WO2018101047A1 - 振動発電デバイス - Google Patents

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WO2018101047A1
WO2018101047A1 PCT/JP2017/041175 JP2017041175W WO2018101047A1 WO 2018101047 A1 WO2018101047 A1 WO 2018101047A1 JP 2017041175 W JP2017041175 W JP 2017041175W WO 2018101047 A1 WO2018101047 A1 WO 2018101047A1
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WO
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side portion
vibration
movable side
power generation
generation device
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PCT/JP2017/041175
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English (en)
French (fr)
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年吉 洋
橋口 原
裕幸 三屋
浩史 今本
Original Assignee
国立大学法人東京大学
国立大学法人静岡大学
株式会社鷺宮製作所
一般財団法人マイクロマシンセンター
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    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N1/00Electrostatic generators or motors using a solid moving electrostatic charge carrier
    • H02N1/06Influence generators
    • H02N1/08Influence generators with conductive charge carrier, i.e. capacitor machines
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • B81B3/0018Structures acting upon the moving or flexible element for transforming energy into mechanical movement or vice versa, i.e. actuators, sensors, generators
    • B81B3/0021Transducers for transforming electrical into mechanical energy or vice versa
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2203/00Basic microelectromechanical structures
    • B81B2203/01Suspended structures, i.e. structures allowing a movement
    • B81B2203/0136Comb structures

Definitions

  • the present invention relates to an electrostatic vibration power generation device that converts mechanical vibration energy into electric power by electrostatic induction using an electret.
  • vibration power generation devices that can convert vibration energy of environmental vibrations such as vibration due to walking, vibration due to driving, bridge vibration, and low frequency vibration during wind power generation into electric power has been promoted. It has been.
  • Electromagnetic, piezoelectric, and electrostatic methods are known as this type of vibration power generation device, but it is easier to miniaturize compared to electromagnetic methods, and lead such as PZT (Piezoelectric Transducer) required for piezoelectric methods. Electrostatic vibration power generation devices are attracting attention because they do not contain toxic substances such as. As this type of electrostatic vibration power generation device, those proposed in, for example, Patent Document 1 (WO 2011/0886830) and Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2011-36089) are known.
  • the first substrate and the second substrate are opposed to each other at a predetermined interval, and are relatively moved while maintaining the facing state. It is configured to be possible.
  • a plurality of strip-like electrets are formed on the first substrate so as to be arranged in the relative movement direction, and the second substrate is opposed to the electrets of the first substrate.
  • the first electrode and the second electrode are formed, and the electrostatic capacitance between the electret and the first electrode and the electrostatic capacitance between the electret and the second electrode are relative to each other. It is configured to output electric power by changing with movement.
  • Patent Document 2 includes a first electrode having an electret film formed on a substrate, and a second electrode facing the first electrode with an air gap and having a plurality of openings.
  • the MEMS Micro-Electro-Mechanical
  • System a microelectromechanical system
  • JP 2011-186803 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-244806
  • the magnitude of the excitation acceleration is not constant but changes with time.
  • the power generation output power P of the vibration power generation device is proportional to the force f, and the current value i and the voltage value V of the power generation output are both proportional to the force f.
  • the vibration power generation device rectifies the power generation output current and stores it in a power storage element such as a power storage capacitor so as to take out the generated power generation output. Therefore, it is desirable that a vibration power generation device that generates power from environmental vibrations can efficiently store power in a power storage element regardless of whether the excitation acceleration is small or large.
  • the diode used in the rectifier circuit for storing electricity by the power generation output of the vibration power generation device has a threshold voltage of, for example, about 0.3 V in the case of a Schottky diode, and in the case of a silicon PN junction diode. 0.7V is required, and a voltage higher than that is required as the power generation output of the vibration power generation device.
  • the output impedance is usually a fixed value. For this reason, if the output impedance of the vibration power generation device is increased to make the rectifying diode conductive even at a small output current value at low excitation acceleration, the output current value is large at high excitation acceleration. Nevertheless, the large current cannot be used efficiently and the loss increases. Conversely, if the output impedance of the vibration power generation device is reduced, a large current at the time of high excitation acceleration can be efficiently used for power storage, but at the time of a small output current value at low excitation acceleration, A voltage higher than the threshold voltage of the diode cannot be obtained, and vibration energy with low excitation acceleration cannot be used for vibration power generation in the vibration power generation device.
  • the present invention can efficiently rectify and store electric energy from low acceleration to high acceleration even when the vibration energy applied from the outside is environmental vibration in which the magnitude of excitation acceleration changes with time. It is an object of the present invention to provide an electrostatic vibration power generation device capable of being made.
  • the invention of claim 1 A movable side portion configured to be able to vibrate in a predetermined vibration direction by vibration energy applied from the outside, and having a first surface along the vibration direction; A second surface facing the first surface of the movable side portion at a predetermined interval so that the movable side portion can vibrate in the vibration direction; A fixed side that is also configured to fix position; With On the respective surfaces of the first surface of the movable side portion and the second surface of the fixed side portion, a plurality of concave portions and convex portions are alternately formed in the vibration direction, and An electret film is formed on at least one of the fixed side portion and the movable side portion, The force coefficient (electromechanical conversion coefficient) having a value corresponding to the distance between the first surface side of the movable side portion and the second surface side of the fixed side portion is the vibration amplitude of the movable side portion.
  • a vibration power generation device is provided which is configured to be small when small and large when the vibration amplitude of
  • the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A is small, so the output impedance Zm is large, and the output voltage e is small even if the output current i is small. growing. Therefore, even when the acceleration is low, the rectifying diode can be conducted, and the output current i having a small value can be efficiently rectified and charged.
  • the vibration power generation device is suitable when the vibration energy applied from the outside generates vibration power using environmental vibration or the like in which the magnitude of excitation acceleration changes with time.
  • the vibration power generation device of the embodiment shown below is an example in the case of being configured as a MEMES device manufactured by a semiconductor manufacturing process.
  • FIG. 1 is a perspective view for explaining an example of the overall configuration of the vibration power generation device 10 of the first embodiment.
  • the vibration power generation device 10 of the first embodiment includes a movable side portion 2 formed by performing a semiconductor manufacturing process as described later on the semiconductor substrate 1, fixed side portions 3A and 3B, It consists of support beam portions 4L and 4R that support the movable side portion 2.
  • the movable side portion 2 is formed in an elongated shape having a rectangular cross section, and is configured to vibrate with the longitudinal direction of the movable side portion 2 as a vibration direction, as indicated by an arrow AR in FIG. That is, both ends in the longitudinal direction, which is the vibration direction of the movable side portion 2, can be vibrated by the support beam portion 4L and the support beam portion 4R formed from the semiconductor substrate 1 by the semiconductor manufacturing process. It is supported by.
  • the vibration direction of the movable side portion 2 is a direction orthogonal to the direction orthogonal to the substrate surface of the semiconductor substrate 1 (the direction indicated by the arrow B in FIG. 1) in FIG. 1 along the substrate surface.
  • Each of the support beam portion 4L and the support beam portion 4R has a configuration of a support beam including two thin plate portions 41 and 42 and thin plate portions 43 and 44 provided in a direction orthogonal to the vibration direction. .
  • Each of the support beam portion 4L and the support beam portion 4R is formed in the semiconductor substrate 1 so as to surround the space 5L and the space 5R formed on both sides in the vibration direction of the movable side portion 2 in the semiconductor substrate 1. It is attached to the supporting beam holding part 6L and the supporting beam holding part 6R.
  • Both end portions 2a and 2b in the longitudinal direction of the movable side portion 2 are coupled to the support beam portion 4L and the support beam portion 4R at the central portions of the two thin plate portions 41 and 42 and the thin plate portions 43 and 44, and vibrate. It is possible to move in the direction.
  • Each of the support beam portion 4L and the support beam portion 4R can be composed of one thin plate-like portion, but a plurality of, in this example, two thin plate-like portions 41 and 42 and thin plate-like portions 43 and 44 are used.
  • the vibration direction of the movable side portion 2 is difficult to be deflected, and the movable side portion 2 does not come into contact with the opposed fixed side portions 3A and 3B and stably vibrates in the direction of the arrow AR. To be able to.
  • the fixed side portions 3A and 3B are provided at positions that sandwich the movable side portion 2 in a direction orthogonal to the vibration direction of the movable side portion 2.
  • each of the fixed side portions 3A and 3B is a direction along the direction orthogonal to the substrate surface indicated by arrow B in FIG. It is comprised so that it may have.
  • the surface 31A of the fixed side portion 3A is a direction along the direction orthogonal to the substrate surface of the movable side portion 2 and is opposed to the surface 21 in the direction along the vibration direction of the movable side portion 2 with a predetermined interval. To be in a state to do.
  • the surface 31B of the fixed side portion 3B is a direction along the direction orthogonal to the substrate surface of the movable side portion 2 and is opposed to the surface 22 along the vibration direction of the movable side portion 2 with a predetermined interval. To be in a state to do.
  • the surface 21, the surface 22, the surface 31A, and the surface 31B are referred to as an opposing surface 21, an opposing surface 22, an opposing surface 31A, and an opposing surface 31B.
  • a plurality of protrusions 23 and protrusions 24 that protrude in a direction orthogonal to the vibration direction are arranged in a comb-like shape in the direction along the vibration direction.
  • a plurality of protrusions 32A and protrusions 32B protruding in a direction orthogonal to the vibration direction are also formed on the opposing surface 31A of the fixed side portion 3A and the opposing surface 31B of the fixed side portion 3B. Are arranged in a comb-tooth shape in the direction along the line.
  • the protrusions 23, 24, 32A and 32B have the same configuration, and in this example, the protrusion having a rectangular cross section is formed to extend in the direction of arrow B. .
  • the protrusions 23, 24, 32A and 32B each constitute a convex part, and a concave part is formed between each of the plurality of protrusions 23, 24, 32A and 32B.
  • FIG. 2 is a view of a part of the facing portion between the fixed side portion 3A and the movable side portion 2 as viewed from above in the direction of arrow B in FIG. 1 and perpendicular to the vibration direction of the movable side portion 2.
  • the state where the side part 2 is stationary is shown.
  • the plurality of protrusions 23 formed on the facing surface 21 of the movable side portion 2 and the plurality of protrusions 32A formed on the facing surface 31A of the fixed side portion 3A are as follows.
  • the plurality of protrusions 32 ⁇ / b> A formed in the structure are configured to face each other.
  • the length of the direction orthogonal to the vibration direction of the plurality of protrusions 23 arranged in the vibration direction on the facing surface 21 of the movable side portion 2, that is, the height Hm of the protrusions 23 is not constant, The change in the height Hm is made different so as to be, for example, a sine wave.
  • the length in the direction orthogonal to the vibration direction of the plurality of protrusions 32A arranged in the vibration direction on the facing surface 31A of the fixed side portion 3A, that is, the height Hs of the protrusion 32A is not constant.
  • the height Hs is changed so as to have a sine wave shape, for example.
  • the number of protrusions 23 and 24 on the movable side portion 2 of the vibration power generation device 10 and the number of protrusions 32A and 32B on the fixed side portions 3A and 3B are 10 to 10 in FIG. 1 and FIG. Although the number is about 12, the number is actually larger. And the change of the height of the protrusions 23, 24, 32A, and 32B is not about one cycle as shown in FIGS. 1 and 2, but extends over a plurality of periods according to the number of protrusions.
  • the interval between the protrusions 23 and the protrusions 32A facing each other is such that the plurality of protrusions 23 and the protrusions In the portion 32A, the height Hm of the protruding portion 23 and the height Hs of the protruding portion 32A are configured to change so as to have an equal interval gs.
  • the minute gap gmin is used. It is comprised so that a space
  • the height Hm of the protrusion 23 of the movable side portion 2 changes in the vibration direction AR
  • the height Hs of the protrusion 32A of the fixed side portion 3A changes in the vibration direction AR. Since the gap with the minimum gap g exists, the movable side portion 2 maintains the gap with the gap g with respect to the fixed side portion 3A, and the vibration indicated by the arrow AR in FIGS. It is possible to vibrate and move in the direction.
  • the opposing surface 21 (the base position of the protrusion 23) where the protrusion 23 of the movable side portion 2 is formed
  • the opposing surface 31A (the base of the protrusion 32A) where the protrusion 32A of the fixed side portion 3A is formed. Is separated by a distance D.
  • the length of the movable side portion 2 in the vibration direction is, for example, 12 mm, and the length in the direction orthogonal to the vibration direction is, for example, 8 mm.
  • the some protrusion 32B currently formed in the opposing surface 31B of the fixed side part 3B, and the some protrusion 24 currently formed in the opposing surface 22 of the movable side part 2 The relationship is also the same as in FIG. In this case, in this example, the positional relationship (opposite phase relationship) between the protrusion 23 formed on the opposing surface 21 of the movable side portion 2 and the protrusion 32A formed on the opposing surface 31A of the fixed side portion 3A.
  • the protrusion 24 is formed on the opposed surface 22 of the movable side portion 2 and the opposed surface 31B of the fixed side portion 3B.
  • the positional relationship (opposite phase relationship) with the protrusion 32B is also in the same state. That is, the opposing phase relationship between the protruding portion 23 of the movable side portion 2 and the protruding portion 32A of the fixed side portion 3A and the opposing phase relationship between the protruding portion 24 of the movable side portion 2 and the protruding portion 32B of the fixed side portion 3B are the same phase. It is supposed to be.
  • an electret film is formed on one of the fixed side portions 3A and 3B or the movable side portion 2, and the fixed side portions 3A and 3B or the movable side on which the electret film is formed.
  • One of the side portions 2 is set to a predetermined electret potential E.
  • electret films are formed on the fixed side portions 3A and 3B, and the fixed side portions 3A and 3B have an electret potential E of ⁇ 400 volts, for example.
  • the fixed side portions 3A and 3B and the movable side portion 2 are electrically insulated from each other by an insulating layer of a semiconductor substrate, as will be described later.
  • the movable side portion 2 is formed with electrodes 25 and 26 at both ends in the vibration direction, and the fixed side portion 3A and the fixed side portion 3B have the movable side portion 2.
  • An electrode 33A and an electrode 33B are formed at an end portion in a direction orthogonal to the vibration direction.
  • the electrode 25 and the electrode 26, the electrode 33A, and the electrode 33B serve as connection terminal electrodes when the vibration power generation device 10 is connected to the charging circuit.
  • FIGS. 3A, 3B, and 3C show the opposing phase relationship between the protrusion 23 of the opposing surface 21 and the protrusion 32A of the opposing surface 31A of the fixed side 3A when the movable side portion 2 vibrates. It is a figure for demonstrating the relationship with the electrostatic capacitance at that time.
  • FIG. 3A shows a case where the protrusion 23 of the movable side portion 2 is located at the center of the adjacent protrusion 32A of the fixed side portion 3A, and the end surfaces of the tips of the protrusion 23 and the protrusion 32A are In this state, they are not opposed at all in the direction orthogonal to the vibration direction.
  • the end surface of the tip of the protrusion 23 of the movable side portion 2 is in a state of facing the facing surface 31A of the fixed side portion 3A separated by the distance D.
  • the fixed side portion 3A have a small value C (small).
  • FIG. 3C shows a state in which the end face of the tip of the protrusion 23 of the movable side portion 2 and the end face of the tip of the protrusion 32A of the fixed side portion 3A are entirely opposed in the direction orthogonal to the vibration direction. It is.
  • the end surface of the tip of the protrusion 23 of the movable side portion 2 and the end surface of the tip of the facing surface 31A of the fixed side portion 3A face each other with a predetermined interval (minimum value g).
  • the electrostatic capacity between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3A becomes a large value C (large).
  • FIG. 3B shows a state in which the end face of the tip of the protrusion 23 of the movable side portion 2 and the end face of the tip of the protrusion 32A of the fixed side portion 3A partially face each other in the direction orthogonal to the vibration direction. It is.
  • the state of FIG. 3B is an intermediate state between the state of FIG. 3A and the state of FIG. 3C, and the capacitance between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3A. Is an intermediate value C (medium) between the small value C (small) and the large value C (large).
  • the vibration power generation device 10 when vibration energy is applied from the outside and the movable side portion 2 vibrates, it is between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3A and the fixed side portion 3B. AC output power is generated according to the change in electrostatic capacity, external force, vibration speed, and the like. Then, the AC output power generated by the vibration power generation device 10 of this embodiment can be supplied to a load, stored in a power storage element, or the like.
  • n is the number of protrusions facing the movable side 2 and the fixed side portions 3A and 3B
  • ⁇ o is the dielectric constant of vacuum
  • b is the thickness of the vibration power generation device 10
  • E is the electret potential.
  • Do are intervals (gap) between the protrusions 23 and 24 of the movable side portion 2 and the protrusions 32A and 32B of the fixed side portions 3A and 3B.
  • the distance (gap) do between the protrusions 23 and 24 of the movable side portion 2 and the protrusions 32A and 32B of the fixed side portions 3A and 3B is as described above. Since it changes according to the vibration amplitude in the vibration direction of the movable side portion 2, the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A changes according to the change of the interval do.
  • r is the mechanical resistance (damping resistance) of the vibration power generation device 10 of this embodiment.
  • the output impedance Zm of the vibration power generation device 10 is large even when the excitation acceleration applied to the vibration power generation device 10 is low and the vibration amplitude is small, the output voltage e of the vibration power generation device 10 is large. Becomes a value sufficient to make the rectifying diode conductive, and even with a small output current i, it is possible to charge the storage element.
  • the vibration power generation device 10 of this embodiment even when the excitation acceleration due to the external force is low acceleration, it can vibrate efficiently in response to the external force, and even with a small output current, There is an effect that power can be efficiently generated and charged efficiently.
  • the vibration power generation device 10 having the above-described configuration, when the excitation acceleration is high and the vibration amplitude is large, the output impedance Zm of the vibration power generation device 10 is small, and the output current i of the vibration power generation device 10 is At this time, the rectifying diode is rendered conductive by the output voltage e of the vibration power generation device 10, so that the storage element can be charged by the large output current i.
  • the vibration power generation device 10 of this embodiment has a large output impedance when the excitation acceleration is low, and a small output impedance when the acceleration is high. Therefore, according to the vibration power generation device 10 of this embodiment, the output current and the output voltage when the vibration response is performed with respect to the excitation acceleration of the environmental vibration energy distributed over a wide range from the low acceleration state to the high acceleration state, The rectifier circuit can be driven and stored efficiently.
  • reference numeral 7 denotes a weight.
  • the weight 7 is not made from the semiconductor substrate 1, but is made separately and the movable side portion 2 of the vibration power generation device 10 of the first embodiment. It is to be mounted on the top.
  • the mass m of the movable side portion 2 is increased, and the output P (see (Equation 6) in FIG. 19) of the vibration power generation device 10 is increased. be able to.
  • Equation 6 In (Equation 6) of FIG. 19, m is the mass of the movable side 2 including the weight 7, x is the vibration amplitude, ⁇ is the angular velocity, and Q is the sharpness at the time of resonance of the movable side 2 (so-called Q value (Quality factor)), which is the ratio of the vibration amplitude of the movable side portion 2 to the amplitude of the external excitation vibration.
  • Q value Quality factor
  • a vibration power generation device is also known in which the comb-shaped protrusions on the movable side and the fixed side are engaged with each other and the movable side is vibrated in the height direction of the engaged protrusions.
  • JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEM. VOL.20.NO.6.DECEMBER 2011 See, for example, publicly known literature (JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEM. VOL.20.NO.6.DECEMBER 2011)).
  • a gap gmin is provided at a minimum between the protrusion 32A of the comb-like array formed on the opposing surface 31A and the protrusion 32B of the comb-like array formed on the opposing surface 31B of the fixed side 3B.
  • the movable side portion 2 is configured to vibrate and move in a direction along the surfaces of the opposing surfaces 21, 22, 31A, 31B.
  • the movable side portion 2 is kept at a distance of gmin between the fixed side portions 3A and 3B, and is orthogonal to the direction of the gap g. Therefore, the pull-in phenomenon does not occur. Therefore, in the vibration power generation device 10 of this embodiment, there is a merit that it is not necessary to limit the amplitude of vibration of the movable side portion 2 in principle.
  • the vibration power generation device of this embodiment has an advantage that vibration is easily grown by external vibration energy because the electrostatic restraining force at the start of vibration is small.
  • the vibration power generation device 10 of the first embodiment is a MEMS device formed by a semiconductor process performed on the semiconductor substrate 1.
  • the semiconductor substrate a single crystal silicon substrate, a polycrystalline silicon substrate, an SOI (Silicon on Insulator) substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a glass substrate, a polymer substrate, or the like can be used.
  • an SOI substrate is used as the semiconductor substrate.
  • 5 to 9 are diagrams showing an example of a semiconductor manufacturing process for the vibration power generation device 10 of this embodiment.
  • FIG. 5A shows the semiconductor substrate 1 for one vibration power generation device 10, in which the horizontal length X is 12 mm, for example, and the vertical length Y is 8 mm, for example.
  • FIG. 5B shows a cross-sectional view when the semiconductor substrate 1 is broken in a direction perpendicular to the substrate surface 1a.
  • FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
  • the semiconductor substrate 1 has a plurality of layers stacked in a direction orthogonal to the substrate surface 1a.
  • an SOI layer 101 that forms the substrate surface 1a, and a buried oxide layer 102 and the handle layer 103.
  • the SOI layer 101 is a P-type silicon layer having a thickness of 300 ⁇ m and a specific resistance of, for example, 0.1 ⁇ cm.
  • the buried oxide film layer 102 is an insulating layer made of an oxide film having a thickness of 2 ⁇ m.
  • the handle layer 103 is made of a P-type silicon layer having a thickness of 500 ⁇ m and a specific resistance of, for example, 0.1 ⁇ cm.
  • a silicon nitride (Si3N4) film 104 is formed by LPCVD (Low Pressure, Chemical, Vapor, Deposition) method. This silicon nitride film 104 is for securing a position where the electrodes 25, 26, 33A and 33B shown in FIG. 1 will be formed later.
  • the silicon nitride film 104 is patterned to leave only the position portions 104a, 104b, 104c, and 104d for forming the electrodes 25, 26, 33A, and 33B, as shown in FIGS. 5D and 5E.
  • Removed. 5E is a view of the semiconductor substrate 1 as viewed from the substrate surface 1a side, as in FIG. 5A.
  • FIG. 5D is a cross-sectional view of FIG. It is B line sectional drawing.
  • a resist film 105 is applied on the substrate surface 1a of the semiconductor substrate 1, and the movable side portion 2 is applied to the applied resist film 105. Patterning is performed so as to leave portions corresponding to the portions forming the fixed side portion 3A and the fixed side portion 3B, and the support beam portion 4L and the support beam portion 4R, and mask those portions.
  • 6A is a view of the semiconductor substrate 1 as viewed from the substrate surface 1a side, as in FIG. 5A.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view of FIG. FIG.
  • the number of protrusions 23 and 24 on the movable side portion 2 of the vibration power generation device 10 and the number of protrusions 32A and 32B on the fixed side portions 3A and 3B are shown in the semiconductor manufacturing process diagrams of FIGS. For convenience of drawing, the number is 5 to 6, but as described above, the number is actually larger. Further, the protrusions 23 and 24 of the movable side portion 2 of the vibration power generation device 10 and the protrusions 32A and 32B of the fixed side portions 3A and 3B are illustrated in the drawing of the semiconductor manufacturing process of FIGS. For the sake of convenience, all are shown as having the same height, but in practice, as shown in FIG. 2, it goes without saying that the height is different in the vibration direction.
  • ICP Inductively Coupled Plasma
  • RIE Reactive Ion Etching
  • FIGS. 6D and 6E are views of the semiconductor substrate 1 viewed from the substrate surface 1a side
  • FIG. 6D is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 6E.
  • FIG. 7A is a view of the semiconductor substrate 1 as viewed from the back surface 1b side
  • FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line EE in FIG. 7A.
  • a deep etching process by ICP-RIE is performed to Then, the portion not masked by the resist film 106 is removed by etching up to the buried oxide film layer 102.
  • FIGS. 7E is a view of the semiconductor substrate 1 as viewed from the back surface 1b side
  • FIG. 7D is a cross-sectional view taken along line FF in FIG. 7E.
  • the exposed portion of the buried oxide film layer 102 is removed by etching with a buffer hydrofluoric acid solution, and the cross-sectional view of FIG. 8A (the same position as the cross-sectional view of FIG. 7D) is applied.
  • the movable side portion 2, the support beam portion 4L, and the support beam portion 4R are made movable.
  • bubbling oxidation treatment with a KOH (potassium hydroxide) solution is performed, and as shown in the cross-sectional view of FIG. 8B (the cross-sectional view at the same position as the cross-sectional view of FIG. 8A), the potassium-containing oxidation is performed.
  • a film 107 is formed.
  • the potassium-containing oxide film 107 is for electret processing for generating an electret film, which will be described later, and has a thickness of 1 ⁇ m, for example.
  • the techniques described in FIGS. 2 and 3 of JP-A-2016-82836 and the description thereof can be used. The details are omitted here.
  • the silicon nitride films 104a, 104b, 104c, and 104d are etched away as shown in the cross-sectional view of FIG. 8C, and the etched portions are removed from the electrodes 25, 26, and 33A described above. , 33B.
  • the components of the vibration power generation device of this embodiment can be created from the semiconductor substrate 1 as shown in FIG. And the electretization process which produces
  • electret films that are negatively charged are generated on the fixed side portions 3A and 3B.
  • the electretization process can be performed using, for example, the Bias-Temperature method described in JP2013-13256A. Detailed description thereof is omitted here.
  • FIG. 9 is a diagram showing a circuit configuration example of a charging circuit using the vibration power generation device 10 of this embodiment.
  • the vibration power generation device 10 of this embodiment includes a capacitance C1 generated between the electrode 25 on the movable side portion 2 and the electrode 33A on the fixed side portion 3A, and the movable side portion 2.
  • the power generation output obtained in the capacitance C of the vibration power generation device 10 is rectified by the rectifier circuit 8 including the diode D1 and the diode D2 in this example, and the rectified output
  • the storage capacitor 9 is charged and stored.
  • the width in the vibration direction of the protrusions 23 and 24 of the movable side portion 2 and the width in the vibration direction of the protrusions 32A and 32B of the fixed side portions 3A and 3B are all the same.
  • the widths of the protrusions 23 and 24 and the protrusions 32A and 32B are changed so that the vibration of the movable side portion 2 and the large current at the time of high acceleration can be used more efficiently. May be.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a facing portion between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3A in the vibration power generation device 10A in which the widths of the protrusions 23 and 24 and the protrusions 32A and 32B are changed.
  • illustration is abbreviate
  • the plurality of protrusions 23 on the movable side portion 2 and the plurality of protrusions 32A on the fixed side portion 3A have the height Hm and the height Hs shown in FIG. As the width is increased and the heights Hm and Hs are decreased, the width in the vibration direction is gradually reduced.
  • the width in the vibration direction of the four protrusions 23 having a large central height Hm of the movable side portion 2 is selected as the width Wt1, and the height Hm is lower than them.
  • the width of the two protruding portions 23 in the vibration direction is a width Wt2 that is narrower than the width Wt1.
  • the width in the vibration direction of each of the left and right protrusions 23 having a height Hm lower than the width Wt2 is set to a width Wt3 narrower than the width Wt2.
  • the width in the vibration direction of each of the three protrusions 32A having a large height Hs at both ends of the fixed side portion 3A is selected as the width Wt1, and the height Hs is lower than them.
  • the width in the vibration direction of the two protrusions 32A adjacent to each other is a width Wt2 narrower than the width Wt1.
  • the width in the vibration direction of the central two protrusions 32A having a height Hs lower than the width Wt2 is a width Wt3 narrower than the width Wt2.
  • the four protrusions 23A having the large width Wt1 at the center of the movable side portion 2 are equal to 2 of the width Wt3 at the center of the fixed side portion 3A.
  • the two protrusions 32A and the two protrusions 32A having the width Wt2 adjacent to the protrusions 32A are opposed to each other.
  • the protrusion 32A having a large width Wt1 on the fixed side portion 3A is opposed to the protrusion 23 having a width Wt2 ( ⁇ Wt1) and a width Wt3 ( ⁇ Wt1) on the movable side portion 2.
  • the vibration power generation device 10A of the example of FIG. 10 when the movable side portion 2 is stationary, the plurality of protrusions 23 of the movable side portion 2 and the plurality of protrusions 32A of the fixed side portion 3A are In this state, those having different widths in the vibration direction face each other.
  • the vibration power generation device 10A of the example of FIG. 10 when the movable side portion 2 is stationary, the plurality of protrusions 23 of the movable side portion 2 and the plurality of protrusions 32A of the fixed side portion 3A are In addition to facing each other with a gap of a large gap gs, those having different widths in the vibration direction face each other, and the effective facing area for forming the capacitance is reduced. For this reason, since the electrostatic force which opposes the force of a vibration direction becomes smaller than the case of FIG. 2, the vibration electric power generation device 10A of this example of FIG. 10 is movable side rather than the vibration electric power generation device 10 of the example of FIG. The ease of vibration from the state where the part 2 is stationary is improved.
  • the plurality of protrusions 23 on the movable side portion 2 and the plurality of protrusions 32A on the fixed side portion 3A have a small gap gmin between the large widths Wt1 as shown in FIG.
  • the output impedance is small. Therefore, also in the vibration power generation device 10A of the example of FIG. 10, when the excitation acceleration is high, a large current is generated and the power storage element can be efficiently stored.
  • the protrusions having a narrow width in the vibration direction are related to the formation of capacitance. It is thought that it does not contribute so much. Therefore, it is possible to omit a protrusion having a narrow width in the vibration direction.
  • FIG. 11 is a modification of the example of FIG. 10 based on this fact.
  • the protrusions 23 and 32A having the narrowest width Wt3 in the vibration direction in the example of FIG. 10 are not provided.
  • the protrusions 32A and 32B of the opposing surfaces 31A and 31B of the fixed side portions 3A and 3B are also formed with different densities in the vibration direction of the movable side portion 2 (that is, vibration is modulated in the direction). Density modulated in the direction).
  • the protrusions 23 and 24 of the movable side part 2 are high-density parts (parts where the protrusions 23 and 24 exist), and the protrusions 32A and 3B of the fixed side parts 3A and 3B.
  • the portion 32B has a low density (the portion where the protrusions 23 and 24 are not present) is configured to face each other when the movable side portion 2 is stationary.
  • the configuration in which the protrusions 23 and 24 of the movable side portion 2 and the protrusions 32A and 32B of the fixed side portions 3A and 3B are density-modulated in the vibration direction of the movable side portion 2 is as follows. This was the case when applied to the example of FIG. However, by density-modulating the protrusions 23 and 24 of the movable side portion 2 and the protrusions 32A and 32B of the fixed side portions 3A and 3B in the vibration direction of the movable side portion 2, it is shown in (Equation 2) of FIG.
  • the number n of opposing protrusions in the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A can be changed, and the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A can be changed between a small amplitude (low acceleration) and a large amplitude. It can be changed with time (during high acceleration). Therefore, the heights Hm and Hs of the protrusions 23 and 24 of the movable side part 2 and the protrusions 32A and 32B of the fixed side parts 3A and 3B are all the same, and the distance between the protrusions 23 and 24 and the protrusions 32A and 32B.
  • the distance between the facing surface 21 side and the facing surface 22 side of the movable side portion 2 and the facing surfaces 31A and 31B side of the fixed side portions 3A and 3B may be constant.
  • the width in the vibration direction between the protrusions 23 and 24 and the protrusions 32A and 32B may be constant.
  • the recesses between the plurality of protrusions 23, 24, 32A and 32B constituting the protrusions are spaces.
  • the concave portion may be filled with a dielectric having a predetermined dielectric constant.
  • the recesses between the plurality of protrusions 24 and 32B in the facing portion between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3B are similarly configured.
  • the heights Hm and Hs of the plurality of protrusions 23, 24, 32A and 32B are configured to change sinusoidally along the vibration direction. Yes.
  • the dielectrics 81 and 82 are filled in the recesses between the plurality of protrusions 23, 24, 32A and 32B, the plurality of protrusions 23, 24, The recesses between 32A and 32B and each of them do not constitute the protrusions and recesses of the present invention. Instead, in the movable side portion 2, the heights Hm of the plurality of protrusions 23 and 24 change in a sine wave shape along the vibration direction. Therefore, in the change in the sine wave shape, as shown in FIG. In the movable side portion 2, a convex portion 27 and a concave portion 28 are formed.
  • the heights Hs of the plurality of protrusions 32A and 32B change in a sine wave shape along the vibration direction. Therefore, in the change in the sine wave shape, as shown in FIG. Convex portions 34 and concave portions 35 are formed on the side portions 3A and 3B.
  • the protrusions 23 and 24 are respectively combed on the surfaces 21 and 22 in the direction along the vibration direction on both sides in the direction orthogonal to the vibration direction of the movable side portion 2.
  • Two fixed side portions 3A and 3B having surfaces 31A and 31B facing the surfaces 21 and 22 are provided, and the protrusions 32A and 32B are comb-shaped on the surfaces 21 and 22, respectively. It was set as the structure to arrange
  • a combination configuration may be used.
  • the electret film is generated on the fixed side portions 3A and 3B.
  • the electret film may be generated on the movable side portion 2.
  • the electret film is generated over the entire fixed side portions 3A and 3B, but the electret film does not need to be generated over the whole, at least An electret film may be generated on the opposing surfaces 31A and 31B of the fixed side portions 3A and 3B.
  • membrane in either one of the movable side part 2 or fixed side part 3A and 3B of a vibration electric power generation device was carried out, one side is a negative electret electric potential, and the other is a positive electret electric potential.
  • the electret film may be generated on both the movable side portion 2 and the fixed side portions 3A and 3B.
  • the semiconductor manufacturing process for the vibration power generation device 10 of the first embodiment shown in FIGS. 5 to 8 is an example, and it goes without saying that the semiconductor manufacturing process is not limited to the above example. .
  • the vibration power generation device 10 of the above-described embodiment the combination of the movable side portion and the fixed side portion facing each other with the protrusions arranged in a comb-teeth shape is one pair.
  • the vibration power generation device can be provided.
  • the vibration power generation device according to the second embodiment described below is an example in the case of such a configuration.
  • FIG. 13 is a diagram of the vibration power generation device 10M according to the second embodiment viewed from the substrate surface side in a direction orthogonal to the substrate surface of the semiconductor substrate 1M.
  • the vibration power generation device 10M of the second embodiment is also manufactured by subjecting the semiconductor substrate 1M to the same semiconductor manufacturing process as that of the vibration power generation device 10 of the first embodiment. That is, only the mask pattern for etching by the resist film in forming the movable side portion and the fixed side portion is different, and the others are substantially the same.
  • the vibration power generation device 10M of this example has a vibration direction length of 24 mm, for example, and a length perpendicular to the vibration direction of 15 mm, for example.
  • the size in the thickness direction is the same as in the first embodiment.
  • the movable side portion 2M has a direction orthogonal to the vibration direction of the movable side portion 2M.
  • the fixed side portion 3AM and the fixed side portion 3BM are arranged on both sides.
  • the movable side portion 2M is supported at both ends in the vibration direction by the support beam portions 4LM and 4RM in the same manner as the movable side portion 2 of the vibration power generation device 10 of the first embodiment, and the arrow AR in FIG. It is configured to vibrate in the direction shown.
  • the movable side portion 2M of the vibration power generation device 10M of the second embodiment extends in a direction orthogonal to the vibration direction from both sides of the elongated movable main shaft portion 201 and the substantially central position in the longitudinal direction of the movable main shaft portion 201.
  • Arm part 202U and arm part 202D, and a plurality of movable branch parts 203UL and 203UR and movable branch part 203DL extending in the vibration direction indicated by arrow AR from the left and right sides of each of arm part 202U and arm part 202D 203DR.
  • the arm portion 202U is configured to project from the movable main shaft portion 201 of the movable side portion 2M in the direction of the fixed side portion 3AM.
  • the arm portion 202D is configured to project from the movable main shaft portion 201 of the movable side portion 2M in the direction toward the fixed side portion 3BM.
  • the movable branch portion 203UL and the movable branch portion 203UR are spaced apart from each other in the direction orthogonal to the vibration direction from the left and right sides of the arm portion 202U in the vibration direction of the movable side portion 2M, as shown in FIG. In the example of FIG. 3, each of the three wires is stretched. Further, the movable branch portion 203DL and the movable branch portion 203DR are formed so that three each extend in the vibration direction of the movable side portion 2M from the left and right sides of the arm portion 202D in the example of FIG. .
  • the fixed side portion 3AM has a fixed main shaft portion 301A provided in parallel with the movable main shaft portion 201 of the movable side portion 2M, and both ends in the longitudinal direction from the both ends in the direction of the movable main shaft portion 201.
  • the arm part 302AL and arm part 302AR extended are provided. And these arm part 302AL and arm part 302AR are provided with several fixed branch part 303AL and fixed branch part 303AR extended in the vibration direction shown by arrow AR from the surface facing arm part 202U of movable side part 2M.
  • the fixed branch part 303AL and the fixed branch part 303AR are provided in three according to the number of the movable branch part 203UL and the movable branch part 203UR, and as shown in FIG. 203UL and the movable branch part 203UR, and the fixed branch part 303AL and the fixed branch part 303AR are configured to alternately mesh with each other.
  • the fixed side portion 3BM has a fixed main shaft portion 301B provided in parallel with the movable main shaft portion 201 of the movable side portion 2M, and both ends in the longitudinal direction thereof in the direction of the movable main shaft portion 201.
  • the arm portions 302BL and 302BR to be extended are provided. And these arm part 302BL and arm part 302BR are provided with several fixed branch part 303BL and fixed branch part 303BR extended in the vibration direction shown by arrow AR from the surface facing arm part 202D of movable side part 2M.
  • the fixed branch portion 303BL and the fixed branch portion 303BR are provided in three according to the number of the movable branch portion 203DL and the movable branch portion 203DR, and as shown in FIG. 203DL and 203DR and fixed branch part 303BL and 303BR are comprised so that it may mesh
  • the number of movable branch portions and fixed branch portions may be one or two instead of three, or more than three.
  • FIG. 14A the fixed branch portion 303AL formed on the left arm portion 302AL of the fixed side portion 3AM is engaged with the movable branch portion 203UL formed on the left side of the arm portion 202U of the movable side portion 2M.
  • the partially expanded view for demonstrating a state is shown.
  • FIG. 14B shows a fixed branch portion 303AR formed on the right arm portion 302AR of the fixed side portion 3AM and a movable branch portion 203UR formed on the right side of the arm portion 202U of the movable side portion 2M.
  • the partially enlarged view for demonstrating the meshing state with is shown.
  • the fixed branch portion 303BL formed on the left arm portion 302BL of the fixed side portion 3BM and the movable branch portion 203DL formed on the left side of the arm portion 202D of the movable side portion 2M are engaged with each other and fixed.
  • the meshing state of the fixed branch portion 303BR formed on the right arm portion 302BR of the side portion 3BM and the movable branch portion 203DR formed on the right side of the arm portion 202D of the movable side portion 2M is shown in FIG. And it becomes the same as FIG. 14 (B).
  • the protrusions 23 of the movable side portion 2 of the first embodiment and the surfaces of the movable branch portion 203UL facing the fixed branch portion 303AL and in the direction along the vibration direction are respectively Similar to the protrusion 24, a protrusion 204UL and a protrusion 205UL are formed.
  • a protrusion 304AL and a protrusion 305AL corresponding to the protrusion 32A of the fixed side 3A of the first embodiment are formed on the surface of the fixed branch 303AL that faces the movable branch 203UL.
  • the protrusion 204UL and the protrusion 205UL formed on the movable branch portion 203UL of the movable side portion 2M, and the protrusion 304AL and the protrusion 305AL formed on the fixed branch portion 303AL are:
  • the dimensional relationship is the same as that described with reference to FIG. That is, the protrusion 204UL and the protrusion 205UL, the protrusion 304AL and the protrusion 305AL have a width Wt of 20 ⁇ m, an arrangement pitch L of 60 ⁇ m, and a height H of 42.5 ⁇ m.
  • the minimum value gmin of the distance between the protrusion 304AL and the tip surface of the protrusion 305AL is 5 ⁇ m.
  • a protrusion 204UR and a protrusion 205UR are formed in the same manner on each surface of the movable branch 203UR facing the fixed branch 303AR and along the vibration direction.
  • a protrusion 304AR and a protrusion 305AR are formed on the surface of the fixed branch 303AR that faces the movable branch 203UR.
  • the protrusions 204UR and 205UR formed on the movable branch portion 203UR of the movable side portion 2M and the protrusions 304AR and 305AR formed on the fixed branch portion 303AR are connected to the movable branch portion 203UL of the movable side portion 2M.
  • the projections 204UL and 205UL are formed in the same manner as the projections 304L and 305L formed on the fixed branch 303AL.
  • the fixed main shaft portion 301 of the fixed side portion 3AM also has the same protrusions as the protrusions 305AL and 305AL of the fixed branch portion 303AL and the protrusions 305AR and 305AR of the fixed branch portion 303AR.
  • a portion 305M is formed.
  • the movable main shaft portion 201 of the movable side portion 2M is also formed with projections similar to the projections 203UL and 203UR of the movable branch portion 203UL and the movable branch portion 203UR.
  • the number of protrusions 23 and 24 on the movable side portion 2 and the number of protrusions 32A and 32B on the fixed side portions 3A and 3B are small in FIG. 13 and FIG. 14 for convenience of drawing. As described above, the number is actually larger. Further, the protrusions 23 and 24 of the movable side part 2 and the protrusions 32A and 32B of the fixed side parts 3A and 3B are all assumed to have the same height in FIG. 13 and FIG. 14 for convenience of drawing. Although shown, in practice, it goes without saying that the height is different in the vibration direction as shown in FIG. Moreover, you may be comprised like the modification of 1st Embodiment mentioned above.
  • the restoring force of the support beam portions 4LM and 4RM and the electrostatic force between the movable side portion 2M and the fixed side portions 3AM and 3BM work in the same direction. Then, the movable structure is braked by the electrostatic force and is difficult to move.
  • the second embodiment in the left group of the movable branch portion 203UL on the left side of the arm portion 202U and the fixed branch portion 303AL on the left side of the fixed side portion 3AM shown in FIG.
  • the opposite phases of the protrusions 304AR and 305AR are configured so that the influence of the electrostatic force is offset between the left group and the right group.
  • the left group and the right group are configured to have a phase difference of 90 degrees. That is, as shown in FIG. 14A, when the protrusions 204UL and 205UL of the movable branch portion 203UL of the left group and the protrusions 304AL and 305AL of the fixed branch portion 303AL are facing each other, As shown in FIG. 14 (B), the protrusions 204UR and 205UR of the movable branch 203UR of the right group and the protrusions 304AR and 305AR of the fixed branch 303AR are not opposed to each other and are shifted by 90 degrees. It is configured as follows.
  • the protrusions of the movable side portion 2M are divided into two groups in the vibration direction, and the protrusions of the fixed side portion 3AM and the fixed side portion 3BM are separated from each other.
  • the opposite phases between the two groups are different from each other, so that the electrostatic force acting between the movable side portion 2M and the fixed side portion 3AM and the fixed side portion 3BM is reversed in the two groups. It is possible to reduce the state in which the movable side portion 2M is braked by the electrostatic force and is difficult to vibrate, or to avoid the state in which the vibration is not continued.
  • the protrusions of the movable side portion 2M are divided into two groups in the vibration direction.
  • the protrusions of the fixed side portion 3AM and the fixed side portion 3BM are divided into two groups in the vibration direction. But of course.
  • the weight is placed on the movable main shaft portion 201 of the movable side portion 2M in the vibration power generation device of the first embodiment. This is the same as the case of 10.
  • the vibration power generation device 10M of the second embodiment has electrodes 25M and 26M formed on both ends of the movable side portion 2M, and the fixed side portion 3AM. Is formed with an electrode 33AM, and the fixed side portion 3BM is formed with an electrode 33BM. Even in the case of the vibration power generation device 10M of the second embodiment, the storage capacitor 9 can be charged by the charging circuit shown in FIG.
  • a plurality of movable branch portions 203UL and movable branch portions 203UR are provided between the electrode 25M corresponding to the electrode 25 shown in FIG. 9 and the electrode 33AM corresponding to the electrode 33A.
  • a plurality of capacitances respectively generated between a pair of (including the movable main shaft portion 201) and a plurality of fixed branch portions 303AL and a fixed branch portion 303AR (including the fixed main shaft portion 301A) are connected in parallel. Will be.
  • a broadband vibration power generation device that has the same operational effects as the first embodiment and can increase the power generation amount of vibration power generation is realized. can do.
  • the opposing phases of the movable side protrusion and the fixed side protrusion are divided into two groups different from each other, and between these two groups, Since the electrostatic force acting between the movable side portion and the fixed side portion is configured to cancel each other, the state where the movable side portion is less likely to vibrate due to the electrostatic force is reduced, or the state where the vibration is not continued is avoided. Can do.
  • the fixed side portion 3BM side may be omitted, and the movable side portion 2M and the fixed side portion 3AM may be combined.
  • a plurality of arm portions extending in a direction orthogonal to the vibration direction from the movable main shaft portion 201 of the movable side portion 2M are further provided at different positions in the vibration direction, and each arm portion has the same configuration as described above.
  • the fixed side portions 3AM and 3BM are configured to have a plurality of pairs of movable branch portions and fixed branch portions by configuring the portions corresponding to the respective arm portions in the same manner as described above. You can also.
  • the difference in the opposing phase of the protrusion is not limited to 90 degrees in the above example, but may be any difference in the contributing phase so as to cancel the electrostatic force between the movable side portion and the fixed side portion.
  • the opposing surfaces 21 and 22 of the movable side portion 2 and the opposing surfaces 31A and 31B of the fixed side portions 3A and 3B have a plurality of combs having different heights Hm and Hs in the direction orthogonal to the vibration direction.
  • the tooth-like protrusions 23 and 24 and 32A and 32B were formed, respectively.
  • the shape of the opposing surfaces 21 and 22 of the movable side portion 2 and the opposing surfaces 31A and 31B of the fixed side portions 3A and 3B is not a flat surface without forming such comb-like protrusions.
  • the distance between the opposing surfaces 21 and 22 of the movable side portion 2 and the opposing surfaces 31A and 31B of the fixed side portions 3A and 3B is changed according to the amplitude of the vibration direction of the portion 2.
  • the third embodiment is a configuration example in this case.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining a main part of the vibration power generation device of the third embodiment, and an example of the shape of the facing surface of the movable side portion 2 and the facing surface of the fixed side portion 3A of the above-described embodiment.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining a main part of the vibration power generation device of the third embodiment, and an example of the shape of the facing surface of the movable side portion 2 and the facing surface of the fixed side portion 3A of the above-described embodiment.
  • the facing surface 21W of the movable side portion 2 facing the fixed side portion 3A and the facing surface 31AW of the fixed side portion 3A facing the movable side portion 2 are indicated by arrows AR instead of planes.
  • a portion protruding to the facing surface 31AW side of the fixed side portion 3A becomes the convex portion 91, and a space between two adjacent convex portions 91 is a concave portion. 92.
  • a portion protruding to the facing surface 21W side of the movable side portion 2 becomes a convex portion 93, and a gap between two adjacent convex portions 93 is a concave portion. 94.
  • the convex portion 91 on the opposing surface of the movable side portion 2 and the concave portion 94 on the opposing surface 31AW of the fixed side portion 3A face each other, and the movable side portion 2
  • the concave portion 92 of the portion 2 and the convex portion 93 of the fixed side portion 3A are configured to face each other.
  • the distance between the facing surface 21W of the movable side portion 2 and the facing surface 31AW of the fixed side portion 3A is the same as in the case of the first embodiment described above.
  • the gap gs is relatively large.
  • the movable side portion 2 vibrates and the convex portion 91 of the opposing surface of the movable side portion 2 and the concave portion 94 of the opposing surface 31AW of the fixed side portion 3A face each other, the movable side portion 2
  • the interval between the opposing surface 21W and the opposing surface 31AW of the fixed side portion 3A is configured to be a minute interval gmin ( ⁇ gs) as in the case of the first embodiment described above.
  • the vibration power generation device of the third embodiment is configured similarly between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3B.
  • the third embodiment can be applied to the second embodiment described above.
  • the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A represented by (Equation 2) in FIG. 19 changes according to the distance do between the movable side portion 2 and the fixed side portions 3A and 3B.
  • the interval do is increased when the vibration amplitude is small, and is decreased when the vibration amplitude is large.
  • the factor for changing the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A is not limited to the interval do as shown in (Equation 2) of FIG.
  • the electret potential E of the electret film changes in the vibration direction of the movable side portion 2.
  • the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A is changed.
  • FIG. 16 is a diagram for explaining the main part of the vibration power generation device of the fourth embodiment, in the case of the portion of the facing surface of the movable side portion 2 and the facing surface of the fixed side portion 3A of the above-described embodiment. It is a figure which shows an example.
  • the length of the movable side portion 2 in the vibration direction is configured to be shorter than the length of the fixed side portion 3A in the vibration direction.
  • an electret film is formed on the fixed side portion 3A, and the electret potential E is changed in the vibration direction of the movable side portion 2 as shown by a one-dot chain line in FIG. To leave.
  • the electret potential E at the central portion of the fixed side portion 3A facing the movable side portion 2 is kept low.
  • the electret potential E is set high in the portion of the fixed side portion 3A that faces when the movable side portion 2 vibrates greatly.
  • the protrusion 23 and the protrusion 32 ⁇ / b> A are not formed on the facing surface 21 of the movable side portion 2 and the facing surface 31 ⁇ / b> A of the fixed side portion 3 ⁇ / b> A, and the facing surface of the movable side portion 2.
  • the interval between the surface 21a and the facing surface 31a of the fixed side portion 3A is a fixed interval, for example, the interval gmin.
  • the relationship between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3B is configured in the same manner as the relationship between the movable side portion 2 and the fixed side portion 3A described above.
  • the vibration power generation device of the fourth embodiment configured as described above, when the vibration amplitude of the movable side portion 2 is small, the electret potential E at the opposite fixed side portions 3A and 3B is low.
  • the coefficient (A) decreases from (Equation 2), and the output impedance increases.
  • the vibration amplitude of the movable side portion 2 increases, the electret potential E at the opposed fixed side portions 3A and 3B increases, so the force coefficient (electromechanical conversion coefficient) A increases from (Equation 2), and the output Impedance is reduced.
  • the output current is efficiently rectified from the low acceleration state to the high acceleration state, It can be charged.
  • the protrusion 23 and the protrusion 32 ⁇ / b> A are not formed on the facing surface 21 of the movable side portion 2 and the facing surface 31 ⁇ / b> A of the fixed side portion 3 ⁇ / b> A, and the facing surface of the movable side portion 2.
  • 21 and the opposed surface 31a of the fixed side portion 3A are set at a constant interval, but the opposed surface 21 of the movable side portion 2 and the opposed surface 31A of the fixed side portion 3A are the first embodiment.
  • a modification of the first embodiment may be configured as in the third embodiment. Needless to say, the fourth embodiment can be applied to the second embodiment.
  • the vibration power generation device of the above-described embodiment is a case of a MEMS device manufactured by a semiconductor manufacturing process.
  • the vibration power generation device according to the present invention is not limited to a MEMS device.
  • the protrusions (convex portions) formed on the movable side portion and the fixed side portion have a rectangular cross section, but the shape of the protrusion (convex portion) is It is not limited to this.
  • the fixed side portion when the vibration power generation device is viewed from the direction of gravity, the fixed side portion is disposed in the left-right direction of the movable side portion.
  • the upper side is the movable side portion 2C and the lower side is the fixed side portion 3C.
  • the opposite surface 31C is formed in the same manner as in the first embodiment, the modified example thereof, or the third embodiment or the fourth embodiment.
  • FIG. 18 is an example of the movable side portion 2D and the fixed side portion 3D of the vibration power generation device configured as described above. That is, as shown in FIG. 18, the movable side portion 2D and the fixed side portion 3D are configured in a disc shape, and are arranged with a predetermined gap g (may be changed by vibration of the movable side portion). Then, as shown by the arrow in FIG. 18, the movable side portion 2 ⁇ / b> D maintains a distance from the fixed side portion 3 ⁇ / b> D, and the direction orthogonal to the disc is defined as the rotation center axis Oz (center position of the disc). Configured to rotate.
  • the opposed surface 21D of the movable side portion 2D with respect to the fixed side portion 3D and the opposed surface 31D of the fixed side portion 3D with respect to the movable side portion 2D are the same as those in the first embodiment described above. Alternatively, it is formed in the same manner as in either the third embodiment or the fourth embodiment. However, since the vibration direction is the rotation direction, the change direction of the height of the protrusion, the change direction of the electret potential E, and the like is different from the above-described embodiment.

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Abstract

外部から印加される振動エネルギーの低加速度から高加速度まで効率良く整流及び蓄電ができるようにした静電方式の振動発電デバイスを提供する。 振動エネルギーにより所定の振動方向に振動することが可能であって、振動方向に沿う第1の面を備える可動側部と、可動側部が振動方向に振動することが可能なように、可動側部の第1の面と所定の間隔を隔てて対向する第2の面を備える固定側部とを備える。可動側部の第1の面及び固定側部の第2の面のそれぞれの表面には、複数個の凹部と凸部とが振動方向に交互に形成されている。固定側部と可動側部との少なくとも一方にはエレクトレット膜が形成されている。可動側部の第1の面側と固定側部の第2の面側との間隔に応じた値を有する力係数(電気機械変換係数)が、可動側部の振動振幅が小さいときには小さく、可動側部の振動振幅が大きいときには大きくなるように構成する。

Description

振動発電デバイス
 この発明は、エレクトレットを用いた静電誘導作用により機械的な振動エネルギーを電力に変換する静電方式の振動発電デバイスに関する。
 近年、歩行による振動、自動車走行による振動、橋梁振動、風力発電時の低周波振動などの環境振動の振動エネルギーを電力に変換することができる振動発電デバイスの実用化に向けての研究開発が進められている。
 この種の振動発電デバイスとしては、電磁方式、圧電方式、静電方式等が知られているが、電磁方式に比べて微小小型化が容易、圧電方式に必要なPZT(Piezoelectric Transducer)などの鉛などの有毒物質を含まない、などの理由で静電方式の振動発電デバイスが注目されている。この種の静電方式の振動発電デバイスとしては、例えば特許文献1(WO2011/086830号公報)や特許文献2(特開2011-36089号公報)などに提案されているものが知られている。
 特許文献1に記載されている静電誘導型発電装置においては、第1の基板と第2の基板とが所定の間隔を隔てて互いに対向し、その対向する状態を保ったまま相対的に移動可能に構成されている。そして、第1の基板には、複数個の短冊状のエレクトレットが前記相対的な移動方向に配列されるように形成され、第2の基板には、第1の基板のエレクトレットと対向するように、第1の電極と第2の電極とが形成されており、エレクトレットと第1の電極との間の静電容量及びエレクトレットと第2の電極との間の静電容量が、前記相対的な移動により変化することにより、電力が出力されるように構成されている。
 また、特許文献2には、基板上に形成されたエレクトレット膜を有する第1の電極と、この第1の電極とエアギャップを隔てて対向し複数の開口部を有する第2の電極とを備え、第2の電極が振動移動することで、第1の電極のエレクトレット膜と第2の電極との静電容量が変化することにより、電力が出力されるように構成されたMEMS(Micro Electro Mechanical System;微小電気機械システム)デバイスが開示されている。
特開2011-186803号公報 特開2002-244806号公報
 外部から振動発電デバイスに印加される振動エネルギーが環境振動などの場合には、一般に、励振加速度の大きさは一定のものではなく、時間的に変化する。振動発電デバイスに加わる振動エネルギーとしての力fは、励振加速度をαとし、振動発電デバイスの振動部分の質量をmとすると、f=mαである。そして、振動発電デバイスの発電出力電力Pは、力fに比例したものとなり、また、発電出力の電流値i及び電圧値Vも、共に力fに比例したものとなる。
 この場合に、振動発電デバイスは、発電出力電流を整流して、蓄電用キャパシタ等の蓄電素子に蓄電することで、発生した発電出力を取り出すようにする。したがって、環境振動から発電を行う振動発電デバイスとしては、励振加速度が小さい状態であっても、大きい状態であっても、効率良く、蓄電素子に蓄電することができるようにすることが望ましい。
 ところで、振動発電デバイスの発電出力により蓄電を行うための整流回路に利用されるダイオードは、閾値電圧が、例えばショットキーダイオードの場合には0.3V程度、シリコン系PN接合のダイオードの場合には0.7Vが必要であり、振動発電デバイスの発電出力としては、それ以上の電圧が必要である。
 しかしながら、従来の振動発電デバイスにおいては、通常、出力インピーダンスが固定値となる構成とされている。このため、低励振加速度における小さな出力電流値であっても整流用ダイオードを導通させるようにするために振動発電デバイスの出力インピーダンスを高くすると、高励振加速度の際には、大きな出力電流値であるにもかかわらず、その大電流を効率的に利用できずに、損失が大きくなってしまう。逆に、振動発電デバイスの出力インピーダンスを小さくすると、高励振加速度の際の大電流は、効率良く蓄電用に利用することができるが、低励振加速度における小さな出力電流値の際には、整流用ダイオードの閾値電圧以上の電圧を得ることができず、低励振加速度の振動エネルギーは、振動発電デバイスにおける振動発電には利用できなくなってしまう。
 以上の点に鑑み、この発明は、外部から印加される振動エネルギーが、励振加速度の大きさが時間的に変化する環境振動などの場合においても、低加速度から高加速度まで効率良く整流及び蓄電ができるようにした静電方式の振動発電デバイスを提供することを目的とする。
 上記の課題を解決するために、請求項1の発明は、
 外部から印加される振動エネルギーにより所定の振動方向に振動することが可能なように構成されており、前記振動方向に沿う第1の面を備える可動側部と、
 前記可動側部が前記振動方向に振動することが可能なように、前記可動側部の前記第1の面と所定の間隔を隔てて対向する第2の面を備え、前記振動エネルギーに対しても位置固定するように構成されている固定側部と、
 を備え、
 前記可動側部の前記第1の面及び前記固定側部の前記第2の面のそれぞれの表面には、複数個の凹部と凸部とが前記振動方向に交互に形成されていると共に、
 前記固定側部と前記可動側部との少なくとも一方には、エレクトレット膜が形成されており、
 前記可動側部の前記第1の面側と前記固定側部の第2の面側との間隔に応じた値を有する力係数(電気機械変換係数)が、前記可動側部の前記振動振幅が小さいときには小さく、前記可動側部の前記振動振幅が大きいときには大きくなるように構成されている
 ことを特徴とする振動発電デバイスを提供する。
 上記のような可動側部2と固定側部とを備える請求項1の発明の振動発電デバイスの出力電圧は、理想的な条件の場合には、機械抵抗(ダンピング抵抗)をr、電気機械変換係数(力係数)をA、外部からの力(外力)をfとすると、出力インピーダンスZmは、Zm=r/Aであり、出力電流iは、i=Af/Zm、また、出力電圧eは、e=f/Aと表すことができる。
 したがって、可動側部の振動振幅が小さいとき(低加速度時)には、力係数(電気機械変換係数)Aが小さいので、出力インピーダンスZmは大きくなり、出力電流iが小さくても出力電圧eは大きくなる。したがって、低加速度時であっても、整流用ダイオードを導通させることができ、小さい値の出力電流iを効率良く整流して充電を行うようにすることができる。
 一方、可動側部の振動振幅が大きいとき(高加速度時)には、力係数(電気機械変換係数)Aが大きいので、出力インピーダンスZmは小さくなり、出力電流iが大きくなる。このとき、出力電圧eは小さくなるが、外力fも大きいので、整流用ダイオードを導通させることができる値となる。したがって、可動側部の振動振幅が大きいときには、その外力fの大きさに従った大きな電流iを効率良く整流して充電を行うようにすることができる。
 この発明によれば、低加速度から高加速度まで効率良く整流及び蓄電ができるようにした静電方式の振動発電デバイスを提供することができる。したがって、この発明による振動発電デバイスは、外部から印加される振動エネルギーが、励振加速度の大きさが時間的に変化する環境振動などを用いて振動発電する場合に好適となる。
この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の構成例を説明するための全体斜視図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の半導体製造プロセスを説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の半導体製造プロセスを説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の半導体製造プロセスを説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の半導体製造プロセスを説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態を用いた充電回路の一例を示す図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の変形例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態の他の変形例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第1の実施形態のさらに他の変形例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第2の実施形態の構成例を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第2の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第3の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの第4の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの他の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの、さらに他の実施形態の構成例の要部を説明するための図である。 この発明による振動発電デバイスの実施形態を説明するために用いる数式を示す図である。
 以下、この発明による振動発電デバイスの実施形態を、図を参照しながら説明する。
 [第1の実施形態]
 先ず、この発明による振動発電デバイスの原理的な構成例を、第1の実施形態として示す。以下に示す実施形態の振動発電デバイスは、半導体製造プロセスにより製造されるMEMESデバイスとして構成される場合の例である。
 図1は、この第1の実施形態の振動発電デバイス10の全体の構成例を説明するための斜視図を示すものである。この第1の実施形態の振動発電デバイス10は、半導体基板1に対して、後述するような半導体製造プロセスが実行されることにより形成される可動側部2と、固定側部3A,3Bと、可動側部2を支持する支持梁部4L,4Rとからなる。
 可動側部2は、断面が矩形の細長状に形成されており、図1において矢印ARで示すように、当該可動側部2の長手方向を振動方向として振動可能なように構成されている。すなわち、この可動側部2の振動方向である長手方向の両端は、半導体基板1から半導体製造プロセスにより形成された支持梁部4L及び支持梁部4Rにより、可動側部2が振動可能となるように支持されている。なお、この例では、この可動側部2の振動方向は、図1において、半導体基板1の基板面に直交する方向(図1で矢印Bで示す方向)とは直交する方向、つまり、半導体基板1の基板面に沿う方向とされている。
 支持梁部4L及び支持梁部4Rのそれぞれは、振動方向に直交する方向に設けられている2枚の薄板状部41,42及び薄板状部43,44からなる支持梁の構成とされている。支持梁部4L及び支持梁部4Rのそれぞれは、半導体基板1において、可動側部2の振動方向の両側に形成されている空間5L及び空間5Rの周囲を取り囲むように半導体基板1に形成されている支持梁保持部6L及び支持梁保持部6Rに取り付けられている。
 可動側部2の長手方向の両端部2a及び2bは、2枚の薄板状部41,42及び薄板状部43,44の中央部分で支持梁部4L及び支持梁部4Rと結合されて、振動方向に移動可能とされている。
 支持梁部4L及び支持梁部4Rのそれぞれは、1枚の薄板状部で構成することもできるが、複数枚、この例では2枚の薄板状部41,42及び薄板状部43,44で構成することにより、可動側部2の振動方向が偏向しづらくなるようにすると共に、可動側部2が対向する固定側部3A,3Bと接触せずに、安定して矢印ARの方向に振動することができるようにしている。
 固定側部3A,3Bは、この例では、可動側部2の振動方向に直交する方向に、可動側部2を挟むような位置に設けられている。この場合に、固定側部3A,3Bのそれぞれは、図1において矢印Bで示す基板面に直交する方向に沿う方向であって、可動側部2の振動方向に沿う方向の面31A及び面31Bを有するように構成されている。そして、固定側部3Aの面31Aは、可動側部2の基板面に直交する方向に沿う方向であって、可動側部2の振動方向に沿う方向の面21と所定の間隔を隔てて対向する状態となるようにされている。また、固定側部3Bの面31Bは、可動側部2の基板面に直交する方向に沿う方向であって、可動側部2の振動方向に沿う方向の面22と所定の間隔を隔てて対向する状態となるようにされている。なお、面21、面22、面31A、面31Bは、以下の説明においては、対向面21、対向面22、対向面31A、対向面31Bと称する。
 そして、可動側部2の対向面21及び対向面22には、振動方向に直交する方向に突出する複数個の突部23及び突部24が、振動方向に沿う方向に櫛歯状に配列されて形成されていると共に、固定側部3Aの対向面31A及び固定側部3Bの対向面31Bにも、振動方向に直交する方向に突出する複数個の突部32A及び突部32Bが、振動方向に沿う方向に櫛歯状に配列されて形成されている。この例の場合、突部23,24,32A及び32Bは、同様の構成を備えるようにされており、この例では、断面が矩形の突条が矢印B方向に延伸するように形成されている。この例の場合、突部23,24,32A及び32Bは、それぞれ凸部を構成すると共に、複数の突部23,24,32A及び32Bのそれぞれの間は、凹部を構成する。
 図2は、固定側部3Aと可動側部2との対向部分の一部を、図1の矢印Bの方向に、可動側部2の振動方向に直交する上方から見た図であり、可動側部2が静止している状態を示している。この図2に示すように、可動側部2の対向面21に形成されている複数個の突部23と、固定側部3Aの対向面31Aに形成されている複数個の突部32Aとは、可動側部2の振動方向に沿う方向の幅は、共に同じ幅Wtとされていると共に、振動方向に沿う方向に同一の配列ピッチLで形成されている。したがって、隣接する突部23及び突部32Aの間は、Wb=L-Wtだけ隔てられている。
 そして、図2に示すように、可動側部2が静止している状態では、可動側部2の対向面21に形成されている複数個の突部23と、固定側部3Aの対向面31Aに形成されている複数個の突部32Aとが互いに対向しているように構成されている。そして、可動側部2の対向面21において振動方向に配列されている複数個の突部23の振動方向に直交する方向の長さ、すなわち、突部23の高さHmは、一定ではなく、高さHmの変化が例えば正弦波状になるように異ならされている。同様に、固定側部3Aの対向面31Aにおいて振動方向に配列されている複数個の突部32Aの振動方向に直交する方向の長さ、すなわち、突部32Aの高さHsも、一定ではなく、高さHsの変化が例えば正弦波状になるように異ならされている。
 なお、振動発電デバイス10の可動側部2の突部23,24の個数と、固定側部3A,3Bの突部32A,32Bの個数は、図1及び図2では、作図の便宜上、10~12個程度となっているが、その個数は、実際的には、より多数である。そして、突部23,24,32A,32Bの高さの正弦波状の変化も、図1及び図2のような1周期程度ではなく、突部の個数に応じた複数周期に亘るものである。
 そして、この例の場合、図2に示すように、可動側部2が静止している状態では、互いに対向する突部23と突部32Aとの間隔が、複数の突部23と複数の突部32Aにおいて、等しい間隔gsとなるように、突部23の高さHmと、突部32Aの高さHsとが変化するように構成されている。更に、この場合において、図2に示すように、高さHmが最大である突部23と、高さHsが最大である突部32Aとが対向した場合にも、微小な間隔gminだけ、両者の間に空隙が生じるように構成されている。
 したがって、以上のように可動側部2の突部23の高さHmが振動方向ARにおいて変化すると共に、固定側部3Aの突部32Aの高さHsが振動方向ARにおいて変化していても、最小の間隔gの空隙が存在するように構成されているので、可動側部2は、固定側部3Aに対して、間隔gの空隙を保って、図1及び図2の矢印ARで示す振動方向に振動移動することが可能とされている。
 なお、可動側部2の突部23が形成されている対向面21(突部23の付け根位置)と、固定側部3Aの突部32Aが形成されている対向面31A(突部32Aの付け根位置)との間は、距離Dだけ隔てられている。
 この例では、Wt=20μm、Wb=40μm、L=60μm、Hm(最大値)=Hs(最大値)=42.5μm、g=5μm、D=90μmとされている。そして、振動発電デバイスとしては、可動側部2の振動方向の長さが、例えば12mm、振動方向に直交する方向の長さが、例えば8mmとされている。
 なお、図示は省略するが、固定側部3Bの対向面31Bに形成されている複数個の突部32Bと、可動側部2の対向面22に形成されている複数個の突部24との関係も、図2と同様に構成されている。この場合に、この例では、可動側部2の対向面21に形成されている突部23と固定側部3Aの対向面31Aに形成されている突部32Aとの位置関係(対向位相関係)が図2に示すような可動側部2が静止している状態のときには、可動側部2の対向面22に形成されている突部24と固定側部3Bの対向面31Bに形成されている突部32Bとの位置関係(対向位相関係)も同様の状態となるようにされている。すなわち、可動側部2の突部23と固定側部3Aの突部32Aとの対向位相関係と、可動側部2の突部24と固定側部3Bの突部32Bとの対向位相関係は同相となるようにされている。
 そして、後述するように、この実施形態では、固定側部3A,3Bまたは可動側部2の一方には、エレクトレット膜が形成され、そのエレクトレット膜が形成されている固定側部3A,3Bまたは可動側部2の一方は、所定のエレクトレット電位Eとされる。この例では固定側部3A,3Bにエレクトレット膜が形成されて、固定側部3A,3Bは、例えば-400ボルトのエレクトレット電位Eとされる。なお、固定側部3A,3Bと可動側部2とは、後述するように、半導体基板の絶縁層により、互いに電気的に絶縁されている。
 そして、図1に示すように、可動側部2には、その振動方向の両端部において電極25及び電極26が形成されると共に、固定側部3A及び固定側部3Bには、可動側部2の振動方向に直交する方向の端部において電極33A及び電極33Bが形成される。これら電極25及び電極26、電極33A及び電極33Bは、振動発電デバイス10を充電回路と接続する際の接続端子電極となる。
 以上のように構成されているので、固定側部3A及び固定側部3Bと可動側部2との間には、可動側部2の振動に応じて変化する静電容量が得られる。図3(A),(B),(C)は、可動側部2が振動するときにおける対向面21の突部23と、固定側部3Aの対向面31Aの突部32Aとの対向位相関係と、その時の静電容量との関係を説明するための図である。なお、可動側部2が振動するときにおける対向面22の突部24と、固定側部3Bの対向面31Bの突部32Bとの対向位相関係と、その時の静電容量との関係も同様であるので、ここでは説明は省略する。
 すなわち、図3(A)は、可動側部2の突部23が固定側部3Aの隣り合う突部32Aの中央に位置する場合であり、突部23と突部32Aとの先端の端面は、振動方向に直交する方向において全く対向しない状態である。この図3(A)の状態では、可動側部2の突部23の先端の端面は、距離Dだけ隔てた固定側部3Aの対向面31Aに対向する状態となっており、可動側部2と固定側部3Aとの間の静電容量は小さい値C(小)になる。
 また、図3(C)は、可動側部2の突部23の先端の端面と固定側部3Aの突部32Aの先端の端面とが、振動方向に直交する方向において全体的に対向する状態である。この図3(C)の状態では、可動側部2の突部23の先端の端面と固定側部3Aの対向面31Aの先端の端面とが所定の間隔(最小値g)を介して対向する状態となっており、可動側部2と固定側部3Aとの間の静電容量は大きな値C(大)になる。
 また、図3(B)は、可動側部2の突部23の先端の端面と固定側部3Aの突部32Aの先端の端面とが、振動方向に直交する方向において部分的に対向する状態である。この図3(B)の状態は、図3(A)の状態と、図3(C)の状態との中間の状態であり、可動側部2と固定側部3Aとの間の静電容量は、前記小さい値C(小)と前記大きな値C(大)との間の中間値C(中)になる。
 以上のように、この実施形態の振動発電デバイス10においては、外部から振動エネルギーが加わって、可動側部2が振動すると、可動側部2と、固定側部3A及び固定側部3Bとの間の静電容量の変化と、外力と、振動速度などに応じた交流出力電力が発生する。そして、この実施形態の振動発電デバイス10が発生した交流出力電力を負荷に供給したり、蓄電素子に蓄電するなどすることができる。
 この場合に、この実施形態の振動発電デバイス10の等価回路を考えた場合、外力をf、出力電流をi、出力電圧をe、外力による励振速度をv、出力インピーダンスをZm、振動発電デバイス10で生成される静電容量をCo、浮遊容量をCsとしたとき、その線形方程式は、図19の(式1)で示すような行列で表すことができる。この(式1)において、Aは、力係数(電気機械変換係数)であり、図19の(式2)のように表すことができる。
 この(式2)において、nは可動側部2と固定側部3A,3Bとで対向する突部の数、εは真空の誘電率、bは振動発電デバイス10の厚み、Eはエレクトレット電位、doは可動側部2の突部23及び24と、固定側部3A、3Bの突部32A,32Bとの間の間隔(空隙)である。
 この実施形態の振動発電デバイス10では、可動側部2の突部23及び24と、固定側部3A、3Bの突部32A,32Bとの間の間隔(空隙)doは、上述したように、可動側部2の振動方向の振動振幅に応じて変化するので、力係数(電気機械変換係数)Aは、この間隔doの変化に応じて変化するものとなる。
 すなわち、例えば図2において突部23,24及び突部32A、32Bの配列ピッチL内程度の振動振幅が小さいときには、図2から分かるように、突部23,24及び突部32A、32Bとの間の隙間の間隔doは、可動側部2が静止状態であるときの大きな間隔gsの近傍の大きさとなって比較的大きなものとなる。このため、(式2)に示す力係数(電気機械変換係数)Aの値は比較的小さな値となる。
 振動発電デバイス10の出力インピーダンスZmは、図19の(式3)に示すように、Zm=r/Aであるので、このときの出力インピーダンスZmは大きくなる。ここで、rは、この実施形態の振動発電デバイス10の機械抵抗(ダンピング抵抗)である。このときの振動発電デバイス10の出力電流iは、図19の(式4)に示すように、i=Af/Zmであるので小さい。そして、振動発電デバイス10の出力電圧eは、図19の(式5)に示すように、e=f/Aであるが、出力インピーダンスZmが大きいため、振動発電デバイス10の出力電流を整流するためのダイオードを導通させるのに十分な値になる。
 以上のように、振動発電デバイス10に加わる励振加速度が低加速度の状態で、振動振幅が小さいときであっても、振動発電デバイス10の出力インピーダンスZmが大きいので、振動発電デバイス10の出力電圧eは、整流用ダイオードを導通させるのに十分な値になり、小さい値の出力電流iであっても、それにより蓄電素子を充電させるようにすることができる。
 そして、図2に示したように、静止状態から励振加速度が低加速度の状態においては、突部23,24及び突部32A、32Bとの間の隙間の間隔doが比較的大きいので、可動側部2と固定側部3A,3Bとの間の静電容量は小さくなるから、静電的拘束力が小さくなり、振動発電デバイス10の可動側部2は振動し易い状態となっている。このため、この実施形態の振動発電デバイス10によれば、外力による励振加速度が低加速度のときにも、効率良く、その外力に応答して振動することができ、小さい出力電流であっても、効率良く発電をして、効率良く充電することができるという効果がある。
 次に、外力が大きくなって、振動発電デバイス10の振動振幅が大きくなると、図4に示すように、突部23,24及び突部32A、32Bとの間の隙間の間隔doが、低加速度時よりも狭い値となる。このため、図19の(式2)に示される力係数(電気機械変換係数)Aは、大きくなる。すると、図19の(式3)に示される出力インピーダンスZmが小さくなり、図19の(式4)に示す電流iは大きくなる。一方、振動発電デバイス10の図19の(式5)に示す出力電圧eは、力係数(電気機械変換係数)Aが大きくなるので小さくなるが、外力fが大きくなっていることから、振動発電デバイス10の出力電流を整流するためのダイオードを導通させるのに十分な値は維持する。
 したがって、上述の構成の振動発電デバイス10においては、励振加速度が高加速度の状態で、振動振幅が大きいときには、振動発電デバイス10の出力インピーダンスZmが小さくなって、振動発電デバイス10の出力電流iは大きくなり、このときの振動発電デバイス10の出力電圧eにより整流用ダイオードは導通状態となるので、大きい値の出力電流iにより、蓄電素子を充電させるようにすることができる。
 以上のように、この実施形態の振動発電デバイス10は、励振加速度が低加速度のときには、出力インピーダンスが大きくなり、高加速度のときには、出力インピーダンスが小さくなる。したがって、この実施形態の振動発電デバイス10によれば、低加速度の状態から高加速度の状態にまで広範囲に分布する環境振動エネルギーの励振加速度に対して振動応答したときの出力電流及び出力電圧により、効率良く、整流回路を駆動して蓄電することができる。
 なお、図1において、7は錘であり、この錘7は、半導体基板1から作成されるのではなく、別途に作成されて、この第1の実施形態の振動発電デバイス10の可動側部2の上に装着されるものである。この錘7を可動側部2の上に載せることで、可動側部2の質量mを大きくして、振動発電デバイス10の振動発電による出力P(図19の(式6)参照)を大きくすることができる。
 この図19の(式6)において、mは、錘7を含めた可動側部2の質量であり、xは振動振幅、ωは角速度、Qは可動側部2の共振時における尖鋭度(いわゆるQ値(Quality factor))であり、外部励振振動の振幅に対する可動側部2の振動振幅の比である。この(式6)から明らかなように、この第1の実施形態の振動発電デバイス10においては、錘7を可動側部2の上に取り付けたことで、発電出力電力を大きくすることができる。
 なお、可動側部と固定側部の櫛歯状の突部を、互いに噛み合うようにすると共に、その噛み合っている突部の高さ方向に可動側部を振動させるようにする振動発電デバイスも知られている(例えば公知文献(JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEM. VOL.20.NO.6.DECEMBER 2011)等参照)。
 しかし、この種の振動発電デバイスにおいては、可動側部は固定側部に対して近づいたり、遠ざかったりするように振動するため、静電力によりプルイン現象(引き込み現象)が生じ易くなってしまい、振動が継続できない恐れがある。すなわち、所定の空隙を隔てて対向する2面間に静電力が働いているときに、可動側部が、固定側部に対して、対向する2面間の空隙の長さの1/3以上近づくと、プルイン現象が生じて、振動が停止してしまうからである。
 これに対して、この実施形態の振動発電デバイス10においては、上述したように、可動側部2の対向面21,22に形成した櫛歯状配列の突部23,24と、固定側部3Aの対向面31Aに形成した櫛歯状配列の突部32A及び固定側部3Bの対向面31Bに形成した櫛歯状配列の突部32Bとの間には、最小でも間隔gminの空隙が設けられており、可動側部2は、対向面21,22,31A,31Bの面に沿う方向に振動移動する構成である。したがって、この実施形態の振動発電デバイス10は、可動側部2は、固定側部3A,3Bとの間に、最低限として間隔gminの距離を保って、当該間隔gの方向とは直交する方向に振動移動するので、プルイン現象は生じない。したがって、この実施形態の振動発電デバイス10においては、原理的には可動側部2の振動の振幅に制限を設ける必要はないというメリットがある。
 また、この実施形態の振動発電デバイスにおいては、前述したように、振動開始時の静電拘束力が小さいので、外部振動エネルギーにより振動が成長しやすいというメリットもある。
 [第1の実施形態の振動発電デバイスの製法]
 この第1の実施形態の振動発電デバイス10は、前述したように、半導体基板1に対して施される半導体プロセスにより形成されるMEMSデバイスである。半導体基板の例としては、単結晶のシリコン基板、多結晶のシリコン基板、SOI(Silicon on Insulator)基板、セラミック基板、金属基板、ガラス基板、ポリマー基板等を用いることができる。以下に説明するこの実施形態の振動発電デバイス10についての半導体製造プロセスの例においては、半導体基板としてSOI基板を用いている。
 図5~図9は、この実施形態の振動発電デバイス10についての半導体製造プロセスの例を示す図である。
 半導体プロセスの実行に先立ち、SOI基板からなる半導体基板1を用意する。最終的には、半導体基板1からエッチングにより振動発電デバイス10を分離する。以下の説明では、便宜上、その分離された1つの振動発電デバイス10についてプロセスを説明することとする。図5(A)は、1つの振動発電デバイス10についての半導体基板1を示すもので、横方向の長さXが、例えば12mm、縦方向の長さYが、例えば8mmとされている。この半導体基板1を、その基板面1aに直交する方向に破断したときの断面図を図5(B)に示す。この図5(B)は、図5(A)のA-A線断面図である。
 図5(B)に示すように、半導体基板1は、基板面1aに直交する方向に複数層が積層されており、この例では、基板面1aを形成するSOI層101と、埋め込み酸化膜層102と、ハンドル層103とならなる。SOI層101は、この例では、厚さが300μmで、比抵抗が例えば0.1ΩcmのP型シリコン層からなる。埋め込み酸化膜層102は、厚さが2μmの酸化膜からなる絶縁層である。また、ハンドル層103は、厚さが500μmで、比抵抗が例えば0.1ΩcmのP型シリコン層からなる。
 この半導体基板1に対して、先ず、図5(C)の断面図(図5(B)の断面図と同じ位置の断面図)に示すように、SOI層101の表面(基板面1a)上に、LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)法により、窒化シリコン(Si3N4)膜104を成膜する。この窒化シリコン膜104は、後において、図1に示した電極25,26,33A,33Bを形成する位置を確保するためのものである。
 窒化シリコン膜104は、パターニング処理されて、図5(D)及び図5(E)に示すように、電極25,26,33A,33Bを形成する位置部分104a,104b,104c,104dのみを残して除去される。なお、図5(E)は、図5(A)と同様に、半導体基板1を、その基板面1a側から見た図であり、図5(D)は、図5(E)におけるB-B線断面図である。
 次に、図6(A)においてハッチングを付して示すように、半導体基板1の基板面1a上にレジスト膜105を塗布し、かつ、その塗布したレジスト膜105について、可動側部2と、固定側部3A及び固定側部3Bと、支持梁部4L及び支持梁部4Rとを形成する部分に対応する部分を残して、それらの部分をマスクするようにパターニング処理する。なお、図6(A)は、図5(A)と同様に、半導体基板1を、その基板面1a側から見た図であり、図6(B)は、図6(A)におけるC-C線断面図である。
 なお、振動発電デバイス10の可動側部2の突部23,24の個数と、固定側部3A,3Bの突部32A,32Bの個数は、図6~図8の半導体製造プロセスの図においては、作図の便宜上、5~6個となっているが、前述したように、その個数は、実際的には、より多数である。また、振動発電デバイス10の可動側部2の突部23,24と、固定側部3A,3Bの突部32A,32Bとは、図6~図8の半導体製造プロセスの図においては、作図の便宜上、全て同一の高さを有するものとして示してあるが、実際上は、図2に示したように、振動方向において高さが異なるものであることは言うまでもない。
 次に、図6(C)の断面図(図6(B)の断面図と同じ位置の断面図)に示すように、ICP(Inductively Coupled Plasma;誘導結合プラズマ)-RIE(Reactive Ion Etching;反応性イオンエッチング)による深掘りエッチング処理を施して、SOI層101の内の、レジスト膜105によりマスクされていない部分を、埋め込み酸化膜層102のところまで、エッチング除去する。
 次に、レジスト膜105を除去する処理して、図6(D)及び(E)に示すように、SOI層101を露呈させるようにする。なお、図6(E)は、半導体基板1を、その基板面1a側から見た図であり、図6(D)は、図6(E)におけるB-B線断面図である。
 次に、半導体基板1の基板面1aとは反対側の裏面1b(ハンドル層103の露呈面)上に、図7(A)においてハッチングを付して示すように、可動側部2と支持梁部4L及び支持梁部4R以外の部分をマスクするようにパターニングしたレジスト膜106を形成する。すなわち、半導体基板1に対して裏面レジストパターニング処理する。なお、図7(A)は、半導体基板1を、その裏面1b側から見た図であり、図7(B)は、図7(A)におけるE-E線断面図である。
 次に、図7(C)の断面図(図7(B)の断面図と同じ位置の断面図)に示すように、ICP-RIEによる深掘りエッチング処理を施して、ハンドル層103の内の、レジスト膜106によりマスクされていない部分を、埋め込み酸化膜層102のところまで、エッチング除去する。
 次に、レジスト膜106を除去する処理して、図7(D)及び(E)に示すように、ハンドル層103を裏面1b側に露呈させるようにする。なお、図7(E)は、半導体基板1を、その裏面1b側から見た図であり、図7(D)は、図7(E)におけるF-F線断面図である。
 次に、バッファー弗酸溶液により、埋め込み酸化膜層102の露呈している部分をエッチング除去する処理を施して、図8(A)の断面図(図7(D)の断面図と同じ位置の断面図)に示すように、可動側部2と支持梁部4L及び支持梁部4Rの部分が可動可能となるようにする。
 次に、KOH(水酸化カリウム)溶液によるバブリング酸化処理を行って、図8(B)の断面図(図8(A)の断面図と同じ位置の断面図)に示すように、カリウム含有酸化膜107を形成する。カリウム含有酸化膜107は、後述するエレクトレット膜を生成するエレクトレット化の処理のためのものであり、例えば厚さが1μmとされる。なお、このKOH(水酸化カリウム)溶液によるバブリング酸化処理については、例えば特開2016-82836号公報の図2、図3及びその説明部分に記載の技術を用いることができる。ここではその詳細は省略する。
 次に、窒化ケイ素膜104a,104b,104c,104dを、図8(C)の断面図に示すようにエッチング除去する処理をして、当該エッチング除去した部分を、前述した電極25,26,33A,33Bとして形成する。
 以上のようにして、半導体基板1から、この実施形態の振動発電デバイスの構成部分が、図8(D)に示すように作成することができる。そして、この図8(D)に示す振動発電デバイスの可動側部2または固定側部3A及び3Bのいずれか一方にエレクトレット膜を生成するエレクトレット化処理をする。この例では、固定側部3A及び3Bに、負に帯電させたエレクトレット膜を生成する。このエレクトレット化の処理は、例えば特開2013-13256号公報に記載のBias-Temperature法を用いて行うことができる。ここではその詳細な説明は省略する。
 図9は、この実施形態の振動発電デバイス10を用いた充電回路の回路構成例を示す図である。図9に示すように、この実施形態の振動発電デバイス10は、可動側部2の電極25と、固定側部3Aの電極33Aとの間に生成される静電容量C1と、可動側部2の電極26と、固定側部3Bの電極33Bとの間に生成される静電容量C2とが、この例では並列に接続されたものとされる。したがって、この例では、振動発電デバイス10で生成される静電容量Cは、C=C1+C2となる。
 そして、図9の例においては、この振動発電デバイス10の静電容量Cに得られる発電出力が、この例では、ダイオードD1及びダイオードD2からなる整流回路8により整流されて、その整流出力により、蓄電用キャパシタ9が充電されて、蓄電される。
 [上述の第1の実施形態の変形例]
 上述の実施形態の振動発電デバイス10では、可動側部2の突部23,24の振動方向の幅と、固定側部3A,3Bの突部32A,32Bの振動方向の幅は、全て同一としたが、可動側部2の振動のし易さと、高加速度時の大電流をより効率良く利用することができるように、突部23,24及び突部32A,32Bの幅を変化させるようにしてもよい。
 図10は、突部23,24及び突部32A,32Bの幅を変化させた振動発電デバイス10Aにおける可動側部2と固定側部3Aとの対向部分を示す図である。なお、図示は省略するが、可動側部2と固定側部3Bとの対向部分も、同様に構成することは言うまでもない。
 この図10に示すように、可動側部2の複数の突部23及び固定側部3Aの複数の突部32Aは、図2に示した高さHm及び高さHsが高いものは振動方向の幅が広く、高さHm及びHsが低くなるにしたがって、徐々に、振動方向の幅が狭く構成されている。
 図10の例では、可動側部2の中央の高さHmが大きい4個の突部23の振動方向の幅は、幅Wt1に選定され、それらよりも高さHmが低く、それらの両側の2個ずつの突部23の振動方向の幅は、幅Wt1よりも狭い幅Wt2とされている。そして、それら幅Wt2よりも高さHmが低い左右の2個ずつの突部23の振動方向の幅は、幅Wt2よりも狭い幅Wt3とされている。
 また、図10の例では、固定側部3Aの両端の高さHsが大きい3個ずつの突部32Aの振動方向の幅は、幅Wt1に選定され、それらよりも高さHsが低く、それらの隣の2個ずつの突部32Aの振動方向の幅は、幅Wt1よりも狭い幅Wt2とされている。そして、それら幅Wt2よりも高さHsが低い中央の2個の突部32Aの振動方向の幅は、幅Wt2よりも狭い幅Wt3とされている。
 したがって、振動発電デバイス10Aでは、可動側部2が静止している状態では、可動側部2の中央の大きい幅Wt1の4個の突部23Aは、固定側部3Aの中央の幅Wt3の2個の突部32A及びその両隣の幅Wt2の2個の突部32Aと対向する状態となる。一方、固定側部3Aの大きい幅Wt1の突部32Aは、可動側部2の幅Wt2(<Wt1)及び幅Wt3(<Wt1)の突部23と対向する状態となる。すなわち、この図10の例の振動発電デバイス10Aにおいては、可動側部2が静止している状態では、可動側部2の複数の突部23と固定側部3Aの複数の突部32Aとは、互いに振動方向の幅が異なるもの同士が対向するような状態となる。
 したがって、この図10の例の振動発電デバイス10Aにおいては、可動側部2が静止している状態では、可動側部2の複数の突部23と固定側部3Aの複数の突部32Aとは、大きい間隔gsだけ空隙を空けて対向するだけでなく、互いに振動方向の幅が異なるもの同士が対向して、静電容量を形成する実効の対向面積は小さくなる。このため、振動方向の力に対抗する静電力が、図2の場合よりも小さくなるので、この図10の例の振動発電デバイス10Aは、図2の例の振動発電デバイス10よりも、可動側部2が静止している状態からの振動のし易さが向上する。
 そして、高加速度となった時には、可動側部2の複数の突部23と固定側部3Aの複数の突部32Aとは、図10に示すように、互いに、大きい幅Wt1同士が狭い間隔gminで対向する状態となって、上述した振動発電デバイス10と同様に、出力インピーダンスが小さい状態となる。したがって、この図10の例の振動発電デバイス10Aにおいても、励振加速度が高加速度のときには、大電流となり、蓄電素子を効率良く蓄電することができる。
 上述した図10の例において、可動側部2及び固定側部3A,3Bの複数の突部23,24及び32A,32Bのうち、振動方向の幅が狭い突部は、静電容量の形成について、それほど寄与しないと考えられる。そこで、当該振動方向の幅が狭い突部を省略することが可能である。図11は、このことを踏まえた図10の例の変形例である。
 すなわち、図11の例においては、図10の例において、振動方向の幅が最も狭い幅Wt3である突部23及び32Aは設けない。可動側部2の固定側部3Bとの対向面22の突部24及び固定側部3Bの対向面31Bにおいても同様とする。したがって、図11の例の振動発電デバイスにおいては、可動側部2の対向面21及び22の突部23及び24は、可動側部2の振動方向に異なる密度で形成されている(すなわち、振動方向に密度変調されている)と共に、固定側部3A,3Bの対向面31A及び31Bの突部32A及び32Bにおいても、可動側部2の振動方向に異なる密度で形成されている(すなわち、振動方向に密度変調されている)。そして、図11に示すように、可動側部2の突部23、24が高密度の部分(突部23,24が存在している部分)と、固定側部3A,3Bの突部32A,32Bが低密度の部分(突部23,24が存在していない部分)とは、可動側部2が静止状態では、互いに対向するようになるように構成される。
 この図11の例の振動発電デバイスにおいても、図10の例の振動発電デバイス10Aと同様の作用効果が得られることは言うまでもない。
 なお、図11の例は、可動側部2の突部23,24及び固定側部3A,3Bの突部32A,32Bを、可動側部2の振動方向に密度変調するようにする構成は、図10の例に適用した場合であった。しかし、可動側部2の突部23,24及び固定側部3A,3Bの突部32A,32Bを、可動側部2の振動方向に密度変調することにより、図19の(式2)に示す力係数(電気機械変換係数)Aにおける、対向する突部の数nを変更することができて、当該力係数(電気機械変換係数)Aを、小振幅時(低加速度時)と、大振幅時(高加速度時)とで、変更することができる。したがって、可動側部2の突部23,24及び固定側部3A,3Bの突部32A,32Bの高さHm及びHsが全て同一で、突部23,24と突部32A,32Bとの間隔(可動側部2の対向面21側、対向面22側と、固定側部3A,3Bの対向面31A,31B側との間隔)が一定であってもよい。また、突部23,24と突部32A,32Bとの振動方向の幅も一定であってもよい。
 上述の図1~図8を用いて説明した第1の実施形態の振動発電デバイス10においては、凸部を構成する複数の突部23,24,32A及び32Bのそれぞれの間の凹部は、空間としたが、この凹部に所定の誘電率の誘電体を充填するようにしてもよい。
 図12の例は、複数の突部23及び32Aのそれぞれの間の凹部に所定の誘電率の誘電体81及び82をそれぞれ充填した振動発電デバイスの可動側部2と固定側部3Aとの対向部分を示す図である。可動側部2と固定側部3Bとの対向部分における複数の突部24及び32Bのそれぞれの間の凹部も同様に構成される。なお、この例においては、図2に示したのと同様に、複数の突部23,24,32A及び32Bの高さHm及びHsが振動方向に沿って正弦波状に変化するように構成されている。
 この図12の例の振動発電デバイスにおいては、複数の突部23,24,32A及び32Bのそれぞれの間の凹部に誘電体81,82が充填されているので、複数の突部23,24,32A及び32B及びそのそれぞれの間の凹部は、この発明の凸部及び凹部を構成しなくなる。その代わりに、可動側部2においては、複数の突部23及び24の高さHmが振動方向に沿って正弦波状に変化しているので、当該正弦波状の変化において、図12に示すように、可動側部2には、凸部27と凹部28とが形成される。また、固定側部3Aにおいては、複数の突部32A及び32Bの高さHsが振動方向に沿って正弦波状に変化しているので、当該正弦波状の変化において、図12に示すように、固定側部3A,3Bには、凸部34と凹部35とが形成される。
 この図12の例の振動発電デバイスにおいても、上述の実施形態の振動発電デバイスと同様の作用効果を得ることができる。
 [上述の第1の実施形態のその他の変形例]
 なお、上述の第1の実施形態の振動発電デバイス10では、可動側部2の振動方向に直交する方向の両側の振動方向に沿う方向の面21,22のそれぞれに突部23,24を櫛歯状に配設すると共に、面21,22に対向する面31A,31Bを有する2個の固定側部3A,3Bを設け、面21,22のそれぞれに突部32A,32Bを櫛歯状に配設する構成とした。しかし、可動側部2の振動方向に直交する方向の両側を利用せずに、その片側の可動側部2と固定側部3Aとの組み合わせ、あるいは、可動側部2と固定側部3Bとの組み合わせの構成とするようにしてもよい。
 また、上述の第1の実施形態の振動発電デバイス10では、固定側部3A及び3Bにエレクトレット膜を生成するようにしたが、可動側部2にエレクトレット膜を生成するようにしてもよい。
 また、上述の第1の実施形態の振動発電デバイス10では、固定側部3A及び3Bの全体に亘ってエレクトレット膜を生成するようにしたが、エレクトレット膜は、全体に生成する必要はなく、少なくとも、固定側部3A及び3Bの対向面31A及び31Bにエレクトレット膜を生成すればよい。
 なお、振動発電デバイスの可動側部2または固定側部3A及び3Bのいずれか一方にエレクトレット膜を生成するエレクトレット化処理をするようにしたが、一方に負のエレクトレット電位、他方に正のエレクトレット電位を与えるように、可動側部2及び固定側部3A及び3Bの両方にエレクトレット膜を生成するようにしてもよい。
 なお、上述の図5~図8に示した、第1の実施形態の振動発電デバイス10についての半導体製造プロセスは、一例であり、半導体製造プロセスは、上述の例に限られないことは言うまでもない。
 [第2の実施形態]
 上述の実施形態の振動発電デバイス10では、可動側部と固定側部とで、櫛歯状に配列された突部が対向する組み合わせは1対としたが、複数対設けることにより、より高出力の振動発電デバイスを提供することができる。以下に説明する第2の実施形態の振動発電デバイスは、そのように構成した場合の一例である。
 図13は、この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mを、半導体基板1Mの基板面に直交する方向に当該基板面側から見た図である。この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mも、半導体基板1Mに対して、第1の実施形態の振動発電デバイス10と同様の半導体製造プロセスを施すことで製造されるものである。すなわち、可動側部と固定側部とを形成する際のレジスト膜によるエッチングのマスクパターンが異なるのみで、その他はほぼ同様となる。なお、この例の振動発電デバイス10Mの大きさは、振動方向の長さは、例えば24mmとされ、振動方向に直交する方向の長さは、例えば15mmとされている。厚さ方向の大きさは、第1の実施形態と同様である。
 図13に示すように、この第2の実施形態においても第1の実施形態の振動発電デバイス10と同様に、可動側部2Mに対して、当該可動側部2Mの振動方向に直交する方向の両側に固定側部3AMと固定側部3BMとが配設される構成である。
 そして、可動側部2Mは、第1の実施形態の振動発電デバイス10の可動側部2と同様に、支持梁部4LM及び4RMで振動方向の両端が支持されて、図13中の矢印ARで示す方向に振動するように構成されている。
 この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mの可動側部2Mは、細長形状の可動主軸部201と、この可動主軸部201の長手方向のほぼ中央位置の両側から振動方向に直交する方向に伸びるアーム部202Uとアーム部202Dと、これらのアーム部202U及びアーム部202Dのそれぞれの左側と右側の両側から矢印ARで示す振動方向に延伸する複数の可動枝部203UL及び203URと可動枝部203DL及び203DRとを備える。
 この例の場合、アーム部202Uは、可動側部2Mの可動主軸部201から、固定側部3AMの方向に張り出すように構成されている。また、アーム部202Dは、可動側部2Mの可動主軸部201から、固定側部3BM側の方向に張り出すように構成されている。
 そして、可動枝部203UL及び可動枝部203URは、可動側部2Mの振動方向に、アーム部202Uの左側と右側の両側から、振動方向に直交する方向に互いに所定の間隔を空けて、図13の例では3本ずつが延伸するように形成されている。また、可動枝部203DL及び可動枝部203DRは、可動側部2Mの振動方向に、アーム部202Dの左側と右側の両側から、図13の例では3本ずつが延伸するように形成されている。
 一方、固定側部3AMは、この第2の実施形態においては、可動側部2Mの可動主軸部201と平行に設けられる固定主軸部301Aと、その長手方向の両端から可動主軸部201の方向に延伸されるアーム部302AL及びアーム部302ARを備える。そして、これらのアーム部302AL及びアーム部302ARは、可動側部2Mのアーム部202Uに対向する面から、矢印ARで示す振動方向に延伸する複数の固定枝部303AL及び固定枝部303ARを備える。
 この例の場合には、固定枝部303AL及び固定枝部303ARは、可動枝部203UL及び可動枝部203URの本数に合わせた3本ずつとされており、図13に示すように、可動枝部203UL及び可動枝部203URと、固定枝部303AL及び固定枝部303ARとが交互に噛み合うように構成されている。
 また、固定側部3BMは、この第2の実施形態においては、可動側部2Mの可動主軸部201と平行に設けられる固定主軸部301Bと、その長手方向の両端から可動主軸部201の方向に延伸されるアーム部302BL及び302BRとを備える。そして、これらのアーム部302BL及びアーム部302BRは、可動側部2Mのアーム部202Dに対向する面から、矢印ARで示す振動方向に延伸する複数の固定枝部303BL及び固定枝部303BRを備える。
 この例の場合には、固定枝部303BL及び固定枝部303BRは、可動枝部203DL及び可動枝部203DRの本数に合わせて3本ずつとされており、図13に示すように、可動枝部203DL及び203DRと、固定枝部303BL及び303BRとが交互に噛み合うように構成されている。
 なお、可動枝部及び固定枝部の数は、3本ずつではなく、1本または2本でもよいし、3本よりも多数とすることも可能であることは言うまでもない。
 図14(A)に、固定側部3AMの左側のアーム部302ALに形成されている固定枝部303ALと、可動側部2Mのアーム部202Uの左側に形成されている可動枝部203ULとの噛み合い状態を説明するための一部拡大図を示す。また、図14(B)には、固定側部3AMの右側のアーム部302ARに形成されている固定枝部303ARと、可動側部2Mのアーム部202Uの右側に形成されている可動枝部203URとの噛み合い状態を説明するための一部拡大図を示す。
 なお、固定側部3BMの左側のアーム部302BLに形成されている固定枝部303BLと、可動側部2Mのアーム部202Dの左側に形成されている可動枝部203DLとの噛み合い状態、また、固定側部3BMの右側のアーム部302BRに形成されている固定枝部303BRと、可動側部2Mのアーム部202Dの右側に形成されている可動枝部203DRとの噛み合い状態は、図14(A)及び図14(B)と同様になる。そこで、ここでは、可動枝部203UL及び可動枝部203URと、固定枝部303AL及び固定枝部303ARとの関係の説明のみを行い、可動枝部203DL及び可動枝部203DRと、固定枝部303BL及び固定枝部303BRとの関係については、その説明は省略する。
 図14(A)に示すように、可動枝部203ULの、固定枝部303ALと対向し、振動方向に沿う方向の面それぞれには、第1の実施形態の可動側部2の突部23及び突部24と同様にして、突部204UL及び突部205ULが形成されている。一方、固定枝部303ALの可動枝部203ULに対向する面には、第1の実施形態の固定側部3Aの突部32Aに対応する突部304AL及び突部305ALが形成されている。
 そして、この例においても、可動側部2Mの可動枝部203ULに形成されている突部204UL及び突部205ULと、固定枝部303ALに形成されている突部304AL及び突部305ALとは、第1の実施形態において、図2を用いて説明したのと同様の寸法関係で構成されている。すなわち、突部204UL及び突部205UL、突部304AL及び突部305ALの幅Wtは20μm、配列ピッチLは60μm、高さHは42.5μmとされ、突部204UL及び突部205ULの先端面と、突部304AL及び突部305ALの先端面との間の間隔の最小値gminは、5μmとされている。
 また、図14(B)に示すように、可動枝部203URの、固定枝部303ARと対向し、振動方向に沿う方向の面それぞれには、同様にして、突部204UR及び突部205URが形成されていると共に、固定枝部303ARの可動枝部203URに対向する面には、突部304AR及び突部305ARが形成されている。そして、可動側部2Mの可動枝部203URに形成されている突部204UR及び205URと、固定枝部303ARに形成されている突部304AR及び305ARとは、可動側部2Mの可動枝部203ULに形成されている突部204UL及び205ULと、固定枝部303ALに形成されている突部304L及び305Lとの関係と同様に構成されている。
 なお、この場合に、固定側部3AMの固定主軸部301にも、固定枝部303ALの突部305AL及び突部305AL、また、固定枝部303ARの突部305AR及び突部305AR、と同様の突部305Mが形成されている。また、可動側部2Mの可動主軸部201にも、可動枝部203UL及び可動枝部203URの突部203UL及び203URと同様の突部が形成されている。
 なお、可動側部2の突部23,24の個数と、固定側部3A,3Bの突部32A,32Bの個数は、図13及び図14においては、作図の便宜上、少数となっているが、前述したように、その個数は、実際的には、より多数である。また、可動側部2の突部23,24と、固定側部3A,3Bの突部32A,32Bとは、図13及び図14においては、作図の便宜上、全て同一の高さを有するものとして示してあるが、実際上は、図2に示したように、振動方向において高さが異なるものであることは言うまでもない。また、上述した第1の実施形態の変形例のように構成されていてもよい。
 ところで、一般に、この種の静電型の振動発電デバイスの場合、支持梁部4LM及び4RMの復元力と、可動側部2Mと固定側部3AM及び3BMとの間の静電力が同一方向に働くと、静電力により可動構造が制動されて動きにくくなる。
 これに鑑み、この第2の実施形態では、図14(A)に示すアーム部202Uの左側の可動枝部203ULと固定側部3AMの左側の固定枝部303ALとの左側グループにおける突部204UL及び205ULと突部304AL及び305ALとの対向位相と、図14(B)に示すアーム部202Uの右側の可動枝部203URと固定側部3AMの右側の固定枝部303ARとの右側グループにおける突部204UR及び205URと突部304AR及び305ARとの対向位相とが、静電力による影響が、左側グループと、右側グループとで互いに相殺されるように異なる構成とされている。
 この図13の例では、配列ピッチLを1周期(360度)としたとき、左側グループと、右側グループとで90度位相が異なるように構成されている。すなわち、図14(A)に示すように、左側グループの可動枝部203ULの突部204UL及び205ULと、固定枝部303ALの突部304AL及び305ALとが互いに正対するような状態であるときには、図14(B)に示すように、右側グループの可動枝部203URの突部204UR及び205URと、固定枝部303ARの突部304AR及び305ARとは、正対せずに、90度ずれた状態となるように構成されている。
 なお、図示は省略するが、上述と同様にして、アーム部202Dの左側の可動枝部203DLと固定側部3BMの左側の固定枝部303BLとの左側グループにおける突部204DL及び205DLと突部304BL及び305BLとの対向位相と、アーム部202Dの右側の可動枝部203DRと固定側部3BMの右側の固定枝部303BRとの右側グループにおける突部204DR及び205DRと突部304BR及び305BRとの対向位相とが、同様にして、静電力による影響が、左側グループと、右側グループとで互いに相殺されるように異なる構成とされている。
 このように、この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mにおいては、可動側部2Mの突部を、振動方向に2つのグループに分け、固定側部3AM及び固定側部3BMの突部との間の対向位相が、その2つのグループで互いに異なるようにしたことにより、可動側部2Mと固定側部3AM及び固定側部3BMとの間に働く静電力を、それらの2つのグループで逆方向に働かせるようにすることができ、可動側部2Mが静電力により制動されて、振動しづらくなる状態を軽減、あるいは振動を継続しなくなる状態を回避することができる。
 なお、上述の説明では、可動側部2Mの突部を、振動方向に2つのグループに分けたが、固定側部3AM及び固定側部3BMの突部を、振動方向に2つのグループに分けるようにしても勿論よい。
 図示は省略したが、この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mにおいても、可動側部2Mの可動主軸部201の上には、錘が載せられるのは、第1の実施形態の振動発電デバイス10の場合と同様である。
 この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mも、第1の実施形態の振動発電デバイス10と同様にして、可動側部2Mの両端側に電極25M及び26Mが形成されると共に、固定側部3AMには電極33AMが形成され、固定側部3BMには電極33BMが形成される。そして、この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mの場合にも、図9に示した充電回路により、蓄電用キャパシタ9に蓄電することができる。
 この場合に、この第2の実施形態においては、図9に示す電極25に対応する電極25Mと、電極33Aに対応する電極33AMとの間には、複数の可動枝部203UL及び可動枝部203UR(可動主軸部201を含む)と複数の固定枝部303AL及び固定枝部303AR(固定主軸部301Aを含む)との対の間でそれぞれ生成される複数個の静電容量が並列に接続されていることになる。同様に、図9に示す電極26に対応する電極26Mと、電極33Bに対応する電極33BMとの間には、複数の可動枝部203DL及び可動枝部203DR(可動主軸部201を含む)と複数の固定枝部303BL及び固定枝部303BR(固定主軸部301Bを含む)との対の間でそれぞれ生成される複数個の静電容量が並列に接続されていることになる。
 したがって、この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mによれば、第1の実施形態と同様の作用効果を有する上に、振動発電の発電量を大きくすることができる広帯域の振動発電デバイスを実現することができる。
 そして、この第2の実施形態の振動発電デバイス10Mによれば、可動側部の突部と固定側部の突部との対向位相が互いに異なる2つのグループに分け、それら2つのグループ間で、可動側部と固定側部との間に働く静電力を互いに相殺するように構成したので、可動側部が静電力により振動しづらくなる状態を軽減、あるいは振動を継続しなくなる状態を回避することができる。
 [第2の実施形態の変形例]
 上述の第2の実施形態の例においても、固定側部3BM側を省略して、可動側部2Mと、固定側部3AMとの組み合わせからなるものとしてもよい。
 また、可動側部2Mの可動主軸部201から振動方向に直交する方向に延伸するアーム部を、更に、振動方向の異なる位置に複数個設け、それぞれのアーム部について、上述と同様の構成となるようにするとともに、固定側部3AM及び3BMも、それぞれのアーム部に対応する部分を、上述と同様に構成することにより、より多数の可動枝部と固定枝部との対からなる構成とすることもできる。
 また、上述の第2の実施形態においては、可動側部と固定側部との間の静電力を相殺するようにするために、突部の対向位相が異なるグループを、可動側部の振動方向に配置するようにした。しかし、突部の対向位相が異なるグループを、振動方向に直交する方向に配置してもよい。すなわち、可動側部2Mと固定側部3AMとのグループと、可動側部2Mと固定側部3BMとのグループとで、突部の対向位相が異なるグループを構成してもよい。その場合には、第1の実施形態においても適用が可能であることは言うまでもない。
 そして、突部の対向位相の異なりは、上述の例の90度に限らず、可動側部と固定側部との間の静電力を相殺するようにする寄与する位相の異なりであればよい。
 [第3の実施形態]
 上述の実施形態では、可動側部2の対向面21,22及び固定側部3A,3Bの対向面31A,31Bには、振動方向に直交する方向の高さHm及びHsが異なる複数個の櫛歯状の突部23,24及び32A,32Bをそれぞれ形成するようにした。しかし、このような櫛歯状の突部を形成することなく、可動側部2の対向面21,22及び固定側部3A,3Bの対向面31A,31Bの形状を、平面ではなく、可動側部2の振動方向の振幅の大きさに応じて、可動側部2の対向面21,22と、固定側部3A,3Bの対向面31A,31Bとの間隔が変化するように構成する。
 第3の実施形態は、この場合の構成例である。図15は、この第3の実施形態の振動発電デバイスの要部を説明するための図で、上述の実施形態の可動側部2の対向面と固定側部3Aの対向面の形状の例を示す図である。
 すなわち、図15の例においては、可動側部2の固定側部3Aとの対向面21Wと、固定側部3Aの可動側部2との対向面31AWとは、平面ではなく、矢印ARで示す可動側部2の振動方向において、図15に示すように、同一の繰り返し周期の正弦波状の波形形状となるように形成されている。
 したがって、可動側部2の対向面21Wにおいては、波形形状において、固定側部3Aの対向面31AW側に突出する部分が凸部91となると共に、隣接する2個の凸部91の間が凹部92となる。また、固定側部3Aの対向面31AWにおいては、波形形状において、可動側部2の対向面21W側に突出する部分が凸部93となると共に、隣接する2個の凸部93の間が凹部94となる。
 そして、図15に示すように、可動側部2が静止状態においては、可動側部2の対向面の凸部91と固定側部3Aの対向面31AWの凹部94とが対向すると共に、可動側部2の凹部92と固定側部3Aの凸部93とが対向するように構成されている。そして、この可動側部2が静止状態であるときの、可動側部2の対向面21Wと固定側部3Aの対向面31AWとの間隔は、上述の第1の実施形態の場合と同様に、比較的大きい間隔gsとなるように構成されている。そして、可動側部2が振動して、可動側部2の対向面の凸部91と固定側部3Aの対向面31AWの凹部94とが対向するようになったときの、可動側部2の対向面21Wと固定側部3Aの対向面31AWとの間隔は、上述の第1の実施形態の場合と同様に、微小な間隔gmin(<gs)となるように構成されている。
 この第3の実施形態の振動発電デバイスにおいては、可動側部2と固定側部3Bとの間も同様に構成されるのは勿論である。
 これにより、この図15の例の振動発電デバイスにおいても、振動振幅が小さいときには、図19の(式2)のdo=gsとなって、力係数(電気機械変換係数)Aが小さくなり、出力インピーダンスは大きくなる。また、振動振幅が大きいときには、図19の(式2)のdo=gminとなって、力係数(電気機械変換係数)Aが大きくなり、出力インピーダンスは小さくなる。したがって、この第3の実施形態の振動発電デバイスにおいても、第1の実施形態の振動発電デバイス10と同様に、低加速度の状態から高加速度の状態まで、効率良く、出力電流を整流して、蓄電することができる。
 なお、この第3の実施形態を、上述の第2の実施形態に適用することができることは言うまでもない。
 [第4の実施形態]
 以上の実施形態では、図19の(式2)で表される力係数(電気機械変換係数)Aが、可動側部2と固定側部3A,3Bとの間の間隔doに応じて変化することに鑑み、可動側部2の振動振幅に応じて、この間隔doを、振動振幅が小さいときには大きく、振動振幅が大きいときには小さくするようにした。しかし、力係数(電気機械変換係数)Aを変化させる因子は、図19の(式2)から分かるように、間隔doに限られず、エレクトレット電位Eであってもよい。
 第4の実施形態においては、固定側部3A,3Bまたは可動側部2のいずれか一方にエレクトレット膜を生成する際に、そのエレクトレット膜のエレクトレット電位Eを、可動側部2の振動方向において変化させることで、力係数(電気機械変換係数)Aを変化させるように構成する。
 図16は、この第4の実施形態の振動発電デバイスの要部を説明するための図で、上述の実施形態の可動側部2の対向面と固定側部3Aの対向面の部分の場合の例を示す図である。この第4の実施形態では、図16の例に示すように、可動側部2の振動方向の長さは、固定側部3Aの振動方向の長さよりも短く構成する。そして、この例では、固定側部3Aにエレクトレット膜を形成するようにするが、そのエレクトレット電位Eを、可動側部2の振動方向において、図16において、一点鎖線で示すように、変化させておくようにする。
 すなわち、可動側部2が静止状態においては、固定側部3Aの可動側部2と対向している中央部分のエレクトレット電位Eは低くくしておく。また、可動側部2が大きく振動したときに対向することとなる固定側部3Aの部分には、エレクトレット電位Eは高くしておく。
 なお、図16の例では、可動側部2の対向面21と固定側部3Aの対向面31Aとには、突部23と突部32Aは形成されず、また、可動側部2の対向面21と固定側部3Aの対向面31aとの間の間隔は、一定の間隔、例えば間隔gminとする。
 また、可動側部2と固定側部3Bとの間の関係は、上述した可動側部2と固定側部3Aとの関係と同様に構成する。
 このように構成した第4の実施形態の振動発電デバイスにおいては、可動側部2の振動振幅が小さいときには、対向する固定側部3A,3Bにおけるエレクトレット電位Eは低いので、力係数(電気機械変換係数)Aは、(式2)から小さくなり、出力インピーダンスは大きくなる。一方、可動側部2の振動振幅が大きくなると、対向する固定側部3A,3Bにおけるエレクトレット電位Eは高くなるので、力係数(電気機械変換係数)Aは、(式2)から大きくなり、出力インピーダンスは小さくなる。
 したがって、この第3の実施形態の振動発電デバイスにおいても、第1の実施形態の振動発電デバイス10と同様に、低加速度の状態から高加速度の状態まで、効率良く、出力電流を整流して、蓄電することができる。
 なお、図16の例では、可動側部2の対向面21と固定側部3Aの対向面31Aとには、突部23と突部32Aは形成されず、また、可動側部2の対向面21と固定側部3Aの対向面31aとの間の間隔は、一定の間隔としたが、可動側部2の対向面21と固定側部3Aの対向面31Aとにおいては、第1の実施形態や第1の実施形態の変形例、さらに、第3の実施形態のように構成してもよい。また、この第4の実施形態を、第2の実施形態に適用することも可能であることは言うまでもない。
 [その他の実施形態または変形例]
 上述の実施形態の振動発電デバイスは、半導体製造プロセスにより製造されるMEMSデバイスの場合であったが、この発明による振動発電デバイスは、MEMSデバイスに限られるものではない。
 また、上述の第1の実施形態においては、可動側部及び固定側部に形成する突部(凸部)は、断面が矩形形状のものとしたが、突部(凸部)の形状は、これに限られるものではない。
 また、上述の実施形態では、振動発電デバイスを重力方向から見たときに、可動側部の左右方向に固定側部を配置するようにしたが、図17に示すように、可動側部と固定側部とを上下方向に所定の間隔g(可動側部の振動により変化する場合有り)を空けて配置するようにしてもよい。図17の例の場合、上側が可動側部2Cであり、下側が固定側部3Cとなるが、可動側部2Cの固定側部3Cに対する対向面21Cと、固定側部3Cの可動側部2に対する対向面31Cとは、上述した第1の実施形態、その変形例、あるいは第3の実施形態や第4の実施形態のいずれかと同様に形成するようにする。
 また、可動側部の振動方向は、直線方向ではなく、回転方向であってもよい。図18は、そのように構成される振動発電デバイスの可動側部2Dと、固定側部3Dの一例である。すなわち、図18に示すように、可動側部2Dと、固定側部3Dとは円板状に構成され、所定の間隔g(可動側部の振動により変化する場合有り)を空けて配置する。そして、可動側部2Dは、図18において矢印で示すように、固定側部3Dとの間隔を保った状態で、その円板に直交する方向を回転中心軸Oz(円板の中心位置)として回転するように構成される。
 この図18の例においても、可動側部2Dの固定側部3Dに対する対向面21Dと、固定側部3Dの可動側部2Dに対する対向面31Dとは、上述した第1の実施形態、その変形例、あるいは第3の実施形態や第4の実施形態のいずれかと同様に形成するようにする。ただし、振動方向が回転方向となるので、突部の高さの変化方向や、エレクトレット電位Eの変化方向などが回転方向となる点が、上述の実施形態とは異なる。
 1,1M…半導体基板、2,2M…可動側部、3A,3B,3AM,3BM…固定側部、4L,4R,4LM,4RM…支持梁部、7…錘、21,22…可動側部2の対向面、23,24…可動側部2の突部、31A,31B…固定側部3A,3Bの対向面、32A,32B…固定側部3A,3Bの突部
 

Claims (17)

  1.  外部から印加される振動エネルギーにより所定の振動方向に振動することが可能なように構成されており、前記振動方向に沿う第1の面を備える可動側部と、
     前記可動側部が前記振動方向に振動することが可能なように、前記可動側部の前記第1の面と所定の間隔を隔てて対向する第2の面を備え、前記振動エネルギーに対しても位置固定するように構成されている固定側部と、
     を備え、
     前記可動側部の前記第1の面及び前記固定側部の前記第2の面のそれぞれの表面には、複数個の凹部と凸部とが前記振動方向に交互に形成されていると共に、
     前記固定側部と前記可動側部との少なくとも一方には、エレクトレット膜が形成されており、
     前記可動側部の前記第1の面側と前記固定側部の第2の面側との間隔に応じた値を有する力係数(電気機械変換係数)が、前記可動側部の前記振動振幅が小さいときには小さく、前記可動側部の前記振動振幅が大きいときには大きくなるように構成されている
     ことを特徴とする振動発電デバイス。
  2.  前記可動側部の前記第1の面の前記複数個の凹部と凸部と、前記固定側部の前記第2の面の前記複数個の凹部と凸部とは、前記可動側部の前記振動振幅が小さいときには、前記可動側部の前記第1の面の前記凸部と、前記固定側部の前記第2の面の前記凸部との間隔の最小値が大きい状態となり、かつ、前記可動側部の前記振動振幅が大きいときには、前記可動側部の前記第1の面の前記凸部と、前記固定側部の前記第2の面の前記凸部との間隔の最小値が小さい状態となるように、形成されている
     ことを特徴とする請求項1に記載の振動発電デバイス。
  3.  前記可動側部の前記第1の面の複数個の前記凸部と、前記固定側部の前記第2の面の複数個の前記凸部とは、前記振動方向の配列ピッチは同一とされていると共に、前記振動方向に配列されている複数の前記凸部の前記振動方向に直交する方向の高さが、振動方向に沿って徐々に大きくなった後、徐々に小さくなるような変化を繰り返すように形成されている
     ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の振動発電デバイス。
  4.  前記可動側部の前記第1の面の複数個の前記凸部と、前記固定側部の前記第2の面の複数個の前記凸部とは、前記振動方向に直交する方向が高さが低いものほど、前記振動方向の幅が狭くされている
     ことを特徴とする請求項3に記載の振動発電デバイス。
  5.  前記可動側部の前記第1の面の複数個の前記凸部と、前記固定側部の前記第2の面の複数個の前記凸部は、前記振動方向の存在密度が、前記振動方向において変えられている
     ことを特徴とする請求項1~請求項4のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  6.  前記可動側部の前記第1の面及び前記固定側部の前記第2の面のそれぞれの表面の、前記凸部は、前記振動方向に直交する方向に突出する複数個の突部が前記振動方向に櫛歯状に配列されている
     ことを特徴とする請求項1~請求項5のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  7.  前記可動側部の前記第1の面及び前記固定側部の前記第2の面のそれぞれの表面の前記凸部は、前記振動移動方向に配列された複数個のくさび形状からなる
     ことを特徴とする請求項2~請求項6のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  8.  前記可動側部の前記第1の面及び前記固定側部の前記第2の面のそれぞれの表面の前記凹部と前記凸部とにより波形形状に形成されている
     ことを特徴とする請求項1に記載の振動発電デバイス。
  9.  外部から印加される振動エネルギーにより所定の振動方向に振動することが可能なように構成されており、前記振動方向に沿う第1の面を備える可動側部と、
     前記可動側部が前記振動方向に振動することが可能なように、前記可動側部の前記第1の面と所定の間隔を隔てて対向する第2の面を備え、前記振動エネルギーに対しても位置固定するように構成されている固定側部と、
     を備え、
     前記固定側部と前記可動側部との少なくとも一方には、エレクトレット膜が形成されており、
     前記固定側部と前記可動側部との少なくとも一方に形成される前記エレクトレット膜のエレクトレット電位が前記振動方向において変化せられていることにより、前記エレクトレット膜の電位に応じた値を有する力係数(電気機械変換係数)が、前記可動側部の前記振動振幅が小さいときには小さく、前記可動側部の前記振動振幅が大きいときには大きくなるように構成されている
     ことを特徴とする振動発電デバイス。
  10.  前記固定側部と前記可動側部とが半導体基板から形成されたMEMSデバイスである
     ことを特徴とする請求項1~請求項9のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  11.  前記可動側部の前記第1の面と前記固定側部の前記第2の面とは、それぞれ前記半導体基板の基板面に直交する方向の面であり、前記可動側部の前記振動方向の両端は、前記半導体基板から形成された支持梁により支持されて、前記可動側部が振動移動可能とされている
     ことを特徴とする請求項10に記載の振動発電デバイス。
  12.  前記可動側部及び前記固定側部は、それぞれ平板状部材である
     ことを特徴とする請求項1~請求項11のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  13.  前記可動側部は前記第1の面に直交する方向を回転軸方向として回転振動する
     ことを特徴とする請求項1~請求項12のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  14.  前記可動側部の前記前記振動方向に沿う前記第1の面は複数個であり、
     前記固定側部は、前記可動側部の複数個の前記第1の面のそれぞれに対向する複数個の前記第2の面を有する
     ことを特徴とする請求項1~請求項13のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  15.  前記可動側部には、前記振動移動方向に対して交差する方向に重さが加わるように錘が配置されている
     ことを特徴とする請求項1~請求項14のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  16.  前記振動移動方向に直交する方向に複数個の前記可動側部を備えると共に、前記固定側部材は、複数個の前記可動側部の前記第1の面のそれぞれに対向する複数個の前記第2の面を有する
     ことを特徴とする請求項1~請求項15のいずれかに記載の振動発電デバイス。
  17.  前記可動側部の前記第1の面及び前記固定側部の前記第2の面に形成されている前記複数個の凹部と凸部は、前記振動方向の配列ピッチの位相が異なる第1のグループと第2のグループとに分けられており、
     前記第1のグループにおいて、前記可動側部の複数個の前記凸部と、前記固定側部の複数個の前記凸部とが対向して前記振動方向に直交する方向において重なる状態のときには、前記第2のグループの前記可動側部の複数個の前記凸部と、前記固定側部の複数個の前記凸部とは前記振動方向に直交する方向において重ならない状態となるようにされている
     ことを特徴とする請求項1~請求項16のいずれかに記載の振動発電デバイス。
     
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