WO2016159374A1

WO2016159374A1 - 配糖体化合物の製造方法

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Publication number: WO2016159374A1
Application number: PCT/JP2016/060971
Authority: WO
Inventors: 絵里子青木; 高志木下; 伊藤　彰浩; 忠明大木
Original assignee: 株式会社ボナック
Priority date: 2015-04-02
Filing date: 2016-04-01
Publication date: 2016-10-06
Also published as: CN107428793A; EP3301103A4; US10377788B2; JP6481022B2; KR20170129264A; US20180079768A1; JPWO2016159374A1; EP3301103A1

Abstract

　本発明は、一般式（１０３）で表されるチオエーテル化合物と、一般式（１０５）で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留して一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；および　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、一般式（Ｉａ）で表される配糖体化合物と一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）を含む、一般式（Ｉ）で表される配糖体化合物又はその塩の製造方法を提供する。当該方法により核酸の製造（合成）に好適なホスホロアミダイトをより効率よく、しかも高純度で製造することが可能となる（各化合物は明細書中に定義される通りである）。

Description

配糖体化合物の製造方法

　本発明は、配糖体化合物の製造方法に関する。

　ＤＮＡ、ＲＮＡ等の核酸の製造（合成）方法としては、例えば、ホスホロアミダイト法等が用いられる。ホスホロアミダイト法による核酸合成の原料としては、ヌクレオシドのホスホロアミダイト（以下、単に「ホスホロアミダイト」ということがある。）が使用される。前記ホスホロアミダイトの２’－位の保護基としては、例えば、ＴＢＤＭＳ（ターシャリーブチルジメチルシリル）基、ＴＯＭ（トリイソプロピルシリルオキシメチル）基、ＡＣＥ（ビス（２－アセトキシエトキシ）メチル）基等、多数の保護基が用いられている。
　しかし、ＴＯＭアミダイト、ＡＣＥアミダイト等の従来のホスホロアミダイトは、その製造コストが高いため、医薬品等の合成原料としては用いにくい。また、ＴＢＤＭＳアミダイトは、カップリング（縮合）反応により核酸を合成する際の、核酸の収率および純度があまり高くない場合がある。
　そこで、低コストに製造できて、かつ、核酸を高収率および高純度で製造可能なホスホロアミダイトを提供可能な、保護基の開発が試みられている（特許文献１及び２）。

ＷＯ２０１３／０２７８４３ＷＯ２００８／０９０８２９

　本発明は、核酸の製造（合成）に好適なホスホロアミダイトをより効率よく、しかも高純度で製造する方法を提供することを目的とする。

　本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、保護基導入の際の試薬の選択及びその添加順序並びに反応条件を変更することによって、また、出発原料（アミダイト試薬）の調製方法を検討（例、蒸留法の検討（添加剤の選択）によるアミダイト試薬の純度向上）することによって、従来に比べ、より効率よく、且つ高純度にホスホロアミダイトを製造することができることを見出して本発明を完成するに至った。

　即ち、本発明は以下の通りである。
［１］一般式（１０３）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す）
で表されるチオエーテル化合物と、一般式（１０５）：

（式中、Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留して一般式（１０４）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；および
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、
一般式（Ｉａ）：

［式中、Ｂは核酸塩基骨格を有する原子団を示し；
Ｘは下記式：

（式中、ｎは０又は１を示し；Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示す）で表される基を示す］
で表される配糖体化合物と一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）を含む、一般式（Ｉ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは同一又は異なって水素原子若しくは置換基を示し；Ｒ^２ｃは水素原子、電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基を示し；ここでＲ^２ａおよびＲ^２ｂはそれらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成してもよく；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）で表される配糖体化合物又はその塩の製造方法。
［２］さらに一般式（Ｉｂ）で表される化合物を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は上記［１］に記載の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）を含む、上記［１］記載の製造方法。
［３］さらに一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物に水酸基の保護基を導入して一般式（Ｉｄ）：

（式中、各記号の定義は上記［１］に記載の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程３）を含む、上記［２］記載の製造方法。
［４］さらに一般式（Ｉｄ）で表される配糖体化合物をリン酸化して一般式（Ｉ）で表される配糖体化合物を得る工程（工程４）を含む、上記［３］記載の製造方法。
［５］一般式（１０３）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）を含む、一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物の製造方法。
［６］一般式（１０３）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、
一般式（Ｉａ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）；および
一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）を含む、一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物の製造方法。
［７］一般式（１０３）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）；
一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）；および
一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物に水酸基の保護基を導入して一般式（Ｉｄ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程３）を含む、一般式（Ｉｄ）で表される配糖体化合物の製造方法。
［８］一般式（１０３）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）；
一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物に水酸基の保護基を導入して一般式（Ｉｄ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程３）；および
一般式（Ｉｄ）で表される配糖体化合物をリン酸化して一般式（Ｉ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは同一又は異なって水素原子若しくは置換基を示し；Ｒ^２ｃは水素原子、電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基を示し；ここでＲ^２ａおよびＲ^２ｂはそれらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成してもよく；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）で表される配糖体化合物を得る工程（工程４）を含む、一般式（Ｉ）で表される配糖体化合物の製造方法。
［９］工程０の蒸留における該添加剤が、４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタンである、上記［１］～［８］のいずれかに記載の方法。
［１０］ｎが１である、上記［１］～［９］のいずれかに記載の方法。

［１１］Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄがイソプロピル基である、上記［１］～［１０］のいずれかに記載の方法。
［１２］ｍが１である、上記［１］～［１１］のいずれかに記載の方法。
［１３］Ｌ^１がエチレン基である、上記［１］～［１２］のいずれかに記載の方法。
［１４］Ｄ^１がシアノ基である、上記［１］～［１３］のいずれかに記載の方法。
［１５］工程１において、ハロゲン化剤、乾燥剤およびルイス酸の添加後に一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物を添加することを特徴とする、上記［１］～［１４］のいずれかに記載の方法。
［１６］工程１において、乾燥剤、ルイス酸および一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物の添加後にハロゲン化剤を添加することを特徴とする、上記［１］～［１４］のいずれかに記載の方法。
［１７］工程１において、ハロゲン化剤の添加後にルイス酸を添加することを特徴とする、上記［１５］に記載の方法。
［１８］工程１において、ルイス酸の添加後に一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物を添加することを特徴とする、上記［１６］に記載の方法。
［１９］工程１におけるハロゲン化剤がヨウ素化剤である、上記［１］～［１８］のいずれかに記載の方法。
［２０］ヨウ素化剤が１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン又はヨウ素である、上記［１９］に記載の方法。

［２１］乾燥剤がモレキュラーシーブである、上記［１］～［２０］のいずれかに記載の方法。
［２２］工程１におけるルイス酸がトリフルオロメタンスルホン酸である、上記［１］～［２１］のいずれかに記載の方法。
［２３］工程１におけるルイス酸がメタンスルホン酸である、上記［１］～［２１］のいずれかに記載の方法。

　本発明によれば、より効率よく、且つ高純度にホスホロアミダイトを製造することができる。

　以下に本発明で使用する用語および記号を定義する。
　「核酸塩基骨格を有する原子団」とは、その構造の全てあるいは一部に核酸塩基骨格を有する官能基を意味する。ここで「核酸塩基骨格」とは天然核酸塩基骨格でも人工核酸塩基骨格でもよいが、好ましくは天然核酸塩基骨格である。
　該天然核酸塩基としては、アデニン、シトシン、グアニン、ウラシル、チミン、またはその他の含窒素芳香環（例、５－アルキルピリミジン、５－ハロゲノピリミジン、デアザプリン、デアザピリミジン、アザプリン、アザピリミジン）であることがより好ましい。

　「ハロゲン」としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。

　「アルキル基」とは、炭素数１～３０、好ましくは１～１２、より好ましくは１～６、特に好ましくは１～４の直鎖又は分岐鎖アルキル基を意味し、具体的には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチルおよびｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル等が挙げられる。好ましくは、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ぺンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル等が挙げられる。

　「アルケニル基」とは、炭素数２～３０、好ましくは２～１２、より好ましく２～８の直鎖又は分岐鎖アルケニル基を意味し、前記アルキル基において、１個又は複数の二重結合を有するもの等が挙げられる。具体的には、ビニル、１－プロペニル、２－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニル、３－ブテニル、１，３－ブタジエニル、３－メチル－２－ブテニル等が挙げられる。

　「アルキニル基」とは、炭素数２～３０、好ましくは２～１２、より好ましく２～８の直鎖又は分岐鎖アルキニル基を意味し、前記アルキル基において、１個又は複数の三重結合を有するもの等が挙げられる。具体的には、エチニル、プロピニル、プロパルギル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル等が挙げられる。該アルキニル基は、さらに１個又は複数の二重結合を有していてもよい。

　「アルコキシ基」とは、炭素数１～３０、好ましくは１～１２、より好ましくは１～６、特に好ましくは１～４の直鎖又は分岐鎖アルコキシ基を意味し、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、ｎ－ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、２－ペンチルオキシ、３－ペンチルオキシ、ｎ－ヘキシルオキシ、２－ヘキシルオキシ等が挙げられる。

　「アリール基」とは、炭素数６～２４、好ましくは６～１０のアリール基を意味し、フェニル等の単環芳香族炭化水素基、１－ナフチル、２－ナフチル、１－アントリル、２－アントリル、９－アントリル、１－フェナントリル、２－フェナントリル、３－フェナントリル、４－フェナントリル、９－フェナントリル等の多環芳香族炭化水素基が挙げられる。

　「アラルキル基」とは、炭素数７～３０、好ましくは７～１１のアラルキル基を意味し、具体的には、ベンジル、２－フェネチル、およびナフタレニルメチル等が挙げられる。

　「シクロアルキル基」とは、炭素数３～２４、好ましくは３～１５のシクロアルキル基を意味し、具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、橋かけ環式炭化水素基、スピロ炭化水素基等が挙げられ、好ましくは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、橋かけ環式炭化水素基等が挙げられる。「橋かけ環式炭化水素基」としては、ビシクロ［２．１．０］ペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．２］オクチル、ビシクロ［３．２．１］オクチル、トリシクロ［２．２．１．０］ヘプチル、ビシクロ［３．３．１］ノナン、１－アダマンチル、２－アダマンチル等が挙げられる。「スピロ炭化水素基」としては、スピロ［３．４］オクチル等が挙げられる。

　「シクロアルケニル基」とは、少なくとも１個、好ましくは１または２個の二重結合を含む炭素数３～２４、好ましくは３～７のシクロアルケニル基を意味し、具体的には、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル等が挙げられる。前記シクロアルケニル基は、環中に不飽和結合を有する橋かけ環式炭化水素基およびスピロ炭化水素基も含む。「環中に不飽和結合を有する橋かけ環式炭化水素基」としては、ビシクロ［２．２．２］オクテニル、ビシクロ［３．２．１］オクテニル、トリシクロ［２．２．１．０］ヘプテニル等が挙げられる。「環中に不飽和結合を有するスピロ炭化水素基」としては、スピロ［３．４］オクテニル等が挙げられる。

　「シクロアルキルアルキル基」とは、前記シクロアルキル基で置換されたアルキル基（上述）を意味し、好ましくは炭素数４～３０、より好ましくは４～１１のシクロアルキルアルキル基を意味する。具体的には、シクロプロピルメチル、２－シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、３－シクロペンチルプロピル、シクロヘキシルメチル、２－シクロヘキシルエチル、シクロヘプチルメチル等が挙げられる。

　「アルコキシアルキル基」とは、前記アルコキシ基で置換されたアルキル基（上述）を意味し、好ましくは炭素数２～３０、より好ましくは２～１２の直鎖又は分岐鎖アルコキシアルキル基を意味する。具体的には、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチルおよびｔ－ブトキシメチル等が挙げられる。

　「アルキレン基」とは、炭素数１～３０、好ましくは１～１２、より好ましくは１～６、特に好ましくは１～４の直鎖又は分岐鎖アルキレン基を意味し、具体的には、メチレン、エチレン、およびプロピレン等が挙げられる。

　「ヘテロアリール基」は、例えば、単環芳香族複素環式基および縮合芳香族複素環式基を含む。前記ヘテロアリールは、例えば、フリル（例：２－フリル、３－フリル）、チエニル（例：２－チエニル、３－チエニル）、ピロリル（例：１－ピロリル、２－ピロリル、３－ピロリル）、イミダゾリル（例：１－イミダゾリル、２－イミダゾリル、４－イミダゾリル）、ピラゾリル（例：１－ピラゾリル、３－ピラゾリル、４－ピラゾリル）、トリアゾリル（例：１，２，４－トリアゾール－１－イル、１，２，４－トリアゾール－３－イル、１，２，４－トリアゾール－４－イル）、テトラゾリル（例：１－テトラゾリル、２－テトラゾリル、５－テトラゾリル）、オキサゾリル（例：２－オキサゾリル、４－オキサゾリル、５－オキサゾリル）、イソキサゾリル（例：３－イソキサゾリル、４－イソキサゾリル、５－イソキサゾリル）、チアゾリル（例：２－チアゾリル、４－チアゾリル、５－チアゾリル）、チアジアゾリル、イソチアゾリル（例：３－イソチアゾリル、４－イソチアゾリル、５－イソチアゾリル）、ピリジル（例：２－ピリジル、３－ピリジル、４－ピリジル）、ピリダジニル（例：３－ピリダジニル、４－ピリダジニル）、ピリミジニル（例：２－ピリミジニル、４－ピリミジニル、５－ピリミジニル）、フラザニル（例：３－フラザニル）、ピラジニル（例：２－ピラジニル）、オキサジアゾリル（例：１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）、ベンゾフリル（例：２－ベンゾ［ｂ］フリル、３－ベンゾ［ｂ］フリル、４－ベンゾ［ｂ］フリル、５－ベンゾ［ｂ］フリル、６－ベンゾ［ｂ］フリル、７－ベンゾ［ｂ］フリル）、ベンゾチエニル（例：２－ベンゾ［ｂ］チエニル、３－ベンゾ［ｂ］チエニル、４－ベンゾ［ｂ］チエニル、５－ベンゾ［ｂ］チエニル、６－ベンゾ［ｂ］チエニル、７－ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンズイミダゾリル（例：１－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、４－ベンゾイミダゾリル、５－ベンゾイミダゾリル）、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリニル（例：２－キノキサリニル、５－キノキサリニル、６－キノキサリニル）、シンノリニル（例：３－シンノリニル、４－シンノリニル、５－シンノリニル、６－シンノリニル、７－シンノリニル、８－シンノリニル）、キナゾリニル（例：２－キナゾリニル、４－キナゾリニル、５－キナゾリニル、６－キナゾリニル、７－キナゾリニル、８－キナゾリニル）、キノリル（例：２－キノリル、３－キノリル、４－キノリル、５－キノリル、６－キノリル、７－キノリル、８－キノリル）、フタラジニル（例：１－フタラジニル、５－フタラジニル、６－フタラジニル）、イソキノリル（例：１－イソキノリル、３－イソキノリル、４－イソキノリル、５－イソキノリル、６－イソキノリル、７－イソキノリル、８－イソキノリル）、プリル、プテリジニル（例：２－プテリジニル、４－プテリジニル、６－プテリジニル、７－プテリジニル）、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル（例：１－アクリジニル、２－アクリジニル、３－アクリジニル、４－アクリジニル、９－アクリジニル）、インドリル（例：１－インドリル、２－インドリル、３－インドリル、４－インドリル、５－インドリル、６－インドリル、７－インドリル）、イソインドリル、フェナジニル（例：１－フェナジニル、２－フェナジニル）またはフェノチアジニル（例：１－フェノチアジニル、２－フェノチアジニル、３－フェノチアジニル、４－フェノチアジニル）等が挙げられる。

　「電子求引基」とは、水素原子と比べて、結合原子側から電子をひきつけやすい基を示し、具体的には、シアノ、ニトロ、アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル、エチルスルホニル）、ハロゲン（フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子）、アリールスルホニル（例、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル）、トリハロメチル（例、トリクロロメチル、トリフルオロメチル）等が挙げられる。

　「水酸基の保護基」とは、水酸基の反応を防ぐために導入される、当業者に公知の一般的な水酸基の保護基を意味し、例えば、Protective Groups in Organic Synthesis, published by John Wiley and Sons (1980)に記載の保護基等であり、具体的には、アセチル、ベンゾイル等のアシル系保護基、トリチル、４－メトキシトリチル、４，４’－ジメトキシトリチル、ベンジル等のアルキル系保護基、トリメチルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル等のシリル系保護基が挙げられる。

　本発明において「置換基」としては、
（１）ハロゲン（フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子）；
（２）アルキル基（上述）；
（３）アルケニル基（上述）；
（４）アルキニル基（上述）；
（５）ハロアルキル基（例、クロロメチル、フルオロメチル、ジクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル等）；
（６）アリール基（上述）；
（７）ヘテロアリール基（上述）；
（８）アラルキル基（上述）；
（９）シクロアルキル基（上述）；
（１０）シクロアルケニル基（上述）；
（１１）シクロアルキルアルキル基（上述）；
（１２）シクロアルケニルアルキル基（例、シクロペンテニルエチル、シクロヘキセニルエチル、シクロヘキセニルブチル等）；
（１３）ヒドロキシアルキル基（例、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル等）；
（１４）アルコキシアルキル基（上述）；
（１５）アミノアルキル基（例、アミノメチル、アミノエチル、アミノプロピル等）；
（１６）ヘテロシクリル基（例、１－ピロリニル、２－ピロリニル、３－ピロリニル、１－ピロリジニル、２－ピロリジニル、３－ピロリジニル、ピロリジノン、１－イミダゾリニル、２－イミダゾリニル、４－イミダゾリニル、１－イミダゾリジニル、２－イミダゾリジニル、４－イミダゾリジニル、イミダゾリジノン、１－ピラゾリニル、３－ピラゾリニル、４－ピラゾリニル、１－ピラゾリジニル、３－ピラゾリジニル、４－ピラゾリジニル、ピペリジノン、ピペリジノ、２－ピペリジニル、３－ピペリジニル、４－ピペリジニル、１－ピペラジニル、２－ピペラジニル、ピペラジノン、２－モルホリニル、３－モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル等）；
（１７）ヘテロシクリルアルケニル基（例、２－ピペリジニルエテニル等）；
（１８）ヘテロシクリルアルキル基（例、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル等）；
（１９）ヘテロアリールアルキル基（例、ピリジルメチル、キノリン－３－イルメチル等）；
（２０）シリル基；
（２１）シリルオキシアルキル基（例、シリルオキシメチル、シリルオキシエチル等）；
（２２）モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基（例、メチルシリル、エチルシリル等）；及び
（２３）モノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基（例、トリメチルシリルオキシメチル等）
等が挙げられる。これらの各置換基は、さらに電子求引基（上述）で置換されていてもされていなくても良い。

　本発明は、一般式（Ｉ）で表される配糖体化合物（以下、配糖体化合物（Ｉ）とも称する）又はその塩の製造方法（以下、本発明の製造方法とも称する）を提供する。

［式中、Ｂは核酸塩基骨格を有する原子団を示し；ｍは正の整数であり；Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示し；Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは同一又は異なって水素原子若しくは置換基を示し；Ｒ^２ｃは水素原子、電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基を示し；ここでＲ^２ａおよびＲ^２ｂはそれらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成してもよい］
　本発明の製造方法は、下記工程（工程１）を含む。
［工程１］
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、一般式（Ｉａ）：

（式中、ｎは０又は１を示し；Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示す）で表される基を示す］
で表される配糖体化合物（以下、配糖体化合物（Ｉａ）とも称する）と一般式（１０４）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し；Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるチオエーテル化合物（以下、チオエーテル化合物（１０４）とも称する）をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物（以下、配糖体化合物（Ｉｂ）とも称する）を得る工程。
　従って、本発明は工程１により、配糖体化合物（Ｉｂ）を製造する方法をも提供する。

　ここで、チオエーテル化合物（１０４）は下記工程（工程０）により調製される。
［工程０］
　一般式（１０３）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す）
で表されるチオエーテル化合物（以下、チオエーテル化合物（１０３）とも称する）と、一般式（１０５）：

（式中、Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留してチオエーテル化合物（１０４）を得る工程。
　従って、本発明は工程０により、チオエーテル化合物（１０４）を製造する方法、工程０及び工程１により配糖体化合物（Ｉｂ）を製造する方法をも提供する。

　前記化学式中、Ｂが、アデニンの場合は９位窒素で、シトシンの場合は１位窒素で、グアニンの場合は９位窒素で、ウラシルの場合は１位窒素で、あるいはチミンの場合は１位窒素で、前記化学式（Ｉ）中のＤ－リボース骨格に結合していることがさらに好ましい。また、Ｂにおける核酸塩基は、任意の置換基で置換されていても良いし、置換されていなくても良い。置換基としては、例えば、ハロゲン、アシル基（下記のアミノ基の保護基としてのアシル基と同義）、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ等）、ジアルキルアミノ基（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ等）、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。これらの置換基は、０個でも、１個でも複数個（例えば２～３個）でも良いし、複数個の場合は、１種類でも複数種類でも良い。

　また、Ｂは、保護基を有していても良いし、有していなくても良い。例えば、Ｂにおける前記核酸塩基が環外にアミノ基（アミノ置換基）を有する場合、前記アミノ基が保護基により保護されていても良い。前記アミノ基の保護基は特に限定されず、例えば、公知の核酸化学で用いる保護基等と同じでも良い。前記アミノ基の保護基としては、例えば、アシル基が挙げられる。前記アシル基としては、例えば、ベンゾイル基、４－メトキシベンゾイル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシアセチル基、４－イソプロピルフェノキシアセチル基等が挙げられる。また、アシル基以外には、例えば、（ジメチルアミノ）メチレン基等が挙げられる。
　Ｂは、好ましくは、アデニン、シトシン、グアニン、ウラシル及びチミンである。

　ｎは０又は１を示し、好ましくは、ｎは１である。

　Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示すが、好ましくは全てアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、特に好ましくはイソプロピル基である。

　ｍは正の整数であり、好ましくは１～１０の整数であり、より好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。

　Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し、好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、特に好ましくはいずれもメチル基である。

　Ｌ^１はアルキレン基であり、好ましくは炭素数１～６のアルキレン基であり、より好ましくはエチレン基である。

　Ｄ^１は電子求引基であり、好ましくはシアノ、ニトロ、アルキルスルホニル、ハロゲン、アリールスルホニル、トリハロメチル等であり、より好ましくはシアノ基である。

　Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは同一又は異なって水素原子若しくは置換基を示し、好ましくは同一で置換基であり、より好ましくはアルキル基（好ましくは炭素数１～４の直鎖又は分岐鎖アルキル基、より好ましくはイソプロピル基）である。

　Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはそれらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成してもよいが、当該環は含窒素複素環であり、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を有していても有していなくてもよく、さらに置換基を有していても有していなくてもよい。具体的にはフラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３－オキサジアゾール環、１，２，４－オキサジアゾール環、１，３，４－オキサジアゾール環、フラザン環、１，２，３－チアジアゾール環、１，２，４－チアジアゾール環、１，３，４－チアジアゾール環、１，２，３－トリアゾール環、１，２，４－トリアゾール環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環等の５または６員の芳香族単環式複素環、オキシラン環、アゼチジン環、オキセタン環、チエタン環、ピロリジン環、テトラヒドロフラン環、チオラン環、ピペリジン環、テトラヒドロピラン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ピペラジン環、３－ヘキサヒドロシクロペンタ［ｃ］ピロ－ル環、ホモピペリジン環、ホモピペラジン環等の３ないし８員の飽和あるいは不飽和の非芳香族複素環等が挙げられる。好ましくは非芳香族複素環であり、より好ましくはピペリジン環、モルホリン環、ピロリジン環、チオモルホリン等が挙げられる。

　好ましくはＲ^２ａおよびＲ^２ｂは、炭素数１～４の直鎖又は分岐鎖アルキル基であり、より好ましくはイソプロピル基である。

　Ｒ^２ｃは水素原子、電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基を示し、好ましくは電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基であり、より好ましく電子求引基で置換されていてもよい置換基である。好ましくは、Ｒ^２ｃは、電子求引基（好ましくはシアノ基）で置換されていてもよいアルキル基（好ましくは炭素数１～４の直鎖又は分岐鎖アルキル基、より好ましくはエチル基）であり、特に好ましくはシアノエチル基である。

　工程０で使用するハロゲン化剤は、特に限定されないが、塩素、塩酸、塩化水素、塩化チオニル、塩化スルフリル、メシルクロリド、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、Ｎ－クロロスクシンイミド等のクロロ化剤；Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ブロモフタルイミド、１，３－ジブロモヒダントイン、５，５－ジメチル－１，３－ジブロモヒダントイン等のブロモ化剤；ヨウ素、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、Ｎ－ヨード－スクシンイミド、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン等のヨウ素化剤等が挙げられる。好ましくはヨウ素化剤であり、より好ましくはＮ－ヨード－スクシンイミドである。

　工程０で使用する乾燥剤としては、当分野で通常使用されているものを特に制限することなく利用できるが、好ましくはモレキュラーシーブである。

　工程０で使用するルイス酸としては、当分野で通常使用されているものを特に制限することなく利用することができ、使用する原料や試薬等によって適宜選択し得るが、好ましくはペルフルオロアルキルカルボン酸（例、トリフルオロ酢酸）、ペルフルオロアルキルスルホン酸（例、トリフルオロメタンスルホン酸）、アルキルスルホン酸（例、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸）およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つである。より好ましくは、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸又はその塩（好ましくは銀塩）であり、特に好ましくはメタンスルホン酸又はトリフルオロメタンスルホン酸の銀塩である。

　工程０で使用するチオエーテル化合物（１０３）は商業的に入手可能であるか、あるいはＷＯ２０１３／０２７８４３に記載の方法等を参考にして合成することができる。工程０で使用するアルコール化合物（１０５）は商業的に入手可能であるか、あるいは自体公知の方法により合成することができる。

　工程０において、チオエーテル化合物（１０３）と、アルコール化合物（１０５）とのカップリング反応の条件は、特に限定されない。前記カップリング反応の反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン等のケトン；ジエチルエーテル、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ジオキサン等のエーテル；またはアセトニトリル等のニトリル等が挙げられる。前記カップリング反応の反応時間は、特に限定されないが、例えば、１～１２時間、好ましくは１～８時間、より好ましくは１～４時間である。前記カップリング反応の反応温度は、特に限定されないが、好ましくは使用する原料や試薬等によって適宜最適な条件を設定する。例えば、－７５～０℃、好ましくは、－６０～－１０℃、より好ましくは－５０～－４０℃である。チオエーテル化合物（１０３）およびアルコール化合物（１０５）の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。チオエーテル化合物（１０３）とアルコール化合物（１０５）の物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。アルコール化合物（１０５）のモル数は、チオエーテル化合物（１０３）のモル数に対し、例えば０．２～３倍、好ましくは０．２～１．５倍、より好ましくは０．５～１倍である。ハロゲン化剤（好ましくはヨウ素化剤）のモル数は、チオエーテル化合物（１０３）のモル数に対し、例えば０．５～３倍、好ましくは０．５～１．５倍、より好ましくは０．５～１倍である。前記ルイス酸のモル数は、チオエーテル化合物（１０３）のモル数に対し、例えば１～３倍、好ましくは１～２倍、より好ましくは１～１．５倍である。使用するルイス酸の種類によっては、該ルイス酸のモル数は、チオエーテル化合物（１０３）のモル数に対し、例えば０．００５～０．５倍、好ましくは０．０１～０．１倍、より好ましくは０．０２５～０．０３５倍である。乾燥剤（好ましくはモレキュラーシーブ）の使用量は特に限定されないが、前記各反応物質に対し過剰に用いることが好ましい。前記カップリング反応の反応条件は、公知のチオエーテル化合物とアルコール化合物とのカップリング反応等の条件を参考にして適宜設定しても良いし、後述の実施例の条件を参考にして適宜設定しても良い。
　工程０においては、前記カップリング反応後に蒸留を行うことを特徴とする。前記蒸留は、自体公知の方法により実施することができるが、高純度のチオエーテル化合物（１０４）が得られることから、添加剤として硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の存在下、減圧下で繰り返し実施することが好ましい。硫黄含有抗酸化剤は、抗酸化作用を有する分子内に硫黄原子を有する化合物であって、フェノチアジン等が挙げられる。マレイミド基含有化合物は、分子内にマレイミド基を有する化合物であって、マレイミド、４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタン、ビス（３－エチル－５－メチル－４－マレイミドフェニル）メタン等が挙げられる。好ましくは４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタンである。本発明では４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタンが蒸留の際の添加剤として好ましく用いられる。添加剤の使用量は特に限定されないが、反応物質に対し０．０１～０．５倍、好ましくは０．０５～０．４倍、さらに好ましくは０．１～０．３倍の重量で用いる。具体的には後述の実施例の条件を参考にして実施することができる。当該蒸留により、チオエーテル化合物（１０４）を、純度８０％以上、好ましくは９０％、より好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９８％以上にまで高めることができる。

　工程１で使用するハロゲン化剤は、特に限定されないが、塩素、塩酸、塩化水素、塩化チオニル、塩化スルフリル、メシルクロリド、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、Ｎ－クロロスクシンイミド等のクロロ化剤；Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ブロモフタルイミド、１，３－ジブロモヒダントイン、５，５－ジメチル－１，３－ジブロモヒダントイン等のブロモ化剤；ヨウ素、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、Ｎ－ヨード－スクシンイミド、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン等のヨウ素化剤等が挙げられる。好ましくはヨウ素化剤であり、より好ましくは１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン又はヨウ素である。本発明の好ましい一実施態様として、Ｂの核酸塩基骨格を有する原子団における核酸塩基がシトシン、ウラシル及びグアニンの場合には、該ヨウ素化剤は１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントインである。本発明の別の好ましい一実施態様として、Ｂの核酸塩基骨格を有する原子団における核酸塩基がアデニンの場合には、該ヨウ素化剤はヨウ素である。

　工程１において２種以上のハロゲン化剤を用いてもよい。例えばハロゲン化剤としてヨウ素化剤（例、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン）を用いた場合、ヨウ素を併用してもよいし、また併用しなくてもよい。

　工程１で使用する乾燥剤としては、当分野で通常使用されているものを特に制限することなく利用できるが、好ましくはモレキュラーシーブである。

　工程１で使用するルイス酸としては、当分野で通常使用されているものを特に制限することなく利用することができ、使用する原料や試薬等によって適宜選択し得るが、好ましくはペルフルオロアルキルカルボン酸（例、トリフルオロ酢酸）、ペルフルオロアルキルスルホン酸（例、トリフルオロメタンスルホン酸）、アルキルスルホン酸（例、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸）およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つである。より好ましくは、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸又はその塩（好ましくは銀塩）であり、特に好ましくはメタンスルホン酸又はトリフルオロメタンスルホン酸である。本発明の好ましい一実施態様として、Ｂの核酸塩基骨格を有する原子団における核酸塩基がシトシン、ウラシル及びグアニンの場合には、該ルイス酸はトリフルオロメタンスルホン酸である。本発明の別の好ましい一実施態様として、Ｂの核酸塩基骨格を有する原子団における核酸塩基がアデニンの場合には、該ルイス酸はメタンスルホン酸である。

　工程１で使用する配糖体化合物（Ｉａ）は商業的に入手可能であるか、自体公知の方法により合成することができる。

　工程１において、配糖体化合物（Ｉａ）と、チオエーテル化合物（１０４）とのカップリング反応の条件は、特に限定されない。前記カップリング反応の反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン等のケトン；ジエチルエーテル、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ジオキサン等のエーテル；またはアセトニトリル等のニトリル等が挙げられる。前記カップリング反応の反応時間は、特に限定されないが、例えば、１５分～６時間、好ましくは１５分～２時間、より好ましくは３０分～１時間である。前記カップリング反応の反応温度（フラスコ内温）は、特に限定されないが、好ましくは使用する原料や試薬等によって適宜最適な条件を設定する。例えば、－９０～０℃、好ましくは、－７０～－２０℃、より好ましくは－６０～－３０℃である。配糖体化合物（Ｉａ）およびチオエーテル化合物（１０４）の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。配糖体化合物（Ｉａ）とチオエーテル化合物（１０４）の物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。チオエーテル化合物（１０４）のモル数は、配糖体化合物（Ｉａ）のモル数に対し、例えば１～５倍、好ましくは１～３倍、１～２倍である。ハロゲン化剤（好ましくはヨウ素化剤）のモル数は、使用するハロゲン化剤の種類によっても異なるが、通常、配糖体化合物（Ｉａ）のモル数に対し、例えば１～１０倍である。ハロゲン化剤が１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントインの場合には、配糖体化合物（Ｉａ）のモル数に対し、例えば１～５倍、１～３倍、好ましくは１～２倍、より好ましくは１～１．５倍である。ハロゲン化剤がヨウ素の場合には、配糖体化合物（Ｉａ）のモル数に対し、例えば１～１０倍、好ましくは２～１０倍、より好ましくは４～８倍、より好ましくは５～６倍である。前記ルイス酸のモル数は、配糖体化合物（Ｉａ）のモル数に対し、例えば１～３倍、好ましくは１～２倍、より好ましくは１～１．５倍である。前記カップリング反応の反応条件は、例えば、公知の配糖体化合物のアミダイト合成等の条件を参考にして適宜設定しても良いし、後述の実施例の条件を参考にして適宜設定しても良い。
　工程１において、ハロゲン化剤、ルイス酸、チオエーテル化合物（１０４）及び乾燥剤の添加順序は特に限定されない。本発明の好ましい一実施態様として、Ｂの核酸塩基骨格を有する原子団における核酸塩基がシトシン、ウラシル及びグアニンの場合には、工程１においては、チオエーテル化合物（１０４）の添加は最後に行うことが好ましい。即ち、乾燥剤存在下の反応系にハロゲン化剤を添加し、続いてルイス酸を添加した後にチオエーテル化合物（１０４）を添加することが好ましい。本発明の別の好ましい一実施態様として、Ｂの核酸塩基骨格を有する原子団における核酸塩基がアデニンの場合には、工程１においては、ハロゲン化剤の添加は最後に行うことが好ましい。即ち、乾燥剤存在下の反応系にルイス酸を添加し、続いてチオエーテル化合物（１０４）を添加した後にハロゲン化剤を添加することが好ましい。チオエーテル化合物（１０４）、ハロゲン化剤、及びルイス酸の反応系への添加は、上記添加順序に従う限り任意の間隔で行なうことができ、それらの仕込み量等によって適宜設定される。

　本発明の製造方法は、下記工程（工程２）をさらに含むことが好ましい。
［工程２］
　配糖体化合物（Ｉｂ）を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は工程１に記載の通りである）
で表される配糖体化合物（以下、配糖体化合物（Ｉｃ）とも称する）を得る工程。
　従って、本発明は上記工程２（より詳細には上記工程０、工程１及びそれに続く工程２）により、配糖体化合物（Ｉｃ）を製造する方法をも提供する。
　工程２において、脱保護反応の条件は特に限定されないが、例えば、公知の脱保護剤を用いることができる。前記脱保護剤は、特に限定されないが、例えば、フッ化水素ピリジン、トリエチルアミン三フッ化水素、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸、テトラブチルアンモニウムフロリド等が挙げられる。脱保護反応の反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトン等のケトン；ジエチルエーテル、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）等のエーテル；メタノール、エタノール等のアルコール；またはアセトニトリル等のニトリル等が挙げられる。脱保護反応の反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分～２４時間、好ましくは２～１２時間、より好ましくは２～４時間である。脱保護反応の反応温度は、特に限定されないが、例えば、０～１００℃、好ましくは、２０～６０℃、より好ましくは２０～５０℃である。配糖体化合物（Ｉｂ）および脱保護剤の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。配糖体化合物（Ｉｂ）と脱保護剤との物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。脱保護剤のモル数は、配糖体化合物（Ｉｂ）のモル数に対し、例えば０．１～２０倍、好ましくは０．２～１０倍、より好ましくは１～５倍である。脱保護反応の反応条件は、例えば、公知の配糖体における類似の脱保護反応等の条件を参考にして適宜設定しても良いし、後述の実施例の条件を参考にして適宜設定しても良い。

　本発明の製造方法は、下記工程（工程３）をさらに含むことが好ましい。
［工程３］
　配糖体化合物（Ｉｃ）に水酸基の保護基を導入して一般式（Ｉｄ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し、それ以外の各記号の定義は工程１に記載の通りである）
で表される配糖体化合物（以下、配糖体化合物（Ｉｄ）とも称する）を得る工程を含む。
　従って、本発明は上記工程３（より詳細には上記工程０、工程１、工程２及びそれらに続く工程３）により、配糖体化合物（Ｉｄ）を製造する方法をも提供する。

　一般式（Ｉｄ）中、水酸基の保護基としては、特に限定されないが、好ましくはメチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基、トリチル基等のアルキル系保護基；、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基等のエーテル系保護基；メチルカーボネート基、エチルカーボネート基等のカーボネート系保護基；トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基等のケイ素系保護基等が挙げられ、好ましくは４，４’－ジメトキシトリチル（ＤＭＴｒ）である。

　保護基導入工程の反応条件も特に限定されず、例えば、公知の配糖体化合物における類似の反応等を参考に適宜設定しても良い。
　保護基Ｒ^１の導入反応において、保護基導入剤は、Ｒ^１に応じて適宜選択すればよい。例えば保護基が４，４’－ジメトキシトリチルである場合、保護基導入剤は４，４’－ジメトキシトリチルクロライドを用いることができる。
　反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、ピリジン等の極性溶媒；またはアセトニトリル等のニトリル；テトラヒドロフラン等のエーテル等が挙げられる。反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分～２４時間、好ましくは２～１２時間、より好ましくは２～４時間である。反応温度は、特に限定されないが、例えば、０～１００℃、好ましくは、１０～６０℃、より好ましくは２０～３０℃である。用いる配糖体化合物（Ｉｃ）および保護基導入剤の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。配糖体化合物（Ｉｃ）と保護基導入剤との物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。保護基導入剤のモル数は、配糖体化合物（Ｉｃ）のモル数に対し、例えば１～１００倍、好ましくは１～２０倍、より好ましくは１～５倍である。保護基Ｒ^１の導入反応の反応条件は、例えば、公知の配糖体における類似の反応の条件を参考にして適宜設定しても良いし、後述の実施例の条件を参考にして適宜設定しても良い。

　本発明の製造方法は、下記工程（工程４）をさらに含むことが好ましい。
［工程４］
　配糖体化合物（Ｉｄ）をリン酸化して配糖体化合物（Ｉ）を得る工程。
　従って、本発明は上記工程４（より詳細には上記工程０、工程１、工程２、工程３及びそれに続く工程４）により、配糖体化合物（Ｉ）を製造する方法をも提供する。

　工程４における配糖体化合物（Ｉｄ）のリン酸化は、下記化合物と反応させることによって行う。

（式中、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは同一又は異なって水素原子若しくは置換基を示し；Ｒ^２ｃは水素原子、電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基を示し；ここでＲ^２ａおよびＲ^２ｂはそれらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成してもよい）
　２つのＲ^２ａは同一でも異なっていてもよいが好ましくは同一である。２つのＲ^２ｂは同一でも異なっていてもよいが好ましくは同一である。Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂは同一でも異なっていてもよいが、好ましくは同一であり、より好ましくは置換基であり、特に好ましくはアルキル基、特にイソプロピル基であることが好ましい。
　Ｒ^２ｃは、好ましくは電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基であり、より好ましくは電子求引基で置換されていてもよい置換基、特に好ましくは電子求引基で置換されていてもよい炭素数１～４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基（例、エチル）である。電子求引基としてはシアノが好ましい。
　Ｒ^２ｃは、好ましくはシアノエチル基である。

　なお、本発明に用いる、あるいは本発明により提供される配糖体化合物、チオエーテル等の化合物（以下、単に「本発明の化合物」ということがある）に、鏡像異性体、互変異性体または立体異性体（例：幾何異性体、配座異性体および光学異性体）等の異性体が存在する場合は、いずれの異性体も本発明の化合物に含まれる。例えば、本発明の配糖体化合物を表す化学式は、配糖体の糖骨格がＤ－リボースであるように描き表しているが、その鏡像体すなわちＬ－リボースであっても良い。また、本発明の化合物が塩を形成し得る場合は、その塩も、本発明の化合物に含まれる。前記本発明の化合物の塩は、酸付加塩でも良いが、塩基付加塩でも良い。さらに、前記酸付加塩を形成する酸は無機酸でも有機酸でも良く、前記塩基付加塩を形成する塩基は無機塩基でも有機塩基でも良い。前記無機酸としては、特に限定されないが、例えば、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、次亜フッ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜フッ素酸、亜塩素酸、亜臭素酸、亜ヨウ素酸、フッ素酸、塩素酸、臭素酸、ヨウ素酸、過フッ素酸、過塩素酸、過臭素酸、および過ヨウ素酸等が挙げられる。前記有機酸も特に限定されないが、例えば、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、ｐ－ブロモベンゼンスルホン酸、炭酸、コハク酸、クエン酸、安息香酸および酢酸等が挙げられる。前記無機塩基としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩等があげられ、より具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウムおよび炭酸カルシウム等が挙げられる。前記有機塩基も特に限定されないが、例えば、エタノールアミン、トリエチルアミンおよびトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン等が挙げられる。これらの塩の製造方法も特に限定されない。

　以下に実施例を示して、本発明をより詳細に説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
略語一覧：
EMM: cyanoethoxymethoxymethyl
DIH: 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin
TfOH: trifluoromethanesulfonic acid
MS4A: molecular sieves 4A
THF: tetrahydrofuran
TEA・3HF: triethylamine trihydrofluoride
DMTr: 4,4'-dimethoxytrityl
iPr: isopropyl
NIS: N-iodosuccinimide
AgOTf: silver trifluoromethanesulfonate
EtOH: ethanol

製造例１：ＥＭＭ化試薬（１００４）の合成
　下記スキームに従い、ＥＭＭ化試薬（１００４）を合成した。なお、「ＥＭＭ」は、「シアノエトキシメトキシメチル（ｃｙａｎｏｅｔｈｏｘｙｍｅｔｈｏｘｙｍｅｔｈｙｌ）」の略である（以下において同じ）。

［２－シアノエトキシメチルメチルチオメチルエーテル（１００４）の合成］
　市販のビス（メチルチオメチル）エーテル（１００３）（30g,217mmol）を、アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（300mL）に溶解させた。その溶液に、シアノエタノール（15g,217mmol、減圧蒸留により精製）およびモレキュラーシーブス４Ａ（30g）を加え、１０分間撹拌した。この混合物に、さらにＮ－ヨードスクシンイミド（49g,217mmol）を加えて溶解させ、直ぐに－４５℃に冷却した。冷却後、さらにトリフルオロメタンスルホン酸銀（1.7g, 6.5mmol）を加え３時間撹拌した。撹拌後、氷冷した１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、－４５℃で激しく撹拌した。１０分後にクーリングバスから取り出し、酢酸エチルを加え３０分間激しく撹拌した。反応溶液をセライトろ過した。ろ液を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を前記順序で用いて洗浄した。その後、有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。上記の反応を５回行い、粗生成物（150g）を得た。この粗生成物に４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタン（33g）を加え０．５０ｍｍＨｇで減圧蒸留し、主留として粗精製物（７１ｇ、沸点９３～９６℃）を得た。得られた粗精製物（71g）に４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタン（15g）を加え０．２５ｍｍＨｇで減圧蒸留し、主留として目的化合物（５０ｇ、沸点８３～８６℃、純度９８．４６％）を得た。

化合物（１００４）：
¹H-NMR(400MHz, CDCl₃) δ: 4.86(2H, s), 4.73(2H, s), 3.80(2H, t, J=6.3Hz), 2.64(2H, t, J=6.3Hz), 2.18(3H, s).

実施例１：シチジンＥＭＭアミダイト（Ｉ－１）の合成
　下記スキームに従い、シチジンＥＭＭアミダイト（Ｉ－１）を合成した。

［〔１〕Ｎ^４－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｂ）の合成］
　市販のＮ^４－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）シチジン（１ａ）（30 g, 57 mmol）をトルエンにて２回、テトラヒドロフランにて１回共沸し、真空乾燥させた。アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（180 mL）に溶解させ、モレキュラーシーブス４Ａ（30 g）、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン（33 g, 85 mmol）を加えて撹拌し、その混合液を－６０℃に冷却した。－６０℃でトリフルオロメタンスルホン酸（7.5 mL, 85 mmol）を滴下した。５分間撹拌した後、フラスコ内温度－６０℃にて２－シアノエトキシメチルメチルチオメチルエーテル（１００４）（14 g, 85 mmol）を加え－６０℃にて３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、目的化合物（１ｂ）の粗生成物（４５ｇ，純度９３．８％）を得た。以下に、化合物（１ｂ）の機器分析値を示す。
化合物（１ｂ）：
¹H-NMR(400 MHz, CDCl₃) δ: 9.17(1H, s), 8.30(1H, d, J=7.2Hz), 7.41(1H, d, J= 7.8Hz), 5.79(1H, s), 5.18(1H, d, J= 6.8 Hz), 5.03(d, 1H, J= 7.4 Hz), 4.29(1H, d, J=13.7 Hz), 4.23-4.10(5H, m), 4.03-3.96(2H, m), 3.87-3.75(1H, m), 2.76-2.65(2H, m), 2.24(3H, s), 1.11-0.89(28H, m).

［〔２〕Ｎ^４－アセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｃ）の合成］
　Ｎ^４－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｂ）（45 g）を、アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（240 mL）に溶解させた。その溶液に、トリエチルアミン三フッ化水素（13 mL, 81 mmol）を加えて、室温で２時間撹拌した。反応溶液を０℃に冷却して、生じた沈殿をろ過した。真空乾燥後、白色沈殿の目的化合物（１ｃ）（１５ｇ，純度９７．７％，２段階収率６６％）を得た。以下に、化合物（１ｃ）の機器分析値を示す。
化合物（１ｃ）：
¹H-NMR(400 MHz, D₂O) δ: 8.24(1H, d, J= 7.3 Hz), 7.24(1H, d, J= 7.8 Hz), 5.92(1H, d, J= 2.4 Hz), 5.02(1H, d, J= 6.8 Hz), 4.89(1H, d, J= 6.8 Hz), 4.79-4.74(2H, m), 4.29(1H, dd, J= 4.9, 2.9 Hz), 4.17(1H, t, J= 6.3 Hz), 4.09-4.05(1H, m), 3.90-3.85(1H, m), 3.77-3.70(3H, m), 2.67(2H, t, J= 6.1 Hz), 2.12(3H, s).
融点:171-172℃

［〔３〕Ｎ^４－アセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｄ）の合成］
　Ｎ^４－アセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｃ）（15 g, 38 mmol）をピリジンで共沸し、真空乾燥させた。ピリジン（200 mL）に溶解させ、０℃で４，４’－ジメトキシトリチルクロライド（19 g, 57 mmol）を加えて室温にて４時間撹拌した。反応終了後、メタノールを加えて３０分間撹拌し、減圧下溶媒留去した。残渣にジクロロメタンを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル、０．０５％ピリジン含有→酢酸エチル：アセトン＝１：１、０．０５％ピリジン含有）にて精製し、目的化合物（１ｄ）（２３ｇ，純度９９．２％，収率８６％）を得た。以下に、化合物（１ｄ）の機器分析値を示す。
化合物（１ｄ）：
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ: 8.61(1H, br.s), 8.49(1H, d, J= 7.8 Hz), 7.42-7.26(9H, m), 7.09(1H, d, J= 7.3 Hz), 6.88-6.86(4H, m), 5.94(1H, s), 5.35(1H, d, J= 6.8 Hz), 5.11(1H, d, J= 6.8 Hz), 4.92(1H, d, J= 7.3 Hz), 4.87(1H, d, J= 7.3 Hz), 4.49-4.40(1H, m), 4.29(1H, d, J= 4.9 Hz), 4.15-4.08(1H, m), 3.86(t, 2H, J= 6.2 Hz), 3.82(s, 6H), 3.63(dd, 1H, J= 10.6, 2.6 Hz), 3.55(dd, 1H, J= 10.6, 2.6 Hz), 2.64(2H, t, J= 6.3 Hz), 2.56(d, 1H, J= 8.8 Hz), 2.21(3H, s).

［〔４〕Ｎ^４－アセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン３’－Ｏ－（２－シアノエチルＮ，Ｎ－ジイソプロピルホスホロアミダイト）（Ｉ－１）の合成］
　Ｎ^４－アセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｄ）（23 g, 31 mmol）をアセトニトリルで共沸し、真空乾燥させた。この操作を２回行った。アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（6.5g, 38 mmol）とアセトニトリル（80 mL）を加え、さらに２－シアノエチル－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトライソプロピルホスホロジアミダイト（12 mL, 38 mmol）を加え、４０℃で３時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、酢酸エチルを加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１回ずつ洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：アセトン＝２：１、０．１％トリエチルアミン含有）で精製し、目的化合物（Ｉ－１）（２５ｇ，純度９８．８％，収率８８％）を得た。以下に、化合物（Ｉ－１）の機器分析値を示す。
化合物（Ｉ－１）：
³¹P-NMR(162MHz, CDCl₃) δ: 151.8, 150.3. MS(ESI+): m/z 923[M+Na]⁺

実施例２：ウリジンＥＭＭアミダイト（Ｉ－２）の合成
　下記スキームに従い、ウリジンＥＭＭアミダイト（Ｉ－２）を合成した。

［〔１〕Ｎ^４－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｂ）の合成］
　市販のＮ^４－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）シチジン（１ａ）（1.0 g, 1.9 mmol）をトルエンにて２回、テトラヒドロフランにて１回共沸し、真空乾燥させた。アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（6.0 mL）に溶解させ、モレキュラーシーブス４Ａ（1.0 g）、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン（1.1 g, 2.9 mmol）を加えて撹拌し、その混合液を－６０℃に冷却した。－６０℃でトリフルオロメタンスルホン酸（0.25 mL, 2.9 mmol）を滴下した。５分間撹拌した後、フラスコ内温度－６０℃にて２－シアノエトキシメチルメチルチオメチルエーテル（１００４）（0.46 g, 2.9 mmol）を加え－６０℃にて３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、目的化合物（１ｂ）の粗生成物（１．２ｇ，純度９５．９％）を得た。

［〔２〕Ｎ^４－アセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｃ）の合成］
　Ｎ^４－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｂ）（1.2 g）を、アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（8.0 mL）に溶解させた。その溶液に、トリエチルアミン三フッ化水素（0.40 mL, 2.5 mmol）を加えて、室温で２時間撹拌した。反応溶液を０℃に冷却して、生じた沈殿をろ過した。真空乾燥後、白色沈殿の目的化合物（１ｃ）（０．４６ｇ、純度９８．７％，２段階収率６１％）を得た。

［〔３〕２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｅ）の合成］
　Ｎ^４－アセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｃ）（0.46 g, 1.2 mmol）を、エタノール（8.4 mL）に溶解させた。その溶液に、水（6.3 mL）および濃アンモニア水（2.1 mL）を加えて４℃で一晩静置した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、目的化合物（１ｅ）の粗生成物０．５３ｇを得た。

［〔４〕２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）ウリジン（２ｃ）の合成］
　２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）シチジン（１ｅ）（0.53 g, 1.5 mmol）を、水（10 mL）に溶解させた。その溶液に、亜硝酸ナトリウム（1.6 g, 22.5 mmol）および酢酸（2.5 mL）を加えて４０℃で４時間撹拌し、室温に戻して一晩撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、残渣にピリジンを加えて減圧ろ過した。母液を減圧留去し、目的化合物（２ｃ）の粗生成物０．８ｇを得た。以下に、化合物（２ｃ）の機器分析値を示す。
化合物（２ｃ）：
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) d: 10.23 (1H, br.s), 7.90 (1H, d, J = 7.8 Hz), 5.84 (1H, d, J = 2.9 Hz), 5.59 (1H, d, J = 8.3 Hz), 5.09 (1H, d, J = 7.0 Hz), 4.98 (1H, d, J = 6.7 Hz), 4.87 (2H, s), 4.25-4.22 (3H, m), 3.99 (1H, s), 3.83-3.69 (5H, m), 2.70-2.61 (2H, m).
融点：１６２－１６３℃

［〔５〕５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）ウリジン（２ｄ）の合成］
　２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）ウリジン（２ｃ）（0.8g, 2.2 mmol）をピリジンで共沸し、真空乾燥させた。ピリジン（13 mL）に溶解させ、４，４’－ジメトキシトリチルクロライド（895 mg, 2.6 mmol）を加えて室温にて２時間撹拌した。反応終了後、溶媒を半分だけ減圧下溶媒留去した。残渣にジクロロメタンを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：１、０．０５％ピリジン含有）で精製し、目的物６９０ｍｇ（純度９９．８９％，３段階収率９０％）を得た。以下に、化合物（２ｄ）の機器分析値を示す。
化合物（２ｄ）：
¹H-NMR(400 MHz,CDCl₃) δ: 8.62(1H, br.s), 7.99(1H, d, J= 7.8 Hz), 7.40-7.25(9H, m), 6.90-6.84(4H, m), 5.96(1H, d, J= 2.0 Hz), 5.28(1H, d, J= 8.3 Hz), 5.18(1H, d, J= 6.8 Hz), 5.03(1H, d, J= 7.3 Hz), 4.87(2H, d, J= 7.3 Hz), 4.48(1H, q, J= 5.4 Hz), 4.29(1H, dd, J= 5.1, 2.2 Hz), 4.11-4.07(1H, m), 3.87(2H, t, J= 6.0 Hz), 3.84(6H, s), 3.55(2H, dd, J= 9.0, 2.2 Hz), 2.76(1H, d, J= 7.8 Hz), 2.65(2H, t, J= 6.6 Hz).

［〔６〕５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）ウリジン３’－Ｏ－（２－シアノエチルＮ，Ｎ－ジイソプロピルホスホロアミダイト）（Ｉ－２）の合成］
　５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）ウリジン（２ｄ）（690 mg, 1.0 mmol）をアセトニトリルで共沸し、真空乾燥させた。この操作を２回行った。アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（205 mg, 1.2 mmol）とアセトニトリル（5 mL）を加え、さらに２－シアノエチル－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトライソプロピルホスホロジアミダイト（362 mg, 1.2 mmol）を加え、４０℃で２時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、ジクロロメタンを加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１回ずつ洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：アセトン＝１：１、０．１％トリエチルアミン含有）で精製し、目的化合物（Ｉ－２）（８０４ｍｇ，純度９８．４％，収率８９％）を得た。以下に、化合物（Ｉ－２）の機器分析値を示す。
化合物（Ｉ－２）：
³¹P-NMR(162 MHz, CDCl₃) δ: 153.5, 151.9.

実施例３：グアノシンＥＭＭアミダイト（Ｉ－３）の合成
　下記スキームに従い、グアノシンＥＭＭアミダイト（Ｉ－３）を合成した。

［〔１〕Ｎ^２－フェノキシアセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）グアノシン（３ｂ）の合成］
　市販のＮ^２－フェノキシアセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）グアノシン（３ａ）（1.0 g, 1.5 mmol）をテトラヒドロフランに溶解させ、トルエンを加えて２回共沸、テトラヒドロフランにて１回共沸し、真空乾燥させた。アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（6 mL）に溶解させ、モレキュラーシーブス４Ａ（1.0 g）を加え、室温にて１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン（0.87 g, 2.3 mmol）を加えて撹拌した。その混合液を－６０℃に冷却し、５分間撹拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸（0.2 mL, 2.3 mmol）を滴下した。５分間撹拌した後、フラスコ内温度－６０℃にて２－シアノエトキシメチルメチルチオメチルエーテル（１００４）（0.37 g, 2.3 mmol）を加えて－６０℃で３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、目的化合物（３ｂ）の粗生成物（１．３ｇ，純度８８．９％）を得た。以下に、化合物（３ｂ）の機器分析値を示す。
化合物（３ｂ）：
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ: 11.79(1H, s), 9.11(1H, s), 8.04(1H, s), 7.41-7.34(2H, m), 7.13-6.97(3H, m), 5.94(1H, s), 5.08, 4.97(2H, 2d, J= 7.2 Hz), 4.87-4.67(2H, m), 4.51-4.46(1H, dd, J= 9.3, 4.9 Hz), 4.33-4.24(2H, m), 4.15(1H, d, J= 9.3 Hz), 4.02(1H, dd, J= 13.2, 2.4 Hz), 3.77-3.71(2H, m), 2.76-2.53(2H, m), 1.11-0.94(28H, m).

［〔２〕Ｎ^２－フェノキシアセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）グアノシン（３ｃ）の合成］
　Ｎ^２－フェノキシアセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）グアノシン（３ｂ）（1.3 g, 1.7 mmol）をアルゴン雰囲気下テトラヒドロフラン（5 mL）に溶解させた。その溶液に、トリエチルアミン三フッ化水素（0.33 mL, 2.0 mmol）を加えて３５℃にて２時間撹拌した。反応混合物を０℃の氷浴に浸し、水（4 mL）を加え１０分間撹拌した後、イソプロピルエーテル（30 mL）を加え３０分間撹拌した。白色沈澱を減圧ろ過し、真空乾燥させることで、目的化合物（３ｃ）（０．６３ｇ，純度８９．７６％）を得た。以下に、化合物（３ｃ）の機器分析値を示す。
化合物（３ｃ）：
¹H-NMR (400 MHz, DMSO-d₆) δ: 11.78(2H, br.s), 8.32(1H, s), 7.41-7.31(2H, m), 7.07-6.98(3H, m), 6.00(1H, d, J= 5.8 Hz), 5.37(1H, s), 5.18(1H, s), 4.88(2H, s), 4.85-4.78(2H, m), 4.72-4.59(3H, m), 4.34(1H, m), 4.00(1H, m), 3.75-3.56(3H, m), 2.79-2.69(2H, m).

［〔３〕Ｎ^２－フェノキシアセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）グアノシン（３ｄ）の合成］
　Ｎ^２－フェノキシアセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）グアノシン（３ｃ）（630 mg, 1.2 mmol）をピリジンで共沸し、真空乾燥させた。ピリジン（6.0 mL）に溶解させ、０℃で４，４’－ジメトキシトリチルクロライド（600 mg, 1.8 mmol）を加えて室温にて２時間撹拌した。反応終了後、メタノールを加えて１０分間撹拌し、減圧下溶媒留去した。残渣にジクロロメタンを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：酢酸エチル＝１：１、０．０５％ピリジン含有）で精製し、目的化合物（３ｄ）（８００ｍｇ，純度９９．０％，収率８０％）を得た。以下に、化合物（３ｄ）の機器分析値を示す。
化合物（３ｄ）：
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ: 11.82(1H, s), 8.63(1H, s), 7.84(1H, s), 7.43-7.21(9H, m), 6.86-6.82(4H, m), 6.06(1H, d, J= 5.9 Hz), 4.95(1H, t, J=5.7Hz), 4.78(2H, m), 4.67-4.63(2H, m), 4.50-4.45(1H, m), 4.30-4.26(1H, m), 3.81(6H, s), 3.79-3.67(2H, m), 3.44(2H, dd, J= 10.6, 3.7 Hz), 2.91(1H, s), 2.64-2.56(2H, m), 1.66(3H, s).

［〔４〕Ｎ^２－フェノキシアセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）グアノシン３’－Ｏ－（２－シアノエチルＮ，Ｎ－ジイソプロピルホスホロアミダイト）（Ｉ－３）の合成］
　Ｎ^２－フェノキシアセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）グアノシン（３ｄ）（800 mg, 0.96 mmol）をアセトニトリルで共沸し、真空乾燥させた。この操作を２回行った。そうして得られた混合物に、アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（180 mg, 1.1 mmol）とアセトニトリル（3 mL）を加え、さらに２－シアノエチル－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトライソプロピルホスホロジアミダイト（0.61 mL, 1.9 mmol）を加え、室温にて１８時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、酢酸エチルを加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１回ずつ洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１０、０．１％トリエチルアミン含有）で精製し、目的化合物（Ｉ－３）（８０３ｍｇ，純度９８．３％，収率８１％）を得た。以下に、化合物（Ｉ－３）の機器分析値を示す。
化合物（Ｉ－３）：
³¹P-NMR (162 MHz, CDCl₃) δ: 152.7, 152.6.

実施例４：アデノシンＥＭＭアミダイト（Ｉ－４）の合成
　下記スキームに従い、アデノシンＥＭＭアミダイト（Ｉ－４）を合成した。

［〔１〕Ｎ^６－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）アデノシン（４ｂ）の合成］
　市販のＮ^６－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）アデノシン（４ａ）（1.0 g, 1.8 mmol）をトルエンにて２回、テトラヒドロフランにて１回共沸し、真空乾燥させた。アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（1.8 mL）に溶解させ、モレキュラーシーブス４Ａ（1.0 g）を加えて、－３０℃で１０分間撹拌した。－３０℃にてメタンスルホン酸（0.26 g, 2.7 mmol）を加えて１０分間撹拌した後、２－シアノエトキシメチルメチルチオメチルエーテル（１００４）（580 mg, 3.6 mmol）を加えて１０分間撹拌したのち、ヨウ素（2.76 g, 10.9 mmol）を加えて、－３０℃にて３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、目的化合物（４ｂ）の粗生成物（１．３２ｇ，純度８３．８％）を得た。以下に、化合物（４ｂ）の機器分析値を示す。
化合物（４ｂ）：
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ: 8.68(1H, s), 8.66(1H, s), 8.33(1H, s), 6.12(1H, s), 5.08(1H, d, J= 7.0 Hz), 4.91-4.80(3H, m), 4.67(1H, d, J= 7.8 Hz), 4.52(1H, d, J= 4.3 Hz), 4.25(1H, d, J= 13.0 Hz), 4.17(1H, d, J= 9.4 Hz), 4.09-4.02(2H, m), 3.89-3.80(1H, m), 2.67(2H, m), 2.63(3H, s), 1.11-0.98(28H, m).

［〔２〕Ｎ^６－アセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）アデノシン（４ｃ）の合成］
　Ｎ^６－アセチル－３’，５’－Ｏ－（テトライソプロピルジシロキサン－１，３－ジイル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）アデノシン（４ｂ）（1.32 g, 2.0 mmol）をアルゴン雰囲気下テトラヒドロフラン（6.0 mL）に溶解させた。その溶液に、トリエチルアミン三フッ化水素（0.39 mL, 2.4 mmol）を加えて室温にて２時間撹拌した。ジイソプロピルエーテルを加えトリチュレーションし、デカンテーションにより溶媒を除去した。この操作を３回行った。得られた黄色固体～シロップ状物質を真空乾燥し、目的化合物（４ｃ）（1.07 g）を得た。以下に、化合物（４ｃ）の機器分析値を示す。
化合物（４ｃ）：
¹H-NMR (400 MHz, DMSO-d₆) δ: 10.71(1H, s), 8.71(1H, s), 8.66(1H, s), 6.17(1H, d, J= 5.8 Hz), 5.41(1H, d, J= 5.4 Hz), 5.20(2H, m), 4.80-4.73(3H, m), 4.65-4.60(2H, m), 4.37-4.33(1H, m), 4.00-4.01(1H, m), 3.73-3.64(1H, m), 3.61-3.51(2H, m), 2.79-2.64(2H, m), 2.22(3H, s).

［〔３〕Ｎ^６－アセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）アデノシン（４ｄ）の合成］
　Ｎ^６－アセチル－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）アデノシン（４ｃ）（1.07 g, 2.5 mmol）をピリジンで共沸し、真空乾燥させた。ピリジン（10 mL）に溶解させ、０℃で４，４’－ジメトキシトリチルクロライド（1.2 g, 3.5 mmol）を加え、室温にて３時間撹拌した。反応終了後、メタノールを加えて１０分間撹拌し、減圧下溶媒留去した。残渣に酢酸エチルを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル、０．０５％ピリジン含有）で精製し、目的化合物（４ｄ）（６７０ｍｇ，純度９９．６％）を得た。以下に、化合物（４ｄ）の機器分析値を示す。
化合物（４ｄ）：
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃) δ: 8.62-8.58(2H, m), 8.17(1H, s), 7.46-7.39(2H, m), 7.37-7.20(7H, m), 6.87-6.79(4H, m), 6.20(1H, d, J= 4.9 Hz), 5.03-4.75(3H, m), 4.52(1H, s), 4.30-4.23(1H, m), 4.12(2H, d, J= 7.3 Hz), 3.79(6H, s), 3.79-3.69(2H, m), 3.52-3.44(2H, m), 2.61(3H, s), 2.58(1H, d, J= 5.5 Hz), 2.51(2H, t, J= 5.9 Hz).

［〔４〕Ｎ^６－アセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）アデノシン３’－Ｏ－（２－シアノエチルＮ，Ｎ－ジイソプロピルホスホロアミダイト）（Ｉ－４）の合成］
　Ｎ^６－アセチル－５’－Ｏ－（４，４’－ジメトキシトリチル）－２’－Ｏ－（２－シアノエトキシメトキシメチル）アデノシン（４ｄ）（670 mg, 0.9 mmol）をアセトニトリルで共沸し、真空乾燥させた。この操作を２回行った。アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（170 mg, 1.0 mmol）とアセトニトリル（5.5 mL）を加え、さらに２－シアノエチル－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトライソプロピルホスホロジアミダイト（0.32mL, 1.0 mmol）を加え、４０℃で３時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、酢酸エチルを加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１回ずつ洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：アセトン＝１０：１、０．１％トリエチルアミン含有）で精製し、目的化合物（Ｉ－４）（７００ｍｇ，純度９８．３％，収率８２％）を得た。以下に、化合物（Ｉ－４）の機器分析値を示す。
化合物（Ｉ－４）：
³¹P-NMR (162 MHz, CDCl₃) δ: 152.7, 152.6.

　本発明によれば、核酸合成の原料となるホスホロアミダイトを効率よく、且つ高純度で製造することができる。それに伴い、核酸を高純度且つ高収率で製造することが可能になる。

　本出願は、日本で出願された特願２０１５－０７６１７０（出願日：２０１５年４月２日）及び特願２０１５－１２２００９（出願日：２０１５年６月１７日）を基礎としており、その内容は本明細書に全て包含されるものである。

Claims

　一般式（１０３）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す）
で表されるチオエーテル化合物と、一般式（１０５）：

（式中、Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留して一般式（１０４）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；および
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、
一般式（Ｉａ）：

［式中、Ｂは核酸塩基骨格を有する原子団を示し；
Ｘは下記式：

（式中、ｎは０又は１を示し；Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示す）で表される基を示す］
で表される配糖体化合物と一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）を含む、一般式（Ｉ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは同一又は異なって水素原子若しくは置換基を示し；Ｒ^２ｃは水素原子、電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基を示し；ここでＲ^２ａおよびＲ^２ｂはそれらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成してもよく；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）で表される配糖体化合物又はその塩の製造方法。
　さらに一般式（Ｉｂ）で表される化合物を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は請求項１に記載の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）を含む、請求項１記載の製造方法。
　さらに一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物に水酸基の保護基を導入して一般式（Ｉｄ）：

（式中、各記号の定義は請求項１に記載の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程３）を含む、請求項２記載の製造方法。
　さらに一般式（Ｉｄ）で表される配糖体化合物をリン酸化して一般式（Ｉ）で表される配糖体化合物を得る工程（工程４）を含む、請求項３記載の製造方法。
　一般式（１０３）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す）
で表されるチオエーテル化合物と、一般式（１０５）：

（式中、Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留して一般式（１０４）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；および
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、
一般式（Ｉａ）：

［式中、Ｂは核酸塩基骨格を有する原子団を示し；
Ｘは下記式：

（式中、ｎは０又は１を示し；Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示す）で表される基を示す］
で表される配糖体化合物と一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）を含む、一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物の製造方法。
　一般式（１０３）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す）
で表されるチオエーテル化合物と、一般式（１０５）：

（式中、Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留して一般式（１０４）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、
一般式（Ｉａ）：

［式中、Ｂは核酸塩基骨格を有する原子団を示し；
Ｘは下記式：

（式中、ｎは０又は１を示し；Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示す）で表される基を示す］
で表される配糖体化合物と一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）；および
一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）を含む、一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物の製造方法。
　一般式（１０３）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す）
で表されるチオエーテル化合物と、一般式（１０５）：

（式中、Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留して一般式（１０４）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、
一般式（Ｉａ）：

［式中、Ｂは核酸塩基骨格を有する原子団を示し；
Ｘは下記式：

（式中、ｎは０又は１を示し；Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示す）で表される基を示す］
で表される配糖体化合物と一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）；
一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）；および
一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物に水酸基の保護基を導入して一般式（Ｉｄ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程３）を含む、一般式（Ｉｄ）で表される配糖体化合物の製造方法。
　一般式（１０３）：

（式中、ｍは正の整数であり；Ｒ及びＲ’は同一又は異なってアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す）
で表されるチオエーテル化合物と、一般式（１０５）：

（式中、Ｌ^１はアルキレン基を示し；Ｄ^１は電子求引基を示す）
で表されるアルコール化合物とを、ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下でカップリング反応させ、次いで硫黄含有抗酸化剤及びマレイミド基含有化合物から選択される少なくとも１種の添加剤の存在下に蒸留して一般式（１０４）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表されるチオエーテル化合物を得る工程（工程０）；
　ハロゲン化剤、乾燥剤及びルイス酸の存在下、
一般式（Ｉａ）：

［式中、Ｂは核酸塩基骨格を有する原子団を示し；
Ｘは下記式：

（式中、ｎは０又は１を示し；Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄは同一又は異なって水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示す）で表される基を示す］
で表される配糖体化合物と一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物をカップリング反応させて一般式（Ｉｂ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程１）；
一般式（Ｉｂ）で表される配糖体化合物を脱保護して一般式（Ｉｃ）：

（式中、各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程２）；
一般式（Ｉｃ）で表される配糖体化合物に水酸基の保護基を導入して一般式（Ｉｄ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）
で表される配糖体化合物を得る工程（工程３）；および
一般式（Ｉｄ）で表される配糖体化合物をリン酸化して一般式（Ｉ）：

（式中、Ｒ^１は水酸基の保護基を示し；Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは同一又は異なって水素原子若しくは置換基を示し；Ｒ^２ｃは水素原子、電子求引基又は電子求引基で置換されていてもよい置換基を示し；ここでＲ^２ａおよびＲ^２ｂはそれらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成してもよく；それ以外の各記号の定義は上述の通りである）で表される配糖体化合物を得る工程（工程４）を含む、一般式（Ｉ）で表される配糖体化合物の製造方法。
　工程０の蒸留における該添加剤が、４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタンである、請求項１～８のいずれか１項に記載の方法。
　ｎが１である、請求項１～９のいずれか１項に記載の方法。
　Ｒ^１ａ～Ｒ^１ｄがイソプロピル基である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の方法。
　ｍが１である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の方法。
　Ｌ^１がエチレン基である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
　Ｄ^１がシアノ基である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の方法。
　工程１において、ハロゲン化剤、乾燥剤およびルイス酸の添加後に一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物を添加することを特徴とする、請求項１～１４のいずれか１項に記載の方法。
　工程１において、乾燥剤、ルイス酸および一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物の添加後にハロゲン化剤を添加することを特徴とする、請求項１～１４のいずれか１項に記載の方法。
　工程１において、ハロゲン化剤の添加後にルイス酸を添加することを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
　工程１において、ルイス酸の添加後に一般式（１０４）で表されるチオエーテル化合物を添加することを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
　工程１におけるハロゲン化剤がヨウ素化剤である、請求項１～１８のいずれか１項に記載の方法。
　ヨウ素化剤が１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン又はヨウ素である、請求項１９に記載の方法。
　乾燥剤がモレキュラーシーブである、請求項１～２０のいずれか１項に記載の方法。
　工程１におけるルイス酸がトリフルオロメタンスルホン酸である、請求項１～２１のいずれか１項に記載の方法。
　工程１におけるルイス酸がメタンスルホン酸である、請求項１～２１のいずれか１項に記載の方法。