KR20220066837A - 광학 필름의 제조 방법 - Google Patents

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미츠루 스즈키
케이타 오가와
마사히로 무라카미
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

장척의 필름 기재(1)의 제1 주면 위에 보호 필름(2)이 박리 가능하게 첩착된 적층체(8)를, 긴 방향을 따라 박리부(10)까지 롤 반송하고, 박리부에서 필름 기재의 제1 주면으로부터 보호 필름을 박리한 후, 필름 기재의 제1 주면에 코팅액을 도포한다. 이 방법에 의해, 결점이 적고 균일성이 우수한 코팅층을 구비하는 광학 필름을 제공할 수 있다. 보호 필름의 배면의 표면 저항은 1×1011Ω/sq 이하가 바람직하다.

Description

광학 필름의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILM}
본 발명은 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치의 광학 보상, 유기 EL 소자의 외광 반사 방지 등의 기능을 갖는 광학 필름으로서 박형의 코팅 필름이 이용되고 있다. 두께가 작은 필름은 자기 지지성이 낮고, 단체(單體)에서의 핸들링이 곤란하기 때문에, 플라스틱 필름 등의 지지체 위에 용액을 도포하여 코팅층을 형성하고, 지지체 위에 코팅층을 밀착시킨 상태에서 건조나 가공이 행하여진다.
예컨대, 특허문헌 1에서는 지지체 위에 수지 용액을 도포하여 수지 코팅층을 형성하고, 지지체와 코팅층과의 적층체를 연신하여 적층 위상차 필름을 제작하는 방법이 개시되어 있다. 특허문헌 2에서는 연신 필름을 지지체로 하여, 그 위에 액정 조성물을 도포하고, 필름의 연신 방향(배향 방향)을 따라 액정 화합물을 호모지니어스 배향시켜, 배향 액정층을 제작하는 방법이 개시되어 있다.
일본 공개특허공보 제2004-46068호 국제특허 공개공보 WO2016/121856호
지지체로서의 필름 기재를 긴 방향을 따라 롤·투·롤법으로 반송하면서 그 위에 용액을 코팅하여 코팅층을 형성하는 방법에서는, 필름 기재에 흠집이 존재하면 코팅층으로의 흠집의 전사나 액정 분자의 배향 불량 등의 결점의 원인이 된다. 또한, 필름 기재의 표면 상태에 기인하는 코팅 불량에 의해, 코팅층의 막 두께나 광학 특성이 불균일하게 되는 경우가 있다.
본 발명의 일 실시형태는, 장척의 광학 필름의 제조 방법으로서, 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 장척의 필름 기재의 제1 주면 위에 코팅층을 형성한다. 우선, 장척의 필름 기재의 제1 주면에 보호 필름이 박리 가능하게 첩착된 적층체를 준비한다. 이 적층체를, 필름 기재의 긴 방향을 따라 박리부까지 롤 반송하고(제1 반송 공정), 박리부에서, 필름 기재의 제1 주면으로부터 보호 필름을 박리한다(보호 필름 박리 공정). 보호 필름을 박리한 후의 필름 기재를, 필름 기재의 긴 방향을 따라 박리부로부터 도포부까지 반송하고(제2 반송 공정), 도포부에서, 필름 기재의 제1 주면 위에 코팅을 도포하여(도포 공정), 필름 기재의 제1 주면 위에 코팅층을 구비하는 적층체를 얻는다.
코팅액은 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물이어도 된다. 액정 조성물은 광경화성의 액정 화합물을 포함하고 있어도 된다. 필름 기재 위에 광경화성의 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물을 도포한 후, 액정 화합물을 광경화하여도 된다.
필름 기재는 액정 분자를 소정 방향으로 배향시키는 배향 규제력을 갖는 것이어도 된다. 필름 기재는 예컨대, 긴 방향과 비평행하게 분자가 배향되어 있는 연신 필름이어도 되고, 경사 연신 필름이어도 된다.
보호 필름의 배면(필름 기재와의 첩합면과 반대측의 면)의 표면 저항(R)은 1×1011Ω/sq 이하가 바람직하다. 박리 각도 180°, 박리 속도 10m/분의 조건에서, 필름 기재로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력(F)은 1.5N/50mm 이하가 바람직하다. 상기의 표면 저항(R)과 박리력(F)은 log10R+2.3F≤11.5의 관계를 충족하는 것이 바람직하다.
광학 필름은 코팅층 위에 롤·투·롤로 다른 광학층을 적층한 것이어도 된다. 코팅층 위에 적층되는 광학층은 편광자를 포함하고 있어도 된다. 광학 필름은 코팅층과 편광자가 적층된 원편광판이어도 된다.
필름 기재 위에 코팅액을 도포하기 직전까지 보호 필름이 가착되어 있기 때문에, 롤 반송에 기인하는 필름 기재로의 흠집의 발생이 억제된다. 또한, 필름 기재에 가착된 보호 필름의 배면의 표면 저항 및 필름 기재와 보호 필름과의 접착력(박리력)이 작기 때문에, 보호 필름을 박리한 후의 필름 기재의 대전 등에 기인하는 코팅 불량의 발생이 억제된다. 따라서, 필름 기재에 기인하는 흠집이나 줄무늬 등의 결점이 적은 코팅층을 얻을 수 있다.
도 1은, 필름 기재 위에 코팅층을 구비하는 광학 필름의 단면도이다.
도 2는, 필름 기재 위에 보호 필름이 가착된 적층체의 단면도이다.
도 3은, 필름 기재 위에 코팅층을 형성하는 제막 장치 및 제막 공정의 개요를 나타내는 도이다.
도 4는, 누름 롤의 형상의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 5는, 일 실시형태의 광학 필름의 단면도이다.
도 6은, 일 실시형태의 광학 필름의 단면도이다.
도 7은, 일 실시형태의 광학 필름의 단면도이다.
[공정의 개요]
본 발명에서는, 장척의 필름 기재의 일 주면 위에 용액을 도포하여 코팅층을 형성한다. 도 1은, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅층(3)이 마련된 광학 필름(9)의 단면도이다. 도 2는, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 보호 필름(2)이 박리 가능하게 첩착된 적층체(8)의 단면도이다.
도 3은, 필름 기재(1) 위에 코팅층(3)을 형성하는 제막 장치 및 제막 공정의 개요를 나타내는 개념도이다. 도 3에서는, 권출 롤(81)에, 적층체(8)의 장척 필름이 롤상으로 권회된 권회체(80)가 감겨 걸려 있다. 권회체(80)로부터 권출된 적층체(8)는 반송 롤(83, 85, 87)을 따라 형성되는 반송 경로의 하류 측에 연속적으로 이동하여 박리부(10)로 반송된다(제1 반송 공정).
박리부(10)에서 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리한다(박리 공정). 보호 필름(2)을 박리함으로써, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)이 노출된다. 보호 필름을 박리한 후의 필름 기재(1)는 박리부(10)로부터 도포부(30)로 반송된다(제2 반송 공정). 도포부(30)에서는 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에, 코팅액이 도포된다(도포 공정).
필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅층(3)이 형성된 적층체(9)(광학 필름)를 권취 롤(91)로 권취함으로써, 장척의 광학 필름의 권회체(90)를 얻을 수 있다. 도포부(30)와 권취 롤(91)과의 사이에는 가열부(50)에서 가열이 행하여져도 된다. 코팅액이 광중합성 액정 화합물 등의 광중합성의 성분을 포함하는 경우에는 경화부(60)에서 광경화를 실시하여도 된다.
롤·투·롤로 필름 기재를 반송하면서 용액을 도포하는 경우에는, 반송 롤과의 접촉 및 마찰에 기인하여 필름 기재에 긴 방향을 따라 흠집이 발생하기 쉽다. 필름 기재에 흠집이 존재하면, 그 위에 코팅층을 형성했을 때에, 필름 기재의 흠집이 코팅층에 전사되어 광학적인 결점의 원인이 될 수 있다. 또한, 필름 기재 위에 액정 조성물을 도포한 경우에는, 액정 분자가 흠집의 연재 방향을 따라 배향하기 쉬워, 배향 불량 결함의 원인이 될 수 있다.
본 발명의 실시형태에서는, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 보호 필름(2)이 박리 가능하게 첩착되어 있다. 권출 롤(81)로부터 박리부(10)에 도달하기까지의 사이(제1 반송 공정), 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 보호 필름(2)이 첩착되어 있기 때문에, 제1 반송 공정에서는 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)은 반송 롤(87)과 직접 접하지 않는다. 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리한 직후에, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅액이 도포되기 때문에, 반송 롤(87)과의 접촉에 기인하는 필름 기재의 제1 주면으로의 흠집의 발생을 방지하고, 코팅층(3)으로의 흠집의 전사나 액정 분자의 배향 불량을 억제할 수 있다.
본 실시형태에서는 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리한 직후에 코팅을 실시하기 위하여, 박리부(10)와 도포부(30)가 근접하여 배치되어 있고, 제2 반송 공정에서의 필름 기재의 반송 경로가 짧다. 따라서, 필름 기재와 보호 필름과의 첩합 상태나, 박리부(10)에서 필름 기재로부터 보호 필름을 박리할 때의 정전기 등의 물리적인 작용이, 도포부(30)에서의 코팅액의 도포에 영향을 끼치는 경우가 있다. 구체적으로는, 폭 방향으로 연재하는 줄무늬 형상으로 코팅층의 두께가 작은 영역이 형성되고 광학 필름을 화상 표시 장치에 적용하였을 때에, 줄무늬 형상의 얼룩이 되어 시인되는 경우가 있다.
본 발명의 일 실시형태에서는, 보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항이 1×1011Ω/sq 이하이다. 보호 필름(2)의 표면 저항이 작음으로써, 상술한 폭 방향으로 연재하는 줄무늬 형상의 얼룩의 발생이 억제된다.
보호 필름을 박리한 직후의 필름 기재에 코팅액을 도포하였을 때에, 코팅층에 줄무늬 형상의 얼룩이 생긴 시료에 대하여 해석을 행하였더니, 코팅층을 박리한 후의 필름 기재에는 두께 얼룩이나 물리적인 변형은 인정되지 않았다. 따라서, 필름 기재 위에 형성된 코팅층에서의 줄무늬 형상의 두께 불균일은 필름 기재의 표면에 코팅액을 도포할 때의 튐에 기인한다고 생각된다.
보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항이 작음으로써, 필름 기재(1)와 보호 필름(2)과의 첩합시의 내부 대전이 저감된다. 따라서, 보호 필름(2)을 박리한 후에도 필름 기재(1)의 대전이 적고, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅액을 도포할 때의 튐이 억제되어 코팅 불량에 기인하는 줄무늬 형상의 두께 불균일의 발생을 방지할 수 있다고 생각된다.
보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항이 작을수록, 필름 기재(1) 위에 형성되는 코팅층(3)으로의 줄무늬 형상의 얼룩의 발생이 억제되는 경향이 있다. 보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항은 1×1010Ω/sq 이하가 바람직하고, 5×109Ω/sq 이하가 보다 바람직하며, 1×109Ω/sq 이하가 더욱 바람직하고, 5×108Ω/sq 이하이어도 된다. 표면 저항은 일반적으로는 1×103Ω/sq 이상이고, 1×104Ω/sq 이상, 또는 1×105Ω/sq 이상이어도 된다.
필름 기재(1)의 제1 주면(1A)으로부터 보호 필름(2)을 박리할 때의 박리력이 표면성에 영향을 미치는 경우가 있다. 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리할 때의 박리력은 1.5N/50mm 이하가 바람직하고, 1.0N/50mm 이하가 보다 바람직하며, 0.8N/50mm 이하가 더욱 바람직하다. 박리력은 박리 각도 180°, 인장 속도 10m/분의 조건에서 필름 기재로부터 보호 필름을 박리하는 박리 시험에서의 측정값이다.
코팅 불량 저감의 관점에서는, 박리력은 작을수록 바람직하다. 또한, 필름 기재로부터 보호 필름을 박리할 때의 지핑을 억제하는 관점에서도 박리력은 작은 쪽이 바람직하다. 한편, 박리력이 과도하게 작으면 필름 기재와 보호 필름과의 적층체를 롤 반송할 때에 의도치 않게, 필름 기재로부터 보호 필름이 박리되어 반송 불량의 원인이 되는 경우가 있다. 따라서, 필름 기재로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력은 0.05N/50mm 이상이 바람직하고, 0.1N/50mm 이상이 보다 바람직하며, 0.15N/50mm 이상이 더욱 바람직하고, 0.2N/50mm 이상이어도 된다.
보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항(R)이 작고, 또한 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리할 때의 박리력(F)이 작을수록 필름 기재에 기인하는 코팅 불량이 억제되는 경향이 있다. 표면 저항 R(Ω/sq)과 박리력(F)(N/50mm)은 하기 식(1)을 충족하는 것이 바람직하다.
log10R+2.3F≤11.5 …(１)
표면 저항(R) 및 박리력(F)이 작을수록 log10R+2.3F의 값이 작아지게 되고, 코팅 불량이 억제되는 경향이 있다. log10R+2.3F의 값은 11.0 이하가 바람직하고, 10.5 이하가 보다 바람직하며, 10.3 이하이어도 된다.
[재료]
이하에서는, 본 실시형태에 이용되는 각 재료에 대하여 설명한다.
<코팅액>
필름 기재(1) 위에 도포되는 코팅액은 코팅층(3)을 구성하는 고형분(용질)과 고형분을 용해·분산시키는 용매를 포함하는 용액이다. 고형분으로서는 각종의 수지 재료나 액정 재료가 이용된다.
코팅층의 수지 재료로서는 아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 말레이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 환상 폴리올레핀 수지(노보넨계 수지), 폴리아릴레이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리설폰계 수지 등을 들 수 있다.
필름 기재(1) 위에 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물을 도포하고, 액정 화합물을 소정 방향으로 배향시킨 후, 배향 상태를 고정함으로써 액정 분자가 소정 방향으로 배향된 코팅층(액정층)이 형성된다.
액정 화합물로서는 봉 형상 액정 화합물 및 원반 형상 액정 화합물 등을 들 수 있다. 필름 기재의 배향 규제력에 의해 호모지니어스 배향하기 쉬운 점에서, 액정 화합물로서는 봉 형상 액정 화합물이 바람직하다. 봉 형상 액정 화합물은 주쇄형 액정이어도 측쇄형 액정이어도 된다. 봉 형상 액정 화합물은 액정 폴리머이어도 되고, 중합성 액정 화합물의 중합물이어도 된다. 중합 전의 액정 화합물(모노머)이 액정성을 나타내는 것이면, 중합 후는 액정성을 나타내지 않는 것이어도 된다.
액정 화합물은 가열에 의해 액정성을 발현하는 서모트로픽 액정인 것이 바람직하다. 서모트로픽 액정은 온도 변화에 따라, 결정상, 액정상, 등방상의 상전이가 생긴다. 액정 조성물에 포함되는 액정 화합물은 네마틱 액정, 스멕틱 액정 및 콜레스테릭 액정 중 어느 것이어도 된다. 네마틱 액정에 카이랄제를 첨가하여 콜레스테릭 배향성을 갖게 하여도 된다.
서모트로픽성을 나타내는 봉 형상 액정 화합물로서는 아조메틴류, 아족시류, 시아노비페닐류, 시아노페닐에스테르류, 안식향산 에스테르류, 시클로헥산카복실산 페닐에스테르류, 시아노페닐시클로헥산류, 시아노 치환 페닐피리미딘류, 알콕시 치환 페닐피리미딘류, 페닐디옥산류, 톨란류, 알케닐시클로헥실벤조니트릴류 등을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물로서는, 예컨대 폴리머 바인더를 이용하여 봉 형상 액정 화합물의 배향 상태를 고정 가능하게 한 중합성 액정 화합물, 중합에 의해 액정 화합물의 배향 상태를 고정 가능하게 한 중합성 관능기를 갖는 중합성 액정 화합물 등을 들 수 있다. 이 중에서도 광경화성 관능기를 갖는 광경화성 액정 화합물이 바람직하다.
광경화성 액정 화합물(액정 모노머)은 1분자 중에 메소겐기와 적어도 하나의 광경화성 관능기를 갖는다. 액정 모노머가 액정성을 나타내는 온도(액정상 전이 온도)는 40∼200℃가 바람직하고, 50∼150℃가 보다 바람직하며, 55∼100℃가 더욱 바람직하다.
액정 모노머의 메소겐기로서는 비페닐기, 페닐벤조에이트기, 페닐시클로헥산기, 아족시벤젠기, 아조메틴기, 아조벤젠기, 페닐피리미딘기, 디페닐아세틸렌기, 디페닐벤조에이트기, 비시클로헥산기, 시클로헥실벤젠기, 터페닐기 등의 환상 구조를 들 수 있다. 이들 환상 단위의 말단은 시아노기, 알킬기, 알콕시기, 할로겐기 등의 치환기를 갖고 있어도 된다.
광경화성 관능기로서는 (메트)아크릴로일기, 에폭시기, 비닐에테르기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴로일기가 바람직하다. 광경화성 액정 모노머는 1분자 중에 2 이상의 광경화성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 2 이상의 광경화성 관능기를 포함하는 액정 모노머를 이용함으로써, 광경화 후의 액정층에 가교 구조가 도입되기 때문에, 광학 필름의 내구성이 향상하는 경향이 있다.
광경화성 액정 모노머로서는 임의의 적절한 액정 모노머가 채용될 수 있다. 예컨대, 국제 공개 제00/37585호, 미국 특허 제5211877호, 미국 특허 제4388453호, 국제 공개 제93/22397호, 유럽 특허 제0261712호, 독일 특허 제19504224호, 독일 특허 제4408171호, 영국 특허 제2280445호, 일본 공개특허공보 제2017-206460호, 국제 공개 제2014/126113호, 국제 공개 제2016/114348호, 국제 공개 제2014/010325호, 일본 공개특허공보 제2015-200877호, 일본 공개특허공보 제2010-31223호, 국제 공개 제2011/050896호, 일본 공개특허공보 제2011-207765호, 일본 공개특허공보 제2010-31223호, 일본 공개특허공보 제2010-270108호, 국제 공개 제2008/119427호, 일본 공개특허공보 제2008-107767호, 일본 공개특허공보 제2008-273925호, 국제 공개 제2016/125839호, 일본 공개특허공보 제2008-273925호 등에 기재된 화합물을 들 수 있다. 액정 모노머의 선택에 의해 복굴절의 발현성이나 리타데이션의 파장 분산을 조정할 수도 있다.
액정 조성물에는 액정 모노머에 더하여, 액정 모노머의 소정 방향으로의 배향을 제어하는 화합물이 포함되어 있어도 된다. 예컨대, 액정 조성물에 측쇄형 액정 폴리머를 포함함으로써, 액정 화합물(모노머)을 호메오트로픽 배향시킬 수 있다. 또한, 액정 조성물에 의해 카이랄제를 첨가함으로써 액정 화합물을 콜레스테릭 배향시킬 수 있다.
액정 조성물은 광중합 개시제를 포함하고 있어도 된다. 자외선 조사에 의하여 액정 모노머를 경화하는 경우에는, 광경화를 촉진하기 위하여, 액정 조성물은 광조사에 의해 라디칼을 생성하는 광중합 개시제(광 라디칼 발생제)를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 액정 모노머의 종류(광경화성 관능기의 종류)에 따라, 광 양이온 발생제나 광 음이온 발생제를 이용하여도 된다. 광중합 개시제의 사용량은 액정 모노머 100중량부에 대하여, 0.01∼10중량부 정도이다. 광중합 개시제 이외에 증감제 등을 이용하여도 된다.
액정 모노머와, 필요에 따라 각종의 배향 제어제, 중합 개시제 등을 용매와 혼합함으로써 액정 조성물을 조제할 수 있다.
(용매)
코팅액의 용매는 용질을 용해 가능하고, 또한 기판을 침식하지 않는(또는 침식성이 낮은) 것이면 특별히 한정되지 않고, 클로로포름, 디클로로메탄, 4염화탄소, 디클로로에탄, 테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, 오르쏘디클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 페놀, 파라클로로페놀 등의 페놀류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메톡시벤젠, 1,2-디메톡시벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈 등의 케톤계 용매; 초산에틸, 초산 부틸 등의 에스테르계 용매; t-부틸알코올, 글리세린, 에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 2-메틸-2,4-펜탄디올 등의 알코올계 용매; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 아미드계 용매; 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴계 용매; 디에틸에테르, 디부틸에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르계 용매; 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등을 들 수 있다. 2종 이상의 용매의 혼합 용매를 이용하여도 된다.
코팅액의 고형분 농도는 통상적으로 5∼60중량% 정도이다. 코팅액은 계면활성제나 레벨링제 등의 첨가제를 포함하고 있어도 된다.
<필름 기재>
기판으로서 장척의 필름 기재(1)를 이용함으로써 코팅액의 도포에서 건조까지의 일련의 공정을 롤·투·롤에 의해 실시할 수 있다. 코팅액이 액정 조성물인 경우에는, 코팅 후의 액정 분자의 배향 처리나 광경화 등의 조작도 필름 기재(1) 위에서 일련의 공정으로서 실시 가능하다. 또한, 필름 기재(1) 위에 형성된 코팅층(3)을 다른 기재에 첩합하는 공정도 롤·투·롤에 의해 실시할 수 있기 때문에 광학 필름의 생산성을 향상할 수 있다.
필름 기재(1)의 폭은 30cm 이상이 바람직하고, 50cm 이상, 80cm 이상, 100cm 이상 또는 120cm 이상이어도 된다. 광학 필름의 생산성의 관점에서는, 필름 기재(1)의 폭은 클수록 바람직하지만, 일반적으로는 500cm 이하이고, 400cm 이하 또는 300cm 이하이어도 된다. 필름 기재의 길이는 100m 이상이 바람직하고, 300m 이상, 500m 이상, 800m 이상, 1000m 이상 또는 1200m 이상이어도 된다. 필름 기재(1)의 길이의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 10000m 이하이고, 7000m 이하 또는 5000m 이하이어도 된다. 필름 기재(1)의 두께는 10∼200㎛ 정도가 바람직하다.
필름 기재(1)를 구성하는 수지 재료는, 코팅액의 용매에 용해하지 않고, 또한 건조, 배향 처리, 경화 등의 처리에 견딜 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 노보넨계 폴리머 등의 환상 폴리올레핀; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머; 아크릴계 폴리머; 스티렌계 폴리머; 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다.
폴리올레핀, 환상 폴리올레핀, 아크릴계 폴리머 등의 소수성의 수지 재료를 포함하는 필름은 보호 필름(2)과의 첩합시에 내부 대전이 생기기 쉽고, 보호 필름을 박리한 후에 코팅액을 도포하였을 때의 코팅 불량의 원인이 될 수 있다. 전술한 바와 같이, 배면(2A)(필름 기재(1)와의 첩합면과 반대 측의 면)의 표면 저항이 작은 보호 필름(2)을 이용함으로써, 내부 대전이 억제되기 때문에 필름 기재(1)로서 소수성의 수지 필름을 이용한 경우에도 코팅 불량을 방지할 수 있다.
필름 기재(1)는 액정 분자를 소정 방향으로 배향시키기 위한 배향 규제력을 갖고 있어도 된다. 예컨대, 필름 기재(1)는 제1 주면에 배향막을 구비하는 것이어도 된다. 배향막은 액정 화합물의 종류나 기판의 재질 등에 따라 적당히 적절한 것을 선택하면 된다. 액정 분자를 소정 방향으로 호모지니어스 배향시키기 위한 배향막으로서는 폴리이미드계나 폴리비닐알코올계의 배향막을 러빙 처리한 것을 들 수 있다. 또한 광 배향막을 이용하여도 된다. 배향막을 마련하지 않고, 수지 필름에 러빙 처리를 실시하여도 된다.
필름 기재(1)는 액정 분자를 호메오트로픽 배향시키기 위한 배향막을 구비하고 있어도 된다. 호메오트로픽 배향성의 배향막(수직 배향막)을 형성하기 위한 배향제로서는 레시틴, 스테아르산, 헥사데실트리메틸암모늄브로마이드, 옥타데실아민하이드로클로라이드, 1염기성 카복실산 크롬착체, 실란커플링제나 실록산 화합물 등의 유기 실란, 퍼플루오로디메틸시클로헥산, 테트라플루오로에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌 등을 들 수 있다.
필름 기재(1)로서 연신 필름을 이용하여도 된다. 연신 필름에서는 연신 방향으로 필름을 구성하는 수지 재료(폴리머)가 배향되어 있고, 연신 방향을 따라 액정 분자를 배향시키는 작용을 갖는다. 연신 필름을 이용함으로써, 필름 기재에 배향막을 형성하지 않는 경우이어도, 액정 분자를 소정 방향으로 배향시키기 위한 배향 규제력을 갖게 할 수 있다. 배향막의 형성을 필요로 하지 않기 때문에 광학 필름의 제조 비용을 저감할 수 있다. 또한, 배향막을 마련하지 않음으로써, 러빙 찌꺼기에 의한 오염이나 배향 불량을 방지할 수 있다.
연신 필름의 연신 방향(폴리머의 배향 방향)은 특별히 한정되지 않고, 필름 기재의 긴 방향과 평행이어도 되고, 비평행이어도 된다. 긴 방향과 비평행하게 분자가 배향되어 있는 연신 필름을 이용함으로써, 코팅층(3)으로서, 긴 방향과 비평행하게 액정 분자가 배향된 액정층을 형성할 수 있다.
연신 필름의 연신 배율은 배향 규제력을 발휘할 수 있는 정도이면 되고, 예컨대 1.1배∼5배 정도이다. 연신 필름은 2축 연신 필름이어도 된다. 2축 연신 필름이어도, 종방향과 횡방향의 연신 배율이 상이한 것을 이용하면, 연신 배율이 큰 방향을 따라 액정 분자를 배향시킬 수 있다.
연신 필름은 경사 연신 필름이어도 된다. 경사 연신 필름은 긴 방향과 평행도 직각도 아닌 방향(예컨대, 긴 방향에 대하여 10∼80°의 방향)에 배향축을 갖기 때문에, 필름 기재(1)로서 경사 연신 필름을 이용함으로써 긴 방향과 평행도 직각도 아닌 방향으로 액정 분자가 배향된 액정층을 형성할 수 있다.
<보호 필름>
필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 가착되는 보호 필름(2)은 도 2에 나타내는 바와 같이, 코어재(291)의 한쪽 면에 점착제층(292)을 구비하는 것이 바람직하다. 보호 필름(2)은 코어재(291)의 배면(점착제층 형성면과 반대 측의 면)에 대전 방지층(295)을 구비하고 있어도 된다.
(코어재)
보호 필름(2)의 코어재(291)는 가요성을 갖고 있으면 그의 재료는 특별히 한정되지 않고, 금속박이나 수지 필름 등이 이용된다. 재료가 저가이고 가공성이 우수한 점에서 수지 필름이 바람직하다. 코어재(291)를 구성하는 수지 재료의 구체예로서는 필름 기재(1)의 수지 재료로서 상술한 것을 들 수 있다. 코어재(291)는 연신 필름이어도 된다. 코어재(291)의 두께는 특별히 한정되지 않는다. 자기 지지성과 가요성을 양립시키는 관점에서 코어재(291)의 두께는 10∼100㎛ 정도가 바람직하다.
(점착제층)
점착제층(292)은 필름 기재(1)에 첩착 가능하고, 또한 필름 기재(1)로부터 박리 가능하면 되며, 일반적인 점착 테이프 등에 사용되고 있는 점착제로 구성할 수 있다. 보호 필름(2)으로서 코어재(291)를 구성하는 수지 재료와 점착제층(292)의 수지 재료를 다층 압출에 의해 일체 성형한 자기 점착성 필름을 이용하여도 된다.
점착제층(292)을 구성하는 점착제의 조성은 특별히 한정되지 않고, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐에테르, 초산비닐/염화비닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀, 에폭시계, 불소계, 천연 고무, 합성 고무 등의 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 이용할 수 있다. 특히, 접착력(박리력)의 조정이 용이하고, 피착체로서의 필름 기재(1)에서의 풀 잔여물이 적은 점에서, 아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제가 바람직하게 이용된다.
아크릴계 베이스 폴리머로서는 (메트)아크릴산알킬에스테르의 모노머 단위를 주골격으로 하는 것이 적합하게 이용된다. (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 알킬기의 탄소수가 1∼20인 (메트)아크릴산알킬에스테르가 적합하게 이용된다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 함유량은 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대하여 40중량% 이상이 바람직하고, 50중량% 이상이 보다 바람직하며, 60중량% 이상이 더욱 바람직하다. 아크릴계 폴리머는 복수의 (메트)아크릴산알킬에스테르의 공중합체이어도 된다. 구성 모노머 단위의 나열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.
아크릴계 베이스 폴리머는, 공중합 성분으로서 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머 성분을 함유하는 것이 바람직하다. 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머로서는 히드록시기 함유 모노머나 카복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 그 중에서도, 베이스 폴리머의 공중합 성분으로서, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸 등의 히드록시기 함유 모노머를 함유하는 것이 바람직하다. 베이스 폴리머의 히드록시기나 카복시기는 가교제와의 반응점이 된다. 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입됨으로써, 점착제의 응집력이 향상되고, 피착체로서의 필름 기재에 대한 적당한 접착력을 나타냄과 함께 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리할 때의 박리력이 저하되는 경향이 있다.
베이스 폴리머의 분자량은 점착제층(292)이 소기의 접착력을 갖도록 적절히 조정되지만, 예컨대, 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 5만∼200만 정도, 바람직하게는 7만∼180만 정도, 보다 바람직하게는 10만∼150만 정도, 더욱 바람직하게는 20만∼100만 정도이다. 또한, 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입되는 경우, 가교 구조 도입 전의 베이스 폴리머의 분자량이 상기 범위인 것이 바람직하다.
점착제층(292)의 접착력의 조정 등을 목적으로 하여, 베이스 폴리머에 가교 구조를 도입하여도 된다. 예컨대, 베이스 폴리머를 중합한 후의 용액에 가교제를 첨가하고, 필요에 따라 가열을 행함으로써 가교 구조가 도입된다.
가교제로서는 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 베이스 폴리머의 히드록시기나 카복시기와의 반응성이 높고 가교 구조의 도입이 용이한 점에서 이소시아네이트계 가교제 및 에폭시계 가교제가 바람직하다. 가교제의 사용량은 베이스 폴리머의 조성이나 분자량, 목적으로 하는 접착 특성 등에 따라 적절히 조정하면 된다. 점착제에 적당한 응집력을 갖게 하고, 피착체로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력을 적절한 범위로 조정하기 위해서는, 가교제의 사용량은 베이스 폴리머 100중량부에 대하여 0.5중량부 이상이 바람직하고, 1중량부 이상이 보다 바람직하며, 1.5중량부 이상이 더욱 바람직하다. 피착체에 대한 적당한 접착성을 갖게 하기 위해서는, 가교제의 사용량은 베이스 폴리머 100중량부에 대하여 20중량부 이하가 바람직하고, 15중량부 이하가 보다 바람직하며, 10중량부 이하가 더욱 바람직하다.
베이스 폴리머에 가교 구조가 도입됨으로써, 점착제의 겔 분율이 상승하고 점성 거동의 감소에 따라, 피착체로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력이 작아지는 경향이 있다. 점착제층(292)의 겔 분율은 70.0% 이상이 바람직하고, 80.0% 이상이 보다 바람직하며, 90.0% 이상이 더욱 바람직하다. 점착제층(292)의 겔 분율이 과도하게 크면, 피착체에 대한 젖음성이 저하하고, 접착력이 불충분하게 되는 경우가 있다. 따라서, 점착제층(292)의 겔 분율은 99% 이하가 바람직하고, 98% 이하가 보다 바람직하다. 겔 분율은 초산에틸 등의 용매에 대한 불용분으로서 구할 수 있고, 구체적으로는, 점착제층을 초산에틸 중에 23℃에서 7일간 침지한 후의 불용 성분의, 침지 전의 시료에 대한 중량 분율(단위: 중량%)로서 구할 수 있다. 일반적으로 폴리머의 겔 분율은 가교도와 동등하고, 폴리머 중의 가교된 부분이 많을수록 겔 분율이 커지게 된다.
점착제층(292)은 실란커플링제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 열화 방지제, 충전제, 착색제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 계면활성제, 대전 방지제 등의 첨가제를 포함하고 있어도 된다.
점착제층(292)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 피착체에 대한 접착력과 피착체로부터의 박리성을 양립하는 관점에서 점착제층(292)의 두께는 1∼50㎛가 바람직하고, 2∼40㎛가 보다 바람직하며, 3∼35㎛가 더욱 바람직하다. 점착제층(292)의 두께가 작을수록 피착체로부터의 박리성이 향상하는 경향이 있다.
(대전 방지층)
보호 필름(2)은 코어재(291)의 배면에 대전 방지층(295)을 구비하는 것이 바람직하다. 대전 방지층을 구비함으로써 보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항이 작아지기 때문에, 필름 기재(1)와 보호 필름(2)과의 적층체에서의 내부 대전을 억제할 수 있다. 또한, 보호 필름(2)이 대전 방지층(295)을 구비함으로써 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리할 때의 필름 기재(1)로의 대전을 방지하고, 정전기에 기인하는 필름 기재(1)로의 진애(塵埃)의 부착이나 코팅 불량을 억제할 수 있다.
대전 방지층으로서는 예컨대, 바인더 수지에 대전 방지 성분을 함유시켜 형성된 층을 들 수 있다. 바인더 수지로서는 열 경화형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지, 2액 혼합형 수지 등의 각종의 타입의 수지를 채용할 수 있다. 대전 방지 성분으로서는 유기 또는 무기의 도전성 물질, 각종의 대전 방지제 등을 들 수 있다. 유기 도전성 물질로서는 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리에틸렌이민, 알릴아민계 중합체 등의 도전성 폴리머를 들 수 있다. 무기 도전성 물질로서는 각종의 금속, 합금, 도전성 금속 산화물을 들 수 있다. 무기 도전성 물질은 입자 직경이 0.1㎛ 이하(전형적으로는 0.01㎛∼0.1㎛)의 미립자로서 대전 방지층에 포함되어 있는 것이 바람직하다. 대전 방지 성분은 양이온형 대전 방지제, 음이온형 대전 방지제, 양성 이온형 대전 방지제, 비이온형 대전 방지제 등이어도 된다.
<적층체>
필름 기재(1)의 한쪽 면에 보호 필름(2)의 점착제층(292)을 첩합함으로써 적층체(8)가 형성된다. 필름 기재(1) 위로의 보호 필름(2)의 적층 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 필름 기재(1)의 제조 공정에서 필름 기재(1)를 롤상으로 권취하기 전에 롤·투·롤로 필름 기재(1) 위에 보호 필름(2)을 첩합하면 된다. 필름 기재(1)의 제조 공정과 연속하여 보호 필름(2)의 첩합을 실시함으로써 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)으로의 롤의 접촉 횟수를 저감하고, 흠집의 발생을 억제할 수 있다.
필름 기재(1)가 연신 필름인 경우에는 연신 직후에 보호 필름(2)을 첩합하는 것이 바람직하다. 예컨대, 필름의 양단을 파지하는 텐터 방식에 의해 연신을 실시한 후, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)이 반송 롤과 접하기 전에 보호 필름(2)을 첩합함으로써, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)으로의 흠집의 발생을 방지할 수 있다.
전술한 바와 같이, 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리할 때의 박리력은 1.5N/50mm 이하가 바람직하고, 1.0N/50mm 이하가 보다 바람직하며, 0.8N/50mm 이하가 더욱 바람직하다. 점착제층(292)의 조성, 두께 등을 조정함으로써 박리력을 상기 범위 내로 할 수 있다. 구체적으로는, 점착제층(292)의 두께가 작을수록 박리력이 작아지는 경향이 있다. 또한, 점착제층(292)을 구성하는 베이스 폴리머로의 가교 구조의 도입량을 증가시킴으로써, 겔 분율이 상승하고 박리력이 작아지는 경향이 있다.
전술한 바와 같이, 보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항은 1×1010Ω/sq 이하가 바람직하고, 5×109Ω/sq 이하가 보다 바람직하며, 1×109Ω/sq 이하가 더욱 바람직하고, 5×108Ω/sq 이하이어도 된다. 코어재(291)의 배면에 대전 방지층을 마련함으로써, 표면 저항을 저감할 수 있다.
[광학 필름의 제작]
적층체(8)의 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리하고, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅층(3)을 형성함으로써 필름 기재(1) 위에 코팅층(3)을 구비하는 적층체(광학 필름)(9)를 얻을 수 있다. 이하에서는, 코팅액으로서 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물을 이용하고, 코팅층(3)으로서 배향 액정층을 형성하는 경우를 중심으로 각 공정에 대하여 설명한다.
<제1 반송 공정>
필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 보호 필름(2)이 첩합된 적층체(8)는 일단 롤상의 권회체(80)로서 권취되고, 권출 롤(81)에 세트된다. 권출 롤(81)에 세트된 권회체(80)로부터 권출된 적층체(8)는 반송 롤(83, 85, 87)에 따라 형성되는 반송 경로의 하류 측으로 연속적으로 이동하여, 박리부(10)로 반송된다.
필름 기재(1)와 보호 필름(2)을 첩합하여 적층체(8)를 형성하는 공정과, 제1 반송 공정은 연속하여 실시하여도 된다. 예컨대, 필름 기재(1)와 보호 필름(2)을 첩합한 후, 적층체(8)를 권취하지 않고, 그대로 박리부(10)까지 반송하여도 된다.
<박리 공정>
박리 공정에서는 박리부(10)로 반송된 적층체(8)로부터 보호 필름(2)을 박리하여, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)을 노출시킨다. 보호 필름의 박리 방법은 특별히 한정되지 않지만, 박리 롤(11) 위에서 박리를 행하는 방법이 일반적이다. 보호 필름(2)의 박리 롤(11)에 대한 포위각이 필름 기재(1)의 박리 롤(11)에 대한 포위각보다도 커지도록, 박리 롤(11)의 하류의 반송 롤(13, 23)이 배치되어 있으면, 박리 롤(11) 위에서 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리할 수 있다. 박리 롤은 적층체(8)를 상하로 끼우는 한 쌍의 닙 롤이어도 된다. 필름 기재(1)의 제1 주면으로부터 박리된 보호 필름(2)은 반송 롤(23, 25)에 의한 반송 경로를 따라 반송되고, 권취 롤(21)에서 권회체(20)로서 권취된다.
전술한 바와 같이, 필름 기재(1)로부터 보호 필름(2)을 박리할 때의 박리력을 조정함으로써, 박리시의 지핑 등에 기인하는 필름 기재(1)의 변형을 억제할 수 있다. 또한, 보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항이 작음으로써, 필름 기재(1)의 박리 대전을 억제할 수 있다.
<제2 반송 공정>
제2 반송 공정에서는 보호 필름(2)을 박리한 후의 필름 기재(1)를, 도포부(30)까지 반송한다. 박리부(10)에서 보호 필름(2)을 박리한 후의 필름 기재(1)를, 박리부(10)로부터 도포부(30)로 반송하기까지의 사이에, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)은 노출되어 있다. 본 실시형태에서는, 제2 반송 공정에서의 필름 기재(1)의 반송 경로가 짧고, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)과 반송 롤과의 접촉 기회가 적기 때문에, 제2 반송 공정에서의 필름 기재로의 흠집의 발생 빈도는 근소하다.
박리부(10)(박리 롤(11))로부터 도포부(30)(백업 롤(31))까지 필름 기재(1)를 반송하는 사이에, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에는 반송 롤이 접촉하지 않도록 하면, 제2 반송 공정에서의 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)으로의 흠집의 발생을 방지할 수 있다.
도 3의 파선으로 나타내는 바와 같이, 제2 반송 공정에서 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 롤(15)이 접촉하여도 된다. 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 롤(15)이 접촉함으로써, 필름 기재(1)에는 제1 주면 측(도의 하측)으로부터 도의 상측으로 누르는 힘이 작용한다. 따라서, 보호 필름(2)의 박리력에 의한 필름 기재(1)의 진동이 저감되고, 코팅액의 도포 불균일을 억제할 수 있다.
박리부(10)에서 보호 필름(2)을 박리한 후, 도포부(30)에서 코팅액을 도포하기까지의 사이의 필름 기재(1)의 반송 경로(제2 반송 공정)에서 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 접하는 롤(15)은 필름 기재(1)에 대한 '누름 롤'로서 작용할 수 있다.
누름 롤은, 박리부(10)에서의 보호 필름(2)의 박리에 의한 필름 기재(1)의 진동을 억제 가능하면, 필름 기재(1)의 폭 방향의 전체에 접할 필요는 없다. 누름 롤은 필름 기재(1)의 폭 방향의 양단부에만 접촉하고, 폭 방향의 중앙부에는 접촉하지 않는 것이어도 된다. 예컨대, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 접촉하는 누름 롤(15)로서, 도 4에 모식적으로 나타내는 바벨 형상의 롤(151)을 이용할 수 있다.
롤(151)은 양단에 원통 형상의 롤(15R, 15L)을 구비하고, 이들 롤보다도 직경이 작은 연결축(15C)을 개재하여 양단의 롤(15R, 15L)이 연결되어 있다. 이 롤(151)을 이용하면, 필름 기재의 폭 방향의 양단부에만 롤(151)이 접촉하고, 필름 기재의 폭 방향의 중앙에는 롤이 접촉하지 않는다.
제2 반송 공정에서, 필름 기재의 폭 방향의 양단부(롤(15R, 15L)이 접촉하는 영역)에는 롤(15)과의 접촉에 기인하여 필름 기재의 제1 주면에 흠집이 형성되는 경우가 있는데, 이 영역을 비제품 영역으로 하고, 롤(15)과 접촉하지 않는 폭 방향의 중앙만을 제품 영역으로 한다면, 필름 기재(1)의 흠집에 기인하는 결점이 적은 광학 필름(코팅층(3))을 얻을 수 있다. 예컨대, 필름 기재(1)의 폭 방향의 중앙에만 코팅액을 도포하고, 필름 기재의 폭 방향의 양단부에는 코팅층을 형성하지 않으면, 폭 방향의 중앙만이 제품 영역이 된다. 또한, 코팅층을 형성한 후의 적절한 단계에서, 필름의 펀칭이나 단부 슬릿 등의 방법에 의해 양단부의 영역을 제품으로부터 절단 제거하여 필름 기재의 폭 방향의 중앙부만을 제품 영역으로 하여도 된다.
이와 같이, 제2 반송 공정에서 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 롤이 접촉하는 경우에는, 폭 방향의 양단부에서 제1 주면(1A)에 누름 롤이 접촉하고, 폭 방향의 중앙부에서는 제1 주면에 롤이 접촉하지 않는 것이 바람직하다. 이 형태에서는, 보호 필름(2)의 박리에 기인하는 필름 기재(1)의 진동을 억제하고, 코팅층(3)의 도포 불균일을 저감할 수 있음과 함께, 필름 기재(1)의 흠집에 기인하는 결점이 적은 코팅층(3)을 얻을 수 있다.
필름 기재(1)의 양단부의 각각에서 필름 기재와 누름 롤이 접촉하는 부분의 폭은 예컨대 1∼50cm이다. 필름 기재와 누름 롤이 접촉하는 부분의 폭이 과도하게 작은 경우에는, 필름 기재의 진동 억제 작용이 불충분하게 되거나, 필름 기재의 주행성이 저하되는 경우가 있다. 필름 기재와 누름 롤이 접촉하는 부분의 폭이 과도하게 큰 경우에는, 광학 필름의 비제품 영역의 폭이 크고 생산 효율이나 수율 저하의 원인이 된다. 필름 기재와 누름 롤이 접촉하는 부분의 폭은 2cm 이상, 3cm 이상 또는 5cm 이상이어도 되고, 30cm 이하, 25cm 이하, 20cm 이하, 15cm 이하 또는 10cm 이하이어도 된다.
누름 롤은 필름 기재(1)의 폭 방향의 양단으로부터 외측으로 비어져 나오도록 배치되어 있어도 되고, 폭 방향의 양단보다도 내측에 배치되어 있어도 된다. 누름 롤이 필름 기재(1)의 폭 방향의 양단보다도 내측에 배치되어 있는 경우, 필름 기재의 폭 방향의 단으로부터 누름 롤까지의 거리는 30cm 이내, 20cm 이내, 15cm 이내, 10cm 이내, 5cm 이내, 3cm 이내, 또는 1cm 이내이어도 된다.
박리부(10)에서 보호 필름(2)을 박리한 후, 도포부(30)에서 코팅액을 도포하기까지의 사이에, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 접하는 누름 롤은 필름 기재의 양단부를 눌러 필름 기재의 진동을 억제할 수 있는 것이면 되고, 그의 형상은 도 4에 나타내는 바벨 형상으로 한정되지 않는다. 예컨대, 폭 방향의 양단에 분리하여 2개의 롤이 배치되어 있어도 된다. 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 접하는 누름 롤은 필름 기재(1)의 제2 주면(1B)에 접하는 롤과 쌍이 되어, 필름 기재(1)를 협지하는 닙 롤이어도 된다. 박리부(10)와 도포부(30)의 사이에는 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 접하는 누름 롤이 2개 이상 마련되어 있어도 된다.
제2 반송 공정에서, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 측으로부터 필름 기재를 눌러 필름 기재의 진동을 억제하는 수단은, 반드시 회전체일 필요는 없다. 예컨대, 박리부(10)와 도포부(30)의 사이에 필름 누름 기구로서, 필름 기재를 제1 주면 측(도의 하측)으로부터 제2 주면 측을 향하여 누르는 핀 등을 배치하여도 된다.
제2 반송 공정에서, 필름 기재의 양단부를 텐터 클립으로 파지하여도 된다. 이 경우에도 필름 기재의 폭 방향 중앙부에 롤 등을 접촉시키지 않고, 필름 기재의 폭 방향 양단부의 영역을 제1 주면 및 제2 주면의 양면으로부터 눌러, 보호 필름(2)의 박리에 기인하는 필름 기재(1)의 진동을 억제할 수 있다. 이 경우, 필름 기재의 제1 주면 측에 접하는 아래 클립이 필름 누름 기구로서 작용한다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 박리부(10)와 도포부(30)의 사이의 제2 반송 공정에서, 필름 기재(1)의 제2 주면(1B)에 롤(13)을 접촉시킴으로써 필름 기재(1)가 제2 주면(1B)측으로부터도 눌리기 때문에, 보호 필름(2)의 박리력에 기인하는 필름 기재(1)의 진동을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.
필름 기재(1)의 제2 주면(1B)에 접하는 롤(13)은 필름 기재의 양단부에만 접하고 있어도 되고, 필름 기재의 폭 방향 전체에 접하고 있어도 된다. 필름 기재의 반송성 등의 관점에서 롤(13)은 필름 기재의 제2 주면의 폭 방향 전체에 접하는 것이 바람직하다.
<도포 공정>
도포부(30)로 반송된 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅액이 도포된다. 도 3에 나타내는 형태에서는, 백업 롤(31)에 필름 기재(1)의 제2 주면(1B)이 접하고 있는 상태에서, 필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 다이스(33)로부터 토출된 코팅액이 도포된다.
필름 기재(1) 위에 코팅액을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 도포 방법으로서는, 다이코트 이외에 키스 롤 코트, 그라비어 코트, 리버스 코트, 스프레이 코트, 마이어 바 코트, 나이프 롤 코트, 에어 나이프 코트 등을 들 수 있다. 코팅액의 도포 두께는 용매를 건조한 후의 코팅층(3)의 두께가 0.1∼20㎛ 정도가 되도록 조정하는 것이 바람직하다.
본 실시형태에서는, 도포 공정의 직전까지 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)에 보호 필름(2)이 가착되어 보호되고 있기 때문에, 롤 반송에 기인하는 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)으로의 흠집의 발생이 억제된다. 또한, 필름 기재(1)에 가착된 보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항, 및 필름 기재(1)와 보호 필름(2)과의 접착력(박리력)이 소정 범위로 조정되어 있기 때문에, 보호 필름(2)을 박리한 후의 필름 기재(1)의 제1 주면(1A)의 대전 등에 기인하는 코팅 불량의 발생이 억제된다. 따라서, 필름 기재(1)에 기인하는 흠집이나 줄무늬 등의 결점이 적은 코팅층(3)을 형성할 수 있다.
<도포 후의 공정>
코팅액을 도포한 후의 필름 기재(1)를, 가열부(50)에서 가열하여도 된다. 가열부(50)는, 예컨대 가열로(55)를 포함하고, 필름 기재(1)가 가열로(55) 내를 반송되는 사이에, 필름 기재(1) 및 그의 위에 도포된 코팅액이 가열된다. 예컨대, 가열에 의해 코팅액의 용매를 제거할 수 있다.
코팅액이 액정 조성물이고, 액정 조성물에 포함되는 액정 화합물이 서모트로픽 액정인 경우에는 액정 조성물층을 가열하여 액정상으로 함으로써, 액정 화합물이 소정 방향으로 배향한다. 구체적으로는, 필름 기재 위에 도포한 액정 조성물을 N(네마틱상)-I(등방성 액체상) 전이 온도 이상으로 가열하여 등방성 액체 상태로 한다. 그로부터, 필요에 따라 서냉하여 네마틱상을 발현시킨다. 이 때, 일단 액정상을 나타내는 온도로 유지하고, 액정상 도메인을 성장시켜 모노도메인으로 하는 것이 바람직하다. 또는 액정 조성물을 도포한 후, 네마틱상이 발현되는 온도 범위 내에서 온도를 일정 시간 유지하여 액정 분자를 소정 방향으로 배향시켜도 된다.
액정 화합물을 소정 방향으로 배향시킬 때의 가열 온도는, 액정 조성물의 종류에 따라 적절히 선택하면 되고, 통상적으로 40∼200℃정도이다. 가열 온도가 과도하게 낮으면 액정상으로의 전이가 불충분하게 되는 경향이 있고, 가열 온도가 과도하게 높으면 배향 결함이 증가하는 경우가 있다. 가열 시간은 액정상 도메인이 충분히 성장하도록 조정하면 되고, 통상적으로 30초∼30분 정도이다.
가열에 의해 액정 화합물을 배향시킨 후, 유리 전이 온도 이하의 온도로 냉각하는 것이 바람직하다. 냉각 방법은 특별히 한정되지 않고, 예컨대 가열 분위기로부터 실온으로 취출하면 된다. 공냉, 수냉 등의 강제 냉각을 행하여도 된다.
액정 화합물이 경화성을 갖고 있는 경우에는, 경화부(60)에서 경화를 행하는 것이 바람직하다. 예컨대, 액정 화합물이 광경화성을 갖고 있는 경우에는 광경화성 액정 화합물(액정 모노머)이 액정 규칙성을 가진 상태에서 광경화가 행하여진다. 광원(61)으로부터의 조사 광은 광경화성 액정 화합물을 중합시키는 것이 가능하면 되고, 통상적으로는 파장 250∼450nm의 자외선 또는 가시광선이 이용된다. 액정 조성물이 광중합 개시제를 포함하는 경우에는, 광중합 개시제가 감도를 갖는 파장의 광을 선택하면 된다. 조사 광원으로서는 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈할라이드 램프, 크세논 램프, LED, 블랙 라이트, 케미컬 램프 등이 이용된다. 광경화 반응을 촉진하기 위하여, 광 조사는 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기 하에서 행하는 것이 바람직하다.
광경화할 때에 소정 방향의 편광을 이용함으로써 액정 화합물을 소정 방향으로 배향시킬 수도 있다. 상기와 같이, 필름 기재(1)의 배향 규제력에 의해 액정 화합물을 배향시키는 경우, 조사 광은 비편광(자연광)이어도 된다.
조사 강도는 액정 조성물의 조성이나 광중합 개시제의 첨가량 등에 따라 적절히 조정하면 된다. 조사 에너지(적산 조사 광량)는 통상적으로 20∼10000mJ/cm2 정도이고, 50∼5000mJ/cm2가 바람직하며, 100∼800mJ/cm2가 보다 바람직하다. 광경화 반응을 촉진하기 위하여 가열 조건 하에서 광 조사를 실시하여도 된다.
액정 모노머를 광경화한 후의 중합물은 비액정성이고, 온도 변화에 따른 액정상, 유리상, 결정상의 전이가 생기지 않는다. 따라서, 액정 모노머를 소정 방향으로 배향시킨 상태에서 광경화된 액정층은 온도 변화에 의한 분자 배향의 변화가 생기기 어렵다. 또한 액정층은 비액정 재료를 포함하는 필름에 비하여 복굴절이 현격히 크기 때문에, 소망하는 리타데이션을 갖는 광학 이방성 소자의 두께를 현격히 작게 할 수 있다.
코팅층(액정층)(3)의 광학 특성은 특별히 한정되지 않는다. 코팅층(3)의 정면 리타데이션 및 두께 방향 리타데이션은 용도 등에 따라 적절히 설정하면 된다. 액정 분자가 호모지니어스 배향되어 있는 경우, 코팅층(3)의 정면 리타데이션은 예컨대, 20∼1000nm 정도이다. 코팅층(3)이 1/4 파장판인 경우, 정면 리타데이션은 100∼180nm가 바람직하고, 120∼150nm가 보다 바람직하다. 코팅층(3)이 1/2 파장판인 경우, 정면 리타데이션은 200∼340nm가 바람직하고, 240∼300nm가 보다 바람직하다. 액정이 호메오트로픽 배향되어 있는 경우는, 코팅층(3)의 면내 리타데이션은 대략 0(예컨대 5nm 이하, 바람직하게는 3nm 이하)이고, 두께 방향 리타데이션의 절대값은 30∼500nm 정도이다.
액정층 등의 코팅층(3)의 리타데이션은 두께에 비례한다. 코팅액을 도포할 때에, 필름 기재의 표면의 튐 등에 기인하여 국소적으로 두께가 작은 부분이 형성되면, 그 부분의 리타데이션이 작아지기 때문에 표시 장치에서 광학적인 불균일이 된다. 전술한 바와 같이, 본 실시형태에서는 보호 필름(2)의 배면(2A)의 표면 저항, 및 필름 기재(1)와 보호 필름(2)과의 접착력(박리력)이 소정 범위로 조정되어 있고, 코팅 불량에 기인하는 줄무늬 형상의 두께 불균일의 발생이 억제되어 있다. 따라서, 광학 필름(코팅층)의 두께 불균일에 기인하는 리타데이션의 불균일이 생기기 어렵고, 광학적인 균일성이 우수하다.
코팅층(액정층)(3)에서의 액정 분자의 배향 방향은 필름 기재(1)의 긴 방향(롤·투·롤의 반송 방향)과 평행이어도 되고, 비평행이어도 된다. 전술한 바와 같이, 경사 연신 필름 등의 배향 규제력을 이용함으로써 긴 방향과 비평행하게 액정 분자가 배향되어 있는 액정층을 형성할 수 있다. 긴 방향과 비평행하게 액정 분자가 배향되어 있는 경우, 필름 기재에 긴 방향을 따라 흠집이 존재하면, 그 위에 형성되는 액정층은 액정 분자가 흠집을 따라 긴 방향으로 배향하기 때문에 배향 불량의 원인이 된다. 상술한 바와 같이, 필름 기재(1)에 가착한 보호 필름(2)을 박리한 직후에, 필름 기재(1) 위에 액정 조성물을 도포함으로써 필름 기재로의 흠집의 발생을 억제하고, 액정층의 배향 불량을 저감할 수 있다.
<광학 필름의 가공>
필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅층(3)이 형성된 적층체(9)(광학 필름)를 권취 롤(91)로 권취함으로써, 장척의 광학 필름의 권회체(90)를 얻을 수 있다. 이 적층체(9)는 그대로 광학 필름으로서 이용할 수 있다. 필름 기재(1)의 폭 방향의 양단부의 영역은, 비제품 영역이기 때문에 코팅층(3)을 형성한 후 권취 롤(91)로 권취되기까지의 사이, 또는 권취 롤(91)로 권취한 후의 적절한 단계에서 슬릿에 의해 절단 제거하여도 된다. 또한, 폭 방향의 양단부의 영역이 포함되지 않도록 필름을 펀칭하여 매엽의 제품을 절취하여도 된다.
필름 기재(1)의 제1 주면(1A) 위에 코팅층(3)이 형성된 적층체(9)는 그대로 광학 필름으로서 이용하여도 되고, 필름 기재(1)를 박리 제거하여 코팅층(3)만을 광학 필름으로서 이용하여도 된다. 코팅층(3)이 수지층인 경우에는 필름 기재(1)와 코팅층(3)과의 적층체를 연신하여 코팅층(3)에 광학 이방성을 부여하여도 된다.
코팅층(3) 위에는 다른 층을 적층하여도 된다. 예컨대, 코팅층(3) 위에 접착제층(5)을 개재하여 광학층(4)을 첩합함으로써, 도 5에 나타내는 적층체(96)가 얻어진다.
코팅층(3) 위에 적층되는 광학층(4)은 특별히 한정되지 않고, 광학 필름으로서 일반적으로 이용되는 광학 등방성 또는 광학 이방성의 필름을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 광학층(4)의 구체예로서는 위상차 필름이나 편광자 보호 필름 등의 투명 필름, 편광자, 시야각 확대 필름, 시야각 제한(엿보기 방지) 필름, 휘도 향상 필름 등의 기능성 필름을 들 수 있다. 광학층(4)은 단층이어도 적층체이어도 된다. 광학층(4)은 액정층이어도 된다. 광학층(4)은 편광자의 한쪽 면 또는 양면에 투명 보호 필름이 첩합된 편광판이어도 된다. 편광판이 한쪽 면에 투명 보호 필름을 구비하는 경우, 편광자와 코팅층을 첩합하여도 되고, 투명 보호 필름과 코팅층을 첩합하여도 된다.
접착제층(5)을 구성하는 접착제는 광학적으로 투명하다면 그의 재료는 특별히 제한되지 않고, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 아크릴 수지, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르, 폴리비닐알코올 등을 들 수 있다. 접착제층(5)의 두께는 피착체의 종류나 접착제의 재료 등에 따라 적절히 설정된다. 도포 후의 가교 반응에 의해 접착성을 나타내는 경화형의 접착제를 이용하는 경우, 접착제층(5)의 두께는 0.01∼5㎛가 바람직하고, 0.03∼3㎛가 보다 바람직하다.
접착제로서는 수계 접착제, 용제계 접착제, 핫멜트 접착제계, 활성 에너지선 경화형 접착제 등의 각종 형태의 것이 이용된다. 이들 중에서도 접착제층의 두께를 작게할 수 있는 점에서 수계 접착제 또는 활성 에너지선 경화형 접착제가 바람직하다.
코팅층(3)의 표면 및 광학층(4)의 표면 중 어느 한쪽 또는 양쪽에 접착제를 도포하고 경화함으로써, 접착제층(5)을 개재하여 코팅층(3)과 광학층(4)이 적층된다. 접착제의 경화는 접착제의 종류에 따라 적절히 선택하면 된다. 예컨대, 수계 접착제는 가열에 의해 경화할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제는 자외선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 경화할 수 있다.
필름 기재(1) 위의 코팅층(3)에 접착제층(5)을 개재하여 광학층(4)이 첩합된 적층체(96)는 그대로 광학 필름으로서 이용하여도 된다. 이 경우, 필름 기재(1)가 광학 필름의 일부를 구성한다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 코팅층(3)으로부터 필름 기재를 박리 제거하여도 된다. 필름 기재의 박리에 의해 노출된 코팅층(3)의 표면에는 도 7에 나타내는 바와 같이 적절한 점착제층(6)을 적층하여도 된다.
점착제층(6)을 구성하는 점착제는 특별히 제한되지 않고, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르, 불소계 폴리머, 고무계 폴리머 등을 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 이용할 수 있다. 특히, 아크릴계 점착제나 고무계 점착제 등의 투명성이 우수하고 적당한 젖음성과 응집성과 접착성을 나타내며, 내후성이나 내열성 등이 우수한 점착제가 바람직하다. 점착제층의 두께는 피착체의 종류 등에 따라 적절히 설정되고, 일반적으로는 5∼500㎛ 정도이다.
코팅층(3) 위로의 점착제층(6)의 적층은 예컨대, 미리 시트상으로 형성된 점착제를 코팅층(3)의 표면에 첩합함으로써 행하여진다. 코팅층(3) 위에 점착제 조성물을 도포한 후, 용매의 건조, 가교, 광경화 등을 행하여 점착제층(6)을 형성하여도 된다. 코팅층(3)과 점착제층(6)과의 접착력(투묘력)을 높이기 위하여, 코팅층(3)의 표면에 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리나 이접착층을 형성한 후에, 점착제층(6)을 적층하여도 된다.
점착제층(6)의 표면에는 세퍼레이터(7)가 가착되어 있는 것이 바람직하다. 세퍼레이터(7)는 광학 필름을 다른 부재와 첩합하기까지의 사이에 점착제층(6)의 표면을 보호한다. 세퍼레이터의 구성 재료로서는 아크릴, 폴리올레핀, 환상 폴리올레핀, 폴리에스테르 등의 플라스틱 필름이 적합하게 이용된다. 세퍼레이터의 두께는 통상적으로 5∼200㎛ 정도이다. 세퍼레이터의 표면에는 이형 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 이형제로서는 실리콘계 재료, 불소계 재료, 장쇄 알킬계 재료, 지방산 아미드계 재료 등을 들 수 있다.
필름 기재(1)를 박리한 후의 코팅층(3)의 노출면에는, 적절한 접착제층 또는 점착제층을 개재하여 다른 광학층을 적층하여도 된다. 예컨대, 코팅층(3) 위에 적절한 접착제층을 개재하여 다른 광학층을 적층하여도 되고, 그 위에 추가로 점착제층을 적층하여도 된다.
코팅층을 구비하는 광학 필름은, 예컨대 화상 표시 장치용 광학 필름으로서 이용 가능하다. 코팅층(3) 위에 다른 광학층(4)이 첩합된 광학 필름의 일례로서, 코팅층(3)으로서의 배향 액정층과 편광판을 적층한 원편광판을 들 수 있다.
편광판은 1층의 편광자만을 포함하는 것이어도 되고, 전술한 바와 같이, 편광자의 한쪽 면 또는 양면에 투명 보호 필름이 첩합되어 있어도 된다. 편광자로서는 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·초산 비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성(二色性) 염료 등의 이색성 물질을 흡착시켜 1축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다.
그 중에서도 높은 편광도를 가지는 점에서, 폴리비닐알코올이나 부분 포르말화 폴리비닐알코올 등의 폴리비닐알코올계 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질을 흡착시켜 소정 방향으로 배향시킨 폴리비닐알코올(PVA)계 편광자가 바람직하다. 예컨대, 폴리비닐알코올계 필름에 요오드 염색 및 연신을 실시함으로써 PVA계 편광자를 얻을 수 있다. 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하고, 적층체의 상태에서 요오드 염색 및 연신을 행하여도 된다.
편광판과 액정층이 적층된 원편광판에서는, 적어도 1층의 액정층은 액정 분자가 호모지니어스 배향되어 있는 것이 바람직하다. 원편광판에서는 액정 분자가 호모지니어스 배향되어 있는 액정층에서의 액정 분자의 배향 방향과, 편광자의 흡수축 방향이 평행도 직각도 아니도록 배치된다.
예컨대, 원편광판이 액정층을 1층만 갖는 경우, 코팅층(3)으로서의 액정층은 1/4 파장판이고, 편광자의 흡수축 방향과 액정 분자의 배향 방향(일반적으로는 지상축 방향)이 이루는 각은 45°로 설정된다. 편광자의 흡수축 방향과 액정 분자의 배향 방향이 이루는 각은 35∼55°이어도 되고, 40∼50°이어도 되며, 43∼47°이어도 된다.
편광판(4)과 1/4 파장판으로서의 코팅층(3)이, 양자의 광학축이 이루는 각이 45°로 되도록 적층된 구성에서는, 또한 액정 분자가 기판면에 대하여 수직 배향(호메오트로픽 배향)되어 있는 액정층을 구비하고 있어도 된다. 편광판 위에 1/4 파장판으로서의 코팅층(3)과 포지티브 C 플레이트로서 기능하는 호메오트로픽 액정층이 순서대로 적층됨으로써, 경사 방향으로부터의 외광에 대해서도 반사광을 차폐 가능한 원편광판을 형성할 수 있다. 편광판 위에, 호메오트로픽 배향 액정층(포지티브 C 플레이트)과 호모지니어스 배향 액정층(포지티브 A 플레이트인 1/4 파장판)이 순서대로 적층되어 있어도 된다.
편광판에 복수의 액정층이 적층된 원편광판에서, 액정층은 어느 것이나 호모지니어스 배향 액정층이어도 된다. 이 경우, 편광판(4)에 가까운 측에 배치되는 액정층이 1/2 파장판이고, 편광판으로부터 먼 측에 배치되는 액정층이 1/4 파장판인 것이 바람직하다. 이 적층 구성에서는 1/2 파장판의 지상축 방향과 편광자의 흡수축 방향이 이루는 각이 75°±5°, 1/4 파장판의 지상축 방향과 편광자의 흡수축 방향이 이루는 각이 15°±5°가 되도록 배치하는 것이 바람직하다. 이와 같은 적층 구성의 원편광판은 가시광선의 넓은 파장 범위에 걸쳐 원편광판으로서 기능하기 때문에 반사광의 착색을 저감할 수 있다.
상기와 같이, 본 발명의 실시형태에서는 코팅액을 도포하기 직전까지 필름 기재의 표면에 보호 필름이 가착되어 있기 때문에, 필름 기재로의 흠집의 발생이 억제되어 있고, 필름 기재의 흠집에 기인하는 코팅층의 결함이 적다. 또한, 코팅층이 배향 액정층이고, 액정 분자가 필름 기재의 긴 방향과 비평행하게 배향되어 있는 경우에도 배향 불량 결함이 적다. 또한, 필름 기재와 보호 필름과의 첩합에 기인하는 코팅 불량이 억제되어 있기 때문에, 코팅층의 면내 균일성이 높고, 양호한 표시 특성을 실현할 수 있다.
[실시예]
이하에, 실시예를 나타내어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기의 예로 한정되는 것은 아니다.
<코팅액의 조제>
네마틱 액정상을 나타내는 광중합성 액정 화합물(BASF 제조 'Paliocolor LC242')을 시클로펜타논에 용해하여 고형분 농도 30중량%의 용액을 조제하였다. 이 용액에 계면활성제(빅·케미 제조 'BYK-360') 및 광중합 개시제(IGM Resins 제조 'Omnirad907')를 첨가하여 액정 조성물 용액을 조제하였다. 레벨링제 및 중합 개시제의 첨가량은 광중합성 액정 화합물 100중량부에 대하여 각각 0.01중량부 및 3중량부로 하였다.
<보호 필름 부착 필름 기재의 제작>
환상 폴리올레핀 수지(일본 제온(XEON) 제조 '제오노아 1420R')의 펠릿을 이용하여 용융 압출법에 의해 막 형상으로 성형한 후, 2축 연신을 행하여 두께 33㎛, 면내 리타데이션 135nm의 연신 필름을 얻었다. 연신 필름 기재의 편면에 보호 필름을 첩합한 후, 이 적층체를 롤 형상으로 권취하였다.
보호 필름으로서는 2축 연신 폴리에스테르 필름의 편면에 아크릴계 점착제층을 구비하는 것을 이용하였다. 점착제층의 조성 및 두께와 배면에 마련된 대전 방지층의 종류를 변경함으로써 보호 필름의 배면의 표면 저항, 및 필름 기재로부터의 박리력을 조정하였다.
<배향 액정층의 제작>
도 3에 나타내는 코팅 장치의 권출 롤에 상기의 적층체를 세트하고, 적층체를 롤·투·롤 반송하면서 필름 기재로부터 보호 필름을 박리하여, 필름 기재의 표면에 상기의 액정 조성물을 건조한 후의 두께가 1㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 3분간 가열하여 액정을 배향시켰다. 실온으로 냉각한 후, 질소 분위기 하에서 적산 광량 400mJ/cm2의 자외선을 조사하여 광경화를 행하고, 필름 기재 위에 호모지니어스 배향 액정층이 형성된 적층체를 얻었다.
[평가]
<박리력>
필름 기재와 보호 필름과의 적층체를 폭 50mm, 길이 100mm의 사이즈로 절취하여, 박리 각도 180°, 인장 속도 10m/분의 조건에서 필름 기재로부터 보호 필름을 박리하였을 때의 박리력을 측정하였다.
<표면 저항>
온도 23℃, 상대 습도 50%의 환경하에서, 저항률계(TREK 제조 'Model 152-1'을 이용하여 보호 필름의 배면(점착제층 비형성면)에 프로브(닛토세이코아날리테크 제조 '하이레스타-UX MCP-HT800')를 접촉시켜, 인가 전압 10V, 전압인가 시간 30초의 조건에서 표면 저항을 측정하였다. 대전 방지층을 형성하지 않은 보호 필름(비교예 1, 2)의 표면 저항은 측정 상한(1×1013Ω/sq)을 초과하고 있었다.
<줄무늬 얼룩>
유리 기판 위에 투명 아크릴계 점착 시트를 첩합하고, 그 위에 배향 액정층을 첩합한 후, 배향 액정층으로부터 필름 기재를 박리하였다. 이 시료를, 크로스 니콜로 배치한 2매의 편광판의 사이에 배치하고, 트레이스대의 위에서 육안으로 관찰하였다. 폭 방향으로 연재하는 줄무늬 형상의 얼룩이 보여진 것을 NG, 줄무늬 형상의 얼룩이 확인되지 않은 것을 OK로 하였다.
[평가 결과]
실시예 및 비교예에서 이용한 보호 필름의 배면의 표면 저항(R) 및 필름 기재로부터의 박리력(F), 및 배향 액정층의 줄무늬 얼룩의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure pat00001
어느 실시예 및 비교예에서도 액정의 배향 결함은 확인되지 않았다. 이는 액정 조성물을 도포하기 직전까지 필름 기재의 표면에 보호 필름이 가착되어 있어, 필름 기재로의 흠집의 발생이 억제되었기 때문이라고 생각된다.
배면에 대전 방지층을 구비하는 보호 필름을 이용한 실시예 1∼9에서는, 줄무늬 얼룩이 확인되지 않았던 것에 대하여, 대전 방지층을 구비하지 않은 보호 필름을 이용한 비교예 1, 2에서는 폭 방향으로 연재하는 줄무늬 형상의 얼룩이 배향 액정층의 전면에서 발생하여 있었다. 박리력(F)이 큰 보호 필름을 이용한 비교예 3에서도 비교예 1, 2와 마찬가지로 줄무늬 형상의 얼룩이 발생하여 있었다.
상기의 결과로부터, 배면의 표면 저항이 작고 박리력이 작은 보호 필름을 필름 기재에 가착하여 두고, 필름 기재로부터 보호 필름을 박리한 직후에 액정 조성물을 도포함으로써, 배향 결함이 없고, 또한 면내의 균일성이 우수한 배향 액정층이 얻어지는 것을 알 수 있다.
실시예 및 비교예에서 얻어진 배향 액정층의 막 두께 및 면내 리타데이션의 분포를 측정하였더니, 비교예 1∼3의 배향 액정층은 줄무늬 얼룩의 발생 개소의 두께가 다른 개소에 비하여 30∼40nm 작아져 있었고, 두께가 작은 개소에서 면내 리타데이션이 작아져 있었다. 한편, 배향 액정층을 박리한 후의 필름 기재에는 줄무늬 형상의 두께 불균일은 확인되지 않았다.
상기의 결과로부터, 비교예 1∼3에서는 보호 필름을 박리한 후의 필름 기재의 국소적인 대전 등에 기인하여, 액정 조성물을 도포하였을 때의 튐에 의한 코팅 불량이 생긴 것으로 추정된다. 이에 대해 실시예에서는 보호 필름의 표면 저항 및/또는 박리력이 작기 때문에 보호 필름을 박리한 후의 필름 기재로의 대전 등의 영향이 작고, 코팅 불량이 억제되며, 면내 균일성이 높은 배향 액정층이 형성되었다고 생각된다.
1: 필름 기재
2: 보호 필름
291: 코어재
292: 점착제층
295: 대전 방지층
3: 코팅층(액정층)
4: 광학층(편광판)
5: 접착제층
6: 점착제층
7: 세퍼레이터
8: 적층체
9, 96, 97, 98: 적층체(광학 필름)
81: 권출 롤
21, 91: 권취 롤
10: 박리부
11: 박리 롤
30: 도포부
31: 백업 롤
33: 다이스
50: 가열부
55: 가열로
60: 경화부
61: 광원
83, 85, 87: 반송 롤
13: 반송 롤
15, 151: 누름 롤
71, 73, 75, 77, 79: 반송 롤

Claims (11)

  1. 장척의 광학 필름의 제조 방법으로서,
    제1 주면 및 제2 주면을 갖는 장척의 필름 기재의 제1 주면 위에 보호 필름이 박리 가능하게 첩착된 적층체를 준비하는 공정;
    상기 적층체를, 상기 필름 기재의 긴 방향을 따라, 박리부까지 롤 반송하는 제1 반송 공정;
    상기 박리부에서, 상기 필름 기재의 제1 주면으로부터 상기 보호 필름을 박리하는 보호 필름 박리 공정;
    상기 보호 필름을 박리한 후의 상기 필름 기재를, 상기 필름 기재의 긴 방향을 따라 상기 박리부로부터 도포부까지 반송하는 제2 반송 공정; 및
    상기 도포부에서, 상기 필름 기재의 제1 주면 위에 코팅액을 도포하여, 상기 필름 기재의 제1 주면 위에 코팅층을 구비하는 적층체를 얻는 도포 공정
    을 갖고,
    상기 보호 필름은 상기 필름 기재와의 첩합면과 반대 측의 면의 표면 저항이 1×1011Ω/sq 이하인,
    광학 필름의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    박리 각도 180°, 박리 속도 10m/분의 조건에서, 상기 필름 기재로부터 상기 보호 필름을 박리할 때의 박리력이 1.5N/50mm 이하인, 광학 필름의 제조 방법
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    박리 각도 180°, 박리 속도 10m/분의 조건에서, 상기 필름 기재로부터 상기 보호 필름을 박리할 때의 박리력(F)(N/50mm)과, 상기 보호 필름의 배면의 표면 저항(R)(Ω/sq)이,
    log10R+2.3F≤11.5
    를 충족하는, 광학 필름의 제조 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 코팅액이 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물인, 광학 필름의 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 액정 조성물은 광경화성의 액정 화합물을 포함하고,
    상기 도포 공정 후에, 추가로 상기 액정 화합물을 광경화하는 공정을 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 필름 기재는 상기 긴 방향과 비평행하게 분자가 배향되어 있는 연신 필름인, 광학 필름의 제조 방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제2 반송 공정에서, 상기 필름 기재의 제1 주면의 폭 방향의 중앙부에 롤이 접촉하지 않는, 광학 필름의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제2 반송 공정에서, 상기 필름 기재의 제1 주면의 폭 방향의 양 단부에, 적어도 1회는 필름 누름 기구가 접촉하고, 또한 상기 필름 누름 기구는 상기 필름 기재의 제1 주면의 폭 방향의 중앙부에는 접촉하지 않는, 광학 필름의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 필름 누름 기구가, 상기 필름 기재의 제1 주면의 폭 방향의 양 단부에만 접촉하는 누름 롤인, 광학 필름의 제조 방법.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 코팅층 위에 롤·투·롤로 다른 광학층을 적층하는 공정을 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 광학층이 편광자를 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004046068A (ja) 2002-01-23 2004-02-12 Nitto Denko Corp 複屈折層の製造方法、および前記複屈折層を含む光学フィルム
WO2016121856A1 (ja) 2015-01-30 2016-08-04 日本ゼオン株式会社 複層フィルム、その用途、及び製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5211607B2 (ja) * 2007-09-26 2013-06-12 大日本印刷株式会社 セパレータレス型保護フィルム
JP6092035B2 (ja) * 2013-07-30 2017-03-08 日東電工株式会社 表面保護フィルムおよび光学部材
JP6442886B2 (ja) * 2014-06-27 2018-12-26 日本ゼオン株式会社 複層フィルム、位相差フィルム、円偏光板、及び、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
JP6697876B2 (ja) * 2015-12-28 2020-05-27 日東電工株式会社 透明導電性フィルム用保護フィルム及び積層体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004046068A (ja) 2002-01-23 2004-02-12 Nitto Denko Corp 複屈折層の製造方法、および前記複屈折層を含む光学フィルム
WO2016121856A1 (ja) 2015-01-30 2016-08-04 日本ゼオン株式会社 複層フィルム、その用途、及び製造方法

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