WO2017077997A1

WO2017077997A1 - 表示基板及び表示装置

Info

Publication number: WO2017077997A1
Application number: PCT/JP2016/082383
Authority: WO
Inventors: 貴翁斉藤; 庸輔神崎; 中澤　淳; 一篤伊東; 誠二金子
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2015-11-06
Filing date: 2016-11-01
Publication date: 2017-05-11
Also published as: CN108352140A; US20180314098A1

Abstract

アレイ基板（１１ｂ）は、表示領域（ＡＡ）と非表示領域（ＮＡＡ）とに区分されるガラス基板（ＧＳ）と、非表示領域（ＮＡＡ）において一部が開口したゲート絶縁膜非配置領域（ＮＬＡ１）及び第１層間絶縁膜非配置領域（ＮＬＡ２）とされるゲート絶縁膜（１６）及び第１層間絶縁膜（１９）と、ゲート絶縁膜非配置領域（ＮＬＡ１）及び第１層間絶縁膜非配置領域（ＮＬＡ２）との境界位置から立ち上がってガラス基板（ＧＳ）の板面に対して傾斜状をなすゲート絶縁膜立ち上がり部（１６ａ）及び第１層間絶縁膜立ち上がり部（１９ａ）と、ゲート絶縁膜非配置領域（ＮＬＡ１）及び第１層間絶縁膜非配置領域（ＮＬＡ２）とゲート絶縁膜立ち上がり部（１６ａ）及び第１層間絶縁膜立ち上がり部（１９ａ）とに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳する重畳部（３０）と、を備える。

Description

表示基板及び表示装置

　本発明は、表示基板及び表示装置に関する。

　従来の液晶表示装置に用いられる液晶パネルの一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。この特許文献１に記載された液晶パネルを構成するアクティブ素子アレイ基板は、層間絶縁膜端部に、隣り合う実装端子の間に凸部を設けるようにしており、それにより層間絶縁膜が厚く形成されている場合であっても後工程でのレジスト残渣を無くすようにしている。

特開平１１－２４１０１号公報

（発明が解決しようとする課題）
　上記した特許文献１に記載されたアクティブ素子アレイ基板においては、層間絶縁膜における層間絶縁膜端部が基板の板面に対して傾斜状をなしつつ立ち上がる構成とされている。このため、基板のうち層間絶縁膜が配置されない部分と、層間絶縁膜端部と、に跨る領域に水が滞留し易くなっていた。滞留した水が層間絶縁膜内や他の膜との界面に浸入すると、液晶内に気泡を生じさせて表示不良を発生させるおそれがあった。

　本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、水などの滞留に起因する表示不良の発生を抑制することを目的とする。

（課題を解決するための手段）
　本発明の表示基板は、画像を表示可能な表示領域と前記表示領域を取り囲む形で外周側に配される非表示領域とに区分される基板と、前記表示領域と前記非表示領域とに跨る形で配されて少なくとも前記非表示領域において一部が開口した絶縁膜非配置領域とされる絶縁膜と、前記絶縁膜の一部であって、前記絶縁膜非配置領域との境界位置から立ち上がって前記基板の板面に対して傾斜状をなす立ち上がり部と、前記絶縁膜の上層側に配されて前記絶縁膜非配置領域と前記立ち上がり部とに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳する重畳部と、を備える。

　このように、絶縁膜は、基板の表示領域と非表示領域とに跨る形で配されるとともに、非表示領域において一部が開口した絶縁膜非配置領域とされている。絶縁膜が配置されることがない絶縁膜非配置領域は、基板における非表示領域に配されているので、表示領域に表示される画像に影響を及ぼし難いものとされる。絶縁膜の一部は、絶縁膜非配置領域との境界位置から立ち上がって基板の板面に対して傾斜状をなす立ち上がる立ち上がり部とされる。ここで、絶縁膜における立ち上がり部は、上記のように傾斜状をなしているため、その付近には水などが滞留し易いものとされており、残留した水などに起因して当該表示基板における表示性能が損なわれるおそれがある。その点、絶縁膜の上層側には、絶縁膜非配置領域と立ち上がり部とに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳する重畳部が配されているから、絶縁膜の立ち上がり部付近に水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。これにより、当該表示基板における表示性能を良好に保つことができる。

　本発明の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記重畳部は、前記基板の板面に対して傾斜状をなしていてその傾斜角度が前記立ち上がり部の傾斜角度よりも小さい。このようにすれば、重畳部付近に水などが滞留する事態が生じ難いものとなる。

（２）前記絶縁膜の上層側に配されて前記絶縁膜非配置領域及び前記立ち上がり部と重畳する領域が開口した第２の絶縁膜非配置領域とされる第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜の一部であって、前記第２の絶縁膜非配置領域との境界位置から立ち上がって前記基板の板面に対して傾斜状をなしていてその傾斜角度が前記立ち上がり部の傾斜角度よりも小さい第２の立ち上がり部と、を備えている。このように、絶縁膜の上層側に第２の絶縁膜が配される構成においては、例えば絶縁膜が第２の絶縁膜をマスクとして利用してパターニングされるなどすると、立ち上がり部の傾斜角度が第２の立ち上がり部の傾斜角度よりも大きくなり、そうなると立ち上がり部付近に水などの滞留が発生することが懸念される。その点、上記のように重畳部が、少なくとも絶縁膜非配置領域と立ち上がり部とに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳することで、立ち上がり部付近に水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。

（３）前記重畳部は、前記第２の立ち上がり部とは非重畳となるか、若しくは前記第２の立ち上がり部の一部と重畳する形で配される。このようにすれば、仮に重畳部が立ち上がり部に加えて第２の立ち上がり部の全域とも重畳するよう配された場合には、重畳部が立ち上がり部及び第２の立ち上がり部に並行する構成となり易く、そうなると重畳部付近に水などが滞留し易くなるおそれがある。その点、上記のように重畳部は、第２の立ち上がり部とは非重畳となるか、若しくは第２の立ち上がり部の一部と重畳する形で配されているので、重畳部が立ち上がり部や第２の立ち上がり部に並行する構成とはなり難くなり、もって重畳部付近に水などが滞留し難いものとされる。

（４）前記非表示領域にて前記絶縁膜の下層側に配される下層側金属膜からなる端子部を備えており、前記絶縁膜は、前記絶縁膜非配置領域が前記端子部における中央側の端子中央部と重畳するよう構成されており、前記立ち上がり部は、前記端子部における外周側の端子外周部に対して全周にわたって重畳するよう配され、前記重畳部は、前記絶縁膜非配置領域及び前記立ち上がり部に対して全周にわたって重畳する。このようにすれば、絶縁膜非配置領域が端子部の端子中央部と重畳するよう構成される絶縁膜において、立ち上がり部は、端子部の端子外周部に対して全周にわたって重畳するよう配されている。そして、重畳部は、絶縁膜非配置領域及び立ち上がり部に対して全周にわたって重畳しているから、立ち上がり部付近の全周にわたって水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。

（５）前記重畳部は、前記非表示領域にて前記絶縁膜の上層側に配される上層側金属膜からなる。このようにすれば、上層側金属膜からなる重畳部によって端子部の電気的性能を担保することができる。

（６）前記非表示領域にて前記絶縁膜の下層側に配される下層側金属膜からなる複数の端子部と、少なくとも前記非表示領域にて前記下層側金属膜からなり複数の前記端子部に接続される複数の端子配線部と、前記絶縁膜の上層側に配される第２の絶縁膜と、を備えており、前記絶縁膜は、前記絶縁膜非配置領域が複数の前記端子部に跨って重畳するよう構成され、前記立ち上がり部は、複数の前記端子配線部を横切る形で配されており、前記重畳部は、前記第２の絶縁膜の一部からなり且つ複数の前記端子配線部を横切る形で配されている。このように、絶縁膜非配置領域が複数の端子部に跨って重畳するよう構成される絶縁膜においては、立ち上がり部は、複数の端子配線部を横切る形で配されている。重畳部は、絶縁膜の上層側に配される第２の絶縁膜の一部からなり且つ複数の端子配線部を横切る形で配されているから、隣り合う端子配線部間を短絡することなく、立ち上がり部付近に水などが滞留する事態を生じ難くすることができる。

（７）前記非表示領域に実装されて前記端子部に接続される表示駆動部を備える。このようにすれば、表示駆動部に接続される端子部は、表示駆動部が実装される前の段階では外部に露出した状態となるものの、その端子部の近くに配される絶縁膜における立ち上がり部付近には、重畳部により水などが滞留し難いものとされる。

（８）前記絶縁膜は、前記絶縁膜非配置領域が前記表示領域を取り囲む形で枠状に形成されることで中央側の絶縁膜中央部と外周側の絶縁膜外周部とに分断されており、前記立ち上がり部は、前記絶縁膜中央部及び前記絶縁膜外周部においてそれぞれ全周にわたって配され、前記重畳部は、前記絶縁膜非配置領域及び前記立ち上がり部に対して全周にわたって重畳する。このようにすれば、絶縁膜外周部に対して外部から水などが浸入した場合でも、表示領域を取り囲む形で枠状に形成される絶縁膜非配置領域によって絶縁膜中央部と絶縁膜外周部とが分断されているので、絶縁膜外周部に浸入した水などが絶縁膜中央部に浸入する事態が生じ難いものとされる。絶縁膜中央部及び絶縁膜外周部においてそれぞれ全周にわたって配される立ち上がり部付近には、重畳部によって水などが滞留し難いものとされるので、絶縁膜中央部に水などが浸入する事態をより好適に生じ難くすることができる。

　次に、上記課題を解決するために、本発明の表示装置は、上記記載の表示基板と、前記表示基板と対向する形で配される対向基板と、を備える。このような構成の表示装置によれば、表示基板において水などの滞留に起因する表示不良の発生を抑制されているから、表示信頼性などに優れる。

（発明の効果）
　本発明によれば、水などの滞留に起因する表示不良の発生を抑制することができる。

本発明の実施形態１に係る液晶表示装置を構成する液晶パネルの平面図液晶パネルを構成するアレイ基板における共通電極の平面配置を表す平面図液晶パネルの表示領域における断面構成を示す概略断面図液晶パネルを構成するアレイ基板の表示領域における配線構成を概略的に示す平面図液晶パネルを構成するＣＦ基板の表示領域における配線構成を概略的に示す平面図図４のvi-vi線断面図図４のvii-vii線断面図液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における配線構成を概略的に示す平面図図８のix-ix線断面図図８のx-x線断面図図９における重畳部付近を拡大した断面図本発明の実施形態２に係る液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における配線構成を概略的に示す拡大平面図図１２のxiii-xiii線断面図図１２のxiv-xiv線断面図本発明の実施形態３に係るアレイ基板の平面図図１５のxvi-xvi線断面図本発明の実施形態４に係る液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における入力端子部付近のＹ軸方向に沿った断面図液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における入力端子部付近のＸ軸方向に沿った断面図本発明の他の実施形態（１）に係る液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における入力端子部付近のＹ軸方向に沿った断面図液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における入力端子部付近のＸ軸方向に沿った断面図本発明の他の実施形態（２）に係る液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における端子配線部付近のＹ軸方向に沿った断面図液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における端子配線部間の部分付近のＹ軸方向に沿った断面図本発明の他の実施形態（３）に係る液晶パネルを構成するアレイ基板の非表示領域における各絶縁膜非配置領域付近の断面図

　＜実施形態１＞
　本発明の実施形態１を図１から図１１によって説明する。本実施形態では、位置入力機能を備えた液晶表示装置１０に備えられる液晶パネル（表示装置、表示パネル）１１について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図３，図６及び図７などの上側を表側とし、同図下側を裏側とする。

　液晶表示装置１０は、全体として長方形状をなしており、図１に示すように、画像を表示可能な液晶パネル１１を備えるとともに、液晶パネル１１に対して裏側に配されて液晶パネル１１に表示のための光を照射する外部光源であるバックライト装置（照明装置）などを備える。以下では、液晶表示装置１０の構成部品に関して、液晶パネル１１に関して詳しく説明するものの、バックライト装置などの他の構成部品に関しては周知の通りであるから、詳しい説明は割愛する。

　液晶パネル１１は、図１に示すように、全体として縦長な方形状（矩形状）をなしており、その長辺方向における一方の端部側（図１に示す上側）に片寄った位置に画像が表示される表示領域（アクティブエリア）ＡＡが配されるとともに、長辺方向における他方の端部側（図１に示す下側）に片寄った位置に、各種信号などを供給するためのドライバ（表示駆動部）１２及びフレキシブル基板１３がそれぞれ取り付けられている。この液晶パネル１１において表示領域ＡＡ外の領域が、画像が表示されない非表示領域（ノンアクティブエリア）ＮＡＡとされ、この非表示領域ＮＡＡは、表示領域ＡＡを取り囲む略枠状の領域（後述するＣＦ基板１１ａにおける額縁部分）と、長辺方向の他方の端部側に確保された領域（後述するアレイ基板１１ｂのうちＣＦ基板１１ａとは重畳せずに露出する部分）と、からなり、このうちの長辺方向の他方の端部側に確保された領域にドライバ１２及びフレキシブル基板１３の実装領域（取付領域）が含まれている。液晶パネル１１は、その短辺方向がＸ軸方向と一致し、長辺方向がＹ軸方向と一致し、さらには板面（表示面）の法線方向がＺ軸方向と一致している。また、フレキシブル基板１３における液晶パネル１１側とは反対側の端部には、信号供給源であるコントロール基板（制御回路基板）１４が接続されている。なお、図１では、枠状の一点鎖線が表示領域ＡＡの外形を表しており、当該一点鎖線よりも外側の領域が非表示領域ＮＡＡとなっている。

　続いて、液晶パネル１１に実装または接続される部材（ドライバ１２、フレキシブル基板１３及びコントロール基板１４）について順次に説明する。ドライバ（表示駆動部）１２は、図１に示すように、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなるものとされ、コントロール基板１４から供給される信号に基づいて作動することで、出力信号を生成し、その出力信号を液晶パネル１１の表示領域ＡＡへ向けて出力するものとされる。このドライバ１２は、平面に視て横長の方形状をなす（液晶パネル１１の短辺に沿って長手状をなす）とともに、液晶パネル１１（後述するアレイ基板１１ｂ）の非表示領域ＮＡＡに対して直接実装され、つまりＣＯＧ（Chip On Glass）実装されている。なお、ドライバ１２の長辺方向がＸ軸方向（液晶パネル１１の短辺方向）と一致し、同短辺方向がＹ軸方向（液晶パネル１１の長辺方向）と一致している。

　フレキシブル基板１３は、図１に示すように、絶縁性及び可撓性を有する合成樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂等）からなる基材を備え、その基材上に多数本の配線パターン（図示せず）を有しており、長さ方向についての一方の端部が既述した通りコントロール基板１４に接続されるのに対し、他方の端部（他端側）が液晶パネル１１（後述するアレイ基板１１ｂ）に接続されている。フレキシブル基板１３における長さ方向についての両端部においては、配線パターンが外部に露出して端子部（図示せず）を構成しており、これらの端子部がそれぞれコントロール基板１４及び液晶パネル１１に対して電気的に接続されている。これにより、コントロール基板１４側から供給される信号を液晶パネル１１側に伝送することが可能とされている。コントロール基板１４は、バックライト装置における裏側に配置される。このコントロール基板１４は、紙フェノールないしはガラスエポキシ樹脂製の基板上に、ドライバ１２に各種信号を供給するための電子部品が実装されるとともに、図示しない所定のパターンの配線（導電路）が配索形成されている。このコントロール基板１４には、フレキシブル基板１３の一方の端部（一端側）が図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）を介して電気的に且つ機械的に接続されている。

　改めて、液晶パネル１１について説明する。液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間の内部空間に配されて電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（媒質層）１１ｃと、を有しており、液晶層１１ｃが両基板１１ａ，１１ｂ間に介在する図示しないシール部によって取り囲まれて封止が図られている。一対の基板１１ａ，１１ｂのうち表側（正面側）がＣＦ基板（対向基板）１１ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板（表示基板、アクティブマトリクス基板、素子基板）１１ｂとされる。ＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂは、いずれもガラス製のガラス基板ＧＳの内面側に各種の膜が積層形成されてなるものとされる。なお、両基板１１ａ，１１ｂの外面側には、それぞれ偏光板１１ｄ，１１ｅが貼り付けられている。

　アレイ基板１１ｂの内面側（液晶層１１ｃ側、ＣＦ基板１１ａとの対向面側）における表示領域ＡＡには、図４及び図６に示すように、スイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor：表示素子）１１ｆ及び画素電極１１ｇが多数個マトリクス状（行列状）に並んで設けられるとともに、これらＴＦＴ１１ｆ及び画素電極１１ｇの周りには、格子状をなすゲート配線（走査線）１１ｉ及びソース配線（データ線、信号線、素子配線部）１１ｊが取り囲むようにして配設されている。ゲート配線１１ｉとソース配線１１ｊとがそれぞれＴＦＴ１１ｆのゲート電極１１ｆ１とソース電極１１ｆ２とに接続され、画素電極１１ｇがＴＦＴ１１ｆのドレイン電極１１ｆ３に接続されている。そして、ＴＦＴ１１ｆは、ゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊにそれぞれ供給される各種信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極１１ｇへの電位の供給が制御されるようになっている。このＴＦＴ１１ｆは、ドレイン電極１１ｆ３とソース電極１１ｆ２とを繋ぐチャネル部１１ｆ４を有している。なお、本実施形態では、各図面においてゲート配線１１ｉの延在方向がＸ軸方向と、ソース配線１１ｊの延在方向がＹ軸方向と、それぞれ一致するものとされている。画素電極１１ｇは、ゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊにより囲まれた方形の領域に配されており、複数本のスリットが形成されている。この画素電極１１ｇは、ＴＦＴ１１ｆのドレイン電極１１ｆ３に対してＴＦＴ接続部（素子接続部）１１ｐを介して接続されている。また、アレイ基板１１ｂの内面側には、画素電極１１ｇに加えて共通電極１１ｈが設けられており、両電極１１ｇ，１１ｈ間に電位差が生じると、液晶層１１ｃには、アレイ基板１１ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１１ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が印加されるようになっている。つまり、この液晶パネル１１は、動作モードがＩＰＳ（In-Plane Switching）モードをさらに改良したＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。

　アレイ基板１１ｂの内面側には、既知のフォトリソグラフィ法によって各種の膜が積層形成されており、これらの膜について説明する。アレイ基板１１ｂには、図６及び図７に示すように、下層（ガラス基板ＧＳ）側から順に第１金属膜（ゲート金属膜、下層側金属膜）１５、ゲート絶縁膜（下層側絶縁膜、絶縁膜）１６、半導体膜１７、第２金属膜（ソース金属膜、上層側金属膜）１８、第１層間絶縁膜（上層側絶縁膜、絶縁膜）１９、第１平坦化膜（第２の絶縁膜）２０、第３金属膜２１、第２平坦化膜２２、第４金属膜２３、第１透明電極膜（下層側透明電極膜）２４、第２層間絶縁膜２５、第２透明電極膜（上層側透明電極膜）２６が積層形成されている。なお、図６及び図７では、第２透明電極膜２６のさらに上層側に積層される配向膜１１ｏの図示を省略している。

　第１金属膜１５は、例えばチタン（Ｔｉ）層／アルミニウム（Ａｌ）層／チタン層の３層の積層膜により形成されている。第１金属膜１５は、主にゲート配線１１ｉを構成している。ゲート絶縁膜１６は、図６及び図７に示すように、少なくとも第１金属膜１５の上層側に積層されるものであり、例えば無機材料である酸化珪素（ＳｉＯ_２）からなる。ゲート絶縁膜１６は、第１金属膜１５（ゲート配線１１ｉ）と第２金属膜１８（ソース配線１１ｊ）との間に介在して相互を絶縁している。半導体膜１７は、ゲート絶縁膜１６の上層側に積層されるものであり、材料として酸化物半導体を用いた薄膜からなるものとされる。半導体膜１７は、主にＴＦＴ１１ｆのチャネル部１１ｆ４を構成している。半導体膜１７をなす具体的な酸化物半導体としては、例えば、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）、酸素（Ｏ）を含むＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体（酸化インジウムガリウム亜鉛）が用いられている。ここで、Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体は、Ｉｎ（インジウム）、Ｇａ（ガリウム）、Ｚｎ（亜鉛）の三元系酸化物であって、Ｉｎ、Ｇａ及びＺｎの割合（組成比）は特に限定されず、例えばＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝２：２：１、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：２等を含む。本実施形態では、Ｉｎ、ＧａおよびＺｎを１：１：１の割合で含むＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体を用いる。このような酸化物半導体（Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体）は、アモルファスでもよいが、好ましくは結晶質部分を含む結晶性を有するものとされる。結晶性を有する酸化物半導体としては、例えば、ｃ軸が層面に概ね垂直に配向した結晶質Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体が好ましい。このような酸化物半導体（Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体）の結晶構造は、例えば、特開２０１２－１３４４７５号公報に開示されている。参考のために、特開２０１２－１３４４７５号公報の開示内容の全てを本明細書に援用する。

　第２金属膜１８は、図６及び図７に示すように、少なくとも半導体膜１７の上層側に積層されるものであり、第１金属膜１５と同様に、例えばチタン層／アルミニウム層／チタン層の３層の積層膜により形成されている。第２金属膜１８は、主にソース配線１１ｊ、ソース電極１１ｆ２及びドレイン電極１１ｆ３を構成している。第１層間絶縁膜１９は、少なくとも第２金属膜１８の上層側に積層されるものであり、例えば無機材料である酸化シリコン（ＳｉＯ_２）からなる。第１平坦化膜２０は、第１層間絶縁膜１９の上層側に積層されるものであり、例えば有機樹脂材料であるアクリル系樹脂材料（例えばポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ））からなる。第１層間絶縁膜１９及び第１平坦化膜２０は、第２金属膜１８及び半導体膜１７と第３金属膜２１との間に介在して相互を絶縁している。第３金属膜２１は、少なくとも第１平坦化膜２０の上層側に積層されるものであり、第１金属膜１５及び第２金属膜１８と同様に、例えばチタン層／アルミニウム層／チタン層の３層の積層膜により形成されている。第３金属膜２１は、表示領域ＡＡでは主にＴＦＴ接続部１１ｐを構成しているが、非表示領域ＮＡＡでは後述する入力端子部２８及び端子配線部２９を構成している。

　第２平坦化膜２２は、図６及び図７に示すように、第３金属膜２１及び第１平坦化膜２０の上層側に積層されるものであり、第１平坦化膜２０と同様に、例えば有機樹脂材料であるアクリル系樹脂材料（例えばポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ））からなる。第２平坦化膜２２は、第３金属膜２１と第４金属膜２３及び第１透明電極膜２４との間に介在して相互を絶縁している。第４金属膜２３は、少なくとも第２平坦化膜２２の上層側に積層されるものであり、第１金属膜１５、第２金属膜１８及び第３金属膜２１と同様に、例えばチタン層／アルミニウム層／チタン層の３層の積層膜により形成されている。第４金属膜２３は、主に後述する位置検出配線１１ｑを構成している。第１透明電極膜２４は、第４金属膜２３及び第１平坦化膜２０の上層側に積層されるものであり、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）或いはＺｎＯ（Zinc Oxide）といった透明電極材料からなる。第１透明電極膜２４は、共通電極１１ｈを構成している。第２層間絶縁膜２５は、少なくとも第１透明電極膜２４の上層側に積層されるものであり、無機材料である窒化シリコン（ＳｉＮ_ｘ）からなる。第２層間絶縁膜２５は、第１透明電極膜２４と第２透明電極膜２６との間に介在して相互を絶縁している。第２透明電極膜２６は、第２層間絶縁膜２５の上層側に積層されるものであり、第１透明電極膜２４と同様に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）或いはＺｎＯ（Zinc Oxide）といった透明電極材料からなる。第２透明電極膜２６は、主に画素電極１１ｇを構成している。上記した各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５のうち、第１平坦化膜２０及び第２平坦化膜２２は、共に有機絶縁膜とされていてその膜厚が他の絶縁膜（無機絶縁膜）１６，１９，２５に比べて厚いものとされ、表面を平坦化する機能を有する。上記した各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５のうち、第１平坦化膜２０及び第２平坦化膜２２を除いたゲート絶縁膜１６、第１層間絶縁膜１９及び第２層間絶縁膜２５は、それぞれ無機絶縁膜であり、その膜厚が有機絶縁膜である第１平坦化膜２０及び第２平坦化膜２２よりも薄いものとされる。

　ＴＦＴ接続部（素子接続部）１１ｐは、図４に示すように、縦長の方形状をなすとともに、ＴＦＴ１１ｆのドレイン電極１１ｆ３と画素電極１１ｇとの双方に対して平面に視て重畳する平面配置とされている。そして、第１層間絶縁膜１９及び第１平坦化膜２０のうち、ＴＦＴ接続部１１ｐ及びドレイン電極１１ｆ３の双方と重畳する位置には、図７に示すように、第１ＴＦＴコンタクトホール（第１素子コンタクトホール）ＣＨ１が開口形成されており、この第１ＴＦＴコンタクトホールＣＨ１を通して上層側のＴＦＴ接続部１１ｐが下層側のドレイン電極１１ｆ３に対して接続されている。一方、第２平坦化膜２２及び第２層間絶縁膜２５のうち、ＴＦＴ接続部１１ｐ及びドレイン電極１１ｆ３の双方と重畳し且つ第１ＴＦＴコンタクトホールＣＨ１とは非重畳となる位置には、図６に示すように、第２ＴＦＴコンタクトホール（第２素子コンタクトホール、素子コンタクトホール）ＣＨ２が開口形成されており、この第２ＴＦＴコンタクトホールＣＨ２を通して上層側の画素電極１１ｇが下層側のＴＦＴ接続部１１ｐに対して接続されている。このように、画素電極１１ｇ及びドレイン電極１１ｆ３は、その間に４枚の絶縁膜１９，２０，２２，２５が介在するものの、その中間に配されるＴＦＴ接続部１１ｐを介して相互の接続が図られている。また、共通電極１１ｈのうち、第２ＴＦＴコンタクトホールＣＨ２（ＴＦＴ接続部１１ｐの一部）と重畳する位置には、画素電極１１ｇとの短絡を防止するための開口部ＯＰが形成されている。なお、各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５は、上記した各コンタクトホールＣＨ１，ＣＨ２を除いては、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡにおけるほぼ全域にわたってベタ状に形成されている。

　一方、ＣＦ基板１１ａのうちの表示領域ＡＡの内面側には、図３及び図５に示すように、アレイ基板１１ｂ側の各画素電極１１ｇと対向状をなす位置にカラーフィルタ１１ｋが設けられている。カラーフィルタ１１ｋは、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の三色の着色部がマトリクス状に繰り返し並んで配列されてなる。マトリクス状に配列されるカラーフィルタ１１ｋの各着色部（各画素ＰＸ）の間は、遮光部（ブラックマトリクス）１１ｌによって仕切られている。この遮光部１１ｌによって各着色部を透過する各色の光同士が混ざり合う混色が防がれるようになっている。遮光部１１ｌは、平面に視て格子状をなしていて各着色部の間を仕切る格子状部と、平面に視て枠状（額縁状）をなしていて格子状部を外周側から取り囲む枠状部と、から構成されている。遮光部１１ｌにおける格子状部は、上記したゲート配線１１ｉ及びソース配線１１ｊと平面に視て重畳する配置とされる。遮光部１１ｌにおける枠状部は、シール部に倣って延在しており、平面に視て縦長の方形の枠状をなしている。カラーフィルタ１１ｋ及び遮光部１１ｌの表面には、オーバーコート膜（平坦化膜）１１ｍが内側に重なって設けられている。なお、当該液晶パネル１１においては、カラーフィルタ１１ｋにおける着色部と、それと対向する画素電極１１ｇと、の組によって１つの画素ＰＸが構成されている。画素ＰＸには、カラーフィルタ１１ｋのうちＲの着色部を有する赤色画素と、カラーフィルタ１１ｋのうちＧの着色部を有する緑色画素と、カラーフィルタ１１ｋのうちＢの着色部を有する青色画素と、が含まれている。これら３色の画素ＰＸは、液晶パネル１１の板面において行方向（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し並べて配されることで、画素群を構成しており、この画素群が列方向（Ｙ軸方向）に沿って多数並んで配されている。このように画素ＰＸは、液晶パネル１１の表示領域ＡＡ内においてマトリクス状に多数が配列されている。また、両基板１１ａ，１１ｂのうち最も内側にあって液晶層１１ｃに接する層としては、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜１１ｎ，１１ｏがそれぞれ形成されている。

　ところで、本実施形態に係る液晶パネル１１は、既述した通り、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出する位置入力機能（位置検出機能）と、を併有しており、このうちの位置入力機能を発揮するためのタッチパネルパターンを内蔵（インセル化）している。このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされるものである。タッチパネルパターンは、図２に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板１１ｂに設けられており、アレイ基板１１ｂにおいてその面内にマトリクス状に並んで配される複数の位置検出電極２７から構成されている。位置検出電極２７は、アレイ基板１１ｂの表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１における表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域とほぼ一致していることになる。ここで、液晶パネル１１の表示領域ＡＡに表示される画像に基づいて使用者が位置入力をしようと液晶パネル１１の表面に導電体である指（位置検出体）を近づけると、その指と位置検出電極２７との間で静電容量が形成されることになる。これにより、指の近くにある位置検出電極２７にて検出される静電容量には指が近づく前の状態から変化が生じ、指から遠くにある位置検出電極２７とは異なるものとなるので、それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。なお、位置検出電極２７は、指以外の導電体に対しても寄生容量を形成する場合もあり得る。

　そして、この位置検出電極２７は、アレイ基板１１ｂに設けられた共通電極１１ｈにより構成されている。共通電極１１ｈは、図２に示すように、アレイ基板１１ｂの面内において碁盤目状に分割された複数の分割共通電極１１ｈＳからなり、これら複数の分割共通電極１１ｈＳの個々が位置検出電極２７を構成している。これにより、仮に共通電極１１ｈとは別途に位置検出電極を設けた場合に比べると、構造の簡素化及び低コスト化などを図る上で好適となる。位置検出電極２７（分割共通電極１１ｈＳ）は、Ｘ軸方向（行方向）及びＹ軸方向（列方向）に沿って複数ずつがマトリクス状（行列状）に並んで配されている。位置検出電極２７は、平面に視て方形状をなしており、各辺の寸法が数ｍｍ程度とされている。従って、位置検出電極２７は、平面に視た大きさが画素ＰＸ（画素電極１１ｇ）よりも大きくなっており、Ｘ軸方向及びＹ軸方向について複数ずつの画素ＰＸに跨る範囲に配置されている。なお、図２は、位置検出電極２７の配列を模式的に表したものであり、位置検出電極２７の具体的な設置数や配置については図示以外にも適宜に変更可能である。

　複数の位置検出電極（分割共通電極１１ｈＳ）２７には、図２に示すように、複数の位置検出配線１１ｑが接続されている。位置検出配線１１ｑは、表示領域ＡＡにおいてＹ軸方向、つまりソース配線１１ｊの延在方向（列方向）に沿って直線的に延在しており、接続対象となる位置検出電極２７に応じた長さ寸法を有している。つまり、位置検出配線１１ｑは、表示領域ＡＡ内に配された一方の端部が接続対象となる位置検出電極２７と重畳する配置とされて当該位置検出電極２７に接続されるのに対し、非表示領域ＮＡＡに配された他方の端部がドライバ１２に接続されている。従って、ドライバ１２は、画像表示に際してはＴＦＴ１１ｆを駆動するのに対し、位置検出に際しては位置検出電極２７を駆動するものとされており、表示機能と位置検出機能とを併有している。位置検出配線１１ｑは、既述した通り、第４金属膜２３からなるのに対し、位置検出電極２７は、共通電極１１ｈでもあり、第１透明電極膜２４からなることから、位置検出電極１１ｑは位置検出電極２７に対してコンタクトホールを介することなく直接的に接続されている。従って、位置検出配線１１ｑは、接続対象となる位置検出電極２７に加えて、その位置検出電極２７とドライバ１２との間に存在する他の位置検出電極２７に対しても接続されている。このように同じ列に属する複数の位置検出電極２７（位置検出配線１１ｑの延在方向に沿って並ぶ複数の位置検出電極２７）に対して複数の位置検出配線１１ｑが接続される接続態様であっても、同じ列に属する複数の位置検出配線１１ｑの中から位置検出した位置検出配線１１ｑの組み合わせを抽出することで、実際に位置入力された位置検出電極２７を特定することができる。また、位置検出配線１１ｑは、図４に示すように、平面に視て所定のソース配線１１ｊ（遮光部１１ｌ）と重畳し、画素ＰＸとは非重畳となる位置に配されている。これにより、位置検出配線１１ｑによって画素ＰＸの開口率が低下する事態が避けられている。

　続いて、アレイ基板１１ｂにおける非表示領域ＮＡＡの構成について説明する。アレイ基板１１ｂにおける非表示領域ＮＡＡのうちＣＦ基板１１ａとは重畳しない非重畳部分には、図１に示すように、フレキシブル基板１３の端部及びドライバ１２がそれぞれ取り付けられており、フレキシブル基板１３の端部がアレイ基板１１ｂにおける短辺方向（Ｘ軸方向）に沿った端部に配されるのに対して、ドライバ１２がアレイ基板１１ｂにおいてフレキシブル基板１３よりも表示領域ＡＡ側に位置して配されている。アレイ基板１１ｂにおけるドライバ１２の実装領域には、ドライバ１２に信号を出力するための出力端子部（図示せず）と、ドライバ１２からの信号が入力される入力端子部（端子部）２８と、が設けられている。アレイ基板１１ｂにおけるフレキシブル基板１３の実装領域には、フレキシブル基板１３に接続されるフレキシブル基板用端子部（図示せず）が設けられている。入力端子部２８は、他の端子部（出力端子部及びフレキシブル基板用端子部）に比べてＹ軸方向について表示領域ＡＡに近い配置とされる。

　入力端子部２８は、図８に示すように、ドライバ１２の実装領域において複数が千鳥状に平面配置されており、次述する端子配線部２９に接続されている。端子配線部２９は、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおいてＸ軸方向に沿って複数が所定の間隔を空けて並ぶとともにＹ軸方向に沿って延在しており、一方の端部が各入力端子部２８に、他方（表示領域ＡＡ側）の端部が各ソース配線１１ｊの端部に、それぞれ接続されている。なお、ソース配線１１ｊは、その大部分が表示領域ＡＡに配されているが、一部（配線重畳部１１ｊ１を含む）が非表示領域ＮＡＡに至るまで延長されている。入力端子部２８及び端子配線部２９は、図９に示すように、共にゲート配線１１ｉやゲート電極１１ｆ１と同じ第１金属膜１５からなる。従って、端子配線部２９は、接続対象であるソース配線１１ｊに対してゲート絶縁膜１６を介して下層側に位置している。端子配線部２９における入力端子部２８側とは反対側の端部と、ソース配線１１ｊにおけるＴＦＴ１１ｆ側とは反対側の端部と、は、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおいて互いに平面に視て重畳する配置とされており、そこがそれぞれ配線重畳部１１ｊ１，２９ａとされる。端子配線部２９とソース配線１１ｊとの間に介在すゲート絶縁膜１６のうち、端子配線部２９及びソース配線１１ｊの配線重畳部１１ｊ１，２９ａと平面に視て重畳する位置には、配線重畳部１１ｊ１，２９ａ同士を接続する配線コンタクトホールＣＨ３が設けられている。これにより、ドライバ１２から出力された信号が、入力端子部２８、端子配線部２９及びソース配線１１ｊを介してＴＦＴ１１ｆのソース電極１１ｆ２に供給されるようになっている。

　これに対し、各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５は、図８に示すように、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡにおけるドライバ１２及びフレキシブル基板１３の実装領域近傍では、大部分がベタ状のまま残されるものの、各端子部（入力端子部２８に加えて出力端子部及びフレキシブル基板用端子部を含む）の個々と重畳する島状の範囲がそれぞれ開口する形で局所的に除去されており、その開口した領域がそれぞれ絶縁膜非配置領域（次述する各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３を含む）とされている。入力端子部２８に関しては、その中央側の入力端子中央部（端子中央部）２８ａと重畳する形で各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３が配されている。なお、本実施形態では、ゲート絶縁膜１６におけるゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１、第１層間絶縁膜１９における第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２、及び第１平坦化膜２０における第１平坦化膜非配置領域ＮＬＡ３に関してのみ符号を付して説明する。入力端子中央部２８ａ及び各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３は、それぞれ平面に視て縦長の方形状をなしており、入力端子部２８の外形と相似形をなしている。

　各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５の一部は、図９及び図１０に示すように、絶縁膜非配置領域（各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３を含む）との境界位置から立ち上がってガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなす立ち上がり部（次述する各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａを含む）をそれぞれ構成している。なお、本実施形態では、ゲート絶縁膜１６におけるゲート絶縁膜立ち上がり部（立ち上がり部、下層側立ち上がり部）１６ａ、第１層間絶縁膜１９における第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ（立ち上がり部、上層側立ち上がり部）、及び第１平坦化膜２０における第１平坦化膜立ち上がり部（第２の立ち上がり部）２０ａに関してのみ符号を付して説明する。入力端子部２８においては、各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａは、入力端子部２８のうちの外周側にあって入力端子中央部２８ａを取り囲む枠状の入力端子外周部（端子外周部）２８ｂに対して全周にわたって重畳する形で配されている。各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａは、ガラス基板ＧＳの板面に対する傾斜角度がいずれも鋭角とされている。詳しくは、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａは、図１１に示すように、その傾斜角度θ１が互いにほぼ等しく且つ第１平坦化膜立ち上がり部２０ａの傾斜角度θ２よりも大きなものとされるのに対し、第１平坦化膜立ち上がり部２０ａは、その傾斜角度θ２がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａの傾斜角度θ１よりも小さなものとされる。このように各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａ間に傾斜角度θ１，θ２の差が生じる理由は、アレイ基板１１ｂの製造に際して、相対的に膜厚が薄いゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９が、相対的に膜厚が厚くて先行してパターニングされた第１平坦化膜２０をマスクとして利用してエッチングされることで、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９のパターニング（ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａの形成）がなされるためである。入力端子外周部２８ｂ及び各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａは、それぞれ平面に視て縦長の枠状をなしており、入力端子部２８の外形と相似形をなしている。

　以上のように、入力端子部２８は、入力端子外周部２８ｂが全周にわたって各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５（各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａ）によって選択的に覆われ、入力端子中央部２８ａが各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５により覆われることがなく露出している。また、各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５における各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａがガラス基板ＧＳの板面に対してそれぞれ傾斜状をなしているので、各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５における絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３は、下層側ほど狭く、上層側ほど広くなっている。

　ところで、本実施形態に係るアレイ基板１１ｂにおいては、各絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５における各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａが上記のように傾斜状をなしているため、その付近には結露などに起因して付着した水などが滞留し易いものとされている。特に、ゲート絶縁膜１６におけるゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜１９における第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａは、第１平坦化膜２０における第１平坦化膜立ち上がり部２０ａよりもガラス基板ＧＳの板面に対する傾斜角度θ１が相対的に大きくなっているため、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１とゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａとに跨る範囲には水などがより滞留し易くなっており、それに伴って第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ付近にも水などが滞留し易くなっている。このようにゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ付近に滞留した水などは、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９内に浸透したり、ゲート絶縁膜１６とガラス基板ＧＳとの間の界面、ゲート絶縁膜１６と第１層間絶縁膜１９との間の界面、及び第１層間絶縁膜１９と第１平坦化膜２０との間の界面などに浸入することで、表示領域ＡＡ内の各コンタクトホールＣＨ１，ＣＨ２から液晶層１１ｃ内に気泡として発生し、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位を著しく劣化させるおそれがあった。

　そこで、本実施形態に係るアレイ基板１１ｂには、図８から図１０に示すように、ゲート絶縁膜１６の上層側に配されてゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１とゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａとに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳する重畳部３０が備えられている。重畳部３０は、各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａのうちガラス基板ＧＳに最も近く且つ第１平坦化膜立ち上がり部２０ａの傾斜角度θ２よりもガラス基板ＧＳの板面に対する傾斜角度θ１が大きなゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａとそれに隣接するゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１とに跨る形でこれらと重畳している。このような構成によれば、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１とゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａとの境界を挟んで両者ＮＬＡ１，１６ａに跨る範囲が重畳部３０により覆われているので、当該範囲に水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ付近に水が滞留し難くなれば、その上層側にあって傾斜角度θ１がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａと同じ第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａにも水が滞留し難いものとなる。これにより、水などの滞留に起因する表示不良の発生を抑制され、アレイ基板１１ｂ及び液晶パネル１１における表示性能を良好に保つことができる。

　詳しくは、重畳部３０は、図８から図１０に示すように、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１における外周端部と、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａにおける内周側（ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１側）の大部分と、に対して重畳している。重畳部３０は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及びゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａに対して全周にわたって重畳するよう配されており、その平面形状がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａの平面形状に倣って縦長の枠状をなしている。重畳部３０は、図１１に示すように、ガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなしており、その傾斜角度θ３がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａの傾斜角度θ１よりも小さなものとされる。これにより、重畳部３０付近に水などが滞留する事態がより生じ難いものとなる。重畳部３０は、その内周側の大部分がゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１の外周端部（入力端子部２８の入力端子中央部２８ａにおける外周端部）と重畳していて、外周端部がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａにおける内周側の大部分（外周端部を除いた部分）と重畳している。従って、重畳部３０は、第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ及び第１平坦化膜立ち上がり部２０ａとは非重畳の配置とされている。ここで、仮に重畳部がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａに加えて第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ及び第１平坦化膜立ち上がり部２０ａの全域とも重畳するよう配された場合には、重畳部が各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａに並行してそれらと同じ傾斜角度θ１，θ２の傾斜形状となり易く、そうなると重畳部付近に水などが滞留し易くなるおそれがある。その点、上記のように重畳部３０は、第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ及び第１平坦化膜立ち上がり部２０ａとは非重畳となる形で配されているので、重畳部３０が各立ち上がり部１６ａ，１９ａ，２０ａに並行してそれらと同じ傾斜角度θ１，θ２の傾斜形状とはなり難くなる。これにより、重畳部３０付近に水などが滞留し難いものとされる。

　そして、重畳部３０は、図９及び図１０に示すように、ゲート絶縁膜１６に対して上層側に配される第２金属膜１８の一部からなるものとされる。ここで、仮に重畳部をいずれかの絶縁膜１６，１９，２０，２２，２５からなる構成とした場合には、入力端子部２８の入力端子中央部２８ａのうち重畳部により覆われる外周端部がドライバ１２側の端子部に対して接触不能となるため、ドライバ１２に対する接続信頼性が損なわれるおそれがある。その点、上記のように重畳部３０を導電性を有する第２金属膜１８の一部により構成することで、入力端子部２８の入力端子中央部２８ａにおける全域をドライバ１２側の端子部に対して接触させることが可能となり、もってドライバ１２に対する接続信頼性、つまり入力端子部２８の電気的性能を担保することができる。

　以上説明したように本実施形態のアレイ基板（表示基板）１１ｂは、画像を表示可能な表示領域ＡＡと表示領域ＡＡを取り囲む形で外周側に配される非表示領域ＮＡＡとに区分されるガラス基板（基板）ＧＳと、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配されて少なくとも非表示領域ＮＡＡにおいて一部が開口したゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２（絶縁膜非配置領域）とされるゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９（絶縁膜）と、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の一部であって、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２との境界位置から立ち上がってガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなすゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ（立ち上がり部）と、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の上層側に配されてゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２とゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａとに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳する重畳部３０と、を備える。

　このように、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９は、ガラス基板ＧＳの表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配されるとともに、非表示領域ＮＡＡにおいて一部が開口したゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２とされている。ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９が配置されることがないゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２は、ガラス基板ＧＳにおける非表示領域ＮＡＡに配されているので、表示領域ＡＡに表示される画像に影響を及ぼし難いものとされる。ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の一部は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２との境界位置から立ち上がってガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなす立ち上がるゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａとされる。ここで、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９におけるゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａは、上記のように傾斜状をなしているため、その付近には水などが滞留し易いものとされており、残留した水などに起因して当該アレイ基板１１ｂにおける表示性能が損なわれるおそれがある。その点、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の上層側には、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２とゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａとに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳する重畳部３０が配されているから、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９のゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ付近に水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。これにより、当該アレイ基板１１ｂにおける表示性能を良好に保つことができる。

　また、重畳部３０は、ガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなしていてその傾斜角度θ３がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａの傾斜角度θ１よりも小さい。このようにすれば、重畳部３０付近に水などが滞留する事態が生じ難いものとなる。

　また、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の上層側に配されてゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２及びゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａと重畳する領域が開口した第１平坦化膜非配置領域（第２の絶縁膜非配置領域）ＮＬＡ３とされる第１平坦化膜（第２の絶縁膜）２０と、第１平坦化膜２０の一部であって、第１平坦化膜非配置領域ＮＬＡ３との境界位置から立ち上がってガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなしていてその傾斜角度θ２がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａの傾斜角度θ１よりも小さい第１平坦化膜立ち上がり部（第２の立ち上がり部）２０ａと、を備えている。このように、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の上層側に第１平坦化膜２０が配される構成においては、例えばゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９が第１平坦化膜２０をマスクとして利用してパターニングされるなどすると、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａの傾斜角度θ１が第１平坦化膜立ち上がり部２０ａの傾斜角度θ２よりも大きくなり、そうなるとゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ付近に水などの滞留が発生することが懸念される。その点、上記のように重畳部３０が、少なくともゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２とゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａとに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳することで、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ付近に水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。

　また、重畳部３０は、第１平坦化膜立ち上がり部２０ａとは非重畳となるか、若しくは第１平坦化膜立ち上がり部２０ａの一部と重畳する形で配される。このようにすれば、仮に重畳部がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａに加えて第１平坦化膜立ち上がり部２０ａの全域とも重畳するよう配された場合には、重畳部がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ及び第１平坦化膜立ち上がり部２０ａに並行する構成となり易く、そうなると重畳部付近に水などが滞留し易くなるおそれがある。その点、上記のように重畳部３０は、第１平坦化膜立ち上がり部２０ａとは非重畳となるか、若しくは第１平坦化膜立ち上がり部２０ａの一部と重畳する形で配されているので、重畳部３０がゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａや第１平坦化膜立ち上がり部２０ａに並行する構成とはなり難くなり、もって重畳部３０付近に水などが滞留し難いものとされる。

　また、非表示領域ＮＡＡにてゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の下層側に配される第１金属膜（下層側金属膜）１５からなる入力端子部（端子部）２８を備えており、ゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２が入力端子部２８における中央側の入力端子中央部（端子中央部）２８ａと重畳するよう構成されており、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａは、入力端子部２８における外周側の入力端子外周部（端子外周部）２８ｂに対して全周にわたって重畳するよう配され、重畳部３０は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２及びゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａに対して全周にわたって重畳する。このようにすれば、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２が入力端子部２８の入力端子中央部２８ａと重畳するよう構成されるゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９において、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａは、入力端子部２８の入力端子外周部２８ｂに対して全周にわたって重畳するよう配されている。そして、重畳部３０は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２、並びにゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａに対して全周にわたって重畳しているから、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ付近の全周にわたって水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。

　また、重畳部３０は、非表示領域ＮＡＡにてゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９の上層側に配される第２金属膜（上層側金属膜）１８からなる。このようにすれば、第２金属膜１８からなる重畳部３０によって入力端子部２８の電気的性能を担保することができる。

　また、非表示領域ＮＡＡに実装されて入力端子部２８に接続されるドライバ（表示駆動部）１２を備える。このようにすれば、ドライバ１２に接続される入力端子部２８は、ドライバ１２が実装される前の段階では外部に露出した状態となるものの、その入力端子部２８の近くに配されるゲート絶縁膜１６及び第１層間絶縁膜１９におけるゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１９ａ付近には、重畳部３０により水などが滞留し難いものとされる。

　また、本実施形態の液晶パネル（表示装置）１１は、上記したアレイ基板１１ｂと、アレイ基板１１ｂと対向する形で配されるＣＦ基板（対向基板）１１ａと、を備える。このような構成の液晶パネル１１によれば、アレイ基板１１ｂにおいて水などの滞留に起因する表示不良の発生を抑制されているから、表示信頼性などに優れる。

　＜実施形態２＞
　本発明の実施形態２を図１２から図１４によって説明する。この実施形態２では、各絶縁膜１１６，１１９，１２０，１２２，１２５及び重畳部１３０などの構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るアレイ基板１１１ｂは、図１２に示すように、各絶縁膜１１６，１１９，１２０，１２２，１２５のうち、非表示領域ＮＡＡにおけるドライバ及びフレキシブル基板の実装領域と重畳する領域の全体が一括して開口する形で除去されている。従って、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３には、非表示領域における各端子部（入力端子部１２８を含む）と重畳する領域に加えて各端子部間の領域を含む各端子部外の領域と重畳する領域が含まれている。つまり、各絶縁膜１１６，１１９，１２０，１２２，１２５は、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３が、ガラス基板ＧＳの板面に沿って並ぶ複数の入力端子部１２８に跨ってこれらと重畳するよう構成されている。このため、入力端子部１２８は、その全域が各絶縁膜１１６，１１９，１２０，１２２，１２５によって覆われることなく露出している。入力端子部１２８に接続された端子配線部１２９は、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３と重畳する部分（入力端子部１２８側の部分）が各絶縁膜１１６，１１９，１２０，１２２，１２５によって覆われない構成となる。端子配線部１２９のうち、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３と重畳する部分には、図１２及び図１３に示すように、保護部３１が覆う形で設けられている。保護部３１は、共通電極（図９及び図１０を参照）と同じ第１透明電極膜１２４からなるものとされ、端子配線部１２９の上記部分に加えて入力端子部１２８についても覆っている。ここで、アレイ基板１１１ｂの製造に際して第１透明電極膜１２４を成膜・露光後にウェットエッチングするとき、三層構造の第３金属膜１２１からなる端子配線部１２９の一部及び入力端子部１２８におけるアルミニウム層がチタン層よりもエッチング液によってエッチングされ易いため、端子配線部１２９の一部及び入力端子部１２８におけるアルミニウム層がチタン層よりも細くなる欠陥、つまりサイドシフトが生じることが懸念される。その点、上記のように保護部３１によって端子配線部１２９の一部及び入力端子部１２８が覆われていれば、成膜・露光された第１透明電極膜１２４をウェットエッチングするときに、端子配線部１２９の一部及び入力端子部１２８が保護部３１によってエッチング液から保護されるので、端子配線部１２９及び入力端子部１２８にサイドシフトが生じることが避けられる。

　各立ち上がり部１１６ａ，１１９ａ，１２０ａは、図１２から図１４に示すように、Ｘ軸方向に沿って並ぶ複数の端子配線部１２９を横切る形で配されている。各立ち上がり部１１６ａ，１１９ａ，１２０ａは、平面に視てＸ軸方向に沿って直線状に配されており、各端子配線部１２９と重畳する部分にはその上層側に各端子配線部１２９及び保護部３１が積層されるものの（図１３）、各端子配線部１２９とは非重畳となる部分には各端子配線部１２９及び保護部３１が積層されることがないものとされる（図１４）。そして、重畳部１３０は、ゲート絶縁膜１１６及び第１層間絶縁膜１１９の上層側に配される第２層間絶縁膜（第２の絶縁膜）１２５の一部からなり且つ複数の端子配線部１２９を横切る形で配されている。重畳部１３０は、複数の端子配線部１２９を横切るものの、第２層間絶縁膜１２５の一部からなるので、隣り合う端子配線部１２９間を短絡することが避けられている。重畳部１３０は、各立ち上がり部１１６ａ，１１９ａ，１２０ａに倣って平面に視てＸ軸方向に沿って直線状に配されており、各端子配線部１２９と重畳する部分と、各端子配線部１２９とは非重畳となる部分と、から構成される。重畳部１３０のうち、各端子配線部１２９と重畳する部分は、保護部３１の上層側に積層されるものの（図１３）、各端子配線部１２９とは非重畳となる部分は、ゲート絶縁膜立ち上がり部１１６ａの上層側に積層される（図１４）。これにより、アレイ基板１１１ｂのうち、各端子配線部１２９とは非重畳となる部分においては、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１とゲート絶縁膜立ち上がり部１１６ａとの境界を挟んで両者ＮＬＡ１，１１６ａに跨る範囲が重畳部１３０により覆われることで、当該範囲に水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。一方、アレイ基板１１１ｂのうち、各端子配線部１２９と重畳する部分においては、保護部３１のうちゲート絶縁膜立ち上がり部１１６ａ及び第１層間絶縁膜１１９ａに倣って立ち上がる部分付近が重畳部１３０により覆われることで、当該部分付近に水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。

　以上説明したように本実施形態によれば、非表示領域ＮＡＡにてゲート絶縁膜１１６及び第１層間絶縁膜１１９の下層側に配される第１金属膜１１５からなる複数の入力端子部１２８と、少なくとも非表示領域ＮＡＡにて第１金属膜１１５からなり複数の入力端子部１２８に接続される複数の端子配線部１２９と、ゲート絶縁膜１１６及び第１層間絶縁膜１１９の上層側に配される第２層間絶縁膜（第２の絶縁膜）１２５と、を備えており、ゲート絶縁膜１１６及び第１層間絶縁膜１１９は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２が複数の入力端子部１２８に跨って重畳するよう構成され、ゲート絶縁膜立ち上がり部１１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１１９ａは、複数の端子配線部１２９を横切る形で配されており、重畳部１３０は、第２層間絶縁膜１２５の一部からなり且つ複数の端子配線部１２９を横切る形で配されている。このように、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２が複数の入力端子部１２８に跨って重畳するよう構成されるゲート絶縁膜１１６及び第１層間絶縁膜１１９においては、ゲート絶縁膜立ち上がり部１１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１１９ａは、複数の端子配線部１２９を横切る形で配されている。重畳部１３０は、ゲート絶縁膜１１６及び第１層間絶縁膜１１９の上層側に配される第２層間絶縁膜１２５の一部からなり且つ複数の端子配線部１２９を横切る形で配されているから、隣り合う端子配線部１２９間を短絡することなく、ゲート絶縁膜立ち上がり部１１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部１１９ａ付近に水などが滞留する事態を生じ難くすることができる。

　＜実施形態３＞
　本発明の実施形態３を図１５または図１６によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１から各絶縁膜２１６，２１９，２２０，２２２，２２５及び重畳部２３０などの構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係るアレイ基板２１１ｂは、図１５及び図１６に示すように、各絶縁膜２１６，２１９，２２０，２２２，２２５のうち、非表示領域ＮＡＡにおいて表示領域ＡＡを取り囲む枠状の領域が開口する形で除去されており、その開口した領域がそれぞれ絶縁膜非配置領域（各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３を含む）とされている。絶縁膜非配置領域は、各絶縁膜２１６，２１９，２２０，２２２，２２５において平面形状が表示領域ＡＡの相似形となる縦長の枠状をなしており、各絶縁膜２１６，２１９，２２０，２２２，２２５を中央側の絶縁膜中央部（各絶縁膜中央部２１６ＣＰ，２１９ＣＰ，２２０ＣＰを含む）と、外周側の絶縁膜外周部（各絶縁膜外周部２１６ＥＰ，２１９ＥＰ，２２０ＥＰを含む）と、に分断するものとされる。絶縁膜非配置領域は、液晶層２１１ｃを封止するシール部３２に対して外周側（表示領域ＡＡ側とは反対側）に配されており、シール部３２を全周にわたって外周側から取り囲んでいる。従って、シール部３２は、絶縁膜中央部に設けられることになる。このような構成によれば、仮に絶縁膜外周部に対して外部から水などが浸入した場合でも、表示領域ＡＡを取り囲む形で枠状に形成される絶縁膜非配置領域によって絶縁膜中央部と絶縁膜外周部とが分断されているので、絶縁膜外周部に浸入した水などが絶縁膜中央部に浸入する事態が生じ難いものとされる。絶縁膜中央部には、液晶層２１１ｃを封止するシール部３２が設けられているので、絶縁膜中央部への浸水が防がれることで、液晶層２１１ｃ内での気泡の発生が効果的に抑制される。なお、本実施形態では、ゲート絶縁膜２１６におけるゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及びゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰと、第１層間絶縁膜２１９における第１層間絶縁膜中央部２１９ＣＰ及び第１層間絶縁膜外周部２１９ＥＰと、第１平坦化膜２２０における第１平坦化膜中央部２２０ＣＰ及び第１平坦化膜外周部２２０ＥＰと、に関してのみ符号を付して説明する。

　各立ち上がり部２１６ａ，２１９ａ，２２０ａは、各絶縁膜中央部２１６ＣＰ，２１９ＣＰ，２２０ＣＰと、各絶縁膜外周部２１６ＥＰ，２１９ＥＰ，２２０ＥＰと、にそれぞれ全周にわたって配されている。各絶縁膜中央部２１６ＣＰ，２１９ＣＰ，２２０ＣＰに配された内周側の各立ち上がり部２１６ａ，２１９ａ，２２０ａは、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３との境界位置から内側に向けて立ち上がってガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなしている。各絶縁膜外周部２１６ＥＰ，２１９ＥＰ，２２０ＥＰに配された外周側の各立ち上がり部２１６ａ，２１９ａ，２２０ａは、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３との境界位置から外側に向けて立ち上がってガラス基板ＧＳの板面に対して傾斜状をなしている。各立ち上がり部２１６ａ，２１９ａ，２２０ａは、平面に視て表示領域ＡＡの相似形となる縦長の枠状をなしている。そして、重畳部２３０は、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３及び各立ち上がり部２１６ａ，２１９ａ，２２０ａに対して全周にわたって重畳する形でそれぞれ配されている。内周側に配された重畳部２３０は、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３と内周側の各立ち上がり部２１６ａ，２１９ａ，２２０ａとに跨る形でこれらと重畳する形で配されている。外周側に配された重畳部２３０は、各絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１～ＮＬＡ３と外周側の各立ち上がり部２１６ａ，２１９ａ，２２０ａとに跨る形でこれらと重畳する形で配されている。各重畳部２３０は、平面に視て表示領域ＡＡの相似形となる縦長の枠状をなしている。このような構成によれば、ゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及びゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰにおいてそれぞれ全周にわたって配されるゲート絶縁膜立ち上がり部２１６ａ付近には、各重畳部２３０によって水などが滞留し難いものとされる。これにより、ゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰに水などが浸入する事態をより好適に生じ難くすることができる。

　以上説明したように本実施形態によれば、ゲート絶縁膜２１６及び第１層間絶縁膜２１９は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２が表示領域ＡＡを取り囲む形で枠状に形成されることで中央側のゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及び第１層間絶縁膜中央部２１９ＣＰ（絶縁膜中央部）と外周側のゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰ及び第１層間絶縁膜外周部２１９ＥＰ（絶縁膜外周部）とに分断されており、ゲート絶縁膜立ち上がり部２１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部２１９ａは、ゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及び第１層間絶縁膜中央部２１９ＣＰ及びゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰ及び第１層間絶縁膜外周部２１９ＥＰにおいてそれぞれ全周にわたって配され、重畳部２３０は、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２及びゲート絶縁膜立ち上がり部２１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部２１９ａに対して全周にわたって重畳する。このようにすれば、ゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰ及び第１層間絶縁膜外周部２１９ＥＰに対して外部から水などが浸入した場合でも、表示領域ＡＡを取り囲む形で枠状に形成されるゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１及び第１層間絶縁膜非配置領域ＮＬＡ２によってゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及び第１層間絶縁膜中央部２１９ＣＰとゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰ及び第１層間絶縁膜外周部２１９ＥＰとが分断されているので、ゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰ及び第１層間絶縁膜外周部２１９ＥＰに浸入した水などがゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及び第１層間絶縁膜中央部２１９ＣＰに浸入する事態が生じ難いものとされる。ゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及び第１層間絶縁膜中央部２１９ＣＰ及びゲート絶縁膜外周部２１６ＥＰ及び第１層間絶縁膜外周部２１９ＥＰにおいてそれぞれ全周にわたって配されるゲート絶縁膜立ち上がり部２１６ａ及び第１層間絶縁膜立ち上がり部２１９ａ付近には、重畳部２３０によって水などが滞留し難いものとされるので、ゲート絶縁膜中央部２１６ＣＰ及び第１層間絶縁膜中央部２１９ＣＰに水などが浸入する事態をより好適に生じ難くすることができる。

　＜実施形態４＞
　本発明の実施形態４を図１７または図１８によって説明する。この実施形態４では、上記した実施形態１から重畳部３３０の形成範囲を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

　本実施形態に係る重畳部３３０は、図１７及び図１８に示すように、ゲート絶縁膜立ち上がり部３１６ａの全域に加えて第１層間絶縁膜立ち上がり部３１９ａの一部（ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１側の部分）に対しても重畳する形で配されている。このような構成によれば、ゲート絶縁膜非配置領域ＮＬＡ１の外周端部からゲート絶縁膜立ち上がり部３１６ａを挟んで第１層間絶縁膜立ち上がり部３１９ａの一部に至るまでの範囲において重畳部３３０により水などが滞留する事態が生じ難いものとされる。

　＜他の実施形態＞
　本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
　（１）上記した実施形態１の変形例として第１層間絶縁膜が省略されていても構わない。このような場合のアレイ基板１１ｂ－１は、図１９及び図２０に示すように、ゲート絶縁膜１６－１及び第２金属膜１８－１の上層側に第１平坦化膜２０－１が積層される構成となる。重畳部３０－１は、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ－１の一部とは重畳するものの、その上層側の第１平坦化膜立ち上がり部２０ａ－１とは非重畳の配置とされる。

　（２）上記した実施形態２の変形例として第１層間絶縁膜が省略されていても構わない。このような場合のアレイ基板１１ｂ－２は、図２１及び図２２に示すように、ゲート絶縁膜１６－２及び第２金属膜１８－２の上層側に第１平坦化膜２０－２が積層される構成となる。重畳部３０－２は、保護部３１－２の一部及びゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ－２の一部とは重畳するものの、第１平坦化膜立ち上がり部２０ａ－２とは非重畳の配置とされる。

　（３）上記した実施形態３の変形例として第１層間絶縁膜が省略されていても構わない。このような場合のアレイ基板１１ｂ－３は、図２３に示すように、ゲート絶縁膜１６－３の上層側に第１平坦化膜２０－３が積層される構成となる。重畳部３０－３は、ゲート絶縁膜立ち上がり部１６ａ－３の一部とは重畳するものの、その上層側の第１平坦化膜立ち上がり部２０ａ－３とは非重畳の配置とされる。

　（４）上記した各実施形態（実施形態２を除く）では、重畳部が第２金属膜からなる場合を例示したが、重畳部が第３金属膜または第４金属膜からなる構成であっても構わない。また、重畳部が第１透明電極膜または第２透明電極膜からなる構成であっても構わない。

　（５）上記した実施形態２では、重畳部が第２層間絶縁膜からなる場合を例示したが、重畳部が第２平坦化膜などの他の絶縁膜からなる構成であっても構わない。

　（６）上記した各実施形態では、重畳部がガラス基板の板面に対して傾斜状をなす断面形状とされた場合を例示したが、重畳部の断面形状が円弧状などの曲面形状とされていても構わない。

　（７）上記した各実施形態では、重畳部がゲート絶縁膜立ち上がり部の一部（ゲート絶縁膜非配置領域との境界側部分）のみと重畳する場合を例示したが、重畳部におけるゲート絶縁膜立ち上がり部に対する具体的な重畳範囲は適宜に変更可能である。例えば、重畳部がゲート絶縁膜立ち上がり部の全域と重畳する構成であっても構わない。

　（８）上記した実施形態４では、重畳部が、ゲート絶縁膜立ち上がり部の全域と、第１層間絶縁膜立ち上がり部の一部と、に対して重畳する構成を例示したが、重畳部が、ゲート絶縁膜立ち上がり部の全域と、第１層間絶縁膜立ち上がり部の全域と、に対して重畳する構成であっても構わない。

　（９）上記した実施形態４では、重畳部が、ゲート絶縁膜立ち上がり部に加えて第１層間絶縁膜立ち上がり部にも重畳する構成を例示したが、重畳部が、ゲート絶縁膜立ち上がり部及び第１層間絶縁膜立ち上がり部に加えて第１平坦化膜立ち上がり部の一部（第１平坦化膜非配置領域との境界側部分）に対しても重畳する構成であっても構わない。また、重畳部が、ゲート絶縁膜立ち上がり部及び第１層間絶縁膜立ち上がり部に加えて第１平坦化膜立ち上がり部の全域に対しても重畳する構成であっても構わない。さらには、重畳部が、ゲート絶縁膜立ち上がり部、第１層間絶縁膜立ち上がり部及び第１平坦化膜立ち上がり部に加えて第２平坦化膜立ち上がり部の一部に対しても重畳する構成であっても構わない。

　（１０）上記した各実施形態では、重畳部がゲート絶縁膜非配置領域における外周端部に対して選択的に重畳する構成を例示したが、重畳部におけるゲート絶縁膜非配置領域に対する具体的な重畳範囲は適宜に変更可能である。例えば、重畳部がゲート絶縁膜非配置領域における全域に対して重畳する構成であっても構わない。その場合は、重畳部が導電性を有する導電膜（金属膜または透明電極膜）からなるのが好ましい。

　（１１）上記した各実施形態では、端子配線部がゲート配線などと同じ第１金属膜からなる場合を示したが、端子配線部がソース配線などと同じ第２金属膜、ＴＦＴ接続部と同じ第３金属膜、または位置検出配線と同じ第４金属膜などからなる構成であっても構わない。端子配線部が入力端子部とは異なる金属膜からなる場合には、端子配線部と入力端子部との間に介在する絶縁膜にコンタクトホールを形成して相互の接続を図るようにすればよい。

　（１２）上記した各実施形態では、入力端子部がゲート配線などと同じ第１金属膜からなる場合を示したが、入力端子部がソース配線などと同じ第２金属膜、ＴＦＴ接続部と同じ第３金属膜、または位置検出配線と同じ第４金属膜などからなる構成であっても構わない。入力端子部が端子配線部とは異なる金属膜からなる場合には、端子配線部と入力端子部との間に介在する絶縁膜にコンタクトホールを形成して相互の接続を図るようにすればよい。

　（１３）上記した各実施形態では、端子配線部がソース配線に接続される場合を示したが、端子配線部がゲート配線や位置検出配線などのソース配線以外の配線に接続される構成であっても構わない。

　（１４）上記した各実施形態では、使用者が自身の指によって位置入力を行う場合を示したが、タッチペンなど指以外の位置入力体でもって位置入力することも可能である。

　（１５）上記した各実施形態では、位置検出電極が共通電極と共用化された場合を示したが、共通電極とは別途に位置検出電極を設けることも可能である。

　（１６）上記した各実施形態では、タッチパネルパターン（位置検出電極及び位置検出配線など）が液晶パネルに内蔵されたインセルタイプを示したが、いわゆるオンセルタイプやアウトセルタイプの液晶パネルであっても構わない。特に、アウトセルタイプの液晶パネルにおいては、液晶パネルが位置検出機能（タッチパネルパターン）を持つことがないものとされる。

　（１７）上記した各実施形態では、位置検出機能（タッチパネルパターン）を備えた液晶表示装置を示したが、位置検出機能を持たない液晶表示装置にも本発明は適用可能である。

　（１８）上記した各実施形態では、平面形状が長方形とされる液晶パネルについて示したが、平面形状が正方形、円形、楕円形などとされる液晶パネルにも本発明は適用可能である。

　（１９）上記した各実施形態では、ドライバが液晶パネルのアレイ基板に対してＣＯＧ実装される場合を示したが、ドライバがフレキシブル基板に対してＣＯＦ（Chip On Film）実装される構成であってもよい。

　（２０）上記した各実施形態では、ＴＦＴのチャネル部を構成する半導体膜が酸化物半導体材料からなる場合を例示したが、それ以外にも、例えばポリシリコン（多結晶化されたシリコン（多結晶シリコン）の一種であるＣＧシリコン（Continuous Grain Silicon））やアモルファスシリコンを半導体膜の材料として用いることも可能である。

　（２１）上記した各実施形態では、動作モードがＦＦＳモードとされた液晶パネルについて例示したが、それ以外にもＩＰＳ（In-Plane Switching）モードやＶＡ（Vertical Alignment：垂直配向）モードなどの他の動作モードとされた液晶パネルについても本発明は適用可能である。

　（２２）上記した各実施形態では、液晶パネルのカラーフィルタが赤色、緑色及び青色の３色構成とされたものを例示したが、赤色、緑色及び青色の各着色部に、黄色の着色部を加えて４色構成としたカラーフィルタを備えたものにも本発明は適用可能である。

　（２３）上記した各実施形態では、一対の基板間に液晶層が挟持された構成とされる液晶パネルについて例示したが、一対の基板間に液晶材料以外の機能性有機分子を挟持した表示パネルについても本発明は適用可能である。

　（２４）上記した各実施形態では、液晶パネルのスイッチング素子としてＴＦＴを用いたが、ＴＦＴ以外のスイッチング素子（例えば薄膜ダイオード（ＴＦＤ））を用いた液晶パネルにも適用可能であり、カラー表示する液晶パネル以外にも、白黒表示する液晶パネルにも適用可能である。

　（２５）上記した各実施形態では、液晶パネルを例示したが、他の種類の表示パネル（ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、有機ＥＬパネル、ＥＰＤ（電気泳動ディスプレイパネル）、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）表示パネルなど）にも本発明は適用可能である。

　１１...液晶パネル（表示装置）、１１ａ...ＣＦ基板（対向基板）、１１ｂ，１１ｂ－１，１１ｂ－２，１１ｂ－３，１１１ｂ，２１１ｂ...アレイ基板（表示基板）、１２...ドライバ（表示駆動部）、１５，１１５...第１金属膜（下層側金属膜）、１６，１６－１，１６－２，１６－３，１１６，２１６...ゲート絶縁膜（絶縁膜）、１６ａ，１６ａ－１，１６ａ－２，１６ａ－３，１１６ａ，２１６ａ，３１６ａ...ゲート絶縁膜立ち上がり部（立ち上がり部）、１８，１８－１，１８－２...第２金属膜（上層側金属膜）、１９，１１９，２１９...第１層間絶縁膜（絶縁膜）、１９ａ，１１９ａ，２１９ａ，３１９ａ...第１層間絶縁膜立ち上がり部（立ち上がり部）、２０，２０－１，２０－２，２０－３，１２０，２２０...第１平坦化膜（第２の絶縁膜）、２０ａ，２０ａ－１，２０ａ－２，２０ａ－３，１２０ａ，２２０ａ...第１平坦化膜立ち上がり部（第２の立ち上がり部）、２５，１２５，２２５...第２層間絶縁膜（第２の絶縁膜）、２８，１２８...入力端子部（端子部）、２８ａ...入力端子中央部（端子中央部）、２８ｂ...入力端子外周部（端子外周部）、２９，１２９...端子配線部、３０，３０－１，３０－２，３０－３，１３０，２３０，３３０...重畳部、２１６ＣＰ...ゲート絶縁膜中央部（絶縁膜中央部）、２１６ＥＰ...ゲート絶縁膜外周部（絶縁膜外周部）、２１９ＣＰ...第１層間絶縁膜中央部（絶縁膜中央部）、２１９ＥＰ...第１層間絶縁膜外周部（絶縁膜外周部）、ＡＡ...表示領域、ＮＡＡ...非表示領域、ＮＬＡ１...ゲート絶縁膜非配置領域（絶縁膜非配置領域）、ＮＬＡ２...第１層間絶縁膜非配置領域（絶縁膜非配置領域）、ＮＬＡ３...第１平坦化膜非配置領域（第２の絶縁膜非配置領域）

Claims

　画像を表示可能な表示領域と前記表示領域を取り囲む形で外周側に配される非表示領域とに区分される基板と、
　前記表示領域と前記非表示領域とに跨る形で配されて少なくとも前記非表示領域において一部が開口した絶縁膜非配置領域とされる絶縁膜と、
　前記絶縁膜の一部であって、前記絶縁膜非配置領域との境界位置から立ち上がって前記基板の板面に対して傾斜状をなす立ち上がり部と、
　前記絶縁膜の上層側に配されて前記絶縁膜非配置領域と前記立ち上がり部とに跨る形でこれらの少なくとも一部ずつと重畳する重畳部と、を備える表示基板。
　前記重畳部は、前記基板の板面に対して傾斜状をなしていてその傾斜角度が前記立ち上がり部の傾斜角度よりも小さい請求項１記載の表示基板。
　前記絶縁膜の上層側に配されて前記絶縁膜非配置領域及び前記立ち上がり部と重畳する領域が開口した第２の絶縁膜非配置領域とされる第２の絶縁膜と、
　前記第２の絶縁膜の一部であって、前記第２の絶縁膜非配置領域との境界位置から立ち上がって前記基板の板面に対して傾斜状をなしていてその傾斜角度が前記立ち上がり部の傾斜角度よりも小さい第２の立ち上がり部と、を備えている請求項１または請求項２記載の表示基板。
　前記重畳部は、前記第２の立ち上がり部とは非重畳となるか、若しくは前記第２の立ち上がり部の一部と重畳する形で配される請求項３記載の表示基板。
　前記非表示領域にて前記絶縁膜の下層側に配される下層側金属膜からなる端子部を備えており、
　前記絶縁膜は、前記絶縁膜非配置領域が前記端子部における中央側の端子中央部と重畳するよう構成されており、
　前記立ち上がり部は、前記端子部における外周側の端子外周部に対して全周にわたって重畳するよう配され、前記重畳部は、前記絶縁膜非配置領域及び前記立ち上がり部に対して全周にわたって重畳する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の表示基板。
　前記重畳部は、前記非表示領域にて前記絶縁膜の上層側に配される上層側金属膜からなる請求項５記載の表示基板。
　前記非表示領域にて前記絶縁膜の下層側に配される下層側金属膜からなる複数の端子部と、
　少なくとも前記非表示領域にて前記下層側金属膜からなり複数の前記端子部に接続される複数の端子配線部と、
　前記絶縁膜の上層側に配される第２の絶縁膜と、を備えており、
　前記絶縁膜は、前記絶縁膜非配置領域が複数の前記端子部に跨って重畳するよう構成され、前記立ち上がり部は、複数の前記端子配線部を横切る形で配されており、
　前記重畳部は、前記第２の絶縁膜の一部からなり且つ複数の前記端子配線部を横切る形で配されている請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の表示基板。
　前記非表示領域に実装されて前記端子部に接続される表示駆動部を備える請求項５から請求項７のいずれか１項に記載の表示基板。
　前記絶縁膜は、前記絶縁膜非配置領域が前記表示領域を取り囲む形で枠状に形成されることで中央側の絶縁膜中央部と外周側の絶縁膜外周部とに分断されており、
　前記立ち上がり部は、前記絶縁膜中央部及び前記絶縁膜外周部においてそれぞれ全周にわたって配され、前記重畳部は、前記絶縁膜非配置領域及び前記立ち上がり部に対して全周にわたって重畳する請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の表示基板。
　請求項１から請求項９のいずれか１項に記載された表示基板と、前記表示基板と対向する形で配される対向基板と、を備える表示装置。