WO2016031574A1 - 組成物、硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 - Google Patents

組成物、硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 Download PDF

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    • C09B69/10—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds

Definitions

  • the present invention relates to a composition and a cured film using them.
  • the present invention also relates to a pattern forming method, a color filter, a method for manufacturing a color filter, a solid-state imaging device having a color filter, and an image display device.
  • This pigment dispersion method is a method for producing a color filter by a photolithography method using a colored photosensitive composition in which a pigment is dispersed in various photosensitive compositions. That is, a curable composition is applied onto a substrate using a spin coater, a roll coater, or the like, dried to form a coating film, and the coating film is subjected to pattern exposure and development to obtain a colored pixel. By repeating this operation for a desired hue, a color filter is produced.
  • the method described above is stable against light and heat because it uses a pigment, and the positional accuracy is sufficiently secured because patterning is performed by a photolithographic method, and it is suitable as a method for manufacturing a color filter for a color display. It has been widely used.
  • color filters for solid-state imaging devices such as CCD (Charge Coupled Device) have recently been required to have higher image quality and higher sensitivity.
  • Pigment Blue 15: 6 and Pigment Violet 23 are used for the blue pixels, but the combination of these pigments cannot achieve the high light transmission of 400 to 500 nm, which is required for recent image sensors. Application is being sought.
  • Patent Document 1 contains a dye and a polymerizable compound, and is a photosensitive coloring composition, further comprising both a singlet oxygen quencher and an antioxidant. And the use of a triarylmethane dye as the dye is described.
  • Patent Document 3 discloses (A) a compound that generates radicals by light or heat, (B) a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in a side chain, and (C) a vinyl group substituted in the molecule.
  • a photosensitive composition comprising a monomer having two or more phenyl groups, (D) an infrared absorber, and (E) a dye having an absorption maximum in the range of 500 nm to 700 nm. It is described that a triarylmethane dye is used as the dye.
  • Triarylmethane compounds are known as useful colorants because of their high transmittance in the wavelength range of 400 to 500 nm and low transmittance of 550 to 650 nm.
  • triarylmethane compounds usually do not absorb from around 650 nm to the long wave side.
  • the compositions described in Patent Documents 1 to 3 cannot be used for applications having photosensitivity from the vicinity of 650 nm to the long wave side, for example, solid-state imaging devices.
  • triarylmethane compounds often do not have practical light resistance, and may be difficult to use for applications having photosensitivity on the long wave side from around 650 nm, for example, solid-state imaging device applications.
  • the present invention has been made in view of the above situation, and is a composition containing a triarylmethane compound, which can be used for applications having photosensitivity from around 650 nm to the long wave side, and has excellent developability. It is an object of the present invention to provide a composition. Another object of the present invention is to provide a cured film, a pattern forming method, a color filter, a color filter manufacturing method, a solid-state imaging device, and an image display device using the composition.
  • a composition capable of forming a colored pattern (cured film) having a good hue by mixing a triarylmethane compound and a dye having a specific absorption at an appropriate ratio has been found to be able to be provided, and the present invention has been completed. Specifically, the above problem has been solved by the following means ⁇ 1>, preferably ⁇ 2> to ⁇ 21>.
  • ⁇ 3> The composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the difference between the maximum absorption wavelength of the triarylmethane compound and the dye having the maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm is 100 to 150 nm.
  • ⁇ 4> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the triarylmethane compound has an ethylenically unsaturated bond group.
  • ⁇ 5> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the triarylmethane compound is a multimer.
  • the dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm is at least one selected from phthalocyanine compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, naphthoquinone compounds, and azo compounds, any of ⁇ 1> to ⁇ 5> A composition according to claim 1.
  • the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm includes a phthalocyanine compound or a squarylium compound.
  • the dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm is a multimer.
  • ⁇ 12> A cured film obtained by curing the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>.
  • ⁇ 13> A step of applying the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11> on a support to form a composition layer, a step of exposing the composition layer in a pattern, and a composition layer Forming a colored pattern by developing and removing the unexposed portion of the pattern.
  • ⁇ 14> A method for producing a color filter, comprising the pattern forming method according to ⁇ 13>.
  • ⁇ 15> a step of applying the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11> on a support to form a composition layer, and curing to form a colored layer; Forming a photoresist layer on the colored layer;
  • a method for producing a color filter comprising: a step of patterning a photoresist layer by exposing and developing the photoresist layer to obtain a resist pattern; and a step of dry etching a colored layer using the resist pattern as an etching mask.
  • ⁇ 17> a triarylmethane compound and a dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm, the minimum transmittance in the thickness direction in the wavelength range of 450 to 500 nm being 80% or more, and the wavelength of 650 to 700 nm
  • ⁇ 19> An image display device having the color filter according to ⁇ 16> or ⁇ 17>.
  • ⁇ 21> The composition according to ⁇ 20>, wherein the polymerization initiator is an oxime compound.
  • the mass ratio of the compound having a maximum absorption wavelength of 650 to 750 nm with respect to the triarylmethane compound is 0.3 to 1.4, ⁇ 1> to ⁇ 11>, ⁇ 20> and ⁇ 21> A composition according to any one of the above.
  • the present invention it has become possible to provide a composition excellent in light resistance and heat resistance.
  • a cured film it has become possible to provide a pattern forming method, a color filter, a color filter manufacturing method, a solid-state imaging device, and an image display device using the composition.
  • the notation which does not describe substitution and non-substitution includes those having no substituent and those having a substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • active light or “radiation” means, for example, the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, electron beams, and the like.
  • light means actinic rays or radiation.
  • exposure in this specification is not only exposure with far-ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, but also drawing with particle beams such as electron beams and ion beams. Are also included in the exposure.
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • the total solid content refers to the total mass of the components excluding the solvent from the total composition of the composition.
  • concentration in this invention says the density
  • (meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate
  • (meth) acryl” represents both and / or acryl and “(meth) acryloyl” Represents both or one of acryloyl and methacryloyl.
  • “monomer” and “monomer” are synonymous.
  • the monomer in this specification is distinguished from an oligomer and a polymer, and refers to a compound having a weight average molecular weight of 2,000 or less.
  • the polymerizable compound means a compound having a polymerizable functional group, and may be a monomer or a polymer.
  • the polymerizable functional group refers to a group that participates in a polymerization reaction.
  • Me in the chemical formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Pr represents a propyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • a weight average molecular weight and a number average molecular weight are defined as a polystyrene conversion value by GPC measurement.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220 (manufactured by Tosoh) and TSKgel Super AWM-H (manufactured by Tosoh, 6.0 mm ID ⁇ 15.0 cm) as a column. ) Can be determined by using a 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as the eluent.
  • composition of the present invention comprises a triarylmethane compound, a dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm, and a curable compound, and has a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm with respect to the triarylmethane compound.
  • the mass ratio of the pigment to be contained is 0.2 to 1.5.
  • the excited triarylmethane compound can be rapidly Then, energy is supplied to the dye having the maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm, and the triarylmethane compound returns to the ground state. As a result, light resistance is improved. Furthermore, the composition of the present invention can maintain high heat resistance.
  • triarylmethane compounds tend to agglomerate because they are ionic, and in the current situation where color filters for solid-state imaging devices with smaller pattern sizes are required, development defects May occur or pattern defects may easily occur.
  • the pattern formability may not always be sufficient.
  • the composition of the present invention can suppress development defects and pattern defects.
  • a triarylmethane compound is a compound containing at least one triarylmethane structure in one molecule.
  • the triarylmethane compound in the present invention may be a triarylmethane monomer containing one triarylmethane structure in one molecule, or a triaryl containing two or more triarylmethane structures in one molecule. It may be a methane multimer or a triarylmethane multimer containing three or more triarylmethane structures in one molecule.
  • the triarylmethane compound is preferably a triarylmethane multimer.
  • the triarylmethane compound preferably has a curable group.
  • the curable group examples include an ethylenically unsaturated bond group and a cyclic ether group (such as an epoxy group and an oxetanyl group), and an ethylenically unsaturated bond group is preferable.
  • the triarylmethane compound is preferably a multimer or a monomer having an ethylenically unsaturated bond group, more preferably a multimer, having an ethylenically unsaturated bond group. More preferably, it is a multimer. By setting it as such a structure, heat resistance can be improved more.
  • the composition of the present invention may contain only one type of triarylmethane compound or two or more types. A triarylmethane monomer and a triarylmethane multimer may be used in combination.
  • the triarylmethane compound in the present invention usually takes the form of a cation.
  • the cation preferably has one or two monovalent and / or divalent cations, and more preferably one monovalent cation, per one triarylmethane structure.
  • the triarylmethane compound is preferably a dye.
  • the dye means a soluble pigment compound that is easily dissolved in a solvent.
  • an arbitrary solvent is mentioned with a solvent,
  • the solvent illustrated in the column of the solvent mentioned later is mentioned.
  • a solvent in which the solubility of the triarylmethane compound in the solvent at 25 ° C. exceeds 0.001 g / 100 g Solvent is preferable.
  • the maximum absorption wavelength of the triarylmethane compound is preferably in the range of 560 to 620 nm, and more preferably 575 to 610 nm. Furthermore, the maximum absorption wavelength is more preferably the maximum absorption wavelength in the visible region (for example, 380 to 750 nm) of triarylmethane. Further, the triarylmethane compound used in the present invention usually does not have a maximum absorption wavelength in the range of the wavelength of 450 nm to less than 550 nm and the wavelength of 650 nm to 700 nm.
  • the difference between the maximum absorption wavelength of the triarylmethane compound and the dye having the maximum absorption wavelength described later in the range of 650 to 750 nm is preferably 40 to 150 nm, and more preferably 80 to 120 nm.
  • the compounding amount of the triarylmethane compound is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 75% by mass, and further preferably 35 to 60% by mass of the solid content of the composition.
  • the total amount is preferably within the above range.
  • Triarylmethane Monomer When the triarylmethane compound is a monomer, the triarylmethane compound contains one triarylmethane structure.
  • the triarylmethane structure includes three aryl groups centered on methane. Each of the three aryl groups is preferably a phenyl group, a naphthyl group, or a ring in which an aryl group and a heterocyclic ring are condensed. Examples of the heterocycle in this case include a nitrogen-containing 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the triarylmethane compound is preferably a cation represented by the general formula (TP1) and / or a cation represented by the general formula (TP2), and more preferably a cation represented by the general formula (TP1).
  • Rtp 1 to Rtp 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
  • Rtp 5 , Rtp 6 , Rtp 8 , Rtp 9 and Rtp 11 each independently represent a substituent.
  • Rtp 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or NRtp 71 Rtp 72 .
  • Rtp 71 and Rtp 72 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • Rtp 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • a, b and c each independently represents an integer of 0 to 4; When a, b and c are 2 or more, two of Rtp 5 , Rtp 6 , Rtp 8 and Rtp 9 may be linked to each other to form a ring.
  • At least one of Rtp 1 to Rtp 11 , Rtp 71 and Rtp 72 may contain an anion.
  • Rtp 1 to Rtp 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and still more preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched.
  • the alkyl group is preferably unsubstituted. Substituents mentioned in the section of Substituent group A described later can be mentioned.
  • the aryl group preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms, and still more preferably 6 carbon atoms.
  • Examples of the substituent that the aryl group may have include the substituents mentioned in the section of the substituent group A described later.
  • Rtp 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or NRtp 71 Rtp 72 , preferably a hydrogen atom or NRtp 71 Rtp 72 , and more preferably NRtp 71 Rtp 72 .
  • Rtp 7 represents an alkyl group
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and still more preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear. Examples of the substituent that the alkyl group may have include the substituents mentioned in the section of Substituent Group A described later.
  • the aryl group preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms, and still more preferably 6 carbon atoms.
  • Rtp 71 and Rtp 72 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched.
  • the alkyl group may be substituted but is preferably unsubstituted. Examples of the substituent that the alkyl group may have include the substituents mentioned in the section of Substituent Group A described later.
  • the aryl group preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms, and still more preferably 6 carbon atoms.
  • Examples of the substituent that the aryl group may have include the substituents mentioned in the section of the substituent group A described later.
  • Rtp 5 , Rtp 6 and Rtp 8 each independently represent a substituent.
  • substituents include the substituents mentioned in the section of the substituent group A described later.
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a carboxyl group, or a sulfo group is preferable, and a linear chain having 1 to 5 carbon atoms is preferable.
  • a branched alkyl group, an alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a carboxyl group is more preferable.
  • Rtp 5 and Rtp 6 are preferably each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Rtp 8 preferably has two alkenyl groups bonded to each other to form a ring.
  • the ring is preferably a benzene ring.
  • a, b and c each independently represent an integer of 0 to 4, and a and b preferably represent 0 or 1, more preferably 0.
  • c preferably represents 0 to 2, more preferably 0 or 1.
  • Rtp 1 to Rtp 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and are synonymous with Rtp 1 to Rtp 4 in general formula (TP1), and the preferred ranges are also the same. It is.
  • Rtp 5 and Rtp 6 each independently represent a substituent, and are synonymous with Rtp 5 and Rtp 6 in general formula (TP1), and their preferred ranges are also the same.
  • Rtp 9 and Rtp 11 each independently represent a substituent, and the substituents exemplified in the section of Substituent Group A described later can be used.
  • Rtp 9 is preferably an aryl group, more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and more preferably a phenyl group.
  • Rtp 11 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • the alkyl group is preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • Rtp 10 represents a substituent, and the substituents exemplified in the section of Substituent Group A described later can be used.
  • Rtp 10 is more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and more preferably a phenyl group.
  • a, b and c each independently represent an integer of 0 to 4, and a and b preferably represent 0 or 1, more preferably 0. c preferably represents 0 to 2, more preferably 0.
  • the dye cation is present in a delocalized manner as follows, and the following two types of structures are included in the triarylmethane compound.
  • the cation moiety may be at any position in the molecule.
  • the triarylmethane compound preferably contains an ethylenically unsaturated bond group.
  • an ethylenically unsaturated bond group is polymerized by, for example, radical polymerization or irradiation with light or heat, or undergoes a crosslinking reaction with other groups. Therefore, when an ethylenically unsaturated bond group is included, the heat resistance tends to be further improved.
  • the ethylenically unsaturated bond group may consist only of an ethylenically unsaturated bond, or may contain a linking group in addition to the ethylenically unsaturated bond.
  • the ethylenically unsaturated bond group is preferably a group represented by -L 0 -P 0 .
  • L 0 represents a single bond or a divalent linking group
  • P 0 represents an ethylenically unsaturated bond.
  • the divalent linking group includes an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic linking group, —CH ⁇ CH—, —O—, —S—, —C ( ⁇ O) —, —CO—, —NR—, —CONR. —, —OC—, —SO—, —SO 2 — and a group obtained by combining two or more thereof are preferred.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
  • the divalent linking group is preferably an arylene group.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20, more preferably 5 to 20, and particularly preferably 5 to 10.
  • a methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, hexylene group, heptylene group, cyclopentenylene group, cyclohexylene group and the like are preferable.
  • the number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 18, and still more preferably 6 to 12.
  • the arylene group is preferably a phenylene group or a naphthylene group, and more preferably a phenylene group.
  • the ethylenically unsaturated bond group include a group containing a (meth) acryl group, a group containing a vinyl group, a group containing an allyl group, a group containing a methallyl group, and the like. At least one selected from a group containing a group, a group containing an allyl group, and a group containing a methallyl group is more preferable. Especially, at least 1 sort (s) selected from a (meth) acryl group, an allyl group, and a methallyl group is preferable.
  • the triarylmethane compound preferably includes at least one of Rtp 1 to Rtp 11 , Rtp 71 and Rtp 72 containing an ethylenically unsaturated bond group, wherein Rtp 7 is More preferably, it contains an ethylenically unsaturated bond group, and Rtp 71 or Rtp 72 is more preferably an ethylenically unsaturated bond group.
  • Substituents include halogen atoms, alkyl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, cycloalkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups, carboxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups Silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, amino group (including alkylamino group and anilino group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfa Moylamino group, alkyl or arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl or arylsulfony
  • a halogen atom for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom
  • a linear or branched alkyl group a linear or branched substituted or unsubstituted alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • a cycloalkyl group preferably substituted with 3 to 30 carbon atoms or Examples thereof include unsubstituted cycloalkyl groups such as cyclohexyl and cyclopentyl, and polycycloalkyl groups such as bicycloalkyl groups (preferably substituted or unsubstituted bicycloalkyl groups having 5 to 30 carbon atoms
  • Linear or branched alkenyl group (straight or branched substituted or unsubstituted alkenyl group, preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl), cycloalkenyl A group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having 3 to 30 carbon atoms such as 2-cyclopenten-1-yl and 2-cyclohexen-1-yl, and a polycycloalkenyl group such as bicyclo An alkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms such as bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl, bicyclo [2,2,2] Octo-2-en-4-yl) and tricycloalkenyl groups, with monocyclic cycloalkenyl groups being particularly preferred.
  • Kiniru group preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, e.g., ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group
  • An aryl group preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, such as phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl
  • a heterocyclic group preferably 5 to 7-membered substituted or unsubstituted, saturated or unsaturated, aromatic or non-aromatic, monocyclic or condensed heterocyclic group, more preferably the ring-constituting atom is selected from carbon atom, nitrogen atom and sulfur atom
  • a heterocyclic group having at least one hetero atom of any one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms
  • alkoxy group preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, isopropoxy, tert-butoxy, n-octyloxy, 2-methoxyethoxy
  • aryloxy group preferably Is a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as phenoxy, 2-methylphenoxy, 2,4-di-tert-amylphenoxy, 4-tert-butylphenoxy, 3-nitrophenoxy, 2-tetradecanoylaminophenoxy
  • silyloxy group preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, such as trimethylsilyloxy, tert-butyldimethylsilyloxy
  • a heterocyclic oxy group preferably having a carbon number of 2 to 30 substituted or unsubstituted heterocyclic oxy groups , Heterocyclic portion is preferably described
  • An acyloxy group (preferably a formyloxy group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as formyloxy, acetyloxy , Pivaloyloxy, stearoyloxy, benzoyloxy, p-methoxyphenylcarbonyloxy), a carbamoyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N, N-diethylcarbamoyloxy, morpholinocarbonyloxy, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamoyloxy), an alkoxycarbonyloxy group (preferably a substituent having 2
  • amino group preferably an amino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group having 6 to 30 carbon atoms, or a heterocyclic amino group having 0 to 30 carbon atoms
  • amino, methylamino, dimethylamino, anilino, N-methyl-anilino, diphenylamino, N-1,3,5-triazin-2-ylamino acylamino group (preferably formylamino group, carbon number A substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as formylamino, acetylamino, pivaloylamino, lauroylamino, benzoylamino, 3, 4,5-tri-n-oc
  • Aryloxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino, p-chlorophenoxycarbonylamino, mn-octyloxyphenoxycarbonylamino)
  • Sulfamoylamino group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms such as sulfamoylamino, N, N-dimethylaminosulfonylamino, Nn-octylamino Sulfonylamino), alkyl or arylsulfonylamino group (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylsulfonylamino group having 6 to 30 carbon atom
  • alkylthio group preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms such as methylthio, ethylthio, n-hexadecylthio
  • arylthio group preferably a substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 30 carbon atoms
  • the heterocyclic portion described in the above is preferably, for example, 2-benzothiazolylthio, 1-phenyltetrazol-5-ylthio), a sulfamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, N-ethylsulfamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfur Moil, N, N- dimethylsulfamoyl, N- acetyl sulfamoyl, N- benzoylsulfamoyl, N- (
  • alkyl or arylsulfinyl group preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, phenyl Sulfinyl, p-methylphenylsulfinyl
  • an alkyl or arylsulfonyl group preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, for example, Methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, p-methylphenylsulfonyl
  • alkoxycarbonyl group preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, n-octadecyloxycarbonyl
  • a carbamoyl group preferably having a carbon number 1-30 substituted or unsubstituted carbamoyl such as carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N, N-di-n-octylcarbamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamoyl), aryl or hetero
  • a ring azo group preferably a substituted or unsubstituted arylazo group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocyclic azo group having 3 to 30 carbon atoms (the heterocycle portion is the heterocycle
  • a phosphinyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as diphenoxyphosphinyloxy, dioctyloxyphosphinyloxy), a phosphinylamino group ( Preferably, it is a substituted or unsubstituted phosphinylamino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, dimethoxyphosphinylamino, dimethylaminophosphinylamino), a silyl group (preferably a substitution having 3 to 30 carbon atoms) Or, an unsubstituted silyl group, for example, trimethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, phenyldimethylsilyl).
  • At least one of Rtp 1 to Rtp 11 , Rtp 71 and Rtp 72 may contain an anion.
  • the anion is preferably —SO 3 ⁇ , —COO ⁇ , —PO 4 ⁇ , bis (sulfonyl) imide anion, tris (sulfonyl) methide anion and tetraarylborate anion, and bis (sulfonyl) ) Imide anion, tris (sulfonyl) methide anion and tetraarylborate anion are more preferred, and bis (sulfonyl) imide anion and tris (sulfonyl) methide anion are more preferred.
  • L represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group preferably represents —NR 10 —, —O—, —SO 2 —, an alkylene group containing a fluorine atom, an arylene group containing a fluorine atom, or a combination thereof.
  • a group consisting of a combination of —NR 10 —, —SO 2 and an alkylene group containing a fluorine atom, and a group consisting of a combination of —O— and an arylene group containing a fluorine atom are preferred.
  • R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a hydrogen atom.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group containing a fluorine atom is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 3.
  • These alkylene groups are more preferably perfluoroalkylene groups.
  • Specific examples of the fluorine-substituted alkylene group include a difluoromethylene group, a tetrafluoroethylene group, and a hexafluoropropylene group.
  • the number of carbon atoms of the arylene group containing a fluorine atom is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 14, and still more preferably 6 to 10.
  • Specific examples of the arylene group containing a fluorine atom include a tetrafluorophenylene group, a hexafluoro-1-naphthylene group, and a hexafluoro-2-naphthylene group.
  • X 1 represents an anion, and is selected from —SO 3 ⁇ , —COO ⁇ , —PO 4 ⁇ , bis (sulfonyl) imide anion, tris (sulfonyl) methide anion and tetraarylborate anion. Species are preferred, one kind selected from bis (sulfonyl) imide anion, tris (sulfonyl) methide anion and tetraarylborate anion is more preferred, and bis (sulfonyl) imide anion or tris (sulfonyl) methide anion is still more preferred.
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and is preferably a single bond.
  • the divalent linking group represented by L 1 include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, —O—, —S—, or a group composed of a combination thereof.
  • L 2 represents —SO 2 — or —CO—.
  • G represents a carbon atom or a nitrogen atom.
  • n1 represents 2 when G is a carbon atom, and represents 1 when G is a nitrogen atom.
  • R 6 represents an alkyl group containing a fluorine atom or an aryl group containing a fluorine atom. When n1 is 2, two R 6 may be the same or different.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group containing a fluorine atom represented by R 6 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 3.
  • the number of carbon atoms of the aryl group containing a fluorine atom represented by R 6 is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 14, and still more preferably 6 to 10.
  • the molecular weight of the triarylmethane compound is preferably 300 to 1,000, and more preferably 500 to 1,000.
  • Triarylmethane Multimer When the triarylmethane compound is a multimer (also referred to as a triarylmethane multimer), it is a compound containing two or more triarylmethane structures, preferably three or more triarylmethane structures.
  • the triarylmethane multimer includes at least one repeating unit represented by the following general formula (A) and general formula (C), or the counter anion includes a repeating unit having a counter anion. Or represented by the general formula (D) described later.
  • the triarylmethane multimer preferably has a repeating unit represented by the following general formula (A).
  • X 1 represents the main chain of the repeating unit.
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • Dye represents a triarylmethane structure.
  • X 1 represents a main chain of repeating units. Two sites represented by * are repeating units. X 1 is preferably —CH 2 —CH 2 — or —CH 2 —C (CH 3 ) —.
  • L 1 represents a divalent linking group
  • an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butylene group, etc.
  • an arylene group having 6 to 30 carbon atoms phenylene group, Naphthalene group, etc.
  • heterocyclic linking group —CH ⁇ CH—, —O—, —S—, —C ( ⁇ O) —, —CO—, —NR—, —CONR—, —OC—, —SO Examples include —, —SO 2 —, a linking group in which two or more thereof are combined, and a group represented by the following formula (L-1).
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
  • R is linked to X 1 of formula (A) at the site indicated by * 1, and is linked to Dye of formula (A) at the site indicated by * 2.
  • L 11 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an arylene group having 6 to 18 carbon atoms, —O—, —CO—, —S—, —SO 2 —, —NR A R B —, or Examples include groups composed of these combinations.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the arylene group may be monocyclic or polycyclic.
  • R A and R B each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R A and R B are bonded to each other to form a ring. Also good.
  • L 12 represents —SO 2 — or —CO—.
  • L 13 represents a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include the groups described for L 11 , an arylene group having 6 to 18 carbon atoms (preferably a phenylene group), —O—, —CO—, —S—, —NR A R B -Or a group consisting of a combination thereof is preferred, and a group consisting of a combination of a phenylene group, -O- and -CO- is more preferred.
  • G represents a carbon atom or a nitrogen atom.
  • n2 represents 1 when G is a carbon atom, and represents 0 when G is a nitrogen atom.
  • R 7A represents an alkylene group containing a fluorine atom or an arylene group containing a fluorine atom.
  • the alkylene group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the carbon number of the arylene group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 14, and further preferably 6 to 10.
  • R 7B represents an alkyl group containing a fluorine atom or an aryl group containing a fluorine atom.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and still more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • L 1 is a single bond or an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 5 to 20 carbon atoms, still more preferably, — (CH 2 ) n — (n is an integer of 1 to 10)), an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (preferably a phenylene group or a naphthylene group), —NH—, —CO—, —O— and —SO A divalent linking group in which two or more of 2- are combined is preferable.
  • the group represented by the above (L-1) is also preferable.
  • L 1 is preferably — (CH 2 ) n — (n is an integer of 5 to 10) or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (preferably a phenylene group or a naphthylene group), and —COO— or a phenylene group is More preferably, it is a linking group.
  • L 1 represents a single bond
  • X 1 is preferably bonded to any one of Rtp 1 to Rtp 11 , Rtp 71 and Rtp 72 in general formulas (TP1) and (TP2), and Rtp 71 or Rtp 72 is more preferable.
  • L 1 represents a divalent linking group
  • L 1 is preferably bonded to any one of Rtp 1 to Rtp 11 , Rtp 71 and Rtp 72 in the general formulas (TP1) and (TP2), and Rtp More preferably, it is bound to 71 or Rtp 72 .
  • (XX-1) to (XX-24) it represents that it is linked to the triarylmethane structure at the site indicated by *.
  • Me represents a methyl group.
  • R in (XX-18) and (XX-19) represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group.
  • n represents an integer of 1 to 9. Moreover, it represents connecting with a triarylmethane structure at a site indicated by *.
  • Dye represents a triarylmethane structure, a cation represented by the general formula (TP1) or a cation represented by the general formula (TP2) is preferable, and a cation represented by the general formula (TP1) is more preferable.
  • Dye is preferably bonded to L 1 via at least one of Rtp 1 to Rtp 11 , Rtp 71 and Rtp 72 in the above general formula (TP1) or (TP2), and via Rtp 7 More preferably, it is bonded to L 1, and more preferably bonded to L 1 via Rtp 71 or Rtp 72 .
  • repeating unit containing a triarylmethane structure examples include the following structures, but the present invention is not limited to these.
  • the triarylmethane multimer may consist only of repeating units having triarylmethane, but may contain other repeating units. Specifically, other repeating units that the triarylmethane multimer may contain include repeating units containing an alkali-soluble group such as an acid group, repeating units containing a polymerizable group, and the like. The multimer preferably contains at least a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group. The triarylmethane multimer may contain only one type of these repeating units, or may contain two or more types. Hereinafter, these repeating units will be described in detail.
  • Repeating unit containing a polymerizable group a known polymerizable group that can be crosslinked by a radical, an acid, or heat can be used.
  • a group containing an ethylenically unsaturated bond, a cyclic ether group (Epoxy group, oxetane group), methylol group and the like are mentioned, particularly a group containing an ethylenically unsaturated bond is preferred, (meth) acryloyl group is more preferred, glycidyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexyl.
  • a (meth) acryloyl group derived from methyl (meth) acrylate is more preferred.
  • Examples of the method for introducing a polymerizable group include (1) a method in which a repeating unit is modified and introduced with a polymerizable group-containing compound, and (2) a method in which a repeating unit and a polymerizable group-containing compound are copolymerized and introduced. is there. Details of these can be referred to the descriptions in paragraphs 0334 to 0342 of JP 2013-225112 A, the contents of which are incorporated herein.
  • the amount of the polymerizable group is preferably 0.1 to 2.0 mmol with respect to 1 g of the dye structure, and 0.2 to 1.5 mmol. More preferably, it is particularly preferably 0.3 to 1.0 mmol.
  • the amount thereof is preferably, for example, 5 to 40 mol%, more preferably 5 to 35 mol%, based on all repeating units.
  • repeating unit containing the polymerizable group examples include the following. However, the present invention is not limited to these.
  • Repeating unit containing acid group examples include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.
  • a carboxylic acid group and a sulfonic acid group are preferable, and a carboxylic acid group is more preferable.
  • Only one type of acid group may be contained in the repeating unit containing an acid group, or two or more types may be used.
  • the triarylmethane multimer contains a repeating unit containing an acid group, the ratio of the repeating unit containing a repeating unit having an acid group is preferably 1 to 80 mol% with respect to all the repeating units. % Mol is more preferred.
  • repeating unit containing other alkali-soluble groups examples include a repeating unit containing a phenolic hydroxyl group.
  • the triarylmethane multimer contains a repeating unit having a group consisting of repeating 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains in the side chain (hereinafter, also referred to as “(b) repeating unit”). Is also preferable.
  • the number of repeating alkyleneoxy chains in the repeating unit is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 15, and even more preferably 2 to 10.
  • One alkyleneoxy chain is represented by — (CH 2 ) n O—, where n is an integer, n is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and even more preferably 2 or 3.
  • the group consisting of repeating 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains may contain only one kind of alkyleneoxy chain or two or more kinds.
  • the repeating unit is preferably represented by the following general formula.
  • X 1 represents a linking group formed by polymerization
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group
  • P represents a group containing a group consisting of repeating alkyleneoxy chains.
  • X 1 and L 1 in the general formula (P) have the same meanings as X 1 and L 1 in formula (A), and preferred ranges are also the same.
  • P represents a group containing a group consisting of repeating alkyleneoxy chains, more preferably a group consisting of repeating alkyleneoxy chains-terminal atom or terminal group.
  • the terminal atom or terminal group is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a hydroxyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a hydroxyl group, a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group and A hydroxyl group is more preferred, and a hydrogen atom is particularly preferred.
  • the description in paragraph 0351 of JP2013-225112A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the triarylmethane multimer contains repeating units containing other alkali-soluble groups, for example, 1 to 80 mol% is preferable and 10 to 65 mol% is more preferable with respect to all repeating units.
  • the ratio of the repeating units containing all alkali-soluble groups, including acid groups or other alkali-soluble groups is preferably 1 to 80 mol%, and more preferably 10 to 65 mol%, based on all repeating units.
  • the amount of the alkali-soluble group that the dye has is preferably 0.3 mmol to 2.0 mmol, more preferably 0.4 mmol to 1.5 mmol, and more preferably 0.5 mmol to 1.0 mmol with respect to 1 g of the dye. Is particularly preferred.
  • the triarylmethane multimer may have a repeating unit other than the repeating units described above.
  • development accelerators such as lactones, acid anhydrides, amides, —COCH 2 CO—, cyano groups, long chain and cyclic alkyl groups, aralkyl groups, aryl groups, polyalkylene oxide groups, hydroxyl groups, maleimides
  • Examples thereof include a repeating unit containing at least one selected from a hydrophilic group such as a group and an amino group. These may be included in only one type, or may be included in two or more types.
  • Examples of the introduction method include a method in which the dye structure is introduced in advance and a method in which a monomer having the above group is copolymerized.
  • the proportion is preferably 40 to 80 mol% of the entire repeating units.
  • repeating unit containing an acid group or other repeating units are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the triarylmethane multimer also preferably contains a repeating unit represented by the following general formula (C).
  • L 3 represents a single bond or a divalent linking group.
  • DyeIII represents a triarylmethane structure.
  • m represents 0 or 1;
  • L 3 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 3 include an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic linking group, —CH ⁇ CH—, —O—, and —S—.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
  • m represents 0 or 1, but is preferably 1.
  • the alkyl group and alkylene group preferably have 1 to 30 carbon atoms.
  • the upper limit is more preferably 25 or less, and still more preferably 20 or less.
  • the lower limit is more preferably 2 or more, and still more preferably 3 or more.
  • the alkyl group and alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the number of carbon atoms in the aryl group and arylene group is preferably 6-20, and more preferably 6-12.
  • the heterocyclic linking group and the heterocyclic group are preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atom contained in the heterocyclic linking group and the heterocyclic group is preferably an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms contained in the heterocyclic linking group and the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the dye multimer having a repeating unit represented by the general formula (C) may contain other repeating units described above. Moreover, the repeating unit represented by general formula (A) mentioned above may further be included.
  • the dye multimer having the repeating unit represented by the general formula (C) can be synthesized by sequential polymerization.
  • Sequential polymerization means polyaddition (for example, reaction of diisocyanate compound and diol, reaction of diepoxy compound and dicarboxylic acid, reaction of tetracarboxylic dianhydride and diol, etc.) and polycondensation (for example, dicarboxylic acid).
  • a diol, a reaction of a dicarboxylic acid and a diamine, and the like are particularly preferable because the reaction conditions can be moderated and the dye skeleton is not decomposed.
  • Known reaction conditions can be applied to the sequential polymerization.
  • the triarylmethane multimer is also preferably represented by the general formula (D).
  • L 4 represents a (n + k) -valent linking group.
  • n represents an integer of 2 to 20, and k represents an integer of 0 to 20.
  • DyeIV represents a triarylmethane structure, and P represents a substituent. When n is 2 or more, the plurality of DyeIVs may be different from each other, and when k is 2 or more, the plurality of P may be different from each other.
  • n + k represents an integer of 2 to 20.
  • n is preferably 2 to 15, more preferably 2 to 14, still more preferably 2 to 8, particularly preferably 2 to 7, and still more preferably 2 to 6.
  • the total of n and k is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 15, more preferably 2 to 14, still more preferably 2 to 8, particularly preferably 2 to 7, and still more preferably 2 to 6.
  • n and k in one multimer are integers, respectively, but in the present invention, a plurality of multimers having different n and k in the general formula (D) may be included. Therefore, the average value of n and k in the composition of the present invention may not be an integer.
  • (N + k) -valent linking groups include 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and Groups consisting of 0 to 20 sulfur atoms are included.
  • Specific examples of the (n + k) -valent linking group include a group composed of a combination of two or more of the following structural units or the following structural units (which may form a ring structure). .
  • (n + k) -valent linking groups are shown below. However, the present invention is not limited to these.
  • a linking group described in paragraph Nos. 0071 to 0072 of JP-A-2008-222950 and a linking group described in paragraph No. 0176 of JP-A-2013-029760 are also included.
  • P represents a substituent.
  • the substituent include an acid group and a curable group.
  • the curable group include a radical polymerizable group such as a group containing an ethylenically unsaturated bond, a cyclic ether group (epoxy group, oxetanyl group), an oxazoline group, and a methylol group.
  • the group containing an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the acid group include a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.
  • the substituent represented by P may be a monovalent polymer chain having a repeating unit.
  • the monovalent polymer chain having a repeating unit is preferably a monovalent polymer chain having a repeating unit derived from a vinyl compound.
  • the k Ps may be the same or different.
  • P has 2 to 20 repeating units derived from a vinyl compound (preferably 2 to 15, more preferably 2 to 10).
  • the average number of repeating units derived from k P vinyl compounds is 2 to 20 (preferably 2 to 15, more preferably 2 to 10).
  • the number of repeating units of P when k is 1 and the average number of repeating units of P when k is 2 or more are expressed as It can be determined by resonance (NMR).
  • examples of the repeating unit constituting P include the other repeating units described above. It is preferable that another repeating unit has 1 or more types chosen from the repeating unit which has the acid group mentioned above, and the repeating unit which has a sclerosing
  • the repeating unit having an acid group is contained, the developability can be improved.
  • a repeating unit having a curable group is included, color mixing with other colors and spectral fluctuation after development can be further suppressed.
  • the proportion of the repeating unit containing an acid group is preferably 10 to 80 mol%, more preferably 10 to 65 mol%, based on all the repeating units of P.
  • the ratio of the repeating unit having a curable group is preferably 10 to 80 mol%, more preferably 10 to 65 mol%, based on all the repeating units of P. .
  • DyeIV represents a triarylmethane structure.
  • the triarylmethane structure represented by DyeIV is a structure in which one or more arbitrary hydrogen atoms of the triarylmethane monomer are removed, and a part of the triarylmethane monomer is L 4 may be formed. Further, it may be a polymer chain containing a repeating unit having a triarylmethane structure in the main chain or side chain.
  • the polymer chain is not particularly defined as long as it contains a triarylmethane structure, but is one kind selected from a (meth) acrylic resin, a styrene resin, and a (meth) acrylic / styrene resin.
  • the repeating unit of the polymer chain is not particularly defined, and examples thereof include the repeating unit represented by the general formula (A) described above and the repeating unit represented by the general formula (C) described above.
  • the total number of repeating units having a triarylmethane structure in all repeating units constituting the polymer chain is preferably 5 to 60 mol%, more preferably 10 to 50 mol%, and 20 to 40 mol%. Is more preferable.
  • the polymer chain may contain other repeating units described above in addition to the repeating unit having a triarylmethane structure. As other repeating units, it is preferable to have one or more selected from repeating units having an acid group and repeating units having a curable group.
  • the ratio of the repeating unit having a curable group is preferably, for example, 5 to 50 mol with respect to 100 mol of all repeating units of the polymer chain, and 10 to 40 mol. Is more preferable.
  • the ratio of the repeating unit having an acid group is preferably, for example, 5 to 50 mol, more preferably 10 to 40 mol, relative to 100 mol of all repeating units of the polymer chain. preferable.
  • the multimer represented by the general formula (D) can be synthesized by the following method.
  • a compound in which a functional group selected from a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, etc. is introduced at the end, an acid halide having a triarylmethane structure, an alkyl halide having a triarylmethane structure, or a triarylmethane structure A method of polymerizing the isocyanate and the like.
  • (2) A method in which a compound in which a carbon-carbon double bond is introduced at a terminal and a thiol compound having a triarylmethane structure are subjected to a Michael addition reaction.
  • the weight average molecular weight is preferably 1,000 to 100,000, and more preferably 5,000 to 50,000.
  • a triarylmethane compound can be contained individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • Counter anion When the triarylmethane compound is in the form of a cation, it contains a counter anion.
  • the counter anion is not particularly defined, and a known counter anion can be employed.
  • the counter anion is determined according to the number of cations that the triarylmethane compound has.
  • the counter anion may be in the same molecule as the triarylmethane compound or may be outside the same molecule.
  • the counter anion is in the same molecule means a case where the cation and the counter anion are bonded via a covalent bond.
  • the counter anion may consist of only the anion part paired with the cation part of the triarylmethane compound, or may have other sites in addition to the anion part.
  • the counter anion may be a multimer (hereinafter also referred to as an anion multimer).
  • the counteranion may also be contained in the triarylmethane compound multimer as a repeating unit having a counteranion.
  • examples of the counter anion used in the present invention will be described.
  • Examples of the case consisting only of a counter anion include fluorine anion, chlorine anion, bromine anion, iodine anion, cyanide ion, perchlorate anion, borate anion (BF 4 ⁇ etc.), PF 6 ⁇ and SbF 6 ⁇ and the like. .
  • the borate anion is a group represented by B (R 10 ) 4 ⁇ , and R 10 is exemplified by a fluorine atom, a cyano group, a fluorinated alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and the like.
  • the counter anion is also at least one selected from —SO 3 ⁇ , —COO ⁇ , —PO 4 ⁇ , a structure represented by the following general formula (A1), and a structure represented by the following general formula (A2). May be included.
  • the general formula (A1) is more preferably represented by the following general formula (A1-1).
  • Formula (A1-1) (In general formula (A1-1), R 1 and R 2 each independently represent —SO 2 — or —CO—, and X 1 and X 2 each independently represent an alkylene group or an arylene group. )
  • R 1 and R 2 of the general formula (A1) in the same meaning as R 1 and R 2, and preferred ranges are also the same.
  • X 1 represents an alkylene group
  • the alkylene group preferably has 1 to 8 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms.
  • X 1 represents an arylene group
  • the carbon number of the arylene group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 12, and still more preferably 6.
  • X 1 has a substituent, it is preferably substituted with a fluorine atom.
  • X 2 represents an alkylene group or an arylene group, and an alkylene group is preferable.
  • the alkylene group preferably has 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1.
  • X 2 has a substituent, it is preferably substituted with a fluorine atom.
  • R 3 represents —SO 2 — or —CO—.
  • R 4 and R 5 each independently represents —SO 2 —, —CO— or —CN).
  • Preferably representing the at least two R 3 ⁇ R 5 is -SO 2 - - In formula (A2), at least one of R 3 ⁇ R 5 -SO 2 more preferably represents.
  • the counter anion examples include R—SO 3 ⁇ , R—COO — or R—PO 4 — , wherein R is a halogen atom, an alkyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom.
  • R is a halogen atom, an alkyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom.
  • the aryl group that may be used are also exemplified.
  • the general formula Specific examples of the counter anion include a group represented by (A1) is, R 1 is a halogen atom, an alkyl group which may be substituted by a halogen atom, an aryl group which may be substituted with a halogen atom The case where it couple
  • bonds with is illustrated.
  • R 4 and R 5 are each substituted with a halogen atom, an alkyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom.
  • a halogen atom an alkyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom.
  • R 4 and R 5 are each substituted with a halogen atom, an alkyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom.
  • R 4 and R 5 are each substituted with a halogen atom, an alkyl group which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom.
  • aryl group that may be present is exemplified.
  • other counter anions include the following, but the present invention is not limited thereto.
  • the counter anion may contain a radical polymerizable group.
  • the radical polymerizable group that the counter anion may contain include known polymerizable groups that can be crosslinked by radicals, acids, and heat. Specific examples include a (meth) acryl group, a styrene group, a vinyl group, a cyclic ether group, and a methylol group, and at least one selected from a (meth) acryl group, a styrene group, a vinyl group, and a cyclic ether group.
  • one selected from a (meth) acryl group, a styrene group, and a vinyl group is more preferable, and a (meth) acryl group or a styrene group is more preferable.
  • the number of radically polymerizable groups that the counter anion may contain is preferably 1 to 3, and more preferably 1.
  • the structure represented by the general formula (A1) and the structure represented by the general formula (A2) may be directly bonded or may be bonded via a linking group, but are preferably bonded via a linking group.
  • the counter anion containing a radical polymerizable group is preferably represented by the following general formula (b), for example.
  • P represents a radical polymerizable group, and examples thereof include the radical polymerizable group described above.
  • L represents a divalent linking group
  • an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butylene group, etc.
  • 6 to 30 arylene groups heterocyclic linking groups, —CH ⁇ CH—, —O—, —S—, —C ( ⁇ O) —, —CO—, —NR—, —CONR—, —OC—, —SO —, —SO 2 — and a linking group obtained by combining two or more thereof are preferred.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
  • the linking group includes an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (preferably — (CH 2 ) n — (n is an integer of 1 to 10)), an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (preferably a phenylene group, A linking group in which two or more of (naphthylene group), —NH—, —CO—, —O— and —SO 2 — are combined is preferable.
  • the molecular weight of the counter anion containing a radical polymerizable group is preferably 300 to 1,000, and more preferably 500 to 1,000.
  • the counter anion when the counter anion is a multimer, the counter anion includes an oligomer, and is preferably a multimer including a repeating unit including an anion portion.
  • the counter anion is a multimer
  • the counter anion is a multimer including a repeating unit having a triarylmethane structure and a repeating unit having a counter anion and / or a triarylmethane compound
  • the aspect which is a multimer containing the repeating unit which has an anion is mentioned.
  • the triarylmethane compound in the case where the counter anion is a multimer corresponds to the triarylmethane multimer.
  • the counter anion including a multimeric structure preferably has a structure represented by the following general formula (c) and / or the following general formula (d).
  • X 1 represents a main chain of a repeating unit.
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • Anion represents —SO 3 ⁇ , —COO ⁇ , —PO 4 —.
  • X 1 represents a main chain of repeating units, usually represents a linking group formed by polymerization reaction, for example, (meth) acrylic, styrene, vinyl and the like are preferable.
  • Two sites represented by * are repeating units.
  • L 1 represents a divalent linking group
  • an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butylene group, etc.
  • an arylene group having 6 to 30 carbon atoms phenylene group, Naphthylene group, etc.
  • heterocyclic linking group —CH ⁇ CH—, —O—, —S—, —C ( ⁇ O) —, —CO—, —NR—, —CONR—, —OC—, —SO —, —SO 2 — and a linking group obtained by combining two or more thereof are preferred.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
  • L 1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (preferably — (CH 2 ) n — (n is an integer of 1 to 10)), an arylene group having 6 to 12 carbon atoms ( A divalent linking group in which two or more of phenylene group, naphthylene group), —NH—, —CO—, —O— and —SO 2 — are combined is preferable.
  • X 1 and L 1 include (XX-1) to (XX-24) described above, but are not limited thereto.
  • the anion multimer is linked to the above anion at the site indicated by * in (XX-1) to (XX-24).
  • L 2 and L 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • Anion represents —SO 3 ⁇ , —COO ⁇ , —PO 4 ⁇ , (The structure represented by (A1) and the structure represented by the general formula (A2) are represented.)
  • L 2 and L 3 represent a divalent linking group, an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic linking group, —CH ⁇ CH— , —O—, —S—, —C ( ⁇ O) —, —CO—, —NR—, —CONR—, —O 2 C—, —SO—, —SO 2 — and combinations of two or more thereof
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
  • L 2 is preferably an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (particularly a phenylene group).
  • the arylene group having 6 to 30 carbon atoms is preferably substituted with a fluorine atom.
  • L 3 is preferably a group comprising a combination of an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (particularly a phenylene group) and —O—, and at least one kind of arylene group having 6 to 12 carbon atoms is substituted with a fluorine atom. It is preferable.
  • the molecular weight of the anionic multimer is preferably a weight average molecular weight of 3,000 to 30,000 and a molecular weight distribution of Mw / Mn of 0.8 to 3.0, more preferably a weight average molecular weight of 5,
  • the molecular weight distribution is 1 to 2.5 in terms of Mw / Mn.
  • a chain transfer agent When forming an anionic multimer, a chain transfer agent may be added.
  • the chain transfer agent is preferably an alkyl mercaptan, more preferably an alkyl mercaptan having 10 or less carbon atoms or an alkyl mercaptan substituted with an ether group / ester group.
  • an alkyl mercaptan having a log P value of 5 or less is more preferable.
  • the amount of the anionic monomer compound having a radical polymerizable group that is a raw material of the anionic multimer contained in the anionic multimer is preferably 5% or less, more preferably 1% or less.
  • the halogen ion content contained in the anionic multimer is preferably 10 to 3000 ppm, more preferably 10 to 2000 ppm, and even more preferably 10 to 1000 ppm. Specific examples of the anion multimer are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the counter anion when the counter anion is a multimer, it may contain other repeating units in addition to the repeating unit having a counter anion.
  • the other repeating units include other repeating units that may be included in the case where the triarylmethane compound is a multimer, and the preferred range is also synonymous.
  • a dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm (hereinafter also referred to as dye (B)) has a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm.
  • the dye (B) preferably does not have a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 450 to 500 nm.
  • the structure of the dye (B) can be any known one without particular limitation, but phthalocyanine compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, naphthoquinone compounds and azo compounds are preferred, and phthalocyanine compounds, cyanine compounds, squarylium compounds and azo compounds are more preferred.
  • phthalocyanine compounds More preferred are phthalocyanine compounds, cyanine compounds and squarylium compounds, particularly preferred are phthalocyanine compounds and squarylium compounds, and more preferred are phthalocyanine dyes.
  • an ionic compound phthalocyanine compound or the like
  • pattern defects due to poor development or poor curing can be further suppressed. The reason for this is presumed, but it is presumed that the interaction between the ionic triarylmethane compound and the ionic compound can further suppress aggregation in the same molecule and suppress pattern defects.
  • the weight ratio of the dye (B) to the triarylmethane compound is 0.2 to 1.5. It is more preferably 3 to 1.4, further preferably 0.4 to 1.2, and particularly preferably 0.5 to 0.8.
  • dye (B) When 2 or more types of pigment
  • the difference in maximum absorption wavelength between the triarylmethane compound and the compound having a maximum absorption wavelength of 650 to 750 nm is preferably 50 to 200 nm, more preferably 70 to 180 nm, and even more preferably 100 to 150 nm.
  • ⁇ phthalocyanine compound a compound represented by the following general formula (PC) is preferable.
  • PC general formula (PC)
  • M represents a metal.
  • R 1 to R 16 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, and a heterocyclic thio group.
  • at least one of R 1 to R 16 is an alkylalkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, and a heterocyclic thio group.
  • metals represented by M include Zn, Mg, Si, Sn, Rh, Pt, Pd, Mo, Mn, Pb, Cu, Ni, Co, and Fe metal atoms, AlCl, InCl, and FeCl. , TiCl 2 , SnCl 2 , SiCl 2 , GeCl 2 and other metal chlorides, TiO and VO and other metal oxides, and Si (OH) 2 and other metal hydroxides, particularly Cu, VO and Zn Is preferable, and Cu is more preferable.
  • R 1 to R 16 represent a halogen atom
  • the halogen atom is preferably a chlorine atom or a fluorine atom.
  • R 1 to R 16 represent an alkoxy group
  • the alkoxy group preferably has 1 to 18 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 12 carbon atoms.
  • the alkyl chain portion of the alkoxy group is preferably a straight chain or branched chain.
  • the alkoxy group may have a substituent, and the substituent is preferably an ethylenically unsaturated bond group, and more preferably a vinyl group.
  • R 1 to R 16 represent an arylalkoxy group
  • the arylalkoxy group preferably has 7 to 18 carbon atoms, and more preferably 7 to 12 carbon atoms.
  • R 1 to R 16 represent a heterocyclic alkoxy group
  • the heterocyclic ring may be monocyclic or polycyclic, and may be aromatic or non-aromatic.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocycle is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom is preferably a nitrogen atom.
  • R 1 to R 16 represent an alkylthio group
  • the alkylthio group preferably has 1 to 18 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 12 carbon atoms.
  • R 1 to R 16 represent an arylthio group
  • the arylthio group preferably has 6 to 18 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • R 1 to R 16 represent a heterocyclic thio group
  • the heterocyclic ring has the same meaning as the heterocyclic ring described above for the heterocyclic alkoxy group.
  • R 1 to R 16 are one or two of R 1 to R 4 , one or two of R 5 to R 8 , one or two of R 9 to R 12 , and one of R 13 to R 16 .
  • One or two are each independently an alkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group and a heterocyclic thio group, and the rest are preferably a hydrogen atom or a halogen atom.
  • R 4 , R 8 , R 12 and R 16 are an alkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group or a heterocyclic thio group, and the remainder is a hydrogen atom or a halogen atom Is preferred.
  • R 4 , R 8 , R 12 and R 16 are alkoxy groups, and the rest are hydrogen atoms.
  • R 3 , R 7 , R 11 and R 15 are an alkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group or a heterocyclic thio group, and the rest are hydrogen atoms or halogen atoms. It is also preferable that there is.
  • R 1 , R 4 , R 5 , R 8 , R 9 , R 12 , R 13 and R 16 are an alkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group or a heterocyclic thio group.
  • the group is a hydrogen atom or a halogen atom.
  • R 1 , R 5 , R 9 , and R 13 are an alkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, or a heterocyclic thio group, and the remainder is a hydrogen atom or a halogen atom It is also preferable.
  • R 2 , R 6 , R 10 , and R 14 are an alkoxy group, an arylalkoxy group, a heterocyclic alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, or a heterocyclic thio group, and the remainder is a hydrogen atom or a halogen atom It is also preferable.
  • ring Z1 and ring Z2 each independently represent a heterocyclic ring which may have a substituent.
  • l represents an integer of 0 or more and 3 or less.
  • X ⁇ represents a counter anion.
  • Each of the ring Z1 and the ring Z2 is preferably a nitrogen-containing heterocyclic ring having a substituent, more preferably a nitrogen-containing condensed complex ring having a substituent, and more preferably an indole ring having a substituent.
  • Examples of the ring Z1 and the ring Z2 include oxazole, benzoxazole, oxazoline, thiazole, thiazoline, benzothiazole, indolenine, benzoindolenine, 1,3-thiadiazine, and benzoindolenine is preferable.
  • the substituents that the ring Z1 and the ring Z2 may have are the same as the substituents exemplified in the substituent group A, and are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms. An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms is more preferable. l represents an integer of 0 or more and 3 or less, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
  • X ⁇ is the counter anion mentioned in the above triarylmethane compound, and the preferred range is also the same. X ⁇ may be linked to the dye skeleton of the cyanine compound, or may be linked to a part of the dye multimer (polymer chain or the like).
  • the general formula (PM) is preferably represented by the following general formula (PM-2).
  • General formula (PM-2) is preferably represented by the following general formula (PM-2).
  • each of the ring Z 5 and the ring Z 6 independently represents a benzene ring which may have a substituent or a naphthalene ring which may have a substituent, and an unsubstituted benzene ring is more preferable.
  • Y ⁇ represents a counter anion. The counter anion is preferably selected from the anions described above.
  • n represents an integer of 0 or more and 3 or less, and the preferred range is the same as l in the general formula (PM-1).
  • a 1 and A 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a carbon atom or a nitrogen atom.
  • R 1 and R 2 each independently represents a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or 2 to 2 carbon atoms An alkenyl group having 6 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • R 3 and R 4 each independently represent a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a divalent group formed by combining one R 3 and one R 4 together.
  • the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
  • a and b each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. 1 or 2 is preferable and 2 is more preferable.
  • a and B each independently represent an aryl group or a heterocyclic group.
  • the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, and examples thereof include phenyl and naphthyl.
  • the heterocyclic group is preferably a 5-membered or 6-membered heterocyclic group, and examples thereof include pyroyl, imidazoyl, pyrazoyl, thienyl, pyridyl, pyrimidyl, pyridazyl, triazol-1-yl, thienyl, furyl, thiadiazoyl and the like. .
  • a and B are preferably aryl groups having a substituent, and more preferably phenyl groups having a substituent.
  • the substituent is preferably a hydroxyl group and —NR 1 R 2 .
  • R 1 and R 2 in -NR 1 R 2 is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a phenyl group is more preferable.
  • Ra to Rh are each independently a hydrogen atom, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, acyl group, An alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and an amino group are represented.
  • Ra and Rb, Re and Rf, Rd and Re, and Rf and Rg may be connected to each other to form a ring.
  • Ra and Rb are particularly preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group and an alkoxy group, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom and an alkenyl group.
  • Rf and Re are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an arylthio group and a carbamoyl group, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an arylthio group and a carbamoyl group.
  • Rc, Rd, Rg and Rh are preferably a hydrogen atom, an alkyl group and an aryl group
  • Rc and Rh are a hydrogen atom
  • Rd and Rg are preferably a hydrogen atom, an alkyl group and an aryl group.
  • azo compound is not particularly defined, but examples thereof include compounds represented by the following general formula (Az).
  • general formula (Az) is not particularly defined, but examples thereof include compounds represented by the following general formula (Az).
  • R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl Represents a group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and A represents an aryl group or a heterocyclic group, particularly an aryl group having an amino group, and a phenyl group and a naphthyl group having an amino group Is more preferable.
  • the dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm preferably has an ethylenically unsaturated bond group.
  • curability increases, and durability (light resistance, heat resistance, solvent resistance, developer resistance, etc.) can be further improved.
  • an ethylenically unsaturated bond group it is synonymous with the ethylenically unsaturated bond group in the above-mentioned triarylmethane compound, and its preferable range is also the same.
  • the dye (B) is also preferably a multimer.
  • the weight average molecular weight is preferably 2,000 to 20,000, more preferably 6,000 to 15,000.
  • the ratio [(Mw) / (Mn)] of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the dye (B) is preferably 1.0 to 3.0, and 1.6 Is more preferably from 2.5 to 2.5, particularly preferably from 1.6 to 2.0.
  • the glass transition temperature (Tg) of the dye (B) is preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 100 ° C. or higher. Further, the 5% weight loss temperature by thermogravimetric analysis (TGA measurement) is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, and further preferably 200 ° C. or higher. By being in this region, when applying the composition of the present invention to the production of a color filter or the like, it becomes possible to reduce the concentration change caused by the heating process.
  • the dye (B) is a multimer
  • a general formula (D-) is exemplified, and the structure represented by the general formula (D-1) is more preferable.
  • X 1 represents a group forming a main chain. That is, it refers to a portion that forms a repeating unit corresponding to the main chain formed by the polymerization reaction.
  • X 1 is synonymous with X 1 in the general formula (A) of the triarylmethane compound described above, and is preferably a linking group represented by the above (XX-1) to (XX-24), (XX— 1) and a (meth) acrylic linking chain represented by (XX-2), a styrenic linking chain represented by (XX-10) to (XX-17), and (XX-24) More preferably selected from vinyl-based linking chains, (meth) acrylic linking chains represented by (XX-1) and (XX-2) and styrene-based linking chains represented by (XX-11) More preferred.
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group includes a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butylene).
  • L 1 is more preferably a single bond or an alkylene group, and more preferably a single bond or — (CH 2 ) n — (n is an integer of 1 to 5).
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
  • the divalent linking group represented by L 1 may be a group capable of ionic bonding or coordination bonding with DyeI.
  • an anionic group or a cationic group may be used.
  • the anionic group include —COO ⁇ , —PO 3 H ⁇ , —SO 3 ⁇ , —SO 3 NH ⁇ , —SO 3 N — CO—, and the like.
  • —COO ⁇ , —PO 3 H ⁇ , — SO 3 - is preferred.
  • Examples of the cationic group include substituted or unsubstituted onium cations (for example, ammonium, pyridinium, imidazolium, phosphonium and the like), and ammonium cations are particularly preferable.
  • L 1 has a group capable of ionic bonding or coordination bonding with DyeI
  • L 1 can be an anion moiety (—COO ⁇ , —SO 3 ⁇ , —O ⁇ , etc.) or a cation moiety (such as the above) that DyeI has An onium cation, a metal cation, etc.).
  • DyeI represents the dye structure of the dye (B) described above.
  • the dye multimer having the repeating unit represented by the general formula (A-1) is, for example, (1) a method of synthesizing a monomer having a dye structure by addition polymerization, (2) an isocyanate group, an acid anhydride group or an epoxy. Synthesized by a method in which a polymer having a highly reactive functional group such as a group is reacted with a dye having a functional group (hydroxyl group, primary or secondary amino group, carboxyl group, etc.) capable of reacting with the highly reactive functional group it can.
  • Known addition polymerizations can be applied to the addition polymerization, but among these, synthesis by radical polymerization is particularly preferable because the reaction conditions can be moderated and the dye structure is not decomposed.
  • Known reaction conditions can be applied to the radical polymerization.
  • the dye multimer having the repeating unit represented by formula (A-1) is obtained by radical polymerization using a dye monomer having an ethylenically unsaturated bond group from the viewpoint of heat resistance.
  • a radical polymer is preferred.
  • L 3 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 3 include a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butylene group).
  • a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms for example, a phenylene group, a naphthylene group, etc.
  • a substituted or unsubstituted heterocyclic linking group —CH ⁇ CH—, —O—, —S—.
  • —NR— (R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group), —C ( ⁇ O) —, —SO—, —SO 2 —, and these Preferable examples include a linking group formed by linking two or more.
  • m represents 0 or 1, but is preferably 1.
  • a dye multimer having a repeating unit represented by the general formula (C-1) is synthesized by sequential polymerization.
  • Sequential polymerization means polyaddition (for example, reaction of diisocyanate compound and diol, reaction of diepoxy compound and dicarboxylic acid, reaction of tetracarboxylic dianhydride and diol, etc.) and polycondensation (for example, dicarboxylic acid).
  • a diol, a reaction of a dicarboxylic acid and a diamine, and the like are particularly preferable because the reaction conditions can be moderated and the dye structure is not decomposed. Known reaction conditions can be applied to the sequential polymerization.
  • the dye (B) is a multimer containing the general formula (A-1) or the general formula (C-1), it may further contain another repeating unit.
  • the other repeating unit include a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group, a repeating unit containing a polymerizable group, and the like, and preferably includes at least a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group.
  • Each of these repeating units may contain only one type or two or more types.
  • the details of these repeating units are synonymous with those described in the above triarylmethane multimer, and the preferred ranges are also the same.
  • the ratio of the repeating units containing all alkali-soluble groups, including acid groups or other alkali-soluble groups is preferably, for example, 1 to 80 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on all repeating units. Is more preferable.
  • the amount of the alkali-soluble group containing an acid group contained in the dye (B) is preferably from 0.3 mmol to 2.0 mmol, more preferably from 0.4 mmol to 1.5 mmol, based on 1 g of the dye. Particularly preferred is 0.5 mmol to 1.0 mmol.
  • the amount of the polymerizable group that the dye (B) has is preferably 0.1 to 2.0 mmol, more preferably 0.2 to 1.5 mmol, and more preferably 0.3 to Particularly preferred is 1.0 mmol.
  • the ratio of the repeating unit containing the repeating unit having a polymerizable group in the dye (B) is, for example, preferably 5 to 50 mol, more preferably 10 to 20 mol with respect to 100 mol of all repeating units.
  • Formula (D-1) (In General Formula (D-1), L 4 represents an (n + m) -valent linking group, n represents an integer of 2 to 20, m represents an integer of 0 to 20, and DyeIV represents a dye structure. W is an acid group or a group having an acid group.)
  • n is preferably 2 to 15, more preferably 3 to 15, and particularly preferably 3 to 6.
  • each DyeIV may be the same or different.
  • W is an acid group or a group having an acid group.
  • W may be one type or two or more types.
  • the divalent linking group represented by L 4 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group) , Trimethylene group, propylene group, butylene group, etc.), substituted or unsubstituted arylene groups having 6 to 30 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthylene group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic linking groups, —CH ⁇ CH —, —O—, —S—, —NR— (R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group), —C ( ⁇ O) —, —SO—. , —SO 2 —, and a linking group formed by linking two or more of these are preferable.
  • the (n + m) -valent linking group in which (n + m) is 3 or more is a substituted or unsubstituted arylene group (1,3,5-phenylene group, 1,2,4-phenylene group, 1,4,5,8-
  • a group consisting of a combination of an unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, —O—, —C ( ⁇ O) —, and —S— is preferable.
  • Specific examples of the (n + m) -valent linking group represented by L 4 are shown below, but are not limited thereto.
  • a polymer compound represented by the general formula (1) described in claim 1 of JP-A-2007-277514, wherein A 1 is a dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm Can also be used preferably, the contents of which are incorporated herein. More specifically, the polymer compound represented by the general formula (1) according to claim 1 of JP 2007-277514 A, wherein A 1 is a phthalocyanine compound, a cyanine compound, a squarylium compound, and an azo compound It is preferably a group in which one hydrogen atom of a compound selected from is removed.
  • the composition of the present invention contains a curable compound.
  • the curable compound include a polymerizable compound, a thermosetting compound, and an alkali-soluble resin.
  • the total amount of these curable compounds is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 2 to 30% by mass, based on the solid content of the composition of the present invention.
  • the composition of the present invention preferably contains a polymerizable compound.
  • a polymerizable compound a known polymerizable compound that can be cross-linked by a radical, an acid, or heat can be used.
  • the polymerizable compound is preferably selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond group, preferably two or more, from the viewpoint of sensitivity. Among them, a polyfunctional polymerizable compound having 4 or more functional groups is preferable, and a polyfunctional polymerizable compound having 5 or more functional groups is more preferable.
  • the polymerizable compound is preferably a radical polymerizable compound.
  • Such a group of compounds is widely known in this industrial field, and in the present invention, these can be used without any particular limitation. These may be in any chemical form such as, for example, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers or mixtures thereof and multimers thereof.
  • the polymeric compound in this invention may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the polymerizable compound is preferably a monomer.
  • the molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100 to 3000, more preferably 200 to 2000.
  • examples of monomers and prepolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, And multimers thereof, preferably esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric amine compounds, and multimers thereof. is there.
  • unsaturated carboxylic acids for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • esters thereof for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • esters thereof for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • a dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used.
  • an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine, or thiol, and a halogen group A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a detachable substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
  • compounds described in paragraphs [0095] to [0108] of JP-A-2009-288705 can be preferably used in the present invention.
  • a compound having an ethylenically unsaturated group having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure and having at least one addition-polymerizable ethylene group is also preferable.
  • examples include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethanetri ( (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanedio
  • polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, and mixtures thereof.
  • a polyfunctional (meth) acrylate obtained by reacting a polyfunctional carboxylic acid with a compound having a cyclic ether group such as glycidyl (meth) acrylate and an ethylenically unsaturated group can also be used.
  • fluorene rings described in JP 2010-160418 A, JP 2010-129825 A, JP 4364216 A, etc., and ethylenically unsaturated groups. It is also possible to use a compound having two or more functions, a cardo resin.
  • radically polymerizable monomers represented by the following general formulas (MO-1) to (MO-5) can also be suitably used.
  • T is an oxyalkylene group
  • the terminal on the carbon atom side is bonded to R.
  • n is 0 to 14, and m is 1 to 8.
  • a plurality of R and T present in one molecule may be the same or different.
  • at least one of a plurality of R is —OC ( ⁇ O) CH ⁇ CH 2 or —OC A group represented by ( ⁇ O) C (CH 3 ) ⁇ CH 2 is represented.
  • Specific examples of the polymerizable compounds represented by the above general formulas (MO-1) to (MO-5) include the compounds described in paragraph numbers 0248 to 0251 of JP-A-2007-2699779. It can be suitably used in the invention.
  • dipentaerythritol triacrylate (as a commercially available product, KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku), dipentaerythritol tetraacrylate (as a commercially available product, KAYARAD D-320; manufactured by Nippon Kayaku), Dipentaerythritol penta (meth) acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (as a commercially available product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku), ethyleneoxy modified di Pentaerythritol hexaacrylate (commercially available product is A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and a structure in which these (meth) acryloyl groups are via ethylene glycol and propylene
  • the polymerizable compound is a polyfunctional monomer and may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. If the ethylenic compound has an unreacted carboxyl group as in the case of a mixture as described above, this can be used as it is. Non-aromatic carboxylic acid anhydrides may be reacted to introduce acid groups.
  • non-aromatic carboxylic acid anhydride examples include tetrahydrophthalic anhydride, alkylated tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, alkylated hexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, anhydrous Maleic acid is mentioned.
  • the monomer having an acid group is an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, and a non-aromatic carboxylic acid anhydride is reacted with an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound.
  • a polyfunctional monomer having an acid group is preferable, and in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol.
  • Examples of commercially available products include M-510 and M-520 as polybasic acid-modified acrylic oligomers manufactured by Toagosei.
  • a preferable acid value of the polyfunctional monomer having an acid group is 0.1 mgKOH / g to 40 mgKOH / g, and particularly preferably 5 mgKOH / g to 30 mgKOH / g.
  • the acid value of the polyfunctional monomer is too low, the developing dissolution properties will be lowered, and if it is too high, the production and handling will be difficult, the photopolymerization performance will be lowered, and the curability such as the surface smoothness of the pixels will be inferior. Therefore, when two or more polyfunctional monomers having different acid groups are used in combination, or when a polyfunctional monomer having no acid group is used in combination, the acid value of the entire polyfunctional monomer should be adjusted so that it falls within the above range. Is preferred.
  • polyfunctional monomer which has a linear ester structure derived from caprolactone as a polymeric compound.
  • the polyfunctional monomer having a linear ester structure derived from caprolactone is not particularly limited as long as it has a linear ester structure derived from caprolactone in its molecule.
  • trimethylolethane Ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, trimethylolmelamine and other esters, (meth) acrylic acid and ⁇ -caprolactone
  • ⁇ -caprolactone-modified polyfunctional (meth) acrylate obtained by converting to glycan can be mentioned.
  • polyfunctional monomers having a linear ester structure derived from caprolactone represented by the following general formula (Z-1) are preferred.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • m represents a number of 1 or 2
  • “*” represents a bond
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • “*” represents a bond
  • the polyfunctional monomer having a linear ester structure derived from caprolactone can be used alone or in admix
  • the specific monomer in the present invention is preferably at least one selected from the group of compounds represented by the following general formula (Z-4) or (Z-5).
  • each E is independently — ((CH 2 ) yCH 2 O) — or — ((CH 2 ) yCH (CH 3 ) O) —.
  • Each represents independently an integer of 0 to 10
  • each X independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.
  • the total number of acryloyl groups and methacryloyl groups is 3 or 4
  • each m independently represents an integer of 0 to 10
  • the total of each m is an integer of 0 to 40. is there. However, when the total of each m is 0, any one of X is a carboxyl group.
  • the total number of acryloyl groups and methacryloyl groups is 5 or 6, each n independently represents an integer of 0 to 10, and the total of each n is an integer of 0 to 60 is there. However, when the total of each n is 0, any one of X is a carboxyl group.
  • m is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
  • the total of each m is preferably an integer of 2 to 40, more preferably an integer of 2 to 16, and particularly preferably an integer of 4 to 8.
  • n is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
  • the total of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.
  • — ((CH 2 ) yCH 2 O) — or — ((CH 2 ) yCH (CH 3 ) O) — represents an oxygen atom side.
  • a form in which the terminal of X is bonded to X is preferred.
  • the compounds represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5) may be used alone or in combination of two or more.
  • a form in which all six Xs are acryloyl groups is preferable.
  • the total content of the compound represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5) in the polymerizable compound is preferably 20% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more.
  • the compound represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5) is a conventionally known process, in which ethylene oxide or propylene oxide is ring-opened to pentaerythritol or dipentaerythritol. It can be synthesized from a step of bonding a ring-opening skeleton by an addition reaction and a step of introducing a (meth) acryloyl group by reacting, for example, (meth) acryloyl chloride with a terminal hydroxyl group of the ring-opening skeleton. Each step is a well-known step, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by the general formula (Z-4) or (Z-5).
  • pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.
  • Specific examples include compounds represented by the following formulas (a) to (f) (hereinafter also referred to as “exemplary compounds (a) to (f)”).
  • exemplary compounds (a), (f) b), (e) and (f) are preferred.
  • Examples of commercially available polymerizable compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) include SR-494, a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains manufactured by Sartomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. DPCA-60, which is a hexafunctional acrylate having six pentyleneoxy chains, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having three isobutyleneoxy chains.
  • polymerizable compound examples include urethane acrylates as described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765. Also suitable are urethane compounds having an ethylene oxide skeleton as described in JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are described as polymerizable compounds.
  • polymerizable compounds include urethane oligomers UAS-10, UAB-140 (manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp), UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku), UA-306H, UA -306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (manufactured by Kyoei) and the like.
  • cyclic ether examples include those having an epoxy group such as bisphenol A type epoxy resin, JER-827, JER-828, JER-834, JER-1001, JER-1002, JER-1003.
  • JER-1055, JER-1007, JER-1009, JER-1010 (above, made by Japan Epoxy Resin), EPICLON860, EPICLON1050, EPICLON1051, EPICLON1055 (above, made by DIC), etc., and bisphenol F type epoxy resin as JER -806, JER-807, JER-4004, JER-4005, JER-4007, JER-4010 (above, made by Japan Epoxy Resin), EPICLON 830, EPICLON 35 (above, manufactured by DIC), LCE-21, RE-602S (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc., and phenol novolac type epoxy resins such as JER-152, JER-154, JER-157S70, JER-157S65 ( These are Japan Epoxy Resin), EPICLON® N-740, EPICLON® N-770, EPICLON® N-775 (above, manufactured by DIC), and the like, and cresol
  • the details of usage methods can be arbitrarily set according to the final performance design of a composition.
  • a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable.
  • those having three or more functional groups are preferable, and further, different numbers of functional groups / different polymerizable groups (for example, acrylates, methacrylates, styrene compounds, vinyl ethers). It is also effective to adjust both sensitivity and strength by using a compound of the type).
  • a trifunctional or higher functional polymerizable compound having a different ethylene oxide chain length in that the developability of the composition can be adjusted and an excellent pattern forming ability can be obtained.
  • selection and use of polymerizable compounds are important for compatibility and dispersibility with other components (eg photopolymerization initiators, dispersions, alkali-soluble resins, etc.) contained in the composition.
  • the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination.
  • a specific structure may be selected from the viewpoint of improving adhesion to a hard surface such as a support.
  • the content of the polymerizable compound in the composition of the present invention is preferably 0.1 to 70% by mass, more preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 2 to 30% by mass with respect to the total solid content in the composition. Further preferred.
  • the composition of the present invention may contain only one type of polymerizable compound or two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, those having photosensitivity to visible light from the ultraviolet region are preferable. Further, it may be an activator that generates some action with a photoexcited sensitizer and generates an active radical, or may be an initiator that initiates cationic polymerization according to the type of monomer.
  • the photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably 330 nm to 500 nm).
  • Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexaarylbiimidazole, oxime.
  • Examples include oxime compounds such as derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, hydroxyacetophenone, and the like, with oxime compounds being preferred.
  • trihalomethyltriazine compounds trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, oniums
  • compounds selected from the group consisting of compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyloxadiazole compounds, and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred.
  • trihalomethyltriazine compounds More preferred are trihalomethyltriazine compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, triarylimidazole compounds, benzimidazole compounds, onium compounds, benzophenone compounds, and acetophenone compounds.
  • At least one compound selected from the group consisting of a trihalomethyltriazine compound, an ⁇ -aminoketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole compound, a benzophenone compound, a triarylimidazole compound, and a benzimidazole compound is particularly preferable.
  • the triarylimidazole compound may be a mixture with benzimidazole.
  • examples of the trihalomethyltriazine compound include the following compounds. Note that Ph is a phenyl group.
  • Examples of the triarylimidazole compound and the benzimidazole compound include the following compounds.
  • the trihalomethyltriazine compound a commercially available product can be used, for example, TAZ-107 (manufactured by Midori Chemical) can also be used.
  • TAZ-107 manufactured by Midori Chemical
  • stepper exposure is used for curing exposure, but this exposure machine may be damaged by halogen, and the amount of photopolymerization initiator added must be kept low. Therefore, in view of these points, it is particularly preferable to use an oxime compound as a photopolymerization initiator for forming a fine pattern such as a solid-state imaging device.
  • halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton examples include those described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), a compound described in British Patent No. 1388492, a compound described in JP-A-53-133428, a compound described in German Patent No. 3333724, F.I. C. J. Schaefer et al. Org. Chem. 29, 1527 (1964), compounds described in JP-A-62-258241, compounds described in JP-A-5-281728, compounds described in JP-A-5-34920, US Pat. No. 4,221,976 Examples thereof include the compounds described in the specification, particularly the compounds described in paragraph No. 0075 of JP2013-077009A.
  • acridine derivatives are exemplified as photopolymerization initiators other than those described above.
  • Specific examples include the compounds described in paragraph No. 0076 of JP2013-077009A, the contents of which are incorporated herein.
  • ketone compound examples include compounds described in paragraph No. 0077 of JP2013-077009A, the contents of which are incorporated herein.
  • hydroxyacetophenone compounds As the photopolymerization initiator, hydroxyacetophenone compounds, aminoacetophenone compounds, and acylphosphine compounds can also be suitably used. More specifically, for example, aminoacetophenone initiators described in JP-A-10-291969 and acylphosphine oxide initiators described in Japanese Patent No. 4225898 can also be used.
  • the hydroxyacetophenone initiator include IRGACURE (registered trademark) -184, DAROCUR (registered trademark) -1173, IRGACURE (registered trademark) -500, IRGACURE (registered trademark) -2959, IRGACURE (registered trademark) -127 (trade name). : Any of BASF) can be used.
  • aminoacetophenone-based initiator commercially available IRGACURE (registered trademark) -907, IRGACURE (registered trademark) -369, and IRGACURE (registered trademark) -379 (trade names: all manufactured by BASF) may be used. it can.
  • aminoacetophenone-based initiator compounds described in JP-A-2009-191179 whose absorption wavelength is matched with a long wave light source of 365 nm or 405 nm can also be used.
  • acylphosphine initiator commercially available products such as IRGACURE (registered trademark) -819 and DAROCUR (registered trademark) -TPO (trade names: both manufactured by BASF) can be used.
  • More preferable examples of the photopolymerization initiator include oxime compounds.
  • Specific examples of the oxime compound include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A No. 2000-80068, and compounds described in JP-A No. 2006-342166.
  • oxime compounds include J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 1653-1660, J.A. C. S. Perkin II (1979) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp. Examples thereof include compounds described in 202-232, JP-A No. 2000-66385, JP-A No. 2000-80068, JP-T 2004-534797, JP-A No. 2006-342166, and the like.
  • IRGACURE registered trademark
  • -OXE01 manufactured by BASF
  • IRGACURE registered trademark
  • -OXE02 manufactured by BASF
  • TRONLY TR-PBG-304 As oxime compounds, TRONLY TR-PBG-304, TRONLY TR-PBG-309, TRONLY TR-PBG-305 (manufactured by CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD), Commercial products such as NCI-831 and Adeka Arcles NCI-930 (manufactured by ADEKA) can also be used.
  • oxime compounds other than those described above compounds described in JP-A-2009-519904 in which an oxime is linked to the carbazole N-position, compounds described in US Pat. No. 7,626,957 in which a hetero substituent is introduced into the benzophenone moiety, Compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-15025 and US Patent Publication No. 2009-292039, in which a nitro group is introduced into the dye moiety, a ketoxime compound described in International Patent Publication No. 2009-131189, a triazine skeleton and an oxime skeleton in the same molecule
  • a compound described in US Pat. No. 7,556,910 contained therein a compound described in JP-A-2009-221114 having an absorption maximum at 405 nm and good sensitivity to a g-line light source, and the like may be used.
  • cyclic oxime compounds described in JP-A-2007-231000 and JP-A-2007-322744 can also be suitably used for the cyclic oxime compounds described in JP-A-2007-231000 and JP-A-2007-322744.
  • cyclic oxime compounds in particular, cyclic oxime compounds fused to carbazole dyes described in JP2010-32985A and JP2010-185072A have high light absorptivity and high sensitivity. preferable.
  • the compounds described in JP-A-2009-242469 having an unsaturated bond at a specific site of the oxime compound can be preferably used because high sensitivity can be achieved by regenerating the active radical from the polymerization inert radical. it can.
  • oxime compounds having a specific substituent as disclosed in JP 2007-26997A and oxime compounds having a thioaryl group as disclosed in JP 2009-191061 A are particularly preferred.
  • the oxime compound that is a photopolymerization initiator is preferably a compound represented by the following general formula (OX-1).
  • the oxime N—O bond may be an (E) oxime compound, a (Z) oxime compound, or a mixture of (E) and (Z) isomers. .
  • R and B each independently represent a monovalent substituent
  • A represents a divalent organic group
  • Ar represents an aryl group.
  • the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent nonmetallic atomic group.
  • the monovalent nonmetallic atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group.
  • these groups may have one or more substituents.
  • the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.
  • substituents examples include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.
  • the oxime compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 350 nm to 500 nm, preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has a high absorbance at 365 nm and 405 nm. .
  • the molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm of the oxime compound is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 200, from the viewpoint of sensitivity. Is particularly preferred.
  • a known method can be used for the molar extinction coefficient of the compound. Specifically, for example, 0.01 g of an ultraviolet-visible spectrophotometer (Vary Inc., Carry-5 spectrophotometer) is used with an ethyl acetate solvent. It is preferable to measure at a concentration of / L.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP 2010-262028 A, compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and compounds described in JP-A 2013-164471 ( C-3). This content is incorporated herein.
  • the oxime compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 350 nm to 500 nm, preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has a high absorbance at 365 nm and 405 nm. .
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably, based on the total solid content of the composition. Is 0.5 mass% or more and 30 mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or more and 20 mass% or less. Within this range, better sensitivity and pattern formability can be obtained.
  • the composition of the present invention may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • thermosetting compound for example, a compound having a thermosetting functional group can be used.
  • the thermosetting compound refers to a compound that can be cured by heating, and generally refers to a compound that is cured by heating at 180 ° C. or higher.
  • thermosetting functional group for example, those having at least one group selected from an epoxy group, a methylol group, an alkoxymethyl group, an acyloxymethyl group, an isocyanate group, a vinyl ether group, and a mercapto group are preferable.
  • thermosetting compound those having two or more thermosetting functional groups in one molecule are more preferable, and compounds having two or more epoxy groups in one molecule are more preferable.
  • Thermosetting compounds include epoxy compounds, melamine compounds (eg, alkoxymethylated, acyloxymethylated melamine compounds), urea compounds (eg, alkoxymethylated, acyloxymethylated urea compounds), phenolic compounds ( For example, preferred examples include hydroxymethylated or alkoxymethylated phenolic compounds or resins, and alkoxymethyletherified phenolic compounds). Epoxy compounds and melamine compounds are more preferred, and epoxy compounds are more preferred.
  • the thermosetting compound may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 2000, or a molecular weight of less than 1000), or a high molecular compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000 or more). Either of these may be used. In the present invention, those having a molecular weight of 1000 or more are preferred, and those having a molecular weight of 2000 to 100,000 are more preferred. In the present invention, a compound having 2 or more epoxy groups in one molecule and a molecular weight of 1000 or more is particularly preferable.
  • thermosetting compound among the said polymeric compounds is illustrated as a preferable example of the thermosetting compound of this invention.
  • the composition of the present invention may contain a colorant other than the triarylmethane compound and the dye (B).
  • a colorant other than the triarylmethane compound and the dye (B) As the other colorant, a dye having a maximum absorption wavelength in the range of 500 to 600 nm (hereinafter also referred to as dye (C)) is preferable.
  • the transmittance from 490 to 510 nm can be adjusted, and the image quality is improved.
  • the dye (C) include a xanthene dye, a dipyrromethene dye, and an anthraquinone dye, and a xanthene dye is preferable. These dyes may be monomeric or multimeric.
  • the xanthene dye is preferably represented by a xanthene compound represented by the following formula (J).
  • R 81 , R 82 , R 83 and R 84 each independently represent a monovalent substituent, R 85 each independently represents a monovalent substituent, and m represents 0 Represents an integer of ⁇ 5.
  • X ⁇ represents a counter anion. When X ⁇ is not present, at least one of R 81 to R 85 contains an anion.
  • R 81 to R 85 are each independently preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and even more preferably an alkyl group. When X ⁇ is not present, at least one of R 81 to R 85 contains an anion.
  • R 81 to R 85 contains an anion
  • examples of the anion include the structures described in the above-described triarylmethane compounds, and the preferred ranges are also the same.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and still more preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched.
  • the alkyl group is preferably unsubstituted.
  • the aryl group preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms, and still more preferably 6 carbon atoms.
  • m is preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1 or 2.
  • X ⁇ represents a counter anion.
  • the counter anion is synonymous with the counter anion described in the above-described triarylmethane compound, and the preferred range is also the same.
  • xanthene compounds are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the dipyrromethene dye is preferably a dipyrromethene dye represented by the following general formula (I).
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent
  • R 7 represents a hydrogen atom, halogen, An atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group is represented.
  • the description of these substituents can be referred to the description in paragraphs 0047 to 0056 of JP-A No. 2014-132348, the contents of which are incorporated herein.
  • the dipyrromethene dye is a multimer, any one of R 1 to R 7 is preferably bonded to another part of the multimer, and more preferably, the other part of the multimer is bonded via R 3. Are connected.
  • the metal or metal compound may be any metal atom or metal compound capable of forming a complex, and may be any divalent metal atom, divalent metal oxide, divalent metal hydroxide, or 2 Valent metal chlorides are included.
  • metal chlorides such as GeCl 2
  • metal oxides such as TiO and VO
  • metal hydroxides such as Si (OH) 2 are also included.
  • the dipyrromethene dye include the following compounds. Details of the dipyrromethene dye can be referred to the description in paragraphs 0045 to 0095 of JP-A No. 2014-132348, the contents of which are incorporated herein.
  • the dye (C) preferably contains an ethylenically unsaturated group and / or is a multimer.
  • the details thereof are described in the case where the triarylmethane monomer has an ethylenically unsaturated group, and the triarylmethane has a maximum absorption wavelength of 500 to 600 nm.
  • a preferred example is a compound substituted with a dye structure in the above range.
  • R 3 preferably contains an ethylenically unsaturated group.
  • the dye (C) is a multimer, it is preferably a multimer containing a repeating unit containing a dye structure.
  • Dye is more preferably a multimer having a dye structure having a maximum absorption wavelength in the range of 500 to 600 nm.
  • DyeIV is also preferably a multimer having a dye structure having a maximum absorption wavelength in the range of 500 to 600 nm.
  • the dye structure is preferably a dye structure derived from a xanthene compound or a dye structure derived from a dipyrromethene compound, more preferably a dye structure derived from a xanthene compound represented by the general formula (J), and R 85 in the general formula (J) or L 1 of the repeating unit represented by the general formula (A) described in the above-described triarylmethane multimer or the general formula described in the above-described triarylmethane multimer via R 3 in the general formula (I) It is preferably bonded to L 4 in (D).
  • the dye (C) is a multimer, it may contain other repeating units in addition to the repeating unit containing the dye structure.
  • a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group, a repeating unit containing a polymerizable group, and the like are exemplified, and preferably includes at least a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group.
  • Each of these repeating units may contain only one type or two or more types.
  • the details of these repeating units are synonymous with the description of the repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group described in the above triarylmethane multimer, the repeating unit containing a polymerizable group, etc., and the preferred range is also synonymous. is there.
  • dye (C) is a multimer
  • Specific examples when the dye (C) is a multimer include the following.
  • the content of the dye (C) in the composition of the present invention is preferably 5 to 100% by mass, more preferably 20 to 60% by mass with respect to the triarylmethane compound.
  • the content of the dye (C) in the composition of the present invention is preferably 5 to 100% by mass, more preferably 10 to 80% by mass with respect to the dye (B).
  • the composition of the present invention may contain only one type of dye (C), or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • composition of the present invention contains other pigments and / or dyes as colorants other than the triarylmethane compound, the dye (B) and the dye (C) without departing from the spirit of the present invention. Also good. However, it is also possible to adopt a configuration that does not substantially contain a colorant other than the triarylmethane compound, the dye (B), and the dye (C). “Substantially free” means, for example, 1% by mass or less of the total colorant.
  • the pigment various conventionally known inorganic pigments or organic pigments can be used, and organic pigments are preferably used.
  • the pigment preferably has a high transmittance.
  • inorganic pigments include black pigments such as carbon black and titanium black, metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like. Specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, Mention may be made of metal oxides such as titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony, and composite oxides of the above metals.
  • organic pigment for example, C. I. Pigment yellow 11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199; C. I. Pigment orange 36, 38, 43, 71; C. I. Pigment red 81,105,122,149,150,155,171,175,176,177,179,209,220,224,242,254,255,264,270; C. I. Pigment violet 19, 23, 32, 39; C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66; C. I. Pigment green 7, 36, 37, 58, 59; C. I. Pigment brown 25, 28; C. I. Pigment black 1; Etc.
  • organic pigments can be used alone or in various combinations in order to adjust the spectrum and increase the color purity. Specific examples of the above combinations are shown below.
  • a red pigment an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone or at least one of them, a disazo yellow pigment, an isoindoline yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment or a perylene red pigment , Etc.
  • an anthraquinone pigment C.I. I. Pigment red 177
  • perylene pigments include C.I. I. Pigment red 155, C.I. I.
  • Pigment Red 224, and diketopyrrolopyrrole pigments include C.I. I. Pigment Red 254, and C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 139 is preferred.
  • the mass ratio of the red pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 50. When the ratio is 100: 4 or less, it is difficult to suppress the light transmittance from 400 nm to 500 nm. When the ratio is 100: 51 or more, the main wavelength tends to be closer to the short wavelength, and the color resolution may not be improved. In particular, the mass ratio is optimally in the range of 100: 10 to 100: 30. In the case of a combination of red pigments, it can be adjusted in accordance with the required spectrum.
  • a halogenated phthalocyanine pigment can be used alone, or a mixture thereof with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment, or an isoindoline yellow pigment can be used.
  • a disazo yellow pigment e.g., a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment, or an isoindoline yellow pigment
  • C.I. I. Pigment Green 7, 36, 37 and C.I. I. Pigment yellow 83 e. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180 or C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 185 is preferred.
  • the mass ratio of green pigment to yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150.
  • the mass ratio is particularly preferably in the range of 100: 30 to 100: 120.
  • a phthalocyanine pigment can be used alone, or a mixture of this with a dioxazine purple pigment can be used.
  • C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. Mixing with pigment violet 23 is preferred.
  • the mass ratio of the blue pigment to the violet pigment is preferably 100: 0 to 100: 100, more preferably 100: 10 or less.
  • the pigment for the black matrix carbon, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone or a mixture thereof is used, and a combination of carbon and titanium black is preferable.
  • the mass ratio of carbon to titanium black is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60.
  • the composition of the present invention preferably contains a colorant other than black, and more preferably contains a blue colorant.
  • the colorant other than black is preferably a pigment, and more preferably a blue pigment.
  • the primary particle size of the pigment is preferably 100 nm or less from the viewpoint of color unevenness and contrast, and is preferably 5 nm or more from the viewpoint of dispersion stability.
  • the primary particle size of the pigment is more preferably 5 to 75 nm, further preferably 5 to 55 nm, and particularly preferably 5 to 35 nm.
  • the primary particle size of the pigment can be measured by a known method such as an electron microscope.
  • the pigment is preferably a pigment selected from anthraquinone pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, phthalocyanine pigments, quinophthalone pigments, isoindoline pigments, azomethine pigments, and dioxazine pigments.
  • C.I. I. Pigment red 177 anthraquinone pigment
  • C.I. I. Pigment red 254 diketopyrrolopyrrole pigment
  • C.I. I. Pigment green 7, 36, 58 C.I. I. Pigment Blue 15: 6 (phthalocyanine pigment), C.I. I. Pigment yellow 138 (quinophthalone pigment), C.I. I.
  • Pigment yellow 139,185 isoindoline pigment
  • C.I. I. Pigment yellow 150 azomethine pigment
  • C.I. I. Pigment violet 23 a dioxazine pigment
  • Other dyes include, for example, JP-A-64-90403, JP-A-64-91102, JP-A-1-94301, JP-A-6-11614, JP-T-2592207, US Pat. No. 4,808,501. Specification, US Pat. No. 5,667,920, US Pat. No. 505950, US Pat. No.
  • the dyes disclosed in JP-A No. 6-194828 can be used.
  • the chemical structure uses dyes such as pyrazole azo, anilino azo, triphenylmethane, anthraquinone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine. it can.
  • Other dyes may use pigment multimers. Examples of the dye multimer include compounds described in JP2011-213925A, JP2013-041097A, and the like.
  • composition of the present invention contains other pigments and / or dyes, it is preferably 10% by mass to 70% by mass, more preferably 20% by mass, based on all components excluding the solvent contained in the composition. It is ⁇ 60% by mass, more preferably 25% by mass to 50% by mass.
  • the composition of the present invention may contain only one type or two or more types of other pigments and / or dyes. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention preferably further contains an alkali-soluble resin.
  • the molecular weight of the alkali-soluble resin is not particularly defined, but it is preferable that Mw is 5000 to 100,000. Further, Mn is preferably 1000 to 20,000.
  • the alkali-soluble resin is a linear organic polymer, and promotes at least one alkali-solubility in a molecule (preferably a molecule having an acrylic copolymer or a styrene copolymer as a main chain). It can be suitably selected from alkali-soluble resins having a group. From the viewpoint of heat resistance, polyhydroxystyrene resins, polysiloxane resins, acrylic resins, acrylamide resins, and acryl / acrylamide copolymer resins are preferable. From the viewpoint of development control, acrylic resins and acrylamide resins are preferable. Resins and acrylic / acrylamide copolymer resins are preferred.
  • Examples of the group that promotes alkali solubility include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a phenolic hydroxyl group, but are soluble in a solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution.
  • (meth) acrylic acid is particularly preferred.
  • These acid groups may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the monomer capable of imparting an acid group after the polymerization include, for example, a monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, a monomer having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, and 2-isocyanatoethyl (methacrylate). ) Monomers having an isocyanate group such as acrylate. These monomers for introducing an acid group may be only one type or two or more types.
  • a monomer having an acid group and / or a monomer capable of imparting an acid group after polymerization (hereinafter sometimes referred to as “monomer for introducing an acid group”) .) May be polymerized as a monomer component.
  • a treatment for imparting an acid group as described later is required after the polymerization.
  • a known radical polymerization method can be applied.
  • Polymerization conditions such as temperature, pressure, type and amount of radical initiator, type of solvent, etc. when producing an alkali-soluble resin by radical polymerization can be easily set by those skilled in the art, and the conditions are determined experimentally. It can also be done.
  • a polymer having a carboxylic acid in the side chain is preferable, such as a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, and a crotonic acid copolymer.
  • a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is suitable as the alkali-soluble resin.
  • examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, and vinyl compounds.
  • alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate,
  • vinyl compounds such as hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, ⁇ -methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfury
  • a compound represented by the following general formula (ED) and / or a compound represented by the following general formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”) are essential. It is also preferable to include a polymer (a) obtained by polymerizing the monomer component.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • General formula (ED2) In general formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. As a specific example of the general formula (ED2), the description in JP 2010-168539 A can be referred to.
  • the composition of this invention can form the cured coating film which was very excellent also in heat resistance and transparency.
  • the hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is not particularly limited.
  • Linear or branched alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, tert-amyl, stearyl, lauryl, 2-ethylhexyl; aryl groups such as phenyl; Alicyclic groups such as cyclohexyl, tert-butylcyclohexyl, dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl, 2-methyl-2-adamantyl; substituted with alkoxy such as 1-methoxyethyl, 1-ethoxyethyl An alkyl group substituted with an aryl group such as benzyl; and the like.
  • an acid such as methyl, ethyl, cyclohexyl, benzyl or the like, or a primary or secondary carbon substituent which is
  • ether dimer examples include dimethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, (N-propyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (isopropyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (n-butyl) ) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (isobutyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-butyl) -2, 2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-butyl) -2, 2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-butyl)
  • dimethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, dicyclohexyl-2,2′- [Oxybis (methylene)] bis-2-propenoate and dibenzyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate are preferred.
  • These ether dimers may be only one kind or two or more kinds.
  • the structure derived from the compound represented by the general formula (ED) may be copolymerized with other monomers.
  • an alkali-soluble resin having a polymerizable group may be used. By having a polymerizable group, heat resistance and light resistance tend to be further improved.
  • an alkali-soluble resin having a polymerizable group an alkali-soluble resin containing an allyl group, a (meth) acryl group, an allyloxyalkyl group or the like in the side chain is useful.
  • Examples of the above-mentioned polymer containing a polymerizable group include: NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon), Photomer 6173 (COOH-containing polyurethane acrylic oligomer.
  • alkali-soluble resin may contain the structural unit derived from the ethylenically unsaturated monomer shown by following formula (X).
  • Formula (X) (In Formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a benzene ring which may contain a benzene ring. And represents an alkyl group of 20. n represents an integer of 1 to 15.)
  • the alkylene group of R 2 preferably has 2 to 3 carbon atoms.
  • the alkyl group of R 3 has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10, and the alkyl group of R 3 may contain a benzene ring.
  • Examples of the alkyl group containing a benzene ring represented by R 3 include a benzyl group and a 2-phenyl (iso) propyl group.
  • alkali-soluble resin in particular, a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer or a multi-component copolymer composed of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers is suitable. .
  • benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / (meth) acrylic acid-2-hydroxyethyl copolymer copolymerized with 2-hydroxyethyl methacrylate 2 described in JP-A-7-140654 -Hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl Methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, etc.
  • the acid value of the alkali-soluble resin is preferably 30 mgKOH / g to 200 mgKOH / g, more preferably 50 mgKOH / g to 150 mgKOH / g, and particularly preferably 70 mgKOH / g to 120 mgKOH / g.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin is preferably 2,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000, and particularly preferably 7,000 to 20,000.
  • the content of the alkali-soluble resin is preferably 0.1% by mass to 15% by mass, more preferably 0.1% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the content is from 12% by mass to 12% by mass, and particularly preferably from 1% by mass to 10% by mass.
  • the composition of the present invention may contain only one kind of alkali-soluble resin, or may contain two or more kinds. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention may contain a solvent.
  • the solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the applicability of the composition, but in particular the solubility, applicability, and safety of ultraviolet absorbers, alkali-soluble resins and dispersants, etc. It is preferable to select in consideration. Moreover, when preparing the composition in this invention, it is preferable that at least 2 type of solvent is included.
  • esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, ethyl lactate, Alkyl oxyacetates (eg, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate (eg, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate)), 3-oxypropionic acid alkyl esters (Eg, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, etc.
  • esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, iso
  • ethers For example, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, Propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, etc., and ketones, for example, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc., and aromatic hydrocarbons, For example, toluene, xylene and the like are preferable.
  • solvents are preferably mixed in two or more types from the viewpoints of solubility of the ultraviolet absorber and the alkali-soluble resin, improvement of the coating surface condition, and the like.
  • It is a mixed solution composed of two or more selected from carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate.
  • the content of the solvent in the composition is preferably such that the total solid concentration of the composition is 5% by mass to 80% by mass, more preferably 5% by mass to 60% by mass, from the viewpoint of applicability. An amount of 10% by mass to 60% by mass is more preferable.
  • the composition of the present invention may contain only one type of solvent or two or more types of solvents. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention may contain a polyfunctional thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule for the purpose of promoting the reaction of the polymerizable compound.
  • the polyfunctional thiol compound is preferably a secondary alkanethiol, and particularly preferably a compound having a structure represented by the following general formula (T1).
  • T1 In the formula (T1), n represents an integer of 2 to 4, and L represents a divalent to tetravalent linking group.
  • the linking group L is preferably an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably n is 2 and L is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms.
  • Specific examples of the polyfunctional thiol compound include compounds represented by the following structural formulas (T2) to (T4), and a compound represented by the formula (T2) is particularly preferable. These polyfunctional thiols can be used alone or in combination.
  • composition of the present invention contains a polyfunctional thiol compound, it is preferably 0.3 to 8.9% by mass, more preferably 0.8 to 6.4% by mass, based on the total solid content excluding the solvent.
  • Various surfactants may be added to the composition of the present invention from the viewpoint of further improving coatability.
  • various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • the composition of the present invention contains a fluorosurfactant
  • the liquid properties (particularly fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved. Sex can be improved more. That is, when a film is formed using a coating liquid to which a composition containing a fluorosurfactant is applied, the wettability to the coated surface is reduced by reducing the interfacial tension between the coated surface and the coating liquid. Is improved, and the coating property to the coated surface is improved. For this reason, even when a thin film of about several ⁇ m is formed with a small amount of liquid, it is effective in that it is possible to more suitably form a film having a uniform thickness with small thickness unevenness.
  • the fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3% by mass to 40% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 7% by mass to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in the composition.
  • fluorosurfactant examples include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780 (from DIC), Florard FC430, FC431, FC171 (from Sumitomo 3M), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104 SC-105, SC1068, SC-381, SC-383, S393, S393, KH-40 (made by Asahi Glass), PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (made by OMNOVA), etc. .
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant, and specific examples thereof include compounds described in JP-A-2011-89090.
  • the fluorosurfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group or propyleneoxy group) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used, and the following compounds are also exemplified as the fluorine-based surfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000.
  • the fluoropolymer which has an ethylenically unsaturated group in a side chain can also be used as a fluorine-type surfactant.
  • Specific examples thereof include compounds described in JP-A 2010-164965, paragraphs 0050 to 0090 and paragraphs 0289 to 0295, such as MegaFac RS-101, RS-102, and RS-718K manufactured by DIC.
  • nonionic surfactant examples include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene Stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5 manufactured by BASF) 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1), Rusupasu 20000 (Lubrizol), and the like. Also, NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. can be used.
  • cationic surfactant examples include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid (co) polymer polyflow No. . 75, no. 90, no. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical), W001 (manufactured by Yusho) and the like.
  • phthalocyanine derivatives trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo
  • organosiloxane polymer KP341 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • acrylic acid co
  • polymer polyflow No. . 75, no. 90, no. 95 manufactured by Kyoeisha Chemical
  • W001 manufactured by Yusho
  • anionic surfactants include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho) and the like.
  • silicone-based surfactant examples include “Toray Silicone DC3PA”, “Toray Silicone SH7PA”, “Toray Silicone DC11PA”, “Toray Silicone SH21PA”, “Toray Silicone SH28PA”, “Toray Silicone SH29PA” manufactured by Toray Dow Corning.
  • Toray Silicone SH30PA “Tole Silicone SH8400”, “TSF-4440”, “TSF-4300”, “TSF-4445”, “TSF-4460”, “TSF-4442” manufactured by Momentive Performance Materials
  • the addition amount of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 2.0% by mass, more preferably 0.001% by mass relative to the total mass of the composition. 005 mass% to 1.0 mass%.
  • the composition of the present invention may contain only one type of surfactant or two or more types of surfactant. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • composition of the present invention is within a range that does not impair the effects of the present invention. May be included.
  • pigment dispersant When the composition of the present invention has a pigment, a pigment dispersant can be used in combination as desired.
  • pigment dispersants include polymer dispersants [for example, polyamidoamines and salts thereof, polycarboxylic acids and salts thereof, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, and modified poly (meth) acrylates. , (Meth) acrylic copolymers, naphthalenesulfonic acid formalin condensates], and surfactants such as polyoxyethylene alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl amines, alkanol amines, and pigment derivatives, etc. Can do.
  • the polymer dispersant can be further classified into a linear polymer, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer according to the structure. Details of the dispersant can be referred to the description in paragraphs 0098 to 0102 of JP-A-2014-130344, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of a pigment derivative and a polymer dispersant.
  • the pigment dispersant may be used in combination with an alkali-soluble resin together with the terminal-modified polymer, graft polymer, or block polymer having an anchor site to the pigment surface.
  • Alkali-soluble resins include (meth) acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, etc., and carboxylic acid in the side chain. Examples thereof include acidic cellulose derivatives, and (meth) acrylic acid copolymers are particularly preferable.
  • An alkali-soluble resin containing is also preferred. Specifically, an alkali-soluble resin: benzyl methacrylate / methacrylic acid / methacrylic acid-2-hydroxyethyl copolymer is exemplified.
  • the total content of the pigment dispersant is preferably 1 part by weight to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the pigment, and 5 parts by weight to 70 parts by weight. Is more preferably 10 parts by mass to 60 parts by mass.
  • the specific dispersion resin is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more, among the dispersant components contained in the composition.
  • the composition of the present invention may contain only one type of pigment dispersant, or two or more types of pigment dispersants. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the amount used is preferably in the range of 5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment, and 10 to 80 parts by mass. More preferably, it is in the range of parts by mass.
  • the amount of the pigment derivative used is preferably in the range of 1 to 30 parts by mass in terms of mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. The range is more preferable, and the range of 5 to 15 parts by mass is particularly preferable.
  • the total content of the colorant and the dispersant component is preferably 50% by mass or more and 90% by mass or less with respect to the total solid content constituting the composition. 55 mass% or more and 85 mass% or less is more preferable, and 60 mass% or more and 80 mass% or less is further more preferable.
  • Crosslinking agent is not particularly limited as long as the film can be cured by a crosslinking reaction.
  • the crosslinking agent is not particularly limited as long as the film can be cured by a crosslinking reaction.
  • the blending amount of the crosslinking agent is not particularly defined, but is preferably 2 to 30% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, based on the total solid content of the composition. preferable.
  • the composition of the present invention may contain only one type of cross-linking agent, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • ⁇ Polymerization inhibitor In the composition of the present invention, it is desirable to add a small amount of a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the composition.
  • the polymerization inhibitor that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6- tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like.
  • the addition amount of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the whole composition.
  • the composition of the present invention may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • Organic carboxylic acid, organic carboxylic anhydride may contain an organic carboxylic acid having a molecular weight of 1000 or less and / or an organic carboxylic acid anhydride.
  • organic carboxylic acid compound include aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids.
  • Examples of the aliphatic carboxylic acid include monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, glycolic acid, acrylic acid, methacrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, Examples thereof include dicarboxylic acids such as glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid and fumaric acid, and tricarboxylic acids such as tricarbaryl acid and aconitic acid.
  • monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, glycolic acid, acrylic acid, methacrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid
  • aromatic carboxylic acid examples include carboxylic acids in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group such as benzoic acid and phthalic acid, and carboxylic acids in which a carboxyl group is bonded to the phenyl group through a carbon bond.
  • carboxylic acids in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group such as benzoic acid and phthalic acid
  • carboxylic acids in which a carboxyl group is bonded to the phenyl group through a carbon bond examples of the aromatic carboxylic acid.
  • those having a molecular weight of 600 or less, particularly those having a molecular weight of 50 to 500 specifically maleic acid, malonic acid, succinic acid, and itaconic acid are preferred.
  • organic carboxylic acid anhydrides include aliphatic carboxylic acid anhydrides and aromatic carboxylic acid anhydrides. Specific examples include acetic anhydride, trichloroacetic anhydride, trifluoroacetic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride. Succinic anhydride, maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, glutaric anhydride, 1,2-cyclohexene dicarboxylic anhydride, n-octadecyl succinic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, etc. An aliphatic carboxylic acid anhydride is mentioned.
  • aromatic carboxylic acid anhydride examples include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and naphthalic anhydride. Of these, those having a molecular weight of 600 or less, particularly those having a molecular weight of 50 to 500, specifically maleic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, and itaconic anhydride are preferred.
  • the amount of the organic carboxylic acid and / or organic carboxylic acid anhydride is usually 0.01 to 10% by weight in the total solid content, The range is preferably 0.03 to 5% by weight, more preferably 0.05 to 3% by weight.
  • the composition of the present invention may contain only one type of organic carboxylic acid and / or organic carboxylic acid anhydride, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition may contain various additives such as fillers, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents, and the like, if necessary.
  • additives include those described in JP-A No. 2004-295116, paragraphs 0155 to 0156, the contents of which are incorporated herein.
  • the composition of the present invention may contain a sensitizer and a light stabilizer described in paragraph 0078 of JP-A No. 2004-295116, and a thermal polymerization inhibitor described in paragraph 0081 of the same publication.
  • the composition of the present invention may contain only one type of the above components, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention is prepared by mixing the aforementioned components.
  • the components constituting the composition may be combined at once, or may be sequentially combined after each component is dissolved and dispersed in a solvent.
  • the composition may be prepared by dissolving and dispersing all components in a solvent at the same time. If necessary, each component may be suitably used as two or more solutions / dispersions at the time of use (at the time of application). ) May be mixed to prepare a composition.
  • the composition prepared as described above can be used after being filtered off using a filter or the like.
  • the composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign substances or reducing defects. If it is conventionally used for the filtration use etc., it can use without being specifically limited.
  • fluororesins such as PTFE (polytetrafluoroethylene), polyamide resins such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight) For example).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon eg nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight)
  • PP polypropylene
  • the pore size of the filter is suitably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, preferably about 0.01 to 2.5 ⁇ m, more preferably about 0.01 to 2.0 ⁇ m.
  • a fiber-shaped filter medium examples include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber, and the like. , TPR005, etc.) and SHPX type series (SHPX003 etc.) filter cartridges can be used.
  • the filtering by the first filter may be performed only once or may be performed twice or more.
  • the pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer.
  • the commercially available filter can be selected from various filters provided by, for example, Nippon Pole, Advantech Toyo, Japan Integris (formerly Japan Microlith) or Kitz Microfilter.
  • the second filter a filter formed of the same material as the first filter described above can be used.
  • the filtering by the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing other components.
  • the composition of the present invention is preferably used as a composition for a color filter. That is, it is preferably used for forming a colored layer of a color filter. More specifically, since the composition of the present invention can form a cured film having excellent heat resistance and color characteristics, it is suitably used for forming a color pattern (colored layer) of a color filter.
  • the composition of the present invention can form a colored pattern such as a color filter used in a solid-state imaging device (for example, CCD, CMOS (ComplementarylementMetal-Oxide Semiconductor), etc.) and an image display device such as a liquid crystal display (LCD) It can be suitably used for use. Furthermore, it can be suitably used as a production application for printing ink, inkjet ink, paint, and the like. Especially, it can use suitably as a production use of the color filter for solid-state image sensors, such as CCD and CMOS.
  • the cured film of the present invention is formed by curing the composition of the present invention. Such a cured film is preferably used for a color filter.
  • the pattern forming method of the present invention comprises a step of applying the composition of the present invention on a support to form a composition layer, a step of exposing the composition layer in a pattern, and an unexposed portion of the composition layer. And a pattern forming method including a step of forming a colored pattern by development and removal.
  • the pattern forming method of the present invention can be suitably applied to the formation of a colored pattern (pixel) included in a color filter.
  • the method for producing a color filter of the present invention includes the pattern forming method of the present invention.
  • the composition of the present invention may produce a color filter by pattern formation by a so-called photolithography method, or may form a pattern by dry etching.
  • a step of applying a composition on a support to form a composition layer a step of exposing the composition layer in a pattern, and a composition layer
  • a step of forming a colored pattern by developing and removing the unexposed portion of the film a step of applying a composition on a support to form a composition layer, a step of exposing the composition layer in a pattern, and a composition layer.
  • a step of applying the composition of the present invention on a support to form a composition layer and curing to form a colored layer Illustrated is a method including a step of forming a resist layer, a step of patterning the photoresist layer by exposing and developing the photoresist layer to obtain a resist pattern, and a step of dry etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask.
  • Step of Forming Composition Layer In the step of forming the composition layer, the composition layer is formed on the support by applying the composition of the present invention.
  • a solid-state imaging element substrate in which an imaging element (light receiving element) such as a CCD (Charge Coupled Device) or CMOS is provided on a substrate (for example, a silicon substrate) is used.
  • an imaging element light receiving element
  • CCD Charge Coupled Device
  • CMOS Charge Coupled Device
  • the colored pattern in the present invention may be formed on the imaging element forming surface side (front surface) of the solid-state imaging element substrate, or may be formed on the imaging element non-forming surface side (back surface).
  • a light shielding film may be provided between the colored patterns in the solid-state image sensor or on the back surface of the substrate for the solid-state image sensor.
  • an undercoat layer may be provided on the support for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the substrate surface.
  • a solvent, an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, a polymerization inhibitor, a surfactant, a photopolymerization initiator, and the like can be blended, and each of these components is derived from the components blended in the above-described composition of the present invention. It is preferable to select appropriately.
  • composition of the present invention As a method for applying the composition of the present invention on the support, various coating methods such as slit coating, ink jet method, spin coating, cast coating, roll coating, screen printing method and the like can be applied.
  • Drying (pre-baking) of the composition layer coated on the support can be performed at a temperature of 50 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 300 seconds using a hot plate, oven or the like.
  • the composition layer formed in the composition layer formation step is exposed in a pattern.
  • pattern exposure can be performed by exposing the composition layer formed on the support using a mask having a predetermined mask pattern using an exposure apparatus such as a stepper. Thereby, an exposed part can be hardened.
  • radiation light
  • ultraviolet rays such as g-line and i-line are preferable (particularly preferably i-line).
  • Irradiation dose exposure dose, for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2, most preferably 0.08 ⁇ 0.5J / cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected.
  • a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, substantially oxygen-free).
  • a high oxygen atmosphere with an oxygen concentration exceeding 21% by volume for example, 22% by volume, 30% by volume, 50% by volume.
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and can usually be selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (eg, 5000 W / m 2 , 15000 W / m 2 , 35000 W / m 2 ).
  • Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
  • the thickness of the cured film (colored film) is preferably 1.0 ⁇ m or less, more preferably 0.1 ⁇ m to 0.9 ⁇ m, and further preferably 0.2 ⁇ m to 0.8 ⁇ m. It is preferable to set the film thickness to 1.0 ⁇ m or less because high resolution and high adhesion can be obtained.
  • a cured film having a thin film thickness of 0.7 ⁇ m or less can also be suitably formed, and the obtained cured film is developed in a pattern forming process described later, thereby forming a thin film.
  • the coloring pattern excellent in developability, surface roughness suppression, and pattern shape can be obtained.
  • the developer is preferably an organic alkali developer that does not cause damage to the underlying image sensor or circuit.
  • the development temperature is usually 20 ° C. to 30 ° C., and the development time is conventionally 20 seconds to 90 seconds. In order to remove the residue more, in recent years, it may be carried out for 120 to 180 seconds. Furthermore, in order to further improve residue removability, the process of shaking off the developer every 60 seconds and further supplying a new developer may be repeated several times.
  • alkaline agent used in the developer examples include ammonia water, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide.
  • Organic alkaline compounds such as choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene, and the concentration of these alkaline agents is 0.001% by mass to 10% by mass
  • An alkaline aqueous solution diluted with pure water so as to be preferably 0.01% by mass to 1% by mass is preferably used as the developer.
  • an inorganic alkali may be used for the developer, and as the inorganic alkali, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium oxalate, sodium metaoxalate and the like are preferable.
  • a surfactant may be used for the developer.
  • the surfactant examples include the surfactant described in the above-described composition, and a nonionic surfactant is preferable.
  • the amount is preferably 0.001 to 2.0% by weight, more preferably 0.01 to 1.0% by weight, based on the total weight of the developer.
  • the developing solution which consists of such alkaline aqueous solution, generally it is preferable to wash
  • post-bake heat treatment after drying. If a multicolor coloring pattern is to be formed, a cured film can be produced by sequentially repeating the above steps for each color. Thereby, a color filter is obtained.
  • the post-baking is a heat treatment after development for complete curing, and a heat curing treatment is usually performed at 100 ° C. to 240 ° C., preferably 200 ° C. to 240 ° C.
  • This post-bake treatment is performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), a high-frequency heater, or the like so that the coating film after development is in the above-described condition. be able to.
  • the dry etching can be performed using the etching gas with the colored layer as a mask using the patterned photoresist layer as a mask.
  • a positive or negative radiation sensitive composition is applied onto the colored layer and dried to form a photoresist layer.
  • a mode in which heat treatment after exposure (PEB) and heat treatment after development (post-bake treatment) are desirable.
  • a positive type radiation sensitive composition As the photoresist, for example, a positive type radiation sensitive composition is used.
  • This positive type radiation sensitive composition includes a positive type photosensitive material sensitive to radiation such as ultraviolet rays (g rays, h rays, i rays), deep ultraviolet rays including excimer lasers, electron beams, ion beams and X rays.
  • a positive resist composition suitable for resist can be used.
  • the radiation g-line, h-line and i-line are preferable, and i-line is particularly preferable.
  • a composition containing a quinonediazide compound and an alkali-soluble resin is preferable.
  • a positive radiation-sensitive composition containing a quinonediazide compound and an alkali-soluble resin indicates that a quinonediazide group is decomposed by irradiation with light having a wavelength of 500 nm or less to produce a carboxyl group, resulting in alkali-solubility from an alkali-insoluble state. It is what you use. Since this positive photoresist has remarkably excellent resolution, it is used for manufacturing integrated circuits such as IC (integrated circuit) and LSI (Large Scale Integration).
  • Examples of the quinonediazide compound include a naphthoquinonediazide compound. Examples of commercially available products include “FHi622BC” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials).
  • the thickness of the photoresist layer is preferably from 0.1 to 3 ⁇ m, preferably from 0.2 to 2.5 ⁇ m, and more preferably from 0.3 to 2 ⁇ m.
  • the application of the photoresist layer can be suitably performed using the above-described application method in the colored layer.
  • a resist pattern (patterned photoresist layer) provided with a group of resist through holes is formed.
  • the formation of the resist pattern is not particularly limited, and can be performed by appropriately optimizing a conventionally known photolithography technique.
  • a resist through hole group in the photoresist layer By providing a resist through hole group in the photoresist layer by exposure and development, a resist pattern as an etching mask used in the next etching is provided on the colored layer.
  • the exposure of the photoresist layer is performed by exposing the positive-type or negative-type radiation-sensitive composition with g-line, h-line, i-line, etc., preferably i-line, through a predetermined mask pattern. Can do. After the exposure, the photoresist is removed in accordance with a region where a colored pattern is to be formed by developing with a developer.
  • any developer can be used as long as it dissolves the exposed portion of the positive resist and the uncured portion of the negative resist without affecting the colored layer containing the colorant.
  • an alkaline aqueous solution can be used.
  • an alkaline aqueous solution prepared by dissolving an alkaline compound so as to have a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 5% by mass is suitable.
  • alkaline compound examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, Examples include pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene.
  • alkaline aqueous solution is used as a developing solution, generally a washing process is performed with water after development.
  • the resist pattern as an etching mask, patterning is performed by dry etching so that a through hole group is formed in the colored layer. Thereby, a colored pattern is formed.
  • the through hole group is provided in a checkered pattern in the colored layer. Therefore, the first colored pattern in which the through hole group is provided in the colored layer has a plurality of square-shaped first colored pixels in a checkered pattern.
  • the colored layer is dry etched using the resist pattern as an etching mask.
  • Representative examples of dry etching include JP-A-59-126506, JP-A-59-46628, JP-A-58-9108, JP-A-58-2809, JP-A-57-148706, JP-A-61-41102, and the like. There are methods described in the publications.
  • the dry etching is preferably performed in the following manner from the viewpoint of forming the pattern cross section closer to a rectangle and reducing the damage to the support.
  • a mixed gas of fluorine-based gas and oxygen gas (O 2 ) the first stage etching is performed up to a region (depth) where the support is not exposed, and after this first stage etching, nitrogen gas ( N 2 ) and oxygen gas (O 2 ), and a second stage etching is preferably performed to the vicinity of the region (depth) where the support is exposed, and over-etching is performed after the support is exposed.
  • N 2 nitrogen gas
  • O 2 oxygen gas
  • a second stage etching is preferably performed to the vicinity of the region (depth) where the support is exposed, and over-etching is performed after the support is exposed.
  • the form containing these is preferable.
  • a specific method of dry etching and the first stage etching, second stage etching, and over-etching will be described.
  • Dry etching is performed by obtaining etching conditions in advance by the following method.
  • (1) The etching rate (nm / min) in the first stage etching and the etching rate (nm / min) in the second stage etching are calculated respectively.
  • (2) The time for etching the desired thickness in the first stage etching and the time for etching the desired thickness in the second stage etching are respectively calculated.
  • (3) The first stage etching is performed according to the etching time calculated in (2) above.
  • the second stage etching is performed according to the etching time calculated in (2) above. Alternatively, the etching time may be determined by endpoint detection, and the second stage etching may be performed according to the determined etching time.
  • Overetching time is calculated with respect to the total time of (3) and (4) above, and overetching is performed.
  • the mixed gas used in the first stage etching step preferably contains a fluorine-based gas and an oxygen gas (O 2 ) from the viewpoint of processing the organic material that is the film to be etched into a rectangular shape.
  • the first stage etching process can avoid damage to the support body by etching to a region where the support body is not exposed.
  • the second etching step and the over-etching step are performed in the first etching step after etching to a region where the support is not exposed by the mixed gas of fluorine-based gas and oxygen gas. From the viewpoint of avoidance, it is preferable to perform the etching process using a mixed gas of nitrogen gas and oxygen gas.
  • the ratio between the etching amount in the first stage etching process and the etching amount in the second stage etching process is preferably in the range of more than 0% and not more than 50%. 10 to 20% is more preferable.
  • the etching amount is an amount calculated from the difference between the remaining film thickness to be etched and the film thickness before etching.
  • the etching preferably includes an over-etching process.
  • the overetching process is preferably performed by setting an overetching ratio. Moreover, it is preferable to calculate the overetching ratio from the etching process time to be performed first.
  • the over-etching ratio can be arbitrarily set, but it is preferably 30% or less of the etching processing time in the etching process, and preferably 5 to 25% from the viewpoint of etching resistance of the photoresist and maintaining the rectangularity of the pattern to be etched. Is more preferable, and 10 to 15% is particularly preferable.
  • the resist pattern that is, the etching mask
  • the removal of the resist pattern preferably includes a step of applying a stripping solution or a solvent on the resist pattern so that the resist pattern can be removed, and a step of removing the resist pattern using cleaning water.
  • Examples of the step of applying a stripping solution or solvent on the resist pattern so that the resist pattern can be removed include, for example, a step of applying a stripping solution or solvent on at least the resist pattern and stagnating for a predetermined time to perform paddle development Can be mentioned.
  • time to make stripping solution or a solvent stagnant It is preferable that it is several dozen seconds to several minutes.
  • examples of the step of removing the resist pattern using the cleaning water include a step of removing the resist pattern by spraying the cleaning water onto the resist pattern from a spray type or shower type spray nozzle.
  • the washing water pure water can be preferably used.
  • examples of the injection nozzle include an injection nozzle in which the entire support is included in the injection range, and an injection nozzle that is a movable injection nozzle and in which the movable range includes the entire support. When the spray nozzle is movable, the resist pattern is more effectively removed by moving the support pattern from the center of the support to the end of the support more than twice during the process of removing the resist pattern and spraying the cleaning water. be able to.
  • the stripping solution generally contains a solvent, but may further contain an inorganic solvent.
  • the solvent include 1) a hydrocarbon compound, 2) a halogenated hydrocarbon compound, 3) an alcohol compound, 4) an ether or acetal compound, 5) a ketone or aldehyde compound, 6) an ester compound, 7) Polyhydric alcohol compounds, 8) Carboxylic acid or acid anhydride compounds thereof, 9) Phenol compounds, 10) Nitrogen compounds, 11) Sulfur compounds, and 12) Fluorine compounds.
  • the stripping solution preferably contains a nitrogen-containing compound, and more preferably contains an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound.
  • the acyclic nitrogen-containing compound is preferably an acyclic nitrogen-containing compound having a hydroxyl group.
  • Specific examples include monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-ethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, N-butylethanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine.
  • Preferred are monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and more preferred is monoethanolamine (H 2 NCH 2 CH 2 OH).
  • cyclic nitrogen-containing compounds include isoquinoline, imidazole, N-ethylmorpholine, ⁇ -caprolactam, quinoline, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, ⁇ -picoline, ⁇ -picoline, ⁇ -picoline, 2- Preferred examples include pipecoline, 3-pipecoline, 4-pipecoline, piperazine, piperidine, pyrazine, pyridine, pyrrolidine, N-methyl-2-pyrrolidone, N-phenylmorpholine, 2,4-lutidine, and 2,6-lutidine.
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • the stripping solution preferably contains an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound.
  • acyclic nitrogen-containing compound at least one selected from monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and cyclic
  • the nitrogen-containing compound preferably includes at least one selected from N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine, and more preferably includes monoethanolamine and N-methyl-2-pyrrolidone.
  • a deposit means an etching product deposited and deposited on the side wall of a colored layer.
  • the content of the non-cyclic nitrogen-containing compound is 9 parts by weight or more and 11 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the stripping solution, and the content of the cyclic nitrogen-containing compound is 100 parts by weight of the stripping solution. On the other hand, what is 65 to 70 mass parts is desirable. Further, the stripping solution is preferably obtained by diluting a mixture of an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound with pure water.
  • the manufacturing method of this invention may have a well-known process as a manufacturing method of the color filter for solid-state image sensors as a process other than the above as needed.
  • a curing step of curing the formed colored pattern by heating and / or exposure may be included as necessary.
  • the composition according to the present invention when used, for example, clogging of a nozzle or a pipe part of a coating apparatus discharge unit, contamination due to adhesion, sedimentation, or drying of the composition or pigment in the coating machine may occur. Therefore, in order to efficiently clean the contamination caused by the composition of the present invention, it is preferable to use the solvent related to the present composition as the cleaning liquid.
  • the solvent related to the present composition as the cleaning liquid.
  • JP-A-7-128867, JP-A-7-146562, JP-A-8-278737, JP-A-2000-273370, JP-A-2006-85140, JP-A-2006-291191 The cleaning liquids described in JP2007-2101A, JP2007-2102A, JP2007-281523A, etc.
  • alkylene glycol monoalkyl ether carboxylates and alkylene glycol monoalkyl ethers are preferred.
  • These solvents may be used alone or in combination of two or more. When mixing 2 or more types, it is preferable to mix the solvent which has a hydroxyl group, and the solvent which does not have a hydroxyl group.
  • the mass ratio of the solvent having a hydroxyl group and the solvent having no hydroxyl group is from 1/99 to 99/1, preferably from 10/90 to 90/10, more preferably from 20/80 to 80/20.
  • the ratio is particularly preferably 60/40.
  • a surfactant related to the present composition described above may be added to the cleaning liquid.
  • the color filter of the present invention uses the composition of the present invention, the exposure can be performed with excellent exposure margin, and the formed colored pattern (colored pixel) is excellent in pattern shape, and the pattern surface is rough and developed. Since the residue in the portion is suppressed, the color characteristics are excellent.
  • the color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state imaging device such as a CCD or CMOS, and is particularly suitable for a CCD or CMOS having a high resolution exceeding 1 million pixels.
  • the color filter for a solid-state imaging device of the present invention can be used as a color filter disposed between, for example, a light receiving portion of each pixel constituting a CCD or CMOS and a microlens for condensing light.
  • the coloring pattern (color pixel) in the color filter of this invention 2.0 micrometers or less are preferable, 1.0 micrometer or less is more preferable, and 0.7 micrometer or less is further more preferable.
  • the size (pattern width) of the colored pattern (colored pixel) is preferably 2.5 ⁇ m or less, more preferably 2.0 ⁇ m or less, and particularly preferably 1.7 ⁇ m or less.
  • the color filter of the present invention contains a triarylmethane compound, a dye having a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm, and a curable compound, and has a minimum transmittance of 80% in the thickness direction in the wavelength range of 450 to 500 nm.
  • the maximum value of the transmittance in the thickness direction in the wavelength range of 650 to 700 nm is preferably 25% or less.
  • the minimum value of the transmittance in the thickness direction in the wavelength range of 450 to 500 nm is preferably 84% or more, and more preferably 90% or more.
  • the maximum value of the transmittance in the thickness direction in the wavelength range of 650 to 700 nm is preferably 20% or less, and more preferably 15% or less.
  • the mass ratio of the dye having the maximum absorption wavelength in the range of 650 to 750 nm with respect to the triarylmethane compound is preferably 0.2 to 1.5.
  • the transmittance of the color filter refers to a glass substrate coated with the composition of the present invention so that the dry film thickness is 0.6 ⁇ m, an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV3600). ) Measured with a spectrophotometer (ref. Glass substrate).
  • the solid-state imaging device of the present invention has the above-described color filter of the present invention.
  • the configuration of the solid-state imaging device of the present invention is a configuration provided with the color filter in the present invention, and is not particularly limited as long as it is a configuration that functions as a solid-state imaging device. .
  • a transfer electrode made of a plurality of photodiodes and polysilicon constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) is provided on a support, and the photodiode and the transfer electrode are provided on the support.
  • a light condensing means for example, a microlens, etc., the same applies hereinafter
  • the color filter of the present invention can be used not only for the solid-state imaging device but also for image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices, and is particularly suitable for use in liquid crystal display devices.
  • the liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention can display a high-quality image with a good display image color and excellent display characteristics.
  • display devices For the definition of display devices and details of each display device, refer to, for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, Kogyo Kenkyukai, 1990)”, “Display Device (Junsho Ibuki, Industrial Books Co., Ltd.) Issued in the first year).
  • the liquid crystal display device is described, for example, in “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, Industrial Research Co., Ltd., published in 1994)”.
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the “next generation liquid crystal display technology”.
  • the color filter of the present invention may be used in a color TFT (thin film transistor) type liquid crystal display device.
  • the color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (issued in 1996 by Kyoritsu Publishing Co., Ltd.)”.
  • the present invention relates to a liquid crystal display device with a wide viewing angle, such as a lateral electric field drive method such as IPS (In-Place-Switching), a pixel division method such as MVA, STN (Super-twisted nematic), TN (Twisted). Nematic), VA (Virtical Alignment), OCS (Optically Compensated.
  • the color filter in the present invention can be used for a bright and high-definition COA (Color-filter On Array) system.
  • COA Color-filter On Array
  • the required characteristics for the color filter layer require the required characteristics for the interlayer insulating film, that is, the low dielectric constant and the resistance to the stripping solution, in addition to the normal required characteristics as described above.
  • the color filter of the present invention since a dye multimer excellent in hue is used, the color purity, light transmittance, etc. are good and the color pattern (pixel) is excellent in color, so the resolution is high and the long-term durability is excellent.
  • a COA type liquid crystal display device can be provided.
  • a resin film may be provided on the color filter layer.
  • image display methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD display-latest technology and market trends (issued in 2001 by Toray Research Center Research Division)".
  • micro O red system micro OLED.
  • image display methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD display-latest technology and market trends (issued in 2001 by Toray Research Center Research Division)”.
  • the liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention includes various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle guarantee film.
  • the color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device composed of these known members.
  • these components for example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials / Chemicals Market (Kentaro Shima CMC 1994)”, “2003 Liquid Crystal Related Markets Current Status and Future Prospects (Volume 2)” Fuji Chimera Research Institute, Ltd., published in 2003) ”.
  • backlighting SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno et.al), Monthly Display December 2005, pages 18-24 (Yasuhiro Shima), pages 25-30 (Takaaki Yagi), etc. Are listed.
  • T-2a was synthesized according to Synthesis Example 1 of JP-A No. 2000-162429. 6.0 g (10 mmol) of (T-2a) was added to a mixture of 50 mL of methylene chloride and 10 mL of water and stirred. Next, 3.19 g (10 mmol) of potassium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide was added thereto and stirred for 2 hours. Thereafter, the aqueous layer was removed from this solution, and the methylene chloride layer was concentrated to obtain 8.2 g of (T-2).
  • T-2 10.0 g, methacrylic acid 2.1 g, 2,2′-azobis (methyl isobutyrate) 0.5 g, and 1-dodecanethiol 0.8 g were dissolved in cyclohexanone 28.2 g. This solution was added dropwise to 10.0 g of cyclohexanone heated to 75 ° C. under a nitrogen stream over 2 hours, stirred for 2 hours, and then heated at 90 ° C. for 2 hours.
  • T-2 8.47 g (10 mmol), dipentaerythritol hexakis (2-mercaptopropionate) (DPMP) 2.61 g (3.3 mmol) and 1-methoxy-2-propanol 22.1 g Under heating to 90 ° C.
  • DPMP dipentaerythritol hexakis (2-mercaptopropionate)
  • 1-methoxy-2-propanol 22.1 g Under heating to 90 ° C.
  • 0.10 g of 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl was added three times every 2 hours and heated at 100 ° C. for 3 hours to contain 1-methoxy-2-containing (t-1).
  • a propanol solution was obtained.
  • 1.72 g (20 mmol) of methacrylic acid was added and heated to 80 ° C. under a nitrogen stream.
  • the obtained filtrate was washed with 200 mL of a 50 mass% methanol aqueous solution and dried to obtain 6.33 g of (T-6).
  • the obtained (T-6) had a weight average molecular weight of 9,600 and an acid value of 120 mgKOH / g.
  • Monomer (X-1) 16.4 g, methacrylic acid 1.60 g, dodecyl mercaptan 0.51 g, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate (hereinafter also referred to as “PGMEA”) 46.6 g are mixed and this solution is mixed.
  • PMEA propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate
  • compositions of Examples 1-33 and Comparative Examples 1-3 The following components were mixed, dispersed, dissolved, and filtered through a 0.45 ⁇ m nylon filter to obtain compositions of Examples 1 to 33 and Comparative Examples 1 to 3.
  • Triarylmethane compound triarylmethane (A)) described in Table 4
  • Dye (B) described in Table 4
  • the total of the triarylmethane compound and the dye (B) is 60 parts.
  • I-1) is IRGACURE (registered trademark) -OXE01
  • I-2) is IRGACURE (registered trademark) -OXE02 (manufactured by BASF)
  • I-3) is IRGACURE (registered trademark) -379
  • I- 4) is DAROCUR (registered trademark) -TPO (all of which are manufactured by BASF).
  • A represents the following structure (L4-11).
  • * represents a linking site.
  • Dye (A-2), Dye (A-3) In the above (A-2), the molar ratio of the repeating unit containing a dye structure, the repeating unit containing an acid group, and the repeating unit containing a polymerizable group is 51:19:30, and Mw is 8500.
  • the silicon wafer on which the colored pattern is formed is fixed to the horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and the silicon wafer substrate is rotated at a rotation speed of 50 r. p. m. While being rotated, pure water was supplied from the upper side of the rotation center in a shower form to perform a rinsing treatment, and then spray-dried. As described above, a monochromatic color filter having a colored pattern formed by the composition of the example or the comparative example was produced. Thereafter, the size of the colored pattern was measured using a length measuring SEM (scanning electron microscope) “S-9260A” (manufactured by Hitachi High-Technologies). The exposure amount at which the pattern size was 1.0 ⁇ m was determined as the optimum exposure amount.
  • SEM scanning electron microscope
  • Performance evaluation 5-1 Light Resistance As an index for evaluating light resistance (light fastness), a color difference ( ⁇ E * ab value) before and after light irradiation was measured. Specifically, the composition obtained above was applied onto a glass substrate so that the dry film thickness was 0.6 ⁇ m, thereby forming a coating film. This coating film was irradiated with a xenon lamp at 100,000 lux for 20 hours (equivalent to 2 million lux ⁇ h), and the color difference ( ⁇ E * ab value) before and after irradiation was measured. For the measurement of the color difference ( ⁇ E * ab value), a chromaticity meter MCPD-1000 (manufactured by Otsuka Electronics) was used.
  • ⁇ E * ab ⁇ ( ⁇ L *) 2+ ( ⁇ a *) 2+ ( ⁇ b *) 2 ⁇ 1/2
  • Heat resistance As an index for evaluating heat resistance (heat fastness), a color difference ( ⁇ E * ab value) before and after heating was measured. Specifically, the composition obtained above was applied onto a glass substrate so that the dry film thickness was 0.6 ⁇ m, thereby forming a coating film. This coating film was placed on a 200 ° C. hot plate so as to be in contact with the glass substrate surface, heated for 1 hour, and the color difference ( ⁇ E * ab value) before and after heating was measured. For the measurement of the color difference ( ⁇ E * ab value), a chromaticity meter MCPD-1000 (manufactured by Otsuka Electronics) was used. A smaller ⁇ E * ab value indicates better heat resistance.
  • Performance Evaluation A colored pattern was formed as described below, and pattern defects were evaluated for this colored pattern.
  • the said composition was apply
  • a heat treatment post-bake was performed for 300 seconds using a 220 ° C. hot plate to prepare a colored film.
  • a positive photoresist “FHi622BC” manufactured by FUJIFILM Electronics Materials
  • the photoresist layer is subjected to pattern exposure using an i-line stepper (manufactured by Canon) at an exposure amount of 350 mJ / cm 2 , and heat treatment is performed at a temperature at which the temperature of the photoresist layer or the atmospheric temperature becomes 90 ° C. for 1 minute.
  • i-line stepper manufactured by Canon
  • heat treatment is performed at a temperature at which the temperature of the photoresist layer or the atmospheric temperature becomes 90 ° C. for 1 minute.
  • development processing was performed with a developer “FHD-5” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials) for 1 minute, and further post-baking processing was performed at 110 ° C. for 1 minute to form a resist pattern.
  • the resist pattern was formed with a side of 1.0 ⁇ m in consideration of etching conversion difference (pattern width reduction by etching).
  • dry etching was performed according to the following procedure.
  • RF power 800 W
  • antenna bias 400 W
  • wafer bias 200 W
  • etching chamber internal pressure 4.0 Pa
  • substrate temperature 50 ° C.
  • mixed gas with dry etching equipment Hitachi High Technologies, U-621
  • the gas type and flow rate were set to CF 4 : 80 mL / min.
  • O 2 40 mL / min.
  • Ar 800 mL / min.
  • the first stage etching process of 80 seconds was performed.
  • RF power 600 W
  • antenna bias 100 W
  • wafer bias 250 W
  • chamber internal pressure 2.0 Pa
  • substrate temperature 50 ° C.
  • gas mixture type and flow rate of N 2 500 mL / min.
  • O 2 50 mL / min.
  • the second-stage etching process for 28 seconds was performed.
  • the resist is removed by using a photoresist stripping solution “MS230C” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials) for 120 seconds to remove the resist, followed by washing with pure water, spin Drying was performed. Thereafter, a dehydration baking process was performed at 100 ° C. for 2 minutes. In this way, a colored pattern was formed on the glass substrate.
  • MS230C photoresist stripping solution
  • MS230C manufactured by FUJIFILM Electronics Materials
  • the 200 colored patterns formed as described above were observed with an SEM to confirm the presence or absence of development defects. The more development defects, the worse the yield.

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Abstract

組成物は、トリアリールメタン化合物、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素、及び硬化性化合物を有する組成物であって、トリアリールメタン化合物に対する、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の質量比が０．２～１．５である組成物。

Description

組成物、硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
　本発明は、組成物およびこれらを用いた硬化膜に関する。また、パターン形成方法、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを有する固体撮像素子および画像表示装置に関する。
　液晶表示装置や固体撮像素子等に用いられるカラーフィルタを製造する方法の１つに、顔料分散法がある。この顔料分散法は、顔料を種々の感光性組成物に分散させた着色感光性組成物を用い、フォトリソ法によってカラーフィルタを製造する方法である。すなわち、硬化性組成物を基板上にスピンコーターやロールコーター等を用いて塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、塗布膜をパターン露光し現像することによって、着色された画素を得る。この操作を所望の色相分だけ繰り返すことで、カラーフィルタを作製する。
　上記の方法は、顔料を用いることから光や熱に対して安定であると共に、フォトリソ法によってパターニングを行うことから位置精度が充分に確保され、カラーディスプレー用カラーフィルタ等の製造に好適な方法として広く利用されてきた。
　一方、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）等の固体撮像素子用のカラーフィルタにおいては、近年、更なる高画質化・高感度化が求められている。青色画素にはピグメントブルー１５：６、ピグメントバイオレット２３を使用するが、これらの顔料の組み合わせは近年のイメージセンサに求められている４００～５００ｎｍの高光透過性は達成できず、新たな色材の適用が模索されている。
　ピグメントブルー１５：６、ピグメントバイオレット２３の組み合わせに変わるものとして、トリアリールメタン化合物の適用が検討されている（例えば特許文献１参照）。
　一方、特許文献２には、染料と重合性化合物とを含み、感光性を有する着色組成物において、さらに一重項酸素クエンチャーと酸化防止剤の双方を含むことを特徴とする感光性着色組成物について開示されており、上記染料として、トリアリールメタン系染料を用いることが記載されている。
　また、特許文献３には、（Ａ）光又は熱によりラジカルを発生する化合物、（Ｂ）ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体、（Ｃ）分子内にビニル基が置換したフェニル基を２個以上有するモノマー、（Ｄ）赤外線吸収剤、及び、（Ｅ）吸収極大を５００ｎｍ～７００ｎｍの範囲に有する染料を含有することを特徴とする感光性組成物について開示されており、上記染料として、トリアリールメタン系染料を用いることが記載されている。
特開２０１４－８０５８４号 特開２０１１－１４１３５６号 特開２００５－１０７３８９号
　トリアリールメタン化合物は、波長４００～５００ｎｍの範囲における透過率が高く、かつ、５５０～６５０ｎｍに低透過率であるため、有用な着色剤として知られている。しかしながら、トリアリールメタン化合物は、通常、６５０ｎｍ付近から長波側に吸収がない。このため、特許文献１～３に記載の組成物を、６５０ｎｍ付近から長波側に感光性を有する用途、例えば、固体撮像素子用途に用いることができない。さらに、トリアリールメタン化合物は、実用的な耐光性を有していない場合が多く、６５０ｎｍ付近から長波側に感光性を有する用途、例えば、固体撮像素子用途に用いることが困難な場合もある。
　本発明は、上記の状況に鑑みてなされたものであり、トリアリールメタン化合物を含む組成物であって、６５０ｎｍ付近から長波側に感光性を有する用途にも利用可能であり、現像性に優れた組成物を提供することを目的とする。また、この組成物を用いた硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置を提供することを目的とする。
　本発明者らが詳細に検討した結果、トリアリールメタン化合物と、特定の吸収を有する色素を適切な比率で混合することで、良好な色相を有する着色パターン（硬化膜）を形成しうる組成物が提供できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
　具体的には、下記手段＜１＞により、好ましくは、＜２＞～＜２１＞により、上記課題は解決された。
＜１＞トリアリールメタン化合物、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素、および硬化性化合物を含み、
トリアリールメタン化合物に対する、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の質量比が０．２～１．５である組成物。
＜２＞トリアリールメタン化合物が、５８０～６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞トリアリールメタン化合物と、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の極大吸収波長の差が１００～１５０ｎｍである、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
＜４＞トリアリールメタン化合物が、エチレン性不飽和結合性基を有する、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜５＞トリアリールメタン化合物が多量体である、＜１＞～＜４＞のいずれかに組成物。
＜６＞極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が、フタロシアニン化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、ナフトキノン化合物及びアゾ化合物から選択される１種以上である、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物。
＜７＞極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が、フタロシアニン化合物またはスクアリリウム化合物を含む、＜１＞～＜６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８＞極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が、エチレン性不飽和結合性基を有する、＜１＞～＜７＞のいずれかに記載の組成物。
＜９＞極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が多量体である、＜１＞～＜８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０＞極大吸収波長を５００～６００ｎｍの範囲に有する色素をさらに含む、＜１＞～＜９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１＞カラーフィルタ用である、＜１＞～＜１０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２＞＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の組成物を硬化してなる硬化膜。
＜１３＞＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、組成物層をパターン状に露光する工程と、組成物層の未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
＜１４＞＜１３＞に記載のパターン形成方法を含む、カラーフィルタの製造方法。
＜１５＞＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程、
着色層上にフォトレジスト層を形成する工程、
フォトレジスト層を露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、および
レジストパターンをエッチングマスクとして着色層をドライエッチングする工程を含む、カラーフィルタの製造方法。
＜１６＞＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の組成物を用いて製造されたカラーフィルタまたは＜１４＞または＜１５＞に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
＜１７＞トリアリールメタン化合物および極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素を含み、波長４５０～５００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最小値が８０％以上で、かつ、波長６５０～７００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最大値が２５％以下である、カラーフィルタ。
＜１８＞＜１６＞または＜１７＞に記載のカラーフィルタを有する固体撮像素子。
＜１９＞＜１６＞または＜１７＞に記載のカラーフィルタを有する画像表示装置。
＜２０＞さらに、重合開始剤を含む、＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の組成物。
＜２１＞上記重合開始剤がオキシム化合物である、＜２０＞に記載の組成物。
＜２２＞トリアリールメタン化合物に対する、極大吸収波長が６５０～７５０ｎｍである化合物の質量比が、０．３～１．４である、＜１＞～＜１１＞、＜２０＞および＜２１＞のいずれかに記載の組成物。
　本発明によれば、耐光性および耐熱性に優れた組成物の提供が可能になった。また、この組成物を用いた硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置の提供が可能になった。
　本明細書における基（原子団）の表記に於いて、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書中における「活性光線」または「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等を意味する。また、本発明において光とは、活性光線または放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、ＥＵＶ光などによる露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
　本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。本発明における濃度は、２５℃における濃度をいう。
　本明細書において「（メタ）アクリレート」はアクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」はアクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、「単量体」と「モノマー」とは同義である。本明細書における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。本明細書において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基を言う。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ＧＰＣ測定によるポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ－８２２０（東ソー製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ　ＡＷＭ―Ｈ（東ソー製、６．０ｍｍＩＤ×１５．０ｃｍ）を、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ　リチウムブロミドＮＭＰ(Ｎ－メチルピロリジノン)溶液を用いることによって求めることができる。
組成物
　本発明の組成物は、トリアリールメタン化合物、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素、および硬化性化合物を含み、トリアリールメタン化合物に対する、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の質量比が０．２～１．５である。
　上記構成とすることにより、耐光性に優れた組成物の提供が可能になる。このような効果が得られる理由については、未だ明確ではないが、耐光性が向上する効果は以下のように推定される。トリアリールメタン化合物は、光により励起し、基底状態に戻る際に自己分解又は一重項酸素による分解が生じる。しかし、トリアリールメタン化合物より長波側に吸収を有する化合物、すなわち、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素をトリアリールメタン化合物と併用することにより、励起されたトリアリールメタン化合物が速やかに、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素にエネルギーを供給し、トリアリールメタン化合物が基底状態に戻る。その結果、耐光性が向上する。
　さらに本発明の組成物は、高い耐熱性も維持できる。
　また、一般的に、トリアリールメタン化合物はイオン性を有しているため凝集しやすい傾向にあり、パターンサイズがより微小な固体撮像素子用のカラーフィルタが求められる現状にあっては、現像欠陥が生じたり、パターン欠損が生じやすくなる場合がある。
　パターン形成性（現像性）が必ずしも十分とは言えない場合もある。これに対して、本発明の組成物は、現像欠陥やパターン欠陥が生じることを抑制できる。
＜トリアリールメタン化合物＞
　トリアリールメタン化合物は、トリアリールメタン構造を一分子中に、少なくとも１つ含む化合物である。本発明におけるトリアリールメタン化合物は、トリアリールメタン構造を一分子中に１つ含むトリアリールメタン単量体であってもよいし、一分子中に２つ以上のトリアリールメタン構造を含むトリアリールメタン多量体であってもよいし、一分子中に３つ以上のトリアリールメタン構造を含むトリアリールメタン多量体であってもよい。トリアリールメタン化合物は、トリアリールメタン多量体が好ましい。トリアリールメタン化合物は、硬化性基を有することが好ましい。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合性基、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタニル基など）が挙げられ、エチレン性不飽和結合性基が好ましい。
　特に、トリアリールメタン化合物は、多量体であるか、エチレン性不飽和結合性基を有する単量体であることが好ましく、多量体であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和結合性基を有する多量体であることがさらに好ましい。このような構成とすることにより、耐熱性をより向上させることができる。
　本発明の組成物は、トリアリールメタン化合物を、１種のみ含んでいても良く、２種以上含んでいても良い。トリアリールメタン単量体とトリアリールメタン多量体を併用してもよい。
　本発明におけるトリアリールメタン化合物は、通常、カチオンの形態をとる。カチオンは、通常、トリアリールメタン構造１つに対し、１価および／または２価のカチオンを１つまたは２つ有することが好ましく、１価のカチオンを１つ有することがより好ましい。
　トリアリールメタン化合物は、染料であることが好ましい。顔料分散系では、顔料の粗大粒子による散乱の発生、分散安定性不良による粘度上昇等の問題が起きやすく、コントラスト、輝度をさらに向上させることが困難となる場合があるが、染料を用いるとこのような問題をより効果的に回避できる。
　染料とは、溶剤に溶解しやすい可溶性の色素化合物を意味する。ここで、溶剤とは、任意の溶剤が挙げられ、例えば後述する溶剤の欄で例示する溶剤が挙げられる。本発明に用いられる溶剤は、例えば、２５℃における溶剤へのトリアリールメタン化合物の溶解度が０．００１ｇ／１００ｇＳｏｌｖｅｎｔを超えるものが好ましい。
　トリアリールメタン化合物の極大吸収波長は、５６０～６２０ｎｍの範囲にあることが好ましく、５７５～６１０ｎｍであることがより好ましい。さらに、上記極大吸収波長が、トリアリールメタンの可視域（例えば、３８０～７５０ｎｍ）における最大吸収波長であることがより好ましい。さらに、本発明で用いるトリアリールメタン化合物は、通常、トリアールメタン化合物の波長４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ未満および波長６５０ｎｍ～７００ｎｍの範囲には、極大吸収波長を有さない。
　トリアリールメタン化合物と、後述する極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の極大吸収波長の差は、４０～１５０ｎｍであることが好ましく、８０～１２０ｎｍであることがより好ましい。
　トリアリールメタン化合物の配合量は、組成物の固形分の１０～８０質量％であることが好ましく、２０～７５質量％であることがより好ましく、３５～６０質量％であることがさらに好ましい。トリアリールメタン化合物を２種類以上配合する場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜トリアリールメタン単量体＞＞
　トリアリールメタン化合物が単量体である場合、トリアリールメタン化合物はトリアリールメタン構造を１つ含む。トリアリールメタン構造は、メタンを中心として３つのアリール基を含むものである。３つのアリール基は、それぞれ、フェニル基、ナフチル基、及び、アリール基と複素環とが縮合した環、のいずれかであることが好ましい。この場合の複素環としては、含窒素５員環または６員環が例示される。
　トリアリールメタン化合物は、一般式（ＴＰ１）で表されるカチオンおよび／または一般式（ＴＰ２）で表されるカチオンであることが好ましく、一般式（ＴＰ１）で表されるカチオンがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
一般式（ＴＰ１）および（ＴＰ２）中、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒｔｐ５、Ｒｔｐ６、Ｒｔｐ８、Ｒｔｐ９およびＲｔｐ１１は、それぞれ独立して置換基を表す。Ｒｔｐ７は、水素原子、アルキル基、アリール基またはＮＲｔｐ７１Ｒｔｐ７２を表す。Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒｔｐ１０は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。ａ、ｂ及びｃは、それぞれ独立して０～４の整数を表す。ａ、ｂ及びｃが２以上の場合、Ｒｔｐ５、Ｒｔｐ６、Ｒｔｐ８およびＲｔｐ９のうち２つは、互いに、連結して環を形成してもよい。Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２の少なくとも１つは、アニオンを含んでいてもよい。
　一般式（ＴＰ１）中、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基が好ましい。
　アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよいが、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は、無置換が好ましい。後述する置換基群Ａの項で挙げる置換基が挙げられる。
　アリール基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。アリール基が有していてもよい置換基としては、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基が挙げられる。
　一般式（ＴＰ１）中、Ｒｔｐ７は、水素原子、アルキル基、アリール基またはＮＲｔｐ７１Ｒｔｐ７２を表し、水素原子またはＮＲｔｐ７１Ｒｔｐ７２が好ましく、ＮＲｔｐ７１Ｒｔｐ７２がより好ましい。
　Ｒｔｐ７がアルキル基を表す場合、アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基が有していてもよい置換基としては、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基が挙げられる。アリール基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。
　Ｒｔｐ７１およびＲｔｐ７２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～８がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよいが、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は、置換されていてもよいが、無置換が好ましい。アルキル基が有していてもよい置換基としては、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基が挙げられる。アリール基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。アリール基が有していてもよい置換基は、後述する置換基群Ａの項で挙げる置換基が挙げられる。
　一般式（ＴＰ１）中、Ｒｔｐ５、Ｒｔｐ６およびＲｔｐ８は、それぞれ独立して置換基を表す。置換基としては、後述する置換基群Ａの項で挙げる置換基が挙げられる。特に、炭素数１～５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数１～５のアルケニル基、炭素数６～１５のアリール基、カルボキシル基またはスルホ基が好ましく、炭素数１～５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数１～５のアルケニル基、フェニル基またはカルボキシル基がさらに好ましい。特に、Ｒｔｐ５およびＲｔｐ６は、それぞれ独立して炭素数１～５のアルキル基が好ましい。
　Ｒｔｐ８は、２つのアルケニル基が互いに結合して、環を形成していることが好ましい。環は、ベンゼン環が好ましい。
　一般式（ＴＰ１）中、ａ、ｂおよびｃは、それぞれ独立して０～４の整数を表し、特にａおよびｂは、０または１を表すことが好ましく、０を表すことがより好ましい。ｃは、０～２を表すことが好ましく、０または１を表すことがより好ましい。
　一般式（ＴＰ２）中、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、一般式（ＴＰ１）中のＲｔｐ１～Ｒｔｐ４と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＴＰ２）中、Ｒｔｐ５およびＲｔｐ６は、それぞれ独立して置換基を表し、一般式（ＴＰ１）中のＲｔｐ５およびＲｔｐ６と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　一般式（ＴＰ２）中、Ｒｔｐ９およびＲｔｐ１１は、それぞれ独立して置換基を表し、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基を用いることができる。
　Ｒｔｐ９は、アリール基が好ましく、炭素数６～１２のアリール基がより好ましく、フェニル基がより好ましい。
　Ｒｔｐ１１は、アルキル基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～３のアルキル基がさらに好ましい。アルキル基は、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
　一般式（ＴＰ２）中、Ｒｔｐ１０は、置換基を表し、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基を用いることができる。特に、Ｒｔｐ１０は、炭素数６～１２のアリール基がより好ましく、フェニル基がより好ましい。
　一般式（ＴＰ２）中、ａ、ｂおよびｃは、それぞれ独立して０～４の整数を表し、特にａおよびｂは、０または１を表すことが好ましく、０を表すことがより好ましい。ｃは、０～２を表すことが好ましく、０を表すことがより好ましい。
　染料カチオンは、カチオンが以下のように非局在化して存在しており、下記２種の構造はそれぞれ、トリアリールメタン化合物に含まれるものとする。なお、カチオン部位は、分子中のどの位置にあってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　トリアリールメタン化合物は、エチレン性不飽和結合性基を含むことが好ましい。このようなエチレン性不飽和結合性基は、例えば、ラジカル重合によって、光または熱の照射により、多量体化したり、他の基と架橋反応をする。そのため、エチレン性不飽和結合性基を含むと、耐熱性がより向上する傾向にある。
　エチレン性不飽和結合性基は、エチレン性不飽和結合のみからなってもよいし、エチレン性不飽和結合の他に連結基を含んでいてもよい。特に、エチレン性不飽和結合性基は、－Ｌ０－Ｐ０で表される基が好ましい。ここで、Ｌ０は、単結合または２価の連結基を表し、Ｐ０は、エチレン性不飽和結合を表す。
　２価の連結基は、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２以上組み合わせた基が好ましい。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
　特に、２価の連結基は、アリーレン基が好ましい。
　アルキレン基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、５～２０がさらに好ましく、５～１０が特に好ましい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、シクロペンテニレン基、シクロへキシレン基等が好ましい。
　アリーレン基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～１８がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。具体的に、アリーレン基は、フェニレン基、ナフチレン基等が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
　エチレン性不飽和結合性基としては、具体的には、（メタ）アクリル基を含む基、ビニル基を含む基、アリル基を含む基、メタリル基を含む基等が挙げられ、（メタ）アクリル基を含む基、アリル基を含む基およびメタリル基を含む基から選択される少なくとも１種がより好ましい。なかでも、（メタ）アクリル基、アリル基およびメタリル基から選択される少なくとも１種が好ましい。
　トリアリールメタン化合物は、上述の一般式（ＴＰ１）または（ＴＰ２）において、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２の少なくとも１つがエチレン性不飽和結合性基を含むことが好ましく、Ｒｔｐ７が、エチレン性不飽和結合性基を含むことがより好ましく、Ｒｔｐ７１またはＲｔｐ７２がエチレン性不飽和結合性基であることがさらに好ましい。
置換基群Ａ：
　置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基などが挙げられる。以下詳細に記述する。
　ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、直鎖もしくは分岐のアルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１～３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－オクチル、２－クロロエチル、２－シアノエチル、２－エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３～３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチルが挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５～３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン－２－イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン－３－イル）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が特に好ましい。）、
　直鎖もしくは分岐のアルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３～３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２－シクロペンテン－１－イル、２－シクロヘキセン－１－イルが挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５～３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト－２－エン－１－イル、ビシクロ［２，２，２］オクト－２－エン－４－イル）やトリシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が特に好ましい。）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２～３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
　アリール基（好ましくは炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ－トリル、ナフチル、ｍ－クロロフェニル、ｏ－ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５～７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、さらに好ましくは、炭素数３～３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２－フリル、２－チエニル、２－ピリジル、４－ピリジル、２－ピリミジニル、２－ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
　アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、ｎ－オクチルオキシ、２－メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２－メチルフェノキシ、２，４－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェノキシ、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ、３－ニトロフェノキシ、２－テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３～２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１－フェニルテトラゾール－５－オキシ、２－テトラヒドロピラニルオキシ）、
　アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ－メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ－ｎ－オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルオキシ、ｎ－オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ－メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ－ｎ－ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
　アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０～３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ－メチル－アニリノ、ジフェニルアミノ、Ｎ－１，３，５－トリアジン－２－イルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５－トリ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルアミノ、ｎ－オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ－メチル－メトキシカルボニルアミノ）、
　アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ－クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ－ｎ－オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０～３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ－ｎ－オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５－トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ－メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、
　アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ－ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ－クロロフェニルチオ、ｍ－メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２～３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２－ベンゾチアゾリルチオ、１－フェニルテトラゾール－５－イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ－エチルスルファモイル、Ｎ－（３－ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル、Ｎ－アセチルスルファモイル、Ｎ－ベンゾイルスルファモイル、Ｎ－（Ｎ’－フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、
　アルキルまたはアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６～３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ－メチルフェニルスルフィニル）、アルキルまたはアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６～３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ－メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２～３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２－クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ－クロロフェノキシカルボニル、ｍ－ニトロフェノキシカルボニル、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシカルボニル）、
　アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル、ｎ－オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ－メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルカルバモイル、Ｎ－（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールまたはヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３～３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ基、ｐ－クロロフェニルアゾ基、５－エチルチオ－１，３，４－チアジアゾール－２－イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ－スクシンイミド基、Ｎ－フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、
　ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３～３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
　Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２の少なくとも１つは、アニオンを含んでいてもよい。これらの基がアニオンを含む場合、アニオンとしては、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンが好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンがより好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオンおよびトリス（スルホニル）メチドアニオンが更に好ましい。
　具体的には、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２の少なくとも１つが、一般式（Ｐ）で置換された構造が挙げられる。
一般式（Ｐ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　一般式（Ｐ）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘ１は、アニオンを表す。
　一般式（Ｐ）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、－ＮＲ１０－、－Ｏ－、－ＳＯ２－、フッ素原子を含むアルキレン基、フッ素原子を含むアリーレン基またはこれらの組み合わせからなる基を表すことが好ましい。特に、－ＮＲ１０－と－ＳＯ２とフッ素原子を含むアルキレン基との組み合わせからなる基、－Ｏ－とフッ素原子を含むアリーレン基との組み合わせからなる基が好ましい。
　－ＮＲ１０－において、Ｒ１０は、水素原子または炭素数１～５のアルキル基を表し、水素原子が好ましい。
　フッ素原子を含むアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましい。これらのアルキレン基は、パーフルオロアルキレン基がより好ましい。フッ素置換アルキレン基の具体例としては、ジフルオロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、ヘキサフルオロプロピレン基などが挙げられる。
　フッ素原子を含むアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。フッ素原子を含むアリーレン基の具体例としては、テトラフルオロフェニレン基、ヘキサフルオロ－１－ナフチレン基、ヘキサフルオロ－２－ナフチレン基などが挙げられる。
　一般式（Ｐ）中、Ｘ１は、アニオンを表し、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンから選ばれる１種が好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンから選ばれる１種がより好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオンまたはトリス（スルホニル）メチドアニオンが更に好ましい。
　Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２の少なくとも１つがアニオンを含む場合、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２の少なくとも１つが、一般式（Ｐ－１）で置換された構造を有することも好ましい。
　一般式（Ｐ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　一般式（Ｐ－１）中、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、単結合であることが好ましい。Ｌ１が表す２価の連結基としては、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、またはこれらの組み合わせからなる基等が挙げられる。
　Ｌ２は、－ＳＯ２－または－ＣＯ－を表す。
　Ｇは、炭素原子または窒素原子を表す。
　ｎ１は、Ｇが炭素原子の場合２を表し、Ｇが窒素原子の場合１を表す。
　Ｒ６は、フッ素原子を含むアルキル基またはフッ素原子を含むアリール基を表す。ｎ１が２の場合、２つのＲ６はそれぞれ同一でも異なっていても良い。
　Ｒ６が表すフッ素原子を含むアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
　Ｒ６が表すフッ素原子を含むアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　トリアリールメタン単量体の場合、トリアリールメタン化合物の分子量は、３００～１，０００が好ましく、５００～１，０００がより好ましい。
　以下に、トリアリールメタン単量体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
＜＜トリアリールメタン多量体＞＞
　トリアリールメタン化合物が多量体（トリアリールメタン多量体ともいう）である場合、トリアリールメタン構造を２つ以上含み、好ましくはトリアリールメタン構造を３つ以上有する化合物である。トリアリールメタン多量体は、後述する一般式（Ａ）及び一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位の少なくとも一つを含んでなるか、対アニオンが、対アニオンを有する繰り返し単位を含んでなるか、又は後述する一般式（Ｄ）で表されることが好ましい。
　トリアリールメタン多量体は、下記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
一般式（Ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　
（一般式（Ａ）中、Ｘ１は、繰り返し単位の主鎖を表す。Ｌ１は単結合または２価の連結基を表す。Ｄｙｅは、トリアリールメタン構造を表す。）
　一般式（Ａ）中、Ｘ１は繰り返し単位の主鎖を表す。２つの＊で表された部位が繰り返し単位となる。Ｘ１は、－ＣＨ２－ＣＨ２－または－ＣＨ２－Ｃ（ＣＨ３）－であることが好ましい。
　Ｌ１が２価の連結基を表す場合、炭素数１～３０のアルキレン基（メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など）、炭素数６～３０のアリーレン基（フェニレン基、ナフタレン基等）、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２以上組み合わせた連結基、下式（Ｌ－１）で表される基が挙げられる。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式中、＊１で示された部位で式（Ａ）のＸ１と連結し、＊２で示された部位で、式（Ａ）のＤｙｅと連結する。
　Ｌ１１は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数６～１８のアリーレン基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－ＮＲＡＲＢ－またはこれらの組み合わせからなる基等が挙げられる。アルキレン基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれであってもよい。アリーレン基は、単環であっても多環であってもよい。－ＮＲＡＲＢ－において、ＲＡおよびＲＢは、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、ＲＡおよびＲＢが互いに結合して環を形成していてもよい。
　Ｌ１２は、－ＳＯ２－または－ＣＯ－を表す。
　Ｌ１３は、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、Ｌ１１で説明した基が挙げられ、炭素数６～１８のアリーレン基（好ましくはフェニレン基）、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＡＲＢ－またはこれらの組み合わせからなる基が好ましく、フェニレン基と－Ｏ－と－ＣＯ－との組み合わせからなる基がより好ましい。
　Ｇは、炭素原子または窒素原子を表す。
　ｎ２は、Ｇが炭素原子の場合１を表し、Ｇが窒素原子の場合０を表す。
　Ｒ７Ａは、フッ素原子を含むアルキレン基またはフッ素原子を含むアリーレン基を表す。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましい。アリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　Ｒ７Ｂは、フッ素原子を含むアルキル基またはフッ素原子を含むアリール基を表す。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましい。アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　Ｌ１は、単結合、または、炭素数１～３０のアルキレン基（好ましくは、炭素数１～１０のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数５～２０のアルキレン基であり、さらに好ましくは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは１～１０の整数））、炭素数６～１２のアリーレン基（好ましくはフェニレン基、ナフチレン基）、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－Ｏ－および－ＳＯ２－を２以上組み合わせた２価の連結基が好ましい。また、上記（Ｌ－１）で表される基も好ましい。特に、Ｌ１は、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは５～１０の整数）または炭素数６～１２のアリーレン基（好ましくはフェニレン基、ナフチレン基）が好ましく、－ＣＯＯ－またはフェニレン基を含む連結基であることがより好ましい。
　Ｌ１が単結合を表す場合、Ｘ１は、一般式（ＴＰ１）および（ＴＰ２）中のＲｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２のいずれかと結合していることが好ましく、Ｒｔｐ７１またはＲｔｐ７２と結合していることがより好ましい。
　Ｌ１が２価の連結基を表す場合、Ｌ１は、一般式（ＴＰ１）および（ＴＰ２）中のＲｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２のいずれかと結合していることが好ましく、Ｒｔｐ７１またはＲｔｐ７２と結合していることがより好ましい。
　以下に、Ｘ１およびＬ１の組み合わせの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　特に、（ＸＸ－１）、（ＸＸ－２）、（ＸＸ－２５）および（ＸＸ－２６）で表される（メタ）アクリル系連結鎖、（ＸＸ－１０）～（ＸＸ－１７）、（ＸＸ－２７）および（ＸＸ－２８）で表されるスチレン系連結鎖、および（ＸＸ－２４）で表されるビニル系連結鎖から選択されることがより好ましく、スチレン系連結鎖がより好ましい。
　（ＸＸ－１）～（ＸＸ－２４）中、＊で示された部位で上記トリアリールメタン構造と連結していることを表す。Ｍｅは、メチル基を表す。また、（ＸＸ－１８）および（ＸＸ－１９）中のＲは、水素原子、炭素数１～５のアルキル基またはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　また、Ｘ１およびＬ１の組み合わせの具体例としては以下も好ましい。下記具体例中、ｎは、１～９の整数を表す。また、＊で示された部位でトリアリールメタン構造と連結していることを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000014
　Ｄｙｅは、トリアリールメタン構造を表し、一般式（ＴＰ１）で表されるカチオンまたは一般式（ＴＰ２）で表されるカチオンが好ましく、一般式（ＴＰ１）で表されるカチオンがより好ましい。Ｄｙｅは、上述の一般式（ＴＰ１）または（ＴＰ２）において、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ１１、Ｒｔｐ７１及びＲｔｐ７２の少なくとも１つを介して、Ｌ１と結合していることが好ましく、Ｒｔｐ７を介して、Ｌ１と結合していることがより好ましく、Ｒｔｐ７１またはＲｔｐ７２を介してＬ１と結合していることがさらに好ましい。
　トリアリールメタン構造を含む繰り返し単位の具体例として以下の構造を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　トリアリールメタン多量体は、トリアリールメタンを有する繰り返し単位のみからなっていても良いが、他の繰り返し単位を含んでいても良い。具体的には、トリアリールメタン多量体が含んでいても良い他の繰り返し単位としては、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位、重合性基を含む繰り返し単位等が例示され、トリアリールメタン多量体は、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を少なくとも含むことが好ましい。トリアリールメタン多量体は、これらの繰り返し単位を、それぞれ、１種類のみ含んでいても良いし、２種類以上含んでいても良い。以下、これらの繰り返し単位について詳細に説明する。
＜＜＜重合性基を含む繰り返し単位＞＞＞
　重合性基を含む繰り返し単位に含まれる重合性基としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性基を用いることができ、例えば、エチレン性不飽和結合を含む基、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタン基）、メチロール基等が挙げられるが、特にエチレン性不飽和結合を含む基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がさらに好ましく、（メタ）アクリル酸グリシジルおよび３，４－エポキシーシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート由来の（メタ）アクリロイル基がさらに好ましい。
　重合性基の導入方法としては、（１）繰り返し単位を重合性基含有化合物で変性して導入する方法、（２）繰り返し単位と重合性基含有化合物とを共重合して導入する方法等がある。これらの詳細は、特開２０１３－２２５１１２号公報の段落０３３４～０３４２の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　トリアリールメタン多量体が重合性基を含む繰り返し単位を含む場合、その重合性基量は、色素構造１ｇに対し０．１～２．０ｍｍｏｌであることが好ましく、０．２～１．５ｍｍｏｌであることがさらに好ましく、０．３～１．０ｍｍｏｌであることが特に好ましい。
　また、トリアリールメタン多量体が重合性基を含む繰り返し単位を含む場合、その量は、全繰り返し単位に対し、例えば、５～４０モル％が好ましく、５～３５モル％がより好ましい。
　上記重合性基を含む繰り返し単位としては、以下のような具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
＜＜＜酸基を含む繰り返し単位＞＞＞
　酸基を含む繰り返し単位の酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基が例示され、カルボン酸基、スルホン酸基が好ましく、カルボン酸基がより好ましい。酸基を含む繰り返し単位に含まれる酸基は１種類のみであっても良いし、２種類以上であっても良い。
　トリアリールメタン多量体が、酸基を含む繰り返し単位を含有する場合、酸基を有する繰り返し単位を含有する繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位に対し、１～８０モル％が好ましく、１０～６５％モルがより好ましい。
＜＜＜他のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位＞＞＞
　上記酸基以外のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位としては、フェノール性水酸基等を含む繰り返し単位が例示される。
　トリアリールメタン多量体は、２～２０個の無置換のアルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基を側鎖に有する繰り返し単位（以下、「（ｂ）繰り返し単位」ということがある）を含んでいることも好ましい。
　（ｂ）繰り返し単位が有するアルキレンオキシ鎖の繰り返しの数は、２～１０個が好ましく、２～１５個がより好ましく、２～１０個がさらに好ましい。
　１つのアルキレンオキシ鎖は、－（ＣＨ２）ｎＯ－で表され、ｎは整数であるが、ｎは１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、２または３がさらに好ましい。
　２～２０個の無置換のアルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基は、アルキレンオキシ鎖が１種類のみが含まれていても良いし、２種類以上含まれていても良い。
　（ｂ）繰り返し単位は、下記一般式で表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
（式中、Ｘ１は重合によって形成される連結基を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表す。Ｐはアルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基を含む基を表す。）
　一般式（Ｐ）におけるＸ１およびＬ１はそれぞれ、一般式（Ａ）におけるＸ１およびＬ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｐは、アルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基を含む基を表し、－アルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基－末端原子または末端基からなることがより好ましい。
　末端原子または末端基としては、水素原子、アルキル基、アリール基、水酸基が好ましく、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基、水酸基がより好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基および水酸基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。
　色素多量体へのアルカリ可溶性基の導入方法としては、特開２０１３－２２５１１２号公報の段落０３５１の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　トリアリールメタン多量体が他のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を含む場合、全繰り返し単位に対し、例えば、１～８０モル％が好ましく、１０～６５モル％がより好ましい。
　また、酸基または他のアルカリ可溶性基を含む、全アルカリ可溶性基を含む繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位に対し、例えば、１～８０モル％が好ましく、１０～６５モル％がより好ましい。
　色素が有するアルカリ可溶性基量は、色素１ｇに対し０．３ｍｍｏｌ～２．０ｍｍｏｌであることが好ましく、０．４ｍｍｏｌ～１．５ｍｍｏｌであることがさらに好ましく、０．５ｍｍｏｌ～１．０ｍｍｏｌであることが特に好ましい。
＜＜＜他の繰り返し単位＞＞＞
　トリアリールメタン多量体は、上述した繰り返し単位以外の繰り返し単位を有していても良い。具体的には、ラクトン、酸無水物、アミド、－ＣＯＣＨ2ＣＯ－、シアノ基等の現像促進基、長鎖および環状のアルキル基、アラルキル基、アリール基、ポリアルキレンオキシド基、ヒドロキシル基、マレイミド基、アミノ基等の親疏水性調整基等から選択される少なくとも１種を含む繰り返し単位が例示される。
　これらは、１種類のみ含まれていても良いし、２種類以上含まれていても良い。
　導入方法として、色素構造にあらかじめ導入しておく方法、および上記の基を有するモノマーを共重合する方法が挙げられる。
　トリアリールメタン多量体が、他の繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位の４０～８０モル％が好ましい。
　上述した酸基を含む繰り返し単位等、または、他の繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　トリアリールメタン多量体は、下式一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　一般式（Ｃ）中、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表す。ＤｙｅＩＩＩは、トリアリールメタン構造を表す。ｍは０または１を表す。
　一般式（Ｃ）中、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表す。Ｌ３で表される２価の連結基としては、炭素数１～３０のアルキレン基、炭素数６～３０のアリーレン基、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯ２－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－Ｏ２Ｃ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２個以上連結して形成される連結基が好適に挙げられる。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
　ｍは０または１を表すが、１であることが好ましい。
　アルキル基およびアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましい。上限は、２５以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。下限は、２以上がより好ましく、３以上が更に好ましい。アルキル基およびアルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アリール基およびアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　ヘテロ環連結基およびヘテロ環基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロ環連結基およびヘテロ環基が有するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロ環連結基およびヘテロ環基が有するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を有する色素多量体は、上述した他の繰り返し単位を含んでいてもよい。また、上述した一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を更に含んでいてもよい。
　一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を有する色素多量体は、逐次重合により合成できる。逐次重合とは、重付加（例えば、ジイソシアナート化合物とジオールとの反応、ジエポキシ化合物とジカルボン酸との反応、テトラカルボン酸二無水物とジオールとの反応等）および重縮合（例えば、ジカルボン酸とジオールとの反応、ジカルボン酸とジアミンとの反応等）が挙げられる。このうち、特に重付加反応により合成することが反応条件を穏和化でき、色素骨格を分解させないため好ましい。逐次重合には、公知の反応条件を適用することができる。
　トリアリールメタン多量体は、一般式（Ｄ）で表されることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　一般式（Ｄ）中、Ｌ４は（ｎ＋ｋ）価の連結基を表す。ｎは２～２０の整数を表し、ｋは０～２０の整数を表す。ＤｙｅＩＶは、トリアリールメタン構造を表し、Ｐは、置換基を表す。ｎが２以上の場合、複数のＤｙｅＩＶは互いに異なっていても良く、ｋが２以上の場合、複数のＰは互いに異なっていても良い。ｎ＋ｋは、２～２０の整数を表す。
　一般式（Ｄ）中、ｎは２～１５が好ましく、２～１４がより好ましく、２～８がさらにより好ましく、２～７が特に好ましく、２～６が一層好ましい。
　ｎとｋとの合計は、２～２０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～１４が更に好ましく、２～８がさらにより好ましく、２～７が特に好ましく、２～６が一層好ましい。
　なお、１つの多量体における、ｎおよびｋは、それぞれ整数であるが、本発明においては、一般式（Ｄ）におけるｎ、ｋが異なる多量体を複数含んでいてもよい。従って、本発明の組成物中の、ｎおよびｋの平均値は整数にならない場合がある。
　（ｎ＋ｋ）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれる。
　（ｎ＋ｋ）価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　（ｎ＋ｋ）価の連結基の具体的な例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。また、特開２００８－２２２９５０号公報の段落番号００７１～００７２に記載された連結基、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０１７６に記載された連結基も挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　一般式（Ｄ）中、Ｐは、置換基を表す。置換基としては、酸基、硬化性基等が挙げられる。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を含む基等のラジカル重合性基、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタニル基）、オキサゾリン基、メチロール基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を含む基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等などが挙げられる。酸基としては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。
　また、Ｐが表す置換基は、繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖であってもよい。繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖は、ビニル化合物由来の繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖が好ましい。ｋが２以上の場合、ｋ個のＰは、同一であっても、異なっていてもよい。
　Ｐが繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖であり、かつ、ｋが１の場合、Ｐはビニル化合物由来の繰り返し単位を２～２０個（好ましくは、２～１５個、更に好ましくは２～１０個）有する１価のポリマー鎖が好ましい。また、Ｐが繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖であり、かつ、ｋが２以上の場合、ｋ個のＰのビニル化合物由来の繰り返し単位の個数の平均値は、２～２０個（好ましくは、２～１５個、更に好ましくは２～１０個）であることが好ましい。
　Ｐが繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖の場合、ｋが１の場合におけるＰの繰り返し単位の数、ｋが２以上の場合におけるｋ個のＰの繰り返し単位の個数の平均値は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）により求めることができる。
　Ｐが繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖の場合、Ｐを構成する繰り返し単位としては、上述した他の繰り返し単位が挙げられる。他の繰り返し単位は、上述した酸基を有する繰り返し単位および硬化性基を有する繰り返し単位から選ばれる１種以上を有することが好ましい。酸基を有する繰り返し単位を含む場合は、現像性を向上できる。硬化性基を有する繰り返し単位を含む場合は、他色との混色や現像後の分光変動をより抑制できる。
　Ｐが、酸基を含む繰り返し単位を含む場合、酸基を含む繰り返し単位の割合は、Ｐの全繰り返し単位に対して、１０～８０モル％が好ましく、１０～６５モル％がより好ましい。
　Ｐが、硬化性基を有する繰り返し単位を含む場合、硬化性基を有する繰り返し単位の割合は、Ｐの全繰り返し単位に対して、１０～８０モル％が好ましく、１０～６５モル％がより好ましい。
　一般式（Ｄ）中、ＤｙｅＩＶは、トリアリールメタン構造を表す。
　一般式（Ｄ）において、ＤｙｅＩＶが表すトリアリールメタン構造は、トリアリールメタン単量体が有する任意の水素原子を１個以上取り除いた構造であって、トリアリールメタン単量体の一部がＬ４に結合してなるものであってもよい。また、主鎖または側鎖にトリアリールメタン構造を有する繰り返し単位を含むポリマー鎖であってもよい。上記ポリマー鎖は、トリアリールメタン構造を含んでいれば特に定めるものではないが、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、および、（メタ）アクリル／スチレン系樹脂から選ばれる１種であるであることが好ましい。ポリマー鎖の繰り返し単位としては、特に定めるものではないが、上述した一般式（Ａ）で表される繰り返し単位、上述した一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位などが挙げられる。また、ポリマー鎖を構成する全繰り返し単位中における、トリアリールメタン構造を有する繰り返し単位の合計は、５～６０モル％であることが好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、２０～４０モル％がさらに好ましい。
　上記ポリマー鎖は、トリアリールメタン構造を有する繰り返し単位の他に、上述した他の繰り返し単位などを含んでいてもよい。他の繰り返し単位として、酸基を有する繰り返し単位および硬化性基を有する繰り返し単位から選ばれる１種以上を有することが好ましい。
　上記ポリマー鎖が硬化性基を有する繰り返し単位を含む場合、硬化性基を有する繰り返し単位の割合は、ポリマー鎖の全繰り返し単位１００モルに対し、例えば、５～５０モルが好ましく、１０～４０モルがより好ましい。
　上記ポリマー鎖が酸基を有する繰り返し単位を含む場合、酸基を有する繰り返し単位の割合は、ポリマー鎖の全繰り返し単位１００モルに対し、例えば、５～５０モルが好ましく、１０～４０モルがより好ましい。
　上記一般式（Ｄ）で表される多量体は、下記方法などにより合成することができる。
　（１）カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基等から選択される官能基を末端に導入した化合物と、トリアリールメタン構造を有する酸ハライド、トリアリールメタン構造を有するアルキルハライド、あるいはトリアリールメタン構造を有するイソシアネート等と、を高分子反応させる方法。
　（２）末端に炭素－炭素二重結合を導入した化合物と、トリアリールメタン構造を有するチオール化合物と、をマイケル付加反応させる方法。
　（３）末端に炭素－炭素二重結合を導入した化合物と、トリアリールメタン構造を有するチオール化合物と、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
　（４）末端に複数のチオール基を導入した多官能チオール化合物と、炭素－炭素二重結合およびトリアリールメタン構造とを有する化合物と、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
　（５）トリアリールメタン構造を有するチオール化合物の存在下で、ビニル化合物をラジカル重合する方法。
　トリアリールメタン化合物が多量体である場合、重量平均分子量は、１，０００～１００，０００が好ましく、５，０００～５０，０００がより好ましい。
　トリアリールメタン化合物は、１種単独でまたは２種以上を組み合わせて含有することができる。
＜＜対アニオン＞＞
　トリアリールメタン化合物がカチオンの形態をとる場合、対アニオンを含む。対アニオンとしては、特に定めるものではなく、公知の対アニオンを採用できる。対アニオンは、トリアリールメタン化合物が有するカチオンの数に応じて定められる。
　対アニオンは、トリアリールメタン化合物と同一分子内にあってもよいし、同一分子外にあってもよい。対アニオンが同一分子内にあるとは、カチオンと対アニオンが共有結合を介して結合している場合をいう。
　対アニオンは、トリアリールメタン化合物のカチオン部と対となるアニオン部のみからなっていてもよいし、アニオン部に加え、他の部位を有していても良い。対アニオンは多量体（以下、アニオン多量体ともいう）であってもよい。トリアリールメタン化合物が多量体の場合、対アニオンも、対アニオンを有する繰り返し単位として、トリアリールメタン化合物多量体に含まれていてもよい。
　以下、本発明で用いられる対アニオンの例について説明する。
　対アニオンのみからなる場合としては、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、シアン化物イオン、過塩素酸アニオン、ボレートアニオン（ＢＦ４－等）、ＰＦ６－およびＳｂＦ６－等が挙げられる。
　ボレートアニオンとしては、Ｂ（Ｒ１０）４－で表される基であり、Ｒ１０は、フッ素原子、シアノ基、フッ化アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基等が例示される。
　対アニオンは、また、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、下記一般式（Ａ１）で表される構造および下記一般式（Ａ２）で表される構造から選択される少なくとも１種を含んでいてもよい。
一般式（Ａ１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
（一般式（Ａ１）中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して－ＳＯ２－または－ＣＯ－を表す。）
　一般式（Ａ１）中、Ｒ１およびＲ２の少なくとも１つが－ＳＯ２－を表すことが好ましく、Ｒ１およびＲ２の両方が－ＳＯ２－を表すことがより好ましい。
　上記一般式（Ａ１）は、下記一般式（Ａ１－１）で表されることがより好ましい。
一般式（Ａ１－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
（一般式（Ａ１－１）中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して－ＳＯ２－または－ＣＯ－を表す。Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立してアルキレン基またはアリーレン基を表す。）
　一般式（Ａ１－１）中、Ｒ１およびＲ２は、一般式（Ａ１）中のＲ１およびＲ２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｘ１がアルキレン基を表す場合、アルキレン基の炭素数は、１～８が好ましく、１～６がより好ましい。Ｘ１がアリーレン基を表す場合、アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。Ｘ１が置換基を有する場合、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
　Ｘ２は、アルキレン基またはアリーレン基を表し、アルキレン基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～８が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｘ２が置換基を有する場合、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
一般式（Ａ２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
（一般式（Ａ２）中、Ｒ３は、－ＳＯ２－または－ＣＯ－を表す。Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して－ＳＯ２－、－ＣＯ－または－ＣＮを表す。）
　一般式（Ａ２）中、Ｒ３～Ｒ５の少なくとも１つが－ＳＯ２－を表すことが好ましく、Ｒ３～Ｒ５の少なくとも２つが－ＳＯ２－を表すことがより好ましい。
　対アニオンの具体例としては、Ｒ－ＳＯ３ －、Ｒ－ＣＯＯ－またはＲ－ＰＯ４ －であって、Ｒが、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基である場合も例示される。
　上記一般式（Ａ１）で表される基を含む対アニオンの具体例としては、Ｒ１がハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基と結合している場合が例示される。
　上記一般式（Ａ２）で表される基を含む対アニオンの具体例としては、Ｒ４およびＲ５が、それぞれ、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基である場合が例示される。
　その他の対アニオンの具体例としては、以下が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　対アニオンは、ラジカル重合性基を含んでいてもよい。
　対アニオンが含んでいてもよいラジカル重合性基としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性基が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル基、スチレン基、ビニル基、環状エーテル基およびメチロール基が挙げられ、（メタ）アクリル基、スチレン基、ビニル基および環状エーテル基から選択される少なくとも１種が好ましく、（メタ）アクリル基、スチレン基およびビニル基から選択される１種がより好ましく、（メタ）アクリル基またはスチレン基がさらに好ましい。
　対アニオンが含んでいてもよいラジカル重合性基の数は、１～３が好ましく、１がより好ましい。
　また、ラジカル重合性基と、上述した－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、一般式（Ａ１）で表される構造および一般式（Ａ２）で表される構造との間は、直接結合していてもよいし、連結基を介して結合していてもよいが、連結基を介して結合していることが好ましい。
　ラジカル重合性基を含む対アニオンは、例えば、下記一般式（ｂ）で表されることが好ましい。
一般式（ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
（一般式（Ｂ）中、Ｐはラジカル重合性基を表す。Ｌは単結合または２価の連結基を表す。ａｎｉｏｎは、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、上記一般式（Ａ１）で表される構造および上記一般式（Ａ２）で表される構造を表す。）
　一般式（ｂ）中、Ｐはラジカル重合性基を表し、上述したラジカル重合性基が挙げられる。
　一般式（ｂ）中、Ｌが２価の連結基を表す場合、炭素数１～３０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基等）、炭素数６～３０のアリーレン基、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２以上組み合わせた連結基が好ましい。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
　特に、連結基は、炭素数１～１０のアルキレン基（好ましくは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは１～１０の整数））、炭素数６～１２のアリーレン基（好ましくはフェニレン基、ナフチレン基）、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－Ｏ－および－ＳＯ２－を２以上組み合わせた連結基が好ましい。
　ラジカル重合性基を含む対アニオンの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　ラジカル重合性基を含む対アニオンの分子量は、３００～１，０００が好ましく、５００～１，０００がより好ましい。
　対アニオンが多量体である場合、対アニオンは、オリゴマーを含む趣旨であり、好ましくは、アニオン部を含む繰り返し単位を含む多量体である。対アニオンが多量体である場合の実施形態としては、トリアリールメタン構造を含む繰り返し単位と対アニオンを有する繰り返し単位を含む多量体である態様、および／または、トリアリールメタン化合物とは別に、対アニオンを有する繰り返し単位を含む多量体である態様が挙げられる。なお、対アニオンが多量体である場合のトリアリールメタン化合物は、トリアリールメタン多量体に該当する。
　多量体構造を含む対アニオンは、下記一般式（ｃ）および／または下記一般式（ｄ）で表される構造を有することが好ましい。
一般式（ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
（一般式（ｃ）中、Ｘ１は、繰り返し単位の主鎖を表す。Ｌ１は単結合または２価の連結基を表す。ａｎｉｏｎは、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、上記一般式（Ａ１）で表される構造および上記一般式（Ａ２）で表される構造を表す。）
　一般式（ｃ）中、Ｘ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、通常、重合反応で形成される連結基を表し、例えば、（メタ）アクリル系、スチレン系、ビニル系等が好ましい。なお、２つの＊で表された部位が繰り返し単位となる。
　Ｌ１が２価の連結基を表す場合、炭素数１～３０のアルキレン基（メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など）、炭素数６～３０のアリーレン基（フェニレン基、ナフチレン基等）、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２以上組み合わせた連結基が好ましい。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
　特に、Ｌ１は、単結合、または、炭素数１～１０のアルキレン基（好ましくは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは１～１０の整数））、炭素数６～１２のアリーレン基（好ましくはフェニレン基、ナフチレン基）、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－Ｏ－および－ＳＯ２－を２以上組み合わせた２価の連結基が好ましい。
　Ｘ１およびＬ１の組み合わせの具体例としては、上述した（ＸＸ－１）～（ＸＸ－２４）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、アニオン多量体は、（ＸＸ－１）～（ＸＸ－２４）中の＊で示された部位で上記ａｎｉｏｎと連結している。
一般式（ｄ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
（一般式（ｄ）中、Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立して単結合または２価の連結基を表す。ａｎｉｏｎは、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、上記一般式（Ａ１）で表される構造および上記一般式（Ａ２）で表される構造を表す。）
　一般式（ｄ）中、Ｌ２およびＬ３が２価の連結基を表す場合、炭素数１～３０のアルキレン基、炭素数６～３０のアリーレン基、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－Ｏ２Ｃ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２以上組み合わせた連結基が好ましい。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
　Ｌ２は、炭素数６～１２のアリーレン基（特にフェニレン基）が好ましい。炭素数６～３０のアリーレン基は、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
　Ｌ３は、炭素数６～１２のアリーレン基（特にフェニレン基）と－Ｏ－との組み合わせからなる基が好ましく、少なくとも１種の炭素数６～１２のアリーレン基がフッ素原子で置換されていることが好ましい。
　アニオン多量体の分子量としては、重量平均分子量が３，０００～３０，０００かつ、分子量分布がＭｗ／Ｍｎで０．８～３．０であることが好ましく、より好ましくは重量平均分子量が５，０００～２０，０００かつ、分子量分布がＭｗ／Ｍｎで１～２．５である。
　アニオン多量体を形成する場合、連鎖移動剤を添加してもよい。連鎖移動剤としては、アルキルメルカプタンが好ましく、炭素数１０以下のアルキルメルカプタンまたはエーテル基・エステル基で置換されたアルキルメルカプタンがより好ましい。特に、ｌｏｇＰ値が５以下のアルキルメルカプタンがより好ましい。
　アニオン多量体に含まれるアニオン多量体の原料であるラジカル重合性基を有するアニオンモノマー化合物の量は、５％以下が好ましく、より好ましくは、１％以下である。
　アニオン多量体に含まれるハロゲンイオン含有量としては、１０～３０００ｐｐｍ以下が好ましく、１０～２０００ｐｐｍがより好ましく、１０～１０００ｐｐｍがさらに好ましい。
　アニオン多量体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000042

　以下の具体例は、対アニオンが解離していない状態を示しているが、対アニオンが解離している状態も本発明の範囲内であることは言うまでもない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
　対アニオンが多量体である場合、対アニオンを有する繰り返し単位に加え、他の繰り返し単位を含んでいても良い。他の繰り返し単位としては、上述した、トリアリールメタン化合物が多量体の場合に含まれていても良い、他の繰り返し単位が例示され、好ましい範囲も同義である。
＜（Ｂ）極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素＞
　極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素（以下、色素（Ｂ）ともいう）は、最大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する。また、色素（Ｂ）は、波長４５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有さないことが好ましい。
　色素（Ｂ）の構造は、特に制限なく公知のものが使用できるが、フタロシアニン化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、ナフトキノン化合物及びアゾ化合物が好ましく、フタロシアニン化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物及びアゾ化合物がより好ましく、フタロシアニン化合物、シアニン化合物及びスクアリリウム化合物がさらに好ましく、フタロシアニン化合物及びはスクアリリウム化合物が特に好ましく、フタロシアニン色素が一層好ましい。
　特にイオン性を有する化合物（フタロシアニン化合物等）を添加した場合、現像不良や硬化不良によるパターン欠損をより抑制できる。この理由は推定であるが、イオン性を有するトリアリールメタン化合物と、イオン性を有する化合物が相互作用することにより、同一分子での凝集がより抑制でき、パターン欠損を抑制できると推定される。
　トリアリールメタン化合物に対する、色素（Ｂ）の質量比（極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の質量／トリアリールメタン化合物の質量）は、０．２～１．５であり、０．３～１．４であることがより好ましく、０．４～１．２であることがさらに好ましく、０．５～０．８であることが特に好ましい。色素（Ｂ）を２種類以上配合する場合は、上記の合計量が上記範囲となる。このような構成とすることにより、パターン欠損をより抑制することができる。
　また、トリアリールメタン化合物と極大吸収波長が６５０～７５０ｎｍである化合物の極大吸収波長の差は、５０～２００ｎｍが好ましく、７０～１８０ｎｍがより好ましく、１００～１５０ｎｍがさらに好ましい。
＜＜フタロシアニン化合物＞＞
　フタロシアニン化合物としては下記一般式（ＰＣ）で表わされる化合物が好ましい。
　一般式（ＰＣ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
　一般式（ＰＣ）中、Ｍは金属類を表す。Ｒ１～Ｒ１６は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基及びヘテロ環チオ基を表す。ただし、Ｒ１～Ｒ１６のうち、少なくとも一つがアルキルアルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基及びヘテロ環チオ基である。
　Ｍで表される金属類としては、例えば、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、及びＦｅ等の金属原子、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ２、ＳｎＣｌ２、ＳｉＣｌ２、ＧｅＣｌ２などの金属塩化物、ＴｉＯ、ＶＯ等の金属酸化物、並びにＳｉ（ＯＨ）２等の金属水酸化物が含まれるが、特にＣｕ、ＶＯ、Ｚｎが好ましく、Ｃｕがより好ましい。
　Ｒ１～Ｒ１６がハロゲン原子を表す場合、ハロゲン原子は、塩素原子、フッ素原子が好ましい。
　Ｒ１～Ｒ１６がアルコキシ基を表す場合、アルコキシ基の炭素数は、１～１８が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。アルコキシ基のアルキル鎖の部分は、直鎖または分岐鎖が好ましい。アルコキシ基は置換基を有していても良く、置換基は、エチレン性不飽和結合性基が好ましく、ビニル基がより好ましい。
　Ｒ１～Ｒ１６がアリールアルコキシ基を表す場合、アリールアルコキシ基の炭素数は、７～１８が好ましく、７～１２がより好ましい。
　Ｒ１～Ｒ１６がヘテロ環アルコキシ基を表す場合、ヘテロ環は、単環であっても多環であってもよく、また、芳香族であっても非芳香族であってもよい。ヘテロ環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロ原子は窒素原子が好ましい。
　Ｒ１～Ｒ１６がアルキルチオ基を表す場合、アルキルチオ基の炭素数は、１～１８が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。
　Ｒ１～Ｒ１６がアリールチオ基を表す場合、アリールチオ基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。
　Ｒ１～Ｒ１６がヘテロ環チオ基を表す場合、ヘテロ環は上記ヘテロ環アルコキシ基で説明したヘテロ環と同義である。
　Ｒ１～Ｒ１６は、Ｒ１～Ｒ４の１つまたは２つ、Ｒ５～Ｒ８の１つまたは２つ、Ｒ９～Ｒ１２の１つまたは２つ、Ｒ１３～Ｒ１６の一つまたは２つがそれぞれ独立してアルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基及びヘテロ環チオ基であり、残りが水素原子またはハロゲン原子であることが好ましい。Ｒ４、Ｒ８、Ｒ１２及びＲ１６がアルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環チオ基であり、残りが水素原子またはハロゲン原子であることが好ましい。特に、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ１２及びＲ１６がアルコキシ基であり、残りが水素原子であることが好ましい。
　また、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ１１及びＲ１５がアルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環チオ基であり、残りが水素原子またはハロゲン原子であることも好ましい。
　また、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１６がアルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環チオ基であり、残りが水素原子またはハロゲン原子であることも好ましい。
　また、Ｒ１、Ｒ５、Ｒ９、及びＲ１３がアルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環チオ基であり、残りが水素原子またはハロゲン原子であることも好ましい。
　また、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ１０、及びＲ１４がアルコキシ基、アリールアルコキシ基、ヘテロ環アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環チオ基であり、残りが水素原子またはハロゲン原子であることも好ましい。
　本発明で用いられるフタロシアニン化合物の例を下記に示すが本発明はこれらに限定されるものでは無いことは言うまでもない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
＜＜シアニン化合物＞＞
　シアニン化合物としては下記一般式（ＰＭ）で表わされる化合物が好ましい。
一般式（ＰＭ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
　一般式（ＰＭ）中、環Ｚ１及び環Ｚ２は、それぞれ独立して置換基を有していても良い複素環を表す。ｌは０以上３以下の整数を表す。Ｘ－は対アニオンを表す。
　環Ｚ１及び環Ｚ２は、それぞれ独立に、置換基を有する含窒素複素環が好ましく、置換基を有する含窒素縮合複合環がより好ましく、置換基を有するインドール環がより好ましい。
　環Ｚ１及び環Ｚ２は、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、オキサゾリン、チアゾール、チアゾリン、ベンゾチアゾール、インドレニン、ベンゾインドレニン、１，３－チアジアジン等が挙げられ、ベンゾインドレニンが好ましい。環Ｚ１及び環Ｚ２が有していてもよい置換基は、上記置換基群Ａで挙げた置換基と同様であり、炭素数１～６のアルキル基または炭素数２～６のアルケニル基が好ましく、炭素数１～３のアルキル基または炭素数２～４のアルケニル基がより好ましい。
　ｌは０以上３以下の整数を表し、１または２が好ましく、１がより好ましい。
　Ｘ－は上記トリアリールメタン化合物で挙げた対アニオンが挙げられ、好ましい範囲も同様である。Ｘ－は、シアニン化合物の色素骨格と連結していても良く、又は色素多量体の一部（高分子鎖等）と連結しても良い。
　一般式（ＰＭ）は、下記一般式（ＰＭ－２）で表されることが好ましい。
一般式（ＰＭ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　式中、環Ｚ５及び環Ｚ６は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン環又は置換基を有していてもよいナフタレン環を表し、無置換のベンゼン環がより好ましい。
　Ｙ－は、対アニオンを表す。対アニオンは上述した、アニオンから好ましく選択される。
　ｎは、０以上３以下の整数を表し、一般式（ＰＭ－１）中のｌと好ましい範囲が同様である。
　Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、炭素原子又は窒素原子を表す。炭素原子、窒素原子または硫黄原子が好ましく、炭素原子がより好ましい。
　Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１価の炭素数１～２０の脂肪族炭化水素基を表し、炭素数１～６のアルキル基または炭素数２～６のアルケニル基が好ましく、炭素数１～３のアルキル基または炭素数２～４のアルケニル基がより好ましい。
　Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に１価の炭素数１～６の脂肪族炭化水素基を表すか、１個のＲ３と１個のＲ４とが一緒になって形成された２価の炭素数２～６の脂肪族炭化水素基を表し、１価の炭素数１～６の脂肪族炭化水素基が好ましい。炭素数１～６の脂肪族炭化水素基は、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、炭素数１～３のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０以上２以下の整数を表し。１または２が好ましく、２がより好ましい。
　本発明で用いられるシアニン化合物の例を下記に示すが本発明はこれらに限定されるものでは無いことは言うまでもない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
＜＜スクアリリウム化合物＞＞
　スクアリリウム化合物として、一般式（Ｋ）で表わされる化合物が好ましい。
一般式（Ｋ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
　上記一般式（Ｋ）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立に、アリール基又はヘテロ環基を表す。アリール基としては、好ましくは炭素数６～４８、より好ましくは６～２４のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられる。ヘテロ環基としては五員環又は六員環のへテロ環基が好ましく、例えばピロイル、イミダゾイル、ピラゾイル、チエニル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、トリアゾール－１－イル、チエニル、フリル、チアジアゾイル等が挙げられる。
　特に、Ａ及びＢは、置換基を有するアリール基が好ましく、置換基を有するフェニル基がより好ましい。置換基は、水酸基および－ＮＲ１Ｒ２が好ましい。－ＮＲ１Ｒ２におけるＲ１およびＲ２は、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
　本発明で用いられるスクアリリウム化合物の例を下記に示すが本発明はこれらに限定されるものでは無いことは言うまでもない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
＜＜ナフトキノン化合物＞＞
　ナフトキノン化合物としては一般式（ＮＱ）で表わされる化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
一般式（ＮＱ）
　一般式（ＮＱ）中、Ｒａ～Ｒｈはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びアミノ基を表す。ＲａとＲｂ、ＲｅとＲｆ、ＲｄとＲｅ及びＲｆとＲｇは、互いに連結して環を形成しても良い。ＲａとＲｂは、特に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基及びアルコキシ基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子及びアルケニル基がさらに好ましい。ＲｆとＲｅは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールチオ基及びカルバモイル基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アリールチオ基及びカルバモイル基がさらに好ましい。Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｇ、Ｒｈは水素原子、アルキル基及びアリール基が好ましく、Ｒｃ及びＲｈが水素原子で、Ｒｄ及びＲｇは水素原子、アルキル基及びアリール基が好ましい。
　本発明で用いられるナフトキノン化合物の例を下記に示すが本発明はこれらに限定されるものでは無いことは言うまでもない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
＜＜アゾ化合物＞＞
　アゾ化合物としては、特に定めるものでは無いが、下記一般式（Ａｚ）で表される化合物が例示される。
一般式（Ａｚ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
　一般式（Ａｚ）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Ａは、アリール基、又はへテロ環基を表すが、特にアミノ基を有するアリール基が好ましく、アミノ基を有するフェニル基及びナフチル基がさらに好ましい。
　本発明で用いられるアゾ化合物の例を下記に示すが本発明はこれらに限定されるものでは無いことは言うまでもない。また、特開２０１３－２２５１１２号公報の段落番号０１４２～０１８３に記載の化合物うち、所定の範囲に極大吸収波長を有する化合物も好ましく採用できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
　（Ｂ）極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素は、エチレン性不飽和結合性基を有することが好ましい。エチレン性不飽和結合性基を有することにより硬化性が増し、耐久性（耐光性、耐熱性、耐溶剤性、耐現像液性等）をより向上させることができる。エチレン性不飽和結合性基としては、上述のトリアリールメタン化合物におけるエチレン性不飽和結合性基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
＜＜色素（Ｂ）が多量体である場合＞＞
　色素（Ｂ）は、多量体であることも好ましい。色素（Ｂ）が多量体である場合、重量平均分子量としては、２，０００～２０，０００が好ましく、６，０００～１５，０００がより好ましい。
　また、色素（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ）と、数平均分子量（Ｍｎ）との比〔（Ｍｗ）／（Ｍｎ）〕は１．０～３．０であることが好ましく、１．６～２．５であることがさらに好ましく、１．６～２．０であることが特に好ましい。
　色素（Ｂ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、５０℃以上であることが好ましく、１００℃以上であることがより好ましい。また、熱重量分析（ＴＧＡ測定）による５％重量減少温度が、１２０℃以上であることが好ましく、１５０℃以上であることがより好ましく、２００℃以上であることがさらに好ましい。この領域にあることで、本発明の組成物をカラーフィルタ等の作製に適用する際に、加熱プロセスに起因する濃度変化を低減する事ができるようになる。
　色素（Ｂ）が多量体である場合、一般式（Ａ－１）で表される繰り返し単位または一般式（Ｃ－１）で表される繰り返し単位を含む色素多量体や、一般式（Ｄ－１）で表わされる色素多量体が例示され、一般式（Ｄ－１）で表わされる構造がより好ましい。
＜＜＜一般式（Ａ－１）で表される繰り返し単位＞＞＞
一般式（Ａ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
（一般式（Ａ－１）中、Ｘ1は主鎖を形成する基を表し、Ｌ1は単結合または２価の連結基を表す。ＤｙｅＩは色素（Ｂ）の色素構造を表す。）
　以下、一般式（Ａ－１）について詳細に説明する。
　一般式（Ａ－１）中、Ｘ1は主鎖を形成する基を表す。すなわち重合反応で形成される主鎖に相当する繰り返し単位を形成する部分を指す。Ｘ1としては、上述したトリアリールメタン化合物の一般式（Ａ）中のＸ1と同義であり、上記（ＸＸ－１）～（ＸＸ－２４）で表される連結基が好ましく、（ＸＸ－１）および（ＸＸ－２）で表される（メタ）アクリル系連結鎖、（ＸＸ－１０）～（ＸＸ－１７）で表されるスチレン系連結鎖、および（ＸＸ－２４）で表されるビニル系連結鎖から選択されることがより好ましく、（ＸＸ－１）および（ＸＸ－２）で表される（メタ）アクリル系連結鎖および（ＸＸ－１１）で表されるスチレン系連結鎖がより好ましい。
　一般式（Ａ－１）中、Ｌ1は単結合または２価の連結基を表す。Ｌ1が２価の連結基を表す場合、上記２価の連結基としては、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など）、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリーレン基（例えば、フェニレン基、ナフチレン基等）、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯ2－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－Ｏ2Ｃ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－およびこれらを２個以上連結して形成される連結基を表す。Ｌ1は、単結合またはアルキレン基がより好ましく、単結合または－（ＣＨ2）ｎ－（ｎは１～５の整数）がより好ましい。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
　Ｌ１が表わす２価の連結基としては、ＤｙｅＩとイオン結合または配位結合可能な基であってもよい。この場合、アニオン性基またはカチオン性基のどちらでもよい。
　アニオン性基としては、－ＣＯＯ-、－ＰＯ3Ｈ-、－ＳＯ3 -、－ＳＯ3ＮＨ-、－ＳＯ3Ｎ-ＣＯ－等が挙げられ、－ＣＯＯ-、－ＰＯ3Ｈ-、－ＳＯ3 -が好ましい。
　カチオン性基としては、置換または無置換のオニウムカチオン（例えば、アンモニウム、ピリジニウム、イミダゾリウムおよびホスホニウム等）が挙げられ、特にアンモニウムカチオンが好ましい。
　Ｌ１がＤｙｅＩとイオン結合または配位結合可能な基を有する場合、Ｌ１は、ＤｙｅＩが有しているアニオン部（－ＣＯＯ-、－ＳＯ3 -、－Ｏ-等）やカチオン部（上記オニウムカチオンや金属カチオン等）と結合することができる。
　一般式（Ａ－１）中、ＤｙｅＩは上述した色素（Ｂ）の色素構造を表す。
　一般式（Ａ－１）で表される繰り返し単位を有する色素多量体は、例えば、（１）色素構造を有するモノマーを付加重合により合成する方法、（２）イソシアネート基、酸無水物基またはエポキシ基等の高反応性官能基を有するポリマーと、この高反応性官能基と反応可能な官能基（ヒドロキシル基、一級または二級アミノ基、カルボキシル基等）を有する色素とを反応させる方法により合成できる。
　付加重合には公知の付加重合（ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合）が適用できるが、このうち、特にラジカル重合により合成することが反応条件を穏和化でき、色素構造を分解させないため好ましい。ラジカル重合には、公知の反応条件を適用することができる。
　中でも、一般式（Ａ－１）で表される繰り返し単位を有する色素多量体は、耐熱性の観点から、エチレン性不飽和結合性基を有する色素単量体を用いてラジカル重合して得られたラジカル重合体であることが好ましい。
＜＜＜一般式（Ｃ－１）で表される繰り返し単位＞＞＞
　次に、一般式（Ｃ－１）で表される色素多量体について詳細を説明する。
一般式（Ｃ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
（一般式（Ｃ－１）中、Ｌ3は単結合または２価の連結基を表す。ＤｙｅＩＩＩは、色素（Ｂ）の色素構造を表す。ｍは０または１を表す。）
　上記一般式（Ｃ－１）中、Ｌ3は単結合または２価の連結基を表す。Ｌ3で表される２価の連結基としては、炭素数１～３０の置換もしくは無置換の直鎖、分岐もしくは環状アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など）、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリーレン基（例えば、フェニレン基、ナフチレン基等）、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ－（Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。）、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、および、これらを２個以上連結して形成される連結基が好適に挙げられる。
　ｍは０または１を表すが、１であることが好ましい。
　以下に一般式（Ｃ－１）中のＬ3で表される２価の連結基として好適に使用される具体例を記載するが、本発明のＬ3としてはこれらに限定されるものではない。なお、＊で示された部位は、ＤｙｅＩＩＩ等との連結部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
　一般式（Ｃ－１）で表される繰り返し単位を有する色素多量体は、逐次重合により合成される。逐次重合とは、重付加（例えば、ジイソシアナート化合物とジオールとの反応、ジエポキシ化合物とジカルボン酸との反応、テトラカルボン酸二無水物とジオールとの反応等）および重縮合（例えば、ジカルボン酸とジオールとの反応、ジカルボン酸とジアミンとの反応等）が挙げられる。このうち、特に重付加反応により合成することが反応条件を穏和化でき、色素構造を分解させないため好ましい。逐次重合には、公知の反応条件を適用することができる。
＜＜＜他の繰り返し単位＞＞＞
　色素（Ｂ）は、上記一般式（Ａ－１）または一般式（Ｃ－１）を含む多量体である場合、さらに、他の繰り返し単位を含んでいても良い。
　他の繰り返し単位としては、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位、重合性基を含む繰り返し単位等が例示され、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を少なくとも含むことが好ましい。これらの繰り返し単位は、それぞれ、１種類のみ含んでいても良いし、２種類以上含んでいても良い。以下、これらの繰り返し単位の詳細は、上述のトリアリールメタン多量体で述べたものと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　色素（Ｂ）における、酸基または他のアルカリ可溶性基を含む、全アルカリ可溶性基を含む繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位に対し、例えば、１～８０モル％が好ましく、１０～６５モル％がより好ましい。
　また、色素（Ｂ）が有する酸基を含むアルカリ可溶性基量は、色素１ｇに対し０．３ｍｍｏｌ～２．０ｍｍｏｌであることが好ましく、０．４ｍｍｏｌ～１．５ｍｍｏｌであることがさらに好ましく、０．５ｍｍｏｌ～１．０ｍｍｏｌであることが特に好ましい。
　色素（Ｂ）が有する重合性基量は、色素（Ｂ）１ｇに対し０．１～２．０ｍｍｏｌであることが好ましく、０．２～１．５ｍｍｏｌであることがさらに好ましく、０．３～１．０ｍｍｏｌであることが特に好ましい。
　また、色素（Ｂ）が重合性基を有する繰り返し単位を含有する繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位１００モルに対し、例えば、５～５０モルが好ましく、１０～２０モルがより好ましい。
＜＜＜一般式（Ｄ－１）で表される色素多量体＞＞＞
　次に、一般式（Ｄ－１）で表される色素多量体について詳細を説明する。
一般式（Ｄ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
（一般式（Ｄ－１）中、Ｌ4は（ｎ＋ｍ）価の連結基を表す。ｎは２～２０の整数を表す。ｍは０～２０の整数を表す。ＤｙｅＩＶは、色素構造を表す。Ｗは酸基又は酸基を有する基である。）
　一般式（Ｄ－１）中、ｎは好ましくは２～１５であり、より好ましくは３～１５であり、特に好ましくは３～６である。
　ｎが２以上の場合、それぞれのＤｙｅＩＶは、同一でも異なっていてもよい。
　一般式（Ｄ－１）中、ｍは好ましくは１～１５であり、特に好ましくは２～６である。
　Ｗは酸基又は酸基を有する基であり、例えばカルボキシル基、スルホ基、ホスフォノ基、ホスフォノキシ基、カルボキシメチル基、１－カルボキシエチル基、２－カルボキシエチル基、１－カルボキシプロピル基、３－カルボキシプロピル基、４－カルボキシブチル基、５－カルボキシペンチル基、６－カルボキシヘキシル基、１，２－ジカルボキシエチル基、１，３－ジカルボキシプロピル基、２，３－ジカルボキシプロピル基、２－カルボキシフェニル基、３－カルボキシフェニル基、４－カルボキシフェニル基、２，４－ジカルボキシフェニル基、２，５－ジカルボキシフェニル基、２－カルボキシナフチル基、スルホメチル基、４－スルホブチル基、２－スルホフェニル基、３－スルホフェニル基、ホスフォノメチル基、ホスフォノキシメチル基、ポリメタクリル酸基、ポリ（メタクリル酸基・メタクリル酸メチル基）等が挙げられるが、特にカルボキシル基を有する基であることが好ましい。
　ｍが２以上の場合、Ｗは１種であっても２種以上であっても良い。
　一般式（Ｄ－１）において、ｎが２の場合、Ｌ4で表される２価の連結基としては、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など）、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリーレン基（例えば、フェニレン基、ナフチレン基等）、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ－（Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。）、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、およびこれらを２個以上連結して形成される連結基が好適に挙げられる。
　（ｎ＋ｍ）が３以上の（ｎ＋ｍ）価の連結基は、置換もしくは無置換のアリーレン基（１，３，５－フェニレン基、１，２，４－フェニレン基、１，４，５，８－ナフチレン基など）、へテロ環連結基（例えば、１，３，５－トリアジン基など）、アルキレン連結基等を中心母核とし、上記２価の連結基が置換して形成される連結基が挙げられる。
　特に、炭素数１～６の無置換のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｓ－の組み合わせからなる基が好ましい。
　以下、Ｌ4で表される（ｎ＋ｍ）価の連結基の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
＜＜＜その他の色素多量体＞＞＞
　また、特開２００７－２７７５１４号公報の請求項１に記載の一般式（１）で表される高分子化合物であって、Ａ１が極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素である化合物も好ましく用いることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。より具体的には、特開２００７－２７７５１４号公報の請求項１に記載の一般式（１）で表される高分子化合物であって、Ａ１がフタロシアニン化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物及びアゾ化合物から選択される化合物の水素原子を１つ抜いた基であることが好ましい。
＜硬化性化合物＞
　本発明の組成物は硬化性化合物を含有する。硬化性化合物としては、重合性化合物、熱硬化性化合物、アルカリ可溶性樹脂等が例示される。これらの硬化性化合物の合計量は、本発明の組成物の固形分の１～８０質量％が好ましく、２～３０質量％がより好ましい。
＜重合性化合物＞
　本発明の組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。
　重合性化合物としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性化合物を用いることができ、例えば、エチレン性不飽和結合性基、環状エーテル（エポキシ、オキセタン）、メチロール等を含む重合性化合物が挙げられる。重合性化合物は、感度の観点から、末端エチレン性不飽和結合性基を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から好適に選ばれる。中でも、４官能以上の多官能重合性化合物が好ましく、５官能以上の多官能重合性化合物がさらに好ましい。重合性化合物はラジカル重合性化合物が好ましい。
　このような化合物群はこの産業分野において広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマーまたはそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。本発明における重合性化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合性化合物はモノマーであることが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～３０００が好ましく、２００～２０００がより好ましい。
　より具体的には、モノマーおよびそのプレポリマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）やそのエステル類、アミド類、並びにこれらの多量体が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、および不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類、並びにこれらの多量体である。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物や、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等のビニルベンゼン誘導体、ビニルエーテル、アリルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
　これらの具体的な化合物としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号〔００９５〕～〔０１０８〕に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
　また、上記重合性化合物としては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８－４１７０８号公報、特公昭５０－６０３４号公報、特開昭５１－３７１９３号公報に記載されているようなウレタン（メタ）アクリレート類、特開昭４８－６４１８３号公報、特公昭４９－４３１９１号公報、特公昭５２－３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートおよびこれらの混合物を挙げることができる。
　多官能カルボン酸にグリシジル（メタ）アクリレート等の環状エーテル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ得られる多官能（メタ）アクリレートなども挙げることができる。
　また、その他の好ましい重合性化合物として、特開２０１０－１６０４１８号公報、特開２０１０－１２９８２５号公報、特許第４３６４２１６号明細書等に記載される、フルオレン環を有し、エチレン性不飽和基を２官能以上有する化合物、カルド樹脂も使用することが可能である。
　また、常圧下で１００℃以上の沸点を有し、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物としては、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号［０２５４］～［０２５７］に記載の化合物も好適である。
　上記のほか、下記一般式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される、ラジカル重合性モノマーも好適に用いることができる。なお、式中、Ｔがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がＲに結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
　上記一般式において、ｎは０～１４であり、ｍは１～８である。一分子内に複数存在するＲ、Ｔ、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。
　上記一般式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される重合性化合物の各々において、複数存在するＲの少なくとも１つは、－ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ2、または、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2で表される基を表す。
　上記一般式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される重合性化合物の具体例としては、特開２００７－２６９７７９号公報の段落番号０２４８～段落番号０２５１に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
　また、特開平１０－６２９８６号公報において一般式（１）および（２）としてその具体例と共に記載の上記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に（メタ）アクリレート化した化合物も、重合性化合物として用いることができる。
　中でも、重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬製）、エチレンオキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（市販品としてはＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学製）およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。
　重合性化合物としては、多官能モノマーであって、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入してもよい。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。
　本発明において、酸基を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。
　これらのモノマーは１種を単独で用いてもよいが、製造上、単一の化合物を用いることは難しいことから、２種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じてモノマーとして酸基を有しない多官能モノマーと酸基を有する多官能モノマーを併用してもよい。
　酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは５ｍｇＫＯＨ／ｇ～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。多官能モノマーの酸価が低すぎると現像溶解特性が落ち、高すぎると製造や取扱いが困難になり光重合性能が落ち、画素の表面平滑性等の硬化性が劣るものとなる。従って、異なる酸基の多官能モノマーを２種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能モノマーを併用する場合、全体の多官能モノマーとしての酸価が上記範囲に入るように調整することが好ましい。
　また、重合性化合物として、カプロラクトンを由来とする直鎖エステル構造を有する多官能性単量体を含有することも好ましい態様である。
　カプロラクトンを由来とする直鎖エステル構造を有する多官能性単量体としては、その分子内にカプロラクトンを由来とする直鎖エステル構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸およびε－カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。なかでも下記一般式（Ｚ－１）で表されるカプロラクトンを由来とする直鎖エステル構造を有する多官能性単量体が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
　一般式（Ｚ－１）中、６個のＲは全てが下記一般式（Ｚ－２）で表される基であるか、または６個のＲのうち１～５個が下記一般式（Ｚ－２）で表される基であり、残余が下記一般式（Ｚ－３）で表される基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
　一般式（Ｚ－２）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を示し、ｍは１または２の数を示し、「＊」は結合手であることを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
　一般式（Ｚ－３）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を示し、「＊」は結合手であることを示す。
　このようなカプロラクトンを由来とする直鎖エステル構造を有する多官能性単量体は、例えば、日本化薬からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０（上記式（Ｚ－１）～（Ｚ－３）においてｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝２、Ｒ1が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－３０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝３、Ｒ1が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－６０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ1が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－１２０（同式においてｍ＝２、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ1が全て水素原子である化合物）等を挙げることができる。
　本発明において、カプロラクトンを由来とする直鎖エステル構造を有する多官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
　また、本発明における特定モノマーとしては、下記一般式（Ｚ－４）または（Ｚ－５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１種であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　上記一般式（Ｚ－４）および（Ｚ－５）中、Ｅは、各々独立に、－（（ＣＨ2）ｙＣＨ2Ｏ）－、または－（（ＣＨ2）ｙＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）－を表し、ｙは、各々独立に０～１０の整数を表し、Ｘは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、またはカルボキシル基を表す。
　上記一般式（Ｚ－４）中、アクリロイル基およびメタクリロイル基の合計は３個または４個であり、ｍは各々独立に０～１０の整数を表し、各ｍの合計は０～４０の整数である。但し、各ｍの合計が０の場合、Ｘのうちいずれか１つはカルボキシル基である。
　上記一般式（Ｚ－５）中、アクリロイル基およびメタクリロイル基の合計は５個または６個であり、ｎは各々独立に０～１０の整数を表し、各ｎの合計は０～６０の整数である。但し、各ｎの合計が０の場合、Ｘのうちいずれか１つはカルボキシル基である。
　上記一般式（Ｚ－４）中、ｍは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。また、各ｍの合計は、２～４０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～８の整数が特に好ましい。
　上記一般式（Ｚ－５）中、ｎは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｎの合計は、３～６０の整数が好ましく、３～２４の整数がより好ましく、６～１２の整数が特に好ましい。
　また、一般式（Ｚ－４）または一般式（Ｚ－５）中の－（（ＣＨ2）ｙＣＨ2Ｏ）－または－（（ＣＨ2）ｙＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）－は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。
　上記一般式（Ｚ－４）または一般式（Ｚ－５）で表される化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。特に、一般式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である形態が好ましい。
　また、一般式（Ｚ－４）または一般式（Ｚ－５）で表される化合物の重合性化合物中における全含有量としては、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
　上記一般式（Ｚ－４）または一般式（Ｚ－５）で表される化合物は、従来公知の工程である、ペンタエリスリト－ルまたはジペンタエリスリト－ルにエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端水酸基に、例えば（メタ）アクリロイルクロライドを反応させて（メタ）アクリロイル基を導入する工程と、から合成することができる。各工程は良く知られた工程であり、当業者は容易に一般式（Ｚ－４）または（Ｚ－５）で表される化合物を合成することができる。
　上記一般式（Ｚ－４）または一般式（Ｚ－５）で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体および／またはジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。
　具体的には、下記式（ａ）～（ｆ）で表される化合物（以下、「例示化合物（ａ）～（ｆ）」ともいう。）が挙げられ、中でも、例示化合物（ａ）、（ｂ）、（ｅ）、（ｆ）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
　一般式（Ｚ－４）または（Ｚ－５）で表される重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ－６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　また、重合性化合物としては、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。さらに、重合性化合物として、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平１－１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた硬化性組成物を得ることができる。
　重合性化合物の市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ－１０、ＵＡＢ－１４０（山陽国策パルプ製）、ＵＡ－７２００(新中村化学製)、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄製）などが挙げられる。
　環状エーテル（エポキシ、オキセタン）としては、例えば、エポキシ基を有するものとしては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、ＪＥＲ－８２７、ＪＥＲ－８２８、ＪＥＲ－８３４、ＪＥＲ－１００１、ＪＥＲ－１００２、ＪＥＲ－１００３、ＪＥＲ－１０５５、ＪＥＲ－１００７、ＪＥＲ－１００９、ＪＥＲ－１０１０（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、ＪＥＲ－８０６、ＪＥＲ－８０７、ＪＥＲ－４００４、ＪＥＲ－４００５、ＪＥＲ－４００７、ＪＥＲ－４０１０（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、ＪＥＲ－１５２、ＪＥＲ－１５４、ＪＥＲ－１５７Ｓ７０、ＪＥＲ－１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ製）、ＥＯＣＮ－１０２０（以上、日本化薬製）、脂肪族エポキシ樹脂として、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ－３１５０（２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物）、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、同ＰＢ　４７００（以上、ダイセル化学工業製）、デナコール　ＥＸ－２１１Ｌ、ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス製）、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＪＥＲ－１０３１Ｓ（ジャパンエポキシレジン製）等が挙げられる。このような重合性化合物は、ドライエッチング法でパターンを形成する場合に好適である。
　これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、感度の観点では、１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合は２官能以上が好ましい。また、組成物により形成された硬化膜の強度を高める観点では、３官能以上のものがよく、さらに、異なる官能基数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。さらに、３官能以上のものでエチレンオキサイド鎖長の異なる重合性化合物を併用することが、組成物の現像性を調節することができ、優れたパターン形成能が得られるという点で好ましい。
　また、組成物に含有される他の成分（例えば、光重合開始剤、被分散体、アルカリ可溶性樹脂等）との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体などの硬質表面との密着性を向上させる観点で特定の構造を選択することもあり得る。
　本発明の組成物中における重合性化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して０．１～７０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましく、２～３０質量％がさらに好ましい。
　本発明の組成物は、重合性化合物を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜光重合開始剤＞
　本発明の組成物は、重合性化合物を含有する場合、更に光重合開始剤を含有することが好ましい。
　上記光重合開始剤としては、上記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
　また、上記光重合開始剤は、約３００ｎｍ～８００ｎｍ（３３０ｎｍ～５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種含有していることが好ましい。
　上記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられ、オキシム化合物が好ましい。
　また、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体およびその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３－アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
　さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、トリアリールイミダゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α－アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、トリアリールイミダゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が特に好ましい。また、トリアリールイミダゾール化合物は、ベンゾイミダゾールとの混合物であってもよい。
　具体的には、トリハロメチルトリアジン化合物としては、以下の化合物が例示される。なお、Ｐｈはフェニル基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077

　トリアリールイミダゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
　トリハロメチルトリアジン化合物としては、市販品も使用でき、例えば、ＴＡＺ－１０７（みどり化学製）を用いることもできる。
　特に、本発明の組成物を固体撮像素子が備えるカラーフィルタの作製に使用する場合には、微細なパターンをシャープな形状で形成する必要があるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、光重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、光重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するには光重合開始剤としては、オキシム化合物を用いるのが特に好ましい。
　上記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素系化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許第１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３－１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許第３３３７０２４号明細書記載の化合物、Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２－５８２４１号公報記載の化合物、特開平５－２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５－３４９２０号公報記載の化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物、特に、特開２０１３－０７７００９号公報の段落番号００７５に記載の化合物などが挙げられる。
　また、上記以外の光重合開始剤として、アクリジン誘導体が例示される。具体的には、特開２０１３－０７７００９号公報の段落番号００７６に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　上記ケトン化合物としては、例えば、特開２０１３－０７７００９号公報の段落番号００７７に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　光重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、および、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。
　ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－１２７（商品名：いずれもＢＡＳＦ製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦ製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、３６５ｎｍまたは４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９－１９１１７９号公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－８１９やＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）－ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦ製）を用いることができる。
　光重合開始剤として、より好ましくはオキシム化合物が挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、特開２００１－２３３８４２号公報記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報記載の化合物を用いることができる。
　本発明における光重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、３－ベンゾイロキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイロキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、および２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。
　オキシム化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３－１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ.１５６－１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２－２３２、特開２０００－６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報、特表２００４－５３４７９７号公報、特開２００６－３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
　市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ製）も好適に用いられる。
　オキシム化合物としては、ＴＲＯＮＬＹ　ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲＯＮＬＹ　ＴＲ－ＰＢＧ－３０９、ＴＲＯＮＬＹ　ＴＲ－ＰＢＧ－３０５（常州強力電子新材料有限公司（ＣＨＡＮＧＺＨＯＵ　ＴＲＯＮＬＹ　ＮＥＷ　ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ　ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ　ＣＯ．，ＬＴＤ）製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ製）などの市販品も使用できる。
　また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－１５０２５号公報および米国特許公開２００９－２９２０３９号記載の化合物、国際公開特許２００９－１３１１８９号公報に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報記載の化合物、などを用いてもよい。
　好ましくはさらに、特開２００７－２３１０００号公報、および、特開２００７－３２２７４４号公報に記載される環状オキシム化合物に対しても好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開２０１０－３２９８５号公報、特開２０１０－１８５０７２号公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化の観点から好ましい。
　また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開２００９－２４２４６９号公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成でき好適に使用することができる。
　特に好ましくは、特開２００７－２６９７７９号公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開２００９－１９１０６１号公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
　具体的には、光重合開始剤であるオキシム化合物としては、下記一般式（ＯＸ－１）で表される化合物が好ましい。なお、オキシムのＮ－Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、（Ｚ）体のオキシム化合物であっても、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
　一般式（ＯＸ－１）中、ＲおよびＢは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
　一般式（ＯＸ－１）中、Ｒで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
　一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
　置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
　オキシム化合物は、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、３６０ｎｍ～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであることが好ましく、３６５ｎｍおよび４０５ｎｍの吸光度が高いものが特に好ましい。
　オキシム化合物は、３６５ｎｍまたは４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１,０００～３００，０００であることが好ましく、２,０００～３００，０００であることがより好ましく、５,０００～２００，０００であることが特に好ましい。
　化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　好適に用いられるオキシム化合物の具体例（Ｃ－４）～（Ｃ－１３）を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
　本発明は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。
　オキシム化合物は、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、３６０ｎｍ～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであることが好ましく、３６５ｎｍおよび４０５ｎｍの吸光度が高いものが特に好ましい。
　本発明の組成物が光重合開始剤を含有する場合、光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対し０．１質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％以上３０質量％以下、さらに好ましくは１質量％以上２０質量％以下である。この範囲で、より良好な感度とパターン形成性が得られる。
　本発明の組成物は、光重合開始剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜熱硬化性化合物＞
　熱硬化性化合物としては、例えば、熱硬化性官能基を有する化合物を用いることができる。熱硬化性化合物とは、加熱により膜硬化を行えるものをいい、通常、１８０℃以上の加熱で硬化する化合物をいう。
　熱硬化性官能基としては、例えば、エポキシ基、メチロール基、アルコキシメチル基、アシルオキシメチル基、イソシアネート基、ビニルエーテル基、およびメルカプト基から選ばれる少なくとも１つの基を有するものが好ましい。熱硬化性化合物としては、一分子内に熱硬化性官能基を２つ以上で有するものがより好ましく、１分子内にエポキシ基を２つ以上有する化合物がさらに好ましい。
　また、熱硬化性化合物は、エポキシ系化合物、メラミン系化合物（例えば、アルコキシメチル化、アシルオキシメチル化メラミン化合物）、ウレア系化合物（例えば、アルコキシメチル化、アシルオキシメチル化ウレア化合物）、フェノール系化合物（例えば、ヒドロキシメチル化またはアルコキシメチル化フェノール系化合物または樹脂、およびアルコキシメチルエーテル化フェノール化合物）等が好ましい例として挙げられ、エポキシ系化合物、メラミン系化合物がより好ましく、エポキシ系化合物がさらに好ましい。
　本熱硬化性化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。本発明では、分子量１０００以上のものが好ましく、２０００～１０００００のものがより好ましい。本発明では、特に、１分子中に２つ以上のエポキシ基を有し、分子量が１０００以上の化合物が好ましい。
　これらの化合物の具体例としては、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００８５～０１２５に記載の化合物が例示され、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、上記重合性化合物のうち、熱硬化性化合物に該当するものも、本発明の熱硬化性化合物の好ましい例として例示される。
＜トリアリールメタン化合物および色素（Ｂ）以外の他の着色剤＞
　本発明の組成物は、トリアリールメタン化合物および色素（Ｂ）以外の他の着色剤を含んでいてもよい。他の着色剤としては、極大吸収波長を５００～６００ｎｍの範囲に有する色素（以下、色素（Ｃ）ともいう。）が好ましい。４９０～５１０ｎｍの透過率を調整でき、画質が向上する。
　色素（Ｃ）としては、キサンテン色素、ジピロメテン色素、アントラキノン色素、が例示され、キサンテン色素が好ましい。これらの色素は、単量体であってもよく、多量体であってもよい。
　キサンテン色素は、下記式（Ｊ）で表されるキサンテン化合物で表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
　式（Ｊ）中、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３およびＲ８４は、各々独立に、１価の置換基を表し、Ｒ８５は、各々独立に１価の置換基を表し、ｍは、０～５の整数を表す。Ｘ－は、対アニオンを表す。Ｘ－が存在しない場合は、Ｒ８１～Ｒ８５の少なくとも１つがアニオンを含む。
　式（Ｊ）中、Ｒ８１～Ｒ８５は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。Ｘ－が存在しない場合は、Ｒ８１～Ｒ８５の少なくとも１つがアニオンを含む。Ｒ８１～Ｒ８５の少なくとも１つがアニオンを含む場合、アニオンとしては、上述したトリアリールメタン化合物で説明した構造が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよいが、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は、無置換が好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。
　式（Ｊ）中、ｍは１～３の整数が好ましく、１または２がより好ましい。
　式（Ｊ）中、Ｘ－は、対アニオンを表す。対アニオンは、上述したトリアリールメタン化合物で説明した対アニオンと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　キサンテン色素が多量体である場合、Ｒ８１～Ｒ８５のいずれかが、多量体の他の部位と結合していることが好ましく、より好ましくは、Ｒ８５を介して多量体の他の部位と結合している。
　以下にキサンテン化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
　ジピロメテン色素としては、下記一般式（Ｉ）で表されるジピロメテン色素が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
　一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表し、Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。これらの置換基の説明は、特開２０１４－１３２３４８号公報の段落００４７～００５６の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　ジピロメテン色素が多量体である場合、Ｒ１～Ｒ７のいずれかが、多量体の他の部位と結合していることが好ましく、より好ましくは、Ｒ３を介して多量体の他の部位と結合している。
　次に、ジピロメテン系金属錯体化合物を形成する金属原子又は金属化合物について説明する。
　金属又は金属化合物としては、錯体を形成可能な金属原子又は金属化合物であればいずれであってもよく、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、又は２価の金属塩化物が含まれる。例えば、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｂ等の他に、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ２、ＳｎＣｌ２、ＳｉＣｌ２、ＧｅＣｌ２などの金属塩化物、ＴｉＯ、ＶＯ等の金属酸化物、Ｓｉ（ＯＨ）２等の金属水酸化物も含まれる。
　これらの中でも、錯体の安定性、分光特性、耐熱性、耐光性、及び製造適性等の観点から、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、ＴｉＯ、Ｂ、又はＶＯが好ましく、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｂ、又はＶＯが更に好ましく、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｂ、又はＶＯ（Ｖ＝Ｏ）が最も好ましい。これらの中でも、特にＺｎが好ましい。
　ジピロメテン色素は、例えば下記化合物が挙げられる。ジピロメテン色素の詳細は、特開２０１４－１３２３４８号公報の段落００４５～００９５の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
　色素（Ｃ）は、エチレン性不飽和基を含む、及び／又は、多量体であることが好ましい。
　色素（Ｃ）がエチレン性不飽和基を含む場合、その詳細は、上述のトリアリールメタン単量体がエチレン性不飽和基を有する場合の記載において、トリアリールメタンを極大吸収波長を５００～６００ｎｍの範囲に有する色素構造に置き換えた化合物が好ましい例として例示される。例えば、上記一般式（Ｉ）で表されるジピロメテン色素の場合、Ｒ３がエチレン性不飽和基を含むことが好ましい。
　色素（Ｃ）が多量体である場合、色素構造を含む繰り返し単位を含む多量体であることが好ましく、上述したトリアリールメタン多量体で説明した一般式（Ａ）で表される繰り返し単位において、Ｄｙｅとして、極大吸収波長を５００～６００ｎｍの範囲に有する色素構造を有する多量体がより好ましい。
　また、上述したトリアリールメタン多量体で説明した一般式（Ｄ）において、ＤｙｅＩＶとして、極大吸収波長を５００～６００ｎｍの範囲に有する色素構造を有する多量体であることも好ましい。
　上記色素構造としては、キサンテン化合物由来の色素構造またはジピロメテン化合物由来の色素構造が好ましく、一般式（Ｊ）で表されるキサンテン化合物由来の色素構造がより好ましく、一般式（Ｊ）におけるＲ８５または一般式（Ｉ）におけるＲ３を介して、上述したトリアリールメタン多量体で説明した一般式（Ａ）で表される繰り返し単位のＬ１または、上述したトリアリールメタン多量体で説明した一般式（Ｄ）のＬ４に結合していることが好ましい。
　色素（Ｃ）が多量体である場合、色素構造を含む繰り返し単位に加え、他の繰り返し単位を含んでいても良い。具体的には、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位、重合性基を含む繰り返し単位等が例示され、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を少なくとも含むことが好ましい。これらの繰り返し単位は、それぞれ、１種類のみ含んでいても良いし、２種類以上含んでいても良い。これらの繰り返し単位の詳細は、上述のトリアリールメタン多量体で述べた酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位、重合性基を含む繰り返し単位等の記載と同義であり、好ましい範囲も同義である。
　色素（Ｃ）が多量体である場合の具体例としては、以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
　本発明の組成物中における色素（Ｃ）の含有量は、トリアリールメタン化合物に対して５～１００質量％が好ましく、２０～６０質量％がより好ましい。
　本発明の組成物中における色素（Ｃ）の含有量は、色素（Ｂ）に対して５～１００質量％が好ましく、１０～８０質量％がより好ましい。
　本発明の組成物は、色素（Ｃ）を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜トリアリールメタン化合物、色素（Ｂ）および色素（Ｃ）、以外の他の着色剤＞
　本発明の組成物は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、トリアリールメタン化合物、色素（Ｂ）および色素（Ｃ）以外の他の着色剤として、他の顔料および／または染料を含んでいてもよい。しかしながら、トリアリールメタン化合物、色素（Ｂ）および色素（Ｃ）以外の他の着色剤を実質的に含まない構成とすることもできる。実質的に含まないとは、例えば、全着色剤の１質量％以下であることをいう。
　顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができ、有機顔料を用いることが好ましい。上記顔料としては、高透過率であることが好ましい。
　無機顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック等の黒色顔料、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、および上記金属の複合酸化物を挙げることができる。
　有機顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１，２４，３１，５３，８３，９３，９９，１０８，１０９，１１０，１３８，１３９，１４７，１５０，１５１，１５４，１５５，１６７，１８０，１８５，１９９；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，３８，４３，７１；
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１，１０５，１２２，１４９，１５０，１５５，１７１，１７５，１７６，１７７，１７９，２０９，２２０，２２４，２４２，２５４，２５５，２６４，２７０；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９，２３，３２，３９；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，２，１５，１５：１，１５：３，１５：６，１６，２２，６０，６６；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，３７，５８，５９；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５，２８；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１；
等を挙げることができる。
　本発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１，２４，１０８，１０９，１１０，１３８，１３９，１５０，１５１，１５４，１６７，１８０，１８５；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，７１；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２，１５０，１７１，１７５，１７７，２０９，２２４，２４２，２５４，２５５，２６４；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９，２３，３２；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：１，１５：３，１５：６，１６，２２，６０，６６；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，３７，５８，５９；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１。
　これら有機顔料は、単独もしくは、分光の調整や色純度を上げるために種々組合せて用いることができる。
　上記組合せの具体例を以下に示す。例えば、赤の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独またはそれらの少なくとも一種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料またはペリレン系赤色顔料と、の混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７が挙げられ、ペリレン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４が挙げられ、色分解性の点でＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９との混合が好ましい。また、赤色顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５～１００：５０が好ましい。１００：４以下では４００ｎｍから５００ｎｍの光透過率を抑えることが困難であり、また１００：５１以上では主波長が短波長寄りになり、色分解能を上げることができない場合がある。特に、上記質量比としては、１００：１０～１００：３０の範囲が最適である。尚、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、求める分光に併せて調整することができる。
　また、緑の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、または、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、このような例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、３７とＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０またはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５との混合が好ましい。緑顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５～１００：１５０が好ましい。上記質量比としては１００：３０～１００：１２０の範囲が特に好ましい。
　青の顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。例えばＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比は、１００：０～１００：１００が好ましく、より好ましくは１００：１０以下である。
　また、ブラックマトリックス用の顔料としては、カーボン、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独または混合が用いられ、カーボンとチタンブラックとの組合せが好ましい。また、カーボンとチタンブラックとの質量比は、１００：０～１００：６０の範囲が好ましい。
　本発明の組成物は、黒以外の着色剤を配合することが好ましく、青色の着色剤を配合することがより好ましい。黒以外の着色剤は顔料であることが好ましく、青色顔料であることがより好ましい。
　顔料の一次粒子サイズは、カラーフィルタ用として用いる場合には、色ムラやコントラストの観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、また、分散安定性の観点から５ｎｍ以上であることが好ましい。顔料の一次粒子サイズとしてより好ましくは、５～７５ｎｍであり、さらに好ましくは５～５５ｎｍであり、特に好ましくは５～３５ｎｍである。
　顔料の一次粒子サイズは、電子顕微鏡等の公知の方法で測定することができる。
　中でも、顔料としては、アントラキノン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、フタロシアニン系顔料、キノフタロン系顔料、イソインドリン系顔料、アゾメチン系顔料、およびジオキサジン系顔料から選ばれる顔料であることが好ましい。特に、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（アントラキノン系顔料），Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（ジケトピロロピロール系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，５８、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（フタロシアニン系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８（キノフタロン系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５（イソインドリン顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（アゾメチン系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３（ジオキサジン系顔料）が特に好ましい。
　他の染料としては、例えば特開昭６４－９０４０３号公報、特開昭６４－９１１０２号公報、特開平１－９４３０１号公報、特開平６－１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許４８０８５０１号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、米国特許５０５９５０号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、特開平５－３３３２０７号公報、特開平６－３５１８３号公報、特開平６－５１１１５号公報、特開平６－１９４８２８号公報等に開示されている色素を使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系等の染料を使用できる。
　他の染料は色素多量体を用いてもよい。色素多量体としては、特開２０１１－２１３９２５号公報、特開２０１３－０４１０９７号公報等に記載されている化合物が挙げられる。
　本発明の組成物が他の顔料および／または染料を含有する場合、組成物に含有される溶剤を除いた全成分に対して、１０質量％～７０質量％が好ましく、より好ましくは２０質量％～６０質量％であり、さらに好ましくは２５質量％～５０質量％である。
　本発明の組成物は、他の顔料および／または染料を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜アルカリ可溶性樹脂＞
　本発明の組成物は、さらに、アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の分子量としては、特に定めるものではないが、Ｍｗが５０００～１００，０００であることが好ましい。また、Ｍｎは１０００～２０，０００であることが好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
　アルカリ可溶性を促進する基（以下、酸基ともいう）としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられるが、溶剤に可溶で弱アルカリ性水溶液により現像可能なものが好ましく、（メタ）アクリル酸が特に好ましいものとして挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　上記重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、２－イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するための単量体は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。アルカリ可溶性樹脂に酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマーおよび／または重合後に酸基を付与しうるモノマー（以下「酸基を導入するための単量体」と称することもある。）を、単量体成分として重合するようにすればよい。
　なお、重合後に酸基を付与しうるモノマーを単量体成分として酸基を導入する場合には、重合後に例えば後述するような酸基を付与するための処理が必要となる。
　アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類およびその量、溶剤の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。
　アルカリ可溶性樹脂として用いられる線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーとして、Ｎ―フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体は１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　アルカリ可溶性樹脂としては、下記一般式（ＥＤ）で示される化合物および／または下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を必須とする単量体成分を重合してなるポリマー（ａ）を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
　一般式（ＥＤ）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
　一般式（ＥＤ２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　これにより、本発明の組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた硬化塗膜を形成しうる。上記エーテルダイマーを示す上記一般式（ＥＤ）中、Ｒ1およびＲ2で表される置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｔｅｒｔ－アミル、ステアリル、ラウリル、２－エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２－メチル－２－アダマンチル等の脂環式基；１－メトキシエチル、１－エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。
　上記エーテルダイマーの具体例としては、例えば、ジメチル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジエチル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－プロピル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソプロピル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－ブチル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソブチル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｔｅｒｔ－アミル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ステアリル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ラウリル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（２－エチルヘキシル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（１－メトキシエチル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（１－エトキシエチル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジベンジル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジフェニル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジシクロヘキシル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ジシクロペンタジエニル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（トリシクロデカニル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソボルニル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジアダマンチル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（２－メチル－２－アダマンチル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジメチル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジエチル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジシクロヘキシル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジベンジル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。上記一般式（ＥＤ）で示される化合物由来の構造体は、その他の単量体を共重合させてもよい。
　また、本発明における組成物の架橋効率を向上させるために、重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。重合性基を有することにより、耐熱性や耐光性がより向上する傾向にある。重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂としては、アリル基、（メタ）アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したアルカリ可溶性樹脂等が有用である。上述の重合性基を含有するポリマーの例としては、ダイヤナ－ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（COOH含有 polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co.Ltd.,製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６(いずれも大阪有機化学工業製)、サイクロマーＰシリーズ、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー製）などが挙げられる。これら重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、予めイソシアネート基とＯＨ基を反応させ、未反応のイソシアネート基を１つ残し、かつ（メタ）アクリロイル基を含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル系樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル系樹脂、カルボキシル基を含むアクリル系樹脂と分子内にエポキシ基および重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル系樹脂、酸ペンダント型エポキシアクリレート系樹脂、ＯＨ基を含むアクリル系樹脂と重合性二重結合を有する２塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル系樹脂、ＯＨ基を含むアクリル系樹脂とイソシアネートと重合性基を有する化合物を反応させた樹脂、特開２００２－２２９２０７号公報および特開２００３－３３５８１４号公報に記載されるα位またはβ位にハロゲン原子或いはスルホネート基などの脱離基を有するエステル基を側鎖に有する樹脂を、塩基性処理することで得られる樹脂などが好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂は、下記式（Ｘ）で示されるエチレン性不飽和単量体に由来する構造単位を含んでいてもよい。
一般式（Ｘ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
（式（Ｘ）において、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。）
　上記式（Ｘ）において、Ｒ2のアルキレン基の炭素数は、２～３であることが好ましい。また、Ｒ3のアルキル基の炭素数は１～２０であるが、より好ましくは１～１０であり、Ｒ3のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。Ｒ3で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、２－フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。
　アルカリ可溶性樹脂としては、特に、（メタ）アクリル酸ベンジル／（メタ）アクリル酸共重合体や（メタ）アクリル酸ベンジル／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。この他、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合した（メタ）アクリル酸ベンジル／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸－２－ヒドロキシエチル共重合体、特開平７－１４０６５４号公報に記載の２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられ、特に好ましくはメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸の共重合体等が挙げられる。
　アルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１２－２０８４９４号公報段落０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６８５]～[０７００]）以降の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　さらに、特開２０１２－３２７６７号公報に記載の段落番号００２９～００６３に記載の共重合体（Ｂ）および実施例で用いられているアルカリ可溶性樹脂、特開２０１２－２０８４７４号公報の段落番号００８８～００９８に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－１３７５３１号公報の段落番号００２２～００３２に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１３－０２４９３４号公報の段落番号０１３２～０１４３に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１１－２４２７５２号公報の段落番号００９２～００９８および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－０３２７７０号公報の段落番号００３０～００７２に記載のバインダー樹脂を用いること好ましい。これらの内容は本明細書に組み込まれる。より具体的には、下記の樹脂が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
　アルカリ可溶性樹脂の酸価としては好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２，０００～５０，０００が好ましく、５，０００～３０，０００がさらに好ましく、７，０００～２０，０００が特に好ましい。
　組成物中にアルカリ可溶性樹脂を含有する場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量としては、組成物の全固形分に対して、０．１質量％～１５質量％が好ましく、より好ましくは、０．１質量％～１２質量％であり、特に好ましくは、１質量％～１０質量％である。
　本発明の組成物は、アルカリ可溶性樹脂を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜溶剤＞
　本発明の組成物は、溶剤を含有してもよい。
　溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、特に紫外線吸収剤、アルカリ可溶性樹脂や分散剤等の溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。また、本発明における組成物を調製する際には、少なくとも２種類の溶剤を含むことが好ましい。
　溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル（例：オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：３－オキシプロピオン酸メチル、３－オキシプロピオン酸エチル等（例えば、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル等））、２－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：２－オキシプロピオン酸メチル、２－オキシプロピオン酸エチル、２－オキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル））、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸メチルおよび２－オキシ－２－メチルプロピオン酸エチル（例えば、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸メチル、２－オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。
　これらの溶剤は、紫外線吸収剤およびアルカリ可溶性樹脂の溶解性、塗布面状の改良などの観点から、２種以上を混合することも好ましい。この場合、特に好ましくは、上記の３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、およびプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液である。
　溶剤の組成物中における含有量は、塗布性の観点から、組成物の全固形分濃度が５質量％～８０質量％になる量が好ましく、５質量％～６０質量％になる量がより好ましく、１０質量％～６０質量％になる量がさらに好ましい。
　本発明の組成物は、溶剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜多官能チオール化合物＞
　本発明の組成物は、重合性化合物の反応を促進させることなどを目的として、分子内に２個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合物を含んでいてもよい。多官能チオール化合物は、２級のアルカンチオール類であることが好ましく、特に下記一般式（Ｔ１）で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
　一般式（Ｔ１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
（式（Ｔ１）中、ｎは２～４の整数を表し、Ｌは２～４価の連結基を表す。）
　上記一般式（Ｔ１）において、連結基Ｌは炭素数２～１２の脂肪族基であることが好ましく、ｎが２であり、Ｌが炭素数２～１２のアルキレン基であることが特に好ましい。多官能チオール化合物の具体例としては、下記の構造式（Ｔ２）～（Ｔ４）で表される化合物が挙げられ、式（Ｔ２）で表される化合物が特に好ましい。これらの多官能チオールは１種または複数組み合わせて使用することが可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
　本発明の組成物が多官能チオール化合物を含有する場合、溶剤を除いた全固形分に対して０．３～８．９質量％が好ましく、０．８～６．４質量％がより好ましい。
＜界面活性剤＞
　本発明の組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
　特に、本発明の組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
　即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３質量％～４０質量％が好適であり、より好ましくは５質量％～３０質量％であり、特に好ましくは７質量％～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ製）等が挙げられる。フッ素系界面活性剤としてブロックポリマーを用いることもでき、具体例としては、例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができ、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。また、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体をフッ素系界面活性剤として用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報００５０～００９０段落および０２８９～０２９５段落に記載された化合物、例えばＤＩＣ社製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ等が挙げられる。
　ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレートおよびプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール）等が挙げられる。また、和光純薬工業社製の、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２を使用することもできる。
　カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ－７４５、森下産業製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学製）、Ｗ００１（裕商製）等が挙げられる。
　アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商製）等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製「ＴＳＦ－４４４０」、「ＴＳＦ－４３００」、「ＴＳＦ－４４４５」、「ＴＳＦ－４４６０」、「ＴＳＦ－４４５２」、信越シリコーン製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
　本発明の組成物に界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の添加量は、組成物の全質量に対して、０．００１質量％～２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％～１．０質量％である。
　本発明の組成物は、界面活性剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜他の成分＞
　本発明の組成物は、上述の各成分に加えて、本発明の効果を損なわない範囲で、さらに、顔料分散剤、架橋剤、重合禁止剤、有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物などの他の成分を含んでいてもよい。
＜＜顔料分散剤＞＞
　本発明の組成物が顔料を有する場合は、顔料分散剤を、所望により併用することができる。
　本発明に用いうる顔料分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、および、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等の界面活性剤、および、顔料誘導体等を挙げることができる。
　高分子分散剤は、その構造からさらに直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
　分散剤の詳細としては、特開２０１４－１３０３４４号公報の段落００９８～０１０２の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　これらの顔料分散剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。また、顔料分散剤は、上記顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子と伴に、アルカリ可溶性樹脂と併用して用いても良い。アルカリ可溶性樹脂としては、（メタ）アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、が挙げられるが、特に（メタ）アクリル酸共重合体が好ましい。また、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー共重合体、特開２００４－３００２０４号公報に記載のエーテルダイマー共重合体、特開平７－３１９１６１号公報に記載の重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂も好ましい。具体的には、アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸／メタクリル酸－２－ヒドロキシエチル共重合体が例示される。
　組成物において、顔料分散剤を含有する場合、顔料分散剤の総含有量としては、顔料１００質量部に対して、１質量部～８０質量部であることが好ましく、５質量部～７０質量部がより好ましく、１０質量部～６０質量部であることがさらに好ましい。特定分散樹脂は、組成物に含有される分散剤成分のうち、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることがさらに好ましい。
　本発明の組成物は、顔料分散剤を、それぞれ、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
　具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料１００質量部に対して、質量換算で５質量部～１００質量部の範囲が好ましく、１０質量部～８０質量部の範囲であることがより好ましい。
　また、顔料誘導体を併用する場合、顔料誘導体の使用量としては、顔料１００質量部に対し、質量換算で１質量部～３０質量部の範囲にあることが好ましく、３質量部～２０質量部の範囲にあることがより好ましく、５質量部～１５質量部の範囲にあることが特に好ましい。
　組成物において、硬化感度、色濃度の観点から、着色剤および分散剤成分の含有量の総和が、組成物を構成する全固形分に対して５０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、５５質量％以上８５質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがさらに好ましい。
＜＜架橋剤＞＞
　本発明の組成物に補足的に架橋剤を用い、組成物を硬化させてなる硬化膜の硬度をより高めることもできる。
　架橋剤としては、架橋反応により膜硬化を行なえるものであれば、特に限定はなく、例えば、（ａ）エポキシ樹脂、（ｂ）メチロール基、アルコキシメチル基、およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換された、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物またはウレア化合物、（ｃ）メチロール基、アルコキシメチル基、およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換された、フェノール化合物、ナフトール化合物またはヒドロキシアントラセン化合物、が挙げられる。中でも、多官能エポキシ樹脂が好ましい。
　架橋剤の具体例などの詳細については、特開２００４－２９５１１６号公報の段落０１３４～０１４７の記載を参照することができる。
　本発明の組成物中に架橋剤を含有する場合、架橋剤の配合量は、特に定めるものではないが、組成物の全固形分の２～３０質量％が好ましく、３～２０質量％がより好ましい。
　本発明の組成物は、架橋剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の組成物においては、上記組成物の製造中または保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の重合禁止剤を添加することが望ましい。
　本発明に用いうる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
　本発明の組成物中に重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の添加量は、全組成物の質量に対して、約０．０１質量％～約５質量％が好ましい。
　本発明の組成物は、重合禁止剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物＞＞
　本発明の組成物は、分子量１０００以下の有機カルボン酸、および／または有機カルボン酸無水物を含有していてもよい。
　有機カルボン酸化合物としては、具体的には、脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸が挙げられる。脂肪族カルボン酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、グリコール酸、アクリル酸、メタクリル酸等のモノカルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸等のジカルボン酸、トリカルバリル酸、アコニット酸等のトリカルボン酸等が挙げられる。また、芳香族カルボン酸としては、例えば、安息香酸、フタル酸等のフェニル基に直接カルボキシル基が結合したカルボン酸、およびフェニル基から炭素結合を介してカルボキシル基が結合したカルボン酸類が挙げられる。これらの中では、特に分子量６００以下、とりわけ分子量５０～５００のもの、具体的には、例えば、マレイン酸、マロン酸、コハク酸、イタコン酸が好ましい。
　有機カルボン酸無水物としては、例えば、脂肪族カルボン酸無水物、芳香族カルボン酸無水物が挙げられ、具体的には、例えば、無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸、無水グルタル酸、無水１，２－シクロヘキセンジカルボン酸、無水ｎ－オクタデシルコハク酸、無水５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸等の脂肪族カルボン酸無水物が挙げられる。芳香族カルボン酸無水物としては、例えば、無水フタル酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、無水ナフタル酸等が挙げられる。これらの中では、特に分子量６００以下、とりわけ分子量５０～５００のもの、具体的には、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸が好ましい。
　本発明の組成物に有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物を含有する場合、有機カルボン酸および／または有機カルボン酸無水物の添加量は、通常、全固形分中０．０１～１０重量％、好ましくは０．０３～５重量％、より好ましくは０．０５～３重量％の範囲である。
　本発明の組成物は、有機カルボン酸および／または有機カルボン酸無水物を、それぞれ、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
　これら分子量１０００以下の有機カルボン酸、および／または有機カルボン酸無水物を添加することによって、高いパターン密着性を保ちながら、組成物の未溶解物の残存をより一層低減することが可能である。
　上記のほか、組成物には、必要に応じて、各種添加物、例えば、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することができる。これらの添加物としては、特開２００４－２９５１１６号公報の段落０１５５～０１５６に記載のものを挙げることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明の組成物においては、特開２００４－２９５１１６号公報の段落００７８に記載の増感剤や光安定剤、同公報の段落００８１に記載の熱重合防止剤を含有することができる。
　本発明の組成物は、上記成分を、それぞれ、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜組成物の調製方法＞
　本発明の組成物は、前述の成分を混合することで調製される。
　なお、組成物の調製に際しては、組成物を構成する各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解・分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解・分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜２つ以上の溶液・分散液としておいて、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
　上記のようにして調製された組成物は、フィルタなどを用いて濾別した後、使用に供することができる。
　本発明の組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１～２．５μｍ程度、さらに好ましくは０．０１～２．０μｍ程度である。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
　また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール、アドバンテック東洋、日本インテグリス（旧日本マイクロリス）又はキッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
　第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
　例えば、第１のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタリングを行ってもよい。
　本発明の組成物は、カラーフィルタ用の組成物として好ましく用いられる。すなわち、カラーフィルタの着色層形成用として好ましく用いられる。より具体的には、本発明の組成物は、耐熱性および色特性に優れた硬化膜を形成することができるため、カラーフィルタの着色パターン（着色層）を形成するために好適に用いられる。また、本発明の組成物は、固体撮像素子（例えば、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）等）や、液晶表示装置（ＬＣＤ）などの画像表示装置に用いられるカラーフィルタなどの着色パターン形成用として好適に用いることができる。さらに、印刷インキ、インクジェットインキおよび塗料などの作製用途としても好適に用いることができる。なかでも、ＣＣＤおよびＣＭＯＳ等の固体撮像素子用のカラーフィルタの作製用途として好適に用いることができる。
＜硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法＞
　次に、本発明における硬化膜、パターン形成方法およびカラーフィルタについて、その製造方法を通じて詳述する。
　本発明の硬化膜は、本発明の組成物を硬化してなる。かかる硬化膜はカラーフィルタに好ましく用いられる。
　本発明のパターン形成方法は、本発明の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、組成物層をパターン状に露光する工程と、組成物層の未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程とを含むパターン形成方法を含む。本発明のパターン形成方法は、カラーフィルタが有する着色パターン（画素）の形成に好適に適用することができる。
　本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明のパターン形成方法を含む。
　本発明の組成物は、いわゆるフォトリソグラフィ法でパターン形成によって、カラーフィルタを製造してもよいし、ドライエッチング法によってパターンを形成してもよい。
　すなわち、本発明のカラーフィルタの第一の製造方法として、組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、上記組成物層をパターン状に露光する工程と、組成物層の未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程とを含むカラーフィルタの製造方法が例示される。
　また、本発明のカラーフィルタの第二の製造方法として、本発明の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程、着色層上にフォトレジスト層を形成する工程、フォトレジスト層を露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、およびレジストパターンをエッチングマスクとして着色層をドライエッチングする工程を含む方法が例示される。
　本発明では、フォトリソグラフィ法で製造することがより好ましい。
　以下これらの詳細を述べる。
　以下、本発明のパターン形成方法における各工程については、固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法を通じて詳細に説明するが、本発明はこの方法に限定されるものではない。以下、固体撮像素子用カラーフィルタを単に「カラーフィルタ」ということがある。
＜＜組成物層を形成する工程＞＞
　組成物層を形成する工程では、支持体上に、本発明の組成物を適用して組成物層を形成する。
　本工程に用いうる支持体としては、例えば、基板（例えば、シリコン基板）上にＣＣＤ（Charge Coupled Device）やＣＭＯＳ等の撮像素子（受光素子）が設けられた固体撮像素子用基板を用いることができる。
　本発明における着色パターンは、固体撮像素子用基板の撮像素子形成面側（おもて面）に形成されてもよいし、撮像素子非形成面側（裏面）に形成されてもよい。
　固体撮像素子における着色パターンの間や、固体撮像素子用基板の裏面には、遮光膜が設けられていてもよい。
　また、支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合禁止剤、界面活性剤、光重合開始剤等を配合でき、これらの各成分は、上述の本発明の組成物に配合する成分から適宜選択されることが好ましい。
　支持体上への本発明の組成物の付与方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。
　支持体上に塗布された組成物層の乾燥（プリベーク）は、ホットプレート、オーブン等で５０℃～１４０℃の温度で１０秒～３００秒で行うことができる。
＜＜フォトリソグラフィ法でパターン形成する工程＞＞
＜＜＜露光する工程＞＞＞
　露光工程では、組成物層形成工程において形成された組成物層を、パターン状に露光する。例えば、支持体上に形成した組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく（特に好ましくはｉ線）用いられる。照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２.５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましく、０．０８～０．５Ｊ／ｃｍ２が最も好ましい。
　露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下(例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２(例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、３５０００Ｗ／ｍ２)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２　などとすることができる。
　硬化膜（着色膜）の膜厚は１．０μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ～０．９μｍであることがより好ましく、０．２μｍ～０．８μｍであることがさらに好ましい。
　膜厚を、１．０μｍ以下とすることにより、高解像性、高密着性を得られるため、好ましい。
　また、本工程においては、０．７μｍ以下の薄い膜厚を有する硬化膜も好適に形成することができ、得られた硬化膜を、後述するパターン形成工程にて現像処理することで、薄膜でありながらも、現像性、表面荒れ抑制、およびパターン形状に優れた着色パターンを得ることができる。
＜＜＜現像工程＞＞＞
　次いでアルカリ現像処理を行うことにより、露光工程における光未照射部分の組成物層がアルカリ性水溶液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。
　現像液としては、下地の撮像素子や回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０℃～３０℃であり、現像時間は、従来２０秒～９０秒であった。より残渣を除去するため、近年では１２０秒～１８０秒実施する場合もある。さらには、より残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。
　現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５，４，０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられ、これらのアルカリ剤を濃度が０．００１質量％～１０質量％、好ましくは０．０１質量％～１質量％となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。
　また、現像液には無機アルカリを用いてもよく、無機アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウムなどが好ましい。
　また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、前述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液が界面活性剤を含有する場合、現像液の全質量に対して、０．００１～２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．０１～１．０質量％である。
　なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。
　次いで、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。多色の着色パターンを形成するのであれば、色ごとに上記工程を順次繰り返して硬化皮膜を製造することができる。これによりカラーフィルタが得られる。
　ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理であり、通常１００℃～２４０℃、好ましくは２００℃～２４０℃の熱硬化処理を行う。
　このポストベーク処理は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
＜＜ドライエッチング法でパターン形成する場合＞＞
　ドライエッチングは、着色層を、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチングガスを用いて行うことができる。具体的には、着色層上にポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を塗布し、これを乾燥させることによりフォトレジスト層を形成する。フォトレジスト層の形成においては、さらにプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理（ＰＥＢ）、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。
　フォトレジストとしては、例えば、ポジ型の感放射線性組成物が用いられる。このポジ型の感放射線性組成物としては、紫外線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）、エキシマー・レーザ等を含む遠紫外線、電子線、イオンビームおよびＸ線等の放射線に感応するポジ型フォトレジスト用に好適なポジ型レジスト組成物が使用できる。放射線のうち、ｇ線、ｈ線、ｉ線が好ましく、中でもｉ線が好ましい。
　具体的には、ポジ型の感放射線性組成物として、キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含有する組成物が好ましい。キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型の感放射線性組成物は、５００ｎｍ以下の波長の光照射によりキノンジアジド基が分解してカルボキシル基を生じ、結果としてアルカリ不溶状態からアルカリ可溶性になることを利用するものである。このポジ型フォトレジストは解像力が著しく優れているので、ＩＣ（integrated circuit）やＬＳＩ（Large Scale Iintegration）等の集積回路の作製に用いられている。キノンジアジド化合物としては、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。市販品としては例えば「ＦＨｉ６２２ＢＣ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）などが挙げられる。
　フォトレジスト層の厚みとしては、０．１～３μｍが好ましく、０．２～２．５μｍが好ましく、０．３～２μｍがさらに好ましい。なお、フォトレジスト層の塗布は、既述の着色層における塗布方法を用いて好適に行なえる。
　次いで、フォトレジスト層を露光、現像することにより、レジスト貫通孔群が設けられたレジストパターン（パターニングされたフォトレジスト層）を形成する。レジストパターンの形成は、特に制限なく、従来公知のフォトリソグラフィの技術を適宜最適化して行なうことができる。露光、現像によりフォトレジスト層に、レジスト貫通孔群が設けられることによって、次のエッチングで用いられるエッチングマスクとしてのレジストパターンが、着色層上に設けられる。
　フォトレジスト層の露光は、所定のマスクパターンを介して、ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物に、ｇ線、ｈ線、ｉ線等、好ましくはｉ線で露光を施すことにより行なうことができる。露光後は、現像液で現像処理することにより、着色パターンを形成しようとする領域に合わせてフォトレジストが除去される。
　上記現像液としては、着色剤を含む着色層には影響を与えず、ポジレジストの露光部およびネガレジストの未硬化部を溶解するものであればいずれも使用可能であり、例えば、種々の溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。アルカリ性の水溶液としては、アルカリ性化合物を濃度が０．００１～１０質量％、好ましくは０．０１～５質量％となるように溶解して調製されたアルカリ性水溶液が好適である。アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセン等が挙げられる。尚、アルカリ性水溶液を現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。
　次に、レジストパターンをエッチングマスクとして、着色層に貫通孔群が形成されるようにドライエッチングによりパターニングする。これにより、着色パターンが形成される。貫通孔群は、着色層に、市松状に設けられている。よって、着色層に貫通孔群が設けられてなる第１着色パターンは、複数の四角形状の第１着色画素を市松状に有している。
　具体的には、ドライエッチングは、レジストパターンをエッチングマスクとして、着色層をドライエッチングする。ドライエッチングの代表的な例としては、特開昭５９－１２６５０６号、特開昭５９－４６６２８号、同５８－９１０８号、同５８－２８０９号、同５７－１４８７０６号、同６１－４１１０２号などの各公報に記載の方法がある。
　ドライエッチングとしては、パターン断面をより矩形に近く形成する観点や支持体へのダメージをより低減する観点から、以下の形態で行なうのが好ましい。
　フッ素系ガスと酸素ガス（Ｏ2）との混合ガスを用い、支持体が露出しない領域（深さ）までエッチングを行なう第１段階のエッチングと、この第１段階のエッチングの後に、窒素ガス（Ｎ2）と酸素ガス（Ｏ2）との混合ガスを用い、好ましくは支持体が露出する領域（深さ）付近までエッチングを行なう第２段階のエッチングと、支持体が露出した後に行なうオーバーエッチングとを含む形態が好ましい。以下、ドライエッチングの具体的手法、並びに第１段階のエッチング、第２段階のエッチング、およびオーバーエッチングについて説明する。
　ドライエッチングは、下記手法により事前にエッチング条件を求めて行なう。
　（１）第１段階のエッチングにおけるエッチングレート（ｎｍ／ｍｉｎ）と、第２段階のエッチングにおけるエッチングレート（ｎｍ／ｍｉｎ）とをそれぞれ算出する。（２）第１段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間と、第２段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間とをそれぞれ算出する。（３）上記（２）で算出したエッチング時間に従って第１段階のエッチングを実施する。（４）上記（２）で算出したエッチング時間に従って第２段階のエッチングを実施する。あるいはエンドポイント検出でエッチング時間を決定し、決定したエッチング時間に従って第２段階のエッチングを実施してもよい。（５）上記（３）、（４）の合計時間に対してオーバーエッチング時間を算出し、オーバーエッチングを実施する。
　上記第１段階のエッチング工程で用いる混合ガスとしては、被エッチング膜である有機材料を矩形に加工する観点から、フッ素系ガスおよび酸素ガス（Ｏ２）を含むことが好ましい。また、第１段階のエッチング工程は、支持体が露出しない領域までエッチングする形態にすることで、支持体のダメージを回避することができる。また、上記第２段階のエッチング工程および上記オーバーエッチング工程は、第１段階のエッチング工程でフッ素系ガスおよび酸素ガスの混合ガスにより支持体が露出しない領域までエッチングを実施した後、支持体のダメージ回避の観点から、窒素ガスおよび酸素ガスの混合ガスを用いてエッチング処理を行なうのが好ましい。
　第１段階のエッチング工程でのエッチング量と、第２段階のエッチング工程でのエッチング量との比率は、第１段階のエッチング工程でのエッチング処理による矩形性を損なわないように決定することが重要である。なお、全エッチング量（第１段階のエッチング工程でのエッチング量と第２段階のエッチング工程でのエッチング量との総和）中における後者の比率は、０％より大きく５０％以下である範囲が好ましく、１０～２０％がより好ましい。エッチング量とは、被エッチング膜の残存する膜厚とエッチング前の膜厚との差から算出される量のことをいう。
　また、エッチングは、オーバーエッチング処理を含むことが好ましい。オーバーエッチング処理は、オーバーエッチング比率を設定して行なうことが好ましい。また、オーバーエッチング比率は、初めに行なうエッチング処理時間より算出することが好ましい。オーバーエッチング比率は任意に設定できるが、フォトレジストのエッチング耐性と被エッチングパターンの矩形性維持の点で、エッチング工程におけるエッチング処理時間の３０％以下であることが好ましく、５～２５％であることがより好ましく、１０～１５％であることが特に好ましい。
　次いで、エッチング後に残存するレジストパターン（すなわちエッチングマスク）を除去する。レジストパターンの除去は、レジストパターン上に剥離液または溶剤を付与して、レジストパターンを除去可能な状態にする工程と、レジストパターンを洗浄水を用いて除去する工程とを含むことが好ましい。
　レジストパターン上に剥離液または溶剤を付与し、レジストパターンを除去可能な状態にする工程としては、例えば、剥離液または溶剤を少なくともレジストパターン上に付与し、所定の時間停滞させてパドル現像する工程を挙げることができる。剥離液または溶剤を停滞させる時間としては、特に制限はないが、数十秒から数分であることが好ましい。
　また、レジストパターンを洗浄水を用いて除去する工程としては、例えば、スプレー式またはシャワー式の噴射ノズルからレジストパターンに洗浄水を噴射して、レジストパターンを除去する工程を挙げることができる。洗浄水としては、純水を好ましく用いることができる。また、噴射ノズルとしては、その噴射範囲内に支持体全体が包含される噴射ノズルや、可動式の噴射ノズルであってその可動範囲が支持体全体を包含する噴射ノズルを挙げることができる。噴射ノズルが可動式の場合、レジストパターンを除去する工程中に支持体中心部から支持体端部までを２回以上移動して洗浄水を噴射することで、より効果的にレジストパターンを除去することができる。
　剥離液は、一般には溶剤を含有するが、無機溶剤をさらに含有してもよい。溶剤としては、例えば、１）炭化水素系化合物、２）ハロゲン化炭化水素系化合物、３）アルコール系化合物、４）エーテルまたはアセタール系化合物、５）ケトンまたはアルデヒド系化合物、６）エステル系化合物、７）多価アルコール系化合物、８）カルボン酸またはその酸無水物系化合物、９）フェノール系化合物、１０）含窒素化合物、１１）含硫黄化合物、１２）含フッ素化合物が挙げられる。剥離液としては、含窒素化合物を含有することが好ましく、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことがより好ましい。
　非環状含窒素化合物としては、水酸基を有する非環状含窒素化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチルエタノールアミン、Ｎ－ブチルエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられ、好ましくはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであり、より好ましくはモノエタノールアミン(Ｈ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＯＨ)である。また、環状含窒素化合物としては、イソキノリン、イミダゾール、Ｎ－エチルモルホリン、ε－カプロラクタム、キノリン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、α－ピコリン、β－ピコリン、γ－ピコリン、２－ピペコリン、３－ピペコリン、４－ピペコリン、ピペラジン、ピペリジン、ピラジン、ピリジン、ピロリジン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－フェニルモルホリン、２，４－ルチジン、２，６－ルチジンなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチルモルホリンであり、より好ましくはＮ－メチル－２－ピロリドン(ＮＭＰ)である。
　剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことが好ましいが、中でも、非環状含窒素化合物として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、およびトリエタノールアミンから選ばれる少なくとも１種と、環状含窒素化合物として、Ｎ－メチル－２－ピロリドンおよびＮ－エチルモルホリンから選ばれる少なくとも１種とを含むことがより好ましく、モノエタノールアミンとＮ－メチル－２－ピロリドンとを含むことがさらに好ましい。
　剥離液で除去するときには、第１着色パターン１２の上に形成されたレジストパターン５２が除去されていればよく、第１着色パターン１２の側壁にエッチング生成物であるデポ物が付着している場合でも、上記デポ物が完全に除去されていなくてもよい。デポ物とは、エッチング生成物が着色層の側壁に付着し堆積したものをいう。
　剥離液としては、非環状含窒素化合物の含有量が、剥離液１００質量部に対して９質量部以上１１質量部以下であって、環状含窒素化合物の含有量が、剥離液１００質量部に対して６５質量部以上７０質量部以下であるものが望ましい。また、剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物との混合物を純水で希釈したものが好ましい。
　なお、本発明の製造方法は、必要に応じ、上記以外の工程として、固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法として公知の工程を有していてもよい。例えば、上述した、組成物層形成工程、露光工程およびパターン形成工程を行った後に、必要により、形成された着色パターンを加熱および／または露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。
　また、本発明に係る組成物を用いる場合、例えば、塗布装置吐出部のノズルや配管部の目詰まりや塗布機内への組成物や顔料の付着・沈降・乾燥による汚染等が生じる場合がある。そこで、本発明の組成物によってもたらされた汚染を効率よく洗浄するためには、前掲の本組成物に関する溶剤を洗浄液として用いることが好ましい。また、特開平７－１２８８６７号公報、特開平７－１４６５６２号公報、特開平８－２７８６３７号公報、特開２０００－２７３３７０号公報、特開２００６－８５１４０号公報、特開２００６－２９１１９１号公報、特開２００７－２１０１号公報、特開２００７－２１０２号公報、特開２００７－２８１５２３号公報などに記載の洗浄液も本発明に係る組成物の洗浄除去として好適に用いることができる。
　上記のうち、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートおよびアルキレングリコールモノアルキルエーテルが好ましい。
　これら溶剤は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。２種以上を混合する場合、水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤とを混合することが好ましい。水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤との質量比は、１／９９～９９／１、好ましくは１０／９０～９０／１０、さらに好ましくは２０／８０～８０／２０である。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）とプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）の混合溶剤で、その比率が６０／４０であることが特に好ましい。なお、汚染物に対する洗浄液の浸透性を向上させるために、洗浄液には前掲の本組成物に関する界面活性剤を添加してもよい。
＜カラーフィルタ＞
　本発明のカラーフィルタは、本発明の組成物を用いているため、露光マージンに優れた露光ができる共に、形成された着色パターン（着色画素）は、パターン形状に優れ、パターン表面の荒れや現像部における残渣が抑制されていることから、色特性に優れたものとなる。
　本発明のカラーフィルタは、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の固体撮像素子に好適に用いることができ、特に１００万画素を超えるような高解像度のＣＣＤやＣＭＯＳ等に好適である。本発明の固体撮像素子用カラーフィルタは、例えば、ＣＣＤまたはＣＭＯＳを構成する各画素の受光部と、集光するためのマイクロレンズと、の間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
　なお、本発明のカラーフィルタにおける着色パターン（着色画素）の膜厚としては、２．０μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましく、０．７μｍ以下がさらに好ましい。
　また、着色パターン（着色画素）のサイズ（パターン幅）としては、２．５μｍ以下が好ましく、２．０μｍ以下がより好ましく、１．７μｍ以下が特に好ましい。
　本発明のカラーフィルタは、トリアリールメタン化合物、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素、および硬化性化合物を含み、波長４５０～５００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最小値が８０％以上で、かつ、波長６５０～７００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最大値が２５％以下であることが好ましい。
　本発明のカラーフィルタは、波長４５０～５００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最小値が８４％以上であることが好ましく、９０％以上がより好ましい。
　本発明のカラーフィルタは、波長６５０～７００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最大値が２０％以下であることが好ましく、１５％以下がより好ましい。
　本発明のカラーフィルタは、トリアリールメタン化合物に対する、極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の質量比が０．２～１．５であることが好ましい。
　ここで、カラーフィルタの透過率とは、上記本発明の組成物を乾燥膜厚が０．６μｍとなるように塗布されたガラス基板を、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３６００）の分光光度計(ref．ガラス基板）で測定した値をいう。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、既述の本発明のカラーフィルタを有する。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明におけるカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ、等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、上記フォトダイオードおよび上記転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、上記デバイス保護膜上に、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタを有する構成である。
　さらに、上記デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
＜画像表示装置＞
　本発明のカラーフィルタは、上記固体撮像素子のみならず、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などの、画像表示装置に用いることができ、特に液晶表示装置の用途に好適である。本発明のカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、表示画像の色合いが良好で表示特性に優れた高画質画像を表示することができる。
　表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木　昭夫著、（株）工業調査会　１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹　順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田　龍男編集、（株）工業調査会　１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
　本発明のカラーフィルタは、カラーＴＦＴ（thin film transistor）方式の液晶表示装置に用いてもよい。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに、本発明はＩＰＳ（In-Place-Switching）などの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、ＳＴＮ（Super-twisted nematic）、ＴＮ（Twisted Nematic）、VA（Virtical Alignment）、ＯＣＳ（Optically Compensated. Splay）、ＦＦＳ(fringe field switching)、およびＲ－ＯＣＢ（R-Optically Compensated Bend）等にも適用できる。
　また、本発明におけるカラーフィルタは、明るく高精細なＣＯＡ（Color-filter On Array）方式にも供することが可能である。ＣＯＡ方式の液晶表示装置にあっては、カラーフィルタ層に対する要求特性は、前述のような通常の要求特性に加えて、層間絶縁膜に対する要求特性、すなわち低誘電率および剥離液耐性が必要とされることがある。本発明のカラーフィルタにおいては、色相に優れた色素多量体を用いることから、色純度、光透過性などが良好で着色パターン(画素）の色合いに優れるので、解像度が高く長期耐久性に優れたＣＯＡ方式の液晶表示装置を提供することができる。なお、低誘電率の要求特性を満足するためには、カラーフィルタ層の上に樹脂被膜を設けてもよい。
　これらの画像表示方式については、例えば、「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ－技術と市場の最新動向－（東レリサーチセンター調査研究部門　２００１年発行）」の４３ページなどに記載されている。
　また、本発明では、マイクロオーレッド方式（マイクロＯＬＥＤ）のディスプレイにも好ましく用いることができる。これらの画像表示方式については、例えば、「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ－技術と市場の最新動向－（東レリサーチセンター調査研究部門　２００１年発行）」の４３ページなどに記載されている。
　本発明におけるカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、本発明におけるカラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなど様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば、「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島　健太郎　（株）シーエムシー　１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。
　バックライトに関しては、SID meeting Digest 1380（2005）（A.Konno et.al）や、月刊ディスプレイ　２００５年１２月号の１８～２４ページ（島 康裕）、同２５～３０ページ（八木隆明）などに記載されている。
　以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその趣旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。
＜合成例＞
＜＜トリアリールメタン（Ｔ－１）の合成＞＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
　５．１５ｇ（１０ｍｍｏｌ）のＣ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ　Ｂｌｕｅ７を、塩化メチレン５０ｍＬ及び水１０ｍＬの混合液に添加し攪拌した。次に、ここにカリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド３．１９ｇ（１０ｍｍｏｌ）を添加し、２時間攪拌した。その後、この溶液から水層を除去し、塩化メチレン層を濃縮することで（Ｔ－１）７．２ｇを得た。
＜＜トリアリールメタン（Ｔ－２）の合成＞＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
特開２０００－１６２４２９号の合成例１に従い、（Ｔ－２ａ）を合成した。（Ｔ－２ａ）６．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン５０ｍＬ及び水１０ｍＬの混合液に添加し、攪拌した。次に、ここにカリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド３．１９ｇ（１０ｍｍｏｌ）を添加し、２時間攪拌した。その後、この溶液から水層を除去し、塩化メチレン層を濃縮することで（Ｔ－２）８．２ｇを得た。
＜＜トリアリールメタン（Ｔ－３）の合成＞＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
　（Ｔ－２）１０．０ｇ、メタクリル酸２．１ｇ、２，２’－アゾビス（イソ酪酸メチル）０．５ｇ、及び１－ドデカンチオール０．８ｇをシクロヘキサノン２８．２ｇに溶解させた。この溶液を、窒素気流下で７５℃に加熱したシクロヘキサノン１０．０ｇに２時間かけて滴下し、さらに２時間攪拌後、９０℃で２時間加熱した。５０℃に放冷後、この溶液に、メタクリル酸グリシジル１．４ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０１ｇ、及びｐ－メトキシフェノール０．０１ｇを添加し、空気雰囲気下、１００℃で２４時間加熱した。放冷後、この溶液を、メタノール５０ｍＬ及びイオン交換水２５０ｍＬの混合液に滴下した。得られた固体をろ過で採取し、４０℃で乾燥することで（Ｔ－３）１２．５ｇを得た。得られた（Ｔ－３）の重量平均分子量は９，０００で、酸価は６５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
＜＜トリアリールメタン（Ｔ－４）の合成＞＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
　（Ｔ－２）８．４７ｇ（１０ｍｍｏｌ）、イタコン酸１．３０ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２－メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）２．６１ｇ（３．３ｍｍｏｌ）及び１－メトキシ－２－プロパノール２２．１ｇを窒素気流下、９０℃に加熱した。次に、２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．１０ｇを２時間毎に計３回添加した。放冷後、メタノール５０ｍＬ、イオン交換水２５０ｍＬの溶液に反応液を滴下し、得られた固体をろ過で採取し、４０℃で乾燥することで（Ｔ－４）８．５ｇを得た。得られた（Ｔ－４）の重量平均分子量は４，８００で、酸価は８９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
　上記化合物（Ｔ－４）中、Ａは下記構造（Ｌ４－１１）を表す。下記構造中、＊は連結部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
＜＜トリアリールメタン（Ｔ－５）の合成＞＞

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
　（Ｔ－２）８．４７ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２－メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）２．６１ｇ（３．３ｍｍｏｌ）及び１－メトキシ－２－プロパノール２２．１ｇを窒素気流下、９０℃に加熱した。次に、２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．１０ｇを２時間毎に計３回添加し、１００℃で３時間加熱することで（ｔ－１）を含む１－メトキシ－２－プロパノール溶液を得た。放冷後、メタクリル酸１．７２ｇ（２０ｍｍｏｌ）を添加し、窒素気流下で８０℃に加熱した。次に、２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．１０ｇを２時間毎に計３回添加し、１００℃で３時間加熱することで（ｔ－２）を含む１－メトキシ－２－プロパノール溶液を得た。放冷後、メタクリル酸グリシジル１．４２ｇ（１０ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０１ｇ、ｐ－メトキシフェノール０．０１ｇ添加し、空気雰囲気下、１００℃で２４時間加熱した。放冷後、メタノール５０ｍＬ、イオン交換水２５０ｍＬの溶液に滴下し、得られた固体をろ過で採取し、４０℃で乾燥することで（Ｔ－５）１３．２ｇを得た。得られた（Ｔ－５）の重量平均分子量は７，２００で、酸価は４０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、上記化合物（Ｔ－５）中、Ａは上記構造（Ｌ４－１１）を表す。
＜＜トリアリールメタン（Ｔ－６）の合成＞＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
　（Ｔ－２）８．４７ｇ（１０ｍｍｏｌ）、３－メルカプト―１，２－プロパンジオール０．２４ｇ（２０ｍｍｏｌ）及び１－メトキシ－２－プロパノール２２．１ｇを窒素気流下、９０℃に加熱した。次に、２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．１０ｇを２時間毎に計３回添加し、１００℃で３時間加熱した。放冷後、得られた反応液をエバポレーターを用いて濃縮した。濃縮物をクロロホルムと５質量％の重曹水溶液で分液した後、有機層をエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮物をカラム精製（充填剤：シリカゲル、溶離液：クロロホルムとメタノールの混合用液）し、（ｔ－３）を７．１２ｇ得た。（ｔ－３）６．７１ｇ（７ｍｍｏｌ）、ピロメリット酸無水物２．１８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２，３－ジヒドロキシプロピル３ｍｍｏｌ（０．４８ｇ）及びＮ－メチルピロリドン１８．１ｇを加え、窒素気流下１００℃に加熱した。次にモノブチルスズオキシド０．０１０ｇ添加し２４時間攪拌した。放冷後、１ｍｏｌ／ｌ塩酸水２００ｍＬに滴下し、ろ過した。得られたろ物をメタノール５０質量％水溶液２００ｍＬで洗浄し、乾燥することで（Ｔ－６）６．３３ｇを得た。得られた（Ｔ－６）の重量平均分子量は９，６００で、酸価は１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
＜＜色素（Ｄ－５）の合成＞＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
　（Ｄ－２）８．１５ｇ（１０ｍｍｏｌ）、イタコン酸１．３０ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２－メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）２．６１ｇ（３．３ｍｍｏｌ）及び１－メトキシ－２－プロパノール２２．１ｇを混合し、この溶液を窒素気流下、９０℃に加熱した。次に、この溶液に、２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．１０ｇを２時間毎に計３回添加した。放冷後、この溶液を、メタノール５０ｍＬ及びイオン交換水２５０ｍＬの混合液に滴下した。得られた固体をろ過で採取し、４０℃で乾燥することで（Ｄ－５）８．５ｇを得た。得られた（Ｄ－５）の重量平均分子量は４，２００で、酸価は９２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
　上記化合物（Ｄ－５）中、Ａは上記構造（Ｌ４－１１）を表す。
＜＜色素（Ａ－１）の合成＞＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
　モノマー（Ｘ－１）１６．４ｇ、メタクリル酸１．６０ｇ、ドデシルメルカプタン０．５１ｇ、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」とも称する。）４６．６ｇを混合し、この溶液の半量を三口フラスコに添加し、窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。残りの溶液に２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．５８ｇを添加して溶解させ、これを上述の三口フラスコに２時間かけて滴下した。その後３時間攪拌した後、９０℃に昇温し、２時間加熱攪拌した。次に、この反応液に、メタクリル酸グリシジル１．６０ｇ及びテトラブチルアンモニウムブロミド０．１０ｇを添加し、９０℃で１０時間加熱した。室温まで冷却後、この反応液を、メタノール／イオン交換水＝１００ｍＬ／１０ｍＬの混合溶媒に滴下して再沈した。ろ過後、４０℃で送風乾燥を２日行った後、色素多量体（Ａ－１）を１５．６ｇ得た。得られた（Ａ－１）の重量平均分子量は７，５００で、酸価は３０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
＜極大吸収波長の測定方法＞
　色素１００ｍｇをテトラヒドロフラン２００ｍＬに溶解させ、この溶液２ｍＬにテトラヒドロフランを加え、２００ｍＬにした。この溶液をＣａｒｙ５０００　ＵＶ－Ｖｉｓ－ＮＩＲ分光光度計（アジレント・テクノロジー製）で４００～８００ｎｍまで測定し極大吸収波長を測定した。
１．レジスト液の調製
　下記組成の成分を混合して溶解し、下塗り層用レジスト液を調製した。
＜下塗り層用レジスト液の組成＞
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（ＰＧＭＥＡ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１９．２０部
・溶剤：乳酸エチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６．６７部
・アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸／メタクリル酸－２－ヒドロキシエチル共重合体（モル比＝６０／２２／１８、重量平均分子量１５，０００、数平均分子量９，０００）の４０％ＰＧＭＥＡ溶液
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０．５１部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬製））　　　　　　　１２．２０部
・重合禁止剤：ｐ－メトキシフェノール　　　　　　　　　０．００６１部
・フッ素系界面活性剤：Ｆ－４７５、ＤＩＣ製　　　　　　　　０．８３部
・光重合開始剤：トリハロメチルトリアジン系の光重合開始剤
（ＴＡＺ－１０７、みどり化学製）　　　　　　　　　　　　０．５８６部
２．下塗り層付シリコンウエハ基板の作製
　６インチのシリコンウエハをオーブン中で２００℃のもと３０分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハ上に、上記レジスト液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布し、さらに２２０℃のオーブン中で１時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハ基板を得た。
３．組成物の調製
＜実施例１～３３、比較例１～３の組成物＞
　下記の各成分を混合して分散、溶解し、０．４５μｍナイロンフィルタでろ過することにより、実施例１～３３、比較例１～３の各組成物を得た。
・トリアリールメタン化合物（トリアリールメタン（Ａ））　　表４に記載
・色素（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　表４に記載
　トリアリールメタン化合物と色素（Ｂ）の合計は、６０部である。
・色素（Ｃ）　　　　　　　　　　　　　　　　　配合する場合は、１０部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
・アルカリ可溶性樹脂（下記Ｊ１またはＪ２：下記表に記載の化合物）５部
・ソルスパース２００００
（１％シクロヘキサン溶液、日本ルーブリゾール製）　　　　　　　　１部
・光重合開始剤（下記（Ｉ－１）～（Ｉ－８）：下記に記載の化合物）１部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬製））　　　　　　　　　　１０部
・グリセロールプロポキシレート（１％シクロヘキサン溶液）　　０．１部
　下記（Ｉ－１）はＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－ＯＸＥ０１、（Ｉ－２）はＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ製）、（Ｉ－３）はＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）－３７９、（Ｉ－４）はＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）－ＴＰＯ（以上、いずれもＢＡＳＦ製）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
　アルカリ可溶性樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
　上記化合物（Ｄ－５）中、Ａは下記構造（Ｌ４－１１）を表す。下記構造中、＊は連結部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
　色素（Ａ－２）、色素（Ａ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
　上記（Ａ－２）において、色素構造を含む繰り返し単位、酸基を含む繰り返し単位、重合性基を含む繰り返し単位のモル比は、５１：１９：３０であり、Ｍｗは８５００である。
　色素（Ａ－４）
　特開２０１４－１９９４３６に記載の方法で合成した。
　酸価＝１．０１ｍｍｏｌ／ｇ
　ａ／ｂ／ｃ／ｄ＝３６／１２／３２／２０（ｍｏｌ％）
　Ｍｗ＝１３，０００
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
　色素（Ａ－５）
　特開２０１４－１９９４３６に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000113
４．組成物によるカラーフィルタの作製
＜パターン形成＞
　上記のように調製した実施例および比較例の組成物の各々を、上記「２．下塗り層付シリコンウエハ基板の作製」で得られた下塗り層付シリコンウエハ基板の下塗り層上に塗布し、組成物層（塗布膜）を形成した。そして、この塗布膜の乾燥膜厚が０．６μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行なった。
　次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ製）を使用して３６５ｎｍの波長でパターンが１．０μｍ四方のＩｓｌａｎｄパターンマスクを通して５０～１２００ｍＪ／ｃｍ2の種々の露光量で露光した。
　その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハ基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ－２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ない、シリコンウエハ基板に着色パターンを形成した。
　着色パターンが形成されたシリコンウエハを、真空チャック方式で上記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって上記シリコンウエハ基板を回転数５０ｒ．ｐ．ｍ．で回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴射ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥した。
　以上のようにして、実施例または比較例の組成物により形成された着色パターンを有する単色のカラーフィルタを作製した。
　その後、測長ＳＥＭ（scanning electron microscope）「Ｓ－９２６０Ａ」（日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、着色パターンのサイズを測定した。パターンサイズが１．０μｍとなる露光量を最適露光量とした。
５．性能評価
５－１．耐光性
　耐光性（光堅牢性）を評価する指標として、光照射前後における色差（ΔＥ＊ａｂ値）を測定した。具体的には、上記で得た組成物を、ガラス基板上に、乾燥膜厚が０．６μｍとなるように塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜に、キセノンランプを１０万ｌｕｘで２０時間照射（２００万ｌｕｘ・ｈ相当）し、照射前後についての色差（ΔＥ＊ａｂ値）を測定した。色差（ΔＥ＊ａｂ値）の測定には、色度計ＭＣＰＤ－１０００（大塚電子製）を用いた。ΔＥ＊ａｂ値は、値の小さい方が、耐光性が良好なことを示す。なお、ΔＥ＊ａｂ値は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編 新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥ＊ａｂ＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２
５－２．耐熱性
　耐熱性（熱堅牢性）を評価する指標として、加熱前後における色差（ΔＥ＊ａｂ値）を測定した。具体的には、上記で得た組成物を、ガラス基板上に、乾燥膜厚が０．６μｍとなるように塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜を、ガラス基板面で接するように２００℃のホットプレートに載置して１時間加熱し、加熱前後についての色差（ΔＥ＊ａｂ値）を測定した。色差（ΔＥ＊ａｂ値）の測定には、色度計ＭＣＰＤ－１０００（大塚電子製）を用いた。ΔＥ＊ａｂ値は、値の小さい方が、耐熱性が良好なことを示す。
５－３．透過率
　上記で得た組成物を、ガラス基板上に、乾燥膜厚が０．６μｍとなるように塗布し、塗布膜を形成した。紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３６００（島津製作所製）の分光光度計(ref．ガラス基板）を用いて、４００ｎｍ～４５０ｎｍ、５００ｎｍ、６５０ｎｍ～７００ｎｍの波長域で、この塗布膜の透過率を測定した。４００ｎｍ～４５０ｎｍ及び６５０ｎｍ～７００ｎｍの波長域の透過率は、５ｎｍ毎の透過率の平均値を透過率とした。
５－４．現像欠陥
　上記パターン形成で得られた着色パターン２００個をＳＥＭにより観察し、現像欠陥の有無を確認した。現像欠陥が多いほど歩留まりに悪影響を及ぼす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000114
　上記表から明らかなとおり、本発明の組成物を用いてフォトレジストによってカラーフィルタを作製した場合、耐光性、耐熱性、分光特性、現像欠陥抑制に優れていることが分かった。
　上記「３．組成物の調製」において、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを、同質量のＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ（新中村化学工業製）に変更して組成物を調製し、この組成物を用いて性能評価したところ同様の結果が得られた。
６．ドライエッチング法を適用したパターン形成
組成物の調製
　下記成分を混合・溶解して、実施例３４～６０、比較例４～６の各組成物を得た。
・トリアリールメタン化合物　　　　　　　　　　　　　　　　表５に記載
・色素（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　表５に記載
　トリアリールメタン化合物と色素（Ｂ）の合計は、６０部である。
・色素（Ｃ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　配合する場合は１０部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
・ソルスパース２００００
（１％シクロヘキサン溶液、日本ルーブリゾール製　　　　　　　　　１部
・熱硬化性化合物（ＥＨＰＥ－３１５０（ダイセル化学製、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物））　　　　　　　　　　　　　　１５部
・グリセロールプロポキシレート（１％シクロヘキサン溶液）０．０４８部
７．性能評価
　下記のように着色パターンを形成し、この着色パターンについてパターン欠損を評価した。ガラス基板上に、上記組成物を乾燥後の膜厚が０．６μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、２２０℃のホットプレートを用いて３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、着色膜を作製した。
　この着色膜上にポジ型フォトレジスト「ＦＨｉ６２２ＢＣ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を塗布し、プリベークを実施し、膜厚０．８μｍのフォトレジスト層を形成した。続いて、フォトレジスト層を、ｉ線ステッパー（キャノン製）を用い、３５０ｍＪ／ｃｍ2の露光量でパターン露光し、フォトレジスト層の温度または雰囲気温度が９０℃となる温度で１分間、加熱処理を行なった。その後、現像液「ＦＨＤ－５」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）で１分間の現像処理を行ない、さらに１１０℃で１分間のポストベーク処理を実施して、レジストパターンを形成した。このレジストパターンのサイズは、エッチング変換差（エッチングによるパターン幅の縮小）を考慮して、一辺１．０μｍで形成した。
　次に、ドライエッチングを以下の手順で行った。
　ドライエッチング装置（日立ハイテクノロジーズ製、Ｕ－６２１）にて、ＲＦパワー：８００Ｗ、アンテナバイアス：４００Ｗ、ウエハバイアス：２００Ｗ、エッチングチャンバーの内部圧力：４．０Ｐａ、基板温度：５０℃、混合ガスのガス種及び流量をＣＦ４：８０ｍＬ／ｍｉｎ．、Ｏ２：４０ｍＬ／ｍｉｎ．、Ａｒ：８００ｍＬ／ｍｉｎ．として、８０秒の第１段階のエッチング処理を実施した。
　次いで、同一のエッチングチャンバーにて、ＲＦパワー：６００Ｗ、アンテナバイアス：１００Ｗ、ウエハバイアス：２５０Ｗ、チャンバーの内部圧力：２．０Ｐａ、基板温度：５０℃、混合ガスのガス種及び流量をＮ２：５００ｍＬ／ｍｉｎ．、Ｏ２：５０ｍＬ／ｍｉｎ．、Ａｒ：５００ｍＬ／ｍｉｎ．とし（Ｎ２／Ｏ２／Ａｒ＝１０／１／１０）、２８秒の第２段階のエッチング処理を実施した。
　上記条件でドライエッチングを行った後、フォトレジスト剥離液「ＭＳ２３０Ｃ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を使用して１２０秒間、剥離処理を実施してレジストを除去し、更に純水による洗浄、スピン乾燥を実施した。その後、１００℃で２分間の脱水ベーク処理を行った。このようにして、ガラス基板上に着色パターンを形成した。
　上述のようにして形成された着色パターン２００個をＳＥＭにより観察し、現像欠陥の有無を確認した。現像欠陥が多いほど歩留まりに悪影響を及ぼす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000115
　上記表から明らかなとおり、本発明の組成物を用いてドライエッチングによってカラーフィルタを作製した場合パターン欠損抑制に優れていることが分かった。さらに、実施例３４～６０について、耐光性、耐熱性、及び透過率を上述の方法に従って測定したところ、実施例１～３３と同様の傾向が見られた。また、比較例４～６について、耐光性、耐熱性、及び透過率を上述の方法に従って測定したところ、比較例４～６と同様の傾向が見られた。

Claims (19)

  1. 　トリアリールメタン化合物、
    　極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素、および
    　硬化性化合物、
    　を含み、
    　前記トリアリールメタン化合物に対する、前記極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の質量比が０．２～１．５である組成物。
  2. 　前記トリアリールメタン化合物が、５８０～６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する、請求項１に記載の組成物。
  3. 　前記トリアリールメタン化合物と、前記極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素の極大吸収波長の差が１００～１５０ｎｍである、請求項１又は２に記載の組成物。
  4. 　前記トリアリールメタン化合物が、エチレン性不飽和結合性基を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 　前記トリアリールメタン化合物が多量体である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 　前記極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が、フタロシアニン化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、ナフトキノン化合物及びアゾ化合物から選択される１種以上である、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 　前記極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が、フタロシアニン化合物またはスクアリリウム化合物を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. 　前記極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が、エチレン性不飽和結合性基を有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 　前記極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素が多量体である、請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物。
  10. 　極大吸収波長を５００～６００ｎｍの範囲に有する色素をさらに含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の組成物。
  11. 　カラーフィルタ用である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の組成物。
  12. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載の組成物を硬化してなる硬化膜。
  13. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、
    　前記組成物層をパターン状に露光する工程と、
    　露光された前記組成物層の未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程と、
    　を含むパターン形成方法。
  14. 　請求項１３に記載のパターン形成方法を含む、カラーフィルタの製造方法。
  15. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程と、
    　前記着色層上にフォトレジスト層を形成する工程と、
    　前記フォトレジスト層を露光および現像することにより前記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、
    　前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記着色層をドライエッチングする工程と、
    　を含む、カラーフィルタの製造方法。
  16. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載の組成物を用いて製造されたカラーフィルタ、または、請求項１４または１５に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
  17. 　トリアリールメタン化合物、および
    　極大吸収波長を６５０～７５０ｎｍの範囲に有する色素、
    　を含み、
    　波長４５０～５００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最小値が８０％以上であり、かつ、波長６５０～７００ｎｍの範囲における厚み方向の透過率の最大値が２５％以下である、カラーフィルタ。
  18. 　請求項１６または１７に記載のカラーフィルタを有する固体撮像素子。
  19. 　請求項１６または１７に記載のカラーフィルタを有する画像表示装置。
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