WO2018047850A1 - 液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
重合体の作用によって液晶分子の垂直配向が達成可能な液晶組成物、この組成物を含有する液晶表示素子を提供する。 第一添加物として分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を含有し、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶組成物であり、この組成物は、第一成分として負に大きな誘電率異方性を有する特定の液晶性化合物、第二成分として高い上限温度または小さな粘度を有する特定の液晶性化合物、および第二添加物として重合性化合物を含有してもよく、そしてこの組成物を含有する液晶表示素子である。
Description
本発明は、液晶組成物、この組成物を含有する液晶表示素子などに関する。特に、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（またはその重合体）を含有し、この化合物の作用によって液晶分子の垂直配向が達成可能な、誘電率異方性が負の液晶組成物、および液晶表示素子に関する。
液晶表示素子において、液晶分子の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）、ＦＦＳ（fringe field switching）、ＦＰＡ（field-induced photo-reactive alignment）などである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭは、スタティック（static）、マルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭは、ＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。ＴＦＴの分類は非晶質シリコン（amorphous silicon）および多結晶シリコン（polycrystal silicon）である。後者は製造工程によって高温型と低温型とに分類される。光源に基づいた分類は、自然光を利用する反射型、バックライトを利用する透過型、そして自然光とバックライトの両方を利用する半透過型である。
液晶表示素子はネマチック相を有する液晶組成物を含有する。この組成物は適切な特性を有する。この組成物の特性を向上させることによって、良好な特性を有するＡＭ素子を得ることができる。２つの特性における関連を下記の表１にまとめる。組成物の特性を市販されているＡＭ素子に基づいてさらに説明する。ネマチック相の温度範囲は、素子の使用できる温度範囲に関連する。ネマチック相の好ましい上限温度は約７０℃以上であり、そしてネマチック相の好ましい下限温度は約－１０℃以下である。組成物の粘度は素子の応答時間に関連する。素子で動画を表示するためには短い応答時間が好ましい。１ミリ秒でもより短い応答時間が望ましい。したがって、組成物における小さな粘度が好ましい。低い温度における小さな粘度はさらに好ましい。
組成物の光学異方性は、素子のコントラスト比に関連する。素子のモードに応じて、大きな光学異方性または小さな光学異方性、すなわち適切な光学異方性が必要である。組成物の光学異方性（Δｎ）と素子のセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ×ｄ）は、コントラスト比を最大にするように設計される。積の適切な値は動作モードの種類に依存する。この値は、ＶＡモードの素子では約０．３０μｍから約０．４０μｍの範囲であり、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの素子では約０．２０μｍから約０．３０μｍの範囲である。これらの場合、小さなセルギャップの素子には大きな光学異方性を有する組成物が好ましい。組成物における大きな誘電率異方性は、素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、大きな誘電率異方性が好ましい。組成物における大きな比抵抗は、素子における大きな電圧保持率と大きなコントラスト比とに寄与する。したがって、初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。長時間使用したあと、室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。紫外線および熱に対する組成物の安定性は、素子の寿命に関連する。この安定性が高いとき、素子の寿命は長い。このような特性は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いるＡＭ素子に好ましい。
高分子支持配向（ＰＳＡ；polymer sustained alignment）型の液晶表示素子では、重合体を含有する液晶組成物が用いられる。まず、少量の重合性化合物を添加した組成物を素子に注入する。次に、この素子の基板のあいだに電圧を印加しながら、組成物に紫外線を照射する。重合性化合物は重合して、組成物中に重合体の網目構造を生成する。この組成物では、重合体によって液晶分子の配向を制御することが可能になるので、素子の応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善される。重合体のこのような効果は、ＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＦＦＳ、ＦＰＡのようなモードを有する素子に期待できる。
汎用の液晶表示素子において、液晶分子の垂直配向は、ポリイミド配向膜によって達成される。一方、配向膜を有しない液晶表示素子では、重合体および極性化合物を含有する液晶組成物が用いられる。まず、少量の重合性化合物および少量の極性化合物を添加した組成物を素子に注入する。ここで、極性化合物は基板表面に吸着され、配列する。この配列にしたがって液晶分子が配向される。次に、この素子の基板のあいだに電圧を印加しながら、組成物に紫外線を照射する。ここで、重合性化合物が重合し、液晶分子の配向を安定化させる。この組成物では、重合体および極性化合物によって液晶分子の配向を制御することが可能になるので、素子の応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善される。さらに、配向膜を有しない素子では、配向膜を形成する工程が不要である。配向膜がないので、配向膜と組成物との相互作用によって、素子の電気抵抗が低下することはない。重合体と極性化合物の組合せによるこのような効果は、ＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＦＦＳ、ＦＰＡのようなモードを有する素子に期待できる。
ＴＮモードを有するＡＭ素子においては正の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＶＡモードを有するＡＭ素子においては負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。高分子支持配向型のＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。負の誘電率異方性を有する液晶化合物と極性基を有する重合性化合物を用いた液晶組成物の例は次の特許文献１から２に開示されている。特許文献１では、化合物の側方位に重合性基を、末端に極性基を有する重合性自己配向添加剤が開示されている。特許文献２では、化合物の両末端にそれぞれ重合性基と極性基を有する重合性自己配向添加剤が開示されている。特許文献１および２に記載の化合物は、本発明で用いている化合物とは異なるものである。
本発明が解決しようとする課題は、配向膜を有しない液晶表示素子の液晶分子の配向を、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（またはその重合体）を用いて制御することであり、また、重合性の極性化合物が良好な相溶性を示す液晶組成物を提供することである。
本発明は、配向膜を有しない液晶表示素子の液晶分子の配向を、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を含有し、負の誘電率異方性を有する液晶組成物を利用して制御する。
第一添加物として式（１－１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの極性化合物を含有し、そして負の誘電率異方性を有する液晶組成物。
式（１－１）において、
Ｒ１は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数１から１１のアルコキシ、または炭素数２から１１のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
Ｚ１は単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このＺ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｚ１において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される基から選択された基で置き換えられていて；
式（１ａ）において、
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１２において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり：
Ｒ１２は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく：
式（１－１）において、
Ｐ１１は、式（１ｅ）および式（１ｆ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｅ）および（１ｆ）において、
Ｓｐ１３は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１３において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１３において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ１３は、式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）において、
Ｓｐ１４およびＳｐ１５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
式（１ｇ）および式（１ｉ）において、Ｓ１は、＞ＣＨ－または＞Ｎ－であり、Ｓ２は、＞Ｃ＜または＞Ｓｉ＜であり；
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２、または－Ｓｉ（Ｒ１５）３であり；
－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、および－Ｓｉ（Ｒ１５）３において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このＲ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、Ｒ１５において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。
第一添加物として式（１－１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの極性化合物を含有し、そして負の誘電率異方性を有する液晶組成物。
式（１－１）において、
Ｒ１は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数１から１１のアルコキシ、または炭素数２から１１のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
Ｚ１は単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このＺ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｚ１において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される基から選択された基で置き換えられていて；
式（１ａ）において、
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１２において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり：
Ｒ１２は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく：
式（１－１）において、
Ｐ１１は、式（１ｅ）および式（１ｆ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｅ）および（１ｆ）において、
Ｓｐ１３は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１３において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１３において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ１３は、式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）において、
Ｓｐ１４およびＳｐ１５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
式（１ｇ）および式（１ｉ）において、Ｓ１は、＞ＣＨ－または＞Ｎ－であり、Ｓ２は、＞Ｃ＜または＞Ｓｉ＜であり；
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２、または－Ｓｉ（Ｒ１５）３であり；
－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、および－Ｓｉ（Ｒ１５）３において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このＲ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、Ｒ１５において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。
本発明の極性基を有する重合性の極性化合物を含む液晶組成物を利用することで、配向膜の形成工程が不要になるので、製造コストを低減させた液晶表示素子が得られる。
また、重合性の極性化合物と相溶性のよい負の誘電異方性を有する液晶組成物が得られる。
また、重合性の極性化合物と相溶性のよい負の誘電異方性を有する液晶組成物が得られる。
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。「液晶組成物」および「液晶表示素子」の用語をそれぞれ「組成物」および「素子」と略すことがある。「液晶表示素子」は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物および液晶相を有しないが、ネマチック相の温度範囲、粘度、誘電率異方性のような特性を調節する目的で組成物に混合される化合物の総称である。この化合物は、例えば１，４－シクロヘキシレンや１，４－フェニレンのような六員環を有し、その分子構造は棒状（rod like）である。「重合性化合物」は、組成物中に重合体を生成させる目的で添加する化合物である。
液晶組成物は、複数の液晶性化合物を混合することによって調製される。この液晶組成物に、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物のような添加物が必要に応じて添加される。液晶性化合物や添加物は、このような手順で混合される。液晶性化合物の割合（含有量）は、添加物を添加した場合であっても、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。添加物の割合（添加量）は、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。重量百万分率（ｐｐｍ）が用いられることもある。重合開始剤および重合禁止剤の割合は、例外的に重合性化合物の重量に基づいて表される。
「ネマチック相の上限温度」を「上限温度」と略すことがある。「ネマチック相の下限温度」を「下限温度」と略すことがある。「比抵抗が大きい」は、組成物が初期段階において室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有することを意味する。「電圧保持率が大きい」は、素子が初期段階において室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。組成物や素子では、経時変化試験（加速劣化試験を含む）の前後で特性が検討されることがある。「誘電率異方性を上げる」の表現は、誘電率異方性が正である組成物のときは、その値が正に増加することを意味し、誘電率異方性が負である組成物のときは、その値が負に増加することを意味する。
式（２）で表される化合物を「化合物（２）」と略すことがある。式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を「化合物（２）」と略すことがある。「化合物（２）」は、式（２）で表される１つの化合物、２つの化合物の混合物、または３つ以上の化合物の混合物を意味する。他の式で表される化合物についても同様である。「少なくとも１つの‘Ａ’」の表現は、‘Ａ’の数は任意であることを意味する。「少なくとも１つの‘Ａ’は、‘Ｂ’で置き換えられてもよい」の表現は、‘Ａ’の数が１つのとき、‘Ａ’の位置は任意であり、‘Ａ’の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく選択できる。このルールは、「少なくとも１つの‘Ａ’が、‘Ｂ’で置き換えられた」の表現にも適用される。また、本明細書では、式（１－１）で表される化合物およびその下位式である式（１－２）から式（１－６０）で表される化合物を総称して、化合物（１）ということがある。
成分化合物の化学式において、末端基Ｒ１の記号を複数の化合物に用いる。これらの化合物において、任意の２つのＲ１が表す２つの基は同一であってもよく、または異なってもよい。例えば、化合物（１－１）のＲ１がエチルであり、化合物（１－２）のＲ１がエチルであるケースがある。化合物（１－１）のＲ１がエチルであり、化合物（１－２）のＲ１がプロピルであるケースもある。このルールは、他の末端基などの記号にも適用される。式（１－１）において、ａが２のとき、２つの環Ａが存在する。この化合物において、２つの環Ａが表す２つの環は、同一であってもよく、または異なってもよい。このルールは、ａが２より大きいとき、任意の２つの環Ａにも適用される。このルールは、他の記号にも適用される。このルールは、化合物（４－２７）における２つの－Ｓｐ４－Ｐ２のような場合にも適用される。
六角形で囲んだＡ、Ｃ、Ｄ、Ｅなどの記号はそれぞれ環Ａ、環Ｃ、環Ｄ、環Ｅなどの環に対応し、六員環、縮合環などの環を表す。この六角形を横切る斜線は、環上の任意の水素が－Ｓｐ３－Ｐ１などの基で置き換えられてもよいことを表す。‘ｊ’などの添え字は、置き換えられた基の数を示す。添え字‘ｊ’が０のとき、そのような置き換えはない。添え字‘ｊ’が２以上のとき、環Ｊ上には複数の－Ｓｐ３－Ｐ１が存在する。－Ｓｐ３－Ｐ１が表す複数の基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。
２－フルオロ－１，４－フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。化学式において、フッ素は左向き（Ｌ）であってもよいし、右向き（Ｒ）であってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン－２，５－ジイルのような、環から２つの水素を除くことによって生成した、非対称な二価基にも適用される。このルールは、カルボニルオキシ（－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－）のような二価の結合基にも適用される。
「少なくとも１つの－ＣＨ２－は－Ｏ－で置き換えられてもよい」のような表現がこの明細書で使われる。この場合、－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－は、隣接しない－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられることによって－Ｏ－ＣＨ２－Ｏ－に変換されてもよい。しかしながら、隣接した－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられることはない。この置き換えでは－Ｏ－Ｏ－ＣＨ２－（ペルオキシド）が生成するからである。すなわち、この表現は、「１つの－ＣＨ２－は－Ｏ－で置き換えられてもよい」と「少なくとも２つの隣接しない－ＣＨ２－は－Ｏ－で置き換えられてもよい」の両方とを意味する。このルールは、－Ｏ－への置き換えだけでなく、－ＣＨ＝ＣＨ－や－ＣＯＯ－のような二価基への置き換えにも適用される。式（１）において、Ｒ１は炭素数１から２５のアルキルなどである。このアルキルの炭素数は、この種の置き換えによって増加することがある。このようなとき、最大の炭素数は３０である。このルールは、Ｒ１のような一価基だけでなく、アルキレンのような二価基にも適用される。
液晶性化合物のアルキルは、直鎖状または分岐状であり、環状アルキルを含まない。直鎖状アルキルは、分岐状アルキルよりも好ましい。これらのことは、アルコキシ、アルケニルなどの末端基についても同様である。１，４－シクロヘキシレンに関する立体配置は、一般的にシスよりもトランスが好ましい。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を意味する。好ましいハロゲンはフッ素または塩素である。さらに好ましいハロゲンはフッ素である。
本発明は、下記の項などである。
項１． 第一添加物として式（１－１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの極性化合物を含有し、そして負の誘電率異方性を有する液晶組成物。
式（１－１）において、
Ｒ１は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数１から１１のアルコキシ、または炭素数２から１１のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
Ｚ１は単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このＺ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｚ１において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される基から選択された基で置き換えられていて；
式（１ａ）において、
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１２において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり：
Ｒ１２は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく：
式（１－１）において、
Ｐ１１は、式（１ｅ）および式（１ｆ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｅ）および（１ｆ）において、
Ｓｐ１３は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１３において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１３において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ１３は、式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）において、
Ｓｐ１４およびＳｐ１５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
式（１ｇ）および式（１ｉ）において、Ｓ１は、＞ＣＨ－または＞Ｎ－であり、Ｓ２は、＞Ｃ＜または＞Ｓｉ＜であり；
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２、または－Ｓｉ（Ｒ１５）３であり；
－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、および－Ｓｉ（Ｒ１５）３において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このＲ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、Ｒ１５において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。
式（１－１）において、
Ｒ１は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数１から１１のアルコキシ、または炭素数２から１１のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
Ｚ１は単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このＺ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｚ１において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される基から選択された基で置き換えられていて；
式（１ａ）において、
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１２において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり：
Ｒ１２は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく：
式（１－１）において、
Ｐ１１は、式（１ｅ）および式（１ｆ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｅ）および（１ｆ）において、
Ｓｐ１３は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１３において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１３において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ１３は、式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）において、
Ｓｐ１４およびＳｐ１５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
式（１ｇ）および式（１ｉ）において、Ｓ１は、＞ＣＨ－または＞Ｎ－であり、Ｓ２は、＞Ｃ＜または＞Ｓｉ＜であり；
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２、または－Ｓｉ（Ｒ１５）３であり；
－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、および－Ｓｉ（Ｒ１５）３において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このＲ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、Ｒ１５において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。
項２．第一添加物が式（１－２）から式（１－３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物である、項１に記載の液晶組成物。
式（１－２）および式（１－３）において、
Ｒ１は炭素数１から１２のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から８のアルキル、炭素数２から８のアルケニル、炭素数１から７のアルコキシ、または炭素数２から７のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
ｌは、０、１、２、３、４、５、または６であり、このアルキレンの少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルであり；
Ｒ１２は水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－（ＣＨ２）２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく：
Ｓｐ１３は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、または－ＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルであり；
Ｓｐ１４は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、または－ＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１は、－ＯＨまたは－Ｎ（Ｒ１５）２であり；
－Ｎ（Ｒ１５）２において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよい。
式（１－２）および式（１－３）において、
Ｒ１は炭素数１から１２のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から８のアルキル、炭素数２から８のアルケニル、炭素数１から７のアルコキシ、または炭素数２から７のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
ｌは、０、１、２、３、４、５、または６であり、このアルキレンの少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルであり；
Ｒ１２は水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－（ＣＨ２）２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく：
Ｓｐ１３は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、または－ＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルであり；
Ｓｐ１４は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、または－ＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１は、－ＯＨまたは－Ｎ（Ｒ１５）２であり；
－Ｎ（Ｒ１５）２において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよい。
項３．第一添加物が式（１－４）から式（１－６０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物である、項１に記載の液晶組成物。
式（１－４）から式（１－６０）において、
Ｒ１は炭素数１から１０のアルキルであり；
Ｚ１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、または－（ＣＨ２）４－であり；
Ｓｐ１２、Ｓｐ１３、およびＳｐ１４は独立して、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく；
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１１、およびＬ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、またはエチルであり；
ｌは、０、１、２、３、４、５、または６である。
Ｒ１は炭素数１から１０のアルキルであり；
Ｚ１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、または－（ＣＨ２）４－であり；
Ｓｐ１２、Ｓｐ１３、およびＳｐ１４は独立して、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく；
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１１、およびＬ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、またはエチルであり；
ｌは、０、１、２、３、４、５、または６である。
項４．液晶組成物の重量に基づいて、第一添加物の割合が１０重量％以下である、項１から３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
項５．第一成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（２）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシであり；環Ｃおよび環Ｅは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロへキセニレン、１，４－フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４－フェニレン、またはテトラヒドロピラン－２，５－ジイルであり；環Ｄは、２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン、２－クロロ－３－フルオロ－１，４－フェニレン、２，３－ジフルオロ－５－メチル－１，４－フェニレン、３，４，５－トリフルオロナフタレン－２，６－ジイル、または７，８－ジフルオロクロマン－２，６－ジイルであり；Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－であり；ｂは、１、２、または３であり、ｃは０または１であり、そしてｂとｃとの和は３以下である。
式（２）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシであり；環Ｃおよび環Ｅは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロへキセニレン、１，４－フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４－フェニレン、またはテトラヒドロピラン－２，５－ジイルであり；環Ｄは、２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン、２－クロロ－３－フルオロ－１，４－フェニレン、２，３－ジフルオロ－５－メチル－１，４－フェニレン、３，４，５－トリフルオロナフタレン－２，６－ジイル、または７，８－ジフルオロクロマン－２，６－ジイルであり；Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－であり；ｂは、１、２、または３であり、ｃは０または１であり、そしてｂとｃとの和は３以下である。
項６．第一成分として式（２－１）から式（２－２２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から５のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（２－１）から式（２－２２）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシである。
式（２－１）から式（２－２２）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシである。
項７．液晶組成物の重量に基づいて、第一成分の割合が１０重量％から９０重量％の範囲である、項５または６に記載の液晶組成物。
項８．第二成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（３）において、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｆおよび環Ｇは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－フェニレン、２－フルオロ－１，４－フェニレン、または２，５－ジフルオロ－１，４－フェニレンであり；Ｚ４は、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－であり；ｄは、１、２、または３である。
式（３）において、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｆおよび環Ｇは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－フェニレン、２－フルオロ－１，４－フェニレン、または２，５－ジフルオロ－１，４－フェニレンであり；Ｚ４は、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－であり；ｄは、１、２、または３である。
項９．第二成分として式（３－１）から式（３－１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から８のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（３－１）から式（３－１３）において、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
式（３－１）から式（３－１３）において、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
項１０．液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が１０重量％から９０重量％の範囲である、項８または９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
項１１．第二添加物として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物を含有する、項１から１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（４）において、環Ｊおよび環Ｐは独立して、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル、テトラヒドロピラン－２－イル、１，３－ジオキサン－２－イル、ピリミジン－２－イル、またはピリジン－２－イルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；環Ｋは、１，４－シクロヘキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－１，２－ジイル、ナフタレン－１，３－ジイル、ナフタレン－１，４－ジイル、ナフタレン－１，５－ジイル、ナフタレン－１，６－ジイル、ナフタレン－１，７－ジイル、ナフタレン－１，８－ジイル、ナフタレン－２，３－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、ナフタレン－２，７－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、またはピリジン－２，５－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ５およびＺ６は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＺ５およびＺ６において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）－、または－Ｃ（ＣＨ３）＝Ｃ（ＣＨ３）－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は、重合性基であり；Ｓｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；ｑは０、１、または２であり；ｊ、ｋ、およびｐは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてｊ、ｋ、およびｐの和は、１以上である。
式（４）において、環Ｊおよび環Ｐは独立して、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル、テトラヒドロピラン－２－イル、１，３－ジオキサン－２－イル、ピリミジン－２－イル、またはピリジン－２－イルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；環Ｋは、１，４－シクロヘキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－１，２－ジイル、ナフタレン－１，３－ジイル、ナフタレン－１，４－ジイル、ナフタレン－１，５－ジイル、ナフタレン－１，６－ジイル、ナフタレン－１，７－ジイル、ナフタレン－１，８－ジイル、ナフタレン－２，３－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、ナフタレン－２，７－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、またはピリジン－２，５－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ５およびＺ６は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＺ５およびＺ６において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）－、または－Ｃ（ＣＨ３）＝Ｃ（ＣＨ３）－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は、重合性基であり；Ｓｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；ｑは０、１、または２であり；ｊ、ｋ、およびｐは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてｊ、ｋ、およびｐの和は、１以上である。
項１２．式（４）において、Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３が独立して式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）で表される基の群から選択された重合性基である、項１１に記載の液晶組成物。
式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）において、Ｍ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。
式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）において、Ｍ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。
項１３． 第二添加物が式（４－１）から式（４－２９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物である、項１から１２のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（４－１）から式（４－２９）において、Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は独立して、式（Ｐ－１）から式（Ｐ－３）で表される基の群から選択された重合性基であり、ここでＭ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｓｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。
式（４－１）から式（４－２９）において、Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は独立して、式（Ｐ－１）から式（Ｐ－３）で表される基の群から選択された重合性基であり、ここでＭ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｓｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。
項１４．液晶組成物の重量に基づいて、第二添加物の割合が０．０３重量％から１０重量％の範囲である、項１１から１３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
項１５．第三添加物として式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物を含有する、項１から１４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（５）において、Ｒ５０は、水素、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ５１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ５３、－Ｎ(Ｒ５３)２、または－Ｓｉ（Ｒ５３）３で表される基であり、ここで、Ｒ５３は、水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－（ＣＨ２）２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；環Ａ５０および環Ｂ５０は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－１，２－ジイル、ナフタレン－１，３－ジイル、ナフタレン－１，４－ジイル、ナフタレン－１，５－ジイル、ナフタレン－１，６－ジイル、ナフタレン－１，７－ジイル、ナフタレン－１，８－ジイル、ナフタレン－２，３－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、ナフタレン－２，７－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ５０は、単結合、－（ＣＨ２）２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、または－ＣＦ＝ＣＦ－であり；Ｓｐ５１およびＳｐ５２は独立して、単結合または炭素数１から７のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；ａ５０は、０、１、２、３、または４である。
項１６．液晶組成物の重量に基づいて、第三添加物の割合が０．３重量％から１０重量％の範囲である、項１５に記載の液晶組成物。
項１７．項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
項１８．液晶表示素子の動作モードが、ＩＰＳモード、ＶＡモード、ＦＦＳモード、またはＦＰＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である、項１７に記載の液晶表示素子。
項１９．項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有し、この液晶組成物中の重合性化合物が重合された、高分子支持配向型の液晶表示素子。
項２０．項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有し、この液晶組成物中の重合性化合物が重合された、配向膜を有しない液晶表示素子。
項２１．項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の、液晶表示素子における使用。
項２２．項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の、高分子支持配向型の液晶表示素子における使用。
項２３．項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の、配向膜を有しない液晶表示素子における使用。
本発明は、次の項も含む。（ａ）上記の液晶組成物を２つの基板のあいだに配置し、この組成物に電圧を印加した状態で光を照射し、この組成物に含有された分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を重合させることによって、上記の液晶表示素子を製造する方法。（ｂ）ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃で測定）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃で測定）が－２以下である、上記の液晶組成物。
本発明は、次の項も含む。（ｃ）特開２００６－１９９９４１号公報に記載された化合物（５）から化合物（７）は、誘電率異方性が正の液晶性化合物であるが、これらの化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する上記の組成物。（ｄ）上記の分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（１－１）を少なくとも２つ含有する上記の組成物。（ｅ）分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（１－１）とは異なる極性化合物をさらに含有する上記の組成物。（ｆ）光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物のような添加物の１つ、２つ、または少なくとも３つを含有する上記の組成物。（ｇ）上記の組成物を含有するＡＭ素子。（ｈ）上記の組成物を含有し、そしてＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＶＡ、またはＦＰＡのモードを有する素子。（ｉ）上記の組成物を含有する透過型の素子。（ｊ）上記の組成物を、ネマチック相を有する組成物として使用すること。（ｋ）上記の組成物に光学活性化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用。
本発明の組成物を次の順で説明する。第一に、組成物の構成を説明する。第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物に及ぼす主要な効果を説明する。第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分の好ましい割合およびその根拠を説明する。第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。第五に、好ましい成分化合物を示す。第六に、組成物に添加してもよい添加物を説明する。第七に、成分化合物の合成法を説明する。最後に、組成物の用途を説明する。
第一に、組成物の構成を説明する。本発明の組成物は組成物Ａと組成物Ｂに分類される。組成物Ａは、化合物（２）および化合物（３）から選択された液晶性化合物の他に、その他の液晶性化合物、添加物などをさらに含有してもよい。「その他の液晶性化合物」は、化合物（２）および化合物（３）とは異なる液晶性化合物である。このような化合物は、特性をさらに調整する目的で組成物に混合される。添加物は、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物などである。
組成物Ｂは、実質的に化合物（２）および化合物（３）から選択された液晶性化合物のみからなる。「実質的に」は、組成物が添加物を含有してもよいが、その他の液晶性化合物を含有しないことを意味する。組成物Ｂは組成物Ａに比較して成分の数が少ない。コストを下げるという観点から、組成物Ｂは組成物Ａよりも好ましい。その他の液晶性化合物を混合することによって特性をさらに調整できるという観点から、組成物Ａは組成物Ｂよりも好ましい。
第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果を説明する。成分化合物の主要な特性を本発明の効果に基づいて表２にまとめる。表２の記号において、Ｌは大きいまたは高い、Ｍは中程度の、Ｓは小さいまたは低い、を意味する。記号Ｌ、Ｍ、Ｓは、成分化合物のあいだの定性的な比較に基づいた分類であり、記号０は、値がゼロであるか、またはゼロに近いことを意味する。
成分化合物を組成物に混合したとき、成分化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果は次のとおりである。化合物（１）は、極性基の作用で基板表面に吸着し、液晶分子の配向を制御する。所期の効果を得るには、化合物（１）は、液晶性化合物との高い相溶性を有することが必須である。化合物（１）は、１，４－シクロヘキシレンや１，４－フェニレンのような六員環を有して棒状の分子構造を、また分子構造の片末端に分岐状の構造を有しており相溶性を向上できると考えられることから、この目的に最適である。化合物（１）は、重合によって重合体を与える。この重合体は液晶分子の配向を安定化するので、素子の応答時間を短縮し、そして画像の焼き付きを改善する。化合物（２）は、誘電率異方性を上げ、そして下限温度を下げる。化合物（３）は、粘度を下げる。化合物（４）は、重合によって重合体を与える。この重合体は、液晶分子の配向を安定化するので、素子の応答時間を短縮し、そして画像の焼き付きを改善する。液晶分子の配向という観点から、化合物（１）の重合体は、基板表面との相互作用を有するので、化合物（４）の重合体よりも効果的であると推定される。化合物（５）は、分子構造の末端に極性基と重合性基を直鎖状に有しており、化合物（１）と同様に液晶分子の配向を制御、促進する。
第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分の好ましい割合およびその根拠を説明する。組成物における成分の好ましい組み合わせは、化合物（１）＋化合物（２）＋化合物（３）であるか、または化合物（１）＋化合物（２）＋化合物（３）＋化合物（４）である。これらの組み合わせに更に化合物（５）を組み合わせてもよい。
化合物（１）は、液晶分子の配向を制御する目的で、組成物に添加される。化合物（１）の好ましい割合は、液晶分子を配向させるために約０．０５重量％以上であり、素子の表示不良を防ぐために約１０重量％以下である。さらに好ましい割合は、約０．１重量％から約７重量％の範囲である。特に好ましい割合は、約０．５重量％から約５重量％の範囲である。
化合物（２）の好ましい割合は、誘電率異方性を上げるために約１０重量％以上であり、下限温度を下げるために約９０重量％以下である。さらに好ましい割合は、約２０重量％から約８５重量％の範囲である。特に好ましい割合は、約３０重量％から約８５重量％の範囲である。
化合物（３）の好ましい割合は、上限温度を上げるためにまたは下限温度を下げるために約１０重量％以上であり、誘電率異方性を上げるために約９０重量％以下である。さらに好ましい割合は、約１５重量％から約７５重量％の範囲である。特に好ましい割合は、約１５重量％から約６０重量％の範囲である。
化合物（４）は、高分子支持配向型の素子に適合させる目的で、組成物に添加される。化合物（４）の好ましい割合は、素子の長期信頼性を向上させるために約０．０３重量％以上であり、素子の表示不良を防ぐために約１０重量％以下である。さらに好ましい割合は、約０．１重量％から約２重量％の範囲である。特に好ましい割合は、約０．２重量％から約１．０重量％の範囲である。
化合物（５）は、液晶分子の配向を制御、促進する目的で、組成物に添加される。化合物（５）の好ましい割合は、液晶分子を配向させるために約０．０５重量％以上であり、素子の表示不良を防ぐために約１０重量％以下である。さらに好ましい割合は、約０．１重量％から約７重量％の範囲である。特に好ましい割合は、約０．３重量％から約５重量％の範囲である。
第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。式（１－１）において、式（１ｆ）、式（１ｇ）、式（１ｈ）および式（１ｉ）のＸ１は、極性基である。化合物（１－１）は、組成物に添加するので安定であることが好ましい。化合物（１－１）を組成物に添加したとき、この化合物が素子の電圧保持率を下げないことが好ましい。化合物（１－１）は、低い揮発性を有することが好ましい。好ましいモル質量は１３０ｇ／ｍｏｌ以上である。さらに好ましいモル質量は１５０ｇ／ｍｏｌから８００ｇ／ｍｏｌの範囲である。好ましい化合物（１－１）は、アクリロイルオキシ（－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ２）、メタクリロイルオキシ（－ＯＣＯ－（ＣＨ３）Ｃ＝ＣＨ２）、α－ヒドロキシアルキルアクリレートのような重合性基を有する。
式（１ｆ）、式（１ｇ）、式（１ｈ）および式（１ｉ）において、Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ１５、－Ｎ(Ｒ１５)２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２または－Ｓｉ（Ｒ１５）３で表される基であり、ここで、Ｒ１５は、水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよい。液晶組成物への高い溶解度の観点から、Ｘ１は－ＯＨまたは－ＮＨ２であることが特に好ましい。－ＯＨは、高いアンカー力を有するので－Ｏ－、－ＣＯ－、または－ＣＯＯ－よりも好ましい。複数のヘテロ原子（窒素、酸素）を有する基は、特に好ましい。そのような極性基を有する化合物は、低い濃度であっても有効である。
式（１－１）において、Ｒ１は、炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数１から１１のアルコキシ、または炭素数２から１１のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましい環Ａ１または環Ａ２は、１，４－シクロへキシレン、１，４－フェニレン、２－フルオロ－１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、または３－エチル－１，４－フェニレンである。
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数１から１１のアルコキシ、または炭素数２から１１のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましい環Ａ１または環Ａ２は、１，４－シクロへキシレン、１，４－フェニレン、２－フルオロ－１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、または３－エチル－１，４－フェニレンである。
式（１－１）において、Ｚ１は、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このＺ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＺ１は、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－である。さらに好ましいＺ１は、単結合である。
式（１－１）において、ａは、０、１、２、３、または４である。好ましいａは、０、１、２、または３である。さらに好ましいａは、０、１、または２である。特に好ましいａは、１または２である。
式（１－１）において、Ｓｐ１は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される基から選択された基で置き換えられていて；
式（１ａ）において、
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＳｐ１２は単結合、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１２は、単結合、炭素数１から３のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から３のアルキレンである。
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。好ましいＭ１１またはＭ１２は、反応性を上げるために水素またはメチルである。さらに好ましいＭ１１またはＭ１２は水素である。
Ｒ１２は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＲ１２は、水素、または炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＲ１２は、水素、または炭素数１から３のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から３のアルキレンである。特に好ましいＲ１２は、水素またはメチルである。Ｒ１２が－ＣＨ２－ＯＨである場合、分子内に２つの水酸基が存在する効果で低濃度添加での垂直配向が期待される。
式（１－１）において、好ましいＳｐ１は、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１は、炭素数１から３のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から３のアルキレンであり、これらの基において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される重合性基で置き換えられる。
Ｐ１１は、式（１ｅ）および式（１ｆ）で表される基から選択された基であり、
式（１ｅ）において、Ｒ１３は、式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される基から選択された基である。
式（１ｅ）および（１ｆ）において、
Ｓｐ１３は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１３において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＳｐ１３は、炭素数１から７のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１３は、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。特に好ましいＳｐ１３は、－ＣＨ２－である。
式（１ｅ）において、Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり、好ましいＭ１３またはＭ１４は、反応性を上げるために水素またはメチルである。さらに好ましいＭ１３またはＭ１４は水素である。
式（１ｅ）において、Ｒ１３は式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される極性基の群から選択された基であり、好ましいＲ１３は、式（１ｇ）または式（１ｈ）で表される極性基である。さらに好ましいＲ１３は、式（１ｇ）で表される極性基である。
式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）において、Ｓｐ１４およびＳｐ１５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１４およびＳｐ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＳｐ１４またはＳｐ１５は、炭素数１から７のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１４またはＳｐ１５は、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。特に好ましいＳｐ１４またはＳｐ１５は、－ＣＨ２－である。
式（１ｈ）および式（１ｉ）において、Ｓ１は、＞ＣＨ－または＞Ｎ－であり、そしてＳ２は、＞Ｃ＜または＞Ｓｉ＜である。好ましいＳ１は、＞ＣＨ－であり、好ましいＳ２は、＞Ｃ＜である。
式（１ｆ）、式（１ｇ）、および式（１ｉ）において、Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ５、－Ｎ(Ｒ１５)２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２、または－Ｓｉ（Ｒ１５）３であり、ここで、Ｒ１５は、水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＸ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、または－Ｎ(Ｒ１５)２であり、ここで、Ｒ１５は、水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このＲ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＸ１は、炭素数１から５のアルキルまたは炭素数１から４のアルコキシである。さらに好ましいＸ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、または－Ｎ(Ｒ１５)２である。特に好ましいＸ１は、－ＯＨである。
式（１ａ）において、
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＳｐ１２は単結合、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１２は、単結合、炭素数１から３のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から３のアルキレンである。
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。好ましいＭ１１またはＭ１２は、反応性を上げるために水素またはメチルである。さらに好ましいＭ１１またはＭ１２は水素である。
Ｒ１２は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＲ１２は、水素、または炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＲ１２は、水素、または炭素数１から３のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から３のアルキレンである。特に好ましいＲ１２は、水素またはメチルである。Ｒ１２が－ＣＨ２－ＯＨである場合、分子内に２つの水酸基が存在する効果で低濃度添加での垂直配向が期待される。
式（１－１）において、好ましいＳｐ１は、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１は、炭素数１から３のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から３のアルキレンであり、これらの基において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される重合性基で置き換えられる。
Ｐ１１は、式（１ｅ）および式（１ｆ）で表される基から選択された基であり、
式（１ｅ）において、Ｒ１３は、式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される基から選択された基である。
式（１ｅ）および（１ｆ）において、
Ｓｐ１３は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１３において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＳｐ１３は、炭素数１から７のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１３は、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。特に好ましいＳｐ１３は、－ＣＨ２－である。
式（１ｅ）において、Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり、好ましいＭ１３またはＭ１４は、反応性を上げるために水素またはメチルである。さらに好ましいＭ１３またはＭ１４は水素である。
式（１ｅ）において、Ｒ１３は式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される極性基の群から選択された基であり、好ましいＲ１３は、式（１ｇ）または式（１ｈ）で表される極性基である。さらに好ましいＲ１３は、式（１ｇ）で表される極性基である。
式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）において、Ｓｐ１４およびＳｐ１５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１４およびＳｐ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＳｐ１４またはＳｐ１５は、炭素数１から７のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。さらに好ましいＳｐ１４またはＳｐ１５は、炭素数１から５のアルキレン、または１つの－ＣＨ２－が－Ｏ－で置き換えられた炭素数１から５のアルキレンである。特に好ましいＳｐ１４またはＳｐ１５は、－ＣＨ２－である。
式（１ｈ）および式（１ｉ）において、Ｓ１は、＞ＣＨ－または＞Ｎ－であり、そしてＳ２は、＞Ｃ＜または＞Ｓｉ＜である。好ましいＳ１は、＞ＣＨ－であり、好ましいＳ２は、＞Ｃ＜である。
式（１ｆ）、式（１ｇ）、および式（１ｉ）において、Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ５、－Ｎ(Ｒ１５)２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２、または－Ｓｉ（Ｒ１５）３であり、ここで、Ｒ１５は、水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＸ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、または－Ｎ(Ｒ１５)２であり、ここで、Ｒ１５は、水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このＲ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。好ましいＸ１は、炭素数１から５のアルキルまたは炭素数１から４のアルコキシである。さらに好ましいＸ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、または－Ｎ(Ｒ１５)２である。特に好ましいＸ１は、－ＯＨである。
式（１－４）から式（１－６０）において、
Ｒ１は炭素数１から１０のアルキルであり；
Ｚ１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、または－（ＣＨ２）４－であり；
Ｓｐ１２、Ｓｐ１３、およびＳｐ１４は独立して、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく；
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１１、およびＬ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、またはエチルである。
Ｒ１は炭素数１から１０のアルキルであり；
Ｚ１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、または－（ＣＨ２）４－であり；
Ｓｐ１２、Ｓｐ１３、およびＳｐ１４は独立して、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく；
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１１、およびＬ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、またはエチルである。
式（２）および式（３）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシである。好ましいＲ３またはＲ４は、安定性を上げるために炭素数１から１２のアルキルであり、誘電率異方性を上げるために炭素数１から１２のアルコキシである。Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。好ましいＲ５またはＲ６は、粘度を下げるために、炭素数２から１２のアルケニルであり、安定性を上げるために炭素数１から１２のアルキルである。液晶性化合物のアルキルは、直鎖状または分岐状であり、環状アルキルを含まない。直鎖状アルキルは、分岐状アルキルよりも好ましい。これらのことは、アルコキシ、アルケニルなどの末端基についても同様である。
好ましいアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、またはオクチルである。さらに好ましいアルキルは、粘度を下げるためにエチル、プロピル、ブチル、ペンチル、またはヘプチルである。
好ましいアルコキシは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、またはヘプチルオキシである。粘度を下げるために、さらに好ましいアルコキシは、メトキシまたはエトキシである。
好ましいアルケニルは、ビニル、１－プロペニル、２－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニル、３－ブテニル、１－ペンテニル、２－ペンテニル、３－ペンテニル、４－ペンテニル、１－ヘキセニル、２－ヘキセニル、３－ヘキセニル、４－ヘキセニル、または５－ヘキセニルである。さらに好ましいアルケニルは、粘度を下げるためにビニル、１－プロペニル、３－ブテニル、または３－ペンテニルである。これらのアルケニルにおける－ＣＨ＝ＣＨ－の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。粘度を下げるためなどから１－プロペニル、１－ブテニル、１－ペンテニル、１－ヘキセニル、３－ペンテニル、３－ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはトランスが好ましい。２－ブテニル、２－ペンテニル、２－ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはシスが好ましい。これらのアルケニルにおいては、分岐よりも直鎖のアルケニルが好ましい。
好ましいアルケニルオキシは、ビニルオキシ、アリルオキシ、３－ブテニルオキシ、３－ペンテニルオキシ、または４－ペンテニルオキシである。粘度を下げるために、さらに好ましいアルケニルオキシは、アリルオキシまたは３－ブテニルオキシである。
少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたアルキルの好ましい例は、フルオロメチル、２－フルオロエチル、３－フルオロプロピル、４－フルオロブチル、５－フルオロペンチル、６－フルオロヘキシル、７－フルオロヘプチル、または８－フルオロオクチルである。さらに好ましい例は、誘電率異方性を上げるために２－フルオロエチル、３－フルオロプロピル、４－フルオロブチル、または５－フルオロペンチルである。
少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたアルケニルの好ましい例は、２，２－ジフルオロビニル、３，３－ジフルオロ－２－プロペニル、４，４－ジフルオロ－３－ブテニル、５，５－ジフルオロ－４－ペンテニル、または６，６－ジフルオロ－５－ヘキセニルである。さらに好ましい例は、粘度を下げるために２，２－ジフルオロビニルまたは４，４－ジフルオロ－３－ブテニルである。
環Ｃおよび環Ｅは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロへキセニレン、１，４－フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４－フェニレン、またはテトラヒドロピラン－２，５－ジイルである。「少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４－フェニレン」の好ましい例は、２－フルオロ－１，４－フェニレン、２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン、または２－クロロ－３－フルオロ－１，４－フェニレンである。好ましい環Ｃまたは環Ｅは、粘度を下げるために１，４－シクロヘキシレンであり、誘電率異方性を上げるためにテトラヒドロピラン－２，５－ジイルであり、光学異方性を上げるために１，４－フェニレンである。１，４－シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。テトラヒドロピラン－２，５－ジイルは、
または
であり、好ましくは
である。
または
であり、好ましくは
環Ｄは、２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン、２－クロロ－３－フルオロ－１，４－フェニレン、２，３－ジフルオロ－５－メチル－１，４－フェニレン、３，４，５－トリフルオロナフタレン－２，６－ジイル、または７，８－ジフルオロクロマン－２，６－ジイルである。好ましい環Ｄは、粘度を下げるために２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレンであり、光学異方性を下げるために２－クロロ－３－フルオロ－１，４－フェニレンであり、誘電率異方性を上げるために７，８－ジフルオロクロマン－２，６－ジイルである。
環Ｆおよび環Ｇは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－フェニレン、２－フルオロ－１，４－フェニレン、または２，５－ジフルオロ－１，４－フェニレンである。好ましい環Ｆまたは環Ｇは粘度を下げるために、または上限温度を上げるために、１，４－シクロヘキシレンであり、下限温度を下げるために１，４－フェニレンである。１，４－シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。
Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－である。好ましいＺ２またはＺ３は、粘度を下げるために単結合であり、下限温度を下げるために－ＣＨ２ＣＨ２－であり、誘電率異方性を上げるために－ＣＨ２Ｏ－または－ＯＣＨ２－である。Ｚ４は、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－である。好ましいＺ４は、粘度を下げるために単結合であり、下限温度を下げるために－ＣＨ２ＣＨ２－であり、上限温度を上げるために－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－である。
ｂは、１、２、または３であり、ｃは０または１であり、そしてｂとｃとの和は３以下である。好ましいｂは粘度を下げるために１であり、上限温度を上げるために２または３である。好ましいｃは粘度を下げるために０であり、下限温度を下げるために１である。ｄは、１、２、または３である。好ましいｄは粘度を下げるために１であり、上限温度を上げるために２または３である。
式（４）において、Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は独立して、重合性基である。好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）で表される基の群から選択された重合性基である。さらに好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ－１）、式（Ｐ－２）、または式（Ｐ－３）で表される基である。特に好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ－１）または式（Ｐ－２）で表される基である。最も好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ－１）で表される基である。式（Ｐ－１）で表される好ましい基は、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ２または－ＯＣＯ－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２である。式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）の波線は、結合する部位を示す。
式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）において、Ｍ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。好ましいＭ１、Ｍ２、またはＭ３は、反応性を上げるために水素またはメチルである。さらに好ましいＭ１は水素またはメチルであり、さらに好ましいＭ２またはＭ３は水素である。
Ｓｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＳｐ３、Ｓｐ４、またはＳｐ５は、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、または－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ－である。さらに好ましいＳｐ３、Ｓｐ４、またはＳｐ５は、単結合である。
環Ｊおよび環Ｐは独立して、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル、テトラヒドロピラン－２－イル、１，３－ジオキサン－２－イル、ピリミジン－２－イル、またはピリジン－２－イルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよい。好ましい環Ｊまたは環Ｐは、フェニルである。環Ｋは、１，４－シクロヘキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－１，２－ジイル、ナフタレン－１，３－ジイル、ナフタレン－１，４－ジイル、ナフタレン－１，５－ジイル、ナフタレン－１，６－ジイル、ナフタレン－１，７－ジイル、ナフタレン－１，８－ジイル、ナフタレン－２，３－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、ナフタレン－２，７－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、またはピリジン－２，５－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよい。好ましい環Ｋは、１，４－フェニレンまたは２－フルオロ－１，４－フェニレンである。
Ｚ５およびＺ６は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）－、または－Ｃ（ＣＨ３）＝Ｃ（ＣＨ３）－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＺ５またはＺ６は、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－である。さらに好ましいＺ５またはＺ６は、単結合である。
ｑは、０、１、または２である。好ましいｑは、０または１である。ｊ、ｋ、およびｐは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてｊ、ｋ、およびｐの和は、１以上である。好ましいｊ、ｋ、またはｐは、１または２である。
第五に、好ましい成分化合物を示す。好ましい化合物（１－１）は、項２に記載の化合物（１－２）および化合物（１－３）である。さらに好ましい化合物（１－１）は、項３に記載の化合物（１－４）から化合物（１－６０）である。これらの化合物において、第一添加物の少なくとも１つが、化合物（１－４）、化合物（１－５）、化合物（１－６）、化合物（１－１２）、化合物（１－２０）、化合物（１－２２）、化合物（１－２３）、化合物（１－２４）、化合物（１－２５）、化合物（１－４２）、化合物（１－４３）、化合物（１－４４）であることが好ましい。
第一添加物の少なくとも２つが、化合物（１－４）および化合物（１－５）、または化合物（１－５）および化合物（１－６）の組み合わせであることが好ましい。
第一添加物の少なくとも２つが、化合物（１－４）および化合物（１－５）、または化合物（１－５）および化合物（１－６）の組み合わせであることが好ましい。
好ましい化合物（２）は、項６に記載の化合物（２－１）から化合物（２－２２）である。これらの化合物において、第一成分の少なくとも１つが、化合物（２－１）、化合物（２－３）、化合物（２－４）、化合物（２－６）、化合物（２－８）、または化合物（２－１０）であることが好ましい。第一成分の少なくとも２つが、化合物（２－１）および化合物（２－６）、化合物（２－１）および化合物（２－１０）、化合物（２－３）および化合物（２－６）、化合物（２－３）および化合物（２－１０）、化合物（２－４）および化合物（２－６）、または化合物（２－４）および化合物（２－８）の組み合わせであることが好ましい。
好ましい化合物（３）は、項９に記載の化合物（３－１）から化合物（３－１３）である。これらの化合物において、第二成分の少なくとも１つが、化合物（３－１）、化合物（３－３）、化合物（３－５）、化合物（３－６）、化合物（３－８）、または化合物（３－９）であることが好ましい。第二成分の少なくとも２つが化合物（３－１）および化合物（３－３）、化合物（３－１）および化合物（３－５）、または化合物（３－１）および化合物（３－６）の組み合わせであることが好ましい。
好ましい化合物（４）は、項１３に記載の化合物（４－１）から化合物（４－２９）である。これらの化合物において、第二添加物の少なくとも１つが、化合物（４－１）、化合物（４－２）、化合物（４－２４）、化合物（４－２５）、化合物（４－２６）、化合物（４－２７）または化合物（４－２９）であることが好ましい。第二添加物の少なくとも２つが、化合物（４－１）および化合物（４－２）、化合物（４－１）および化合物（４－１８）、化合物（４－２）および化合物（４－２４）、化合物（４－２）および化合物（４－２５）、化合物（４－２）および化合物（４－２６）、化合物（４－２５）および化合物（４－２６）、または化合物（４－１８）および化合物（４－２４）の組み合わせであることが好ましい。
好ましい化合物（５）の例は、化合物（５－１）から化合物（５－１０）である。化合物（５）の好ましい割合は約０．３重量％から約１０重量％の範囲である。
第六に、組成物に添加してもよい第一添加物以外の添加物を説明する。このような添加物は、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物などである。液晶分子のらせん構造を誘起してねじれ角を与える目的で光学活性化合物が組成物に添加される。このような化合物の例は、化合物（６－１）から化合物（６－５）である。光学活性化合物の好ましい割合は約５重量％以下である。さらに好ましい割合は約０．０１重量％から約２重量％の範囲である。
大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するために、または素子を長時間使用したあと、室温だけではなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するために、酸化防止剤が組成物に添加される。酸化防止剤の好ましい例は、ｎが１から９の整数である化合物（７）などである。
化合物（７）において、好ましいｎは、１、３、５、７、または９である。さらに好ましいｎは７である。ｎが７である化合物（７）は、揮発性が小さいので、素子を長時間使用したあと、室温だけではなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するのに有効である。酸化防止剤の好ましい割合は、その効果を得るために約５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように約６００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、約１００ｐｐｍから約３００ｐｐｍの範囲である。
紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。立体障害のあるアミンのような光安定剤もまた好ましい。これらの吸収剤や安定剤における好ましい割合は、その効果を得るために約５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないために約１００００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は約１００ｐｐｍから約１００００ｐｐｍの範囲である。
ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるために、アゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に添加される。色素の好ましい割合は、約０．０１重量％から約１０重量％の範囲である。泡立ちを防ぐために、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどの消泡剤が組成物に添加される。消泡剤の好ましい割合は、その効果を得るために約１ｐｐｍ以上であり、表示不良を防ぐために約１０００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、約１ｐｐｍから約５００ｐｐｍの範囲である。
高分子支持配向（ＰＳＡ）型の素子に適合させるために重合性化合物が用いられる。化合物（１）および化合物（４）はこの目的に適している。化合物（１）および化合物（４）と共に、化合物（５）を組成物に添加してもよい。また、化合物（１）および化合物（４）と共に、化合物（１）、化合物（４）および化合物（５）とは異なる、その他の重合性化合物を組成物に添加してもよい。その他の重合性化合物の好ましい例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、ビニルケトンなどの化合物である。さらに好ましい例は、アクリレートまたはメタクリレートである。化合物（１）、化合物（４）および化合物（５）の好ましい割合は、重合性化合物の全重量に基づいて約１０重量％以上である。さらに好ましい割合は、約５０重量％以上である。より好ましい割合は、約８０重量％以上である。特に好ましい割合は、１００重量％でもある。化合物（１）、化合物（４）および化合物（５）の種類を変えることによって、または化合物（１）、化合物（４）および化合物（５）にその他の重合性化合物を適切な比で組み合わせることによって、重合性化合物の反応性や液晶分子のプレチルト角を調整することができる。プレチルト角を最適化することによって、素子の短い応答時間を達成することができる。液晶分子の配向が安定化されるので、大きなコントラスト比や長い寿命を達成することができる。
化合物（１）、化合物（４）および化合物（５）のような重合性化合物は紫外線照射によって重合する。光重合開始剤などの適切な開始剤存在下で重合させてもよい。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。例えば光重合開始剤であるＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（登録商標；ＢＡＳＦ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（登録商標；ＢＡＳＦ）、またはＤａｒｏｃｕｒ１１７３（登録商標；ＢＡＳＦ）がラジカル重合に対して適切である。光重合開始剤の好ましい割合は、重合性化合物の全重量に基づいて約０．１重量％から約５重量％の範囲である。さらに好ましい割合は約１重量％から約３重量％の範囲である。
化合物（１）、化合物（４）および化合物（５）のような重合性化合物を保管するとき、重合を防止するために重合禁止剤を添加してもよい。重合性化合物は、通常は重合禁止剤を除去しないまま組成物に添加される。重合禁止剤の例は、ヒドロキノン、メチルヒドロキノンのようなヒドロキノン誘導体、４－ｔ－ブチルカテコール、４－メトキシフェノ－ル、フェノチアジンなどである。
第七に、成分化合物の合成法を説明する。これらの化合物は既知の方法によって合成できる。合成法を例示する。化合物（１）の合成法は、実施例の項に記載する。化合物（２－１）は、特表平２－５０３４４１号公報に記載された方法で合成する。化合物（３－５）は、特開昭５７－１６５３２８号公報に記載された方法で合成する。化合物（５）は国際公開第２０１６／０１５８０３号パンフレットに記載された方法で合成する。化合物（４－１８）は特開平７－１０１９００号公報に記載された方法で合成する。化合物（７）の一部は市販されている。式（７）のｎが１である化合物は、アルドリッチ（Sigma-Aldrich Corporation）から入手できる。ｎが７である化合物（７）などは、米国特許３６６０５０５号明細書に記載された方法によって合成する。
合成法を記載しなかった化合物は、オーガニック・シンセシス（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載された方法によって合成できる。組成物は、このようにして得た化合物から公知の方法によって調製される。例えば、成分化合物を混合し、そして加熱によって互いに溶解させる。
最後に、組成物の用途を説明する。大部分の組成物は、約－１０℃以下の下限温度、約７０℃以上の上限温度、そして約０．０７から約０．２０の範囲の光学異方性を有する。成分化合物の割合を制御することによって、またはその他の液晶性化合物を混合することによって、約０．０８から約０．２５の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。さらには、試行錯誤によって約０．１０から約０．３０の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。この組成物を含有する素子は大きな電圧保持率を有する。この組成物はＡＭ素子に適する。この組成物は透過型のＡＭ素子に特に適する。この組成物は、ネマチック相を有する組成物としての使用、光学活性化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用が可能である。
この組成物はＡＭ素子への使用が可能である。さらにＰＭ素子への使用も可能である。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＶＡ、ＦＰＡなどのモードを有するＡＭ素子およびＰＭ素子への使用が可能である。ＴＮ、ＯＣＢ、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子への使用は特に好ましい。ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子において、電圧が無印加のとき、液晶分子の配向がガラス基板に対して並行であってもよく、または垂直であってもよい。これらの素子が反射型、透過型、または半透過型であってもよい。透過型の素子への使用は好ましい。非結晶シリコン－ＴＦＴ素子または多結晶シリコン－ＴＦＴ素子への使用も可能である。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）型の素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）型の素子にも使用できる。
従来の高分子支持配向型の素子を製造する方法の一例は、次のとおりである。アレイ基板とカラーフィルター基板と呼ばれる２つの基板を有する素子を組み立てる。この基板は配向膜を有する。この基板の少なくとも１つは、電極層を有する。液晶性化合物を混合して液晶組成物を調製する。この組成物に重合性化合物を添加する。必要に応じて添加物をさらに添加してもよい。この組成物を素子に注入する。この素子に電圧を印加した状態で光照射する。紫外線が好ましい。光照射によって重合性化合物を重合させる。この重合によって、重合体を含有する組成物が生成する。高分子支持配向型の素子は、このような手順で製造する。
この手順において、電圧を印加したとき、液晶分子が電場の作用によって配向する。この配向に従って重合性化合物の分子も配向する。この状態で重合性化合物が紫外線によって重合するので、この配向を維持した重合体が生成する。この重合体の効果によって、素子の応答時間が短縮される。画像の焼き付きは、液晶分子の動作不良であるから、この重合体の効果によって焼き付きも同時に改善されることになる。なお、組成物中の重合性化合物を予め重合させ、この組成物を液晶表示素子の基板のあいだに配置することも可能であろう。
化合物（１）、すなわち分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を用いる場合は、素子の基板に配向膜は不要である。配向膜を有しない素子は、配向膜を有しない基板を用いること以外は、２つ前の段落に記載した手順に従って製造する。
この手順において、化合物（１）は、極性基が基板表面と相互作用するので、基板上に配列する。この配列に従って液晶分子が配向される。電圧を印加したとき、液晶分子の配向がさらに促進される。この状態で重合性基が紫外線によって重合するので、この配向を維持した重合体が生成する。この重合体の効果によって、液晶分子の配向が追加的に安定化し、素子の応答時間が短縮される。画像の焼き付きは、液晶分子の動作不良であるから、この重合体の効果によって焼き付きも同時に改善されることになる。
実施例によって本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によっては制限されない。本発明は、組成物Ｍ１と組成物Ｍ２との混合物を含む。本発明は、実施例の組成物の少なくとも２つを混合した混合物をも含む。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法によって同定した。化合物、組成物および素子の特性は、下記の方法によって測定した。
ＮＭＲ分析：測定には、ブルカーバイオスピン社製のＤＲＸ－５００を用いた。１Ｈ－ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ３などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。１９Ｆ－ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。
ガスクロマト分析：測定には島津製作所製のＧＣ－１４Ｂ型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム（２ｍＬ／分）である。試料気化室を２８０℃に、検出器（ＦＩＤ）を３００℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムＤＢ－１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ；固定液相はジメチルポリシロキサン；無極性）を用いた。このカラムは、２００℃で２分間保持したあと、５℃／分の割合で２８０℃まで昇温した。試料はアセトン溶液（０．１重量％）に調製したあと、その１μＬを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のＣ－Ｒ５Ａ型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。
試料を希釈するための溶媒は、クロロホルム、ヘキサンなどを用いてもよい。成分化合物を分離するために、次のキャピラリカラムを用いてもよい。Agilent Technologies Inc.製のＨＰ－１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、Restek Corporation製のＲｔｘ－１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、SGE International Pty. Ltd製のＢＰ－１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）。化合物ピークの重なりを防ぐ目的で島津製作所製のキャピラリカラムＣＢＰ１－Ｍ５０－０２５（長さ５０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いてもよい。
組成物に含有される液晶性化合物の割合は、次のような方法で算出してよい。液晶性化合物の混合物をガスクロマトグラフィ（ＦＩＤ）で分析する。ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は液晶性化合物の割合に相当する。上に記載したキャピラリカラムを用いたときは、各々の液晶性化合物の補正係数を１とみなしてよい。したがって、液晶性化合物の割合（重量％）は、ピークの面積比から算出することができる。
測定試料：組成物および素子の特性を測定するときは、組成物をそのまま試料として用いた。化合物の特性を測定するときは、この化合物（１５重量％）を母液晶（８５重量％）に混合することによって測定用の試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法によって化合物の特性値を算出した。（外挿値）＝｛（試料の測定値）－０．８５×（母液晶の測定値）｝／０．１５。この割合でスメクチック相（または結晶）が２５℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更した。この外挿法によって化合物に関する上限温度、光学異方性、粘度、および誘電率異方性の値を求めた。
下記の母液晶を用いた。成分化合物の割合は重量％で示した。
測定方法：特性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（Japan Electronics and Information Technology Industries Association；ＪＥＩＴＡという）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ－２５２１Ｂ）に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたＴＮ素子には、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を取り付けなかった。
（１）ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
（２）ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料をガラス瓶に入れ、０℃、－１０℃、－２０℃、－３０℃、および－４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が－２０℃ではネマチック相のままであり、－３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣを＜－２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
（３）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定には東京計器株式会社製のＥ型回転粘度計を用いた。
（４）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を注入した。この素子に３９ボルトから５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ． Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、測定（６）に記載された方法で測定した。
（５）光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計によって行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ∥は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ∥－ｎ⊥、の式から計算した。
（６）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：誘電率異方性の値は、Δε＝ε∥－ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε∥およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε∥）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε∥）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を注入した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。
１）誘電率（ε∥）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε∥）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を注入した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。
（７）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧－透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧で表した。
（８）電圧保持率（ＶＨＲ－１；２５℃で測定；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍであった。この素子は試料を注入したあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積であった。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率で表した。
（９）電圧保持率（ＶＨＲ－２；８０℃で測定；％）：２５℃の代わりに、８０℃で測定した以外は、上記と同じ手順で電圧保持率を測定した。得られた値をＶＨＲ－２で表した。
（１０）電圧保持率（ＶＨＲ－３；２５℃で測定；％）：紫外線を照射したあと、電圧保持率を測定し、紫外線に対する安定性を評価した。測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは５μｍであった。この素子に試料を注入し、光を２０分間照射した。光源は超高圧水銀ランプＵＳＨ－５００Ｄ（ウシオ電機製）であり、素子と光源の間隔は２０ｃｍであった。ＶＨＲ－３の測定では、１６．７ミリ秒のあいだ減衰する電圧を測定した。大きなＶＨＲ－３を有する組成物は紫外線に対して大きな安定性を有する。ＶＨＲ－３は９０％以上が好ましく、９５％以上がさらに好ましい。
（１１）電圧保持率（ＶＨＲ－４；２５℃で測定；％）：試料を注入したＴＮ素子を８０℃の恒温槽内で５００時間加熱したあと、電圧保持率を測定し、熱に対する安定性を評価した。ＶＨＲ－４の測定では、１６．７ミリ秒のあいだ減衰する電圧を測定した。大きなＶＨＲ－４を有する組成物は熱に対して大きな安定性を有する。
（１２）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．５μｍであり、配向膜を有しないＶＡ素子に試料を入れた。この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子に、３０Ｖの電圧を印加しながら７８ｍＷ／ｃｍ２（４０５ｎｍ）の紫外線を４４９秒間（３５Ｊ）照射した。紫外線の照射には、アイグラフィックス株式会社製、紫外硬化用マルチメタルランプＭ０４－Ｌ４１を用いた。この素子に矩形波（１２０Ｈｚ）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。矩形波の最大電圧は透過率が９０％になるように設定した。矩形波の最低電圧は透過率が０％になる２．５Vに設定した。応答時間は透過率１０％から９０％に変化するのに要した時間（立ち上がり時間；rise time；ミリ秒）で表した。
（１３）弾性定数（Ｋ１１：広がり（splay）弾性定数、Ｋ３３：曲げ（bend）弾性定数；２５℃で測定；ｐＮ）：測定には株式会社東陽テクニカ製のＥＣ－１型弾性定数測定器を用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである垂直配向素子に試料を注入した。この素子に２０ボルトから０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。測定した静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を『液晶デバイスハンドブック』（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．１００）から弾性定数の値を得た。
（１４）比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）：電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを入れた。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。
（１５）プレチルト角（度）：プレチルト角の測定には、分光エリプソメータＭ－２０００Ｕ（J. A. Woollam Co., Inc. 製）を使用した。
（１６）配向安定性（液晶配向軸安定性）：液晶表示素子の電極側の液晶配向軸の変化を評価した。ストレス印加前の電極側の液晶配向角度φ（before）を測定し、その後、素子に矩形波４．５Ｖ、６０Ｈｚを２０分間印加した後、１秒間ショートし、１秒後および５分後に再び電極側の液晶配向角度φ（after）を測定した。これらの値から、１秒後および５分後の液晶配向角度の変化Δφ（deg.）を次の式を用いて算出した。
Δφ（deg.）＝φ（after）－φ（before） （式２）
これらの測定はJ. Hilfiker, B. Johs, C. Herzinger, J. F. Elman, E. Montbach, D. Bryant, and P. J. Bos, Thin Solid Films, 455-456, (2004) 596-600を参考に行った。Δφが小さいほうが液晶配向軸の変化率が小さく、液晶配向軸の安定性が良いといえる。
Δφ（deg.）＝φ（after）－φ（before） （式２）
これらの測定はJ. Hilfiker, B. Johs, C. Herzinger, J. F. Elman, E. Montbach, D. Bryant, and P. J. Bos, Thin Solid Films, 455-456, (2004) 596-600を参考に行った。Δφが小さいほうが液晶配向軸の変化率が小さく、液晶配向軸の安定性が良いといえる。
合成例１
下記の方法により化合物（１－２３－１）を合成した。
下記の方法により化合物（１－２３－１）を合成した。
第１工程
化合物（Ｔ－１）（４０．０ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（４０．７ｇ）およびトルエン（８００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（６１．８ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－２）（４２．０ｇ；８３％）を得た。
化合物（Ｔ－１）（４０．０ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（４０．７ｇ）およびトルエン（８００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（６１．８ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－２）（４２．０ｇ；８３％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－２）（４２．０ｇ）およびトルエン（４００ｍｌ）、イソプロピルアルコール（４００ｍｌ）を反応器に入れて、Ｐｄ／Ｃ（０．７ｇ）を加える、水素雰囲気で室温で２４時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－３）（４０．１ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－２）（４２．０ｇ）およびトルエン（４００ｍｌ）、イソプロピルアルコール（４００ｍｌ）を反応器に入れて、Ｐｄ／Ｃ（０．７ｇ）を加える、水素雰囲気で室温で２４時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－３）（４０．１ｇ；９５％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－３）（４０．１ｇ）、およびＴＨＦ（４００ｍｌ）を反応器に入れ、－６０℃に冷却した。リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）（１．１３Ｍ；ＴＨＦ溶液；１４２ｍｌ）をゆっくりと滴下し、１時間撹拌した。そこへ、クロロギ酸メチル（１１．０ｍｌ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－４）（３０．５ｇ；６５％）を得た。
化合物（Ｔ－３）（４０．１ｇ）、およびＴＨＦ（４００ｍｌ）を反応器に入れ、－６０℃に冷却した。リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）（１．１３Ｍ；ＴＨＦ溶液；１４２ｍｌ）をゆっくりと滴下し、１時間撹拌した。そこへ、クロロギ酸メチル（１１．０ｍｌ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－４）（３０．５ｇ；６５％）を得た。
第４工程
水素化アルミニウムリチウム（１．７ｇ）およびＴＨＦ（３００ｍｌ）を反応器に入れて氷冷した。化合物（Ｔ－４）（３０．５ｇ）のＴＨＦ（６００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ３時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ－５）（２０．１ｇ；８０％）を得た。
水素化アルミニウムリチウム（１．７ｇ）およびＴＨＦ（３００ｍｌ）を反応器に入れて氷冷した。化合物（Ｔ－４）（３０．５ｇ）のＴＨＦ（６００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ３時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ－５）（２０．１ｇ；８０％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－５）（２０．１ｇ）、トリエチルアミン（１０．３ｍｌ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（６．０ｍｌ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－２３－１）（７．７ｇ；３２％）を得た。
化合物（Ｔ－５）（２０．１ｇ）、トリエチルアミン（１０．３ｍｌ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（６．０ｍｌ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－２３－１）（７．７ｇ；３２％）を得た。
得られた化合物（１－２３－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．５８（ｓ，１Ｈ）、４．２９－４．２６（ｍ，１Ｈ）、４．１４－４．１１（ｍ，１Ｈ）、３．６０－３．５７（ｍ，１Ｈ）、３．５０－３．４７（ｍ，１Ｈ）、１．９８－１．９５（ｍ，５Ｈ）、１．７８－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．３２－１．１１（ｍ，１２Ｈ）、０．９９－０．８１（ｍ，１３Ｈ）
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．５８（ｓ，１Ｈ）、４．２９－４．２６（ｍ，１Ｈ）、４．１４－４．１１（ｍ，１Ｈ）、３．６０－３．５７（ｍ，１Ｈ）、３．５０－３．４７（ｍ，１Ｈ）、１．９８－１．９５（ｍ，５Ｈ）、１．７８－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．３２－１．１１（ｍ，１２Ｈ）、０．９９－０．８１（ｍ，１３Ｈ）
化合物（１－２３－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ６５．０ Ｉ．
転移温度：Ｃ ６５．０ Ｉ．
［合成例２］
化合物（１－４－１）の合成
化合物（１－４－１）の合成
第１工程
パラホルムアルデヒド（３０．０ｇ）、１，４ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）（５６．０ｇ）、および水（６００ｍｌ）を反応器に入れ、室温で１５分間撹拌した。そこへ化合物（Ｔ－６）（５０．０ｇ）のＴＨＦ（１２００ｍｌ）溶液を滴下し、室温で７２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－７）（４３．２ｇ；６５％）を得た。
パラホルムアルデヒド（３０．０ｇ）、１，４ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）（５６．０ｇ）、および水（６００ｍｌ）を反応器に入れ、室温で１５分間撹拌した。そこへ化合物（Ｔ－６）（５０．０ｇ）のＴＨＦ（１２００ｍｌ）溶液を滴下し、室温で７２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－７）（４３．２ｇ；６５％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－７）（４２．２ｇ）を原料として用い、イミダゾール（２６．３ｇ）、およびジクロロメタン（８００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへｔ－ブチルジフェニルクロロシラン（ＴＢＤＰＳＣｌ）（１０６．４ｇ）のジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、化合物（Ｔ－８）（１０７．０ｇ；９０％）を得た。
化合物（Ｔ－７）（４２．２ｇ）を原料として用い、イミダゾール（２６．３ｇ）、およびジクロロメタン（８００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへｔ－ブチルジフェニルクロロシラン（ＴＢＤＰＳＣｌ）（１０６．４ｇ）のジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、化合物（Ｔ－８）（１０７．０ｇ；９０％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－８）（１０７．０ｇ）、ＴＨＦ（８００ｍｌ）、メタノール（２００ｍｌ）、および水（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ水酸化リチウム一水和物（２４．３ｇ）を加え、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、６Ｎ塩酸（１００ｍｌ）をゆっくりと加え酸性にした後、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮して、ヘプタンからの再結晶により精製して化合物（Ｔ－９）（４７．４ｇ；４８％）を得た。
化合物（Ｔ－８）（１０７．０ｇ）、ＴＨＦ（８００ｍｌ）、メタノール（２００ｍｌ）、および水（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ水酸化リチウム一水和物（２４．３ｇ）を加え、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、６Ｎ塩酸（１００ｍｌ）をゆっくりと加え酸性にした後、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮して、ヘプタンからの再結晶により精製して化合物（Ｔ－９）（４７．４ｇ；４８％）を得た。
第４工程
化合物（１－２３－１）（７．７ｇ）、化合物（Ｔ－９）（８．０ｇ）、ＤＭＡＰ（１．０ｇ）、およびジクロロメタン（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＮ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（４．８ｇ）のジクロロメタン（６０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－１０）（９．８ｇ；７０％）を得た。
化合物（１－２３－１）（７．７ｇ）、化合物（Ｔ－９）（８．０ｇ）、ＤＭＡＰ（１．０ｇ）、およびジクロロメタン（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＮ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（４．８ｇ）のジクロロメタン（６０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－１０）（９．８ｇ；７０％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－１０）（９．８ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れて、０℃に冷却した。そこへフッ化テトラ－ｎ－ブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；１６．５ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ１時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、化合物（１－４－１）（３．１ｇ；４７％）を得た。
化合物（Ｔ－１０）（９．８ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れて、０℃に冷却した。そこへフッ化テトラ－ｎ－ブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；１６．５ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ１時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、化合物（１－４－１）（３．１ｇ；４７％）を得た。
得られた化合物（１－４－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，１Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．８５（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２７－４．１６（ｍ，２Ｈ）、４．１３－４．０８（ｍ，２Ｈ）、２．３１（ｓ，１Ｈ）、２．２６－２．２２（ｍ，１Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、１．８１－１．６１（ｍ，８Ｈ）、１．３２－１．０８（ｍ，１２Ｈ）、１．００－０．７９（ｍ，１３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，１Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．８５（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２７－４．１６（ｍ，２Ｈ）、４．１３－４．０８（ｍ，２Ｈ）、２．３１（ｓ，１Ｈ）、２．２６－２．２２（ｍ，１Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、１．８１－１．６１（ｍ，８Ｈ）、１．３２－１．０８（ｍ，１２Ｈ）、１．００－０．７９（ｍ，１３Ｈ）．
化合物（１－４－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ４９．６ Ｉ．
転移温度：Ｃ ４９．６ Ｉ．
［合成例３］
化合物（１－４－２）の合成
化合物（１－４－２）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－１１）（１５．０ｇ）、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（９．３３ｇ）、メルドラム酸（９．５４ｇ）およびジクロロメタン（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＮ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１５．７ｇ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮した。残渣、エタノール（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、７０℃で撹拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を食塩水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：トルエン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－１２）（１０．２ｇ；５５％）を得た。
化合物（Ｔ－１１）（１５．０ｇ）、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（９．３３ｇ）、メルドラム酸（９．５４ｇ）およびジクロロメタン（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＮ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１５．７ｇ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮した。残渣、エタノール（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、７０℃で撹拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を食塩水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：トルエン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－１２）（１０．２ｇ；５５％）を得た。
第２工程
水素化アルミニウムリチウム（０．６ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れて氷冷した。化合物（Ｔ－１２）（１０．２ｇ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ３時間撹拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－１３）（７．３５ｇ；８１％）を得た。
水素化アルミニウムリチウム（０．６ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れて氷冷した。化合物（Ｔ－１２）（１０．２ｇ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ３時間撹拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－１３）（７．３５ｇ；８１％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－１３）（７．３５ｇ）、トリエチルアミン（３．７５ｍｌ）、Ｎ,Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．２７ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。ＴＩＰＳＣｌ（トリイソプロピルシリルクロリド）（５．０５ｍｌ）をゆっくり滴下し、室温に戻しつつ２４時間撹拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－１４）（６．５０ｇ；６０％）を得た。
化合物（Ｔ－１３）（７．３５ｇ）、トリエチルアミン（３．７５ｍｌ）、Ｎ,Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．２７ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。ＴＩＰＳＣｌ（トリイソプロピルシリルクロリド）（５．０５ｍｌ）をゆっくり滴下し、室温に戻しつつ２４時間撹拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－１４）（６．５０ｇ；６０％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－１４）（６．５０ｇ）、トリエチルアミン（３．７７ｍｌ）、ＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（２．００ｍｌ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－１５）（４．７０ｇ；６３％）を得た。
化合物（Ｔ－１４）（６．５０ｇ）、トリエチルアミン（３．７７ｍｌ）、ＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（２．００ｍｌ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－１５）（４．７０ｇ；６３％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－１５）（４．７０ｇ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＴＢＡＦ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；１０．３ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ１時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、化合物（Ｔ－１６）（１．５０ｇ；４５％）を得た。
化合物（Ｔ－１５）（４．７０ｇ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＴＢＡＦ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；１０．３ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ１時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、化合物（Ｔ－１６）（１．５０ｇ；４５％）を得た。
第６工程
化合物（Ｔ－１６）（１．５０ｇ）を原料として用い、合成例２の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－１７）（１．５１ｇ；５５％）を得た。
化合物（Ｔ－１６）（１．５０ｇ）を原料として用い、合成例２の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－１７）（１．５１ｇ；５５％）を得た。
第７工程
化合物（Ｔ－１７）（１．５１ｇ）を原料として用い、合成例２の第５工程と同様の手法により、化合物（１－４－２）（０．４５ｇ；４５％）を得た。
化合物（Ｔ－１７）（１．５１ｇ）を原料として用い、合成例２の第５工程と同様の手法により、化合物（１－４－２）（０．４５ｇ；４５％）を得た。
得られた化合物（１－４－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．８２（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ）、５．５５（ｓ，１Ｈ）、５．２２－５．１７（ｍ，１Ｈ）、４．３２－４．２６（ｍ，３Ｈ）、４．１７－４．１２（ｍ，３Ｈ）、２．５０（ｓ，１Ｈ）、２．０３－１．８９（ｍ，５Ｈ）、１．８３－１．５８（ｍ，９Ｈ）、１．４１－１．０８（ｍ，１１Ｈ）、０．９６－０．７８（ｍ，１３Ｈ）.
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．８２（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ）、５．５５（ｓ，１Ｈ）、５．２２－５．１７（ｍ，１Ｈ）、４．３２－４．２６（ｍ，３Ｈ）、４．１７－４．１２（ｍ，３Ｈ）、２．５０（ｓ，１Ｈ）、２．０３－１．８９（ｍ，５Ｈ）、１．８３－１．５８（ｍ，９Ｈ）、１．４１－１．０８（ｍ，１１Ｈ）、０．９６－０．７８（ｍ，１３Ｈ）.
化合物（１－４－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ６１．２ Ｉ．
転移温度：Ｃ ６１．２ Ｉ．
［合成例４］
化合物（１－２３－２）の合成
化合物（１－２３－２）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－１８）（２０．０ｇ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、－７０℃に冷却し、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）（１．１０Ｍ；ＴＨＦ溶液；６８．０ｍｌ）をゆっくりと滴下し、１時間撹拌した。そこへクロロギ酸メチル（７．００ｇ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－１９）（１９．４ｇ；８２％）を得た。
化合物（Ｔ－１８）（２０．０ｇ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、－７０℃に冷却し、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）（１．１０Ｍ；ＴＨＦ溶液；６８．０ｍｌ）をゆっくりと滴下し、１時間撹拌した。そこへクロロギ酸メチル（７．００ｇ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－１９）（１９．４ｇ；８２％）を得た。
第２工程
水素化リチウムアルミニウム（１．９３ｇ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ、化合物（Ｔ－１９）（１９．４ｇ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ３時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－２０）（６．０ｇ；３８％）を得た。
水素化リチウムアルミニウム（１．９３ｇ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ、化合物（Ｔ－１９）（１９．４ｇ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ３時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－２０）（６．０ｇ；３８％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－２０）（６．０ｇ）、トリエチルアミン（３．２ｍｌ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（１．８ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－２３－２）（２．５ｇ；３４％）を得た。
化合物（Ｔ－２０）（６．０ｇ）、トリエチルアミン（３．２ｍｌ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（１．８ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－２３－２）（２．５ｇ；３４％）を得た。
得られた化合物（１－２３－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ）、４．３８（ｄｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１Ｈ）、４．２３（ｄｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，１Ｈ）、３．７１－３．６８（ｍ，１Ｈ）、３．６３－３．６０（ｍ，１Ｈ）、１．９７（ｓ，１Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、１．８２－１．６２（ｍ，９Ｈ）、１．４１－１．１８（ｍ，７Ｈ）、１．１４－０．７９（ｍ，１６Ｈ）.
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ）、４．３８（ｄｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１Ｈ）、４．２３（ｄｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，１Ｈ）、３．７１－３．６８（ｍ，１Ｈ）、３．６３－３．６０（ｍ，１Ｈ）、１．９７（ｓ，１Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、１．８２－１．６２（ｍ，９Ｈ）、１．４１－１．１８（ｍ，７Ｈ）、１．１４－０．７９（ｍ，１６Ｈ）.
化合物（１－２３－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ６８．４ ＳＡ ８９．３ Ｉ．
転移温度：Ｃ ６８．４ ＳＡ ８９．３ Ｉ．
［合成例５］
化合物（１－４－３）の合成
化合物（１－４－３）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－７）、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン（２３．３ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（５．８０ｇ）を反応器に入れ５０℃で１０時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、化合物（Ｔ－２１）（３９．５ｇ；８０％）を得た。
化合物（Ｔ－７）、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン（２３．３ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（５．８０ｇ）を反応器に入れ５０℃で１０時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、化合物（Ｔ－２１）（３９．５ｇ；８０％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－２１）（３９．５ｇ）、ＴＨＦ（４００ｍｌ）、および水（４００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ水酸化リチウム一水和物（１５．４ｇ）を加え、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、６Ｎ塩酸（６０ｍｌ）をゆっくりと加え酸性にした後、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮して化合物（Ｔ－２２）（３２．６ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－２１）（３９．５ｇ）、ＴＨＦ（４００ｍｌ）、および水（４００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ水酸化リチウム一水和物（１５．４ｇ）を加え、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、６Ｎ塩酸（６０ｍｌ）をゆっくりと加え酸性にした後、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮して化合物（Ｔ－２２）（３２．６ｇ；９５％）を得た。
第３工程
化合物（１－２３－２）（２．０ｇ）、化合物（Ｔ－２２）（１．１８ｇ）、ＤＭＡＰ（０．３２ｇ）、およびジクロロメタン（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＤＣＣ（１．３０ｇ）のジクロロメタン（６０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－２３）（２．３７ｇ；８２％）を得た。
化合物（１－２３－２）（２．０ｇ）、化合物（Ｔ－２２）（１．１８ｇ）、ＤＭＡＰ（０．３２ｇ）、およびジクロロメタン（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＤＣＣ（１．３０ｇ）のジクロロメタン（６０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－２３）（２．３７ｇ；８２％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－２３）（２．３７ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（０．５４ｇ）、ＴＨＦ（５０ｍｌ）およびメタノール（５０ｍｌ）を反応器に入れ、５０℃で５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－４－３）（１．５０ｇ；７５％）を得た。
化合物（Ｔ－２３）（２．３７ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（０．５４ｇ）、ＴＨＦ（５０ｍｌ）およびメタノール（５０ｍｌ）を反応器に入れ、５０℃で５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－４－３）（１．５０ｇ；７５％）を得た。
得られた化合物（１－４－３）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２４（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．８４（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３－４．２７（ｍ，４Ｈ）、４．２０－４．１６（ｍ，２Ｈ）、２．３４－２．３１（ｍ，１Ｈ）、１．９７－１．９０（ｍ，４Ｈ）、１．８２－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．４３－１．３９（ｍ，１Ｈ）、１．３１－１．１８（ｍ，６Ｈ）、１．１５－０．７５（ｍ，１６Ｈ）.
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２４（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．８４（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３－４．２７（ｍ，４Ｈ）、４．２０－４．１６（ｍ，２Ｈ）、２．３４－２．３１（ｍ，１Ｈ）、１．９７－１．９０（ｍ，４Ｈ）、１．８２－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．４３－１．３９（ｍ，１Ｈ）、１．３１－１．１８（ｍ，６Ｈ）、１．１５－０．７５（ｍ，１６Ｈ）.
化合物（１－４－３）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ６６．５ Ｉ．
転移温度：Ｃ ６６．５ Ｉ．
［合成例６］
化合物（１－２４－１）の合成
化合物（１－２４－１）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－２４）（３０．０ｇ）、エタノール（１４．４ｍｌ）、りん酸カリウム（５３．６ｇ）、ヨウ化銅（１．６０ｇ）、アセト酢酸エチル（３２．８ｇ）およびジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（５００ｍｌ）を反応器に入れ、８０℃で６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－２５）（１９．５ｇ；７３％）を得た。
化合物（Ｔ－２４）（３０．０ｇ）、エタノール（１４．４ｍｌ）、りん酸カリウム（５３．６ｇ）、ヨウ化銅（１．６０ｇ）、アセト酢酸エチル（３２．８ｇ）およびジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（５００ｍｌ）を反応器に入れ、８０℃で６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－２５）（１９．５ｇ；７３％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－２５）（１９．５ｇ）を原料として用い、合成例４の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－２６）（１６．２ｇ；７０％）を得た。
化合物（Ｔ－２５）（１９．５ｇ）を原料として用い、合成例４の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－２６）（１６．２ｇ；７０％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－２６）（１６．２ｇ）を原料として用い、合成例４の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－２７）（６．０ｇ；４５％）を得た。
化合物（Ｔ－２６）（１６．２ｇ）を原料として用い、合成例４の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－２７）（６．０ｇ；４５％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－２７）（６．０ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（１－２４－１）（２．３ｇ；３１％）を得た。
化合物（Ｔ－２７）（６．０ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（１－２４－１）（２．３ｇ；３１％）を得た。
得られた化合物（１－２４－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１８－７．１７（ｍ，４Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．４７－４．３８（ｍ，２Ｈ）、３．９１－３．８５（ｍ，２Ｈ）、３．１９－３．１４（ｍ，１Ｈ）、２．４４（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ）、１．９３－１．８６（ｍ，８Ｈ）、１．４８－１．３８（ｍ，２Ｈ）、１．３４－１．１９（ｍ，９Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１８－７．１７（ｍ，４Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．４７－４．３８（ｍ，２Ｈ）、３．９１－３．８５（ｍ，２Ｈ）、３．１９－３．１４（ｍ，１Ｈ）、２．４４（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ）、１．９３－１．８６（ｍ，８Ｈ）、１．４８－１．３８（ｍ，２Ｈ）、１．３４－１．１９（ｍ，９Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－２４－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ３６．１ Ｉ．
転移温度：Ｃ ３６．１ Ｉ．
［合成例７］
化合物（１－５－２）の合成
化合物（１－５－２）の合成
第１工程
化合物（１－２４－１）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－２８）（２．２ｇ；７６％）を得た。
化合物（１－２４－１）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－２８）（２．２ｇ；７６％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－２８）（２．２ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－５－２）（１．３ｇ；７０％）を得た。
化合物（Ｔ－２８）（２．２ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－５－２）（１．３ｇ；７０％）を得た。
得られた化合物（１－５－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１７－７．１６（ｍ，４Ｈ）、６．２１（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．８１（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ）、５．５５（ｓ，１Ｈ）、４．４６－４．３９（ｍ，４Ｈ）、４．２７（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，２Ｈ）、３．４２－３．３７（ｍ，１Ｈ）、２．４４（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．２２－２．２１（ｍ，１Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、１．８７－１．８５（ｍ，４Ｈ）、１．４６－１．３８（ｍ，２Ｈ）、１．３４－１．１９（ｍ，９Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１７－７．１６（ｍ，４Ｈ）、６．２１（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．８１（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ）、５．５５（ｓ，１Ｈ）、４．４６－４．３９（ｍ，４Ｈ）、４．２７（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，２Ｈ）、３．４２－３．３７（ｍ，１Ｈ）、２．４４（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．２２－２．２１（ｍ，１Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、１．８７－１．８５（ｍ，４Ｈ）、１．４６－１．３８（ｍ，２Ｈ）、１．３４－１．１９（ｍ，９Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－５－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ５２．３ Ｉ．
転移温度：Ｃ ５２．３ Ｉ．
［合成例８］
化合物（１－２５－２）の合成
化合物（１－２５－２）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－２９）（３０．０ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（３３．０ｇ）およびトルエン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、ナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（５０．１ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－３０）（３２．８ｇ；８５％）を得た。
化合物（Ｔ－２９）（３０．０ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（３３．０ｇ）およびトルエン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、ナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（５０．１ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－３０）（３２．８ｇ；８５％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－３０）（３２．８ｇ）、トルエン（３００ｍｌ）、ＩＰＡ（３００ｍｌ）およびＰｄ／Ｃ（０．５５ｇ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ－３１）（１６．８ｇ；５１％）を得た。
化合物（Ｔ－３０）（３２．８ｇ）、トルエン（３００ｍｌ）、ＩＰＡ（３００ｍｌ）およびＰｄ／Ｃ（０．５５ｇ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ－３１）（１６．８ｇ；５１％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－３１）（１６．８ｇ）を原料として用い、合成例４の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－３２）（１４．１ｇ；７１％）を得た。
化合物（Ｔ－３１）（１６．８ｇ）を原料として用い、合成例４の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－３２）（１４．１ｇ；７１％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－３２）（１４．１ｇ）を原料として用い、合成例４の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－３３）（６．０ｇ；５２％）を得た。
化合物（Ｔ－３２）（１４．１ｇ）を原料として用い、合成例４の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－３３）（６．０ｇ；５２％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－３３）（６．０ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（１－２５－２）（２．３ｇ；３２％）を得た。
化合物（Ｔ－３３）（６．０ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（１－２５－２）（２．３ｇ；３２％）を得た。
得られた化合物（１－２５－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１４－７．１０（ｍ，４Ｈ）、６．１２（ｓ，１Ｈ）、５．５９（ｓ，１Ｈ）、４．４３－４．４０（ｍ，１Ｈ）、４．２８－４．２５（ｍ，１Ｈ）、３．７５－３．６４（ｍ，２Ｈ）、２．５５（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４７－２．４２（ｍ，１Ｈ）、２．１４（ｓ，１Ｈ）、１．９６－１．９１（ｍ，７Ｈ）、１．７４－１．６９（ｍ，１Ｈ）、１．６２－１．２２（ｍ，１１Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１４－７．１０（ｍ，４Ｈ）、６．１２（ｓ，１Ｈ）、５．５９（ｓ，１Ｈ）、４．４３－４．４０（ｍ，１Ｈ）、４．２８－４．２５（ｍ，１Ｈ）、３．７５－３．６４（ｍ，２Ｈ）、２．５５（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４７－２．４２（ｍ，１Ｈ）、２．１４（ｓ，１Ｈ）、１．９６－１．９１（ｍ，７Ｈ）、１．７４－１．６９（ｍ，１Ｈ）、１．６２－１．２２（ｍ，１１Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－２５－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ＜－５０．０ Ｉ．
転移温度：Ｃ＜－５０．０ Ｉ．
［合成例９］
化合物（１－６－１）の合成
化合物（１－６－１）の合成
第１工程
化合物（１－２５－１）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－３４）（１．９ｇ；６８％）を得た。
化合物（１－２５－１）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－３４）（１．９ｇ；６８％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－３４）（１．９ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－６－１）（１．２ｇ；７５％）を得た。
化合物（Ｔ－３４）（１．９ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－６－１）（１．２ｇ；７５％）を得た。
得られた化合物（１－６－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１３－７．１０（ｍ，４Ｈ）、６．２７（ｓ，１Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．８６（ｓ，１Ｈ）、５．５８（ｓ，１Ｈ）、４．４０－４．３２（ｍ，４Ｈ）、４．２５－４．２０（ｍ，２Ｈ）、２．５６（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５（ｔｔ，Ｊ＝１２．１Ｈｚ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）、２．３５－２．３２（ｍ，１Ｈ）、２．０４－１．９１（ｍ，７Ｈ）、１．６２－１．２６（ｍ，１２Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１３－７．１０（ｍ，４Ｈ）、６．２７（ｓ，１Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．８６（ｓ，１Ｈ）、５．５８（ｓ，１Ｈ）、４．４０－４．３２（ｍ，４Ｈ）、４．２５－４．２０（ｍ，２Ｈ）、２．５６（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５（ｔｔ，Ｊ＝１２．１Ｈｚ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）、２．３５－２．３２（ｍ，１Ｈ）、２．０４－１．９１（ｍ，７Ｈ）、１．６２－１．２６（ｍ，１２Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－６－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ３５．８ Ｉ．
転移温度：Ｃ ３５．８ Ｉ．
［合成例１０］
化合物（１－２３－３）の合成
化合物（１－２３－３）の合成
第１工程
２－(１，３－ジオキサン－２－イル)エチルトリフェニルホスホニウムブロミド（１０３．７ｇ）およびＴＨＦ（５００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却し、カリウムｔ－ブトキシド（２５．４ｇ）を加え、1時間撹拌した。そこへ化合物（Ｔ－３５）（５０．０ｇ）のＴＨＦ（３００ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－３６）（６３．０ｇ；９２％）を得た。
２－(１，３－ジオキサン－２－イル)エチルトリフェニルホスホニウムブロミド（１０３．７ｇ）およびＴＨＦ（５００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却し、カリウムｔ－ブトキシド（２５．４ｇ）を加え、1時間撹拌した。そこへ化合物（Ｔ－３５）（５０．０ｇ）のＴＨＦ（３００ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－３６）（６３．０ｇ；９２％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－３６）（６３．０ｇ）、トルエン（５００ｍｌ）、ＩＰＡ（５００ｍｌ）およびＰｄ／Ｃ（０．５５ｇ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製し、化合物（Ｔ－３７）（６０．１ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－３６）（６３．０ｇ）、トルエン（５００ｍｌ）、ＩＰＡ（５００ｍｌ）およびＰｄ／Ｃ（０．５５ｇ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製し、化合物（Ｔ－３７）（６０．１ｇ；９５％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－３７）（６０．１ｇ）、ギ酸（７５．８ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れて、１００℃にて６時間撹拌した。不溶物を濾別した後、炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにてトルエンで精製して、化合物（Ｔ－３８）（４５．０ｇ；８９％）を得た。
化合物（Ｔ－３７）（６０．１ｇ）、ギ酸（７５．８ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れて、１００℃にて６時間撹拌した。不溶物を濾別した後、炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにてトルエンで精製して、化合物（Ｔ－３８）（４５．０ｇ；８９％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－３８）（４５．０ｇ）、ペルオキシ一硫酸カリウム（ＯＸＯＮＥ）（１０８．３ｇ）およびＤＭＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れて、室温にて８時間撹拌した。
不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチル抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（Ｔ－３９）（２８．５ｇ；６０％）を得た。
化合物（Ｔ－３８）（４５．０ｇ）、ペルオキシ一硫酸カリウム（ＯＸＯＮＥ）（１０８．３ｇ）およびＤＭＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れて、室温にて８時間撹拌した。
不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチル抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（Ｔ－３９）（２８．５ｇ；６０％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－３９）（２８．５ｇ）、硫酸（０．５ｍｌ）およびメタノール（５００ｍｌ）を反応器に入れて、６０℃にて５時間撹拌した。不溶物を濾別した後、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにてトルエンで精製して、化合物（Ｔ－４０）（２２．３ｇ；７５％）を得た。
化合物（Ｔ－３９）（２８．５ｇ）、硫酸（０．５ｍｌ）およびメタノール（５００ｍｌ）を反応器に入れて、６０℃にて５時間撹拌した。不溶物を濾別した後、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにてトルエンで精製して、化合物（Ｔ－４０）（２２．３ｇ；７５％）を得た。
第６工程
化合物（Ｔ－４０）（２２．３ｇ）を原料として用い、合成例４の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４１）（１８．３ｇ；７０％）を得た。
化合物（Ｔ－４０）（２２．３ｇ）を原料として用い、合成例４の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４１）（１８．３ｇ；７０％）を得た。
第７工程
化合物（Ｔ－４１）（１８．３ｇ）を原料として用い、合成例４の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４２）（５．９ｇ；３８％）を得た。
化合物（Ｔ－４１）（１８．３ｇ）を原料として用い、合成例４の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４２）（５．９ｇ；３８％）を得た。
第８工程
化合物（Ｔ－４２）（５．９ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（１－２３－３）（２．４ｇ；３４％）を得た。
化合物（Ｔ－４２）（５．９ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（１－２３－３）（２．４ｇ；３４％）を得た。
得られた化合物（１－２３－３）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．８１（ｓ，１Ｈ）、４．３１－４．２８（ｍ，１Ｈ）、４．１７－４．１４（ｍ，１Ｈ）、３．６３－３．５８（ｍ，１Ｈ）、３．５４－３．４９（ｍ，１Ｈ）、１．９８－１．９５（ｍ，４Ｈ）、１．８４－１．６９（ｍ，９Ｈ）、１．４１－１．１８（ｍ，１０Ｈ）、１．１５－１．０６（ｍ，４Ｈ）、１．０２－０．８０（ｍ，１３Ｈ）.
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．８１（ｓ，１Ｈ）、４．３１－４．２８（ｍ，１Ｈ）、４．１７－４．１４（ｍ，１Ｈ）、３．６３－３．５８（ｍ，１Ｈ）、３．５４－３．４９（ｍ，１Ｈ）、１．９８－１．９５（ｍ，４Ｈ）、１．８４－１．６９（ｍ，９Ｈ）、１．４１－１．１８（ｍ，１０Ｈ）、１．１５－１．０６（ｍ，４Ｈ）、１．０２－０．８０（ｍ，１３Ｈ）.
化合物（１－２３－３）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ３３．６ ＳＡ １０１ Ｉ．
転移温度：Ｃ ３３．６ ＳＡ １０１ Ｉ．
［合成例１１］
化合物（１－４－４）の合成
化合物（１－４－４）の合成
第１工程
化合物（１－２３－３）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４３）（２．１ｇ；７４％）を得た。
化合物（１－２３－３）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４３）（２．１ｇ；７４％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－４３）（２．１ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－４－４）（１．３ｇ；７２％）を得た。
化合物（Ｔ－４３）（２．１ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－４－４）（１．３ｇ；７２％）を得た。
得られた化合物（１－４－４）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，１Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．８５（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２４－４．１１（ｍ，４Ｈ）、２．２８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．０９－２．０３（ｍ，１Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、１．７５－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．４４－１．３９（ｍ，２Ｈ）、１．３２－１．１８（ｍ，８Ｈ）、１．１５－１．０６（ｍ，４Ｈ）、１．０２－０．７９（ｍ，１３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，１Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．８５（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２４－４．１１（ｍ，４Ｈ）、２．２８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．０９－２．０３（ｍ，１Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）、１．７５－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．４４－１．３９（ｍ，２Ｈ）、１．３２－１．１８（ｍ，８Ｈ）、１．１５－１．０６（ｍ，４Ｈ）、１．０２－０．７９（ｍ，１３Ｈ）．
化合物（１－４－４）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ７１．４ Ｉ．
転移温度：Ｃ ７１．４ Ｉ．
［合成例１２］
化合物（１－４２－１）の合成
化合物（１－４２－１）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－２０）（２．０ｇ）、化合物（Ｔ－２２）（２．６３ｇ）、ＤＭＡＰ（０．７８ｇ）、およびジクロロメタン（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＤＣＣ（２．９２ｇ）のジクロロメタン（６０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－４４）（２．８３ｇ；６８％）を得た。
化合物（Ｔ－２０）（２．０ｇ）、化合物（Ｔ－２２）（２．６３ｇ）、ＤＭＡＰ（０．７８ｇ）、およびジクロロメタン（１００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＤＣＣ（２．９２ｇ）のジクロロメタン（６０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－４４）（２．８３ｇ；６８％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－４４）（２．８３ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（１．０９ｇ）、ＴＨＦ（５０ｍｌ）およびメタノール（５０ｍｌ）を反応器に入れ、５０℃で８時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（１－４２－１）（１．４７ｇ；７０％）を得た。
化合物（Ｔ－４４）（２．８３ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（１．０９ｇ）、ＴＨＦ（５０ｍｌ）およびメタノール（５０ｍｌ）を反応器に入れ、５０℃で８時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（１－４２－１）（１．４７ｇ；７０％）を得た。
得られた化合物（１－４２－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２４（ｓ，２Ｈ）、５．８２（ｓ，２Ｈ）、４．３５－４．３１（ｍ，６Ｈ）、４．２２－４．１９（ｍ，２Ｈ）、２．３６（ｓ，２Ｈ）、１．９７－１．９１（ｓ，１Ｈ）、１．８２－１．６３（ｍ，８Ｈ）、１．４３－１．１８（ｍ，７Ｈ）、１．１５－０．７９（ｍ，１６Ｈ）.
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２４（ｓ，２Ｈ）、５．８２（ｓ，２Ｈ）、４．３５－４．３１（ｍ，６Ｈ）、４．２２－４．１９（ｍ，２Ｈ）、２．３６（ｓ，２Ｈ）、１．９７－１．９１（ｓ，１Ｈ）、１．８２－１．６３（ｍ，８Ｈ）、１．４３－１．１８（ｍ，７Ｈ）、１．１５－０．７９（ｍ，１６Ｈ）.
化合物（１－４２－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ １０２ Ｉ．
転移温度：Ｃ １０２ Ｉ．
［合成例１３］
化合物（１－４３－１）の合成
化合物（１－４３－１）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－２７）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例１２の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４５）（２．７ｇ；６４％）を得た。
化合物（Ｔ－２７）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例１２の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４５）（２．７ｇ；６４％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－４５）（２．７ｇ）を原料として用い、合成例１２の第２工程と同様の手法により、化合物（１－４３－１）（１．３ｇ；６５％）を得た。
化合物（Ｔ－４５）（２．７ｇ）を原料として用い、合成例１２の第２工程と同様の手法により、化合物（１－４３－１）（１．３ｇ；６５％）を得た。
得られた化合物（１－４３－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．２０－７．１６（ｍ，４Ｈ）、６．２６（ｓ，２Ｈ）、５．８３（ｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，２Ｈ）、４．４６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，４Ｈ）、４．２８（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，４Ｈ）、３．４４－３．３９（ｍ，１Ｈ）、２．４４（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．１６－２．１３（ｍ，２Ｈ）、１．８７－１．８５（ｍ，４Ｈ）、１．４６－１．１９（ｍ，１１Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．２０－７．１６（ｍ，４Ｈ）、６．２６（ｓ，２Ｈ）、５．８３（ｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，２Ｈ）、４．４６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，４Ｈ）、４．２８（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，４Ｈ）、３．４４－３．３９（ｍ，１Ｈ）、２．４４（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．１６－２．１３（ｍ，２Ｈ）、１．８７－１．８５（ｍ，４Ｈ）、１．４６－１．１９（ｍ，１１Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－４３－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ６５．８ Ｉ．
転移温度：Ｃ ６５．８ Ｉ．
［合成例１４］
化合物（１－４４－１）の合成
化合物（１－４４－１）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－３３）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例１２の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４６）（２．５ｇ；５９％）を得た。
化合物（Ｔ－３３）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例１２の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４６）（２．５ｇ；５９％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－４６）（２．７ｇ）を原料として用い、合成例１２の第２工程と同様の手法により、化合物（１－４４－１）（１．１ｇ；６０％）を得た。
化合物（Ｔ－４６）（２．７ｇ）を原料として用い、合成例１２の第２工程と同様の手法により、化合物（１－４４－１）（１．１ｇ；６０％）を得た。
得られた化合物（１－４４－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１４－７．１０（ｍ，４Ｈ）、６．２７（ｓ，２Ｈ）、５．８７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，２Ｈ）、４．３９－４．３３（ｍ，６Ｈ）、４．２７－４．２０（ｍ，２Ｈ）、２．５７－２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．４５（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．３８－２．３５（ｍ，２Ｈ）、２．０５－１．９１（ｍ，５Ｈ）、１．６３－１．２６（ｍ，１１Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１４－７．１０（ｍ，４Ｈ）、６．２７（ｓ，２Ｈ）、５．８７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，２Ｈ）、４．３９－４．３３（ｍ，６Ｈ）、４．２７－４．２０（ｍ，２Ｈ）、２．５７－２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．４５（ｔｔ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．３８－２．３５（ｍ，２Ｈ）、２．０５－１．９１（ｍ，５Ｈ）、１．６３－１．２６（ｍ，１１Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－４４－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ６５．６ Ｉ．
転移温度：Ｃ ６５．６ Ｉ．
［合成例１５］
化合物（１－４２－２）の合成
化合物（１－４２－２）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－４２）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例１２の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４７）（２．７ｇ；６７％）を得た。
化合物（Ｔ－４２）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例１２の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－４７）（２．７ｇ；６７％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－４７）（２．７ｇ）を原料として用い、合成例１２の第２工程と同様の手法により、化合物（１－４２－２）（１．３ｇ；６４％）を得た。
化合物（Ｔ－４７）（２．７ｇ）を原料として用い、合成例１２の第２工程と同様の手法により、化合物（１－４２－２）（１．３ｇ；６４％）を得た。
得られた化合物（１－４２－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，２Ｈ）、５．８５（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，２Ｈ）、４．３３（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，４Ｈ）、４．２５－４．２２（ｍ，２Ｈ）、４．１８－４．１４（ｍ，２Ｈ）、２．３０－２．２８（ｍ，２Ｈ）、２．１１－２．０６（ｍ，１Ｈ）、１．７５－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．４４－１．３９（ｍ，２Ｈ）、１．３２－０．７９（ｍ，２５Ｈ）.
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２５（ｓ，２Ｈ）、５．８５（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，２Ｈ）、４．３３（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，４Ｈ）、４．２５－４．２２（ｍ，２Ｈ）、４．１８－４．１４（ｍ，２Ｈ）、２．３０－２．２８（ｍ，２Ｈ）、２．１１－２．０６（ｍ，１Ｈ）、１．７５－１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．４４－１．３９（ｍ，２Ｈ）、１．３２－０．７９（ｍ，２５Ｈ）.
化合物（１－４２－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ８５．７ ＳＡ １２５ Ｉ．
転移温度：Ｃ ８５．７ ＳＡ １２５ Ｉ．
［合成例１６］
化合物（１－２４－２）の合成
化合物（１－２４－２）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－２４）（５０．０ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－７０℃まで冷却した。イソプロピルマグネシウムクロリド - 塩化リチウム （１．３Ｍ；ＴＨＦ溶液；１３０．０ｍｌ）をゆっくり滴下し、１時間撹拌した。そこへ、ＤＭＦ（１３．０ｍｌ）を滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－４８）（３４．５ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－２４）（５０．０ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－７０℃まで冷却した。イソプロピルマグネシウムクロリド - 塩化リチウム （１．３Ｍ；ＴＨＦ溶液；１３０．０ｍｌ）をゆっくり滴下し、１時間撹拌した。そこへ、ＤＭＦ（１３．０ｍｌ）を滴下し、室温に戻しつつ４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－４８）（３４．５ｇ；９５％）を得た。
第２工程
メトキシメチル－トリフェニルホスホニウムクロリド（５４．９ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却した。カリウムｔ－ブトキシド（１８．０ｇ）を加え、１時間撹拌した。そこへ、化合物（Ｔ－４８）（３４．５ｇ）のＴＨＦ（５００ｍｌ）溶液を滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：４）で精製して、化合物（Ｔ－４９）（３１．７ｇ；８３％）を得た。
メトキシメチル－トリフェニルホスホニウムクロリド（５４．９ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却した。カリウムｔ－ブトキシド（１８．０ｇ）を加え、１時間撹拌した。そこへ、化合物（Ｔ－４８）（３４．５ｇ）のＴＨＦ（５００ｍｌ）溶液を滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：４）で精製して、化合物（Ｔ－４９）（３１．７ｇ；８３％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－４９）（３１．７ｇ）、ギ酸（５０．９ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、１００℃で６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、重曹水で中和し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－５０）（２６．５ｇ；８８％）を得た。
化合物（Ｔ－４９）（３１．７ｇ）、ギ酸（５０．９ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、１００℃で６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、重曹水で中和し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－５０）（２６．５ｇ；８８％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－５０）（２６．５ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（２６．２ｇ）およびトルエン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、ナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（３９．７ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５１）（３０．６ｇ；９２％）を得た。
化合物（Ｔ－５０）（２６．５ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（２６．２ｇ）およびトルエン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、ナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（３９．７ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５１）（３０．６ｇ；９２％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－５１）（３０．６ｇ）、Ｐｄ／Ｃ（０．５５ｇ）、トルエン（２５０ｍｌ）、およびＩＰＡ（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５２）（２９．２ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－５１）（３０．６ｇ）、Ｐｄ／Ｃ（０．５５ｇ）、トルエン（２５０ｍｌ）、およびＩＰＡ（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５２）（２９．２ｇ；９５％）を得た。
第６工程
化合物（Ｔ－５２）（２９．２ｇ）、およびＴＨＦ（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、－７０℃まで冷却した。リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）（１．１Ｍ；ＴＨＦ溶液；９２．５ｍｌ）をゆっくり滴下した。１時間撹拌し、そこへベンジルクロロメチルエーテル（１６．０ｇ）を滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５３）（３１．５ｇ；８０％）を得た。
化合物（Ｔ－５２）（２９．２ｇ）、およびＴＨＦ（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、－７０℃まで冷却した。リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）（１．１Ｍ；ＴＨＦ溶液；９２．５ｍｌ）をゆっくり滴下した。１時間撹拌し、そこへベンジルクロロメチルエーテル（１６．０ｇ）を滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５３）（３１．５ｇ；８０％）を得た。
第７工程
化合物（Ｔ－５３）（３１．５ｇ）、水酸化パラジウム（０．２８ｇ）、トルエン（２５０ｍｌ）、およびＩＰＡ（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－５４）（２３．３ｇ；９２％）を得た。
化合物（Ｔ－５３）（３１．５ｇ）、水酸化パラジウム（０．２８ｇ）、トルエン（２５０ｍｌ）、およびＩＰＡ（２５０ｍｌ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－５４）（２３．３ｇ；９２％）を得た。
第８工程
化合物（Ｔ－５４）（２３．３ｇ）、３,４-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン（５．８ｇ）、ＰＰＴＳ（p-トルエンスルホン酸ピリジニウム）（１．５ｇ）、およびジクロロメタン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、室温で８時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５５）（２５．４ｇ；８９％）を得た。
化合物（Ｔ－５４）（２３．３ｇ）、３,４-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン（５．８ｇ）、ＰＰＴＳ（p-トルエンスルホン酸ピリジニウム）（１．５ｇ）、およびジクロロメタン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、室温で８時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５５）（２５．４ｇ；８９％）を得た。
第９工程
水素化リチウムアルミニウム（ＬＡＨ）（１．２ｇ）、およびＴＨＦ（３００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、化合物（Ｔ－５５）（２５．４ｇ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液をゆっくり滴下し、室温に戻しつつ３時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－５６）（１９．２ｇ；８３％）を得た。
水素化リチウムアルミニウム（ＬＡＨ）（１．２ｇ）、およびＴＨＦ（３００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、化合物（Ｔ－５５）（２５．４ｇ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液をゆっくり滴下し、室温に戻しつつ３時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ－５６）（１９．２ｇ；８３％）を得た。
第１０工程
化合物（Ｔ－５６）（１９．２ｇ）、トリエチルアミン（７．６ｍｌ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（５．３ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５７）（１７．９ｇ；８０％）を得た。
化合物（Ｔ－５６）（１９．２ｇ）、トリエチルアミン（７．６ｍｌ）およびＴＨＦ（２００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへメタクリロイルクロリド（５．３ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、化合物（Ｔ－５７）（１７．９ｇ；８０％）を得た。
第１１工程
化合物（Ｔ－５７）（１７．９ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（４．６ｇ）、ＴＨＦ（２００ｍｌ）およびメタノール（２００ｍｌ）を反応器に入れ、５０℃で６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－２４－２）（１２．４ｇ；８４％）を得た。
化合物（Ｔ－５７）（１７．９ｇ）、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（４．６ｇ）、ＴＨＦ（２００ｍｌ）およびメタノール（２００ｍｌ）を反応器に入れ、５０℃で６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（１－２４－２）（１２．４ｇ；８４％）を得た。
得られた化合物（１－２４－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１３－７．０９（ｍ，４Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３－４．３０（ｍ，１Ｈ）、４．２３－４．２０（ｍ，１Ｈ）、３．６５－３．６２（ｍ，１Ｈ）、３．５８－３．５４（ｍ，１Ｈ）、２．６６（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５－２．３９（ｍ，１Ｈ）、１．９４－１．８１（ｍ，８Ｈ）、１．７４－１．６０（ｍ，２Ｈ）、１．４６－
１．１９（ｍ，１２Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１３－７．０９（ｍ，４Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３３－４．３０（ｍ，１Ｈ）、４．２３－４．２０（ｍ，１Ｈ）、３．６５－３．６２（ｍ，１Ｈ）、３．５８－３．５４（ｍ，１Ｈ）、２．６６（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５－２．３９（ｍ，１Ｈ）、１．９４－１．８１（ｍ，８Ｈ）、１．７４－１．６０（ｍ，２Ｈ）、１．４６－
１．１９（ｍ，１２Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－２４－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ －２４．７ Ｉ．
転移温度：Ｃ －２４．７ Ｉ．
［合成例１７］
化合物（１－５－２）の合成
化合物（１－５－２）の合成
第１工程
化合物（１－２４－２）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－５８）（２．１ｇ；７４％）を得た。
化合物（１－２４－２）（２．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－５８）（２．１ｇ；７４％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－５８）（２．１ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－５－２）（１．４ｇ；７８％）を得た。
化合物（Ｔ－５８）（２．１ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－５－２）（１．４ｇ；７８％）を得た。
得られた化合物（１－５－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１４－７．０８（ｍ，４Ｈ）、６．２４（ｓ，１Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．８５（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３２（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ）、４．２７－４．１８（ｍ，４Ｈ）、２．６７（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５－２．４０（ｍ，２Ｈ）、２．１８－２．１２（ｍ，１Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、１．８８－１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．７７－１．７２（ｍ，２Ｈ）、１．４６－１．３８（ｍ，２Ｈ）、１．３４－１．１９
（ｍ，９Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１４－７．０８（ｍ，４Ｈ）、６．２４（ｓ，１Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．８５（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３２（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ）、４．２７－４．１８（ｍ，４Ｈ）、２．６７（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５－２．４０（ｍ，２Ｈ）、２．１８－２．１２（ｍ，１Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、１．８８－１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．７７－１．７２（ｍ，２Ｈ）、１．４６－１．３８（ｍ，２Ｈ）、１．３４－１．１９
（ｍ，９Ｈ）、１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－５－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ －３０．２ ＳＡ －２６．３ Ｉ．
転移温度：Ｃ －３０．２ ＳＡ －２６．３ Ｉ．
［合成例１８］
化合物（１－２５－２）の合成
化合物（１－２５－２）の合成
第１工程
メトキシメチル－トリフェニルホスホニウムクロリド（８４．２ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却した。カリウムｔ－ブトキシド（２７．６ｇ）を加え、１時間撹拌した。そこへ、化合物（Ｔ－２９）（５０．０ｇ）のＴＨＦ（５００ｍｌ）溶液を滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：４）で精製して、化合物（Ｔ－５９）（４６．３ｇ；８３％）を得た。
メトキシメチル－トリフェニルホスホニウムクロリド（８４．２ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却した。カリウムｔ－ブトキシド（２７．６ｇ）を加え、１時間撹拌した。そこへ、化合物（Ｔ－２９）（５０．０ｇ）のＴＨＦ（５００ｍｌ）溶液を滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：４）で精製して、化合物（Ｔ－５９）（４６．３ｇ；８３％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－５９）（４６．３ｇ）、p-トルエンスルホン酸（ＰＴＳＡ）（３．２ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、１００℃で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－６０）（４９．２ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－５９）（４６．３ｇ）、p-トルエンスルホン酸（ＰＴＳＡ）（３．２ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、１００℃で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－６０）（４９．２ｇ；９５％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－６０）（４９．２ｇ）、ギ酸（７４．４ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、室温で８時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、重曹水で中和した。水層をトルエンで抽出し、一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－６１）（３５．０ｇ；８４％）を得た。
化合物（Ｔ－６０）（４９．２ｇ）、ギ酸（７４．４ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、室温で８時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、重曹水で中和した。水層をトルエンで抽出し、一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－６１）（３５．０ｇ；８４％）を得た。
第４工程
メトキシメチル－トリフェニルホスホニウムクロリド（５５．７ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却した。カリウムｔ－ブトキシド（１８．２ｇ）を加え、１時間撹拌した。そこへ、化合物（Ｔ－６１）（３５．０ｇ）のＴＨＦ（５００ｍｌ）溶液を滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：４）で精製して、化合物（Ｔ－６２）（３６．５ｇ；９４％）を得た。
メトキシメチル－トリフェニルホスホニウムクロリド（５５．７ｇ）、およびＴＨＦ（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、－３０℃まで冷却した。カリウムｔ－ブトキシド（１８．２ｇ）を加え、１時間撹拌した。そこへ、化合物（Ｔ－６１）（３５．０ｇ）のＴＨＦ（５００ｍｌ）溶液を滴下し、室温に戻しつつ５時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：４）で精製して、化合物（Ｔ－６２）（３６．５ｇ；９４％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－６２）（３６．５ｇ）、ギ酸（５８．６ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、１００℃で４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、重曹水で中和した。水層をトルエンで抽出し、一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－６３）（３３．０ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－６２）（３６．５ｇ）、ギ酸（５８．６ｇ）、およびトルエン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、１００℃で４時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、重曹水で中和した。水層をトルエンで抽出し、一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ－６３）（３３．０ｇ；９５％）を得た。
第６工程
化合物（Ｔ－６３）（３３．０ｇ）を原料として用い、合成例１６の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６４）（３８．２ｇ；９２％）を得た。
化合物（Ｔ－６３）（３３．０ｇ）を原料として用い、合成例１６の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６４）（３８．２ｇ；９２％）を得た。
第７工程
化合物（Ｔ－６４）（３８．２ｇ）を原料として用い、合成例１６の第５工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６５）（１８．７ｇ；４８％）を得た。
化合物（Ｔ－６４）（３８．２ｇ）を原料として用い、合成例１６の第５工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６５）（１８．７ｇ；４８％）を得た。
第８工程
化合物（Ｔ－６５）（１８．７ｇ）を原料として用い、合成例１６の第６工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６６）（２１．５ｇ；８５％）を得た。
化合物（Ｔ－６５）（１８．７ｇ）を原料として用い、合成例１６の第６工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６６）（２１．５ｇ；８５％）を得た。
第９工程
化合物（Ｔ－６６）（２１．５ｇ）を原料として用い、合成例１６の第７工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６７）（１５．６ｇ；９０％）を得た。
化合物（Ｔ－６６）（２１．５ｇ）を原料として用い、合成例１６の第７工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６７）（１５．６ｇ；９０％）を得た。
第１０工程
化合物（Ｔ－６７）（１５．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第８工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６８）（１６．８ｇ；８８％）を得た。
化合物（Ｔ－６７）（１５．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第８工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６８）（１６．８ｇ；８８％）を得た。
第１１工程
化合物（Ｔ－６８）（１６．８ｇ）を原料として用い、合成例１６の第９工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６９）（１３．０ｇ；８５％）を得た。
化合物（Ｔ－６８）（１６．８ｇ）を原料として用い、合成例１６の第９工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－６９）（１３．０ｇ；８５％）を得た。
第１２工程
化合物（Ｔ－６９）（１３．０ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１０工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７０）（１１．６ｇ；７７％）を得た。
化合物（Ｔ－６９）（１３．０ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１０工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７０）（１１．６ｇ；７７％）を得た。
第１３工程
化合物（Ｔ－７０）（１１．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１１工程と同様の手法により、化合物（１－２５－２）（７．８ｇ；８２％）を得た。
化合物（Ｔ－７０）（１１．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１１工程と同様の手法により、化合物（１－２５－２）（７．８ｇ；８２％）を得た。
得られた化合物（１－２５－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１１－７．０８（ｍ，４Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３１－４．２８（ｍ，１Ｈ）、４．１９－４．１６（ｍ，１Ｈ）、３．６３－３．６０（ｍ，１Ｈ）、３．５５－３．５２（ｍ，１Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、１．８９－１．８１（ｍ，５Ｈ）、１．６２－１．５６（ｍ，２Ｈ）、１．４７－１．２８（ｍ，１２Ｈ）、１．０９－１．０１（ｍ，２Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１１－７．０８（ｍ，４Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．３１－４．２８（ｍ，１Ｈ）、４．１９－４．１６（ｍ，１Ｈ）、３．６３－３．６０（ｍ，１Ｈ）、３．５５－３．５２（ｍ，１Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、１．８９－１．８１（ｍ，５Ｈ）、１．６２－１．５６（ｍ，２Ｈ）、１．４７－１．２８（ｍ，１２Ｈ）、１．０９－１．０１（ｍ，２Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－２５－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ＜－５０ Ｉ．
転移温度：Ｃ ＜－５０ Ｉ．
［合成例１９］
化合物（１－６－２）の合成
化合物（１－６－２）の合成
第１工程
化合物（１－２５－２）（３．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７１）（３．２ｇ；７５％）を得た。
化合物（１－２５－２）（３．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７１）（３．２ｇ；７５％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－７１）（３．２ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－６－２）（１．９ｇ；７０％）を得た。
化合物（Ｔ－７１）（３．２ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－６－２）（１．９ｇ；７０％）を得た。
得られた化合物（１－６－２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１２－７．０８（ｍ，４Ｈ）、６．２６（ｓ，１Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．８６（ｓ，１Ｈ）、５．５８（ｓ，１Ｈ）、４．３４（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２６－４．１４（ｍ，４Ｈ）、２．５５（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５－２．４０（ｍ，１Ｈ）、２．３４
（ｓ，１Ｈ）、２．１３－２．０８（ｍ，１Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、１．９０－１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．６３－１．５６（ｍ，２Ｈ）、１．４８－１．３９（ｍ，４Ｈ）、１．３５－１．２７（ｍ，７Ｈ）、１．０９－１．０１（ｍ，２Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１２－７．０８（ｍ，４Ｈ）、６．２６（ｓ，１Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．８６（ｓ，１Ｈ）、５．５８（ｓ，１Ｈ）、４．３４（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２６－４．１４（ｍ，４Ｈ）、２．５５（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５－２．４０（ｍ，１Ｈ）、２．３４
（ｓ，１Ｈ）、２．１３－２．０８（ｍ，１Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、１．９０－１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．６３－１．５６（ｍ，２Ｈ）、１．４８－１．３９（ｍ，４Ｈ）、１．３５－１．２７（ｍ，７Ｈ）、１．０９－１．０１（ｍ，２Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（１－６－２）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ３５．９ Ｉ．
転移温度：Ｃ ３５．９ Ｉ．
［合成例２０］
化合物（１－２８－１）の合成
化合物（１－２８－１）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－７２）（５０．０ｇ）を原料として用い、合成例６の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７３）（３１．８ｇ；７０％）を得た。
化合物（Ｔ－７２）（５０．０ｇ）を原料として用い、合成例６の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７３）（３１．８ｇ；７０％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－７３）（３１．８ｇ）を原料として用い、合成例６の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７４）（２６．２ｇ；７２％）を得た。
化合物（Ｔ－７３）（３１．８ｇ）を原料として用い、合成例６の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７４）（２６．２ｇ；７２％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－７４）（２６．２ｇ）を原料として用い、合成例６の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７５）（１０．１ｇ；４６％）を得た。
化合物（Ｔ－７４）（２６．２ｇ）を原料として用い、合成例６の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７５）（１０．１ｇ；４６％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－７５）（１０．１ｇ）を原料として用い、合成例６の第４工程と同様の手法により、化合物（１－２８－１）（３．８ｇ；３２％）を得た。
化合物（Ｔ－７５）（１０．１ｇ）を原料として用い、合成例６の第４工程と同様の手法により、化合物（１－２８－１）（３．８ｇ；３２％）を得た。
得られた化合物（１－２８－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１８－７．１６（ｍ，４Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．４７－４．３８（ｍ，２Ｈ）、３．９１－３．８３（ｍ，２Ｈ）、３．２０－３．１４（ｍ，１Ｈ）、２．４５－２．４０（ｍ，１Ｈ）、１．９７－１．７２（ｍ，１２Ｈ）、１．４２－０．８２（ｍ，２２Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１８－７．１６（ｍ，４Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．４７－４．３８（ｍ，２Ｈ）、３．９１－３．８３（ｍ，２Ｈ）、３．２０－３．１４（ｍ，１Ｈ）、２．４５－２．４０（ｍ，１Ｈ）、１．９７－１．７２（ｍ，１２Ｈ）、１．４２－０．８２（ｍ，２２Ｈ）．
化合物（１－２８－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ４６．３ Ｉ．
転移温度：Ｃ ４６．３ Ｉ．
［合成例２１］
化合物（１－９－１）の合成
化合物（１－９－１）の合成
第１工程
化合物（１－２８－１）（３．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７６）（３．１ｇ；７５％）を得た
化合物（１－２８－１）（３．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－７６）（３．１ｇ；７５％）を得た
第２工程
化合物（Ｔ－７６）（３．１ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－９－１）（１．９ｇ；７１％）を得た。
化合物（Ｔ－７６）（３．１ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－９－１）（１．９ｇ；７１％）を得た。
得られた化合物（１－９－１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１７（ｓ，４Ｈ）、６．２１（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．８０（ｓ，１Ｈ）、５．５６（ｓ，１Ｈ）、４．４６－４．３９（ｍ，４Ｈ）、４．２７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、３．４２－３．３７（ｍ，１Ｈ）、２．４５－２．３９（ｍ，１Ｈ）、２．１２（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、１．９１－１．７２（ｍ，１１Ｈ）、１．４６－０．９５（ｍ，１６Ｈ）、０．８９－０．８２（ｍ，５Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．１７（ｓ，４Ｈ）、６．２１（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．８０（ｓ，１Ｈ）、５．５６（ｓ，１Ｈ）、４．４６－４．３９（ｍ，４Ｈ）、４．２７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、３．４２－３．３７（ｍ，１Ｈ）、２．４５－２．３９（ｍ，１Ｈ）、２．１２（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、１．９１－１．７２（ｍ，１１Ｈ）、１．４６－０．９５（ｍ，１６Ｈ）、０．８９－０．８２（ｍ，５Ｈ）．
化合物（１－９－１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ８０．０ Ｉ．
転移温度：Ｃ ８０．０ Ｉ．
［合成例２２］
化合物（１－２３－４）の合成
化合物（１－２３－４）の合成
第１工程
化合物（Ｔ－７７）（５０．０ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（４８．３ｇ）およびトルエン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、ナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（７３．３ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－７８）（６０．７ｇ；９７％）を得た。
化合物（Ｔ－７７）（５０．０ｇ）、ホスホノ酢酸トリエチル（４８．３ｇ）およびトルエン（５００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃まで冷却した。そこへ、ナトリウムエトキシド（２０％エタノール溶液）（７３．３ｇ）をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ６時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ－７８）（６０．７ｇ；９７％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－７８）（６０．７ｇ）、Ｐｄ／Ｃ（０．５１ｇ）、トルエン（５００ｍｌ）、およびＩＰＡ（５０ｍｌ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、さらにソルミックスからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ－７９）（３３．６ｇ；５５％）を得た。
化合物（Ｔ－７８）（６０．７ｇ）、Ｐｄ／Ｃ（０．５１ｇ）、トルエン（５００ｍｌ）、およびＩＰＡ（５０ｍｌ）を反応器に入れ、水素雰囲気下で１２時間攪拌した。不溶物を濾別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：ヘプタン＝９：１）で精製して、さらにソルミックスからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ－７９）（３３．６ｇ；５５％）を得た。
第３工程
化合物（Ｔ－７９）（３３．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第６工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８０）（３８．８ｇ；８６％）を得た。
化合物（Ｔ－７９）（３３．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第６工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８０）（３８．８ｇ；８６％）を得た。
第４工程
化合物（Ｔ－８０）（３８．８ｇ）を原料として用い、合成例１６の第７工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８１）（２９．８ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－８０）（３８．８ｇ）を原料として用い、合成例１６の第７工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８１）（２９．８ｇ；９５％）を得た。
第５工程
化合物（Ｔ－８１）（２９．８ｇ）を原料として用い、合成例１６の第８工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８２）（３４．６ｇ；９５％）を得た。
化合物（Ｔ－８１）（２９．８ｇ）を原料として用い、合成例１６の第８工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８２）（３４．６ｇ；９５％）を得た。
第６工程
化合物（Ｔ－８２）（３４．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第９工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８３）（３０．５ｇ；９７％）を得た。
化合物（Ｔ－８２）（３４．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第９工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８３）（３０．５ｇ；９７％）を得た。
第７工程
化合物（Ｔ－８３）（３０．５ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１０工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８４）（２６．６ｇ；７５％）を得た。
化合物（Ｔ－８３）（３０．５ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１０工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８４）（２６．６ｇ；７５％）を得た。
第８工程
化合物（Ｔ－８４）（２６．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１１工程と同様の手法により、化合物（１－２３－４）（１８．３ｇ；８３％）を得た。
化合物（Ｔ－８４）（２６．６ｇ）を原料として用い、合成例１６の第１１工程と同様の手法により、化合物（１－２３－４）（１８．３ｇ；８３％）を得た。
得られた化合物（１－２３－４）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．４０－４．３７（ｍ，１Ｈ）、４．２４－４．２０（ｍ，１Ｈ）、３．６９－３．６１（ｍ，２Ｈ）、１．９－１．９４（ｍ，４Ｈ）、１．７８－１．５８（ｍ，９Ｈ）、１．４３－１．３７（ｍ，１Ｈ）、１．３２－１．０２（ｍ，１７Ｈ）、０．９０－０．７９（ｍ，９Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ）、４．４０－４．３７（ｍ，１Ｈ）、４．２４－４．２０（ｍ，１Ｈ）、３．６９－３．６１（ｍ，２Ｈ）、１．９－１．９４（ｍ，４Ｈ）、１．７８－１．５８（ｍ，９Ｈ）、１．４３－１．３７（ｍ，１Ｈ）、１．３２－１．０２（ｍ，１７Ｈ）、０．９０－０．７９（ｍ，９Ｈ）．
化合物（１－２３－４）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ５４．５ ＳＡ ８１．０ Ｉ．
転移温度：Ｃ ５４．５ ＳＡ ８１．０ Ｉ．
［合成例２３］
化合物（１－４－５）の合成
化合物（１－４－５）の合成
第１工程
化合物（１－２３－４）（３．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８５）（３．３ｇ；７８％）を得た。
化合物（１－２３－４）（３．０ｇ）を原料として用い、合成例５の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ－８５）（３．３ｇ；７８％）を得た。
第２工程
化合物（Ｔ－８５）（３．３ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－４－５）（２．１ｇ；７５％）を得た。
化合物（Ｔ－８５）（３．３ｇ）を原料として用い、合成例５の第４工程と同様の手法により、化合物（１－４－５）（２．１ｇ；７５％）を得た。
得られた化合物（１－４－５）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２４（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．８４（ｓ，１Ｈ）、５．５６（ｓ，１Ｈ）、４．３３－４．２８（ｍ，４Ｈ）、４．２０－４．１６（ｍ，２Ｈ）、２．２８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、１．９７－１．９１（ｍ，４Ｈ）、１．７９－１．６９（ｍ，８Ｈ）、１．４７－１．４１（ｍ，１Ｈ）、１．３２－１．０７（ｍ，１７Ｈ）、０．９０－０．８２（ｍ，９Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．２４（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．８４（ｓ，１Ｈ）、５．５６（ｓ，１Ｈ）、４．３３－４．２８（ｍ，４Ｈ）、４．２０－４．１６（ｍ，２Ｈ）、２．２８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、１．９７－１．９１（ｍ，４Ｈ）、１．７９－１．６９（ｍ，８Ｈ）、１．４７－１．４１（ｍ，１Ｈ）、１．３２－１．０７（ｍ，１７Ｈ）、０．９０－０．８２（ｍ，９Ｈ）．
化合物（１－４－５）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ ６４．０ Ｉ．
転移温度：Ｃ ６４．０ Ｉ．
組成物の実施例を以下に示す。成分化合物は、下記の表３の定義に基づいて記号によって表した。表３において、１，４－シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。記号の後にあるかっこ内の番号は化合物が属する化学式を表す。（－）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、組成物の特性値をまとめた。
表３ 記号を用いた化合物の表記法
Ｒ－（Ａ１）－Ｚ１－・・・・・Ｚｎ－（Ａｎ）－Ｒ’
Ｒ－（Ａ１）－Ｚ１－・・・・・Ｚｎ－（Ａｎ）－Ｒ’
素子の実施例
１．原料
配向膜を有しない素子に、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を添加した組成物を注入した。紫外線を照射したあと、この素子における液晶分子の垂直配向を検討した。最初に原料を説明する。原料は、組成物（Ｍ１）から（Ｍ１８）、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（ＰＣ－１）から（ＰＣ－２８）、重合性化合物（ＲＭ－１）から（ＲＭ－８）であり、この順にリストアップする。
１．原料
配向膜を有しない素子に、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を添加した組成物を注入した。紫外線を照射したあと、この素子における液晶分子の垂直配向を検討した。最初に原料を説明する。原料は、組成物（Ｍ１）から（Ｍ１８）、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（ＰＣ－１）から（ＰＣ－２８）、重合性化合物（ＲＭ－１）から（ＲＭ－８）であり、この順にリストアップする。
［組成物Ｍ１］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
３－Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－５） ３％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） １０％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） １０％
２－ＨＨ－３ （３－１） １４％
３－ＨＢ－Ｏ１ （３－２） ５％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ３％
３－ＨＨＢ－３ （３－５） ４％
２－ＢＢ（Ｆ）Ｂ－３ （３－８） ４％
ＮＩ＝７３．２℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１１３；Δε＝－４．０；Ｖｔｈ＝２．１８Ｖ；η＝２２．６ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
３－Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－５） ３％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） １０％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） １０％
２－ＨＨ－３ （３－１） １４％
３－ＨＢ－Ｏ１ （３－２） ５％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ３％
３－ＨＨＢ－３ （３－５） ４％
２－ＢＢ（Ｆ）Ｂ－３ （３－８） ４％
ＮＩ＝７３．２℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１１３；Δε＝－４．０；Ｖｔｈ＝２．１８Ｖ；η＝２２．６ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ２］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ６％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ７％
５－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
２－ＨＨ－３ （３－１） １２％
１－ＢＢ－５ （３－３） １２％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ３％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ３％
ＮＩ＝８２．８℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１８；Δε＝－４．４；Ｖｔｈ＝２．１３Ｖ；η＝２２．５ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ６％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ７％
５－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
２－ＨＨ－３ （３－１） １２％
１－ＢＢ－５ （３－３） １２％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ３％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ３％
ＮＩ＝８２．８℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１８；Δε＝－４．４；Ｖｔｈ＝２．１３Ｖ；η＝２２．５ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ３］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ４％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ５％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２７％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
ＮＩ＝７８．１℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１０７；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．０２Ｖ；η＝１５．９ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ４％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ５％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２７％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
ＮＩ＝７８．１℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１０７；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．０２Ｖ；η＝１５．９ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ４］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
５－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ５％
３－ＨＨ－４ （３－１） １４％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） １０％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ７％
ＮＩ＝８８．５℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１０８；Δε＝－３．８；Ｖｔｈ＝２．２５Ｖ；η＝２４．６ｍＰａ・ｓ；
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
５－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ５％
３－ＨＨ－４ （３－１） １４％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） １０％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ７％
ＮＩ＝８８．５℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１０８；Δε＝－３．８；Ｖｔｈ＝２．２５Ｖ；η＝２４．６ｍＰａ・ｓ；
［組成物Ｍ５］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ８％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－１ （２－６） ６％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２
（２－１１） ３％
３－Ｈ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）－５ （２－１４） ３％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ５％
３－ＨＨ－Ｏ１ （３－１） ５％
１－ＢＢ－５ （３－３） ４％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
５－ＨＢ（Ｆ）ＢＨ－３ （３－１２） ５％
ＮＩ＝８１．１℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１９；Δε＝－４．５；Ｖｔｈ＝１．６９Ｖ；η＝３１．４ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ８％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－１ （２－６） ６％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２
（２－１１） ３％
３－Ｈ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）－５ （２－１４） ３％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ５％
３－ＨＨ－Ｏ１ （３－１） ５％
１－ＢＢ－５ （３－３） ４％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
５－ＨＢ（Ｆ）ＢＨ－３ （３－１２） ５％
ＮＩ＝８１．１℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１９；Δε＝－４．５；Ｖｔｈ＝１．６９Ｖ；η＝３１．４ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ６］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） １５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１７） ５％
３－ｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１８） ７％
２－ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１９） ８％
５－ＨＨ－Ｖ （３－１） １８％
７－ＨＢ－１ （３－２） ５％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ７％
Ｖ２－ＨＨＢ－１ （３－５） ７％
３－ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ－３ （３－１３） ８％
ＮＩ＝９８．８℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１１；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．４７Ｖ；η＝２３．９ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） １５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１７） ５％
３－ｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１８） ７％
２－ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１９） ８％
５－ＨＨ－Ｖ （３－１） １８％
７－ＨＢ－１ （３－２） ５％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ７％
Ｖ２－ＨＨＢ－１ （３－５） ７％
３－ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ－３ （３－１３） ８％
ＮＩ＝９８．８℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１１；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．４７Ｖ；η＝２３．９ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ７］
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） １８％
５－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） １７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１２） ５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１３） ８％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１３） ７％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ５％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １１％
３－ＨＨ－ＶＦＦ （３－１） ７％
Ｆ３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １０％
３－ＨＨＥＨ－３ （３－４） ４％
３－ＨＢ（Ｆ）ＨＨ－２ （３－１０） ４％
３－ＨＨＥＢＨ－３ （３－１１） ４％
ＮＩ＝７７．５℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．０８４；Δε＝－２．６；Ｖｔｈ＝２．４３Ｖ；η＝２２．８ｍＰａ・ｓ．
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） １８％
５－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） １７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１２） ５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１３） ８％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１３） ７％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ５％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １１％
３－ＨＨ－ＶＦＦ （３－１） ７％
Ｆ３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １０％
３－ＨＨＥＨ－３ （３－４） ４％
３－ＨＢ（Ｆ）ＨＨ－２ （３－１０） ４％
３－ＨＨＥＢＨ－３ （３－１１） ４％
ＮＩ＝７７．５℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．０８４；Δε＝－２．６；Ｖｔｈ＝２．４３Ｖ；η＝２２．８ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ８］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ８％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） １０％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２Ｏ－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－１ （２－６） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ６％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－４ （２－９） ６％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）－５ （２－１５） ４％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ６％
３－ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１７） ４％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １１％
１－ＢＢ－５ （３－３） ５％
ＮＩ＝７０．６℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１２９；Δε＝－４．３；Ｖｔｈ＝１．６９Ｖ；η＝２７．０ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ８％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） １０％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２Ｏ－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－１ （２－６） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ６％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－４ （２－９） ６％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）－５ （２－１５） ４％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ６％
３－ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１７） ４％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １１％
１－ＢＢ－５ （３－３） ５％
ＮＩ＝７０．６℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１２９；Δε＝－４．３；Ｖｔｈ＝１．６９Ｖ；η＝２７．０ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ９］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） １４％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ３％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ６％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １４％
１－ＢＢ－３ （３－３） ３％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ４％
Ｖ－ＨＢＢ－２ （３－６） ４％
１－ＢＢ（Ｆ）Ｂ－２Ｖ （３－８） ６％
５－ＨＢＢＨ－１Ｏ１ （－） ４％
ＮＩ＝９３．０℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１２３；Δε＝－４．０；Ｖｔｈ＝２．２７Ｖ；η＝２９．６ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） １４％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ３％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ６％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １４％
１－ＢＢ－３ （３－３） ３％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ４％
Ｖ－ＨＢＢ－２ （３－６） ４％
１－ＢＢ（Ｆ）Ｂ－２Ｖ （３－８） ６％
５－ＨＢＢＨ－１Ｏ１ （－） ４％
ＮＩ＝９３．０℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１２３；Δε＝－４．０；Ｖｔｈ＝２．２７Ｖ；η＝２９．６ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１０］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ６％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ５％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １１％
１－ＢＢ－３ （３－３） ６％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ４％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ４％
３－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ４％
ＮＩ＝８７．６℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１２６；Δε＝－４．５；Ｖｔｈ＝２．２１Ｖ；η＝２５．３ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ６％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ５％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） １０％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） １１％
１－ＢＢ－３ （３－３） ６％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ４％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ４％
３－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ４％
ＮＩ＝８７．６℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１２６；Δε＝－４．５；Ｖｔｈ＝２．２１Ｖ；η＝２５．３ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１１］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ６％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） １０％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ８％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
２－ＨＨ－３ （３－１） １２％
１－ＢＢ－３ （３－３） ６％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ４％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ６％
３－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ３％
ＮＩ＝９３．０℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１２４；Δε＝－４．５；Ｖｔｈ＝２．２２Ｖ；η＝２５．０ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１） ６％
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） １０％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ８％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
２－ＨＨ－３ （３－１） １２％
１－ＢＢ－３ （３－３） ６％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ４％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ６％
３－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ３％
ＮＩ＝９３．０℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１２４；Δε＝－４．５；Ｖｔｈ＝２．２２Ｖ；η＝２５．０ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１２］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ３３％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
ＮＩ＝７６．４℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１０４；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．０６Ｖ；η＝１５．６ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ３３％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
ＮＩ＝７６．４℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１０４；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．０６Ｖ；η＝１５．６ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１３］
２－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ６％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
２－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） １４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） １１％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ９％
２－ＨＨ－３ （３－１） ５％
３－ＨＨ－ＶＦＦ （３－１） ３０％
１－ＢＢ－３ （３－３） ５％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ３％
ＮＩ＝７８．３℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．１７Ｖ；η＝１７．７ｍＰａ・ｓ．
２－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ６％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
２－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） １４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ７％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） １１％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ９％
２－ＨＨ－３ （３－１） ５％
３－ＨＨ－ＶＦＦ （３－１） ３０％
１－ＢＢ－３ （３－３） ５％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ３％
ＮＩ＝７８．３℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．１７Ｖ；η＝１７．７ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１４］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ５％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ９％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２７％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ５％
ＮＩ＝８１．２℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０７；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．１１Ｖ；η＝１５．５ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ５％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ７％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
５－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ４％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ９％
４－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
５－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ８％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２７％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ５％
ＮＩ＝８１．２℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０７；Δε＝－３．２；Ｖｔｈ＝２．１１Ｖ；η＝１５．５ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１５］
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ８％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ７％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－４ （２－９） ７％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ３％
５－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ４％
２－ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１９） ８％
４－ＨＨ－Ｖ （３－１） １５％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
１－ＨＨ－２Ｖ１ （３－１） ６％
３－ＨＨ－２Ｖ１ （３－１） ４％
Ｖ２－ＢＢ－１ （３－３） ５％
１Ｖ２－ＢＢ－１ （３－３） ５％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ６％
３－ＨＢ（Ｆ）ＢＨ－３ （３－１２） ４％
ＮＩ＝８８．７℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１５；Δε＝－１．９；Ｖｔｈ＝２．８２Ｖ；η＝１７．３ｍＰａ・ｓ．
３－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ８％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ５％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－３ （２－９） ７％
２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－４ （２－９） ７％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ３％
５－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ４％
２－ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１９） ８％
４－ＨＨ－Ｖ （３－１） １５％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
１－ＨＨ－２Ｖ１ （３－１） ６％
３－ＨＨ－２Ｖ１ （３－１） ４％
Ｖ２－ＢＢ－１ （３－３） ５％
１Ｖ２－ＢＢ－１ （３－３） ５％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ６％
３－ＨＢ（Ｆ）ＢＨ－３ （３－１２） ４％
ＮＩ＝８８．７℃；Ｔｃ＜－３０℃；Δｎ＝０．１１５；Δε＝－１．９；Ｖｔｈ＝２．８２Ｖ；η＝１７．３ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１６］
Ｖ２－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
Ｖ２－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ７％
５－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ４％
Ｖ－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ６％
Ｖ２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１０） ６％
２－ＨＨ－３ （３－１） １２％
１－ＢＢ－５ （３－３） １２％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ３％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ３％
ＮＩ＝８９．９℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１２２；Δε＝－４．２；Ｖｔｈ＝２．１６Ｖ；η＝２３．４ｍＰａ・ｓ．
Ｖ２－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ８％
Ｖ２－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－３） ４％
３－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ７％
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ７％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ７％
５－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ４％
Ｖ－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ６％
Ｖ２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１０） ６％
２－ＨＨ－３ （３－１） １２％
１－ＢＢ－５ （３－３） １２％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ４％
３－ＨＨＢ－Ｏ１ （３－５） ３％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ３％
ＮＩ＝８９．９℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１２２；Δε＝－４．２；Ｖｔｈ＝２．１６Ｖ；η＝２３．４ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１７］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ３％
Ｖ－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ３％
Ｖ２－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ５％
５－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ５％
Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
１Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－６） ５％
Ｖ２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－１ （２－９） ４％
Ｖ２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１２） ３％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２７％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
ＮＩ＝７７．１℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０１；Δε＝－３．０；Ｖｔｈ＝２．０４Ｖ；η＝１３．９ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ３％
Ｖ－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ３％
Ｖ２－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ５％
５－Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２） ５％
Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
１Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－６） ５％
Ｖ２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ４％
Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ－１ （２－９） ４％
Ｖ２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ４％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１２） ３％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２７％
３－ＨＨ－Ｖ１ （３－１） ６％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ３％
ＮＩ＝７７．１℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０１；Δε＝－３．０；Ｖｔｈ＝２．０４Ｖ；η＝１３．９ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１８］
Ｖ－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
Ｖ２－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
２－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ３％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ３％
２Ｏ－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
Ｖ２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１０） ８％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１２） ７％
３－ＨＨ－４ （３－１） １４％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） １０％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ７％
ＮＩ＝７５．９℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１１４；Δε＝－３．９；Ｖｔｈ＝２．２０Ｖ；η＝２４．７ｍＰａ・ｓ．
Ｖ－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
Ｖ２－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １０％
２－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ３％
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） ３％
２Ｏ－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ３％
Ｖ２－ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－４） ８％
Ｖ２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
２－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ３％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ６％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－１０） ８％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）－Ｏ２ （２－１２） ７％
３－ＨＨ－４ （３－１） １４％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） １０％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ７％
ＮＩ＝７５．９℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１１４；Δε＝－３．９；Ｖｔｈ＝２．２０Ｖ；η＝２４．７ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ１９］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １２％
２－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） １０％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ９％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ４％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－２２） ５％
２－ＨＨ－３ （３－１） ２５％
３－ＨＨ－４ （３－１） ６％
１－ＢＢ－３ （３－３） ４％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ９％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ７％
５－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ９％
ＮＩ＝７４．２℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝－２．５；Ｖｔｈ＝２．３６Ｖ；η＝１８．４ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １２％
２－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） １０％
３－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ９％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ４％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－２２） ５％
２－ＨＨ－３ （３－１） ２５％
３－ＨＨ－４ （３－１） ６％
１－ＢＢ－３ （３－３） ４％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ９％
３－ＨＢＢ－２ （３－６） ７％
５－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ９％
ＮＩ＝７４．２℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝－２．５；Ｖｔｈ＝２．３６Ｖ；η＝１８．４ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ２０］
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） １０％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
２－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ９％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ５％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－２２） ５％
２－ＨＨ－３ （３－１） ２２％
３－ＨＨ－４ （３－１） ５％
３－ＨＨ－５ （３－１） ３％
３－ＨＢ－Ｏ２ （３－２） １０％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ８％
３－ＨＨＢ－３ （３－５） ４％
５－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ５％
ＮＩ＝７４．９℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０２；Δε＝－２．８；Ｖｔｈ＝２．３０Ｖ；η＝１９．２ｍＰａ・ｓ．
３－Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－３） １０％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ５％
２－ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－８） ４％
３－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ５％
Ｖ－ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１０） ９％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ５％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－２２） ５％
２－ＨＨ－３ （３－１） ２２％
３－ＨＨ－４ （３－１） ５％
３－ＨＨ－５ （３－１） ３％
３－ＨＢ－Ｏ２ （３－２） １０％
３－ＨＨＢ－１ （３－５） ８％
３－ＨＨＢ－３ （３－５） ４％
５－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ５％
ＮＩ＝７４．９℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０２；Δε＝－２．８；Ｖｔｈ＝２．３０Ｖ；η＝１９．２ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ２１］
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １２％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ８％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ９％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ９％
３－ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１７） ７％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ５％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２９％
２－ＨＨ－３ （３－１） ２％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ５％
Ｖ－ＨＢＢ－２ （３－６） １４％
ＮＩ＝７６．５℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．０９８；Δε＝－３．０；Ｖｔｈ＝２．１５Ｖ；η＝１６．２ｍＰａ・ｓ．
３－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） １２％
５－ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１） ８％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ９％
３－ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１６） ９％
３－ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－１７） ７％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ５％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２９％
２－ＨＨ－３ （３－１） ２％
Ｖ－ＨＨＢ－１ （３－５） ５％
Ｖ－ＨＢＢ－２ （３－６） １４％
ＮＩ＝７６．５℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．０９８；Δε＝－３．０；Ｖｔｈ＝２．１５Ｖ；η＝１６．２ｍＰａ・ｓ．
［組成物Ｍ２２］
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ３％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ１ （２－６） ４％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） １０％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ９％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ７％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－２２） ７％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２０％
２－ＨＨ－３ （３－１） １０％
３－ＨＨ－４ （３－１） ６％
３－ＨＢ－Ｏ２ （３－２） ７％
１－ＢＢ－３ （３－３） ４％
５－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ７％
ＮＩ＝７５．３℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０２；Δε＝－２．６；Ｖｔｈ＝２．４１Ｖ；η＝１７．５ｍＰａ・ｓ．
２－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ３％
３－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） ６％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ１ （２－６） ４％
Ｖ－ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－６） １０％
３－ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－７） ９％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ２ （２－２２） ７％
２Ｏ－Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）－Ｏ４ （２－２２） ７％
３－ＨＨ－Ｖ （３－１） ２０％
２－ＨＨ－３ （３－１） １０％
３－ＨＨ－４ （３－１） ６％
３－ＨＢ－Ｏ２ （３－２） ７％
１－ＢＢ－３ （３－３） ４％
５－Ｂ（Ｆ）ＢＢ－２ （３－７） ７％
ＮＩ＝７５．３℃；Ｔｃ＜－２０℃；Δｎ＝０．１０２；Δε＝－２．６；Ｖｔｈ＝２．４１Ｖ；η＝１７．５ｍＰａ・ｓ．
以下の、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（ＰＣ－１）から（ＰＣ－２８）を第一添加物として使用した。
以下の重合性化合物（ＲＭ－１）から（ＲＭ－８）を第二添加物として使用した。
２．液晶分子の垂直配向
実施例１
組成物（Ｍ１）に分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（ＰＣ－１）を５重量％の割合で添加した。この混合物を１００℃のホットステージ上で２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４．０μｍである、配向膜を有しない素子に注入した。この素子に超高圧水銀ランプＵＳＨ－２５０－ＢＹ（ウシオ電機製）を用いて紫外線を照射（２８Ｊ）することによって、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（ＰＣ－１）を重合させた。この素子を偏光子と検光子が直行して配置された偏光顕微鏡にセットし、下から素子に光を照射し、光漏れの有無を観察した。液晶分子が充分に配向し、光が素子を通過しない場合は、垂直配向が「良好」と判断した。素子を通過した光が観察された場合は、「不良」と表した。
実施例１
組成物（Ｍ１）に分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（ＰＣ－１）を５重量％の割合で添加した。この混合物を１００℃のホットステージ上で２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４．０μｍである、配向膜を有しない素子に注入した。この素子に超高圧水銀ランプＵＳＨ－２５０－ＢＹ（ウシオ電機製）を用いて紫外線を照射（２８Ｊ）することによって、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物（ＰＣ－１）を重合させた。この素子を偏光子と検光子が直行して配置された偏光顕微鏡にセットし、下から素子に光を照射し、光漏れの有無を観察した。液晶分子が充分に配向し、光が素子を通過しない場合は、垂直配向が「良好」と判断した。素子を通過した光が観察された場合は、「不良」と表した。
実施例２から５５および比較例１～２
組成物および分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を組み合わせた混合物を用いて配向膜を有しない素子を作製した。実施例１と同様な方法で光漏れの有無を観察した。結果を表４および表５にまとめた。実施例１８では、０．５重量％の割合で重合性化合物（ＲＭ-１）も添加した。比較例１では、比較するために、特許文献５に記載の下記のような極性化合物（Ａ－１）を選んだ。この化合物は、分子末端からの分岐構造を有していないので、化合物（１－１）とは異なる。
組成物および分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物を組み合わせた混合物を用いて配向膜を有しない素子を作製した。実施例１と同様な方法で光漏れの有無を観察した。結果を表４および表５にまとめた。実施例１８では、０．５重量％の割合で重合性化合物（ＲＭ-１）も添加した。比較例１では、比較するために、特許文献５に記載の下記のような極性化合物（Ａ－１）を選んだ。この化合物は、分子末端からの分岐構造を有していないので、化合物（１－１）とは異なる。
表４ 液晶分子の垂直配向
表５ 液晶分子の垂直配向
表５ 液晶分子の垂直配向
表４および表５から分かるように、実施例１から５５では、組成物や第一添加物の種類および極性化合物の濃度を変えたが、光漏れは観察されなかった。この結果は、素子に配向膜がなくても垂直配向は良好であり、液晶分子が安定に配向していることを示している。実施例１８および４０では、第二添加物である重合性化合物（ＲＭ－１）をさらに添加したが、同様な結果が得られた。一方、比較例１および２では、光漏れが観察された。この結果は、垂直配向が良好ではなかったことを示している。
３．極性化合物の相溶性
上記実施例で得られた液晶組成物と第一添加物の混合物の室温状態における安定性を評価した。混合後に１００℃で等方化し２５℃に放冷した。室温で半日経過後に析出の有無を確認したところ、実施例１～５５の混合物は析出が確認されず、第一添加物の相溶性は良好であった。一方、比較例１～２の混合物は析出が確認され、極性化合物の相溶性は不良であった。
上記実施例で得られた液晶組成物と第一添加物の混合物の室温状態における安定性を評価した。混合後に１００℃で等方化し２５℃に放冷した。室温で半日経過後に析出の有無を確認したところ、実施例１～５５の混合物は析出が確認されず、第一添加物の相溶性は良好であった。一方、比較例１～２の混合物は析出が確認され、極性化合物の相溶性は不良であった。
上記の結果から、分子末端の分岐構造に重合性基と極性基を有する化合物から生成した重合体が液晶分子の垂直配向に重要な役割を果たし、液晶組成物との相溶性も向上させていることが分かる。このような傾向は、表４および表５で示された化合物（ＰＣ－１）から化合物（ＰＣ－２８）以外の合成例１から２３で示される化合物を用いても同様となる。したがって、本発明の液晶組成物を用いれば、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命などの特性を有するＡＭ素子が得られる。さらに、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性などの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物を有する液晶表示素子が得られる。
本発明の液晶組成物は、配向膜を有しない素子において、液晶分子の配向を制御することが可能であり、液晶プロジェクター、液晶モニター、液晶テレビなどに用いることができる。
Claims (23)
- 第一添加物として式（１－１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの極性化合物を含有し、そして負の誘電率異方性を有する液晶組成物。
式（１－１）において、
Ｒ１は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数１から１１のアルコキシ、または炭素数２から１１のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
Ｚ１は単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このＺ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｚ１において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく、Ｓｐ１において、少なくとも１つの水素は、式（１ａ）で表される基から選択された基で置き換えられていて；
式（１ａ）において、
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１２において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり：
Ｒ１２は炭素数１から１５のアルキルであり、このＲ１２において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく：
式（１－１）において、
Ｐ１１は、式（１ｅ）および式（１ｆ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｅ）および（１ｆ）において、
Ｓｐ１３は単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ１３において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、Ｓｐ１３において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、ハロゲン、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ１３は、式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）で表される基から選択された基であり；
式（１ｇ）、式（１ｈ）、および式（１ｉ）において、
Ｓｐ１４およびＳｐ１５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよく；
式（１ｇ）および式（１ｉ）において、Ｓ１は、＞ＣＨ－または＞Ｎ－であり、Ｓ２は、＞Ｃ＜または＞Ｓｉ＜であり；
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、－ＣＯＯＨ、－ＳＨ、－Ｂ（ＯＨ）２、または－Ｓｉ（Ｒ１５）３であり；
－ＯＲ１５、－Ｎ（Ｒ１５）２、および－Ｓｉ（Ｒ１５）３において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このＲ１５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、Ｒ１５において、少なくとも１つの水素は、ハロゲンで置き換えられてもよい。 - 第一添加物が式（１－２）から式（１－３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物である、請求項１に記載の液晶組成物。
式（１－２）および式（１－３）において、
Ｒ１は炭素数１から１２のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
環Ａ１および環Ａ２は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－２，６－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から８のアルキル、炭素数２から８のアルケニル、炭素数１から７のアルコキシ、または炭素数２から７のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、３、または４であり；
ｌは、０、１、２、３、４、５、または６であり、このアルキレンの少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ１２は単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ１１およびＭ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルであり；
Ｒ１２は水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－Ｓ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－（ＣＨ２）２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく：
Ｓｐ１３は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、または－ＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ１３およびＭ１４は独立して、水素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルであり；
Ｓｐ１４は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、または－ＣＯＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１は、－ＯＨまたは－Ｎ（Ｒ１５）２であり；
－Ｎ（Ｒ１５）２において、
Ｒ１５は水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよい。 - 第一添加物が式（１－４）から式（１－６０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物である、請求項１に記載の液晶組成物。
式（１－４）から式（１－６０）において、
Ｒ１は炭素数１から１０のアルキルであり；
Ｚ１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、または－（ＣＨ２）４－であり；
Ｓｐ１２、Ｓｐ１３、およびＳｐ１４は独立して、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく；
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１１、およびＬ１２は独立して、水素、フッ素、メチル、またはエチルであり；
ｌは、０、１、２、３、４、５、または６である。 - 液晶組成物の重量に基づいて、第一添加物の割合が１０重量％以下である、請求項１から３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
- 第一成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（２）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシであり；環Ｃおよび環Ｅは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロへキセニレン、１，４－フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４－フェニレン、またはテトラヒドロピラン－２，５－ジイルであり；環Ｄは、２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン、２－クロロ－３－フルオロ－１，４－フェニレン、２，３－ジフルオロ－５－メチル－１，４－フェニレン、３，４，５－トリフルオロナフタレン－２，６－ジイル、または７，８－ジフルオロクロマン－２，６－ジイルであり；Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－であり；ｂは、１、２、または３であり、ｃは０または１であり、そしてｂとｃとの和は３以下である。 - 第一成分として式（２－１）から式（２－２２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（２－１）から式（２－２２）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシである。 - 液晶組成物の重量に基づいて、第一成分の割合が１０重量％から９０重量％の範囲である、請求項５または６に記載の液晶組成物。
- 第二成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（３）において、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｆおよび環Ｇは独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－フェニレン、２－フルオロ－１，４－フェニレン、または２，５－ジフルオロ－１，４－フェニレンであり；Ｚ４は、単結合、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－であり；ｄは、１、２、または３である。 - 第二成分として式（３－１）から式（３－１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から８のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（３－１）から式（３－１３）において、Ｒ５およびＲ６は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。 - 液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が１０重量％から９０重量％の範囲である、請求項８または９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
- 第二添加物として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物を含有する、請求項１から１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（４）において、環Ｊおよび環Ｐは独立して、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル、テトラヒドロピラン－２－イル、１，３－ジオキサン－２－イル、ピリミジン－２－イル、またはピリジン－２－イルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；環Ｋは、１，４－シクロヘキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－１，２－ジイル、ナフタレン－１，３－ジイル、ナフタレン－１，４－ジイル、ナフタレン－１，５－ジイル、ナフタレン－１，６－ジイル、ナフタレン－１，７－ジイル、ナフタレン－１，８－ジイル、ナフタレン－２，３－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、ナフタレン－２，７－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、またはピリジン－２，５－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ５およびＺ６は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＺ５およびＺ６において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）－、または－Ｃ（ＣＨ３）＝Ｃ（ＣＨ３）－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は、重合性基であり；Ｓｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；ｑは０、１、または２であり；ｊ、ｋ、およびｐは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてｊ、ｋ、およびｐの和は、１以上である。 - 式（４）において、Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３が独立して式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）で表される基の群から選択された重合性基である、請求項１１に記載の液晶組成物。
式（Ｐ－１）から式（Ｐ－５）において、Ｍ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。 - 第二添加物が式（４－１）から式（４－２９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物である、請求項１から１２のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（４－１）から式（４－２９）において、Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は独立して、式（Ｐ－１）から式（Ｐ－３）で表される基の群から選択された重合性基であり、ここでＭ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｓｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このＳｐ３、Ｓｐ４、およびＳｐ５において、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＯ－で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－または－Ｃ≡Ｃ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。 - 液晶組成物の重量に基づいて、第二添加物の割合が０．０３重量％から１０重量％の範囲である、請求項１１から１３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
- 第三添加物として式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの重合性化合物を含有する、請求項１から１４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
式（５）において、Ｒ５０は、水素、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；Ｒ５１は、－ＯＨ、－ＮＨ２、－ＯＲ５３、－Ｎ(Ｒ５３)２、または－Ｓｉ（Ｒ５３）３で表される基であり、ここで、Ｒ５３は、水素または炭素数１から５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－（ＣＨ２）２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；環Ａ５０および環Ｂ５０は独立して、１，４－シクロへキシレン、１，４－シクロヘキセニレン、１，４－フェニレン、ナフタレン－１，２－ジイル、ナフタレン－１，３－ジイル、ナフタレン－１，４－ジイル、ナフタレン－１，５－ジイル、ナフタレン－１，６－ジイル、ナフタレン－１，７－ジイル、ナフタレン－１，８－ジイル、ナフタレン－２，３－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、ナフタレン－２，７－ジイル、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、フルオレン－２，７－ジイル、フェナントレン－２，７－ジイル、アントラセン－２，６－ジイル、ペルヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイル、または２，３，４，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７－テトラデカヒドロシクロペンタ［ａ］フェナントレン－３，１７－ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ５０は、単結合、－（ＣＨ２）２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、または－ＣＦ＝ＣＦ－であり；Ｓｐ５１およびＳｐ５２は独立して、単結合または炭素数１から７のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、または－ＯＣＯ－で置き換えられてもよく、少なくとも１つの－ＣＨ２ＣＨ２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；ａ５０は、０、１、２、３、または４である。
- 液晶組成物の重量に基づいて、第三添加物の割合が０．３重量％から１０重量％の範囲である、請求項１５に記載の液晶組成物。
- 請求項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
- 液晶表示素子の動作モードが、ＩＰＳモード、ＶＡモード、ＦＦＳモード、またはＦＰＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である、請求項１７に記載の液晶表示素子。
- 請求項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有し、この液晶組成物中の重合性化合物が重合された、高分子支持配向型の液晶表示素子。
- 請求項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有し、この液晶組成物中の重合性化合物が重合された、配向膜を有しない液晶表示素子。
- 請求項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の、液晶表示素子における使用。
- 請求項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の、高分子支持配向型の液晶表示素子における使用。
- 請求項１から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の、配向膜を有しない液晶表示素子における使用。
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Legal Events
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| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
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| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 17848789 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |