WO2017134774A1 - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

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connector
resin
resin substrate
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康亮 池田
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    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]

Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device.
  • a semiconductor module including an electronic element made of a chip or the like and a sealing resin enclosing the electronic element is known.
  • JP 2011-114176 A can be cited.
  • a power semiconductor device including a power semiconductor element, a pair of metal members, and a mold resin portion filled to cover the pair of insulating layers.
  • the present invention has been made in view of these points, and provides a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device in which a plurality of connectors can be easily mounted.
  • a semiconductor device includes: A first substrate having a first conductive layer and a first electronic element provided in the first conductive layer; An intermediate layer provided on the first substrate, comprising: a plurality of connectors; and an intermediate layer having a resin substrate portion to which the plurality of connectors are fixed; The connector is exposed from the resin substrate portion on the first substrate side and is connected to the first conductive layer or the first electronic element.
  • the connector may be exposed from the resin substrate portion on the side opposite to the first substrate side, and a second electronic element may be provided on the connector.
  • the intermediate layer has a first intermediate layer and a second intermediate layer provided in the first intermediate layer,
  • the first intermediate layer has a first connector, and a first resin substrate portion to which the first connector is fixed
  • the second intermediate layer may include a second connector and a second resin substrate portion to which the second connector is fixed.
  • the first connector protrudes from the first resin substrate portion to the side where the second intermediate layer is provided,
  • the second resin substrate portion may be provided with a second insertion portion into which the first connector protruding from the first resin substrate portion is inserted.
  • the second connector protrudes from the second resin substrate portion to the side where the first intermediate layer is provided,
  • the first resin substrate portion may be provided with a first insertion portion into which the second connector protruding from the second resin substrate portion is inserted.
  • the first resin substrate portion and the second resin substrate portion may be formed from different resin materials.
  • the connector may protrude from the resin substrate portion on a surface on the first substrate side or on a surface opposite to the first substrate.
  • a control part may be provided in the resin substrate part of the intermediate layer.
  • a semiconductor device includes: A mold resin part covering the intermediate layer; The mold resin portion and the resin substrate portion may be formed from different resin materials.
  • the mold resin portion may be made of a thermosetting resin
  • the resin substrate portion may be made of a thermoplastic resin
  • the resin substrate portion may have a protruding portion protruding toward the first substrate at the periphery of the first electronic element.
  • At least one of the plurality of connectors is connected to the first electronic element;
  • the area of the surface opposite to the first electronic element may be larger than the area of the surface on the first electronic element side.
  • a method for manufacturing a semiconductor device includes: Preparing a first substrate having a first conductive layer and a first electronic element provided on the first conductive layer; Placing an intermediate layer having a plurality of connectors and a resin substrate portion fixing the plurality of connectors on the first substrate; With The connector is connected to the first conductive layer or the first electronic element.
  • the semiconductor device of the present invention has an intermediate layer having a plurality of connectors and a resin substrate portion to which the plurality of connectors are fixed, and the connectors are exposed from the resin substrate portion on the first substrate side. For this reason, a connector and a 1st electroconductivity can be connected only by mounting the connector already positioned by the resin substrate part on a 1st board
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
  • 2A is an upper plan view showing a first substrate of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention
  • FIG. 2B is a perspective view of the mode shown in FIG. .
  • 3A is an upper plan view showing a state in which the first intermediate layer is placed on the first substrate shown in FIG. 2
  • FIG. 3B is a mode shown in FIG.
  • FIG. 4A is an upper plan view showing a state where the second conductive layer and the second electronic element are placed on the first intermediate layer shown in FIG. 3
  • FIG. 4B is a plan view of FIG. It is a perspective view of the aspect shown to a).
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
  • 2A is an upper plan view showing a first substrate of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention
  • FIG. 2B is
  • FIG. 5A is an upper plan view showing a state in which the second intermediate layer is placed on the first intermediate layer, the second conductive layer, and the second electronic element shown in FIG. 4, and FIG. These are the perspective views of the aspect shown to Fig.5 (a).
  • 6A is an upper plan view showing a state in which the second substrate is placed on the second intermediate layer shown in FIG. 5, and FIG. 6B is the mode shown in FIG. 6A.
  • FIG. FIG. 7A is an upper plan view showing a state in which the first substrate, the first intermediate layer, the second intermediate layer, and the second substrate shown in FIG. 6 are resin-sealed, and FIG. FIG. 8 is a perspective view of the embodiment shown in FIG. FIG.
  • FIG. 8 (a) is an upper plan view showing the surface side of the first intermediate layer used in the embodiment of the present invention
  • FIG. 8 (b) is the first intermediate shown in FIG. 8 (a).
  • FIG. FIG. 9 (a) is an upper plan view showing the surface side of the second intermediate layer used in the embodiment of the present invention
  • FIG. 9 (b) is the second intermediate shown in FIG. 9 (a).
  • FIG. 10 (a) is a lower plan view showing the back side of the first intermediate layer used in the embodiment of the present invention
  • FIG. 10 (b) is a second plan view used in the embodiment of the present invention. It is the downward top view which showed the back surface side of the intermediate
  • FIG. 11 is an upper plan view of the first intermediate layer used in the modification of the embodiment of the present invention.
  • the semiconductor device of the present embodiment includes a first substrate 10 and an intermediate layer 20 provided on the first substrate 10.
  • the first substrate 10 includes a first substrate body 10a, a first conductive layer 11 provided on the first substrate body 10a, and a first electronic element 12 provided on the first conductive layer 11.
  • a connection terminal 13 provided in the first conductive layer 11 and extending along the short direction (vertical direction in FIG. 2A).
  • the two first electronic elements 12 are arranged symmetrically with respect to a straight line passing through the center of the semiconductor device and along the short direction.
  • the first electronic element 12 is provided with terminals 12a on the upper and lower surfaces thereof, and solder 12b is placed on the terminals 12a.
  • the heat sink 19 may be provided on the lower surface of the first substrate body 10a.
  • a second substrate 60 may be provided on the side opposite to the first substrate 10 side (upper side in FIG. 1) with respect to the intermediate layer 20.
  • a heat sink 69 may be provided on the upper surface of the second substrate body 60a.
  • the intermediate layer 20 includes a plurality of connectors 31 and 41 (see FIGS. 8 and 9) and resin substrate portions 39 and 49 to which the plurality of connectors 31 and 41 are fixed.
  • a first connector 31 described later is exposed from a first resin substrate portion 39 described later on the first substrate 10 side, and is connected to the first conductive layer 11 or the first electronic element 12.
  • the first connector 31 is also exposed from the first resin substrate portion 39 on the second substrate 60 side, and is connected to the second electronic element 62 through the second conductive layer 61.
  • the intermediate layer 20 may include a first intermediate layer 30 and a second intermediate layer 40 provided on the first intermediate layer 30.
  • the first intermediate layer 30 may include a first connector 31 and a first resin substrate portion 39 to which the first connector 31 is fixed.
  • the second intermediate layer 40 may include a second connector 41 and a second resin substrate portion 49 to which the second connector 41 is fixed.
  • the intermediate layer 20 will be described using an embodiment in which the first intermediate layer 30 and the second intermediate layer 40 are used.
  • the present invention is not limited to this, and the intermediate layer 20 is composed of one layer. Alternatively, it may have one resin substrate portion, or may be composed of three or more layers (may have three or more resin substrate portions).
  • the connectors 31 and 41 include the first connector 31 and the second connector 41.
  • the second connector 41 protrudes from the second resin substrate portion 49 to the side where the first intermediate layer 30 is provided, and as shown in FIG. May be provided with a first insertion portion 39a into which the second connector 41 protruding from the second resin substrate portion 49 is inserted.
  • the first connector 31 protrudes from the first resin substrate portion 39 to the side where the second intermediate layer 40 is provided, and the second resin substrate portion 49 A second insertion portion into which the first connector 31 protruding from the one resin substrate portion 39 is inserted may be provided.
  • a plurality of second connectors 41 project from the second resin substrate portion 49 to the side where the first intermediate layer 30 is provided, A description will be given using a mode of insertion into one insertion portion 39a.
  • the first connector 31 may protrude from the first resin substrate portion 39 to the first substrate 10 side or the second intermediate layer 40 side, may penetrate through the first resin substrate portion 39, or the first resin
  • the second resin substrate 49 may be flush with the second resin substrate 49 without protruding from the substrate 39. That is, the plurality of first connectors 31 may include one or more of the protruding first connector 33, the through-type first connector, and the flush-type first connector.
  • the plurality of first connectors 31 include protruding first connectors 33 that protrude from the first resin substrate portion 39 toward the first substrate 10.
  • four protruding first connectors 33 are provided.
  • the protruding first connector 33 has a mounting protruding first connector 33a.
  • the second electronic element 62 is provided on the upper surface of the mounting protruding first connector 33a. More specifically, the protruding first connector 33 has two mounting protruding first connectors 33a. The second electronic element 62 is provided on the upper surface of each of the mounting protruding first connectors 33a via the second conductive layer 61.
  • the second connector 41 shown in FIG. 9 may protrude from the second resin substrate portion 49 to the first intermediate layer 30 side or the opposite side of the first intermediate layer 30, and penetrate the second resin substrate portion 49.
  • the second resin substrate 49 may be flush with the second resin substrate 49 without protruding from the second resin substrate 49. That is, the plurality of second connectors 41 may include one or more of the protruding second connector 43, the through-type second connector, and the flush-type second connector.
  • the second connector 41 is a protruding second connector that protrudes from the second resin substrate portion 49 toward the first intermediate layer 30 (the back side of the paper surface of FIG. 9A).
  • 43, 45 The protruding second connectors 43, 45 are a protruding second connector 43 inserted into the first insertion portion 39 a, and a protruding second connector 45 having a shorter length than the protruding second connector 43. ,have.
  • the protruding second connector 43 is inserted into the first insertion portion 39a of the first resin substrate portion 39 shown in FIG. That is, each of the six long protruding second connectors 43 is inserted into the first insertion portion 39a.
  • the first resin substrate portion 39 and the second resin substrate portion 49 may be formed of the same resin material, but the present invention is not limited to this, and the first resin substrate portion 39 and the second resin substrate portion 49 are different. You may form from a resin material.
  • the first electronic element 12 and the second electronic element 62 of the present embodiment may be power devices.
  • An example of a power device is a switching device. More specifically, examples of power devices include FETs such as MOSFETs, bipolar transistors, IGBTs, and the like, and typical examples include MOSFETs.
  • a control unit 80 including an IC chip 81, a resistor 82, a capacitor 83, and the like may be provided on the resin substrate portions 39 and 49 of the intermediate layer 20.
  • the control unit 80 may be provided in the first intermediate layer 30, may be provided in the second intermediate layer 40, or may be provided in both the first intermediate layer 30 and the second intermediate layer 40. Good.
  • the control unit 80 is provided in the first intermediate layer 30.
  • the control unit 80 may have a function of controlling the first electronic element 12 and the second electronic element 62 that are power devices.
  • the semiconductor device of the present embodiment includes a mold resin portion 90 (see also FIG. 7) that covers the first substrate 10, the first intermediate layer 30, the second intermediate layer 40, and the second substrate 60. Furthermore, you may have.
  • the mold resin portion 90 and the resin substrate portions 39 and 49 may be formed from different resin materials. When the resin materials of the first resin substrate portion 39 and the second resin substrate portion 49 are different, the resin material of the mold resin portion 90 is different from the resin material of the first resin substrate portion 39, but the resin material of the second resin substrate portion 49 is different.
  • the resin material may be the same, or may be the same as the resin material of the first resin substrate portion 39 although it is different from the resin material of the second resin substrate portion 49.
  • the mold resin portion 90 may be made of a thermosetting resin
  • the resin substrate portions 39 and 49 may be made of a thermoplastic resin.
  • thermoplastic resin is not particularly limited, but plastic or the like can be used.
  • thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, poly-4-methylpentene-1, ionomer, polystyrene, AS resin, ABS resin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, methacrylic resin, polyvinyl alcohol, EVA, polycarbonate, and various types.
  • Nylon various aromatic or aliphatic polyesters, thermoplastic polyurethane, cellulosic plastic, thermoplastic elastomer, polyarylate resin, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide , Polyphenyl ether, polybenzimidazole, aramid, polyparaphenylene benzobisoxazole, etc. .
  • thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin, a phenol resin, and an unsaturated polyester resin.
  • the connectors 31 and 41 may have different surface areas on the front surface (the surface on the second substrate 60 side) and the back surface (the surface on the first substrate 10 side). More specifically, the surface area of the connectors 31 and 41 may be larger than the area of the back surface.
  • the drawing on the front side of the first intermediate layer 30 shown in FIG. 8A and the drawing on the back side of the first intermediate layer 30 shown in FIG. 10A are compared, in the present embodiment,
  • the surface (surface opposite to the first electronic element 12, that is, the upper surface) of the mounting protruding first connector 33 a is larger than the area of the back surface (surface on the first electronic element 12, that is, the lower surface). It has become. For this reason, it is possible to radiate the heat generated from the first electronic element 12 using the large surface of the mounting protruding first connector 33a while suppressing the area at a distance close to the first electronic element 12 as much as possible. .
  • the second electronic element 62 since the second electronic element 62 is disposed on the mounting protruding first connector 33a via the second conductive layer 61, the second electronic element 62 and the mounting protruding first A certain distance can be separated from the surface of the one connector 33a. Further, the heat generated from the second electronic element 62 can also be radiated using the large surface of the protruding first connector 33a for placement.
  • the drawing on the front side of the second intermediate layer 40 shown in FIG. 9A and the drawing on the back side of the first intermediate layer 30 shown in FIG. 10B are compared, in the present embodiment,
  • the surface (surface opposite to the second electronic element 62, that is, the upper surface) of the protruding second connector 45 having a short length is larger than the area of the rear surface (surface on the second electronic element 62 side, that is, lower surface). It is getting bigger. For this reason, the heat generated from the first electronic element 62 can be radiated using the large surface of the protruding second connector 45 while suppressing the area at a distance close to the second electronic element 62 as much as possible.
  • the first resin substrate portion 39 is integrally formed on the back surface (the surface on the first substrate 10 side) and protrudes toward the first substrate 10 at the periphery of the first electronic element 12.
  • a first protrusion 38 is provided, and the first protrusion 38 can prevent inadvertent movement of the first electronic element 12. More specifically, a first protruding portion 38 is provided on the back surface of the first resin substrate portion 39 along the short direction. Before reflowing solder (not shown) located between the first conductive layer 11 and the first electronic element 12, the first electronic element 12 may move carelessly. By providing the protrusion 38, such inadvertent movement can be prevented in advance.
  • the second resin substrate portion 49 is integrally formed on the back surface (the surface on the first substrate 10 side) and protrudes toward the first intermediate layer 30 at the periphery of the second electronic element 62.
  • the second protrusion 48 is provided, and the second protrusion 48 can prevent inadvertent movement of the second electronic element 62. More specifically, eight key-shaped second protrusions 48 are provided on the back surface of the second resin substrate portion 49. Before the reflow of solder (not shown) located between the second conductive layer 61 and the second electronic element 62, the second electronic element 62 may move carelessly. By providing the protrusion 48, such inadvertent movement can be prevented in advance.
  • a first substrate 10 having a first conductive layer 11 and a first electronic element 12 provided on the first conductive layer 11 as shown in FIG. 2 is prepared.
  • Solder 12 b is placed on the terminal 12 a of the first electronic element 12.
  • the intermediate layer 20 is placed on the first substrate 10.
  • the intermediate layer 20 includes the first intermediate layer 30 and the second intermediate layer 40, the following steps are performed.
  • the first intermediate layer 30 is placed on the first substrate 10 (see FIG. 3). As shown in FIG. 8, the first intermediate layer 30 has a protruding first connector 33 that protrudes from the first resin substrate portion 39 toward the first substrate 10.
  • the lower end portion of the protruding first connector 33 is placed on the solder 12b provided on the terminal 12a of the first electronic element 12 or the solder 11b provided on the first conductive layer 11 (see FIG. 2).
  • the Specifically, the lower end (the lower end located below the second electronic element 62) inside the pair of protruding first connectors 33a for mounting is placed on the solder 12b on the terminal 12a of the first electronic element 12.
  • the lower ends of the two protruding first connectors 33a for placement are placed on the solder 11b on the first conductive layer 11 (see also FIG. 10A). Further, the protruding first connector 33 which is not the mounting protruding first connector 33a is mounted on the solder 11b provided on the first conductive layer 11 at both lower ends thereof (FIG. 10 ( See also a)).
  • a second electronic element 62 is provided on the upper surface of the mounting protruding first connector 33 a via the second conductive layer 61.
  • Solder 62 b is provided on the upper surface of the second electronic element 62, and solder 61 b is provided on the upper surface of the second conductive layer 61.
  • the first intermediate layer 30 is placed on the first substrate 10, and then the second electronic element 62 is provided on the first intermediate layer 30.
  • the first intermediate layer 30 may be placed on the first substrate 10 after the second electronic element 62 is provided. According to such an embodiment, it is advantageous in that the second electronic element 62 can be provided on the first intermediate layer 30 in a more stable state.
  • the second intermediate layer is formed on the first intermediate layer 30 as shown in FIG. 5.
  • 40 is placed.
  • the first resin substrate portion 39 of the first intermediate layer 30 is provided with a first insertion portion 39a into which the protruding second connector 43 is inserted.
  • each of the six protruding second connectors 43 is inserted into the first insertion portion 39a.
  • the rest is placed on the solder 61 b on the upper surface of the second conductive layer 61. More specifically, the lower end of the protruding second connector 45a having a large cross-sectional area is placed on the solder 62b on the upper surface of the second electronic element 62, and the lower end of the protruding second connector 45b having a small cross-sectional area is the first. It is placed on the solder 61b on the upper surface of the two conductive layer 61 (see also FIG. 10B).
  • the second substrate 60 is placed on the upper surface of the second intermediate layer 40.
  • the integrated body of the first substrate 10, the first intermediate layer 30, the second intermediate layer 40 and the second substrate 60 is heated at a temperature of 240 ° C. to 260 ° C. Reflow Thereafter, the integrated product is put into a mold, and a sealing material that is a material of the mold resin portion 90 is injected into the mold. As a result, a semiconductor device is manufactured.
  • the semiconductor device has an intermediate layer 20 having a plurality of connectors 31, 41 and resin substrate portions 39, 49 to which the plurality of connectors 31, 41 are fixed (FIGS. 8 and 9).
  • the connectors 31 and 41 are exposed from the resin substrate portions 39 and 49 on the first substrate 10 side. For this reason, the connectors 31, 41 and the first conductive layer 11 can be connected only by placing the connectors 31, 41 already positioned by the resin substrate portions 39, 49 on the first substrate 10, and the semiconductor device It can be manufactured easily.
  • a jig is required when providing the plurality of connectors 31 and 41 in the intermediate layer 20, but since the configuration is simple, the operation using the jig does not become complicated.
  • the connector (first connector 31) is exposed from the resin substrate portion (first resin substrate portion 39) on the second substrate 60 side and connected to the second electronic element 62.
  • the second electronic element 62 can be stacked on the first electronic element 12.
  • the intermediate layer 20 has a first intermediate layer 30 and a second intermediate layer 40
  • the first intermediate layer 30 has a first resin substrate portion 39 to which the first connector 31 is fixed
  • the second intermediate layer 40 adopts an embodiment having the second resin substrate portion 49 to which the second connector 41 is fixed (see FIGS. 8 and 9)
  • the connectors 31 and 41 can be positioned in advance with respect to the resin substrate portions 39 and 49.
  • the first connector 31 protrudes from the first resin substrate portion 39 to the side where the second intermediate layer 40 is provided, and the second resin substrate portion 49 protrudes from the first resin substrate portion 39.
  • the first connector 31 protruding from the first resin substrate portion 39 is simply inserted into the second insertion portion. This is advantageous in that the relative positioning between the intermediate layer 30 and the second intermediate layer 40 can be performed.
  • the second connector 41 protrudes from the second resin substrate 49 to the side where the first intermediate layer 30 is provided, and the second connector 41 protrudes from the second resin substrate 49 to the first resin substrate 39. Even when a mode in which the first insertion portion 39a into which the (protruding type second connector 43) is inserted is employed (see FIGS. 8 and 9), the second connector protruding from the second resin substrate portion 49 is used. It is advantageous in that the relative positioning between the first intermediate layer 30 and the second intermediate layer 40 can be performed only by inserting 41 (protruding type second connector 43) into the first insertion portion 39a. is there.
  • the protruding first connector 33 protruding toward the first substrate 10 when the protruding first connector 33 protruding toward the first substrate 10 is employed (see FIG. 8), there is a thickness between the first substrate 10 and the first intermediate layer 30. This is useful when it is necessary to increase the thickness due to the arrangement of the first electronic element 12 or the like. Further, when such a protruding first connector 33 protruding toward the first substrate 10 is employed, it is also advantageous in that a good solder ferret can be formed on the periphery of the protruding first connector 33. It is. When a projecting type first connector projecting to the second intermediate layer 40 side is employed, and a mode of inserting into the second insertion part of the second intermediate layer 40 is employed, a positioning function can be provided. It is beneficial.
  • the through-type first connector When the through-type first connector is adopted, it has both functions of the protruding first connector 33 protruding to the first substrate 10 side and the protruding first connector protruding to the second intermediate layer 40 side. It is beneficial in that it can be made. When the flush-type first connector is employed, it is advantageous in that the thickness in the thickness direction can be reduced.
  • the first intermediate layer 30 is stabilized. Can be placed on the first substrate 10.
  • a thickness can be provided between the second substrate 60 and the second intermediate layer 40. This is useful when it is necessary to increase the thickness due to the arrangement of the two-electron element 62 and the like.
  • the projecting type second connector 43 projecting to the first intermediate layer 30 side (long length) is adopted and the first intermediate portion 30 is provided with the first insertion portion 39a, The protruding second connector 43 can be inserted into the first insertion portion 39a of the first intermediate layer 30, which is advantageous in that it can have a positioning function.
  • the projecting second connector 45 projecting toward the first intermediate layer 30 (short length)
  • the projecting second connector 45 is provided in the second conductive layer 61 and the second electronic element 62. It is beneficial in that it can be easily connected.
  • both the protruding second connector protruding toward the second substrate 60 and the protruding second connector 43 protruding toward the first intermediate layer 30 are provided. It is beneficial in that it can be made.
  • the flush-type second connector is employed, it is advantageous in that the thickness in the thickness direction can be reduced.
  • the first resin substrate portion 39 and the second resin substrate portion 49 have different functions. It is useful because it can be used.
  • the thickness of the second resin substrate portion 49 is thinner than the thickness of the first resin substrate portion 39, the material of the second resin substrate portion 49 is higher in strength than the material of the first resin substrate portion 39.
  • a resin may be used.
  • PEEK polyetheretherketone
  • PPS polyphenylene sulfide
  • PBT polybutylene terephthalate
  • the second resin substrate portion 49 having a small thickness can achieve high strength, and the first resin substrate portion 39 and the second resin substrate portion 49 can have the same strength. It is beneficial.
  • control unit 80 when the control unit 80 is provided in the resin substrate portions 39 and 49 of the intermediate layer 20, the power unit and the control unit 80 can be positioned very close to each other. Therefore, the possibility of malfunctioning can be reduced in advance. Further, by providing the control unit 80 in the semiconductor device in this way, an IPM (Intelligent Power Module) can be realized.
  • IPM Intelligent Power Module
  • the resin substrate portions 39 and 49 located on the inner side and the mold resin portion 90 located on the outer side are beneficial in that it can perform different functions.
  • the mold resin portion 90 is a thermosetting resin
  • high positioning accuracy can be expected when a thermoplastic resin is employed as the material of the resin substrate portions 39 and 49. That is, when a thermosetting resin is used as the resin substrate portions 39 and 49, the hardness of the resin substrate portions 39 and 49 is not sufficient before the heat is applied, and thus the positions of the connectors 31 and 41 may deviate from the planned positions. There is.
  • thermoplastic resin when a thermoplastic resin is employed as the resin substrate portions 39 and 49, since the hardness is sufficient before heat is applied, the possibility that the positions of the connectors 31 and 41 are shifted can be reduced.
  • it demonstrates using the aspect of this Embodiment it will be more reliable that the shape of the 1st insertion part 39a will deform
  • FIG. By adopting a thermoplastic resin as the second resin substrate portion 49, it is possible to more reliably prevent the protruding second connector 43 from being displaced.

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Abstract

 半導体装置は、第一導電層(11)と、前記第一導電層(11)に設けられた第一電子素子(12)とを有する第一基板(10)と、前記第一基板(10)に設けられた中間層(20)であって、複数の接続子と、前記複数の接続子を固定した樹脂基板部とを有する中間層(20)と、を有している。前記接続子は前記第一基板(10)側で前記樹脂基板部から露出し、前記第一導電層(11)又は前記第一電子素子(12)と接続されている。

Description

半導体装置及び半導体装置の製造方法
 本発明は半導体装置及び半導体装置の製造方法に関する。
 従来から、チップ等からなる電子素子と、この電子素子を封入する封止樹脂とを備えた半導体モジュールが知られている。このような従来の半導体モジュールの一例としては、特開2011-114176号公報を挙げることができる。この特開2011-114176号公報では、パワー半導体素子と、パワー半導体素子を挟んで配置された一対の金属部材と、一対の金属部材を挟んで一対の放熱板上に積層された一対の絶縁層と、パワー半導体素子と、一対の金属部材と、一対の絶縁層とを覆って充填されたモールド樹脂部とを備えたパワー半導体装置が開示されている。
 このような半導体装置では、金属等からなる接続子の数が多くなる。また、接続子の中には微細なものもあることから実装が不安定になる。このため、接続子を安定した状態で実装するには多数の治具を用いる必要がある。また、マウンター装置を用いて自動的に接続子を実装することも考えられるが、接続子の数が多い場合には、その工程に多くの時間がかかってしまう。
 本発明は、このような点を鑑みてなされたものであり、複数の接続子を簡易に実装することができる半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
 本発明による半導体装置は、
 第一導電層と、前記第一導電層に設けられた第一電子素子とを有する第一基板と、
 前記第一基板に設けられた中間層であって、複数の接続子と、前記複数の接続子を固定した樹脂基板部とを有する中間層と、を備え、
 前記接続子は前記第一基板側で前記樹脂基板部から露出し、前記第一導電層又は前記第一電子素子と接続されている。
 本発明による半導体装置において、
 前記接続子は前記第一基板側と反対側で前記樹脂基板部から露出し、前記接続子上に第二電子素子が設けられてもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記中間層は、第一中間層と、前記第一中間層に設けられた第二中間層とを有し、
 前記第一中間層は、第一接続子と、前記第一接続子を固定した第一樹脂基板部とを有し、
 前記第二中間層は、第二接続子と、前記第二接続子を固定した第二樹脂基板部とを有してもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記第一接続子は、前記第一樹脂基板部から前記第二中間層が設けられる側に突出しており、
 前記第二樹脂基板部には、前記第一樹脂基板部から突出した前記第一接続子が挿入される第二挿入部が設けられてもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記第二接続子は、前記第二樹脂基板部から前記第一中間層が設けられる側に突出しており、
 前記第一樹脂基板部には、前記第二樹脂基板部から突出した前記第二接続子が挿入される第一挿入部が設けられてもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記第一樹脂基板部と前記第二樹脂基板部とは異なる樹脂材料から形成されてもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記接続子は、第一基板側の面又は第一基板と反対側の面において前記樹脂基板部から突出してもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記中間層の前記樹脂基板部に制御部が設けられてもよい。
 本発明による半導体装置は、
 前記中間層を覆うモールド樹脂部をさらに備え、
 前記モールド樹脂部と前記樹脂基板部とは異なる樹脂材料から形成されてもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記モールド樹脂部は熱硬化性樹脂からなり、前記樹脂基板部は熱可塑性樹脂からなってもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記樹脂基板部は、前記第一電子素子の周縁で前記第一基板側に突出した突出部を有してもよい。
 本発明による半導体装置において、
 前記複数の接続子のうちの少なくとも一つは、前記第一電子素子に接続され、
 前記第一電子素子と反対側の面の面積は、前記第一電子素子側の面の面積よりも大きくなってもよい。
 本発明による半導体装置の製造方法は、
 第一導電層と、前記第一導電層に設けられた第一電子素子とを有する第一基板を準備する工程と、
 前記第一基板に、複数の接続子と、前記複数の接続子を固定した樹脂基板部とを有する中間層を載置する工程と、
 を備え、
 前記接続子が前記第一導電層又は前記第一電子素子に接続される。
 本発明の半導体装置は、複数の接続子と複数の接続子を固定した樹脂基板部とを有する中間層を有しており、接続子が第一基板側で樹脂基板部から露出している。このため、樹脂基板部によって既に位置決めされた接続子を第一基板に載置するだけで、接続子と第一導電とを接続でき、半導体装置を容易に製造することができる。
図1は、本発明の実施の形態による半導体装置の構成の概略を示した断面図である。 図2(a)は、本発明の実施の形態による半導体装置の第一基板を示した上方平面図であり、図2(b)は、図2(a)に示した態様の斜視図である。 図3(a)は、図2に示した第一基板に第一中間層を載置した状態を示した上方平面図であり、図3(b)は、図3(a)に示した態様の斜視図である。 図4(a)は、図3に示した第一中間層に第二導電層及び第二電子素子を載置した状態を示した上方平面図であり、図4(b)は、図4(a)に示した態様の斜視図である。 図5(a)は、図4に示した第一中間層、第二導電層及び第二電子素子に第二中間層を載置した状態を示した上方平面図であり、図5(b)は、図5(a)に示した態様の斜視図である。 図6(a)は、図5に示した第二中間層に第二基板を載置した状態を示した上方平面図であり、図6(b)は、図6(a)に示した態様の斜視図である。 図7(a)は、図6に示した第一基板、第一中間層、第二中間層及び第二基板を樹脂封止した状態を示した上方平面図であり、図7(b)は、図7(a)に示した態様の斜視図である。 図8(a)は、本発明の実施の形態で用いられる第一中間層の表面側を示した上方平面図であり、図8(b)は、図8(a)に示した第一中間層の斜視図である。 図9(a)は、本発明の実施の形態で用いられる第二中間層の表面側を示した上方平面図であり、図9(b)は、図9(a)に示した第二中間層の斜視図である。 図10(a)は、本発明の実施の形態で用いられる第一中間層の裏面側を示した下方平面図であり、図10(b)は、本発明の実施の形態で用いられる第二中間層の裏面側を示した下方平面図である。 図11は、本発明の実施の形態の変形例で用いられる第一中間層の上方平面図である。
実施の形態
《構成》
 本実施の形態の半導体装置は、図1に示すように、第一基板10と、第一基板10に設けられた中間層20と、を有している。図2に示すように、第一基板10は、第一基板本体10aと、第一基板本体10aに設けられた第一導電層11と、第一導電層11に設けられた第一電子素子12と、第一導電層11に設けられ、短手方向(図2(a)の上下方向)に沿って延在した接続端子13と、を有している。図2に示す態様では、2つの第一電子素子12が、半導体装置の中心を通り短手方向に沿った直線に対して線対称で配置されている。第一電子素子12には、その上下面に端子12aが設けられ、この端子12aにははんだ12bが載置されている。図1に示すように、第一基板本体10aの下面には放熱板19が設けられてもよい。
 図1に示すように、本実施の形態の半導体装置は、中間層20を基準として第一基板10側と反対側(図1の上側)に第二基板60が設けられてもよい。第二基板本体60aの上面に放熱板69が設けられてもよい。
 中間層20は、複数の接続子31,41(図8及び図9参照)と、複数の接続子31,41を固定した樹脂基板部39,49とを有している。後述する第一接続子31は第一基板10側で後述する第一樹脂基板部39から露出し、第一導電層11又は第一電子素子12と接続されている。また、第一接続子31は第二基板60側でも第一樹脂基板部39から露出し、第二導電層61を介して第二電子素子62と接続されている。
 図1に示すように、中間層20は、第一中間層30と、第一中間層30に設けられた第二中間層40とを有してもよい。図8に示すように、第一中間層30は、第一接続子31と、第一接続子31を固定した第一樹脂基板部39とを有してもよい。図9に示すように、第二中間層40は、第二接続子41と、第二接続子41を固定した第二樹脂基板部49とを有してもよい。本実施の形態では、中間層20が第一中間層30及び第二中間層40を有する態様を用いて説明するが、これに限られることはなく、中間層20が1つの層から構成されてもよいし(1つの樹脂基板部を有してもよいし)、3つ以上の層から構成されてもよい(3つ以上の樹脂基板部を有してもよい)。中間層20が第一中間層30及び第二中間層40を有する態様では、接続子31,41が第一接続子31及び第二接続子41を有している。
 図9(b)に示すように、第二接続子41は、第二樹脂基板部49から第一中間層30が設けられる側に突出し、図8に示すように、第一樹脂基板部39には、第二樹脂基板部49から突出した第二接続子41が挿入される第一挿入部39aが設けられてもよい。このような態様の代わりに又はこのような態様と併用されて、第一接続子31は第一樹脂基板部39から第二中間層40が設けられる側に突出し、第二樹脂基板部49に第一樹脂基板部39から突出した第一接続子31が挿入される第二挿入部が設けられてもよい。本実施の形態では、複数の第二接続子41(後述する長さの長い突出型第二接続子43)が、第二樹脂基板部49から第一中間層30が設けられる側に突出し、第一挿入部39aに挿入される態様を用いて説明する。
 第一接続子31は、第一樹脂基板部39から第一基板10側又は第二中間層40側に突出してもよいし、第一樹脂基板部39を貫通してもよいし、第一樹脂基板部39から突出せずに、第二樹脂基板部49と面一になってもよい。つまり、複数の第一接続子31に、突出型第一接続子33、貫通型第一接続子及び面一型第一接続子のいずれかが1個以上含まれてもよい。
 一例として図8に示す態様では、複数の第一接続子31に、第一樹脂基板部39から第一基板10側に突出した突出型第一接続子33が含まれている。図8に示す態様では、4個の突出型第一接続子33が設けられている。
 図8に示す態様では、突出型第一接続子33は、載置用突出型第一接続子33aを有している。そして、図4に示すように、この載置用突出型第一接続子33aの上面には第二電子素子62が設けられるようになっている。より具体的には、突出型第一接続子33は、2個の載置用突出型第一接続子33aを有している。そして、この載置用突出型第一接続子33aの各々の上面に、第二導電層61を介して第二電子素子62が設けられるようになっている。
 図9に示す第二接続子41は、第二樹脂基板部49から第一中間層30側又は第一中間層30と反対側に突出してもよいし、第二樹脂基板部49を貫通してもよいし、第二樹脂基板部49から突出せずに、第二樹脂基板部49と面一になってもよい。つまり、複数の第二接続子41に、突出型第二接続子43、貫通型第二接続子及び面一型第二接続子のいずれかが1個以上含まれてもよい。
 図9に示す態様では、一例として、第二接続子41は、第二樹脂基板部49から第一中間層30側(図9(a)の紙面の裏側)に突出した突出型第二接続子43,45を有している。突出型第二接続子43,45は、第一挿入部39aに挿入される突出型第二接続子43と、突出型第二接続子43よりも長さの短い突出型第二接続子45と、を有している。
 本実施の形態では、突出型第二接続子43が、図8に示す第一樹脂基板部39の第一挿入部39aに挿入されるようになっている。つまり、6個の長さの長い突出型第二接続子43の各々が第一挿入部39aに挿入されるようになっている。
 第一樹脂基板部39と第二樹脂基板部49とは同じ樹脂材料から形成されてもよいが、これに限られることはなく、第一樹脂基板部39と第二樹脂基板部49とは異なる樹脂材料から形成されてもよい。
 本実施の形態の第一電子素子12及び第二電子素子62はパワーデバイスであってもよい。パワーデバイスの一例としてはスイッチングデバイスを挙げることができる。より具体的には、パワーデバイスの一例として、MOSFET等のFET、バイポーラトランジスタ、IGBT等を挙げることができ、典型例を挙げるとするとMOSFETを挙げることができる。
 図11に示すように、中間層20の樹脂基板部39,49にはICチップ81、抵抗82、コンデンサ83等を含む制御部80が設けられてもよい。この制御部80は、第一中間層30に設けられてもよいし、第二中間層40に設けられてもよいし、第一中間層30及び第二中間層40の両方に設けられてもよい。図11に示す態様では、制御部80は第一中間層30に設けられている。制御部80はパワーデバイスからなる第一電子素子12及び第二電子素子62を制御する機能を有してもよい。
 図1に示すように、本実施の形態の半導体装置は、第一基板10、第一中間層30、第二中間層40及び第二基板60を覆うモールド樹脂部90(図7も参照)をさらに有してもよい。モールド樹脂部90と樹脂基板部39,49とは異なる樹脂材料から形成されてもよい。第一樹脂基板部39と第二樹脂基板部49の樹脂材料が異なる場合には、モールド樹脂部90の樹脂材料は、第一樹脂基板部39の樹脂材料と異なるが第二樹脂基板部49の樹脂材料とは同じものとなってもよいし、第二樹脂基板部49の樹脂材料と異なるが第一樹脂基板部39の樹脂材料とは同じものとなってもよい。
 一例としては、モールド樹脂部90は熱硬化性樹脂からなり、樹脂基板部39,49は熱可塑性樹脂からなってもよい。
 熱可塑性樹脂は特に限定されないが、プラスチック等を用いることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-4-メチルペンテン-1、アイオノマー、ポリスチレン、AS樹脂、ABS樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、メタクリル樹脂、ポリビニルアルコール、EVA、ポリカーボネート、各種ナイロン、各種芳香族または脂肪族ポリエステル、熱可塑性ポリウレタン、セルロース系プラスチック、熱可塑性エラストマー、ポリアリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリベンズイミダゾール、アラミド、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール等を挙げることができる。
 熱硬化性樹脂は特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
 接続子31,41は、表面(第二基板60側の面)と裏面(第一基板10側の面)とで、その表面積が異なってもよい。より具体的には、接続子31,41の表面の面積は裏面の面積と比較して大きくなってもよい。
 図8(a)に示す第一中間層30の表側の図面と、図10(a)に示す第一中間層30の裏側の図面とを比較すれば明らかであるが、本実施の形態では、一例として、載置用突出型第一接続子33aの表面(第一電子素子12と反対側の面、つまり上面)は裏面(第一電子素子12側の面、つまり下面)の面積よりも大きくなっている。このため、第一電子素子12に近い距離での面積を極力抑えつつ、第一電子素子12から発生した熱を載置用突出型第一接続子33aの大きな表面を用いて放熱することができる。なお、本実施の形態では、載置用突出型第一接続子33aに第二電子素子62が第二導電層61を介して配置されるので、第二電子素子62と載置用突出型第一接続子33aの表面とは一定程度の距離を離すことができる。また、この第二電子素子62から発生した熱も載置用突出型第一接続子33aの大きな表面を用いて放熱することができる。
 図9(a)に示す第二中間層40の表側の図面と、図10(b)に示す第一中間層30の裏側の図面とを比較すれば明らかであるが、本実施の形態では、一例として、長さの短い突出型第二接続子45の表面(第二電子素子62と反対側の面、つまり上面)は裏面(第二電子素子62側の面、つまり下面)の面積よりも大きくなっている。このため、第二電子素子62に近い距離での面積を極力抑えつつ、第一電子素子62から発生した熱を突出型第二接続子45の大きな表面を用いて放熱することができる。
 図10(a)に示すように、第一樹脂基板部39の裏面(第一基板10側の面)には、一体成形され、第一電子素子12の周縁で第一基板10側に突出した第一突出部38が設けられており、この第一突出部38によって第一電子素子12の不用意な移動を防止することができる。より具体的には、第一樹脂基板部39の裏面に、短手方向に沿って第一突出部38が設けられている。第一導電層11と第一電子素子12との間に位置するはんだ(図示せず)をリフローする前では第一電子素子12が不用意に移動する可能性があるが、このような第一突出部38を設けることで、このような不用意な移動を予め防止できる。
 図10(b)に示すように、第二樹脂基板部49の裏面(第一基板10側の面)には、一体成形され、第二電子素子62の周縁で第一中間層30側に突出した第二突出部48が設けられており、この第二突出部48によって第二電子素子62の不用意な移動を防止することができる。より具体的には、第二樹脂基板部49の裏面に、鍵型の8個の第二突出部48が設けられている。第二導電層61と第二電子素子62との間に位置するはんだ(図示せず)をリフローする前では第二電子素子62が不用意に移動する可能性があるが、このような第二突出部48を設けることで、このような不用意な移動を予め防止できる。
《製造方法》
 本実施の形態の半導体装置の製造方法の一例は、以下のようになる。なお、上記と重複することになるので簡単に説明するに留めるが、上記「構成」で述べた全ての態様を「製造方法」によって製造できる。また、下記「製造方法」で記載された態様の全てを「構成」に適用することができる。
 図2に示すような、第一導電層11と、第一導電層11に設けられた第一電子素子12とを有する第一基板10を準備する。第一電子素子12の端子12aにははんだ12bが載置されている。
 第一基板10上に中間層20を載置する。中間層20が第一中間層30及び第二中間層40を有する場合には、以下のような工程となる。
 第一基板10上に第一中間層30を載置する(図3参照)。この第一中間層30は、図8に示すように、第一樹脂基板部39から第一基板10側に突出した突出型第一接続子33を有している。突出型第一接続子33の下端部は、第一電子素子12の端子12a上に設けられたはんだ12b又は第一導電層11上に設けられたはんだ11b(図2参照)上に載置される。具体的には、一対の載置用突出型第一接続子33aの内側の下端(第二電子素子62の下方に位置する下端)は第一電子素子12の端子12a上のはんだ12b上に載置され、2つの載置用突出型第一接続子33aの外側の下端は第一導電層11上のはんだ11b上に載置される(図10(a)も参照)。また、載置用突出型第一接続子33aではない突出型第一接続子33は、その下端の両方が第一導電層11上に設けられたはんだ11b上に載置される(図10(a)も参照)。
 次に、図4に示すように、載置用突出型第一接続子33aの上面に、第二導電層61を介して第二電子素子62が設けられる。第二電子素子62の上面にははんだ62bが設けられ、第二導電層61の上面にははんだ61bが設けられる。
 なお、前述したように、第一基板10に第一中間層30を載置し、その後で第一中間層30に第二電子素子62を設ける態様を採用することなく、第一中間層30上に第二電子素子62が設けられた状態とした後で、当該第一中間層30を第一基板10に載置してもよい。このような態様によれば、より安定した状態で、第一中間層30上に第二電子素子62を設けることができる点で有益である。
 前述したように、第一基板10に、第二電子素子62が設けられた第一中間層30が載置されると、図5に示すように、第一中間層30上に第二中間層40を載置する。第一中間層30の第一樹脂基板部39には、突出型第二接続子43が挿入される第一挿入部39aが設けられている。このため、第一中間層30上に第二中間層40を載置する際には、6個の突出型第二接続子43の各々が第一挿入部39aに挿入されることになる。このように第一中間層30上に第二中間層40を載置することで、第二中間層40の突出型第二接続子45の下端の一部が第二電子素子62の上面のはんだ62bに載置され、残部が第二導電層61の上面のはんだ61bに載置される。より具体的には、断面積の大きな突出型第二接続子45aの下端が第二電子素子62の上面のはんだ62bに載置され、断面積の小さな突出型第二接続子45bの下端が第二導電層61の上面のはんだ61bに載置される(図10(b)も参照)。
 次に、図6に示すように、第二中間層40の上面に第二基板60を載置する。
 その後で、図7に示すように、第一基板10、第一中間層30、第二中間層40及び第二基板60の一体となった物を240℃~260℃の温度で加熱し、はんだのリフローを行う。その後で、この一体となった物を金型内に入れて、当該金型内にモールド樹脂部90の材料となる封止材を注入する。その結果、半導体装置が製造されることになる。
《作用・効果》
 次に、上述した構成からなる本実施の形態による作用・効果であって、まだ説明していないものについて説明する。
 本実施の形態の半導体装置は、複数の接続子31,41と複数の接続子31,41を固定した樹脂基板部39,49とを有する中間層20を有しており(図8及び図9参照)、接続子31,41が第一基板10側で樹脂基板部39,49から露出している。このため、樹脂基板部39,49によって既に位置決めされた接続子31,41を第一基板10に載置するだけで、接続子31,41と第一導電層11とを接続でき、半導体装置を容易に製造することができる。
 なお、中間層20に複数の接続子31,41を設ける際には治具が必要となるが、構成が単純であることから、当該治具を用いた作業は複雑なものにならない。
 本実施の形態において、接続子(第一接続子31)が第二基板60側で樹脂基板部(第一樹脂基板部39)から露出し、第二電子素子62と接続されている態様を採用した場合には(図9参照)、第一電子素子12上に第二電子素子62を積層できる点で有益である。
 本実施の形態において、中間層20が第一中間層30と第二中間層40とを有し、第一中間層30が第一接続子31を固定した第一樹脂基板部39を有し、第二中間層40が第二接続子41を固定した第二樹脂基板部49を有する態様を採用した場合には(図8及び図9参照)、第一中間層30及び第二中間層40の各々において、接続子31,41を樹脂基板部39,49に対して予め位置決めすることができる点で有益である。
 本実施の形態において、第一接続子31が、第一樹脂基板部39から第二中間層40が設けられる側に突出し、第二樹脂基板部49に、第一樹脂基板部39から突出した第一接続子31が挿入される第二挿入部が設けられる態様を採用した場合には、第一樹脂基板部39から突出した第一接続子31を第二挿入部に挿入するだけで、第一中間層30と第二中間層40との間の相対的な位置決めを行うことができる点で有益である。
 他方、第二接続子41が、第二樹脂基板部49から第一中間層30が設けられる側に突出し、第一樹脂基板部39に、第二樹脂基板部49から突出した第二接続子41(突出型第二接続子43)が挿入される第一挿入部39aが設けられる態様を採用した場合にも(図8及び図9参照)、第二樹脂基板部49から突出した第二接続子41(突出型第二接続子43)を第一挿入部39aに挿入するだけで、第一中間層30と第二中間層40との間の相対的な位置決めを行うことができる点で有益である。
 本実施の形態において、第一基板10側に突出した突出型第一接続子33を採用した場合には(図8参照)、第一基板10と第一中間層30との間に厚みを持たせることができ、第一電子素子12の配置等の関係から厚みを持たせる必要がある場合には有益である。また、このような第一基板10側に突出した突出型第一接続子33を採用した場合には、突出型第一接続子33の周縁に良好なはんだフェレットを形成することができる点でも有益である。第二中間層40側に突出した突出型第一接続子を採用し、第二中間層40の第二挿入部へ挿入させる態様を採用した場合には、位置決め機能を持たせることができる点で有益である。貫通型第一接続子を採用した場合には、第一基板10側に突出した突出型第一接続子33及び第二中間層40側に突出した突出型第一接続子の両方の機能を持たせることができる点で有益である。面一型第一接続子を採用した場合には、厚み方向の厚さを薄くすることができる点で有益である。
 また、第一基板10側に突出した突出型接続子(図8では突出型第一接続子33)の下端が複数個設けられる態様を採用する場合には、第一中間層30を安定した態様で第一基板10上に載置することができる。
 本実施の形態において、第二基板60側に突出した突出型第二接続子を採用した場合には、第二基板60と第二中間層40との間に厚みを持たせることができ、第二電子素子62の配置等の関係から厚みを持たせる必要がある場合には有益である。第一中間層30側に突出した(長さの長い)突出型第二接続子43を採用し、第一中間層30に第一挿入部39aが設けられている態様を採用した場合には、突出型第二接続子43を第一中間層30の第一挿入部39aへ挿入させることができ、位置決め機能を持たせることができる点で有益である。また、第一中間層30側に突出した(長さの短い)突出型第二接続子45を採用した場合には、第二導電層61及び第二電子素子62に突出型第二接続子45を容易に接続できる点で有益である。貫通型第二接続子を採用した場合には、第二基板60側に突出した突出型第二接続子及び第一中間層30側に突出した突出型第二接続子43の両方の機能を持たせることができる点で有益である。面一型第二接続子を採用した場合には、厚み方向の厚さを薄くすることができる点で有益である。
 第一樹脂基板部39と第二樹脂基板部49とが異なる樹脂材料から形成されている態様を採用した場合には、第一樹脂基板部39と第二樹脂基板部49とで異なる機能を持たせることができるので有益である。一例としては、第二樹脂基板部49の厚みが第一樹脂基板部39の厚みよりも薄い場合には、第二樹脂基板部49の材料として第一樹脂基板部39の材料よりも強度の高い樹脂を用いてもよい。この場合には、第二樹脂基板部49の材料としてPEEK(ポリエーテルエーテルケトン)を用い、第一樹脂基板部39の材料としてPPS(ポリフェニレンサルファイド)又はPBT(ポリブチレンテレフタレート)を用いてもよい。このような態様によれば、厚みの薄い第二樹脂基板部49でも高い強度を実現し、第一樹脂基板部39と第二樹脂基板部49とで同程度の強度とすることができる点で有益である。
 図11に示すように、中間層20の樹脂基板部39,49に制御部80が設けられている態様を採用した場合には、パワー部と制御部80とを非常に近くに位置付けることができるので、予め誤作動の可能性を低減できる。また、このように制御部80は半導体装置内に設けることで、IPM(Intelligent Power Module)化が可能になる。
 モールド樹脂部90と樹脂基板部39,49とが異なる樹脂材料から形成されている態様を採用した場合には、内部側に位置する樹脂基板部39,49と外部側に位置するモールド樹脂部90とで異なる機能を果たすことができる点で有益である。例えば、モールド樹脂部90が熱硬化性樹脂である場合であっても、樹脂基板部39,49の材料として熱可塑性樹脂を採用した場合には、高い位置決め精度を期待できる。つまり、樹脂基板部39,49として熱硬化性樹脂を用いた場合には、熱を加える前では硬度が十分ではないことから、接続子31,41の位置が予定していた位置からずれる可能性がある。この点、樹脂基板部39,49として熱可塑性樹脂を採用した場合には、熱を加える前において硬度が十分あることから、接続子31,41の位置がずれる可能性を低減できる。なお、本実施の形態の態様を用いて説明するならば、第一樹脂基板部39として熱可塑性樹脂を採用することで、第一挿入部39aの形状が変形したりずれたりすることをより確実に防止でき、第二樹脂基板部49として熱可塑性樹脂を採用することで、突出型第二接続子43の位置がずれることをより確実に防止できる。
 最後になったが、上述した各実施の形態の記載、変形例の記載及び図面の開示は、請求の範囲に記載された発明を説明するための一例に過ぎず、上述した実施の形態の記載又は図面の開示によって請求の範囲に記載された発明が限定されることはない。
10    第一基板
11    第一導電層
12    第一電子素子
20    中間層
30    第一中間層
31    第一接続子
39    第一樹脂基板部
39a   第一挿入部
40    第二中間層
41    第二接続子
49    第二樹脂基板部
60    第二基板
61    第二導電層
80    制御部
90    モールド樹脂部

Claims (13)

  1.  第一導電層と、前記第一導電層に設けられた第一電子素子とを有する第一基板と、
     前記第一基板に設けられた中間層であって、複数の接続子と、前記複数の接続子を固定した樹脂基板部とを有する中間層と、を備え、
     前記接続子は前記第一基板側で前記樹脂基板部から露出し、前記第一導電層又は前記第一電子素子と接続されていることを特徴とする半導体装置。
  2.  前記接続子は前記第一基板側と反対側で前記樹脂基板部から露出し、前記接続子上に第二電子素子が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3.  前記中間層は、第一中間層と、前記第一中間層に設けられた第二中間層とを有し、
     前記第一中間層は、第一接続子と、前記第一接続子を固定した第一樹脂基板部とを有し、
     前記第二中間層は、第二接続子と、前記第二接続子を固定した第二樹脂基板部とを有することを特徴とする請求項1又は2のいずれかに記載の半導体装置。
  4.  前記第一接続子は、前記第一樹脂基板部から前記第二中間層が設けられる側に突出しており、
     前記第二樹脂基板部には、前記第一樹脂基板部から突出した前記第一接続子が挿入される第二挿入部が設けられていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
  5.  前記第二接続子は、前記第二樹脂基板部から前記第一中間層が設けられる側に突出しており、
     前記第一樹脂基板部には、前記第二樹脂基板部から突出した前記第二接続子が挿入される第一挿入部が設けられていることを特徴とする請求項3又は4のいずれかに記載の半導体装置。
  6.  前記第一樹脂基板部と前記第二樹脂基板部とは異なる樹脂材料から形成されていることを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項に記載の半導体装置。
  7.  前記接続子は、第一基板側の面又は第一基板と反対側の面において前記樹脂基板部から突出していることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体装置。
  8.  前記中間層の前記樹脂基板部に制御部が設けられていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体装置。
  9.  前記中間層を覆うモールド樹脂部をさらに備え、
     前記モールド樹脂部と前記樹脂基板部とは異なる樹脂材料から形成されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の半導体装置。
  10.  前記モールド樹脂部は熱硬化性樹脂からなり、前記樹脂基板部は熱可塑性樹脂からなることを特徴とする請求項9に記載の半導体装置。
  11.  前記樹脂基板部は、前記第一電子素子の周縁で前記第一基板側に突出した突出部を有することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の半導体装置。
  12.  前記複数の接続子のうちの少なくとも一つは、前記第一電子素子に接続され、
     前記第一電子素子と反対側の面の面積は、前記第一電子素子側の面の面積よりも大きくなっていることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の半導体装置。
  13.  第一導電層と、前記第一導電層に設けられた第一電子素子とを有する第一基板を準備する工程と、
     前記第一基板に、複数の接続子と、前記複数の接続子を固定した樹脂基板部とを有する中間層を載置する工程と、
     を備え、
     前記接続子が前記第一導電層又は前記第一電子素子に接続されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110289230B (zh) * 2019-06-17 2021-05-28 广东美的制冷设备有限公司 智能功率模块的制作工装及方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006086438A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Nichicon Corp 半導体モジュールのバスバー構造
JP2011082323A (ja) * 2009-10-07 2011-04-21 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法
JP2011114176A (ja) 2009-11-27 2011-06-09 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体装置
JP2014078658A (ja) * 2012-10-12 2014-05-01 Shindo Denshi Kogyo Kk 半導体パッケージ用基板、及びその製造方法
JP2014165486A (ja) * 2013-02-26 2014-09-08 Itabashi Seiki Kk パワーデバイスモジュールとその製造方法
JP2014179547A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Toshiba Corp 半導体モジュール及びその製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000014798A1 (fr) * 1998-09-02 2000-03-16 Ibiden Co., Ltd. Module de piece electronique monte sur une carte de connexion
JP4131935B2 (ja) * 2003-02-18 2008-08-13 株式会社東芝 インターフェイスモジュールとインターフェイスモジュール付lsiパッケージ及びその実装方法
JP3917133B2 (ja) * 2003-12-26 2007-05-23 株式会社東芝 インターフェイスモジュール付lsiパッケージ及びそれに用いるインターポーザ、インターフェイスモジュール、接続モニタ回路、信号処理lsi
JP4671829B2 (ja) * 2005-09-30 2011-04-20 富士通株式会社 インターポーザ及び電子装置の製造方法
DE102006006425B4 (de) * 2006-02-13 2009-06-10 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungshalbleitermodul in Druckkontaktausführung
US8208270B2 (en) * 2006-04-27 2012-06-26 Panasonic Corporation Substrate joining member and three-dimensional structure using the same
JP4429346B2 (ja) * 2007-08-31 2010-03-10 富士通株式会社 半導体装置及びその製造方法
KR100875961B1 (ko) * 2007-11-29 2008-12-26 삼성전기주식회사 발광 다이오드를 이용한 어레이 광원 및 이를 포함하는백라이트 유닛
JP5233341B2 (ja) 2008-03-17 2013-07-10 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP5479703B2 (ja) * 2008-10-07 2014-04-23 株式会社東芝 半導体装置及びその製造方法
US7960827B1 (en) * 2009-04-09 2011-06-14 Amkor Technology, Inc. Thermal via heat spreader package and method
JP5330184B2 (ja) * 2009-10-06 2013-10-30 新光電気工業株式会社 電子部品装置
EP2908338A4 (en) 2012-10-15 2016-07-13 Fuji Electric Co Ltd SEMICONDUCTOR COMPONENT
KR20140052535A (ko) * 2012-10-24 2014-05-07 삼성전자주식회사 광원 모듈 및 이를 포함하는 조명 장치
WO2014132397A1 (ja) * 2013-02-28 2014-09-04 新電元工業株式会社 モジュール、モジュール組合体及びモジュールの製造方法
WO2014184846A1 (ja) * 2013-05-13 2014-11-20 新電元工業株式会社 電子モジュールおよびその製造方法
WO2015049944A1 (ja) * 2013-10-03 2015-04-09 富士電機株式会社 半導体モジュール
KR20160010960A (ko) * 2014-07-21 2016-01-29 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 및 그 제조방법
JP5971310B2 (ja) 2014-11-13 2016-08-17 富士電機株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006086438A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Nichicon Corp 半導体モジュールのバスバー構造
JP2011082323A (ja) * 2009-10-07 2011-04-21 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法
JP2011114176A (ja) 2009-11-27 2011-06-09 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体装置
JP2014078658A (ja) * 2012-10-12 2014-05-01 Shindo Denshi Kogyo Kk 半導体パッケージ用基板、及びその製造方法
JP2014165486A (ja) * 2013-02-26 2014-09-08 Itabashi Seiki Kk パワーデバイスモジュールとその製造方法
JP2014179547A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Toshiba Corp 半導体モジュール及びその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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