CN115016164A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括：基板；黑色矩阵，设于所述基板上，且所述黑色矩阵为凸起的图案化结构；阵列层，设于所述黑色矩阵以及所述基板上。本申请的技术效果在于，提高色阻层以及聚酰亚胺膜层的表面平整性以及厚度均匀性，提高显示面板的显示均一性。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前液晶显示器件(LCD)的TFT信号输入到Pixel是由转接孔导通，近年来COA(Color Filter On Array)与PFA技术全面导入，提高了显示面板的开口率和视角。
如图1所示，由于像素电极的聚酰亚胺膜层40一般设置在色阻层30上，如TFT的驱动信号与像素电极信号导通，需穿过色阻层30上的过孔，由于色阻层30的膜层厚度较高，约为3.5um，这样会导致在像素区域内出现相对较大的凹陷，由于此过孔凹陷，在cell制程中聚酰亚胺材料涂布时，由于聚酰亚胺材料为液体状态，会大量在通孔内聚集，导致像素内聚酰亚胺膜厚不均，从附图1中明显看出基板10和阵列层20并不受此影响，但是色阻层30开孔后会导致其上方的聚酰亚胺膜层40在过孔内凹陷导致其表面不平整且膜厚不均，具体为靠近过孔处的聚酰亚胺膜层膜厚偏薄，远离过孔处的聚酰亚胺膜层膜厚偏厚，从而引发显示效果不均等不良问题。
发明内容
本申请的目的在于，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，可以解决现有的显示面板的像素区域中，因开孔出现膜层凹陷的情况，进而导致膜厚不均造成显示效果不佳等技术问题。
为实现上述目的，本申请提供一种显示面板，包括：基板；黑色矩阵，设于所述基板上，且所述黑色矩阵为凸起的图案化结构；阵列层，设于所述黑色矩阵以及所述基板上。
进一步地，所述黑色矩阵包括第一黑色矩阵层以及第二黑色矩阵层；所述第一黑色矩阵层设于所述基板上；所述第二黑色矩阵层设于所述第一黑色矩阵层远离所述基板的一侧。
进一步地，所述第二黑色矩阵层在所述基板上的正投影落入所述第一黑色矩阵层在所述基板上的正投影内。
进一步地，所述第二黑色矩阵层在轴向平面内的宽度大于所述第一黑色矩阵层在轴向平面内的宽度。
进一步地，所述阵列层包括：第一金属层，设于所述黑色矩阵远离所述基板的一侧面；绝缘层，设于所述第一金属层以及所述黑色矩阵远离所述基板的一侧面，并覆盖所述基板的上表面；第二金属层，设于所述绝缘层远离所述第一金属层的一侧面，且与所述第一金属层相对设置。
进一步地，所述显示面板还包括：色阻层，设于所述阵列层远离所述基板的一侧面；聚酰亚胺膜层，设于所述色阻层远离所述阵列层的一侧面，且所述聚酰亚胺膜层的表面平整且在轴向平面内的宽度均匀。
为实现上述目的，本申请还提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供一基板；通过半透膜技术在所述基板上制备出凸起的图案化黑色矩阵；以及在所述黑色矩阵以及所述基板上制备阵列层。
进一步地，所述黑色矩阵包括第一黑色矩阵层以及第二黑色矩阵层，所述第二黑色矩阵层凸出于所述第一黑色矩阵层上，且所述第二黑色矩阵层的厚度大于所述第一黑色矩阵层的厚度。
进一步地，所述显示面板的制备方法还包括以下步骤：在所述阵列层上制备色阻层，所述色阻层在所述第二黑色矩阵层处的高度大于其周围的色阻层的高度；在所述色阻层对应所述第二黑色矩阵层处开设通孔，并蚀刻所述通孔周围的色阻层；以及在所述色阻层上以及所述通孔内制备聚酰亚胺膜层。
为实现上述目的，本申请还提供一种显示装置，包括如前文所述的显示面板。
本申请的技术效果在于，采用凸起的黑色矩阵垫高开孔处的位置，给待蚀刻的色阻层提供蚀刻空间，避免影响未蚀刻部分的色阻层的形变，提高膜层表面的平整性，使得其上方的聚酰亚胺膜层也具有良好的平整性且厚度均匀，避免出现显示不良等情况，提高显示装置的显示效果均一性。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中显示面板的结构示意图；
图2是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图；
图3是本申请实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；
图4是本申请实施例提供的制备色阻层之后的结构示意图；
图5是本申请实施例提供的开设通孔之后的结构示意图。
附图标记说明：
10、基板；20、阵列层；30、色阻层；40、聚酰亚胺膜层；
100、基板；200、黑色矩阵；300、阵列层；400、色阻层；500、聚酰亚胺膜层；
210、第一黑色矩阵层；220、第二黑色矩阵层；
310、第一金属层；320、绝缘层；330、第二金属层；
410、通孔。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
本实施例提供一种显示装置，所述显示装置一般为液晶显示装置，包括液晶电视、平板、手机等显示器件，所述显示装置包括显示面板、盖板、背板等部件结构，本实施例中主要对所述显示面板进行描述。
如图2所示，本实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括基板100、黑色矩阵200、阵列层300、色阻层400以及聚酰亚胺膜层500。
所述基板100为玻璃衬底基板，用以承载整个显示面板。
所述黑色矩阵200设于所述基板100的上表面，所述黑色矩阵200为凸起的图案化结构，包括第一黑色矩阵层210和第二黑色矩阵层220，所述第一黑色矩阵层210设于所述基板100上，所述第二黑色矩阵层220设于所述第一黑色矩阵层210远离所述基板100的一侧，即设于所述第一黑色矩阵层210上表面。
所述第二黑色矩阵层220在所述基板100上的正投影完全落入所述第一黑色矩阵层210在所述基板100上的正投影内，换句话说，所述第二黑色矩阵层220在周向上的长度小于所述第一黑色矩阵层210在周向上的长度。
所述第二黑色矩阵层220在轴向平面内的宽度大于所述第一黑色矩阵层210在轴向平面内的宽度，即，所述第二黑色矩阵层220的厚度大于所述第一黑色矩阵层210的厚度，在本实施例中，所述第一黑色矩阵层210的厚度为1微米左右，所述第二黑色矩阵层220的厚度为3微米左右，所述第二黑色矩阵层220的高度较高是为了抬高该处的基底高度。
所述阵列层300包括第一金属层310、绝缘层320和第二金属层330。所述阵列层300为所述显示面板的驱动电路开关元件。
所述第一金属层310设于所述黑色矩阵200远离所述基板100的一侧面，即所述第一金属层310设于所述黑色矩阵200的上表面，具体地，设于所述第二黑色矩阵层220的上表面。
所述绝缘层320设于所述第一金属层310以及所述黑色矩阵200远离所述基板100的一侧面，并覆盖所述基板100的上表面，即所述绝缘层320依次覆盖所述第一金属层310、所述第一黑色矩阵层210以及所述基板100。所述绝缘层320起到隔绝两侧金属层之间电连接的作用。
所述第二金属层330设于所述绝缘层320远离所述第一金属层310的一侧面，且与所述第一金属层310相对设置。
所述色阻层400设于所述阵列层300远离所述基板100的一侧面，即所述色阻层400设于所述阵列层300的上表面。所述色阻层400是显示面板彩色显示的主要膜层之一，属于像素的主要结构。
在所述色阻层400上开设有通孔410(参见图5)，所述通孔410与所述第二黑色矩阵层220相对设置，因为所述第二黑色矩阵层220的存在，后续的阵列层300中的各膜层以及所述色阻层400在所述第二黑色矩阵层220处的高度都高于周围膜层，在所述色阻层400上开孔的过程中，在所述第二黑色矩阵层220处的色阻层400会被蚀刻，蚀刻后的色阻层400与其余色阻层400之间的高度差大大减小，同时，也没有导致其余设置层400的厚度以及表面平整度，便于后续膜层的平整制备。
所述聚酰亚胺膜层500设于所述色阻层400远离所述阵列层300的一侧面，且所述聚酰亚胺膜层500的表面平整且在轴向平面内的宽度均匀。所述聚酰亚胺膜层500部分填充于所述通孔410内，因为所述色阻层400的表面比较平坦，所以所述聚酰亚胺膜层500的表面也较为平整，且厚度均匀，能提高显示面板的显示均一性。
本实施例所述显示面板以及显示装置的技术效果在于，采用凸起的黑色矩阵垫高开孔处的位置，给待蚀刻的色阻层提供蚀刻空间，避免影响未蚀刻部分的色阻层的形变，提高膜层表面的平整性，使得其上方的聚酰亚胺膜层也具有良好的平整性且厚度均匀，避免出现显示不良等情况，提高显示装置的显示效果均一性。
如图3所示，本实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括步骤S1～S6。
S1提供一基板100，所述基板100一般为玻璃基板，起到衬底作用以及支撑作用。
S2通过半透膜技术在所述基板100上制备出凸起的图案化黑色矩阵200。具体地，在所述基板100上涂布一层黑色遮光材料，采用半透膜技术图案化处理后，形成两种膜厚不同的黑色矩阵层，分别为第一黑色矩阵层210和第二黑色矩阵层220(参见图4)，所述第二黑色矩阵层220凸出于所述第一黑色矩阵层210上，且所述第二黑色矩阵层220的厚度大于所述第一黑色矩阵层210的厚度，所述第一黑色矩阵层210的厚度为1微米左右，所述第二黑色矩阵层220的厚度为3微米左右，所述第二黑色矩阵层220的高度较高是为了抬高该处的基底高度。
所述第二黑色矩阵层220在所述基板100上的正投影完全落入所述第一黑色矩阵层210在所述基板100上的正投影内，换句话说，所述第二黑色矩阵层220在周向上的长度小于所述第一黑色矩阵层210在周向上的长度。
S3在所述黑色矩阵200以及所述基板100上制备阵列层300，具体地，包括在所述第二黑色矩阵层220上表面制备第一金属层310，在所述第一金属层310、所述第一黑色矩阵层210以及所述基板100上制备绝缘层320，在所述绝缘层320上制备第二金属层330等制程，获得用以实现显示面板驱动电路开关作用的阵列层300。
S4在所述阵列层300上制备色阻层400，因为所述第二黑色矩阵层220的存在，在涂布的过程中，所述色阻层400在所述第二黑色矩阵层220处的高度大于其周围的色阻层400的高度。
S5在所述色阻层400对应所述第二黑色矩阵层220处开设通孔410(参见图5)，并蚀刻所述通孔410周围的色阻层。所述通孔410与所述第二黑色矩阵层220相对设置，因为所述第二黑色矩阵层220的存在，后续的阵列层300中的各膜层以及所述色阻层400在所述第二黑色矩阵层220处的高度都高于周围膜层，在所述色阻层400上开孔的过程中，在所述第二黑色矩阵层220处的色阻层400会被蚀刻，蚀刻后的色阻层400与其余色阻层400之间的高度差大大减小，同时，也没有导致其余设置层400的厚度以及表面平整度，便于后续膜层的平整制备。
S6在所述色阻层400上以及所述通孔410内制备聚酰亚胺膜层500。具体地，在所述色阻层400上与所述通孔410内涂布聚酰亚胺材料，由于其下方的色阻层400的表面比较平坦，所以所述聚酰亚胺膜层500的表面也较为平整，且厚度均匀，能提高显示面板的显示均一性。
本实施例所述显示面板的制备方法的技术效果在于，采用凸起的黑色矩阵垫高开孔处的位置，给待蚀刻的色阻层提供蚀刻空间，避免影响未蚀刻部分的色阻层的形变，提高膜层表面的平整性，使得其上方的聚酰亚胺膜层也具有良好的平整性且厚度均匀，避免出现显示不良等情况，提高显示装置的显示效果均一性。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
黑色矩阵，设于所述基板上，且所述黑色矩阵为凸起的图案化结构；
阵列层，设于所述黑色矩阵以及所述基板上。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述黑色矩阵包括第一黑色矩阵层以及第二黑色矩阵层；
所述第一黑色矩阵层设于所述基板上；
所述第二黑色矩阵层设于所述第一黑色矩阵层远离所述基板的一侧。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第二黑色矩阵层在所述基板上的正投影落入所述第一黑色矩阵层在所述基板上的正投影内。
4.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第二黑色矩阵层在轴向平面内的宽度大于所述第一黑色矩阵层在轴向平面内的宽度。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列层包括：
第一金属层，设于所述黑色矩阵远离所述基板的一侧面；
绝缘层，设于所述第一金属层以及所述黑色矩阵远离所述基板的一侧面，并覆盖所述基板的上表面；
第二金属层，设于所述绝缘层远离所述第一金属层的一侧面，且与所述第一金属层相对设置。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：
色阻层，设于所述阵列层远离所述基板的一侧面；
聚酰亚胺膜层，设于所述色阻层远离所述阵列层的一侧面，且所述聚酰亚胺膜层的表面平整且在轴向平面内的宽度均匀。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一基板；
通过半透膜技术在所述基板上制备出凸起的图案化黑色矩阵；以及
在所述黑色矩阵以及所述基板上制备阵列层。
8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述黑色矩阵包括第一黑色矩阵层以及第二黑色矩阵层，所述第二黑色矩阵层凸出于所述第一黑色矩阵层上，且所述第二黑色矩阵层的厚度大于所述第一黑色矩阵层的厚度。
9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：
在所述阵列层上制备色阻层，所述色阻层在所述第二黑色矩阵层处的高度大于其周围的色阻层的高度；
在所述色阻层对应所述第二黑色矩阵层处开设通孔，并蚀刻所述通孔周围的色阻层；以及
在所述色阻层上以及所述通孔内制备聚酰亚胺膜层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～6中任一项所述的显示面板。
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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