CN1844983A - 半穿透半反射型显示器及其制造方法、显示器制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种半穿透半反射型显示器。第一基板，其具有多个像素，各个像素分为多个子像素，且各子像素具有至少一穿透区和至少一反射区。第二基板，其相对应于该第一基板，该第二基板分为多个区域，且上述区域中的至少三个为彩色区域以及至少一个为第四区域，而所述区域相对应于所述子像素。覆盖层覆盖在该第一基板上，其中对应于第四区域的穿透区的部分覆盖层的厚度厚于其它部分覆盖层的厚度，且对应于第四区域的反射区的部分覆盖层的厚度大体上相等于其它部分覆盖层的厚度。液晶层设置在该第一基板与该第二基板之间。

Description

半穿透半反射型显示器及其制造方 法、显示器制造方法

技术领域

本发明涉及一种显示组件及其制造方法，特别地，涉及一种液晶显示组件及其制造方法。

背景技术

液晶显示器(liquid crystal display，以下简称LCD)是目前平面显示器发展的主流，其显示原理是利用液晶分子所具有的介电各向异性以及导电各向异性，于外加电场时使液晶分子的排列状态转换，造成液晶薄膜产生各种光电效应。液晶显示器的面板结构一般为由两片基板叠合而成，中间留有一定距离的空隙用以灌注液晶，而在上下两基板上分别形成有对应电极，用以控制液晶分子的转向及排列。

请参照图1A，目前在液晶显示面板中，除了三原色像素红色像素R、绿色像素G、蓝色像素B外，另加入白色像素W，以增加面板整体的穿透或反射亮度，进而达到省电的功效，然而，RGBW四色混色的液晶显示面板的工艺仍然存在许多问题需克服。

图1B揭示公知技术半穿透半反射(transflective)液晶显示组件的剖面图，请参照图1B，首先，提供第一基板100，此第一基板100可以为阵列基板，第一基板100包括用以显示画面的像素区，而像素区还包括多个子像素区。

接下来，在第一基板100上形成多个薄膜晶体管108，第一基板100可为阵列基板，每一像素对应一薄膜晶体管108，且每一薄膜晶体管108均包括栅极102、源极104和漏极106。

接着，提供相对于第一基板100的第二基板110，第二基板110可以为彩色滤光片基板，且第二基板110可以包括相对于子像素的红色区、蓝色区、绿色区及白色区，其中在红色区形成有红色光致抗蚀剂R、在绿色区形成有绿色光致抗蚀剂G、在蓝色区形成有蓝色光致抗蚀剂B，且在白色区形成有透明光致抗蚀剂W，以构成具有RGBW四色混色的彩色滤光层。

透明光致抗蚀剂的制作方法为在绿色光致抗蚀剂、蓝色光致抗蚀剂及红色光致抗蚀剂形成之后，再毯式涂覆一层平坦化的另一覆盖层112填入上述三原色光致抗蚀剂R、G、B间的空隙，以制作透明光致抗蚀剂W，此外，平坦化层还可以提供较平坦的表面，以便于进行后续工艺。然而，因为绿色光致抗蚀剂G、蓝色光致抗蚀剂B和红色光致抗蚀剂R对另一覆盖层112的表面张力和力学关系的影响，导致另一覆盖层112在白色区和其它区域产生断差d，而使面板产生偏黄的色偏现象。

发明内容

根据上述问题，本发明的主要目的为提供一种显示组件，具有良好的穿透和反射亮度，且可避免例如色偏的问题，以改进面板的光学特性。

本发明提供一种半穿透半反射型显示器。第一基板，其具有多个像素，各像素分为多个子像素，且各子像素具有至少一穿透区和至少一反射区。第二基板，其相对应于该第一基板，该第二基板分为多个区域，且上述区域中的至少三个为彩色区域以及至少一个为第四区域，而区域相对应于子像素。覆盖层覆盖在所述第一基板上，其中对应于第四区域的穿透区的部分覆盖层的厚度厚于其它部分覆盖层的厚度，且对应于第四区域的反射区的部分覆盖层的厚度大体上相等于其它部分覆盖层的厚度。液晶层设置于所述第一基板与所述第二基板之间。

本发明提供一种半穿透半反射显示器的制造方法。首先，提供第一基板，其具有多个像素，各像素分为多个子像素，且各子像素具有至少一反射区以及至少一穿透区。其后，提供第二基板，其相对应于所述第一基板，该第二基板分为多个区域，且所述区域中的至少三个为彩色区域以及至少一个为第四区域，而所述区域相对应于子像素。接着，在所述第一基板上形成覆盖层，对该覆盖层进行多次黄光工艺，其中对应于第四区域的穿透区的部分覆盖层的曝光次数与对应于彩色区域的穿透区的部分覆盖层的曝光次数相比更少。接着，在所述第一基板与所述第二基板之间施加液晶层。

本发明提供一种显示器的制造方法。首先，提供第一基板，其具有多个像素，各像素分为多个子像素。接着，提供第二基板，其相对于该第一基板，该第二基板分为多个区域，且所述区域中的至少三个为彩色区域以及至少一个为第四区域，而所述区域相对应于所述子像素。后续，在所述第二基板上形成光致抗蚀剂图案层，并分别在所述区域中的所述至少三个彩色区域中定义该光致抗蚀剂图案层为彩色光致抗蚀剂图案层且在所述至少一个第四区域中定义该光致抗蚀剂图案层为第四光致抗蚀剂图层。其后，在该光致抗蚀剂图案层上形成覆盖层，并在所述第一基板与所述第二基板之间施加液晶层。

附图说明

图1A揭示四色混色液晶显示面板的示意图。

图1B揭示公知技术半穿透半反射液晶显示组件的剖面图。

图2揭示本发明一实施例的单间距半穿透半反射液晶显示组件的剖面图。

图3揭示本发明一实施例的双间距半穿透半反射液晶显示组件。

图4A～4C揭示本发明一实施例的单间距半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法。

图5A～5C揭示本发明另一实施例的单间距半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法。

图6A～6C揭示本发明一实施例的双间距半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法。

图7A～7C揭示本发明另一实施例的双间距半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法。

图8揭示本发明一实施例的液晶显示组件。

【主要组件符号说明】

R～红色区域；          G～绿色区域；

B～蓝色区域；          W～白色区域；

R～反射区；            T～穿透区；

d～断差；              200～第一基板；

202～栅极；            204～源极；

206～漏极；            208～薄膜晶体管；

210～第二基板；        212～另一覆盖层；

214～覆盖层；               216～凸出的覆盖层；

302～液晶层；               304～覆盖层；

306～凸块；                 402～开口区域；

502～开口区域；             602～开口区域；

800～第一基板；

801～第二基板的相对于第一基板的表面；

802～栅极；                 803～平坦化层；

804～源极；                 805～平坦化层表面；

806～漏极；                 807～覆盖层；

808～薄膜晶体管；           810～第二基板；

830～液晶层。

具体实施方式

以下将以实施例详细说明做为本发明的参考，且参照附图说明本发明的实施例。在附图或描述中，相似或相同的部分使用相同的附图标记。在附图中，实施例的形状或厚度可扩大，以简化或方便标示。图式中各组件的部分将分别描述说明，值得注意的是，图中未绘示或描述的组件，可以具有各种本领域技术人员公知的形式。此外，当叙述一层位于一基板或另一层上时，此层可直接位于基板或另一层上，或是其间还可以有中介层。

第2图揭示本发明一实施例的单间距(single gap)半穿透半反射液晶显示组件的剖面图，请参照第2图，首先，提供第一基板200，此第一基板200可以为阵列基板，该基板的材质包括透明性材质(例如玻璃、低碱玻璃、无碱玻璃等)、可挠性材质(例如塑料、聚碳酸酯、聚甲基丙醯酸甲酯等)、不透光材质(例如陶瓷、晶圆等)等。第一基板200包括用以显示画面的像素区，而像素区还包括多个子像素区，子像素区包括反射区R及穿透区T，其中在反射区R中，液晶显示组件可藉由外部光线的反射光做为光源，另外，在穿透区T中，液晶显示组件可藉由背光源穿透的光线做为光源，如此，可达到较佳的使用效率及节省电源。

接下来，在第一基板200上形成多个薄膜晶体管208，第一基板200可为阵列基板，在本发明一实施例中，每一像素对应一薄膜晶体管208，且每一薄膜晶体管208均包括栅极202、沟道层(未绘示)、欧姆接触层(未绘示)、源极204和漏极206，优选地，薄膜晶体管208为底栅型(bottom-gate type)晶体管，当然，也可使用其它类型的晶体管(例如顶栅型(top-gate type)、蚀刻终止型(etching-stop type)、或其它的晶体管)，且构成每一薄膜晶体管208的材质包括非晶硅、多晶硅、单晶硅、微晶硅或上述材质的组合。也就是说，沟道层(未绘示)及欧姆接触层(未绘示)的材质包括非晶硅、多晶硅、单晶硅、微晶硅或上述材质的组合，并且欧姆接触层(未绘示)还掺杂有N型掺杂剂(例如磷、砷、或其它材质)或P型掺杂剂(例如硼或其它材质)，使其行为类似于欧姆特性。

然后，提供相对于第一基板200的第二基板210，第二基板210可以为彩色滤光片基板，且第二基板210可以包括相对于子像素的三个彩色区及第四区，其中三个彩色区可分别包括红色区、蓝色区、绿色区，而第四区可以为白色区(也称为无色区)，在红色区形成有红色光致抗蚀剂R、在绿色区形成有绿色光致抗蚀剂G、在蓝色区形成有蓝色光致抗蚀剂B，且在白色区形成有透明光致抗蚀剂W，以构成具有RGBW四色混色的彩色滤光层。

在此需注意的是，本发明的实施例以三原色R、G、B描述本发明的颜色配置，然而，本发明不限于此，三原色R、G、B可以为任何可表现图案彩色区域，也就是说，红色光致抗蚀剂R、绿色光致抗蚀剂G、蓝色光致抗蚀剂B可以为其它彩色光致抗蚀剂图案(例如黄色、棕色、蓝绿色、紫色等)。再者，本发明的彩色区域及白色区域的形状以矩形为实施例，然而，也可以使用其它形状(例如圆形、多边形、三角形、六边形、椭圆形等)。另外，本发明的第四区域以白色为实施例，然而，为了考量其它颜色的饱合度、对比度的情况下，第四区域也可为彩色区域的颜色或其它色彩。

在上述液晶显示结构中，透明光致抗蚀剂的制作方法为在形成例如包括绿色光致抗蚀剂、蓝色光致抗蚀剂和红色光致抗蚀剂的彩色光致抗蚀剂图案层之后，再毯式涂覆一层平坦化的另一覆盖层212填入上述例如三原色光致抗蚀剂R、G、B的彩色光致抗蚀剂图案层间的空隙，以制作透明光致抗蚀剂W，此外，平坦化层亦可提供较平坦的表面，以利后续工艺进行。因为绿色光致抗蚀剂G、蓝色光致抗蚀剂B和红色光致抗蚀剂R对另一覆盖层212的表面张力和力学关系的影响，导致另一覆盖层212在第四区和彩色区域产生断差d。

在本发明一实施例中，在第一基板200上形成覆盖层214，覆盖第一基板200及其上的薄膜晶体管组件208，其中在穿透区T中，对应于第四区的部分覆盖层216与彩色区的部分覆盖层214相比有较厚的厚度，在反射区R中，对应于第四区的部分覆盖层和彩色区部分覆盖层大体上具有相等的厚度，换言之，在穿透区T中，对应于第四区(白色区W)的覆盖层具有凸块216。这样，在穿透区T中，此较厚厚度的覆盖层216可补偿白色像素W的断差，改善光学效率。

为了形成上述结构形状的覆盖层，本发明一实施例采用下列方法：首先，在第一基板上形成例如感光材料的覆盖层214，其后，对覆盖层214进行多次曝光工艺，其中穿透区上T且对应于白色区W的部分覆盖层216的曝光次数与穿透区上且对应于红色区、蓝色区、绿色区的部分的曝光次数相比更少，后续，对覆盖层214进行显影。

图4A～4C揭示本发明一实施例的单间距(single gap)半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法，首先，请参照图4A，在第一基板上(未绘示)毯式涂覆例如光致抗蚀剂的感光材料的覆盖层，覆盖第一基板及其上的薄膜晶体管组件，其中在此实施例中，覆盖层为正光致抗蚀剂。接下来，以掩模遮住第一基板的穿透区T，而对反射区R覆盖层进行曝光(曝光的部位以斜线标示)。

后续，请参照图4B，以掩模遮住穿透区T的对应于第四区(白色区W)上的部分覆盖层，而对穿透区T上的对应于例如包括蓝色区B、绿色区G及红色区R的三个彩色区的覆盖层及反射区R上所有颜色的覆盖层进行曝光。后续，请参照图4C，以掩模遮住穿透区T上所有颜色像素区的开口区域402以外的部分覆盖层，而对开口区域402位置的覆盖层进行曝光。根据上述方法，由于穿透区T的第四区(白色区W)上的部分覆盖层的曝光次数比三个彩色区的部分覆盖层的曝光次数少一次，因此，穿透区T的第四区上的部分覆盖层的厚度比其它区域的部分覆盖层厚。

在本发明的一个较佳实施例中，涂覆的覆盖层214厚度约为2.0μm，曝光剂量约可曝及正光致抗蚀剂的覆盖层214约0.6μm～0.8μm的深度，上述方法形成的穿透区T的白色区W上的部分覆盖层216的厚度可约为1.8～2.2μm，而其它区域的部分覆盖层214的厚度约为1.2～1.6μm。对应于该白色区W的部分覆盖层216比其它部分覆盖层214大体上厚0.1～0.3μm。

图5A～5C揭示本发明另一实施例的单间距(single gap)半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法，请参照图5A，首先在第一基板上(未绘示)毯式涂覆例如光致抗蚀剂的感光材料的覆盖层，覆盖第一基板及其上的薄膜晶体管组件，其中在此实施例中，覆盖层为正光致抗蚀剂。其后，用掩模遮住穿透区T的对应于第四区(白色区W)上的部分覆盖层，而对穿透区T上的对应于例如包括蓝色区B、绿色区G及红色区R的三个彩色区的覆盖层及反射区R上所有颜色的覆盖层进行曝光。

接下来，请参照图5B，以掩模遮住第一基板的穿透区T对应于所有颜色像素的区域，而对反射区R覆盖层进行曝光。后续，请参照图5C，以掩模遮住穿透区T上对应于所有颜色像素区的开口区域502外的部分覆盖层，而对开口区域502位置的覆盖层进行曝光。根据上述方法，由于穿透区T的第四区上的部分覆盖层的曝光次数比其它区域的部分覆盖层的曝光次数少一次，因此，穿透区T的第四区上的部分覆盖层的厚度比彩色区的部分覆盖层厚。

图3揭示本发明一实施例双间距(dual gap)半穿透半反射液晶显示组件，其结构大体上和第2图相似，为简洁，在此不详加描述，两者所不同的是，双间距半穿透半反射液晶显示组件在反射区R的液晶层302的厚度Tr比穿透区T的液晶层302的厚度Tt小，因此，如图3所示，反射区R的覆盖层304的整体厚度比穿透区T的覆盖层304的厚度大，另外，为解决上述色偏现象，在穿透区T中，对应于第四区(白色区W)的部分覆盖层306比其它彩色区覆盖层304有较厚的厚度，在反射区R中，对应于第四区(白色区W)的部分覆盖层304和彩色区部分覆盖层304大体上具有相等的厚度，换言之，在穿透区T中，对应于第四区(白色区W)的覆盖层具有凸块306。

为了形成上述结构形状的覆盖层，本发明的一个实施利采用下列方法：首先，在第一基板上形成例如感光材料覆盖层304，其后，对覆盖层304进行多次曝光工艺，其中穿透区T的覆盖层304的整体曝光次数比反射区R的覆盖层304多，另外，穿透区T上且对应于该第四区(白色区W)的部分覆盖层的曝光次数比穿透区T上且对应于例如包括红色区R、蓝色区B、绿色区G的彩色区的部分的曝光次数少，后续，对覆盖层304进行显影。

图6A～6C揭示本发明一实施例的双间距(dual gap)半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法，首先，请参照图6A，在第一基板上(未绘示)毯式涂覆例如光致抗蚀剂的感光材料的覆盖层，覆盖第一基板及其上的薄膜晶体管组件，其中在此实施例中，覆盖层为正光致抗蚀剂。接下来，对所有的覆盖层进行全面性的曝光(曝光的区域以斜线标示)。

后续，请参照图6B，再一次对所有覆盖层进行全面性的曝光。接着，请参照图6C，以掩模遮住穿透区T的对应于第四区(白色区W)上开口区域602外的部分覆盖层，并遮住反射区R上所有颜色的覆盖层，而对穿透区T上的对应于例如包括蓝色区B、绿色区G及红色区R的三个彩色区覆盖层，及第四区开口区域602位置的覆盖层进行曝光。根据上述方法，由于穿透区T的第四区上的部分覆盖层的曝光次数比其它区域的部分覆盖层的曝光次数少一次，因此，穿透区T的第四区上的部分覆盖层的厚度比彩色区的部分覆盖层厚。

图7A～7C揭示本发明另一实施例的双间距(dual gap)半穿透半反射液晶显示组件的覆盖层的制造方法，首先，请参照图7A，在第一基板上(未绘示)毯式涂覆例如光致抗蚀剂的感光材料的覆盖层，覆盖第一基板及其上的薄膜晶体管组件，其中在此实施例中，覆盖层为正光致抗蚀剂。接下来，以掩模遮住穿透区R上的部分覆盖层，而对反射区T上的部分覆盖层进行曝光。

后续，请参照图7B，对所有覆盖层进行全面性的曝光。接着，请参照图7C，以掩模光罩遮住穿透区T的第四区(白色区W)上开口区域702外的部分覆盖层，并遮住反射区R上所有颜色的覆盖层，而对穿透区T上的例如包括蓝色区B、绿色区G及红色区R的三个彩色区的覆盖层，及第四区开口区域602位置的覆盖层进行曝光。根据上述方法，由于穿透区T的第四区上的部分覆盖层的曝光次数比其它区域的部分覆盖层的曝光次数少一次，因此，穿透区的第四区上的部分覆盖层的厚度比彩色区的部分覆盖层厚。

图8揭示本发明又另一实施例的液晶显示组件及其制造方法。首先，提供第一基板800，此第一基板800可以为阵列基板，第一基板800的材质包括透明性材质(例如玻璃、低碱玻璃、无碱玻璃等)、可挠性材质(例如塑料、聚碳酸酯、聚甲基丙醯酸甲酯等)、不透光材质(例如陶瓷、晶圆等)等。第一基板800包括用以显示画面的像素区。

接下来，在基板上形成多个薄膜晶体管808，在本发明一实施例中，每一像素对应一薄膜晶体管808，且每一薄膜晶体管808均包括栅极802、沟道层(未绘示)、欧姆接触层(未绘示)、源极804和漏极806，较佳者，薄膜晶体管808为底栅型(bottom-gate type)晶体管，当然，也可使用其它类型的晶体管(例如顶栅型(top-gate type)、蚀刻终止型(etching-stop type)、或其它的晶体管)，且构成每一薄膜晶体管808的材质系包括非晶硅、多晶硅、单晶硅、微晶硅或上述材质的组合。也就是说，沟道层(未绘示)及欧姆接触层(未绘示)的材质包括非晶硅、多晶硅、单晶硅、微晶硅或上述材质的组合，并且欧姆接触层(未绘示)还掺杂有N型掺杂剂(例如磷、砷或其它材质)或P型掺杂剂(例如硼或其它材质)，使其行为类似于欧姆特性。后续，在薄膜晶体管808和基板800上形成覆盖层807。

后续，提供相对于第一基板800的第二基板810，第二基板810可以为彩色滤光片基板，第二基板810可以包括对应于子像素例如包括红色区、蓝色区、绿色区的彩色区及例如白色区的第四区。接下来，在第二基板810上形成光致抗蚀剂图案层，并分别在这些区域中的至少三个彩色区域中定义光致抗蚀剂图案层为例如包括红色光致抗蚀剂R、蓝色光致抗蚀剂B和绿色光致抗蚀剂G的彩色光致抗蚀剂图案层及在这些区域中的至少一个第四区域中定义光致抗蚀剂图案层为例如透明光致抗蚀剂W的第四光致抗蚀剂图层，举例来说，以一般的微影工艺定义光致抗蚀剂，在第二基板810的相对于第一基板面801的红色区上形成红色光致抗蚀剂R，接着，以一般的微影工艺定义光致抗蚀剂，在第二基板的相对于第一基板面801的蓝色区上形成蓝色光致抗蚀剂B，以一般的微影工艺定义光致抗蚀剂，在第二基板810的相对于第一基板面801的绿色区上形成绿色光致抗蚀剂G，以一般的微影工艺定义光致抗蚀剂，在第二基板810的相对于第一基板面801的白色区上形成透明光致抗蚀剂W。

需注意的是，例如透明光致抗蚀剂W的第四光致抗蚀剂图层填入第一基板上的第四区，而用微影方法移除位于例如包括红色光致抗蚀剂R、蓝色光致抗蚀剂B及绿色光致抗蚀剂G的彩色光致抗蚀剂图案层上的透明光致抗蚀剂，这样，例如透明光致抗蚀剂W的第四光致抗蚀剂图层仅位于例如白色区的第四区上，可克服表面张力和力学影响，导致另一覆盖层在白色像素和红色、绿色、蓝色像素产生断差的问题。

接着，在例如包括红色光致抗蚀剂W、蓝色光致抗蚀剂B、绿色光致抗蚀剂G的彩色光致抗蚀剂图案层及例如透明光致抗蚀剂W的第4光致抗蚀剂图层上涂覆另一层覆盖层803，这样，可得到具有平坦且无断差的覆盖层表面805。后续，在第一基板800和第二基板810间填入液晶层830，以完成液晶显示面板的制作。

根据上述实施例，本发明主要在单间距(single-gap)以及双间距(dual-gap)半穿透半反射型显示器中，针对穿透区曝光次数做调整，使得白色区的覆盖层厚度大于其它颜色R、G、B区的覆盖层厚度，反射区因为需要制作凸块，无法透过曝光来单独提高反射区覆盖层，因此反射区的覆盖层保持均匀的厚度，其可藉由例如查表(Look-Up-Table)的电路控制改变反射特性以解决偏黄问题。

因此，根据上述实施例，本发明可解决白色区断差过大所导致面板偏黄的色偏问题，以改进面板的光学特性。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，但是其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，可以做出许多更动与润饰，因此本发明的保护范围应当以所附权利要求定义的范围为准。

Claims (19)

1.一种半穿透半反射型显示器，包括：

第一基板，其具有多个像素，各个所述像素分为多个子像素，且各个所述子像素具有至少一穿透区和至少一反射区；

第二基板，其相对应于该第一基板，该第二基板分为多个区域，且所述区域中的至少三个为彩色区域以及至少一个为第四区域，而所述区域相对应于所述子像素；

覆盖层，覆盖在该第一基板上，其中对应于该第四区域的该穿透区的部分覆盖层的厚度厚于其它部分覆盖层的厚度，且对应于该第四区域的该反射区的部分覆盖层的厚度大体上相等于其它部分覆盖层的厚度；以及

液晶层，其设置在该第一基板与该第二基板之间。

2.如权利要求1所述的半穿透半反射型显示器，其中对应于该第四区域的该穿透区的部分覆盖层的厚度比其它部分覆盖层的厚度大体上厚0.1微米至0.3微米。

3.如权利要求1所述的半穿透半反射型显示器，其中该覆盖层为感光材料所组成。

4.如权利要求1所述的半穿透半反射型显示器，还包括：

另一覆盖层，覆盖在该第二基板上，该另一覆盖层在该第四区域上的厚度大体上小于该另一覆盖层在所述彩色区域上的厚度。

5.一种半穿透半反射型显示器的制造方法，包括：

提供第一基板，其具有多个像素，各个所述像素分为多个子像素，且各个所述子像素具有至少一反射区及至少一穿透区；

提供第二基板，相对应于该第一基板，该第二基板分为多个区域，且所述区域中的至少三个为彩色区域以及至少一个为第四区域，而所述区域相对应于所述子像素；

在该第一基板上形成覆盖层；

对该覆盖层进行多次黄光工艺，其中对应于该第四区域的该穿透区的该部分覆盖层的曝光次数比对应于所述彩色区域的该穿透区的该部分覆盖层的曝光次数少；以及

在该第一基板与该第二基板之间施加液晶层。

6.如权利要求5所述的半穿透半反射型显示器的制造方法，其中该覆盖层为感光材料所组成。

7.如权利要求5所述的半穿透半反射型显示器的制造方法，其中对应于该第四区域的该穿透区的部分覆盖层的曝光次数比对应于所述彩色区域的该穿透区的该部分覆盖层的曝光次数少一次。

8.如权利要求5所述的半穿透半反射型显示器的制造方法，对该覆盖层进行多次黄光工艺，包括下列步骤：

对与所述彩色区域及该第四区域的该反射区对应的该覆盖层进行曝光；

对与所述彩色区域的该穿透区对应的覆盖层以及与所述彩色区域及该第四区域的该反射区对应的该覆盖层进行曝光，且不曝光与该第四区域的该穿透区对应的部分该覆盖层；

对与所述彩色区域及该第四区域的该穿透区上的至少一开口区域对应的部分该覆盖层进行曝光；以及

对该覆盖层进行显影。

9.如权利要求5所述的半穿透半反射型显示器的制造方法，对该覆盖层进行多次黄光工艺，包括下列步骤：

对与所述彩色区域的该穿透区对应的该覆盖层以及与所述彩色区域及该第四区域的该反射区对应的该覆盖层进行曝光，且不曝光与该第四区域的该穿透区对应的部分该覆盖层；

对与所述彩色区域及该第四区域的该反射区对应的该覆盖层进行曝光；

对与所述彩色区域及该第四区域的该穿透区上的至少一开口区域对应的部分该覆盖层进行曝光；以及

对该覆盖层进行显影。

10.如权利要求5所述的半穿透半反射型显示器的制造方法，对该覆盖层进行多次黄光工艺，包括下列步骤：

对与所述彩色区域的该反射区和该穿透区对应的该覆盖层及与该第四区域的该反射区和该穿透区对应的该覆盖层进行曝光；

再一次对与所述彩色区域的该反射区和该穿透区对应的该覆盖层及与该第四区域的该反射区和该穿透区对应的该覆盖层进行曝光；

对与所述彩色区域的该穿透区对应的部分该覆盖层及与该第四区域的该穿透区上的至少一开口区域对应的部份该覆盖层进行曝光；以及

对该覆盖层进行显影。

11.如权利要求5所述的半穿透半反射型显示器的制造方法，对该覆盖层进行多次黄光工艺，包括下列步骤：

对与所述彩色区域及该第四区域的该反射区对应的该覆盖层进行曝光；

对与所述彩色区域的该反射区和该穿透区对应的该覆盖层以及与该第四区域的该反射区和该穿透区对应的该覆盖层进行曝光；

对与所述彩色区域的该穿透区对应的部分该覆盖层以及与该第四区域的该穿透区上的至少一开口区域对应的部份该覆盖层进行曝光；以及

对该覆盖层进行显影。

12.如权利要求5所述的半穿透半反射型显示器的制造方法，还包括：

在该第二基板上形成另一覆盖层，该另一覆盖层在该第四区域上的厚度大体上小于该另一覆盖层在所述彩色区域上的厚度。

13.一种显示器的制造方法，包括：

提供第一基板，其具有多个像素，各个所述像素分为多个子像素；

提供第二基板，其相对于该第一基板，该第二基板分为多个区域，且所述区域中的至少三个为彩色区域以及至少一个为第四区域，而所述区域相对应于所述子像素；

在该第二基板上形成光致抗蚀剂图案层，并分别定义该光致抗蚀剂图案层在所述区域中的至少三个彩色区域中为彩色光致抗蚀剂图案层以及在所述至少一个第四区域中为第四光致抗蚀剂图层；

在所述光致抗蚀剂图案层上形成覆盖层；以及

在该第一基板与该第二基板之间施加液晶层。

14.如权利要求13所述的显示器的制造方法，其中该覆盖层大体上具有平坦的表面。

15.如权利要求13所述的显示器的制造方法，还包括：

在该第一基板上形成另一覆盖层。

16.如权利要求15所述的显示器的制造方法，其中该另一覆盖层大体上具有平坦的表面。

17.如权利要求15所述的显示器的制造方法，其中在该第一基板及该第二基板上的所述这些覆盖层大体上具有平坦的表面。

18.如权利要求13所述的显示器的制造方法，其中该光致抗蚀剂图案层大体上具有平坦的表面。

19.如权利要求13所述的显示器的制造方法，其中在该第二基板上形成光致抗蚀剂图案层，并分别定义该光致抗蚀剂图案层在所述区域中的至少三个彩色区域为彩色光致抗蚀剂图案层及在所述至少一个第四区域中为第四光致抗蚀剂图层的步骤包括：

在该第二基板上涂覆光致抗蚀剂层；以及

图案化该光致抗蚀剂层，用以依序定义所述区域中的至少三个彩色区域为彩色光致抗蚀剂图案层及所述至少一个第四区域为第四光致抗蚀剂图层。

Images