WO2016145685A1 - 一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板 - Google Patents

一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to the field of display technologies, and in particular, to a method for fabricating a color filter substrate, a color filter substrate, and a liquid crystal display panel.
  • the principle of the RGBW liquid crystal display technology is to use a white (W) Subpixels are added to traditional RGB consisting of three colors: red (R), green (G), and blue (B).
  • the corresponding sub-pixel imaging technique is then applied to better arrange the sub-pixels in a manner that humans see the image. This ensures that images that are not visible to the human eye are generated without loss of display power and brightness.
  • the RGBW sub-pixel imaging technique individually addresses each sub-pixel and adds a white sub-pixel to the permutation mode to form an RGBW pixel design that is more traditional than RGB
  • the pixel-designed display should be brighter and have a higher resolution.
  • Transmittance and brightness are increased because more backlights can be illuminated by larger and semi-transparent W sub-pixels instead of being obscured by the tight arrangement of smaller red, green, and blue sub-pixels used by RGB stripes. .
  • white sub-pixels an increase in white luminance is achieved without an increase in power consumption. Therefore, the advantages of RGBW technology are to improve the utilization of backlight brightness, save power, reduce cost, and achieve higher brightness levels without reducing resolution or increasing power consumption. Therefore, RGBW LCD screens will become more and more widely used.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a color film substrate provided by the prior art.
  • the OC covers the W sub-pixel portion and a recessed area appears.
  • the surface of the recessed area is not flat, so that after the rubbing treatment of the alignment layer, the orientation layer may have a non-uniformity of rubbing orientation, which may cause light leakage problems; and the surface of the alignment layer is not flat and may contact the orientation layer.
  • the liquid crystal molecules have poor fluidity, which in turn causes problems such as chromatic aberration of compression.
  • An object of the present invention is to provide a method for fabricating a color filter substrate, a color filter substrate, and a liquid crystal display panel, which can avoid the occurrence of dishing in the W sub-pixel region, thereby effectively avoiding light leakage caused by RGBW pixels, and effectively improving the problem of chromatic aberration of pressing.
  • a method for fabricating a color filter substrate comprising:
  • the substrate comprising a color film region, a W sub-pixel region, and a black matrix region;
  • an RGB color resist layer to the color film region on the substrate to form an RGB color film, wherein a thickness of the RGB color film, a thickness of the black matrix layer of the black matrix region, and a The thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region is the same
  • a transparent metal layer is deposited on the second OC layer to form a transparent electrode.
  • the step of coating the second OC layer on the substrate comprises:
  • one pixel of the color filter substrate corresponds to one R color film, one G color film, one B color film, and one W sub-pixel.
  • a method for fabricating a color filter substrate comprises:
  • the substrate comprising a color film region, a W sub-pixel region, and a black matrix region;
  • RGB color resist layer Applying an RGB color resist layer to the color film region on the substrate to form an RGB color film, wherein a thickness of the RGB color film is the same as a thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region ;
  • a transparent metal layer is deposited on the second OC layer to form a transparent electrode.
  • the thickness of the RGB color film, the thickness of the black matrix layer of the black matrix region, and the first OC layer of the W sub-pixel region is the same.
  • the first OC layer is patterned to retain the first OC layer of the W sub-pixel region, and the first OC layer of other regions
  • the steps of removing are specifically included:
  • the step of coating the second OC layer on the substrate comprises:
  • one pixel of the color filter substrate corresponds to one R color film, one G color film, one B color film, and one W sub-pixel.
  • a color film substrate comprising:
  • a substrate comprising a color film region, a W sub-pixel region, and a black matrix region
  • a first OC layer disposed on the W sub-pixel region on the substrate
  • a second OC layer disposed on the RGB color resist layer of the color film region, the black matrix layer of the black matrix region, and the first OC layer of the W sub-pixel region ;
  • the thickness of the RGB color film is the same as the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region.
  • a thickness of the RGB color film, a thickness of the black matrix layer of the black matrix region, and a thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region are both the same.
  • one pixel of the color filter substrate corresponds to one R color film, one G color film, one B color film, and one W sub-pixel.
  • a liquid crystal display panel comprising: an array substrate, a color filter substrate, and a liquid crystal layer disposed between the array substrate and the color filter substrate;
  • the color film substrate comprises:
  • a substrate comprising a color film region, a W sub-pixel region, and a black matrix region
  • a first OC layer disposed on the W sub-pixel region on the substrate
  • a second OC layer disposed on the RGB color resist layer of the color film region, the black matrix layer of the black matrix region, and the first OC layer of the W sub-pixel region ;
  • the thickness of the RGB color film is the same as the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region.
  • a thickness of the RGB color film, a thickness of the black matrix layer of the black matrix region, and a thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region are both the same.
  • the present invention firstly fabricates a first OC layer in a W sub-pixel region, and ensures that the R, G, and B color resist layers are consistent with the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region, so that the final coating is performed at the end. After the second OC layer is overlaid, the second OC layer coverage is flat. Therefore, the embodiment of the present invention can avoid the occurrence of dishing in the W sub-pixel region, thereby effectively avoiding light leakage occurring in the RGBW pixel, and effectively improving the problem of pressing chromatic aberration.
  • FIG. 1 is a schematic structural view of a color filter substrate provided by the prior art
  • FIG. 2 is a schematic flowchart of an implementation process of a method for fabricating a color filter substrate according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 3 is an exploded perspective view showing a structure of a color filter substrate obtained in a process of fabricating a color filter substrate according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is a schematic structural diagram of a color filter substrate according to an embodiment of the present invention.
  • the first OC layer is first formed in the W sub-pixel region, and the thickness of the first OC layer of the R, G, and B color resist layers is ensured to be the same as the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region.
  • the second OC layer is overlaid, the second OC layer coverage is flat. Therefore, the embodiment of the present invention can avoid the occurrence of dishing in the W sub-pixel region, thereby effectively avoiding light leakage occurring in the RGBW pixel, and effectively improving the problem of pressing chromatic aberration.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of an implementation process of a method for fabricating a color filter substrate according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 3 is a color film obtained in the process of fabricating a color filter substrate according to an embodiment of the present invention
  • Schematic diagram of the decomposition of the substrate structure For the convenience of description, only parts related to the embodiment of the present invention are shown.
  • the method for fabricating the color film substrate mainly includes the following steps:
  • step S101 a substrate is provided, the substrate including a color film area, a W sub-pixel area, and a black matrix area;
  • the substrate provided may be a glass substrate, the substrate includes a color film region for forming an RGB color film, a W sub-pixel region for forming a white sub-pixel, and a black matrix for forming Black matrix area.
  • step S102 coating a first OC layer on the substrate
  • a first OC layer is applied over the entire surface of the substrate.
  • step S103 the first OC layer is patterned, and the first OC layer of the W sub-pixel region is reserved, and the first OC layers of other regions are removed;
  • the first OC layer is subjected to a process operation such as exposure, development, and etching, and the first OC layer of the W sub-pixel region is retained, and the first OC layer of other regions is retained. All removed.
  • step S104 depositing a black matrix layer on the substrate
  • the thickness of the deposited black matrix layer is the same as the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region.
  • step S105 the black matrix layer is patterned to retain the black matrix layer of the black matrix region, and the black matrix layers of other regions are removed;
  • the black matrix layer is subjected to a process operation such as exposure, development, and etching, and the black matrix layer of the black matrix region is retained, and the black matrix layers of other regions are removed.
  • step S106 an RGB color resist layer is coated on the color film region on the substrate to form an RGB color film, wherein a thickness of the RGB color film and the first of the W sub-pixel regions The thickness of the OC layer is the same;
  • a second OC layer is integrally coated on the substrate, specifically, on the RGB color resist layer of the color film region, on the black matrix layer of the black matrix region. And coating the second OC layer on the first OC layer of the W sub-pixel region.
  • one pixel of the color film substrate corresponds to one R color film, one G color film, one B color film, and one W sub-pixel.
  • step S108 a transparent metal layer is deposited on the second OC layer to form a transparent electrode.
  • the transparent metal layer may be composed of ITO.
  • the first OC layer is first formed in the W sub-pixel region, and the thickness of the first OC layer of the R, G, and B color resist layers is ensured to be the same as that of the W sub-pixel region.
  • the second OC layer is overlaid, the second OC layer coverage is flat. Therefore, the embodiment of the present invention can avoid the occurrence of dishing in the W sub-pixel region, thereby effectively avoiding light leakage occurring in the RGBW pixel, and effectively improving the problem of pressing chromatic aberration.
  • FIG. 4 is a schematic structural diagram of a color filter substrate according to an embodiment of the present invention. For the convenience of description, only parts related to the embodiment of the present invention are shown.
  • the color filter substrate includes a substrate 100, a first OC layer 200, a black matrix layer 300, an RGB color resist layer 400, a second OC layer 500, and a transparent metal layer 600.
  • the substrate 100 includes a color film region, a W sub-pixel region, and a black matrix region; the first OC layer 200 is disposed on the W sub-pixel region on the substrate 100; and the black matrix layer 300 is disposed.
  • the thickness of the RGB color film is the same as the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region.
  • the thickness of the RGB color film, the thickness of the black matrix layer of the black matrix region, and the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region are the same.
  • the area covered by the second OC layer 500 is flat, so that after the rubbing treatment on the alignment layer, the orientation layer is not unevenly rubbed, and thus the light leakage problem is not caused; and, the alignment layer is The flat surface makes the liquid crystal molecules in contact with the alignment layer have better fluidity, and there is no problem such as chromatic aberration of pressing.
  • one pixel of the color filter substrate corresponds to one R color film, one G color film, one B color film, and one W sub-pixel.
  • an embodiment of the present invention further provides a liquid crystal display panel.
  • the liquid crystal display panel includes an array substrate, a color filter substrate, and a liquid crystal layer disposed between the array substrate and the color filter substrate.
  • the color filter substrate includes a substrate 100, a first OC layer 200, a black matrix layer 300, an RGB color resist layer 400, a second OC layer 500, and a transparent metal layer 600.
  • the substrate 100 includes a color film region, a W sub-pixel region, and a black matrix region; the first OC layer 200 is disposed on the W sub-pixel region on the substrate 100; and the black matrix layer 300 is disposed.
  • the thickness of the RGB color film, the thickness of the black matrix layer of the black matrix region, and the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region are the same.
  • the area covered by the second OC layer 500 is flat, so that after the rubbing treatment on the alignment layer, the orientation layer is not unevenly rubbed, and thus the light leakage problem is not caused; and, the alignment layer is The flat surface makes the liquid crystal molecules in contact with the alignment layer have better fluidity, and there is no problem such as chromatic aberration of pressing.
  • one pixel of the color filter substrate corresponds to one R color film, one G color film, one B color film, and one W sub-pixel.
  • the method for fabricating a color filter substrate, the color filter substrate, and the liquid crystal display panel provided by the embodiments of the present invention firstly fabricate a first OC layer in the W sub-pixel region, and ensure the R, G, and B color resist layers.
  • the thickness of the first OC layer of the W sub-pixel region is identical, such that after the final application of the second OC layer, the second OC layer coverage is flat. Therefore, the embodiment of the present invention can avoid the occurrence of dishing in the W sub-pixel region, thereby effectively avoiding light leakage occurring in the RGBW pixel, and effectively improving the problem of pressing chromatic aberration.

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Abstract

一种彩膜基板的制作方法：对第一OC层（200）图形化处理，保留W子像素区域的第一OC层（200）；对黑色矩阵层（300）图形化处理，保留黑色矩阵区域的黑色矩阵层（300）；在基板（100）上的彩膜区域形成RGB彩膜，RGB彩膜的厚度与W子像素区域的第一OC层（200）的厚度相同；在基板（100）上涂覆第二OC层（500）；在第二OC层（500）上沉积透明金属层（600）。上述制作方法能避免W子像素区域出现凹陷。

Description

一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板 技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板。
 背景技术
在现有技术中，RGBW液晶屏技术的原理是将一种白色 (W) 子像素填加到由红(R)、绿(G)、蓝(B)三色组成的传统RGB 像素中，然后再应用相应的子像素成像技术，以人类看见图像的方式对这些子像素进行更好的排列。这样便能够确保生成那些不能被人眼所看见的图像时，不会损耗显示屏功率及亮度源。RGBW子像素成像技术为每一个子像素单独编址，并且把一种白色子像素添加到排列模式中，形成一种RGBW像素设计，该设计比传统 RGB 像素设计的显示屏要更加明亮、且分辨率要更高一些。因为更多的背光能通过更大及半透的W子像素发光，而不是被RGB条纹采用的更小的红、绿、蓝子像素构成的紧密排列所遮挡，透射率及亮度均得到了增加。利用白色子象素，在功耗没有增加的情况下实现了白色亮度的增加。因而RGBW技术的优势是提升背光源亮度的利用率，节省功耗，降低成本，并且在不降低分辨率或增加功耗使用的情况下，获得更高亮度水平。因此，RGBW液晶屏会越来越广泛使用。
请参阅图1，是现有技术提供的彩膜基板的结构示意图，从图中可知，由于R、G、B子像素会使用相同厚度的色阻，而W子像素没有色阻，所以在整体涂覆一层OC后，OC覆盖在W子像素部分便会出现凹陷区域。凹陷区域表面不平坦，这样在对取向层进行摩擦处理后，会使取向层存在摩擦取向不均匀的现象，进而会导致漏光问题；并且，取向层的表面不平坦还会使与取向层相接触的液晶分子的流动性较差，进而会产生按压色差等问题。
故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。
 技术问题
本发明的目的在于提供一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板，其能避免W子像素区域出现凹陷，从而有效避免RGBW像素出现的漏光，有效改善按压色差的问题。
 技术解决方案
一种彩膜基板的制作方法，其中所述彩膜基板的制作方法包括：
提供一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
在所述基板上涂覆一第一OC层；
对所述第一OC层进行曝光、显影、以及刻蚀，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除；
在所述基板上沉积一黑色矩阵层；
对所述黑色矩阵层进行图形化处理，保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层，其他区域的所述黑色矩阵层均去除；
在所述基板上的所述彩膜区域涂布RGB色阻层，以形成RGB彩膜，其中，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同
在所述基板上涂覆第二OC层；以及
在所述第二OC层上沉积透明金属层，以形成透明电极。
优选的，在所述彩膜基板的制作方法中，其中在所述基板上涂覆第二OC层的步骤，具体包括：
在所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上均涂覆所述第二OC层。
优选的，在所述彩膜基板的制作方法中，其中所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板的制作方法包括：
提供一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
在所述基板上涂覆一第一OC层；
对所述第一OC层进行图形化处理，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除；
在所述基板上沉积一黑色矩阵层；
对所述黑色矩阵层进行图形化处理，保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层，其他区域的所述黑色矩阵层均去除；
在所述基板上的所述彩膜区域涂布RGB色阻层，以形成RGB彩膜，其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同；
在所述基板上涂覆第二OC层；以及
在所述第二OC层上沉积透明金属层，以形成透明电极。
优选的，在所述彩膜基板的制作方法中，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。
优选的，在所述彩膜基板的制作方法中，对所述第一OC层进行图形化处理，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除的步骤，具体包括：
对所述第一OC层进行曝光、显影、以及刻蚀，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除。
优选的，在所述彩膜基板的制作方法中，在所述基板上涂覆第二OC层的步骤，具体包括：
在所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上均涂覆所述第二OC层。
优选的，在所述彩膜基板的制作方法中，所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：
一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
一第一OC层，设置于所述基板上的所述W子像素区域；
一黑色矩阵层，设置于所述基板上的所述黑色矩阵区域；
一RGB色阻层，设置于所述基板上的所述彩膜区域；
一第二OC层，设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上；
一透明金属层，设置于所述第二OC层上；
其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。
优选的，在所述彩膜基板中，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。
优选的，在所述彩膜基板中，所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
一种液晶显示面板，所述液晶显示面板包括：阵列基板、彩膜基板、以及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层；
其中，所述彩膜基板包括：
一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
一第一OC层，设置于所述基板上的所述W子像素区域；
一黑色矩阵层，设置于所述基板上的所述黑色矩阵区域；
一RGB色阻层，设置于所述基板上的所述彩膜区域；
一第二OC层，设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上；
一透明金属层，设置于所述第二OC层上；
其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。
优选的，在所述液晶显示面板中，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。
 有益效果
相对现有技术，本发明通过在W子像素区域先制作第一OC层，并且，保证R、G、B色阻层与W子像素区域的第一OC层的厚度一致，这样在最后整体涂覆第二OC层后，第二OC层覆盖是平坦的。因此，本发明实施例能避免W子像素区域出现凹陷，从而有效避免RGBW像素出现的漏光，有效改善按压色差的问题。
 附图说明
图1为现有技术提供的彩膜基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法的实现流程示意图；
图3为本发明实施例提供的在制作彩膜基板过程中得到的彩膜基板结构的分解示意图；
图4为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图。
 本发明的最佳实施方式
本说明书所使用的词语“实施例”意指用作实例、示例或例证。此外，本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为意指“一个或多个”，除非另外指定或从上下文清楚导向单数形式。
在本发明实施例中，通过在W子像素区域先制作第一OC层，并且，保证R、G、B色阻层与W子像素区域的第一OC层的厚度一致，这样在最后整体涂覆第二OC层后，第二OC层覆盖是平坦的。因此，本发明实施例能避免W子像素区域出现凹陷，从而有效避免RGBW像素出现的漏光，有效改善按压色差的问题。
为了说明本发明所述的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。
请一并参阅图2及图3，图2为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法的实现流程示意图；图3为本发明实施例提供的在制作彩膜基板过程中得到的彩膜基板结构的分解示意图。为了便于说明，仅示出了与本发明实施例相关的部分。
在本发明实施例中，所述彩膜基板的制作方法主要包括以下步骤：
在步骤S101中，提供一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
在本发明实施例中，提供的所述基板可为玻璃基板，所述基板包括用于形成RGB彩膜的彩膜区域、用于形成白色子像素的W子像素区域、以及用于形成黑色矩阵的黑色矩阵区域。
在步骤S102中，在所述基板上涂覆一第一OC层；
在本发明实施例中，在所述基板的整个表面上均涂覆一层第一OC层。
在步骤S103中，对所述第一OC层进行图形化处理，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除；
在本发明实施例中，对所述第一OC层进行曝光、显影、以及刻蚀等工艺操作，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除。
在步骤S104中，在所述基板上沉积一黑色矩阵层；
在本发明实施例中，沉积的所述黑色矩阵层的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。
在步骤S105中，对所述黑色矩阵层进行图形化处理，保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层，其他区域的所述黑色矩阵层均去除；
在本发明实施例中，对所述黑色矩阵层进行曝光、显影、以及刻蚀等工艺操作，保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层，其他区域的所述黑色矩阵层均去除。
在步骤S106中，在所述基板上的所述彩膜区域涂布RGB色阻层，以形成RGB彩膜，其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同；
在步骤S107中，在所述基板上涂覆第二OC层；以及
在本发明实施例中，在所述基板上整体涂覆第二OC层，具体的，在所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上均涂覆所述第二OC层。
其中，所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
在步骤S108中，在所述第二OC层上沉积透明金属层，以形成透明电极。
在本发明实施例中，所述透明金属层可由ITO构成。
由上可知，本实施例通过在W子像素区域先制作第一OC层，并且，保证R、G、B色阻层与W子像素区域的第一OC层的厚度一致，这样在最后整体涂覆第二OC层后，第二OC层覆盖是平坦的。因此，本发明实施例能避免W子像素区域出现凹陷，从而有效避免RGBW像素出现的漏光，有效改善按压色差的问题。
请参阅图4，为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图。为了便于说明，仅示出了与本发明实施例相关的部分。
所述彩膜基板包括：一基板100、一第一OC层200、一黑色矩阵层300、一RGB色阻层400、一第二OC层500、以及一透明金属层600。其中，所述基板100包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；所述第一OC层200设置于所述基板100上的所述W子像素区域；所述黑色矩阵层300设置于所述基板100上的所述黑色矩阵区域；所述RGB色阻层400设置于所述基板100上的所述彩膜区域；所述第二OC层500设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层400上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层300上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层200上；所述透明金属层600设置于所述第二OC层500上。
在本发明实施例中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。
作为本发明一优选实施例，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。这样使得第二OC层500覆盖的区域是平坦的，这样在对取向层进行摩擦处理后，不会使取向层存在摩擦取向不均匀的现象，进而也不会导致漏光问题；并且，取向层的表面平坦会使与取向层相接触的液晶分子的流动性较好，进而不会产生按压色差等问题。
作为本发明另一优选实施例，所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
请参阅图4，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板。为了便于说明，仅示出了与本发明实施例相关的部分。所述液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板、以及设置于所述阵列基板与彩膜基板之间的液晶层。
所述彩膜基板包括：一基板100、一第一OC层200、一黑色矩阵层300、一RGB色阻层400、一第二OC层500、以及一透明金属层600。其中，所述基板100包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；所述第一OC层200设置于所述基板100上的所述W子像素区域；所述黑色矩阵层300设置于所述基板100上的所述黑色矩阵区域；所述RGB色阻层400设置于所述基板100上的所述彩膜区域；所述第二OC层500设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层400上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层300上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层200上；所述透明金属层600设置于所述第二OC层500上。
作为本发明一优选实施例，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。这样使得第二OC层500覆盖的区域是平坦的，这样在对取向层进行摩擦处理后，不会使取向层存在摩擦取向不均匀的现象，进而也不会导致漏光问题；并且，取向层的表面平坦会使与取向层相接触的液晶分子的流动性较好，进而不会产生按压色差等问题。
作为本发明另一优选实施例，所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板，通过在W子像素区域先制作第一OC层，并且，保证R、G、B色阻层与W子像素区域的第一OC层的厚度一致，这样在最后整体涂覆第二OC层后，第二OC层覆盖是平坦的。因此，本发明实施例能避免W子像素区域出现凹陷，从而有效避免RGBW像素出现的漏光，有效改善按压色差的问题。
尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本发明，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本发明包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能，用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能（例如其在功能上是等价的）的任意组件（除非另外指示），即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。此外，尽管本说明书的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开，但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且，就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言，这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (13)

  1. 一种彩膜基板的制作方法，其中所述彩膜基板的制作方法包括：
    提供一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
    在所述基板上涂覆一第一OC层；
    对所述第一OC层进行曝光、显影、以及刻蚀，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除；
    在所述基板上沉积一黑色矩阵层；
    对所述黑色矩阵层进行图形化处理，保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层，其他区域的所述黑色矩阵层均去除；
    在所述基板上的所述彩膜区域涂布RGB色阻层，以形成RGB彩膜，其中，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同
    在所述基板上涂覆第二OC层；以及
    在所述第二OC层上沉积透明金属层，以形成透明电极。
  2. 根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其中在所述基板上涂覆第二OC层的步骤，具体包括：
    在所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上均涂覆所述第二OC层。
  3. 根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其中所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
  4. 一种彩膜基板的制作方法，其中所述彩膜基板的制作方法包括：
    提供一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
    在所述基板上涂覆一第一OC层；
    对所述第一OC层进行图形化处理，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除；
    在所述基板上沉积一黑色矩阵层；
    对所述黑色矩阵层进行图形化处理，保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层，其他区域的所述黑色矩阵层均去除；
    在所述基板上的所述彩膜区域涂布RGB色阻层，以形成RGB彩膜，其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同；
    在所述基板上涂覆第二OC层；以及
    在所述第二OC层上沉积透明金属层，以形成透明电极。
  5. 根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其中所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。
  6. 根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其中对所述第一OC层进行图形化处理，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除的步骤，具体包括：
    对所述第一OC层进行曝光、显影、以及刻蚀，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除。
  7. 根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其中在所述基板上涂覆第二OC层的步骤，具体包括：
    在所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上均涂覆所述第二OC层。
  8. 根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其中所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
  9. 一种彩膜基板，其中所述彩膜基板包括：
    一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
    一第一OC层，设置于所述基板上的所述W子像素区域；
    一黑色矩阵层，设置于所述基板上的所述黑色矩阵区域；
    一RGB色阻层，设置于所述基板上的所述彩膜区域；
    一第二OC层，设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上；
    一透明金属层，设置于所述第二OC层上；
    其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。
  10. 根据权利要求9所述的彩膜基板，其中所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。
  11. 根据权利要求9所述的彩膜基板，其中所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。
  12. 一种液晶显示面板，其中所述液晶显示面板包括：阵列基板、彩膜基板、以及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层；
    其中，所述彩膜基板包括：
    一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；
    一第一OC层，设置于所述基板上的所述W子像素区域；
    一黑色矩阵层，设置于所述基板上的所述黑色矩阵区域；
    一RGB色阻层，设置于所述基板上的所述彩膜区域；
    一第二OC层，设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上；
    一透明金属层，设置于所述第二OC层上；
    其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。
  13. 根据权利要求12所述的液晶显示面板，其中所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115016164A (zh) * 2022-05-25 2022-09-06 苏州华星光电技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107015399B (zh) * 2017-05-11 2020-04-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置及其制作方法
CN107272294B (zh) 2017-07-10 2020-08-18 华南师范大学 一种电控智能窗及制备方法、光调节方法
CN107247359A (zh) 2017-07-20 2017-10-13 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、显示面板及显示装置
CN107591430A (zh) * 2017-09-14 2018-01-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 彩膜基板的制作方法
CN107505761B (zh) * 2017-09-18 2020-06-12 惠科股份有限公司 彩色滤光器以及液晶显示面板的制作方法
CN107505760B (zh) * 2017-09-18 2020-06-12 惠科股份有限公司 阵列基板的像素结构以及液晶显示面板
CN110618554A (zh) * 2019-09-26 2019-12-27 厦门天马微电子有限公司 一种彩膜基板、显示面板及显示装置
CN115480421A (zh) * 2022-10-19 2022-12-16 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 一种cf基板及其制作方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1624544A (zh) * 2003-12-04 2005-06-08 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示器件及其制造方法
US20050134763A1 (en) * 2003-12-23 2005-06-23 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
CN1844983A (zh) * 2006-05-15 2006-10-11 友达光电股份有限公司 半穿透半反射型显示器及其制造方法、显示器制造方法
CN103869531A (zh) * 2012-12-10 2014-06-18 上海天马微电子有限公司 彩膜基板及其制造方法
CN104317098A (zh) * 2014-11-05 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070027264A (ko) * 2005-09-06 2007-03-09 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법
CN104280930B (zh) * 2014-10-11 2017-07-18 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板的制作方法、彩膜基板及液晶显示面板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1624544A (zh) * 2003-12-04 2005-06-08 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示器件及其制造方法
US20050134763A1 (en) * 2003-12-23 2005-06-23 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
CN1844983A (zh) * 2006-05-15 2006-10-11 友达光电股份有限公司 半穿透半反射型显示器及其制造方法、显示器制造方法
CN103869531A (zh) * 2012-12-10 2014-06-18 上海天马微电子有限公司 彩膜基板及其制造方法
CN104317098A (zh) * 2014-11-05 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115016164A (zh) * 2022-05-25 2022-09-06 苏州华星光电技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

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