WO2017073512A1 - 反射型スクリーン - Google Patents

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WO2017073512A1
WO2017073512A1 PCT/JP2016/081435 JP2016081435W WO2017073512A1 WO 2017073512 A1 WO2017073512 A1 WO 2017073512A1 JP 2016081435 W JP2016081435 W JP 2016081435W WO 2017073512 A1 WO2017073512 A1 WO 2017073512A1
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WO
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light
layer
scattering layer
light scattering
reflective screen
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Application number
PCT/JP2016/081435
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English (en)
French (fr)
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雄一 ▲桑▼原
平社　英之
澁谷　崇
幸宏 垰
海田　由里子
Original Assignee
旭硝子株式会社
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Publication date
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Priority to JP2017547780A priority patent/JP6733678B2/ja
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B43—WRITING OR DRAWING IMPLEMENTS; BUREAU ACCESSORIES
    • B43L—ARTICLES FOR WRITING OR DRAWING UPON; WRITING OR DRAWING AIDS; ACCESSORIES FOR WRITING OR DRAWING
    • B43L1/00—Repeatedly-usable boards or tablets for writing or drawing
    • B43L1/04—Blackboards
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B43—WRITING OR DRAWING IMPLEMENTS; BUREAU ACCESSORIES
    • B43L—ARTICLES FOR WRITING OR DRAWING UPON; WRITING OR DRAWING AIDS; ACCESSORIES FOR WRITING OR DRAWING
    • B43L1/00—Repeatedly-usable boards or tablets for writing or drawing
    • B43L1/04—Blackboards
    • B43L1/10—Writing surfaces thereof
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/54—Accessories
    • G03B21/56—Projection screens
    • G03B21/60—Projection screens characterised by the nature of the surface

Definitions

  • the present invention relates to a reflective screen.
  • the reflective screen described in Patent Document 1 has a glass plate and a layer containing a light diffusing paint or pigment.
  • the glass plate has an uneven surface on the surface, and writing of characters and figures on the uneven surface and erasure of the writing can be performed.
  • the layer containing the light diffusing paint or pigment is formed on the back surface of the glass plate and reflects light incident on the surface of the glass plate.
  • the reflective screen described in Patent Document 1 reflects most of the light of the projected image only by diffuse reflection. For this reason, the video is easily blurred and the video visibility is low.
  • a hot spot is a phenomenon in which the central portion of the reflective screen appears bright and bright when an image is projected on the reflective screen. This phenomenon occurs when the front surface of the reflective screen regularly reflects incident light.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and a first object thereof is to provide a reflective screen with improved image visibility.
  • a second object of the present invention is to provide a reflective screen that improves the erasability of writing with ink and suppresses the occurrence of hot spots.
  • a reflective screen having an uneven surface on the front surface where writing with ink and erasure of the writing are performed, and an image is projected from the front to the uneven surface
  • a transparent plate that transmits light of the image
  • a light-scattering layer that scatters light transmitted through the transparent plate, and light from the light-scattering layer toward the rear surface that is the opposite surface of the front surface from the front surface. It has a light reflecting layer that reflects toward the scattering layer in this order, The light scattering layer is in close contact with the transparent plate, and a reflective screen is provided in which the light scattering layer has an internal transmittance of 21% to 70%.
  • the concavo-convex surface occupies 20% of the total area of the concavo-convex surface in plan view and a frame-shaped outer peripheral portion having a certain width from the outer periphery of the concavo-convex surface, and the concavo-convex surface surrounded by the outer peripheral portion in plan view Having a central portion that occupies the remaining 80% of the total area of
  • a reflective screen is provided in which the following formulas (1) and (2) are established in an arbitrary square range of 50 mm in length and 50 mm in width in the central portion.
  • a reflective screen having improved image visibility is provided.
  • a reflective screen that improves the erasability of writing with ink and suppresses the occurrence of hot spots.
  • FIG. 1 is a front view of a reflective screen according to an embodiment.
  • a dotted line indicates a boundary line between the outer peripheral portion 13 a of the uneven surface 13 and the central portion 13 b of the uneven surface 13. The boundary line is illustrated for convenience, and may not be visually confirmed.
  • FIG. 2 is a top view of a reflective screen according to one embodiment.
  • P is a projector
  • U1 is a user facing the center front of the reflective screen 10
  • U2 is a user observing reflected light having the same reflection angle as the incident angle of incident light from the projector P to the reflective screen 10.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of a reflective screen according to an embodiment.
  • the reflective screen 10 has a front surface 11 and a rear surface 12 opposite to the front surface 11, and has an uneven surface 13 on the front surface 11. Writing with ink and erasing of the writing are performed on the uneven surface 13.
  • a writing instrument such as a dedicated marker, a printer head, or the like is used.
  • a character eraser, a solvent, or the like is used.
  • an image is projected from the front onto the uneven surface 13.
  • a projector P or the like is used for video projection.
  • the reflective screen 10 may be surrounded by a frame (not shown).
  • the frame may be provided with a hanging tool or a leg, and a caster may be attached to the leg.
  • the reflective screen 10 is used indoors, for example.
  • the place where the reflective screen 10 is used is not particularly limited.
  • the reflective screen may be applied to a vehicle or a wall material of a building.
  • the uneven surface 13 occupies the entire front surface 11 in FIGS. 1 and 2, but may occupy only a part of the front surface 11. In the latter case, the remaining part of the front surface 11 may be a smooth surface without unevenness. Moreover, the number of the uneven surfaces 13 may be plural, and the plural uneven surfaces 13 may be arranged at intervals.
  • the shape of the uneven surface 13 is a rectangle in FIG.
  • the vertical dimension L1 of the uneven surface 13 is, for example, 300 mm or more.
  • the lateral dimension L2 of the uneven surface 13 is, for example, 500 mm or more.
  • the shape of the uneven surface 13 may be various.
  • the uneven surface 13 has an outer peripheral portion 13a and a central portion 13b.
  • the outer peripheral portion 13 a is a frame-like portion that occupies 20% of the entire area of the uneven surface 13 in a plan view and has a certain width from the outer peripheral edge of the uneven surface 13.
  • the width of the outer peripheral portion 13a is determined according to the shape and dimensions of the uneven surface 13 so that the ratio of the outer peripheral portion 13a to the uneven surface 13 in a plan view is 20%.
  • the central portion 13b is a portion that is surrounded by the outer peripheral portion 13a and occupies the remaining 80% of the entire area of the uneven surface 13 in plan view.
  • Rc represents the height difference of the unevenness
  • RSm represents the period of the unevenness
  • Rc ave is an average of Rc measured at 10 points within a square range of 50 mm in length and 50 mm in width
  • RSm ave is an average of RSm measured at 10 points within a square range of 50 mm long and 50 mm wide. Measurement points are randomly selected.
  • Rc ave / RSm ave is 0.64 or less, preferably 0.6 or less, as described in Formula (1), for example.
  • a hot spot is a phenomenon in which the central portion of the reflective screen 10 appears brightly when an image is projected on the reflective screen 10. This phenomenon occurs when the front surface 11 of the reflective screen 10 regularly reflects incident light, and can be observed at the position of the user U2 shown in FIG.
  • Rc ave is, for example, 1 ⁇ m or more, preferably 3 ⁇ m or more as described in Formula (2).
  • the above formulas (1) and (2) may be established at the central portion 13b and may or may not be established at the outer peripheral portion 13a. This is because ink writing and video projection are often not performed on the outer peripheral portion 13a. However, the above formulas (1) and (2) are preferably established in a wider range so that the effect can be obtained in a wider range.
  • the central portion 13b preferably occupies 90%, more preferably 95%, instead of occupying 80% of the total area of the uneven surface 13 in plan view.
  • the outer peripheral portion 13a preferably occupies 10%, more preferably 5%, instead of occupying 20% of the total area of the uneven surface 13 in plan view.
  • the following formula (3) is satisfied in an arbitrary square range of 50 mm in length and 50 mm in the center portion 13 b of the uneven surface 13.
  • RSm ave ⁇ 15 ⁇ m (3) If the above formula (3) is satisfied in an arbitrary square area of 50 mm length and 50 mm width in the central portion 13 b of the uneven surface 13, the period of the unevenness is sufficiently short, so that glare (scintillation) is suppressed. it can.
  • Flickering is a phenomenon in which a fine speckled pattern can be seen due to the brightness of light.
  • the speckled pattern is caused by light interference.
  • the period of the unevenness is sufficiently shorter than the projected display dots, a spot pattern due to light interference can be suppressed.
  • the above equation (3) may be established at the central portion 13b, and may or may not be established at the outer peripheral portion 13a. This is because video is often not projected onto the outer peripheral portion 13a. However, the above formula (3) is preferably established in a wider range so that the effect can be obtained in a wider range.
  • the central portion 13b preferably occupies 90%, more preferably 95%, instead of occupying 80% of the total area of the uneven surface 13 in plan view.
  • the outer peripheral portion 13a preferably occupies 10%, more preferably 5%, instead of occupying 20% of the total area of the uneven surface 13 in plan view.
  • the reflective screen 10 has a glass plate 20, a light scattering layer 30, and a light reflecting layer 40 in this order from the front surface 11 toward the rear surface 12.
  • the glass plate 20 corresponds to the transparent plate described in the claims.
  • the glass plate 20 transmits image light.
  • the glass plate 20 is colorless and transparent, but may be colored and transparent.
  • the haze value of the glass plate 20 is 50% or less. If the haze value of the glass plate 20 is 50% or less, sufficient transparency can be obtained.
  • the haze value of the glass plate 20 is usually 1% or less.
  • the haze value is measured in accordance with Japanese Industrial Standard (JIS K7136), and the transmitted light that passes through the test plate to be measured in the thickness direction is more than 2.5 ° from the incident light due to forward scattering. As a percentage.
  • a light source used for measuring the haze value a D65 light source described in Japanese Industrial Standard (JIS Z8720: 2012) is used.
  • Examples of the glass of the glass plate 20 include soda lime glass, aluminosilicate glass, non-alkali glass, and borosilicate glass.
  • the glass may be either untempered glass or tempered glass. Untempered glass is obtained by forming molten glass into a plate shape and slowly cooling it. Examples of the molding method include a float method and a fusion method.
  • the tempered glass may be either physically tempered glass or chemically tempered glass. Physically tempered glass strengthens the glass surface by rapidly cooling a uniformly heated glass plate from a temperature near the softening point and generating a compressive stress on the glass surface due to the temperature difference between the glass surface and the inside of the glass. . Chemically tempered glass is obtained by strengthening the glass surface by generating a compressive stress on the glass surface by an ion exchange method or the like.
  • the glass plate 20 is a flat flat plate in FIG. 2, but may be a curved plate.
  • Gravity molding, press molding, or the like is used as bending molding for bending a flat plate into a curved plate.
  • the glass surface may be strengthened by rapidly cooling a uniformly heated glass plate from a temperature near the softening point and generating a compressive stress on the glass surface due to a temperature difference between the glass surface and the inside of the glass.
  • Physically tempered glass is obtained.
  • the chemically strengthened glass can be obtained by generating a compressive stress on the glass surface by an ion exchange method or the like after bending.
  • the thickness of the glass plate 20 is not particularly limited, but is, for example, 0.1 mm to 20 mm.
  • the front surface 21 of the glass plate 20 has an uneven surface.
  • a processing method of the glass plate for forming the uneven surface on the glass plate 20 a general processing method is used, and for example, an embossing method, an etching method, a blasting method, etc. are used alone or in any combination.
  • an uneven surface is formed on the front surface of the glass plate 20 by pressing the mold against the glass plate 20 above the softening point and transferring the unevenness of the mold to the glass plate 20.
  • an uneven surface is formed on the front surface of the glass plate 20 by immersing the glass plate 20 in an etching solution.
  • the etching solution is, for example, an aqueous solution containing about 10% to 20% hydrogen fluoride, and the immersion time is, for example, about 30 seconds to 600 seconds.
  • an uneven surface is formed on the front surface of the glass plate 20 by spraying media onto the glass plate 20.
  • ceramic particles are used as the media.
  • the ceramic of the ceramic particles those having a higher level than the glass of the glass plate 20 (corrected Mohs hardness: about 4.5 to 6.5) are used.
  • alumina (corrected Mohs hardness: 12), silicon carbide (corrected) Mohs hardness: 13) and zircon (modified Mohs hardness: 9) are used.
  • the average particle size of the ceramic abrasive grains is, for example, 4 ⁇ m to 30 ⁇ m (corresponding to particle size # 400 to # 3000).
  • the media may be one in which ceramic particles are kneaded into an elastic body. The media is ejected using a general blasting device.
  • a blasting apparatus injects media with compressed gas, such as compressed air.
  • the blasting device may be either a direct pressure type that pressurizes and injects a medium put in the pressurized tank together with the compressed gas, or a suction type that combines and injects the medium into a compressed gas stream.
  • Media ejection conditions may be general.
  • the injection pressure is, for example, 0.3 MPa to 0.5 MPa
  • the processing time per unit area is, for example, 500 seconds / m 2 to 600 seconds / m 2 .
  • the front surface 21 of the glass plate 20 may be exposed or may be covered with a covering layer 50 as shown in FIG.
  • the coating layer 50 only needs to cover at least a part of the front surface 21 of the glass plate 20.
  • the covering layer 50 has an uneven surface that follows the uneven surface of the glass plate 20 on the front surface 51 thereof. Writing with ink, erasing the writing, projecting an image, and the like are performed on the uneven surface of the coating layer 50.
  • the covering layer 50 preferably has a lower affinity with ink than the glass plate 20. Erasing of writing with ink becomes easy.
  • the covering layer 50 preferably contains a silicone-based cured product from the viewpoint of affinity with ink and durability.
  • the silicone-based cured product can be obtained, for example, by condensation-curing at least one of a curable silicone resin and a curable silicone oligomer.
  • silicone resins and silicone oligomers are composed of silicon-containing bond units called M units, D units, T units, and Q units.
  • the curable silicone resin and the curable silicone oligomer are resins having a branched structure mainly composed of T units or Q units, a resin composed only of T units, and a resin composed only of Q units. There are resins composed of T units and Q units. These resins may further contain a small amount of M units and D units.
  • the T unit has one silicon atom, one hydrogen atom or monovalent organic group bonded to the silicon atom, and another silicon atom. This is a unit having three bonded oxygen atoms (or three functional groups capable of bonding to other silicon atoms).
  • a monomer that forms a silicon-containing bond unit is represented by (R′-) a Si (—Z) 4-a .
  • a represents an integer of 0 to 3
  • R ′ represents a hydrogen atom or a monovalent organic group
  • Z represents a monovalent functional group that can be bonded to a hydroxyl group, a chlorine atom, or another silicon atom.
  • Z is a hydrolyzable group
  • examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, an acyloxy group, and an isocyanate group.
  • a silicon-containing bond unit having a T unit as a main structural unit is preferably used.
  • T unit as the main constituent unit refers to organopolysiloxane in which the ratio of the number of T units to the total number of M units, D units, T units and Q units is 50% to 100%. More preferably, an organopolysiloxane having a T unit ratio of 70% to 100% is used.
  • other units contained in a small amount are preferably D units and Q units.
  • curable silicone resin and the curable silicone oligomer commercially available compounds can be used.
  • curable silicone oligomers are Shin-Etsu Chemical KC89S, KR515, KR500, X400-9225, X40-9246, X40-9250, KR401N, X40-9227, KR510, KR9218, KR213, KR400, X40-2327, KR401, etc. Can be used. One of these may be used alone, or a plurality of types may be used in combination.
  • the covering layer 50 may contain a fluorine-based compound in addition to the silicone-based cured product in order to improve the erasability of writing with ink.
  • the fluorine-based compound a compound containing a C n F 2n + 1 group or C n F 2n O groups are preferred. Note that n is a natural number of 1 or more.
  • the coating layer 50 is formed by applying a coating liquid on the uneven surface of the glass plate 20 and curing the applied coating liquid.
  • a coating method a known method can be used, and for example, methods such as spray coating, slit coating, die coating, spin coating, dip coating, curtain coating, and the like can be used.
  • the coating liquid contains at least one of a curable silicone resin and a curable silicone oligomer, and a solvent.
  • the coating solution may further contain at least one of a curing catalyst, a fluorine-based compound, a leveling agent, and a pigment as necessary. In order to accelerate curing, it is preferable to perform heating and / or active energy ray irradiation.
  • the layer thickness of the coating layer 50 is preferably 0.01 ⁇ m or more and 20 ⁇ m, and more preferably 0.1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. If the layer thickness of the coating layer 50 is less than 0.01 ⁇ m, the durability is insufficient. When the layer thickness of the coating layer 50 exceeds 20 ⁇ m, the difference in height of the uneven surface of the coating layer 50 becomes small, and the generation of hot spots cannot be sufficiently suppressed.
  • the reflection type screen 10 of this embodiment has the coating layer 50 on the opposite side to the light-scattering layer 30 on the basis of the glass plate 20, it does not need to have the coating layer 50.
  • FIG. Writing with ink, erasing the writing, projecting an image, or the like may be performed on the uneven surface of the glass plate 20.
  • the front surface 21 of the glass plate 20 has an uneven surface, whereas the rear surface 22 of the glass plate 20 preferably has almost no unevenness.
  • the arithmetic average roughness Ra of the rear surface 22 of the glass plate 20 is, for example, 5 ⁇ m or less, preferably 1 ⁇ m or less, more preferably 0.1 ⁇ m or less.
  • Arithmetic mean roughness Ra is “arithmetic mean roughness” described in Japanese Industrial Standard (JIS B0601: 2013) and can be measured by a commercially available surface roughness measuring machine.
  • the glass plate 20 is used as the transparent plate from the viewpoint of hardness, durability, and texture, but a resin plate may be used.
  • the resin for the resin plate include polycarbonate, acrylic, and vinyl chloride.
  • the transparent plate may have either a single layer structure or a multilayer structure, for example, laminated glass.
  • the laminated glass has a first glass plate, a second glass plate, and an intermediate film that joins the first glass plate and the second glass plate. Regardless of the configuration of the transparent plate, the haze value of the transparent plate is, for example, 50% or less, and the thickness of the transparent plate is, for example, 0.1 mm to 20 mm.
  • the front surface of the transparent plate is an uneven surface, but may be a flat surface.
  • a transparent uneven layer is formed on the front surface of the transparent plate.
  • a method for forming the transparent uneven layer for example, an embossing method, an etching method, a blasting method, an imprinting method, a coating method or the like is used alone or in any combination.
  • the embossing method, the etching method, and the blasting method the same method as the method for forming the uneven surface of the glass plate 20 described above can be used.
  • a transparent material is sandwiched between a transparent plate and a mold, the uneven pattern of the mold is transferred to the transfer material, and the transfer material is solidified to form a transparent uneven layer. Solidification includes photocuring and heat curing.
  • a concavo-convex layer is formed by applying a coating liquid containing fine particles and a binder to a transparent plate and solidifying the applied coating liquid. Writing to the concavo-convex layer may be performed with ink, erasing of the writing, and projection of video, or writing to the coating layer 50 covering the concavo-convex layer may be performed with ink writing, erasing of the writing, projection of video, or the like. Also good.
  • a method of coating by a spray method can be used as a method of applying the coating liquid to the transparent plate by a coating method.
  • a coating liquid containing fine particles and a binder is sprayed by applying pressure from a thin nozzle to create droplets and deposit them on the surface to create an uneven surface.
  • the fine particles can be appropriately selected from inorganic fine particles, organic fine particles, and the like, and the binder can also be appropriately selected from organic materials and inorganic materials.
  • the light scattering layer 30 scatters light transmitted through the glass plate 20. Thereby, since the light-scattering layer 30 exhibits white, the contrast of the image visually recognized by the users U1 and U2 is improved.
  • the light scattering layer 30 is formed of a plurality of materials having different refractive indexes.
  • the light scattering layer 30 includes, for example, a matrix portion and light scattering portions scattered in the matrix portion.
  • the matrix portion may contain either an inorganic material or an organic material.
  • the inorganic material include silicon dioxide.
  • the organic material include polyvinyl alcohol resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, acrylic resin, polyester resin, polycarbonate resin, melamine resin, polyurethane resin, urethane acrylate resin, and silicone resin.
  • the organic material may be a thermosetting resin, a photocurable resin, or a thermoplastic resin.
  • the light scattering portion may include either light scattering particles or voids, or may include both.
  • the light scattering particles may be either inorganic particles or organic particles.
  • the inorganic particle material include silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, and zinc oxide.
  • examples of the organic particle material include polystyrene resin, acrylic resin, and polyurethane resin.
  • the light scattering particles may be porous particles.
  • the pore diameter of the pores of the porous particles is preferably 2 to 50 nm.
  • the number average particle diameter of the light scattering particles is 100 nm to 10 ⁇ m.
  • the void is formed by a foaming agent or the like.
  • the number average particle diameter of the voids is 100 nm to 10 ⁇ m.
  • the light scattering layer 30 is a porous layer.
  • the ratio of the light scattering portion in the light scattering layer 30 is, for example, 10 volume% to 99 volume%, preferably 20 volume% to 98 volume%, more preferably 30 volume% to 90 volume%.
  • the light scattering layer 30 may further include a light absorbing portion in addition to the matrix portion and the light scattering portion.
  • the light absorbing portion includes light absorbing particles such as carbon black and titanium black.
  • the proportion of the light absorbing portion in the light scattering layer 30 is, for example, 0.01 volume% to 5 volume%, preferably 0.1 volume% to 3 volume%.
  • the light absorber improves the contrast of the image.
  • the light scattering layer 30 of the present embodiment includes a matrix portion and a light scattering portion, but may be one in which fibers are accumulated like paper.
  • the light scattering layer 30 only needs to be able to scatter light.
  • the light scattering layer 30 is in close contact with the glass plate 20, and there is no air layer between the glass plate 20 and the light scattering layer 30.
  • the refractive index difference between the glass plate 20 and the light scattering layer 30 is smaller than the refractive index difference between the air layer and the light scattering layer 30. Therefore, the light transmitted through the glass plate 20 is incident on the light scattering layer 30 without being substantially reflected at the interface between the glass plate 20 and the light scattering layer 30.
  • the light scattering layer 30 and the glass plate 20 are in close contact, but may not be in close contact. It is sufficient that no air layer exists between the glass plate 20 and the light scattering layer 30, and a transparent adhesive layer may exist between the glass plate 20 and the light scattering layer 30.
  • the internal transmittance of the light scattering layer 30 is 21% to 70%. If the internal transmittance of the light scattering layer 30 is 21% or more, the intensity of the reflected light forward due to the diffuse reflection of the light scattering layer 30 is weak, and image blurring is hardly recognized by the users U1 and U2 ahead. . If the internal transmittance of the light scattering layer 30 is 70% or less, the white color of the light scattering layer 30 covers the color of the light reflecting layer (for example, silver) during video projection, and the background color of the video appears white. The contrast of images visually recognized by the users U1 and U2 is good. Therefore, when the internal transmittance of the light scattering layer 30 is 21% to 70%, the image visibility is good.
  • the internal transmittance of the light scattering layer 30 is preferably 30% to 70%.
  • the internal transmittance A1 of the light scattering layer 30 is calculated, for example, by measuring the external transmittance A2 of the glass plate 20 with the light scattering layer 30 and using the following equation (5).
  • a light source with a wavelength of 550 nm can be used for measuring the external transmittance.
  • A1 A2-A3 (5)
  • the absorption rate A3 of the glass plate 20 can be calculated from the plate thickness of the glass plate 20 and the absorption coefficient of the glass plate 20.
  • the haze value of the light scattering layer 30 is appropriately set according to the internal transmittance of the light scattering layer 30.
  • the haze value of the light scattering layer 30 is, for example, 50% to 100%. If the haze value of the light scattering layer 30 is 50% or more, the light scattering inside the light scattering layer 30 is strong, and the white color of the light scattering layer 30 can cover the color of the light reflecting layer 40.
  • the haze value of the light scattering layer 30 is preferably 60% or more.
  • the haze value of the light scattering layer 30 is represented by, for example, the measured haze value of the glass plate 20 with the light scattering layer 30. This is because the haze value of the glass plate 20 is 1% or less, and the influence of forward scattering by the glass plate 20 can be substantially ignored.
  • the layer thickness of the light scattering layer 30 is appropriately set according to the internal transmittance of the light scattering layer 30, the haze value of the light scattering layer 30, and the like.
  • the layer thickness of the light scattering layer 30 is, for example, 1 ⁇ m to 80 ⁇ m. If the thickness of the light scattering layer 30 is 80 ⁇ m or less, the internal transmittance of the light scattering layer 30 is sufficiently high, and the intensity of light reflected forward by the diffuse reflection of the light scattering layer 30 is sufficiently weak.
  • the thickness of the light scattering layer 30 is 1 ⁇ m or more, the internal transmittance of the light scattering layer 30 is sufficiently low, the haze value of the light scattering layer 30 is sufficiently high, and the white color of the light scattering layer 30 is reflected by light. The color of layer 40 can be obscured.
  • the layer thickness of the light scattering layer 30 is preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m. When porous particles are used as the light-scattering particles of the light-scattering layer 30, the internal transmittance and haze value of the light-scattering layer 30 can be easily adjusted to the above ranges.
  • the light scattering layer 30 is formed by applying a liquid obtained by mixing the material of the light scattering portion with the material of the matrix portion to the glass plate 20 or the light reflecting layer 40 and then drying or curing.
  • the liquid may contain a solvent.
  • a sheet-shaped light scattering layer 30 formed in advance may be laminated on the glass plate 20 or the light reflection layer 40.
  • the sheet-like light scattering layer 30 can be produced by applying the liquid onto a film such as PET and then drying or curing, or by extruding a resin material in which a light scattering material is mixed with a thermoplastic resin. There is a way to make it.
  • the light reflecting layer 40 reflects the light from the light scattering layer 30 toward the light scattering layer 30.
  • the light reflecting layer 40 includes a light reflecting material, for example, a metal.
  • the metal contained in the light reflecting layer 40 is preferably a single metal or alloy containing at least one of silver and aluminum from the viewpoint of reflectance and color.
  • the light reflection layer 40 includes a metal layer.
  • the method for forming the metal layer include a method of attaching a metal foil or a metal plate, a physical vapor deposition method such as sputtering or a vacuum vapor deposition method, a method using silver mirror reaction or plating.
  • the light reflecting layer 40 may include a resin and light reflecting particles scattered in the resin.
  • the light reflecting layer 40 is formed, for example, by applying a liquid obtained by mixing a resin composition and light reflecting particles to the light scattering layer 30 and solidifying the applied liquid.
  • the liquid may contain a solvent.
  • the resin is a thermoplastic resin, it is formed by extruding a resin material obtained by mixing the resin composition and the light reflecting particles into a sheet.
  • metal particles are used as the light reflective particles.
  • the shape of the light reflective particles may be either spherical or plate-like, but is preferably plate-like from the viewpoint of reflectivity.
  • the light reflecting layer 40 may include a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film can be formed by a method of laminating a plurality of dielectrics having different refractive indexes.
  • the high refractive index dielectric include Si 3 N 4 , AlN, NbN, SnO 2 , ZnO, SnZnO, Al 2 O 3 , MoO, NbO, TiO 2 and ZrO 2 .
  • Examples of the dielectric having a lower refractive index than that of the high refractive index include SiO 2 , MgF 2 , and AlF 3 .
  • the light reflecting layer 40 includes at least one of (1) a metal layer, (2) a layer including a resin and light reflecting particles scattered in the resin, and (3) a dielectric multilayer film, More than one may be included.
  • the combination is not particularly limited.
  • the light reflection layer 40 has a sum of regular reflectance, diffuse reflectance, external transmittance, and absorptance as 100%.
  • the sum of the regular reflectance and the diffuse reflectance is the total reflectance.
  • the regular reflectance of the light reflecting layer 40 is measured as an absolute reflectance.
  • the specular reflectance of the light reflecting layer 40 is such that light having a wavelength of 550 nm is incident on the surface of the light reflecting layer 40 of the measurement sample on the glass substrate side from the glass substrate side at an incident angle of 5 ° and reflected in the direction of regular reflection
  • the measured light is detected with a spectrophotometer to obtain a measured value.
  • a commercially available one for example, model number: U-4100 manufactured by Hitachi, Ltd.
  • the diffuse reflectance of the light reflecting layer 40 is calculated by subtracting the regular reflectance of the light reflecting layer 40 from the total reflectance of the light reflecting layer 40.
  • the total reflectance of the light reflecting layer 40 is measured as an absolute reflectance.
  • the total reflectance of the light reflecting layer 40 is set such that a measurement sample is placed inside an integrating sphere, and the incident angle is 5 ° from the glass substrate side with respect to the surface of the light reflecting layer 40 of the measurement sample at a wavelength of 550 nm. Incident light and the light reflected in various directions are collected by an integrating sphere and detected by a spectrophotometer to obtain a measured value.
  • the regular reflectance of the light reflecting layer 40 is preferably 40% or more. If the regular reflectance of the light reflecting layer 40 is 40% or more, the image is not blurred. The regular reflectance of the light reflecting layer is more preferably 50% or more.
  • the diffuse reflectance of the light reflecting layer 40 is preferably less than 40%. If the diffuse reflectance of the light reflection layer 40 is less than 40%, there is almost no blurring of the image.
  • the total of the regular reflectance and diffuse reflectance of the light reflecting layer 40 is preferably 30 to 100%.
  • the external transmittance of the light reflecting layer 40 is preferably less than 50%. If the external transmittance of the light reflecting layer 40 is less than 50%, the brightness of the image is sufficiently obtained.
  • the light reflecting layer 40 may be a metal layer.
  • the light reflecting layer 40 is formed on the light scattering layer 30 by plating, sputtering, vapor deposition, or the like.
  • the light reflecting layer 40 is in close contact with the light scattering layer 30 in FIG. 3, but may not be in close contact with the light scattering layer 30, and a gap may be formed between the light reflecting layer 30 and the light scattering layer 30.
  • the light reflecting layer 40 may be formed separately from the light scattering layer 30.
  • the front surface 41 of the light reflecting layer 40 has almost no unevenness.
  • the arithmetic average roughness Ra of the front surface 41 of the light reflecting layer 40 is, for example, 5 ⁇ m or less, preferably 1 ⁇ m or less.
  • the above-described reflection type screen manufacturing method includes a step of manufacturing a laminated body including the glass plate 20, the light scattering layer 30, and the light reflection layer 40.
  • a resin plate may be used as a transparent plate instead of the glass plate 20.
  • the reflective screen is suitable for applications where projection and erasing are performed.
  • ⁇ Display of living space interiors, commercials, video for education ⁇ Display of information and advertisements at car dealers ⁇ Use of advertising displays, information notifications, events, etc. as glass doors of supermarkets, retail and public buildings ⁇ Use as a glass wall that can change the pattern of the wallpaper ⁇ Background board of the stadium ⁇ studio ⁇ Partition of the bathroom of the hotel ⁇ Display of characters, signs, images, videos at the airport, station, hospital, school ⁇ Temple Display of regional and tourism information in religious facilities such as shrines and churches ⁇ Space production in commercial facilities ⁇ Display of characters, signs, images, and videos in stadium ⁇ Projection of information in the kitchen and video for individuals ⁇ Whiteboard As a member that can be written and displayed, it is used in schools and meeting rooms. Also used with user interface.
  • Test Examples 1 to 8 test pieces having the same configuration except for the surface roughness of the front surface of the glass plate were prepared, and each test piece was evaluated. Each test piece was composed only of a glass plate and a coating layer formed on the front surface of the glass plate. Since the presence or absence of the light scattering layer or the light reflecting layer does not affect the evaluation, the light scattering layer or the light reflecting layer was not formed.
  • the surface roughness of the front surface of the glass plate was adjusted according to the processing conditions of the front surface of the glass plate. Specifically, as shown in Table 1, in Test Examples 1 to 7, a substantially uniform uneven surface is formed on the entire front surface of the glass plate by processing A to G, and in Test Example 8, an uneven surface is formed on the front surface of the glass plate. Did not form.
  • the shape of the front surface of the glass plate was a square having a length of 90 mm and a width of 90 mm in plan view.
  • Processing A was performed by two-stage blasting.
  • the blasting apparatus was a direct pressure type
  • the media was alumina # 600
  • the nozzle distance was 60 mm
  • the injection pressure was 0.3 MPa
  • the processing time per sheet was 6.72 seconds.
  • the second-stage blasting was performed under the same processing conditions as the first-stage blasting, except that the media used were kneaded ceramic particles instead of alumina # 600.
  • Processing B was performed under the same processing conditions as Processing A, except that alumina # 800 was used instead of alumina # 600 as a medium in the first stage of blasting among the two stages of blasting.
  • Processing C was performed under the same processing conditions as Processing A, except that alumina # 1000 was used instead of alumina # 600 as a medium in the first stage of blast processing among the two stages of blast processing.
  • Processing D was performed in two stages: blasting and subsequent etching.
  • the first stage blasting process D was performed under the same processing conditions as the first stage blasting process A.
  • the second etching process in the processing D was performed by immersing the glass plate in an aqueous solution of 10% hydrofluoric acid for 60 seconds.
  • Processing E was performed in two stages: blasting and subsequent etching.
  • the first stage blasting process E was performed under the same processing conditions as the first stage blasting process A except that alumina # 480 was used instead of alumina # 600 as the media.
  • the second stage etching process in the process E was performed under the same processing conditions as the second stage etching process in the process D.
  • Processing F was performed by blasting in only one stage.
  • the blasting process F was performed under the same processing conditions as the first stage blasting process A except that alumina # 480 was used instead of alumina # 600 as the media.
  • Processing G was performed by only one stage of blasting.
  • the blasting process G is performed under the same processing conditions as the first stage blasting process A.
  • the coating layer was formed by applying the following coating liquid to the entire front surface of the glass plate with a spin coater and drying the applied coating liquid at 150 ° C. for 30 minutes.
  • a solution obtained by diluting a silicone oligomer coating agent KR400 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with toluene to 50% was used as the coating solution.
  • the layer thickness of the coating layer was 2 ⁇ m.
  • the shape of the front surface of the coating layer was a square having a length of 90 mm and a width of 90 mm in plan view.
  • the evaluation items of the test piece were (1) surface roughness of the front surface of the coating layer, (2) erasability of writing with ink (presence / absence of unerased), (3) presence / absence of hot spot, and (4) presence / absence of glare. did.
  • the surface roughness (Rc ave , RSm ave ) of the front surface of the coating layer was measured with an Olympus laser microscope (OLS4000, objective lens magnification 10 ⁇ , cutoff value ⁇ c 250 ⁇ m).
  • the measurement locations were five locations at the four corners and the center in the central portion (here, the portion occupying 80% of the front surface) of the coating layer. The five measurement areas partially overlap. By measuring these five locations, the tendency of the overall surface roughness can be found. For each location, Rc ave and RSm ave were measured.
  • the erasability of writing with ink is such that writing using a whiteboard marker and erasing of writing using a dedicated character eraser are repeated 10 times in the center of the front surface of the coating layer, and then erased to such an extent that it can be visually recognized.
  • the evaluation was based on whether there was a rest.
  • the presence / absence of a hot spot was evaluated by projecting an image from the projector onto the front surface of the coating layer and determining whether the center of the test piece appears bright and shining at the position of the user U2 shown in FIG.
  • the presence or absence of glare was evaluated by projecting an image from the projector onto the front surface of the coating layer, and whether or not a fine spot pattern due to light and darkness can be seen at the position of the user U1 shown in FIG.
  • Table 1 shows the evaluation results of the test pieces.
  • Test Examples 9 to 14 a reflective screen having the same configuration was manufactured except for the thickness of the light scattering layer and the presence or absence of the light reflective layer, and each reflective screen was evaluated.
  • the reflective screen was composed of a coating layer, a glass plate, a light scattering layer, and a light reflection layer.
  • the reflective screen was composed of a coating layer, a glass plate, and a light scattering layer.
  • Test Examples 9 to 14 an uneven surface was formed on the front surface of the glass plate by the same processing C as in Test Example 3 (see Table 1). A coating layer was formed on the uneven surface. Thereafter, a light scattering layer or the like was formed on the rear surface opposite to the uneven surface. Since the method for forming the coating layer is the same as in Test Examples 1 to 8, the description thereof is omitted.
  • the light scattering layer was formed by applying the following light scattering paint to the rear surface of the glass plate with a bar coater and drying the applied light scattering paint at 150 ° C. for 30 minutes.
  • the light scattering paint was prepared by adding light scattering particles (Nissan Chemical Industries, Ltd .: Light Star LA-S233A) to the following mixed solution and stirring.
  • the mixed solution for light scattering paint is polyvinyl alcohol (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., polyvinyl alcohol 2000) added to distilled water, stirred at 70 ° C. for 1 hour, and then added to 2-propanol (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.). It was produced by doing.
  • the light reflecting layer was formed by applying the following light reflecting paint to the light scattering layer with a bar coater and drying the applied light reflecting paint at 150 ° C. for 30 minutes.
  • the light reflecting paint was prepared by adding light reflecting particles (Oike Kogyo Co., Ltd .: Al leaf powder) to the same mixed solution as the light scattering paint mixed solution and stirring.
  • the evaluation items of the reflective screen were (1) the internal transmittance and haze value of the light scattering layer, the layer thickness, (2) the background color of the image, and (3) the presence or absence of blurring of the image.
  • a glass plate with a light scattering layer produced under the same conditions as the reflective screen was used for each test example.
  • corrugated process was not given to the front surface of the glass plate with a light-scattering layer.
  • the internal transmittance and haze value were measured as described above.
  • the thickness of the layer was measured with an electron microscope.
  • the background color of the image was evaluated by visual observation at the position of the user U1 shown in FIG.
  • Table 2 shows the evaluation results of the reflective screen.
  • the light reflection layer is provided and the internal transmittance of the light scattering layer is 21% to 70%.
  • the contrast was good and the image was not blurred.
  • the internal transmittance of the light scattering layer was less than 21%, so there was blurring of the image.
  • the light reflection layer is provided, but the internal transmittance of the light scattering layer exceeds 70%, so the white color of the light scattering layer cannot hide the silver color of the light reflection layer, The background color of the image was grayish white and the contrast was poor.
  • Test Example 14 since most of the light of the projected image was reflected by diffuse reflection without providing the light reflection layer, the image was blurred.
  • the reflective screen may further include a magnetic layer.
  • the magnetic layer may include any of a soft magnetic material such as iron and a hard magnetic material such as a permanent magnet.
  • the attractive force of the magnet can be used, and paper or the like can be fastened to the reflective screen, or the reflective screen can be attached to the wall.
  • the reflective screen may further include a protective layer such as a corrosion prevention layer on the side opposite to the light scattering layer 30 with respect to the light reflecting layer 40.
  • a protective layer such as a corrosion prevention layer on the side opposite to the light scattering layer 30 with respect to the light reflecting layer 40.
  • the light reflection layer 40 can be protected.
  • the reflective screen may have a transparent plate on both sides of the light scattering layer 30 and the light reflecting layer 40. That is, the light scattering layer 30 and the light reflection layer 40 may be provided between the first transparent plate and the second transparent plate, and the light scattering layer 30 and the light reflection layer 40 are provided inside the laminated plate. May be.
  • the first transparent plate and the second transparent plate is a glass plate
  • a laminated glass is obtained as a laminated plate.
  • the first transparent plate and the second transparent plate may both be a resin plate, or one may be a glass plate and the other a resin plate.
  • the light reflection layer 40 may be one in which diffuse reflection is more dominant than regular reflection.
  • Examples of such a light reflection layer 40 include a layer in which spherical reflective particles are dispersed and a layer having a reflective uneven structure.
  • the layer having a reflective concavo-convex structure can be obtained, for example, by applying a metal reflective film along the concavo-convex surface.
  • the reflective uneven structure may be a random uneven structure, a regular uneven structure, or a hologram or the like.

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Abstract

【解決手段】インクによる書込みとその書込みの消去が行われる凹凸面を前面に有し、前記凹凸面に対し前方から映像が投映される、反射型スクリーンであって、前記前面から前記前面の反対面である後面に向けて、前記映像の光を透過する透明板、前記透明板を透過した光を散乱する光散乱層、および前記光散乱層からの光を前記光散乱層に向けて反射する光反射層をこの順で有し、前記光散乱層は前記透明板に密着しており、前記光散乱層の内部透過率が２１％～７０％である、反射型スクリーン。

Description

反射型スクリーン
　本発明は、反射型スクリーンに関する。
　近年、インクによる書込みとその書込みの消去が行われる凹凸面を前面に有し、凹凸面に対し前方から映像が投映される、反射型スクリーンが開発されている（例えば、特許文献１参照）。投影された映像に対し、インクによる書込みが可能である。
　特許文献１に記載の反射型スクリーンは、ガラス板と、光拡散性塗料または顔料を含む層とを有する。ガラス板は、表面に凹凸面を有し、凹凸面への文字や図形の書込みとその書込みの消去が可能とされている。光拡散性塗料または顔料を含む層は、ガラス板の背面に形成され、ガラス板の表面に入射した光を反射する。
日本国特開２００３－２３７２９５号公報（段落００１１、００１３、００１４）
　特許文献１に記載の反射型スクリーンは、投影された映像の光の大部分を拡散反射のみによって反射させる。そのため、映像がぼやけやすく、映像視認性が低かった。
　また、従来、凹凸面の高低差が大きすぎると凹の内部からインクが除去しにくく、凹凸面の高低差が小さすぎるとホットスポットが生じやすく、書き込みの消去性の向上と、ホットスポットの発生の抑制との両立が困難であった。
　ここで、ホットスポットとは、反射型スクリーンに対し映像が投映されたときに反射型スクリーンの中心部などが明るく光って見える現象である。この現象は、反射型スクリーンの前面が入射光を正反射することで生じる。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、映像視認性を向上した、反射型スクリーンの提供を第１の目的とする。また、本発明は、インクによる書込みの消去性を向上すると共にホットスポットの発生を抑制した、反射型スクリーンの提供を第２の目的とする。
　上記第１の目的を達成するため、本発明の第１の態様によれば、
　インクによる書込みとその書込みの消去が行われる凹凸面を前面に有し、前記凹凸面に対し前方から映像が投映される、反射型スクリーンであって、
　前記前面から前記前面の反対面である後面に向けて、前記映像の光を透過する透明板、前記透明板を透過した光を散乱する光散乱層、および前記光散乱層からの光を前記光散乱層に向けて反射する光反射層をこの順で有し、
　前記光散乱層は前記透明板に密着しており、前記光散乱層の内部透過率が２１％～７０％である、反射型スクリーンが提供される。
　上記第２の目的を達成するため、本発明の第２の態様によれば、
　インクによる書込みとその書込みの消去が行われる凹凸面を前面に有し、前記凹凸面に対し前方から映像が投映される、反射型スクリーンであって、
　前記凹凸面は、平面視において前記凹凸面の全面積の２０％を占め前記凹凸面の外周縁から一定の幅を有する枠状の外周部と、平面視において前記外周部で囲まれ前記凹凸面の全面積の残りの８０％を占める中央部とを有し、
　前記中央部のうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、下記式（１）、（２）が成立する、反射型スクリーンが提供される。
Ｒｃａｖｅ／ＲＳｍａｖｅ≦０．６４・・・（１）
Ｒｃａｖｅ≧１μｍ・・・（２）
Ｒｃａｖｅ：粗さ曲線要素の平均高さＲｃの１０点平均
ＲＳｍａｖｅ：粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍの１０点平均
　本発明の第１の態様によれば、映像視認性を向上した、反射型スクリーンが提供される。また、本発明の第２の態様によれば、インクによる書込みの消去性を向上すると共にホットスポットの発生を抑制した、反射型スクリーンが提供される。
一実施形態による反射型スクリーンの正面図である。 一実施形態による反射型スクリーンの上面図である。 一実施形態による反射型スクリーンの断面図である。
　以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。本明細書において、数値範囲を表す「～」はその前後の数値を含む範囲を意味する。また、本明細書において、「平面視」とは、反射型スクリーンの前面の法線方向から見たことを意味する。
　図１は、一実施形態による反射型スクリーンの正面図である。図１において、点線は凹凸面１３の外周部１３ａと凹凸面１３の中央部１３ｂとの境界線を示す。境界線は、便宜上図示するものであり、実際に目で確認できるものではなくてよい。図２は、一実施形態による反射型スクリーンの上面図である。図２において、Ｐはプロジェクタ、Ｕ１は反射型スクリーン１０の中心部正面に臨むユーザ、Ｕ２はプロジェクタＰから反射型スクリーン１０への入射光の入射角と同じ反射角の反射光を観察するユーザを示す。図３は、一実施形態による反射型スクリーンの断面図である。
　反射型スクリーン１０は、前面１１と、前面１１の反対面である後面１２とを有し、前面１１に凹凸面１３を有する。凹凸面１３に対しインクによる書込みとその書込みの消去が行われる。インクによる書込みには、専用マーカなどの筆記具、プリンタヘッドなどが用いられる。その書込みの消去には、字消具、溶剤などが用いられる。また、凹凸面１３に対し前方から映像が投映される。映像の投映には、プロジェクタＰなどが用いられる。
　反射型スクリーン１０は、不図示の枠で取り囲まれてもよい。その枠には吊り下げ具や脚が設けられてもよく、脚にはキャスターが取付けられてもよい。反射型スクリーン１０は、例えば室内で使用される。尚、反射型スクリーン１０の使用場所は、特に限定されない。例えば反射型スクリーンは、乗り物や建物の壁材などに適用されてもよい。
　凹凸面１３は、図１～図２では前面１１の全面を占めているが、前面１１の一部のみを占めていてもよい。後者の場合、前面１１の残部は凹凸のない平滑面であってよい。また、凹凸面１３の数は複数でもよく、複数の凹凸面１３が間隔をおいて配置されてもよい。
　凹凸面１３の形状は、図１では長方形である。凹凸面１３の縦寸法Ｌ１は、例えば３００ｍｍ以上である。また、凹凸面１３の横寸法Ｌ２は、例えば５００ｍｍ以上である。尚、凹凸面１３の形状は、多種多様であってよい。
　凹凸面１３は、外周部１３ａと、中央部１３ｂとを有する。外周部１３ａは、平面視において、凹凸面１３の全面積の２０％を占め、凹凸面１３の外周縁から一定の幅を有する枠状の部分である。平面視において凹凸面１３に占める外周部１３ａの割合が２０％になるように、凹凸面１３の形状や寸法に応じて外周部１３ａの幅が決められる。中央部１３ｂは、平面視において、外周部１３ａで囲まれ、凹凸面１３の全面積の残りの８０％を占める部分である。
　凹凸面１３の中央部１３ｂのうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、下記式（１）、（２）が成立することが好ましい。
Ｒｃａｖｅ／ＲＳｍａｖｅ≦０．６４・・・（１）
Ｒｃａｖｅ≧１μｍ・・・（２）
Ｒｃａｖｅ：粗さ曲線要素の平均高さＲｃの１０点平均
ＲＳｍａｖｅ：粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍの１０点平均
粗さ曲線要素の平均高さＲｃ、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、それぞれ、日本工業規格（ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２０１３）に準拠してカットオフ値λｃ＝２５０μｍで測定される。Ｒｃは凹凸の高低差を表し、ＲＳｍは凹凸の周期を表す。Ｒｃａｖｅは、縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲内の１０点で測定したＲｃの平均である。また、ＲＳｍａｖｅは、縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲内の１０点で測定したＲＳｍの平均である。測定点は、無作為に抽出する。
　凹凸面１３の中央部１３ｂのうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、上記式（１）が成立すれば、凹凸の高低差よりも凹凸の周期の方が十分に長いので、凹の内部からインクが除去しやすく、インクによる書込みの消去が容易である。Ｒｃａｖｅ／ＲＳｍａｖｅは、例えば式（１）に記載の如く０．６４以下、好ましくは０．６以下である。
　また、凹凸面１３の中央部１３ｂのうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、上記式（２）が成立すれば、凹凸の高低差が十分に大きいので、ホットスポットの発生が抑制できる。ホットスポットとは、反射型スクリーン１０に対し映像が投映されたときに反射型スクリーン１０の中心部などが明るく光って見える現象である。この現象は、反射型スクリーン１０の前面１１が入射光を正反射することで生じ、図２に示すユーザＵ２の位置で観察されうる。本実施形態では、凹凸の高低差が十分に大きいので、反射角が適度にばらつき、ホットスポットの発生が抑制できる。Ｒｃａｖｅは、例えば式（２）に記載の如く１μｍ以上、好ましくは３μｍ以上である。
　上記式（１）、（２）は、中央部１３ｂにおいて成立すればよく、外周部１３ａにおいて成立しても成立しなくてもよい。外周部１３ａには、インクによる書込みや映像の投映がなされないことが多いからである。但し、効果がより広範囲で得られるように、上記式（１）、（２）はより広範囲で設立することが好ましい。中央部１３ｂは、平面視において凹凸面１３の全面積の８０％を占める代わりに、好ましくは９０％を占め、より好ましくは９５％を占める。これに対応し、外周部１３ａは、平面視において凹凸面１３の全面積の２０％を占める代わりに、好ましくは１０％を占め、より好ましくは５％を占める。
　凹凸面１３の中央部１３ｂのうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、上記式（１）、（２）に加えて、下記式（３）が成立することがより好ましい。
ＲＳｍａｖｅ≦１５μｍ・・・（３）
凹凸面１３の中央部１３ｂのうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、上記式（３）が成立すれば、凹凸の周期が十分に短いので、ぎらつき（シンチレーション）が抑制できる。きらつきとは、光の明暗による微細な斑点模様が見える現象である。斑点模様は、光の干渉によって生じる。本実施形態では、投影される表示ドットに比較し凹凸の周期が十分に短いので、光の干渉による斑点模様が抑制できる。
　上記式（３）は、中央部１３ｂにおいて成立すればよく、外周部１３ａにおいて成立しても成立しなくてもよい。外周部１３ａには、映像の投映がなされないことが多いからである。但し、効果がより広範囲で得られるように、上記式（３）はより広範囲で設立することが好ましい。中央部１３ｂは、平面視において凹凸面１３の全面積の８０％を占める代わりに、好ましくは９０％を占め、より好ましくは９５％を占める。これに対応し、外周部１３ａは、平面視において凹凸面１３の全面積の２０％を占める代わりに、好ましくは１０％を占め、より好ましくは５％を占める。
　反射型スクリーン１０は、図３に示すように、前面１１から後面１２に向けて、ガラス板２０、光散乱層３０、および光反射層４０をこの順で有する。ガラス板２０が、特許請求の範囲に記載の透明板に対応する。
　ガラス板２０は、映像の光を透過する。ガラス板２０は、無色透明であるが、有色透明であってもよい。ガラス板２０のヘーズ（Haze）値は、５０％以下である。ガラス板２０のヘーズ値が５０％以下であれば、十分な透明度が得られる。尚、ガラス板２０のヘーズ値は、通常、１％以下である。
　ヘーズ値は、日本工業規格（ＪＩＳ　Ｋ７１３６）に準拠して測定され、測定対象の試験板を板厚方向に透過する透過光のうち、前方散乱によって入射光から２．５°以上それた透過光の百分率として求められる。ヘーズ値の測定に用いる光源としては、日本工業規格（ＪＩＳ　Ｚ８７２０：２０１２）に記載のＤ６５光源を用いる。
　ガラス板２０のガラスとしては、例えばソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラスなどが挙げられる。また、ガラスは、未強化ガラス、強化ガラスのいずれでもよい。未強化ガラスは、溶融ガラスを板状に成形し、徐冷したものである。成形方法としては、フロート法、フュージョン法などが挙げられる。強化ガラスは、物理強化ガラス、化学強化ガラスのいずれでもよい。物理強化ガラスは、均一に加熱したガラス板を軟化点付近の温度から急冷し、ガラス表面とガラス内部との温度差によってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで、ガラス表面を強化したものである。化学強化ガラスは、イオン交換法などによってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで、ガラス表面を強化したものである。
　ガラス板２０は、図２では平坦な平面板であるが、曲面板であってもよい。平面板を曲面板に曲げる曲げ成形としては、重力成形、またはプレス成形などが用いられる。曲げ成形では、均一に加熱したガラス板を軟化点付近の温度から急冷し、ガラス表面とガラス内部との温度差によってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで、ガラス表面を強化してもよい。物理強化ガラスが得られる。尚、化学強化ガラスは、曲げ成形の後、イオン交換法などによってガラス表面に圧縮応力を生じさせることで得られる。
　ガラス板２０の板厚は、特に限定されないが、例えば０．１ｍｍ～２０ｍｍである。
　ガラス板２０の前面２１は、凹凸面を有する。ガラス板２０に凹凸面を形成するガラス板の加工方法としては、一般的な加工方法が用いられ、例えば型押し法、エッチング法、ブラスト法などが単独で、または任意の組合せで用いられる。
　型押し法では、軟化点以上のガラス板２０に対して型を押しつけ、型の凹凸をガラス板２０へ転写することで、ガラス板２０の前面に凹凸面を形成する。
　エッチング法では、エッチング液にガラス板２０を浸漬することで、ガラス板２０の前面に凹凸面を形成する。エッチング液は例えば１０％～２０％程度のフッ化水素を含む水溶液、その浸漬時間は例えば３０秒～６００秒程度である。
　ブラスト法では、ガラス板２０にメディアを吹き付けることで、ガラス板２０の前面に凹凸面を形成する。メディアは、例えばセラミック粒子が用いられる。セラミック粒子のセラミックは、ガラス板２０のガラス（修正モース硬度：４．５～６．５程度）よりも高度の高いものが用いられ、例えば、アルミナ（修正モース硬度：１２）、炭化ケイ素（修正モース硬度：１３）、ジルコン（修正モース硬度：９）が用いられる。セラミック砥粒の平均粒径は例えば４μｍ～３０μｍ（粒度＃４００～＃３０００に相当）である。メディアは、セラミック粒子を弾性体に練り込んだものでもよい。メディアの噴射は、一般的なブラスト装置を用いて行う。
　ブラスト装置は、圧縮空気等の圧縮気体と共にメディアを噴射する。ブラスト装置は、加圧タンク内に投入されたメディアを圧縮気体と共に加圧して噴射する直圧式、圧縮気体の気流にメディアを合流させて噴射するサクション式などのいずれでもよい。メディアの噴射条件は一般的なものであってよい。噴射圧力は例えば０．３ＭＰａ～０．５ＭＰａ、単位面積当たりの処理時間は例えば５００秒／ｍ２～６００秒／ｍ２である。
　ガラス板２０の前面２１は、露出していてもよいが、図３に示すように被覆層５０によって被覆されていてもよい。被覆層５０は、ガラス板２０の前面２１の少なくとも一部を被覆していればよい。
　被覆層５０は、その前面５１に、ガラス板２０の凹凸面に倣う凹凸面を有する。被覆層５０の凹凸面に対し、インクによる書込みやその書込みの消去、映像の投映などがなされる。
　被覆層５０は、ガラス板２０よりもインクとの親和性が低いことが好ましい。インクによる書込みの消去が容易になる。
　被覆層５０は、インクとの親和性や耐久性の観点から、好ましくはシリコーン系硬化物を含む。シリコーン系硬化物は、例えば硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーの少なくとも一方を縮合硬化させることで得られる。
　一般的に、シリコーンレジンとシリコーンオリゴマーの違いは分子量であり、比較的低分子量のシリコーンレジンをシリコーンオリゴマーという。シリコーンオリゴマーは一般に２あるいは３量体から分子量１０００程度のものを指す。シリコーンレジンおよびシリコーンオリゴマーはＭ単位、Ｄ単位、Ｔ単位、Ｑ単位と呼ばれる含ケイ素結合単位から構成される。
　硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーは主としてＴ単位またはＱ単位から構成される分岐状の構造を持った樹脂であり、Ｔ単位のみから構成される樹脂、Ｑ単位のみから構成される樹脂、Ｔ単位とＱ単位から構成される樹脂がある。またそれら樹脂はさらに少量のＭ単位やＤ単位を含むこともある。
　硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーにおいて、Ｔ単位は、１個のケイ素原子を有し、そのケイ素原子に結合した１個の水素原子または１価の有機基と、他のケイ素原子に結合した酸素原子（または他のケイ素原子に結合できる官能基）３個とを有する単位である。
　含ケイ素結合単位を形成するモノマーは、（Ｒ´－）ａＳｉ（－Ｚ）４－ａで表される。ただし、ａは０～３の整数、Ｒ´は水素原子または1価の有機基、Ｚは水酸基、塩素原子または他のケイ素原子に結合できる1価の官能基を表す。Ｚが加水分解性基である場合、その加水分解性基としては、アルコキシ基、アシルオキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。
　硬度、耐久性の観点から、含ケイ素結合単位としてＴ単位を主な構成単位とするものが好ましく用いられる。ここで、Ｔ単位を主な構成単位とするものとは、Ｍ単位、Ｄ単位、Ｔ単位およびＱ単位の合計数に対するＴ単位数の割合が５０％～１００％のオルガノポリシロキサンをいう。より好ましくは、該Ｔ単位数の割合が７０％～１００％のオルガノポリシロキサンが用いられる。また、Ｔ単位以外に少量含まれる他の単位としてはＤ単位とＱ単位が好ましい。
　硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーとしては、市販されている化合物を使用することができる。たとえば、硬化性のシリコーンレジンとしては、信越化学社製KR220L、KR220LP、KR242A、KR251、KR211、KR255、KR300、KR311、KR2621-1、東レダウコーニング社製SR2402、AY42-163、Z6018などが使用できる。硬化性のシリコーンオリゴマーとしては、信越化学社製KC89S、KR515、KR500、X400-9225、X40-9246、X40－9250、KR401N、X40-9227、KR510、KR9218、KR213、KR400、X40-2327、KR401などが使用できる。これらのうちの１品種が単独で用いられてもよいし、複数品種が組合わせて用いられてもよい。
　被覆層５０は、インクによる書込みの消去性を向上するため、シリコーン系硬化物に加えて、フッ素系化合物を含んでもよい。フッ素系化合物としては、ＣｎＦ２ｎ＋１基やＣｎＦ２ｎＯ基を含む化合物が好ましい。尚、ｎは１以上の自然数である。
　被覆層５０は、コート液をガラス板２０の凹凸面に塗布し、塗布したコート液を硬化させることで形成される。コート方法は、公知の手法を用いることができ、たとえば、スプレーコート、スリットコート、ダイコート、スピンコート、ディップコート、カーテンコートなどの手法を用いることができる。コート液は、硬化性のシリコーンレジンおよび硬化性のシリコーンオリゴマーの少なくとも一方と、溶媒とを含む。コート液は、必要に応じて、硬化触媒、フッ素系化合物、レベリング剤、および顔料のうちの少なくとも１つをさらに含んでもよい。硬化の促進のため、加熱、および／または活性エネルギー線照射を行うことが好ましい。被覆層５０の層厚は、０．０１μｍ以上２０μｍが好ましく、０．１μｍ以上１０μｍ以下がより好ましい。被覆層５０の層厚が０．０１μｍ未満では耐久性が不十分である。被覆層５０の層厚が２０μｍ超では被覆層５０の凹凸面の高低差が小さくなり、ホットスポットの発生が十分に抑制できない。
　尚、本実施形態の反射型スクリーン１０はガラス板２０を基準として光散乱層３０とは反対側に被覆層５０を有するが、被覆層５０を有しなくてもよい。ガラス板２０の凹凸面に対し、インクによる書込みやその書込みの消去、映像の投映などがなされてもよい。
　上述したようにガラス板２０の前面２１が凹凸面を有するのに対し、ガラス板２０の後面２２は凹凸をほとんど有しないことが好ましい。ガラス板２０の後面２２の算術平均粗さＲａは、例えば５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下である。
　算術平均粗さＲａとは、日本工業規格（ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２０１３）に記載の「算術平均粗さ」のことであり、市販の表面粗さ測定機により測定できる。
　尚、本実施形態では、透明板として、硬度や耐久性、質感の観点から、ガラス板２０が用いられるが、樹脂板が用いられてもよい。樹脂板の樹脂としては、例えばポリカーボネート、アクリル、塩化ビニルなどが挙げられる。また、透明板は、単層構造、複層構造のいずれでもよく、例えば合わせガラスであってもよい。合わせガラスは、第１ガラス板、第２ガラス板、および第１ガラス板と第２ガラス板とを接合する中間膜を有する。透明板の構成に関係なく、透明板のヘーズ値は例えば５０％以下であり、透明板の板厚は例えば０．１ｍｍ～２０ｍｍである。
　また、本実施形態では、透明板の前面が、凹凸面になっているが、平坦面になっていてもよい。この場合、透明板の前面に透明凹凸層が形成される。透明凹凸層の形成方法としては、例えば型押し法、エッチング法、ブラスト法、インプリント法、コート法などが単独または任意の組合せで用いられる。型押し法、エッチング法、ブラスト法は、前述したガラス板２０の凹凸面の形成方法と同じ方法を用いることができる。インプリント法では、透明板とモールドとの間に転写材を挟み、モールドの凹凸パターンを転写材に転写し、転写材を固化させることで、透明凹凸層を形成する。固化は、光硬化、熱硬化を含む。コート法では、微粒子とバインダーとを含むコート液を透明板に塗布し、塗布したコート液を固化させることで、凹凸層を形成する。凹凸層に対しインクによる書込みやその書込みの消去、映像の投映などがなされてもよいし、凹凸層を被覆する被覆層５０に対しインクによる書込みやその書込みの消去、映像の投映などがなされてもよい。
　コート法でコート液を透明板に塗布する方法としてスプレー法でコートする方法を用いることができる。スプレー法は、微粒子とバインダーとを含むコート液を細いノズルから圧力をかけて噴霧することにより、液滴を作成、表面へ堆積し、凹凸面を作成する。微粒子は、無機微粒子、有機微粒子などから適宜選択可能で有り、バインダーも有機系材料、無機系材料から適宜選択可能である。
　光散乱層３０は、ガラス板２０を透過した光を散乱する。これにより光散乱層３０が白色を呈するため、ユーザＵ１、Ｕ２によって視認される映像のコントラストが向上する。光散乱層３０は、屈折率が異なる複数の材料で形成される。光散乱層３０は、例えばマトリックス部と、マトリックス部中に散在する光散乱部とを含む。
　マトリックス部は、無機材料、有機材料のいずれを含んでもよい。無機材料としては、二酸化ケイ素などが挙げられる。有機材料としては、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。有機材料は、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれであってもよい。
　光散乱部は、光散乱性粒子、空隙のいずれを含んでもよく、両者を含んでもよい。光散乱性粒子は、無機粒子、有機粒子のいずれでもよい。無機粒子の材料としては、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛などが挙げられる。有機粒子の材料としては、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられる。また、光散乱性粒子は多孔質粒子であってもよい。多孔質粒子の空孔の細孔直径は２～５０ｎｍが好ましい。光散乱性粒子の数平均粒径は１００ｎｍ～１０μｍである。空隙は、発泡剤などによって形成される。空隙の数平均粒径は１００ｎｍ～１０μｍである。光散乱部が空隙を含む場合、光散乱層３０は多孔質層である。光散乱層３０に占める光散乱部の割合は、例えば１０体積％～９９体積％、好ましくは２０体積％～９８体積％、より好ましくは３０体積％～９０体積％である。
　光散乱層３０は、マトリックス部や光散乱部に加えて、光吸収部をさらに含んでもよい。光吸収部は、カーボンブラックやチタンブラックなどの光吸収性粒子を含む。光散乱層３０に占める光吸収部の割合は、例えば０．０１体積％～５体積％、好ましくは０．１体積％～３体積％である。光吸収部は、映像のコントラストを向上する。
　尚、本実施形態の光散乱層３０は、マトリックス部と光散乱部とを含むものであるが、紙のように繊維の集積したものでもよい。光散乱層３０は、光を散乱できればよい。
　光散乱層３０はガラス板２０に密着しており、ガラス板２０と光散乱層３０との間には空気層が存在しない。ガラス板２０と光散乱層３０との屈折率差は、空気層と光散乱層３０との屈折率差よりも小さい。そのため、ガラス板２０を透過した光はガラス板２０と光散乱層３０との界面でほとんど反射されずに光散乱層３０に入射する。
　尚、本実施形態では、光散乱層３０とガラス板２０とが密着しているが、密着していなくてもよい。ガラス板２０と光散乱層３０との間に空気層が存在しなければよく、透明な接着層がガラス板２０と光散乱層３０との間に存在してもよい。
　光散乱層３０の内部透過率は２１％～７０％である。光散乱層３０の内部透過率が２１％以上であれば、光散乱層３０の拡散反射による前方への反射光の強さが弱く、前方のユーザＵ１、Ｕ２によって映像のぼやけがほとんど認められない。また、光散乱層３０の内部透過率が７０％以下であれば、映像投映時に光散乱層３０の白色が光反射層の色（例えば銀色）を覆い隠し、映像の背景色が白色に見えるので、ユーザＵ１、Ｕ２によって視認される映像のコントラストが良好である。よって、光散乱層３０の内部透過率が２１％～７０％であれば、映像視認性が良好である。光散乱層３０の内部透過率は、好ましくは、３０％～７０％である。
　光散乱層３０の内部透過率Ａ１は、例えば光散乱層３０付きのガラス板２０の外部透過率Ａ２を測定し、下記式（５）を用いて算出する。外部透過率の測定には波長５５０ｎｍの光源を用いることができる。
Ａ１＝Ａ２－Ａ３・・・（５）
Ａ３：ガラス板２０の吸収率
ここで、ガラス板２０と光散乱層３０との屈折率差は小さいので、ガラス板２０と光散乱層３０との界面での反射は無視する。ガラス板２０の吸収率Ａ３は、ガラス板２０の板厚と、ガラス板２０の吸収係数とから算出できる。
　光散乱層３０のヘーズ値は、光散乱層３０の内部透過率に応じて適宜設定される。光散乱層３０のヘーズ値は、例えば５０％～１００％である。光散乱層３０のヘーズ値が５０％以上であれば、光散乱層３０の内部における光の散乱が強く、光散乱層３０の白色が光反射層４０の色を覆い隠すことができる。光散乱層３０のヘーズ値は、好ましくは６０％以上である。
　光散乱層３０のヘーズ値は、例えば光散乱層３０付きのガラス板２０のヘーズ値を測定し、その測定値で代表する。ガラス板２０のヘーズ値は１％以下であり、ガラス板２０による前方散乱の影響は略無視できるためである。
　光散乱層３０の層厚は、光散乱層３０の内部透過率や光散乱層３０のヘーズ値などに応じて適宜設定される。光散乱層３０の層厚は、例えば１μｍ～８０μｍである。光散乱層３０の層厚が８０μｍ以下であれば、光散乱層３０の内部透過率が十分に高く、光散乱層３０の拡散反射による前方への反射光の強さが十分に弱い。また、光散乱層３０の層厚が１μｍ以上であれば、光散乱層３０の内部透過率が十分に低く、光散乱層３０のヘーズ値が十分に高く、光散乱層３０の白色が光反射層４０の色を覆い隠すことができる。光散乱層３０の層厚は、好ましくは１μｍ～１００μｍである。光散乱層３０の光散乱性粒子として多孔質粒子を用いると、光散乱層３０の内部透過率とヘーズ値を前記範囲に調整しやすい。
　光散乱層３０は、光散乱部の材料をマトリックス部の材料に混ぜた液体を、ガラス板２０または光反射層４０に塗布したのち乾燥または硬化することで形成される。前記液体には溶媒が含まれていてもよい。予め成形したシート状の光散乱層３０を、ガラス板２０または光反射層４０に積層してもよい。シート状の光散乱層３０を製造する方法は、前記液体をＰＥＴ等のフィルム上に塗布したのち乾燥または硬化する方法や、熱可塑性樹脂に光散乱材料を混ぜた樹脂材料を押し出し成形等によりシート状とする方法がある。
　光反射層４０は、光散乱層３０からの光を光散乱層３０に向けて反射する。光反射層４０は、光反射性材料を含み、例えば金属を含む。光反射層４０に含まれる金属は、反射率や色の観点から、銀およびアルミニウムの少なくとも一方を含む単金属または合金であることが好ましい。
　例えば、光反射層４０は、金属層を含む。金属層の形成方法としては、例えば金属箔や金属板を貼る方法、スパッタリングや真空蒸着法などの物理蒸着法、銀鏡反応やメッキを利用する方法などが挙げられる。
　また、光反射層４０は、樹脂と、樹脂中に散在する光反射性粒子とを含んでもよい。この場合、光反射層４０は、例えば樹脂組成物と光反射性粒子とを混ぜた液体を光散乱層３０に塗布し、塗布した液体を固化させることで形成される。前記液体には溶媒が含まれていてもよい。あるいは、樹脂が熱可塑性樹脂である場合には、樹脂組成物と光反射性粒子とを混ぜた樹脂材料を押し出し成形等によりシート状にすることで形成される。光反射性粒子としては、例えば金属粒子が用いられる。光反射性粒子の形状は、球状、板状のいずれでもよいが、反射率の観点から好ましくは板状である。
　また、光反射層４０は、誘電体多層膜を含んでもよい。誘電体多層膜は、屈折率が異なる複数の誘電体を積層する方法により形成できる。高屈折率の誘電体としては例えばＳｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＮｂＮ、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＭｏＯ、ＮｂＯ、ＴiＯ２およびＺｒＯ２が挙げられる。前記高屈折率の誘電体より低屈折率の誘電体としては例えばＳｉＯ２、ＭｇＦ２、およびＡｌＦ３が挙げられる。
　光反射層４０は、（１）金属層、（２）樹脂と樹脂中に散在する光反射性粒子とを含む層、（３）誘電体多層膜のうちの少なくとも１つを含み、いずれか２つ以上を含んでもよい。組合わせは特に限定されない。
　光反射層４０は、正反射率と拡散反射率と外部透過率と吸収率の和を１００％とする。正反射率と拡散反射率との和が全反射率である。正反射率や拡散反射率の測定サンプルには、ガラス基材（具体的には２ｍｍ厚のソーダライムガラス板）上に光反射層４０を形成したものを用いる。
　光反射層４０の正反射率は、絶対反射率として測定する。光反射層４０の正反射率は、測定サンプルの光反射層４０におけるガラス基材側の表面に対しガラス基材側から入射角５°で波長５５０ｎｍの光を入射し、正反射の方向に反射した光を分光光度計で検出して測定値とする。分光光度計としては、市販のもの（例えば日立製作所社製、型式：Ｕ－４１００）が用いられる。
　一方、光反射層４０の拡散反射率は、光反射層４０の全反射率から光反射層４０の正反射率を引いて算出する。光反射層４０の全反射率は、絶対反射率として測定する。光反射層４０の全反射率は、測定サンプルを積分球の内部に設置し、測定サンプルの光反射層４０におけるガラス基材側の表面に対しガラス基材側から入射角５°で波長５５０ｎｍの光を入射し、様々な方向に反射した光を積分球によって集めて分光光度計で検出して測定値とする。
　光反射層４０の正反射率は、好ましくは４０％以上である。光反射層４０の正反射率が４０％以上であれば、映像のぼやけが略ない。光反射層の正反射率は、より好ましくは５０％以上である。
　光反射層４０の拡散反射率は、好ましくは４０％未満である。光反射層４０の拡散反射率が４０％未満であれば、映像のぼやけが略ない。
　光反射層４０の正反射率と拡散反射率の合計、つまり光反射層４０の全反射率は、３０～１００％が好ましい。
　光反射層４０の外部透過率は、好ましくは５０％未満である。光反射層４０の外部透過率が５０％未満であれば、映像の明るさが十分に得られる。
　尚、光反射層４０は、金属層であってもよい。この場合、光反射層４０は、めっき、スパッタ、蒸着などによって光散乱層３０上に形成される。
　光反射層４０は、図３では光散乱層３０に密着しているが、光散乱層３０に密着していなくてもよく、光散乱層３０との間に隙間を形成してもよい。光反射層４０は、光散乱層３０とは別に形成されてもよい。
　光反射層４０の前面４１は、凹凸をほどんど有しないことが好ましい。光反射層４０の前面４１の算術平均粗さＲａは、例えば５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下である。
　上記反射型スクリーンの製造方法は、ガラス板２０と、光散乱層３０と、光反射層４０とを含む積層体を製造する工程を有する。尚、ガラス板２０の代わりに、樹脂板が透明板として用いられてもよい。
　反射型スクリーンは、映写とかき消しが行われる用途に適している。
　例えば、建物等の構造物における窓等として、以下の用途が挙げられる。
・居住空間のインテリアやＣＭ、教育用の映像の表示
・カーディーラーでの情報や広告等の表示
・スーパーマーケット、リテイルや公共の建物のガラスドアとして用いて広告表示、情報通知、イベント等の用途
・壁紙のパターンを変えられるガラスウォールとしての用途
・スタジアム・スタジオの背面ボード
・ホテルなどのバスルームのパーテーション
・空港、駅、病院、学校における、文字、標識、画像、動画の表示
・寺社、仏閣、神社、教会等の宗教施設における、地域や観光の情報の表示
・商業施設における空間演出
・スタジアムにおける、文字、標識、画像、動画の表示
・キッチンでの情報や個人向けの映像投影用途
・ホワイトボードとして、書き込みや表示が可能な部材として学校やミーティングルームで用いる。また、ユーザーインターフェースと共に用いる。
　テーブルトップ、ケーシング等における用途として、以下の用途が挙げられる。
・レストランのテーブルトップ
・机（デスクトップ）、キッチンカウンター
・卓上のパーテーション
・自動販売機。
　また、車両における用途として、以下の用途が挙げられる。
・鉄道車両の内部の広告中吊り
・新幹線のパーテーション部分
・自動車において、車内パーテーションとしてＴＶやＤＶＤの映像の表示。
　また、床、階段のステップ等に用いて意匠性を向上したり、『足元注意』などの表示をされる使い方が挙げられる。
　［試験例１～８］
　試験例１～８では、ガラス板の前面の表面粗さ以外、同じ構成の試験片を作製し、各試験片の評価を行った。各試験片は、ガラス板、およびガラス板の前面に形成される被覆層のみで構成した。光散乱層や光反射層の有無は評価に影響しないので、光散乱層や光反射層は形成しなかった。
　試験例１～８において、ガラス板の前面の表面粗さは、ガラス板の前面の加工条件によって調整した。具体的には、表１に示すように、試験例１～７では加工Ａ～Ｇによりガラス板の前面全体に略均一な凹凸面を形成し、試験例８ではガラス板の前面に凹凸面を形成しなかった。尚、ガラス板の前面の形状は、平面視で縦９０ｍｍ、横９０ｍｍの正方形とした。
　加工Ａは、２段階のブラスト処理により行った。１段階目のブラスト処理において、ブラスト装置は直圧式、メディアはアルミナ＃６００、ノズル距離は６０ｍｍ、噴射圧力は０．３ＭＰａ、１枚当たりの処理時間は６．７２秒とした。２段階目のブラスト処理は、メディアとしてアルミナ＃６００の代わりにセラミック粒子を弾性体に練り込んだものを用いた以外、１段階目のブラスト処理と同じ処理条件で行った。
　加工Ｂは、２段階のブラスト処理のうち、１段階目のブラスト処理においてメディアとしてアルミナ＃６００の代わりにアルミナ＃８００を用いた以外、加工Ａと同じ処理条件で行った。
　加工Ｃは、２段階のブラスト処理のうち、１段階目のブラスト処理においてメディアとしてアルミナ＃６００の代わりにアルミナ＃１０００を用いた以外、加工Ａと同じ処理条件で行った。
　加工Ｄは、ブラスト処理、その後のエッチング処理の２段階により行った。加工Ｄにおける１段階目のブラスト処理は、加工Ａにおける１段階目のブラスト処理と同じ処理条件で行った。加工Ｄにおける２段階目のエッチング処理は、フッ化水素酸１０％の水溶液にガラス板を６０秒浸漬することで行った。
　加工Ｅは、ブラスト処理、その後のエッチング処理の２段階により行った。加工Ｅにおける１段階目のブラスト処理は、メディアとしてアルミナ＃６００の代わりにアルミナ＃４８０を用いた以外、加工Ａにおける１段階目のブラスト処理と同じ処理条件で行った。加工Ｅにおける２段階目のエッチング処理は、加工Ｄにおける２段階目のエッチング処理と同じ処理条件で行った。
　加工Ｆは、１段階のみのブラスト処理により行った。加工Ｆにおけるブラスト処理は、メディアとしてアルミナ＃６００の代わりにアルミナ＃４８０を用いた以外、加工Ａにおける１段階目のブラスト処理と同じ処理条件で行った。
　加工Ｇは、１段階のみのブラスト処理により行った。加工Ｇにおけるブラスト処理は、加工Ａにおける１段階目のブラスト処理と同じ処理条件で行った。
　試験例１～８において、被覆層は、下記のコート液をスピンコータによってガラス板の前面全体に塗布し、塗布したコート液を１５０℃で３０分間乾燥させることで形成した。コート液としては、シリコーンオリゴマー系コーティング剤KR400（信越化学社製）をトルエンで５０％に希釈した液を用いた。被覆層の層厚は２μｍであった。尚、被覆層の前面の形状は、平面視で縦９０ｍｍ、横９０ｍｍの正方形とした。
　試験片の評価項目は、（１）被覆層の前面の表面粗さ、（２）インクによる書込みの消去性（消し残りの有無）、（３）ホットスポットの有無、（４）ぎらつきの有無とした。
　被覆層の前面の表面粗さ（Ｒｃａｖｅ、ＲＳｍａｖｅ）は、オリンパス社製のレーザ顕微鏡（ＯＬＳ４０００、対物レンズの倍率１０倍、カットオフ値λｃ２５０μｍ）により測定した。その測定箇所は、被覆層の前面の中央部（ここでは、前面の８０％を占める部分）のうち、四隅と中心の５箇所とした。５箇所の測定領域は一部重なる。この５箇所について測定すれば、全体の表面粗さの傾向がわかる。各箇所について、Ｒｃａｖｅ、ＲＳｍａｖｅを測定した。
　インクによる書込みの消去性は、被覆層の前面の中心部に対しホワイトボード用マーカを用いた書込みと専用字消具を用いた書込みの消去とを１０回繰り返し行い、その後、視認できる程度の消し残りがあったか否かで評価した。
　ホットスポットの有無は、被覆層の前面に対し映像をプロジェクタから投影し、図２に示すユーザＵ２の位置で試験片の中心部が明るく光って見えるか否かで評価した。
　ぎらつきの有無は、被覆層の前面に対し映像をプロジェクタから投影し、図２に示すユーザＵ１の位置で明暗による微細な斑点模様が見えるか否かで評価した。
　試験片の評価結果などを表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 　表１から明らかなように、試験例１～５によれば、Ｒｃａｖｅ／ＲＳｍａｖｅが０．６４以下、且つＲｃａｖｅが１μｍ以上であるので、消し残りもホットスポットも無かった。一方、試験例６および７によれば、Ｒｃａｖｅ／ＲＳｍａｖｅが０．６４を超えているため、消し残りが有った。また、試験例８によれば、Ｒｃａｖｅが１μｍ未満であるので、ホットスポットが有った。
　また、表１から明らかなように、試験例１～３、７および８によれば、ＲＳｍａｖｅが１５μｍ以下であるので、ぎらつきが無かった。一方、試験例４～６によれば、ＲＳｍａｖｅが１５μｍを超えるので、ぎらつきが有った。
　［試験例９～１４］
　試験例９～１４では、光散乱層の層厚と光反射層の有無以外、同じ構成の反射型スクリーンを製造し、各反射型スクリーンの評価を行った。試験例９～１３において、反射型スクリーンは、被覆層、ガラス板、光散乱層、および光反射層で構成した。一方、試験例１４において、反射型スクリーンは、被覆層、ガラス板、および光散乱層で構成した。
　試験例９～１４において、ガラス板の前面には、試験例３と同じ加工Ｃ（表１参照）で凹凸面を形成した。凹凸面には、被覆層を形成した。その後、凹凸面とは反対側の後面には、光散乱層などを形成した。被覆層の形成方法は、試験例１～８と同様であるので説明を省略する。
　光散乱層は、下記の光散乱塗料をバーコータによってガラス板の後面に塗布し、塗布した光散乱塗料を１５０℃で３０分間乾燥させることで形成した。光散乱塗料は、下記の混合溶液に、光散乱性粒子（日産化学工業社製：ライトスターLA-S233A）を加え撹拌することで作製した。
　光散乱塗料用の混合溶液は、ポリビニルアルコール（関東化学社製、ポリビニルアルコール２０００）を蒸留水中に添加し、７０℃で１時間撹拌させた後、２－プロパノール（純正化学社製）中に添加することで作製した。
　試験例９～１３において、光反射層は、下記の光反射塗料をバーコータによって光散乱層に塗布し、塗布した光反射塗料を１５０℃で３０分間乾燥させることで形成した。光反射塗料は、光散乱塗料用の混合溶液と同じ混合溶液に、光反射性粒子（尾池工業社製：Ａｌリーフパウダー）を加え撹拌することで作製した。
　反射型スクリーンの評価項目は、（１）光散乱層の内部透過率やヘーズ値、層厚、（２）映像の背景色、（３）映像のぼやけの有無とした。
　光散乱層の内部透過率やヘーズ値、層厚の測定には、試験例毎に反射型スクリーンと同じ条件で作製した光散乱層付きのガラス板を供した。尚、光散乱層付きのガラス板の前面には、凹凸加工を施さなかった。内部透過率やヘーズ値は、既述の通り測定した。層厚は、断面を電子顕微鏡で測定した。
　映像の背景色は、反射型スクリーンの前面に対し映像をプロジェクタから投影し、図２に示すユーザＵ１の位置で目視で評価した。
　映像のぼやけの有無は、反射型スクリーンの前面に対し映像をプロジェクタから投影し、図２に示すユーザＵ１の位置で目視で評価した。
　反射型スクリーンの評価結果などを表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　表２から明らかなように、試験例９～１１によれば、光反射層が設けられており且つ光散乱層の内部透過率が２１％～７０％であるので、映像の背景色が白色でコントラストが良好であり且つ映像のぼやけが無かった。一方、試験例１２によれば、光反射層が設けられているが光散乱層の内部透過率が２１％未満であるので、映像のぼやけが有った。また、試験例１３によれば、光反射層が設けられているが光散乱層の内部透過率が７０％を超えているので、光散乱層の白色が光反射層の銀色を隠しきれず、映像の背景色が灰白色であり、コントラストが悪かった。さらに、試験例１４によれば、光反射層を設けずに、投影された映像の光の大部分を拡散反射によって反射させたため、映像のぼやけが有った。
　以上、反射型スクリーンの実施形態などについて説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
　例えば、反射型スクリーンは、磁性層をさらに有してもよい。磁性層は、鉄などの軟磁性材料、永久磁石などの硬磁性材料のいずれを含んでもよい。磁石の吸着力を利用することができ、反射型スクリーンに紙などを留めたり、壁に反射型スクリーンを取付けたりすることができる。
　また、反射型スクリーンは、光反射層４０を基準として光散乱層３０とは反対側に、腐食防止層などの保護層をさらに有してもよい。光反射層４０を保護することができる。
　また、反射型スクリーンは、光散乱層３０や光反射層４０の両側に透明板を有してもよい。つまり、第１の透明板と第２の透明板との間に光散乱層３０や光反射層４０が設けられてもよく、合わせ板の内部に光散乱層３０や光反射層４０が設けられてもよい。第１の透明板および第２の透明板がそれぞれガラス板の場合、合わせ板として合わせガラスが得られる。尚、第１の透明板および第２の透明板は、両方が樹脂板、あるいは一方がガラス板で他方が樹脂板でもよい。
　また、光反射層４０は、正反射よりも拡散反射が支配的なものでもよい。そのような光反射層４０としては、球状の反射性粒子が分散した層、反射性の凹凸構造を有する層が挙げられる。反射性の凹凸構造を有する層は、例えば凹凸面に沿って金属の反射膜を施すことで得られる。反射性の凹凸構造は、ランダムな凹凸構造、規則的な凹凸構造であってよく、ホログラム等でもよい。
　本出願は、２０１５年１０月３０日に日本国特許庁に出願した特願２０１５－２１３９４５号、および２０１５年１０月３０日に日本国特許庁に出願した特願２０１５－２１３９４６号に基づく優先権を主張するものであり、これらの出願の全内容を本出願に援用する。
１０　反射型スクリーン
１１　前面
１２　後面
１３　凹凸面
１３ａ　外周部
１３ｂ　中央部
２０　ガラス板
３０　光散乱層
４０　光反射層
５０　被覆層

Claims (9)

  1. 　インクによる書込みとその書込みの消去が行われる凹凸面を前面に有し、前記凹凸面に対し前方から映像が投映される、反射型スクリーンであって、
    　前記前面から前記前面の反対面である後面に向けて、前記映像の光を透過する透明板、前記透明板を透過した光を散乱する光散乱層、および前記光散乱層からの光を前記光散乱層に向けて反射する光反射層をこの順で有し、
    　前記光散乱層は前記透明板に密着しており、前記光散乱層の内部透過率が２１％～７０％である、反射型スクリーン。
  2. 　インクによる書込みとその書込みの消去が行われる凹凸面を前面に有し、前記凹凸面に対し前方から映像が投映される、反射型スクリーンであって、
    　前記凹凸面は、平面視において前記凹凸面の全面積の２０％を占め前記凹凸面の外周縁から一定の幅を有する枠状の外周部と、平面視において前記外周部で囲まれ前記凹凸面の全面積の残りの８０％を占める中央部とを有し、
    　前記中央部のうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、下記式（１）、（２）が成立する、反射型スクリーン。
    Ｒｃａｖｅ／ＲＳｍａｖｅ≦０．６４・・・（１）
    Ｒｃａｖｅ≧１μｍ・・・（２）
    Ｒｃａｖｅ：粗さ曲線要素の平均高さＲｃの１０点平均
    ＲＳｍａｖｅ：粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍの１０点平均
  3. 　前記中央部のうちの、任意の縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形の範囲において、上記式（１）、（２）に加えて、下記式（３）が成立する、請求項２に記載の反射型スクリーン。
    ＲＳｍａｖｅ≦１５μｍ・・・（３）
  4. 　前記前面から前記前面の反対面である後面に向けて、前記映像の光を透過する透明板、前記透明板を透過した光を散乱する光散乱層、および前記光散乱層からの光を前記光散乱層に向けて反射する光反射層をこの順で有し、
    　前記光散乱層は前記透明板に密着しており、前記光散乱層の内部透過率が２１～７０％である、請求項２または３に記載の反射型スクリーン。
  5. 　前記光散乱層のヘーズ値が５０％～１００％である、請求項１または４に記載の反射型スクリーン。
  6. 　前記光散乱層の層厚が１μｍ～８０μｍである、請求項１、４および５のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。
  7. 　前記光反射層の正反射率が４０％以上である、請求項１および４～６のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。
  8. 　前記透明板がガラス板である、請求項１および４～７のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。
  9. 　前記透明板を基準として前記光散乱層とは反対側に、前記透明板の少なくとも一部を覆う被覆層を有し、
    　前記被覆層に前記凹凸面が形成されている、請求項１および４～８のいずれか１項に記載の反射型スクリーン。

     
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