CN103034354B - 触控显示装置及其形成方法 - Google Patents
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Abstract
本发明的实施例提供一种触控显示装置及其形成方法,该触控显示装置包含触控面板设置于显示面板的基板的第一表面上,彩色滤光层设置于基板的第二表面上,触控面板包含多个第一与第二导电图案,以互相垂直的方向排列,图案化隔绝层具有第一部分与第二部分,其中第一部分设置于第一与第二导电图案交联的位置之上,第二部分设置于基板的第一表面之上,位于第一导电图案与第二导电图案之间,且其中第一部分的高度低于第二部分的高度,图案化隔绝层利用半调式掩模以曝光显影工艺形成。本发明可降低触控显示装置的整体厚度,有效地减少或避免触控面板的感应电极的架桥连接处受到刮伤或压伤,进而避免触控面板失效,提升触控显示装置的生产良率。
Description
技术领域
本发明涉及一种触控显示装置,尤其涉及一种在电容式触控显示装置的双面工艺中减少刮伤的方法。
背景技术
目前的电容式触控面板可分为两种,一种为外挂式(addon)触控面板,其将电容式触控面板外加于显示面板外,这种外挂式触控面板需要由两片玻璃基板组成,一片玻璃基板用于制作电容式触控元件在其上,另一片玻璃基板则作为保护电容式触控元件的外盖,因此这种外挂式触控面板会增加触控显示装置的整体厚度。
另一种触控面板则是将电容式触控元件制作在显示面板的彩色滤光片(colorfilter;简称CF)基板的背面上(onCF),然后使用一片玻璃基板作为保护电容式触控元件的外盖,虽然这种在彩色滤光片基板上制作的触控面板可以减少一片玻璃基板的使用,但是先制作的电容式触控元件在后续彩色滤光片基板的双面工艺中容易被刮伤。
因此,业界急需一种触控面板,其可以克服上述问题,降低触控显示装置的整体厚度,并且同时减少电容式触控元件在彩色滤光片基板的双面工艺中产生的刮伤问题。
发明内容
为了克服现有技术的缺陷,依据本发明的一实施例,提供一种触控显示装置,包括:显示面板,其包括第一基板,具有第一表面及相对的第二表面,彩色滤光层设置于第二表面上;触控面板设置于第一基板的第一表面上,其中触控面板包括多个第一导电图案设置于第一基板的第一表面上,以第一方向排列;多个第二导电图案设置于第一基板的第一表面上,以垂直于第一方向的第二方向排列;以及图案化隔绝层,具有第一部分与第二部分,其中第一部分设置于第一导电图案与第二导电图案交联的位置之上,第二部分设置于第一基板的第一表面之上,位于这些第一导电图案与第二导电图案之间,且其中第一部分的高度低于第二部分的高度。
依据本发明的一实施例,提供一种触控显示装置的形成方法,包括:提供第一基板,具有第一表面及相对的第二表面;形成触控面板于第一基底的第一表面上,其中触控面板的形成步骤包括:形成多个第一导电图案于第一基底的第一表面上,这些第一导电图案以第一方向排列;形成多个第二导电图案于第一基底的第一表面上,这些第二导电图案以垂直于第一方向的第二方向排列,且这些第二导电图案互相连接;涂布隔绝层于第一基底的第一表面之上;以及提供半调式掩模,对隔绝层进行曝光显影工艺,形成图案化隔绝层,图案化隔绝层具有第一部分与第二部分,其中第一部分形成于第一导电图案与第二导电图案交联的位置之上,第二部分形成于第一基板的第一表面之上,位于这些第一导电图案与第二导电图案之间,且其中第一部分的高度低于第二部分的高度。
本发明可降低触控显示装置的整体厚度,有效地减少或避免触控面板的感应电极的架桥连接处受到刮伤或压伤,进而避免触控面板失效,提升触控显示装置的生产良率。
为了让本发明的上述目的、特征、及优点能更明显易懂,以下配合附图,作详细说明如下。
附图说明
图1是示出本发明一实施例的触控显示装置的剖面示意图。
图2是示出本发明一实施例的触控面板的平面示意图。
图3A是示出沿着图2的剖面线3-3’,本发明一实施例的触控面板的剖面示意图。
图3B是示出沿着图2的剖面线3-3’,本发明另一实施例的触控面板的剖面示意图。
图4是示出本发明另一实施例的触控面板的平面示意图。
图5A是示出沿着图4的剖面线5-5’,本发明一实施例的触控面板的剖面示意图。
图5B是示出沿着图4的剖面线5-5’,本发明另一实施例的触控面板的剖面示意图。
图6A-图6D是示出依据本发明的一实施例,图5A的触控面板的制造过程的剖面示意图。
图7A-图7D是示出依据本发明的另一实施例,图5B的触控面板的制造过程的剖面示意图。
图8是示出发明人所熟知的一种电容式触控面板的平面示意图。
图9是示出沿着图8的剖面线9-9’,电容式触控面板的剖面示意图。
其中,附图标记说明如下:
100~显示面板的上基板;
100A~基板100的背面;
100B~基板100的正面;
102~显示面板的下基板;
103、203~彩色滤光层;
104~显示元件;
106~触控面板的保护外盖;
108、208~触控面板;
110X、110Y、210X、210Y~导电图案(感应电极);
110D~伪透明导电图案;
112、212~架桥结构;
114、214~隔绝结构;
116~伪隔绝结构;
120、220~保护层;
130~半调式掩模;
130A~半透光图案;
130B~不透光图案;
130C~透光图案;
200~触控显示装置;
202~手指或触控笔。
具体实施方式
本发明的实施例提供投射式电容感应触控显示装置,其将电容式触控面板先制作在显示面板的上基板的背面上,然后将彩色滤光层或其他元件制作在上基板的正面上,并完成显示面板的制作。本发明实施例的触控显示装置利用电容式触控面板的结构设计,在显示面板的上基板的双面工艺中避免触控面板受到刮伤损害,借此可在触控显示装置中减少一片基板的使用,降低触控显示装置的整体厚度,并同时提升触控显示装置的生产良率。
首先请参阅图8及图9,图8是示出发明人所熟悉的一种电容式触控面板208的平面示意图,其具有多个以X方向排列的感应电极210X,以及多个以Y方向排列的感应电极210Y,其中感应电极210X直接互相连接,而感应电极210Y则利用金属架桥结构212电性连接,为了避免感应电极210X与感应电极210Y的交接处发生短路,在金属架桥结构212与感应电极210X的连接部分之间设置隔绝结构214。
图9是示出沿着图8的触控面板208的剖面线9-9’的剖面示意图,触控面板208形成于基板100的表面100A上,由于在金属架桥结构212与感应电极210X的连接部分之间设置有隔绝结构214,因此在感应电极210X与感应电极210Y上方覆盖保护层220之后,触控面板208在隔绝结构214处的高度会高于其他位置的高度。因此,当在基板100的另一表面100B上形成彩色滤光层203时,触控面板208的突出处P容易被刮伤或压伤,造成触控面板208失效。
因此,本发明实施例的投射式电容感应触控显示装置针对触控面板的结构设计进行改良,降低在显示面板的上基板进行双面工艺所产生的刮伤问题。
请参阅图1,其是示出本发明一实施例的触控显示装置200的剖面示意图,触控显示装置200包含触控面板108设置于显示面板的上基板100的表面100A上,上基板100的另一表面100B上则形成彩色滤光层103或其他元件层,显示面板的下基板102与上基板100对向设置,在上基板100与下基板102之间夹设显示元件104,例如为液晶层。此外,在触控面板108的外侧还可以设置保护外盖106,例如为玻璃基板或塑胶基板,以避免使用者的手指或触控笔202刮伤触控面板108。
图2是示出本发明一实施例的触控面板108的平面示意图,触控面板108包含多个以X方向排列的导电图案110X和多个以Y方向排列的导电图案110Y作为感应电极,这些导电图案110X和110Y互相连接,但是在导电图案110X与110Y交联的位置之上具有隔绝结构114设置在导电图案110X和110Y之间,以避免导电图案110X与导电图案110Y的相交处发生短路。导电图案110X和110Y的材料为透明导电材料,例如为铟锡氧化物(indiumtinoxide;ITO),导电图案110X与110Y的形状可以是菱形或其他形状。
依据本发明的一实施例,在导电图案110X与110Y之间设置有伪透明导电图案110D,其材料例如为铟锡氧化物(ITO),伪透明导电图案110D与导电图案110X及110Y之间互相电性隔绝。此外,在导电图案110X与110Y之间还设置有伪隔绝结构116,伪隔绝结构116可设置在伪透明导电图案110D的上方或下方,并且伪隔绝结构116的高度较隔绝结构114的高度高,因此可有效避免隔绝结构114上方的导电图案110X被刮伤。在一实施例中,隔绝结构114与伪隔绝结构116的材料为绝缘感光材料,例如为光致抗蚀剂材料,隔绝结构114与伪隔绝结构116的形状可以是岛状(islandtype),并且隔绝结构114的尺寸略大于伪隔绝结构116的尺寸。
图3A是示出依据本发明的一实施例,沿着图2的触控面板108的剖面线3-3’的剖面示意图。如图3A所示,导电图案100X、导电图案100Y以及伪透明导电图案110D设置在基板100的表面100A上,隔绝结构114设置于导电图案100Y与导电图案100X交联的位置上,电性隔绝导电图案100X的连接部分与导电图案100Y的连接部分,伪隔绝结构116则设置于伪透明导电图案110D上,其中隔绝结构114的高度H1低于伪隔绝结构116的高度H2,在一实施例中,高度H1约为高度H2的50%以下。
在基板100的表面100A上全面性地覆盖保护层120,保护层120的材料例如为压克力树脂、氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等材料。如图3A所示,伪隔绝结构116上方的保护层120的高度H3较隔绝结构114上方的保护层120的高度H4高,在一实施例中,高度H3与H4的差距大约为200nm。因此,本发明实施例的触控面板108的结构可有效地减少导电图案100Y与导电图案100X交联处的刮伤产生。
图3B是示出依据本发明的另一实施例,图2的触控面板108的剖面线3-3’的剖面示意图,图3B的触控面板108与图3A的差异在于伪隔绝结构116是直接设置在基板100的表面100A上,伪透明导电图案110D则设置在伪隔绝结构116上方。同样地,隔绝结构114的高度低于伪隔绝结构116的高度,并且伪隔绝结构116上方的保护层120的高度较隔绝结构114上方的保护层120的高度高,因此第3B图的触控面板108的结构也可有效地减少导电图案100Y与导电图案100X交联处的刮伤产生。
在另一实施例中,导电图案110X与110Y之间也可以不设置伪透明导电图案110D,仅形成伪隔绝结构116在基板100的表面100A上,介于导电图案110X与110Y之间。
图4是示出本发明一实施例的触控面板108的平面示意图,触控面板108包含多个以X方向排列的导电图案110X作为感应电极,这些导电图案110X直接互相连接。另外,触控面板108还包含多个以Y方向排列的导电图案110Y作为感应电极,这些导电图案110Y互相分开,并通过架桥结构112产生电性连接。此外,在架桥结构112与导电图案110X的连接部分之间设置有隔绝结构114,以避免导电图案110X与导电图案110Y的相交处发生短路。导电图案110X与110Y的材料为透明导电材料,例如为铟锡氧化物(indiumtinoxide;ITO),导电图案110X与110Y的形状可以是菱形或其他形状。架桥结构112的材料可以是透明导电材料或金属材料,透明导电材料例如为铟锡氧化物(ITO)。
依据本发明的一实施例,在导电图案110X与110Y之间设置有伪透明导电图案110D,其材料例如为铟锡氧化物(ITO),伪透明导电图案110D与导电图案110X及110Y之间互相电性隔绝。此外,在导电图案110X与110Y之间还设置有伪隔绝结构116,伪隔绝结构116可设置在伪透明导电图案110D的上方或下方,并且伪隔绝结构116的高度较架桥结构112上方的隔绝结构114的高度高,因此可有效避免架桥结构112处被刮伤。在一实施例中,隔绝结构114与伪隔绝结构116的材料为绝缘感光材料,例如为光致抗蚀剂材料,隔绝结构114与伪隔绝结构116的形状可以是岛状(islandtype),并且隔绝结构114与伪隔绝结构116的尺寸可相同或不同。
图5A是示出依据本发明的一实施例,沿着图4的触控面板108的剖面线5-5’的剖面示意图。如图5A所示,架桥结构112、导电图案100X、导电图案100Y以及伪透明导电图案110D设置在基板100的表面100A上,架桥结构112电性连接导电图案100Y,隔绝结构114设置于架桥结构112上,电性隔绝导电图案100X的连接部分与架桥结构112,伪隔绝结构116则设置于伪透明导电图案110D上,其中隔绝结构114的高度H5低于伪隔绝结构116的高度H2,在一实施例中,高度H5约为高度H2的50%。
在基板100的表面100A上全面性地覆盖保护层120,保护层120的材料例如为压克力树脂、氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等材料。如第5A图所示,伪隔绝结构116上方的保护层120的高度H3较隔绝结构114上方的保护层120的高度H4高,在一实施例中,高度H3与H4的差距大约为200nm。因此,本发明实施例的触控面板108的结构可有效地减少架桥结构112处的刮伤产生。
图5B是示出依据本发明的另一实施例,图4的触控面板108的剖面线5-5’的剖面示意图,图5B的触控面板108与图5A的差异在于伪隔绝结构116直接设置在基板100的表面100A上,伪透明导电图案110D则设置在伪隔绝结构116上方。同样地,隔绝结构114的高度低于伪隔绝结构116的高度,并且伪隔绝结构116上方的保护层120的高度较隔绝结构114上方的保护层120的高度高,因此第5B图的触控面板108的结构也可有效地减少架桥结构112处的刮伤产生。
在另一实施例中,导电图案110X与110Y之间也可以不设置伪透明导电图案110D,仅形成伪隔绝结构116在基板100的表面100A上,介于导电图案110X与110Y之间。
图6A至图6D是示出依据本发明的一实施例,图5A的触控面板108的制造过程的剖面示意图。
请参阅图6A,首先提供基底100,其为显示面板之上基板,例如为彩色滤光片基板。在基板100的表面100A上沉积一层透明导电层或金属层,再通过光刻及蚀刻工艺将透明导电层或金属层图案化,形成架桥结构112。接着,在基板100的表面100A上沉积一层透明导电层,通过光刻及蚀刻工艺将透明导电层图案化,形成透明导电图案100Y以及伪透明导电图案100D,其中透明导电图案100Y作为触控面板108的Y方向的感应电极。
参阅图6B,在基板100的表面100A之上全面性地涂布一层隔绝层,然后在隔绝层上方提供半调式掩模(halftonemask)130,半调式掩模130可以是灰阶光掩模(grayphotomask)、半调式光掩模(halftonephotomask)或具有狭缝(slit)的光掩模,其具有透光图案130C、半透光图案130A以及不透光图案130B,利用半调式掩模130对隔绝层进行曝光及显影工艺,形成图案化的隔绝层,其包含隔绝结构114形成于架桥结构112上,以及伪隔绝结构116形成于伪透明导电图案100D上,其中隔绝结构114对应至半透光图案130A,而伪隔绝结构116则对应至不透光图案130B,对应至透光图案130C的隔绝层则被完全除去。由于使用半调式掩模130对隔绝层进行曝光及显影工艺,因此可同时形成隔绝结构114与伪隔绝结构116,并且隔绝结构114的高度低于伪隔绝结构116的高度。
参阅图6C,接着在基板100的表面100A之上沉积一层透明导电层,并通过光刻与蚀刻工艺形成透明导电图案100X,作为触控面板108的X方向的感应电极。
参阅图6D,在基板100的表面100A之上全面性地涂布保护层120,完成如图5A所示的触控面板108。由于设置在架桥结构112上的隔绝结构114的高度低于伪隔绝结构116的高度,因此形成保护层120之后,隔绝结构114上方的保护层120的高度也低于伪隔绝结构116上方的保护层120的高度。当在基底100的另一表面100B上进行彩色滤光层103或显示面板的其他元件层的工艺时,此触控面板108的结构可有效地减少或避免架桥结构112处受到刮伤或压伤损害,进而避免触控面板108失效。
接着,如图1所示,可提供基板102,例如为薄膜晶体管阵列基板,与基底100的表面100B对向设置,并且在基底100与102之间夹设显示元件104,例如为液晶层,以形成显示面板。接着,可在触控面板108的外侧形成保护外盖106,例如为玻璃基板或塑胶基板,完成触控显示装置200的制作。
图7A至图7D是示出依据本发明的另一实施例,图5B的触控面板108的制造过程的剖面示意图。
请参阅图7A,首先提供基底100,其为显示面板的上基板,例如为彩色滤光片基板。在基板100的表面100A上沉积一层透明导电层或金属层,再通过光刻及蚀刻工艺将透明导电层或金属层图案化,形成架桥结构112。
接着,参阅图7B,在基板100的表面100A上全面性地涂布一层隔绝层,然后在隔绝层上方提供半调式掩模(halftonemask)130,半调式掩模130可以是灰阶光掩模(grayphotomask)、半调式光掩模(halftonephotomask)或具有狭缝(slit)的光掩模,其具有透光图案130C、半透光图案130A以及不透光图案130B。利用半调式掩模130对隔绝层进行曝光及显影工艺,形成图案化的隔绝层,其包含隔绝结构114形成于架桥结构112上,以及伪隔绝结构116形成于基板100的表面100A上,如图4所示,伪隔绝结构116的位置介于透明导电图案110X与110Y之间,其中隔绝结构114对应至半透光图案130A,而伪隔绝结构116则对应至不透光图案130B。由于使用半调式掩模130对隔绝层进行曝光及显影工艺,因此可同时形成隔绝结构114与伪隔绝结构116,并且隔绝结构114的高度低于伪隔绝结构116。
参阅图7C,在基板100的表面100A上沉积一层透明导电层,通过光刻与蚀刻工艺将透明导电层图案化,同时形成透明导电图案100Y、透明导电图案100X以及伪透明导电图案100D,其中透明导电图案100Y是互相分开的导电图案,其通过架桥结构112产生电性连接,作为触控面板108的Y方向的感应电极;透明导电图案100X则是直接互相连接的导电图案,其作为触控面板108的X方向的感应电极。伪透明导电图案100D形成于伪隔绝结构116上,其位置介于导电图案100Y与导电图案100X之间,并且与导电图案100Y及导电图案100X隔开。
参阅图7D,在基板100的表面100A之上全面性地涂布保护层120,完成如图5B所示的触控面板108。由于设置在架桥结构112上的隔绝结构114的高度低于伪隔绝结构116的高度,因此在形成导电图案100Y、导电图案100X、伪透明导电图案100D以及全面性地覆盖保护层120之后,架桥结构112处的保护层120的高度也低于伪隔绝结构116处的保护层120的高度。当在基底100的另一表面100B上制作彩色滤光层103或显示面板的其他元件层时,此触控面板108的结构可有效地减少或避免架桥结构112处受到刮伤或压伤损害,因此可避免触控面板108失效。
接着,如图1所示,提供基板102,例如为薄膜晶体管阵列基板,与基底100的表面100B对向设置,并且在基底100与102之间夹设显示元件104,例如液晶层,以形成显示面板,接着可在触控面板108的外侧形成保护外盖106,完成触控显示装置200的制作。
综上所述,本发明实施例的触控显示装置将触控面板制作在显示面板的上基板的表面上,因此可减少一片基板的使用,降低触控显示装置的整体厚度。同时,本发明实施例的触控面板利用伪隔绝结构的设置,将触控面板表面的最高处转移至伪隔绝结构上方,因此当在显示面板的上基板进行双面工艺时,此结构设计可有效地减少或避免触控面板的感应电极的架桥连接处受到刮伤或压伤,进而避免触控面板失效,提升触控显示装置的生产良率。
虽然本发明已揭示较佳实施例如上,然其并非用以限定本发明,任何本领域普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可做些许更动与润饰,因此本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定的范围为准。
Claims (19)
1.一种触控显示装置,包括:
一显示面板,包括:
一第一基板,具有一第一表面及相对的一第二表面;以及
一彩色滤光层,设置于该第一基板的该第二表面上;以及
一触控面板,设置于该第一基板的该第一表面上,包括:
多个第一导电图案,以一第一方向排列于该第一基板的该第一表面上;
多个第二导电图案,以垂直于该第一方向的一第二方向排列于该第一基板的该第一表面上;以及
一图案化隔绝层,具有一第一部分与一第二部分,其中该第一部分设置于该第一导电图案与该第二导电图案交联的位置之上,该第二部分设置于所述多个第一导电图案与所述多个第二导电图案之间,且其中该第一部分的上表面低于该第二部分的上表面。
2.如权利要求1所述的触控显示装置,其中该触控面板还包括一架桥结构,设置于该第一基板的该第一表面上,电性连接所述多个第一导电图案。
3.如权利要求2所述的触控显示装置,其中该架桥结构的材料包括一透明导电材料或一金属材料。
4.如权利要求1所述的触控显示装置,其中该触控面板还包括一伪透明导电图案,设置于该第一基板的该第一表面上,位于所述多个第一导电图案与所述多个第二导电图案之间,且其中该伪透明导电图案设置在该图案化隔绝层的该第二部分下方。
5.如权利要求1所述的触控显示装置,其中该触控面板还包括一伪透明导电图案,设置于该第一基板的该第一表面上,位于所述多个第一导电图案与所述多个第二导电图案之间,且其中该伪透明导电图案设置在该图案化隔绝层的该第二部分上方。
6.如权利要求1所述的触控显示装置,其中该触控面板还包括一保护层,全面性地覆盖在该第一基板的该第一表面之上,且其中位于该图案化隔绝层的该第一部分上方的该保护层的高度低于该图案化隔绝层的该第二部分上方的该保护层的高度。
7.如权利要求1所述的触控显示装置,其中该图案化隔绝层的材料包括绝缘感光材料。
8.如权利要求1所述的触控显示装置,其中该图案化隔绝层的该第一部分与该第二部分的形状包括岛状,且该第二部分包括多个岛状物。
9.如权利要求1所述的触控显示装置,其中所述多个第一导电图案与所述多个第二导电图案的材料包括一透明导电材料。
10.如权利要求1所述的触控显示装置,其中该显示面板还包括一第二基板与该第一基板的该第二表面对向设置,以及一显示元件夹设于该第一基板与该第二基板之间。
11.一种触控显示装置的形成方法,包括:
提供一第一基板,具有一第一表面及相对的一第二表面;以及
在该第一基底的该第一表面上形成一触控面板,其中该触控面板的形成步骤包括:
在该第一基底的该第一表面上形成多个第一导电图案,以一第一方向排列;
在该第一基底的该第一表面上形成多个第二导电图案,以垂直于该第一方向的一第二方向排列;
在该第一基底的该第一表面之上涂布一隔绝层;以及
提供一半调式掩模,对该隔绝层进行一曝光与显影工艺,形成一图案化隔绝层,其中该图案化隔绝层包含一第一部分与一第二部分,该第一部分形成于该第一导电图案与该第二导电图案交联的位置之上,该第二部分形成于所述多个第一导电图案与所述多个第二导电图案之间,且其中该第一部分的上表面低于该第二部分的上表面。
12.如权利要求11所述的触控显示装置的形成方法,其中该触控面板的形成步骤还包括形成一架桥结构,且该架桥结构电性连接所述多个第一导电图案。
13.如权利要求11所述的触控显示装置的形成方法,其中该触控面板的形成步骤还包括形成一伪透明导电图案于该第一基底的该第一表面之上,且该伪透明导电图案位于所述多个第一导电图案与所述多个第二导电图案之间。
14.如权利要求13所述的触控显示装置的形成方法,其中所述多个第一导电图案与所述多个第二导电图案分别形成,该伪透明导电图案与所述多个第一导电图案同时形成,且该图案化隔绝层的该第二部分形成于该伪透明导电图案上方。
15.如权利要求13所述的触控显示装置的形成方法,其中所述多个第一导电图案、所述多个第二导电图案以及该伪透明导电图案同时形成,且该伪透明导电图案形成于该图案化隔绝层的该第二部分上方。
16.如权利要求11所述的触控显示装置的形成方法,其中该半调式掩模具有一透光图案、一不透光图案以及一半透光图案,且其中该半透光图案对应至该图案化隔绝层的该第一部分,该不透光图案对应至该图案化隔绝层的该第二部分。
17.如权利要求11所述的触控显示装置的形成方法,其中该半调式掩模包括一灰阶光掩模、一半调式光掩模或一具有狭缝的光掩模。
18.如权利要求11所述的触控显示装置的形成方法,其中该触控面板的形成步骤还包括形成一保护层,全面性地覆盖在该第一基板的该第一表面之上,其中位于该图案化隔绝层的该第一部分上方的该保护层的高度低于该图案化隔绝层的该第二部分上方的该保护层的高度。
19.如权利要求11所述的触控显示装置的形成方法,其中于该触控面板完成之后,还包括:
在该第一基底的该第二表面上形成一彩色滤光层;
提供一第二基底,面对该第一基底的该第二表面;以及
形成一显示元件,夹设于该第一基板与该第二基板之间。
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