WO2017077903A1 - リードフレーム材およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)導電性基体上に粗化層を有するリードフレーム材において、その粗化層は、複数層の粗化層からなり、前記粗化層が、導電性基体の垂直方向に少なくとも1層からなる垂直粗化層を有するとともに、さらにその垂直粗化層の上層に付加粗化層を少なくとも1層以上有し、前記垂直粗化層及び付加粗化層がそれぞれ有する凹凸の内、前記垂直粗化層の隣り合う凸部の頂点の間隔と前記付加粗化層の隣り合う凸部の頂点の間隔とが異なることを特徴とするリードフレーム材。
(2)最表層断面の線分長さ(最表層断面線分長さ。付加粗化層を含め、リードフレーム材の最表層の断面の線分長さである。)(A)と導電性基体断面の線分長さ(導電性基体断面線分長さ)(B)の比(A/B)の値が1.2以上4以下である(1)に記載のリードフレーム材。
(3)前記導電性基体は、銅または銅合金、鉄または鉄合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金であることを特徴とする、(1)または(2)に記載のリードフレーム材。
(4)前記複数の粗化層は2層からなり、導電性基体の垂直方向に粗化された第一の垂直粗化層と、その垂直粗化層の上層の第二の付加粗化層を有し、さらにその垂直粗化層と付加粗化層それぞれの成分が異なることを特徴とする、(1)から(3)のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
(5)前記付加粗化層の凸部の頂点の間隔は、第一の垂直粗化層の凸部の頂点の間隔よりも狭いことを特徴とする、(4)に記載のリードフレーム材。
(6)前記垂直粗化層の成分が、銅または銅合金からなることを特徴とする、(1)~(5)のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
(7)前記付加粗化層の成分が、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金のうちのいずれかからなることを特徴とする、(1)~(6)のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
(8)前記導電性基体は、垂直方向に粗化された垂直粗化層を有するとともに、その垂直粗化層の上層として付加粗化層を有し、さらに付加粗化層の上層に、パラジウム、パラジウム合金、ロジウム、ロジウム合金、ルテニウム、ルテニウム合金、白金、白金合金、イリジウム、イリジウム合金、金、金合金、銀、銀合金のうちいずれかからなる表層を、リードフレーム材の全面あるいは部分的に、単層または複数層有することを特徴とする、(1)~(7)のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
(9)前記垂直粗化層および付加粗化層のうち、いずれかまたは双方とも電気めっきにより形成されることを特徴とする、(1)~(8)のいずれか1項に記載のリードフレーム材の製造方法。
(10)前記(1)~(8)のいずれか1項に記載のリードフレーム材を使用した、半導体パッケージ。
本発明によれば、まず導電性基体(以下、単に基体という。)に対して垂直方向の粗化層、すなわち垂直粗化層を有している。このリードフレーム材が有する粗化層は複数層の垂直粗化層からなり、好ましくは一層の垂直粗化層を有する。この垂直粗化層は、基体の主表面に対して垂直方向に形成した粗化層を示し、概ね基体の主表面垂線方向に形成するものを意味する。基体に対して縦方向の垂直断面から観察したときに、その粗化層凸部の(山の頂点の)成長方向が基体主表面の垂線から20°以内に形成されたものであることが好ましい。この垂直粗化層は、樹脂密着性を付与するための根幹となる粗化層となり、例えば銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金などからなることが好ましい。特に、基体と上層の皮膜(下記の付加粗化層など)に対する密着性を向上させる観点から、銅または銅合金からなる垂直粗化層であることがより好ましい。銅合金、ニッケル合金、コバルト合金としては、銅合金としては銅-錫合金、ニッケル合金としてはニッケル-亜鉛合金、コバルト合金としてはコバルト-錫合金などが挙げられる。
なお、垂直粗化層の厚みについて特に制限はないが、膜厚が大きければ大きいほど粗化による凹凸が大きくなる傾向にある。そのため、粗化形状を大きくするために垂直粗化層の被覆厚は、好ましくは0.2μm以上、より好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは0.8μm以上である。一方、被覆厚が3μmを超えると、搬送時の粗化層の脱落、いわゆる「粉落ち」が多くなる懸念がある。このため、垂直粗化層の被覆厚は、好ましくは3μm以下、より好ましくは2μm以下、さらに好ましくは1.5μm以下である。また、垂直粗化層の層数は2層以内であることが製造工程の煩雑性などを考慮すると好ましい。なお、これらの被覆厚は局所的では判断せず、少なくとも蛍光X線法(例えばSII社製SFT9400(商品名)などの膜厚測定装置)によりコリメータ径0.2mm以上で任意の3点を測定した平均的な膜厚を示すものとする。
また本発明によれば、垂直粗化層の上層に、一層以上からなる付加粗化層を有してなり、好ましくは一層の付加粗化層を有する。この付加粗化層の存在により、従来の凹凸粗化のみ(例えば、図6参照)では達成しえなかった水準での樹脂密着性を付与することができる。この付加粗化層は、垂直粗化層の上層に、好ましくは垂直粗化層よりも山と山の間隔が狭く(小さく)なるように粗化された部分である。付加粗化層は、樹脂に対して楔作用を持たせるために形成される。付加粗化層は、基体の90°垂線よりも±20°以上の角度で形成されている部分を少しでも形成することが好ましい。つまり、基体の90°垂線に対して、付加粗化層はより大きく傾いていることが好ましい。これによって、一層のアンカー効果が増大するだけでなく、高温環境下や高湿環境による樹脂の膨張収縮に対しても2次元のみならず3次元的に追従することができるため、従来よりも樹脂密着性が改善されるものとなる。付加粗化層は、垂直粗化層と密着性が良い材料からなることが好ましく、例えば銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金、銀、銀合金などが挙げられる。中でも基体成分の拡散を防止するバリア層としての機能も付与できることから、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金のうちいずれかが好ましい。なお、付加粗化層は、垂直粗化層とは異なる成分からなることが好ましい。銅合金、ニッケル合金、コバルト合金、銀合金としては、銅合金としては銅-錫合金、ニッケル合金としてはニッケル-亜鉛合金、コバルト合金としてはコバルト-錫合金、銀合金としては銀-錫合金などが挙げられる。
付加粗化層の厚みについては特に制限はないが、膜厚が大きければ大きいほど粗化による凹凸が大きくなる傾向にある。一方、厚すぎると垂直粗化層の凹凸を埋めてしまう懸念がある。このため、垂直粗化層被覆厚の1/10以上、好ましくは1/5以上あることが好ましい。一方、付加粗化層の上限被覆厚としては、最大でも垂直粗化層の被覆厚と同厚以下が好ましく、さらに垂直粗化層厚の2/3以下であることがより好ましい。
また、本発明で得られる粗化層の形状は、付加粗化層による楔作用を利用しているため、表面からの粗度測定ではその度合いを表現することができない。このため、断面から観察した時のすべての皮膜層(前記の各粗化層)形成後の最表層の断面の線分長さ(最表層の断面の線分長さの総長)を測定し、その導電性基体断面の線分長さに対する比率の値を長さ指標として利用することができる。最表層断面の線分長さ(最表層断面線分長さ)(A)の比率(A/B)の値は、導電性基体断面の線分長さ(B)を1とした時、好ましくは1.2倍以上、より好ましくは2倍以上である。これによって、比表面積が増大して樹脂との密着性が増大する。一方、導電性基体断面の線分長さ(B)を1とした時、最表層断面の線分長さ(A)の比(A/B)の値が4倍程度を超えると粉落ちしやすい懸念があることから、好ましくは4倍以下、より好ましくは3.5倍以下である。
本発明においては、垂直粗化層と付加粗化層で、封止材との樹脂密着性を改善することができる。
なお、本発明では垂直粗化層と付加粗化層を形成するため、それぞれの凹凸については最表層からの測定のみでは把握できず、断面から観察することによって各粗化層の隣り合った凸部の頂点間隔(各粗化層の凹凸)を観察することが可能である。これは、例えば任意の粗化層断面をFocused Ion Beam:FIBにより加工後、Scanning Ion Mycroscope:SIM像により結晶粒径のコントラストから確認することができ、各粗化層の隣り合った凸部の頂点の間隔についてはスケールより判断することができる。各粗化層において、垂直粗化層および付加粗化層のそれぞれ隣り合う各凸部の頂点同士の平均間隔を「垂直粗化層の間隔(凸部の間隔)」および「付加粗化層の間隔(凸部の間隔)」というとき、垂直粗化層の間隔は付加粗化層のそれとは異なる。垂直粗化層の間隔の方が付加粗化層のそれよりも大きいことが好ましい。このことにより、垂直粗化層の間に樹脂が容易に入り込むため、樹脂密着性がより一層向上することができる。その間隔の比率としては、好ましくは付加粗化層の間隔が垂直粗化層の間隔の1/2以下、さらに好ましくは1/4以下である。一方1/20を超えると、付加粗化層が細かくなりすぎて密着力が低下しつつあるため、好ましくは1/20以上、さらに好ましくは1/15以上である。なお、垂直粗化層が複数層ある時は、その最大の間隔となっている垂直粗化層をその対象とし、また付加粗化層が複数層ある時は、その最表面に形成された付加粗化層をその対象とする。またこの各粗化層の間隔比としては、断面から観察した任意の5箇所の隣り合った凸と凸の間隔の平均値を算出したものをいう。
垂直粗化層において、電流密度や被覆厚を変えることにより、粗化層の結晶粒径が変化して付加粗化層の凸凸間隔を制御することができる。異なる成分の粗化層をそれぞれ粗化めっきすることで、凸凸の間隔比が変わってくることを制御することができる。具体的には、各粗化層の厚さと平均間隔は、高電流密度ほど間隔を狭く、低電流密度ほど間隔を広く作り分けることができる。
また、使用する金属基体(導電性基体)成分としては、銅または銅合金、鉄または鉄合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金等が好ましく、中でも導電率の良い銅または銅合金が好ましい。
例えば銅合金の一例として、CDA(Copper Development Association)掲載合金である「C14410(Cu-0.15Sn、古河電気工業(株)製、商品名:EFTEC(登録商標)-3)」、「C19400(Cu-Fe系合金材料、Cu-2.3Fe-0.03P-0.15Zn)」、「C18045(Cu-0.3Cr-0.25Sn-0.5Zn、古河電気工業(株)製、商品名:EFTEC-64T)」等を用いることができる。なお、各元素の前の数字の単位は質量%である。これら銅合金基体はそれぞれ導電率や強度が異なるため、適宜要求特性により選定されて使用されるが、導電率が50%IACS以上の銅合金の条材とすることが好ましい。
また、鉄もしくは鉄合金としては、例えば、42アロイ(Fe-42mass%Ni)やステンレス鋼などが用いられる。これらの鉄合金基体は、導電率はそれほど高くないが、導電率をそれほど要求せず、電気信号の伝達を目的とするようなリードフレームには適用することができる。
また、アルミニウムもしくはアルミニウム合金としては、例えば、A5052などが用いられる。
基体の厚さには特に制限はないが、通常、0.05mm~2mmであり、好ましくは、0.1mm~1mmである。
また本発明によれば、付加粗化層のさらに上層(表層)に、リードフレームの半田濡れ性やワイヤボンディング性、ダイボンディング性などの特性を付与するため、パラジウム、パラジウム合金、ロジウム、ロジウム合金、ルテニウム、ルテニウム合金、白金、白金合金、イリジウム、イリジウム合金、金、金合金、銀、銀合金のうちいずれかからなる皮膜が、リードフレーム材料の全面あるいは部分的に、単層または複数層で形成されていてもよい。この内、代表的な層構成としては、粗化層側から表面へ順に、Pd/Au被覆、Pd/Ag/Au被覆、Pd/Rh/Au被覆、Ru/Pd/Au被覆などが挙げられる。これらの被覆厚に特に制限はないが、厚すぎると粗化層凹凸を埋めてしまい機能を果たさなくなる可能性があることや、貴金属を主としているためにコスト増の可能性がある。本書において、「貴金属を主としている」とは、構成成分の内、50質量%以上が貴金属であることをいう。これらから、総被覆厚は1μm以下が好ましい。パラジウム合金、ロジウム合金、ルテニウム合金、白金合金、イリジウム合金、金合金、銀合金としては、パラジウム合金としてはパラジウム-銀合金、ロジウム合金としてはロジウム-パラジウム合金、ルテニウム合金としてはルテニウム-イリジウム合金、白金合金としては白金-金合金、イリジウム合金としてはイリジウム-ルテニウム合金、金合金としては金-銀合金、銀合金としては銀-錫合金などが挙げられる。
なお、本発明における粗化層の形成箇所は、樹脂モールドされる部分の少なくとも一部が形成されていればよい。例えばリードフレームが樹脂モールドされる部分の少なくとも1/5以上であることが好ましく、さらに好ましくは1/2以上の面積に形成されることで密着性向上効果を発揮する。樹脂モールドされる全面に施されているものが最も好ましい。この部分的に設けられる粗化層の形状としては、ストライプ状、スポット状、リング状など、様々な形態をとることが可能である。さらに、樹脂モールドが片面だけであるような製品においては、例えば片面のみ前記粗化層を形成することも可能である。
図1は、本発明の一形態における概略断面模式図である。導電性基体1の上層に、垂直粗化層2が形成されており、そのさらに上層に付加粗化層3が形成されている。付加粗化層3の上部は、樹脂モールドで覆われる(図示せず)。本態様のように、樹脂モールドが片面だけであるような製品(半導体パッケージ)においては、例えば片面のみ前記粗化層を形成することも可能であるし、もちろん両面に形成されていてもよい。
垂直粗化層において、電流密度や被覆厚を変えることにより、垂直粗化層の結晶粒径が変化して付加粗化層の凸凸間隔を制御した。異なる成分の層をそれぞれ粗化めっきすることで、凸凸の間隔が変わってくることによって、間隔(比率)を制御した。粗化厚さは処理時間で、平均間隔は電流密度で作り分けることができた。また、最表層断面線分長さ(最表層断面線分長さの総長)(A)と、導電性基体断面線分長さ(B)を測定し、その比率(最表層断面線分長さの総長9a(A)を導電性基体断面線分長さ8(B)で除した値)(A/B)の値を求めた。これを表中には「表層断面線分長さ比」として示す。
[カソード電解脱脂]
脱脂液:NaOH 60g/リットル
脱脂条件:2.5A/dm2、温度60℃、脱脂時間60秒
[酸洗]
酸洗液:10%硫酸
酸洗条件:30秒、浸漬、室温
[粗化Cuめっき(垂直粗化層を形成)]
めっき液:硫酸銅:銅濃度として5~10g/リットル、硫酸:30~120g/リットル、モリブデン酸アンモニウム:Mo金属として0.1~5.0g/リットル
めっき条件:浴温 20~60℃、電流密度 10~60A/dm2
[粗化Niめっき(付化粗化層を形成)]
めっき液:株式会社ワールドメタル社製 WDB-321(商品名)
めっき条件:電流密度 8A/dm2、 温度 70℃
[Niめっき](通常Niめっき)
めっき液:Ni(SO3NH2)2・4H2O 500g/リットル、NiCl2 30g/リットル、H3BO3 30g/リットル
めっき条件:電流密度 10A/dm2、温度 50℃
めっき液:Co(SO3NH2)2・4H2O 500g/リットル、CoCl2 30g/リットル、H3BO3 30g/リットル
めっき条件:電流密度 10A/dm2、温度 50℃
[Pdめっき(第一表層を形成)]
めっき液:Pd(NH3)2Cl2 45g/リットル、NH4OH 90ミリリットル/リットル、(NH4)2SO4 50g/リットル、パラシグマ光沢剤(商品名、松田産業株式会社製) 10ミリリットル/リットル
めっき条件:電流密度 5A/dm2、温度 60℃
[Auめっき(第二表層を形成)]
めっき液:KAu(CN)2 14.6g/リットル、C6H8O7 150g/リットル、K2C6H4O7 180g/リットル
めっき条件:温度 40℃
評価樹脂:G630L、住友ベークライト社製(商品名)
評価条件:装置:4000Plus、ノードソン・アドバンスト・テクノロジー社製(商品名)、
ロードセル:50kg
測定レンジ:10kg
テストスピード:100μm/s
テスト高さ:10μm
「A」(優)は平均で10kgf/mm2以上である場合、「B」(良)は平均で5kgf/mm2以上10kgf/mm2未満である場合、「D」(不可)は平均で0kgf/mm2以上5kgf/mm2未満である場合、と示した。
目視により感応評価した。「A」(優)は粉落ちが認められなかった場合、「B」(良)は粉落ちが少し発生した場合、「C」(可)は粉落ちが若干多く発生した場合、「D」(不可)は粉落ちが非常に多く発生した場合、と示した。A~Cは実用に供するレベルである。
各粗化層の間隔の比としては、垂直断面から走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した像において任意の各層の凸部を決め、そこから右方向に連続する10か所の隣り合う凸と凸の間隔(頂点間隔)を測定し、その平均値から比を求めた。また、間隔比(付化/垂直)とは、付化粗化層の間隔の垂直粗化層の間隔に対する比率を算出した値をいう。なお、各凸凸間隔の測定は、図4に示すように、前記垂直断面観察により確認された凸部頂点と隣の凸部頂点との間隔(垂直粗化層の間隔6、付化粗化層の間隔7)の平均値を取って、「平均間隔」を表1に示した。また、条のTD方向に略10等分した各箇所においてSEM観察を行い、得られたSEM像から最表層の断面の線分長さ(最表層の断面の線分長さの総長)(A)と、導電性基体断面の線分長さ(B)を測定し、その比率(最表層の断面の線分長さの総長9a(A)を導電性基体断面の線分長さ8(B)で除した値)(A/B)の値を求めた。これを表中には「表層断面線分長さ比」として示す。
2 垂直粗化層
3 付化粗化層
4 表層
4’ 第一表層
5 第二表層
6 垂直粗化層の間隔
7 付化粗化層の間隔
8 基体断面長さ
9 最表層断面長さ
9a 最表層断面長さの総長
11 導電性基体(銅、銅合金、鉄、鉄合金など)
12 銅下地めっき層
13 ニッケル粗化めっき層
14 表層(ニッケル粗化めっき層に沿って成長)
Claims (10)
- 導電性基体上に粗化層を有するリードフレーム材において、その粗化層は、複数層の粗化層からなり、前記粗化層が、導電性基体の垂直方向に少なくとも1層からなる垂直粗化層を有するとともに、さらにその垂直粗化層の上層に付加粗化層を少なくとも1層以上有し、前記垂直粗化層及び付加粗化層がそれぞれ有する凹凸の内、前記垂直粗化層の隣り合う凸部の頂点の間隔と前記付加粗化層の隣り合う凸部の頂点の間隔とが異なることを特徴とするリードフレーム材。
- 最表層断面の線分長さ(A)と導電性基体断面の線分長さ(B)の比(A/B)の値が1.2以上4以下である請求項1に記載のリードフレーム材。
- 前記導電性基体は、銅または銅合金、鉄または鉄合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金であることを特徴とする、請求項1または2に記載のリードフレーム材。
- 前記複数の粗化層は2層からなり、導電性基体の垂直方向に粗化された第一の垂直粗化層と、その垂直粗化層の上層の第二の付加粗化層を有し、さらにその垂直粗化層と付加粗化層それぞれの成分が異なることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
- 前記第二の付加粗化層の凸部の頂点の間隔は、第一の垂直粗化層の凸部の頂点の間隔よりも狭いことを特徴とする、請求項4に記載のリードフレーム材。
- 前記垂直粗化層の成分が、銅または銅合金からなることを特徴とする、請求項1~5のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
- 前記付加粗化層の成分が、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金のうちのいずれかからなることを特徴とする、請求項1~6のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
- 前記導電性基体は、垂直方向に粗化された垂直粗化層を有するとともに、その垂直粗化層の上層として付加粗化層を有し、さらに付加粗化層の上層に、パラジウム、パラジウム合金、ロジウム、ロジウム合金、ルテニウム、ルテニウム合金、白金、白金合金、イリジウム、イリジウム合金、金、金合金、銀、銀合金のうちいずれかからなる表層を、リードフレーム材の全面あるいは部分的に、単層または複数層有することを特徴とする、請求項1~7のいずれか1項に記載のリードフレーム材。
- 前記垂直粗化層および付加粗化層のうち、いずれかまたは双方とも電気めっきにより形成されることを特徴とする、請求項1~8のいずれか1項に記載のリードフレーム材の製造方法。
- 前記請求項1~8のいずれか1項に記載のリードフレーム材を使用した、半導体パッケージ。
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