WO2018069319A1 - Verfahren zur herstellung einer mehrlagigen leiterplatte - Google Patents
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Definitions
- Printed circuit boards are carriers for electronic components. They serve the mechanical attachment and connection of the electronic components.
- a circuit board is made of electrically insulating material with conductive connections adhering thereto, the tracks. Fiber-reinforced plastic is common as insulating material.
- the tracks are usually etched from a thin layer of copper.
- the components are soldered to solder pads, the so-called contact pads, or in pads.
- PCB types There are a variety of different PCB types. For example, one-sided and two-sided printed circuit boards are known in which electrically conductive connections are applied either only on one surface or on the two opposite surfaces of the printed circuit boards.
- multilayer printed circuit boards or multi-layer printed circuit boards are arranged in multiple layers both on and inside the circuit board. To produce several thin circuit boards are glued to each other with so-called prepregs. These multilayer printed circuit boards can have up to 48 layers. In the field of automotive applications 4 to 8 layers are common. Connections of the connecting layers between the individual layers are by means of so-called
- the copper layers can be galvanically reinforced after etching in order to achieve the desired layer thickness.
- metallic protective and contact layers made of tin, nickel or gold can be applied galvanically on partial surfaces or the entire copper surface. Then a solder mask is applied, which covers the tracks and leaves only the solder joints.
- multilayer printed circuit boards is also associated with a variety of wet chemical processes. For example, after the pressing of a multilayer layer structure into the outer material layer (s) introduced holes are filled by wet-chemical processes, so as to establish a contact individual conductor or connecting layers. As part of a wet chemical process usually copper is deposited in a galvanic. In addition to high demands on process safety, a wet-chemical process is also associated with many ecological aspects. In these acids, alkalis, toxic chemicals are used. Partly the disposal of hazardous waste is required.
- DE 694 31 740 T2 discloses the production of a multilayer wiring board in which, according to FIGS. 7 and 8, a plurality of printed circuit board layers are pressed together, wherein contact points of the printed circuit board layers are connected to plated-through holes.
- the pads are provided with connection pads or bumps, both of which are multilayer coated using electrolytic nickel plating and electrolytic gold plating. Layering and in the case of the connection bumps with additional electrolytic tin plating and electrolytic gold plating are produced in sequence. These are very complicated wet chemical processes.
- the object is achieved by a method for producing a multilayer printed circuit board in which the individual printed circuit ⁇ tenlagen are provided with metallic conductor structures having contact points, which have a uniform thickness of at least 5ym over the PCB surface, and at least a first printed circuit board layer holes metallized with Has walls which are in electrical contact with the contact points of the metallic conductor structure or form such a contact point, in which
- a structured pre-preg position is applied to the first printed circuit board layer, leaving the contact points of the metallic conductor structures free,
- the metal of the contact points is remelted at a temperature above its melting temperature.
- the connections between the printed circuit board layers and possibly their bores for the production of plated-through holes in the printed circuit board are produced by the direct contact of the contact points of the printed circuit board layers.
- the metal of the contact points is remelted by pressure and heat during pressing, so that the contact points of different circuit board layers connect by forming intermetallic boundary layers, without further material would be necessary.
- step e) the stack is heated up to a temperature above the
- step g) Melting temperature of the metal of the contact points heated and this remelted, wherein the step g) is omitted.
- the holes are filled with a material from the group of materials solder, adhesive, polymer or sintered material after step e) in a step e x ) and this then remelted or cured.
- the holes can be completely filled.
- FIGS. 1 to 8 show the individual steps of a first variant of the method according to the invention
- FIGS. 9 to 11 show a first alternative to the steps of FIG
- FIGS. 12 and 13 show a second alternative to the steps of FIGS.
- FIGS. 14 and 15 show a third alternative to the steps of FIGS.
- a first variant of the method according to the invention for producing a multilayer printed circuit board with plated-through holes is shown in a schematic manner.
- the dimensions of the individual components are not measured ⁇ scale, but should only illustrate the procedure.
- the first printed circuit board layer 3 which is cleaned, etched and dried before laying, has in a conventional manner conductor track structures and contact surfaces and holes 5 with metallized walls.
- the edges of the bore wall metallization lying on the printed circuit board outer side and further regions to be connected to other printed circuit board layers are formed as contact points 4 with a minimum thickness of 5ym, so that the two contact points 4 of two adjacent circuit board layers 3, 7 to be joined together have a total thickness of have at least 10ym.
- the contact points are released 4 on the first printed circuit board layer 3, the prepreg 1 is applied to the first patterned conductor ⁇ board layer 3 of FIG. 3, so that in particular through the holes 2.
- a second structured printed circuit board layer 7 is positioned on the prepreg layer 1. This stack construction is processed in a subsequent pressing step according to FIGS. 5 and 6 (with vacuum assistance).
- a solder stop layer 8 is applied to the surfaces of the stack and optionally structured. Subsequently, as shown in FIG. 8, a remelting of the metal of the contact points 4. If, as shown in FIG. 8 worked with remelting, the
- FIGS. 9 to 11 the process is shown when, prior to the application of the solder stop layer 8 and the remelting of the metal of the contact points 4, a filling material 9 is introduced into the bores 5.
- the filler 9 may be a solder, an adhesive, a polymer or a sintered material, which is remelted or cured after introduction.
- a Lotstopptik 8 is applied to the outer surfaces of the resulting circuit board, which can also be done in a known manner by lamination, spin or curtain coating as in the other variants.
- FIGS. 14 and 15 show a third variant of the method according to the invention, which is a combination of the first and the second variant, in which the remelting of the Metal of the contact points 4 takes place during the pressing and then before applying a Lotstopp Mrs Rock ⁇ material 9 is introduced into the holes 5.
- the invention takes advantage provided with bores, ready struc tured ⁇ as mechanically and electrically connecting printed circuit board layers (inner and outer layers) to form throughput contacts in multilayer printed circuit boards.
- an electrical connection is created during the pressing of the aforementioned circuit board layers or in a downstream temperature process (soldering or curing) in addition to the mechanical one. It completely eliminates any form of galvanic generation of the electrical feedthroughs.
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer mehrlagigen Leiterplatte, bei der die einzelnen Leiterplattenlagen (3, 7) mit metallischen Leiterstrukturen versehen sind, die Kontaktstellen (4) aufweisen, die über die Leiterplattenoberfläche eine gleichmäßige Dicke von mindestens 5μm haben, und zumindest eine erste Leiterplattenlage (3, 7) Bohrungen (5) mit metallisierten Wänden aufweist, die mit den Kontaktstellen (4) der metallischen Leiterstruktur in elektrischem Kontakt sind oder eine solche Kontaktstelle (4) bilden, bei dem a) auf die erste Leiterplattenlage (3) eine strukturierte Prepreglage (1) aufgebracht wird, die Kontaktstellen (4) der metallischen Leiterstrukturen freilässt, b) auf die Prepreglage (1) eine zweite Leiterplattenlage (7) aufgebracht wird, c) auf diesen Stapel gegebenenfalls weitere Prepreg- und Leiterplattenlagen aufgebracht werden, d) die zumindest zwei Leiterplattenlagen (3, 7) und die zumindest eine Prepreglage (1) verpresst werden, so dass zu verbindende Kontaktstellen (4) der ersten Leiterplattenlage (3) und der zweiten Leiterplattenlage (7) in Kontakt kommen, e) während des Verpressens der Stapel bis zu einer Temperatur unterhalb der Schmelztemperatur des Metalls der Kontaktstellen (4) aufgeheizt wird, f) auf die Außenlagen des Stapels jeweils eine Lotstoppschicht (8) aufgebracht wird, g) und anschließend das Metall der Kontaktstellen (4) bei einer Temperatur oberhalb dessen Schmelztemperatur umgeschmolzen wird.
Description
Beschreibung
Verfahren zur Herstellung einer mehrlagigen Leiterplatte Leiterplatten sind Träger für elektronische Bauelemente. Sie dienen der mechanischen Befestigung und Verbindung der elektronischen Bauelemente. Eine Leiterplatte besteht aus elektrisch isolierendem Material mit daran haftenden, leitenden Verbindungen, den Leiterbahnen. Als isolierendes Material ist fa- serverstärkter Kunststoff üblich. Die Leiterbahnen werden zumeist aus einer dünnen Schicht Kupfer geätzt. Die Bauelemente werden auf Lötflächen, den sogenannten Kontaktpads, oder in Lötaugen gelötet. Es gibt eine Vielzahl an unterschiedlichen Leiterplattenarten. Beispielsweise sind einseitige und zweiseitige Leiterplatten bekannt, bei denen elektrisch leitende Verbindungen entweder nur auf einer Oberfläche oder auf den beiden gegenüberliegenden Oberflächen der Leiterplatten aufgebracht sind. Bei sogenannten Multilayer-Leiterplatten oder mehrlagigen Leiterplatten sind Leiterzugstrukturen in mehreren Lagen sowohl auf als auch im Inneren der Leiterplatte angeordnet. Zur Herstellung werden mehrere dünne Leiterplatten mit sogenannten Prepregs aufeinander geklebt. Diese mehrlagigen Leiterplatten können bis zu 48 Schichten aufweisen. Im Umfeld von Automobilen Anwendungen sind 4 bis 8 Lagen verbreitet. Verbindungen der Verbindungsschichten zwischen den einzelnen Lagen werden mittels sogenannter
Durchkontaktierungen realisiert. Die Herstellung von einseitigen oder doppelseitigen, optional durchkontaktierten, Leiterplatten erfolgt üblicherweise photochemisch. Die Herstellung der Leiterbahnen erfolgt in der Regel photolithographisch, indem eine dünne Schicht lichtempfind¬ lichen Photolacks auf die Oberfläche der zunächst vollständig metallisierten Leiterplatte aufgebracht wird. Nach der Be¬ lichtung des Photolacks durch eine Maske mit dem gewünschten Layout der Leiterzugstruktur sind je nach verwendetem Photolack entweder die belichteten oder die unbelichteten Anteile des Lacks
löslich in einer passenden Entwickler- Lösung und werden entfernt. Wird die so behandelte Leiterplatte in eine geeignete Ätzlösung eingebracht, so wird nur der freigelegte Teil der metallisierten Oberfläche angegriffen. Die vom Photolack be- deckten Anteile bleiben erhalten, weil der Lack beständig gegen die Ätzlösung ist. Anschließend können die Kupferschichten nach dem Ätzen galvanisch verstärkt werden, um die gewünschte Schichtstärke zu erzielen. Zusätzlich können galvanisch auf Teilflächen oder der gesamten Kupferfläche metallische Schutz- und Kontaktschichten aus Zinn, Nickel oder Gold aufgebracht werden. Danach wird ein Lötstopplack aufgebracht, der die Leiterbahnen abdeckt und nur die Lötstellen freilässt.
Die Herstellung mehrlagiger Leiterplatten ist darüber hinaus mit einer Vielzahl von nasschemischen Prozessen verbunden. Beispielsweise werden nach dem Verpressen eines aus mehreren Lagen bestehenden Schichtaufbaus in die äußeren Materialschicht (en) eingebrachte Bohrungen mittels nasschemischer Prozesse gefüllt, um so eine Kontaktierung einzelner Leiter- oder Verbindungslagen herzustellen. Im Rahmen eines nasschemischen Prozesses wird in einer Galvanik üblicherweise Kupfer abgeschieden. Neben hohen Anforderungen an die Prozesssicherheit ist ein nasschemischer Prozess auch mit vielen ökologischen Aspekten verbunden. Bei diesen werden Säuren, Laugen, toxische Chemikalien eingesetzt. Teilweise ist die Entsorgung von Sondermüll erforderlich.
Es wäre daher wünschenswert, wenn die Herstellung einer mehrlagigen Leiterplatte mit einer möglichst geringen Anzahl an nasschemischen Prozessen erfolgen könnte.
Die DE 694 31 740 T2 offenbart die Herstellung einer mehrlagigen Verdrahtungsplatine, bei der gemäß der dortigen Figuren 7 und 8 mehrere Leiterplattenlagen miteinander verpresst werden, wobei Kontaktstellen der Leiterplattenlagen mit Durchkontaktierungen verbunden sind. Die Kontaktstellen werden mit Verbindungskontaktstellen oder Verbindungskontakthöckern versehen, die beide durch Mehrlagenbeschichten unter Anwendung von elektrolytischer Nickelbeschichtung und elektrolytischer Goldbe-
Schichtung und im Falle der Verbindungskontakthöcker mit zusätzlicher elektrolytischer Zinnbeschichtung und elektrolytischer Goldbeschichtung der Reihe nach erzeugt werden. Dies sind sehr aufwändige nasschemische Verfahren.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, diesen Nachteil zu vermeiden.
Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zum Herstellen einer mehrlagigen Leiterplatte, bei der die einzelnen Leiterplat¬ tenlagen mit metallischen Leiterstrukturen versehen sind, die Kontaktstellen aufweisen, die über die Leiterplattenoberfläche eine gleichmäßige Dicke von mindestens 5ym haben, und zumindest eine erste Leiterplattenlage Bohrungen mit metallisierten Wänden aufweist, die mit den Kontaktstellen der metallischen Leiterstruktur in elektrischem Kontakt sind oder eine solche Kontaktstelle bilden, bei dem
a) auf die erste Leiterplattenlage eine strukturierte Pre- preglage aufgebracht wird, die Kontaktstellen der metallischen Leiterstrukturen freilässt,
b) auf die Prepreglage eine zweite Leiterplattenlage auf¬ gebracht wird,
c) auf diesen Stapel gegebenenfalls weitere Prepreg- und Leiterplattenlagen aufgebracht werden,
d) die zumindest zwei Leiterplattenlagen und die zumindest eine Prepreglage verpresst werden, so dass zu verbindende Kontaktstellen der ersten Leiterplattenlage und der zweiten Leiterplattenlage in Kontakt kommen,
e) während des Verpressens der Stapel bis zu einer Temperatur unterhalb der Schmelztemperatur des Metalls der Kontaktstellen aufgeheizt wird,
f) auf die Außenlagen des Stapels jeweils eine Lotstoppschicht aufgebracht wird,
g) und anschließend das Metall der Kontaktstellen bei einer Temperatur oberhalb dessen Schmelztemperatur umgeschmolzen wird .
Es werden also die Verbindungen zwischen den Leiterplattenlagen und ggf. deren Bohrungen zur Herstellung von Durchkontaktie- rungen in der Leiterplatte durch den direkten Kontakt der Kontaktstellen der Leiterplattenlagen hergestellt. Es wird das Metall der Kontaktstellen durch Druck und Wärmeeinwirkung beim Verpressen umgeschmolzen, so dass sich die Kontaktstellen verschiedener Leiterplattenlagen durch Bildung intermetallischer Grenzschichten verbinden, ohne dass weiteres Material nötig wäre.
Auf diese Weise lassen sich sehr einfach Durchkontaktierungen durch die gesamte Leiterplatte oder auch nur bis zu Lei¬ terstrukturen auf einer Innenlage realisieren, indem lediglich das Metall der durch den Rand der Bohrungswandmetallisierung erzeugten Kontaktstellen durch Druck und Wärme zu einer intermetallischen Grenzschicht verpresst werden.
In einer Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens wird im Schritt e) der Stapel bis zu einer Temperatur über der
Schmelztemperatur des Metalls der Kontaktstellen aufgeheizt und dieses dabei umgeschmolzen, wobei der Schritt g) entfällt.
Das Verpressen und Umschmelzen erfolgt also in einem Arbeitsgang . In einer Weiterbildung der Erfindung werden nach dem Schritt e) bei einem Schritt ex) die Bohrungen mit einem Material aus der Gruppe der Materialien Lot, Klebstoff, Polymer oder Sinterwerkstoff aufgefüllt und dieses anschließend umgeschmolzen bzw. ausgehärtet .
Damit können die Bohrungen ggf. komplett gefüllt werden.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen mit Hilfe von Figuren näher beschrieben werden. Dabei zeigen
Figuren 1 bis 8 die einzelnen Schritte einer ersten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens,
Figuren 9 bis 11 eine erste Alternative zu den Schritten der
Figuren 7 bis 8,
Figuren 12 und 13 eine zweite Alternative zu den Schritten der
Figuren 7 bis 8,
Figuren 14 und 15 eine dritte Alternative zu den Schritten der
Figuren 7 bis 8. In den Fig. 1 bis 8 ist eine erste Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer mehrlagigen Leiterplatte mit Durchkontaktierungen in schematischer Weise dargestellt. Die Abmessungen der einzelnen Bestandteile sind dabei nicht ma߬ stäblich, sondern sollen lediglich die Vorgehensweise ver- deutlichen.
Fig. 1 zeigt eine Prepreglage 1, die gemäß Fig. 2 strukturiert wird, indem in die Prepreglage 1 durch Bohren, Stanzen, Schneiden etc. Öffnungen 2 eingebracht werden, die die für die zu er- zeugenden Durchkontaktierungen benötigten Anschlussflächen auf einer ersten strukturierten Leiterplattenlage 3 gemäß Fig. 3 freigeben sollen. Die erste Leiterplattenlage 3, die vor dem Verlegen gereinigt, angeätzt und getrocknet wird, weist dabei in herkömmlicher Weise Leiterbahnstrukturen und Kontaktflächen sowie Bohrungen 5 mit metallisierten Wänden auf.
In erfindungsgemäßer Weise sind die an der Leiterplattenla- geaußenseite liegenden Ränder der Bohrungswandmetallisierung und weitere mit anderen Leiterplattenlagen zu verbindende Bereiche als Kontaktstellen 4 mit einer Mindestdicke von 5ym gebildet, so dass die zwei miteinander zu verbindenden Kontaktstellen 4 zweier benachbarter Leiterplattenlagen 3, 7 eine Gesamtdicke von mindestens 10ym haben. Die Prepreglage 1 wird auf die erste strukturierte Leiter¬ plattenlage 3 der Fig. 3 aufgebracht, so dass insbesondere durch die Öffnungen 2 die Kontaktstellen 4 auf der ersten Leiterplattenlage 3 freigelassen werden.
Gemäß Fig. 4 wird eine zweite strukturierte Leiterplattenlage 7 auf der Prepreglage 1 positioniert. Dieser Stapelaufbau wird in einem anschließenden Verpressschritt gemäß Fig. 5 und 6 (mit Vakuumunterstützung) verarbeitet .
Gemäß Fig. 7 wird eine Lotstoppschicht 8 auf die Oberflächen des Stapels aufgebracht und ggf. strukturiert. Anschließend erfolgt gemäß Fig. 8 ein Umschmelzen des Metalls der Kontaktstellen 4. Wird gemäß Fig. 8 mit Umschmelzphase gearbeitet, wird die
Temperatur des Pressguts am Ende des Pressprofils, nach dem Aushärten der Prepreglage 1 und vor dem Abkühlen kurzzeitig auf oberhalb der Schmelztemperatur des Metalls der Kontaktstellen 4 gebracht .
In den Figuren 9 bis 11 ist der Vorgang gezeigt, wenn vor dem Aufbringen der Lotstoppschicht 8 und dem Umschmelzen des Metalls der Kontaktstellen 4 ein Füllmaterial 9 in die Bohrungen 5 eingebracht wird. Das Füllmaterial 9 kann dabei ein Lot, ein Klebstoff, ein Polymer oder ein Sinterwerkstoff sein, der nach dem Einbringen umgeschmolzen bzw. ausgehärtet wird.
Daran anschließend wird wiederum eine Lotstoppschicht 8 auf die Außenflächen der entstandenen Leiterplatte aufgebracht, was in bekannter Weise durch Laminieren, Schleudern oder Vorhanggießen wie in den anderen Varianten auch erfolgen kann.
In den Figuren 12 und 13 ist eine weitere Variante des er¬ findungsgemäßen Verfahrens dargestellt, bei dem das Umschmelzen des Metalls der Kontaktstellen 4 vor dem Aufbringen der Lotstoppschicht 8 erfolgt . Hier wird bereits während des Verpressens die Temperatur über die Schmelzphase des Materials der Kon¬ taktstellen 4 erhöht, so dass die intermetallischen Grenzschichten entstehen können
In den Figuren 14 und 15 ist schließlich eine dritte Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens gezeigt, die eine Kombination der ersten und der zweiten Variante ist, bei der das Umschmelzen des
Metalls der Kontaktstellen 4 während des Verpressens erfolgt und anschließend vor dem Aufbringen einer Lotstoppschicht Füll¬ material 9 in die Bohrungen 5 eingebracht wird. Die Erfindung nutzt mit Bohrungen versehene, fertig struktu¬ rierte als mechanisch und elektrisch zu verbindende Leiterplattenlagen (Innen- und Außenlagen) zur Bildung von Durch- kontaktierungen in mehrlagigen Leiterplatten. Durch den Einsatz von strukturierten Prepreglagen und ausreichend dicken Kon- taktstellen wird während des Verpressens der zuvor genannten Leiterplattenlagen bzw. in einem nachgelagerten Temperatur- prozess (Löten oder Aushärten) neben der mechanischen eine elektrische Verbindung erzeugt. Es entfällt gänzlich jede Form der galvanischen Erzeugung der elektrischen Durchkontaktie- rungen.
Claims
1. Verfahren zum Herstellen einer mehrlagigen Leiterplatte, bei der die einzelnen Leiterplattenlagen (3, 7) mit metallischen Leiterstrukturen versehen sind, die Kontaktstellen (4) aufweisen, die über die Leiterplattenoberfläche eine gleichmäßige Dicke von mindestens 5ym haben, und zumindest eine erste Leiterplattenlage (3, 7) Bohrungen (5) mit metallisierten Wänden aufweist, die mit den Kontaktstellen (4) der metallischen Leiterstruktur in elektrischem Kontakt sind oder eine solche Kontaktstelle (4) bilden, bei dem
a) auf die erste Leiterplattenlage (3) eine strukturierte Prepreglage (1) aufgebracht wird, die Kontaktstellen (4) der metallischen Leiterstrukturen freilässt,
b) auf die Prepreglage (1) eine zweite Leiterplattenlage (7) aufgebracht wird,
c) auf diesen Stapel gegebenenfalls weitere Prepreg- und Leiterplattenlagen aufgebracht werden,
d) die zumindest zwei Leiterplattenlagen (3, 7) und die zumindest eine Prepreglage (1) verpresst werden, so dass zu verbindende Kontaktstellen (4) der ersten Leiterplattenlage (3) und der zweiten Leiterplattenlage (7) in Kontakt kommen, e) während des Verpressens der Stapel bis zu einer Temperatur unterhalb der Schmelztemperatur des Metalls der Kontaktstellen (4) aufgeheizt wird,
f) auf die Außenlagen des Stapels jeweils eine Lotstoppschicht (8) aufgebracht wird,
g) und anschließend das Metall der Kontaktstellen (4) bei einer Temperatur oberhalb dessen Schmelztemperatur umgeschmolzen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem im Schritt e) der Stapel bis zu einer Temperatur über der Schmelztemperatur des Metalls der Kontaktstellen (4) aufgeheizt wird und dieses dabei um- geschmolzen wird und der Schritt g) entfällt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem nach dem Schritt e) bei einem Schritt ex) die Bohrungen (5) mit einem Material (9)
aus der Gruppe der Materialien Lot, Klebstoff, Polymer oder Sinterwerkstoff aufgefüllt und dieses anschließend umge¬ schmolzen bzw. ausgehärtet wird.
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| CN114976720A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-08-30 | 维沃移动通信有限公司 | 连接器母座、连接器组件及电子设备 |
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| DE102016219733A1 (de) | 2018-04-12 |
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