CN107748460A - 基板结构及基板结构的制作方法 - Google Patents

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Abstract

一种基板结构及基板结构的制作方法，包括基板与设置在所述基板上的图案化平坦化层，所述图案化平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧。本发明的图案化平坦化层超出基板的图案有效区的至少两个相对侧，将图案化平坦化层的高度落差影响区域从图案有效区边缘外移，使得在图案化平坦化层上继续制作其它层结构时，光阻爬坡现象不会在图案有效区边缘出现而造成图案缺陷。

Description

基板结构及基板结构的制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是关于一种基板结构及基板结构的制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)因其轻便、低辐射等优点越来越受到人们的欢迎。
在液晶显示面板的制作过程中，平坦化工艺是很重要的一个环节，通过平坦化工艺形成平坦化层(OC层)可以减小各层别之间堆叠形成的高度差以便于继续制作图形。如图1所示，在基板11上制作图案时，仅在基板11上的图案有效区16内设有OC层13，由于OC层13的膜厚通常较大，例如为2um，这将在基板11的图案有效区16的边缘形成较大的高度落差，当在OC层13上继续制作其它层结构时，例如刻蚀金属层15时，由于光阻材料具有流动性，在涂布光阻时容易在图案有效区16的边缘出现爬坡现象而未充分覆盖爬坡处的金属层15，如此，后续在对金属层15进行刻蚀时，未被光阻覆盖的那部分金属层15将被蚀刻除去而形成缺失(Un coating)区域151，从而造成金属层图案缺陷，影响产品质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基板结构及基板结构的制作方法，可避免平坦化层上的其它层结构出现图案缺陷。
本发明提供一种基板结构，包括基板与设置在所述基板上的图案化平坦化层，所述图案化平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧。
进一步地，所述图案化平坦化层包括位于图案有效区内的图案部分与位于图案有效区外的条状部分，所述图案部分与所述条状部分之间具有连续的断孔。
进一步地，所述基板与所述图案化平坦化层之间设有第一图案化金属层，所述第一图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第一图案部分，所述图案化平坦化层上设有第二图案化金属层，所述第二图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第二图案部分。
进一步地，所述图案有效区的至少两个相对侧的其中之一为制作所述第二图案化金属层时涂布光阻的起刀侧。
进一步地，所述图案有效区包括显示区与位于所述显示区外围的走线区。
本发明还提供一种基板结构的制作方法，包括：
提供一基板；
在所述基板上形成图案化平坦化层，所述图案化平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧。
进一步地，在所述基板上形成图案化平坦化层的步骤包括：
形成平坦化层，所述平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧；
利用光罩曝光所述平坦化层以形成图案化平坦化层，所述光罩具有与所述图案有效区对应的图案开口以及与所述图案有效区的至少两个相对侧的边缘对应的条形开口。
进一步地，在所述基板上形成图案化平坦化层之前，还包括：
在所述基板上形成第一图案化金属层，所述第一图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第一图案部分；
在所述基板上形成图案化平坦化层之后，还包括：
在所述图案化平坦化层上形成第二图案化金属层，所述第二图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第二图案部分。
进一步地，所述图案有效区的至少两个相对侧的其中之一为制作所述第二图案化金属层时涂布光阻的起刀侧。
进一步地，所述图案有效区包括显示区与位于所述显示区外围的走线区。
本发明的实施例中，图案化平坦化层超出基板的图案有效区的至少两个相对侧，从而将图案化平坦化层的高度落差影响区域从图案有效区边缘外移，使得在图案化平坦化层上继续制作其它层结构时，光阻爬坡现象不会在图案有效区边缘出现而造成图案缺陷。
附图说明
图1为现有的一种基板结构的示意图。
图2为本发明第一实施例中基板结构的示意图。
图3为本发明第一实施例中基板结构的俯视示意图。
图4为本发明第二实施例中基板结构的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。图1为现有的一种基板结构的示意图。图2为本发明第一实施例中基板结构的示意图。图3为本发明第一实施例中基板结构的俯视示意图。图4为本发明第二实施例中基板结构的制作方法的流程示意图。
第一实施例
如图2与图3所示，本发明的基板结构包括基板21与设置在基板21上的图案化平坦化层23。
基板21为透明基板，其材料可采用无机材料或者有机材料，例如玻璃、石英、塑胶、树脂、压克力等，本实施例中，基板21采用玻璃基板。此外，基板21的大小可以仅供制作一个显示器或可供同时制作多个显示器单元(chip)后再进行切割形成多个显示器，在此不做限制。
图案化平坦化层23超出基板21的图案有效区26的至少两个相对侧，图案有效区26即基板21上用于形成使显示器正常工作的电极、像素、走线等图案化结构的区域，如图2所示，在本实施例中，图案有效区26包括显示区(AA区)261与位于显示区261外围的走线区262，显示区261内形成有电极、像素等用于显示或触控的图案化结构，走线区262内形成有连接显示区261与控制芯片(图未示)的走线图案。
与现有技术中仅在图案有效区26内设有图案化平坦化层23的结构相比，本发明可将图案化平坦化层23边缘的高度落差影响区域从图案有效区26边缘向外移，在后续制作其它层结构时，即使用于刻蚀图案的光阻出现爬坡现象也仍能充分覆盖到图案有效区26的边缘区域，不会影响图案有效区26内正常图案的形成。在本实施例中，图案化平坦化层23包括位于图案有效区26内的图案部分231与位于图案有效区26外的条状部分232，图案部分231与条状部分232之间具有连续的断孔233，断孔233可通过对形成图案化平坦化层23的光罩进行结构调整(设计相应条形开口)来形成，通过断孔233将图案有效区26(工作区域)与其它区域(非工作区域)进行隔离可保证显示器工作的稳定性，断孔233的宽度只需将图案化平坦化层23的图案部分231与条状部分232可靠隔离即可。需要说明的是，在本发明的其它实施例中，图案化平坦化层23还可以超出基板21的图案有效区26的四周(即同时还超出另两个相对侧)，具体可根据图案有效区26内的图案设计进行调整，只需达到可以在图案有效区26内形成完整图案的作用即可。
在本发明一具体实施方式中，基板21与图案化平坦化层23之间还设有第一图案化金属层22，第一图案化金属层22包括位于图案有效区26内的第一图案部分，也即，第一图案化金属层22可以仅设置在图案有效区26内或超出图案有效区26，优选地，第一图案化金属层22仅设置在图案有效区26内。制作第一图案化金属层22时，先在基板21上沉积一金属层，然后在金属层上涂布光阻后进行曝光、显影形成光阻图案，再利用该光阻图案进行刻蚀形成第一图案化金属层22。
在本发明一具体实施方式中，图案化平坦化层23上设有第二图案化金属层25，第二图案化金属层25包括位于图案有效区26内的第二图案部分，也即，第二图案化金属层25可以仅设置在图案有效区26内或超出图案有效区26，当第二图案化金属层25超出图案有效区26时，应在第二图案化金属层25上设计与断孔233相应的结构进行隔离。制作第二图案化金属层25时，先在图案化平坦化层23上沉积一金属层，然后在金属层上涂布光阻后进行曝光、显影形成光阻图案，再利用该光阻图案刻蚀形成第二图案化金属层25，由于图案化平坦化层23的边缘存在高度落差，通常会在涂布光阻的起刀处或落刀处出现光阻爬坡现象，因此，图案有效区26的至少两个相对侧的其中之一为制作第二图案化金属层25时涂布光阻的起刀侧，从而可以将光阻爬坡区域外移，如此，即便在刻蚀金属层后仍会在图案化平坦化层23的边缘出现金属层的缺失(Un coating)区域251，该缺失区域251的存在也不会影响图案有效区26内的图案，从而达到了避免平坦化层上方的其它层结构出现图案缺陷的目的。
本发明的基板结构中，图案化平坦化层超出基板的图案有效区的至少两个相对侧，从而将图案化平坦化层的高度落差影响区域从图案有效区边缘外移，使得在图案化平坦化层上继续制作其它层结构时，光阻爬坡现象不会在图案有效区边缘出现而造成图案缺陷。
第二实施例
请结合图2至图4，本发明的基板结构的制作方法可包括以下步骤：
步骤41，提供一基板；
步骤42，在基板上形成图案化平坦化层，图案化平坦化层超出基板的图案有效区的至少两个相对侧。
具体地，在步骤41中，基板21为透明基板，其材料可采用无机材料或者有机材料，例如玻璃、石英、塑胶、树脂、压克力等，本实施例中，基板21采用玻璃基板。此外，基板21的大小可以仅供制作一个显示器或可供同时制作多个显示器单元(chip)后再进行切割形成多个显示器，在此不做限制。
在步骤42中，在基板21上形成图案化平坦化层23的过程可具体包括：形成平坦化层，平坦化层超出基板21的图案有效区26的至少两个相对侧；利用光罩曝光平坦化层以形成图案化平坦化层23，光罩具有与图案有效区26对应的图案开口以及与图案有效区26的至少两个相对侧的边缘对应的条形开口。
图案有效区26即基板21上用于形成使显示器正常工作的电极、像素、走线等图案化结构的区域，在本实施例中，图案有效区26包括显示区(AA区)261与位于显示区261外围的走线区262，显示区261内形成有电极、像素等用于显示或触控的图案化结构，走线区262内形成有连接显示区261与控制芯片的走线图案。
利用本发明的光罩结构，可使制得的图案化平坦化层23超出基板21的图案有效区26的至少两个相对侧，并且图案化平坦化层23包括位于图案有效区26内的图案部分231与位于图案有效区26外的条状部分232，图案部分231与条状部分232之间具有连续的断孔233。与现有技术中仅在图案有效区26内设有图案化平坦化层23的结构相比，本发明可将图案化平坦化层23边缘的高度落差影响区域从图案有效区26边缘向外移，在后续制作其它层结构时，即使用于刻蚀图案的光阻出现爬坡现象也仍能充分覆盖到图案有效区26的边缘区域，不会影响图案有效区26内正常图案的形成。此外，通过断孔233将图案有效区26(工作区域)与其它区域(非工作区域)进行隔离可保证显示器工作的稳定性，光罩上的条形开口的宽度只需使形成的断孔233能将图案化平坦化层23的图案部分231与条状部分232可靠隔离即可。需要说明的是，在本发明的其它实施例中，图案化平坦化层23还可以超出基板21的图案有效区26的四周(即同时还超出另两个相对侧)，具体可根据图案有效区26内的图案设计进行调整，只需达到可以在图案有效区26内形成完整图案的作用即可。
在本发明一具体实施方式中，在基板21上形成图案化平坦化层23之前，还包括：在基板21上形成第一图案化金属层22，第一图案化金属层22包括位于图案有效区26内的第一图案部分。也即，第一图案化金属层22可以仅设置在图案有效区26内或超出图案有效区26，优选地，第一图案化金属层22仅设置在图案有效区26内。制作第一图案化金属层22时，先在基板21上沉积一金属层，然后在金属层上涂布光阻后进行曝光、显影形成光阻图案，再利用该光阻图案进行刻蚀形成第一图案化金属层22。
在本发明一具体实施方式中，在基板21上形成图案化平坦化层23之后，还包括：在图案化平坦化层23上形成第二图案化金属层25，第二图案化金属层25包括位于图案有效区26内的第二图案部分。也即，第二图案化金属层25可以仅设置在图案有效区26内或超出图案有效区26，当第二图案化金属层25超出图案有效区26时，应在第二图案化金属层25上设计与断孔233相应的结构。制作第二图案化金属层25时，先在图案化平坦化层23上沉积一金属层，然后在金属层上涂布光阻后进行曝光、显影形成光阻图案，再利用该光阻图案刻蚀形成第二图案化金属层25，由于图案化平坦化层23的边缘存在高度落差，通常会在涂布光阻的起刀处或落刀处出现光阻爬坡现象，因此，图案有效区26的至少两个相对侧的其中之一为制作第二图案化金属层25时涂布光阻的起刀侧，从而可以将光阻爬坡区域外移，如此，即便在刻蚀金属层后仍会在图案化平坦化层23的边缘出现金属层的缺失(Un coating)区域251，该缺失区域251的存在也不会影响图案有效区26内的图案，从而达到了避免平坦化层上的其它层结构出现图案缺陷的目的。
本发明的基板结构的制作方法，在形成图案化平坦化层时，使图案化平坦化层超出基板的图案有效区的至少两个相对侧，从而将图案化平坦化层的高度落差影响区域从图案有效区边缘外移，使得在图案化平坦化层上继续制作其它层结构时，光阻爬坡现象不会在图案有效区边缘出现而造成图案缺陷。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种基板结构，包括基板与设置在所述基板上的图案化平坦化层，其特征在于，所述图案化平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧。
2.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述图案化平坦化层包括位于图案有效区内的图案部分与位于图案有效区外的条状部分，所述图案部分与所述条状部分之间具有连续的断孔。
3.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述基板与所述图案化平坦化层之间设有第一图案化金属层，所述第一图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第一图案部分，所述图案化平坦化层上设有第二图案化金属层，所述第二图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第二图案部分。
4.如权利要求3所述的基板结构，其特征在于，所述图案有效区的至少两个相对侧的其中之一为制作所述第二图案化金属层时涂布光阻的起刀侧。
5.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述图案有效区包括显示区与位于所述显示区外围的走线区。
6.一种基板结构的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基板；
在所述基板上形成图案化平坦化层，所述图案化平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧。
7.如权利要求6所述的基板结构的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成图案化平坦化层的步骤包括：
形成平坦化层，所述平坦化层超出所述基板的图案有效区的至少两个相对侧；
利用光罩曝光所述平坦化层以形成图案化平坦化层，所述光罩具有与所述图案有效区对应的图案开口以及与所述图案有效区的至少两个相对侧的边缘对应的条形开口。
8.如权利要求6所述的基板结构的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成图案化平坦化层之前，还包括：
在所述基板上形成第一图案化金属层，所述第一图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第一图案部分；
在所述基板上形成图案化平坦化层之后，还包括：
在所述图案化平坦化层上形成第二图案化金属层，所述第二图案化金属层包括位于所述图案有效区内的第二图案部分。
9.如权利要求8所述的基板结构的制作方法，其特征在于，所述图案有效区的至少两个相对侧的其中之一为制作所述第二图案化金属层时涂布光阻的起刀侧。
10.如权利要求6所述的基板结构的制作方法，其特征在于，所述图案有效区包括显示区与位于所述显示区外围的走线区。
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