CN114509828A - 光学膜的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种方法，该方法包括下述工序：将在长条膜基材(1)的第一主面上以可剥离的方式贴合有保护膜(2)而成的层叠体(8)沿着长度方向辊搬送至剥离部(10)，在剥离部中，将保护膜从膜基材的第一主面剥离，然后在膜基材的第一主面涂布涂敷液。通过该方法，可以提供具备缺陷较少且均匀性优异的涂敷层的光学膜。保护膜的背面的表面电阻优选为1×1011Ω/sq以下。

Description

光学膜的制造方法
技术领域
本发明涉及一种光学膜的制造方法。
背景技术
作为具有液晶显示装置的光学补偿、有机EL元件的防外部光反射等功 能的光学膜，使用有薄型涂敷膜。厚度较小的膜的自支撑性较低，难以进 行单体操作，因此在塑料膜等支撑体上涂布溶液而形成涂敷层，在使涂敷 层密接于支撑体上的状态下进行干燥、加工。
例如在专利文献1中，公开了一种在支撑体上涂布树脂溶液而形成树 脂涂敷层、并将支撑体与涂敷层的层叠体拉伸而制作层叠相位差膜的方法。 在专利文献2中，公开了一种将拉伸膜作为支撑体并在其上涂布液晶组合 物、并且沿着膜的拉伸方向(取向方向)使液晶化合物均匀取向而制作取 向液晶层的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004-46068号公报
专利文献2：WO2016/121856号
发明内容
发明所要解决的问题
在一边用卷对卷法将作为支撑体的膜基材沿着长度方向搬送一边在其 上涂敷溶液而形成涂敷层的方法中，如果膜基材上存在伤痕，则会导致伤 痕转印至涂敷层、液晶分子的取向不良等缺陷。另外，由于膜基材的表面 状态会导致涂敷不良，因此存在涂敷层的膜厚、光学特性变得不均匀的情 况。
用于解决问题的手段
本发明的一个实施方式为长条的光学膜的制造方法，其在具有第一主 面及第二主面的长条膜基材的第一主面上形成涂敷层。首先，准备在长条 膜基材的第一主面上以可剥离的方式贴合有保护膜而成的层叠体。将该层 叠体沿着膜基材的长度方向辊搬送至剥离部(第一搬送工序)，在剥离部中， 将保护膜从膜基材的第一主面剥离(保护膜剥离工序)。将剥离保护膜后的 膜基材沿着膜基材的长度方向从剥离部搬送至涂布部(第二搬送工序)，在 涂布部中，在膜基材的第一主面上涂布涂敷液(涂布工序)，得到在膜基材 的第一主面上具备涂敷层的层叠体。
涂敷液可以是包含液晶化合物的液晶组合物。液晶组合物可以包含光 固化性的液晶化合物。也可以在膜基材上涂布了包含光固化性的液晶化合 物的液晶组合物后，使液晶化合物光固化。
膜基材可以是具有使液晶分子在规定方向上取向的取向限制力的膜基 材。膜基材例如可以是分子与长度方向不平行地取向的拉伸膜，也可以是 斜向拉伸膜。
保护膜的背面(与膜基材的贴合面相反侧的面)的表面电阻R优选为 1×1011Ω/sq以下。在剥离角度180°、剥离速度10m/分钟的条件下，将保护 膜从膜基材剥离时的剥离力F优选为1.5N/50mm以下。上述的表面电阻R 与剥离力F优选满足log10R+2.3F≤11.5的关系。
光学膜可以是在涂敷层上以卷对卷的方式层叠有其他光学层的光学 膜。层叠于涂敷层上的光学层也可以包含起偏器。光学膜可以是将涂敷层 和起偏器层叠而成的圆偏振片。
发明效果
在膜基材上直到即将涂布涂敷液之前暂时粘贴有保护膜，因此由辊搬 送导致在膜基材上的伤痕的产生得到抑制。另外，暂时粘贴于膜基材的保 护膜的背面的表面电阻、及膜基材与保护膜的粘接力(剥离力)较小，因 此由在剥离保护膜后的膜基材的带电等导致的涂敷不良的产生得到抑制。 因此，可得到由膜基材导致的伤痕、条纹等缺陷较少的涂敷层。
附图说明
图1是在膜基材上具备涂敷层的光学膜的剖视图。
图2是在膜基材上暂时粘贴有保护膜的层叠体的剖视图。
图3是表示在膜基材上形成涂敷层的制膜装置及制膜工序的示意图。
图4是表示按压辊的形状的一例的立体图。
图5是一个实施方式的光学膜的剖视图。
图6是一个实施方式的光学膜的剖视图。
图7是一个实施方式的光学膜的剖视图。
符号说明
1 膜基材
2 保护膜
291 芯材
292 粘合剂层
295 抗静电层
3 涂敷层(液晶层)
4 光学层(偏振片)
5 粘接剂层
6 粘合剂层
7 间隔件
8 层叠体
9、96、97、98 层叠体(光学膜)
81 卷出辊
21、91 卷取辊
10 剥离部
11 剥离辊
30 涂布部
31 支承辊
33 模具
50 加热部
55 加热炉
60 固化部
61 光源
83、85、87 搬送辊
13 搬送辊
15、151 按压辊
71、73、75、77、79 搬送辊
具体实施方式
[工序的概要]
在本发明中，在长条膜基材的一主面上涂布溶液而形成涂敷层。图1 是在膜基材1的第一主面1A上设置涂敷层3而成的光学膜9的剖视图。图 2是在膜基材1的第一主面1A上以可剥离的方式贴合有保护膜2而成的层 叠体8的剖视图。
图3是表示在膜基材1上形成涂敷层3的制膜装置及制膜工序的概要 的示意图。图3中，在卷出辊81上缠绕有将层叠体8的长条膜卷绕成卷状 而得到的卷绕体80。从卷绕体80卷出的层叠体8向沿着搬送辊83、85、 87形成的搬送路径的下游侧连续地移动而被搬送至剥离部10(第一搬送工 序)。
在剥离部10将保护膜2从膜基材1剥离(剥离工序)。通过剥离保护 膜2，膜基材1的第一主面1A露出。将剥离保护膜后的膜基材1从剥离部 10搬送至涂布部30(第二搬送工序)。在涂布部30中，将涂敷液涂布在膜 基材1的第一主面1A上(涂布工序)。
通过用卷取辊91将在膜基材1的第一主面1A上形成涂敷层3而成的 层叠体9(光学膜)卷取，可得到长条的光学膜的卷绕体90。也可以用加 热部50在涂布部30与卷取辊91之间进行加热。在涂敷液包含光聚合性液 晶化合物等光聚合性的成分的情况下，也可以在固化部60实施光固化。
在一边用卷对卷搬送膜基材一边涂布溶液的情况下，由于与搬送辊接 触及摩擦，容易在膜基材上产生沿着长度方向的伤痕。如果膜基材上存在 伤痕，则在其上形成了涂敷层时，膜基材的伤痕会转印至涂敷层，可能会 导致光学缺陷。另外，在膜基材上涂布了液晶组合物的情况下，液晶分子 容易沿着伤痕的延伸方向取向，有可能会导致取向不良缺陷。
在本发明的实施方式中，在膜基材1的第一主面1A上以可剥离的方式 贴合有保护膜2。在从卷出辊81到达剥离部10为止的期间(第一搬送工序)， 在膜基材1的第一主面1A上贴合有保护膜2，因此在第一搬送工序中，膜 基材1的第一主面1A不与搬送辊87直接相接。从膜基材1剥离保护膜2 后立即在膜基材1的第一主面1A上涂布涂敷液，因此能够防止由与搬送辊 87接触导致的膜基材的第一主面上的伤痕的产生，能够抑制伤痕转印至涂 敷层3、液晶分子的取向不良。
在本实施方式中，从膜基材1剥离保护膜2后立即实施涂布，因此将 剥离部10与涂布部30接近地配置，第二搬送工序中的膜基材的搬送路径 较短。因此，存在膜基材与保护膜的贴合状态、在剥离部10从膜基材剥离 保护膜时的静电等物理作用对涂布部30中的涂敷液的涂布产生影响的情 况。具体而言，将涂敷层的厚度较小的区域形成为在宽度方向上延伸的条 纹状，在将光学膜应用于图像显示装置时，存在被视觉辨认为条纹状的不 均的情况。
在本发明的一个实施方式中，保护膜2的背面2A的表面电阻为 1×1011Ω/sq以下。由于保护膜2的表面电阻较小，因此上述在宽度方向上 延伸的条纹状的不均的产生得到抑制。
当在剥离保护膜后立即在膜基材上涂布涂敷液时，对涂敷层上产生了 条纹状的不均的试样进行了分析，结果在剥离涂敷层后的膜基材上未确认 到厚度不均、物理变形。因此，认为：形成于膜基材上的涂敷层中的条纹 状的厚度不均是由在膜基材的表面涂布涂敷液时的液膜皱缩导致的。
由于保护膜2的背面2A的表面电阻较小，因此膜基材1与保护膜2 贴合时内部带电减少。因此，认为：剥离保护膜2后，膜基材1的带电也 较少，在膜基材1的第一主面1A上涂布涂敷液时的液膜皱缩得到抑制，能 够防止涂敷不良导致的条纹状厚度不均的产生。
保护膜2的背面2A的表面电阻越小，则越是存在在膜基材1上形成的 涂敷层3上产生条纹状的不均得到抑制的趋势。保护膜2的背面2A的表面 电阻优选为1×1010Ω/sq以下，更优选为5×109Ω/sq以下，进一步优选为 1×109Ω/sq以下，也可以是5×108Ω/sq以下。表面电阻通常为1×103Ω/sq以 上，也可以是1×104Ω/sq以上或1×105Ω/sq以上。
从膜基材1的第一主面1A剥离保护膜2时的剥离力存在对表面性造成 影响的情况。从膜基材1剥离保护膜2时的剥离力优选为1.5N/50mm以下， 更优选为1.0N/50mm以下，进一步优选为0.8N/50mm以下。剥离力是剥离 试验中的测定值，上述剥离试验是在剥离角度180°、拉伸速度10m/分钟的 条件下从膜基材剥离保护膜的剥离试验。
从减少涂敷不良的角度考虑，剥离力越小越好。另外，从抑制从膜基 材剥离保护膜时的粘滑振动(zipping)的角度考虑，也优选剥离力较小者。 另一方面，如果剥离力过小，则在辊搬送膜基材与保护膜的层叠体时，存 在保护膜无意地从膜基材剥离而导致搬送不良的情况。因此，从膜基材剥 离保护膜时的剥离力优选为0.05N/50mm以上，更优选为0.1N/50mm以上， 进一步优选为0.15N/50mm以上，也可以是0.2N/50mm以上。
保护膜2的背面2A的表面电阻R越小、并且从膜基材1剥离保护膜2 时的剥离力F越小，则越是存在抑制由膜基材导致的涂敷不良的趋势。表 面电阻R(Ω/sq)与剥离力F(N/50mm)优选满足下述式(1)。
log10R+2.3F≤11.5 (1)
表面电阻R及剥离力F越小，则log10R+2.3F的值越小，越是存在抑制 涂敷不良的趋势。log10R+2.3F的值优选为11.0以下，更优选为10.5以下， 也可以是10.3以下。
[材料]
以下，对本实施方式中使用的各材料进行说明。
＜涂敷液＞
涂布在膜基材1上的涂敷液是包含构成涂敷层3的固体成分(溶质)、 及使固体成分溶解/分散的溶剂的溶液。作为固体成分，可使用各种树脂材 料、液晶材料。
作为涂敷层的树脂材料，可举出：乙酸纤维素等纤维素系树脂、聚酯 系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、马来酰亚胺 系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片 烯系树脂)、聚芳酯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚砜系树 脂等。
将包含液晶化合物的液晶组合物涂布在膜基材1上，使液晶化合物在 规定方向上取向，然后固定取向状态，由此形成液晶分子在规定方向上取 向的涂敷层(液晶层)。
作为液晶化合物，可举出棒状液晶化合物及圆盘状液晶化合物等。从 容易通过膜基材的取向限制力均匀取向的方面考虑，液晶化合物优选为棒 状液晶化合物。棒状液晶化合物可以是主链型液晶，也可以是侧链型液晶。 棒状液晶化合物可以是液晶聚合物，也可以是聚合性液晶化合物的聚合物。 如果聚合前的液晶化合物(单体)显示液晶性，则聚合后也可以不显示液 晶性。
液晶化合物优选为通过加热而表现液晶性的热致型液晶。热致型液晶 随着温度变化而发生结晶相、液晶相、各向同性相的相转移。液晶组合物 中所含的液晶化合物可以是向列型液晶、层列型液晶、及胆甾醇型液晶中 的任意液晶。也可以在向列型液晶中添加手性剂以使其具有胆甾醇型取向 性。
作为显示热致性的棒状液晶化合物，可举出：甲亚胺类、氧偶氮类、 氰基联苯类、氰基苯酯类、苯甲酸酯类、环己烷羧酸苯酯类、氰基苯基环 己烷类、氰基取代苯基嘧啶类、烷氧基取代苯基嘧啶类、苯基二噁烷类、 二苯乙炔类、烯基环己基苯甲腈类等。
作为聚合性液晶化合物，例如可举出：使用聚合物粘结剂而能够固定 棒状液晶化合物的取向状态的聚合性液晶化合物、具有通过聚合能够固定 液晶化合物的取向状态的聚合性官能团的聚合性液晶化合物等。其中，优 选具有光固化性官能团的光固化性液晶化合物。
光固化性液晶化合物(液晶单体)在一个分子中具有介晶基和至少一 个光固化性官能团。液晶单体显示液晶性的温度(液晶相转移温度)优选 为40～200℃，更优选为50～150℃，进一步优选为55～100℃。
作为液晶单体的介晶基，可举出：联苯基、苯基苯甲酸酯基、苯基环 己烷基、氧偶氮苯基、甲亚胺基、偶氮苯基、苯基嘧啶基、二苯基乙炔基、 二苯基苯甲酸酯基、联环己烷基、环己基苯基、联三苯基等环状结构。这 些环状单元的末端可具有氰基、烷基、烷氧基、卤基等取代基。
作为光固化性官能团，可举出：(甲基)丙烯酰基、环氧基、乙烯醚基 等。其中，优选为(甲基)丙烯酰基。光固化性液晶单体优选为在一个分 子中具有两个以上光固化性官能团的单体。通过使用包含两个以上的光固 化性官能团的液晶单体，对光固化后的液晶层导入交联结构，因此有光学 膜的耐久性提高的趋势。
作为光固化性液晶单体，可采用任意适当的液晶单体。例如可举出国 际公开第00/37585号、美国专利第5211877号、美国专利第4388453号、 国际公开第93/22397号、欧洲专利第0261712号、德国专利第19504224 号、德国专利第4408171号、英国专利第2280445号、日本特开2017-206460 号公报、国际公开第2014/126113号、国际公开第2016/114348号、国际公 开第2014/010325号、日本特开2015-200877号公报、日本特开2010-31223 号公报、国际公开第2011/050896号、日本特开2011-207765号公报、日本 特开2010-31223号公报、日本特开2010-270108号公报、国际公开第 2008/119427号、日本特开2008-107767号公报、日本特开2008-273925号 公报、国际公开第2016/125839号、日本特开2008-273925号公报等中记载 的化合物。通过选择液晶单体，也可以调整双折射的表现性、延迟的波长 色散。
在液晶组合物中，除液晶单体以外，还可以包含控制液晶单体向规定 方向取向的化合物。例如，通过使液晶组合物包含侧链型液晶聚合物，可 使液晶化合物(单体)垂直取向。另外，通过在液晶组合物中添加手性剂， 可使液晶化合物胆甾醇型取向。
液晶组合物可包含光聚合引发剂。在通过紫外线照射使液晶单体固化 的情况下，为了促进光固化，液晶组合物优选包含通过光照射生成自由基 的光聚合引发剂(光自由基产生剂)。也可以根据液晶单体的种类(光固化 性官能团的种类)而使用光阳离子产生剂、光阴离子产生剂。光聚合引发 剂的用量相对于液晶单体100重量份为0.01～10重量份左右。除光聚合引 发剂以外，还可使用增感剂等。
通过根据需要将液晶单体以及各种取向控制剂、聚合引发剂等与溶剂 混合，可制备液晶组合物。
(溶剂)
涂敷液的溶剂只要能够使溶质溶解并且不会侵蚀基板(或侵蚀性较 低)，就没有特别限定，可举出：氯仿、二氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、 四氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、邻二氯苯等卤代烃类；苯酚、对 氯苯酚等苯酚类；苯、甲苯、二甲苯、甲氧基苯、1,2-二甲氧基苯等芳香族 烃类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、环戊酮、2-吡咯啶酮、N- 甲基-2-吡咯啶酮等酮系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；叔丁醇、 甘油、乙二醇、三乙二醇、乙二醇单甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇、二 丙二醇、2-甲基-2,4-戊二醇等醇系溶剂；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等胺 系溶剂；乙腈、丁腈等腈系溶剂；二乙醚、二丁醚、四氢呋喃等醚系溶剂； 乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等。也可以使用两种以上溶剂的混合溶剂。
涂敷液的固体成分浓度通常为5～60重量％左右。涂敷液也可以包含 表面活性剂、流平剂等添加剂。
＜膜基材＞
通过使用长条膜基材1作为基板，可通过卷对卷实施从涂敷液的涂布 至干燥为止的一系列工序。在涂敷液为液晶组合物的情况下，涂布后的液 晶分子的取向处理、光固化等操作也可以在膜基材1上作为一系列工序而 实施。另外，将形成于膜基材1上的涂敷层3贴合于其他基材的工序也可 以通过卷对卷来实施，因此能够提高光学膜的生产率。
膜基材1的宽度优选为30cm以上，也可以是50cm以上、80cm以上、 100cm以上或120cm以上。从光学膜的生产率的角度考虑，膜基材1的宽 度越大越好，通常为500cm以下，也可以是400cm以下或300cm以下。膜 基材的长度优选为100m以上，也可以是300m以上、500m以上、800m以 上、1000m以上或1200m以上。膜基材1的长度的上限没有特别限定，通 常为10000m以下，也可以是7000m以下或5000m以下。膜基材1的厚度 优选为10～200μm左右。
构成膜基材1的树脂材料只要不会溶解于涂敷液的溶剂、并且可耐受 干燥、取向处理、固化等处理，就没有特别限定，可举出：聚对苯二甲酸 乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃；降冰 片烯系聚合物等环状聚烯烃；二乙酸纤维素、三乙酸纤维素等纤维素系聚 合物；丙烯酸系聚合物；苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺 等。
由聚烯烃、环状聚烯烃、丙烯酸系聚合物等疏水性树脂材料形成的膜 在与保护膜2贴合时容易发生内部带电，有可能导致在剥离保护膜后涂布 涂敷液时的涂敷不良。如上所述，通过使用背面2A(与膜基材1的贴合面 相反侧的面)的表面电阻较小的保护膜2，内部带电得到抑制，因此即使在 使用疏水性树脂膜作为膜基材1的情况下，也能够防止涂敷不良。
膜基材1也可以具有用于使液晶分子在规定方向上取向的取向限制力。 例如，膜基材1也可以在第一主面具备取向膜。取向膜只要根据液晶化合 物的种类、基板的材质等来适宜选择适当的取向膜即可。作为用于使液晶 分子在规定方向上均匀取向的取向膜，可举出对聚酰亚胺系、聚乙烯醇系 取向膜进行了摩擦处理后得到的取向膜。另外，也可以使用光取向膜。也 可以不设置取向膜而对树脂膜实施摩擦处理。
膜基材1也可以具备用于使液晶分子垂直取向的取向膜。作为用于形 成垂直取向性的取向膜(垂直取向膜)的取向剂，可举出：卵磷脂、硬脂 酸、十六烷基三甲基溴化铵、十八胺基盐酸盐、一元羧酸铬络合物、硅烷 偶联剂、硅氧烷化合物等有机硅烷、全氟二甲基环己烷、四氟乙烯、聚四 氟乙烯等。
也可以使用拉伸膜作为膜基材1。在拉伸膜中，构成膜的树脂材料(聚 合物)在拉伸方向上取向，并且该拉伸膜具有使液晶分子沿着拉伸方向取 向的作用。通过使用拉伸膜，即使在膜基材上不形成取向膜的情况下，也 可以具有用于使液晶分子在规定方向上取向的取向限制力。由于无需形成 取向膜，因此能够减少光学膜的制造成本。另外，通过不设置取向膜，能 够防止由摩擦尘渣导致的污染、取向不良。
拉伸膜的拉伸方向(聚合物的取向方向)没有特别限定，可以与膜基 材的长度方向平行，也可以与膜基材的长度方向不平行。通过使用分子与 长度方向不平行取向的拉伸膜，可以形成液晶分子与长度方向不平行地取 向的液晶层作为涂敷层3。
拉伸膜的拉伸倍率只要是可发挥取向限制力的程度即可，例如为1.1 倍～5倍左右。拉伸膜也可以是双轴拉伸膜。即使为双轴拉伸膜，只要使用 纵向与横向的拉伸倍率不同者，就可以使液晶分子沿着拉伸倍率较大的方 向取向。
拉伸膜也可以是斜向拉伸膜。斜向拉伸膜在与长度方向既不平行也不 正交的方向(例如相对于长度方向为10～80°的方向)上具有取向轴，因此 通过使用斜向拉伸膜作为膜基材1，可形成液晶分子在与长度方向既不平行 也不正交的方向上取向的液晶层。
＜保护膜＞
如图2所示，暂时粘贴于膜基材1的第一主面1A的保护膜2优选在芯 材291的一个面具备粘合剂层292。保护膜2也可以在芯材291的背面(与 粘合剂层形成面相反侧的面)具备抗静电层295。
(芯材)
保护膜2的芯材291只要具有挠性，其材料就没有特别限定，可使用 金属箔、树脂膜等。从材料廉价且加工性优异的方面考虑，优选树脂膜。 作为构成芯材291的树脂材料的具体例，可举出上文中作为膜基材1的树 脂材料所述的树脂材料。芯材291也可以是拉伸膜。芯材291的厚度没有 特别限定。从兼具自支撑性和挠性的角度考虑，芯材291的厚度优选为10～ 100μm左右。
(粘合剂层)
粘合剂层292只要能够贴合于膜基材1并且能够从膜基材1剥离即可， 可由通常的粘合带等中使用的粘合剂构成。作为保护膜2，也可以使用自粘 合性膜，其是通过多层挤压将构成芯材291的树脂材料与粘合剂层292的 树脂材料一体成型而得到的。
构成粘合剂层292的粘合剂的组成没有特别限定，可适当选择使用将 如下物质作为基础聚合物的粘合剂：丙烯酸系聚合物、有机硅系聚合物、 聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯 烃、环氧系、氟系、天然橡胶、合成橡胶等橡胶系等聚合物。尤其是从容 易调整粘接力(剥离力)、作为被粘体的膜基材1上的糊剂残留较少的方面 考虑，优选使用将丙烯酸系聚合物作为基础聚合物的丙烯酸系粘合剂。
作为丙烯酸系基础聚合物，可适当使用将(甲基)丙烯酸烷基酯的单 体单元作为主骨架的聚合物。作为(甲基)丙烯酸烷基酯，可适当使用烷 基的碳数为1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯的含量 相对于构成基础聚合物的单体成分总量优选为40重量％以上，更优选为50 重量％以上，进一步优选为60重量％以上。丙烯酸系聚合物可以是多种(甲 基)丙烯酸烷基酯的共聚物。构成单体单元的排列可以是随机的，也可以 是嵌段的。
丙烯酸系基础聚合物优选含有具有能够交联的官能团的单体成分作为 共聚成分。作为具有能够交联的官能团的单体，可举出含羟基单体、含羧 基单体。其中，作为基础聚合物的共聚成分，优选含有(甲基)丙烯酸2- 羟基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯等含羟基单体。基础聚合物的羟基、 羧基成为与交联剂反应的反应活性部位。通过向基础聚合物中导入交联结 构，粘合剂的凝聚力提高，显示对作为被粘体的膜基材的适度的粘接力， 并且存在从膜基材1剥离保护膜2时的剥离力降低的趋势。
基础聚合物的分子量以粘合剂层292具有期望的粘接力的方式进行适 当调整，例如，聚苯乙烯换算的重均分子量为5万～200万左右，优选为7 万～180万左右，更优选为10万～150万左右，进一步优选为20万～100 万左右。此外，在向基础聚合物中导入交联结构的情况下，导入交联结构 前的基础聚合物的分子量优选为上述范围。
以调整粘合剂层292的粘接力等为目的，也可以向基础聚合物中导入 交联结构。例如通过向使基础聚合物聚合后的溶液中添加交联剂并根据需 要进行加热而导入交联结构。
作为交联剂，可举出：异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、噁唑啉系 交联剂、氮丙啶系交联剂、碳二酰亚胺系交联剂、金属螯合物系交联剂等。 其中，从与基础聚合物的羟基、羧基的反应性较高而容易导入交联结构的 方面考虑，优选异氰酸酯系交联剂及环氧系交联剂。交联剂的用量只要根 据基础聚合物的组成、分子量、目标粘接特性等来适当调整即可。为了使 粘合剂具有适度的凝聚力并且将从被粘体剥离保护膜时的剥离力调整为适当的范围，交联剂的用量相对于基础聚合物100重量份优选为0.5重量份以 上，更优选为1重量份以上，进一步优选为1.5重量份以上。为了对被粘体 具有适度的粘接性，交联剂的用量相对于基础聚合物100重量份优选为20 重量份以下，更优选为15重量份以下，进一步优选为10重量份以下。
通过向基础聚合物中导入交联结构，粘合剂的凝胶分率上升，存在随 着粘性行为的减少而从被粘体剥离保护膜时的剥离力变小的趋势。粘合剂 层292的凝胶分率优选为70.0％以上，更优选为80.0％以上，进一步优选为 90.0％以上。如果粘合剂层292的凝胶分率过大，则存在对被粘体的润湿性 降低而粘接力变得不足的情况。因此，粘合剂层292的凝胶分率优选为99％ 以下，更优选为98％以下。凝胶分率可以作为对于乙酸乙酯等溶剂的不溶 成分来求出，具体而言，可以作为将粘合剂层在乙酸乙酯中在23℃下浸渍 7天后的不溶成分相对于浸渍前的试样的重量分率(单位：重量％)来求出。 通常，聚合物的凝胶分率与交联度相等，聚合物中的交联了的部分越多， 则凝胶分率变得越大。
粘合剂层292也可以包含硅烷偶联剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、防 劣化剂、填充剂、着色剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、表面活性剂、抗静 电剂等添加剂。
粘合剂层292的厚度没有特别限定，为了兼顾对被粘体的粘接力和被 粘体剥离的剥离性，粘合剂层292的厚度优选为1～50μm，更优选为2～ 40μm，进一步优选为3～35μm。存在粘合剂层292的厚度越小、则从被粘 体剥离的剥离性越是提高的趋势。
(抗静电层)
保护膜2优选在芯材291的背面具备抗静电层295。通过具备抗静电层， 保护膜2的背面2A的表面电阻变小，因此能够抑制膜基材1与保护膜2 的层叠体中的内部带电。另外，通过使保护膜2具备抗静电层295，能够防 止从膜基材1剥离保护膜2时膜基材1带电，能够抑制由静电导致尘埃附 着于膜基材1、涂敷不良。
作为抗静电层，例如可举出使粘合剂树脂含有抗静电成分而形成的层。 作为粘合剂树脂，可采用热固型树脂、紫外线固化型树脂、电子射线固化 型树脂、双组分混合型树脂等各种类型的树脂。作为抗静电成分，可举出 有机或无机的导电性物质、各种抗静电剂等。作为有机导电性物质，可举 出：聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、聚亚乙基亚胺、烯丙胺系聚合物等导电性 聚合物。作为无机导电性物质，可举出：各种金属、合金、导电性金属氧 化物。无机导电性物质优选以粒径为0.1μm以下(代表性地为0.01μm～ 0.1μm)的微粒的形式包含于抗静电层中。抗静电成分可以是阳离子型抗静 电剂、阴离子型抗静电剂、两性离子型抗静电剂、非离子型抗静电剂等。
＜层叠体＞
通过将保护膜2的粘合剂层292贴合于膜基材1的一个面而形成层叠 体8。在膜基材1上层叠保护膜2的层叠方法没有特别限定。例如在膜基材 1的制造工序中，只要在将膜基材1卷取成卷状之前，以卷对卷的方式将保 护膜2贴合于膜基材1上即可。通过与膜基材1的制造工序连续地实施保 护膜2的贴合，能够减少辊与膜基材1的第一主面1A的接触次数而抑制伤 痕产生。
在膜基材1为拉伸膜的情况下，优选在拉伸后立即贴合保护膜2。例如 通过夹持膜的两端的拉幅方式来实施拉伸，然后在膜基材1的第一主面1A 与搬送辊相接之前贴合保护膜2，由此能够防止在膜基材1的第一主面1A 上产生伤痕。
如上所述，从膜基材1剥离保护膜2时的剥离力优选为1.5N/50mm以 下，更优选为1.0N/50mm以下，进一步优选为0.8N/50mm以下。通过调整 粘合剂层292的组成、厚度等，可将剥离力设为上述范围内。具体而言， 有粘合剂层292的厚度越小则剥离力变得越小的趋势。另外，通过增加交 联结构向构成粘合剂层292的基础聚合物中的导入量，有凝胶分率上升、 剥离力变小的趋势。
如上所述，保护膜2的背面2A的表面电阻优选为1×1010Ω/sq以下， 更优选为5×109Ω/sq以下，进一步优选为1×109Ω/sq以下，也可以是 5×108Ω/sq以下。通过在芯材291的背面设置抗静电层，能够减少表面电阻。
[光学膜的制作]
从层叠体8的膜基材1剥离保护膜2，在膜基材1的第一主面1A上形 成涂敷层3，由此可得到在膜基材1上具备涂敷层3的层叠体(光学膜)9。 以下，以使用包含液晶化合物的液晶组合物作为涂敷液而形成取向液晶层 作为涂敷层3的情况为中心，对各工序进行说明。
＜第一搬送工序＞
将在膜基材1的第一主面1A贴合有保护膜2而成的层叠体8暂时卷取 成卷状的卷绕体80，并设置于卷出辊81。从设置于卷出辊81的卷绕体80 卷出的层叠体8向沿着搬送辊83、85、87形成的搬送路径的下游侧连续地 移动，被搬送至剥离部10。
将膜基材1与保护膜2贴合而形成层叠体8的工序也可以与第一搬送 工序连续地实施。例如，也可以在将膜基材1与保护膜2贴合后不卷取层 叠体8而直接将其搬送至剥离部10。
＜剥离工序＞
在剥离工序中，从搬送至剥离部10的层叠体8剥离保护膜2，使膜基 材1的第一主面1A露出。保护膜的剥离方法没有特别限定，通常为在剥离 辊11上进行剥离的方法。如果以保护膜2相对于剥离辊11的抱角大于膜 基材1相对于剥离辊11的抱角的方式配置剥离辊11的下游的搬送辊13、 23，则可以在剥离辊11上从膜基材1剥离保护膜2。剥离辊可以是上下夹 着层叠体8的一对夹辊。从膜基材1的第一主面剥离的保护膜2沿着由搬 送辊23、25形成的搬送路径搬送，用卷取辊21卷取成卷绕体20。
如上所述，通过调整从膜基材1剥离保护膜2时的剥离力，能够抑制 由剥离时的拉扯等导致的膜基材1的变形。另外，通过使保护膜2的背面 2A的表面电阻较小，因此能够抑制膜基材1的剥离带电。
＜第二搬送工序＞
在第二搬送工序中，将剥离保护膜2后的膜基材1搬送至涂布部30。 在将在剥离部10中剥离了保护膜2后的膜基材1从剥离部10搬送至涂布 部30为止期间，膜基材1的第一主面1A露出。在本实施方式中，第二搬 送工序中的膜基材1的搬送路径较短，膜基材1的第一主面1A与搬送辊的 接触机会较少，因此第二搬送工序中的膜基材上的伤痕产生频率很少。
在将膜基材1从剥离部10(剥离辊11)搬送至涂布部30(支承辊31) 为止期间，如果使搬送辊不与膜基材1的第一主面1A接触，则能够防止在 第二搬送工序中在膜基材1的第一主面1A上产生伤痕。
如图3的虚线所示，在第二搬送工序中，辊15也可以与膜基材1的第 一主面1A接触。通过使辊15与膜基材1的第一主面1A接触，从第一主 面侧(图的下侧)向图的上侧按压的力会作用于膜基材1。因此，由保护膜 2的剥离力导致膜基材1的振动减少，能够抑制涂敷液的涂布不均。
在从在剥离部10中剥离保护膜2后至在涂布部30中涂布涂敷液为止 期间的膜基材1的搬送路径(第二搬送工序)中，与膜基材1的第一主面 1A相接的辊15可作为对膜基材1的“按压辊”起作用。
按压辊只要能够抑制剥离部10中由保护膜2的剥离导致的膜基材1的 振动，就无需与膜基材1的宽度方向的整体相接。按压辊可仅接触膜基材1 的宽度方向的两端部而不与宽度方向的中央部接触。例如作为与膜基材1 的第一主面1A接触的按压辊15，可使用图4中示意性地表示的杠铃形状 的辊151。
辊151在两端具备圆筒形状的辊15R、15L，介由直径小于这些辊的连 结轴15C将两端的辊15R、15L连结。如果使用该辊151，则辊151仅与膜 基材的宽度方向的两端部接触，而不与膜基材的宽度方向的中央接触。
在第二搬送工序中，膜基材的宽度方向的两端部(辊15R、15L接触 的区域)存在因与辊15的接触而在膜基材的第一主面上形成伤痕的情况， 但如果将该区域作为非制品区域，仅将不与辊15接触的宽度方向的中央作 为制品区域，则可得到由膜基材1的伤痕导致的缺陷较少的光学膜(涂敷 层3)。例如，如果仅在膜基材1的宽度方向的中央涂布涂敷液，在膜基材 的宽度方向的两端部不形成涂敷层，则仅宽度方向的中央成为制品区域。 另外，也可以通过在形成涂敷层后的适当阶段冲裁膜、将端部切缝等方法， 从制品切断去除两端部的区域，仅将膜基材的宽度方向的中央部作为制品 区域。
如上所述，在第二搬送工序中，在辊与膜基材1的第一主面1A接触的 情况下，优选在宽度方向的两端部第一主面1A与按压辊接触，在宽度方向 的中央部第一主面不与辊接触。在该方式中，能够抑制由保护膜2的剥离 导致的膜基材1的振动而减少涂敷层3的涂布不均，并且可得到由膜基材1 的伤痕导致的缺陷较少的涂敷层3。
在膜基材1的两端部，膜基材与按压辊接触的部分的宽度例如分别为 1～50cm。在膜基材与按压辊接触的部分的宽度过小的情况下，存在膜基材 的振动抑制作用不足、或膜基材的移动性降低的情况。在膜基材与按压辊 接触的部分的宽度过大的情况下，光学膜的非制品区域的宽度较大，导致 生产效率、成品率降低。膜基材与按压辊接触的部分的宽度可以是2cm以 上、3cm以上或5cm以上，也可以是30cm以下、25cm以下、20cm以下、 15cm以下或10cm以下。
按压辊可以以从膜基材1的宽度方向的两端向外侧伸出的方式配置， 也可以配置于宽度方向的两端的更靠近内侧。在将按压辊配置于比膜基材1 的宽度方向的两端更靠近内侧的情况下，从膜基材的宽度方向的一端至按 压辊的距离可以是30cm以内、20cm以内、15cm以内、10cm以内、5cm 以内、3cm以内或1cm以内。
在从在剥离部10中剥离保护膜2后至在涂布部30中涂布涂敷液为止 期间，与膜基材1的第一主面1A相接的按压辊只要能够按压膜基材的两端 部而抑制膜基材的振动即可，其形状不限于图4所示的杠铃形状。例如也 可以在宽度方向的两端分离地配置两个辊。与膜基材1的第一主面1A相接 的按压辊也可以与与膜基材1的第二主面1B相接的辊成对而为挟持膜基材 1的夹辊。在剥离部10与涂布部30之间也可以设置两根以上与膜基材1 的第一主面1A相接的按压辊。
在第二搬送工序中，从膜基材1的第一主面1A侧按压膜基材而抑制膜 基材的振动的机构无需必须是旋转体。例如在剥离部10与涂布部30之间 也可以配置将膜基材从第一主面侧(图的下侧)朝向第二主面侧按压的销 等作为膜按压机构。
在第二搬送工序中，也可以用拉幅夹来夹持膜基材的两端部。在该情 况下，也可以不使辊等与膜基材的宽度方向中央部接触而从第一主面及第 二主面的两面按压膜基材的宽度方向两端部的区域，而抑制由保护膜2的 剥离导致的膜基材1的振动。在该情况下，与膜基材的第一主面侧相接的 下夹具作为膜按压机构起作用。
如图3所示，在剥离部10与涂布部30之间的第二搬送工序中，通过 使辊13与膜基材1的第二主面1B接触，也可以从第二主面1B侧按压膜 基材1，因此能够更有效地抑制由保护膜2的剥离力导致的膜基材1的振动。
与膜基材1的第二主面1B相接的辊13可仅与膜基材的两端部相接， 也可以与膜基材的宽度方向整体相接。从膜基材的搬送性等角度考虑，辊 13优选与膜基材的第二主面的宽度方向整体相接。
＜涂布工序＞
在搬送至涂布部30的膜基材1的第一主面1A上涂布涂敷液。在图3 所示的方式中，在膜基材1的第二主面1B与支承辊31相接的状态下，在 膜基材1的第一主面1A上涂布从模具33喷出的涂敷液。
在膜基材1上涂布涂敷液的方法没有特别限定。作为涂布方法，除了 模涂法以外，也可举出：吻辊涂布法(kiss roll coat)、凹版涂布法、反向涂 布法、喷涂法、迈耶棒式涂布法、刀辊式涂布、气刀涂布法等。涂敷液的 涂布厚度优选以使溶剂干燥后的涂敷层3的厚度成为0.1～20μm左右的方 式进行调整。
在本实施方式中，由于在即将进行涂布工序之前，膜基材1的第一主 面1A上暂时粘贴有保护膜2而得到保护，因此由辊搬送导致的膜基材1 的第一主面1A上的伤痕产生得到抑制。另外，暂时粘贴于膜基材1的保护 膜2的背面2A的表面电阻、及膜基材1与保护膜2的粘接力(剥离力)调 整至规定范围，因此在剥离保护膜2后由膜基材1的第一主面1A的带电等 导致的涂敷不良的发生得到抑制。因此，可形成由膜基材1导致的伤痕、 条纹等缺陷较少的涂敷层3。
＜涂布后的工序＞
也可以用加热部50对涂布涂敷液后的膜基材1进行加热。加热部50 例如包括加热炉55，在加热炉55内搬送膜基材1期间，对膜基材1、及涂 布在其上的涂敷液进行加热。例如，可通过加热而去除涂敷液的溶剂。
在涂敷液为液晶组合物且液晶组合物中所含的液晶化合物为热致型液 晶的情况下，通过对液晶组合物层进行加热而使其成为液晶相，使液晶化 合物在规定方向上取向。具体而言，将膜基材上涂布的液晶组合物加热至 N(向列相)-I(各向同性液体相)转移温度以上，使该液晶组合物成为各 向同性液体状态。然后，根据需要进行缓慢冷却而使其表现向列相。此时， 期望暂时保持为呈液晶相的温度，使液晶相畴成长而成为单畴。或者，也 可以在涂布液晶组合物后将温度保持在表现向列相的温度范围内一定时间 而使液晶分子在规定方向上取向。
使液晶化合物在规定方向上取向时的加热温度只要根据液晶组合物的 种类来适当选择即可，通常为40～200℃左右。如果加热温度过低，则有向 液晶相的转移变得不充分的趋势，如果加热温度过高，则存在取向缺陷增 加的情况。加热时间只要以液晶相畴充分生长的方式进行调整即可，通常 为30秒～30分钟左右。
优选在通过加热使液晶化合物取向之后冷却至玻璃化转变温度以下的 温度。冷却方法没有特别限定，例如只要从加热气氛中取出至室温中即可。 也可以进行空气冷却、水冷等强制冷却。
在液晶化合物具有固化性的情况下，优选在固化部60中进行固化。例 如，在液晶化合物具有光固化性的情况下，在光固化性液晶化合物(液晶 单体)具有液晶规则性的状态下进行光固化。来自光源61的照射光只要能 够使光固化性液晶化合物聚合即可，通常使用波长250～450nm的紫外线 或可见光。在液晶组合物包含光聚合引发剂的情况下，只要选择光聚合引 发剂具有灵敏度的波长的光即可。作为照射光源，可使用低压汞灯、高压 汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、氙气灯、LED、黑光灯、化学灯等。 为了促进光固化反应，光照射优选在氮气等惰性气体气氛中进行。
在光固化时，通过利用规定方向的偏振光，也可以使液晶化合物在规 定方向上取向。如上所述，在通过膜基材1的取向限制力使液晶化合物取 向的情况下，照射光也可以是非偏振光(自然光)。
照射强度只要根据液晶组合物的组成、光聚合引发剂的添加量等来适 当调整即可。照射能量(累计照射光通量)通常为20～10000mJ/cm2左右， 优选为50～5000mJ/cm2，更优选为100～800mJ/cm2。为了促进光固化反应， 也可以在加热条件下实施光照射。
使液晶单体光固化后的聚合物为非液晶性，不会因温度变化而发生液 晶相、玻璃相、结晶相的转移。因此，在使液晶单体在规定方向上取向的 状态下光固化而得到的液晶层难以因温度变化而发生分子取向的变化。另 外，液晶层与由非液晶材料形成的膜相比双折射明显更大，因此可使具有 期望的延迟的光学各向异性元件的厚度明显变小。
涂敷层(液晶层)3的光学特性没有特别限定。涂敷层3的正面延迟及 厚度方向延迟只要根据用途等来适当设定即可。在液晶分子均匀取向的情 况下，涂敷层3的正面延迟例如为20～1000nm左右。在涂敷层3为1/4波 片的情况下，正面延迟优选为100～180nm，更优选为120～150nm。在涂 敷层3为1/2波片的情况下，正面延迟优选为200～340nm，更优选为240～ 300nm。在液晶垂直取向的情况下，涂敷层3的面内延迟大约为0(例如 5nm以下，优选为3nm以下)，厚度方向延迟的绝对值为30～500nm左右。
液晶层等涂敷层3的延迟与厚度成正比。在涂布涂敷液时，如果因膜 基材的表面的液膜皱缩等导致形成局部厚度较小的部分，则该部分的延迟 变小，因此在显示装置中发生光学不均。如上所述，在本实施方式中，保 护膜2的背面2A的表面电阻、及膜基材1与保护膜2的粘接力(剥离力) 被调整至规定范围，由涂敷不良导致的条纹状厚度不均的产生得到抑制。 因此，不易发生由光学膜(涂敷层)的厚度不均导致的延迟不均，光学上 的均匀性优异。
涂敷层(液晶层)3中的液晶分子的取向方向可以与膜基材1的长度方 向(卷对卷的搬送方向)平行，也可以与该长度方向不平行。如上所述， 通过利用斜向拉伸膜等的取向限制力，可形成液晶分子与长度方向不平行 地取向的液晶层。在液晶分子与长度方向不平行地取向的情况下，如果在 膜基材上存在沿着长度方向的伤痕，则在其上形成的液晶层的液晶分子沿 着伤痕在长度方向上取向，因此导致取向不良。如上所述，通过将暂时粘 贴于膜基材1的保护膜2剥离后立即在膜基材1上涂布液晶组合物，能够 抑制在膜基材上产生伤痕而减少液晶层的取向不良。
＜光学膜的加工＞
通过用卷取辊91将在膜基材1的第一主面1A上形成有涂敷层3的层 叠体9(光学膜)卷取，可得到长条的光学膜的卷绕体90。该层叠体9可 直接用作光学膜。膜基材1的宽度方向的两端部的区域为非制品区域，因 此也可以在从形成涂敷层3后直到用卷取辊91进行卷取为止期间、或用卷 取辊91卷取后的适当阶段通过切缝而切断去除。另外，也可以以不包含宽 度方向的两端部的区域的方式对膜进行冲裁而切出单片制品。
在膜基材1的第一主面1A上形成有涂敷层3而成的层叠体9可直接用 作光学膜，也可以将膜基材1剥离去除而仅将涂敷层3用作光学膜。在涂 敷层3为树脂层的情况下，也可以将膜基材1与涂敷层3的层叠体拉伸并 对涂敷层3赋予光学各向异性。
也可以在涂敷层3上层叠其他层。例如，通过在涂敷层3上介由粘接 剂层5贴合光学层4，可得到图5所示的层叠体96。
层叠于涂敷层3上的光学层4没有特别限定，可以没有特别限制地使 用通常可用作光学膜的光学各向同性或光学各向异性的膜。作为光学层4 的具体例，可举出：相位差膜、起偏器保护膜等透明膜、起偏器、视角扩 大膜、视角限制(防窥)膜、亮度提高膜等功能性膜。光学层4可以是单 层，也可以是层叠体。光学层4也可以是液晶层。光学层4也可以是在起 偏器的一面或两面贴合透明保护膜而成的偏振片。偏振片在一面具备透明 保护膜的情况下，可以将起偏器与涂敷层贴合，也可以将透明保护膜与涂 敷层贴合。
构成粘接剂层5的粘接剂只要在光学上是透明的，其材料就没有特别 限制，可举出：环氧树脂、有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯、聚酰胺、 聚醚、聚乙烯醇等。粘接剂层5的厚度根据被粘体的种类、粘接剂的材料 等来适当设定。在使用通过涂布后的交联反应而显示粘接性的固化型粘合 剂的情况下，粘接剂层5的厚度优选为0.01～5μm，更优选为0.03～3μm。
作为粘接剂，可使用水系粘接剂、溶剂系粘接剂、热熔粘接剂系、活 性能量射线固化型粘接剂等各种形态的粘接剂。其中，从可减小粘接剂层 的厚度的方面考虑，优选为水系粘接剂或活性能量射线固化型粘接剂。
通过在涂敷层3的表面及光学层4的表面中的任一面或两面涂布粘接 剂并进行固化，介由粘接剂层5层叠涂敷层3与光学层4。粘接剂的固化只 要根据粘接剂的种类进行适当选择即可。例如，水系粘接剂可通过加热来 固化。活性能量射线固化型粘接剂可通过紫外线等活性能量射线的照射来 固化。
介由粘接剂层5在膜基材1上的涂敷层3上贴合光学层4而成的层叠 体96可直接用作光学膜。在该情况下，膜基材1构成光学膜的一部分。也 可以如图6所示那样从涂敷层3剥离去除膜基材。也可以如图7所示那样 在因膜基材的剥离在露出的涂敷层3的表面上层叠适当的粘合剂层6。
构成粘合剂层6的粘合剂没有特别限制，可适当选择使用以丙烯酸系 聚合物、有机硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系聚合物、 橡胶系聚合物等作为基础聚合物的粘合剂。特别优选丙烯酸系粘合剂、橡 胶系粘合剂等透明性优异、显示适度的润湿性、凝聚性及粘接性且耐候性、 耐热性等优异的粘合剂。粘合剂层的厚度根据被粘体的种类等来适当设定， 通常为5～500μm左右。
向涂敷层3上层叠粘合剂层6例如通过将预先形成为片状的粘合剂贴 合于涂敷层3的表面来进行。也可以在涂敷层3上涂布粘合剂组合物后， 进行溶剂的干燥、交联、光固化等而形成粘合剂层6。为提高涂敷层3与粘 合剂层6的粘接力(锚固力)，也可以对涂敷层3的表面进行电晕处理、等 离子体处理等表面处理、形成易粘接层后再层叠粘合剂层6。
优选在粘合剂层6的表面暂时粘贴有间隔件7。间隔件7在将光学膜与 其他构件贴合为止的期间保护粘合剂层6的表面。作为间隔件的构成材料， 可适当使用丙烯酸树脂、聚烯烃、环状聚烯烃、聚酯等塑料膜。间隔件的 厚度通常为5～200μm左右。优选对间隔件的表面实施脱模处理。作为脱 模剂，可举出：有机硅系材料、氟系材料、长链烷基系材料、脂肪酸酰胺 系材料等。
也可以介由适当的粘接剂层或粘合剂层在剥离膜基材1后的涂敷层3 的露出面层叠其他光学层。例如可以介由适当的粘接剂层在涂敷层3上层 叠其他光学层，也可以在其上进一步层叠粘合剂层。
具备涂敷层的光学膜例如可用作图像显示装置用光学膜。作为在涂敷 层3上贴合其他光学层4而成的光学膜的一例，可举出层叠作为涂敷层3 的取向液晶层和偏振片而成的圆偏振片。
偏振片可仅由一层起偏器构成，也可以如上所述那样在起偏器的一面 或两面贴合透明保护膜。作为起偏器，可举出：使聚乙烯醇系膜、部分缩 甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分 子膜吸附碘、二色性染料等二色性物质并进行单轴拉伸而成的起偏器；聚 乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。
其中，从具有较高的偏振度的方面考虑，优选为使聚乙烯醇、部分缩 甲醛化聚乙烯醇等聚乙烯醇系膜吸附碘、二色性染料等二色性物质并使其 在规定方向上取向的聚乙烯醇(PVA)系起偏器。例如，通过对聚乙烯醇 系膜实施碘染色及拉伸而得到PVA系起偏器。也可以在树脂基材上形成 PVA系树脂层，以层叠体的状态进行碘染色及拉伸。
在层叠有偏振片与液晶层的圆偏振片中，优选至少一层液晶层是液晶 分子均匀取向的。在圆偏振片中，以液晶分子均匀取向的液晶层中的液晶 分子的取向方向、与起偏器的吸收轴方向既不平行也不正交的方式配置。
例如在圆偏振片仅具有一层液晶层的情况下，作为涂敷层3的液晶层 为1/4波片，且起偏器的吸收轴方向与液晶分子的取向方向(通常而言为 慢轴方向)所成的角度设定为45°。起偏器的吸收轴方向与液晶分子的取向 方向所成的角度可以是35～55°，也可以是40～50°，也可以是43～47°。
在将偏振片4与作为1/4波片的涂敷层3以两者的光学轴所成的角度 成为45°的方式层叠而成的构成中，也可以进一步具备液晶分子相对于基板 面垂直取向(homeotropicalignment)的液晶层。通过在偏振片上依次层叠 作为1/4波片的涂敷层3和作为正C板发挥功能的垂直液晶层，可形成对 于来自倾斜方向的外部光也能够遮蔽反射光的圆偏振片。也可以在偏振片 上依次层叠垂直取向液晶层(正C板)和均匀取向液晶层(作为正A板的 1/4波片)。
在偏振片上层叠有多个液晶层的圆偏振片中，液晶层也均可以为均匀 取向液晶层。在该情况下，优选配置于靠近偏振片4的一侧的液晶层为1/2 波片，配置于远离偏振片的一侧的液晶层为1/4波片。在该层叠构成中， 优选以1/2波片的慢轴方向与起偏器的吸收轴方向所成的角度成为75°±5°、 1/4波片的慢轴方向与起偏器的吸收轴方向所成的角度成为15°±5°的方式 进行配置。这样的层叠构成的圆偏振片在可见光的广的波长范围内作为圆 偏振片发挥功能，因此能够减少反射光的色差。
如上所述，在本发明的实施方式中，在膜基材的表面上暂时粘贴有保 护膜直到即将涂布涂敷液，因此向膜基材上的伤痕产生得到抑制，由膜基 材的伤痕导致的涂敷层缺陷较少。另外，即使在涂敷层为取向液晶层、且 液晶分子与膜基材的长度方向不平行地取向的情况下，取向不良缺陷也较 少。进而，由膜基材与保护膜贴合导致的涂敷不良得到抑制，因此涂敷层 的面内均匀性较高而能够实现良好的显示特性。
实施例
以下，示出实施例对本发明更具体地进行说明，但本发明不限于下述 例子。
＜涂敷液的制备＞
将表现向列型液晶相的光聚合性液晶化合物(BASF制造的“Paliocolor LC242”)溶解于环戊酮中，制备了固体成分浓度30重量％的溶液。向该溶 液中添加表面活性剂(BYK-Chemie制造的“BYK-360”)及光聚合引发剂 (IGM Resins制造的“Omnirad907”)，制备了液晶组合物溶液。流平剂及聚 合引发剂的添加量相对于光聚合性液晶化合物100重量份分别设为0.01重 量份及3重量份。
＜带保护膜的膜基材的制作＞
使用环状聚烯烃树脂(日本瑞翁制造的“ZEONOR 1420R”)的粒料， 并通过熔融挤出法使其成型为膜状，然后进行双轴拉伸，得到了厚度33μm、 面内延迟135nm的拉伸膜。在拉伸膜基材的单面贴合保护膜，然后将该层 叠体卷取成卷状。
作为保护膜，使用了在双轴拉伸聚酯膜的单面具备丙烯酸系粘合剂层 的保护膜。通过变更粘合剂层的组成及厚度、以及设置在背面的抗静电层 的种类，调整了保护膜的背面的表面电阻、及从膜基材剥离的剥离力。
＜取向液晶层的制作＞
将上述层叠体设置于图3所示的涂布装置的卷出辊，一边卷对卷搬送 层叠体一边从膜基材剥离保护膜，以干燥后的厚度成为1μm的方式将上述 液晶组合物涂布在膜基材的表面，以100℃加热3分钟，使液晶取向。冷却 至室温，然后在氮气氛中，照射累计光通量400mJ/cm2的紫外线来进行光 固化，得到了在膜基材上形成有均匀取向液晶层的层叠体。
[评价]
＜剥离力＞
将膜基材与保护膜的层叠体切成宽度50mm、长度100mm的尺寸，在 剥离角度180°、拉伸速度10m/分钟的条件下测定了从膜基材剥离保护膜时 的剥离力。
＜表面电阻＞
在温度23℃、相对湿度50％的环境中，使用电阻率仪(TREK制造的 “Model 152-1”，使探针(日东精工分析科技制造的“Hiresta-UX MCP-HT800”)接触保护膜的背面(未形成粘合剂面)，在外加电压10V、 电压施加时间30秒的条件下测定表面电阻。未形成抗静电层的保护膜(比 较例1、2)的表面电阻超过测定上限(1×1013Ω/sq)。
＜条纹不均＞
在玻璃基板上贴合透明丙烯酸系粘合片，在其上贴合取向液晶层，然 后从取向液晶层剥离了膜基材。将该试样配置于以正交尼科尔的方式配置 的两片偏振片之间，在跟踪台上以目视进行了观察。将观察到了在宽度方 向上延伸的条纹状的不均的试样记为NG，将未确认到条纹状的不均的试样 记为OK。
[评价结果]
将实施例及比较例中使用的保护膜的背面的表面电阻R及从膜基材剥 离的剥离力F、以及取向液晶层的条纹不均的评价结果示于表1中。
表1
Figure BDA0003353968510000251
在所有实施例及比较例中均未确认到液晶的取向缺陷。认为其原因为： 直到即将涂布液晶组合物之前，在膜基材的表面上暂时粘贴有保护膜，从 而向膜基材上的伤痕产生得到抑制。
在使用背面具备抗静电层的保护膜的实施例1～9中未确认到条纹不 均，而在使用不具备抗静电层的保护膜的比较例1、2中，取向液晶层的整 面产生了在宽度方向上延伸的条纹状的不均。在使用了剥离力F较大的保 护膜的比较例3中，也与比较例1、2同样地产生了条纹状的不均。
根据上述结果可知：通过预先将背面的表面电阻较小且剥离力较小的 保护膜暂时粘贴于膜基材、并且从膜基材剥离保护膜后立即涂布液晶组合 物，可得到无取向缺陷、且面内均匀性优异的取向液晶层。
对实施例及比较例中得到的取向液晶层的膜厚及面内延迟的分布进行 了测定，结果比较例1～3的取向液晶层中条纹不均的产生部位的厚度比其 他部位小30～40nm，在厚度较小的部位处面内延迟变小。另一方面，在剥 离了取向液晶层后的膜基材上未确认到条纹状的厚度不均。
根据上述结果可推测：在比较例1～3中，由于剥离保护膜后的膜基材 的局部带电等，因此在涂布了液晶组合物时因液膜皱缩而发生了涂敷不良。 与此相对，可认为：在实施例中，由于保护膜的表面电阻和/或剥离力较小， 因此剥离保护膜后的膜基材的带电等的影响较小，涂敷不良得到抑制，形 成了面内均匀性较高的取向液晶层。

Claims (11)

1.一种光学膜的制造方法，其是制造长条光学膜的方法，该方法包括：
准备层叠体的工序，该层叠体在具有第一主面及第二主面的长条膜基材的第一主面上以可剥离的方式贴合有保护膜；
第一搬送工序，将所述层叠体沿着所述膜基材的长度方向辊搬送至剥离部；
保护膜剥离工序，在所述剥离部中，将所述保护膜从所述膜基材的第一主面剥离；
第二搬送工序，将剥离了所述保护膜之后的所述膜基材沿着所述膜基材的长度方向从所述剥离部搬送至涂布部；以及
涂布工序，在所述涂布部中，在所述膜基材的第一主面上涂布涂敷液，得到在所述膜基材的第一主面上具备涂敷层的层叠体，
其中，所述保护膜的与所述膜基材的贴合面相反侧的面的表面电阻为1×1011Ω/sq以下。
2.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其中，以剥离角度180°、剥离速度10m/分钟的条件将所述保护膜从所述膜基材剥离时的剥离力为1.5N/50mm以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，以剥离角度180°、剥离速度10m/分钟的条件将所述保护膜从所述膜基材剥离时的剥离力F(N/50mm)与所述保护膜的背面的表面电阻R(Ω/sq)满足log10R+2.3F≤11.5。
4.根据权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，所述涂敷液是包含液晶化合物的液晶组合物。
5.根据权利要求4所述的光学膜的制造方法，其中，所述液晶组合物包含光固化性的液晶化合物，
该方法在所述涂布工序之后进一步包括将所述液晶化合物光固化的工序。
6.根据权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，所述膜基材是分子与所述长度方向不平行地取向的拉伸膜。
7.根据权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，在所述第二搬送工序中，辊不与所述膜基材的第一主面的宽度方向的中央部接触。
8.根据权利要求7所述的光学膜的制造方法，其中，在所述第二搬送工序中，膜按压机构与所述膜基材的第一主面的宽度方向的两端部至少接触一次，并且所述膜按压机构不与所述膜基材的第一主面的宽度方向的中央部接触。
9.根据权利要求8所述的光学膜的制造方法，其中，所述膜按压机构是仅与所述膜基材的第一主面的宽度方向的两端部接触的按压辊。
10.根据权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，该方法包括在所述涂敷层上以卷对卷的方式层叠其他光学层的工序。
11.根据权利要求10所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学层包含起偏器。
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