WO2017199902A1 - 活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク - Google Patents

活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク Download PDF

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正義 高武
森田　進
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing

Definitions

  • the reverse offset printing is the only printing method that can form a fine pattern comparable to the photolithographic method.
  • Introduction of reverse offset printing has been demanded as a method for printing conductive patterns of various electronic devices typified by printing TFTs and printing methods for metal grids applied to touch panels and the like.
  • the ink used for the reverse offset printing is active energy ray curable, it is possible to cure the fine pattern printed at a low temperature in a short time. If the cured film of the ink after energy beam curing has an insulating property, the cured film can be used as an insulating layer.
  • an object of the present invention is to provide an active energy ray-curable ink for reverse offset printing, which can be used for reverse offset printing, is active energy ray-curable, and has a cured film cured by irradiation with active energy rays. It is to provide.
  • the cured film cured by active energy ray irradiation has a water contact angle of greater than 95 ° and a contact angle of n-hexadecane of greater than 50 °, as described in any one of (1) to (3) above Active energy ray curable reversal offset printing ink.
  • the material of the substrate 4 there are no restrictions on the material of the substrate 4, various plastic films such as polyester film, polycarbonate film and polyimide film, various printed wiring substrates such as phenolic substrates, paper epoxy substrates, glass epoxy substrates and alumina substrates, and various metals such as stainless steel. Foil, various plastic substrates, various papers, various glass such as general blue plate glass, quartz, sapphire, and silicone substrates can be applied according to the purpose.
  • the active energy ray-curable reverse offset printing ink of the present invention may be referred to as “reverse offset print ink” or “ink”.
  • a cured film obtained by curing the ink for reverse offset printing by irradiation with active energy rays may be referred to as “cured film of ink for reverse offset printing” or “cured film”.
  • the solvent contained in the ink for reversed offset printing of the embodiment may be an organic solvent, and any solvent system can be used as long as it dissolves the active energy ray-curable resin.
  • any solvent system can be used as long as it dissolves the active energy ray-curable resin.
  • Ink characteristics suitable for various ink coating methods on the blanket can be realized by containing an appropriate solvent in the ink.
  • an ink coating method for the blanket a capillary coating method, a slit die coating method, a dip coating method, a screen printing method, an ink jet method, and the like can be suitably applied.
  • the ink viscosity is preferably 1 to 100 mPa ⁇ s, more preferably 1.5 to 50 mPa ⁇ s, and further preferably 3 to 20 mPa ⁇ s.
  • the ink for reversal offset printing of the embodiment preferably has a storage elastic modulus of 1 ⁇ 10 3 Pa to 1 ⁇ 10 7 Pa of a semi-dried coating film formed on a blanket and having a solvent appropriately dissipated, It is more preferably 1 ⁇ 10 4 Pa to 1 ⁇ 10 6 Pa, and further preferably 1 ⁇ 10 4 Pa to 5 ⁇ 10 5 Pa.
  • the reverse offset printing ink of the embodiment is formed on the blanket, and the complex viscosity of the semi-dried coating film in which the solvent is appropriately dissipated is 1 ⁇ 10 2 Pa ⁇ s to 1 ⁇ 10 6 Pa ⁇ s.
  • volatile organic solvents examples include aliphatic hydrocarbon volatile organic solvents such as hexane, heptane, octane, decane, isohexane, isooctane, cyclohexane, methylcyclohexane, toluene, o-xylene, m- Aromatic hydrocarbon volatile solvents such as xylene, p-xylene, ethylbenzene, mesitylene, dichlorobenzene, chloronaphthalene, diethylbenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-propyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, methyl propionate Ester volatile solvents such as ethyl propionate, alcohol volatile solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, sec-butanol, ter
  • the amount of the solvent in the active energy ray-curable reversal offset printing ink of the embodiment is preferably 30% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more in 100% by mass of the total ink.
  • the amount of the solvent in the active energy ray-curable reversal offset printing ink of the embodiment is preferably 30 to 98% by mass, more preferably 70 to 95% by mass, and more preferably 80 to 90% by mass, based on 100% by mass of the total ink. preferable.
  • the proportion of the volatile solvent in the embodiment in the total solvent can be appropriately adjusted according to the ink coating method and the environment, and may be contained in 60 to 100% by mass in 100% by mass of the total solvent.
  • the ink coating film of the ink containing the solvent in the above range forms a coating film excellent in cutting property, patterning property and transferability on the blanket, and in the above step 2, from the ink coating film on the blanket.
  • the pattern can be accurately removed.
  • the fluorine-based surfactant has a large ink surface tension adjusting ability, and an expected effect can be obtained by adding a small amount. Further, these fluorine-based surfactants can improve the pattern forming property and transfer property of the ink coating film in the above steps 2 and 3 as well as improving the liquid repellency of the ink cured film and the film quality such as surface smoothness. It is more preferable.
  • nonionic fluorosurfactants can be preferably applied as an insulating film to various electronic devices without fear of adverse effects due to ions.
  • fluorosurfactant examples include, for example, Megafuck F-444, Megafuck F-251, Megafuck F554, Megafuck F-555, Megafuck F-558, Megafuck F-559, Megafuck F-560, Megafuck F-561, Megafuck F-562, Megafuck F-563, Megafuck F-568, Megafuck F-569, Megafuck F-570 (all from DIC Corporation) PF-636, PF-6320, PF-656, PF-6520, PF-652-NF (all of which are manufactured by Kitamura Chemical Sangyo), Surflon S-611, Surflon S-651 (all of which are above) AGC SE A chemical product or the like can be suitably used.
  • the active energy ray-curable resin may be a polymer, monomer, or oligomer having an active energy ray polymerizable group (functional group) in the molecule.
  • the active energy ray curable resin may contain a structural unit derived from an active energy ray curable monomer having an active energy ray polymerizable group in the molecule.
  • One or more active energy ray-curable monomers can be used.
  • Examples of the active energy ray functional group include (meth) acryloyl group, oxetane group, epoxy group, thiol group, maleimide group, as well as various alkylene groups such as methylene and ethylene, isocyanate group, hydroxyl group, alkoxysilyl group and the like. It is done.
  • Oxetane compounds such as methyl ⁇ oxetane, vinyl compounds such as diallyl phthalate, divinyl ethylene urea, divinyl adipate, ethylene glycol, trimethylol propane, various polyether polyols, various polyester polyols, various caprolactone polyols, oxetanyl groups in the molecule
  • Various silsesquioxane compounds introduced in can be applied.
  • EXCEDIC BLUE0565, EXCEDIC RED 0759, EXCEDIC YELLOW 0599, EXCEDIC GREEN0358, EXCEDIC YELLOW0648 product name DIC
  • Aerosil series product name Evonik
  • Silicia Silo, Silo Pure, Thylosphere, Silo Mask, Silwell, Fuji Balloon (product name: Fuji Silysia), PMA-ST, IPA-ST, PGM-Ac-2140Z (product name: Nissan Chemical), NANOBIC3600 series, NANOBIC3800 series (product name: Big Chemie) ), 12S, 13M, 13MC (trade name: Mitsubishi Materials Electronic Chemicals), etc.
  • These may be used alone or in combination of two or more.
  • extender pigments can be selected in accordance with the industrial application of the ink of the embodiment.
  • the ink of the embodiment is applied to various electronic devices as an insulating film
  • silica particles, alumina particles, zirconia particles, and the like excellent in insulating properties can be suitably applied.
  • titanium black or carbon black fine particles can be applied.
  • the reverse offset printing ink according to the embodiment is applied to, for example, a gate insulating film of an organic transistor as an electronic element
  • the insulating film is required to have high thin film insulating properties and excellent dielectric properties, as well as surface smoothness of a cured film.
  • the extender pigment having a volume average particle diameter of 1 to 150 nm may be contained in the range of 20 to 300% by mass with respect to 100% by mass of the total active energy beam curable resin in the ink for active energy beam curable reversal offset printing. Preferably, it is contained in the range of 50 to 200% by mass. When the content is 20% by mass or less, these effects cannot be obtained effectively, and when the content is more than 300% by mass, the fragility of the ink cured film is increased, which may limit the industrial application field.
  • the specific extender pigment in the ink for reversed offset printing according to the embodiment, the industrial application of the cured film described above can be expanded and the printing characteristics of the ink can be improved. .
  • the ink according to the embodiment preferably contains an energy ray curable resin having an Mw of less than 6000 in an amount of less than 90% by mass with respect to 100% by mass of the total energy ray curable resin, and more preferably in an amount of 80% by mass or less. preferable. If the ratio of the energy ray curable resin having an Mw of less than 6000 exceeds 90% by mass, the fluidity of the semi-dried ink is too high in the reversal offset printing process, and the ink in the pattern formation by the stencil printing in the process 2 is performed. Crying often occurs, making it difficult to form a fine pattern on the blanket.
  • the unnecessary pattern is stably left from the blanket surface by lightly pressing the convex pattern of the punching plate against the uniform ink semi-dry uniform coating film formed on the blanket in Step 2 above. It can be removed without any problems.
  • the ink pattern formed on the blanket can be stably transferred to the substrate without ink remaining. This is because the ink composition satisfying the specific energy ray curable resin composition requirement of the embodiment, the cohesive force of the ink applied on the blanket and in a semi-dry state, the adhesion force between the ink and the release plate, the blanket adhesion force and the ink It is presumed that the adhesive force between the substrate and the substrate can be stably and easily formed in a state suitable for ink pattern formation and transfer.
  • the weight average molecular weight means a polystyrene equivalent value measured using a gel permeation chromatograph (GPC).
  • the energy ray curable polymer and oligomer acrylate having Mw of 6000 to 40,000 various epoxy acrylates, various urethane acrylates, various acrylic resin acrylates, isocyanurate prepolymers and the like can be suitably applied.
  • the water contact angle of the cured film surface is preferably greater than 95 ° and less than 150 °, and the contact angle of n-hexadecane is preferably greater than 50 ° and less than 100 °, and the water contact angle is greater than 100 ° and less than 150 °. More preferably, the contact angle of n-hexadecane is more than 55 ° and less than 100 °, the contact angle of water is more than 105 ° and less than 150 °, and the contact angle of n-hexadecane is more than 60 ° and more than 100 °. More preferably smaller.
  • the contact angle on the surface of the cured film of the reverse offset printing ink can be determined by the method described in the examples.
  • the liquid repellency is imparted to the ink cured film by adding a liquid repellent component such as a silicone compound or a fluorine compound to the ink.
  • a liquid repellent component such as a silicone compound or a fluorine compound
  • a liquid-repellent surface is formed simultaneously with ink curing by adding various fluororesins having a functional group that reacts with the energy ray curable resin in the ink.
  • the fluorine-based resin has a feature that an action to minimize the surface free energy of the film works and the fluorine-based resin component segregates on the film surface.
  • the ink for reverse offset printing according to the embodiment is cured by irradiating the ink coating film formed on the substrate by reverse offset printing with an active energy ray to form a cured film.
  • active energy rays can be used for irradiation with the active energy rays.
  • ultraviolet rays include high-pressure mercury lamps, ultrahigh-pressure mercury lamps, ultraviolet fluorescent lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, ozone-less UV lamps, and LEDs.
  • the xenon lamp can be used as a flash lamp to use light in the entire wavelength region.
  • active energy ray irradiation can be performed under an inert gas such as nitrogen or a rare gas.
  • an inert gas such as nitrogen or a rare gas.
  • application of UV light by a high-pressure mercury lamp and a metal halide lamp is suitable for crosslinking and curing of various acrylates that are radical polymerization systems and epoxy compounds that are cationic curing systems, and can be suitably applied.
  • IRG2959 IRGACURE2959 (BASF)
  • IRG379E IRGACURE379EG (manufactured by BASF)
  • IRG184 IRGACURE184 (manufactured by BASF)
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Abstract

この活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクは、揮発性溶剤と、活性エネルギー線重合性基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂と、を含有し、２５℃におけるインクの表面張力が１５～２７ｍＮ／ｍであることを特徴とする。活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、体積平均粒子径１～１５０ｎｍの体質顔料を２０～３００質量％の範囲で含有することが好ましい。

Description

活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク
　本発明は、反転オフセット印刷に使用され、活性エネルギー線硬化性であり、絶縁膜を形成可能な、活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクに関する。
　各種電子デバイスに使用される微細な絶縁層の形成は、従来、レーザーによるアブレーションや、フォトレジストエッチングが用いられてきた。
　近年、印刷による絶縁層の形成技術の検討がなされており、例えば、ＴＦＴに代表される印刷電子デバイスには、ナノＡｇインクを用いた印刷による導電パターン形成及び絶縁層の形成が要求される場合がある。
　特許文献１には、有機薄膜トランジスタの絶縁膜用活性エネルギー線硬化性インキについて記載されている。特許文献２には、有機トランジスタの絶縁膜形成用インキ組成物について記載されている。
特開２０１４－３０６８号公報 国際公開第２００９／１５０９７２号
　反転オフセット印刷は、フォトリソ法に匹敵する微細パターンを形成できる唯一の印刷法である。印刷ＴＦＴに代表される各種電子デバイスの導電パターンの印刷形成やタッチパネル等に適用されるメタルググリッドの印刷形成法として、反転オフセット印刷の導入が求められている。更に、反転オフセット印刷に使用されるインクが活性エネルギー線硬化性であれば、低温・短時間で印刷された微細パターンの硬化が可能となる。このインクのエネルギー線硬化後の硬化膜が絶縁性を有していれば、硬化膜は絶縁層として利用できる。
　しかしながら、従来、反転オフセット印刷に使用でき、エネルギー線硬化性であり、硬化後の硬化膜が絶縁性を有するインクが得られたという報告はない。
　特許文献１には、絶縁膜用活性エネルギー線硬化性インキについて記載されているものの、これを反転オフセット印刷に適用可能とする具体的な記載はない。
　特許文献２には、有機トランジスタの絶縁膜形成用インキ組成物について記載されているものの、当該インキ組成物は熱硬化性であり、活性エネルギー線硬化性ではない。熱硬化性のインキの加熱処理には、ある程度の処理時間が必要であり、実用化に向けて生産性および低コストプロセス構築の大きな制限となってしまう。またある程度の加熱が必要なことから、ＰＥＴ等の耐熱性に劣る基板への適用に制限がある。
　すなわち、本発明の目的は、反転オフセット印刷に使用でき、活性エネルギー線硬化性であり、活性エネルギー線照射により硬化された硬化膜が絶縁性を有する、活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクを提供することにある。
　本発明は、上記課題を解決するための手段として、以下の構成を採用する。
（１）揮発性溶剤と、活性エネルギー線重合性基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂と、を含有し、２５℃におけるインクの表面張力が１５～２７ｍＮ／ｍであることを特徴とする、活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
（２）活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、体積平均粒子径１～１５０ｎｍの体質顔料を２０～３００質量％の範囲で含有する、前記（１）に記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
（３）活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、重量平均分子量（Ｍｗ）が６０００～４００００の活性エネルギー線硬化性樹脂を１０～８０質量％の範囲で含有する、前記（１）又は（２）に記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
（４）活性エネルギー線照射により硬化された硬化膜の水接触角が９５°より大きく、且つｎ－ヘキサデカンの接触角が５０°より大きい前記（１）～（３）のいずれか一つに記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
（５）活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、エネルギー線重合性フッソ系界面活性剤を１～８０質量％含有する前記（１）～（４）のいずれか一つに記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
　本発明によれば、反転オフセット印刷に使用でき、活性エネルギー線硬化性であり、活性エネルギー線照射により硬化された硬化膜が絶縁性を有する、エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクを提供することができる。
反転オフセット印刷法の手順の一例を説明する模式図である。
　以下、本発明の実施形態について説明する。
　本発明の一実施形態として、揮発性溶剤と、活性エネルギー線重合性基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂と、を含有し、２５℃におけるインクの表面張力が１５～２７ｍＮ／ｍであることを特徴とする、活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクを提供する。エネルギー線硬化型反転オフセット印刷絶縁インクは、界面活性剤を含有することが好ましい。
＜反転オフセット印刷＞
　図１は、反転オフセット印刷法の手順の一例を説明する模式図である。反転オフセット印刷は以下の工程を有する。
（工程１：インキング工程）
　まず、ブランケット２に反転オフセット印刷用インクを塗布し、適度に乾燥させ、
ブランケット上にインク塗膜１を形成させる。ブランケットはロール状であってもよく、平板状であってもよいが、ここではロール状のものを示している。
（工程２：オフ工程／パターニング工程）
　次いで、凹凸パターンを有する抜き版（凸版）３をインク塗膜１に押し付け、抜き版の凸部分と接したインク塗膜をブランケットから除去し、ブランケット２上のインク塗膜１にパターンを形成する。抜き版はロール状であってもよく、平板状であってもよいが、ここでは平板状のものを示している。
（工程３：セット工程）
　その後、ブランケット２上でパターン形成されたインク塗膜１を基板４へと転写する。
　ここで、ブランケット２の材質は、適度の溶剤吸収性を有し、且つインクのパターン形成・転写性に優れたシリコーンゴム（PDMS）が好適に使用できる。抜き版３の材質としては、例えば、ガラス、金属、樹脂が挙げられる。
　基板４の材質に制限は無く、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム等の各種プラスチックフィルムやフェノール基板、紙エポキシ基板、ガラスエポキシ基板、アルミナ基板等の各種プリント配線用基板、ステンレス等からなる各種金属フォイル、各種プラスチック基板、各種紙類および一般青板ガラス、石英、サファイア等の各種ガラス類やシリコーン基板等、目的に応じて適用できる。
　反転オフセット印刷法は、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等の他の印刷法と異なり、パターン形成と印刷工程をインクの流動性の無い状態で行うことから、インクのダレが無く、画線品質に優れた微細パターンを形成できる。反転オフセット印刷法に適用可能なインクは、前記プロセスに適することが要求される。インキング工程においては、例えば、撥液性の高いシリコーンゴム上にハジキや印刷厚ムラ無く均一なインク薄膜を形成できることが要求される。またパターンニング工程では、例えば、接触する抜き版の凸部のみのパターンがブランケット上の薄膜から除去され、必要なパターンがブランケット上に残存することが要求される。さらにセット工程においては、例えば、ブランケット上のパターンが残存することなく完全に基材上に転写されることが要求される。
　本発明者らは、絶縁性の硬化膜を形成する、特定のエネルギー線硬化性樹組成を用いることにより、これら要求を満たす反転オフセット印刷インクを形成できることを発見し、本発明に至った。
≪活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク≫
　以下、本発明の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクのことを、「反転オフセット印刷用インク」又は「インク」という場合がある。また、反転オフセット印刷用インクが活性エネルギー線照射により硬化された硬化膜のことを、「反転オフセット印刷用インクの硬化膜」又は「硬化膜」という場合がある。
　反転オフセット印刷は、通常上記のような工程を有するため、反転オフセット印刷用インクは、各工程を実施可能なよう下記のインク特性を備えることが好ましい。
　工程１において、反転オフセット印刷用インクは、撥液性の高いシリコーンゴムのブランケット上でハジキや印刷厚ムラ無く均一なインク塗膜を形成されるよう、ブランケットに対する優れた「濡れ性」を有することが好ましい。
　工程２では、反転オフセット印刷用インクのインク塗膜は、接触する抜き版の凸部のみの正確にパターンが除去されるよう、優れた「切れ性」と、抜き版への優れた「転写性」が発揮されることが好ましい。切れ性は、微細なパターンを形成できるかどうかの「パターン形成性」に影響する。
　工程３では、ブランケット上でパターン形成されたインク塗膜がブランケット上にインクの転写残り無く基板へと転写されるよう、反転オフセット印刷用インクのインク塗膜は、基板への優れた「転写性」を有することが好ましい。
＜インク組成＞
　実施形態の反転オフセット印刷用インクは、一成分として、揮発性溶剤と、活性エネルギー線硬化性樹脂とを含有する。また、本実施形態の反転オフセット印刷用インクは、最適な表面張力実現のため界面活性剤等の表面エネルギー調整剤としての特性を有する物質を含むことが好ましい。
（溶剤）
　実施形態の反転オフセット印刷用インクが含有する溶剤としては、有機溶剤であってよく、活性エネルギー線硬化性樹脂を溶解するものであれば任意の溶剤系を使用することが出来る。例えば、各種脂肪族炭化水素系溶剤系、各種芳香族炭化水素系溶剤系、エステル系溶剤系、ケトン系溶剤系、各種アルキレングリコール系溶剤、各種エーテル系溶剤、各種アミド系溶剤等の一種類または二種類以上含んでいてよい。
　インクに適度の溶剤を含有することにより、ブランケットへの各種インク塗工方法に適したインク特性を実現できる。ブランケットへのインク塗工方法として、キャピラリーコート方法、スリットダイコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、インクジェット方法等好適に適用できる。例えば、スリットダイコート法やキャピラリーコート法を適用する場合、インク粘度は１～１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１．５～５０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３～２０ｍＰａ・ｓがさらに好ましい。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクは、ブランケット上に形成され、溶剤が適度に散逸した半乾燥状態の塗膜の貯蔵弾性率が１×１０３Ｐａ～１×１０７Ｐａであることが好ましく、１×１０４Ｐａ～１×１０６Ｐａであることがより好ましく、１×１０４Ｐａ～５×１０５Ｐａであることがさらに好ましい。また、実施形態の反転オフセット印刷用インクは、ブランケット上に形成され、溶剤が適度に散逸した半乾燥状態の塗膜の複素粘性率は１×１０２Ｐａ・ｓ～１×１０６Ｐａ・ｓであることが好ましく、５×１０２Ｐａ・ｓ～５×１０５Ｐａ・ｓであることがより好ましく、１×１０３Ｐａ・ｓ～１×１０５Ｐａ・ｓであることがさらに好ましい。
　インクは、ブランケット上に塗布されたときに溶剤の散逸が生じている。したがって、本明細書中において、「半乾燥状態」とは、反転オフセット印刷において、ブランケット上に形成された塗膜の状態といえる。
　なお、この半乾燥膜の粘弾性値は、前記反転オフセット印刷の工程２におけるインク塗膜中の残存溶剤量を再現し、Ｍａｌｖｅｒｎ社製回転型レオメーター　Ｇｅｍｉｎｉを用い、コーンプレートＣＰ１／２０ｍｍ（中心ギャップ３０μｍ）を使用し、温度２５℃で、歪１％で測定周波数１Ｈｚの測定での測定値である。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクが含有する揮発性溶剤としては、有機溶剤であってよく、活性エネルギー線硬化性樹脂を溶解するものであれば任意の溶剤を使用することが出来るが、実施形態のインクは揮発性溶剤を含有することを特徴とする。本明細書中において「揮発性溶剤」とは、大気圧下で測定された沸点が６０℃～２００℃、好ましくは６０℃～１８０℃である溶剤をいう。大気圧とは、１０１３．２５ｈＰａをいう。揮発性溶剤は揮発性有機溶剤であってもよい。揮発性溶剤を含有することにより、反転オフセット印刷に要求されるインク特性を工業生産水準で発現することができる。
　揮発性溶剤をインクの一成分とすることにより、ブランケット上に形成されたインク塗膜からの溶剤の散逸が速やかに進み、塗工後数十秒～数分の乾燥時間でインク塗膜を半乾燥状態にすることができ、塗膜に適度のタック性、凝集性を発現させ、工程２および工程３においてパターン形成性、転写性を発現させることができる。
　好適に使用できる揮発性有機溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、イソヘキサン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、などの脂肪族炭化水素系揮発性有機溶剤、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、ジクロロベンゼン、クロロナフタレン、ジエチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系揮発性溶剤、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n-プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチルなどのエステル系揮発性溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、sec-ブタノール、tert-ブタノール、シクロヘキサノール、α-テルピネオールなどのアルコール系揮発性溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘキサノン、2-ヘプタノン、2-オクタノンなどのケトン系揮発性溶剤、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテートなどのアルキレングリコール系揮発性溶剤、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ブチルビニルエーテル、アニソール、メトキシトルエン、ベンジルエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系揮発性溶剤、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセタミド、などのアミド系揮発性溶媒などがあるが、特に限定するものではない。また、これらは単独または二種類以上を併用してもよい。
　実施形態の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の溶剤量は、全インク１００質量％中、３０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらに好ましい。実施形態の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の溶剤量は、全インク１００質量％中、３０～９８質量％が好ましく、７０～９５質量％がより好ましく、８０～９０質量％がさらに好ましい。また実施形態の揮発性溶剤の全溶剤中の割合はインク塗工方法、環境に応じて適宜調製することができ、全溶剤１００質量％中に６０～１００質量％含有されていてよい。
　上記の範囲で溶剤が含有されたインクのインク塗膜は、ブランケット上で切れ性、パターンニング性および転写性に優れた塗膜を形成し、上記工程２において、ブランケット上のインク塗膜からより正確にパターンを除去可能である。
　実施形態のエネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクは、インクの表面張力が１５～２７ｍＮ／ｍの範囲内であり、好ましくは、１６～２４ｍＮ／ｍ、さらに好ましくは１７～２２ｍＮ／ｍである。インクの表面張力は、実施例に記載の方法により求めることができる。
　インクの表面張力がかかる範囲であることにより、前記工程１（インキング工程）において撥液性のブランケット表面に均一なインク塗膜を形成できる。インクの表面張力は使用する溶剤種の選択や界面活性剤の添加により調整してよい。界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤及び／またはフッ素系界面活性剤等の各種表面エネルギー調整剤が好適に適用できる。特にフッ素系界面活性剤は、インクの表面張力調整力が大きく、少量の添加で期待の効果を得ることができる。さらにこれらフッ素系界面活性剤は前記工程２および３においてもインク塗膜のパターン形成性、転写性を向上させることができるとともに、インク硬化膜の撥液性や、表面平滑といった膜質も向上させることができより好ましい。
　中でもノニオン系のフッソ系界面活性剤が、絶縁膜として種々の電子デバイスへの適用において、イオンによる悪影響の懸念が無く好ましく適用できる。
　前記フッ素系界面活性剤としては、具体的には、例えば、メガファックＦ－４４４、メガファックＦ－２５１、メガファックＦ５５４、メガファックＦ－５５５、メガファックＦ－５５８、メガファックＦ－５５９、メガファックＦ－５６０、メガファックＦ－５６１、メガファックＦ－５６２、メガファックＦ－５６３、メガファックＦ－５６８、メガファックＦ－５６９、メガファックＦ－５７０（以上いずれもＤＩＣ株式会社製）や、ＰＦ－６３６、ＰＦ－６３２０、ＰＦ－６５６、ＰＦ－６５２０、ＰＦ－６５２－ＮＦ（以上いずれも北村化学産業製）や、サーフロンＳ－６１１、サーフロンＳ－６５１（以上いずれも）ＡＧＣセイケミカル製等が好適に使用できる。
　これらフッ素系界面活性剤の中でも、オリゴマータイプのものが、インクの表面エネルギー調整機能に加えインクのパターンニング性や転写性向上にも効果を発現することから好ましく適用できる。
　上記の界面活性剤は、反転オフセット印刷用インク１００質量％当たり０．００１～４質量％配合されていてもよく、０．０１～２質量％配合されていてもよく、０．１～１質量％配合されていてもよい。
　（活性エネルギー線硬化性樹脂）
　本明細書中において、活性エネルギー線硬化性樹脂とは、分子内に活性エネルギー線重合性基（官能基）を有するポリマー、モノマー、オリゴマーであってよい。活性エネルギー線硬化性樹脂は、分子内に活性エネルギー線重合性基を有する活性エネルギー線硬化性モノマーに由来する構成単位を含んでいてよい。活性エネルギー線硬化性モノマーは１種又は２種以上を用いることができる。
　活性エネルギー線官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、オキセタン基、エポキシ基、チオール基、マレイミド基のほかメチレン、エチレン等の各種アルキレン基、イソシアナート基、水酸基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
　官能基としてＵＶ架橋性の２官能以上の（メタ）アクロイル基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂として、例えば各種アクリルモノマー、各種ウレタンアクリレート、各種ポリエステルアクリレート、各種ポリブタジエンアクリレート、各種シリコーンアクリレー、各種アミノ樹脂アクリレート、有機無機の複合構造を有する（メタ）アクロイル基置換各種シルセスキオキサン化合物およびこれら基本骨格を重合したオリゴマーやポリマーが適用できる。２官能以上のアクリルモノマーとして、例えば、エチレングルコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングルコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレンエーテルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンまたはそのアルキレンオキシド付加物のトリ（メタ）アクリレート等の環状構造を有さない重合性二重結合を３個含有する（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールまたはそのアルキレンオキシド付加物のテトラ（メタ）アクリレート等の環状構造を有さない重合性二重結合を４個含有する（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールまたはそのアルキレンオキシド付加物のヘキサ（メタ）アクリレート等の環状構造を有さない重合性二重結合を６個含有する（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシルエチル）、トリアリルイソシアヌレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート等の各種イソシアヌル酸のアクリル酸エステル、イソホロンジイソシアネートとヒドロキシエチル（メタ）アクレートとの付加物の様な環状構造を有する重合性二重結合を２個以上含有する（メタ）アクリレート等の分子中に２個以上の重合性２重結合を有する多官能（メタ）アクリレート等が適用できる。
　また、必要に応じてヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシアクリレート類、イソブチルアクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート等のアルキルアクリレート類、イソボルニルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチルアクリレート、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチルアクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート、シクロペンチニルアクリレート等の脂環・芳香族・エーテル系各種アクリレート、アマダンチルアクリレート類等の単官能アクリレートも適宜適用できる。
　官能基としてチオール基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂として例えば、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，４ビス（３－メルカプトブチルオキシ）ブタン等が好適に使用できる。
　官能基としてマレイミド基を有するエネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、４，４’－ジフェニルメタンビスマレイミド、ポリフェニルメタンマレイミド、ｍ－フェニレンビスマレイミド、ビスフェノールＡジフェニルエーテルビスマレイミド、４－メチル－１，３－フェニレンビスマレイミド、１，６－ビスマレイミド－（２，２，４－トリメチル）へキサン、３，３’－ジメチル－５，５’－ジエチル－４，４’－ジフェニルメタンビスマレイミド、マレイミドアクリレート等を用いることが出来る。
　光カチオン系のエネルギー線硬化性樹脂としては、例えば３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート及びこのε-カプロラクトン変成物、ビス－（３，４エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ジエポキシリモネン等の脂環式エポキシ樹脂が好適に適用できる。また、これら樹脂と併用又は単独で、１，４－ビス[(３－エチル－３－オキタセル)メトキシメチル]ベンゼン、３－エチル－３－｛[（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ]メチル｝オキセタン等のオキセタン化合物や、ジアリルフタレート、ジビニルエチレンウレア、アジピン酸ジビニル等のビニル化合物や、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、各種ポリエーテルポリオール、各種ポリエステルポリオール、各種カプロラクトンポリオール、オキセタニル基を分子中に導入した各種シルセスキオキサン化合物が適用できる。
　また、一分子内に、エポキシ基、オキセタン基、ビニル基等のカチオン反応性の単一官能基を有する化合物だけでなく、同一分子内に複数種類の官能基を有する化合物が適用可能である。例えば、同一分子内にビニルエーテル基とエポキシ基を含有する化合物やプロペニルエーテル基とエポキシ基を有する反応性化合物等が適用できる。
　また、必要に応じて（メタ）アクロイル基を有するラジカル架橋硬化機構を有する反応性成分とオキセタン基、エポキシ基等のカチオン架橋硬化機構のハイブリット化を行っても良い。ハイブリット化は、例えばエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニル化合物等を反応性化合物として含有するカチオン硬化型組成物にアクロイル基含有化合物等のラジカル硬化型成分及び必要に応じてラジカル硬化開始剤を混合することにより得られる。アクロイル基含有化合物として例えば、（メタ）アクリル酸（ビニロキシ）エーテル等の同一分子中にカチオン重合性のビニルエーテルとラジカル重合性のアクロイル基を有する化合物等が好適に挙げられる。
　活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク１００質量％中に、活性エネルギー線硬化性樹脂は２～７０質量％含有されていてもよく、５～５０質量％含有されていてもよく、１０～３０質量％含有されていてもよく、１２～２０質量％含有されていてもよい。
　上記の範囲で活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、必要とされる硬化膜厚、強度、絶縁性、等により適宜選択でき、上記の範囲で活性エネルギー線硬化性樹脂が含有されたインクのインク塗膜は、切れ性、転写性に優れたものとなり、画線品質に優れた印刷パターンを形成できる。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクは、活性エネルギー線が照射されると硬化する性質を有する。ここで活性エネルギーとしては、紫外線、可視光線の他、電子線、Ｘ線等の高活性エネルギー線を用いることもできる。紫外線、可視光線を用いて光硬化させる場合、反転オフセット印刷用インクは必要に応じ重合系の官能基に適した光重合開始剤を含有していてもよい。
　光重合開始剤としては、公知のものを使用すればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、ベンゾフェノン類からなる群から選ばれる一種以上を好ましく用いることができる。前記アセトフェノン類としては、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン等が挙げられる。前記ベンジルケタール類としては、例えば、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。前記ベンゾフェノン類としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル等が挙げられる。前記ベンゾイン類等としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。光重合開始剤は単独で使用しても良いし、２種以上を併用してもよい。
　また、活性エネルギー線硬化性モノマーが、ビニルエーテル基やエポキシ基などの光カチオン重合性基を有する場合は、光カチオン開始剤を併用することができる。光カチオン開始剤としては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩等が挙げられ、これらはカチオン部分がそれぞれ芳香族ジアゾニウム、芳香族ヨードニウム、芳香族スルホニウムであり、アニオン部分がＢＦ４－、ＰＦ６－、ＳｂＦ６－、［ＢＹ４］－（ただし、Ｙは少なくとも２つ以上のフッ素原子又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基）等により構成されたオニウム塩であるが好ましくは、安定性の観点よりリン系化合物であるカチオン重合開始剤である。具体的には四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ－４－メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ－４－メチルフェニルスルホニウム塩、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素のジフェニルヨードニウム塩、アセチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジルシリルエーテル混合体、フェニルチオピリジウム塩、六フッ化リンアレン－鉄錯体等を挙げることができる。
　市販の光重合開始剤としては、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア８１９、イルガキュア９０７、イルガキュア１８７０、イルガキュア５００、イルガキュア３６９、イルガキュア１１７３、イルガキュア２９５９、イルガキュア４２６５、イルガキュア４２６３、ダロキュアＴＰＯ、イルガキュアＯＸＥ０１等（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）が挙げられる。また、イルガキュア２５０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）、ＣＰＩ１００Ｐ、ＣＰＩ１０１Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ、ＣＰＩ２１０Ｓ（サンアプロ株式会社製）、アデカオプトマーＳＰ３００、ＳＰ１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）等のカチオン系光重合開始剤も使用することができる。
　前記光重合開始剤の配合量は、活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対して、０．１～１５質量％含有されていることが好ましく、１～１０質量％含有されていることがより好ましく、２～５質量％含有されていることがさらに好ましい。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクは、溶剤及び活性エネルギー線重合性基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂の他に、必要に応じて、体質顔料を含有していてもよい。
　体質顔料は、公知慣用のカラー顔料単体、微粒子粉末単体であってもよく、一種または二種以上が用いられる。体質顔料は、無機微粒子粉末であってもよい。これらカラー顔料単体や微粒子粉末単体は、予め分散剤、有機溶剤に分散させた顔料分散体の状態で使用されてもよい。微粒子粉末としては、例えば、酸化チタン微粒子、ジルコニア微粒子、アルミナ微粒子、シリカ微粒子、カーボン粒子、中空シリカ微粒子、タンタルオキサイド微粒子等が挙げられる。
　具体的には、ＥＸＣＥＤＩＣ ＢＬＵＥ０５６５、ＥＸＣＥＤＩＣ ＲＥＤ ０７５９、ＥＸＣＥＤＩＣ ＹＥＬＬＯＷ ０５９９、ＥＸＣＥＤＩＣ ＧＲＥＥＮ０３５８、ＥＸＣＥＤＩＣ ＹＥＬＬＯＷ０６４８（商品名 ＤＩＣ製）、アエロジルシリーズ（商品名 エボニック社製）、サイリシア、サイロホービック、サイロピュート、サイロページ、サイロピュア、サイロスフェア、サイロマスク、シルウェル、フジバルーン（商品名 富士シリシア社製）、ＰＭＡ－ＳＴ、ＩＰＡ－ＳＴ、ＰＧＭ－Ａｃ－２１４０Ｚ（商品名 日産化学）、ＮＡＮＯＢＩＣ３６００シリーズ、ＮＡＮＯＢＩＣ３８００シリーズ（商品名ビックケミー社製）、１２Ｓ、１３Ｍ、１３ＭＣ（商品名　三菱マテリアル電子化成）などがあるが、特に限定するものではない。また、これらは単独または二種以上を併用しても良い。
　これら体質顔料は、実施形態のインクの工業用途に合わせて最適なものを選択できる。
　例えば実施形態のインクを各種電子デバイスに用絶縁膜用途として適用する場合、絶縁性に優れたシリカ粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子等を好適に適用することが出来る。
　また遮光膜用途として使用する場合にはチタンブラックやカーボンブラック微粒子を適用することができる。
　また、電子素子として例えば有機トランジスタのゲート絶縁膜に実施形態の反転オフセット印刷用インクを適用する場合、絶縁膜に高い薄膜絶縁性、優れた誘電特性に加え硬化膜の表面平滑性が求められる。 これら絶縁膜用途において、インクに添加される体質顔料の体積平均粒径は１～１５０ｎｍであることが好ましく、１～５０ｎｍであることがより好ましく、２～３０ｎｍであることがさらに好ましい。これら用途には、微粒子シリカ分散やアルミナ分散体であるＰＧＭ－Ａｃ－２１４０Ｚ、ＰＭＡ－ＳＴ、ＩＰＡ－ＳＴ（商品名 日産化学）、ＮＡＮＯＢＩＣ３６００シリーズ商品名 ビックケミー社製）が好適に適用できる。体積平均粒径はメディアン径ｄ５０相当を表すものとする。体質顔料の体積平均粒径は例えば動的光散乱法により容易に測定できる。
　活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、体積平均粒子径１～１５０ｎｍの体質顔料は、２０～３００質量％の範囲で含有されることが好ましく、５０～２００質量％の範囲で含有されることがより好ましい。
　含有量が２０質量％以下ではこれら効果が有効に得られず、また３００質量％より多いと、インク硬化膜の脆弱性が大きくなり工業的な適用分野が限定されるおそれがある。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクに、かかる特定の体質顔料が含有されることにより、先に述べた硬化膜の工業適用用途を広げることができることと併せ、インクの印刷特性を向上させることができる。前記体質顔料がインクに添加されることにより、反転オフセット印刷工程２において抜き版によるパターン形成性を向上させることできる。特に厚膜パターン形成性に優れたものとできる。インクに含有される体質顔料の種類、粒子径は、インク硬化膜の適用用途に応じて選択できる。例えば、膜厚数μで線幅５μｍの微細パターン形成で且つ硬化膜表面平滑性が要求される用途には、粒子径２～３０ｎｍ程度のシリカゾルが好適に適用できる。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクは、該インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、重量平均分子量（Ｍｗ）が６０００～４００００の活性エネルギー線硬化性樹脂を１０～８０質量％の範囲で含有することが好ましく、２０～７５質量％の範囲で含有することがより好ましく、２５～６５質量％の範囲で含有することがさらに好ましく、３０～６５質量％の範囲で含有することが特に好ましい。
　上記重量平均分子量（Ｍｗ）が６０００～４００００の活性エネルギー線硬化性樹脂は、重量平均分子量（Ｍｗ）が６２００～３５０００であってもよく、６５００～３００００でであってもよい。
　実施形態のインクはまた、全エネルギー線硬化性樹脂量に対しＭｗが６０００未満の活性エネルギー線硬化性樹脂を、インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、９０質量％未満で含有することが好ましい。且つＭｗが４００００を超えるエネルギー線硬化性樹脂を、２０質量％未満で含有することが好ましい。
　反転オフセット印刷法は、ブランケット上に塗工された均一なインク塗膜からの溶剤の経時的な散逸により発現する半乾燥インクの過渡的な粘弾性変化を利用し、微細パターン形成、転写を実現する印刷技術である。反転オフセット印刷技術を実用に耐える印刷技術とするためにはパターン形成、転写可能なインク半乾燥状態をプロセスに最適な時間（プロセスウィンドウ）で保持することが要求される。
　本発明者らは、鋭意検討の結果、Ｍｗ６０００～４００００のエネルギー線硬化性樹脂を特定量インク中に含有することにより、より広い印刷プロセスウィンドウを有する印刷特性に優れたインク組成設計を容易に出来ることを発見した。また、かかる構成により反転オフセット印刷インク設計に、多種多様のエネルギー線硬樹脂化樹脂を適用することができるようになり、これにより多種の産業用途への適用を実現できる。例えば、高い電気絶縁性が要求されるパワー半導体やＬＥＤ照明やインバーター装置等の各種電子デバイスに用いられる絶縁膜やＴＦＴのゲート絶縁膜等の各種絶縁膜用途への適用が可能となる。
　また、高い光学特性要求されるマイクロレンズ用材料として、また、各種レジストインクの設計も可能となる。これら反転オフセット印刷用レジストインキは精密パターンメッキ技術におけるフォトリソグラフィーによりレジストパターン形成をより簡便なプロセスである印刷形成法に代替することを可能とする。
　実施形態のインクは、Ｍｗが６０００未満のエネルギー線硬化性樹脂を全エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、９０質量％未満で含有することが好ましく、８０質量％以下で含有することがより好ましい。Ｍｗ６０００未満のエネルギー線硬化性樹脂の割合が９０質量％を越えると、反転オフセット印刷工程において、半乾燥状態となったインクの流動性が高すぎ、前記工程２において抜き版によるパターン形成時にインクの泣き別れが多発しブランケット上に微細なパターンの形成が難しくなる。また、エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクは、Ｍｗ４００００を超えるエネルギー線硬化性樹脂が、全エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、２０質量％未満で含有することが好ましく、１０質量％未満で含有することがより好ましい。Ｍｗ４００００を超えるエネルギー線硬化性樹脂の割合が多すぎると、半乾燥状態のインク塗膜の造膜性が高すぎ、前記工程２において抜き版によりインクパターンを切り取ることが困難となる。
　上記インク組成により、前記工程２においてブランケット上に形成された均一なインク半乾燥均一塗膜に、抜き版の凸パターンを軽く押し当てることにより、安定して不要なパターンをブランケット表面よりインクの残存無く除去することが出来る。さらに前記工程３において、ブランケット上に形成されたインクパターンを基材に、インク残り無く安定して転写することができる。これは、実施形態の特定のエネルギー線硬化性樹脂組成要件を満たすインク組成により、ブランケット上に塗布され半乾燥状態となったインクの凝集力、インクと抜き版の密着力、ブランケット密着力及びインクと基材の密着力が、インクパターン形成、転写に適した状態を安定して容易に形成できることによると推定される。
　本明細書中において、重量平均分子量はとは、ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）を用いて測定された、ポリスチレン換算値のことをいう。
　前記Ｍｗ６０００～４００００のエネルギー線硬化型のポリマーおよびオリゴマー型のアクリレートとして、各種エポキシ系アクリレート、各種ウレタン系アクリレート、各種アクリル樹脂アクリレート、イソシアヌレートプレポリマー等が好適に適用できる。これら反応性樹脂として、例えば、ユニディックＥＰＳ－８３２、ユニディックＶ－６８５０，ユニディックＶ６８４０、ＧＤ１５（以上全てＤＩＣ（株）製）、タイクプレポリマー（以上日本化成（株）製）、テスラック２３００、テスラック２３１０、ヒタロイド７８５１、ヒタロイド７６６３（以上日立化成（株）製）、８ＫＸ－０１２Ｃ、８ＫＸ－０５８、８ＫＸ－０７７（以上大成ファインケミカル（株）製）、ＢＡＣ－４５（大阪有機化学工業（株）製）等が適用できる。
　実施形態の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インクの硬化膜は、硬化膜表面の水接触角が９５°より大きく且つｎ－ヘキサデカンの接触角が５０°より大きいことが好ましく、水の接触角が１００°より大きく且つｎ－ヘキサデカンの接触角が５５°より大きいことがさらに好ましく、水の接触角が１０５°より大きく且つｎ－ヘキサデカンの接触角が６０°より大きいことがより好ましい。
　硬化膜表面の水接触角が９５°より大きく１５０°より小さく、且つｎ－ヘキサデカンの接触角が５０°より大きく１００°より小さいことが好ましく、水の接触角が１００°より大きく１５０°より小さく、且つｎ－ヘキサデカンの接触角が５５°より大きく１００°より小さいことがさらに好ましく、水の接触角が１０５°より大きく１５０°より小さく、且つｎ－ヘキサデカンの接触角が６０°より大きく１００°より小さいことがより好ましい。
　反転オフセット印刷用インクの硬化膜表面の接触角は、実施例に記載の方法により求めることができる。
　本発明の実施形態のインクを用いれば、反転オフセット印刷法によりフォトリソグラフィーに匹敵する微細で高品質の表面撥液性有する絶縁膜パターンを形成できる。本技術を各種電子デバイスの製造に適用すれば、従来のフォトリソグラフィー技術を用いたレジストパターンを用いたフォトエッチング法やパターンメッキ法で形成されていた微細導電パターン形成プロセスを一新し、低価格で且つ新しい価値を有する電子デバイスを創造することが出来る。例えば、半導体チップ実装技術における微細バンプ形成や、システムインパケージ技術における各種インターポーザーやＦＯ－ＷＬＴ(Ｆａｎ－Ｏｕｔ Ｗａｆｅｒ Ｌｅｖｅｌ Ｐａｃｋａｇｅ)等の微細導電パターン形成技術として適用されているパターンメッキ法におけるフォトリソグラフィーによるレジストパターン形成を、より簡便で安価なプロセスである印刷法に置き換えることが出来る。また、現在、インクジェット法によるカラーフィルターやエレクトロルミネッサンスのＲＧＢ材料のパターン形成に求められる微細な撥液バンクパターンの印刷形成も可能となる。さらに、簡便で安価な微細導電パターン形成プロセス技術として、本発明の実施形態の撥液性インクを用い基板上に反転オフセット印刷法で微細な凹パターンを有する親撥パターンを形成し、親液性となる凹パターン凹部への導電インクの埋め込みまたは導電メッキにより容易に微細導電パターンを形成することができる。これにより例えば、帯電防止やタッチパネルに適用できる透明メタルメッシュの形成や印刷ＴＦＴのゲート電極やソース・ドレイン電極等の各種微細導電配線を形成することができる。
　インク硬化膜への撥液付与は、インク中へのシリコーン化合物やフッ素化合物といった撥液成分の添加によって成される。中でもインク中のエネルギー線硬化性樹脂と反応する官能基を有する各種フッ素系樹脂の添加よりインク硬化と同時に撥液性表面が形成されることが好ましい。フッ素系樹脂は膜の表面自由エネルギーを最小化させようとする作用が働きフッ素系樹脂成分が膜表面に偏析する特徴を有する。
　これら官能基を有するフッ素系樹脂として単官能および２官能以上の（メタ）アクロイル基を有するフッ素系樹脂が好適に適用できる。例えば、トリフルオロエチルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタアクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチルメタクリレート等の各種単官能アクリレートや、各種ポリ（パーフルオロアルキレエーテル）ジアクリレート、ＯＸ－ＳＱ－Ｆ、ＭＡＣ－ＳＱ－Ｆ、ＡＣ－ＳＱ－Ｆ等のアルキル基の一部がパーフルオロ基で置換された多官能光重合性シルセスキオキサン類（東亞合成（株）製）や、ＰＦ－３３２０（北村化学産業（株）製）、ＵＴ－ＵＣＨ２３（ＡＧＣセイケミカル（株）製）やフッ素系反応性のオリゴマー系の界面活性剤であるメガファックＲＳ－７５、メガファックＲＳ７２－Ｋ、メガファックＲＳ－７６－Ｅ、メガファックＲＳ－７６－ＮＳ（以上ＤＩＣ（株）製）等のＵＶ光重合型フッ素系表面改質剤が適用できる。
　特に、活性エネルギー線重合性のフッ素系界面活性剤は、溶剤溶解性に優れることから、インク設計の自由度が大きく、またインク中のエネルギー線硬化性樹脂と反応硬化し、膜表面に固定化された撥液層を形成するため、耐溶剤性や耐熱、耐摩耗性に優れた撥液層を有する絶縁膜を形成できることから好適に使用できる。特にＭｗ６０００～１００００程度のオリゴマー性の活性エネルギー線重合性のフッ素系界面活性剤は、インクのパターン形成性や転写性向上に効果を有しており、さらに好適に適用できる。これらオリゴマー性の活性エネルギー線重合性フッ素界面活性剤としては、例えば、メガファックＲＳ－７５、メガファックＲＳ－７－Ｋ，メガファックＲＳ－７６－Ｅ、メガファックＲＳ－７６－ＮＳ、メガファックＲＳ－９０（いずれもＤＩＣ（株）製）等をあげることができる。
　活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、エネルギー線重合性フッソ系界面活性剤が１～８０質量％含有されてもよく、２０～７０質量％含有されてもよく、３０～６０質量％含有されてもよく、４０～５５質量％含有されてもよい。
　上記の範囲でエネルギー線重合性フッソ系界面活性剤が含有されることで、硬化膜の撥液性をより優れたものとできる。
　なお、本発明の実施形態としては、界面活性剤として市販されるものであったとしても、活性エネルギー線硬化性を有するフッ素系界面活性剤は、本明細書においては、活性エネルギー線硬化性樹脂（エネルギー線硬化性樹脂と反応する官能基を有するフッ素系樹脂）として扱われるものとする。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクを用い、反転オフセット印刷により得られたパターニング膜のライン幅は、２０μｍ以下を達成可能であってもよく、１０μｍ以下を達成可能であってもよく、５μｍ以下を達成可能であってもよい。また硬化膜の膜厚は０．１μｍから５μｍ程度で形成することができる。
　実施形態の反転オフセット印刷用インクは、反転オフセット印刷により基板上に成形されたインク塗膜に、活性エネルギー線が照射されることで硬化し、硬化膜となる。活性エネルギー線の照射には、上記した活性エネルギー線を発する各種光源を用いることが出来る。電子線のほか紫外線としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、オゾンレスＵＶランプ、ＬＥＤ等が挙げられる。さらにキセノンランプをフラッシュランプとしてその全波長領域の光を利用することもできる。必要に応じ窒素や希ガスの様な不活性ガス下で、活性エネルギー線照射を行うことも出来る。
　中でも、高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプによるＵＶ光の適用が、ラジカル重合系である各種アクリレート、カチオン硬化系であるエポキシ化合物の架橋硬化に適しており好適に適用できる。
　なお、実施形態のエネルギー線硬化反転オフセットインクを各種電子デバイスに適用する場合の硬化膜の絶縁性は、該硬化膜の体積抵抗率が、５×１０１２Ωｃｍ以上であることが好ましく、１×１０１３Ωｃｍ以上であることがより好ましく、１×１０１４Ωｃｍ以上であることがさらに好ましい。
　反転オフセット印刷用インクの硬化膜の体積抵抗率は、実施例に記載の方法により求めることができる。
　上記の体積抵抗率の値を満たす反転オフセット印刷用インクの硬化膜は、例えば、反転オフセット印刷用インクに含有される樹脂やその他成分の絶縁性を調節することで得ることができる。
　上記の体積抵抗率の値を満たす反転オフセット印刷用インクの硬化膜は、絶縁膜として好適に使用可能である。
　本実施の形態を更に詳細に説明するために、以下に、実施例及び比較例を示すが、これらの実施例は本実施の形態の説明及びそれによって得られる効果等を具体的に示すものであって、本実施の形態を何ら制限するものではない。なお、以下の実施例及び比較例における各特性は、下記の方法に従って測定した。
１．反転オフセット印刷用インクの作製
　下記表１に示した配合に従って、それぞれ、実施例１～５及び比較例１～３のインクを配合、混合して作製した。なお、表１中、％の値は質量％を表す。界面活性剤、ＵＶ硬化性樹脂、微粒子粉末、及び重合開始剤が溶媒を含んで提供されている場合、表１における界面活性剤の各％、ＵＶ硬化性樹脂の各％、微粒子粉末の各％、及び重合開始剤の各％は、これらの材料における有効成分である固形分の値（溶剤中分散体の値）を示し、溶剤については別の欄に分けて記載している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
（フッ素系界面活性剤）
・Ｆ５５５：フッ素系　非反応性表面改質剤「メガファック」含フッ素基・親水性基・親油性基含有オリゴマー（有効成分３０質量％）（ＤＩＣ社製）
（ＵＶ硬化性樹脂）
・ＲＳ－７６－Ｅ：フッ素系　ＵＶ反応型表面改質剤「メガファック」（有効成分４０質量％、Ｍｗ　≒　７０００）（ＤＩＣ社製）
・Ｖ５５００：エポキシアクリレート　「ユニディック」ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂ベース（Ｍｗ　＝　５２０）（ＤＩＣ社製）
・Ｖ６８５０：「ユニディック」ＵＶ硬化性樹脂　（Ｍｗ　≒　３００００）（ＤＩＣ社製）
・アロニックスＭ４００：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（Ｍｗ　＝　２９８）（東亜合成社製）
・ＴＡＩＣプレポリマー（トリアリルイソシアヌレートポリマー、Ｍｗ　＝　２００００）（日本化成株式会社製）
・ＧＤ１５：アクリレート（Ｍｗ　＝　６２０００）　（ＤＩＣ社製）
・ＧＤ１５：アクリレート（Ｍｗ　＝　２８０００）　（ＤＩＣ社製）
・ＧＤ１５：アクリレート（Ｍｗ　＝　３２００）　（ＤＩＣ社製）
・ライトアクリレートＩＡＡ：イソアミルアクリレート（Ｍｗ　＝　１４２）（共栄社化学株式会社製）
（微粒子粉末）
・ＰＭＡ-ＳＴ：オルガノシリカゾル（日産化学工業株式会社製）
（重合開始剤）
・ＩＲＧ２９５９：ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９（ＢＡＳＦ社製）
・ＩＲＧ３７９Ｅ：ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９ＥＧ（ＢＡＳＦ社製）
・ＩＲＧ１８４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦ社製）
・ＩＲＧ９０７：ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）
（溶剤）
・ＩＰＡｃ：酢酸イソプロピル
・ＰＧＭＡｃ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
・ＭＥＫ／酢酸エチル／ＭＩＢＫ：メチルエチルケトン／酢酸エチル／メチルイソブチルケトン
　重量平均分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）を用い、下記の条件により求めた。
ポンプ；Ｗａｔｅｒｓ　６００　ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ
カラム；Ｓｈｏｄｅｘ　ＬＦ－８０４　４本連結
ＲＩ検出器；Ｗａｔｅｒｓ　２４１４
データ処理；Ｗａｔｅｒｓ　Ｅｍｐｏｗｅｒ２
測定条件；カラム温度　４０℃
　　　　　溶媒　テトラヒドロフラン
　　　　　流速　１．０ｍｌ／分
標準；ポリスチレン
試料；樹脂固形分換算で０．４重量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの
２．インク表面張力の測定
　上記実施例の反転オフセット印刷用インク及び比較例のインクの２５℃の表面張力は、協和界面科学社製の表面張力測定器（型式ＣＢＵＰ－Ａ３）を用いプレート法により測定した。結果を表１に示す。
３．硬化膜の作製
　ブランケットの離形面（ＰＤＭＳ）に簡易コーターを用いインク塗布し、約1分放置しインク半乾燥膜を形成した。ついてスライドガラスをインク面に軽く押し当て、半乾燥インクをガラス表面に転写した。ついで、高圧水銀ランプにより積算照度１０００ｍＪ／ｃｍ２でガラス上のインクを架橋させインク硬化膜を作成した。
４．印刷パターニング性の評価
　上記「３．硬化膜の作製」の際の反転オフセット印刷における、ブランケット上のインク塗膜の切れ性又は転写性について評価した。結果を表１に示す。
　室温約２３℃、湿度約４５％のクリーンルーム内でブランケットの離形面（ＰＤＭＳ）に簡易コーターを用いインクを塗布しＰＤＭＳ上に均一なインク膜を形成し、インク組成に合わせ乾燥時間を調整（３０秒～３００秒）しインク半乾燥膜を形成した。ついで、線幅５μｍの凸部が格子状に配列した５ｃｍ×５ｃｍのガラス版（抜き版）を軽くブランケット上のインク半乾燥膜に押し当て、インク半乾燥膜から抜き版凸部パターン相当箇所を除去することによりブランケット上に抜き版のネガティブパターンを形成した。次いで、該格子パターンをガラス基材上に軽く押し当てることによりブランケットから該格子パターンをガラス基材上に転写した。次いで、高圧水銀ランプにより積算照度１０００ｍＪ／ｃｍ２でガラス基板上のインクを架橋硬化させた。
　ここでインクの切れ性（パターンニング性）は、抜き版によるインク半乾燥膜パターン形成時においてブランケット上に形成されたインク格子パターンの顕微鏡観察により評価した。またインクの転写性はガラス基材へのパターン転写後のブランケット上へのインク残存の有無、及び基板上に転写されたパターンの形状の顕微鏡観察により評価した。
切れ性◎…抜き版の凸部のパターンが完全に精度よく除去された。
切れ性×…抜き版の凸部のパターンが完全に精度よく除去されなかった。
転写性◎…ブランケット上のパターニング膜が、完全に基板へと精度よく転写された。
転写性×…ブランケット上のパターニング膜が、完全に基板へと精度よく転写されなかった。
　比較例１：ブランケット上にインク塗布後、長時間の放置においても適度のインク半乾燥状態が得られず。抜き版凸部によるパターン形成時にインク塗膜より完全にインク膜を除去することができず、凸に相当する箇所の大部分のインクがブランケット上に残ったままであった（インク泣き別れ）。さらにこの不完全なブランケットのパターンをガラス基材に転写を試みたが、インクの泣き別れが発生に完全転写することが出来なかった。
　比較例２：ブランケット上に形成したインク半乾燥膜に抜き版の凸部を押しあて、相当箇所のインクを除去しパターンを形成しようとしたところ、インク塗膜の造膜性が大きすぎて凸版でインクを転写切り取ることが出来なかった。
５．硬化性（アセトンラビング耐性）の評価
　綿棒にアセトンを浸漬し、上記「３．硬化膜の作製」で作製された各硬化膜の表面の、同じ箇所(長さ約１０ｍｍ)を２５往復までこすり評価した。結果を表１に示す。
◎…２５往復こすっても、キズ、痕跡の発生が確認できなかった。
６．体積抵抗率の測定（絶縁性の評価）
　予め１ｍｍの線幅でパターンニングされたクロムパターンを有するガラス基板上に、先に示した硬化膜の製膜方法により、所定膜厚（０．５～５μｍ）のインク硬化膜を形成した。
　ついで、メタルマスクを用いクロムラインパターンと直交するようにＡｕの真空蒸着膜を形成し、硬化膜をはさみクロムとＡｕの対向面積１ｍｍ２の対向電極を形成した。アジレントテクノノロジー（株）のセミコンダクターデバイスアナライザー（Ｂ１５００Ａ）を用い、対向電極間に１００Ｖの電圧を負荷し、硬化膜のもれ電流の測定値より膜の体積抵抗率を計測した。
７．接触角の測定
　協和界面科学（株）製接触角計ドロップマスター（ＤＭ－５０１）を用い、上記「３．硬化膜の作製」で作製された各硬化膜上に、水又はｎ－ヘキサデカンを約２μＬの条件で液滴と塗膜との静的接触角を測定した。測定は２５℃の条件下で行った。結果を表１に示す。
　上記の表１に示されるとおり、実施例１～５の反転オフセット印刷用インクは、紫外線照射により硬化可能であり、反転オフセット印刷に適用された場合の、印刷パターニング性に優れ、紫外線硬化後の硬化膜のアセトンラビング耐性及び体積抵抗値（絶縁性）にも優れるものであった。
　一方、比較例１～３のインクは、反転オフセット印刷に適用された場合の、所望の印刷パターニングが得られず、反転オフセット印刷への使用は不可であった。
　実施例４～５の反転オフセット印刷用インクは、エネルギー線重合性のフッ素系界面活性剤を含有し、水系・油系の双方の液に対し高い撥液性を有していた。
　実施例２の反転オフセット用インクは、微粒子粉末（体質顔料）を含有することにより、Ｍｗが６０００未満のＵＶ硬化性樹脂を主体とし、Ｍｖを超える４００００のＵＶ硬化性樹脂をわずかに含有させることにより、反転オフセット印刷に適するインク特性を実現した。
　以上で説明した各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。また、本発明は各実施形態によって限定されることはなく、請求項（クレーム）の範囲によってのみ限定される。
１…インク塗膜、２…ブランケット、３…抜き版、基板…４

Claims (5)

  1. 　揮発性溶剤と、活性エネルギー線重合性基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂と、を含有し、２５℃におけるインクの表面張力が１５～２７ｍＮ／ｍであることを特徴とする、活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
  2. 　活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、体積平均粒子径１～１５０ｎｍの体質顔料を２０～３００質量％の範囲で含有する、請求項１に記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
  3. 　活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、重量平均分子量（Ｍｗ）が６０００～４００００の活性エネルギー線硬化性樹脂を１０～８０質量％の範囲で含有する、請求項１又は２に記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
  4. 　活性エネルギー線照射により硬化された硬化膜の水接触角が９５°より大きく、且つｎ－ヘキサデカンの接触角が５０°より大きい請求項１～３のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
  5. 　活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク中の全活性エネルギー線硬化性樹脂１００質量％に対し、エネルギー線重合性フッソ系界面活性剤を１～８０質量％含有する請求項１～４のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性反転オフセット印刷用インク。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019188339A (ja) * 2018-04-25 2019-10-31 国立研究開発法人産業技術総合研究所 機能性パターン薄膜の形成方法
JP2021021077A (ja) * 2018-12-05 2021-02-18 Ｄｉｃグラフィックス株式会社 活性エネルギー線硬化型インキ、インキ硬化物の製造方法及び印刷物
TWI860992B (zh) * 2018-03-30 2024-11-11 日商日揮觸媒化成股份有限公司 膜形成用塗布液以及附膜之基材之製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005126608A (ja) * 2003-10-24 2005-05-19 Mitsumura Printing Co Ltd 精密パターニング用インキ組成物
JP2008056884A (ja) * 2006-08-04 2008-03-13 Hitachi Chem Co Ltd 印刷インキ組成物及び該組成物を用いたカラーフィルターの製造方法
WO2009150972A1 (ja) * 2008-06-13 2009-12-17 Dic株式会社 絶縁膜形成用インキ組成物、該インキ組成物から形成された絶縁膜
JP2011178832A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Dic Corp 紫外線硬化型インクジェット記録用インク、それから得られた絶縁膜、電子素子及び電子素子の製造方法
WO2013187507A1 (ja) * 2012-06-15 2013-12-19 Dic株式会社 絶縁膜及びそれを用いた有機薄膜トランジスタ
JP2014003068A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Dic Corp 絶縁膜形成用活性エネルギー線硬化性インキおよびこれを用いた薄膜トランジスタ

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005126608A (ja) * 2003-10-24 2005-05-19 Mitsumura Printing Co Ltd 精密パターニング用インキ組成物
JP2008056884A (ja) * 2006-08-04 2008-03-13 Hitachi Chem Co Ltd 印刷インキ組成物及び該組成物を用いたカラーフィルターの製造方法
WO2009150972A1 (ja) * 2008-06-13 2009-12-17 Dic株式会社 絶縁膜形成用インキ組成物、該インキ組成物から形成された絶縁膜
JP2011178832A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Dic Corp 紫外線硬化型インクジェット記録用インク、それから得られた絶縁膜、電子素子及び電子素子の製造方法
WO2013187507A1 (ja) * 2012-06-15 2013-12-19 Dic株式会社 絶縁膜及びそれを用いた有機薄膜トランジスタ
JP2014003068A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Dic Corp 絶縁膜形成用活性エネルギー線硬化性インキおよびこれを用いた薄膜トランジスタ

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI860992B (zh) * 2018-03-30 2024-11-11 日商日揮觸媒化成股份有限公司 膜形成用塗布液以及附膜之基材之製造方法
JP2019188339A (ja) * 2018-04-25 2019-10-31 国立研究開発法人産業技術総合研究所 機能性パターン薄膜の形成方法
JP7028443B2 (ja) 2018-04-25 2022-03-02 国立研究開発法人産業技術総合研究所 機能性パターン薄膜の形成方法及びこれに用いる機能性インク
JP2021021077A (ja) * 2018-12-05 2021-02-18 Ｄｉｃグラフィックス株式会社 活性エネルギー線硬化型インキ、インキ硬化物の製造方法及び印刷物

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