WO2016121856A1

WO2016121856A1 - 複層フィルム、その用途、及び製造方法

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Publication number: WO2016121856A1
Application number: PCT/JP2016/052456
Authority: WO
Inventors: 仁志大石; 宏晃周
Original assignee: Zeon Corp
Current assignee: Zeon Corp
Priority date: 2015-01-30
Filing date: 2016-01-28
Publication date: 2016-08-04
Anticipated expiration: 2017-07-30
Also published as: CN107209310A; KR20170107445A; US10712484B2; TWI672361B; JP2020160465A; CN107209310B; KR102535200B1; JP6790836B2; US20170363790A1; TW201638304A; JPWO2016121856A1

Abstract

　長尺状の第一の基材と、前記第一の基材の表面に直接設けられた、硬化液晶分子を含む光学異方性層とを備える複層フィルムであって、前記第一の基材の前記表面は、その表面張力が３５～４５ｍＮ／ｍであり、且つ延伸による配向規制力を保有し、前記光学異方性層が、前記第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿った遅相軸を有する、複層フィルム；並びに当該光学異方性層を有する光学補償シート、λ／４波長板、偏光板、円偏光板、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及びその製造方法。

Description

複層フィルム、その用途、及び製造方法

　本発明は、光学異方性層を有する複層フィルムに関する。本発明はまた、当該光学異方性層を有する光学補償シート、λ／４波長板、偏光板、円偏光板、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び製造方法に関する。

　液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の各種の表示装置の構成要素として、位相差板、即ち位相差を有する光学部材が広く用いられている。

　位相差板を得るための方法の一つとして、液晶相を呈しうる化合物を、液晶相を呈した状態のまま固体のフィルムに成形する方法が知られている。そのような方法の例としては、重合性を有し且つ液晶相を呈しうる化合物等の、各種の硬化性液晶化合物を含む組成物を、適切な基材の表面に塗布して層とし、層内の液晶化合物を配向させ、さらに配向させた状態を維持して重合させることにより、光学異方性を有するフィルムを形成する方法が挙げられる。このような方法を用いれば、位相差を面内で均一に発現させた位相差板を得ることが可能であり、また、液晶化合物を適宜選択することにより、可視光波長域で一様な位相差を発生させる位相差板を得ることが可能である（例えば特許文献１）。
　このような液晶相を呈しうる化合物を配向させる方法としては、基材の表面に配向規制力を付与し、その上に液晶相を呈しうる化合物を含む組成物を塗布し、さらに配向に適した条件に置くことが一般的に行なわれる。基材の表面に配向規制力を付与する方法の例としては、ラビングによる方法（例えば特許文献２～３）が挙げられる。また、基材として延伸処理を施されたフィルムを用いることにより、液晶化合物をフィルム上に配向させることにより、効率的な製造を行うことも知られている（例えば特許文献４）。

特開平１１－５２１３１号公報特開２０１０－１５１９７１号公報特開２００２－０９８８３６号公報（対応外国公報：欧州特許出願公開第１０７９２４４号明細書）特開平３－９３２５号公報（対応外国公報：米国特許第５１３２１４７号明細書）

　しかしながらラビング処理には、その処理工程中に静電気の発生による異物の混入や、配向規制力の不足等の問題点がある。また、延伸処理を施したフィルムを用いる場合でも、配向規制力の不足の問題があり、その結果、表示装置に用いた際に表示品質を良好なものとするのに十分な配向性が得られないという問題点がある。

　従って、本発明の目的は、効率的な製造が可能であり、且つ表示装置に用いた際に表示品質を良好なものとするのに十分な配向性が得られる、光学異方性層を有する複層フィルム、並びに、当該光学異方性層を有する光学補償シート、λ／４波長板、偏光板、円偏光板、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及びその製造方法を提供することにある。

　本発明者は前記の課題を解決するべく検討した結果、光学異方性層を形成する際の基材として、延伸による配向規制力を有し、且つ特定の表面張力を有するものを用いることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、本発明によれば、以下のものが提供される。

〔１〕　長尺状の第一の基材と、前記第一の基材の表面に直接設けられた、硬化液晶分子を含む光学異方性層とを備える複層フィルムであって、
　前記第一の基材の前記表面は、その表面張力が３５～４５ｍＮ／ｍであり、且つ延伸による配向規制力を保有し、
　前記光学異方性層が、前記第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿った遅相軸を有する、複層フィルム。
〔２〕　前記第一の基材が、複数の層からなる、〔１〕に記載の複層フィルム。
〔３〕　前記硬化液晶分子が、円盤状液晶化合物の硬化物である、〔１〕又は〔２〕に記載の複層フィルム。
〔４〕　前記硬化液晶分子が、棒状液晶化合物の硬化物である、〔１〕又は〔２〕に記載の複層フィルム。
〔５〕　〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の複層フィルムの製造方法であって、
　硬化性液晶化合物を含む液晶組成物を、長尺状の第一の基材上に塗布し、液晶組成物の層を形成し、
　前記液晶組成物の層における硬化性液晶化合物を前記第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿ってホモジニアス配向又はハイブリッド配向させ、
　前記硬化性液晶化合物を重合させ、硬化液晶分子を形成する
　ことを含む製造方法。
〔６〕　前記液晶組成物が、表面張力２０～３５ｍＮ／ｍの液体である、〔５〕に記載の製造方法。
〔７〕　〔１〕、〔２〕、又は〔３〕に記載の複層フィルムから光学異方性層を剥離し、
　前記光学異方性層を、第二の基材に貼合してなる、光学補償シート。
〔８〕　〔１〕、〔２〕、又は〔４〕に記載の複層フィルムから、光学異方性層を剥離し、
　前記光学異方性層を、第二の基材に貼合してなる、λ／４波長板。
〔９〕　〔７〕に記載の光学補償シートを備える偏光板。
〔１０〕　〔８〕に記載のλ／４波長板を備える円偏光板。
〔１１〕　〔９〕に記載の偏光板を備える液晶表示装置。
〔１２〕　〔１０〕に記載の円偏光板を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

　本発明の複層フィルム、光学補償シート、λ／４波長板、偏光板、円偏光板、液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、長尺状であり、延伸による配向規制力を保有する第一の基材を用いることにより、光学異方性層における配向性が表示品質を良好なものとするのに十分なものとすることができ、且つ効率的な製造が可能である。特に、斜め延伸により配向規制力を付与した第一の基材を用いた場合、λ／４波長板、円偏光板に適した光学異方性層を備え、効率的な製造が可能である。また、本発明の複層フィルムの製造方法では、当該複層フィルムを効率的に製造しうる。

図１は、円盤状液晶化合物のハイブリッド配向の状態を模式的に示す斜視図である。図２は、円盤状液晶化合物のハイブリッド配向の状態を模式的に示す上面図である。図３は、実施例７における円偏光板の構成要素を示す分解斜視図である。図４は、懸滴法による液晶組成物の表面張力の測定を説明する概略図である。

　以下、例示物及び実施形態を挙げて本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に挙げる例示物及び実施形態に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
　本願において、「偏光板」、「円偏光板」、「λ／２波長板」、「λ／４波長板」及び「位相差板」といった部材は、剛直な部材に限られるものではなく、フィルム状の、可撓性を有するものとしうる。

　〔１．複層フィルム〕
　本発明の複層フィルムは、長尺状の第一の基材と光学異方性層とを備える。

　〔１．１．第一の基材〕
　本発明において用いる第一の基材は、長尺状の基材である。本願において「長尺状」とは、幅に対して５倍以上の長さを有する形状をいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムの形状をいう。フィルムの幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば１００，０００倍以下としうる。

　〔１．２．第一の基材の表面張力〕
　本発明において用いる第一の基材は、第一の基材の光学異方性層を設ける側の表面の表面張力が３５～４５ｍＮ／ｍである。本願においては、文脈上明らかな場合は、第一の基材の光学異方性層を設ける側の表面を、単に第一の基材の「表面」と述べる場合がある。

　第一の基材の表面の表面張力は、好ましくは３５ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは３７ｍＮ／ｍ以上であり、一方好ましくは４５ｍＮ／ｍ以下、より好ましくは４０ｍＮ／ｍ以下である。第一の基材の表面の表面張力は、当該表面を構成する材料、当該表面への表面処理の条件等を適宜選択することにより、所望の範囲に調整しうる。かかる表面処理の例としては、コロナ処理、プラズマ処理、及びケン化処理が挙げられる。

　第一の基材の表面張力の測定は、例えば、表面張力計、接触角計を使用し、測定試料液として純水A3（JIS　K0557）を使用して液滴を作製し、第一の基材のサンプル表面上に着滴させて測定することができる。
　接触角計を用いて、液滴と第一の基材の表面の接触角を測定した場合、式Ｉの経験式を用いて表面張力を算出することができる。
　cosθ＝0.0467・γ_S－1.508　　式Ｉ
　θ：純水の接触角（degree）、γ_Sは第一の基材の表面張力（ｍＮ／ｍ)である。

　本発明者の検討によれば、第一の基材の表面の表面張力が上に述べた範囲内である場合、第一の基材の表面の表面張力が上に述べた範囲外である場合に比べて、表示装置に用いた際に表示品質を良好なものとするのに十分な、光学異方性層の高い配向性が得られる。その結果、液晶表示装置又は有機エレクトロルミネッセンス表示装置において当該光学異方性層を用いた場合、白抜け等の低減された、良好な表示品質を達成しうる。光学異方性層が高い配向性を有していることは、光学異方性層のクロスニコル透過率の測定、及び光学異方性層を液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置上に載置し表示の状態を観察することによって評価しうる。

　〔１．３．第一の基材の配向規制力〕
　本発明において用いる第一の基材は、延伸による配向規制力を保有する。即ち、第一の基材は、延伸前の基材に延伸処理を施したことにより得られる、一以上の層からなるフィルムである。延伸による配向規制力の発現する方向は、通常、延伸による配向方向と一致する。延伸による配向方向とは、延伸により生じた、第一の基材を構成する分子の配向の方向であり、通常は延伸方向そのものに一致する。

　第一の基材の延伸による配向方向と第一の基材の短尺方向とがなす角度は、０～９０°としうる。特に、０°超９０°未満の角度としうる。このような範囲の角度において配向方向を有することにより、本発明の複層フィルムを、円偏光板等の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。
　また、ある態様において、第一の基材の配向方向と第一の基材の短尺方向とがなす角度が、１０°～６０°であることが好ましく、４０°～５０°であることが特に好ましい。このような角度関係とすることにより、本発明の複層フィルムを、特定の円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。具体的には、直線偏光子と、一枚又は二枚の位相差板とを有する円偏光板の効率的な製造が可能となる。
　より具体的には、第一の基材の配向方向と第一の基材の短尺方向とがなす角度を、好ましくは１５°±５°、２２．５±５°、４５°±５°、７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５±４°、４５°±４°、７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５°±３°、４５°±３°、７５°±３°といった特定の範囲とすることにより、本発明の複層フィルムを、特定の円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。

　延伸前の基材を延伸し、第一の基材とするための延伸は、斜め延伸のみでもよく、横延伸（第一の基材の短尺方向への延伸）のみでもよく、斜め延伸と、縦延伸（第一の基材の長尺方向への延伸）及び／又は横延伸とを組み合わせて行ってもよい。延伸を行う際の延伸温度及び延伸倍率は、基材表面に配向規制力が生じる範囲で適宜設定しうる。

　〔１．４．第一の基材の材料〕
　第一の基材は、１層のみからなってもよく、複数の層からなってもよい。
　複数の層からなる第一の基材の例としては、１層以上の層からなる支持体と、その一方の表面に設けられた配向膜とを備えるものが挙げられる。この場合、第一の基材の配向膜側の表面を、光学異方性層を設ける面としうる。

　第一の基材が１層のみからなる場合のその材料は、特に限定されず、複屈折性の付与によりその表面に配向規制力を付与しうる種々の樹脂を用いうる。当該樹脂の例としては、各種の重合体を含む樹脂が挙げられる。当該重合体としては、脂環式構造含有重合体、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、エポキシ重合体、ポリスチレン、アクリル重合体、メタクリル重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体及びセルロースエステルが好ましく、脂環式構造含有重合体がより好ましい。
　これらの材料は、第一の基材が支持体と配向膜とを備える場合における支持体の材料としても用いうる。

　脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を有する非晶性の重合体であり、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体及び側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いることができる。
　脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。
　１つの脂環式構造の繰り返し単位を構成する炭素数に特に制限はないが、通常４～３０個、好ましくは５～２０個、より好ましくは６～１５個である。

　脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は使用目的に応じて適宜選択されるが、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上である。
　脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと、フィルムの耐熱性が低下するおそれがある。

　脂環式構造含有重合体は、具体的には、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。
　これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン重合体及びこれらの水素添加物がより好ましい。

　ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物；ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。
　これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物が最も好ましい。
　上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開２００２－３２１３０２号公報等に開示されている公知の重合体から選ばれる。

　脂環式構造含有重合体は、そのガラス転移温度が、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００～２５０℃の範囲である。
　ガラス転移温度がこのような範囲にある脂環式構造含有重合体は、高温下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。

　脂環式構造含有重合体の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（樹脂が溶解しない場合にはトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略す。）で測定したポリイソプレン換算（溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算）の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００～１００，０００、好ましくは２５，０００～８０，０００、より好ましくは２５，０００～５０，０００である。
　重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされ好適である。

　脂環式構造含有重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１～１０、好ましくは１～４、より好ましくは１．２～３．５の範囲である。

　脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、その分子量２，０００以下の樹脂成分（すなわち、オリゴマー成分）の含有量が、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下、さらに好ましくは２重量％以下である。
　オリゴマー成分の量が前記範囲内にあると、表面における微細な凸部の発生が減少し、厚みむらが小さくなり面精度が向上する。
　オリゴマー成分の量の低減は、重合触媒や水素化触媒の選択、重合、水素化等の反応条件、樹脂を成形用材料としてペレット化する工程における温度条件、等を適宜設定することにより行いうる。
　オリゴマーの成分量は、前述のＧＰＣによって測定することができる。

　第一の基材の材質として脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いた場合の、第一の基材の厚みは特に制限されないが、生産性の向上、薄型化及び軽量化を容易にする観点から、その厚みは、通常１～１０００μｍ、好ましくは５～３００μｍ、より好ましくは３０～１００μｍである。

　脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、脂環式構造含有重合体のみからなってもよいが、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含んでもよい。脂環式構造含有重合体を含む樹脂中の、脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上である。
　脂環式構造含有重合体を含む樹脂の好適な具体例としては、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０、ゼオノア１４２０Ｒ」を挙げうる。

　セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステル（例：セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレートおよびセルロースアセテートプロピオネート）が代表的である。低級脂肪酸は、１分子あたりの炭素原子数６以下の脂肪酸を意味する。セルロースアセテートには、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）やセルロースジアセテート（ＤＡＣ）が含まれる。

　セルロースアセテートの酢化度は、５０～７０％が好ましく、特に５５～６５％が好ましい。重量平均分子量７００００～１２００００が好ましく、特に８００００～１０００００が好ましい。また、上記セルロースアセテートは、酢酸だけでなく上記酢化度を満足する限り、一部プロピオン酸、酪酸等の脂肪酸でエステル化されていても良い。また、第一の基材を構成する樹脂は、セルロースアセテートと、セルロースアセテート以外のセルロースエステル（セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート等）とを組み合わせて含んでも良い。その場合、これらのセルロースエステルの全体が、上記酢化度を満足することが好ましい。

　トリアセチルセルロースのフィルムを用いる場合、かかるフィルムとしては、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドープを用いて作成されたトリアセチルセルロースフィルムが、環境保全の観点から特に好ましい。トリアセチルセルロースのフィルムは、共流延法により作製しうる。共流延法は、トリアセチルセルロースの原料フレークを溶媒に溶解し、これに必要に応じて任意の添加剤を添加し溶液（ドープ）を調製し、当該ドープをドープ供給手段（ダイ）から支持体の上に流延し、流延物をある程度乾燥して剛性が付与された時点でフィルムとして支持体から剥離し、当該フィルムをさらに乾燥して溶媒を除去することにより行いうる。原料フレークを溶解する溶媒の例としては、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等が挙げられる。ドープに添加する添加剤の例としては、レターデーション上昇剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等が挙げられる。ドープを流延する支持体の例としては、水平式のエンドレスの金属ベルト、及び回転するドラムが挙げられる。流延に際しては、単一のドープを単層流延することもできるが、複数の層を共流延することもできる。複数の層を共流延する場合、例えば、低濃度のセルロースエステルドープの層と、そのおもて面及び裏面に接して設けられた高濃度のセルロースエステルドープの層が形成されるよう、複数のドープを順次流延しうる。フィルムを乾燥して溶媒を除去する手段の例としては、フィルムを搬送して、内部を乾燥に適した条件に設定した乾燥部を通過させる手段が挙げられる。

　トリアセチルセルロースのフィルムの好ましい例としては、ＴＡＣ－ＴＤ８０Ｕ（富士写真フィルム（株）製）等の公知のもの、及び発明協会公開技報公技番号２００１－１７４５号にて公開されたものが挙げられる。トリアセチルセルロースのフィルムの厚みは特に限定されないが、２０～１５０μｍが好ましく、４０～１３０μｍがより好ましく、７０～１２０μｍが更に好ましい。

　〔１．５．第一の基材の材料：配向膜〕
　第一の基材が支持体と配向膜とを備える場合における配向膜の材料について説明する。配向膜の材料としては、所望の表面張力及び延伸による配向規制力を発現しうる重合体を用いうる。

　配向膜の材料としての重合体の例としては、セルロース、シランカップリング剤、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エポキシアクリレート、シラノールオリゴマー、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、ポリオキサゾール、環化ポリイソプレン、これらの変性物、及びこれらの混合物を挙げることができる。特にポリビニルアルコールが好ましい。

　配向膜は、必要に応じてコロナ放電処理等の表面処理を施した支持体上に、ポリマーを水又は溶剤に溶解させた溶液等を、リバースグラビアコーティング、ダイレクトグラビアコーティング、ダイコーティング、バーコーティング等の塗布方法を用いて塗布し、乾燥させることにより形成することができる。このような工程により支持体と配向膜とを備える延伸前の基材を形成し、さらにこれを延伸することにより、第一の基材として用いうる。第一の基材における配向膜の厚みは、特に限定されず、所望の配向規制力が得られる厚みに調整しうる。配向膜の厚みは、好ましくは０．０５μｍ以上、より好ましくは０．１μｍ以上であり、一方好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。

　〔１．６．第一の基材の製造方法〕
　第一の基材を製造する方法は、特に限定されず、上に述べた材料を、既知の方法で成形し、延伸することにより製造しうる。
　第一の基材が複数の層からなる場合の製造方法としては、多層押出しによる方法、一部の層を形成した後に他の層をその表面に塗工、蒸着等の操作により設ける方法により延伸前の基材を形成し、これを延伸する方法を採用しうる。
　第一の基材の表面の表面張力を調整するために表面処理を行う場合は、延伸前にかかる表面処理を行ってから延伸を行うことが、配向規制力を良好に発現させる上で好ましい。

　〔１．７．第一の基材上での光学異方性層の形成〕
　本発明の複層フィルムにおける光学異方性層は、第一の基材の表面に直接設けられた、硬化液晶分子を含む光学異方性層を備える。

　本願においては、「硬化液晶分子」とは、液晶相を呈しうる化合物を、液晶相を呈した状態のまま固体とした際の当該化合物の分子を意味する。硬化液晶分子の例としては、硬化性の液晶化合物を硬化させてなるものが挙げられ、より具体的には、重合性液晶化合物を重合させてなる重合体が挙げられる。以下の説明においては、別段ことわらない限り、この特定の、硬化液晶分子を含む光学異方性層を、単に「光学異方性層」という。

　第一の基材の表面へ、光学異方性層を「直接」設けるとは、第一の基材の表面に、他の層を介さずに光学異方性層を形成することである。特定の表面張力を有する第一の基材の表面に光学異方性層を直接設けることにより、表示装置に用いた際に表示品質を良好なものとするのに十分な、光学異方性層の高い配向性が得られる。

　第一の基材上での光学異方性層の形成は、典型的には、
　工程（Ｉ）：硬化性液晶化合物を含む液晶組成物を、長尺状の第一の基材上に塗布し、液晶組成物の層を形成する工程、
　工程（ＩＩ）：液晶組成物の層における硬化性液晶化合物を、第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿ってホモジニアス配向又はハイブリッド配向させる工程、及び
　工程（ＩＩＩ）：硬化性液晶化合物を重合させ、硬化液晶分子を形成する工程
　を含む方法により行いうる。

　工程（Ｉ）は、連続的に搬送される第一の基材の一方の面上に、液晶組成物を直接塗布することにより行いうる。塗布の方法の例としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。例えばダイコーティング法において、ダイコーターのリップ方向を基材短尺方向と平行となるように配置した場合、液晶組成物の塗布方向は基材の搬送方向つまり基材の長尺方向と同一となる。塗布される液晶組成物の層の厚みは、光学異方性層に求められる所望の厚さに応じて適宜設定しうる。

　液晶組成物は、特定の表面張力の液体であることが好ましい。液晶組成物の表面張力は、好ましくは２０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは２５ｍＮ／ｍ以上であり、一方好ましくは３５ｍＮ／ｍ以下、より好ましくは３０ｍＮ／ｍ以下である。第一の基材の表面張力が上に述べた特定の範囲内である場合において、液晶組成物の表面張力がこの範囲内であることにより、第一の基材の表面に液晶組成物を、ハジキ等の面状欠陥の少ない状態で容易に塗布することが可能となり、ひいては、良好な光学特性を有する光学異方性層を容易に製造することが可能となる。

　液晶組成物の表面張力の値を前記範囲とする方法は、特に限定されないが、例えば液晶組成物における溶媒、界面活性剤及びその他の添加剤の種類及び含有割合を適宜選択することにより、液晶組成物の表面張力を調整しうる。

　液晶組成物の表面張力の測定は、例えば表面張力計を使用し、定量液滴を作製し、懸滴法を用いて式ＩＩにより解析することで算出することができる。ここで液滴径de及びdsは、図４に示すとおり細管４０１から懸滴させた液滴４０２を計測することにより求めることができる。
　γ_L＝ｇ・ρ・（de）²H^-1　式ＩＩ
　γ_L：液晶組成物の表面張力
　ｇ：重力加速度
　ρ：液密度
　de：最大液滴径
　H^-1：ds／deから求められる補正項
　ds：液下端de上がった位置での径

　工程（ＩＩ）は、塗布により直ちに達成される場合もあり、その場合別段の操作を必要としないが、必要に応じて、塗布の後に、加温などの配向処理を施すことにより達成される場合もある。配向処理の条件は、使用する液晶組成物の性質に応じて適宜設定しうるが、例えば、５０～１６０℃の温度条件において３０秒間～５分間処理する条件としうる。用いる液晶組成物の組成及び処理条件を適宜設定することにより、第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿った配向を達成しうる。

　工程（ＩＩ）の前に、必要に応じて液晶組成物の層を乾燥させる工程を行なってもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶組成物の層から、溶媒を除去することができる。

　工程（ＩＩＩ）は、液晶組成物の成分（重合性の化合物及び重合開始剤等）の性質に適合した方法を適宜選択しうる。例えば、活性エネルギー線を照射する方法、及び熱重合法が挙げられる。加熱を必要とせず、室温で反応を進行させうることから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。ここで、照射される活性エネルギー線には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光、並びに電子線等の任意のエネルギー線が含まれうる。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。紫外線照射時の温度は、３０℃以下とすることが好ましい。紫外線照射時の温度の下限は、１５℃以上としうる。紫外線照射強度は、通常、０．１ｍＷ／ｃｍ^２～１０００ｍＷ／ｃｍ^２の範囲、好ましくは０．５ｍＷ／ｃｍ^２～６００ｍＷ／ｃｍ^２の範囲である。紫外線照射時間は、１秒～３００秒の範囲、好ましくは５秒～１００秒の範囲である。紫外線積算光量（ｍＪ／ｃｍ^２）＝紫外線照射強度（ｍＷ／ｃｍ^２）×照射時間（秒）で求められる。
　紫外線照射光源としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、低圧水銀灯を用いることができる。

　〔１．８．光学異方性層〕
　本発明の複層フィルムにおいて、光学異方性層は、第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿った遅相軸を有する。具体的には、光学異方性層に含まれる硬化液晶分子が、第一の基材の配向規制力により配向規則性を呈し、それにより遅相軸の方向が制御される。硬化液晶分子は、ホモジニアス配向規則性又はハイブリッド配向規則性を有しうる。

　ここで、「ハイブリッド配向規則性を有する」とは、第一の基材の表面近くにおいては分子が当該表面に対して水平に配向し、表面から遠い空気界面側の分子ほど水平方向に対して傾く配向規則性を有することをいう。本願のある態様においては、硬化液晶分子が、円盤状液晶化合物の硬化物であり、当該態様においては、液晶分子はハイブリッド配向しうる。

　ハイブリッド配向の具体例を、図１及び図２を参照して説明する。図１及び図２は、円盤状液晶化合物のハイブリッド配向の状態を模式的に示す斜視図及び上面図である。図１及び図２においては、水平な方向（矢印２２に直交する方向）に載置された第一の基材の表面の上に、円盤状液晶化合物１１が配向した状態を示している。第一の基材の延伸による配向方向は、矢印２１で示される。円盤状液晶化合物１１は、下側即ち第一の基材の表面近くの分子は水平に配向している一方、上側の分子ほど矢印１５方向に傾いている。このような円盤状液晶化合物のハイブリッド配向は、光学異方性層の屈折率異方性を、極角０°方向（矢印２２の方向）及び、極角０°方向から、矢印３１～３４に示すように様々な方位角及び極角で傾いた方向から測定することにより確認しうる。このようにハイブリッド配向した円盤状液晶化合物の層は、通常矢印１５が傾く方向に遅相軸を有し、したがって、通常矢印２１方向に遅相軸を有する。

　一方「ホモジニアス配向規則性を有する」とは、硬化液晶分子のメソゲンの長軸方向を第一の基材の表面に投影して得られる線の平均方向が、表面に水平なある一の方向（例えば基材フィルムの表面ダイレクターの方向）に整列することをいう。さらに、ある所定の方向に「沿った」ホモジニアス配向規則性とは、当該整列方向が、前記所定の方向と略同一方向に沿うことをいう。前記所定の方向は、本願においては第一の基材の延伸による配向方向としうる。硬化液晶分子がホモジニアス配向規則性を有しているか否か、及びその整列方向は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）に代表されるような位相差計を用いた遅相軸方向の測定と、遅相軸方向ならびに遅相軸と直交方向における入射角毎のレターデーション分布の測定とにより確認しうる。

　ここで、硬化液晶分子が、棒状の分子構造を有する重合性液晶化合物を重合させてなるものである場合は、通常は、当該重合性液晶化合物のメソゲンの長軸方向が、硬化液晶分子のメソゲンの長軸方向となる。また、重合性液晶化合物として逆波長分散重合性液晶化合物（後述）を用いた場合のように、光学異方性層中に、配向方向の異なる複数種類のメソゲンが存在する場合は、それらのうち最も長い種類のメソゲンの長軸方向が整列する方向が、当該整列方向となる。

　本願において、第一の基材の延伸による配向方向と「略」同一方向に沿った遅相軸とは、第一の基材の延伸による配向方向と、当該遅相軸とがなす角が、５°以内であることをいう。当該角は、好ましくは３°以内であり、より好ましくは１°以内である。

　第一の基材として上に説明した所定のものを用い、さらに光学異方性層の材料を適宜選択することにより、光学異方性層に、第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿った配向規則性を付与することができ、その結果、このような配向規則性を有する光学異方性層を得ることができる。

　光学異方性層の厚さは、特に限定されず、レターデーションなどの特性を所望の範囲とできるよう適宜調整することができる。具体的には、厚さの下限は０．５μｍ以上であることが好ましく、１．０μｍ以上であることがより好ましく、一方厚さの上限は１０μｍ以下であることが好ましく、７μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることがさらにより好ましい。
　光学異方性層の形状並びに長さ及び幅は、第一の基材と同様の長尺状のフィルム状の形状とすることができ、これを、必要に応じて所望の用途に適合した矩形などの形状に裁断することができる。

　光学異方性層は、逆波長分散性を有することが好ましい。即ち、光学異方性層は、短波長より長波長の透過光について高い面内位相差を示す波長分散を有することが好ましい。光学異方性層は、少なくとも可視光の帯域の一部、好ましくは全部においてそのような逆波長分散性を有することが好ましい。光学異方性層が逆波長分散性を有することにより、λ／４波長板又はλ／２波長板といった光学用途において、広い帯域において均一に機能を発現しうる。

　好ましい態様として、光学異方性層は、λ／４波長板又はλ／２波長板として用いうる光学特性を有する。具体的には、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅが、１０８ｎｍ～１６８ｎｍの範囲である場合、λ／４波長板として使用しうる。また測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅが２４５ｎｍ～３０５ｎｍの範囲である場合、λ／２波長板として使用しうる。より具体的には、λ／４波長板の場合、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅは、好ましくは１２８ｎｍ～１４８ｎｍ、より好ましくは１３３ｎｍ～１４３ｎｍの範囲である。またλ／２波長板の場合、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅは、好ましくは２６５ｎｍ～２８５ｎｍ、より好ましくは２７０ｎｍ～２８０ｎｍの範囲である。ここで、面内レターデーションＲｅは、下記式に従って算出する。
　Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（式中、ｎｘは、光学異方性層の面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、光学異方性層の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、ｄは、光学異方性層の厚み（ｎｍ）である。）
　光学異方性層が、このようなλ／４波長板又はλ／２波長板として用いうる光学特性を有する場合、それを利用して、λ／４波長板又はλ／２波長板を有する円偏光板等の光学素子を容易に製造しうる。

　光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の短尺方向とがなす角度は、第一の基材の延伸による配向方向と第一の基材の短尺方向とがなす角度と同様としうる。具体的には、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の短尺方向とがなす角度は、具体的には０°～９０°としうる。また、ある態様において、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の短尺方向とがなす角度が、４０°～５０°であることが特に好ましい。また、具体的には、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の短尺方向とがなす角度を、好ましくは１５°±５°、２２．５±５°、４５°±５°、７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５±４°、４５°±４°、７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５±３°、４５°±３°、７５°±３°といった特定の範囲としうる。このような角度関係を有することにより、本発明の複層フィルムを、特定の円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。

　〔１．９．液晶組成物〕
　本発明の複層フィルムの製造に用いうる、重合性液晶化合物を含有する液晶組成物（以下において、当該組成物を、「組成物（Ａ）」と略称する場合がある。）について説明する。

　本願において、組成物（Ａ）の成分としての液晶化合物とは、組成物（Ａ）に配合し配向させた際に、液晶相を呈しうる化合物である。重合性液晶化合物とは、かかる液晶相を呈した状態で組成物（Ａ）中で重合し、液晶相における分子の配向を維持したまま重合体となりうる液晶化合物である。さらに、逆波長分散重合性液晶化合物とは、そのように重合体とした場合、得られた重合体が逆波長分散性を示す重合性液晶化合物である。
　また、本願において、組成物（Ａ）の成分であって、重合性を有する化合物（重合性液晶化合物及びその他の重合性を有する化合物等）を総称して単に「重合性化合物」ということがある。

　〔１．９．１．重合性液晶化合物〕
　重合性液晶化合物の例としては、各種の円盤状液晶化合物、及び棒状液晶化合物が挙げられる。

　円盤状液晶化合物の例としては、円盤状コア（ディスコティックコア）及び重合性基を有し、液晶相を呈しうる各種の化合物が挙げられる。円盤状液晶化合物は、通常、分子自身が光学的に負の一軸性を有する。円盤状液晶化合物としては、特に、ハイブリッド配向しうるものが好ましい。円盤状液晶化合物を用いて形成され、ハイブリッド配向した光学異方性層は、例えば、ＴＮ型液晶セルの視角特性改良に有用である。円盤状液晶化合物として、側鎖末端にエポキシ基やアクリレート基のような架橋基を有するものを用い、ディスコティックネマティック相形成温度範囲において架橋させることによりその配向構造を熱的に安定に保つことができる。

　円盤状液晶化合物のより具体的な例としては、以下の円盤状液晶化合物Ｄ１～Ｄ３が挙げられる。

　円盤状液晶化合物Ｄ１～Ｄ３において、置換基Ｒの例としては、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ_２、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ_２、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２、及び－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２が挙げられる。これらの中でも、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ_２、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ_２、及び－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２が好ましく、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ_２が更に好ましい。

　置換基Ｒにおいて、ｎは、好ましくは３～１０の自然数であり、より好ましくは４～８の自然数である。円盤状液晶化合物Ｄ２において、Ｘは、ＣＨ_２、Ｏ、Ｓ又はＮＨである。中でも、ＣＨ_２又はＯが好ましく、ＣＨ_２が更に好ましい。

　円盤状液晶性化合物の他の具体例としては、特開平８－５０２０６号公報、及び文献（C.　Destrade　et　al.,　Mol.　Crysr.　Liq.　Cryst.,　vol.　71,　page　111　(1981)　；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B.　Kohne　et　al.,　Angew.　Chem.　Soc.　Chem.　Comm.,　page　1794　(1985)；J.　Zhang　et　al.,　J.　Am.　Chem.　Soc.,　vol.　116,　page　2655　(1994)）に記載されているものが挙げられる。

　重合性液晶化合物として、円盤状液晶化合物、主鎖骨格に芳香族を有する芳香族ポリエステル、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド等を用いた場合、得られる光学異方性層を、負の一軸性を有する層としうる。光学異方性層の負の一軸性とは、光学異方性層の３軸方向屈折率を、その値が小さい順にｎ１、ｎ２、及びｎ３としたとき、ｎ１＜ｎ２＝ｎ３の関係を有する性質である。従って、負の一軸性を有する光学異方性層においては、光学軸方向の屈折率が最も小さい。ただし、ｎ２とｎ３の値は厳密に等しい必要はなく、ほぼ等しい場合は、負の一軸性を有するとしうる。具体的には、
　（｜ｎ２－ｎ３｜／｜ｎ２－ｎ１｜）≦０．２
　であるものを、負の一軸性を有する層として実用に供しうる。また、ツイスティッドネマチック型液晶セルの視野角特性を大幅に改良しうる光学異方性層を得るためには、光学軸は、光学異方性層の面の法線方向からの傾きβが５°～６０°であることが好ましく、１０°～５０°がより好ましく、２０°～４０°が最も好ましい。更光学異方性層は、５０≦Ｒｅ≦４００（ｎｍ）の条件を満足することが好ましい。

　棒状液晶化合物の例としては、特開２００２－０３００４２号公報、特開２００４－２０４１９０号公報、特開２００５－２６３７８９号公報、特開２００７－１１９４１５号公報、特開２００７－１８６４３０号公報、及び特開平１１－５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」等が挙げられる。液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

　棒状液晶化合物の屈折率異方性Δｎは、好ましくは０．０２以上、より好ましくは０．０５以上であり、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下である。屈折率異方性Δｎが０．０２未満では所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層の厚さが厚くなって配向均一性が低下する可能性があり、また経済コスト的にも不利である。屈折率異方性Δｎが０．３０より大きいと所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層の厚さが薄くなり、厚さ精度に対して不利である。また、Δｎが０．３０より大きい場合、液晶樹脂層の紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合がありえるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。液晶層形成用組成物が液晶化合物を１種類だけ含む場合には、当該液晶化合物の屈折率異方性を、そのまま液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性とする。また、液晶層形成用組成物が液晶化合物を２種類以上含む場合には、各液晶化合物それぞれの屈折率異方性Δｎの値と各液晶化合物の含有比率とから求めた屈折率異方性Δｎの値を、液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性とする。屈折率異方性Δｎの値は、セナルモン法により測定しうる。
　これらの液晶化合物及び以下に説明する逆波長分散重合性液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

　〔１．９．２．逆波長分散重合性液晶化合物〕
　重合性液晶化合物の一部又は全部として、逆波長分散重合性液晶化合物を用いうる。逆波長分散重合性液晶化合物を用いることにより、逆波長分散性を有する光学異方性層を容易に得ることができる。

　逆波長分散重合性液晶化合物の例としては、その分子中に主鎖メソゲンと、主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを有する化合物が挙げられる。このような逆波長分散重合性液晶化合物が配向した状態において、側鎖メソゲンは、主鎖メソゲンと異なる方向に配向しうる。したがって、光学異方性層において、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンは異なる方向に配向しうる。そのような配向により、光学異方性層が逆波長分散特性を呈しうる。

　〔１．９．２．１．化合物（Ｉ）〕
　逆波長分散重合性液晶化合物の例としては、下記式（Ｉ）で示される化合物（以下において「化合物（Ｉ）」という場合がある。）を挙げることができる。

　逆波長分散重合性液晶化合物が化合物（Ｉ）である場合、基－Ｙ^５－Ａ^４－Ｙ^３－Ａ^２－Ｙ^１－Ａ^１－Ｙ^２－Ａ^３－Ｙ^４－Ａ^５－Ｙ^６－が主鎖メソゲンとなり、一方基＞Ａ^１－Ｃ（Ｑ^１）＝Ｎ－Ｎ（Ａ^ｘ）Ａ^ｙが側鎖メソゲンとなり、基Ａ^１は、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンの両方の性質に影響する。

　式中、Ｙ^１～Ｙ^８はそれぞれ独立して、化学的な単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^１－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１－、－ＮＲ^１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１－、－Ｏ－ＮＲ^１－、又は、－ＮＲ^１－Ｏ－を表す。

　ここで、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
　Ｒ^１の炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－へキシル基等が挙げられる。
　Ｒ^１としては、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましい。

　化合物（Ｉ）においては、Ｙ^１～Ｙ^８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、又は、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－であるのが好ましい。

　Ｇ^１、Ｇ^２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１～２０の二価の脂肪族基を表す。
　炭素数１～２０の二価の脂肪族基としては、炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数２～２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基；炭素数３～２０のシクロアルカンジイル基、炭素数４～２０のシクロアルケンジイル基、炭素数１０～３０の二価の脂環式縮合環基等の二価の脂肪族基；等が挙げられる。

　Ｇ^１、Ｇ^２の二価の脂肪族基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－へキシルオキシ基等の炭素数１～６のアルコキシ基；等が挙げられる。なかでも、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。

　また、前記脂肪族基には、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－、－ＮＲ^２－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）－が介在していてもよい。ただし、－Ｏ－又は－Ｓ－がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ^２は、前記Ｒ^１と同様の、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
　前記脂肪族基に介在する基としては、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－が好ましい。

　これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｓ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＮＲ^２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ_２－等が挙げられる。

　これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｇ^１、Ｇ^２は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数２～２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基が好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基〔－（ＣＨ_２）_１０－〕等の、炭素数１～１２のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基〔－（ＣＨ_２）_４－〕、ヘキサメチレン基〔－（ＣＨ_２）_６－〕、オクタメチレン基〔－（ＣＨ_２）_８－〕、及び、デカメチレン基〔－（ＣＨ_２）_１０－〕が特に好ましい。

　Ｚ^１、Ｚ^２はそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数２～１０のアルケニル基を表す。
　該アルケニル基の炭素数としては、２～６が好ましい。Ｚ^１及びＺ^２のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。

　Ｚ^１及びＺ^２の炭素数２～１０のアルケニル基の具体例としては、ＣＨ_２＝ＣＨ－、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－、ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＨ_２－、ＣＨ_３－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ－ＣＨ_２－、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）－、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、ＣＨ_３－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ_２－等が挙げられる。

　なかでも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｚ^１及びＺ^２としては、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ－、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）－、ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＨ_２－、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－ＣＨ_２－であるのが好ましく、ＣＨ_２＝ＣＨ－、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－、又は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）－であるのがより好ましく、ＣＨ_２＝ＣＨ－であるのが特に好ましい。

　Ａ^ｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
　本発明において、「芳香環」は、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示すものを意味する。

　Ａ^ｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。

　前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、オキサゾロピリジン環、チアゾロピラジン環、オキサゾロピラジン環、チアゾロピリダジン環、オキサゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、オキサゾロピリミジン環等の縮合環の芳香族複素環；等が挙げられる。

　Ａ^ｘが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２～６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１～６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１～６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^５；－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ^５；－ＳＯ_２Ｒ^６；等が挙げられる。ここで、Ｒ^５は炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、又は、炭素数３～１２のシクロアルキル基を表し、Ｒ^６は後述するＲ^４と同様の、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４－メチルフェニル基を表す。

　また、Ａ^ｘが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよく、不飽和環であっても、飽和環であってもよい。
　なお、Ａ^ｘの炭素数２～３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡ^ｙにて同じである。）。

　Ａ^ｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基としては、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３～３０のアルキル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４～３０のアルケニル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４～３０のアルキニル基；等が挙げられる。

　Ａ^ｘの好ましい具体例を以下に示す。但し、本発明においては、Ａ^ｘは以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「－」は環の任意の位置からのびる結合手を表す（以下にて同じである。）。

（１）芳香族炭化水素環基

（２）芳香族複素環基

　上記式中、Ｅは、ＮＲ^６a、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Ｒ^６aは、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～６のアルキル基を表す。

　上記式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、それぞれ独立して、ＮＲ^７、酸素原子、硫黄原子、－ＳＯ－、又は、－ＳＯ_２－を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ^７は、前記Ｒ^６aと同様の、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～６のアルキル基を表す。

　（上記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）
　（３）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキル基

　（４）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルケニル基

　（５）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキニル基

　上記したＡ^ｘの中でも、炭素数６～３０の芳香族炭化水素基、又は炭素数４～３０の芳香族複素環基であることが好ましく、下記に示すいずれかの基であることがより好ましく、

　下記に示すいずれかの基であることが更に好ましい。

　Ａ^ｘが有する環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２～６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１～６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１～６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^８；－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ^８；－ＳＯ_２Ｒ^６；等が挙げられる。ここでＲ^８は、メチル基、エチル基等の炭素数１～６のアルキル基；又は、フェニル基等の炭素数６～１４のアリール基；を表す。なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～６のアルキル基、及び炭素数１～６のアルコキシ基が好ましい。

　また、Ａ^ｘが有する環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよい。
　なお、Ａ^ｘの炭素数２～３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡ^ｙにて同じである。）。

　Ａ^ｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^３、－ＳＯ_２－Ｒ^４、－Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ－Ｒ^９又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。ここで、Ｒ^３は、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基、炭素数５～１２の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^４は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４－メチルフェニル基を表し、Ｒ^９は置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数５～２０の芳香族基を表す。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基の炭素数１～２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、１－メチルペンチル基、１－エチルペンチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、イソヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－イコシル基等が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基の炭素数は、１～１２であることが好ましく、４～１０であることが更に好ましい。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基の炭素数２～２０のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
　置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基の炭素数は、２～１２であることが好ましい。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基の炭素数３～１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基の炭素数２～２０のアルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、２－プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、ペンチニル基、２－ペンチニル基、ヘキシニル基、５－ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２－オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７－デカニル基等が挙げられる。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１～２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１～１２のアルコキシ基で置換された炭素数１～１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３～８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３～８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２～１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６～１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、－ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個がフッ素原子で置換された炭素数１～１２のフルオロアルコキシ基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^７a；－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ^７a；－ＳＯ_２Ｒ^８a；－ＳＲ^１０；－ＳＲ^１０で置換された炭素数１～１２のアルコキシ基；水酸基；等が挙げられる。ここで、Ｒ^７a及びＲ^１０はそれぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数３～１２のシクロアルキル基、又は、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^８aは前記Ｒ^４と同様の、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４－メチルフェニル基を表す。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１～６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３～８のシクロアルキル基；－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^７a；－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ^７a；－ＳＯ_２Ｒ^８a；水酸基；等が挙げられる。ここでＲ^７a、Ｒ^８aは前記と同じ意味を表す。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基の置換基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基の置換基と同様な置換基が挙げられる。

　Ａ^ｙの、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^３で表される基において、Ｒ^３は、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基、炭素数５～１２の芳香族炭化水素基を表す。これらの具体例は、前記Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基の例として列記したものと同様のものが挙げられる。

　Ａ^ｙの、－ＳＯ_２－Ｒ^４で表される基において、Ｒ^４は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４－メチルフェニル基を表す。
　Ｒ^４の、炭素数１～２０のアルキル基、及び炭素数２～２０のアルケニル基の具体例は、前記Ａ^ｙの、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基の例として列記したものと同様のものが挙げられる。

　Ａ^ｙの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基としては、前記Ａ^ｘで例示したのと同様のものが挙げられる。

　これらの中でも、Ａ^ｙとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^３、－ＳＯ_２－Ｒ^４、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基で表される基が好ましく、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基、置換基を有してもよい炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３～９の芳香族複素環基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^３、－ＳＯ_２－Ｒ^４で表される基が更に好ましい。ここで、Ｒ^３、Ｒ^４は前記と同じ意味を表す。

　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基で置換された炭素数１～１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２～１２の環状エーテル基、炭素数６～１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、フェニルスルホニル基、４－メチルフェニルスルホニル基、ベンゾイル基、－ＳＲ^１０が好ましい。ここで、Ｒ^１０は前記と同じ意味を表す。
　Ａ^ｙの、置換基を有していてもよい炭素数３～１２のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３～９の芳香族複素環基の置換基としては、フッ素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基が好ましい。

　また、Ａ^ｘとＡ^ｙは一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、置換基を有していてもよい、炭素数４～３０の不飽和複素環、炭素数６～３０の不飽和炭素環が挙げられる。

　前記炭素数４～３０の不飽和複素環、炭素数６～３０の不飽和炭素環としては、特に制約はなく、芳香族性を有していても有していなくてもよい。例えば、下記に示す環が挙げられる。なお、下記に示す環は、式（Ｉ）中の

　として表される部分を示すものである。

　（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、前記と同じ意味を表す。）
　また、これらの環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、Ａ^ｘが有する芳香環の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。

　Ａ^ｘとＡ^ｙに含まれるπ電子の総数は、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、４以上２４以下であるのが好ましく、６以上２０以下であるのがより好ましく、６以上１８以下であるのが更により好ましい。

　Ａ^ｘとＡ^ｙの好ましい組み合わせとしては、
　（α）Ａ^ｘが炭素数４～３０の、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であり、Ａ^ｙが水素原子、炭素数３～８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、若しくは炭素数３～８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、（ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３～９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基で置換された炭素数１～１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２～１２の環状エーテル基、炭素数６～１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、－ＳＲ^１０のいずれかである組み合わせ、及び、
　（β）Ａ^ｘとＡ^ｙが一緒になって不飽和複素環又は不飽和炭素環を形成しているもの、
　が挙げられる。ここで、Ｒ^１０は前記と同じ意味を表す。

　Ａ^ｘとＡ^ｙのより好ましい組み合わせとしては、
　（γ）Ａ^ｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａ^ｙが水素原子、炭素数３～８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、若しくは炭素数３～８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、（ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３～９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基で置換された炭素数１～１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２～１２の環状エーテル基、炭素数６～１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、－ＳＲ^１０のいずれかである組み合わせである。ここで、Ｒ^１０は前記と同じ意味を表す。

　（式中、Ｘ、Ｙは、前記と同じ意味を表す。）
　Ａ^ｘとＡ^ｙの特に好ましい組み合わせとしては、
　（δ）Ａ^ｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａ^ｙが水素原子、炭素数３～８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、若しくは炭素数３～８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、（ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３～９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２～２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基で置換された炭素数１～１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２～１２の環状エーテル基、炭素数６～１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、－ＳＲ^１０のいずれかである組合せである。下記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。ここで、Ｒ^１０は前記と同じ意味を表す。

　Ａ^１は置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であっても、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がさらに好ましい。
　なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ^１、Ｙ^２を便宜上記載している（Ｙ^１、Ｙ^２は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。

　これらの中でも、Ａ^１としては、下記に示す式（Ａ１１）～（Ａ２５）で表される基がより好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ１３）、（Ａ１５）、（Ａ１９）、（Ａ２３）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ２３）で表される基が特に好ましい。

　Ａ^１の、三価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、前記Ａ^Ｘの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。Ａ^１としては、置換基を有さないものが好ましい。

　Ａ^２、Ａ^３はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３～３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
　炭素数３～３０の二価の脂環式炭化水素基としては、炭素数３～３０のシクロアルカンジイル基、炭素数１０～３０の二価の脂環式縮合環基等が挙げられる。

　炭素数３～３０のシクロアルカンジイル基としては、シクロプロパンジイル基；シクロブタン－１，２－ジイル基、シクロブタン－１，３－ジイル基等のシクロブタンジイル基；シクロペンタン－１，２－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基等のシクロペンタンジイル基；シクロヘキサン－１，２－ジイル基、シクロヘキサン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基等のシクロへキサンジイル基；シクロヘプタン－１，２－ジイル基、シクロヘプタン－１，３－ジイル基、シクロヘプタン－１，４－ジイル基等のシクロへプタンジイル基；シクロオクタン－１，２－ジイル基、シクロオクタン－１，３－ジイル基、シクロオクタン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロオクタンジイル基；シクロデカン－１，２－ジイル基、シクロデカン－１，３－ジイル基、シクロデカン－１，４－ジイル基、シクロデカン－１，５－ジイル基等のシクロデカンジイル基；シクロドデカン－１，２－ジイル基、シクロドデカン－１，３－ジイル基、シクロドデカン－１，４－ジイル基、シクロドデカン－１，５－ジイル基等のシクロドデカンジイル基；シクロテトラデカン－１，２－ジイル基、シクロテトラデカン－１，３－ジイル基、シクロテトラデカン－１，４－ジイル基、シクロテトラデカン－１，５－ジイル基、シクロテトラデカン－１，７－ジイル基等のシクロテトラデカンジイル基；シクロエイコサン－１，２－ジイル基、シクロエイコサン－１，１０－ジイル基等のシクロエイコサンジイル基；等が挙げられる。

　炭素数１０～３０の二価の脂環式縮合環基としては、デカリン－２，５－ジイル基、デカリン－２，７-ジイル基等のデカリンジイル基；アダマンタン－１，２－ジイル基、アダマンタン－１，３－ジイル基等のアダマンタンジイル基；ビシクロ［２．２．１］へプタン－２，３－ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン－２，５-ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン－２，６－ジイル基等のビシクロ［２．２．１］へプタンジイル基；等が挙げられる。

　これらの二価の脂環式炭化水素基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては、前記Ａ^Ｘの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。

　これらの中でも、Ａ^２、Ａ^３としては、炭素数３～１２の二価の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３～１２のシクロアルカンジイル基がより好ましく、下記式（Ａ３１）～（Ａ３４）

　で表される基がさらに好ましく、前記式（Ａ３２）で表される基が特に好ましい。
　前記炭素数３～３０の二価の脂環式炭化水素基は、Ｙ^１、Ｙ^３（又はＹ^２、Ｙ^４）と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在し得る。例えば、シクロヘキサン－１，４－ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体（Ａ３２ａ）とトランス型の異性体（Ａ３２ｂ）が存在し得る。

　本発明においては、シス型であってもトランス型であっても、あるいはシス型とトランス型の異性体混合物であってもよいが、配向性が良好であることから、トランス型あるいはシス型であるのが好ましく、トランス型がより好ましい。

　Ａ^４、Ａ^５はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６～３０の二価の芳香族基を表す。
　Ａ^４、Ａ^５の芳香族基は単環のものであっても、多環のものであってもよい。
　Ａ^４、Ａ^５の好ましい具体例としては、下記のものが挙げられる。

　上記Ａ^４、Ａ^５の二価の芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ニトロ基、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ^８b基；等が挙げられる。ここでＲ^８bは、炭素数１～６のアルキル基である。なかでも、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、ハロゲン原子としてはフッ素原子が、炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。

　これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ａ^４、Ａ^５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、下記式（Ａ４１）、（Ａ４２）及び（Ａ４３）で表される基がより好ましく、置換基を有していてもよい式（Ａ４１）で表される基が特に好ましい。

　Ｑ^１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を示す。
　置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、前記Ａ^Ｘで例示したのと同様のものが挙げられる。
　これらの中でも、Ｑ^１は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基が好ましく、水素原子及びメチル基がより好ましい。

　化合物（Ｉ）は、例えば、国際公開第ＷＯ２０１２／１４７９０４号に記載される、ヒドラジン化合物とカルボニル化合物との反応により製造しうる。

　〔１．９．３．重合性モノマー〕
　組成物（Ａ）が重合性液晶化合物として逆波長分散重合性液晶化合物を含有する場合、組成物（Ａ）は、任意の成分として、重合性モノマー（ａ）を含有しうる。本願において、「重合性モノマー（ａ）」とは、重合能を有しモノマーとして働きうる化合物のうち、特に、逆波長分散重合性液晶化合物以外の化合物をいう。
　重合性モノマー（ａ）としては、例えば、１分子当たり１以上の重合性基を有するものを用いうる。そのような重合性基を有することにより、光学異方性層の形成に際し重合を達成することができる。重合性モノマー（ａ）が１分子当たり２以上の重合性基を有する架橋性モノマーである場合、架橋的な重合を達成することができる。かかる重合性基の例としては、化合物（Ｉ）中の基Ｚ^１－Ｙ^７－及びＺ^２－Ｙ^８－と同様の基及びエポキシ基を挙げることができ、より具体的には例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基を挙げることができる。

　重合性モノマー（ａ）の例としては、下記一般式（Ｍ１）で表される化合物が挙げられる。
　Ｚ^Ｍ１－Ｙ^Ｍ１－Ａ^Ｍ１－Ｙ^Ｍ３－Ｍ^Ｍ－Ｙ^Ｍ４－Ａ^Ｍ２－Ｙ^Ｍ２－Ｚ^Ｍ２　　　（Ｍ１）

　式（Ｍ１）中、符号は次の意味を有する。Ｚ^Ｍ１及びＺ^Ｍ２は独立に、重合を惹起することができる反応性基を有する基を表す。
　Ｙ^Ｍ１～Ｙ^Ｍ４は独立に、化学的単結合、酸素、硫黄、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^Ｍ－、－ＮＲ^Ｍ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲ^Ｍ－、－ＮＲ^Ｍ－ＣＯ－Ｏ－または－ＮＲ^Ｍ－ＣＯ－ＮＲ^Ｍ－を表す。ここで基Ｙ^Ｍ３およびＹ^Ｍ４の中の少なくとも１個は、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲ^Ｍ－、－ＮＲ^Ｍ－ＣＯ－Ｏ－または－ＮＲ^Ｍ－ＣＯ－ＮＲ^Ｍ－を表す。
　Ａ^Ｍ１及びＡ^Ｍ２は独立に、２～３０個のＣ原子を有するスペーサーを表わし、この場合炭素鎖には、エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄または隣接していないイミノ基もしくはＣ_１～Ｃ_４－アルキルイミノ基が介在していてもよい。
　Ｍ^Ｍは、重合性モノマー（ａ）のメソゲン基を表す。Ｒ^Ｍは、Ｃ_１～Ｃ_４－アルキルを表す。重合性モノマー（ａ）に２以上のＲ^Ｍが存在する場合、これらは同一であってもよく、異なっていてもよい。
　Ｚ^Ｍ１及びＺ^Ｍ２の例としては、下記式で表される基及びエポキシ基が挙げられる。

　Ｍ^Ｍの例としては、－（－Ｔ－Ｙ^５Ｍ－）_ｒ－Ｔ－で表される基が挙げられる。ここでＴは、２価の飽和または不飽和イソ環式基またはヘテロ環式基を表し、Ｙ^５Ｍは、Ｙ^１Ｍ～Ｙ^４Ｍ、－ＣＨ_２－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－または－Ｎ＝Ｎ－を表し、ｒは、０、１、２または３を表し、この場合基ＴおよびＹ^５は、ｒが０よりも大きい場合には、同一でも異なっていてもよい。Ｔの具体的な例としては、下記式で表される基が挙げられる。

　重合性モノマー（ａ）は、それ自体が液晶性のものであってもよく、非液晶性のものであってもよい。ここで、それ自体が「非液晶性」であるとは、当該重合性モノマー（ａ）そのものを、室温から２００℃のいずれの温度に置いた場合にも、配向処理をした第一の基材上で配向を示さないものをいう。配向を示すかどうかは、偏光顕微鏡のクロスニコル透過観察にてラビング方向を面相で回転させた場合に、明暗のコントラストがあるかどうかで判断する。

　組成物（Ａ）において、重合性モノマー（ａ）の配合割合は、逆波長分散重合性液晶化合物１００重量部に対し、通常、１～１００重量部、好ましくは５～５０重量部である。当該範囲内で、重合性モノマー（ａ）の配合割合を、所望の逆波長分散特性を示すように適宜調整することにより、逆波長分散特性の精密な制御が容易となる。
　重合性モノマー（ａ）は、既知の製造方法により製造することができる。または、化合物（Ｉ）と類似の構造を持つものについては、化合物（Ｉ）の製造方法に準じて製造することができる。

　〔１．９．４．組成物（Ａ）のその他の成分〕
　組成物（Ａ）は、重合性液晶化合物及び上に述べた任意の化合物（重合性モノマー（ａ）等）に加えて、必要に応じて、以下に例示するもの等の任意の成分を含みうる。

　組成物（Ａ）は、重合開始剤を含みうる。重合開始剤としては、組成物（Ａ）中の、重合性液晶化合物、重合性モノマー（ａ）及びその他の重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜選択しうる。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用しうる。

　ラジカル重合開始剤としては、加熱することにより、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である熱ラジカル発生剤；及び可視光線、紫外線（ｉ線など）、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光光の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤；のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。

　光ラジカル発生剤としては、例えば、国際公開第ＷＯ２０１２／１４７９０４号に記載される、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ－アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α－ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。

　前記アニオン重合開始剤としては、例えば、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。

　また、前記カチオン重合開始剤としては、例えば、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。

　重合開始剤として用いうる市販の製品の例としては、イルガキュア９０７及びイルガキュア３７９（ＢＡＳＦ製）等の光重合開始剤が挙げられる。

　これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
　組成物（Ａ）において、重合開始剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．１～３０重量部、好ましくは０．５～１０重量部である。

　組成物（Ａ）は、表面張力を調整するための、界面活性剤を含みうる。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いうる。例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤が挙げられる。これらの界面活性剤であって市販のものの具体例としては、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘの「ＰＦ－１５１Ｎ」、「ＰＦ－６３６」、「ＰＦ－６３２０」、「ＰＦ－６５６」、「ＰＦ－６５２０」、「ＰＦ－３３２０」、「ＰＦ－６５１」、「ＰＦ－６５２」；ネオス社フタージェントの「ＦＴＸ－２０９Ｆ」、「ＦＴＸ－２０８Ｇ」、「ＦＴＸ－２０４Ｄ」；セイミケミカル社サーフロンの「ＫＨ－４０」、「Ｓ－４２０」等を用いることができる。また、界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。組成物（Ａ）において、界面活性剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．０１～１０重量部、好ましくは０．１～２重量部である。

　組成物（Ａ）はまた、表面張力の調整等の目的で、セルロース系高分子化合物を含みうる。特に、重合性液晶化合物として円盤状液晶化合物を用いる際には、セルロース系高分子化合物を含むことにより塗布した際のハジキの防止等の効果を発現しうる。セルロース系高分子化合物は、円盤状液晶化合物に対してなじみが良く、配向状態を乱す傾向が低い。セルロース系高分子化合物の例としては、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピレート、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、及びカルボキシメチルセルロースが挙げられる。組成物（Ａ）におけるセルロース系高分子化合物の配合割合は、重合性液晶化合物の総量に対する重量百分率として、好ましくは１～８％、より好ましくは１．５～６％である。セルロース系高分子化合物の配合割合を上記下限以上とすることにより、有効なハジキ抑制効果を得ることができ、８％以下とすることにより円盤状液晶化合物の配向速度の極端な低下を回避することができる。

　組成物（Ａ）は、有機溶媒等の溶媒を含みうる。かかる有機溶媒の例としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４－ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３－ジオキソラン、１，２－ジメトキシエタン等のエーテル類；及びトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、６０～２５０℃であることが好ましく、６０～１５０℃であることがより好ましい。溶媒の使用量は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、１００～１０００重量部である。

　組成物（Ａ）は、さらに、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の任意の添加剤を含みうる。本発明の重合性組成物において、かかる任意の添加剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、各々０．１～２０重量部である。

　組成物（Ａ）は、通常、上に述べた成分を混合することにより、調製することができる。

　組成物（Ａ）は、さらに、下記式（Ｍ５）で表される化合物を含みうる。

　ここで、Ｗ^Ｍ５は炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、塩素原子、フッ素原子、－ＣＮまたは－ＯＣＦ_３であり、Ｚは単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－または－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり；そしてｑ_Ｍは１～２０の整数である。

　式（Ｍ５）で表される化合物のより具体的な例としては、下記式（Ｍ６）で表される化合物が挙げられる。

　式（Ｍ６）で表される化合物等の、式（Ｍ５）で表される化合物を組成物（Ａ）に混合することにより、例えば、室温下におけるホメオトロピック配向液晶相の安定性に優れ、重合前後において均一な配向性を示すなどの特徴を、組成物（Ａ）に付与することができる。したがって、組成物（Ａ）から、良好な光学異方性層を形成することができる。

　組成物（Ａ）は、さらに、特開２００６－３０７１５０号公報記載の重合性液晶組成物を構成する化合物を含むことができる。これら化合物を含むことで、ホメオトロピック配向液晶相の安定性に優れた液晶組成物の層を形成することができる。

　〔２．光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置〕
　本発明の光学補償シートは、前記本発明の複層フィルムから、光学異方性層を剥離し、これを長尺状の第二の基材に貼合してなる。

　好ましい態様において、光学補償シートは、光学異方性層として、硬化液晶分子が円盤状液晶化合物の硬化物であるものを備える。さらに、特に好ましい態様において、円盤状液晶化合物の硬化物は、ハイブリッド配向した円盤状液晶化合物の硬化物である。このような光学異方性層を備える光学補償シートにより、ツイステッドネマチック型液晶表示装置等の液晶表示装置の視野角を著しく改善することが可能となる。

　第二の基材の一例としては、光学等方性の基材フィルムが挙げられる。光学等方性とは、具体的には、面内レターデーションＲｅが１０ｎｍ未満であることが好ましく、５ｎｍ未満であることがより好ましい。また、光学等方性の基材では、厚み方向のレターデーションＲｔｈも、１０ｎｍ未満であることが好ましく、５ｎｍ未満であることがより好ましい。面内レターデーションＲｅの下限は、０ｎｍとしうる。厚み方向のレターデーションＲｔｈの下限は、－１０ｎｍ超であることが好ましく、－５ｎｍ超であることがより好ましい。厚み方向のレターデーションＲｔｈは、下記式に従って算出する。
　Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝－ｎｚ］（式中、ｎｘは、基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、基材フィルム面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、ｎｚは、基材フィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄは、基材フィルムの厚み（ｎｍ）である。）
　光学等方性の基材フィルムの材料の例としては、上に述べた第一の基材フィルムと同様のものの他にセルロースエステル等が挙げられる。そのような材料の長尺状フィルムを形成し、これを延伸せず、そのまま第二の基材として用いうる。第二の基材として、光学等方性の基材フィルムを備える光学補償シートは、そのまま、表示装置等の光学装置に組み込み、光学部材として用いうる。

　本発明の光学補償シートの製造においては、複層フィルムから光学異方性層を剥離し、これを長尺状の第二の基材に貼合する工程を、ロールツーロールの操作で行うことができる。

　本発明の光学補償シートは、偏光板等の構成要素として用いうる。また、当該偏光板は、液晶表示装置の構成要素として用いうる。例えば、光学補償シートを装着した偏光板は、ツイスティッドネマチック型液晶表示装置の偏光板として利用できる。そのような液晶表示装置において、光学補償シートは、視認者側から見た表示装置の層構成が偏光板／光学補償シート／液晶セル／光学補償シート／偏光板　となる態様で設けることができる。

　〔３．λ／４波長板〕
　本発明のλ／４波長板は、前記本発明の複層フィルムから、光学異方性層を剥離し、これを長尺状の第二の基材に貼合してなる。

　好ましい態様において、λ／４波長板は、光学異方性層として、硬化液晶分子が棒状液晶化合物の硬化物であるものを備える。さらに、特に好ましい態様において、棒状液晶化合物の硬化物は、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物の硬化物である。より具体的には、λ／４波長板における光学異方性層は、そのＲｅ及び遅相軸方向等の光学特性が、上に述べた、λ／４波長板として用いうる光学特性であることが好ましい。例えば、好ましいλ／４波長板のＮｚ係数（＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５）は１．０近傍である。一方λ／４波長板を構成する第二の基材としては、上に述べた光学補償シートに用いるものと同様の物を用いうる。

　本発明のλ／４波長板の製造においては、複層フィルムから光学異方性層を剥離し、これを長尺状の第二の基材に貼合する工程を、ロールツーロールの操作で行うことができる。

　〔４．円偏光板及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置〕
　本発明の円偏光板は、前記本発明のλ／４波長板を備える。

　本発明の円偏光板の具体的な態様としては、下記の２つの態様が挙げられる。
　円偏光板（ｉ）：長尺状のλ／４波長板と、長尺状の直線偏光子とを貼合してなる円偏光板。
　円偏光板（ｉｉ）：長尺状のλ／４波長板と、長尺状のλ／２波長板と、長尺状の直線偏光子とを貼合してなる円偏光板。

　円偏光板（ｉｉ）において、λ／２波長板としては、本発明の複層フィルムであって、光学異方性層の光学特性がλ／２波長板として用いうる光学特性となるよう調製したものを用いることもでき、それ以外の既知のλ／２波長板を用いることもできる。

　円偏光板（ｉｉ）において、λ／４波長板の遅相軸と、λ／２波長板の遅相軸と、直線偏光子の吸収軸または透過軸との関係は、既知の様々な関係としうる。例えば、λ／４波長板及びλ／２波長板の両方として本発明の複層フィルムの光学異方性層を用いる場合、偏光子の吸収軸または透過軸の方向に対するλ／２波長板の遅相軸の方向が１５°またはそれに近い角度（例えば１５°±５°、好ましくは１５°±°４、より好ましくは１５°±３°）であり、偏光子の吸収軸または透過軸の方向に対するλ／４波長板の遅相軸の方向が７５°またはそれに近い角度（例えば７５°±５°、好ましくは７５°±°４、より好ましくは７５°±３°）である関係としうる。このような態様を有することにより、円偏光板を、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用の広帯域反射防止フィルムとして用いることができる。

　本発明にかかるある製品（複層フィルム、円偏光板、表示装置等）において、面内の光学軸（遅相軸、透過軸、吸収軸等）の方向及び幾何学的方向（フィルムの長尺方向及び短尺方向等）の角度関係は、ある方向のシフトを正、他の方向のシフトを負として規定され、当該正及び負の方向は、当該製品内の構成要素において共通に規定される。例えば、ある円偏光板において、「直線偏光子の吸収軸または透過軸の方向に対するλ／２波長板の遅相軸の方向が１５°であり直線偏光子の吸収軸または透過軸の方向に対するλ／４波長板の遅相軸の方向が７５°である」とは、下記の２通りの場合を表す：
　・当該円偏光板を、そのある一方の面から観察すると、λ／２波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の吸収軸または透過軸の方向から時計周りに１５°シフトし、且つλ／４波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の吸収軸または透過軸の方向から時計周りに７５°シフトしている。
　・当該円偏光板を、そのある一方の面から観察すると、λ／２波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の吸収軸または透過軸の方向から反時計周りに１５°シフトし、且つλ／４波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の吸収軸または透過軸の方向から反時計周りに７５°シフトしている。

　円偏光板（ｉ）のより具体的な態様としては、光学異方性層としてλ／４波長板を１層有し、直線偏光子の吸収軸または透過軸に対するλ／４波長板の遅相軸の方向が４５°またはそれに近い角度（例えば４５°±５°、好ましくは４５°±４°、より好ましくは４５°±３°）である関係の態様が挙げられる。このような態様を有することにより、円偏光板を、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用の反射防止フィルムとして用いることができる。

　円偏光板の製造においては、円偏光板を構成する層をロールツーロールで貼合することにより、効率的な製造を達成しうる。ロールツーロールでの貼合とは、長尺状のフィルムのロールからフィルムを繰り出し、これを搬送し、搬送ライン上で他のフィルムとの貼合の工程を行い、さらに得られた貼合物を巻き取りロールとする態様の貼合をいう。

　直線偏光子としては、液晶表示装置、及びその他の光学装置等の装置に用いられている既知の偏光子を用いうる。直線偏光子の例としては、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させた後、ホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるもの、及びポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させ延伸しさらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるものが挙げられる。直線偏光子の他の例としては、グリッド偏光子、多層偏光子、コレステリック液晶偏光子などの偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子が挙げられる。これらのうちポリビニルアルコールを含有する偏光子が好ましい。

　本発明に用いる偏光子に自然光を入射させると一方の偏光だけが透過する。本発明に用いる偏光子の偏光度は特に限定されないが、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。偏光子の平均厚みは好ましくは５～８０μｍである。

　本発明の円偏光板は、必要に応じてその他の任意の層を有していてもよい。任意の層の例としては、他の部材と接着するための接着層、フィルムの滑り性を良くするマット層、耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層、反射防止層、防汚層等が挙げられる。

　本発明の円偏光板の用途の一つとして、有機エレクトロルミネッセンス素子を有する表示装置の反射防止フィルムとしての用途が挙げられる。即ち、表示装置の表面に、上に述べた構成を有する円偏光板を、直線偏光子側の面が視認側に向くように設けることにより、装置外部から入射した光が装置内で反射して装置外部へ出射することを抑制することができ、その結果、表示装置の表示面のぎらつきなどの不所望な減少を抑制しうる。具体的には、装置外部から入射した光は、その一部の直線偏光のみが直線偏光子を通過し、次にそれが光学異方性層を通過することにより円偏光となる。ここでいう円偏光としては、実質的に反射防止機能を発現する範囲であれば楕円偏光も包含される。円偏光は、装置内の光を反射する構成要素（有機エレクトロルミネッセンス素子中の反射電極等）により反射され、再び光学異方性層を通過することにより、入射した直線偏光の偏光軸と直交する方向に偏光軸を有する直線偏光となり、直線偏光子を通過しなくなる。これにより、反射防止の機能が達成される。特に上に述べた円偏光板（ｉｉ）であれば、広帯域での反射防止の機能が達成される。本発明の円偏光板は、光学異方性層中の異物等による欠陥が少ないため、このような反射防止の効果を特に良好に得ることができる。また、光学異方性層の３次元屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）の関係について、例えば「ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ」「ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」「ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ」などの関係をもつ光学異方性層を使用することができる。３次元屈折率が「ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ」の関係をもつ光学異方性層にすることで、正面方向の反射防止機能だけではなく、斜め方向の反射防止機能も有することができる。

　以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
　以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。

　＜測定方法＞
　（Ａ）第一の基材の表面張力
　協和界面科学（株）製Drop　Master　DM500を使用し、各実施例及び比較例で調製した第一の基材をテーブルにセットし、表面張力測定用液として純水A3（JIS　K0557）を使用し、液滴法により、光学異方性層を設ける側の表面の接触角測定を行った。
　測定した接触角を式Ｉに代入することで、第一の基材の表面張力を求めた。
　cosθ＝0.0467・γ_S－1.508　　式Ｉ
　（θ：純水の接触角（°）、γ_S：第一の基材の表面張力（ｍＮ／ｍ)）

　（Ｂ）液晶組成物の表面張力
　協和界面科学（株）製Drop　Master　DM500を使用し、各実施例及び比較例で調製した溶液状の液晶組成物を表面張力測定用液として、表面張力計を使用し、懸滴法により上記式ＩＩを用いて液晶組成物液の表面張力を求めた。
　γ_L＝ｇ・ρ・（de）²H^-1　式ＩＩ
　（γ_L：液晶組成物の表面張力
　ｇ：重力加速度
　ρ：液密度
　de：最大液滴径
　H^-1：ds／deから求められる補正項
　ds：液下端de上がった位置での径）

　〔光学特性の評価方法〕
　実施例及び比較例で得られた複層フィルムの光学異方性層を、転写し、接着剤（日東電工製、商品名「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム（ゼオノアフィルムＺＦ１４－０５０、株式会社オプテス製）に貼合した。これにより、（脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム）／（粘着剤層）／（光学異方性層）の層構成を有する、光学補償シート又はλ／４波長板を作製し、これを、以下の評価に用いた。

　〔面内レターデーション、遅相軸方向及び配向状態〕
　光学補償シート又はλ／４波長板を、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、測定波長５５０ｎｍで測定し、配向状態を観察した。

　〔クロスニコル透過率〕
　光学補償シート又はλ／４波長板を、２枚の直線偏光子（偏光子及び検光子）の間に置いた。この際、前記の直線偏光子は、厚み方向から見て、互いの偏光透過軸が垂直になるように、向きを設定した。また、光学異方性層の遅相軸方向は、厚み方向から見て、直線偏光子の偏光透過軸と平行又は垂直になるように設定し、このサンプルを透過する光の透過率（クロスニコル透過率、波長５５０ｎｍ）を、日本分光社製の分光光度計「Ｖ７２００」及び自動偏光フィルム測定装置「ＶＡＰ－７０７０Ｓ」を用いて測定した。

　〔液晶表示装置での評価〕
　ツイステッドネマチック型液晶セル（液晶の異常光と常光の屈折率の差と液晶セルのギャップサイズの積４５０ｎｍ、ねじれ角９０゜）に装着された２枚の偏光板を液晶セルから剥離し、実施例１～３並びに比較例１、３、４、及び６で得た複層フィルムを用いて作製した光学補償シートを前記剥離した偏光板に装着し、視認者側から偏光板／光学補償シート／液晶セル／光学補償シート／偏光板の構成となるよう液晶セルに装着し、液晶セルを黒表示させ、以下の評価基準で評価した。ここで光学補償シートの脂環式構造含有重合体樹脂のフィルムが偏光板側となるように装着した。
　良：白い光抜けが見られる面積が、全画面中１０％未満。
　不良：白い光抜けが見られる面積が、全画面中１０％以上。

　〔有機エレクトロルミネッセンス表示装置での評価〕
　偏光フィルム（サンリッツ社製、商品名「ＨＬＣ２－５６１８Ｓ」、厚さ１８０μｍ、短尺方向に対して９０°の方向に吸収軸を有する）を用意した。この一方の面と、実施例４～６並びに比較例２、５及び７で得られた複層フィルムを用いて作製したλ／４波長板とを貼合した。貼合は粘着剤層（日東電工製、商品名「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して行った。これにより、（偏光子）／（粘着剤層）／（第二の基材）／（λ／４波長板）の層構成を有する円偏光板を得た。実施例７については、工程（７－６）で得られた円偏光板をそのまま用いた。

　市販のRGB発色の有機エレクトロルミネッセンス表示装置パネル（ＳＡＭＳＵＮＧ社製）から、タッチパネルを取り外した。発光パネル上に、上記で作製した円偏光板を配置し、黒表示、明視野下で観察し、下記の評価基準で評価した。
　良：白い光抜けが見られる面積が、全画面中１０％未満。
　不良：白い光抜けが見られる面積が、全画面中１０％以上。

　〔実施例１〕
　（１－１．第一の基材の調製）
　厚さ１００μｍ、幅１３３０ｍｍの長尺の脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム（ゼオノアフィルムＺＦ１４－１００、株式会社オプテス製）にコロナ処理（出力０．２ｋＷ、電極幅１６００ｍｍ、処理速度２０ｍ／ｍｉｎ）を施し、その後テンター延伸機に供給し、延伸温度１４５℃、延伸倍率１．５倍で斜め延伸した。これにより、延伸方向（短尺方向に対する方向）４５°、コロナ処理された側の面の表面張力３５．２ｍＮ／ｍの第一の基材を得た。

　（１－２．液晶組成物の調製）
　セルロースアセテートブチレート（コダックケミカル社製、商品名：ＣＡＢ－５３１－１）６部、特開平９－９５４６７を参照して合成した円盤状化合物Ｄ１（Ｒは、いずれも－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｐｈ－Ｏ－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ_２）１００部、トリプロピレングリコールジアクリレート（東京化成社製）１０部、光重合開始剤としてイルガキュア９０７（ＢＡＳＦ製）２部及びメチルエチルケトン４００部を混合し、液晶組成物を調製した。得られた液晶組成物について、表面張力を測定したところ、２８．３ｍＮ／ｍであった。

　（１－３．光学異方性層の形成）
　（１－１）で得た第一の基材の、コロナ処理された側の面に、（１－２）で得た液晶組成物をバーコーターにより塗布し、液晶組成物の層を形成した。これを、１４０℃の加熱ゾーンに入れ加熱状態で２分間放置後、窒素雰囲気下、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（照射強度１０ｍＷ／ｃｍ^２を照射時間１０秒）以上の紫外線を照射して、紫外線照射を行うことにより架橋反応させた。これにより膜厚２．０μｍの光学異方性層を形成し、（第一の基材）／（光学異方性層）の層構成を有する複層フィルムを得た。

　（１－４．評価）
　得られた複層フィルムの光学異方性層について、遅相軸と短尺方向とがなす角度の測定、クロスニコル透過率の測定、及び液晶表示装置での評価を行った。結果を表１にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して４５°のハイブリッド配向であり、面内方向のレターデーションＲｅは３０ｎｍであった。

　〔実施例２〕
　（２－１．第一の基材の調製）
　厚さ１００μｍ、幅１３３０ｍｍの長尺の、脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム（ゼオノアフィルムＺＦ１４－１００、株式会社オプテス製）にコロナ処理（出力０．２ｋＷ、電極幅１６００ｍｍ、処理速度２０ｍ／ｍｉｎ）を施した。このコロナ処理された面に、ポリビニルアルコール（商品名「ＰＶＡ２２６」、株式会社クラレ製）の５ｗｔ％水溶液を、＃４バーにて塗布し、１２０℃で５分間乾燥し、ポリビニルアルコールの膜を形成し、（ポリビニルアルコール層）／（脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム）の層構成を有する延伸前基材を得た。これをテンター延伸機に供給し、延伸温度１４５℃、延伸倍率１．５倍で斜め延伸した。これにより、延伸方向（短尺方向に対する方向）４５°、ポリビニルアルコール層側の表面の表面張力４４．４ｍＮ／ｍの第一の基材を得た。配向膜の厚みは０．２μｍであった。

　（２－２．光学異方性層の形成）
　（２－１）で得た第一の基材の、配向膜側の面に、実施例１の（１－２）で得た液晶組成物をバーコーターにより塗布し、液晶組成物の層を形成した。これを、１４０℃の加熱ゾーンに入れ加熱状態で２分間放置後、紫外線照射を行うことにより架橋反応させた。これにより膜厚２．０μｍの光学異方性層を形成し、（第一の基材）／（光学異方性層）の層構成を有する複層フィルムを得た。

　（２－３．評価）
　得られた複層フィルムの光学異方性層について、遅相軸と短尺方向とがなす角度の測定、クロスニコル透過率の測定、及び液晶表示装置での評価を行った。結果を表１にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して４５°のハイブリッド配向であり、面内方向のレターデーションＲｅは３５ｎｍであった。

　〔実施例３〕
　（３－１．第一の基材の調製）
　厚さ８０μｍ、幅１３３０ｍｍの長尺のＴＡＣフィルム（フジタックＴ－８０）を、４０℃のアルカリ温水溶液（０．１ＭのＮａＯＨ水溶液）中に４分間浸漬させた後、水洗し、乾燥し、ケン化ＴＡＣフィルムを得た。これをテンター延伸機に供給し、延伸温度１８５℃、延伸倍率１．８倍で斜め延伸した。これにより、延伸方向（短尺方向に対する方向）４５°、表面張力３７．４ｍＮ／ｍの第一の基材を得た。

　（３－２．光学異方性層の形成）
　（３－１）で得た第一の基材の一方の面に、実施例１の（１－２）で得た液晶組成物をバーコーターにより塗布し、液晶組成物の層を形成した。これを、１４０℃の加熱ゾーンに入れ加熱状態で２分間放置後、紫外線照射を行うことにより架橋反応させた。これにより膜厚２．０μｍの光学異方性層を形成し、（第一の基材）／（光学異方性層）の層構成を有する複層フィルムを得た。得られた光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して４５°のハイブリッド配向であった。

　（３－３．評価）
　得られた複層フィルムの光学異方性層について、遅相軸と短尺方向とがなす角度の測定、クロスニコル透過率の測定、及び液晶表示装置での評価を行った。結果を表１にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して４５°のハイブリッド配向であり、面内方向のレターデーションＲｅは４０ｎｍであった。

　〔実施例４〕
　（４－１．液晶組成物の調製）
　式（Ｂ１）で表される逆波長分散重合性液晶化合物２１．２５部、界面活性剤（商品名「サーフロンＳ４２０」、ＡＧＣセイミケミカル社製）０．１１部、重合開始剤（商品名「イルガキュア３７９」、ＢＡＳＦ社製）０．６４部、及び溶媒（シクロペンタノン、日本ゼオン株式会社製）７８．００部を混合し、液晶組成物を調製した。得られた液晶組成物について、表面張力を測定したところ、３３．４ｍＮ／ｍであった。

　（４－２．光学異方性層の形成）
　実施例１の（１－１）で得た第一の基材の、コロナ処理された側の面に、（４－１）で得た液晶組成物をダイコーターにより塗布し、液晶組成物の層を形成した。これを、１１０℃で２．５分間配向処理した。その後、窒素雰囲気下で、液晶組成物の層に、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（照射強度１０ｍＷ／ｃｍ^２を照射時間１０秒）以上の紫外線を照射して、液晶組成物中の重合性液晶化合物を重合させて、硬化液晶分子を形成した。これにより、乾燥膜厚２．３μｍの光学異方性層を得て、（第一の基材）／（光学異方性層）の層構成を有する複層フィルムを得た。

　（４－３．評価）
　得られた複層フィルムの光学異方性層について、遅相軸と短尺方向とがなす角度の測定、クロスニコル透過率の測定、及びＯＬＥＤでの評価を行った。結果を表１にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して４５°のホモジニアス配向であり、面内方向のレターデーションＲｅは１４５ｎｍであった。

　〔実施例５及び６〕
　第一の基材として、実施例１の（１－１）で得たものに代えて、実施例２の（２－１）で得たもの（実施例５）、又は実施例３の（３－１）で得たもの（実施例６）を用いた他は、実施例４と同様にして、複層フィルムを得て評価した。第一の基材のどちらの面に液晶組成物を塗布するかについては、実施例２及び３と同様とした。結果を表１にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、実施例５及び６いずれも、短尺方向に対して４５°のホモジニアス配向であり、面内方向のレターデーションＲｅは１４３ｎｍ（実施例５）、及び１４５ｎｍ（実施例６）であった。

　〔実施例７〕
　（７－１．第一の基材（７５）の調製）
　延伸方向を変更し、且つ延伸倍率を２．５倍に変更した他は、実施例２の（２－１）と同様にして、延伸方向（短尺方向に対する方向）７５°、表面張力４４．４ｍＮ／ｍの第一の基材（７５）を得た。

　（７－２．第一の基材（１５）の調製）
　延伸方向を変更した他は、実施例２の（２－１）と同様にして、延伸方向（短尺方向に対する方向）１５°、表面張力４４．４ｍＮ／ｍの第一の基材を得た。

　（７－３．液晶組成物の調製）
　重合性液晶化合物（商品名「ＬＣ２４２」ＢＡＳＦ社製、式（Ａ１）で示される化合物）２４．１５部、界面活性剤（商品名「フタージェントＦＴＸ－２０９Ｆ」、ネオス社製）０．１２部、重合開始剤（商品名「イルガキュア３７９」、ＢＡＳＦ社製）０．７３重量部、及び溶媒（メチルエチルケトン）７５．００部を混合し、液晶組成物を調製した。得られた液晶組成物について、表面張力を測定したところ、１９．０ｍＮ／ｍであった。

　（７－４．複層フィルム（７５）の調製）
　（７－１）で得た第一の基材（７５）の、配向膜側の面に、（７－３）で得た液晶組成物をバーコーターにより塗布し、液晶組成物の層を形成した。液晶組成物の層は、配向膜上において、細かいハジキに基づくムラが発生していた。これを、１１０℃で２．５分間配向処理した。その後、窒素雰囲気下で、液晶組成物の層に、積算照度１００ｍＪ／ｃｍ^２（照射強度１０ｍＷ／ｃｍ^２を照射時間１０秒）以上の紫外線を照射して、液晶組成物中の重合性液晶化合物を重合させて、硬化液晶分子を形成した。これにより、乾燥膜厚４．５μｍの光学異方性層を得て、（第一の基材）／（光学異方性層）の層構成を有する複層フィルム（７５）を得た。

　（７－５．複層フィルム（１５）の調製）
　（７－２）で得た第一の基材（１５）の、配向膜側の面に、（７－３）で得た液晶組成物をバーコーターにより塗布し、液晶組成物の層を形成した。液晶組成物の層は、配向膜上において、細かいハジキに基づくムラが発生していた。これを、１１０℃で２．５分間配向処理した。その後、窒素雰囲気下で、液晶組成物の層に、積算照度１００ｍＪ／ｃｍ^２（照射強度１０ｍＷ／ｃｍ^２を照射時間１０秒）以上の紫外線を照射して、液晶組成物中の重合性液晶化合物を重合させて、硬化液晶分子を形成した。これにより、乾燥膜厚２．１μｍの、ホモジニアス配向した光学異方性層を得て、（第一の基材）／（光学異方性層）の層構成を有する複層フィルム（１５）を得た。

　（７－６．円偏光板）
　（７－４）で得た複層フィルム（７５）の光学異方性層をλ／２波長板として用い、（７－５）で得た複層フィルム（１５）の光学異方性層をλ／４波長板として用い、円偏光板を製造した。
　まず、長尺の直線偏光子として、偏光フィルム（サンリッツ社製、商品名「ＨＬＣ２－５６１８Ｓ」、厚さ１８０μｍ、短尺方向に対して９０°の方向に吸収軸を有する）を用意した。この一方の面と、複層フィルム（７５）の光学異方性層（即ちλ／２波長板）側の面とを貼合した。貼合は粘着剤層（日東電工製、商品名「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して行った。これにより、（偏光子）／（粘着剤層）／（λ／２波長板）／（第一の基材）の層構成を有する積層体（７－ｉ）を得た。
　次に、積層体（７－ｉ）から、第一の基材を剥離し、（偏光子）／（粘着剤層）／（λ／２波長板）の層構成を有する積層体（７－ｉｉ）を得た。
　次に、積層体（７－ｉｉ）のλ／２波長板側の面と、複層フィルム（１５）の光学異方性層（即ちλ／４波長板）側の面とを貼合した。貼合は粘着剤層（日東電工製、商品名「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して行った。これにより、（偏光子）／（粘着剤層）／（λ／２波長板）／（粘着剤層）／（λ／４波長板）／（第一の基材）の層構成を有する積層体（７－ｉｉｉ）を得た。
　次に、積層体（７－ｉｉｉ）から、第一の基材を剥離し、（偏光子）／（粘着剤層）／（λ／２波長板）／（粘着剤層）／（λ／４波長板）の層構成を有する円偏光板を得た。
　これらの貼合及び剥離の操作は、いずれもロールツーロールにて連続的に行なった。したがって、貼合の操作は、いずれも長尺のフィルムの長尺方向を揃えた状態で行った。
　得られた円偏光板の構成要素の光学軸は、図３に示す角度関係を有していた。即ち、偏光子３０４側の面から円偏光板３００を観察した場合において、偏光板の吸収軸Ａ３４は、短尺方向Ａ３１と９０°の角度をなしていた。λ／２波長板３０３の遅相軸Ａ３３は、短尺方向Ａ３１から時計周りにθ_３３＝７５°シフトし、且つ、λ／４波長板３０２の遅相軸Ａ３２は、短尺方向Ａ３１から時計周りにθ_３２＝１５°シフトしていた。

　（７－７．評価）
　得られた複層フィルム（７５）及び複層フィルム（１５）の光学異方性層について、遅相軸と短尺方向とがなす角度の測定、及びクロスニコル透過率の測定を行った。結果を表１にまとめて示す。複層フィルム（７５）の光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して７５°のホモジニアス配向であり、複層フィルム（１５）の光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して１５°のホモジニアス配向であった。複層フィルム（７５）及び複層フィルム（１５）の光学異方性層のいずれにも、実用上問題無いものの、細かいハジキに基づくムラが存在した。複層フィルム（７５）の光学異方性層の面内方向のレターデーションＲｅは２７５ｎｍであった。複層フィルム（１５）の光学異方性層の面内方向のレターデーションＲｅは１４３ｎｍであった。
　また（７－６）で得られた円偏光板について、ＯＬＥＤでの評価を行った。評価に際し、図３に示す通り、円偏光板３００を、発光パネル３０１上に、偏光板３０４が出光面側となるよう載置した。結果をまとめて表１に示す。

　〔実施例８〕
　（８－１．第一の基材の調製）
　実施例１と同様にして、第一の基材を得た。

　（８－２．液晶組成物の調製）
　重合性液晶化合物（実施例７で用いたものと同じ、式（Ａ１）で示される化合物）６８部、式（Ｃ１）で示される化合物２９部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ製）３部及びメチルエチルケトン４００部を混合し、液晶組成物を調製した。得られた液晶組成物について、表面張力を測定したところ、２５ｍＮ／ｍであった。

　（８－３．光学異方性層の形成）
　（８－１）で得た第一の基材の、コロナ処理された側の面に、（８－２）で得た液晶組成物をバーコーターにより塗布し、液晶組成物の層を形成した。これを、８０℃の加熱ゾーンに入れ加熱状態で２分間放置後、窒素雰囲気下、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（照射強度１０ｍＷ／ｃｍ^２を照射時間１０秒）以上の紫外線を照射して、紫外線照射を行うことにより架橋反応させた。これにより膜厚２．０μｍの光学異方性層を形成し、（第一の基材）／（光学異方性層）の層構成を有する複層フィルムを得た。

　（８－４．評価）
　得られた複層フィルムの光学異方性層について、遅相軸と短尺方向とがなす角度の測定、クロスニコル透過率の測定、及び液晶表示装置での評価を行った。結果を表１にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して４５°のハイブリッド配向であり、面内方向のレターデーションＲｅは２８ｎｍであった。

　〔比較例１及び２〕
　（１－１）の第一の基材の調製においてコロナ処理を行わなかった他は、実施例１と同様（比較例１）又は実施例４と同様（比較例２）にして、複層フィルムを得て評価した。コロナ処理を行わなかった第一の基材の表面の表面張力は３４．０ｍＮ／ｍであった。結果を表２にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、比較例１では無配向であり、比較例２では短尺方向に対して４５°のホモジニアス配向であり、光学異方性層の面内方向のレターデーションＲｅは１３９ｎｍであった。

　〔比較例３〕
　（２－１）の第一の基材の調製において、ポリビニルアルコールを、ポリビニルアルコール（商品名「ゴーセファイマーＺ２００」、日本合成化学社製）に変更した他は、実施例２と同様にして、複層フィルムを得て評価した。第一の基材の配向膜側の表面の表面張力は５０．２ｍＮ／ｍであった。結果を表２にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、短尺方向に対して概ね４５°のハイブリッド配向であったが、面内白化が見られており、配向方向が不均一で、不良な配向であった。光学異方性層の面内方向のレターデーションＲｅは５０ｎｍであった。

　〔比較例４及び５〕
　（Ｃ４－１．第一の基材の調製）
　厚さ１００μｍ、幅１３３０ｍｍの長尺の、脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム（ゼオノアフィルムＺＦ１４－１００、株式会社オプテス製）に、（コロナ処理及び延伸を施さずに）、短尺方向に対して４５°の方向にラビング処理を施した。これにより、ラビング処理された側の面の表面張力３１．７ｍＮ／ｍの第一の基材を得た。

　（Ｃ４－２．光学異方性層の形成及び評価）
　第一の基材として、（１－１）で得たものに代えて、（Ｃ４－１）で得たものを用い、ラビング処理された側の面に光学異方性層の形成を行った他は、実施例１と同様（比較例４）又は実施例４と同様（比較例５）にして、複層フィルムを得て評価した。結果を表２にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、比較例４では短尺方向に対して４５°のハイブリッド配向であり、比較例５では短尺方向に対して４５°のホモジニアス配向であった。光学異方性層の面内方向のレターデーションＲｅは３０ｎｍ（比較例４）及び１４５ｎｍ（比較例５）であった。

　〔比較例６及び７〕
　ＴＡＣフィルムをケン化しなかった他は、実施例３と同様（比較例６）又は実施例６と同様（比較例７）にして、複層フィルムを得て評価した。ケン化しないＴＡＣフィルムの表面の表面張力は５５．０ｍＮ／ｍであった。結果を表２にまとめて示す。得られた光学異方性層の配向状態は、比較例６では無配向であり、比較例７では短尺方向に対して４５°のホモジニアス配向であり、光学異方性層の面内方向のレターデーションＲｅは１３９ｎｍであった。

　表１～２の結果より、本願実施例においては、表示装置に用いた際に表示品質を良好なものとするのに十分な配向性が得られる、光学異方性層を有する複層フィルムを、基材の延伸処理による配向規制力付与を含む効率的な製造工程で達成しうることが分かる。

　１１：円盤状液晶化合物
　２１：第一の基材の延伸による配向方向
　２２：極角０°方向
　３０４：偏光子
　３００：円偏光板
　Ａ３４：偏光板の吸収軸
　Ａ３１：短尺方向
　３０３：λ／２波長板
　Ａ３３：遅相軸
　３０２：λ／４波長板
　Ａ３２：遅相軸
　４０１：細管
　４０２：液滴

Claims

　長尺状の第一の基材と、前記第一の基材の表面に直接設けられた、硬化液晶分子を含む光学異方性層とを備える複層フィルムであって、
　前記第一の基材の前記表面は、その表面張力が３５～４５ｍＮ／ｍであり、且つ延伸による配向規制力を保有し、
　前記光学異方性層が、前記第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿った遅相軸を有する、複層フィルム。
　前記第一の基材が、複数の層からなる、請求項１に記載の複層フィルム。
　前記硬化液晶分子が、円盤状液晶化合物の硬化物である、請求項１又は２に記載の複層フィルム。
　前記硬化液晶分子が、棒状液晶化合物の硬化物である、請求項１又は２に記載の複層フィルム。
　請求項１～４のいずれか１項に記載の複層フィルムの製造方法であって、
　硬化性液晶化合物を含む液晶組成物を、長尺状の第一の基材上に塗布し、液晶組成物の層を形成し、
　前記液晶組成物の層における硬化性液晶化合物を前記第一の基材の延伸による配向方向と略同一方向に沿ってホモジニアス配向又はハイブリッド配向させ、
　前記硬化性液晶化合物を重合させ、硬化液晶分子を形成する
　ことを含む製造方法。
　前記液晶組成物が、表面張力２０～３５ｍＮ／ｍの液体である、請求項５に記載の製造方法。
　請求項１、２、又は３に記載の複層フィルムから光学異方性層を剥離し、
　前記光学異方性層を、第二の基材に貼合してなる、光学補償シート。
　請求項１、２、又は４に記載の複層フィルムから、光学異方性層を剥離し、
　前記光学異方性層を、第二の基材に貼合してなる、λ／４波長板。
　請求項７に記載の光学補償シートを備える偏光板。
　請求項８に記載のλ／４波長板を備える円偏光板。
　請求項９に記載の偏光板を備える液晶表示装置。
　請求項１０に記載の円偏光板を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置。