CN104698739B - 掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，主要内容包括：通过在制作彩膜基板的工艺流程中，使用具有至少两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩膜基板的中间区域中用于形成柱状隔垫物的位置处彩色光阻的高度低于四周区域中用于形成柱状隔垫物的位置处彩色光阻的高度，从而，补偿了后续由于掩膜板面积较大而造成柱状隔垫物膜层曝光不均匀而导致的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面不在同一水平面内的缺陷，尽可能的使中间区域形成的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面与四周区域形成的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面在同一水平面内，保证了面板的均一性，以便后续对位贴合。

Description

掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
背景技术
目前，随着液晶生产线代的升级，可生产的基板的尺寸越来越大，其生产良率的要求越来越高，但同时也引发一系列问题。例如：在彩膜基板的制作过程中，由于彩膜基板面积过大而造成面内压力分布不均成为限制产品设计的主要因素。
尤其在制作柱状隔垫物时，如图1所示，由于彩膜基板1的面积过大，因此，采用的用于制作柱状隔垫物的掩膜板2的面积也会比较大，由于重力的原因会造成掩膜板2中间区域弯曲下陷，使得四周曝光高度h1比中心曝光高度h2高50～70um，针对使用正性光刻胶的情况而言，被曝光区域是需要显影掉的，最终保留的柱状隔垫物位于非曝光区域，因此，形成的柱状隔垫物的高度是不会受到曝光影响的；然而，使用负性光刻胶的情况不同，最终保留的柱状隔垫物位于曝光区域，非曝光区域是要显影掉的，因此，由负性光刻胶形成的柱状隔垫物的高度会受到曝光程度的影响，从而导致曝光形成的柱状隔垫物的高度有0.05um的差异，影响彩膜基板的面板均一性。
发明内容
本发明实施例提供一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以解决现有技术中存在的由于掩膜板面积过大而导致同一面板中曝光高度不同，进而导致形成的柱状隔垫物的远离彩膜基板的一端面不在同一水平面的问题。
本发明实施例采用以下技术方案：
一种掩膜板，包括：
至少两个透光率等级的曝光区域，其中，所述掩膜板中对应黑矩阵的曝光区域的透光率等级按照由中心区域向四周区域依次升高的规则设置。
优选地，所述掩膜板的透光率等级的取值范围为：60％-100％。
一种彩膜基板的制作方法，所述方法包括：
提供一彩膜基底；
在所述彩膜基底上形成图案化的黑矩阵；
在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成图案化的彩色光阻，其中，利用所述掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；
在所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
优选地，在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成图案化的彩色光阻，具体包括：
在形成有黑矩阵的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用具有至少两个透光率等级的第一掩膜板形成图案化的第一彩色光阻；
在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用具有至少两个透光率等级的第二掩膜板形成图案化的第二彩色光阻；
在形成有第二像素单元的彩膜基底上，涂布第三像素材料，利用具有至少两个透光率等级的第三掩膜板形成图案化的第三彩色光阻。
优选地，用于形成柱状隔垫物的区域的图形为矩形或圆柱形，所述用于形成柱状隔垫物的区域的图形面积大于待形成的柱状隔垫物在垂直彩膜基底方向上的投影面积。
优选地，在所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，具体包括：
在具有高度差的彩色光阻之上，涂布用于制作柱状隔垫物的有机材料和光刻胶层；
利用掩膜板对所述有机材料和光刻胶层进行曝光，形成柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
一种彩膜基板，包括：
彩膜基底；
位于所述彩膜基底之上的图案化的黑矩阵；
位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，其中，利用权利要求1-2任一所述的掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；
位于所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域的柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端均在同一水平面上。
优选地，位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，具体包括：
多个呈条状图形、且间隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻。
优选地，所述彩色光阻中用于形成柱状隔垫物的区域处的彩色光阻的高度差大于0μm，小于等于0.05μm。。
一种显示面板，包括所述的彩膜基板。
一种显示装置，包括所述的显示面板。
在本发明实施例中，通过在制作彩膜基板的工艺流程中，使用具有至少两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中间区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度低于四周区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度，从而，补偿了后续由于掩膜板面积较大而造成柱状隔垫物膜层曝光不均匀而导致的柱状隔垫物的高度不在同一水平面内的缺陷，尽可能的使中间区域形成的柱状隔垫物的高度与四周区域形成的柱状隔垫物的高度在同一水平面内，保证了面板的均一性，以便后续对位贴合。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中，制作柱状隔垫物的原理示意图；
图2为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制作方法的流程图；
图3(a)-图3(c)为本发明实施例提供的彩膜基板的制作工艺示意图；
图4(a)-图4(b)为利用本发明所涉及的彩膜基板制作柱状隔垫物的工艺示意图；
图5(a)-图5(b)为利用具有两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻的示意图；
图6(a)-图6(b)为利用具有三个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻的示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中，通过在制作彩膜基板的工艺流程中，使用具有至少两个透光率等级的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中间区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度低于四周区域中用于形成柱状隔垫物的位置的高度，从而，补偿了后续由于掩膜板面积较大而造成柱状隔垫物膜层曝光不均匀而导致的柱状隔垫物的高度不在同一水平面内的缺陷，尽可能的使中间区域形成的柱状隔垫物的远离彩膜基底的一端面与四周区域形成的柱状隔垫物的远离彩膜基底的一端面在同一水平面上，保证了面板的均一性，以便后续对位贴合。
下面通过具体的实施例对本发明所涉及的技术方案进行详细描述，本发明包括但并不限于以下实施例。
如图2所示，为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制作方法的流程图，该方法主要包括以下步骤：
步骤11：提供一彩膜基底。
在本发明步骤11中，所述彩膜基底一般为大尺寸的衬底基板21，如图3(a)所示，其材料可以为玻璃、石英、金属等。
步骤12：在所述彩膜基底上形成图案化的黑矩阵。
如图3(b)所示，在制作黑矩阵22时，其掩膜板23的掩盖区域231与非掩盖区域232的分布较为均匀，即使存在由于掩膜板面积过大而造成的中间区域的曝光高度高于四周区域的曝光高度，但是，由于掩盖区域231与非掩盖区域232的分布较为均匀，因此，制作得到的黑矩阵不会出现较大幅度的高度差，也不会影响后续的膜层表面的平整性。
此外，一般在黑矩阵22形成之后，还要在其上涂布一层透明阻挡层24，用以阻挡两膜层之间的相互影响。
步骤13：在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用具有至少两个透光率等级的掩膜板形成图案化的彩色光阻，其中，利用所述掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度。
但是，考虑到现有技术中存在的柱状隔垫物不均一的问题，本发明在制作彩色光阻的工艺制程中进行相应处理。其原理主要在于：现有技术中由于面板面积过大，导致使用的掩膜板的面积较大，从而在形成柱状隔垫物时，中间区域的曝光程度优于四周区域的曝光程度，造成位于中间区域的柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面与位于四周区域的柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面不在同一水平面上，从而，影响彩膜基板的面板均一性。为此，本发明实施例为了补偿客观条件下形成的柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面不在同一水平面上的现象，本发明在步骤13中进行了改进，具体地，如图3(c)中，在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用具有至少两个透光率等级的掩膜板32形成图案化的彩色光阻31，其中，利用所述掩膜板32中对应黑矩阵的中心区域形成的彩色光阻(网格状)的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻(方格状)的高度。图中所示的网格状区域和方格状区域均是后续用于形成柱状隔垫物的区域，该区域的下方是黑矩阵。该用于形成柱状隔垫物的区域的图形面积大于待形成的柱状隔垫物在垂直彩膜基底方向上的投影面积，该用于形成柱状隔垫物的区域的图形可以为如图所示的矩形，也可以为圆形、椭圆形等。其中，用于制作彩色光阻的掩膜板的透光率等级的多少决定了后续形成的柱状隔垫物的均一性程度。用于制作彩色光阻的掩膜板的透光率等级越多，则后续形成的柱状隔垫物的均一性越好，反之，则形成的柱状隔垫物的均一性较差。
优选地，在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用具有至少两个透光率等级的掩膜板形成图案化的彩色光阻，具体包括：
在形成有黑矩阵的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成图案化的第一彩色光阻；
在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成图案化的第二彩色光阻；
在形成有第二彩色光阻的彩膜基底上，涂布第三彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成图案化的第三彩色光阻；
其中，形成的所述第一彩色光阻、第二彩色光阻和第三彩色光阻均满足：利用所述掩膜板中对应黑矩阵的中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度。
需要说明的是，在本发明实施例中，所述第一彩色光阻、第二彩色光阻、第三彩色光阻元可分别为：R、G、B三基色形成的彩色光阻，三种彩色光阻形成的顺序可调。
优选地，用于形成彩色光阻的掩膜板的透光率等级的取值范围为：60％-100％。
优选地，所述用于形成柱状隔垫物的区域的图形为矩形或圆柱形，所述用于形成柱状隔垫物的区域的图形面积大于待形成的柱状隔垫物在垂直彩膜基底方向上的投影面积。
步骤14：在所述彩色光阻之上、对应黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
优选地，在所述彩色光阻之上、对应黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，具体包括：
在具有高度差的彩色光阻之上，涂布用于制作柱状隔垫物的有机材料和光刻胶层；
利用掩膜板对所述有机材料和光刻胶层进行曝光，形成柱状隔垫物。
在经过步骤13之后，形成所需的彩色光阻，且在该彩膜基板的中间区域用于形成柱状隔垫物的位置处的彩色光阻的高度较低，在彩膜基板的四周区域用于形成柱状隔垫物的位置处的彩色光阻的高度较高。从而，在该高度不均一的彩色光阻上涂布用于形成柱状隔垫物的有机材料和负性光刻胶，虽然柱状隔垫物膜层的厚度大概为5-6um，相比于彩色光阻材料膜层的厚度3um左右，要大一些，但是，微米级的厚度的膜层涂布并不能掩盖彩色光阻高度不均一的现象，因此，涂布有机材料和负性光刻胶的混合物41后，其表面仍是高度不均一的，如图4(a)所示的剖面结构图，在利用具有至少两个透光率等级的掩膜板进行曝光、显影后，仍存在面板较大而导致曝光不均匀的问题，即：中间区域的曝光程度较好，保留的柱状隔垫物的高度较高，四周区域的曝光程度较差，保留的柱状隔垫物的高度较低；但是，由于曝光、显影之前的彩色光阻的厚度就是不均一的，因此，形成的柱状隔垫物的高度就会得到补偿，在整个面板内，形成的柱状隔垫物42的高度尽量保证在一个水平面上，如图4(b)所示，从而，保证了面板的均匀性，有助于后续的面板贴合。
以下通过具体的实例对本发明上述涉及的彩膜基板的制作方法进行介绍。
实例1：用于形成彩色光阻的掩膜板具有两个透光率等级
在彩膜基底上形成有黑矩阵之后，依次形成RGB彩色光阻，其形成的顺序可以随意选择，假设按照R、G、B的顺序，需要说明的是，在此之前，该掩膜板是根据透光率等级设计好的。若当前掩膜板为两个透光率等级，则表示需要改掩膜板有一个完全透光区域以及一个不完全透光区域，该不完全透光区域应位于中间区域，且其透光率等级应限定在小于100％透光率，大于60％透光率的范围内，如图5(a)所示，为彩色光阻掩膜板，只示出了部分结构，该彩色光阻掩膜板中位于四周区域的曝光区域(空白区域)的透光率等级为100％，位于中心区域的曝光区域(密网格区域)的透光率等级为60％；该掩膜板的面积较大，针对不同的彩色光阻的制备，可以错开一个条形的彩色光阻使用，进而制备其他颜色的彩色光阻。根据上述掩膜板进行三次(每次对位都错开一个条形彩色光阻)对位曝光，依次形成RGB像素单元，如图5(b)，其中，中间区域中用于形成柱状隔垫物的区域(竖条纹区域)的像素单元的高度为H2，其他区域(左斜条纹)的像素单元的高度均为H1，且H1>H2。
进而，在后续形成柱状隔垫物时，在高度不均一的像素单元涂布用于形成柱状隔垫物的有机材料和负性光刻胶的混合物，再通过曝光、显影等工艺，考虑到由于掩膜板面积过大而导致中间区域与四周区域曝光程度相差较大，进而形成的柱状隔垫物的高度不同，但是，由于之前形成的像素单元的高度不均一的补偿作用，从而，使得形成的柱状隔垫物中远离彩膜基板的一端面尽可能在面板的同一个水平面内，保证了面板的均一性。
实例2：用于形成像素单元的掩膜板具有三个透光率等级
实例1中，虽然设置了两个透光率等级，并改善了面板均一性的问题，但是，并不能很好的解决，因此，为了更好的改善面板内柱状隔垫物的均一性的问题，可以通过设置更多个透光率等级，提高划分透光率等级的精度，从而增大整个面板的像素单元的梯度分布的层次，更好的改善面板内柱状隔垫物的均一性问题。
若当前掩膜板为三个透光率等级，则表示需要改掩膜板有一个完全透光区域以及两个不完全透光区域，该不完全透光区域应位于靠近中间区域，且其透光率等级应限定在小于100％透光率，大于60％透光率的范围内，如图6(a)所示，为彩色光阻掩膜板，只示出了部分结构，该彩色光阻掩膜板中位于四周区域的曝光区域(空白区域)的透光率等级为100％，位于靠近中间区域的曝光区域(疏网格区域)的透光率等级为80％，中间(密网格区域)的透光率等级为60％；该掩膜板的面积较大，针对不同的彩色光阻的制备，可以错开一个条形的彩色光阻使用，进而制备其他颜色的彩色光阻。根据上述掩膜板进行三次(每次对位都错开一个条形彩色光阻)对位曝光，依次形成RGB像素单元，如图6(b)，其中，中间区域中用于形成柱状隔垫物的区域(竖条纹区域)的彩色光阻的高度为H3，靠近中间(右斜条纹区域)的彩色光阻的高度为H2，其他区域(左斜条纹区域)的彩色光阻的高度均为H1,且H1>H2>H3。
同理，本发明实施例还提供了一种与上述制作彩膜基板的方法属于同一发明构思的彩膜基板，该彩膜基板主要包括：
彩膜基底；
位于所述彩膜基底之上的图案化的黑矩阵；
位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，其中，利用权利要求1-2任一所述的掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；
位于所述彩色光阻之上、对应黑矩阵的区域的柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
优选地，位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，具体包括：
多个呈条状图形、且间隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻；
所述第一彩色光阻、第二彩色光阻和第三彩色光阻均满足：利用权利要求1-2任一所述的掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度。
优选地，所述彩色光阻中用于形成柱状隔垫物的区域处的彩色光阻的高度差大于0μm，小于等于0.05μm。
优选地，用于形成柱状隔垫物的区域的图形为矩形或圆柱形，所述用于形成柱状隔垫物的区域的图形面积大于待形成的柱状隔垫物在垂直彩膜基底方向上的投影面积。
此外，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括上述任一方案中所涉及的彩膜基板。
同时，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述显示面板，其中，该显示装置可以为液晶面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一彩膜基底；
在所述彩膜基底上形成图案化的黑矩阵；
在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用掩膜板形成图案化的彩色光阻，其中，所述掩膜板包括至少两个透光率等级的曝光区域，且所述掩膜板中对应黑矩阵的曝光区域对应的透光率等级按照由中心区域向四周区域依次升高的规则设置，使得利用所述掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；
在所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在形成有黑矩阵的彩膜基底上，利用掩膜板形成图案化的彩色光阻，具体包括：
在形成有黑矩阵的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成图案化的第一彩色光阻；
在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成图案化的第二彩色光阻；
在形成有第二彩色光阻的彩膜基底上，涂布第三彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成图案化的第三彩色光阻。
3.如权利要求1或2任一所述的方法，其特征在于，用于形成柱状隔垫物的区域的图形为矩形或圆柱形，所述用于形成柱状隔垫物的区域的图形的面积大于待形成的柱状隔垫物在垂直彩膜基底方向上的投影面积。
4.如权利要求1或2任一所述的方法，其特征在于，在所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域形成柱状隔垫物，具体包括：
在具有高度差的彩色光阻之上，涂布用于制作柱状隔垫物的有机材料和光刻胶层；
利用掩膜板对所述有机材料和光刻胶层进行曝光，形成柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
5.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
彩膜基底；
位于所述彩膜基底之上的图案化的黑矩阵；
位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，其中，用于形成彩色光阻的掩膜板包括至少两个透光率等级的曝光区域，且所述掩膜板中对应黑矩阵的曝光区域对应的透光率等级按照由中心区域向四周区域依次升高的规则设置，使得利用所述掩膜板中心区域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周区域形成的彩色光阻的高度；
位于所述彩色光阻之上、对应所述黑矩阵的区域的柱状隔垫物，其中，所述柱状隔垫物中远离所述彩膜基底的一端均在同一水平面上。
6.如权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，位于形成有黑矩阵的彩膜基底之上图案化的彩色光阻，具体包括：
多个呈条状图形、且间隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻。
7.如权利要求5或6任一所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色光阻中用于形成柱状隔垫物的区域处的彩色光阻的高度差大于0μm，小于等于0.05μm。
8.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求5-7任一所述的彩膜基板。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8所述的显示面板。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104932138B (zh) * 2015-07-07 2018-08-28 深圳市华星光电技术有限公司 一种光罩及彩膜基板的制备方法
CN106371684A (zh) * 2016-09-20 2017-02-01 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示装置、触控显示面板及其制作方法
CN106324895A (zh) * 2016-10-24 2017-01-11 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法
CN106909023B (zh) 2017-03-30 2021-11-16 合肥京东方光电科技有限公司 一种掩膜板及其制造方法
CN106980200A (zh) * 2017-03-30 2017-07-25 惠科股份有限公司 显示面板及其制造方法
CN107153323A (zh) * 2017-06-12 2017-09-12 东旭（昆山）显示材料有限公司 掩膜板及其制备方法、彩膜基板及其制备方法和裸眼3d显示装置及应用
CN110361803B (zh) * 2019-08-05 2021-12-17 上海理工大学 一种中性密度滤光片的制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050112924A (ko) * 2004-05-28 2005-12-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 패턴 및 그 형성 방법과 이를 이용한 액정 표시 장치 및그의 제조 방법
CN102645793A (zh) * 2011-03-28 2012-08-22 京东方科技集团股份有限公司 柱状隔垫物的生成方法、系统以及液晶显示面板
CN102955354A (zh) * 2012-11-01 2013-03-06 合肥京东方光电科技有限公司 一种掩膜板及其制备方法
CN103235450A (zh) * 2013-03-15 2013-08-07 合肥京东方光电科技有限公司 显示面板及其制备方法、掩膜板及其制备方法、显示装置
CN104280942A (zh) * 2014-10-31 2015-01-14 合肥京东方光电科技有限公司 一种掩模板

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006098870A (ja) * 2004-09-30 2006-04-13 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示装置
KR101263496B1 (ko) * 2005-06-29 2013-05-13 엘지디스플레이 주식회사 컬러필터기판 및 그 제조방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050112924A (ko) * 2004-05-28 2005-12-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 패턴 및 그 형성 방법과 이를 이용한 액정 표시 장치 및그의 제조 방법
CN102645793A (zh) * 2011-03-28 2012-08-22 京东方科技集团股份有限公司 柱状隔垫物的生成方法、系统以及液晶显示面板
CN102955354A (zh) * 2012-11-01 2013-03-06 合肥京东方光电科技有限公司 一种掩膜板及其制备方法
CN103235450A (zh) * 2013-03-15 2013-08-07 合肥京东方光电科技有限公司 显示面板及其制备方法、掩膜板及其制备方法、显示装置
CN104280942A (zh) * 2014-10-31 2015-01-14 合肥京东方光电科技有限公司 一种掩模板

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