトマスクを介して、当該領域毎に、直線偏光紫外線等の偏光を繰り返し照射することで、パターン化配向膜を形成することもできる。フォトマスクとしては、通常、石英ガラス、ソーダライムガラスまたはポリエステルなどのフィルム上に、遮光パターンを設けたものが用いられる。遮光パターンで覆われている部分は照射される偏光が遮断され、覆われていない部分は照射される偏光が透過される。熱膨張の影響が小さいという点で、石英ガラスが好ましい。光配向性ポリマーの反応性の点で、照射する偏光は紫外線であることが好ましい。

　配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ~１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ~１０００ｎｍである。
　配向膜の厚さが上記範囲にあると、重合性液晶化合物を所望の方向や角度に容易に液晶配向させることができるため好ましい。

　配向膜表面に、光学異方層形成用組成物を塗布して光学異方層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合する、又は、塗布して乾燥して光学異方層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することにより、光学異方性フィルムが得られる。光学異方性フィルムがネマチック相等の液晶相を示す場合に、モノドメイン配向による複屈折性を有する。本発明の光学異方性フィルムは、重合性液晶化合物の液晶配向が固定化されているため、熱による複屈折の変化の影響を受けにくい。

　光学異方性フィルムの厚さは、その用途により適宜調節できるが、０．１μｍ~１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ~５μｍであることがさらに好ましい。

　光学異方性フィルムとしては、位相差フィルム及び偏光フィルム等が挙げられる。
　重合性液晶化合物を垂直または水平配向させて重合することで位相差フィルムが得られる。垂直配向とは基材面に対して垂直な方向に液晶化合物の長軸を有することを意味し、水平配向とは基材面に対して平行な方向に液晶化合物の長軸を有することを意味する。

　重合性液晶化合物の液晶配向は、配向膜及び重合性液晶化合物の性質によって制御される。垂直配向とするためには、垂直配向し易い重合性液晶化合物と、垂直配向し易い重合性液晶化合物を垂直配向させる配向膜とを選択することが好ましい。
　例えば、配向膜が水平配向を発現させる配向規制力を有する材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる配向規制力を有する材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。
　配向規制力は、例えば、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。

　光学異方層形成用組成物を配向膜上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布できる点で、ＣＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法およびバーコーターによる塗布方法が好ましい。Ｒｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向性ポリマー又は光配向性ポリマーを塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に光学異方性フィルムを連続的に形成することもできる。

　乾燥方法としては、配向膜形成時の乾燥方法と同じ方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、通常０℃~２５０℃の範囲であり、好ましくは５０℃~２２０℃の範囲であり、より好ましくは８０℃~１７０℃の範囲である。乾燥時間は、通常１０秒間~６０分間であり、好ましくは３０秒間~３０分間である。

　重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合法が好ましい。光重合法によれば、低温で重合を実施できるため、基材の耐熱性の観点で好ましい。光重合反応は、通常、可視光、紫外光またはレーザー光を照射することにより行われ、好ましくは紫外光である。

　光照射は、塗布された光学異方層形成用組成物に含まれる溶剤を乾燥し除去した後に行うことが好ましい。乾燥は、光照射と並行して行ってもよいが、光照射を行う前に、ほとんどの溶剤を除去しておくことが好ましい。

　配向膜が基材に形成されている場合は、配向膜表面に光学異方性フィルムを形成することで、基材、配向膜、光学異方性フィルムをこの順に有する積層体が得られる。本発明の積層体は、可視光領域における透明性に優れるため、様々な表示装置用の部材として有用である。

　また、当該積層体から、基材、又は、基材及び配向膜を取り除いてもよい。
　基材、又は、基材及び配向膜を有さない光学異方性フィルムは、通常、接着剤を介して偏光フィルム等のその他の部材と組み合わされる。
　接着剤を介してその他の部材と組み合わせる方法としては、基材、又は、基材及び配向膜を有さない光学異方性フィルムを、接着剤を用いてその他の部材へ貼合する方法、及び、基材表面に形成された配向膜の表面に形成された光学異方性フィルムを、接着剤を用いてその他の部材へ貼合した後に基材、又は、基材及び配向膜を取り除く方法等が挙げられる。この際、接着剤は、光学異方性フィルムに塗布されてもよく、その他の部材に塗布されてもよい。

　本発明の光学異方性フィルムの表面の算術平均粗さは、通常１００ｎｍ以下であり、好ましくは５０ｎｍ以下であり、より好ましくは４０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３０ｎｍ以下である。

　算術平均粗さ（Ｒａ）は、例えば、市販のレーザー顕微鏡を用いた断面観察において、付属のソフトを用いて算出することができ、本明細書における算術平均粗さ（Ｒａ）は、パラメータ算出に際してのカットオフ波長を画像視野幅の１／５０とし、基準長さを画像の視野幅として算出したものである。
　具体的には、算術平均粗さ（Ｒａ）は、下記式にしたがって算出される。

　式中、Ｒａは算術平均粗さを、ｌは基準長さを、ｆ（ｘ）は粗さ曲線を表す。
　つまり、算術平均粗さ（Ｒａ）は、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけを抜きとったとき、この抜き取り部分の平均線の方向にｘ軸を、断面の縦倍率の方向にｙ軸を取り、粗さ曲線をｙ＝ｆ（ｘ）で表したときに求められる。

　本発明の積層体を複数枚積層する、本発明の積層体と他のフィルムとを組み合わせる、又は、本発明の光学異方性フィルムとその他の部材とを組み合わせることで、視野角補償フィルム、視野角拡大フィルム、反射防止フィルム、偏光板、円偏光板、楕円偏光板又は輝度向上フィルムとして利用できる。

　位相差フィルムである本発明の光学異方性フィルム及び、該光学異方性フィルムを有する積層体は、光射出側の斜角から確認した場合の直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、円偏光または楕円偏光を直線偏光に変換したり、直線偏光の偏光方向を変換したりするための光学材料として特に有用である。

　位相差フィルムである本発明の光学異方性フィルム及び、該光学異方性フィルムを有する積層体は、ＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌ　ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（ｉｎ−ｐｌａｎｅ　ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　ｂｅｎｄ）モード、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ）モード及び、ＳＴＮ（ｓｕｐｅｒ　ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ）モード等の種々の液晶表示装置用の位相差フィルムとして使用することができる。

　本発明の光学異方性フィルム及び積層体は、面内の遅相軸方向の屈折率をｎ_ｘ、面内の遅相軸と直交する方向（進相軸方向）の屈折率をｎ_ｙ、厚み方向の屈折率をｎ_ｚとした場合、以下のように分類できる。本発明の光学異方性フィルム及び積層体は、特にポジティブＣプレートとして好ましく用いられる。ｎ_ｘ＞ｎ_ｙ≒ｎ_ｚのポジティブＡプレート、
ｎ_ｘ≒ｎ_ｙ＞ｎｚのネガティブＣプレート、
ｎ_ｘ≒ｎ_ｙ＜ｎｚのポジティブＣプレート、
ｎ_ｘ≠ｎ_ｙ≠ｎｚのポジティブＯプレートおよびネガティブＯプレート

　本発明の光学異方性フィルム及び積層体をポジティブＣプレートとして用いる場合は、正面位相差値Ｒｅ（５４９）は０~１０ｎｍの範囲に、好ましくは０~５ｎｍの範囲に調整すればよく、厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、−１０~−３００ｎｍの範囲に、好ましくは−２０~−２００ｎｍの範囲に調整すればよく、特に液晶セルの特性に合わせて、適宜選択することが好ましい。

　光学異方性フィルムの厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、面内の進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ_５０と面内の位相差値Ｒ_０とから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、面内の位相差値Ｒ_０、進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ_５０、位相差フィルムの厚みｄ、及び位相差フィルムの平均屈折率ｎ_０から、以下の式（９）~（１１）によりｎ_ｘ、ｎ_ｙ及びｎｚを求め、これらを式（８）に代入して、算出することができる。

　Ｒ_ｔｈ＝［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］×ｄ　　　（８）
　Ｒ_０　＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ　　　　　　　　　　　　（９）
　Ｒ_５０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ’）×ｄ／ｃｏｓ（φ）　　（１０）
　（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ＋ｎ_ｚ）／３＝ｎ_０　　　　　　　　（１１）
ここで、
　φ＝ｓｉｎ^−１　〔ｓｉｎ（５０°）／ｎ_０〕
　ｎ_ｙ’＝ｎ_ｙ×ｎ_ｚ／〔ｎ_ｙ ^２×ｓｉｎ^２（φ）＋ｎ_ｚ ^２×ｃｏｓ^２（φ）〕^１／２

　本発明の光学異方性フィルム及び積層体は、偏光板を構成する部材としても有用である。

　偏光板の具体例としては、図１（ａ）~図１（ｅ）で示される偏光板が挙げられる。図１（ａ）で示される偏光板４ａは、位相差フィルム１と、偏光フィルム２とが、直接積層された偏光板であり、図１（ｂ）で示される偏光板４ｂは、位相差フィルム１と偏光フィルム２とが、接着剤層３’を介して貼り合わされた偏光板である。図１（ｃ）で示される偏光板４ｃは、位相差フィルム１と、位相差フィルム１’とを積層させ、さらに、位相差フィルム１’と偏光フィルム２とを積層させた偏光板であり、図１（ｄ）で示される偏光板４ｄは、位相差フィルム１と、位相差フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、位相差フィルム１’上に偏光フィルム２を積層させた偏光板である。図１（ｅ）で示される偏光板４ｅは、位相差フィルム１と、位相差フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、位相差フィルム１’と偏光フィルム２とを接着剤層３’を介して貼り合せた偏光板である。本明細書における接着剤とは、接着剤および／または粘着剤の総称を意味する。
　上記の位相差フィルム及び偏光フィルムは、基材を有していてもよいし、有していなくてもよい。位相差フィルム１及び１’に、光学異方性フィルムが位相差フィルムである、本発明の光学異方性フィルム及び積層体を用いることができ、偏光フィルム２に、光学異方性フィルムが偏光フィルムである、本発明の光学異方性フィルム及び積層体を用いることができる。

　偏光フィルム２は、偏光機能を有するフィルムであればよい。偏光フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、及び、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、ヨウ素及びアゾ化合物等の二色性色素が挙げられる。

　吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性色素を吸着させて延伸したフィルム及び、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げられ、具体的には、特許第３７０８０６２号、特許第４４３２４８７号等に記載の偏光フィルムが挙げられる。

　吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられ、具体的には、特開２０１２−３３２４９号公報等に記載の偏光フィルムが挙げられる。

　偏光フィルムは、好ましくは、その片面又は両面に保護フィルムを有する。当該保護フィルムとしては、上記した基材と同一のものが挙げられる。

　接着剤層３および接着剤層３’を形成する接着剤は、透明性が高く、耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤およびウレタン系接着剤が挙げられる。

　本発明の光学異方性フィルム及び積層体は表示装置に用いることができる。該表示装置としては、本発明の光学異方性フィルム又は積層体と液晶パネルとが貼り合わされた液晶パネルを備える液晶表示装置、および、本発明の光学異方性フィルム又は積層体と発光層とが貼り合わされた有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」ともいう）パネルを備える有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。本発明の光学異方性フィルム又は積層体を有する偏光板を備えた表示装置の実施形態として、液晶表示装置について説明する。

　液晶表示装置としては、図２（ａ）および図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ａおよび１０ｂが挙げられる。図２（ａ）に示す液晶表示装置１０ａでは、本発明の偏光板４と液晶パネル６とが、接着層５を介して貼り合わされている。図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ｂでは、本発明の偏光板４が液晶パネル６の一方の面に、本発明の偏光板４’が液晶パネル６の他方の面に、接着層５および接着層５’をそれぞれ介して貼り合わされた構造を有している。これら液晶表示装置では、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶分子の配向が変化し、白黒表示が実現できる。

　以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。なお、例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部を意味する。

［配向膜用の組成物の調製］
　組成を表１に示す。サンエバーＳＥ−６１０（日産化学工業株式会社製）（配向性ポリマー）にγ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）および酢酸ブチルを加えた溶液に、添加剤ＬＲ９０００を添加して配向膜形成用組成物（１）を調整した。

　表１における括弧内の値は、調製した組成物における各成分の割合を表す。ＳＥ−６１０については、固形分量を納品仕様書に記載の濃度から換算した。
　表１におけるＬＲ９０００は、ＢＡＳＦジャパン社製のＬａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００を表す。

［光学異方層形成用組成物の調製］
　光学異方層形成用組成物（１）~（６）の組成を表２に示す、各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却して調製した。液晶化合物（Ｘ−１）は、特開２０１０−１２８４号公報に記載の方法で製造した。

　表２における括弧内の値は、調製した組成物における各成分の割合を表す。表２におけるＩｒｇ３６９は、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア３６９を、ＢＹＫ−３６１Ｎは、ビックケミージャパン製のレベリング剤を、Ｘ−１は、下記式（Ｘ−１）で表される重合性液晶化合物を表す。

実施例１
　シクロオレフィンポリマーフィルム（Ａｒｔｏｎ（商標登録）、ＪＳＲ株式会社製）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。
　コロナ処理を施した表面に、配向膜形成用組成物（１）を塗布し、乾燥して、厚さ６０ｎｍの配向膜を作成した。得られた配向膜の表面に、光異方性層形成用組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布し、１０５℃に加熱し、未重合フィルムを配向膜上に形成した。室温まで冷却した後、ユニキュア（ＶＢ—１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を、波長３６５ｎｍにおいて４０ｍＷ／ｃｍ^２の照度で３０秒間照射し、積層体（１）を得た。

実施例２、実施例３、比較例１、比較例２、比較例３
　実施例１における、光学異方層形成用組成物（１）を光学異方層形成用組成物（２）、光学異方層形成用組成物（３）、光学異方層形成用組成物（４）、光学異方層形成用組成物（５）又は光学異方性層形成用組成物（６）とした以外は、実施例１と同様の条件で実施し、積層体（２）~（５）を得た。

［透明性評価］
　スガ試験機株式会社製　ヘイズメーター（型式ＨＺ−２）を用いて、ダブルビーム法で、積層体（１）~（６）のヘイズ値を測定した。結果を表３に示す。

［光学特性の測定］
　積層体（１）~（６）に含まれる重合後の重合性液晶化合物の配向方向を測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）により測定した。サンプルへの光の入射角を変えて測定し、液晶が垂直配向しているかどうか確認した。

［算術平均粗さの測定］
　光学異方性フィルムの表面の算術平均粗さを、レーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）を用いて算出した（対物レンズ：１００倍）。結果を表３に示す。

［密着性評価］
　ＪＩＳ−Ｋ５６００に則り、コーテック株式会社製クロスカットガイドＩシリーズ（ＣＣＩ−１、１ｍｍ間隔、２５マス用）を用いて、積層体（１）~（６）の、配向膜と光学異方性フィルムとの剥離耐性を評価した。剥離試験後、剥離せずに保持された配向膜と光学異方性フィルムとの積層体の残存数をカウントした結果を表３に示す。

　実施例で作製した積層体は、透明性に優れていた。

　本発明によれば、透明性に優れる光学異方性フィルム及び積層体を得ることができる。

１、１’：位相差フィルム
２、２’：偏光フィルム
３、３’：接着剤層
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４、４’：偏光板
５、５’：接着層
６：液晶パネル
１０ａ、１０ｂ：液晶表示装置

Claims

　重合性液晶化合物、光重合開始剤及び沸点が１２０~２００℃でかつ蒸気圧が０．７ｋＰａ以下であるエステル溶剤を含む光学異方層形成用組成物。
　エステル溶剤が、酢酸２−メトキシエチル、酢酸２−エトキシエチル及びアセト酢酸エチルからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１記載の光学異方層形成用組成物。
　光学異方層形成用組成物に対するエステル溶剤の含有量が１０質量％~９５質量％である請求項１又は２に記載の光学異方層形成用組成物。
　さらにイソシアネート基を有する化合物を含む、請求項１~３のいずれかに記載の光学異方層形成用組成物。
　請求項１~４のいずれかに記載の光学異方層形成用組成物を、配向膜の表面に塗布して該光学異方層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することにより得られる光学異方性フィルム。
　位相差フィルムである請求項５に記載の光学異方性フィルム。
　表面の算術平均粗さが１００ｎｍ以下である請求項５又６に記載の光学異方性フィルム。
　ＩＰＳ（ｉｎ−ｐｌａｎｅ　ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）液晶表示装置用の請求項５~７のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
　請求項５~８のいずれかに記載の光学異方性フィルムを有する偏光板。
　請求項５~８のいずれかに記載の光学異方性フィルムを備えた表示装置。
　基材と、配向膜と、請求項５~８のいずれかに記載の光学異方性フィルムをこの順に有する積層体。
　基材がポリオレフィン樹脂である請求項１１に記載の積層体。
　配向膜付基材の配向膜表面に、請求項１~４のいずれかに記載の光学異方層形成用組成物を塗布し、乾燥し、光照射する積層体の製造方法。
　請求項１１又は１２に記載の積層体を有する偏光板。
　請求項１１又は１２に記載の積層体を備えた表示装置。