CN103676293B - 一种彩膜基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够降低彩膜基板的制作成本，同时易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物和次要隔垫物，且两种隔垫物的形貌更加均匀，能起到更好的支撑效果，提高显示品质。所述彩膜基板的制作方法包括：在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形，其中，平行于栅线方向黑矩阵图形包括主区域和辅区域，主区域垂直于栅线方向的宽度大于辅区域垂直于栅线方向的宽度；制作平坦层和隔垫物，隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物，其中，主要隔垫物位于黑矩阵图形的主区域上，次要隔垫物位于黑矩阵图形的辅区域上，主要隔垫物的高度大于次要隔垫物的高度。

Description

一种彩膜基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

彩膜基板是一种薄膜晶体管-液晶显示器中用以显示颜色的光学滤光结构。隔垫物位于彩膜基板上，用来决定彩膜基板和阵列基板之间的间隙，以保持最佳液晶层厚度。为了得到对比度高、视角宽、响应快的液晶面板，应选择尺寸接近、分布均匀的隔垫物。

隔垫物按形貌可分为球状隔垫物、棒状隔垫物、柱状隔垫物等。其中，柱状隔垫物具有尺寸易于控制、对比度高、均匀性佳、高耐久度、与球状隔垫物或棒状隔垫物相比不易出现拖尾效应等优点，因而得到广泛使用。为了起到最佳的支撑作用，柱状隔垫物进一步分为主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物，二者之间具有合适的高度差。

目前，柱状隔垫物的制作主要有两种方法：使用普通掩膜板进行曝光或者使用半透膜掩膜板曝光技术。其中，使用普通掩膜板时，将柱状隔垫物设计成不同尺寸，次要柱状隔垫物的尺寸较小，通过控制掩膜板开口大小可以控制曝光量的大小，从而实现主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物的高度差，但是二者高度差只有在主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物的尺寸相差较大时才能实现，在这样的条件下，由于主要隔垫物和次要隔垫物尺寸相差较大，使得形成的主要隔垫物和次要隔垫物上表面形貌也有较大差异，主要隔垫物表面形貌较平整，而次要隔垫物由于尺寸较小，表面比较粗糙，有凹凸不平的现象出现，这种形貌的不均匀性会对隔垫物的支撑效果产生直接的影响；而使用半透膜掩膜板时，虽然主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物的尺寸可以很接近，但是成本较高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种彩膜基板及其制作方法，能够降低彩膜基板的制作成本，同时使彩膜基板上较容易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物和次要隔垫物，且两种隔垫物的形貌更加均匀，能起到更好的支撑效果，提高了显示品质。

为解决上述技术问题，本发明提供的一种彩膜基板的制作方法采用如下技术方案：

一种彩膜基板的制作方法，包括：

通过构图工艺在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

在所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形上制作平坦层；

在所述平坦层上制作隔垫物，所述隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物，其中，所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上，所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上，所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度。

所述平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：

任意一行平行于栅线方向的所述黑矩阵图形包括所述主区域和/或所述辅区域。

所述主区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述主要隔垫物的宽度，所述辅区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述次要隔垫物的宽度。

所述在所述平坦层上制作隔垫物的步骤包括：

在所述平坦层上涂布光刻胶；

利用隔垫物掩膜板，对所述光刻胶进行曝光显影处理，以形成所述主要隔垫物和所述次要隔垫物，其中，所述隔垫物掩膜板具有对应所述主要隔垫物的第一开口和对应所述次要隔垫物的第二开口，所述第一开口的尺寸大于所述第二开口的尺寸。

所述制作方法还包括：在基板上未设置有所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形的一面形成透明导电薄膜。

利用如上所述的彩膜基板的制作方法制作彩膜基板，在制作过程中使用普通掩膜板即可，制作成本低，同时由于黑矩阵图形的主区域的垂直于栅线方向的宽度大于黑矩阵图形的辅区域的垂直于栅线方向的宽度，使得主要隔垫物和次要隔垫物所在位置的平坦程度不同，且由于主要隔垫物所在位置的黑矩阵图形的宽度大，进而，主要隔垫物处形成的平坦层的高度也比次要隔垫物处平坦层的高度高。因此，在掩膜板上主要隔垫物和次要隔垫物掩膜板开口尺寸相差较小的情况下，进行曝光，便能在彩膜基板上较容易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物和次要隔垫物，且两种隔垫物的形貌更加均匀，能起到更好的支撑效果，提高了显示品质。

本发明实施例还提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括：

黑矩阵图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

彩色光阻图形；

平坦层，位于所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形上；

主要隔垫物和次要隔垫物，形成于所述平坦层之上，其中，所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上，所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上，所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度。

所述平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：

任意一行平行于栅线方向的所述黑矩阵图形包括所述主区域和/或所述辅区域。

所述主区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述主要隔垫物的宽度，所述辅区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述次要隔垫物的宽度。

所述彩膜基板还包括：基板上未设置有所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形的一面设置的透明导电薄膜。

本发明实施例提供的彩膜基板包括如上所述的结构，其上设置的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，和位于主区域和辅区域上的主要隔垫物和次要隔垫物，主要隔垫物和次要隔垫物二者的尺寸差异较现有技术中二者尺寸差异小，形貌更加均匀，使得所述彩膜基板与阵列基板形成的液晶盒更加稳定，使应用所述彩膜基板的液晶显示器具有较好的显示效果。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的彩膜基板。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中的彩膜基板的一种制作方法流程图；

图2为本发明实施例中的第一种彩膜基板的平面示意图；

图3为本发明实施例中的第二种彩膜基板的平面示意图；

图4为本发明实施例中的第三种彩膜基板的平面示意图；

图5为本发明实施例中图1所示的彩膜基板的制作方法的具体流程图；

图6为本发明实施例中图3所示的彩膜基板沿A-A’方向的截面示意图；

图7为本发明实施例中图3所示的彩膜基板沿B-B’方向的截面示意图；

图8为本发明实施例中的形成隔垫物的曝光过程示意图；

图9为本发明实施例中的隔垫物的高度与黑矩阵图形的垂直于栅线方向的宽度的关系示意图。

附图标记说明：

1—基板； 2—黑矩阵图形； 3—主区域；

4—辅区域； 5—彩色光阻图形； 6—平坦层；

7—主要隔垫物； 8—次要隔垫物； 9—隔垫物掩膜板；

10—第一开口； 11—第二开口。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，如图1所示，该方法包括：

步骤S101、通过构图工艺在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，主区域垂直于栅线方向的宽度大于辅区域垂直于栅线方向的宽度。

步骤S102、在黑矩阵图形和彩色光阻图形上制作平坦层。

步骤S103、在平坦层上制作隔垫物，隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物，其中，主要隔垫物位于黑矩阵图形的主区域上，次要隔垫物位于黑矩阵图形的辅区域上，主要隔垫物的高度大于次要隔垫物的高度。

需要说明的是，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：任意一行平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和/或辅区域。具体地，可以扩展为以下几种情形：

情形一、如图2所示，至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括主区域3，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括辅区域4。

情形二、如图3所示，每一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

情形三、至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括主区域3，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

情形四、至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括辅区域4，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

情形五、至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括主区域3，至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括辅区域4，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

补充说明一下，任意一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和/或辅区域4包括以上五种情形，但不局限于以上五种情形。示例性地，基板上的黑矩阵图形2在包括情形一描述的黑矩阵图形的基础上，还可以包括几行既不包括主区域也不包括辅区域的黑矩阵图形。类似地，还可以根据实际情况在情形一至情形五的基础上进行扩展，本发明实施例在此不进行一一列举。

此外，主区域3平行于栅线方向的长度可以大于或等于主要隔垫物7的宽度，辅区域4平行于栅线方向的长度可以大于或等于次要隔垫物8的宽度。具体地，可以如图2和图3所示，主区域3平行于栅线方向的长度大于主要隔垫物7的宽度，辅区域4平行于栅线方向的长度大于次要隔垫物8的宽度；也可以如图4所示，主区域3平行于栅线方向的长度等于主要隔垫物7的宽度，辅区域4平行于栅线方向的长度等于次要隔垫物8的宽度。此外，还可以包括其他情况，本发明实施例不一一列举。进一步地，本发明实施例制作的隔垫物可以为柱状隔垫物，也可以为其他形状的隔垫物，本发明实施例对此不进行限定。

进一步地，为了更加清楚地描述本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法，可以将图1所示的彩膜基板的制作方法具体扩展为图5所示的制作方法，制作的彩膜基板如图6和图7所示，该制作方法包括如下步骤：

步骤S501、在基板上制作黑矩阵图形。

为了提升液晶显示器的对比度，遮掩数据线、栅线和薄膜晶体管等结构，以及避免在显示器显示时子像素之间出现漏光现象，需要在彩膜基板上设置有黑矩阵图形2。因此黑矩阵图形2需要具有很强的遮光性和低的反射率，碳黑和黑色树脂由于具有上述特性，常作为制备黑矩阵图形2的材料。

如图6和图7所示，具体地，首先在基板1上涂覆一层黑矩阵图形2所用材料，然后使用带有所需图案的黑矩阵掩膜板进行遮盖，经紫外曝光、显影步骤后，在基板1上便得到具有所需图案形状的黑矩阵图形2。

进一步地，平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4，主区域3垂直于栅线方向的宽度大于辅区域4垂直于栅线方向的宽度。在黑矩阵图形2的制作过程中，通过使用的黑矩阵掩膜板的尺寸控制主区域3和辅区域4的不同宽度和长度。

步骤S502、在形成了黑矩阵图形的基板上制作彩色光阻图形。

彩色光阻图形5主要作用在于通过对白光的选择性透过和吸收，从而呈现彩色显示，因此要求具有高透过率。彩色光阻图形5包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，每个区域均为对应颜色的有机颜料上色的树脂材料。

可以使用喷墨打印、颜料分散法、印刷等方法在基板1上制作彩色光阻图形5。其中，由于彩色光阻图形5包括红、绿、蓝三种颜色区域，应分三次依次分别制作。示例性的，先在整个基板上涂布一层红色树脂材料，使用相应的彩色光阻掩膜板遮盖，进行曝光、显影，得到红色区域；然后在整个基板上涂布绿色树脂材料，使用相应的彩色光阻掩膜板遮盖，进行曝光、显影，得到绿色区域；最后在整个基板上涂布蓝色树脂材料，使用相应的彩色光阻掩膜板遮盖，进行曝光、显影，最后得到蓝色区域；经过上述过程后，在整个基板上形成一层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域的彩色光阻图形5。

应当说明的是，现有技术中黑矩阵图形2和彩色光阻图形5的制作顺序可以不同，在彩膜基板的制作过程中，也可以先制作黑矩阵图形2，再制作彩色光阻图形5。本实施例步骤S101通过构图工艺在基板1上制作黑矩阵图形2和彩色光阻图形5包括先制作黑矩阵图形2，再制作彩色光阻图形5，也包含先制作彩色光阻图形5，再制作黑矩阵图形2。若先制作彩色光阻图形5，则可以通过使彩色光阻图形5的不同区域具有不同的宽度和长度，从而使得随后制作的黑矩阵图形2的主区域3和辅区域4具有不同的宽度和长度。

步骤S503、在黑矩阵图形和彩色光阻图形上制作平坦层。

在黑矩阵图形2和彩色光阻图形5上制作平坦层6，可以在一定程度上使黑矩阵图形2和彩色光阻图形5的表面更平坦。平坦层6根据情况不同可以包括不同的结构。示例性地，平坦层6可以包括透明保护层，透明保护层的作用在于更好地保护彩色光阻6、改善表面平坦程度以及防止污染成盒后的液晶，一般地，透明保护层选用的材料优选为环氧树脂系和亚克力树脂系高分子材料。根据不同显示模式的需要，平坦层6还可以包括透明导电层。透明导电层一般选用氧化铟锡，氧化铟锌等透明导电材料。

步骤S504、在平坦层上制作隔垫物，隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物，其中，主要隔垫物位于黑矩阵图形的主区域上，次要隔垫物位于黑矩阵图形的辅区域上，主要隔垫物的高度大于次要隔垫物的高度。

为了维持液晶盒的厚度，得到对比度高、视角宽、响应快的液晶面板，可以在彩膜基板上设置分布均匀的隔垫物。

隔垫物进一步分为主要隔垫物7和次要隔垫物8，次要隔垫物8的作用在于彩膜基板和阵列基板受到外力作用而改变厚度时，使彩膜基板和阵列基板快速回复。若只存在主要隔垫物7，而无次要隔垫物8时，加较大压力使彩膜基板和阵列基板对盒时，容易产生真空气泡，在使用过程中还容易产生重力不良。主要隔垫物7和次要隔垫物8之间需要具有合适的高度差，以达到最佳的支撑效果，通常这一高度差为0.3～0.5μm。

如图6和图7所示，主要隔垫物7位于黑矩阵图形2的主区域3上；次要隔垫物8位于黑矩阵图形2的辅区域4上。

具体地，在平坦层6上制作主要隔垫物7和次要隔垫物8的过程如下：

首先，在平坦层6上涂布光刻胶，可以通过旋涂、狭缝涂布等方式实现，使整个平坦层6上均匀覆盖一层光刻胶。

其次，如图8所示，使用具有相应图案的隔垫物掩膜板9进行覆盖。隔垫物掩膜板9上均匀分布有对应于主要隔垫物7的第一开口10和对应于次要隔垫物8的第二开口11。由于开口尺寸越大，在之后的曝光过程中，曝光越充分，所得的隔垫物越高，因此，第一开口10的尺寸大于第二开口11的尺寸。在本发明实施例中，与隔垫物制作的现有技术中所用的普通掩膜板曝光技术相比，第一开口10和第二开口11尺寸较为接近。

再次，利用隔垫物掩膜板9对光刻胶进行曝光显影处理，以形成主要隔垫物7和次要隔垫物8，由于隔垫物掩膜板9上第一开口10和第二开口11尺寸不同，故经一定时间的曝光后，显影，即可在平坦层6上获得主要隔垫物7和次要隔垫物8。主要隔垫物7与次要隔垫物8的高度差为0.3～0.5μm。

在本发明实施例中，由于形成隔垫物时所用的掩膜板9上第一开口10尺寸和第二开口11尺寸相差较小，使得形成的主要隔垫物7和次要隔垫物8具有合适的高度差。其原因在于：

主要隔垫物7和次要隔垫物8分别处于黑矩阵图形2的主区域3和辅区域4上，而黑矩阵图形2的主区域3和辅区域4具有不同的垂直于栅线方向的宽度。由于黑矩阵图形2上的主区域3和辅区域4垂直于栅线方向的宽度不同，当在黑矩阵图形2和彩色光阻图形5上形成平坦层6时，使得主要隔垫物7处形成的平坦层6的高度比次要隔垫物8处平坦层6的高度高，且更为平坦。这样，主要隔垫物7与次要隔垫物8在形成之前，其所在位置的平坦层6已具有了高度差别，基于此差别，形成特定高度差异的主要隔垫物7和次要隔垫物8对应掩膜板的开口较现有技术可以相差较小。因此，在掩膜板上主要隔垫物7和次要隔垫物8掩膜板开口尺寸相差较小的情况下，进行曝光，便能在彩膜基板上较容易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物7和次要隔垫物8。并且由于两种隔垫物尺寸较为接近，与现有技术相比，制得的两种隔垫物的形貌更加均匀，形貌均匀性的提升也提高了隔垫物的支撑效果，提高了显示品质。

具体地，在其他条件固定的前提下，实验中的隔垫物的高度与所在位置的黑矩阵图形2的垂直于栅线方向的宽度之间的实验结果如图9所示，结果表明，黑矩阵图形2的垂直于栅线方向的宽度越大，在该位置处形成的隔垫物越高。

此外，液晶显示器在使用过程中容易产生静电，从而影响液晶显示器的内部电场，导致液晶显示器画面失真。通常，可以在基板上未设置有黑矩阵图形和彩色光阻图形的一面形成透明导电薄膜。在不降低彩膜基板透光性的前提下，有效降低静电对液晶显示器画面的影响。透明导电薄膜可采用氧化铟锡或者氧化铟锌等透明的导电物制成。可选用溅射、蒸镀、等离子体增强化学气相沉积等多种方式沉积透明导电薄膜。

利用如上所述的彩膜基板的制作方法制作彩膜基板，在制作过程中使用普通掩膜板即可，制作成本低，同时由于黑矩阵图形的主区域的垂直于栅线方向的宽度大于黑矩阵图形的辅区域的垂直于栅线方向的宽度，使得主要隔垫物和次要隔垫物所在位置的平坦程度不同，且由于主要隔垫物所在位置的黑矩阵图形的宽度大，进而，主要隔垫物处形成的平坦层的高度也比次要隔垫物处平坦层的高度高。因此，在掩膜板上主要隔垫物和次要隔垫物开口尺寸相差较小的情况下，进行曝光，便能在彩膜基板上较容易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物和次要隔垫物，且两种隔垫物的形貌更加均匀，能起到更好的支撑效果，提高了显示品质。

实施例二

基于图1所提供的彩膜基板的制作方法，本发明实施例还提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括基板1，基板1通常为透光性良好的玻璃基板或者石英基板等，此外该彩膜基板还包括：

黑矩阵图形2，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度。黑矩阵图形2的材料通常为碳黑和黑色树脂。

需要说明的是，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：任意一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和/或辅区域4。具体地，可以扩展为以下几种情形：

情形一、如图2所示，至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括主区域3，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括辅区域4。

情形二、如图3所示，每一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

情形三、至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括主区域3，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

情形四、至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括辅区域4，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

情形五、至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括主区域3，至少一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2只包括辅区域4，其他行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和辅区域4。

补充说明一下，任意一行平行于栅线方向的黑矩阵图形2包括主区域3和/或辅区域4包括以上五种情形，但不局限于以上五种情形。示例性地，基板上的黑矩阵图形2在包括情形一描述的黑矩阵图形的基础上，还可以包括几行既不包括主区域也不包括辅区域的黑矩阵图形。类似地，还可以根据实际情况在情形一至情形五的基础上进行扩展，本发明实施例在此不进行一一列举。

此外，主区域3平行于栅线方向的长度可以大于或等于主要隔垫物7的宽度，辅区域4平行于栅线方向的长度可以大于或等于次要隔垫物8的宽度。具体地，可以如图2和图3所示，主区域3平行于栅线方向的长度大于主要隔垫物7的宽度，辅区域4平行于栅线方向的长度大于次要隔垫物8的宽度；也可以如图4所示，主区域3平行于栅线方向的长度等于主要隔垫物7的宽度，辅区域4平行于栅线方向的长度等于次要隔垫物8的宽度。此外，还可以包括其他情况，本发明实施例不一一列举。

彩膜基板还包括彩色光阻图形5，彩色光阻图形5包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，每个区域均为对应颜色的有机颜料上色的树脂材料。

彩膜基板还包括位于黑矩阵图形2和彩色光阻图形5上的平坦层6，位于黑矩阵图形2和彩色光阻图形5上。平坦层6可以包括透明保护层，还可以包括透明导电层。

位于平坦层6上的主要隔垫物7和次要隔垫物8，形成于平坦层6之上，其中，主要隔垫物7位于黑矩阵图形2的主区域3上，次要隔垫物8位于黑矩阵图形2的辅区域4上，主要隔垫物7的高度大于次要隔垫物8的高度。主要隔垫物7和次要隔垫物8之间高度差为0.3～0.5μm。

进一步地，还可以在基板1上未设置有黑矩阵图形2和彩色光阻图形5的一面设置透明导电薄膜。其作用是在不降低彩膜基板透光性的前提下，有效降低静电对液晶显示器画面的影响。透明导电薄膜可采用氧化铟锡或者氧化铟锌等透明的导电物制成。

本发明实施例提供的彩膜基板包括如上所述的结构，其上设置的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，和位于主区域和辅区域上的主要隔垫物和次要隔垫物，主要隔垫物和次要隔垫物二者的尺寸差异较现有技术中二者尺寸差异小，形貌更加均匀，使得所述彩膜基板与阵列基板形成的液晶盒更加稳定，使应用所述彩膜基板的液晶显示器具有较好的显示效果。

此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括所述彩膜基板，所述显示装置可以为：液晶面板、电子纸、有机发光二极管面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

通过构图工艺在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

在所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形上制作平坦层，使所述主区域对应的平坦层的高度大于辅区域对应的平坦层的高度，并使所述主区域对应的平坦层的平坦程度大于辅区域对应的平坦层的平坦程度；

在所述平坦层上制作隔垫物，所述隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物，其中，所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上，所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上，所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度；

所述主区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述主要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度；所述辅区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述次要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度；

所述在所述平坦层上制作隔垫物的步骤包括：

在所述平坦层上涂布光刻胶；

利用隔垫物掩膜板，对所述光刻胶进行曝光显影处理，以形成所述主要隔垫物和所述次要隔垫物，其中，所述隔垫物掩膜板具有对应所述主要隔垫物的第一开口和对应所述次要隔垫物的第二开口，所述第一开口的尺寸大于所述第二开口的尺寸。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：

任意一行平行于栅线方向的所述黑矩阵图形包括所述主区域和/或所述辅区域。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述主区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述主要隔垫物的宽度，所述辅区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述次要隔垫物的宽度。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：在基板上未设置有所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形的一面形成透明导电薄膜。

5.一种彩膜基板，其特征在于，使用如权利要求1～4任一项所述的彩膜基板的制作方法制作形成，所述彩膜基板包括：

黑矩阵图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

彩色光阻图形；

平坦层，位于所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形上，其中，所述主区域对应的平坦层的高度大于辅区域对应的平坦层的高度，所述主区域对应的平坦层的平坦程度大于辅区域对应的平坦层的平坦程度；

主要隔垫物和次要隔垫物，形成于所述平坦层之上，其中，所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上，所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上，所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度；

所述主区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述主要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度；所述辅区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述次要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：

任意一行平行于栅线方向的所述黑矩阵图形包括所述主区域和/或所述辅区域。

7.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述主区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述主要隔垫物的宽度，所述辅区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述次要隔垫物的宽度。

8.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：基板上未设置有所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形的一面设置的透明导电薄膜。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5-8任一项所述的彩膜基板。