JP6339208B2 - 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、および画像表示装置 - Google Patents

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    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/106—Esters of polycondensation macromers
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Description

本発明は着色組成物に関する。特に、固体撮像素子、画像表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造に好適な着色組成物に関する。また、着色組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置に関する。
近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサーなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。これらのディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されており、更なる高感度化・小型化の要求が高まっている。このようなカラーフィルタは、通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の３原色の着色パターンを備えており、透過光を３原色へ分解する役割を果たしている。
カラーフィルタに使用されている着色剤には、共通して以下のような性質を有していることが求められる。即ち、色再現性上好ましい光吸収特性を有すること、耐光性が良好であること等が必要とされている。
例えば、特許文献１には、溶剤溶解性と堅牢性に優れたキノフタロン色素として、一分子中に、キノフタロン色素に由来する色素構造を２〜６個有するキノフタロン色素が開示されている。
一方、特許文献２には、顔料に対する吸着能を有する部位を一分子中に２〜９個有する顔料分散剤が開示されている。顔料に対する吸着能を有する部位として、有機色素構造、複素環構造、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基、水酸基などが挙げられている。
特開２０１３−２０９４３５号公報 特開２００７−２７７５１４号公報
カラーフィルタなどに用いる着色組成物においては、パターン形成における加熱硬化時の耐熱性、色移り性のさらなる改善が求められている。
本発明者らが、特許文献１に開示された色素を含む着色組成物について検討したところ、加熱硬化時に分解が生じ、耐熱性や色移り性に劣ることが分かった。
一方、特許文献２の顔料分散剤について検討したところ、耐熱性は有しているものの、過度の高温環境ではエステル基とそれに隣接するエチレン基との間で分解が起こり易いことが分かった。
本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、耐熱性ならびに色移り性に優れた着色組成物を提供することを目的とする。また、かかる着色組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置を提供することを目的とする。
本発明者らは詳細に検討した結果、分岐状に２〜１４個の色素構造を有する色素多量体において、特定の連結基と隣接して炭素原子数３以上を隔てた基を導入することによって、色素多量体を含む着色組成物の耐熱性ならびに色移り性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
具体的には、下記手段＜１＞により、好ましくは、＜２＞〜＜２２＞により、上記課題は解決された。
＜１＞下記一般式（１）で示される色素および硬化性化合物を含有する着色組成物；一般式（１）
（Ｄ―Ｌ1―Ｙ―Ｘ―） n―Ｒ1―（Ｒ2） m一般式（１）中、Ｒ1は、ｍ＋ｎ価の連結基を表し、Ｘは、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―、―Ｃ（＝Ｏ）―、―Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ10―、―Ｏ―、―Ｓ（＝Ｏ）―、または、―ＳＯ2―を表し、Ｒ10は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙは、アルキレン基を表し、Ｌ1は、単結合または２価の連結基を表し、Ｄは、色素構造を表し、Ｒ2は、１価の置換基を表す；ｍは、１〜１３の整数を表し、ｎは、２〜１４の整数を表し、ｍ＋ｎは、３〜１５の整数を表す；ｍが２以上の場合、複数のＲ2は互いに異なっていても良く、ｎが２以上の場合、複数のＤは互いに異なっていても良い；Ｌ1が２価の連結基の場合は、Ｌ1とＸとは、Ｙにより炭素原子数として３以上隔てられており、Ｌ1が単結合の場合はＤとＸとは、Ｙにより炭素原子数として３以上隔てられている；Ｄ、Ｌ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙのうち少なくとも1つは酸基を有する。
＜２＞一般式（１）におけるＤが、ジピロメテン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、アントラキノン色素、キノフタロン色素、フタロシアニン色素、サブフタロシアニン色素、およびアゾ色素から選ばれる色素に由来する、＜１＞に記載の着色組成物。
＜３＞一般式（１）におけるＤが、カチオン部位と対アニオンとを有するか、または、一分子内にカチオン部位とアニオン部位とを有し、対アニオンが、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、ビス（アルキルスルホニル）イミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、およびＳｂＦ6 -から選ばれる少なくとも１種であり、アニオン部位が、スルホニルイミドアニオンである、＜１＞または＜２＞に記載の着色組成物。
＜４＞一般式（１）におけるＹが、無置換の直鎖アルキレン基である、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜５＞一般式（１）におけるＲ2が、酸基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を含有する、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜６＞一般式（１）におけるＲ2が、繰り返し単位を含有し、繰り返し単位の個数の平均値が２〜２０個である、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜７＞一般式（１）におけるＸが、＊―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―＃であり、＊はＹに結合し＃はＲ1に結合する、＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜８＞一般式（１）で示される色素が、エチレン性不飽和結合を有する基を含有する、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜９＞一般式（１）におけるＲ2が、エチレン性不飽和結合を有する基を含有する、＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜１０＞一般式（１）におけるＲ1が、
下記一般式（２）で示される連結基、
下記一般式（３）で示される連結基、
複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
または、
少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである、＜１〜９のいずれかに記載の着色組成物；一般式（２）

一般式（２）中、Ｚは、それぞれ独立に、ＣＲまたはＮを表し、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合またはｐ価の連結基を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、ａは１〜６の整数を表し、ｐは２以上の整数を表し、Ｌ2がｐ価の連結基の場合、Ｌ2は複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、または、少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである；一般式（３）

一般式（３）中、Ｌ3は、それぞれ独立に、単結合またはｑ価の連結基を表し、ｑは２以上の整数を表し、Ｌ3がｑ価の連結基の場合、Ｌ3は複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、または、少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである。
＜１１＞一般式（１）におけるＬ1が、
単結合、
―Ｓ―、
複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
または、
少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである、
＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜１２＞一般式（１）におけるｍが１〜５であり、ｎが２〜８である、＜１＞〜＜１１＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜１３＞一般式（１）で示される色素の重量平均分子量が、２０００〜１５０００である、＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜１４＞さらに、一般式（１）で示される色素以外の顔料を含む、＜１＞〜＜１３＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜１５＞さらに、光重合開始剤を含む、＜１＞〜＜１４＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜１６＞カラーフィルタの着色層形成用である、＜１＞〜＜１５＞のいずれかに記載の着色組成物。
＜１７＞＜１＞〜＜１５＞のいずれかに記載の着色組成物を硬化して得られた硬化膜。
＜１８＞＜１＞〜＜１５＞のいずれかに記載の着色組成物を用いてなるカラーフィルタ。＜１９＞＜１＞〜＜１５＞のいずれかに記載の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成する工程と、着色組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
＜２０＞＜１＞〜＜１５＞のいずれかに記載の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程と、
着色層上にフォトレジスト層を形成する工程と、
露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、
レジストパターンをエッチングマスクとして着色層をドライエッチングする工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
＜２１＞＜１８＞に記載のカラーフィルタ、または、＜１９＞もしくは＜２０＞に記載のカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタを有する固体撮像素子。
＜２２＞＜１８＞に記載のカラーフィルタ、または、＜１９＞もしくは＜２０＞に記載のカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタを有する画像表示装置。
本発明によれば、耐熱性ならびに色移り性に優れた着色組成物および色素を提供可能となった。また、かかる着色組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置を提供可能になった。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書における基（原子団）の表記に於いて、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書中における「活性光線」または「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ（Extreme ultraviolet lithography）光）、Ｘ線、電子線等を意味する。また、本発明において光とは、活性光線または放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、ＥＵＶ光などによる露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、全固形分とは、着色組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
固形分とは、２５℃における固形分をいう。
本明細書において、“（メタ）アクリレート”はアクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、“（メタ）アクリル”はアクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本明細書における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。本明細書において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基を言う。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ リチウムブロミドＮＭＰ(Ｎ−メチルピロリジノン)溶液を用いることによって求めることができる。
＜着色組成物＞
本発明の着色組成物は、後述する一般式（１）で示される色素および硬化性化合物を含有する。
上記構成とすることにより、耐熱性ならびに色移り性に優れた着色組成物を提供することができる。
このような効果が得られる理由については、未だ明確ではないが、後述する一般式（１）で表される色素は、Ｘで表される基に結合する連結基Ｙとして、メチレン基及びエチレン基では熱分解しやすかったところ、炭素原子数３以上を隔てるアルキレン基を導入したことによって、高温における熱分解が抑制され、耐熱性ならびに色移り性が良好になったものと推測される。以下、本発明について詳細に説明する。
＜＜一般式（Ｉ）で示される色素＞＞
本発明の着色組成物は、下記一般式（１）で表される色素（以下、単に「色素（Ａ）」ということがある。）の少なくとも１種を含有する。
色素（Ａ）は、分岐状に２〜１４個の色素構造を有する色素多量体である。色素（Ａ）は、本発明の着色組成物において、例えば着色剤として機能する。
一般式（１）
（Ｄ―Ｌ1―Ｙ―Ｘ―） n―Ｒ1―（Ｒ2） m
一般式（１）中、Ｒ1は、ｍ＋ｎ価の連結基を表し、
Ｘは、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―、―Ｃ（＝Ｏ）―、―Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ10―、―Ｏ―、―Ｓ（＝Ｏ）―、または、―ＳＯ2―を表し、Ｒ10は水素原子またはアルキル基を表し、
Ｙは、アルキレン基を表し、
Ｌ1は、単結合または２価の連結基を表し、
Ｄは、色素構造を表し、
Ｒ2は、１価の置換基を表し、
ｍは、１〜１３の整数を表し、
ｎは、２〜１４の整数を表し、
ｍ＋ｎは、３〜１５の整数を表し、
ｍが２以上の場合、複数のＲ2は互いに異なっていても良く、ｎが２以上の場合、複数のＤは互いに異なっていても良く、
Ｌ1が２価の連結基の場合は、Ｌ1とＸとは、Ｙにより炭素原子数として３以上隔てられており、Ｌ1が単結合の場合はＤとＸとは、Ｙにより炭素原子数として３以上隔てられており、
Ｄ、Ｌ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙのうち少なくとも1つは酸基を有する。
一般式（１）中、ｍは１〜１３を表す。ｍとしては、１〜５が好ましく、１〜４の整数がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
一般式（１）中、ｎは２〜１４を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。
一般式（１）中、ｍ＋ｎは、３〜１５を表す。
１つの色素（Ａ）における、ｍおよびｎは、それぞれ整数であるが、本発明の着色組成物は、色素（Ａ）におけるｍ、ｎが異なるものを複数含んでいてもよい。従って、本発明の着色組成物中の、ｍおよびｎの平均値は整数にならない場合がある。
本発明において、１つの色素（Ａ）における、ｍは１〜１３の整数を表し、ｎは２〜１４の整数を表し、ｍ＋ｎは、３〜１５の整数を表すことが好ましい。
例えば、色素（Ａ）が、一般式（１）におけるｍが３で、ｎが１の色素ａ１を５０質量％と、ｍが２で、ｎが２の色素ａ２を５０質量％含有する混合物である場合、ｍの平均値は、２．５で、ｎの平均値は、１．５となるが、この混合物に含まれる上記色素ａ２は、ｍが１〜１３の整数で、ｎが２〜１４の整数で、ｍ＋ｎが３〜１５の整数の条件を満たすので、本発明の色素（Ａ）に該当する。
また、色素（Ａ）が、複数の色素（Ａ）の混合物である場合は、ｍの平均値が１〜１３で、ｎの平均値が２〜１４であることが好ましい。
＜＜＜Ｒ1＞＞＞
一般式（１）中、Ｒ1は、ｍ＋ｎ価の連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１５を満たす。
Ｒ1で表されるｍ＋ｎ価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
Ｒ1が表すｍ＋ｎ価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。
Ｒ1が表すｍ＋ｎ価の連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から４０個までの酸素原子、１個から１２０個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましい。より好ましくは、１から５０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から３０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ基である。更に好ましくは、１から４０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２０個までの酸素原子、１個から８０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ基である。
Ｒ1が表すｍ＋ｎ価の連結基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１６のアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１〜６のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。
Ｒ1が表すｍ＋ｎ価の連結基としては、
下記一般式（２）で示される連結基、
下記一般式（３）で示される連結基、
複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
または、
少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、
のいずれかであることが好ましい。
ここで、主鎖とは、連結基の骨格部分を指し、置換基は含まない。また、ヘテロ原子とは、炭素原子以外の２価以上の価数を有する原子を表し、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子が例として挙げられる。
一般式（２）
一般式（２）中、Ｚは、それぞれ独立に、ＣＲ20またはＮを表し、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合またはｐ価の連結基を表し、Ｒ20は水素原子または置換基を表し、ａは１〜６の整数を表し、ｐは２以上の整数を表し、Ｌ2がｐ価の連結基の場合、Ｌ2は複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、または、少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである。
一般式（２）中、Ｒ20は水素原子または置換基を表し、置換基としては、Ｒ1が有していてもよい置換基として上記したものが例として挙げられる。
一般式（２）で表される連結基の価数がｍ＋ｎであることを満たすように、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合またはｐ価の連結基を表し、ａは１〜６の整数を表し、ｐは２以上の整数を表す。
一般式（３）
一般式（３）中、Ｌ3は、それぞれ独立に、単結合またはｑ価の連結基を表し、ｑは２以上の整数を表し、Ｌ3がｑ価の連結基の場合、Ｌ3は複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、または、少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである。
Ｒ1が表すｍ＋ｎ価の連結基としては、さらに好ましくは、アルキレン基、または、アルキレン基とエステル基の組み合わせからなる基であって、主鎖が、炭素原子を３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、あるいは、主鎖が、炭素原子を５つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基である。
一般式（３）で表される連結基の価数がｍ＋ｎであることを満たすように、Ｌ3は、それぞれ独立に、単結合またはｑ価の連結基を表し、ｑは２以上の整数を表す。
Ｒ1で表されるｍ＋ｎ価の連結基の具体的な例を以下に示す。以下において、「＃」はＸまたはＲ2との結合手であることを表し、ｐ１〜ｐ３、ｑ１〜ｑ４、ｒ１〜ｒ６はそれぞれ０以上の整数を表す。ｐ１＋ｐ２＋ｐ３、ｑ１＋ｑ２＋ｑ３＋ｑ４、ｒ１＋ｒ２＋ｒ３＋ｒ４＋ｒ５＋ｒ６はそれぞれ１以上の整数を表し、４０以下が好ましい。
但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
Ｒ1で表されるｍ＋ｎ価の連結基は、上記のうち、（１）〜（１４）が好ましく、（１）〜（６）、（９）〜（１１）がより好ましく、（１）〜（３）、（９）、（１１）が特に好ましい。
＜＜＜Ｘ＞＞＞
一般式（１）中、Ｘは、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―、―Ｃ（＝Ｏ）―、―Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ10―、―Ｏ―、―Ｓ（＝Ｏ）―、または、―ＳＯ2―を表し、Ｒ10は水素原子またはアルキル基を表す。Ｘが、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―、または―Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ10―の場合、結合の向きはどちらでも良い。つまり、カルボニル炭素は、Ｙに結合してもよいし、Ｒ1に結合してもよい。
Ｘは、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―または―Ｏ―であることが好ましく、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―であることがより好ましく、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―であってカルボニル炭素がＹに結合することが更に好ましい。つまり、Ｘは、＊―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―＃であり、＊はＹに結合し＃はＲ1に結合することが更に好ましい。
＜＜＜Ｙ＞＞＞
一般式（１）中、Ｙは、アルキレン基を表し、アルキレン基は、直鎖状、分岐状、または環状のいずれであっても良く、直鎖状であることが好ましい。また、無置換でもあってもよく、置換基を更に有していてもよいが、無置換が好ましい。置換基としては、Ｒ1が有していてもよい置換基で説明したものが挙げられる。Ｙは、無置換の直鎖アルキレン基であることが好ましい。
Ｌ1が２価の連結基の場合は、Ｌ1とＸとは、アルキレン基であるＹにより炭素原子数として３以上隔てられており、Ｌ1が単結合の場合はＤとＸとは、アルキレン基であるＹにより炭素原子数として３以上隔てられている。ここで、炭素原子数は、Ｌ1とＸ（但し、Ｌ1が単結合の場合はＤとＸ）とを連結する主鎖に存在する最短の炭素の数を指し、置換された炭素の数は含まない。つまり、下記一般式（Ｂ）および（Ｃ）は、Ｌ1とＸとを連結するアルキレン基の総炭素原子数は下記一般式（Ａ）と同じく３であるが、Ｌ1とＸとを隔てる炭素原子数は２であり、上記条件は満たさない。
Ｌ1とＸ（但し、Ｌ1が単結合の場合はＤとＸ）は、Ｙにより炭素原子数として３以上隔てられていることが好ましく、５以上隔てられていることが更に好ましい。この態様によれば、より耐熱性を向上できる。上限値については、特に定めるものでは無いが、通常、１０以下である。
一般式（Ａ）
一般式（Ｂ）
一般式（Ｃ）
＜＜＜Ｌ1＞＞＞
一般式（１）中、Ｌ1は、単結合または２価の連結基を表す。
２価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
２価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基を挙げることができる。
Ｌ1としては、単結合、あるいは、０から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、０個から１００個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基が好ましい。より好ましくは、単結合、あるいは、０から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、０個から５０個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基である。更に好ましくは、単結合、あるいは、０から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、０個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基である。より更に好ましくは、単結合、あるいは、少なくとも１個の硫黄原子を主鎖に含む、つまり―Ｓ―を少なくとも１個含む、２価の連結基である。
Ｌ1は、単結合、―Ｓ―、複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、または、少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によってヘテロ原子間が隔てられた部分を主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかであることが好ましい。
Ｌ1が表す２価の連結基は、置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１６のアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１〜６のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
＜＜＜Ｒ2＞＞＞
一般式（１）中、Ｒ2は、１価の置換基を表し、ｍが２以上の場合、複数のＲ2は互いに異なっていても良い。Ｒ2としては、繰り返し単位を有さない場合と、繰り返し単位を有する場合の２つの態様がある。
＜＜＜＜繰り返し単位を有さないＲ2＞＞＞＞
Ｒ2により表される、繰り返し単位を有さない１価の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基などが挙げられる。以下詳細に記述する。
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、直鎖もしくは分岐のアルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、環状のアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換の環状のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチルが挙げられ、多環構造の環状のアルキル基、例えば、二環の環状のアルキル基（いわゆる、ビシクロアルキル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換の二環の環状のアルキル基で、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）や三環の環状のアルキル基（いわゆる、トリシクロアルキル基）等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環の環状のアルキル基、二環の環状のアルキル基であり、単環の環状のアルキル基が特に好ましい。）、
直鎖もしくは分岐のアルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、環状のアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換の環状のアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられ、多環構造の環状のアルケニル基、例えば、二環の環状のアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換の二環の環状のアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）や三環の環状のアルケニル基であり、単環の環状のアルケニル基が特に好ましい。）アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ）、
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ'−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、
アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、官能基中の水素原子の部分が、上記いずれかの基で置換されていてもよい。
繰り返し単位を有さないＲ2としては、下記一般式（ＮＲ）であることが好ましい。
一般式（ＮＲ）
＊−Ｘ−Ｙ−Ｌ1−ＲT
一般式（ＮＲ）中、Ｘ、Ｙ、および、Ｌ1は、一般式（１）中のＸ、Ｙ、および、Ｌ1とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。ＲTは酸基または／および重合性基を有するアルキル基またはアリール基である。「＊」はＲ1との結合手であることを表す。
酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、またはリン酸基が好ましく、カルボキシル基がより好ましい。ＲTが有する酸基の数は１〜５個が好ましい。
重合性基としては、ラジカル、酸、または熱により架橋可能な公知の重合性基が挙げられ、例えば、エチレン性不飽和結合を含む基、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタン基）、メチロール基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を含む基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。ＲTが有する重合性基の数は、１〜４個が好ましい。
ＲTは酸基を有することが好ましい。
＜＜＜＜繰り返し単位を有するＲ2＞＞＞＞
Ｒ2により表される、繰り返し単位を有する１価の置換基としては、ビニル化合物由来の繰り返し単位、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、およびこれらの変性物、または共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニル化合物の重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種を有することが好ましく、ビニル化合物由来の繰り返し単位、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびこれらの変性物または共重合体からなる群より選択される少なくとも一種を有することがより好ましく、ビニル化合物由来の繰り返し単位を有することが特に好ましい。
ｍが１の場合、Ｒ2は、好ましくは、２〜２０個の繰り返し単位を有する１価の置換基を表し、より好ましくは、２〜１５個の、更に好ましくは２〜１０個の、繰り返し単位を有する１価の置換基を表す。また、ｍが２以上の場合、ｍ個のＲ2の繰り返し単位の個数の平均値は、２〜２０個が好ましく、２〜１５個がより好ましく、２〜１０個が更に好ましい。この態様によれば、塗布膜の平坦性が良化する。
ｍが１の場合におけるビニル化合物由来の繰り返し単位の数、ｍが２以上の場合、ｍ個のＲ2のビニル化合物由来の繰り返し単位の個数の平均値は、ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）により求めることができる。具体的には例えば、Ｒ1で表されるｍ＋ｎ価の連結基と色素構造Ｄとのピーク面積比からｍを求め、ビニル化合物由来の繰り返し単位のピーク面積比をｍで割ることにより算出することができる。
ビニル化合物としては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、オレフィン類、マレイミド類、（メタ）アクリロニトリル、酸基を有するビニル化合物などが好ましい。
（メタ）アクリル酸エステル類としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸―２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸―３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸―４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸―２−フェニルビニル、（メタ）アクリル酸―１−プロペニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸―２−アリロキシエチル、（メタ）アクリル酸プロパルギル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸−γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。
クロトン酸エステル類としては、クロトン酸ブチル、およびクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類としては、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、および安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、およびマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、およびフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、およびイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、ビニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリル（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。
スチレン類としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基など）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、およびα−メチルスチレンなどが挙げられる。
ビニルエーテル類としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルおよびフェニルビニルエーテルなどが挙げられる。
ビニルケトン類の例としては、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙げられる。
オレフィン類の例としては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。
マレイミド類の例としては、マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミドなどが挙げられる。
（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。
上記の化合物以外にも、例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニル化合物を用いることができる。ウレタン基またはウレア基を有するビニル化合物としては、例えば、イソシアナート基と水酸基、またはアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物または１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、または水酸基含有モノマーまたは１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
酸基を有するビニル化合物の例としては、カルボキシル基を有するビニル化合物、スルホ基を有するビニル化合物、リン酸基を有するビニル化合物などが挙げられる。
カルボキシル基を有するビニル化合物として、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有するモノマーと、無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなども利用できる。また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などの無水物含有モノマーを用いてもよい。これらの内では、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
スルホ基を有するビニル化合物として、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸などが挙げられる。
リン酸基を有するビニル化合物として、リン酸モノ（２−アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−２−アクリロイルオキシエチルエステル）などが挙げられる。
更に、酸基を有するビニル化合物として、フェノール性ヒドロキシル基を含有するビニル化合物やスルホンアミド基を含有するビニル化合物なども利用することができる。
本発明において、Ｒ2は、酸基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を含有することが好ましく、Ｒ2に含まれる全繰り返し単位に対して３０モル％以上含有することがより好ましく、Ｒ2に含まれる全繰り返し単位に対して３０〜９０モル％含有することが更に好ましい。Ｒ2が、酸基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を含有することにより、現像残渣の発生をより低減できる。
酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基が好ましく、より好ましくはカルボキシル基である。
本発明において、Ｒ2は、重合性基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を含有することが好ましく、Ｒ2に含まれる全繰り返し単位に対して１０モル％以上含有することがより好ましく、Ｒ2に含まれる全繰り返し単位に対して１０〜８０モル％含有することが更に好ましい。Ｒ2が、重合性基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を含有することにより、色移り性をより良化することができる。
重合性基としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性基を用いることができ、例えば、エチレン性不飽和結合を含む基、エポキシ基やオキセタン基などの環状エーテル基、メチロール基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を含む基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がさらに好ましく、（メタ）アクリル酸グリシジルおよび３，４−エポキシ−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート由来の（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。
＜＜＜色素構造Ｄ＞＞＞
一般式（１）中、Ｄは色素構造を表す。ｎが２以上の場合、複数のＤは互いに異なっていても良い。色素構造としては、カチオン部位と対アニオンとを有する色素構造、または、一分子内にカチオン部位とアニオン部位とを有する色素構造が好ましい。なお、対アニオンとは、色素構造の分子外に存在するアニオンであって、色素構造のカチオン部位と塩を形成しうるアニオンである。例えば、カチオンとアニオンが共有結合を介して結合せず、別化合物として存在している場合をいう。また、一分子内にカチオン部位とアニオン部位とを有するとは、カチオンとアニオンが共有結合を介して結合している場合をいう。一分子内にカチオン部位とアニオン部位とを有する場合、アニオン部位はスルホニルイミドアニオンであることが好ましい。
色素（Ａ）における色素構造Ｄとしては、特に制限はなく、公知の色素構造を含む種々のものを適用することができる。
色素構造を形成しうる具体的な色素化合物については「新版染料便覧」（有機合成化学協会編；丸善、1970）、「カラーインデックス」（The Society of Dyers and colourists）、「色素ハンドブック」（大河原他編；講談社、1986）などに記載されている。
本発明でも用いられる色素構造としては、例えば、キノン色素（ベンゾキノン色素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素、アントラピリドン色素など）、カルボニウム色素（ジアリールメタン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、アクリジン色素など）、キノンイミン色素（オキサジン色素、チアジン色素など）、アジン色素、ポリメチン色素（オキソノール色素、メロシアニン色素、アリーリデン色素、スチリル色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、クロコニウム色素など）、キノフタロン色素、フタロシアニン色素、サブフタロシアニン色素、ペリノン色素、インジゴ色素、チオインジゴ色素、キノリン色素、ニトロ色素、ニトロソ色素、ジピロメテン色素、アゾ色素及びそれらの金属錯体色素から選ばれる色素構造などを挙げることができる。
これらの色素構造の中でも、色分離性、耐光性の観点から、ジピロメテン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、アントラキノン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、キノフタロン色素、フタロシアニン色素、サブフタロシアニン色素、およびアゾ色素から選ばれる色素構造が好ましく、ジピロメテン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、アントラキノン色素、キノフタロン色素、フタロシアニン色素、サブフタロシアニン色素、およびアゾ色素から選ばれる色素構造がより好ましく、トリアリールメタン色素およびキサンテン色素が更に好ましい。
以下、本発明で好ましく用いられる色素構造について具体的に説明する。
＜＜＜＜トリアリールメタン色素＞＞＞＞
本発明に用いられる色素構造の態様の一つは、トリアリールメタン色素（トリアリールメタン化合物）に由来する部分構造を有するものである。トリアリールメタン色素としては、下記式（ＴＰ）で表される化合物に由来する部分構造を、色素構造として有する。トリアリールメタン化合物とは、分子内にトリアリールメタン骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
式（ＴＰ）
式（ＴＰ）中、Ｒｔｐ1〜Ｒｔｐ4は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒｔｐ5は、水素原子、アルキル基、アリール基またはＮＲｔｐ9Ｒｔｐ10（Ｒｔｐ9およびＲｔｐ10は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）を表す。Ｒｔｐ6、Ｒｔｐ7およびＲｔｐ8は、置換基を表す。ａ、ｂおよびｃは、０〜４の整数を表す。ａ、ｂおよびｃが２以上の場合、Ｒｔｐ6、Ｒｔｐ7およびＲｔｐ8は、それぞれ連結して環を形成してもよい。Ｘ-はアニオン構造を表す。Ｘ-が存在しない場合は、Ｒｔｐ1〜Ｒｔｐ7の少なくとも１つがアニオンを含む。
Ｒｔｐ1〜Ｒｔｐ6として、好ましくは水素原子、炭素数１〜５の直鎖または分岐のアルキル基およびフェニル基が好ましい。Ｒｔｐ5は、水素原子またはＮＲｔｐ9Ｒｔｐ10が好ましく、ＮＲｔｐ9Ｒｔｐ10が特に好ましい。Ｒｔｐ9およびＲｔｐ10は、水素原子、炭素数１〜５の直鎖若しくは分岐のアルキル基またはフェニル基が好ましい。Ｒｔｐ6、Ｒｔｐ7およびＲｔｐ8が表す置換基は、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基を用いることができるが、特に、炭素数１〜５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数１〜５のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基、カルボキシル基またはスルホ基が好ましく、炭素数１〜５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数１〜５のアルケニル基、フェニル基またはカルボキシル基がさらに好ましい。特に、Ｒｔｐ6、Ｒｔｐ8は、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、Ｒｔｐ7は、アルケニル基（特に隣接した２つのアルケニル基が連結したフェニル基が好ましい）、フェニル基またはカルボキシル基が好ましい。
ａ、ｂまたはｃは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。特にａおよびｂは、それぞれ、０または１が好ましく、ｃは０〜２の整数が好ましい。
式（ＴＰ）で表される化合物は、Ｒｔｐ1〜Ｒｔｐ10のいずれか１つの部位で一般式（１）のＬ1と結合していることが好ましい。
Ｒｔｐ1〜Ｒｔｐ7の少なくとも１つがアニオンを含む場合、アニオンとしては、Ｒｔｐ1〜Ｒｔｐ7の少なくとも１つが一般式（Ｐ）で置換された構造が挙げられる。
一般式（Ｐ）

一般式（Ｐ）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘ1は、−ＳＯ3 -、−ＣＯＯ-、−ＰＯ4 -、下記一般式（Ａ１）で表される構造を含む基および下記一般式（Ａ２）で表される構造を含む基から選択される少なくとも１種から選択される。
一般式（Ａ１）

一般式（Ａ１）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して−ＳＯ2−または−ＣＯ−を表す。
一般式（Ａ２）

一般式（Ａ２）中、Ｒ3は、−ＳＯ2−または−ＣＯ−を表す。Ｒ4およびＲ5はそれぞれ独立して−ＳＯ2−、−ＣＯ−または−ＣＮを表す。
一般式（Ｐ）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、−ＮＲ10−、−Ｏ−、−ＳＯ2−、フッ素置換アルキレン基、フッ素置換フェニレン基またはこれらの組み合わせからなる基を表すことが好ましい。特に、−ＮＲ10−と−ＳＯ2とフッ素置換アルキレン基との組み合わせからなる基、−Ｏ−とフッ素置換フェニレン基との組み合わせからなる基、または、−ＮＲ10−と−ＳＯ2とフッ素置換アルキレン基との組み合わせからなる基が好ましい。
−ＮＲ10−において、Ｒ10は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、水素原子が好ましい。
フッ素置換アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３がさらに好ましい。これらのアルキレン基は、パーフルオロアルキレン基がより好ましい。フッ素置換アルキレン基の具体例としては、ジフルオロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、ヘキサフルオロプロピレン基などが挙げられる。
フッ素置換フェニレン基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１４がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。フッ素置換フェニレン基の具体例としては、テトラフルオロフェニレン基、ヘキサフルオロ−１−ナフチレン基、ヘキサフルオロ−２−ナフチレン基などが挙げられる。
一般式（Ｐ）中、Ｘ1は、アニオンであり、−ＳＯ3 -、−ＣＯＯ-、一般式（Ａ１）で表される構造を含む基および一般式（Ａ２）で表される構造を含む基から選択される少なくとも１種から選択されることが好ましい。
一般式（Ａ１）で表される構造を含む基は、上述した一般式（Ａ１）中、Ｒ1およびＲ2の一方の末端に、フッ素置換アルキル基を有することが好ましく、Ｒ1およびＲ2の一方が直接フッ素置換アルキル基と結合していることがより好ましい。フッ素置換アルキル基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３がさらに好ましく、１または２がよりさらに好ましく、１が特に好ましい。これらのアルキル基は、パーフルオロアルキル基がより好ましい。フッ素置換アルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基が好ましい。
一般式（Ａ２）で表される構造を含む基は、上述した一般式（Ａ２）中、Ｒ3〜Ｒ5の少なくともいずれかの末端に、フッ素置換アルキル基を有することが好ましく、Ｒ3〜Ｒ5の少なくとも２つが直接フッ素置換アルキル基と結合していることがより好ましい。特に、Ｒ3〜Ｒ5の少なくとも２つの末端に、フッ素置換アルキル基を有することが好ましく、Ｒ3〜Ｒ5の少なくとも２つが直接フッ素置換アルキル基とけ統合していることがより好ましい。フッ素置換アルキル基は、一般式（Ａ１）で表される構造を含む基で説明したものと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｘ1は、一般式（Ａ２）で表される構造を含む基であることが好ましく、スルホニルイミドアニオンがより好ましい。
下記に式（ＴＰ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記具体例において、Ｘ-はアニオンを表す。また、色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。もしくは、いずれかのハロゲン原子が脱離して、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜キサンテン色素＞＞＞＞
本発明における色素構造の好ましい態様は、キサンテン色素（キサンテン化合物）に由来する部分構造を有するものである。キサンテン色素としては、下記式（Ｊ）で表されるキサンテン化合物に由来する部分構造を、色素構造として有する。
式（Ｊ）中、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83およびＲ84は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ85は、各々独立に１価の置換基を表し、ｍは、０〜５の整数を表す。Ｘ-は、対アニオンを表す。Ｘ-が存在しない場合は、Ｒ81〜Ｒ85の少なくとも１つがアニオンを含む。
式（Ｊ）におけるＲ81〜Ｒ85が取りうる置換基は、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基と同様である。
式（Ｊ）で表される化合物は、Ｒ81〜Ｒ85のいずれか１つの部位で、一般式（１）のＬ1と結合していることが好ましい。
式（Ｊ）中のＲ81とＲ82、Ｒ83とＲ84、およびｍが２以上の場合のＲ85同士は、各々独立に、互いに結合して５員、６員若しくは７員の飽和環、または５員、６員若しくは７員の不飽和環を形成していてもよい。形成される５員、６員または７員の環が、さらに置換可能な基である場合には、Ｒ81〜Ｒ85で説明した置換基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
上記式（Ｊ）中のＲ81とＲ82、Ｒ83とＲ84、およびｍが２以上の場合のＲ85同士は、各々独立に、互いに結合して、置換基を有しない５員、６員並びに７員の飽和環または５員、６員並びに７員の不飽和環を形成する場合、置換基を有しない５員、６員並びに７員の飽和環または５員、６員並びに７員の不飽和環としては、例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環が挙げられ、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環が挙げられる。
特に、Ｒ82およびＲ83は水素原子または置換または無置換のアルキル基であり、Ｒ81およびＲ84は置換または無置換のアルキル基またはフェニル基であることが好ましい。また、Ｒ85はハロゲン原子、炭素数１〜５の直鎖または分岐のアルキル基、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基、アミド基であることが好ましく、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基、アミド基であることがさらに好ましい。Ｒ85はキサンテン環と連結した炭素の隣接部に結合することが好ましい。Ｒ81およびＲ84のフェニル基が有する置換基は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５の直鎖または分岐のアルキル基、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基であることが特に好ましい。
式（Ｊ）で表されるキサンテン骨格を有する化合物は、文献記載の方法で合成することができる。具体的には、テトラへドロン レターズ、２００３年、ｖｏｌ.４４,Ｎｏ.２３、４３５５〜４３６０頁、テトラへドロン、２００５年、ｖｏｌ.６１,Ｎｏ.１２、３０９７〜３１０６頁などに記載の方法を適用することができる。
Ｘ-が、アニオンを表す場合、後述の対アニオンが別分子の場合の記載を参酌できる。
また、Ｘ-が存在せず、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83およびＲ84の少なくとも１つがアニオンを含む場合、対アニオンが同一構成単位内にある場合の記載を参酌できる。
以下、式（Ｊ）で表される化合物の具体的な態様（第１の態様、第２の態様）について説明する。
（式（Ｊ）で表される化合物の第１の態様）
式（Ｊ）で表される化合物は、Ｒ81およびＲ83の一方が下記一般式（４）で表される基であり、Ｒ81およびＲ83の他方が水素原子、下記一般式（４）で表される基または一般式（４）で表される基以外のアリール基、アルキル基を表してもよい。また、Ｒ82およびＲ84は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、または、アリール基を表してもよい。
一般式（４）

一般式（４）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数３以上のアルキル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、Ｘ1〜Ｘ3は、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。一般式（Ｊ）で表される色素化合物は、分子内および／または分子外に対アニオンを有する。
一般式（Ｊ）中、Ｒ81およびＲ83の一方は、一般式（４）で表される基であり、Ｒ81およびＲ83の他方は、水素原子、下記一般式（４）で表される基または一般式（４）で表される基以外のアリール基、アルキル基を表し、一般式（４）で表される基または一般式（４）で表される基以外のアリール基であってもよい。また、Ｒ81およびＲ83の両方が一般式（４）で表される基であってもよい。Ｒ81およびＲ83の両方が一般式（４）で表される基である場合、２つの一般式（４）で表される基は同一であっても異なっていても良い。
一般式（４）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数３以上のアルキル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、炭素数３〜１２の２級または３級アルキル基であってもよく、イソプロピル基であってもよい。
炭素数３以上のアルキル基としては、具体的には、直鎖、分岐鎖、又は環状いずれでも良く、炭素数３〜２４であってもよく、炭素数３〜１８であってもよく、炭素数３〜１２であってもよい。具体的には、例えば、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基（例えばｔ−ブチル基）、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−ノルボルニル基、１−アダマンチル基が挙げられ、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基であってもよく、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基（ｔ−ブチル基）、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基であってもよく、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基であってもよい。
アリール基としては置換もしくは無置換のアリール基が含まれる。置換もしくは無置換のアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基であってもよく、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。置換基の例としては、後述する置換基群Ａと同じである。
ヘテロ環基のヘテロ環としては、５員又は６員環であってもよく、それらは更に縮環していてもよいし、縮環していなくてもよい。また、芳香族ヘテロ環であっても非芳香族ヘテロ環であっても良い。例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環などが挙げられる。中では芳香族ヘテロ環基であってもよく、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環が挙げられ、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズオキサゾール環、チアジアゾール環であってもよく、ピラゾール環、チアジアゾール環（１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環）であってもよい。それらは置換基を有していても良く、置換基の例としては、後述するアリール基の置換基と同じである。
Ｒ1およびＲ2は、炭素数３以上のアルキル基であってもよく、炭素数３〜１２のアルキル基であってもよい。
一般式（４）中、Ｘ1〜Ｘ3は、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。置換基としては、後述する置換基群Ａが例示される。Ｘ1〜Ｘ3は、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、スルホンアミド基、スルファモイル基であってもよい。
一般式（４）で表される基以外のアリール基としては、フェニル基が挙げられる。フェニル基は置換基を有していても良いし、有していなくても良い。置換基としては、後述する置換基群Ａが例示され、アルキル基またはアリール基であってもよい。
Ｒ82およびＲ84は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、または、アリール基を表し、アルキル基およびアリール基は置換基を有していても良いし、有していなくても良い。
置換又は無置換のアルキル基は、炭素原子数が１〜３０のアルキル基であってもよい。置換基の例としては、後述する置換基群Ａと同じものが挙げられる。アルキル基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基（ｔ−ブチル基）、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基を挙げることができる。
置換もしくは無置換のアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基であってもよく、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。置換基の例としては、後述する置換基群Ａと同じである。
Ｒ82およびＲ84は、水素原子またはアルキル基であってもよく、水素原子であってもよい。
（式（Ｊ）で表される化合物の第２の態様）
式（Ｊ）で表される化合物は、Ｒ81およびＲ83がそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基であり、Ｒ82およびＲ84がそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基であってもよい。
Ｒ81およびＲ83はそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基が挙げられ、炭素数１〜１０のアルキル基であってもよく、炭素数１〜５のアルキル基であってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であってもよく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基であってもよい。Ｒ81およびＲ83は異なっていても良いが、同一であってもよい。Ｒ81およびＲ83としてのアルキル基は置換基を有していても良いが、置換基を有していてもよい。
Ｒ82およびＲ84はそれぞれ独立に芳香族炭化水素基であり、フェニル基であってもよい。Ｒ82およびＲ84としての芳香族炭化水素基は、置換基を有していても良く、後述する置換基群Ａから選択され、炭素数１〜５のアルキル基であってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であってもよく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基であってもよい。
Ｒ81およびＲ83ならびにＲ82およびＲ84の少なくとも１つが、下記一般式（Ａ１−１−２）で表されてもよい。
一般式（Ａ１−１−２）

一般式（Ａ１−１−２）において、Ｒ23〜Ｒ25は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基、カルボニル基、カルボニルアミド基、スルホニル基、スルホニルアミド基、ニトロ基、アミノ基、アミノカルボニル基、アミノスルホニル基、スルホニルイミド基またはカルボニルイミド基を表し、Ｒ22およびＲ26は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基を表す。
一般式（Ａ１−１−２）において、Ｒ23〜Ｒ25は、水素原子またはハロゲン原子であってもよい。
一般式（Ａ１−１−２）において、Ｒ22およびＲ26は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であってもよい。炭素数１〜５のアルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であってもよく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、iso−プロピル基、ｎ−ブチル基であってもよい。
Ｒ85はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、または、スルホニル基であってもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が例示され、フッ素原子または塩素原子であってもよい。脂肪族炭化水素基は、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、アルキル基、アルケニル基、アルケニル基が例示され、アルキル基であってもよい。芳香族炭化水素基は、アリール基であってもよく、フェニル基であってもよい。
以下にキサンテン化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記具体例において、Ｘは、アニオンを表す。また、色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）中のＬ1と結合する。もしくは、いずれかのハロゲン原子が脱離して、一般式（１）のＬ1と結合する。
また、色素構造中、カチオンは、非局在化しているため、例えば以下に示すように、窒素原子またはキサンテン環の炭素原子上に存在してする。

＜＜＜＜アントラキノン色素＞＞＞＞
本発明に用いられる色素構造の態様の一つは、アントラキノン色素に由来する部分構造を有するものである。アントラキノン色素（アントラキノン化合物）に由来する部分構造を有するものとしては、下記一般式（ＡＱ−１）〜（ＡＱ−３）で表される化合物に由来する部分構造が好ましい。アントラキノン化合物とは、分子内にアントラキノン骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
一般式（ＡＱ−１）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立してアミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基又は水素原子を表す。ＸｑａはＯＲｑａ1又はＮＲｑａ2Ｒｑａ3を表す。Ｒｑａ1〜Ｒｑａ3はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒｑ1〜Ｒｑ4は置換基を表す。Ｒｑ1〜Ｒｑ4が取りうる置換基は、後述する置換基群Ａの項で挙げた置換基と同様である。Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
一般式（ＡＱ−２）中、Ｃ及びＤは、一般式（ＡＱ−１）中のＡ及びＢと同義である。ＸｑｂはＯＲｑｂ1又はＮＲｑｂ2Ｒｑｂ3を表す。Ｒｑｂ1〜Ｒｑｂ3はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒｑ5〜Ｒｑ8は置換基を表す。Ｒｑ5〜Ｒｑ8は、一般式（ＡＱ−１）中のＲｑ1〜Ｒｑ4と同義である。Ｒｃは、一般式（ＡＱ−１）中のＲａ又はＲｂと同義である。
一般式（ＡＱ−３）中、Ｅ及びＦは、一般式（ＡＱ−１）中のＡ及びＢと同義である。ＸｑｃはＯＲｑｃ1又はＮＲｑｃ2Ｒｑｃ3を表す。Ｒｑｃ1〜Ｒｑｃ3はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒｑ9〜Ｒｑ12は、一般式（ＡＱ−１）中のＲｑ1〜Ｒｑ4と同義である。Ｒｄは、一般式（ＡＱ−１）中のＲａ又はＲｂと同義である。
一般式（ＡＱ−１）、（ＡＱ−２）及び（ＡＱ−３）の好ましい範囲としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落００４５〜００４７を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
アントラキノン色素の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落００４９〜００５０を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。なお、アントラキノン色素の具体例において、アントラキノン色素の構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。もしくは、いずれかのハロゲン原子が脱離して、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜シアニン色素＞＞＞＞
本発明に用いられる色素構造の態様の一つは、シアニン色素（シアニン化合物）に由来する部分構造を有するものである。シアニン色素に由来する部分構造を有するものとしては、下記一般式（ＰＭ）で表される化合物（シアニン化合物）に由来する部分構造が好ましい。本発明においてシアニン化合物とは、分子内にシアニン骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
一般式（ＰＭ）中、環Ｚ１及び環Ｚ２は、それぞれ独立に置換基を有してもよい複素環を表す。ｌは０以上３以下の整数を表す。Ｘ-はアニオンを表す。
一般式（ＰＭ）の好ましい範囲としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落００７７〜００８４を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。なお、特開２０１３−２９７６０号公報の段落００７７〜００８４に記載のシアニン色素の具体例において、シアニン色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜スクアリリウム色素＞＞＞＞
本発明に用いられる色素構造の態様の一つは、スクアリリウム色素（スクアリリウム化合物）に由来する部分構造を有するものである。スクアリリウム色素に由来する部分構造を有するものとしては、下記一般式（Ｋ）で表される化合物（スクアリリウム化合物）に由来する部分構造が好ましい。本発明においてスクアリリウム化合物とは、分子内にスクアリリウム骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
一般式（Ｋ）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立に、アリール基又はヘテロ環基を表す。アリール基としては、好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは６〜２４のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられる。ヘテロ環基としては五員環又は六員環のへテロ環基が好ましく、例えばピロイル、イミダゾール、ピラゾイル、チエニル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、トリアゾール−１−イル、チエニル、フリル、チアジアゾイル等が挙げられる。
一般式（Ｋ）の好ましい範囲としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落００８８〜０１０６を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
スクアリリウム色素の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０１０５を参酌することができる。なお、スクアリリウム色素の具体例において、スクアリリウム色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。もしくは、いずれかのハロゲン原子が脱離して、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜キノフタロン色素＞＞＞＞
本発明に用いられる色素構造の態様の一つは、キノフタロン色素（キノフタロン化合物）に由来する部分構造を有するものである。キノフタロン色素に由来する部分構造を有するものとしては、下記一般式（ＱＰ）で表される化合物（キノフタロン化合物）に由来する部分構造が好ましい。本発明においてキノフタロン化合物とは、分子内にキノフタロン骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
一般式（ＱＰ）中、Ｒｑｐ1〜Ｒｑｐ6はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表す。Ｒｑｐ1〜Ｒｑｐ6の少なくとも２つが隣接位にある場合は、互いに結合して環を形成してもよく、上記形成された環がさらに置換基を有してもよい。
一般式（ＱＰ）の好ましい範囲としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０１１０〜０１１４を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
キノフタロン色素の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０１１３の記載を参照することができる。キノフタロン色素の具体例において、キノフタロン色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。もしくは、いずれかのハロゲン原子が脱離して、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜フタロシアニン色素＞＞＞＞
本発明に用いられる色素構造の態様の一つは、フタロシアニン色素（フタロシアニン化合物）に由来する部分構造を有するものである。フタロシアニン色素に由来する部分構造を有するものとしては、下記一般式（Ｆ）で表される化合物（フタロシアニン化合物）に由来する部分構造を有するものが好ましい。本発明においてフタロシアニン化合物とは、分子内にフタロシアニン骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
一般式（Ｆ）中、Ｍ1は金属類を表し、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、及びＺ4は、各々独立に、水素原子、炭素原子及び窒素原子より選ばれる原子を含んで構成される６員環を形成するために必要な原子群を表す。
一般式（Ｆ）の好ましい範囲としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０１１８〜０１２４を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
フタロシアニン色素の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０１２３を参酌することができる。なお、フタロシアニン色素の具体例において、フタロシアニン色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜サブフタロシアニン色素＞＞＞＞
本発明に係る色素構造を有するカチオンの態様の一つは、サブフタロシアニン色素（フタロシアニン化合物）に由来する部分構造を有するものである。サブフタロシアニン色素に由来する部分構造を有するものとしては、下記一般式（ＳＰ）で表される化合物（サブフタロシアニン化合物）に由来する部分構造を有するものが好ましい。本発明においてサブフタロシアニン化合物とは、分子内にサブフタロシアニン骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
一般式（ＳＰ）中、Ｚ1〜Ｚ12は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヒロドキシ基、メルカプト基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオエーテル基を表す。Ｘはアニオンを表す。
一般式（ＳＰ）の好ましい範囲としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０１２８〜０１３３を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
サブフタロシアニン色素の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０１３２に記載を参照できる。サブフタロシアニン色素の具体例において、サブフタロシアニン色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。もしくは、いずれかのハロゲン原子が脱離して、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜アゾ色素＞＞＞＞
本発明に係る色素構造の一つは、アゾ色素（アゾ化合物）に由来する部分構造を有するものである。本発明においてアゾ化合物とは、分子内にＮ＝Ｎ基を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。アゾ色素としては、公知のアゾ色素（例えば、置換アゾベンゼン等）から適宜選択して適用することができる。例えば、アゾ色素としては、特開２０１３−４１０９７号公報の段落００８４〜０１３４の記載、及び特開２０１１−１６２７６０号公報の段落００２９〜０１３６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。アゾ色素の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。アゾ色素の具体例において、アゾ色素構造中のいずれかの水素原子が、一般式（１）のＬ1と結合する。もしくは、いずれかのハロゲン原子が脱離して、一般式（１）のＬ1と結合する。
＜＜＜＜ジピロメテン色素＞＞＞＞
本発明に係る色素構造の態様の一つは、ジピロメテン色素に由来する部分構造を有するものである。ジピロメテン色素としては、ジピロメテン化合物、および、ジピロメテン化合物と金属または金属化合物とから得られるジピロメテン金属錯体化合物が好ましい。例えば、ジピロメテン色素としては、例えば、下記構造が挙げられる。また、特開２０１１−９５７３２号公報の段落００３３〜０１３６の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。以下の式中Ｍｅはメチル基であり、Ｂｕはブチル基であり、Ａｃはアセチル基である。
本発明に用いられる色素（Ａ）は、色素構造Ｄ中の水素原子が下記置換基群Ａから選択された置換基により置換されていてもよい。
（置換基群Ａ）
色素構造Ｄが置換されていてもよい置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４の、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル基（好ましくは、ｔ−ブチル基）、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−ノルボルニル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜１８のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニル等が挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環基で、例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜３８、より好ましくは炭素数３〜１８のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、環状のアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環オキシ基で、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、環状のアルキルオキシカルボニルオキシ基で、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、
カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎーエチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチルＮ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のアミノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは６〜２４のアニリノ基で、例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１８のヘテロ環アミノ基で、例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜２４のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のウレイド基で、例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数２４以下のイミド基で、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルアミノ基で、例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環チオ基で、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）、アルキルオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数５〜３０、より好ましくは炭素数５〜１０のアルキルオキシカルボニルオキシ基）等が挙げられる。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また置換基が二つ以上ある場合は、同一でも異なっていても良い。また、可能な場合には互いに連結して環を形成していてもよい。
詳細については、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落００２７〜００３８を参酌することもでき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
＜＜＜＜対アニオン＞＞＞＞
一般式（１）の色素構造Ｄが、カチオン部位と対アニオンとで構成される場合、対アニオンとしては特に制限は無いが、耐熱性の観点で非求核性のアニオンであることが好ましい。非求核性の対アニオンとしては、特開２００７−３１０３１５号公報の段落番号００７５等に記載の公知の非求核性アニオンが好ましい。ここで、非求核性とは、加熱により色素を求核攻撃しない性質を意味する。
対アニオンとしては、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、ビス（アルキルスルホニル）イミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレードアニオン、−ＣＯＮ-ＣＯ−、−ＣＯＮ-ＳＯ2−、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、Ｂ-（ＣＮ）3ＯＣＨ3から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。より好ましくは、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、ビス（アルキルスルホニル）イミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、およびＳｂＦ6 -から選ばれる少なくとも一種である。
これらの中でも、対アニオンとしては、下記（ＡＮ−１）〜（ＡＮ−５）で表される構造を有する非求核性アニオンであることがより好ましい。
式（ＡＮ−１）中、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、フッ素原子またはフッ素原子を有する炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｘ1およびＸ2は互いに結合して環を形成しても良い。
Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、フッ素原子またはフッ素原子を有する炭素数１〜１０のアルキル基を表し、フッ素原子またはフッ素原子を有する炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のペルフルオロアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基であることがさらに好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
式（ＡＮ−２）中、Ｘ3、Ｘ4およびＸ5はそれぞれ独立に、フッ素原子または炭素数１〜１０のフッ素原子を有するアルキル基を表す。
Ｘ3、Ｘ4およびＸ5は、それぞれ独立に、Ｘ1およびＸ2と同義であり、好ましい範囲も同義である。
式（ＡＮ−３）中、Ｘ6は炭素数１〜１０のフッ素原子を有するアルキル基を表す。
Ｘ6は、炭素数１〜１０のペルフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基であることがさらに好ましい。
式（ＡＮ−４）中、Ｘ7は炭素数１〜１０のフッ素原子を有するアルキレン基を表す。
Ｘ7は、炭素数１〜１０のペルフルオロアルキレン基であることが好ましく、炭素数１〜４のペルフルオロアルキレン基であることがさらに好ましい。
式（ＡＮ−５）中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3およびＡｒ4は、それぞれ独立に、アリール基を表す。
Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3およびＡｒ4は、それぞれ独立に、炭素数６〜２０のアリール基が好ましく、炭素数６〜１４のアリール基がより好ましく、炭素数６〜１０のアリール基がさらに好ましい。
Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3およびＡｒ4が表わすアリール基は、置換基を有しても良い。置換基を有する場合、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルバモイル基、スルホ基、スルホンアミド基、ニトロ基等が挙げられ、ハロゲン原子およびアルキル基が好ましく、フッ素原子、アルキル基がより好ましく、フッ素原子、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基がさらに好ましい。
Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3およびＡｒ4は、それぞれ独立に、ハロゲン原子および／またはハロゲン原子を有するアルキル基を有するフェニル基がより好ましく、フッ素原子および／またはフッ素を有するアルキル基を有するフェニル基がさらに好ましい。
非求核性の対アニオンは、また、−Ｂ（ＣＮ）n1（ＯＲa）4-n1（Ｒaは炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基を表し、ｎ１は１〜４の整数を表す）であることが好ましい。炭素数１〜１０のアルキル基としてのＲaは、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。炭素数６〜１０のアリール基としてのＲaは、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
ｎ１は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。
非求核性の対アニオンは、さらにまた、−ＰＦ6ＲP (6-n2) -（ＲPは炭素数１〜１０のフッ素化アルキル基を表し、ｎ２は１〜６の整数を表す）であることが好ましい。ＲPは、炭素数１〜６のフッ素原子を有するアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のフッ素を有するアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基がさらに好ましい。
ｎ２は、１〜４の整数が好ましく、１または２がより好ましい。
本発明で用いられる非求核性対アニオンの１分子あたりの質量は、１００〜１，０００が好ましく、２００〜５００がより好ましい。
本発明の色素（Ａ）は、非求核性対アニオンを１種類のみ含んでいても良いし、２種類以上を含んでいても良い。
以下に、本発明で用いられる非求核性の対アニオンの具体例を示すが本発明はこれに限定されるものではない。
色素（Ａ）は、重合性基を有していることが好ましい。
重合性基としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性基を用いることができ、例えば、エチレン性不飽和結合を含む基、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタン基）、メチロール基等が挙げられるが、特にエチレン性不飽和結合を含む基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がさらに好ましく、（メタ）アクリル酸グリシジルおよび３，４−エポキシーシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート由来の（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。
色素（Ａ）として、
Ｒ1が、例として上述した（１）〜（６）、および（９）〜（１１）から選ばれる連結基であり、
Ｘが、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―または―Ｏ―であり、
Ｙが、無置換のアルキレン基であり、
Ｌ1が、―Ｓ―を少なくとも１個含む、２価の連結基であり、Ｒ2が、カルボキシル基および（メタ）アクリロイル基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を含有する置換基であって、繰り返し単位の個数の平均値が、２〜２０個であり、
Ｄが、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、アントラキノン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、キノフタロン色素、フタロシアニン色素、サブフタロシアニン色素、アゾ色素およびジピロメテン色素から選ばれる色素構造であることが好ましい。
＜＜色素（Ａ）の諸性質＞＞
色素（Ａ）の重量平均分子量は、２０００〜１５０００が好ましく、３０００〜１２５００がより好ましく、５０００〜１１０００がさらに好ましい。重量平均分子量が上記範囲であれば、色移り性がより良好である。さらには、現像性が向上して、現像残渣の発生をより低減できる。
色素（Ａ）は、一般式（１）中、Ｄ、Ｌ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙのうち少なくとも1つは酸基を有する。色素（Ａ）の酸価は１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、２０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像性が向上して、現像残渣の発生をより低減できる。
本発明に係る色素（Ａ）は、染料であることが好ましい。染料とは、水または有機溶剤に実質的な溶解度を有する色素を指し、特に以下の有機溶剤に溶解する有機溶剤溶解性染料であることが好ましい。
有機溶剤としては、エステル類（例えば、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等）、エーテル類（例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、ケトン類（メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン等）が挙げられ、これら溶剤に対し、１〜５０質量％溶解することが好ましく、５〜４０質量％溶解することがより好ましく、１０〜３０質量％溶解することが特に好ましい。この範囲にあることで、本発明の着色組成物をカラーフィルタ等の作製に適用する際に、好適な塗布面状や、他色塗布後の溶出による濃度低下をより低減できる。
本発明に係る色素（Ａ）は、シクロヘキサノン５質量％溶液中での濁度が２ｐｐｍ以下であることが好ましい。なお、色素（Ａ）の濁度は、後述する実施例に示す方法で測定した値である。
本発明に係る色素（Ａ）は、Ａｌ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｌｉ、Ｐｂ、Ｎａ、Ｋ、ＺｎおよびＰから選ばれる金属であって、色素（Ａ）に結合または配位していない遊離の金属の含有量が２ｐｐｍ以下であることが好ましい。また、上記遊離の金属の合計含有量は、２ｐｐｍ以下であることが好ましい。この態様によれば、欠陥の少ないカラーフィルタを製造しやすい。なお、色素（Ａ）中における上記遊離の金属の含有量は、既知の解析手段を適宜用いて測定することが可能であるが、可能な限りにおいて、誘導結合プラズマ発光分光により測定することが好ましい。
本発明に係る色素（Ａ）は、色素（Ａ）に結合または配位していない遊離のＢｒ含有量は、９００ｐｐｍ以下が好ましく、６００ｐｐｍ以下がより好ましい。また、色素（Ａ）に結合または配位していない遊離のＣｌ含有量は、９００ｐｐｍ以下が好ましく、６００ｐｐｍ以下がより好ましく、３００ｐｐｍ以下が更に好ましい。また、上記遊離のＢｒと遊離のＣｌとの合計含有量は、１５００ｐｐｍ以下が好ましく、９００ｐｐｍ以下がより好ましい。この態様によれば、欠陥の少ないカラーフィルタを製造しやすい。なお、色素（Ａ）中における上記遊離のＢｒ含有量および上記遊離のＣｌ含有量は、既知の解析手段を適宜用いて測定することが可能であるが、可能な限りにおいては、ハロゲン量測定ＢＳ ＥＮ １４５８２に準拠した燃焼イオンクロマトグラフ法に準拠して測定することが好ましい。
本発明の着色組成物においては、色素（Ａ）を１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。
本発明の着色組成物中における色素（Ａ）の含有量は、後述する顔料などとの含有比率を考慮した上で設定される。
顔料に対する色素の質量比（色素（Ａ）／顔料）としては、０．１〜５が好ましく、０．２〜２がよりに好ましく、０．３〜１がさらに好ましい。
本発明の着色組成物中における色素（Ａ）の含有量は、着色組成物中の全固形分に対して１．０〜５０質量％が好ましく、５．０〜３０質量％がさらに好ましく、１０〜２５質量％が特に好ましい。
本発明の色素（Ａ）の色素構造Ｄが、キサンテン色素、アゾ色素、スクアリリウム色素（好ましくはキサンテン色素）である場合は、赤色着色剤（好ましくは赤色顔料）や黄色着色剤（好ましくは黄色顔料）との併用により、赤色着色組成物をなすことができる。この場合、本発明の色素（Ａ）と、赤色着色剤及び黄色着色剤の合計の比率（質量比）は、１０：９０〜９０：１０であることが好ましい。
＜＜色素（Ａ）の合成方法＞＞
上記一般式（１）で表される色素は、特に制限されないが、下記方法などにより合成することができる。
（１）カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基等から選択される官能基を末端に導入したポリマーと、色素構造を有する酸ハライド、色素構造を有するアルキルハライド、あるいは色素構造を有するイソシアネート等と、を高分子反応させる方法。
（２）末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、色素構造を有するメルカプトと、をマイケル付加反応させる方法。
（３）末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、色素構造を有するメルカプトと、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
（４）末端に複数のメルカプトを導入したポリマーと、炭素−炭素二重結合および色素構造とを有する化合物と、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
（５）色素構造を有するメルカプト化合物存在下で、ビニル化合物をラジカル重合する方法。
上記のうち、合成上の容易さから、（２）〜（５）の合成方法が好ましく、（３）〜（５）の合成方法がより好ましい。特に、本発明の色素（Ａ）が、一般式（２）で表される構造を有する場合、合成上の容易さから、（５）の合成方法で合成することが最も好ましい。
上記（５）の合成方法として、より具体的には、下記一般式（５）で表される化合物存在下でラジカル重合させる方法が好ましい。
一般式（５）
（Ｄ―Ｌ1―Ｙ―Ｘ―）n−Ｒ3−（ＳＨ）m一般式（３）中、Ｒ3は、ｍ＋ｎ価の連結基を表し、Ｓは、硫黄原子を表し、ＳＨは、メルカプト基を表し、Ｘは、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―、―Ｃ（＝Ｏ）―、―Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ10―、―Ｏ―、―Ｓ（＝Ｏ）―、または、―ＳＯ2―を表し、Ｒ10は水素原子またはアルキル基
を表す。Ｙは、アルキレン基を表し、Ｌ1は、単結合または２価の連結基を表し、Ｄは、色素構造を表し、ｍは、１〜１３の整数を表し、ｎは、２〜１４の数を表し、ｍ＋ｎは、３〜１５の整数を表し、ｎが２以上の場合、複数のＤは互いに異なっていても良い。
一般式（５）において、Ｄ、Ｌ1、Ｙ、Ｘ、ｍおよびｎは、それぞれ一般式（１）におけるＤ、Ｌ1、Ｙ、Ｘ、ｍおよびｎと同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式（５）で表される化合物は、以下の方法等で合成することができるが、合成上の容易さから、下記（７）の方法がより好ましい。
（６）色素構造を有するハライド化合物からメルカプト化合物に変換する方法（チオ尿素と反応させ、加水分解する方法、ＮａＳＨと直接反応させる方法、ＣＨ3ＣＯＳＮａと反応させ、加水分解させる方法などが挙げられる）
（７）一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物に、色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物を付加反応もしくは置換反応させる方法
上記（７）における「メルカプト基と反応可能な官能基」としては、酸ハライド、アルキルハライド、アリールハライド、イソシアネート、炭素−炭素二重結合などが好適に挙げられる。
「メルカプト基と反応可能な官能基」がアリールハライドもしくはアルキルハライドであり、置換反応である、もしくは炭素−炭素二重結合であり、付加反応がラジカル付加反応であることが好ましい。なお、炭素−炭素二重結合としては、メルカプト基との反応性の点で、１置換もしくは２置換のビニル基がより好ましい。
一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物の具体的な例としては、以下の化合物が挙げられる。以下の化合物例において、ｐ１〜ｐ３、ｑ１〜ｑ４、ｒ１〜ｒ６はそれぞれ０以上の整数を表す。ｐ１＋ｐ２＋ｐ３、ｑ１＋ｑ２＋ｑ３＋ｑ４、ｒ１＋ｒ２＋ｒ３＋ｒ４＋ｒ５＋ｒ６はそれぞれ１以上の整数を表し、４０以下が好ましい。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
「一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物」と、「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」との置換反応生成物は、例えば、上記の「一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物」および「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」を適当な溶媒中に溶解し、ここに塩基を添加して、約２５℃〜１００℃で、置換させる方法を利用して得られる。「一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物」と、「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」とのラジカル付加反応生成物は、例えば、上記の「一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物」および「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル発生剤を添加して、約５０℃〜１００℃で、付加させる方法（チオール−エン反応法）を利用して得られる。
チオール−エン反応、置換反応法で用いられる適当な溶媒の例としては、「一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物」、「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」、および「反応生成物」の溶解性に応じて任意に選択できる。
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、クロロホルム、トルエン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ−エチルピロリドン（ＮＥＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ピリジンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
また、ラジカル発生剤としては、２，２'−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２'−アゾビス−（２，４'−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビスイソ酪酸ジメチルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、および過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などなどが利用できる。塩基としては、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、水素化ナトリウムなどが利用できる。
上記（５）の合成方法で用いられるビニル化合物としては、特に制限されないが、例えば、上記一般式（１）のＲ2がビニル化合物由来の繰り返し単位を含有する置換基である場合に挙げた、ビニル化合物と同様のものが用いられる。
ビニル化合物は一種のみで重合させてもよいし、二種以上を併用して共重合させてもよい。
また、アルカリ現像処理が必要な光硬化性組成物に適用する場合、１種以上の酸基を有するビニル化合物と、１種以上の酸基を有さないビニル化合物と、を共重合させることがより好ましい。
本発明の色素（Ａ）は、これらのビニル化合物と、一般式（５）で表される化合物とを用いて、公知の方法で常法に従って重合させることで得られるものが好ましい。なお、一般式（５）で表される化合物は、連鎖移動剤として機能するものであり、以下、単に「連鎖移動剤」と称することがある。
例えば、これらのビニル化合物、および連鎖移動剤を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して、約５０℃〜２２０℃で、溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。
溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いるモノマー、および生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）が挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
また、ラジカル重合開始剤としては、２，２'−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２'−アゾビス−（２，４'−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビスイソ酪酸ジメチルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、および過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
＜＜硬化性化合物＞＞
＜＜＜重合性化合物＞＞＞
本発明の着色組成物は、硬化性化合物を含有する。硬化性化合物としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合、環状エーテル（エポキシ、オキセタン）、メチロール等を含む重合性化合物が挙げられる。重合性化合物は、感度の観点から、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から好適に選ばれる。中でも、４官能以上の多官能重合性化合物が好ましく、５官能以上の多官能重合性化合物がさらに好ましい。
このような化合物群は広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマーまたはそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。本発明における重合性化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
モノマー、プレポリマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）やそのエステル類、アミド類、並びにこれらの多量体が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、および不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類、並びにこれらの多量体である。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物や、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、メルカプト類との反応物、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、メルカプト類との反応物も好適である。また、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等のビニルベンゼン誘導体、ビニルエーテル、アリルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
これらの具体的な化合物としては、特開２００９−２８８７０５号公報の段落番号〔００９５〕〜〔０１０８〕に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
また、重合性化合物としては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０２２７を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、常圧下で１００℃以上の沸点を有し、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物としては、特開２００８−２９２９７０号公報の段落番号０２５４〜０２５７に記載の化合物を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
中でも、重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製）、エチレンオキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（市販品としてはＡ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学株式会社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９、ＳＲ３６８、ＳＲ４９４）が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。以下に好ましい重合性化合物の態様を示す。
重合性化合物は、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。重合性化合物が、未反応のカルボキシル基などを有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、重合性化合物のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入してもよい。非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸などが挙げられる。
酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが好ましく、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた重合性化合物が好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。
酸基を有する重合性化合物は１種を単独で用いてもよいが、製造上、単一の化合物を用いることは難しいことから、２種以上を混合して用いてもよい。
酸基を有する重合性化合物の好ましい酸価としては、０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは５ｍｇＫＯＨ／ｇ〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。多官能モノマーの酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像溶解特性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造や取扱い上、有利である。さらには、光重合性能が良好で、画素の表面平滑性等の硬化性に優れる。従って、異なる酸基の重合性化合物を２種以上併用する場合、或いは酸基を有しない重合性化合物と酸基を有する重合性化合物とを併用する場合、全体の重合性化合物としての酸基が上記範囲に入るように調整することが好ましい。
また、重合性化合物として、カプロラクトン構造を有する重合性化合物を含有することも好ましい態様である。
カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。なかでも下記一般式（Ｚ−１）で表されるカプロラクトン構造を有する重合性化合物が好ましい。
一般式（Ｚ−１）中、６個のＲは全てが下記一般式（Ｚ−２）で表される基であるか、又は６個のＲのうち１〜５個が下記一般式（Ｚ−２）で表される基であり、残余が下記一般式（Ｚ−３）で表される基である。
一般式（Ｚ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又は２の数を示し、「＊」は結合手であることを示す。
一般式（Ｚ−３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、「＊」は結合手であることを示す。）
カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ−２０（上記式（Ｚ−１）〜（Ｚ−３）においてｍ＝１、式（Ｚ−２）で表される基の数＝２、Ｒ1が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ−３０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ−２）で表される基の数＝３、Ｒ1が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ−６０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ−２）で表される基の数＝６、Ｒ1が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ−１２０（同式においてｍ＝２、式（Ｚ−２）で表される基の数＝６、Ｒ1が全て水素原子である化合物）等が挙げられる。
本発明において、カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
また、重合性化合物は、下記一般式（Ｚ−４）又は（Ｚ−５）で表される化合物を用いることもできる。
一般式（Ｚ−４）及び（Ｚ−５）中、Ｅは、各々独立に、−（（ＣＨ2）yＣＨ2Ｏ）−、又は−（（ＣＨ2）yＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）−を表し、ｙは、各々独立に０〜１０の整数を表し、Ｘは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。
一般式（Ｚ−４）中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは各々独立に０〜１０の整数を表し、各ｍの合計は０〜４０の整数である。但し、各ｍの合計が０の場合、Ｘのうちいずれか１つはカルボキシル基である。
一般式（Ｚ−５）中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは各々独立に０〜１０の整数を表し、各ｎの合計は０〜６０の整数である。但し、各ｎの合計が０の場合、Ｘのうちいずれか１つはカルボキシル基である。
一般式（Ｚ−４）中、ｍは、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。
また、各ｍの合計は、２〜４０の整数が好ましく、２〜１６の整数がより好ましく、４〜８の整数が特に好ましい。
一般式（Ｚ−５）中、ｎは、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。
また、各ｎの合計は、３〜６０の整数が好ましく、３〜２４の整数がより好ましく、６〜１２の整数が特に好ましい。
また、一般式（Ｚ−４）又は一般式（Ｚ−５）中の−（（ＣＨ2）yＣＨ2Ｏ）−又は−（（ＣＨ2）yＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）−は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。
一般式（Ｚ−４）又は一般式（Ｚ−５）で表される化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。特に、一般式（Ｚ−５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である形態が好ましい。
また、一般式（Ｚ−４）又は一般式（Ｚ−５）で表される化合物の重合性化合物中における全含有量としては、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
一般式（Ｚ−４）又は一般式（Ｚ−５）で表される化合物は、従来公知の工程である、ペンタエリスリト−ル又はジペンタエリスリト−ルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端水酸基に、例えば（メタ）アクリロイルクロライドを反応させて（メタ）アクリロイル基を導入する工程と、から合成することができる。各工程は良く知られた工程であり、当業者は容易に一般式（Ｚ−４）又は（Ｚ−５）で表される化合物を合成することができる。
一般式（Ｚ−４）又は一般式（Ｚ−５）で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び／又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。
具体的には、下記式（ａ）〜（ｆ）で表される化合物（以下、「例示化合物（ａ）〜（ｆ）」とも称する。）が挙げられ、中でも、例示化合物（ａ）、（ｂ）、（ｅ）、（ｆ）が好ましい。
一般式（Ｚ−４）、（Ｚ−５）で表される重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、日本化薬株式会社製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ−６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０などが挙げられる。
また、本発明では、重合性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を２つ以上有するものが好ましい。１分子内にエポキシ基を２つ以上有する化合物を用いることにより、本発明の効果をより効果的に達成することができる。エポキシ基は、１分子内に２〜１０個が好ましく、２〜５個がより好ましく、３個が特に好ましい。
本発明においてエポキシ基を有する化合物は、２つのベンゼン環が炭化水素基で連結した構造を有するものが好ましく用いられる。炭化水素基は、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましい。
また、エポキシ基は、連結基を介して連結していることが好ましい。連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を表し、水素原子が好ましい）で表される構造、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−Ｏ−および−Ｓ−から選ばれる少なくとも一つを含む基が挙げられる。
エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／ｅｑ以下であることが好ましく、１００〜４００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、１００〜３００ｇ／ｅｑであることがさらに好ましい。エポキシ基を有する化合物のエポキシ当量の上限値を５００ｇ／ｅｑ以下とすることにより、上記効果が得られる。また、エポキシ基を有する化合物のエポキシ当量の下限値を１００ｇ／ｅｑ以上とすることが、実用上の安定性から好ましい。
エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（macromolecule）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００〜１０００００が好ましく、５００〜５００００がより好ましい。
２つのベンゼン環が炭化水素基で連結した構造の、エポキシ基を有する化合物としては、下記一般式（Ｅ１）で表される化合物が好ましく用いられる。
一般式（Ｅ１）において、Ｒ1〜Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子を表し、Ｌ1は、単結合、または、２価の連結基を表す。
一般式（Ｅ１）のＲ1〜Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子を表す。
Ｒ1〜Ｒ13におけるアルキル基は、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基がより好ましい。
アルキル基は、直鎖、分岐及び環状の何れにも限定されないが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。
アルキル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。無置換が好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４の、直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−ノルボルニル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜１８のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニル等が挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環基で、例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜３８、より好ましくは炭素数３〜１８のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ヘキシルジメチルシリル）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルコキシ基、さらに好ましくは炭素数１〜３のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、環状のアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環オキシ基で、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、２−エチルヘキサノイルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、２−メチルブタノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ、環状のアルキルオキシカルボニルオキシ基で、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、よりこの好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎーエチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチルＮ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のアミノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは６〜２４のアニリノ基で、例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１８のヘテロ環アミノ基で、例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜２４のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のウレイド基で、例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数２４以下のイミド基で、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは炭素数２〜２４のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のスルファモイルアミノ基で、例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のヘテロ環チオ基で、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは炭素数１〜２４のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは炭素数６〜２４のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜２４のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）、等が挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また置換基が二つ以上ある場合は、同一でも異なっていても良い。また、可能な場合には互いに連結して環を形成していてもよい。
Ｒ1〜Ｒ13におけるアルコキシ基は、炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１２のアルコキシ基が特に好ましい。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。無置換が好ましい。置換基の具体例としては、アルキル基が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｒ1〜Ｒ13におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ1〜Ｒ13は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基又はメトキシ基のいずれかが好ましい。また、Ｒ13は、メチル基が好ましい。また、Ｒ1〜Ｒ12は、水素原子が好ましい。
一般式（Ｅ１）のＬ1は、単結合、または、２価の連結基を表す。好ましくは２価の連結基である。
２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を表し、水素原子が好ましい）で表される構造、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−Ｏ−および−Ｓ−から選ばれる少なくとも一つを含む基が挙げられる。これらは、置換基を有してもよい。置換基としては、上述したＲ1〜Ｒ13におけるアルキル基が有していてもよい置換基で説明したものと同様のものが挙げられる。
アルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜１２がより好ましい。
アリーレン基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜１２がより好ましい。
上記一般式（Ｅ１）で表される化合物は、下記一般式（Ｅ１ａ）で表される化合物がより好ましい。
一般式（Ｅ１ａ）において、Ｒ1〜Ｒ19は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子を表す。
一般式（Ｅ１ａ）のＲ1〜Ｒ19は、上記一般式（Ｅ１）のＲ1〜Ｒ13と同義である。
特に、Ｒ1〜Ｒ19は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基またはメトキシ基のいずれかが好ましい。また、より好ましくは、Ｒ13、Ｒ18およびＲ19から選ばれる１以上がメチル基である。更に好ましくは、Ｒ13、Ｒ18およびＲ19がメチル基で、Ｒ1〜Ｒ12、Ｒ14〜Ｒ17が水素原子である。
上記一般式（Ｅ１ａ）で表される化合物としては、例えば、１−［４−（１−ヒドロキシ−１−メチル−エチル）−フェニル］エタノンとフェノール類（無置換もしくは、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有するフェノール類）との反応により得られるフェノール樹脂とエピハロヒドリン（エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリンから選ばれる少なくとも１種）との反応により、主成分として得られる化合物が挙げられる。市販品としては、株式会社プリンテック製ＶＧ−３１０１Ｌ、日本化薬株式会社製ＮＣ−６０００及びＮＣ−６３００等が挙げられる。
エポキシ基を有する化合物は、例えば、下記一般式（ＥＰ１）で表される化合物を用いることができる。
式（ＥＰ１）中、ＲEP1〜ＲEP3は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を表し、アルキル基は、環状構造を有するものであってもよく、また、置換基を有していてもよい。またＲEP1とＲEP2、ＲEP2とＲEP3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。アルキル基が有していてもよい置換基としては例えば、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホン基、アルキルスルホニル基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、などが挙げられる。
ＱEPは単結合若しくはｎEP価の有機基を表す。ＲEP1〜ＲEP3は、ＱEPとも結合して環構造を形成していても良い。
ｎEPは２以上の整数を表し、好ましくは２〜１０、更に好ましくは２〜６である。但しＱEPが単結合の場合、ｎEPは２である。
ＱEPがｎEP価の有機基の場合、鎖状若しくは環状のｎEP価の飽和炭化水素基（炭素数２〜２０が好ましい）、ｎEP価の芳香環基（炭素数６〜３０が好ましい）、又は鎖状若しくは環状の飽和炭化水素若しくは芳香族炭化水素に、エーテル基、エステル基、アミド基、スルホンアミド基、アルキレン基（炭素数１〜４が好ましく、メチレン基がより好ましい）等の２価の連結基、−Ｎ（−）2等の３価の連結基又はこれらの組み合わせが連結した構造を有するｎEP価の有機基などが好ましい。
以下に具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
エポキシ基を有する化合物としては、側鎖にエポキシ基を有するオリゴマーやポリマーも好ましく用いることができる。このような化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
これらの化合物は、市販品を用いてもよいし、ポリマーの側鎖へエポキシ基を導入することによっても得られる。
市販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８２７、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ８３４、ＪＥＲ１００１、ＪＥＲ１００２、ＪＥＲ１００３、ＪＥＲ１０５５、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１００９、ＪＥＲ１０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８０７、ＪＥＲ４００４、ＪＥＲ４００５、ＪＥＲ４００７、ＪＥＲ４０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ−２１、ＲＥ−６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２０（以上、日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ−４０８０Ｓ、同ＥＰ−４０８５Ｓ、同ＥＰ−４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ ＰＢ ３６００、同ＰＢ ４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、デナコール ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス(株)製）等である。その他にも、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ−４０００Ｓ、同ＥＰ−４００３Ｓ、同ＥＰ−４０１０Ｓ、同ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＥＲ１０３１Ｓ（ジャパンエポキシレジン（株）製）等が挙げられる。
また、エポキシ基を有する化合物の市販品としては、ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）、ＪＥＲ１０３２Ｈ６０（三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＰ−４７００
（ＤＩＣ（株）社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（ＤＩＣ（株）社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８４０（ＤＩＣ（株）社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ６６０（ＤＩＣ（株）社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＰ７２００（ＤＩＣ（株）社製）等も好ましく用いることができる。
エポキシ基をポリマー側鎖に導入して、エポキシ基を有する化合物を合成する場合、導入反応は、例えばトリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、等の４級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルフォスフィン等を触媒として有機溶剤中、反応温度５０〜１５０℃で１〜数十時間反応させることにより行える。脂環式エポキシ不飽和化合物の導入量は得られるポリマーの酸価が５〜２００ＫＯＨ・ｍｇ／ｇを満たす範囲になるように制御すると好ましい。
エポキシ不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレートやアリルグリシジルエーテル等のエポキシ基としてグリシジル基を有するものも使用可能であるが、脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物であることが好ましい。このようなものとしては、例えば以下の化合物を例示することができる。
本発明において、エポキシ基を有する化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。
本発明の着色組成物が、エポキシ基を有する化合物を含有する場合、着色組成物中におけるエポキシ基を有する化合物の総含量としては、着色組成物の全固形分（質量）に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。
また、本発明では重合性化合物としては、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、重合性化合物として、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた着色組成物を得ることができる。
また、本発明では重合性化合物としてオキセタン基を有する化合物を用いることもできる。オキセタン基を有する化合物としては、特開２００８−２２４９７０号公報の段落０１３４〜０１４５記載の化合物が挙げられ、その内容は本明細書に組み込まれる。具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
重合性化合物の市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００」(新中村化学社製、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社製）などが挙げられる。
本発明の着色組成物は、上述した色素（Ａ）以外の着色剤を含むことが好ましい。色素（Ａ）以外の着色剤としては、染料あるいは顔料が挙げられ、顔料であることが好ましい。
本発明において、顔料とは、溶剤に溶解しにくい不溶性の色素化合物を意味する。典型的には、組成物中に粒子として分散された状態で存在する色素化合物を意味する。ここで、溶剤とは、任意の溶剤が挙げられ、例えば後述する溶剤の欄で例示する溶剤が挙げられる。本発明に用いられる顔料は、例えば、プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテ−トおよび水のいずれに対しても、２５℃における溶解度が０．１ｇ／１００ｇＳｏｌｖｅｎｔ以下が好ましい。
＜＜染料＞＞
上述した色素（Ａ）以外の公知の染料としては、例えば特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許４８０８５０１号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、米国特許５０５９５０号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報等に開示されている色素を使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、ピロメテン系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系等の染料を使用できる。
また、染料としては色素多量体を用いてもよい。色素多量体としては、特開２０１１−２１３９２５号公報、特開２０１３−０４１０９７号公報に記載されている化合物が挙げられる。
＜＜顔料＞＞
上述した色素（Ａ）以外の顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができ、有機顔料を用いることが好ましい。顔料としては、高透過率であることが好ましい。
無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、および上述した金属の複合酸化物、カーボンブラック、チタンブラック等の黒色顔料を挙げることができる。
有機顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１，２４，３１，５３，８３，９３，９９，１０８，１０９，１１０，１３８，１３９，１４７，１５０，１５１，１５４，１５５，１６７，１８０，１８５，１９９，；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，３８，４３，７１；
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１，１０５，１２２，１４９，１５０，１５５，１７１，１７５，１７６，１７７，１７９，２０９，２２０，２２４，２４２，２５４，２５５，２６４，２７０；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９，２３，３２，３９；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，２，１５，１５：１，１５：３，１５：６，１６，２２，６０，６６；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，３７，５８，５９；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５，２８；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１；等を挙げることができる。
本発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１，２４，１０８，１０９，１１０，１３８，１３９，１５０，１５１，１５４，１６７，１８０，１８５，
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，７１，
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２，１５０，１７１，１７５，１７７，２０９，２２４，２４２，２５４，２５５，２６４，
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９，２３，３２，
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：１，１５：３，１５：６，１６，２２，６０，６６，
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，３７，５８，５９；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１，７
これら有機顔料は、単独もしくは、分光の調整や色純度を上げるために種々組合せて用いることができる。上記組合せの具体例を以下に示す。例えば、赤の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独またはそれらの少なくとも一種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料またはペリレン系赤色顔料との混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７が挙げられ、ペリレン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４が挙げられ、色分解性の点でＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９との混合が好ましい。また、赤色顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５〜１００：５０が好ましく、１００：１０〜１００：３０の範囲がより好ましい。赤色顔料同士の組み合わせの場合は、求める分光に併せて調整することができる。
また、緑色顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、または、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、このような例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、３７とＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０またはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５との混合が好ましい。緑色顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５〜１００：１５０が好ましく、１００：３０〜１００：１２０の範囲がより好ましい。
青色顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。例えばＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比は、１００：０〜１００：１００が好ましい。
また、ブラックマトリックス用の顔料としては、カーボン、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独または混合が用いられ、カーボンとチタンブラックとの組合せが好ましい。また、カーボンとチタンブラックとの質量比は、１００：０〜１００：６０の範囲が好ましい。
顔料の一次粒子サイズは、カラーフィルタ用として用いる場合には、色ムラやコントラストの観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、また、分散安定性の観点から５ｎｍ以上であることが好ましい。顔料の一次粒子サイズとしてより好ましくは、５〜７５ｎｍであり、さらに好ましくは５〜５５ｎｍであり、特に好ましくは５〜３５ｎｍである。
顔料の一次粒子サイズは、電子顕微鏡等の公知の方法で測定することができる。
中でも、顔料としては、アントラキノン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、フタロシアニン系顔料、キノフタロン系顔料、イソインドリン系顔料、アゾメチン系顔料、およびジオキサジン系顔料から選ばれる顔料であることが好ましい。特に、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（アントラキノン系顔料），Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（ジケトピロロピロール系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，５８、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（フタロシアニン系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８（キノフタロン系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５（イソインドリン系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（アゾメチン系顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３（ジオキサジン系顔料）が特に好ましい。
本発明の着色組成物が顔料を含有する場合、顔料の含有量は、着色組成物に含有される溶剤を除いた全成分に対して、１０〜７０質量％が好ましく、２５〜６５質量％がより好ましく、３５〜５５質量％がさらに好ましい。
本発明の着色組成物は、顔料を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜顔料分散剤＞＞
本発明の着色組成物は、顔料を含む場合、顔料分散剤を含有することが好ましい。
顔料分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等の界面活性剤、及び、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子としては、例えば、特開平３−１１２９９２号公報、特表２００３−５３３４５５号公報等に記載の末端にりん酸基を有する高分子、特開２００２−２７３１９１号公報等に記載の末端にスルホン酸基を有する高分子、特開平９−７７９９４号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有する高分子などが挙げられる。また、特開２００７−２７７５１４号公報に記載の高分子末端に２個以上の顔料表面へのアンカー部位（酸基、塩基性基、有機色素の部分骨格やヘテロ環等）を導入した高分子も分散安定性に優れ好ましい。
顔料表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子としては、例えば、ポリエステル系分散剤等が挙げられ、具体的には、特開昭５４−３７０８２号公報、特表平８−５０７９６０号公報、特開２００９−２５８６６８号公報等に記載のポリ（低級アルキレンイミン）とポリエステルの反応生成物、特開平９−１６９８２１号公報等に記載のポリアリルアミンとポリエステルの反応生成物、特開平１０−３３９９４９号公報、特開２００４−３７９８６号公報等に記載のマクロモノマーと、窒素原子モノマーとの共重合体、特開２００３−２３８８３７号公報、特開２００８−９４２６号公報、特開２００８−８１７３２号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有するグラフト型高分子、特開２０１０−１０６２６８号公報等に記載のマクロモノマーと酸基含有モノマーの共重合体等が挙げられる。特に、特開２００９−２０３４６２号公報に記載の塩基性基と酸基を有する両性分散樹脂は、顔料分散物の分散性、分散安定性、及び顔料分散物を用いた着色組成物が示す現像性の観点から特に好ましい。
顔料表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子をラジカル重合で製造する際に用いるマクロモノマーとしては、公知のマクロモノマーを用いることができ、東亜合成（株）製のマクロモノマーＡＡ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリメタクリル酸メチル）、ＡＳ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリスチレン）、ＡＮ−６Ｓ（末端基がメタクリロイル基であるスチレンとアクリロニトリルの共重合体）、ＡＢ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリアクリル酸ブチル）、ダイセル化学工業（株）製のプラクセルＦＭ５（メタクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン５モル当量付加品）、ＦＡ１０Ｌ（アクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン１０モル当量付加品）、及び特開平２−２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマー等が挙げられる。これらの中でも、特に柔軟性且つ親溶剤性に優れるポリエステル系マクロモノマーが、顔料分散物の分散性、分散安定性、及び顔料分散物を用いた着色組成物が示す現像性の観点から特に好ましく、更に、特開平２−２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマーで表されるポリエステル系マクロモノマーが特に好ましい。
顔料表面へのアンカー部位を有するブロック型高分子としては、特開２００３−４９１１０号公報、特開２００９−５２０１０号公報等に記載のブロック型高分子が好ましい。
顔料分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、楠木化成株式会社製「ＤＡ−７３０１」、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０〜４０１０〜４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０〜４３４０（ブロック共重合体）、４４００〜４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８８０、ＰＢ８８１」、共栄社化学社製「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ−７０３−５０、ＤＡ−７０５、ＤＡ−７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ−１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、日本ルーブリゾール（株）製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカル者製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」、川研ファインケミカル（株）製 ヒノアクトＴ−８０００Ｅ等、信越化学工業（株）製、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１、裕商（株）製「Ｗ００１：カチオン系界面活性剤」、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤、「Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７」等のアニオン系界面活性剤、森下産業（株）製「ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０」、サンノプコ（株）製「ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００」等の高分子分散剤、（株）ＡＤＥＫＡ製「アデカプルロニックＬ３１、Ｆ３８、Ｌ４２、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ６４、Ｆ６８、Ｌ７２、Ｐ９５、Ｆ７７、Ｐ８４、Ｆ８７、Ｐ９４、Ｌ１０１、Ｐ１０３、Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３」、及び三洋化成（株）製「イオネット（商品名）Ｓ−２０」等が挙げられる。
顔料分散剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。また、顔料分散剤は、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子と伴に、アルカリ可溶性樹脂と併用して用いても良い。アルカリ可溶性樹脂としては、（メタ）アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を変性した樹脂が挙げられるが、特に（メタ）アクリル酸共重合体が好ましい。また、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー共重合体、特開２００４−３００２０４号公報に記載のエーテルダイマー共重合体、特開平７−３１９１６１号公報に記載の重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂も好ましい。具体的には、アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸／メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル共重合体が例示される。
顔料分散剤としては、以下の化合物を用いることもできる。下記構造中、ｎは２０を表す。
本発明の着色組成物において、顔料分散剤を含有する場合、顔料分散剤の総含有量としては、顔料１００質量部に対して、１〜８０質量部であることが好ましく、５〜７０質量部がより好ましく、１０〜６０質量部であることがさらに好ましい。
具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料１００質量部に対して、５〜１００質量部が好ましく、１０〜８０質量部がより好ましい。
また、顔料誘導体を併用する場合、顔料誘導体の使用量としては、顔料１００質量部に対し、１〜３０質量部が好ましく、３〜２０質量部がより好ましく、５〜１５質量部が特に好ましい。
本発明の着色組成物において、硬化感度、色濃度の観点から、着色剤および分散剤成分の含有量の総和が、本発明の着色組成物を構成する全固形分に対して５０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、５５質量％以上８５質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがさらに好ましい。
＜＜アルカリ可溶性樹脂＞＞
本発明の着色組成物は、さらに、アルカリ可溶性樹脂を含有してもよい。
アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性を促進する基（以下、酸基ともいう）としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられるが、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、（メタ）アクリル酸が特に好ましいものとして挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、２−イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するためのモノマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。アルカリ可溶性樹脂に酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマーおよび／または重合後に酸基を付与しうるモノマーを、モノマー成分として重合するようにすればよい。
アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類およびその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。
アルカリ可溶性樹脂として用いられる線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーとして、Ｎ―フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
アルカリ可溶性樹脂としては、下記一般式（ＥＤ）で示される化合物および／または下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を必須とするモノマー成分を重合してなるポリマー（ａ）を含むことも好ましい。
一般式（ＥＤ）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。
一般式（ＥＤ２）

一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１〜３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
これにより、本発明の着色組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた硬化塗膜を形成しうる。一般式（ＥＤ）中、Ｒ1およびＲ2で表される置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅｒｔ−アミル、ステアリル、ラウリル、２−エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２−メチル−２−アダマンチル等の脂環式基；１−メトキシエチル、１−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。
エーテルダイマーの具体例としては、例えば、ジメチル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２'−［オキシビス（メチレン）
］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−プロピル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソプロピル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−ブチル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソブチル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔｅｒｔ−アミル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ステアリル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ラウリル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−エチルヘキシル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−メトキシエチル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−エトキシエチル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジフェニル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ジシクロペンタジエニル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（トリシクロデカニル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソボルニル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジアダマンチル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−メチル−２−アダマンチル）−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジメチル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２'−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２'−［オキシビス
（メチレン）］ビス−２−プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。一般式（ＥＤ）で示される化合物由来の構造体は、その他のモノマーを共重合させてもよい。
アルカリ可溶性樹脂は、下記式（Ｘ）で示されるエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。
一般式（Ｘ）

（式（Ｘ）において、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数２〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜１５の整数を表す。）
上記式（Ｘ）において、Ｒ2のアルキレン基の炭素数は、２〜３が好ましい。また、Ｒ3のアルキル基の炭素数は１〜２０であるが、より好ましくは１〜１０であり、Ｒ3のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。Ｒ3で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、２−フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。
また、本発明における着色組成物の架橋効率を向上させるために、重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂としては、アリル基、（メタ）アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したアルカリ可溶性樹脂等が有用である。上述の重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂の例としては、ダイヤナ−ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（COOH含有 polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co.Ltd.,製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６(いずれも大阪有機化学工業株式会社製)、サイクロマーＰシリーズ、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業株式会社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）などが挙げられる。これら重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、予めイソシアネート基とＯＨ基を反応させ、未反応のイソシアネート基を１つ残し、かつ（メタ）アクリロイル基を含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基および重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、ＯＨ基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する２塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂、ＯＨ基を含むアクリル樹脂とイソシアネートと重合性基を有する化合物を反応させた樹脂、特開２００２−２２９２０７号公報および特開２００３−３３５８１４号公報に記載されるα位またはβ位にハロゲン原子或いはスルホネート基などの脱離基を有するエステル基を側鎖に有する樹脂を、塩基性処理することで得られる樹脂などが好ましい。また、アクリキュア−ＲＤ−Ｆ８(日本触媒社製)も好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、特に、（メタ）アクリル酸ベンジル／（メタ）アクリル酸共重合体や（メタ）アクリル酸ベンジル／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。この他、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合した（メタ）アクリル酸ベンジル／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル共重合体、特開平７−１４０６５４号公報に記載の２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられ、特に好ましくはメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸の共重合体等が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１２−２０８４９４号公報段落０５５８〜０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の＜０６８５＞〜＜０７００＞）以降の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
さらに、特開２０１２−３２７６７号公報に記載の段落番号００２９〜００６３に記載の共重合体（Ｂ）および実施例で用いられているアルカリ可溶性樹脂、特開２０１２−２０８４７４号公報の段落番号００８８〜００９８に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２−１３７５３１号公報の段落番号００２２〜００３２に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１３−０２４９３４号公報の段落番号０１３２〜０１４３に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１１−２４２７５２号公報の段落番号００９２〜００９８および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２−０３２７７０号公報の段落番号００３０〜００７２の記載のバインダー樹脂を用いること好ましい。これらの内容は本願明細書に組み込まれる。より具体的には、下記の樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の酸価は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２，０００〜５０，０００が好ましく、５，０００〜３０，０００がさらに好ましく、７，０００〜２０，０００が特に好ましい。
本発明の着色組成物中にアルカリ可溶性樹脂を含有する場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量としては、着色組成物の全固形分に対して、１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは、２〜１２質量％であり、特に好ましくは、３〜１０質量％である。
本発明の着色組成物は、アルカリ可溶性樹脂を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
本発明の着色組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。
光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、光重合開始剤は、約３００ｎｍ〜８００ｎｍ（３３０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種含有していることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。
また、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が特に好ましい。
特に、本発明の着色組成物を固体撮像素子のカラーフィルタの作製に使用する場合には、微細なパターンをシャープな形状で形成する必要があるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、光重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、光重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するには光重合開始剤としては、オキシム化合物を用いるのが特に好ましい。また、オキシム化合物を用いることにより、色移り性をより良化できる。
本発明に用いられる光重合開始剤の具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０２６５〜０２６８を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
光重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平１０−２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。
ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９，ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９−１９１１７９公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９やＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。
光重合開始剤として、より好ましくはオキシム化合物が挙げられる。オキシム開始剤の具体例としては、特開２００１−２３３８４２号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報記載の化合物を用いることができる。
本発明における光重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。
オキシム化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ.１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０４、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０９、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０５（常州強力電子新材料有限公司社（ＣＨＡＮＧＺＨＯＵ ＴＲＯＮＬＹ ＮＥＷ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＣＯ．，ＬＴＤ）製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１およびアデカアークルズＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ社製）も用いることができる。
また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９−５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０−１５０２５号公報及び米国特許公開２００９−２９２０３９号記載の化合物、国際公開特許２００９−１３１１８９号公報に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９−２２１１１４号公報記載の化合物、などを用いてもよい。
好ましくは、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０２７４〜０２７５を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
具体的には、オキシム化合物としては、下記式（ＯＸ−１）で表される化合物が好ましい。なお、オキシムのＮ−Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、（Ｚ）体のオキシム化合物であっても、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。
一般式（ＯＸ−１）中、ＲおよびＢは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
一般式（ＯＸ−１）中、Ｒで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
一般式（ＯＸ−１）中、Ｂで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
一般式（ＯＸ−１）中、Ａで表される二価の有機基としては、炭素数１〜１２のアルキレン基、アルキニレン基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
一般式（ＯＸ−１）で表される化合物の具体例（Ｃ−４）〜（Ｃ−１３）を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。
オキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高いものが特に好ましい。
オキシム化合物は、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１,０００〜３００，０００であることが好ましく、２,０００〜３００，０００であることがより好ましく、５,０００〜２００，０００であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数の測定は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
本発明に用いられる光重合開始剤は、必要に応じて２種以上を組み合わせて使用しても良い。
本発明の着色組成物が光重合開始剤を含有する場合、光重合開始剤の含有量は、着色組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜３０質量％であり、さらに好ましくは１〜２０質量％である。この範囲で、より良好な感度とパターン形成性が得られる。
本発明の組成物は、光重合開始剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の成分＞＞
本発明の着色組成物は、上述の各成分に加えて、本発明の効果を損なわない範囲で、さらに、多官能メルカプト化合物、有機溶剤、架橋剤、重合禁止剤、界面活性剤、有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物などの他の成分を含んでいてもよい。
＜＜多官能メルカプト化合物＞＞
本発明の着色組成物は、重合性化合物の反応を促進させることなどを目的として、分子内に２個以上のメルカプト基を有する多官能メルカプト化合物を含んでいてもよい。多官能メルカプト化合物は、２級のアルカンメルカプト類であることが好ましく、特に下記一般式（Ｔ１）で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
一般式（Ｔ１）

（式（Ｔ１）中、ｎは２〜４の整数を表し、Ｌは２〜４価の連結基を表す。）
上記一般式（Ｔ１）において、連結基Ｌは炭素数２〜１２の脂肪族基であることが好ましく、ｎが２であり、Ｌが炭素数２〜１２のアルキレン基であることが特に好ましい。多官能メルカプト化合物の具体的としては、下記の構造式（Ｔ２）〜（Ｔ４）で表される化合物が挙げられ、式（Ｔ２）で表される化合物が特に好ましい。これらの多官能メルカプト化合物は１種または複数組み合わせて使用することが可能である。
本発明の着色組成物中の多官能メルカプト化合物の配合量は、溶剤を除いた全固形分に対して０．３〜８．９質量％が好ましく、０．８〜６．４質量％がより好ましい。多官能メルカプト化合物は、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。また、多官能メルカプト化合物は安定性、臭気、解像性、現像性、密着性等の改良を目的として添加してもよい。
＜＜＜有機溶剤＞＞＞
本発明の着色組成物は、有機溶剤を含有してもよい。
有機溶剤は、各成分の溶解性や着色組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、色素（Ａ）、硬化性化合物等の溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。また、本発明における着色組成物を調製する際には、少なくとも２種類の有機溶剤を含むことが好ましい。
有機溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸シクロヘキシル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル（例：オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル等（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等））、２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル））、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチルおよび２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル（例えば、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。
これらの有機溶剤は、色素（Ａ）、硬化性化合物等の溶解性、塗布面状の改良などの観点から、２種以上を混合することも好ましい。この場合、特に好ましくは、上記の３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液である。
本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
有機溶剤の着色組成物中における含有量は、塗布性の観点から、着色組成物の全固形分濃度が５％〜８０質量％になる量とすることが好ましく、５〜６０質量％がさらに好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。
本発明の着色組成物は、有機溶剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜＜架橋剤＞＞＞
本発明の着色組成物に架橋剤を含有させてもよい。架橋剤を含有させることにより、得られる硬化膜の硬度をより高めることもできる。
架橋剤としては、架橋反応により膜硬化を行なえるものであれば、特に限定はなく、例えば、（ａ）エポキシ樹脂、（ｂ）メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換された、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物又はウレア化合物、（ｃ）メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換された、フェノール化合物、ナフトール化合物又はヒドロキシアントラセン化合物、が挙げられる。中でも、多官能エポキシ樹脂が好ましい。
架橋剤の具体例などの詳細については、特開２００４−２９５１１６号公報の段落０１３４〜０１４７の記載を参照することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明の着色組成物中に架橋剤を含有する場合、架橋剤の含有量は、特に定めるものではないが、組成物の全固形分の２〜３０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましい。
本発明の着色組成物は、架橋剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜＜重合禁止剤＞＞＞
本発明の着色組成物においては、着色組成物の製造中又は保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の重合禁止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
本発明の着色組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、着色組成物の質量に対して、約０．０１〜５質量％が好ましい。
本発明の着色組成物は、重合禁止剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜＜界面活性剤＞＞＞
本発明の着色組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
特に、本発明の着色組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する着色組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５〜３０質量％であり、特に好ましくは７〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、着色組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１Ｆ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
フッ素系界面活性剤は、特開２０１０−３２６９８号公報に記載のフッ素系界面活性剤を用いることもできる。
また、フッ素系界面活性剤としてブロックポリマーを用いることもでき、具体例としては、例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。
フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
また、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体をフッ素系界面活性剤として用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報００５０〜００９０段落および０２８９〜０２９５段落に記載された化合物、例えばＤＩＣ社製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレートおよびプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株））等が挙げられる。また、和光純薬工業社製の、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、ＮＣＷ−１００２を使用することもできる。
カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
本発明の着色組成物に界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の添加量は、着色組成物の全質量に対して、０．００１〜２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５〜１．０質量％である。
本発明の組成物は、界面活性剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜＜有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物＞＞＞
本発明の着色組成物は、分子量１０００以下の有機カルボン酸、及び／又は有機カルボン酸無水物を含有していてもよい。有機カルボン酸及び有機カルボン酸無水物の具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０３３８〜０３４０を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明の着色組成物に有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物を含有する場合、有機カルボン酸および／または有機カルボン酸無水物の添加量は、通常、全固形分中０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０３〜５重量％、より好ましくは０．０５〜３重量％の範囲である。
本発明の着色組成物は、有機カルボン酸および／または有機カルボン酸無水物を、それぞれ、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
上記のほか、着色組成物には、必要に応じて、各種添加物、例えば、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することができる。これらの添加物としては、特開２００４−２９５１１６号公報の段落０１５５〜０１５６に記載のものを挙げることができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明の着色組成物においては、特開２００４−２９５１１６号公報の段落００７８に記載の増感剤や光安定剤、同公報の段落００８１に記載の熱重合防止剤を含有することができる。また、バインダーとして特開２００６−２１５４５３号公報の一般式（１）で示される単量体を共重合成分として含む樹脂を含有することができる。
本発明の着色組成物において、色素、顔料、顔料分散剤、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、界面活性剤、光重合開始剤、エポキシ化合物等の着色組成物中の各成分に結合または配位していない遊離のＡｌ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｌｉ、Ｐｂ、Ｎａ、Ｋ、ＺｎおよびＰから選ばれる金属の含有量が２５ｐｐｍ以下であることが好ましい。また、上記遊離の金属の合計含有量は、７０ｐｐｍ以下であることが好ましく、６０ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。この態様によれば、欠陥の少ないカラーフィルタを製造しやすい。なお、着色組成物中における上記遊離の金属の含有量は、既知の解析手段を適宜用いて測定することが可能であるが、可能な限りにおいて、誘導結合プラズマ発光分光により測定することが好ましい。これらの金属の混入を避ける手段としては、例えば、原料の純度管理、非金属の反応容器(例えばガラスなど)の選択、適切な精製及び保存方法の選択等が挙げられる。
本発明の着色組成物において、色素、顔料、顔料分散剤、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、界面活性剤、光重合開始剤、エポキシ化合物等の着色組成物中の各成分に結合または配位していない遊離のＢｒ含有量は、９００ｐｐｍ以下が好ましく、６００ｐｐｍ以下がより好ましい。また、遊離のＣｌ含有量は、９００ｐｐｍ以下が好ましく、６００ｐｐｍ以下がより好ましい。また、遊離のＢｒと遊離のＣｌとの合計含有量は、１５００ｐｐｍ以下が好ましく、９００ｐｐｍ以下がより好ましい。この態様によれば、欠陥の少ないカラーフィルタを製造しやすい。なお、着色組成物中における遊離のＢｒ含有量および遊離のＣｌ含有量は、既知の解析手段を適宜用いて測定することが可能であるが、可能な限りにおいて、ハロゲン量測定ＢＳ ＥＮ １４５８２に準拠した燃焼イオンクロマトグラフ法に準拠して測定することが好ましい。
＜着色組成物の調製方法＞
本発明の着色組成物は、前述の成分を混合することで調製される。
なお、着色組成物の調製に際しては、着色組成物を構成する各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解・分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解・分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜２つ以上の溶液・分散液としておいて、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
本発明の着色組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６、ナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１〜７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１〜３．０μｍ程度、さらに好ましくは０．０５〜０．５μｍ程度である。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な着色組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
例えば、第１のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタリングを行ってもよい。
本発明の着色組成物は、耐熱性、色移り性が良好な硬化膜を形成することができるため、カラーフィルタの着色層を形成するために好適に用いられる。また、本発明の着色組成物は、固体撮像素子（例えば、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）等）や、液晶表示装置（ＬＣＤ）などの画像表示装置に用いられるカラーフィルタなどの着色パターン形成用として好適に用いることができる。さらに、印刷インキ、インクジェットインキ及び塗料などの作製用途としても好適に用いることができる。なかでも、ＣＣＤ及びＣＭＯＳ等の固体撮像素子用のカラーフィルタの製造に好適に用いることができる。
＜硬化膜、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法＞
次に、本発明における硬化膜、カラーフィルタについて、その製造方法を通じて詳述する。また、本発明のカラーフィルタの製造方法についても説明する。
本発明の硬化膜は、本発明の着色組成物を硬化してなる。かかる硬化膜はカラーフィルタに好ましく用いられる。
本発明のカラーフィルタの製造方法の第一の態様は、本発明の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成する工程と、着色組成物層をパターン様に露光する工程と、未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程と、を含む。さらに、必要に応じて、着色組成物層をベークする工程（プリベーク工程）、および、現像された着色パターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、これらの工程をあわせて、パターン形成工程ということがある。
また、本発明のカラーフィルタの製造方法の第二の態様は、本発明の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程と、着色層上にフォトレジスト層を形成する工程と、露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、レジストパターンをエッチングマスクとして着色層をドライエッチングして着色パターンを形成する工程とを含む。
本発明のカラーフィルタは、上記製造方法により好適に得ることができる。以下これらの詳細を述べる。
＜＜着色組成物層を形成する工程＞＞
着色組成物層を形成する工程では、支持体上に、本発明の着色組成物を適用して着色組成物層を形成する。
本工程に用いうる支持体としては、例えば、基板（例えば、シリコン基板）上にＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子（受光素子）が設けられた固体撮像素子用基板を用いることができる。
本発明における着色パターンは、固体撮像素子用基板の撮像素子形成面側（おもて面）に形成されてもよいし、撮像素子非形成面側（裏面）に形成されてもよい。
固体撮像素子における着色パターンの間や、固体撮像素子用基板の裏面には、遮光膜が設けられていてもよい。
また、支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
支持体上への本発明の着色組成物の付与方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。
支持体上に塗布された着色組成物層の乾燥（プリベーク）は、ホットプレート、オーブン等で５０℃〜１４０℃の温度で１０秒〜３００秒で行うことができる。
＜＜フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合＞＞
＜＜＜露光工程＞＞＞
露光工程では、着色組成物層形成工程において形成された着色組成物層を、パターン状に露光する。例えば、支持体上に形成した着色組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく（特に好ましくはｉ線）用いられる。照射量（露光量）は、例えば、０．０３〜２.
５Ｊ／ｃｍ2が好ましく、０．０５〜１．０Ｊ／ｃｍ2がより好ましく、０．０８〜０．５Ｊ／ｃｍ2が最も好ましい。
露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下(例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ2〜１０００００Ｗ／ｍ2(例えば、５０００Ｗ／ｍ2、１５０００Ｗ／ｍ2、３５０００Ｗ／ｍ2)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ2、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ2などとすることができる。
硬化膜の膜厚は１．０μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ〜０．９μｍであることがより好ましく、０．２μｍ〜０．８μｍであることがさらに好ましい。
膜厚を、１．０μｍ以下とすることにより、高解像性、高密着性を得られるため、好ましい。
また、本工程においては、０．７μｍ以下の薄い膜厚を有する硬化膜も好適に形成することができ、得られた硬化膜を、後述するパターン形成工程にて現像処理することで、薄膜でありながらも、現像性、表面荒れ抑制、およびパターン形状に優れた着色パターンを得ることができる。
＜＜＜パターン形成工程＞＞＞
次いでアルカリ現像処理を行うことにより、露光工程における光未照射部分の着色組成物層がアルカリ水溶液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。
現像液としては、下地の撮像素子や回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０℃〜３０℃であり、現像時間は、従来２０秒〜９０秒であった。より残渣を除去するため、近年では１２０秒〜１８０秒実施する場合もある。さらには、より残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。
現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−［５、４、０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられ、これらのアルカリ剤を濃度が０．００１質量％〜１０質量％、好ましくは０．０１質量％〜１質量％となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。
また、現像液には無機アルカリを用いてもよく、無機アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウムなどが好ましい。
また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、前述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液が界面活性剤を含有する場合、現像液の全質量に対して、０．００１〜２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。
なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。
次いで、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。多色の着色パターンを形成するのであれば、色ごとに工程を順次繰り返して硬化皮膜を製造することができる。これによりカラーフィルタが得られる。
ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理であり、通常１００℃〜２４０℃、好ましくは２００℃〜２４０℃の熱硬化処理を行う。
このポストベーク処理は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
＜＜ドライエッチング法でパターン形成する場合＞＞
ドライエッチングは、着色層を、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチングガスを用いて行うことができる。具体的には、着色層上にポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を塗布し、これを乾燥させることによりフォトレジスト層を形成する。フォトレジスト層の形成においては、さらにプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理（ＰＥＢ）、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。
フォトレジストとしては、例えば、ポジ型の感放射線性組成物が用いられる。このポジ型の感放射線性組成物としては、紫外線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）、エキシマレーザー等を含む遠紫外線、電子線、イオンビームおよびＸ線等の放射線に感応するポジ型フォトレジスト用に好適なポジ型レジスト組成物が使用できる。放射線のうち、ｇ線、ｈ線、ｉ線が好ましく、中でもｉ線が好ましい。
具体的には、ポジ型の感放射線性組成物として、キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含有する組成物が好ましい。キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型の感放射線性組成物は、５００ｎｍ以下の波長の光照射によりキノンジアジド基が分解してカルボキシル基を生じ、結果としてアルカリ不溶状態からアルカリ可溶性になることを利用するものである。このポジ型フォトレジストは解像力が著しく優れているので、ＩＣやＬＳＩ等の集積回路の作製に用いられている。キノンジアジド化合物としては、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。市販品としては例えばＦＨｉ６２２ＢＣ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）などが挙げられる。
フォトレジスト層の厚みとしては、０．１〜３μｍが好ましく、０．２〜２．５μｍが好ましく、０．３〜２μｍがさらに好ましい。なお、フォトレジスト層の塗布は、既述の着色層における塗布方法を用いて好適に行なえる。
次いで、フォトレジスト層を露光、現像することにより、レジスト貫通孔群が設けられたレジストパターン（パターニングされたフォトレジスト層）を形成する。レジストパターンの形成は、特に制限なく、従来公知のフォトリソグラフィの技術を適宜最適化して行なうことができる。露光、現像によりフォトレジスト層に、レジスト貫通孔群が設けられることによって、次のエッチングで用いられるエッチングマスクとしてのレジストパターンが、着色層上に設けられる。
フォトレジスト層の露光は、所定のマスクパターンを介して、ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物に、ｇ線、ｈ線、ｉ線等、好ましくはｉ線で露光を施すことにより行なうことができる。露光後は、現像液で現像処理することにより、着色パターンを形成しようとする領域に合わせてフォトレジストが除去される。
現像液としては、着色剤を含む着色層には影響を与えず、ポジレジストの露光部およびネガレジストの未硬化部を溶解するものであればいずれも使用可能である。例えば、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。アルカリ性の水溶液としては、アルカリ性化合物を濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜５質量％となるように溶解して調製されたアルカリ性水溶液が好適である。アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等が挙げられる。尚、アルカリ性水溶液を現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。
次に、レジストパターンをエッチングマスクとして、着色層に貫通孔群が形成されるようにドライエッチングによりパターニングする。これにより、着色パターンが形成される。貫通孔群は、着色層に、市松状に設けられている。よって、着色層に貫通孔群が設けられてなる第１着色パターンは、複数の四角形状の第１着色画素を市松状に有している。
ドライエッチングとしては、パターン断面をより矩形に近く形成する観点や支持体へのダメージをより低減する観点から、以下の形態で行なうのが好ましい。
フッ素系ガスと酸素ガス（Ｏ2）との混合ガスを用い、支持体が露出しない領域（深さ）までエッチングを行なう第１段階のエッチングと、この第１段階のエッチングの後に、窒素ガス（Ｎ2）と酸素ガス（Ｏ2）との混合ガスを用い、好ましくは支持体が露出する領域（深さ）付近までエッチングを行なう第２段階のエッチングと、支持体が露出した後に行なうオーバーエッチングとを含む形態が好ましい。以下、ドライエッチングの具体的手法、並びに第１段階のエッチング、第２段階のエッチング、およびオーバーエッチングについて説明する。
ドライエッチングは、下記手法により事前にエッチング条件を求めて行なう。
（１）第１段階のエッチングにおけるエッチングレート（ｎｍ／ｍｉｎ）と、第２段階のエッチングにおけるエッチングレート（ｎｍ／ｍｉｎ）とをそれぞれ算出する。
（２）第１段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間と、第２段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間とをそれぞれ算出する。
（３）上述した（２）で算出したエッチング時間に従って第１段階のエッチングを実施する。
（４）上述した（２）で算出したエッチング時間に従って第２段階のエッチングを実施する。あるいはエンドポイント検出でエッチング時間を決定し、決定したエッチング時間に従って第２段階のエッチングを実施してもよい。
（５）上述した（３）および（４）の合計時間に対してオーバーエッチング時間を算出し、オーバーエッチングを実施する。
第１段階のエッチング工程で用いる混合ガスとしては、被エッチング膜である有機材料を矩形に加工する観点から、フッ素系ガスおよび酸素ガス（Ｏ2）を含むことが好ましい。また、第１段階のエッチング工程は、支持体が露出しない領域までエッチングする形態にすることで、支持体のダメージを回避することができる。また、第２段階のエッチング工程およびオーバーエッチング工程は、第１段階のエッチング工程でフッ素系ガスおよび酸素ガスの混合ガスにより支持体が露出しない領域までエッチングを実施した後、支持体のダメージ回避の観点から、窒素ガスおよび酸素ガスの混合ガスを用いてエッチング処理を行なうのが好ましい。
第１段階のエッチング工程でのエッチング量と、第２段階のエッチング工程でのエッチング量との比率は、第１段階のエッチング工程でのエッチング処理による矩形性を損なわないように決定することが重要である。なお、全エッチング量（第１段階のエッチング工程でのエッチング量と第２段階のエッチング工程でのエッチング量との総和）中における後者の比率は、０％より大きく５０％以下である範囲が好ましく、１０〜２０％がより好ましい。エッチング量とは、被エッチング膜の残存する膜厚とエッチング前の膜厚との差から算出される量のことをいう。
また、エッチングは、オーバーエッチング処理を含むことが好ましい。オーバーエッチング処理は、オーバーエッチング比率を設定して行なうことが好ましい。また、オーバーエッチング比率は、初めに行なうエッチング処理時間より算出することが好ましい。オーバーエッチング比率は任意に設定できるが、フォトレジストのエッチング耐性と被エッチングパターンの矩形性維持の点で、エッチング工程におけるエッチング処理時間の３０％以下であることが好ましく、５〜２５％であることがより好ましく、１０〜１５％であることが特に好ましい。
次いで、エッチング後に残存するレジストパターン（すなわちエッチングマスク）を除去する。レジストパターンの除去は、レジストパターン上に剥離液または溶剤を付与して、レジストパターンを除去可能な状態にする工程と、レジストパターンを洗浄水を用いて除去する工程とを含むことが好ましい。
レジストパターン上に剥離液または溶剤を付与し、レジストパターンを除去可能な状態にする工程としては、例えば、剥離液または溶剤を少なくともレジストパターン上に付与し、所定の時間停滞させてパドル現像する工程を挙げることができる。剥離液または溶剤を停滞させる時間としては、特に制限はないが、数十秒から数分であることが好ましい。
また、レジストパターンを洗浄水を用いて除去する工程としては、例えば、スプレー式またはシャワー式の噴射ノズルからレジストパターンに洗浄水を噴射して、レジストパターンを除去する工程を挙げることができる。洗浄水としては、純水を好ましく用いることができる。また、噴射ノズルとしては、その噴射範囲内に支持体全体が包含される噴射ノズルや、可動式の噴射ノズルであってその可動範囲が支持体全体を包含する噴射ノズルを挙げることができる。噴射ノズルが可動式の場合、レジストパターンを除去する工程中に支持体中心部から支持体端部までを２回以上移動して洗浄水を噴射することで、より効果的にレジストパターンを除去することができる。
剥離液は、一般には有機溶剤を含有するが、無機溶媒をさらに含有してもよい。有機溶剤としては、例えば、１）炭化水素系化合物、２）ハロゲン化炭化水素系化合物、３）アルコール系化合物、４）エーテルまたはアセタール系化合物、５）ケトンまたはアルデヒド系化合物、６）エステル系化合物、７）多価アルコール系化合物、８）カルボン酸またはその酸無水物系化合物、９）フェノール系化合物、１０）含窒素化合物、１１）含硫黄化合物、１２）含フッ素化合物が挙げられる。剥離液としては、含窒素化合物を含有することが好ましく、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことがより好ましい。
非環状含窒素化合物としては、水酸基を有する非環状含窒素化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられ、好ましくはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであり、より好ましくはモノエタノールアミン（Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）である。また、環状含窒素化合物としては、イソキノリン、イミダゾール、Ｎ−エチルモルホリン、ε−カプロラクタム、キノリン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、２−ピペコリン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、ピペラジン、ピペリジン、ピラジン、ピリジン、ピロリジン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−フェニルモルホリン、２，４−ルチジン、２，６−ルチジンなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチルモルホリンであり、より好ましくはＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）である。
剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことが好ましいが、中でも、非環状含窒素化合物として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、およびトリエタノールアミンから選ばれる少なくとも１種と、環状含窒素化合物として、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびＮ−エチルモルホリンから選ばれる少なくとも１種とを含むことがより好ましく、モノエタノールアミンとＮ−メチル−２−ピロリドンとを含むことがさらに好ましい。
剥離液で除去するときには、着色パターンの上に形成されたレジストパターンが除去されていればよく、着色パターンの側壁にエッチング生成物であるデポ物が付着している場合でも、デポ物が完全に除去されていなくてもよい。デポ物とは、エッチング生成物が着色層の側壁に付着し堆積したものをいう。
剥離液としては、非環状含窒素化合物の含有量が、剥離液１００質量部に対して９質量部以上１１質量部以下であって、環状含窒素化合物の含有量が、剥離液１００質量部に対して６５質量部以上７０質量部以下であるものが望ましい。また、剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物との混合物を純水で希釈したものが好ましい。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、必要に応じ、上記以外の工程として、固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法として公知の工程を有していてもよい。例えば、上述した、着色組成物層形成工程、露光工程およびパターン形成工程を行った後に、必要により、形成された着色パターンを加熱および／または露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。
また、塗布装置吐出部のノズルや配管部の目詰まり、塗布機内への着色組成物や顔料の付着・沈降・乾燥による汚染等を効率よく洗浄するためには、本発明の着色組成物に関する溶剤を洗浄液として用いることが好ましい。また、特開平７−１２８８６７号公報、特開平７−１４６５６２号公報、特開平８−２７８６３７号公報、特開２０００−２７３３７０号公報、特開２００６−８５１４０号公報、特開２００６−２９１１９１号公報、特開２００７−２１０１号公報、特開２００７−２１０２号公報、特開２００７−２８１５２３号公報などに記載の洗浄液を好適に用いることができる。
上記のうち、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートおよびアルキレングリコールモノアルキルエーテルが好ましい。
これら溶媒は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。２種以上を混合する場合、水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤とを混合することが好ましい。水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤との質量比は、１／９９〜９９／１、好ましくは１０／９０〜９０／１０、さらに好ましくは２０／８０〜８０／２０である。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）とプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）の混合溶剤で、その比率が６０／４０であることが特に好ましい。なお、汚染物に対する洗浄液の浸透性を向上させるために、洗浄液には上述した本発明の着色組成物に関する界面活性剤を添加してもよい。
本発明のカラーフィルタは、本発明の着色組成物を用いているため、耐熱性、色移り性に優れている。
本発明のカラーフィルタは、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の固体撮像素子に好適に用いることができ、特に１００万画素を超えるような高解像度のＣＣＤやＣＭＯＳ等に好適である。本発明の固体撮像素子用カラーフィルタは、例えば、ＣＣＤまたはＣＭＯＳを構成する各画素の受光部と、集光するためのマイクロレンズと、の間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
本発明のカラーフィルタにおける着色パターン（着色画素）の膜厚としては、２．０μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましく、０．７μｍ以下がさらに好ましい。
また、着色パターン（着色画素）のサイズ（パターン幅）としては、２．５μｍ以下が好ましく、２．０μｍ以下がより好ましく、１．７μｍ以下が特に好ましい。
＜固体撮像素子＞
本発明の固体撮像素子は、既述の本発明のカラーフィルタを備える。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明におけるカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
支持体上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサー、ＣＭＯＳイメージセンサー、等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタを有する構成である。
さらに、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
＜画像表示装置＞
本発明のカラーフィルタは、固体撮像素子のみならず、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などの、画像表示装置に用いることができ、特に液晶表示装置の用途に好適である。本発明のカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、表示画像の色合いが良好で表示特性に優れた高画質画像を表示することができる。
表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
本発明のカラーフィルタは、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に用いてもよい。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに、本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、ＳＴＮ、ＴＮ、ＶＡ、ＯＣＳ、ＦＦＳ、およびＲ−ＯＣＢ等にも適用できる。
また、本発明におけるカラーフィルタは、明るく高精細なＣＯＡ（Color-filter On Array）方式にも供することが可能である。ＣＯＡ方式の液晶表示装置にあっては、カラーフィルタ層に対する要求特性は、前述のような通常の要求特性に加えて、層間絶縁膜に対する要求特性、すなわち低誘電率および剥離液耐性が必要とされることがある。本発明のカラーフィルタにおいては、色相に優れた色素を用いることから、色純度、光透過性などが良好で着色パターン(画素）の色合いに優れるので、解像度が高く長期耐久性に優れたＣＯＡ方式の液晶表示装置を提供することができる。なお、低誘電率の要求特性を満足するためには、カラーフィルタ層の上に樹脂被膜を設けてもよい。
また、本発明のカラーフィルタは、マイクロオーレッド方式（マイクロＯＬＥＤ）のディスプレイにも好ましく用いることができる。
これらの画像表示方式については、例えば、「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門 ２００１年発行）」の４３ページなどに記載されている。
本発明におけるカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、本発明におけるカラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなど様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば、「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島 健太郎 （株）シーエムシー １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。
バックライトに関しては、SID meeting Digest 1380（2005）（A.Konno et.al）や、月刊ディスプレイ ２００５年１２月号の１８〜２４ページ（島 康裕）、同２５〜３０ページ（八木隆明）などに記載されている。
本発明におけるカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、従来公知の冷陰極管の三波長管と組み合わせたときに高いコントラストを実現できるが、さらに、赤、緑、青のＬＥＤ光源（ＲＧＢ−ＬＥＤ）をバックライトとすることによって輝度が高く、また、色純度の高い色再現性の良好な液晶表示装置を提供することができる。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその趣旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。
また、以下の実施例で用いた色素（Ａ）は、一般式（１）におけるｍ及びｎが、ある分布をもって異なる複数の値をとっている混合物であり、以下の表１で記載したｍおよびｎの値は各色素での平均値の値である。
＜重量平均分子量の測定方法＞
重量平均分子量は、ＧＰＣ（Gel Permeation Chromatography）測定によるポリスチレン換算値にて測定した。具体的には、ＨＬＣ−８２２０（東ソー製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ リチウムブロミドＮＭＰ(Ｎ−メチルピロリジノン)溶液を用いることによって求めた。
＜酸価の測定方法＞
酸価は、固形分１ｇあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表わしたものである。具体的には、測定サンプルをテトラヒドロフラン／水＝９／１（質量比）混合溶液に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ−５１０、京都電子工業製）を用いて、得られた溶液を２５℃において、０．１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．１×ｆ／ｗ
Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
ｆ：０．１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価
ｗ：測定サンプル質量（ｇ）（固形分換算）
＜濁度の測定方法＞
色素２．５ｇをシクロヘキサノン４７．５ｇに溶解させ、得られた液を濁度測定装置（三菱化学株式会社製ＳＥＰ−ＰＴ−７６０Ｄ型、光路長１０ｍｍ、２５２．２ｐｐｍの標準板使用）を用いて測定した。
＜遊離金属量測定＞
色素を、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）＝１／９の１質量％溶液とし、誘導結合プラズマ発光分光（ＩＣＰ−ＯＥＳ）で、遊離金属量を測定した。
＜遊離ハロゲン量測定＞
ハロゲン量測定ＢＳ ＥＮ １４５８２に準拠した燃焼イオンクロマトグラフ法にて、遊離ハロゲン量を測定した。
＜トリアリールメタン化合物（Ａ−ｔｐ−１）〜（Ａ−ｔｐ−４）の合成例＞
特開２０００−１６２４２９号公報に記載の方法と同様にして、トリアリールメタン化合物（Ａ−ｔｐ−１）〜（Ａ−ｔｐ−４）を合成した。
＜キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−１）〜（Ａ−ｘｔ−５）の合成例＞
＜＜中間体１の合成＞＞
以下の合成は、ガラス製フラスコを使用して実施した。また、ＤＣＳＦは、ＮＭＰ溶解後にセライトろ過して晶析した、ＨＰＬＣ（液体クロマトグラフィ）測定で純度９５％以上のものを使用した。また、２，６−ジイソプロピルアニリンは、塩酸塩とした後、水酸化ナトリウムで処理して精製した、ＨＰＬＣ測定で純度９５％以上のものを使用した。
ＤＣＳＦ（Spiro[3H-2,1-benzoxathiole-3,9'-[9H]xanthene], 3',6'-dichloro-, 1,1-dioxide、中外化成製）３１部、２，６−ジイソプロピルアニリン６７部、塩化亜鉛１７部、スルホラン１２０部をフラスコへ入れ外温２００度にて８時間攪拌した。その後、室温まで放冷し、２Ｎ塩酸水６００部へ反応液を滴下し、析出した結晶をろ別した。結晶を、４０度のアセトニトリル６００部で分散洗浄し、ろ取し、送風乾燥を１０時間行い、中間体１を４２．５部（収率：８２％）得た。
＜＜中間体２の合成＞＞
中間体１を１１部およびオキシ塩化リン５０部をフラスコへ入れ６０℃で４時間攪拌した。室温まで放冷し、氷水１５０部へ反応液を滴下し、３０分攪拌した。得られた結晶をろ別し、水２０部で洗浄した後、得られた結晶をクロロホルム１５０部に溶かし、セライトろ過を行った。ろ液を５％食塩水１００部、１５％食塩水１００部で分液洗浄した。硫酸ナトリウム乾燥の後、減圧濃縮し、中間体２を１２．１部（収率：９１％）得た。
＜＜中間体３の合成＞＞
ペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリド１５部、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）３００部をフラスコに入れ、内温を−１０℃に冷却した。そこに２８％アンモニア水６．８部を、反応液が０℃以下を維持するように滴下した。滴下後１時間０℃で攪拌したのち、反応液をろ過した。得られたろ液を減圧濃縮し、ＴＨＦを除いた後、水１００部を添加し、攪拌した。得られた固体をろ過し、水洗した後に送風乾燥を１０時間行い、中間体３を１１．７部（収率：８４％）得た。
＜＜キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−１）の合成＞＞
中間体３を５部、中間体２を１８．０部、塩化メチレンを５０部フラスコに加え、室温で攪拌した。そこにトリエチルアミン（ＴＥＡ）６．１部をフラスコに加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応液をクロロホルム／酢酸エチル溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製することで、Ａ−ｘｔ−１を１１．１部（収率：６０％）得た。＜キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−２）〜（Ａ−ｘｔ−５）の合成例＞
上記キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−１）と同様に合成した。
＜一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物の合成＞
以下に示すように、一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物（Ｓ−６）、（Ｓ−４）を合成した。（Ｓ−１）〜（Ｓ−３）、（Ｓ−５）、（Ｓ−７）〜（Ｓ−１９）も同様の手法にて合成した。
＜＜（Ｓ−６）の合成＞＞

ジペンタエリスリトール５部、ジメチルアセトアミド８０部を三口フラスコに加え、窒素雰囲気下２０℃の水浴中で攪拌した。６−ブロモヘキサノイルクリド３１部を温度が３０℃をこえないように滴下した後、室温で２時間攪拌した。反応液を１Ｎ塩酸水３５０部に少しずつ加え反応を停止した後、酢酸エチル５００部を加え分液操作を行った。続いて、有機層を飽和重曹水２５０部、水２５０部、飽和食塩水１５０部で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えた後、ろ別し、ろ液を減圧濃縮することで中間体１を２４部得た。
続いて２０部の中間体１、チオウレア８．９部、エタノール２００部、ヨウ化カリウム１７．６部を三口フラスコに加え、窒素雰囲気下加熱還流で１８時間反応させた。その後、２０％炭酸カリウム水溶液８１部を加え、７０℃で３時間反応させた後、冷却した。続いて、１Ｎ塩酸水１５０部とクロロホルム３００部を加え分液操作を行った。飽和食塩水１５０部で２回洗浄し、有機層に硫酸ナトリウムを加えた後、ろ別し、ろ液を減圧濃縮することで（Ｓ−６）を１４．７部得た。
＜＜（Ｓ−４）の合成＞＞

ジペンタエリスリトール１５部、脱水ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）２７０部、アリルブロミド８６部を三口フラスコに加え、窒素雰囲気下２０℃の水浴中で攪拌した。水素化ナトリウム（６０％のオイルディスパージョン）計３５部を温度が３５℃をこえないように添加した後、室温で２時間攪拌した。反応液を１Ｎ塩酸水２００部に少しずつ加え反応を停止した後、酢酸エチル２００部を加え分液操作を行った。続いて、有機層を１Ｎ塩酸水２００部、水２００部、飽和食塩水２００部で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えた後、ろ別し、ろ液を減圧濃縮することで中間体２を２８部得た。
続いて２５部の中間体２、チオ酢酸５８部を脱水ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１２５部に溶かし、窒素雰囲気下７０℃で３０分攪拌した後、アゾビスイソブチロニトリル２部を添加し、７０℃４時間攪拌した。 得られた反応液を減圧濃縮した後、脱水メタノールを加え、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）１９部を加えた。一時間後に反応溶液を１Ｎ塩酸水１２０部に氷浴で冷やしながら滴下した後、酢酸エチル２００部を加え分液操作を行った。続いて、有機層を１Ｎ塩酸水２００部、水２００部、飽和食塩水２００部で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えた後、ろ別し、ろ液を減圧濃縮することで（Ｓ−４）を１３部得た。
＜色素構造を有するメルカプト化合物の合成＞
以下に示すように、色素構造を有するメルカプト化合物を合成した。
＜＜合成例＞＞
＜＜＜（Ｂ−１）の合成＞＞＞
一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物（Ｓ−６）２．０部、キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−１）６．２部、ジアザビシクロウンデセン１．０３部を、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３９．８部に溶解させ２５℃２時間攪拌した。反応後、１Ｎ塩酸水２５０部の混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈しろ過して得られた固体をアセトニトリル２５０部に入れ懸濁洗浄し、再度ろ過することにより以下に示すメルカプト化合物（Ｂ−１）７．４部を得た。ＮＭＲ測定でのＲ部位に対する色素部位の比率が３．５であることを確認した。
＜（Ｂ−２）〜（Ｂ−２７）、（比−１）〜（比−３）の合成＞
（Ｂ−１）と同様に、（Ａ−ｘｔ−１）を対応する色素に、（Ｓ−６）を対応するメルカプト基を有する化合物に変更し、表１に示すｍ、ｎ数となるように合成した。
なお、表１における（Ａ−ｘｔ−１）〜（Ａ−ｘｔ−５）、（Ａ−ｔｐ−１）〜（Ａ−ｔｐ−５）、（Ａ−ａｑ−１）、（Ａ−ａｚ−１）、（Ａ−ｓｑ−１）、（Ａ−Ｐｃ−１）、（Ａ−ｓｕｂＰｃ−１）、（Ａ−Ｑｕ−１）、（Ａ−ｐｍ−１）は、上述した構造の色素である。






＜一般式（１）で表される色素（Ｐｏ−１〜Ｐｏ−２２）の合成＞
（Ｐｏ−１）の合成
メルカプト化合物（Ｂ−１）を５．０部、メタクリル酸（ＭＡＡ）０．６２部、エチレングリコールモノ２−ブロモイソブチレートモノメタクリレート（ＢＢＥＭ）１．０７部およびＮ−エチルピロリドン９．０部の混合溶液を窒素気流下、９０℃に加熱した。これに２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル〔Ｖ−６０１；和光純薬製〕を０．０８７部添加した後、９０℃で１．５時間加熱攪拌した。さらにＶ−６０１を０．０８７部添加した後、９０℃で１．５時間加熱攪拌し、さらにＶ−６０１を０．０８７部添加した後、９０℃で２時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）１０．０部をゆっくり加え、室温で１４時間攪拌した。その後、氷浴で５度以下に冷却し、メタンスルホン酸６．３部をゆっくり加えた。反応後、１規定塩酸水２５０部の混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈しろ過して得られた固体をアセトニトリル２５０部に入れ懸濁洗浄し、再度ろ過することにより以下に示す本発明に係る色素（Ｐｏ−１）を６．０部得た。Ｐｏ−１の重量平均分子量（ポリスチレン換算値）は８９００であり、０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を用いた滴定により、酸価は６０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。また、ＮＭＲより、色素構造／ＭＡＡ／ＢＢＥＭのＨＢｒ脱離体のモル比率は、３．５／６／４．５であり、Ｐ部の繰り返し数は平均４と計算された。
また、Ｐｏ−１のシクロヘキサノン５質量％での濁度は０．５ｐｐｍであった。
また、Ａｌ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｌｉ、Ｐｂ、Ｎａ、Ｋ、ＺｎおよびＰであって、Ｐｏ−１に結合または配位していない、遊離した前述の金属量はすべて２ｐｐｍ以下であった。さらに、Ｐｏ−１に結合または配位していない、遊離したＢｒ含有量は５００ｐｐｍで、遊離したＣｌ含有量は１００ｐｐｍであった。
（Ｐｏ−７）の合成
メルカプト化合物（Ｂ−７）を５．０部、イタコン酸（ＩＣＡ）０．４１部およびＮ−エチルピロリドン９．０部の混合溶液を窒素気流下、９０℃に加熱した。これに２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル〔Ｖ−６０１；和光純薬製〕を０．０２２部添加した後、９０℃で１．５時間加熱攪拌した。さらにＶ−６０１を０．０２２部添加した後、９０℃で１．５時間加熱攪拌し、さらにＶ−６０１を０．０２２部添加した後、９０℃で２時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、Ｎ−エチルピロリドン３０．０部、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）０．０５部、メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）０．２７部を添加し、８０℃１８時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、ヘキサン／酢酸エチル２５０部の混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈し、以下に示す本発明に係る色素（Ｐｏ−７）を５．１部得た。Ｐｏ−７の重量平均分子量（ポリスチレン換算値）は７２００であり、０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を用いた滴定により、酸価は４４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。また、ＮＭＲより、色素構造／ＭＡＡ／ＩＣＡ／ＩＣＡとＧＭＡの付加体のモル比率は、３．５／３．５／２であった。
また、Ｐｏ−７のシクロヘキサノン５質量％での濁度は１．５ｐｐｍであった。
また、Ａｌ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｌｉ、Ｐｂ、Ｎａ、Ｋ、ＺｎおよびＰであって、Ｐｏ−７に結合または配位していない、遊離した前述の金属量はすべて２ｐｐｍ以下であった。さらに、Ｐｏ−７に結合または配位していない、遊離したＢｒ含有量は４００ｐｐｍで、遊離したＣｌ含有量は１００ｐｐｍであった。
（Ｐｏ−２）〜（Ｐｏ−６）、（Ｐｏ−８）〜（Ｐｏ−２７）の合成
使用するメルカプト化合物やモノマー等を表１に記載の通りにし、上記（Ｐｏ−１）、（Ｐｏ−７）の合成と同様の手法にて合成した。
＜比較色素１〜３の合成＞
使用するメルカプト化合物やモノマー等を表１に記載の通りにし、上記（Ｐｏ−１）、（Ｐｏ−７）の合成と同様の手法にて合成した。

上記表１において、Ｒ1は、反応前のメルカプト化合物の構造を示す。ｍ+ｎは、メルカプト化合物のメルカプト基の数に対応し、ｍ、ｎは得られる色素における、ｍ、ｎの平均値を示す。下記表中、合成方法における、ＢＢＥＭ、ＣＥＥＭＡは、これらの化合物を用いて合成したことを意味する。Ｒ2は得られる色素が有する繰り返し単位の平均個数を示す。酸価は、得られる色素の酸価を示す（単位：ｍｇＫＯＨ／ｇ）。Ｍｗは得られる色素の重量平均分子量で、ＧＰＣ測定法により得られる。





＜実施例１＞
１．レジスト液の調製
下記組成の成分を混合して溶解した後、０．４５μｍナイロンフィルタでろ過することにより、下塗り層用レジスト液を調製した。
下塗り層用レジスト液の組成
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １９．２０部
・溶剤：乳酸エチル ３６．６７部
・アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸／メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル共重合体（モル比＝６０／２２／１８、重量平均分子量１５，０００、数平均分子量９，０００）の４０％ＰＧＭＥＡ溶液 ３０．５１部
・エチレン性不飽和二重結合含有化合物：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、サートマー社製）
１２．２０部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール ０．００６１部
・フッ素系界面活性剤：Ｆ−４７５、ＤＩＣ（株）製 ０．８３部
・光重合開始剤：トリハロメチルトリアジン系の光重合開始剤 ０．５８６部
（ＴＡＺ−１０７、みどり化学社製）
２．下塗り層付シリコンウエハ基板の作製
６ｉｎｃｈシリコンウエハをオーブン中で２００℃のもと３０分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハ上に、下塗り層用レジスト液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布し、更に２２０℃のオーブン中で１時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハ基板を得た。
３．着色組成物の調製
３−１．青色顔料分散液の調製（顔料分散液Ｐ１）
（顔料分散液Ｐ１（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液）の調製）
以下のようにして、顔料分散液Ｐ１（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液）を調製した。
即ち、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６（青色顔料；以下、「ＰＢ１５：６」とも称する）を１９．４質量部（平均一次粒子径５５ｎｍ）、及び顔料分散剤Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を２．９５質量部、アルカリ可溶性樹脂Ｊ１（メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸の共重合体、３０％ＰＧＭＥＡ溶液）を固形分換算で２．９５質量部（溶液９．９３質量部）、ＰＧＭＥＡ１６５．３質量部からなる混合液を、ビーズミル(ｂｅａｄｓ ｍｉｌｌ)（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合・分散した。その後、さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ3の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、顔料分散液として、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液を得た。得られたＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液について、顔料の平均一次粒子径を動的光散乱法（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ Ｎａｎｏｔｒａｃ ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装社（Ｎｉｋｋｉｓｏ Ｃｏ．，）ｔｄ．）製））により測定したところ、２４ｎｍであった。
３−２．着色組成物の調製
下記の各成分を混合して分散、溶解し、０．４５μｍナイロンフィルタでろ過することにより着色組成物を得た。
・有機溶剤（シクロヘキサノン）：１４．６９部
・アルカリ可溶性樹脂１（Ｊ１）：０．２９部（固形０．０９部、固形分濃度３０％）
・アルカリ可溶性樹脂２（アクリキュア−ＲＤ−Ｆ８(日本触媒社製)）：０．０５部
・光重合開始剤Ｉ−２（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２）：０．７８部
・色素Ｐｏ−１のシクロヘキサノン溶液（固形分濃度１２．３％）：２８．４５部
・顔料分散液Ｐ１（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液、ＰＧＭＥＡ溶液、固形分濃度１２．８％）：５１．２３部
・重合性化合物Ｚ−３ エトキシ化（４）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＳＲ４９４（サートマー社製）：１．６１部
・エポキシ化合物Ｅ−１（ＥＨＰＥ３１５０、ダイセル（株）製）：０．３９部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．０００７部
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ社製Ｆ４７５、１％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．５０部
４．カラーフィルタ（着色パターン）の作製
４−１：フォトリソグラフィ法による着色組成物を用いたカラーフィルタの作製
上記で調製された着色組成物を、上記で作製された下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に塗布し、着色層（塗布膜）を形成した。そして、この塗布膜の乾燥膜厚が１μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行なった。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長でパターンが１．０μｍ四方のＩｓｌａｎｄパターンマスクを通して５０〜１２００ｍＪ／ｃｍ2の露光量で露光した。
その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハ基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ−３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ−２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ない、下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に着色パターンを形成した。
着色パターンが形成されたシリコンウエハを、真空チャック方式で水平回転テーブルに固定し、回転装置によってシリコンウエハを回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥し、２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベークを行い、シリコンウエハ上の膜厚１μｍの着色パターン（カラーフィルタ）を得た。
以上により、下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に着色パターン（カラーフィルタ）が設けられた構成の着色パターン付シリコンウエハを得た。
＜＜耐熱性評価＞＞
上記で調製された着色組成物をガラス基板にスピンコーターを用いて塗布し、塗膜を形成した。着色層を形成したガラス基板を、基板面で接するように２８０℃のホットプレートに載置して１時間加熱して、耐熱性試験を実施した。
加熱前後での色差（ΔＥ＊ａｂ）を色度計ＭＣＰＤ−１０００（大塚電子（株）製）を用いて測定した。測定された色差（ΔＥ＊ａｂ値）に基づき、下記評価基準に従って耐熱性を評価した。ΔＥ＊ａｂ値は、値の小さい方が、耐熱性が良好なことを示す。なお、ΔＥ＊ａｂ値は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編 新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥ＊ａｂ＝｛（ΔＬ＊）2＋（Δａ＊）2＋（Δｂ＊）2｝1/2
＜評価基準＞
Ａ：ΔＥ＊ａｂが３以下
Ｂ：ΔＥ＊ａｂが３より大きく５以下
Ｃ：ΔＥ＊ａｂが５より大きく１０以下
Ｄ：ΔＥ＊ａｂが１０より大きい
＜＜色移り性評価＞＞
各カラーフィルタにおける着色パターンの吸光度を、ＭＣＰＤ−３０００（大塚電子（株）製）にて測定した（吸光度Ａ）。
カラーフィルタの着色パターン形成面に、乾燥膜厚が１μｍとなるようにＣＴ−２０００Ｌ溶液（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製；透明下地剤）を塗布し、乾燥させて、透明膜を形成した後、２８０℃で３０分間加熱処理を行なった。
加熱終了後、着色パターンに隣接する透明膜の吸光度を、ＭＣＰＤ−３０００（大塚電子（株）製）にて測定した（吸光度Ｂ）。
得られた透明膜の吸光度Ｂの値について、加熱前に測定した着色パターンの吸光度Ａの値に対する割合［％］を算出した〔下記（式Ａ）〕。これを隣接ピクセルへの色移りを評価する指標とした。
（式Ａ） 色移り（％）＝（吸光度Ｂ／吸光度Ａ）×１００
Ａ：１％未満
Ｂ：１％以上３％未満
Ｃ：３％以上５％未満
Ｄ：５％以上
＜実施例２〜４０、比較例１〜３＞
実施例１における「３−２．着色組成物の調製」において、顔料分散液Ｐ１、色素Ｃ−１、光重合開始剤Ｉ−２、アルカリ可溶性樹脂１、重合性化合物Ｚ−３を下記表のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして、着色組成物を調製し、実施例１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
＜実施例４１＞
実施例１における「３−２．着色組成物の調製」において、下記の各成分を混合したこと以外は、実施例１と同様にして、着色組成物を調製し、実施例１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
・有機溶剤（シクロヘキサノン）：１７．１２部
・アルカリ可溶性樹脂１（Ｊ１）：１．２３部（固形０．３７部、固形分濃度３０％）
・アルカリ可溶性樹脂２（アクリキュア−ＲＤ−Ｆ８(日本触媒社製)）：０．２３部
・光重合開始剤Ｉ−２（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２）：０．９７５部
・色素Ｐｏ−１のシクロヘキサノン溶液（固形分濃度１２．３％）：２４．５７部
・顔料分散液Ｐ１（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液、ＰＧＭＥＡ溶液、固形分濃度１２．８％）：５１．４０部
・重合性化合物Ｚ−１（エチレンオキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＮＫエステル Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ（新中村化学社製））：１．９６部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．０００７部
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ社製Ｆ４７５、１％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．５０部
上記結果より、本発明の色素を含む実施例１〜４１の着色組成物は、耐熱性、色移り性に優れるものであった。
一方、比較例１〜３は、耐熱性、色移り性に劣っていた。
表２に記載の化合物の略称は以下である。
（顔料分散液Ｐ２（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液）の調製）
顔料分散液Ｐ１の調製において、顔料分散剤として、下記分散剤Ｄ１を用いる以外は同様の操作により顔料分散液Ｐ２を調製した。

Ｍｗ＝２００００、ｘ／ｙ＝５０／５０（質量比）、ｎ＝２０、酸価＝１００ｍｇＫＯＨ／ｇ
（顔料分散液Ｐ３（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液）の調製）
顔料分散液Ｐ１の調製において、顔料分散剤として、下記分散剤Ｄ２を用いる以外は同様の操作により顔料分散液Ｐ３を調製した。

Ｍｗ＝２００００、ｘ／ｙ＝１５／８５（質量比）、ｎ＝２０、酸価＝１００ｍｇＫＯＨ／ｇ
（顔料分散液Ｐ４（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４の分散液）の調整）
顔料分散液Ｐ１の調製において、顔料としてＰＢ１５：６の代わりに、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４を使用する以外は顔料分散液Ｐ１の調製と同様にして顔料分散液Ｐ４を調製した。顔料の平均一次粒子径を動的光散乱法（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ Ｎａｎｏｔｒａｃ ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装社（Ｎｉｋｋｉｓｏ Ｃｏ．，）ｔｄ．）製））により測定したところ、２６ｎｍであった。
（顔料分散液Ｐ５（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ５８の分散液）の調整）
顔料分散液Ｐ１の調製において、顔料としてＰＢ１５：６の代わりに、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ５８を使用する以外は顔料分散液Ｐ１の調製と同様にして顔料分散液Ｐ５を調製した。顔料の平均一次粒子径を動的光散乱法（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ Ｎａｎｏｔｒａｃ ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装社（Ｎｉｋｋｉｓｏ Ｃｏ．，）ｔｄ．）製））により測定したところ、３０ｎｍであった。
（顔料分散液Ｐ６（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３９の分散液）の調整）
顔料分散液Ｐ１の調製において、顔料としてＰＢ１５：６の代わりに、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３９を使用する以外は顔料分散液Ｐ１の調製と同様にして顔料分散液Ｐ６を調製した。顔料の平均一次粒子径を動的光散乱法（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ Ｎａｎｏｔｒａｃ ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装社（Ｎｉｋｋｉｓｏ Ｃｏ．，）ｔｄ．）製））により測定したところ、２７ｎｍであった。
光重合開始剤：下記構造
アルカリ可溶性樹脂１：下記構造
重合性化合物
Ｚ１：エチレンオキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＮＫエステル Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ（新中村化学社製）
Ｚ２：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬社製）
Ｚ３：エトキシ化（４）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＳＲ４９４（サートマー社製）
Ｚ４：エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、ＳＲ４５４（サートマー社製）
Ｚ５：エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート、ＳＲ４９９（サートマー社製）
Ｚ６：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０（日本化薬社製）
Ｚ７：トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、ＳＲ３６８（サートマー社製）
エポキシ化合物
Ｅ１：ＥＨＰＥ３１５０、ダイセル（株）製
Ｅ２：ＥＰＩＣＬＯＮ８４０（ＤＩＣ製）
Ｅ３：ＥＰＩＣＬＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ６６０（ＤＩＣ製）
Ｅ４：ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＰ７２００（ＤＩＣ製）
＜実施例４２＞
下記の各成分を混合して分散、溶解し、０．４５μｍナイロンフィルタでろ過することにより着色組成物を得た。得られた着色組成物を用い、実施例１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
（組成）
・有機溶剤（シクロヘキサノン）：２５．２２部
・アルカリ可溶性樹脂１（Ｊ１）：０．６２部（固形０．１９部、固形分濃度３０．６％）
・アルカリ可溶性樹脂２（アクリキュア−ＲＤ−Ｆ８(日本触媒社製)）：０．１２部（固形０．０５部、固形分濃度４１．７％）
・光重合開始剤Ｉ−７：０．５９部
・色素Ｐｏ−１のシクロヘキサノン溶液（固形分濃度１２．３％）：２３．０４部
・顔料分散液Ｐ１（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液、ＰＧＭＥＡ溶液、固形分濃度１２．８％）：４５．６６部
・重合性化合物Ｚ−４ エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、ＳＲ４５４（サートマー社製）：１．９０部
・エポキシ化合物Ｅ−１（ＥＨＰＥ３１５０、ダイセル（株）製）：０．３５部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．０００９部
・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ７８１Ｆ、ＤＩＣ製（メガファックＦ７８１Ｆはアルキレンオキシ鎖を有するフッ素系界面活性剤である）、１％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．５０部
＜実施例４３〜５８＞
実施例４２における着色組成物の調製において、色素Ｐｏ−１、顔料分散液Ｐ−１、光重合開始剤Ｉ−７、アルカリ可溶性樹脂１、重合性化合物Ｚ−４、エポキシ化合物Ｅ１を下記表のように変更したこと以外は、実施例４２と同様にして、着色組成物を調製した。得られた着色組成物を用い、実施例１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
上記表に示す通り、実施例４２〜５８の着色組成物は、耐熱性および色移り性に優れていた。
＜実施例５９＞
下記の各成分を混合して分散、溶解し、０．４５μｍナイロンフィルタでろ過することにより着色組成物を得た。得られた着色組成物を用い、実施例１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
（組成）
・有機溶剤（シクロヘキサノン）：１４．６９部
・アルカリ可溶性樹脂１（Ｊ１）：０．２９部（固形０．０９部、固形分濃度３０％）
・アルカリ可溶性樹脂２（アクリキュア−ＲＤ−Ｆ８(日本触媒社製)）：０．０５部
・光重合開始剤Ｉ−２（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２）：０．７８部
・色素Ｐｏ−１のシクロヘキサノン溶液１（固形分濃度１２．３％）：２８．４５部
・色素Ｐｏ−１２のシクロヘキサノン溶液２（固形分濃度１２．３％）：５１．２３部
・重合性化合物Ｚ−３ エトキシ化（４）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＳＲ４９４（サートマー社製）：１．６１部
・エポキシ化合物Ｅ−１（ＥＨＰＥ３１５０、ダイセル（株）製）：０．３９部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．０００７部
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ社製Ｆ４７５、１％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．５０部
＜実施例６０〜７０＞
実施例５９における着色組成物の調製において、色素Ｐｏ−１、色素Ｐｏ−１２、光重合開始剤Ｉ−２、アルカリ可溶性樹脂１、重合性化合物Ｚ−３、エポキシ化合物Ｅ−１を下記表のように変更したこと以外は、実施例５９と同様にして、着色組成物を調製した。得られた着色組成物を用い、実施例１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
上記表に示す通り、実施例５９〜７０の着色組成物は、耐熱性および色移り性に優れていた。
（ドライエッチング用着色組成物の調製）
＜実施例７１＞
下記の各成分を混合して分散、溶解し、０．４５μｍナイロンフィルタでろ過することにより着色組成物を得た。
（組成）
・有機溶剤（シクロヘキサノン）：１７．１２部
・エポキシ化合物Ｅ５：ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製、エポキシ当量：１８０−２２０(ｇ／ｅｑ.)）：４．３９５部
・色素Ｐｏ−１のシクロヘキサノン溶液（固形分濃度１２．３％）：２４．５７部
・顔料分散液Ｐ１（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６分散液、ＰＧＭＥＡ溶液、固形分濃度１２．８％）：５１．４０部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．０００７部
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ社製Ｆ４７５、１％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．５０部
（ドライエッチング法によるカラーフィルタの作製）
上記で得られた着色組成物を、７．５ｃｍ×７．５ｃｍのガラス基板上に膜厚が０．５μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを使用して、２００℃で５分間、加熱を行い、塗布膜を硬化して着色層を作製した。この着色層の膜厚は、０．５μｍであった。
次いで、ポジ型フォトレジスト「ＦＨｉ６２２ＢＣ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を塗布し、９０℃で１分間、プリベーク処理を実施し、膜厚０．８μｍのフォトレジスト層を形成した。
続いて、フォトレジスト層を、ｉ線ステッパー（キャノン（株）製）を用い、３５０ｍＪ／ｃｍ2の露光量でパターン露光し、フォトレジスト層の温度又は雰囲気温度が９０℃となる温度で１分間、加熱処理を行なった。その後、現像液「ＦＨＤ−５」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）で１分間の現像処理を行ない、さらに１１０℃で１分間のポストベーク処理を実施して、レジストパターンを形成した。このレジストパターンのサイズは、エッチング変換差（エッチングによるパターン幅の縮小）を考慮して、一辺１．０μｍで形成した。
次に、得られたガラス基板を、直径８インチ（１インチ＝２５．４ｍｍ）のシリコンウェハに貼り付け、ドライエッチング装置（Ｕ−６２１、日立ハイテクノロジーズ社製）にて、ＲＦパワー：８００Ｗ、アンテナバイアス：４００Ｗ、ウエハバイアス：２００Ｗ、チャンバーの内部圧力：４．０Ｐａ、基板温度：５０℃、混合ガスのガス種及び流量をＣＦ4：８０ｍＬ／分、Ｏ2：４０ｍＬ／分、Ａｒ：８００ｍＬ／ｍｉｎ．として、８０秒の第１段階のエッチング処理を実施した。
次いで、同一のエッチングチャンバーにて、ＲＦパワー：６００Ｗ、アンテナバイアス：１００Ｗ、ウエハバイアス：２５０Ｗ、チャンバーの内部圧力：２．０Ｐａ、基板温度：５０℃、混合ガスのガス種及び流量をＮ2：５００ｍＬ／分、Ｏ2：５０ｍＬ／分、Ａｒ：５００ｍＬ／分とし（Ｎ2／Ｏ2／Ａｒ＝１０／１／１０）、２８秒の第２段階エッチング処理、オーバーエッチング処理を実施した。
上記条件でドライエッチングを行った後、フォトレジスト剥離液「ＭＳ２３０Ｃ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を使用して、５０℃で１２０秒間、剥離処理を実施してレジストを除去し、着色パターンを形成した。更に純水による洗浄、スピン乾燥を実施し、その後、１００℃で２分間の脱水ベーク処理を行った。以上により、カラーフィルタを得た。
＜実施例７２〜８１、比較例４〜６＞
実施例７１における着色組成物の調製において、色素Ｐｏ−１、顔料分散液Ｐ１、エポキシ化合物Ｅ５を下記表のように変更したこと以外は、実施例７１と同様にして、着色組成物を調製し、実施例７１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
＜実施例８２＞
下記の各成分を混合して分散、溶解し、０．４５μｍナイロンフィルタでろ過することにより着色組成物を得た。得られた着色組成物を用い、実施例７１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。
（組成）
・有機溶剤（シクロヘキサノン）：１７．１２部
・エポキシ化合物Ｅ５：ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製、エポキシ当量：１８０−２２０(ｇ／ｅｑ.)）：４．３９５部
・色素Ｐｏ−１のシクロヘキサノン溶液１（固形分濃度１２．３％）：２４．５７部
・色素Ｐｏ−１２のシクロヘキサノン溶液２（固形分濃度１２．３％）：５１．４０部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．０００７部
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ社製Ｆ４７５、１％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．５０部
＜実施例８３〜８８＞
実施例８２における着色組成物の調製において、色素Ｐｏ−１、色素Ｐｏ−１２、エポキシ化合物Ｅ５を下記表のように変更したこと以外は、実施例８２と同様にして、着色組成物を調製した。得られた着色組成物を用い、実施例７１と同様にして、耐熱性、色移り性を評価した。


上記表に示す通り、実施例は、耐熱性および色移り性に優れていた。
これに対し、比較例は、耐熱性および色移り性が劣っていた。
なお、表５、６に記載のエポキシ化合物Ｅ４は、ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＰ７２００（ＤＩＣ製）であり、Ｅ５は、ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製)である。
＜色素Ｐｏ−２８の合成＞
（キサンテン色素Ａ−ｘｔ−２３の合成）
＜＜中間体４の合成＞＞
下記の実験はガラス製フラスコを使用して実施した。
ＤＣＳＦ２０４部（ＮＭＰ溶解後にセライトろ過して晶析した、ＨＰＬＣ測定で純度９５％以上のものを使用。）、スルホラン１４０８部、２，６−ジイソプロピルアニリン（塩酸塩とした後、水酸化ナトリウムで処理して精製した、ＨＰＬＣ測定で純度９５％以上のものを使用。）２９５部、１−ブトキシ−２−プロパノール１０８部をフラスコへ入れ、８０℃で４．５時間攪拌した。この反応液を６５℃へ降温し、１２時間攪拌し、無水塩化マグネシウム１０９部、リン酸三カリウム２９４部、２，６−ジエチルアニリン７８８部を添加した。この反応液を１４０℃まで昇温し、２２時間攪拌した後、５０℃へ降温した。この反応液にアセトニトリル７８２８部を滴下し、５０℃にて３時間攪拌した。この反応液を室温まで降温して２時間攪拌した後、得られた結晶をろ別し、アセトニトリル２８１７部で洗浄した。メタノール２４６６部に、室温にてこの結晶をメタノール２７４部で洗いながら添加し、５０℃にて３時間攪拌した。この反応液を室温まで降温し、２Ｎ塩酸３７１６部を滴下し、室温にて２時間攪拌した。得られた結晶をろ別し、イオン交換水３３３４部、アセトニトリル７９８部で順次洗浄した。この結晶を６０℃にて１４時間減圧乾燥し、中間体４を２５０部得た。
＜＜中間体５の合成＞＞
ＤＭＦ１０５部、スルホラン１０６８部、中間体１を２８２部、およびアセトニトリル２２２部を室温にてフラスコに入れ、８５℃まで昇温して５分攪拌した。この反応液にオキシ塩化リン２８５部を滴下した後、１１０℃で３．５時間攪拌した。６０℃まで放冷し、アセトニトリル２２２部を加え、−２℃まで放冷した。この反応液が−２℃から７℃の間になるようにイオン交換水２８２４部を滴下した後、１時間攪拌した。得られた結晶をろ別し、アセトニトリル１１１３部、イオン交換水１４１２部の混合液およびイオン交換水４２３６部、アセトニトリル１０５９部で順次洗浄して中間体５を２３８部得た。
＜＜中間体６の合成＞＞
ペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリド１５０部、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２６６８部をフラスコに入れ、内温を−１０℃に冷却した。そこに２８％アンモニア水５４．８部を、反応液が−５℃以下を維持するように滴下した。滴下後−１０℃で１０分間攪拌した後、２８％アンモニア水６．８５部を反応液が−５℃以下を維持するように滴下した。さらに滴下後−１０℃で１０分攪拌したのち、２８％アンモニア水１．１４部を反応液が−５℃以下を維持するように滴下した。この反応液に塩化リチウム３．５８部を添加した後、室温まで昇温し、１０分間攪拌した。この反応液をろ過し、ＴＨＦ４００部で洗浄した。ろ液と洗液を合わせてフラスコに入れ、室温にてイオン交換水１００５部を滴下した。この反応液を３５℃で２時間攪拌し、室温まで冷却した後、酢酸ナトリウム７．３９部を添加し、室温で１０分攪拌した。この反応液を３５℃で減圧濃縮した後、５℃まで冷却して３０分間攪拌した。得られた固体をろ過し、イオン交換水４５０部で洗浄した後に４５℃で真空乾燥１２時間を行い、中間体６を１０７部得た。
＜＜キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−２３）の合成＞＞
ＤＭＩ（１,３-ジメチル-２-イミダゾリジノン）５０８部をフラスコに入れ、中間体６を８６．４部、中間体５を２０８部をＤＭＩ １２７部で洗浄しながらフラスコに加えた。室温で５分間攪拌した後、１℃まで冷却し、そこにジイソプロピルエチルアミン１１３部を１〜５℃で加え、１〜５℃で２時間攪拌した。反応終了後、１〜５℃で反応液に酢酸３５．０部を添加して、室温まで昇温し、エキネンＦ６（変性アルコール、日本アルコール販売（株））７８８部を添加した。この反応液を室温にて１０分間攪拌した後、セライトろ過をおこない、エキネンＦ６ ２６５部で洗浄した。ろ液と洗液を合わせてフラスコに入れ、エキネンＦ６を１１９４部、イオン交換水２５０部を室温にて滴下した後、キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−２３）の種結晶０．０３部を室温にて加えて１３時間攪拌した。この反応液を５℃まで冷却して、得られた結晶をろ過し、メタノール５０５部で洗浄した。この結晶をフラスコに入れ、メタノール９０９部を添加し、１時間加熱還流した。これを５℃まで冷却して、結晶をろ過し、メタノール５０５部で洗浄した後、４５℃にて１２時間減圧乾燥をおこない、（Ａ−ｘｔ−２３）を１９４部得た。
＜＜＜（Ｂ−２８）の合成＞＞＞
一分子中に３〜１５個のメルカプト基を有する化合物（Ｓ−６）２２．０部とＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）３１７部をフラスコ入れ、窒素雰囲気下、室温にて５分間攪拌した。これに、キサンテン化合物（Ａ−ｘｔ−２３）６６．０部をＤＭＩ３４．０部で洗いこみながら徐々に添加して、室温にて３０分攪拌した。この反応液にＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）１１．３部を、ＤＭＩ１．１３部で洗いこみながら３０℃を超えないように添加し、室温にて１時間攪拌した。この反応液に酢酸１３．４部をＤＭＩ１．３部で洗いこみながら３０℃を超えないように添加した後、室温にて５分攪拌した。メタノール７２０部と超純水３０３部の混合溶媒にこの反応溶液を滴下して再沈し、得られた固体をろ過し、メタノール３６０部と超純水１５１部の混合溶媒で洗浄した。得られた固体を４５℃で２日間送風乾燥することにより、以下に示すメルカプト化合物（Ｂ−２８）８６．５部を得た。ＮＭＲ測定でのＲ部位に対する色素部位の比率が３．５であることを確認した。
（Ｐｏ−２８）の合成
メルカプト化合物（Ｂ−２８）を３７．１部（固形分９４．４０％）、４−ＯＨ ＴＥＭＰＯ（4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシル フリーラジカル）０．０８２部、メタクリル酸（ＭＡＡ）５．４４部、エチレングリコールモノ２−ブロモイソブチレートモノメタクリレート（ＢＢＥＭ）１０．４部およびＮＥＰ（Ｎ−エチルピロリドン）５６．４部の混合溶液を窒素気流下、８０℃に加熱した。この反応液に２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル〔Ｖ−６０１；和光純薬製〕のＮＥＰ溶液（Ｖ−６０１：０．６９４部、ＮＥＰ：６．１９部）を３時間かけて滴下した。滴下終了後、ＮＥＰ０．６９部を添加して８０℃で３０分攪拌し、さらにＶ−６０１のＮＥＰ溶液（Ｖ−６０１：０．６９４部、ＮＥＰ：１．１５部）を添加した。この反応液を８０℃で１．５時間攪拌した後、さらにＶ−６０１のＮＥＰ溶液（Ｖ−６０１：０．６９４部、ＮＥＰ：１．１５部）を添加した。この反応液を８０℃で１．５時間攪拌した後、さらにＶ−６０１のＮＥＰ溶液（Ｖ−６０１：０．６９４部、ＮＥＰ：１．１５部）を添加し、９０℃まで昇温して２時間攪拌した。室温まで冷却した後、系内の窒素置換を止めて空気下とし、４−ＯＨ ＴＥＭＰＯの０．２０４部、ＮＥＰの２６．７部を添加し、続けて３０℃を超えないようにＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）４２．７部をＮＥＰ３．０４部で洗いながらゆっくり加え、室温で１４時間攪拌した。その後、ＮＥＰ６２．６部を添加し、氷浴で５度以下に冷却し、１５℃を超えないようにメタンスルホン酸２７．０部をＮＥＰ１．９９部で洗いこみながらゆっくり加えた。添加終了後、メタノール５４３部、超純水６８６部、p-メトキシフェノール０．４７８部の混合溶媒にこの反応溶液を滴下して再沈し、室温にて１時間攪拌した。この反応液を４７．５℃まで昇温し、１時間攪拌した後、室温まで冷却した。得られた固体をろ過し、メタノール２７２部、超純水３４３部の混合溶媒で洗浄した。この固体をメタノール１３６部、超純水１７２部、p-メトキシフェノール０．４７８部の混合溶媒でリスラリーし、得られた固体をろ過してメタノール１３６部、超純水１７２部で洗浄した。この固体を４５℃で２日間送風乾燥することにより、以下に示す本発明に係る色素（Ｐｏ−２８）を４５．７部得た。Ｐｏ−２８の重量平均分子量（ポリスチレン換算値）は８９００であり、０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を用いた滴定により、酸価は６１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。また、ＮＭＲより、色素構造／ＭＡＡ／ＢＢＥＭのＨＢｒ脱離体のモル比率は、３．５／６／４．５であり、Ｐ部の繰り返し数は平均４と計算された。
Ｐｏ−２８のシクロヘキサノン５質量％での濁度は１．０ｐｐｍであった。また、Ａｌ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｌｉ、Ｐｂ、Ｎａ、Ｋ、ＺｎおよびＰであって、Ｐｏ−２８に結合または配位していない、遊離した前述の金属量はすべて２ｐｐｍ以下であった。さらに、Ｐｏ−２８に結合または配位していない、遊離したＢｒ含有量は４００ｐｐｍで、遊離したＣｌ含有量は１００ｐｐｍであった。
＜色素Ｐｏ−２９〜Ｐｏ−３３の合成＞
（（Ｂ−２９）〜（Ｂ−３３）の合成）
（Ｂ−２８）と同様に、（Ａ−ｘｔ−２３）を対応する色素に、（Ｓ−６）を対応するメルカプト基を有する化合物に変更し、表に示すｍ、ｎ数となるように合成した。
（（Ｐｏ−２９）〜（Ｐｏ−３３）の合成）
使用するメルカプト化合物やモノマー等を表に記載の通りにし、上記（Ｐｏ−２８）の合成と同様の手法にて合成した。
上記表７におけるＡ−ｘｔ−２３〜Ａ−ｘｔ−２６は、下記構造である。
＜実施例８９〜９６＞
実施例１において、色素、顔料分散液、光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂１、重合性化合物およびエポキシ化合物を、下記表８に記載の原料に変更した以外は、実施例１と同様にして、着色組成物を調製した。得られた着色組成物を用い、実施例１と同様にして、耐熱性および色移り性を評価した。
上記表に示す通り、実施例８９〜９６の着色組成物は、耐熱性および色移り性に優れていた。

Claims (21)

  1. 下記一般式（１）で示される色素および硬化性化合物を含有する着色組成物（ただし、下記一般式（２００）で示される色素、および、硬化性化合物を含有し、前記一般式（２００）で示される色素は、４００ｎｍ〜８００ｎｍでの最大吸収波長における下記式（Ａλ）で表される比吸光度が５以上である着色組成物を除く）。
    一般式（１）
    （Ｄ―Ｌ1―Ｙ―Ｘ―）n―Ｒ1―（Ｒ2）m
    （一般式（１）中、Ｒ1は、ｍ＋ｎ価の連結基を表し、Ｘは、―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―、―Ｃ（＝Ｏ）―、―Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ10―、―Ｏ―、―Ｓ（＝Ｏ）―、または、―ＳＯ2―を表し、Ｒ10は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙは、アルキレン基を表し、Ｌ1は、−Ｓ−を少なくとも１個含む２価の連結基を表し、Ｄは、色素構造を表し、Ｒ2は、１価の置換基を表す；ｍは、１〜１３の整数を表し、ｎは、２〜１４の整数を表し、ｍ＋ｎは、３〜１５の整数を表す；ｍが２以上の場合、複数のＲ2は互いに異なっていても良く、ｎが２以上の場合、複数のＤは互いに異なっていても良い；Ｌ1とＸとは、Ｙにより炭素原子数として３以上隔てられている；Ｄ、Ｌ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙのうち少なくとも１つは酸基を有する。）
    一般式（２００）
    （Ｄ−Ｒ 4 −（Ｓ） p ） n −Ｒ 3 −（Ｓ−Ｌ 2 −Ｐ） m
    （一般式（２００）中、Ｒ 3 は、下記式（２５）、（２６）、（２７）、（２８）または（２９）で表される連結基を表し、Ｐは、ビニル化合物由来の繰り返し単位を有する１価の置換基であって、酸基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を、Ｐの全繰り返し単位に対して３０モル％以上含有する１価の置換基を表し、Ｄは、色素構造を表し、Ｒ 4 およびＬ 2 は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表し、Ｓは、硫黄原子を表し、ｍは、１〜４の整数を表し、ｍが１の場合、Ｐはビニル化合物由来の繰り返し単位を２〜２０個有する１価の置換基を表し、ｍが２以上の場合、複数のＰは互いに異なっていても良く、複数のＰのビニル化合物由来の繰り返し単位の個数の平均値が２〜２０個であり、ｎは、２〜５の整数を表し、ｎが２以上の場合、複数のＤは互いに異なっていても良く、ｍ＋ｎは、４または６を表し、ｐは１を表す。）
    式（Ａλ）
    Ｅ＝Ａ／（ｃ×ｌ）
    （式（Ａλ）中、Ｅは、４００ｎｍ〜８００ｎｍでの最大吸収波長における比吸光度を表し、Ａは、４００ｎｍ〜８００ｎｍでの最大吸収波長における吸光度を表し、ｌは、単位がｃｍで表されるセル長を表し、ｃは、単位がｍｇ／ｍｌで表される、溶液中の色素の濃度を表す。）
  2. 前記一般式（１）におけるＤが、ジピロメテン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、アントラキノン色素、キノフタロン色素、フタロシアニン色素、サブフタロシアニン色素、およびアゾ色素から選ばれる色素に由来する、請求項１に記載の着色組成物。
  3. 前記一般式（１）におけるＤが、カチオン部位と対アニオンとを有するか、または、一分子内にカチオン部位とアニオン部位とを有し、前記対アニオンが、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、ビス（アルキルスルホニル）イミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、およびＳｂＦ6 -から選ばれる少なくとも１種であり、前記アニオン部位が、スルホニルイミドアニオンである、請求項１または２に記載の着色組成物。
  4. 前記一般式（１）におけるＹが、無置換の直鎖アルキレン基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の着色組成物。
  5. 前記一般式（１）におけるＲ2が、酸基を有するビニル化合物由来の繰り返し単位を含有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の着色組成物。
  6. 前記一般式（１）におけるＲ2が、繰り返し単位を含有し、前記繰り返し単位の個数の平均値が２〜２０個である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の着色組成物。
  7. 前記一般式（１）におけるＸが、＊―Ｃ（＝Ｏ）Ｏ―＃であり、＊はＹに結合し＃はＲ1に結合する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の着色組成物。
  8. 前記一般式（１）で示される色素が、エチレン性不飽和結合を有する基を含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の着色組成物。
  9. 前記一般式（１）におけるＲ2が、エチレン性不飽和結合を有する基を含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の着色組成物。
  10. 前記一般式（１）におけるＲ1が、
    下記一般式（２）で示される連結基、
    下記一般式（３）で示される連結基、
    複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、該主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
    １つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、該主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、
    または、
    少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によって前記ヘテロ原子間が隔てられた部分を該主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の着色組成物；
    一般式（２）
    一般式（２）中、Ｚは、それぞれ独立に、ＣＲ20またはＮを表し、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合またはｐ価の連結基を表し、Ｒ20は水素原子または置換基を表し、ａは１〜６の整数を表し、ｐは２以上の整数を表し、Ｌ2がｐ価の連結基の場合、Ｌ2は複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、該主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、該主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、または、少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によって前記ヘテロ原子間が隔てられた部分を該主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである；
    一般式（３）
    一般式（３）中、Ｌ3は、それぞれ独立に、単結合またはｑ価の連結基を表し、ｑは２以上の整数を表し、Ｌ3がｑ価の連結基の場合、Ｌ3は複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、該主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、１つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって、該主鎖は炭素原子が３つ以上連続している部分を少なくとも１つ含む連結基、または、少なくとも２つのヘテロ原子と複数の炭素原子からなる主鎖を有する連結基であって連続した３つ以上の炭素原子によって前記ヘテロ原子間が隔てられた部分を該主鎖中に少なくとも１つ含む連結基、のいずれかである。
  11. 前記一般式（１）におけるｍが１〜５であり、ｎが２〜８である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の着色組成物。
  12. 前記一般式（１）で示される色素の重量平均分子量が、２０００〜１５０００である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の着色組成物。
  13. さらに、前記一般式（１）で示される色素以外の顔料を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の着色組成物。
  14. さらに、光重合開始剤を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の着色組成物。
  15. カラーフィルタの着色層形成用である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の着色組成物。
  16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の着色組成物を硬化して得られた硬化膜。
  17. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の着色組成物を用いてなるカラーフィルタ。
  18. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成する工程と、
    前記着色組成物層をパターン状に露光する工程と、
    未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
  19. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程と、
    前記着色層上にフォトレジスト層を形成する工程と、
    露光および現像することにより前記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、
    前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記着色層をドライエッチングする工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
  20. 請求項１７に記載のカラーフィルタを有する固体撮像素子。
  21. 請求項１７に記載のカラーフィルタを有する画像表示装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018025612A (ja) * 2016-08-08 2018-02-15 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示装置
JP7011905B2 (ja) * 2016-08-08 2022-01-27 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用色材液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示装置
JP6753222B2 (ja) * 2016-08-31 2020-09-09 Dic株式会社 カラーフィルタ用有機顔料組成物の製造方法及びカラーフィルタの製造方法
JP2017090930A (ja) * 2017-02-07 2017-05-25 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用顔料分散液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示装置
KR102639401B1 (ko) * 2017-09-29 2024-02-22 후지필름 가부시키가이샤 광학 필터의 제조 방법
CN111771164B (zh) 2018-03-05 2023-10-13 富士胶片株式会社 感光性组合物
JPWO2019230539A1 (ja) * 2018-05-31 2021-07-15 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 着色組成物、および固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法
JP2021152647A (ja) * 2020-03-18 2021-09-30 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP2021152646A (ja) * 2020-03-18 2021-09-30 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP7079835B2 (ja) * 2020-12-10 2022-06-02 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用顔料分散液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示装置
JP2021064015A (ja) * 2021-01-28 2021-04-22 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示装置
JP2023166744A (ja) * 2022-05-10 2023-11-22 四国化成工業株式会社 チオール化合物及びその用途
JP7236041B2 (ja) * 2022-08-24 2023-03-09 四国化成ホールディングス株式会社 硬化剤及びその用途
WO2023218702A1 (ja) * 2022-05-10 2023-11-16 四国化成工業株式会社 硬化剤及びその用途

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4926634B2 (ja) * 2006-09-29 2012-05-09 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
JP5553957B2 (ja) 2007-03-15 2014-07-23 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びに、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2010018739A (ja) 2008-07-11 2010-01-28 Fujifilm Corp 顔料分散物、及び、それを用いたインク組成物
JP2010053182A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Fujifilm Corp 高分子化合物、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法
JP5791874B2 (ja) 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
JP2012007121A (ja) * 2010-06-28 2012-01-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物及び着色組成物
JP2012158740A (ja) 2010-07-23 2012-08-23 Fujifilm Corp 色素化合物、ジピロメテン金属錯体化合物の製造方法、色素多量体の製造方法、および置換ピロール化合物
JP5623934B2 (ja) 2011-02-08 2014-11-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、着色感放射線性組成物、色素多量体の製造方法、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
JP5283747B2 (ja) * 2011-02-09 2013-09-04 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、固体撮像素子、及び液晶表示装置
JP5851141B2 (ja) * 2011-07-29 2016-02-03 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置
JP5551124B2 (ja) 2011-07-29 2014-07-16 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、体撮像素子、及び画像表示装置
JP5826071B2 (ja) * 2011-08-30 2015-12-02 富士フイルム株式会社 キサンテン誘導体の多量体構造を有する新規化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルター、及びカラートナー
JP2013209435A (ja) 2012-03-30 2013-10-10 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd キノフタロン色素、およびそれを用いた着色感光性組成物、およびその用途
JP6152074B2 (ja) * 2013-07-05 2017-06-21 富士フイルム株式会社 色素多量体、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
JP6162165B2 (ja) * 2014-03-31 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子、色素および色素の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU192627U1 (ru) * 2019-06-11 2019-09-24 Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации Кабельная сборка

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