CN108845464A - 间隔柱生成方法及液晶盒结构 - Google Patents

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CN108845464A CN201811049794.5A CN201811049794A CN108845464A CN 108845464 A CN108845464 A CN 108845464A CN 201811049794 A CN201811049794 A CN 201811049794A CN 108845464 A CN108845464 A CN 108845464A
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Abstract

本发明提供一种间隔柱生成方法及液晶盒结构，涉及液晶技术领域，该方法包括：在滤光片的一侧涂覆光刻胶；通过预置掩膜版，从滤光片涂覆有光刻胶的一侧，对滤光片上指定位置的光刻胶进行照射；对滤光片上的光刻胶进行清洗，得到由指定位置的光刻胶生成的间隔柱。通过对指定位置的光刻胶进行照射，使得指定位置的光刻胶生成间隔柱，从而在形成液晶盒的过程中，滤光片上的间隔柱位于基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，对滤光片和基板进行支撑，避免了间隔柱与薄膜晶体管的段差相接触，进而避免了薄膜晶体管的段差存在误差导致液晶盒的高度也存在误差的问题，提高了液晶盒高度的精确度。

Description

间隔柱生成方法及液晶盒结构
技术领域
本发明涉及液晶技术领域，具体涉及一种间隔柱生成方法及液晶盒结构。
背景技术
液晶盒为填充液晶的结构，可以通过间隔柱对液晶盒的上下表面进行支撑，使得液晶盒保持一定的厚度，避免液晶盒遭到挤压时对液晶造成挤压，损坏液晶设备。
相关技术中，可以将光刻胶涂覆在液晶盒的上表面(彩色滤光片)，再从上表面涂覆光刻胶的一侧对指定区域进行照射，照射一段时间后，通过显影液对光刻胶进行清洗，得到由光刻胶生成的间隔柱，再将上表面与基板玻璃进行封装，使得间隔柱与基板的TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)段差相接触，从而通过生成的间隔柱对液晶盒结构进行支撑，形成液晶盒。
但是，由于TFT段差存在误差，使得生成的间隔柱与TFT段差支撑液晶盒时，液晶盒结构的高度也存在误差的问题。
发明内容
本发明的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种间隔柱生成方法及液晶盒结构，以解决由于TFT段差存在误差，使得液晶盒结构的高度也存在误差的问题。
为实现上述目的，本发明实施例采用的技术方案如下：
第一方面，本发明实施例提供了一种间隔柱生成方法，应用于液晶盒，所述液晶盒包括滤光片和基板，所述方法包括：
在所述滤光片的一侧涂覆光刻胶；
通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，所述指定位置的光刻胶在所述基板上的投影，与所述基板上的薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉；
对所述滤光片上的光刻胶进行清洗，得到由所述指定位置的光刻胶生成的间隔柱。
进一步地，所述预置掩膜版包括至少一个通孔；
所述通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，包括：
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上第一指定位置的光刻胶照射第一预设时长；
调整所述预置掩膜版的位置，使得所述预置掩膜版的至少一个通孔在所述滤光片上的投影的位置，位于所述滤光片上的第二指定位置，所述第一指定位置与所述第二指定位置相隔至少一个像素单位；
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上第二指定位置的光刻胶照射第二预设时长。
进一步地，所述预置掩膜版包括至少两个通孔，所述至少两个通孔包括至少一个主通孔和至少一个副通孔，所述副通孔处设置有挡光薄膜；
所述通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，包括：
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上第一指定位置和第二指定位置的光刻胶照射第三预设时长。
进一步地，所述通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，包括：
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，采用紫外光对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射。
第二方面，本发明实施例还提供了一种液晶盒结构，所述液晶盒结构包括：滤光片、基板和至少一个间隔柱，所述基板上设置有至少一个薄膜晶体管；
所述至少一个间隔柱位于所述滤光片和所述基板之间，所述至少一个薄膜晶体管位于所述基板靠近所述滤光片的一侧；
所述至少一个间隔柱中的每个间隔柱在所述基板上的投影，与所述薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。
进一步地，所述至少一个间隔柱包括至少一个主间隔柱和至少一个副间隔柱，所述主间隔柱的高度大于所述副间隔柱的高度。
进一步地，所述间隔柱是通过对应涂覆在所述滤光片一侧的光刻胶进行照射后形成的。
进一步地，所述光刻胶为负性胶。
进一步地，所述薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线和漏极金属线均为铜线。
进一步地，所述基板为玻璃基板，所述滤光片为彩色滤光片。
本发明的有益效果是：
本发明实施例通过在滤光片的一侧涂覆光刻胶，并通过预置掩膜版对指定位置的光刻胶进行照射，最后对经过照射的光刻胶进行清洗显影，得到由指定位置的光刻胶生成的间隔柱，使得生成的间隔柱在液晶盒中基板上的投影，与基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。通过对指定位置的光刻胶进行照射，使得指定位置的光刻胶生成间隔柱，从而在形成液晶盒的过程中，滤光片上的间隔柱可以位于基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，对滤光片和基板进行支撑，避免了间隔柱与薄膜晶体管的段差相接触，进而避免了薄膜晶体管的段差存在误差导致液晶盒的高度也存在误差的问题，提高了液晶盒高度的精确度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明一实施例提供的间隔柱生成方法的流程示意图；
图2为本发明另一实施例提供的间隔柱生成方法的流程示意图；
图3为本发明又一实施例提供的间隔柱生成方法的流程示意图；
图4为本发明一实施例提供的一种液晶盒结构的示意图；
图5为本发明一实施例提供的另一种液晶盒结构的示意图。
图标：401-滤光片、402-基板和403-间隔柱。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
图1为本发明一实施例提供的间隔柱生成方法的流程示意图，如图1所示，应用于液晶盒，液晶盒包括滤光片和基板，该方法包括：
步骤101、在滤光片的一侧涂覆光刻胶。
在制作液晶盒的过程中，需要在滤光片和基板之间设置间隔柱，以便通过间隔柱对滤光片和基板进行支撑，防止滤光片或基板对形成的液晶盒中的液晶进行挤压。
在设置间隔柱的过程中，可以先对滤光片的一侧涂覆光刻胶，使得光刻胶能够均匀地覆盖在滤光片的一侧，以便在后续步骤中，可以对光刻胶进行照射，从而形成间隔柱。
例如，可以采用甩胶的方式对光刻胶进行涂覆，也即是，在滤光片一侧的中央涂覆预设体积和/或质量的光刻胶，并控制滤光片在水平方向旋转，使得光刻胶向滤光片的边缘移动，从而将光刻胶均匀地涂覆在滤光片的一侧。
需要说明的是，涂覆的光刻胶的体积和/或质量，可以根据需要形成的间隔柱的高度以及滤光片的面积大小进行确定，本发明实施例对此不做限定。
另外，在实际应用中，该光刻胶可以为负性胶，也即是被照射过后，光刻胶转化为不可溶物质，以便对未照射的区域进行清洗，得到间隔柱。
步骤102、通过预置掩膜版，从滤光片涂覆有光刻胶的一侧，对该滤光片上指定位置的光刻胶进行照射。
其中，该指定位置的光刻胶在基板上的投影，与基板上的薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。
由于在通过滤光片和基板制造液晶盒的过程中，需要将间隔柱设置在基板TFT的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，因此需要对滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，从而在指定位置形成间隔柱。
其中，滤光板上的指定位置可以根据基板上的TFT进行确定。由于在制造液晶盒的过程中，需要对滤光片和基板进行对准，防止滤光片和基板的相对位置发生偏移，因此，可以根据TFT的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线在滤光板上的投影，确定需要照射的指定位置。
相应的，在滤光板上涂覆光刻胶后，则可以调整预置掩膜版的位置，使得预置掩膜版上的通孔在滤光板上的投影，与滤光板上的指定位置重合，从而通过预置掩膜版对进行照射的照射光进行遮挡，仅由预置掩膜版上的通孔透过照射光，完成对滤光片上的指定位置进行照射，也即是对指定位置的光刻胶进行照射，使得被照射的光刻胶发生化学反应，从而形成不可溶解的光刻胶。
其中，对光刻胶照射的时间长度可以根据不同材料的光刻胶、以及所需的间隔柱的高度进行确定，因此对光刻胶照射的时间长度可以设置为不同的照射时间长度，本发明实施例对照射光刻胶的时间长度不做限定。
需要说明的是，在实际应用中，可以采用不同的方式对光刻胶进行照射，例如，可以采用紫外光、电子束、离子束或X射线对光刻胶进行照射，当然还可以采用其他方式对光刻胶进行照射，本发明实施例对此不做限定。
具体地，在采用紫外光进行照射的过程中，可以通过预置掩膜版，从滤光片涂覆有光刻胶的一侧，采用紫外光对滤光片上指定位置的光刻胶进行照射。
步骤103、对滤光片上的光刻胶进行清洗，得到由指定位置的光刻胶生成的间隔柱。
在对光刻胶照射完毕后，即可对滤光片上的光刻胶进行显影清洗，将未被照射的光刻胶进行溶解，从而得到由指定位置的光刻胶形成的间隔柱，以便根据生成的间隔柱对滤光片和基板进行支撑，形成液晶盒。
具体地，可以将滤光片放入盛装有显影液的容器中，使得滤光片上未被照射的光刻胶可以溶于显影液中，在未被照射的光刻胶完全溶于显影液后，滤光片上仅剩余指定位置被照射的光刻胶形成的间隔柱，完成对间隔柱的生成。
综上所述，本发明实施例提供的间隔柱生成方法，通过在滤光片的一侧涂覆光刻胶，并通过预置掩膜版对指定位置的光刻胶进行照射，最后对经过照射的光刻胶进行清洗显影，得到由指定位置的光刻胶生成的间隔柱，使得生成的间隔柱在液晶盒中基板上的投影，与基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。通过对指定位置的光刻胶进行照射，使得指定位置的光刻胶生成间隔柱，从而在形成液晶盒的过程中，滤光片上的间隔柱可以位于基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，对滤光片和基板进行支撑，避免了间隔柱与薄膜晶体管的段差相接触，进而避免了薄膜晶体管的段差存在误差导致液晶盒的高度也存在误差的问题，提高了液晶盒高度的精确度。
图2为本发明另一实施例提供的间隔柱生成方法的流程示意图，如图2所示，应用于液晶盒，液晶盒包括滤光片和基板，该方法包括：
步骤201、在滤光片的一侧涂覆光刻胶。
本步骤201与步骤101类似，在此不再赘述。
步骤202、通过预置掩膜版，从滤光片涂覆有光刻胶的一侧，对滤光片上第一指定位置的光刻胶照射第一预设时长。
其中，该预置掩膜版可以包括至少一个通孔，以便在进行照射的过程中，照射光可以通过该通孔对光刻胶进行照射。
由于液晶盒中的滤光片和基板需要主间隔柱和副间隔柱进行支撑，而主间隔柱和副间隔柱的高度不同，则可以对不同位置的光刻胶照射不同时长，从而形成不同高度的间隔柱。
因此，可以对滤光片上第一指定位置的光刻胶照射第一预设时长，使得第一指定位置的光刻胶能够充分发生化学反应，从而转化为不可溶解的光刻胶，也即是主间隔柱。
具体地，可以对预置掩膜版的位置进行调整，使得光刻胶的通孔在滤光片上的投影，与滤光片上的第一指定位置相重合，以便在照射过程中，第一指定位置的光刻胶被照射，从而形成主间隔柱。
步骤203、调整预置掩膜版的位置，使得预置掩膜版的至少一个通孔在滤光片上的投影的位置，位于滤光片上的第二指定位置。
其中，第一指定位置与第二指定位置相隔至少一个像素单位。
在通过预置掩膜版对第一指定位置的光刻胶进行照射后，需要对第二指定位置的光刻胶进行照射，从而生成副间隔柱。因此，需要对预置掩膜版的位置进行调整。
具体地，可以将预置掩膜版向某个方向移动至少一个像素单位，使得预置掩膜版的通孔在在滤光片上的投影，与滤光片上的第二指定位置相重合，以便在后续步骤中，第二指定位置的光刻胶被照射，从而形成主间隔柱。
步骤204、通过预置掩膜版，从滤光片涂覆有光刻胶的一侧，对滤光片上第二指定位置的光刻胶照射第二预设时长。
本步骤204对光刻胶照射的过程，与步骤202对光刻胶照射的过程类似，在此不再赘述。
需要说明的是，由于需要在第二指定位置生成副间隔柱，而副间隔柱的高度小于主间隔柱的高度，因此，需要在第二指定位置照射第二预设时长，且第二预设时长小于第一预设时长。
步骤205、对滤光片上的光刻胶进行清洗，得到由指定位置的光刻胶生成的间隔柱。
本步骤205与步骤103类似，在此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的间隔柱生成方法，通过在滤光片的一侧涂覆光刻胶，并通过预置掩膜版对第一指定位置的光刻胶照射第一预设时长，再调整所述预置掩膜版的位置，通过预置掩膜版对第二指定位置的光刻胶照射第二预设时长，最后对经过照射的光刻胶进行清洗显影，得到第一指定位置和第二指定位置的光刻胶生成的高度不同的间隔柱，使得生成的间隔柱在液晶盒中基板上的投影，与基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。通过对第一指定位置和第二指定位置的光刻胶照射不同时长，使得第一指定位置和第二指定位置的光刻胶生成不同高度的间隔柱，得到主间隔柱和副间隔柱，从而在形成液晶盒的过程中，滤光片上的主间隔柱可以位于基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，对滤光片和基板进行支撑，避免了主间隔柱与薄膜晶体管的段差相接触，进而避免了薄膜晶体管的段差存在误差导致液晶盒的高度也存在误差的问题，提高了液晶盒高度的精确度。
图3为本发明又一实施例提供的间隔柱生成方法的流程示意图，如图3所示，应用于液晶盒，液晶盒包括滤光片和基板，该方法包括：
步骤301、在滤光片的一侧涂覆光刻胶。
本步骤301与步骤101类似，在此不再赘述。
步骤302、通过预置掩膜版，从滤光片涂覆有光刻胶的一侧，对滤光片上第一指定位置和第二指定位置的光刻胶照射第三预设时长。
其中，该预置掩膜版包括至少两个通孔，该至少两个通孔包括至少一个主通孔和至少一个副通孔，副通孔处设置有挡光薄膜。
由于支撑滤光片和基板的间隔柱可以包括主间隔柱和副间隔柱，而主间隔柱的高度大于副间隔柱的高度，以便通过主间隔柱对滤光片和基板进行支撑，通过副间隔柱对滤光片和基板进行辅助支撑。
因此，在对光刻胶进行照射的过程中，需要对第一指定位置和第二指定位置采用不同的光照强度进行照射，从而生成不同高度的间隔柱，也即是生成主间隔柱和副间隔柱。
相应的，可以在预置掩膜版上设置主通孔和副通孔，并在副通孔处设置挡光薄膜，以便减少副通孔处透过的光照强度，从而在相同的照射时长下，生成不同高度的主间隔柱和副间隔柱。
具体地，可以对预置掩膜版的位置进行调整，使得主通孔在滤光板上的投影与第一指定位置相重合、使得副通孔在滤光板上的投影与第二指定位置相重合，从而通过预置掩膜版对照射光进行遮挡，对滤光片上第一指定位置和第二指定位置的光刻胶照射第三预设时长，使得第一指定位置和第二指定位置的光刻胶发生化学反应，形成不可溶解的光刻胶。
需要说明的是，副通孔处挡光薄膜的透光率与需要生成的副间隔柱的高度相关，需要生成的副间隔柱的高度越高，则挡光薄膜的透光率越高，使得更多的光刻胶发生反应，从而生成较高的副间隔柱。相应的，若需要生成的副间隔柱的高度越低，则挡光薄膜的透光率越低。
步骤303、对滤光片上的光刻胶进行清洗，得到由指定位置的光刻胶生成的间隔柱。
本步骤303与步骤103类似，在此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的间隔柱生成方法，通过在滤光片的一侧涂覆光刻胶，并通过预置掩膜版对滤光片上第一指定位置和第二指定位置的光刻胶照射第三预设时长，该预置掩膜版包括至少一个主通孔和至少一个副通孔，且副通孔处设置有挡光薄膜，使得主通孔和副通孔的透光率不同，最后对经过照射的光刻胶进行清洗显影，得到由第一指定位置和第二指定位置的光刻胶生成的高度不同的间隔柱，使得生成的间隔柱在液晶盒中基板上的投影，与基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。通过采用不同透光率对第一指定位置和第二指定位置的光刻胶进行照射，使得第一指定位置和第二指定位置的光刻胶生成高度不同的间隔柱，得到主间隔柱和副间隔柱，从而在形成液晶盒的过程中，滤光片上的主间隔柱可以位于基板上薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，对滤光片和基板进行支撑，避免了主间隔柱与薄膜晶体管的段差相接触，进而避免了薄膜晶体管的段差存在误差导致液晶盒的高度也存在误差的问题，提高了液晶盒高度的精确度。
图4为本发明一实施例提供的一种液晶盒结构的示意图，如图4所示，所述液晶盒结构包括：滤光片401、基板402和至少一个间隔柱403，基板402上设置有至少一个薄膜晶体管。
其中，至少一个间隔柱403位于滤光片401和基板402之间，至少一个薄膜晶体管位于基板402靠近滤光片401的一侧，也即是，薄膜晶体管位于滤光片401和基板402之间，位于滤光片401和基板402形成的液晶盒内。
而且，参照图5，至少一个间隔柱403中的每个间隔柱403在基板402上的投影，与薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。通过将间隔柱403设置在薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，使得滤光片401和基板402完全由间隔柱403进行支撑，避免了由间隔柱403和薄膜晶体管共同支撑滤光片401和基板402的情况，仅需对间隔柱403的高度进行调整，即可完成对液晶盒高度的调整，提高了确定液晶盒高度的准确性。
另外，间隔柱403可以由前述实施例中的方法制成，具体可以是通过对应涂覆在滤光片401一侧的光刻胶进行照射后形成的，且光刻胶为负性胶，也即是，在对滤光片401上指定位置的光刻胶进行照射后，被照射的光刻胶发生化学反应，从而转化为不可溶解的间隔柱403。
需要说明的是，薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线和漏极金属线均可以为铜线，也可以采用其他金属制成，本发明实施例对此不做限定。
而且，基板402可以为玻璃基板402，滤光片401可以为彩色滤光片401，当然，还可以采用其他材质的材料作为基板402和滤光片401，本发明实施例对基板402和滤光片401也不做限定。
进一步地，至少一个间隔柱403可以包括至少一个主间隔柱和至少一个副间隔柱，主间隔柱的高度大于副间隔柱的高度。
在实际应用中，可以在液晶盒内分别设置高度不同的主间隔柱和副间隔柱，从而通过较高的主间隔柱对滤光片401和基板402进行支撑，防止滤光片401和/或基板402对液晶盒内的液晶进行挤压。
但是，若主间隔柱无法承受外界压力，从而造成滤光片401和/或基板402对液晶进行挤压，则在挤压到一定程度后，也即是滤光片401和基板402之间的距离不大于副间隔柱的高度时，副间隔柱可以和主间隔柱一起承受液晶盒外部的压力，避免液晶盒被进一步挤压。
综上所述，本发明实施例提供的液晶盒结构，通过在滤光片和基板之间设置主间隔柱和副间隔柱，且主间隔柱位于基板上的薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线上，从而对滤光片和基板进行支撑，主间隔柱不再与薄膜晶体管的段差相接触，避免了薄膜晶体管的段差存在误差而导致液晶盒的高度也存在误差的问题，提高了液晶盒高度的精确度。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种间隔柱生成方法，其特征在于，应用于液晶盒，所述液晶盒包括滤光片和基板，所述方法包括：
在所述滤光片的一侧涂覆光刻胶；
通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，所述指定位置的光刻胶在所述基板上的投影，与所述基板上的薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉；
对所述滤光片上的光刻胶进行清洗，得到由所述指定位置的光刻胶生成的间隔柱。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预置掩膜版包括至少一个通孔；
所述通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，包括：
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上第一指定位置的光刻胶照射第一预设时长；
调整所述预置掩膜版的位置，使得所述预置掩膜版的至少一个通孔在所述滤光片上的投影的位置，位于所述滤光片上的第二指定位置，所述第一指定位置与所述第二指定位置相隔至少一个像素单位；
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上第二指定位置的光刻胶照射第二预设时长。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预置掩膜版包括至少两个通孔，所述至少两个通孔包括至少一个主通孔和至少一个副通孔，所述副通孔处设置有挡光薄膜；
所述通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，包括：
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上第一指定位置和第二指定位置的光刻胶照射第三预设时长。
4.如权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述通过预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射，包括：
通过所述预置掩膜版，从所述滤光片涂覆有所述光刻胶的一侧，采用紫外光对所述滤光片上指定位置的光刻胶进行照射。
5.一种液晶盒结构，其特征在于，所述液晶盒结构包括：滤光片、基板和至少一个间隔柱，所述基板上设置有至少一个薄膜晶体管；
所述至少一个间隔柱位于所述滤光片和所述基板之间，所述至少一个薄膜晶体管位于所述基板靠近所述滤光片的一侧；
所述至少一个间隔柱中的每个间隔柱在所述基板上的投影，与所述薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线或者漏极金属线所在的区域相交叉。
6.如权利要求5所述的液晶盒结构，其特征在于，所述至少一个间隔柱包括至少一个主间隔柱和至少一个副间隔柱，所述主间隔柱的高度大于所述副间隔柱的高度。
7.如权利要求5所述的液晶盒结构，其特征在于，所述间隔柱是通过涂覆在所述滤光片一侧的光刻胶进行照射后形成的。
8.如权利要求7所述的液晶盒结构，其特征在于，所述光刻胶为负性胶。
9.如权利要求5至8任一所述的液晶盒结构，其特征在于，所述薄膜晶体管的栅极金属线、源极金属线和漏极金属线均为铜线。
10.如权利要求5至8任一所述的液晶盒结构，其特征在于，所述基板为玻璃基板，所述滤光片为彩色滤光片。
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