CN116500716A - 被覆盖且带相位差层的偏光薄膜 - Google Patents

被覆盖且带相位差层的偏光薄膜 Download PDF

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Abstract

提供适于实现良好的切割加工性的柔性设备用途的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。被覆盖薄膜具备带相位差层的偏光薄膜、粘合剂层(20)、(30)、剥离衬垫(40)、(50)。带相位差层的偏光薄膜依次具备偏光薄膜、粘接剂层、相位差层、粘接剂层和相位差层。粘合剂层(20)配置于带相位差层的偏光薄膜的偏光薄膜侧，粘合剂层(30)配置于带相位差层的偏光薄膜的相位差层侧。剥离衬垫(40)以能够剥离的方式与粘合剂层(20)接触。剥离衬垫(50)以能够剥离的方式与粘合剂层(30)接触。粘合剂层(20)、(30)的总厚度相对于带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率为2以上，粘合剂层(20)、(30)的总厚度相对于被覆盖薄膜的厚度的比率为0.45以下。

Description

被覆盖且带相位差层的偏光薄膜
技术领域
本发明涉及被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。
背景技术
显示器面板具有例如包含像素面板、偏光板、相位差板和表面覆盖层等光学构件的层叠结构。另一方面，在智能手机用途和平板终端用途中，进行了能够反复折弯(可折叠)的显示器面板的开发。可折叠显示器面板能够在弯曲形状与平坦的非弯曲形状之间反复变形。在这种可折叠显示器面板中，层叠结构中的各光学构件以能够反复折弯的光学构件的方式制作。在光学构件之间的接合中使用粘合剂层。
在可折叠显示器面板的制造过程中，预先制造用于形成层叠结构的一部分的光学层叠体。光学层叠体被供给至可折叠显示器面板的生产线。作为这样的光学层叠体，可列举出两面具有粘合剂层的带相位差层的偏光薄膜。该薄膜朝着厚度方向依次具备粘合剂层、带相位差层的偏光薄膜和粘合剂层。该薄膜以各粘合剂层被剥离衬垫覆盖的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的方式制造。剥离衬垫在规定的时刻从粘合剂层上剥离。关于可折叠显示器面板等柔性设备用途的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，例如在下述专利文献1中有所记载。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2021-91117号公报
发明内容
发明要解决的问题
对于可折叠显示器面板中的粘合剂层要求高度软质，以使其具有在设备弯曲时对于被粘物的充分追随性和优异的应力松弛性。然而，粘合剂层越为软质，则以往的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜在利用切割刃进行切割加工时，越容易产生胶污物(粘合剂层的端部自薄膜的切割端面溢出而污染)和缺胶(因面向薄膜切割端面的粘合剂层的端部附着于切割刃而被去除，从而发生脱落)。
本发明提供用于对于实现良好的切割加工性而言适合的柔性设备用途的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。
用于解决问题的方案
本发明[1]包括一种被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其具备带相位差层的偏光薄膜、第一粘合剂层、第二粘合剂层、第一剥离衬垫和第二剥离衬垫，所述带相位差层的偏光薄膜朝着厚度方向依次具备偏光薄膜、第一粘接剂层、第一相位差层、第二粘接剂层和第二相位差层，所述第一粘合剂层配置于前述带相位差层的偏光薄膜的前述偏光薄膜侧，且在与前述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第一粘合面，所述第二粘合剂层配置于前述带相位差层的偏光薄膜的前述第二相位差层侧，且在与前述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第二粘合面，所述第一剥离衬垫以能够剥离的方式与前述第一粘合面接触，所述第二剥离衬垫以能够剥离的方式与前述第二粘合面接触，前述第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于前述带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率为2以上，前述第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于前述被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率为0.45以下。
本发明[2]包括上述[1]所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，前述第一剥离衬垫的厚度相对于前述第一粘合剂层的厚度的比率为0.8以上，前述第二剥离衬垫的厚度相对于前述第二粘合剂层的厚度的比率为0.8以上。
本发明[3]包括一种被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其具备带相位差层的偏光薄膜、第一粘合剂层、第二粘合剂层、第一剥离衬垫和第二剥离衬垫，所述带相位差层的偏光薄膜朝着厚度方向依次具备偏光薄膜、第一粘接剂层、第一相位差层、第二粘接剂层和第二相位差层，所述第一粘合剂层配置于前述带相位差层的偏光薄膜的前述偏光薄膜侧，且在与前述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第一粘合面，所述第二粘接剂层配置于前述带相位差层的偏光薄膜的前述第二相位差层侧，且在与前述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第二粘合面，所述第一剥离衬垫以能够剥离的方式与前述第一粘合面接触，所述第二剥离衬垫以能够剥离的方式与前述第二粘合面接触，前述第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于前述带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率为2以上，前述第一剥离衬垫的厚度相对于前述第一粘合剂层的厚度的比率为0.8以上，前述第二剥离衬垫的厚度相对于前述第二粘合剂层的厚度的比率为0.8以上。
本发明[4]包括上述[1]～[3]中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，前述第一粘合剂层和/或第二粘合剂层在25℃下具有100kPa以下的剪切储能模量。
本发明[5]包括上述[1]～[4]中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，前述第一粘合剂层和/或前述第二粘合剂层具有20μm以上的厚度。
本发明[6]包括上述[1]～[5]中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，前述第一粘合剂层厚于前述第二粘合剂层，且前述第一剥离衬垫厚于前述第二剥离衬垫；或者，前述第二粘合剂层厚于前述第一粘合剂层，且前述第二剥离衬垫厚于前述第一剥离衬垫。
本发明[7]包括上述[1]～[6]中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，前述偏光薄膜具备偏光件和保护层，所述保护层是配置于该偏光件的前述第一粘合剂层侧的保护层、和/或、配置于前述偏光件的前述第二粘合剂层侧的保护层。
本发明[8]包括上述[7]所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，前述偏光件具有8μm以下的厚度。
发明的效果
本发明的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜中，如上所述，第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率大至2以上。这种构成适于确保带相位差层的偏光薄膜借助第一粘合剂层/第二粘合剂层进行贴合的被粘物在弯曲时的第一粘合剂层/第二粘合剂层对于该被粘物的充分追随性和优异的应力松弛性。这种被覆盖且带相位差层的偏光薄膜适于制造能够良好地反复变形的柔性设备。另外，本发明的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜中，如上所述，第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率小至0.45以下。或者，第一剥离衬垫的厚度相对于第一粘合剂层的厚度的比率为0.8以上，第二剥离衬垫的厚度相对于第二粘合剂层的厚度的比率为0.8以上。这种被覆盖且带相位差层的偏光薄膜适于抑制在利用切割刃进行切割加工时夹在剥离衬垫与带相位差层的偏光薄膜之间的各粘合剂层(第一粘合剂层、第二粘合剂层)的变形。抑制切割加工时的粘合剂层的变形有助于抑制上述胶污物和缺胶。因此，被覆盖且带相位差层的偏光薄膜适于实现良好的切割加工性。
附图说明
图1是本发明的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的一个实施方式的截面示意图。
附图标记说明
X 被覆盖薄膜
D 厚度方向
10带相位差层的偏光薄膜(带相位差层的偏光薄膜)
11偏光薄膜
11a偏光件
11b保护层
12粘接剂层(第一粘接剂层)
13相位差层(第一相位差层)
14粘接剂层(第二粘接剂层)
15相位差层(第二相位差层)
20粘合剂层(第一粘合剂层)
21粘合面(第一粘合面)
30粘合剂层(第二粘合剂层)
31粘合面(第二粘合面)
40剥离衬垫(第一剥离衬垫)
50剥离衬垫(第二剥离衬垫)
具体实施方式
作为本发明的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的一个实施方式(第一实施方式、第二实施方式)的被覆盖薄膜X如图1所示那样，具备带相位差层的偏光薄膜10、粘合剂层20(第一粘合剂层)、粘合剂层30(第二粘合剂层)、剥离衬垫40(第一剥离衬垫)和第二剥离衬垫50(第二剥离衬垫)。被覆盖薄膜X具有规定厚度的片形状，且在与厚度方向D正交的方向(面方向)上扩展。具体而言，被覆盖薄膜X朝着厚度方向D依次具备剥离衬垫40、粘合剂层20、带相位差层的偏光薄膜10、粘合剂层30和剥离衬垫50。
带相位差层的偏光薄膜10朝着厚度方向D依次具备偏光薄膜11、粘接剂层12(第一粘接剂层)、相位差层13(第一相位差层)、粘接剂层14(第二粘接剂层)和相位差层15(第二相位差层)。粘合剂层20配置于带相位差层的偏光薄膜10的偏光薄膜11侧。本实施方式中，粘合剂层20与偏光薄膜11接触。粘合剂层20在与带相位差层的偏光薄膜10相反的一侧具有粘合面21(第一粘合面)。粘合剂层30配置于带相位差层的偏光薄膜10的相位差层15侧。本实施方式中，粘合剂层30与相位差层15接触。粘合剂层30在与带相位差层的偏光薄膜10相反的一侧具有粘合面31(第二粘合面)。这些带相位差层的偏光薄膜10和粘合剂层20、粘合剂层30形成两面粘合型的带相位差层的偏光薄膜Y。另外，剥离衬垫40以能够剥离的方式与粘合面21接触。剥离衬垫50以能够剥离的方式与粘合面31接触。两面粘合型的带相位差层的偏光薄膜Y配置于柔性设备中的像素面板的观察侧。具体而言，带相位差层的偏光薄膜Y的粘合剂层30被贴合于像素面板的观察侧表面。作为柔性设备，可列举出例如柔性显示器面板。作为柔性显示器面板，可列举出例如可折叠显示器面板和可卷曲显示器面板。向柔性显示器面板的生产线中供给带相位差层的偏光薄膜Y时，剥离衬垫40、剥离衬垫50分别在规定的时刻从带相位差层的偏光薄膜Y上剥离。
剥离衬垫40具有厚度H1。粘合剂层20具有厚度H2。带相位差层的偏光薄膜10具有厚度H3。粘合剂层30具有厚度H4。剥离衬垫50具有厚度H5。
被覆盖薄膜X的第一实施方式中，粘合剂层20、粘合剂层30的总厚度(H2+H4)相对于带相位差层的偏光薄膜10的厚度H3的比率(第一厚度比率)为2以上，并且，粘合剂层20、粘合剂层30的总厚度(H2+H4)相对于整体厚度Ha(＝H1+H2+H3+H4+H5)的比率(第二厚度比率)为0.45以下。
第一厚度比率大至2以上适于确保贴合有带相位差层的偏光薄膜10的被粘物在弯曲时的粘合剂层20、粘合剂层30对于该被粘物的充分追随性和优异的应力松弛性。这种被覆盖薄膜X适于制造能够良好地反复变形的柔性设备。
另外，第二厚度比率小至0.45以下在利用切割刃进行被覆盖薄膜X的切割加工时适于抑制夹在剥离衬垫40、剥离衬垫50与带相位差层的偏光薄膜10之间的粘合剂层20、粘合剂层30的变形。在被覆盖薄膜X中，被更硬质的带相位差层的偏光薄膜10和剥离衬垫40、剥离衬垫50夹持的更软质的粘合剂层20、粘合剂层30的厚度比例越小，则在切割加工时对于该粘合剂层20、粘合剂层30发挥作用的实际切割力越会降低。抑制切割加工时的粘合剂层20、粘合剂层30的变形有助于抑制上述胶污物和缺胶。因此，被覆盖薄膜X适于实现良好的切割加工性。
如上那样，被覆盖薄膜X作为柔性设备用途的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜而适于实现良好的切割加工性。
从粘合剂层20、粘合剂层30的追随性和应力松弛性的观点出发，第一厚度比率优选为2.4以上、更优选为2.8以上、进一步优选为3.2以上、特别优选为3.6以上。第一厚度比率例如为8以下、6以下或5以下。
从提高切割加工性的观点出发，第二厚度比率优选为0.44以下、更优选为0.43以下、进一步优选为0.42以下、特别优选为0.41以下。第二厚度比率例如为0.1以上、0.2以上或0.3以上。
从抑制被覆盖薄膜X在切割加工时的粘合剂层20的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性(抑制胶污物、抑制缺胶)的观点出发，剥离衬垫40的厚度H1相对于粘合剂层20的厚度H2的比率(第三厚度比率)优选为0.8以上、更优选为0.9以上、进一步优选为0.95以上、特别优选为1以上。在被覆盖薄膜X中，与更软质的粘合剂层20邻接配置的更硬质的剥离衬垫40越厚，则在切割加工时对于粘合剂层20发挥作用的实际切割力越会降低。从被覆盖薄膜X的薄型化的观点出发，第三厚度比率优选为5以下、更优选为4以下、进一步优选为3以下、特别优选为2以下。
从抑制被覆盖薄膜X在切割加工时的粘合剂层30的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性(抑制胶污物、抑制缺胶)的观点出发，剥离衬垫50的厚度H5相对于粘合剂层30的厚度H4的比率(第四厚度比率)优选为0.8以上、更优选为0.9以上、进一步优选为0.95以上、特别优选为1以上。在被覆盖薄膜X中，与更软质的粘合剂层30邻接配置的更硬质的剥离衬垫50越厚，则在切割加工时对于粘合剂层30发挥作用的实际切割力越会降低。从被覆盖薄膜X的薄型化的观点出发，第四厚度比率优选为5以下、更优选为4以下、进一步优选为3以下、特别优选为2以下。
从使带相位差层的偏光薄膜Y确保在柔性设备用途中要求的柔软性的观点出发，粘合剂层20在25℃下的剪切储能模量(第一剪切储能模量)优选为100kPa以下、更优选为80kPa以下、进一步优选为50kPa以下、特别优选为30kPa以下。从实现上述良好的切割加工性的观点出发，第一剪切储能模量优选为1kPa以上、更优选为5kPa以上、进一步优选为10kPa以上。粘合剂层的剪切储能模量的测定方法如后面在实施例中所述。
从使带相位差层的偏光薄膜Y确保在柔性设备用途中要求的柔软性的观点出发，粘合剂层30在25℃下的剪切储能模量(第二剪切储能模量)优选为100kPa以下、更优选为80kPa以下、进一步优选为50kPa以下、特别优选为30kPa以下。从实现上述良好的切割加工性的观点出发，第二剪切储能模量优选为1kPa以上、更优选为5kPa以上、进一步优选为10kPa以上。
从利用剥离衬垫40来确保表面保护功能的观点出发，剥离衬垫40的厚度H1优选为30μm以上、更优选为40μm以上、进一步优选为50μm以上。从被覆盖薄膜X的薄型化的观点出发，剥离衬垫40的厚度H2优选为200μm以下、更优选为150μm以下、进一步优选为120μm以下。
从使粘合剂层20确保在柔性设备用途中要求的优异应力松弛性的观点出发，粘合剂层20的厚度H2优选为20μm以上、更优选为35μm以上、进一步优选为50μm以上、特别优选为60μm以上。从抑制被覆盖薄膜X在切割加工时的粘合剂层20的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性的观点出发，粘合剂层20的厚度H2优选为150μm以下、更优选为100μm以下、进一步优选为80μm以下、特别优选为60μm以下。
从带相位差层的偏光薄膜10的薄型化的观点出发，带相位差层的偏光薄膜10的厚度H3优选为70μm以下、更优选为60μm以下、进一步优选为50μm以下、特别优选为40μm以下。从确保光学功能的观点出发，带相位差层的偏光薄膜10的厚度H3优选为10μm以上、更优选为20μm以上、进一步优选为25μm以上。
从使粘合剂层30确保在柔性设备用途中要求的优异的应力松弛性的观点出发，粘合剂层30的厚度H4优选为20μm以上、更优选为35μm以上、进一步优选为50μm以上、特别优选为60μm以上。从抑制被覆盖薄膜X在切割加工时的粘合剂层30的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性的观点出发，粘合剂层30的厚度H4优选为150μm以下、更优选为100μm以下、进一步优选为80μm以下、特别优选为60μm以下。
从利用剥离衬垫50来确保表面保护功能的观点出发，剥离衬垫50的厚度H5优选为30μm以上、更优选为40μm以上、进一步优选为50μm以上。从被覆盖薄膜X的薄型化的观点出发，剥离衬垫50的厚度H5优选为200μm以下、更优选为150μm以下、进一步优选为120μm以下。
从切割加工性与薄型化的平衡的观点出发，被覆盖薄膜X的厚度Ha优选为180μm以上、更优选为200μm以上，另外，优选为500μm以下、更优选为400μm以下、进一步优选为330μm以下、特别优选为300μm以下。
在被覆盖薄膜X中，在粘合剂层20厚于粘合剂层30的情况(第一情况)下，优选这样的粘合剂层20侧的剥离衬垫40厚于剥离衬垫50。即，被覆盖薄膜X优选的是：粘合剂层20厚于粘合剂层30，且剥离衬垫40厚于剥离衬垫50。这种构成对于抑制被覆盖薄膜X的整体厚度且针对更厚的粘合剂层20抑制切割加工时的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性而言是优选的。在第一情况下，粘合剂层20的厚度H2相对于粘合剂层30的厚度H4比率例如为1.1以上、1.3以上或1.5以上，另外，例如为3以下、2.5以下或2以下。在第一情况下，剥离衬垫40的厚度H1相对于剥离衬垫50的厚度H5的比率优选为1.1以上、更优选为1.3以上、进一步优选为1.5以上，另外，优选为3以下、更优选为2.5以下、进一步优选为2以下。
在粘合剂层30厚于粘合剂层20的情况(第二情况)下，优选这样的粘合剂层30侧的剥离衬垫50厚于剥离衬垫40。即，被覆盖薄膜X优选的是：粘合剂层30厚于粘合剂层20，且剥离衬垫50厚于剥离衬垫40。这种构成对于抑制被覆盖薄膜X的整体厚度且针对更厚的粘合剂层30抑制切割加工时的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性而言是优选的。在第二情况下，粘合剂层30的厚度H4相对于粘合剂层20的厚度H2的比率例如为1.1以上、1.3以上或1.5以上，另外，例如为3以下、2.5以下或2以下。在第二情况下，剥离衬垫50的厚度H5相对于剥离衬垫40的厚度H1的比率优选为1.1以上、更优选为1.3以上、进一步优选为1.5以上，另外，优选为3以下、更优选为2.5以下、进一步优选为2以下。
本实施方式中，偏光薄膜11具备偏光件11a和保护层11b。保护层11b配置于偏光件11a的粘合剂层20侧。保护层11b借助例如粘接剂(省略图示)而接合于偏光件11a。作为粘接剂，可以使用例如针对粘接剂层12而在后面说明的粘接剂。这种偏光薄膜11对于实现薄型化和偏光件损伤的抑制的兼顾而言是优选的。偏光薄膜11的薄型化有助于带相位差层的偏光薄膜10的薄型化，因此，有助于两面粘合型的带相位差层的偏光薄膜Y的薄型化。
从偏光薄膜11和带相位差层的偏光薄膜10的薄型化的观点出发，偏光件11a的厚度优选为8μm以下、更优选为6μm以下、进一步优选为5μm以下。从确保偏光薄膜11的偏光功能的观点出发，偏光件11a的厚度优选为1μm以上、更优选为2μm以上、进一步优选为3μm以上。
从确保对偏光件11a的保护功能的观点出发，保护层11b的厚度优选为5μm以上、更优选为10μm以上。从偏光薄膜11和带相位差层的偏光薄膜10的薄型化的观点出发，保护层11b的厚度优选为40μm以下、更优选为30μm以下、进一步优选为20μm以下。
被覆盖薄膜X的第二实施方式中，第一厚度比率为2以上，第三厚度比率为0.8以上，且第四厚度比率为0.8以上。另外，被覆盖薄膜X的第二实施方式中，第二厚度比率可以超过0.45。除了具有这样的厚度比率之外，第二实施方式与第一实施方式相同。
如上所述，第一厚度比率大至2以上适于使粘合剂层20、粘合剂层30确保对于被粘物的充分追随性和优异的应力松弛性，因此，适于制造能够良好地反复变形的柔性设备。另外，第三厚度比率和第四厚度比率这两者大至0.8以上适于在利用切割刃进行被覆盖薄膜X的切割加工时抑制夹在剥离衬垫40、剥离衬垫50与带相位差层的偏光薄膜10之间的粘合剂层20、粘合剂层30的变形。抑制切割加工时的粘合剂层20、粘合剂层30的变形有助于抑制上述胶污物和缺胶。因此，被覆盖薄膜X适于实现良好的切割加工性。
这种第二实施方式中，从粘合剂层20、粘合剂层30的追随性和应力松弛性的观点出发，第一厚度比率优选为2.4以上、更优选为2.8以上、进一步优选为3.2以上、特别优选为3.6以上。第一厚度比率例如为8以下、6以下或5以下。从抑制被覆盖薄膜X在切割加工时的粘合剂层20的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性(抑制胶污物、抑制缺胶)的观点出发，第三厚度比率优选为0.9以上、更优选为0.95以上、进一步优选为1以上。从被覆盖薄膜X的薄型化的观点出发，第三厚度比率优选为5以下、更优选为4以下、进一步优选为3以下、特别优选为2以下。从抑制被覆盖薄膜X在切割加工时的粘合剂层30的变形而实现被覆盖薄膜X的良好的切割加工性的观点出发，第四厚度比率优选为0.9以上、更优选为0.95以上、进一步优选为1以上。从被覆盖薄膜X的薄型化的观点出发，第四厚度比率优选为5以下、更优选为4以下、进一步优选为3以下、特别优选为2以下。
如上所述，带相位差层的偏光薄膜10中的偏光薄膜11具备偏光件11a和保护层11b。
作为偏光件11a，可列举出例如如下那样的第一类型的偏光件和第二类型的偏光件。第一类型的偏光件是由历经基于二色性物质的染色处理和其后的拉伸处理而得到的亲水性高分子薄膜形成的偏光件。作为二色性物质，可列举出例如碘和二色性染料。作为亲水性高分子薄膜，可列举出例如聚乙烯醇(PVA)薄膜、部分缩甲醛化PVA薄膜、以及乙烯-乙酸乙烯酯共聚物的部分皂化薄膜。第二类型的偏光件是由多烯取向薄膜形成的偏光件。作为多烯取向薄膜的材料，可列举出例如PVA的脱水处理物和聚氯乙烯的脱盐酸处理物。这些之中，通过对PVA薄膜实施基于碘的染色处理和单轴拉伸处理而得到的偏光件(第一类型的偏光件)的作为偏光件的光学特性优异，故而优选。
作为亲水性高分子薄膜的染色处理，可列举出例如该薄膜在碘水溶液中的浸渍。单轴拉伸处理中的拉伸倍率优选为3倍以上，另外，优选为7倍以下。拉伸处理可以在染色处理之后实施，也可以在染色处理的同时实施，还可以在染色处理之前实施。拉伸处理可以包括将亲水性高分子薄膜在浸渍至硼酸水溶液中的状态下进行拉伸的操作。拉伸处理可以进一步包括：将在硼酸水溶液中进行拉伸之前的亲水性高分子薄膜在例如95℃以上的高温下进行空中拉伸的操作。另外，亲水性高分子薄膜可根据需要而实施其它处理。作为其它处理，可列举出例如清洗处理、溶胀处理、交联处理和干燥处理。例如，通过在染色处理前将亲水性高分子薄膜浸渍于水而能够去除该薄膜表面的附着物(清洗处理)，并且，能够使该薄膜发生溶胀(溶胀处理)。作为附着物，可列举出例如抗粘连剂和尘埃。从抑制/防止染色处理中的染色不均的观点出发，优选为染色处理前的亲水性高分子薄膜的溶胀。
对亲水性高分子薄膜进行的上述处理可以在亲水性高分子薄膜被基材薄膜支承的状态下实施。对被基材薄膜支承的亲水性高分子薄膜进行处理的方法适于制作薄的偏光件。作为在基材薄膜上配置有亲水性高分子薄膜的层叠体，可列举出例如以下那样的第一类型的层叠体和第二类型的层叠体。第一类型的层叠体是具有树脂制的基材薄膜与贴合于该基材薄膜的亲水性高分子薄膜的层叠结构的层叠体。第二类型的多层层叠体是具有树脂制的基材薄膜与形成在该基材薄膜上的亲水性树脂层的层叠结构的层叠体。亲水性树脂层可通过在基材薄膜上涂布亲水性树脂水溶液而形成涂膜后，使该涂膜干燥来形成。基材薄膜可作为偏光件的保护层而发挥功能。可以将偏光件自基材薄膜转印至另行准备的保护层。使用层叠体的偏光件制造方法的详情记载于例如日本特开2012-73580号公报和日本特开2019-053278号公报。
偏光件11a优选在波长380nm～780nm中的任意波长下显示吸收二色性。偏光件11a的单体透射率优选为41.5％以上、更优选为43％以上、进一步优选为44.5％以上，另外，优选为46％以下、更优选为45.5％以下。偏光件11a的偏光度优选为97％以上、更优选为99％以上、进一步优选为99.9％以上。偏光件11a的偏光度例如为100％以下。这些构成对于确保偏光件11a的偏光功能而言是优选的。
作为保护层11b的材料，可列举出例如聚烯烃、纤维素、聚酯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚苯乙烯、聚降冰片烯、乙酸酯、(甲基)丙烯酸类、氨基甲酸酯、(甲基)丙烯酸类氨基甲酸酯、环氧树脂和有机硅。“(甲基)丙烯酸类”是指丙烯酸类和/或甲基丙烯酸类。作为聚烯烃，可列举出例如聚乙烯、聚丙烯和环烯烃聚合物(COP)。作为纤维素，可列举出例如三乙酸纤维素(TAC)。保护层11b的材料可以为热固化型树脂，也可以为紫外线固化型树脂。作为保护层11b的材料，也可列举出硅氧烷聚合物等玻璃质聚合物。作为保护层11b，也可以使用日本特开2001-343529号公报记载的聚合物薄膜。作为该聚合物薄膜的材料，可列举出例如包含在侧链具有取代或非取代的酰亚胺基的热塑性树脂以及在侧链具有取代或非取代的苯基和腈基的热塑性树脂的树脂。作为这样的树脂，可列举出例如包含异丁烯与N-甲基马来酰亚胺的交替共聚物以及丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂。聚合物薄膜例如为树脂的挤出成形物。
保护层11b的粘合剂层20侧的面可以进行表面处理。作为表面处理，可列举出例如硬涂处理、防反射处理、防粘连处理和防眩光处理。另外，保护层11b的粘合剂层20侧的面可以进行对隔着偏光太阳镜对具有带相位差层的偏光薄膜10的显示器面板进行观察时的观察性加以改善的处理。作为这样的处理，可列举出例如对保护层11b赋予圆偏光功能的处理、赋予椭圆偏光功能的处理和赋予超高相位差的处理。这些处理对于室外用显示器面板和车载用显示器面板的用途的带相位差层的偏光薄膜10而言是优选的。
偏光薄膜10可以在偏光件11a的粘接剂层12侧具有除保护层11b之外的别的保护层(未图示)。具体而言，偏光薄膜10在具备配置于偏光件11a的粘合剂层20侧的保护层11b的同时，可以具备配置于偏光件11a的粘合剂层30侧的保护层，也可以具备配置于偏光件11a的粘合剂层30侧的保护层而不具备保护层11b。对亲水性高分子薄膜进行支承的上述基材薄膜可以用作这样的保护层。别的保护层优选具有光学各向同性。“光学各向同性”是指：面内相位差Re(550)为0nm～10nm且厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm～+10nm。从确保对偏光件11a的保护功能的观点出发，别的保护层的厚度优选为5μm以上、更优选为10μm以上。从带相位差层的偏光薄膜10的薄型化的观点出发，别的保护层的厚度优选为40μm以下、更优选为30μm以下、进一步优选为20μm以下。从带相位差层的偏光薄膜10的薄型化的观点出发，偏光薄膜10优选不具有别的保护层。
相位差层13是具有nx>ny＝nz这一关系的折射率特性的层。“nx”是：在相位差层13的与厚度方向D正交的面内，折射率最大的方向(慢轴方向)的折射率。“ny”是在面内与慢轴正交的方向(快轴方向)的折射率。“nz”是厚度方向D的折射率。本实施方式中，“ny＝nz”包括ny与nz完全相等的情况和实质相等的情况。在不损害本发明效果的范围内，可以存在ny>nz或ny<nz的情况。另外，将层的厚度记作d(nm)时，相位差层的面内相位差Re用Re＝(nx-ny)×d表示。在明确示出产生相位差的光的波长λ的情况下，面内相位差Re示作面内相位差Re(λ)。另外，将层的厚度记作d(nm)时，相位差层的厚度方向的相位差Rth示作Rth＝(nx-nz)×d。在明确示出产生相位差的光的波长λ的情况下，厚度方向的相位差Rth示作厚度方向的相位差Rth(λ)。典型而言，面内相位差Re和厚度方向的相位差Rth是23℃下的值。
在带相位差层的偏光薄膜10中，从实现优异的反射色相的观点出发，相位差层13的Nz系数优选为0.9以上，另外，优选为1.5以下、更优选为1.3以下。Nz系数根据面内相位差Re和厚度方向的相位差Rth而被示作Nz＝Rth/Re。Nz系数实质上表示厚度方向的双折射程度相对于面内方向的双折射程度的比率。
相位差层13可以显示出相位差值根据相位差测定光的波长增大而变大的反常色散波长特性，也可以显示出相位差值根据相位差测定光的波长增大而变小的正常波长色散特性，还可以显示出相位差值几乎不因相位差测定光的波长变化而发生变化的平坦的波长色散特性。
相位差层13为例如液晶化合物的取向固化层(液晶取向固化层)。“取向固化层”是指：形成层的化合物在层内沿着规定方向发生取向，且该取向状态被固定的层。液晶取向固化层对于增大面内的慢轴方向的折射率nx与快轴方向的折射率ny之差而言是优选的。因此，液晶取向固化层作为相位差层，对于抑制该层的厚度且实现大的面内相位差Re(＝(nx-ny)×d)而言是适合的。nx-ny的值越大，则用于实现期望的面内相位差Re的d值越小。
作为液晶化合物，可列举出例如向列液晶(液晶相为向列相的液晶化合物)。作为这样的液晶化合物，可列举出例如液晶聚合物和液晶单体。另外，作为基于液晶性表现机理的类别，液晶化合物可以为温度相变型(热致)液晶，也可以为浓度相变型(溶致)液晶。液晶化合物可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
作为液晶单体，可列举出例如单官能的液晶单体和多官能的液晶单体(交联性单体)。作为液晶化合物，优选为这种液晶单体。这是因为：液晶单体在基材上显示液晶性并沿着规定方向发生取向时，通过使该液晶单体发生聚合而能够将液晶单体的取向状态加以固定。单官能的液晶单体的聚合物和多官能的液晶单体的聚合物(具有三维网络结构)不是液晶。因此，在由液晶单体的聚合物形成的相位差层中，不会发生液晶性化合物特有的、因温度变化而相变成液晶相、玻璃相和结晶相的各种相变。这种相位差层对于温度变化而言的稳定性优异。
液晶单体显示出液晶性的温度范围因液晶单体的种类而异。从相位差层13的形成容易度出发，该温度范围优选为40℃以上、更优选为50℃以上、进一步优选为60℃以上，另外，优选为120℃以下、更优选为100℃以下、进一步优选为90℃以下。
作为液晶单体，可列举出例如日本特表2002-533742号公报、美国专利第5211877号说明书、美国专利第4388453号说明书、国际公开第93/22397号说明书、欧州专利申请公开第0261712号说明书、美国专利第5560864号说明书、欧州专利申请公开第0749466号说明书和英国专利申请公开第2280445号说明书中记载的聚合性介晶化合物。作为聚合性介晶化合物的市售品，可列举出例如BASF公司的“LC242”、Merck公司制的“E7”和Wacker-Chem公司制的“LC-Sillicon-CC3767”。
相位差层13(液晶取向固化层)可通过例如如下操作来形成。
首先，对规定基材的表面进行取向处理。作为取向处理，可列举出例如机械性的取向处理、物理性的取向处理和化学性的取向处理。作为机械性的取向处理，可列举出例如刷磨处理和拉伸处理。作为物理性的取向处理，可列举出例如磁场取向处理和电场取向处理。作为化学性的取向处理，可列举出例如斜向蒸镀处理和光取向处理。
接着，在基材的取向处理面上涂布含有液晶化合物的组合物(液晶组合物)来形成涂膜。接着，通过将基材上的涂膜加热而进行干燥，形成液晶层。涂膜的加热干燥根据液晶组合物中的液晶化合物的种类，在该化合物显示液晶相的温度下实施。由此，在液晶层中，液晶化合物以沿着基材表面的取向处理方向的方式进行取向。
接着，使液晶层发生固化，将液晶化合物的取向状态加以固定。作为取向状态的固定方法，可列举出例如液晶层的冷却。在液晶化合物为液晶单体(单官能的液晶单体、多官能的液晶单体)的情况下，通过使液晶化合物发生聚合而能够将该化合物的取向状态加以固定。通过液晶层的固化，液晶取向固化层会以相位差层13的形式形成在基材上。
液晶取向固化层的形成方法的详情记载于例如日本特开2006-163343号公报。
关于相位差层13的上述折射率特性、材料和形成方法对于相位差层15的内容也相同。
在带相位差层的偏光薄膜10中，相位差层13、相位差层15中的任一者为λ/2波长薄膜，另一者为λ/4波长薄膜。优选的是：相位差层13为λ/2波长薄膜，且相位差层15为λ/4波长薄膜。可以是：相位差层13为λ/4波长薄膜，且相位差层15为λ/2波长薄膜。
在相位差层13为λ/2波长薄膜且相位差层15为λ/4波长薄膜的情况下，从使相位差层13、相位差层15实现优异的防反射特性的观点出发，相位差层13、相位差层15的厚度、面内相位差Re和慢轴方向如下所示。相位差层13的厚度例如为2～4μm。相位差层15的厚度例如为1～2.5μm。相位差层13的面内相位差Re(550)优选为200nm以上、更优选为230nm以上、进一步优选为250nm以上，另外，优选为300nm以下、更优选为290nm以下、进一步优选为280nm以下。相位差层15的面内相位差Re(550)优选为100nm以上、更优选为110nm以上、进一步优选为130nm以上，另外，优选为190nm以下、更优选为170nm以下、进一步优选为160nm以下。相位差层13的慢轴与偏光件11a的吸收轴所成的角度优选为10°以上、更优选为12°以上，另外，优选为20°以下、更优选为18°以下。该角度特别优选为15°。相位差层15的慢轴与偏光件10的吸收轴所成的角度优选为70°以上、更优选为72°以上，另外，优选为80°以下、更优选为78°以下。该角度特别优选为75°。
粘接剂层12对偏光薄膜10的偏光件11a侧与相位差层13之间进行接合。粘接剂层12由粘接剂形成。作为粘接剂，可列举出例如活性能量射线固化型粘接剂。作为活性能量射线固化型粘接剂，可列举出例如紫外线固化型粘接剂和电子射线固化型粘接剂。另外，从固化机理的观点出发，作为活性能量射线固化型粘接剂，可列举出例如自由基固化型粘接剂、阳离子固化型粘接剂、阴离子固化型粘接剂、以及自由基固化型与阳离子固化型的混合粘接剂。作为粘接剂，从通用性优异且比较容易调整特性的方面出发，优选为自由基固化型且紫外线固化型的粘接剂。
粘接剂含有例如固化成分和光聚合引发剂。作为固化成分，可列举出例如具有官能团的单体。作为官能团，可列举出(甲基)丙烯酸酯基和(甲基)丙烯酰胺基。作为固化成分的具体例，可列举出三丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯、环状三羟甲基丙烷甲缩醛丙烯酸酯、二噁烷二醇二丙烯酸酯、EO改性二甘油四丙烯酸酯、γ-丁内酯丙烯酸酯、丙烯酰基吗啉、不饱和脂肪酸羟基烷基酯修饰ε-己内酯、N-甲基吡咯烷酮、羟乙基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰胺和N-乙氧基甲基丙烯酰胺。固化成分可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
粘接剂优选包含具有杂环的固化成分。作为具有杂环的固化成分，可列举出例如丙烯酰基吗啉、γ-丁内酯丙烯酸酯、不饱和脂肪酸羟基烷基酯修饰ε-己内酯和N-甲基吡咯烷酮。在固化成分的总量100质量份(存在后述低聚物成分时，是该低聚物成分与固化成分的合计)中，具有杂环的固化成分的量优选为50质量份以上、更优选为60质量份以上、进一步优选为70质量份以上，另外，优选为95质量份以下。
作为光聚合引发剂，可列举出例如二苯甲酮化合物、苯偶姻醚化合物和噻吨酮化合物。作为二苯甲酮化合物，可列举出例如苯偶酰、二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸和3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮。作为苯偶姻醚化合物，可列举出例如苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚和苯偶姻丁基醚。作为噻吨酮化合物，可列举出例如噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮和十二烷基噻吨酮。光聚合引发剂的量相对于固化成分100质量份例如为1～5质量份。
粘接剂可以还含有低聚物成分。粘接剂含有低聚物成分对于使粘接剂降低固化前的粘度并确保良好的处理性而言是优选的。作为低聚物成分，可列举出例如(甲基)丙烯酸类低聚物。作为形成(甲基)丙烯酸类低聚物的(甲基)丙烯酸类单体，可列举出例如具有碳原子数1～20的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸环烷基酯、(甲基)丙烯酸芳烷基酯、多环式(甲基)丙烯酸酯、含羟基的(甲基)丙烯酸酯、含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯、含环氧基的(甲基)丙烯酸酯、含卤素的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯。作为(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸叔戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鲸蜡酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯和(甲基)丙烯酸正十八烷基酯。作为(甲基)丙烯酸环烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸环己酯和(甲基)丙烯酸环戊酯。作为(甲基)丙烯酸芳烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸苄酯。作为多环式(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸2-异冰片酯、(甲基)丙烯酸2-降冰片基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降冰片烯-2-基-甲酯和(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降冰片基甲酯。作为含羟基的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙基甲基丁酯。作为含有烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯。作为含环氧基的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯。作为含卤素的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯和(甲基)丙烯酸十七氟癸酯。作为(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯。(甲基)丙烯酸类单体可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
从确保粘接剂层12的粘接功能的观点出发，粘接剂层12的厚度优选为0.1μm以上、更优选为0.5μm以上。从带相位差层的偏光薄膜10的薄型化的观点出发，粘接剂层12的厚度优选为3μm以下、更优选为2μm以下。
粘接剂的详情记载于例如日本特开2018-017996号公报。
粘接剂层14将相位差层13与相位差层15之间进行接合。粘接剂层14由粘接剂形成。作为粘接剂层14的粘接剂的成分，可列举出例如针对粘接剂层12而在上面说明的成分。粘接剂层14与粘接剂层12可以具有相同的组成，也可以具有互不相同的组成。粘接剂层14的厚度与粘接剂层12的厚度可以相同，也可以互不相同。
粘合剂层20是由粘合剂组合物形成的压敏性粘接剂层。粘合剂组合物至少含有基础聚合物。基础聚合物是使粘合剂层20表现出粘合性的成分。作为基础聚合物，可列举出例如丙烯酸类聚合物、有机硅聚合物、聚酯聚合物、聚氨酯聚合物、聚酰胺聚合物、聚乙烯基醚聚合物、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃聚合物、环氧聚合物、氟聚合物和橡胶聚合物。基础聚合物可以单独使用，也可以组合使用两种以上。从确保粘合剂层20的良好的透明性和粘合性的观点出发，作为基础聚合物，优选为丙烯酸类聚合物。
丙烯酸类聚合物是以50质量％以上的比例包含(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分的共聚物。作为(甲基)丙烯酸烷基酯，优选烷基的碳原子数为1～18的(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可以具有直链状或支链状的烷基，也可以具有脂环式烷基等环状烷基。
作为具有直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯(即(甲基)丙烯酸月桂酯)、(甲基)丙烯酸异十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯和(甲基)丙烯酸十八烷基酯。
作为具有脂环式烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸环烷基酯、具有二环式脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯和具有三环以上的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯。作为(甲基)丙烯酸环烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸环庚酯和(甲基)丙烯酸环辛酯。作为具有二环式脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸异冰片酯。作为具有三环以上的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸二环戊酯和(甲基)丙烯酸二环戊氧基乙酯。
从使粘合剂层20适当表现出粘合性等基本特性的观点出发，单体成分中的(甲基)丙烯酸烷基酯的比例优选为50质量％以上、更优选为60质量％以上、进一步优选为70质量％以上。该比例例如为99质量％以下。
单体成分可以包含能够与(甲基)丙烯酸烷基酯共聚的共聚性单体。作为共聚性单体，可列举出例如具有含氮原子的环的单体(N-乙烯基-2-吡咯烷酮等)、含羟基的单体(丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸苯氧基乙酯等)和含羧基的单体(丙烯酸等)。这些共聚性单体有助于确保丙烯酸类聚合物的内聚力以及向丙烯酸类聚合物中导入交联点等丙烯酸类聚合物的改性。
从确保粘合剂层20的良好粘合特性的观点出发，丙烯酸类粘合剂组合物的固体成分中的(甲基)丙烯酸类聚合物的比例优选为50质量％以上、更优选为70质量％以上、进一步优选为90质量％以上。该比例例如为95质量％以下。
丙烯酸类粘合剂组合物可根据需要而含有其它成分。作为其它成分，可列举出例如硅烷偶联剂、交联剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、表面活性剂和抗静电剂。作为硅烷偶联剂，可列举出例如含有环氧基的硅烷偶联剂。作为交联剂，可列举出例如异氰酸酯交联剂和过氧化物交联剂。
丙烯酸类粘合剂组合物的详情记载于例如日本特开2006-183022号公报、日本特开2015-199942号公报、日本特开2018-053114号公报、日本特开2016-190996号公报和国际公开第2018/008712号说明书。
作为剥离衬垫40的材料，可列举出例如聚酯、聚烯烃、聚酰胺、纤维素。作为聚酯，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸丁二醇酯。作为聚烯烃，可列举出例如聚乙烯、聚丙烯和环烯烃聚合物(COP)。作为聚酰胺，可列举出例如聚酰胺6、聚酰胺6,6和部分芳香族聚酰胺。这些材料可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
剥离衬垫40的粘合剂层20侧的表面优选进行了剥离处理。作为剥离处理，可列举出例如有机硅剥离处理和氟剥离处理(关于后述剥离处理也相同)。
作为剥离衬垫50的材料，可列举出针对剥离衬垫40而在上面说明的材料。剥离衬垫50的粘合剂层30侧的表面优选进行了剥离处理。
被覆盖薄膜X可通过例如如下操作来制造。
首先，准备带相位差层的偏光薄膜10、带剥离衬垫40的粘合剂层20、以及带剥离衬垫50的粘合剂层30。
带相位差层的偏光薄膜10可通过例如准备偏光薄膜11(偏光件11a/保护层11b)、相位差层13和相位差层15后，借助粘接剂对偏光薄膜11依次层叠相位差层13和相位差层15来制作。
偏光薄膜11可通过例如使用上述第一类型或第二类型的层叠体，在作为基材薄膜的保护层11b上形成偏光件11a来制作。偏光薄膜11可通过使用上述第一类型或第二类型的层叠体在基材薄膜上形成偏光件11a后，将该偏光件11a自基材薄膜转印至保护层11b来制作。偏光薄膜11可通过将分别准备的偏光件11a与保护层11b进行贴合来制作。相位差层13、相位差层15可分别如上所述地通过在规定基材上形成液晶取向固化层来准备。
在带相位差层的偏光薄膜10的制作中，接着，借助上述粘接剂将基材上的相位差层13的露出面接合于偏光薄膜11中的偏光件11a的露出面。具体而言，首先，在偏光件11a的露出面上涂布粘接剂而形成粘接剂涂膜后，借助该粘接剂涂膜而将偏光件11a与相位差层13进行贴合。接着，使偏光件11a与相位差层13之间的粘接剂涂膜发生固化而形成粘接剂层12，将偏光件11a与相位差层13之间进行接合。接着，从相位差层13上剥离基材。由此得到中间层叠体。
接着，借助上述粘接剂，将基材上的相位差层15的露出面接合于中间层叠体中的相位差层13的露出面。具体而言，首先，在相位差层13的露出面上涂布粘接剂而形成粘接剂涂膜后，借助该粘接剂涂膜将相位差层13与相位差层15进行贴合。接着，使相位差层13与相位差层15之间的粘接剂涂膜发生固化而形成粘接剂层14，将相位差层13与相位差层15之间进行接合。接着，从相位差层15上剥离基材。由此得到带相位差层的偏光薄膜10。
带相位差层的偏光薄膜10也可以如下那样地制作。首先，借助粘接剂层12，对形成在基材薄膜上的偏光件11a层叠相位差层13。接着，借助粘接剂层14，对该相位差层13层叠相位差层15。接着，从偏光件11a上剥离基材薄膜。接着，借助粘接剂，将保护层11b接合于通过该剥离而露出的偏光件11a。
另一方面，带剥离衬垫40的粘合剂层20可通过在剥离衬垫40上涂布第一粘合剂组合物(清漆)而形成涂膜后，将该涂膜干燥来形成。作为第一粘合剂组合物的涂布方法，可列举出例如辊涂、吻式辊涂、凹版涂布、反向涂布、辊刷、喷涂、浸渍辊涂布、棒涂、刀涂、气刀涂布、帘涂、唇涂和模涂(关于其它粘合剂组合物的后述涂布方法也相同)。
带剥离衬垫50的粘合剂层30可通过在剥离衬垫上涂布第二粘合剂组合物(清漆)而形成涂膜后，将该涂膜干燥来形成。
并且，将带相位差层的偏光薄膜10的偏光薄膜11侧的表面(第一面)与带剥离衬垫40的粘合剂层20的粘合剂层20侧进行贴合。接着，将带相位差层的偏光薄膜10的相位差层15侧的表面(第二面)与带剥离衬垫50的粘合剂层30的粘合剂层30侧进行贴合。优选的是：在这些贴合工序之前，对带相位差层的偏光薄膜10的第一面和第二面、带剥离衬垫40的粘合剂层20的露出面、以及带剥离衬垫的粘合剂层30的露出面进行等离子体处理。
如上那样操作，能够制造被覆盖薄膜X。其后，利用切割刃将被覆盖薄膜X外形加工成规定的尺寸。作为切割刃，可列举出例如旋转刃和冲切刃。并且，外形加工后的被覆盖薄膜X被供给至例如柔性显示器面板的生产线。此时，在规定的时刻将剥离衬垫40、剥离衬垫50剥离。并且，带相位差层的偏光薄膜10被配置于柔性显示器面板中的像素面板的观察侧。
实施例
针对本发明，以下示出实施例进行具体说明。其中，本发明不限定于实施例。另外，以下记载的配混量(含量)、物性值、参数等的具体数值可以替换成在上述“具体实施方式”中记载的与它们对应的配混量(含量)、物性值、参数等的上限(以“以下”或“小于”的形式定义的数值)或下限(以“以上”或“超过”的形式定义的数值)。
〔实施例1〕
〈偏光薄膜的制作〉
作为长条状的热塑性基材薄膜，准备非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(厚度为100μm，Tg约为75℃)。该薄膜的单面预先进行了电晕处理。另外，将聚乙烯醇(PVA)树脂100质量份、碘化钾13质量份和水混合，制备PVA树脂水溶液。PVA树脂是PVA(聚合度为4200，皂化度为99.2摩尔％)90质量份与乙酰乙酰基改性PVA(品名“GOHSEFIMER”，日本合成化学工业公司制)10质量份的混合物。
然后，在基材薄膜的电晕处理面涂布PVA树脂水溶液而形成涂膜。接着，将该涂膜在60℃下干燥，在基材薄膜上形成厚度13μm的PVA树脂膜。由此，得到长条状的层叠体(基材薄膜/PVA树脂膜)。
接着，在130℃的烘箱内，将层叠体沿着该层叠体的长度方向进行单轴拉伸(空中辅助拉伸处理)。该拉伸处理中的拉伸倍率设为2.4倍。
接着，将层叠体在温度40℃的不溶化浴中浸渍30秒钟(不溶化处理)。不溶化浴是将水100质量份与硼酸4质量份混合而制备的硼酸水溶液。
接着，将层叠体浸渍于温度30℃的染色浴(染色处理)。染色浴是将水100质量份、碘1质量份和碘化钾7质量份混合而制备的碘水溶液。在染色处理中，具体而言，以层叠体中的基材薄膜上的PVA树脂膜的单体透射率成为期望值的方式，通过向染色浴(碘水溶液)中添加水来调整该染色浴的碘浓度，且将层叠体在染色浴中浸渍60秒钟。
接着，将层叠体在温度40℃的交联浴中浸渍30秒钟(交联处理)。交联浴是将水100质量份、碘化钾3质量份和硼酸5质量份混合而制备的硼酸水溶液。
接着，在温度70℃的硼酸水溶液(硼酸浓度为4质量％、碘化钾浓度为5质量％)中，对层叠体进行单轴拉伸(水中拉伸处理)。在该拉伸处理中，将层叠体在旋转速度不同的辊之间沿着长度方向进行拉伸，将拉伸倍率设为5.5倍。
接着，将层叠体浸渍于温度20℃的清洗浴(清洗处理)。清洗浴是将水100质量份与碘化钾4质量份混合而制备的水溶液。
接着，使层叠体的基材薄膜侧在约90℃的烘箱内接触表面温度约为75℃的SUS制加热辊，使其干燥(干燥收缩处理)。由此，作为历经基于碘的染色和其后的单轴拉伸而得到的PVA树脂膜，在基材薄膜上形成厚度5μm的偏光件。
接着，借助紫外线固化型粘接剂，在基材薄膜上的偏光件的露出面(与基材薄膜处于相反侧的面)上粘贴作为保护薄膜的丙烯酸类薄膜(品名“RV-20UB”、厚度为20μm、东洋钢板公司制)。具体而言，首先，在基材薄膜上的偏光件的露出面上涂布紫外线固化型粘接剂而形成粘接剂涂膜(厚度为1μm)后，利用辊机，借助该粘接剂涂膜将偏光件与保护薄膜进行贴合。接着，对于保护薄膜与偏光件之间的粘接剂涂膜，从保护薄膜侧照射紫外线，使该粘接剂涂膜发生固化。由此，将保护薄膜接合于偏光件。其后，从偏光件上剥离基材薄膜。由此，得到具有偏光件与保护薄膜(保护层)的层叠构成的偏光薄膜。
〈第一相位差层的形成〉
将具有向列液晶性的光聚合性液晶化合物(品名“Paliocolor LC242”,用下述结构式表示、BASF公司制)10质量份、光聚合引发剂(品名“Irgacure907”、BASF公司制)3质量份和作为溶剂的甲苯40质量份混合，制备液晶组合物。
另一方面，利用刷磨布对聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(厚度为38μm)的表面进行刷磨(取向处理)。刷磨方向设为下述方向：在后述第一液晶取向固化层接合于上述偏光薄膜的偏光件侧后，该层中的液晶化合物的取向方向相对于偏光件的吸收轴而言，从偏光薄膜侧观察为沿着顺时针呈现15°的方向。接着，利用棒涂机在PET薄膜的取向处理面上涂布上述液晶组合物而形成涂膜。接着，通过将PET薄膜上的涂膜在90℃下加热2分钟来干燥，形成液晶层。在该液晶层中，液晶化合物以沿着PET薄膜表面的刷磨方向的方式取向。接着，对PET薄膜上的液晶层照射紫外线，使该液晶层发生光固化，形成厚度为2μm的第一液晶取向固化层(第一相位差层)。在紫外线照射中，使用金属卤化物灯作为照射光源，将累积照射光量设为1mJ/cm2。另外，第一液晶取向固化层的面内相位差Re(550)为270nm。第一液晶取向固化层具有nx>ny＝nz的折射率分布。
〈第二相位差层的形成〉
除了厚度和液晶化合物的取向方向之外，与第一液晶取向固化层同样操作，形成第二液晶取向固化层(第二相位差层)。第二液晶取向固化层的厚度设为1μm。第二液晶取向固化层中的液晶化合物的取向方向设为下述方向：在第二液晶取向固化层接合于偏光薄膜的偏光件侧后，相对于偏光件的吸收轴而言，从偏光薄膜侧观察为沿着顺时针呈现75°的方向。另外，第二液晶取向固化层的面内相位差Re(550)为140nm。第二液晶取向固化层具有nx>ny＝nz的折射率分布。
〈带相位差层的偏光薄膜的制作〉
首先，在上述偏光薄膜的偏光件的露出面涂布紫外线固化型粘接剂而形成粘接剂涂膜(厚度为1μm)后，利用辊机，借助该粘接剂涂膜将偏光件与PET薄膜上的第一液晶取向固化层进行贴合。此时，以偏光件的吸收轴与第一液晶取向固化层中的液晶化合物的取向方向(慢轴)所成的角度成为15°的方式进行贴合。接着，对于偏光件与第一液晶取向固化层之间的粘接剂涂膜，从PET薄膜侧照射紫外线，使该粘接剂涂膜发生固化。由此，将第一液晶取向固化层接合于偏光件。其后，从第一液晶取向固化层上剥离PET薄膜。由此，得到具有偏光薄膜与第一粘接剂层与第一液晶取向固化层(第一相位差层)的层叠构成的中间层叠体。
接着，在中间层叠体的第一液晶取向固化层的露出面涂布紫外线固化型粘接剂而形成粘接剂涂膜(厚度为1μm)后，利用辊机，借助该粘接剂涂膜，将第一液晶取向固化层与PET薄膜上的第二液晶取向固化层进行贴合。此时，以偏光件的吸收轴与第二液晶取向固化层中的液晶化合物的取向方向(慢轴)所成的角度成为75°的方式进行贴合。接着，对于第一液晶取向固化层与第二液晶取向固化层之间的粘接剂涂膜，从PET薄膜侧照射紫外线，使该粘接剂涂膜发生固化。由此，将第二液晶取向固化层接合于第一液晶取向固化层。其后，从第二液晶取向固化层上剥离PET薄膜。由此，得到具有偏光薄膜与第一粘接剂层与第一液晶取向固化层(第一相位差层)与第二粘接剂层与第二液晶取向固化层(第二相位差层)的层叠构成的带相位差层的偏光薄膜。该带相位差层的偏光薄膜的厚度为31μm。
〈粘合剂组合物的制备〉
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)70质量份、丙烯酸正丁酯(BA)20质量份、丙烯酸月桂酯(LA)8质量份、丙烯酸4-羟基丁酯(4HBA)1质量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)0.6质量份、作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮双异丁腈(AIBN)0.3质量份和作为溶剂的乙酸乙酯的混合物在56℃下且在氮气气氛下搅拌6小时(聚合反应)。由此，得到含有丙烯酸类基础聚合物的聚合物溶液。该聚合物溶液中的丙烯酸类基础聚合物的重均分子量约为200万。
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含甲基丙烯酸二环戊酯(DCPMA)60质量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)40质量份、作为链转移剂的α-硫代甘油3.5质量份和作为溶剂的甲苯100质量份的混合物在70℃下且在氮气气氛下搅拌1小时。其后，向混合物中添加作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮双异丁腈(AIBN)0.2质量份来制备反应溶液，在氮气气氛下，在70℃下使其反应2小时，并且，其后在80℃下使其反应2小时(第一丙烯酸类低聚物的形成)。由此，得到固体状的第一丙烯酸类低聚物。第一丙烯酸类低聚物的重均分子量为5100。
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含甲基丙烯酸环己酯(CHMA)95质量份、丙烯酸(AA)5质量份、作为链转移剂的α-甲基苯乙烯二聚物(品名“Nofmer MSD”，日本油脂公司制)10质量份、作为溶剂的甲苯120质量份的混合物在室温下且在氮气气氛下搅拌1小时。其后，向混合物中添加作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮双异丁腈(AIBN)10质量份来制备反应溶液，在氮气气氛下，在85℃下使其反应2小时，并且，其后在86℃下使其反应1.5小时(第二丙烯酸类低聚物的形成)。由此，得到固体状的第二丙烯酸类低聚物。第二丙烯酸类低聚物的重均分子量为4300。
在上述聚合物溶液中，相对于该聚合物溶液中的丙烯酸类基础聚合物100质量份，添加第一丙烯酸类低聚物0.25质量份、第二丙烯酸类低聚物1.3质量份、第一交联剂(品名“NIPER BMT-40SV”，二苯甲酰基过氧化物，日本油脂公司制)0.3质量份、第二交联剂(品名“CORONATE L”，甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物，东曹公司制)0.01质量份和硅烷偶联剂(品名“KBM-403”，信越化学工业公司制)0.3质量份并混合，制备粘合剂组合物。
〈被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的制作〉
在单面经有机硅剥离处理的第一剥离衬垫的剥离处理面上涂布上述粘合剂组合物而形成涂膜。第一剥离衬垫是单面经有机硅剥离处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(品名“DIAFOIL MRV50”、厚度为50μm、三菱化学公司制)。接着，使第一剥离衬垫上的涂膜干燥，形成厚度50μm的丙烯酸类粘合剂层来作为第一粘合剂层。该丙烯酸类粘合剂层在25℃下的剪切储能模量为98kPa(关于实施例、比较例和参考例中的后述丙烯酸类粘合剂层也相同)。另外，在单面经有机硅剥离处理的第二剥离衬垫的剥离处理面上，涂布上述粘合剂组合物而形成涂膜。第二剥离衬垫是单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOILMRV50”、厚度为50μm、三菱化学公司制)。接着，使第二剥离衬垫上的涂膜干燥，形成厚度50μm的丙烯酸类粘合剂层来作为第二粘合剂层。
接着，对第一剥离衬垫上的第一粘合剂层的露出面和第二剥离衬垫上的第二粘合剂层的露出面进行等离子体处理。另一方面，上述偏光薄膜的偏光薄膜侧的表面(第一面)和第二相位差层侧的表面(第二面)也进行等离子体处理。在各等离子体处理中，使用等离子体照射装置(品名“AP-TO5”、积水工业公司制)，将电压设为160V，将频率设为10kHz，将处理速度设为5000mm/分钟。然后，将偏光薄膜的第一面与第一剥离衬垫上的第一粘合剂层的露出面进行贴合。在该贴合中，通过在25℃的环境下使2kg的辊来回一次的操作而使偏光薄膜与第一粘合剂层进行压接(在后述贴合中也相同)。接着，使偏光薄膜的第二面与第二剥离衬垫上的第二粘合剂层的露出面进行贴合。
如上那样操作，制作实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。该被覆盖且带相位差层的偏光薄膜朝着厚度方向依次具备第一剥离衬垫(厚度50μm)、第一粘合剂层(厚度50μm)、带相位差层的偏光薄膜(厚度31μm、偏光薄膜/第一粘接剂层/第一相位差层/第二粘接剂层/第二相位差层)、第二粘合剂层(厚度50μm)和第二剥离衬垫(厚度50μm)。第一粘合剂层、带相位差层的偏光薄膜和第二粘合剂层形成了两面带粘合剂层的带相位差层的偏光薄膜(在后述实施例、比较例和参考例中也相同)。
〔实施例2〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例2的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，作为第一剥离衬垫，使用单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOIL MRV75”、厚度75μm、三菱化学公司制)。
〔实施例3〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例3的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，作为第一剥离衬垫，使用单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(DIAFOIL MRV75)，作为第一粘合剂层，在该PET薄膜上由上述粘合剂组合物形成厚度75μm的丙烯酸类粘合剂层。
〔实施例4〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例4的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，作为第一剥离衬垫，使用单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOIL MRV100”、厚度100μm、三菱化学公司制)，作为第一粘合剂层，在该PET薄膜上由上述粘合剂组合物形成厚度75μm的丙烯酸类粘合剂层。
〔实施例5〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例5的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，作为第一剥离衬垫，使用单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(品名“DIAFOIL MRV38”、厚度38μm、三菱化学公司制)。另外，在第二剥离衬垫(厚度50μm)上，作为第二粘合剂层，由上述粘合剂组合物形成厚度25μm的丙烯酸类粘合剂层。
〔实施例6〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例6的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，在第二剥离衬垫(厚度50μm)上，作为第二粘合剂层，由上述粘合剂组合物形成厚度25μm的丙烯酸类粘合剂层。
〔实施例7〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例7的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，作为第一剥离衬垫，使用单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(DIAFOIL MRV75)。另外，在第二剥离衬垫(厚度50μm)上，作为第二粘合剂层，由上述粘合剂组合物形成厚度25μm的丙烯酸类粘合剂层。
〔实施例8〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例8的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，作为带相位差层的偏光薄膜，使用厚度26μm的带相位差层的偏光薄膜。实施例8中的带相位差层的偏光薄膜中，作为借助粘接剂而与偏光件(厚度5μm)接合的保护薄膜，使用厚度15μm的聚碳酸酯薄膜来代替厚度20μm的丙烯酸类薄膜，除此之外，与实施例1中的上述带相位差层的偏光薄膜同样地制作。即，本实施例的带相位差层的偏光薄膜具有偏光薄膜(厚度21μm)与第一粘接剂层(厚度1μm)与第一相位差层(厚度2μm)与第二粘接剂层(厚度1μm)与第二相位差层(厚度1μm)的层叠构成。
〔实施例9〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作实施例9的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本实施例中，作为带相位差层的偏光薄膜，使用厚度38μm的带相位差层的偏光薄膜。实施例9中的带相位差层的偏光薄膜中，作为借助粘接剂而与偏光件(厚度5μm)接合的保护薄膜，代替厚度20μm的丙烯酸类薄膜，使用带硬涂(HC)层的环烯烃聚合物(COP)薄膜(包括HC层在内的总厚度为27μm)，除此之外，与实施例1中的上述带相位差层的偏光薄膜同样地制作。带HC层的COP薄膜具有厚度25μm的COP薄膜(品名“ZEONOR FILM ZF12”，日本ZEON公司制)和其上的厚度2μm的HC层的层叠结构。借助粘接剂将带HC层的COP薄膜的COP薄膜侧与偏光件进行接合。本实施例的带相位差层的偏光薄膜具有偏光薄膜(厚度33μm)与第一粘接剂层(厚度1μm)与第一相位差层(厚度2μm)与第二粘接剂层(厚度1μm)与第二相位差层(厚度1μm)的层叠构成。
〔比较例1〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作比较例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本比较例中，作为第一剥离衬垫，使用单面经有机硅剥离处理的PET薄膜(DIAFOIL MRV38)。
〔参考例1〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作参考例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本参考例中，作为带相位差层的偏光薄膜，使用厚度74μm的带相位差层的偏光薄膜。参考例1中的带相位差层的偏光薄膜具备朝着厚度方向依次具备第一保护层(厚度30μm)、规定的偏光件(厚度12μm)和第一粘接剂层侧的第二保护层(厚度25μm)的偏光薄膜(偏光件与各保护层借助粘接剂进行接合)。第一保护层包含带HC层的三乙酸纤维素(TAC)薄膜(包括HC层在内的总厚度为30μm)。该带HC层的TAC薄膜具有厚度25μm的TAC薄膜(品名“KC2UA”、KONICA MINOLTA公司制)与其上的厚度5μm的HC层的层叠结构。借助粘接剂将带HC层的TAC薄膜的TAC薄膜侧与偏光件进行接合。第二保护层包含厚度25μm的TAC薄膜(品名“KC2UA”、KONICA MINOLTA公司制)。参考例1中的带相位差层的偏光薄膜使用这种偏光薄膜，除此之外，与实施例1中的上述带相位差层的偏光薄膜同样地制作。即，本参考例中的带相位差层的偏光薄膜具有偏光薄膜(厚度69μm)与第一粘接剂层(厚度1μm)与第一相位差层(厚度2μm)与第二粘接剂层(厚度1μm)与第二相位差层(厚度1μm)的层叠构成。
〔参考例2〕
除了如下事项之外，与实施例1的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜同样操作，制作参考例2的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜。本参考例中，作为带相位差层的偏光薄膜，使用厚度99μm的带相位差层的偏光薄膜。参考例2中的带相位差层的偏光薄膜具备朝着厚度方向依次具备保护层(厚度40μm)、规定的偏光件(厚度12μm)和保护层(厚度40μm)的偏光薄膜(偏光件与各保护层借助粘接剂进行接合)。各保护层包含厚度40μm的TAC薄膜(品名“KC4UA”、KONICA MINOLTA公司制)。参考例2中的带相位差层的偏光薄膜使用这种偏光薄膜，除此之外，与实施例1中的上述带相位差层的偏光薄膜同样地制作。即，本参考例中的带相位差层的偏光薄膜具有偏光薄膜(厚度94μm)与第一粘接剂层(厚度1μm)与第一相位差层(厚度2μm)与第二粘接剂层(厚度1μm)与第二相位差层(厚度1μm)的层叠构成。
〈厚度〉
关于薄膜和层的厚度，10μm以下的厚度利用干涉膜厚计(品名“MCPD-3000”、大塚电子公司制)进行测定。超过10μm的厚度利用数字测微计(品名“KC-351C”、Anritsu公司制)进行测定。将第一剥离衬垫的厚度H1、第一粘合剂层的厚度H2、带相位差层的偏光薄膜的厚度H3、第二粘合剂层的厚度H4、第二剥离衬垫的厚度H5、以及被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的整体厚度Ha(＝H1+H2+H3+H4+H5)示于表1。将第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度(H2+H4)相对于带相位差层的偏光薄膜的厚度H3的比率也示于表1。将第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度(H2+H4)相对于被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的整体厚度Ha的比率也示于表1。将第一剥离衬垫的厚度H1相对于第一粘合剂层的厚度H2的比率也示于表1。将第二剥离衬垫的厚度H5相对于第二粘合剂层的厚度H4的比率也示于表1。
〈粘合剂层的剪切储能模量〉
关于上述丙烯酸类粘合剂层，如下操作来测定剪切储能模量。
首先，将从厚度50μm的丙烯酸类粘合剂层中切出的多个粘合剂层片进行贴合，制作厚度约1mm的样品片。接着，对该片进行冲切，得到作为测定用样品的圆柱状粒料(直径8mm)。
并且，针对测定用样品，使用动态粘弹性测定装置(品名“Advanced RheometricExpansion System(ARES)”、Rheometric Scientific公司制)，在固定于直径为7.9mm的平行板夹具后，进行动态粘弹性测定。在本测定中，将测定模式设为剪切模式，将测定温度范围设为-50℃～150℃，将升温速度设为5℃/分钟，将频率设为1Hz。并且，根据测定结果来读取25℃下的剪切储能模量(kPa)。丙烯酸类粘合剂层在25℃下的剪切储能模量为98kPa。
〈抑制胶污物的评价〉
针对实施例1～9和比较例1的各被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，如下操作，调查切割加工后的切割端面的胶污物的有无/程度(关于参考例1、2的各被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，也同样地调查)。
首先，利用裁切机，从被覆盖且带相位差层的偏光薄膜中切出50片样品薄膜(100mm×50mm)。接着，通过目视和光学显微镜来观察各样品薄膜的切割端面。并且，计算切割端面中产生胶污物的样品薄膜(胶污物薄膜)的数量相对于样品薄膜的总数50的比例(％)。并且，针对胶污物的抑制，将胶污物薄膜的比例小于10％的情况评价为“优”，将胶污物薄膜的比例为10％以上且小于20％的情况评价为“良”，将胶污物薄膜的比例为20％以上的情况评价为“不良”。将它们的结果示于表1。
[表1]

Claims (8)

1.一种被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其具备带相位差层的偏光薄膜、第一粘合剂层、第二粘合剂层、第一剥离衬垫和第二剥离衬垫，
所述带相位差层的偏光薄膜朝着厚度方向依次具备偏光薄膜、第一粘接剂层、第一相位差层、第二粘接剂层和第二相位差层，
所述第一粘合剂层配置于所述带相位差层的偏光薄膜的所述偏光薄膜侧，且在与所述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第一粘合面，
所述第二粘合剂层配置于所述带相位差层的偏光薄膜的所述第二相位差层侧，且在与所述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第二粘合面，
所述第一剥离衬垫以能够剥离的方式与所述第一粘合面接触，
所述第二剥离衬垫以能够剥离的方式与所述第二粘合面接触，
所述第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于所述带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率为2以上，
所述第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于所述被覆盖且带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率为0.45以下。
2.根据权利要求1所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，所述第一剥离衬垫的厚度相对于所述第一粘合剂层的厚度的比率为0.8以上，
所述第二剥离衬垫的厚度相对于所述第二粘合剂层的厚度的比率为0.8以上。
3.一种被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其具备带相位差层的偏光薄膜、第一粘合剂层、第二粘合剂层、第一剥离衬垫和第二剥离衬垫，
所述带相位差层的偏光薄膜朝着厚度方向依次具备偏光薄膜、第一粘接剂层、第一相位差层、第二粘接剂层和第二相位差层，
所述第一粘合剂层配置于所述带相位差层的偏光薄膜的所述偏光薄膜侧，且在与所述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第一粘合面，
所述第二粘合剂层配置于所述带相位差层的偏光薄膜的所述第二相位差层侧，且在与所述带相位差层的偏光薄膜相反的一侧具有第二粘合面，
所述第一剥离衬垫以能够剥离的方式与所述第一粘合面接触，
所述第二剥离衬垫以能够剥离的方式与所述第二粘合面接触，
所述第一粘合剂层和第二粘合剂层的总厚度相对于所述带相位差层的偏光薄膜的厚度的比率为2以上，
所述第一剥离衬垫的厚度相对于所述第一粘合剂层的厚度的比率为0.8以上，
所述第二剥离衬垫的厚度相对于所述第二粘合剂层的厚度的比率为0.8以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，所述第一粘合剂层和/或第二粘合剂层在25℃下具有100kPa以下的剪切储能模量。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，所述第一粘合剂层和/或所述第二粘合剂层具有20μm以上的厚度。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，所述第一粘合剂层厚于所述第二粘合剂层，且所述第一剥离衬垫厚于所述第二剥离衬垫；或者
所述第二粘合剂层厚于所述第一粘合剂层，且所述第二剥离衬垫厚于所述第一剥离衬垫。
7.根据权利要求1～3中任一项所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，所述偏光薄膜具备偏光件和保护层，
所述保护层是配置于所述偏光件的所述第一粘合剂层侧的保护层、和/或、配置于所述偏光件的所述第二粘合剂层侧的保护层。
8.根据权利要求7所述的被覆盖且带相位差层的偏光薄膜，其中，所述偏光件具有8μm以下的厚度。
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