CN115480421A - 一种cf基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种CF基板及其制作方法，包括衬底基板、黑色矩阵、色阻层、保护层；黑色矩阵设置在衬底基板上，色阻层间隔设置在黑色矩阵的镂空处，保护层覆盖黑色矩阵与色阻层上；且色阻层中的每一像素包括：R子像素、G子像素、B子像素及W子像素，R子像素、G子像素、B子像素依次排列；W子像素为白色子像素，通过分别对R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空采用OC膜填充获取；还公开了一种制作方法。通过对色阻层中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取，在像素中创造性地设置人眼无法识别出的W子像素，使得像素中的白色没有变化，色域下降，色彩饱和度降低，提高了透过率，降低了功耗，增加了反射率。

Description

一种CF基板及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶面板显示技术领域，特别涉及一种CF基板及其制作方法。
背景技术
液晶面板制造经过长期发展，现已成为人们生活息息相关的消费产品，深入我们生活的方方面面，液晶显示器制造技术也技术日趋成熟，在此基础上各面板厂家也在积极推进降低液晶面板制造成本，而增加色彩显示的客户个性化定制可能性，改善显示效果，成为提高产品竞争力的一个关键难题。
户外消费品用的穿戴型显示技术，目前有两种主流技术，一种是Mini AMOLED设计类型的，这种色彩饱和度高，真实感强；但是价格高，功耗高，一次充电使用不超过一周，寿命短。
还有一种是TN型LCD技术(包含LTPS面板技术，技术复杂，比较少用)，如中国实用新型专利CN 206147234 U，其色彩饱和度不高，体验稍差，但价格低，功耗低，一次充电可以使用3周以上，成本和功耗底，近年来户外工业品也开始采用这种技术。
现有技术存在的技术问题为：
CF子像素的功耗高，发射率及透过率较低。
发明内容
现有液晶显示面板的CF子像素的功耗高，发射率及透过率较低。
针对上述问题，提出一种CF基板及其制作方法，通过对色阻层中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取，在像素中创造性地设置人眼无法识别出的W子像素，使得像素中的白色没有变化，色域下降到25％，色彩饱和度降低，提高了透过率，降低了功耗，增加了反射率。
第一方面，一种CF基板，包括：
衬底基板；
黑色矩阵；
色阻层；
保护层；
所述黑色矩阵设置在所述衬底基板上，所述色阻层间隔设置在所述黑色矩阵的镂空处，所述保护层覆盖所述黑色矩阵与色阻层上；且：
所述色阻层中的每一像素包括：R子像素、G子像素、B子像素及W子像素，所述R子像素、G子像素、B子像素依次排列；
所述W子像素为：
白色子像素；
通过分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空后采用OC膜填充获取。
结合本发明所述的CF基板，第一种可能的实施方式中，所述色阻层包括：
多个像素；
所述多个像素中包含的W子像素的面积相等。
结合本发明第一种可能的实施方式，第二种可能的实施方式中，所述W子像素形状为I型结构；
所述I型结构依次竖向/横向间隔设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
结合本发明第二种可能的实施方式，第三种可能的实施方式中，所述W子像素形状为方型结构；
所述方型结构依次竖向/横向间隔设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
结合本发明第三种可能的实施方式，第四种可能的实施方式中，所述W子像素为：
采用72％色域的油墨分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
第二方面，一种CF基板制作方法，以制作第一方面所述的CF基板，包括：
步骤100、将黑色矩阵设置在衬底基板上；
步骤200、将色阻层间隔设置在所述黑色矩阵的镂空处；
步骤300、所述保护层覆盖所述黑色矩阵与色阻层上；
其中，所述色阻层中的每一像素包括：R子像素、G子像素、B子像素及W子像素。
结合本发明第二方面所述的CF基板制作方法，第一种可能的实施方式中，所述步骤200包括：
步骤210、分别对每一像素中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空，以获取W子像素；
步骤220、将所述W子像素依次横向设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上；
步骤230、采用OC膜对所述W子像素进行填充，以减少断差；
其中，所述W子像素为I型结构或方型结构。
结合本发明第二方面所述的CF基板制作方法，第二种可能的实施方式中，所述步骤200还包括：
步骤240、分别对每一像素中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空，以获取W子像素；
步骤250、将所述W子像素依次竖向设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上；
步骤260、采用OC膜对所述W子像素进行填充，以减少断差；
其中，所述W子像素为I型结构或方型结构。
结合本发明第一种可能的实施方式，第三种可能的实施方式中，所述步骤210包括：
步骤211、采用72％色域的油墨分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
结合本发明第二种可能的实施方式，第四种可能的实施方式中，所述步骤240包括：
步骤241、采用72％色域的油墨分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
实施本发明所述的一种CF基板及其制作方法，通过对色阻层中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取，在像素中创造性地设置人眼无法识别出的W子像素，使得像素中的白色没有变化，色域下降到25％，色彩饱和度降低，提高了透过率，降低了功耗，增加了反射率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明中一种CF基板的剖面示意图；
图2是本发明中一种CF基板的第一俯视示意图；
图3是本发明中一种CF基板的第二俯视示意图；
图4是本发明中一种CF基板的第三俯视示意图；
图5是本发明中一种CF基板的第四俯视示意图；
图6是本发明中一种CF基板制作方法流程的第一示意图；
图7是本发明中一种CF基板制作方法流程的第二示意图；
图8是本发明中一种CF基板制作方法流程的第三示意图；
附图中各数字所指代的部位名称为：10——衬底基板、20——黑色矩阵、30——色阻层、40——保护层。
具体实施方式
下面将结合发明中的附图，对本发明中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
名称解释
OC膜：一种负光阻的感光胶。
CF基板：彩膜基板。
现有液晶显示面板的CF子像素的功耗高，发射率及透过率较低。
针对上述问题，提出一种CF基板及其制作方法。
CF基板实施方式
实施例1
第一方面，一种CF基板，如图1，图1是本发明中一种CF基板的剖面示意图；包括衬底基板10、黑色矩阵20、色阻层30、保护层40；黑色矩阵20设置在衬底基板10上，色阻层30间隔设置在黑色矩阵20的镂空处，保护层40覆盖黑色矩阵20与色阻层30上；且色阻层30中的每一像素包括：R子像素、G子像素、B子像素及W子像素，R子像素、G子像素、B子像素依次排列；W子像素为白色子像素，通过分别对R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空采用OC膜填充获取。
普通的彩色液晶由多个像素构成，其中的一个像素由3个子像素构成，每个子像素上涂有对应的R/G/B色阻，通过子像素的液晶偏转角度实现子像素的透光，进而实现整张图像的显示。
本申请实施方式中的R子像素、G子像素、B子像素及W子像素(下称R/G/B/W)是将部分子像素(R/G/B)上的色阻去除，后续制程的OC膜将此去掉的色阻填充后获取的，其中的OC膜可以减少W部分的断差，减少对显示屏对比度的影响。
色阻层30包括多个像素；这些像素中包含的W子像素的面积相等。
在有的实施例中，色阻层30包括多个像素；这些像素中包含的W子像素的不仅面积相等，而且W子像素的形状也相同。
这些形状相同的W子像素依次均匀地，间隔设置在像素上。
显示的W子像素比较小，小于人眼感知分辨率(25mm处最小感知点为30.5u)，所以此处的挖空，对人眼感知色度变化不大，而对于亮度却有显著的改善。通过对色阻层30中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取，在像素中创造性地设置人眼无法识别出的W子像素，使得像素中的白色没有变化，色域下降到25％，色彩饱和度降低，提高了透过率，降低了功耗，增加了反射率。
实施例2
如图2和图3，图2是本发明中一种CF基板的第一俯视示意图，图3是本发明中一种CF基板的第二俯视示意图；在本实施例2中，将W子像素横向间隔设置在子像素(R/G/B)上，在本实施例中，W子像素可以为I型结构，该I型结构依次横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
在本实施例2中，该I型结构可以对齐横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
W子像素也可以为方向型结构，该方型结构依次横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
在本实施例2中，该方型结构可以对齐横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
实施例3
在本实施例3中，如图4和图5，图4是本发明中一种CF基板的第三俯视示意图，图5是本发明中一种CF基板的第四俯视示意图；将W子像素竖向间隔设置在子像素(R/G/B)上，在本实施例中，W子像素可以为I型结构，该I型结构依次竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
在本实施例3中，该I型结构可以对齐竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
W子像素也可以为方向型结构，该方型结构依次竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
在本实施例3中，该方型结构可以对齐竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
实施例4
与实施例1、实施例2、实施例3不同的是，在本实施例4中，采用72％色域(NTSC)的油墨分别对R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
本申请中的CF基板实施例降低了CF基板中的子像素的功耗，提高了反射率，改善了显示亮度，通过此设计方案还可以采用更具有竞争力的低价格的油墨，降低了生产成本，并且可以使RGB油墨断差更容易控制，根据RBGW窗口的设计，个性化定制色域、反射、投射，客户的需求效果更容易实现。
CF基板制作方法实施方式
工艺实施例1
一种CF基板制作方法，以制作第一方面的CF基板，优选地，如图6，图6是本发明中一种CF基板制作方法流程的第一示意图；包括步骤100、将黑色矩阵20设置在衬底基板10上；步骤200、将色阻层30间隔设置在黑色矩阵20的镂空处；步骤300、保护层40覆盖黑色矩阵20与色阻层30上；其中，色阻层30中的每一像素包括：R子像素、G子像素、B子像素及W子像素。
工艺实施例2
优选地，如图7，图7是本发明中一种CF基板制作方法流程的第二示意图；步骤200包括：步骤210、分别对每一像素中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空，以获取W子像素；步骤220、将W子像素依次横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上；步骤230、采用OC膜对W子像素进行填充，以减少断差；其中，W子像素为I型结构或方型结构。
优选地，步骤211、采用72％色域的油墨分别对R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
在本工艺实施例2中，该I型结构可以对齐横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
W子像素也可以为方向型结构，该方型结构依次横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
在本工艺实施例2中，该方型结构可以对齐横向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
工艺实施例3
优选地，如图8，图8是本发明中一种CF基板制作方法流程的第三示意图；步骤200还包括：步骤240、分别对每一像素中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空，以获取W子像素；步骤250、将W子像素依次竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上；步骤260、采用OC膜对W子像素进行填充，以减少断差；其中，W子像素为I型结构或方型结构。
优选地，步骤240包括：步骤241、采用72％色域的油墨分别对R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
在本工艺实施例3中，该I型结构可以对齐竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
W子像素也可以为方型结构，该方型结构依次竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
在本工艺实施例3中，该方型结构可以对齐竖向间隔设置在多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上，W子像素之间存在一定的空间距离。
实施本发明的一种CF基板及其制作方法，通过对色阻层30中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取，在像素中创造性地设置人眼无法识别出的W子像素，使得像素中的白色没有变化，色域下降到25％，色彩饱和度降低，提高了透过率，降低了功耗，增加了反射率。
以上仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种CF基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
黑色矩阵；
色阻层；
保护层；
所述黑色矩阵设置在所述衬底基板上，所述色阻层间隔设置在所述黑色矩阵的镂空处，所述保护层覆盖所述黑色矩阵与色阻层上；且：
所述色阻层中的每一像素包括：R子像素、G子像素、B子像素及W子像素，所述R子像素、G子像素、B子像素依次排列；
所述W子像素为：
白色子像素；
所述白色子像素通过分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空后采用OC膜填充获取。
2.根据权利要求1所述的CF基板，其特征在于，所述色阻层包括：
多个像素；
所述多个像素中包含的W子像素的面积相等。
3.根据权利要求2所述的CF基板，其特征在于，所述W子像素为I型结构；
所述I型结构依次竖向/横向间隔设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
4.根据权利要求3所述的CF基板，其特征在于，所述W子像素为方型结构；
所述方型结构依次竖向/横向间隔设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上。
5.根据权利要求4所述的CF基板，其特征在于，所述W子像素为：
采用72％色域的油墨分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
6.一种CF基板制作方法，采用权利要求1-5任一所述的CF基板，其特征在于，包括：
步骤100、将黑色矩阵设置在衬底基板上；
步骤200、将色阻层间隔设置在所述黑色矩阵的镂空处；
步骤300、所述保护层覆盖所述黑色矩阵与色阻层上；
其中，所述色阻层中的每一像素包括：R子像素、G子像素、B子像素及W子像素。
7.根据权利要求6所述的CF基板制作方法，其特征在于，所述步骤200包括：
步骤210、分别对每一像素中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空，以获取W子像素；
步骤220、将所述W子像素依次横向设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上；
步骤230、采用OC膜对所述W子像素进行填充，以减少断差；
其中，所述W子像素为I型结构或方型结构。
8.根据权利要求6所述的CF基板制作方法，其特征在于，所述步骤200还包括：
步骤240、分别对每一像素中的R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空，以获取W子像素；
步骤250、将所述W子像素依次竖向设置在所述多个像素中的R子像素、G子像素、B子像素上；
步骤260、采用OC膜对所述W子像素进行填充，以减少断差；
其中，所述W子像素为I型结构或方型结构。
9.根据权利要求7所述的CF基板制作方法，其特征在于，所述步骤210包括：
步骤211、采用72％色域的油墨分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
10.根据权利要求8所述的CF基板制作方法，其特征在于，所述步骤240包括：
步骤241、采用72％色域的油墨分别对所述R子像素、G子像素、B子像素进行部分挖空获取。
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