WO2015190294A1 - 撥インク剤、ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁および光学素子 - Google Patents

撥インク剤、ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁および光学素子 Download PDF

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    • H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional [2D] radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers

Definitions

  • the present invention relates to an ink repellent agent, a negative photosensitive resin composition, a partition, and an optical element.
  • an optical element such as an organic EL (Electro-Luminescence) element
  • a method of pattern printing by an inkjet (IJ) method using an organic layer such as a light emitting layer as a dot may be used.
  • IJ inkjet
  • a partition is provided along the outline of the dot to be formed, and an ink containing the material of the organic layer is injected into a partition (hereinafter also referred to as “opening”) surrounded by the partition. Then, by drying or heating this, dots having a desired pattern are formed.
  • the upper surface of the partition wall has ink repellency while preventing the ink from being mixed between adjacent dots and the dot forming opening surrounded by the partition wall including the partition wall side surface. It must have ink affinity.
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose negative photosensitive resin compositions containing a silicone-based ink repellent agent composed of a hydrolyzed condensate of a fluorine-containing hydrolyzable silane compound.
  • a composition corresponding to the opening is formed by developing after exposing a partition corresponding portion of the coating film of the composition. Removed. At this time, it is difficult to completely remove the negative photosensitive resin composition from the opening, and there is usually some residue in the opening.
  • the presence of this negative photosensitive resin composition residue has a problem in that the ink-philicity of the opening portion is lowered and the uniform application of the ink is hindered.
  • the kind of negative photosensitive resin composition to be used rather than the amount of residue, more specifically, the ink repellent agent contained in the negative photosensitive resin composition The present inventors have confirmed that the degree of ink affinity at the opening varies depending on the type.
  • the negative photosensitive resin composition containing the ink repellent agent has storage stability. Insufficient sex became a problem. Similar problems also existed in the positive photosensitive resin composition.
  • the present invention provides a photosensitive resin composition capable of forming a partition having a good ink repellency and an opening having a good ink-philic property on the upper surface while the storage stability of the photosensitive resin composition containing the same is sufficient.
  • An object of the present invention is to provide an ink repellent capable of producing a product.
  • An object of the present invention is to provide a negative photosensitive resin composition that has good storage stability and can form partition walls with good ink repellency on the upper surface and openings with good ink affinity.
  • An object of this invention is to provide the partition which has favorable ink repellency on an upper surface.
  • Another object of the present invention is to provide an optical element having dots that are accurately formed by uniformly applying ink to the openings partitioned by the partition walls.
  • the present invention provides an ink repellent, a negative photosensitive resin composition, a partition wall, and an optical element having the following configuration.
  • An ink repellent agent that imparts ink repellency to an upper surface of a partition wall formed in a shape of partitioning a substrate surface into a plurality of dot forming partitions
  • An ink repellent agent comprising a polymer having a fluorine atom-containing unit and a blocked isocyanate group-containing unit capable of generating an isocyanate group by deblocking by heating, and having a fluorine atom content of 1 to 40% by mass.
  • the ink repellent agent according to [1], wherein a 10-hour half-life temperature at which the blocked isocyanate group is deblocked to become an isocyanate group is 60 to 180 ° C.
  • the ink repellent agent of [1] or [2], wherein the blocked isocyanate group is represented by the following formula (1). —NHC ( ⁇ O) —B (1) (In the formula (1), B is 1 of active hydrogen possessed by monohydric alcohols, phenols, lactams, oximes, acetoacetic acid alkyl esters, malonic acid alkyl esters, phthalimides, imidazoles, or pyrazoles.
  • the polymer is a polymer having a hydrocarbon chain as a main chain and a mass average molecular weight in the range of 5 ⁇ 10 3 to 1 ⁇ 10 5 , wherein the fluorine atom-containing unit contains an etheric oxygen atom.
  • the ink repellent agent according to any one of [1] to [4], which is a unit having a fluoroalkylene group and / or a fluoroalkyl group which may contain an etheric oxygen atom.
  • the polymer further has at least one unit selected from the group consisting of a unit having an acidic group, a unit having an ethylenic double bond, a unit having a hydroxyl group, and a unit having a polyoxyalkylene chain.
  • the polymer is a partially hydrolyzed condensate of a hydrolyzable silane compound, and the fluorine atom-containing unit contains a fluoroalkylene group and / or an etheric oxygen atom which may contain an etheric oxygen atom.
  • the ink repellent agent according to any one of [1] to [4], wherein the group having a fluoroalkyl group which may be present is a siloxane unit bonded to a silicon atom.
  • the partially hydrolyzed condensate is a partially hydrolyzed condensate of a hydrolyzable silane compound mixture containing a hydrolyzable silane compound having a fluorine atom-containing group and a hydrolyzable silane compound having a block isocyanate group.
  • the hydrolyzable silane compound mixture optionally includes a hydrolyzable silane compound in which four hydrolyzable groups are bonded to a silicon atom, a group having an ethylenic double bond, and a fluorine atom.
  • the ink repellent agent comprising a hydrolyzable silane compound.
  • the ink repellent agent according to any one of [1] to [8], wherein at least a surface of the substrate on which the partition wall is formed has a functional group reactive with an isocyanate group.
  • Negative photosensitive resin composition characterized by the above.
  • the partition wall according to [12] wherein the partition wall is formed on a substrate having a functional group reactive with an isocyanate group.
  • the photosensitive resin composition containing the photosensitive resin composition has sufficient storage stability and can form a partition having good ink repellency and an opening having good ink affinity on the upper surface.
  • An ink repellent agent capable of producing a resin composition can be provided.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention has good storage stability, and by using this, it is possible to form partition walls with good ink repellency on the upper surface and openings with good ink affinity.
  • the partition wall of the present invention has good ink repellency on the upper surface.
  • the optical element of the present invention is an optical element having dots that are accurately formed by uniformly applying ink to the openings partitioned by the partition walls.
  • (meth) acryloyl group is a general term for “methacryloyl group” and “acryloyl group”.
  • the (meth) acryloyloxy group, (meth) acrylic acid, (meth) acrylate, (meth) acrylamide, and (meth) acrylic resin also conform to this.
  • the group represented by the formula (x) may be simply referred to as a group (x).
  • the compound represented by the formula (y) may be simply referred to as the compound (y).
  • the expressions (x) and (y) indicate arbitrary expressions.
  • the “side chain” is a group other than a hydrogen atom and a halogen atom bonded to a carbon atom constituting a main chain in a polymer in which a repeating unit composed of carbon atoms constitutes the main chain.
  • “Unit” such as a fluorine atom-containing unit represents a polymerized unit.
  • the number average molecular weight (Mn) and the mass average molecular weight (Mw) are those measured by gel permeation chromatography using polystyrene as a standard substance, unless otherwise specified.
  • total solid content of the photosensitive resin composition in the present specification refers to a component that forms a cured film described later among components contained in the photosensitive resin composition. Obtained from residue after heating for hours to remove solvent. The total solid content can also be calculated from the charged amount.
  • a film made of a cured product of a composition containing a resin as a main component is referred to as a “resin cured film”.
  • a film coated with the photosensitive resin composition is referred to as a “coating film”, and a film obtained by drying the film is referred to as a “dry film”.
  • a film obtained by curing the “dry film” is a “resin cured film”.
  • the “resin cured film” may be simply referred to as “cured film”.
  • the “partition wall” is a form of a cured resin film formed in a shape that partitions a predetermined region into a plurality of sections. For example, the following “ink” is injected into the partitions partitioned by the partition walls, that is, the openings surrounded by the partition walls to form “dots”.
  • the “ink” in the present specification is a generic term for a liquid having an optical and / or electrical function after being dried, cured, or the like.
  • an optical element such as an organic EL element, a color filter of a liquid crystal element, and a TFT (Thin Film Transistor) array
  • dots as various components are pattern-printed by using an ink for forming the dots by an inkjet (IJ) method.
  • IJ inkjet
  • the “ink” in this specification includes ink used for such applications.
  • ink repellency is a property of repelling the above ink and has both water repellency and oil repellency.
  • the ink repellency can be evaluated by, for example, a contact angle when ink is dropped.
  • “Ink affinity” is a property opposite to ink repellency, and can be evaluated by the contact angle when ink is dropped as in the case of ink repellency.
  • the ink affinity can be evaluated by evaluating the degree of ink wetting and spreading (ink wetting and spreading property) when ink is dropped on a predetermined standard.
  • Dot in the present specification indicates a minimum region of the optical element that can be modulated.
  • the ink repellent agent of the present invention is an ink repellent agent that imparts ink repellency to the upper surface of a partition wall that is formed in a shape that partitions the substrate surface into a plurality of compartments for dot formation. It has a block isocyanate group-containing unit that can be deblocked to produce an isocyanate group, and is a polymer having a fluorine atom content of 1 to 40% by mass.
  • the ink repellent agent of the present invention is also referred to as an ink repellent agent (C).
  • the polymer having the above characteristics used as the ink repellent agent (C) is referred to as polymer (C).
  • the partition to which the ink repellent agent (C) is applied is not particularly limited.
  • the ink repellent agent (C) is preferably contained in the photosensitive resin composition. After the composition is applied to the substrate, the ink repellent agent (C) is transferred to the upper surface of the composition layer in the process of forming the partition as described below. By forming a layer in which the ink repellent agent (C) is densely present (hereinafter also referred to as “ink repellent layer”) on the upper layer portion including the upper surface of the partition wall, ink repellency is imparted to the partition wall upper surface. Used in form.
  • the photosensitive resin composition may be a positive type or a negative type.
  • the polymer (C) has a property of transferring to the upper surface of the composition layer (upper surface transferability) and ink repellency by containing fluorine atoms in a proportion of 1 to 40% by mass, and the upper surface of the obtained partition wall. Can provide good ink repellency.
  • the content of fluorine atoms in the polymer (C) is preferably 5 to 35% by mass, particularly preferably 10 to 30% by mass.
  • the polymer (C) has a blocked isocyanate group that can be deblocked by heating to form an isocyanate group (hereinafter also simply referred to as “blocked isocyanate group”). Therefore, storage stability can be improved when stored as an ink repellent agent or contained in a photosensitive resin composition. Furthermore, by making it deblock by heating at the time of use and making it an isocyanate group, the reactivity of a polymer (C) improves, and the bondability and adhesiveness with another component or another material improve. Thereby, it can suppress that the residue of the photosensitive resin composition inhibits the wetting-spreading property of an ink in the opening part enclosed by the partition, and can make favorable ink affinity.
  • the substrate in the case where the partition wall is formed on the substrate surface using the photosensitive resin composition containing the ink repellent agent (C) at least the surface on which the partition wall is formed is reactive with the isocyanate group. It preferably has a functional group having a hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, a mercapto group, or the like. That is, when the ink repellent agent (C) is used, for example, in a photosensitive resin composition, at least the surface on which the partition walls are formed is used for a substrate having a functional group reactive with an isocyanate group. In particular, the effect can be exhibited.
  • the substrate surface on which the partition wall is formed has a functional group reactive with an isocyanate group, the adhesion between the substrate surface and the ink repellent agent (C) is improved in the opening, and the photosensitive resin composition is formed in the opening. This is because the ink-philicity of the opening is considered to be ensured even in the case of having such a residue.
  • the blocked isocyanate group that can be deblocked by heating to produce an isocyanate group is specifically a functional group that is inactivated at room temperature by reacting the isocyanate group with an active hydrogen-containing compound (blocking agent). When heated, the blocking agent dissociates and the isocyanate group is regenerated.
  • the 10-hour half-life temperature at which the blocked isocyanate group is deblocked to become an isocyanate group is preferably 60 to 180 ° C, more preferably 80 to 150 ° C.
  • the 10-hour half-life temperature of the blocked isocyanate group is within the above range, the ink affinity is good.
  • blocked isocyanate groups include groups represented by the following formula (1). —NHC ( ⁇ O) —B (1)
  • B is 1 of active hydrogen possessed by monohydric alcohols, phenols, lactams, oximes, acetoacetic acid alkyl esters, malonic acid alkyl esters, phthalimides, imidazoles, or pyrazoles.
  • the hydrogen of the hydroxy group that they have is active hydrogen.
  • Acetoacetic acid alkyl esters and malonic acid alkyl esters are compounds having methylene active hydrogen.
  • Lactams, phthalimides, imidazoles, and pyrazoles are compounds having amino active hydrogen.
  • Examples of monohydric alcohols include linear or branched monohydric alcohols having 1 to 10 carbon atoms, and methanol, ethanol and the like are preferable.
  • Examples of the phenol include a phenol compound having 6 to 15 carbon atoms in which one hydrogen bonded to the aromatic ring is substituted with a hydroxy group, and phenol, cresol and the like are preferable.
  • lactams include lactams having 3 to 6 members.
  • the oximes include aldoximes having 1 to 6 carbon atoms or ketoximes having 3 to 9 carbon atoms having> C ⁇ N—OH group, and R k1 R k2 C ⁇ N—OH (R k1 and R k2 are Are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) A ketoxime having 3 to 7 carbon atoms is preferred.
  • the alkyl group portion of the acetoacetic acid alkyl esters and malonic acid alkyl esters is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • phthalimides include phthalimide and phthalimide derivatives in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom of a phthalimide ring is substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • imidazoles include imidazole and imidazole derivatives in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom of an imidazole ring is substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • pyrazoles examples include pyrazole and pyrazole derivatives in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom of a pyrazole ring is substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • oximes and pyrazoles are preferable, and pyrazoles are particularly preferable.
  • -B is a group obtained by removing the hydrogen atom of the hydroxyl group of oximes
  • -B is a group obtained by removing the hydrogen atom bonded to the nitrogen atom constituting the ring of the pyrazoles. is there.
  • Particularly preferred —B includes a group represented by the following formula (b1) and a group represented by the following formula (b2).
  • —NHC ( ⁇ O) — (b1) in which —B is a group (b1) —NHC ( ⁇ O) — (in which —B is a group (b2)
  • the 10 hour half-life temperatures for b2) are 110 ° C. and 140 ° C., respectively.
  • the polymer (C) contains the fluorine atom as a fluorine atom-containing unit and a blocked isocyanate group as a blocked isocyanate group-containing unit.
  • the fluorine atom-containing unit and the blocked isocyanate group-containing unit may have the same unit, that is, the fluorine atom and the blocked isocyanate group may be contained in the same unit.
  • the blocked isocyanate group-containing unit is a different unit.
  • Examples of such a polymer (C) include a partial hydrolysis condensate of a hydrolyzable silane compound mixture containing a hydrolyzable silane compound having a fluorine atom-containing group and a blocked isocyanate group-containing hydrolyzable silane compound.
  • Polymer (hereinafter referred to as polymer (C1)) polymer having a main chain of a hydrocarbon chain, a side chain containing a fluorine atom, and a unit having a blocked isocyanate group (hereinafter referred to as polymer (C2) ))
  • polymer (C1)) polymer having a main chain of a hydrocarbon chain, a side chain containing a fluorine atom, and a unit having a blocked isocyanate group
  • the content of the blocked isocyanate group in the polymer (C) is preferably 0.2 mmol / g to 4 mmol / g, regardless of the polymer (C1) and the polymer (C2), and preferably 0.3 mmol / g to 4 mmol / g is more preferable.
  • the polymer (C1) is a partially hydrolyzed condensate of a hydrolyzable silane compound mixture (hereinafter also referred to as “mixture (M)”).
  • the mixture (M) is a hydrolyzable silane compound having a fluorine atom-containing group, for example, a fluoroalkylene group which may contain an etheric oxygen atom and / or a fluoroalkyl group which may contain an etheric oxygen atom.
  • hydrolyzable silane compound having a hydrolyzable group (hereinafter also referred to as “compound (s1)”) and a hydrolyzable silane compound having a block isocyanate group (hereinafter also referred to as “compound (s2)”).
  • compound (s1) hydrolyzable silane compound having a hydrolyzable group
  • compound (s2) hydrolyzable silane compound having a block isocyanate group
  • the hydrolyzable silane compounds optionally contained in the mixture (M) include the following hydrolyzable silane compounds (s3) to (s6) (hereinafter referred to as “compound (s3)”, “compound (s4)”, “ Compound (s5) “and” compound (s6) ").
  • the hydrolyzable silane compound optionally contained in the mixture (M) the compound (s3) is particularly preferable.
  • Hydrolyzable silane compound (s3) a hydrolyzable silane compound in which four hydrolyzable groups are bonded to a silicon atom.
  • Hydrolyzable silane compound (s4) a hydrolyzable silane compound having a group having an ethylenic double bond and a hydrolyzable group and containing no fluorine atom.
  • Hydrolyzable silane compound (s5) hydrolyzable silane compound having only a hydrocarbon group and a hydrolyzable group as a group bonded to a silicon atom (excluding those contained in the hydrolyzable silane compound (s4)) .
  • Hydrolyzable silane compound (s6) a hydrolyzable silane compound having a mercapto group and a hydrolyzable group and containing no fluorine atom.
  • the compounds (s1) to (s6) will be described.
  • the polymer (C1) is in the form of a fluorine atom, a fluoroalkylene group which may contain an etheric oxygen atom and / or a fluoroalkyl group which may contain an etheric oxygen atom. And has excellent upper surface migration and ink repellency.
  • the compound (s1) more preferably has at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a perfluoroalkylene group, and a perfluoroalkyl group. It is particularly preferable to have a perfluoroalkyl group.
  • These fluorinated hydrocarbon groups may contain an etheric oxygen atom, and a perfluoroalkyl group containing an etheric oxygen atom is also preferred. That is, the most preferable compound as the compound (s1) is a compound having a perfluoroalkyl group and / or a perfluoroalkyl group containing an etheric oxygen atom.
  • hydrolyzable group examples include an alkoxy group, a halogen atom, an acyl group, an isocyanate group, an amino group, and a group in which at least one hydrogen of the amino group is substituted with an alkyl group.
  • a hydroxyl group sianol group
  • an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom is Preferably, a methoxy group, an ethoxy group, or a chlorine atom is more preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is particularly preferable.
  • a compound (s1) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • a compound represented by the following formula (cx-1) is preferable.
  • R F11 is a divalent organic group having 1 to 16 carbon atoms which may contain an etheric oxygen atom, including at least one fluoroalkylene group.
  • the terminal atom bonded to A in R F11 and the terminal atom bonded to Si are both carbon atoms.
  • R H11 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. a is 1 or 2, b is 0 or 1, and a + b is 1 or 2.
  • A is a fluorine atom or a group represented by the following formula (Ia). -Si (R H12 ) c X 12 (3-c) (Ia)
  • R H12 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. c is 0 or 1;
  • X 11 and X 12 are hydrolyzable groups. If X 11 there are a plurality, they may be the same or different from each other. If X 12 there are a plurality, they may be the same or different from each other. When a plurality of AR F11 are present, these may be different from each other or the same.
  • the compound (cx-1) is a fluorine-containing hydrolyzable silane compound having one or two bifunctional or trifunctional hydrolyzable silyl groups.
  • R H11 and R H12 are preferably a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group.
  • a is 1 and b is 0 or 1.
  • Specific examples and preferred embodiments of X 11 and X 12 are as described above.
  • each symbol is as follows.
  • R F12 is a perfluoroalkylene group which may contain an etheric oxygen atom having 2 to 15 carbon atoms.
  • T is a fluorine atom or a group represented by the following formula (Ib).
  • X 11 and X 12 are hydrolyzable groups.
  • the three X 11 may be different from each other or the same.
  • the three X 12 may be different from each other or the same.
  • Q 11 and Q 12 represent a divalent organic group containing no fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms.
  • R F12 when T is a fluorine atom, R F12 is preferably a perfluoroalkylene group having 4 to 8 carbon atoms or a perfluoroalkylene group containing an etheric oxygen atom having 4 to 10 carbon atoms. A perfluoroalkylene group having 4 to 8 carbon atoms is more preferred, and a perfluoroalkylene group having 6 carbon atoms is particularly preferred.
  • R F12 represents a perfluoroalkylene group having 3 to 15 carbon atoms or a perfluoroalkyl group containing an etheric oxygen atom having 3 to 15 carbon atoms. An alkylene group is preferred, and a perfluoroalkylene group having 4 to 6 carbon atoms is particularly preferred.
  • R F12 is a group exemplified above, the polymer (C1) has good ink repellency, and the compound (cx-1a) has excellent solubility in a solvent.
  • R F12 examples include a linear structure, a branched structure, a ring structure, a structure having a partial ring, and the like, and a linear structure is preferable.
  • R F12 include those described in, for example, paragraph [0043] of International Publication No. 2014/046209 (hereinafter referred to as WO2014 / 046209).
  • Q 11 and Q 12 indicate that Si is bonded to the right bond and R F12 is bonded to the left bond, specifically, — (CH 2 ) i1 — (where i1 is 1 to 5) Integer)), —CH 2 O (CH 2 ) i2 — (i2 is an integer of 1 to 4), —SO 2 NR 1 — (CH 2 ) i3 — (R 1 is a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group) I3 is an integer of 1 to 4, and the total number of carbon atoms of R 1 and (CH 2 ) i3 is an integer of 4 or less), or — (C ⁇ O) —NR 1 — ( CH 2 ) i4 — (R 1 is the same as above, i4 is an integer of 1 to 4, and the total number of carbon atoms of R 1 and (CH 2 ) i4 is an integer of 4 or less).
  • the group represented is preferred.
  • Q 11 and Q 12 As Q
  • Q 11 and Q 12 are preferably groups represented by — (CH 2 ) i1 —. i1 is more preferably an integer of 2 to 4, and i1 is particularly preferably 2.
  • Q 11 and Q 12 include — (CH 2 ) i1 —, —CH 2 O (CH 2 ) i2 —, —SO 2 NR 1 — ( A group represented by CH 2 ) i3 — or — (C ⁇ O) —NR 1 — (CH 2 ) i4 — is preferred.
  • — (CH 2 ) i1 — is more preferable, i1 is more preferably an integer of 2 to 4, and i1 is particularly preferably 2.
  • T is a fluorine atom
  • specific examples of the compound (cx-1a) include those described in, for example, paragraph [0046] of WO2014 / 046209.
  • T is a group (Ib)
  • specific examples of the compound (cx-1a) include those described in, for example, paragraph [0047] of WO2014 / 046209.
  • the compound (cx-1a) includes, among others, F (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 and F (CF 2 ) 3 OCF (CF 3 ) CF 2 O ( CF 2 ) 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 is particularly preferred.
  • the content of the compound (s1) in the mixture (M) is such that the content of fluorine atoms in the partially hydrolyzed condensate obtained from the mixture is 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 35% by mass, and particularly preferably 10%. It is preferable that the content be ⁇ 30% by mass.
  • the content ratio of the compound (s1) is at least the lower limit of the above range, good ink repellency can be imparted to the upper surface of the cured film, and when it is at most the upper limit, other hydrolyzable silane compounds in the mixture Compatibility with is improved.
  • Compound (s2) By including the compound (s2) in the mixture (M) in the present invention, the storage stability can be improved when stored as an ink repellent agent or contained in a photosensitive resin composition. Furthermore, by making it deblock by heating at the time of use and making it an isocyanate group, the reactivity of a polymer (C) improves, and the bondability and adhesiveness with another component or another material improve. Thereby, it can suppress that the residue of the photosensitive resin composition inhibits the wetting-spreading property of an ink in the opening part enclosed by the partition, and can make favorable ink affinity.
  • a compound (s2) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • hydrolyzable group those similar to the hydrolyzable group of the compound (s1) can be used.
  • Compound (s2) can be represented by the following formula (cx-2).
  • BI is a block socyanate group.
  • Q 2 is a divalent organic group not containing a fluorine atom having 1 to 6 carbon atoms. However, terminal atom bonded to Si of Q 2 is carbon atom.
  • R H2 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X 2 is a hydrolyzable group.
  • d is 1 or 2
  • e is 0 or 1
  • d + e is 1 or 2.
  • R H2 the same groups as those described above for R H11 and R H12 are used.
  • X 2 the same groups as those for X 11 and X 12 are used.
  • Examples of BI include the above group (1), and a preferred embodiment is the same as group (1). It is preferable that d is 1 and e is 0 or 1. As the compound (cx-2), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the content ratio of the compound (s2) in the mixture (M) is preferably 0.5 to 6 mol, particularly preferably 0.5 to 5 mol, relative to 1 mol of the compound (s1). Furthermore, the content ratio of the compound (s2) in the mixture (M) is a ratio in which the content of the blocked isocyanate group in the partial hydrolysis-condensation product obtained from the mixture, that is, the polymer (C1) is in the above range. preferable. When the content ratio is at least the lower limit of the above range, the storage stability and ink affinity of the opening are good. When the content is not more than the upper limit, the fluorine atom content in the polymer (C1) is high, and good ink repellency can be imparted.
  • hydrolyzable group those similar to the hydrolyzable group of the compound (s1) can be used.
  • Compound (s3) can be represented by the following formula (cx-3). SiX 3 4 (cx-3) In formula (cx-3), X 3 represents a hydrolyzable group, and four X 3 may be different from each other or the same. As X 3 , the same groups as those for X 11 and X 12 are used.
  • the compound (cx-3) include the following compounds. Further, as the compound (cx-3), a partial hydrolysis-condensation product obtained by partial hydrolysis-condensation of a plurality of them in advance may be used as necessary. Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OCH 3 ) 4 partial hydrolysis condensate, Si (OC 2 H 5 ) 4 partial hydrolysis condensate.
  • the content ratio of the compound (s3) in the mixture (M) is preferably 0.01 to 5 mol with respect to 1 mol of the compound (s1), 0.05 ⁇ 3 mol is particularly preferred.
  • the content ratio is at least the lower limit of the above range, the film forming property of the polymer (C1) is good, and when it is at most the upper limit value, the ink repellency of the polymer (C1) is good.
  • Compound (s4) By including the compound (s4) in the mixture (M) in the present invention, the polymer (C1) or the polymer (C1) and the polymer (C1), for example, via a group having an ethylenic double bond, for example, a photosensitive resin composition (Co) polymerization with other components having an ethylenic double bond contained in the product is preferable. Thereby, as described above, the effect of improving the fixability of the polymer (C1) in the ink repellent layer is obtained.
  • a compound (s4) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • the hydrolyzable group those similar to the hydrolyzable group of the compound (s1) can be used.
  • a (meth) acryloyloxy group As the group having an ethylenic double bond, a (meth) acryloyloxy group, a vinylphenyl group, an allyl group, a vinyl group, and a norbornyl group are preferable, and a (meth) acryloyloxy group is particularly preferable.
  • a compound represented by the following formula (cx-4) is preferable.
  • Y is a group having an ethylenic double bond.
  • Q 4 is a divalent organic group containing no fluorine atom having 1 to 6 carbon atoms. However, terminal atom bonded to Si of Q 4 are the carbon atoms.
  • R H4 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X 4 is a hydrolyzable group.
  • g is 1 or 2
  • h is 0 or 1
  • g + h is 1 or 2.
  • R H4 the same groups as those described above for R H11 and R H12 are used.
  • X 4 the same groups as those for X 11 and X 12 are used.
  • Y is preferably a (meth) acryloyloxy group or a vinylphenyl group, particularly preferably a (meth) acryloyloxy group.
  • Q 4 include an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, a phenylene group, and the like. Of these, — (CH 2 ) 3 — is preferable. It is preferable that g is 1 and h is 0 or 1. As the compound (cx-4), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the content ratio of the compound (s4) in the mixture (M) is preferably 0.1 to 5 mol with respect to 1 mol of the compound (s1), 0.5 ⁇ 4 mol is particularly preferred.
  • the content ratio is not less than the lower limit of the above range, the upper surface migration property of the polymer (C1) is good, and the fixing property of the polymer (C1) is good in the ink repellent layer including the upper surface after the upper surface migration.
  • the storage stability of the ink repellent agent (C1) is good. When it is at most the upper limit value, the ink repellency of the polymer (C1) is good.
  • the above swell does not cause any particular problem as a partition wall or the like, but the present inventor has replaced the compound (s3) with a compound (s5) having a small number of hydrolyzable groups to generate the above swell. Has been found to be suppressed.
  • the film-forming property of the polymer (C1) is increased by the reaction between silanol groups produced by the compound (s3) having a large number of hydrolyzable groups.
  • a compound (s5) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • the hydrolyzable group those similar to the hydrolyzable group of the compound (s1) can be used.
  • R H5 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • X 5 is a hydrolyzable group.
  • j is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3.
  • R H5 examples include an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms when j is 1, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Group, phenyl group and the like are preferable. When j is 2 or 3, R H5 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.
  • X 5 the same groups as those described above for X 11 and X 12 are used.
  • the content ratio of the compound (s5) in the mixture (M) is preferably 0.05 to 5 mol with respect to 1 mol of the compound (s1), and 0.3 ⁇ 3 mol is particularly preferred.
  • the content ratio is equal to or higher than the lower limit of the above range, it is possible to suppress the bulge of the end of the partition upper surface.
  • the ink repellency of the polymer (C1) is good.
  • the photosensitive resin composition can be cured with a lower exposure amount.
  • the mercapto group in the compound (s6) has chain mobility, and the alkali-soluble resin or alkali-soluble monomer or polymer (C1) has an ethylenic double bond, the polymer (C1) itself It is thought that it is easy to be combined with an ethylenic double bond or the like possessed by, and promotes photocuring.
  • the compound (s6) containing a mercapto group has a pKa of about 10, and is easily deprotonated, that is, dissociated in an alkaline solution.
  • a compound (s6) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • hydrolyzable group those similar to the hydrolyzable group of the compound (s1) can be used.
  • compound (s6) a compound represented by the following formula (cx-6) is preferable.
  • each symbol is as follows.
  • Q 6 is a divalent organic group containing no fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms. However, terminal atom bonded to Si of Q 6 is a carbon atom.
  • R H6 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X 6 is a hydrolyzable group.
  • p is 1 or 2
  • q is 0 or 1
  • p + q is 1 or 2.
  • X 6 the same group as X 11 and X 12 is used.
  • Q 6 is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
  • R H6 the same groups as those described above for R H11 and R H12 are used.
  • Specific examples of the compound (cx-6) include HS— (CH 2 ) 3 —Si (OCH 3 ) 3 , HS— (CH 2 ) 3 —Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 and the like.
  • the content ratio of the compound (s6) in the mixture (M) is preferably 0.125 to 18 mol with respect to 1 mol of the compound (s1), ⁇ 8 mol is particularly preferred.
  • the content ratio is not less than the lower limit of the above range, for example, the photosensitive resin composition can be cured with a lower exposure amount. Moreover, alkali solubility is improved and developability is good. When it is at most the upper limit value, the ink repellency of the polymer (C1) is good.
  • hydrolyzable silane compounds can optionally contain one or more hydrolyzable silane compounds other than the compounds (s1) to (s6).
  • hydrolyzable silane compounds include hydrolyzable silane compounds having an oxyalkylene group and a hydrolyzable group and containing no fluorine atom. Specifically, for example, CH 3 O (C 2 H 4 O) k C 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 (polyoxyethylene group-containing trimethoxysilane) (where k is, for example, about 10. ) And the like.
  • the polymer (C1) is a partial hydrolysis condensate of the mixture (M).
  • the compound (cx-1a) and the compound (cx-2) are included as essential components, the compounds (cx-3) to (cx-6) are optionally included, and the compound (cx-1a
  • the average composition formula of the polymer (C11), which is a partial hydrolysis-condensation product of the mixture (M) in which the group T in) is a fluorine atom, is shown in the following formula (II).
  • the average composition formula represented by the formula (II) is a chemical formula when it is assumed that all of the hydrolyzable groups or silanol groups are siloxane bonds in the polymer (C11).
  • the formula (II) it is presumed that the units derived from the compounds (cx-1a), (cx-2) to (cx-6) are randomly arranged.
  • n1: n2: n3: n4: n5: n6 represents the compound (cx-1a) and (cx-2) to (cx-6) in the mixture (M) ).
  • the molar ratio of each component is designed from the balance of the effect of each component.
  • n1 is preferably 0.02 to 0.4, and particularly preferably 0.02 to 0.3, in such an amount that the fluorine atom content in the polymer (C11) falls within the above preferred range.
  • n2 is preferably 0.05 to 0.6, particularly preferably 0.1 to 0.5.
  • n3 is preferably 0 to 0.98, particularly preferably 0.05 to 0.6.
  • n4 is preferably 0 to 0.8, particularly preferably 0 to 0.5.
  • n5 is preferably 0 to 0.5, particularly preferably 0.05 to 0.3.
  • n6 is preferably 0 to 0.9, more preferably 0 to 0.8, and particularly preferably 0 to 0.4.
  • the preferred molar ratio of each component is the same when T in the compound (cx-1a) is a group (Ib).
  • the preferred molar ratios of the above components can be similarly applied even when the mixture (M) contains the compound (s1) and the compound (s2) and optionally contains the compounds (s3) to (s6). That is, preferred amounts of the compounds (s1) to (s6) in the mixture (M) for obtaining the polymer (C1) correspond to the preferred ranges of n1 to n6, respectively.
  • the mass average molecular weight (Mw) of the polymer (C1) is preferably 5 ⁇ 10 2 or more, preferably less than 1 ⁇ 10 6 , and particularly preferably less than 1 ⁇ 10 4 .
  • the mass average molecular weight (Mw) is not less than the lower limit, the ink repellent agent (C1) tends to shift to the upper surface when the partition is formed using the photosensitive resin composition. If it is less than the upper limit, the solubility of the polymer (C1) in the solvent will be good.
  • the mass average molecular weight (Mw) of a polymer (C1) can be adjusted with manufacturing conditions.
  • the polymer (C1) can be produced by subjecting the mixture (M) described above to hydrolysis and condensation reaction by a known method.
  • a commonly used inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, or organic acid such as acetic acid, oxalic acid, maleic acid as a catalyst.
  • alkali catalysts such as sodium hydroxide and tetramethylammonium hydroxide (TMAH), as needed.
  • a known solvent can be used for the above reaction. You may mix
  • the polymer (C2) has a main chain of a hydrocarbon chain, a unit having a side chain containing a fluorine atom, and a unit having a blocked isocyanate group.
  • the mass average molecular weight (Mw) of the polymer (C2) is preferably 1 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 6 , particularly preferably 5 ⁇ 10 3 to 1 ⁇ 10 5 .
  • Mw mass average molecular weight
  • the polymer (C2) is likely to shift to the upper surface when the partition is formed using the photosensitive resin composition. If it is less than the upper limit, the solubility of the polymer (C2) in the solvent will be good.
  • the polymer (C2) has a fluoroalkylene group which may contain an etheric oxygen atom and / or a fluoroalkyl group which may contain an etheric oxygen atom as the unit having a side chain containing a fluorine atom. It is preferable to have a unit.
  • the fluoroalkyl group may be linear or branched. Specific examples of the fluoroalkyl group containing no etheric oxygen atom include those described in, for example, paragraph [0082] of WO2014 / 046209.
  • fluoroalkyl group containing an etheric oxygen atom examples include those described in paragraph [0083] of WO2014 / 046209, for example.
  • the fluoroalkyl group is preferably a perfluoroalkyl group from the viewpoint of good ink repellency.
  • the number of carbon atoms in the fluoroalkyl group is preferably 4-15, and more preferably 4-12.
  • the fluoroalkyl group has 4 to 15 carbon atoms, the ink repellency is excellent, and when the polymer (C2) is produced, other than the monomer having a fluoroalkyl group and the monomer described later The compatibility with the monomer is improved.
  • the polymer (C2) is preferably a polymer containing a unit having a fluoroalkyl group as the unit having a side chain containing a fluorine atom.
  • the unit having a fluoroalkyl group is preferably introduced into the polymer by polymerizing a polymerizable monomer having a fluoroalkyl group.
  • a fluoroalkyl group can also be introduce
  • the hydrocarbon chain constituting the main chain of the polymer (C2) specifically, a main chain obtained by polymerization of a monomer having an ethylenic double bond, —Ph—CH 2 — (however, “Ph "Represents a benzene skeleton.) And a novolak-type main chain composed of repeating units.
  • the polymer (C2) is obtained by polymerization of a monomer having an ethylenic double bond, it has an ethylenic double bond and a monomer having a fluoroalkyl group and an ethylenic double bond.
  • CH 2 CR 4 COOR 5 R f
  • CH 2 CR 4 COOR 6 NR 4 SO 2 R f
  • CH 2 CR 4 COOR 6 NR 4 COR f
  • CH 2 CR 4 COOCH 2 CH (OH) R 5 R f
  • R f represents a fluoroalkyl group
  • R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom other than a fluorine atom or a methyl group
  • R 5 represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 6 carbon atoms
  • R 6 represents A divalent organic group having 1 to 6 carbon atoms is shown.
  • R f is preferably a perfluoroalkyl group having 4 to 8 carbon atoms or a perfluoroalkyl group containing an etheric oxygen atom having 4 to 10 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkyl group having 4 to 8 carbon atoms, A perfluoroalkyl group having 6 carbon atoms is particularly preferred.
  • R 4 As the halogen atom represented by R 4 , a chlorine atom is preferable.
  • R 5 and R 6 an alkylene group is preferred. Specific examples of R 5, R 6 are, -CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - CH (CH 3) -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - C (CH 3) 2 -, - CH (CH 2 CH 3 ) —, —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH (CH 2 CH 2 CH 3 ) —, —CH 2 (CH 2 ) 3 CH 2 —, CH (CH 2 CH ( CH 3 ) 2 ) — and the like.
  • the above polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the polymer (C2) contains a unit having a blocked isocyanate group together with a unit having a side chain containing a fluorine atom.
  • the polymer (C2) has a blocked isocyanate group, it can improve storage stability when stored as an ink repellent or contained in a photosensitive resin composition.
  • the reactivity of a polymer (C2) improves by making it deblock by heating at the time of use, and the bondability and adhesiveness with another component and another material improve. Thereby, it can suppress that the residue of the photosensitive resin composition inhibits the wetting-spreading property of an ink in the opening part enclosed by the partition, and can make favorable ink affinity.
  • Examples of the blocked isocyanate group include the group (1) represented by the above formula (1). As described above, among them, a blocked isocyanate group obtained by reacting an isocyanate group with a pyrazole or oxime is preferable, and a blocked isocyanate group obtained by reacting with a pyrazole is particularly preferable.
  • Examples of the monomer having an ethylenic double bond and a blocked isocyanate group include CH 2 ⁇ CR 4 COOR 5 —NHC ( ⁇ O) —B.
  • R 4 and R 5 have the same meaning as R 4 and R 5 as in the case of the monomer having a fluoroalkyl group, and B has the same meaning as B in the formula (1).
  • Specific examples of CH 2 ⁇ CR 4 COOR 5 —NHC ( ⁇ O) —B include a monomer represented by the following formula (m1) and a monomer represented by the following formula (m2).
  • the polymer (C2) further includes a unit having an acidic group, a unit having an ethylenic double bond, a unit having a hydroxyl group, and a unit having a polyoxyalkylene chain. It may have at least one unit selected from the group consisting of
  • the polymer (C2) is preferably a polymer having an acidic group from the viewpoint of good alkali solubility.
  • the acidic group at least one acidic group selected from the group consisting of a carboxy group, a phenolic hydroxyl group and a sulfo group or a salt thereof is preferable.
  • the polymer (C2) has photocrosslinkability, and in the process of producing a cured film obtained by curing the photosensitive resin composition, in the upper layer part of the cured film, each other or the ethylenic resin contained in the photosensitive resin composition A polymer having an ethylenic double bond is preferred from the viewpoint that the fixing property of the polymer (C2) can be improved by bonding with another component having a double bond.
  • a (meth) acryloyloxy group As the group having an ethylenic double bond, a (meth) acryloyloxy group, a vinylphenyl group, an allyl group, a vinyl group, and a norbornyl group are preferable, and a (meth) acryloyloxy group is particularly preferable.
  • the ethylenic double bond is preferably introduced after the formation of the polymer to form a polymer (C2). Since the ethylenic double bond reacts during the polymerization of the monomer, a polymer having an ethylenic double bond cannot usually be produced only by the polymerization of the monomer.
  • a polymer having a reactive site such as a hydroxyl group is produced by polymerization of the monomer, and then a compound having an ethylenic double bond and capable of binding to the reactive site of the polymer is reacted, A polymer having a heavy bond is produced.
  • a polymer containing a unit having a side chain containing a fluorine atom, a unit having a blocked isocyanate group and a unit having a hydroxyl group is produced, and then reacted with an isocyanate alkyl (meth) acrylate, A polymer (C2) having an ethylenic double bond can be produced.
  • the polymer (C2) may have a hydroxyl group or a polyoxyalkylene group.
  • the polyoxyalkylene group or hydroxyl group does not have photocrosslinkability
  • the polymer (C2) having a polyoxyalkylene group or hydroxyl group is used in the process of producing a cured film as in the case of having an ethylenic double bond.
  • the fixing property of the polymer (C2) can be improved by bonding with each other or with other components contained in the photosensitive resin composition.
  • the hydroxyl group can also function as a reaction site of the polymer as described above.
  • the polyoxyalkylene groups the polyoxyethylene group has hydrophilicity, and thus has an effect of improving wettability with respect to the developer.
  • the polymer (C2) can contain one or more of acidic groups, ethylenic double bonds, hydroxyl groups, and polyoxyalkylene groups. Two or more of these groups may be contained in one side chain of the polymer. For example, a hydroxyl group may be bonded to the terminal of the polyoxyalkylene group.
  • a method for introducing the above group a method of copolymerizing a monomer having a fluoroalkyl group, a monomer having a blocked isocyanate group, and a monomer having the above group is preferable.
  • said group can also be introduce
  • Examples of a method for introducing a carboxy group into a polymer having a reactive site include (1) a method in which an acid anhydride is reacted with a polymer having a hydroxyl group, and (2) an acid anhydride unit having an ethylenic double bond. And a method of reacting a compound having a hydroxyl group with a compound having a hydroxyl group.
  • Specific examples of the monomer having a hydroxyl group include those described in paragraph [0096] of WO2014 / 046209.
  • the monomer having a hydroxyl group may be a monomer having a polyoxyalkylene chain whose terminal is a hydroxyl group. Examples thereof include those described in WO 2014/046209, for example, in paragraph [0097].
  • Examples of the acid anhydride include those described in, for example, paragraph [0098] of WO 2014/046209.
  • the compound having a hydroxyl group may be a compound having one or more hydroxyl groups, and examples thereof include those described in, for example, paragraph [00099] of WO2014 / 046209.
  • a monomer that does not contain a hydroxyl group and an acidic group and has a polyoxyalkylene group for example, a monomer represented by the following formula (POA-1) or (POA-2) can also be used.
  • CH 2 CR 71 —COO—W— (R 72 —O) K 4 —R 73 (POA-1)
  • CH 2 CR 71 —OW— (R 72 —O) K 4 —R 73 (POA-2)
  • R 71 is a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group substituted with an aryl group having 7 to 20 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.
  • R 72 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 73 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • W is a single bond or a divalent organic group having no fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms.
  • k4 is an integer of 6 to 30.
  • a known monomer and reaction according to a desired composition it has a side chain having a fluorine atom and a blocked isocyanate group, and if necessary, an acidic group, an ethylenic double group A polymer (C2) having a bond, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group can be obtained.
  • the side chain having a fluorine atom is usually added to the benzene skeleton (Ph) constituting the main chain.
  • a polymer having a side chain having a blocked isocyanate group and optionally having a group having an acidic group, a group having an ethylenic double bond, an oxyalkylene group and the like is used as the polymer (C2).
  • the side chain having a fluorine atom is preferably a side chain having a fluoroalkyl group which may contain an etheric oxygen atom and / or a fluoroalkyl group which may contain an etheric oxygen atom.
  • the acidic group the group having an ethylenic double bond, the oxyalkylene group, etc.
  • the polymer (C2) having a main chain obtained by polymerization of the monomer having the ethylenic double bond described above The same thing is mentioned.
  • Such a polymer (C2) may be produced by polymerizing a monomer in which each of the above groups has been previously introduced into a benzene skeleton, and a reaction site, specifically, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group. Then, after obtaining a polymer having a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a carbonyl group, an ethylenic double bond, etc., the above-mentioned groups are introduced into the polymer by a modification method in which a compound is appropriately reacted with the reaction site. Also good.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention comprises a photocurable alkali-soluble resin (hereinafter also referred to as resin (AP)) or a photocurable alkali-soluble monomer (hereinafter referred to as monomer (AM)). Also a photopolymerization initiator and the ink repellent agent (C).
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention contains the ink repellent agent (C) as the ink repellent agent, so that the storage stability is good.
  • the upper surface has excellent ink repellency, and the opening has good ink affinity.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention further contains a black colorant, a crosslinking agent, a solvent, and other optional components as necessary.
  • a black colorant e.g., a black colorant, a crosslinking agent, a solvent, and other optional components as necessary.
  • the resin (AP) a photosensitive resin having an acidic group and an ethylenic double bond in one molecule is preferable. Since the resin (AP) has an ethylenic double bond in the molecule, the exposed portion of the negative photosensitive resin composition is polymerized and cured by radicals generated from the photopolymerization initiator.
  • the exposed area cured in this way is not removed with an alkaline developer.
  • the resin (AP) has an acidic group in the molecule, the non-exposed portion of the uncured negative photosensitive resin composition can be selectively removed with an alkaline developer.
  • the cured film can be in the form of a partition that partitions a predetermined region into a plurality of sections.
  • Examples of the acidic group include a carboxy group, a phenolic hydroxyl group, a sulfo group, and a phosphoric acid group. These may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the ethylenic double bond include double bonds having an addition polymerization property such as a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, and a vinyloxyalkyl group. These may be used alone or in combination of two or more.
  • some or all of the hydrogen atoms possessed by the ethylenic double bond may be substituted with an alkyl group such as a methyl group.
  • an acid group and an ethylenic double bond were introduced into a resin (AP-1) having a side chain having an acidic group and a side chain having an ethylenic double bond, and an epoxy resin.
  • Resin (AP-2) etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the resin (AP-1) include vinyl resins having a side chain having an acidic group and a side chain having an ethylenic double bond.
  • Examples of the resin (AP-2) include a resin obtained by reacting an epoxy resin with a compound having a carboxy group and an ethylenic double bond and then reacting with a polyvalent carboxylic acid or an anhydride thereof. Can be mentioned. It does not specifically limit as an epoxy resin to be used, The conventionally well-known epoxy resin used as a principal chain of a negative photosensitive resin, for example, the epoxy resin as described in international publication 2010/013816 etc. can be used.
  • the resin (AP) preferably has an acid value of 10 to 300 mgKOH / g, particularly preferably 30 to 150 mgKOH / g.
  • the number average molecular weight (Mn) is preferably 5 ⁇ 10 2 to 2 ⁇ 10 4 , particularly preferably 2 ⁇ 10 3 to 1.5 ⁇ 10 4 .
  • the mass average molecular weight (Mw) is preferably 1 ⁇ 10 3 to 4 ⁇ 10 4 , particularly preferably 3 ⁇ 10 3 to 2 ⁇ 10 4 .
  • Resin (AP) As the resin (AP), the peeling of the cured film during development is suppressed, and a high-resolution dot pattern can be obtained, and the linearity of the pattern when the dot is linear is good, Resin (AP-2) is preferably used because a smooth cured film surface is easily obtained.
  • a monomer (AM-1) having an acidic group and an ethylenic double bond is preferably used as the monomer (AM).
  • the acidic group and the ethylenic double bond are the same as those of the resin (AP).
  • the acid value of the monomer (AM) is also preferably in the same range as the resin (AP).
  • Examples of the monomer (AM-1) include 2,2,2-triacryloyloxymethylethylphthalic acid.
  • the resin (AP) and the monomer (AM) contained in the negative photosensitive resin composition may be used singly or in combination of two or more.
  • the resin (AP) content and the monomer (AM) content in the total solid content of the negative photosensitive resin composition are preferably 5 to 80% by mass, respectively.
  • the content is particularly preferably 30 to 70% by mass.
  • the content is particularly preferably 10 to 60% by mass.
  • the photopolymerization initiator in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a function as a photopolymerization initiator, and a compound that generates a radical by light is preferable.
  • Photopolymerization initiators include ⁇ -diketones, acyloins, acyloin ethers, thioxanthones, benzophenones, acetophenones, quinones, aminobenzoic acids, peroxides, oxime esters, aliphatic amines, etc. The various compounds classified are mentioned.
  • benzophenones, aminobenzoic acids, and aliphatic amines are preferably used together with other radical initiators because they may exhibit a sensitizing effect.
  • photopolymerization initiators examples include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (classified as acetophenones.
  • a photoinitiator may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • the content ratio of the photopolymerization initiator in the total solid content in the negative photosensitive resin composition is preferably 0.1 to 50% by mass, and more preferably 0.5 to 30% by mass.
  • the content is particularly preferably 5 to 15% by mass.
  • the content is particularly preferably 2 to 12% by mass.
  • the ink repellent agent (C) of the present invention has a function of sufficiently transferring to the upper surface in the process of forming the partition using the photosensitive resin composition and imparting good ink repellency to the upper surface of the resulting partition.
  • the ink repellent agent (C) can improve storage stability when it is contained and stored in the photosensitive resin composition. Furthermore, by deblocking by heating at the time of use to form an isocyanate group, the reactivity of the ink repellent agent (C) is improved, and the binding properties and adhesion to other components and other materials are improved. Thereby, it can suppress that the residue of the photosensitive resin composition inhibits the wetting-spreading property of an ink in the opening part enclosed by the partition, and can improve ink affinity.
  • the content ratio of the ink repellent agent (C) in the total solid content in the negative photosensitive resin composition is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, and 0.03 to 1%. .5% by mass is particularly preferred.
  • the content ratio is at least the lower limit of the above range, the upper surface of the cured film formed from the negative photosensitive resin composition has excellent ink repellency. Adhesiveness of a cured film and a board
  • the negative photosensitive composition of the present invention contains a black colorant when light-shielding properties are imparted to the partition walls depending on the application.
  • a negative type photosensitive composition containing a conventional ink repellent agent was mixed with a colorant, the ink repellency on the upper surface of the partition wall was insufficient or the ink affinity of the opening was insufficient.
  • the ink repellent agent (C) of the present invention even when a colorant is blended, both good ink repellency on the upper surface of the partition wall and ink affinity at the opening can be achieved without causing the above problem. be able to.
  • an opening can be obtained by forming a partition using a negative photosensitive composition containing a colorant.
  • the ink-philicity of the part was not sufficient.
  • a negative photosensitive composition is prepared using the polymer (C2) as the ink repellent (C) of the present invention, the problem of ink affinity of the opening is solved and the ink composition has sufficient ink affinity.
  • a partition having sufficient ink repellency can be obtained on the opening and the upper surface.
  • black colorants carbon black, aniline black, anthraquinone black pigment, perylene black pigment, specifically C.I. I. Pigment black 1, 6, 7, 12, 20, 31 etc. are mentioned.
  • a mixture of an organic pigment or an inorganic pigment such as a red pigment, a blue pigment, a green pigment, or a yellow pigment can also be used.
  • organic pigments include C.I. I. And CI Pigment Blue 15: 6, Pigment Red 254, Pigment Green 36, Pigment Yellow 150, and azomethine pigments.
  • an organic pigment is preferable from the viewpoint of electrical characteristics, and carbon black is preferable from the viewpoint of cost and light shielding properties.
  • the carbon black is preferably surface-treated with a resin or the like, and a blue pigment or a violet pigment can be used in combination to adjust the color tone.
  • the organic pigment preferably has a specific surface area of 50 to 200 m 2 / g by the BET method from the viewpoint of the shape of the black matrix.
  • the specific surface area is 50 m 2 / g or more, the black matrix shape is hardly deteriorated.
  • it is 200 m 2 / g or less, the dispersion aid is not excessively adsorbed on the organic pigment, and it is not necessary to add a large amount of dispersion aid in order to develop various physical properties.
  • the average primary particle diameter of the organic pigment observed with a transmission electron microscope is preferably 20 to 150 nm.
  • the average primary particle size is 20 nm or more, the negative photosensitive composition can be dispersed at a high concentration and a negative photosensitive composition having good temporal stability can be easily obtained.
  • the average secondary particle diameter by observation with a transmission electron microscope is preferably 80 to 200 nm.
  • the content of the black colorant in the total solid content in the negative photosensitive composition is preferably 20 to 65% by mass, more preferably 25 to 60% by mass, and particularly preferably 30 to 60% by mass.
  • the content ratio is equal to or higher than the lower limit of the above range, the optical density, which is a value indicating the light blocking property of the obtained partition wall, is sufficient.
  • the amount is not more than the upper limit of the above range, the curability of the negative photosensitive composition is improved, a cured film having a good appearance is obtained, and the ink repellency is also improved.
  • a basic polymer dispersant or an acidic polymer dispersant In order to improve the dispersibility of the black colorant in the negative photosensitive composition, it is preferable to contain a basic polymer dispersant or an acidic polymer dispersant.
  • the amine value of the basic polymer dispersant is preferably 10 to 100 mgKOH / g, particularly preferably 30 to 70 mgKOH / g.
  • the acid value of the acidic polymer dispersant is preferably 30 to 150 mgKOH / g, particularly preferably 50 to 100 mgKOH / g.
  • the polymer dispersant is preferably a compound having a basic functional group from the viewpoint of affinity for the black colorant. When the basic functional group has a primary, secondary or tertiary amino group, the dispersibility is particularly excellent.
  • Polymer dispersing agents include urethane, polyimide, alkyd, epoxy, unsaturated polyester, melamine, phenol, acrylic, vinyl chloride, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, polyamide, polycarbonate And the like. Of these, urethane-based and polyester-based compounds are particularly preferable.
  • the amount of the polymer dispersant used is preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 25% by weight, based on the black colorant.
  • the amount used is not less than the lower limit of the above range, the dispersion of the black colorant is good, and when it is not more than the upper limit of the above range, the developability is good.
  • the crosslinking agent optionally contained in the negative photosensitive resin composition of the present invention is a compound having two or more ethylenic double bonds in one molecule and no acidic group.
  • the curability of the negative photosensitive resin composition at the time of exposure is improved, and a cured film can be formed even with a low exposure amount.
  • crosslinking agent examples include those described in, for example, paragraph [0137] of WO2014 / 046209. From the viewpoint of photoreactivity, it is preferable to have a large number of ethylenic double bonds.
  • a crosslinking agent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • the content of the crosslinking agent in the total solid content in the negative photosensitive resin composition is preferably 10 to 60% by mass.
  • the content is particularly preferably 20 to 55% by mass.
  • the content is particularly preferably 5 to 50% by mass.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention has a reduced viscosity by containing a solvent, and the negative photosensitive resin composition can be easily applied to the substrate surface. As a result, a coating film of a negative photosensitive resin composition having a uniform film thickness can be formed.
  • a known solvent is used as the solvent (F).
  • a solvent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • the solvent examples include alkylene glycol alkyl ethers, alkylene glycol alkyl ether acetates, alcohols, and solvent naphtha.
  • at least one solvent selected from the group consisting of alkylene glycol alkyl ethers, alkylene glycol alkyl ether acetates, and alcohols is preferable, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, and More preferred is at least one solvent selected from the group consisting of 2-propanol.
  • the content of the solvent in the negative photosensitive resin composition is preferably 50 to 99% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, and particularly preferably 65 to 90% by mass with respect to the total amount of the composition.
  • the negative photosensitive resin composition in the present invention further includes a thermal crosslinking agent, a dispersion aid, a silane coupling agent, fine particles (filler), a phosphoric acid compound, a curing accelerator, a thickener, and a plasticizer as necessary.
  • a thermal crosslinking agent e.g., a thermal crosslinking agent, a dispersion aid, a silane coupling agent, fine particles (filler), a phosphoric acid compound, a curing accelerator, a thickener, and a plasticizer as necessary.
  • one or more other additives such as an antifoaming agent, a leveling agent, a repellency inhibitor and an ultraviolet absorber may be contained.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention is obtained by mixing a predetermined amount of each of the above components. Since the negative photosensitive resin composition of the present invention contains the ink repellent (C) having improved storage stability, it has good storage stability. When the negative photosensitive resin composition of the present invention is used, the resulting partition has good ink repellency on the top surface, and the opening surrounded by the partition has good ink affinity.
  • C ink repellent
  • the partition of this invention is a partition which consists of a hardened
  • the partition is masked in a portion that becomes a partition for forming dots. After being exposed to light, it is obtained by developing and further heating.
  • the ink repellent agent (C) contained in the negative photosensitive resin composition moves to the upper surface and comes to be present in a high concentration in the ink repellent layer above the partition walls. Furthermore, the blocked isocyanate group of the ink repellent agent (C) is deblocked by heating to become an isocyanate group, and is firmly fixed to the ink repellent layer. Furthermore, even when the non-exposed portion cannot be completely removed by development and is partially present in the opening, the ink repellent (C) is fixed on the substrate surface, and the ink affinity of the opening is ensured. Is done.
  • the substrate for forming the partition wall of the present invention it is preferable that at least the surface on which the partition wall is formed has a functional group having reactivity with an isocyanate group, for example, a hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, a mercapto group, and the like. Since the substrate surface on which the partition wall is formed has a functional group reactive with an isocyanate group, the adhesion between the substrate surface and the ink repellent agent (C) is improved in the opening, and the photosensitive resin composition is formed in the opening. This is because the ink-philicity of the opening is ensured even in the case of having such a residue.
  • an isocyanate group for example, a hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, a mercapto group, and the like.
  • the material constituting the surface having a functional group reactive with the isocyanate group include glass, metal oxide, and organic film.
  • the metal oxide include tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), and gallium-doped zinc oxide (GZO).
  • ITO indium oxide
  • ATO antimony-doped tin oxide
  • FTO fluorine-doped tin oxide
  • AZO aluminum-doped zinc oxide
  • GZO gallium-doped zinc oxide
  • the manufacturing method of the partition wall is not limited to the following.
  • the following manufacturing methods are demonstrated as a negative photosensitive resin composition containing a solvent (F).
  • a negative photosensitive resin composition is applied to one entire main surface of the substrate 1 to form a coating film 21.
  • the ink repellent agent (C) is totally dissolved and uniformly dispersed in the coating film 21.
  • the ink repellent agent (C) is schematically shown, and does not actually exist in such a particle shape.
  • the coating film 21 is dried to form a dry film 22.
  • the drying method include heat drying, reduced pressure drying, and reduced pressure heat drying.
  • the heating temperature is preferably 50 to 120 ° C.
  • the heating time is preferably about 30 seconds to 5 minutes.
  • the ink repellent agent (C) moves to the upper layer of the dry film. Even when the negative photosensitive resin composition does not contain a solvent, the upper surface transition of the ink repellent agent (C) is similarly achieved in the coating film.
  • the dry film 22 is exposed to light through a photomask 30 having a masking portion 31 having a shape corresponding to the opening surrounded by the partition walls.
  • the film after the dry film 22 is exposed is referred to as an exposure film 23.
  • the exposed portion 23 ⁇ / b> A is photocured, and the non-exposed portion 23 ⁇ / b> B is in the same state as the dry film 22.
  • excimer laser such as visible light; ultraviolet light; far ultraviolet light; KrF excimer laser light, ArF excimer laser light, F 2 excimer laser light, Kr 2 excimer laser light, KrAr excimer laser light, and Ar 2 excimer laser light.
  • Examples include light; X-ray; electron beam.
  • the light to be irradiated is preferably light having a wavelength of 100 to 600 nm, more preferably light having a wavelength of 300 to 500 nm, and particularly preferably light containing i-line (365 nm), h-line (405 nm), or g-line (436 nm). Moreover, you may cut light below 330 nm as needed.
  • Examples of the exposure method include whole-surface batch exposure, scan exposure, and the like. You may expose in multiple times with respect to the same location. At this time, the multiple exposure conditions may or may not be the same. Exposure amount, In any of the above exposure method, for example, preferably 5 ⁇ 1,000mJ / cm 2, more preferably 5 ⁇ 500mJ / cm 2, more preferably 5 ⁇ 300mJ / cm 2. The exposure amount is appropriately optimized depending on the wavelength of light to be irradiated, the composition of the negative photosensitive resin composition, the thickness of the coating film, and the like.
  • the exposure time per unit area is not particularly limited, and is designed from the exposure power of the exposure apparatus to be used and the required exposure amount. In the case of scan exposure, the exposure time is determined from the light scanning speed.
  • the exposure time per unit area is usually about 1 to 60 seconds.
  • FIG. 1D shows a state after the non-exposed portion 23B is removed by development.
  • the non-exposed portion 23B is dissolved and removed with an alkali developer in a state where the ink repellent agent (C) is transferred to the upper layer portion and the ink repellent agent (C) is hardly present in the lower layer. Therefore, the upper surface of the obtained partition wall has good ink repellency.
  • the uppermost layer including the upper surface is the ink repellent layer 4A.
  • the ink repellent agent (C) does not have a side chain having an ethylenic double bond
  • the ink repellent agent (C) is present in a high concentration as it is in the uppermost layer and becomes an ink repellent layer. More specifically, upon exposure, the resin (AP) or monomer (AM) present in the vicinity of the ink repellent agent (C) and other photocurable components optionally contained are strongly photocured.
  • the ink repellent agent (C) is fixed to the ink repellent layer.
  • the ink repellent agent (C) When the ink repellent agent (C) has an ethylenic double bond, the ink repellent agent (C) is light with each other and / or resin (AP) or monomer (AM) or other photocuring components. Curing is performed to form an ink repellent layer 4A in which the ink repellent agent (C) is firmly bonded.
  • AP resin
  • AM monomer
  • the resin (AP) or the monomer (AM), or any other photocurable component optionally contained is photocured below the ink repellent layer 4A, and the ink repellent agent.
  • a layer 4B containing almost no (C) is formed.
  • the heating temperature is equal to or higher than the temperature at which the blocked isocyanate group of the ink repellent agent (C) is deblocked to generate an isocyanate group.
  • the heating temperature can be about 150 to 250 ° C., preferably 200 to 250 ° C.
  • the heating time is preferably about 20 to 70 minutes.
  • the blocked isocyanate group of the ink repellent agent (C) is deblocked by heating to become an isocyanate group, and the ink repellent agent (C) is more firmly fixed in the ink repellent layer 4A. Moreover, hardening of the partition 4 becomes stronger by heating. Further, the unexposed portion may not be completely removed by the development, and the non-exposed portion 23B may exist as a residue slightly and partially in the opening. Even in such a case, the ink repellent agent (C) is fixed to the substrate surface by the action of the deblocked isocyanate group, and the ink affinity of the opening is ensured.
  • the partition 4 of the present invention thus obtained has good ink repellency on the upper surface even when the exposure is performed at a low exposure amount.
  • the hydrophilicity of the opening 5 is good after development and heating, and the uniform coating property of the ink to the opening 5 can be sufficiently secured.
  • the substrate 1 with the partition walls 4 may be subjected to ultraviolet / ozone treatment.
  • the width of the partition formed from the negative photosensitive resin composition of the present invention is preferably 100 ⁇ m or less, and particularly preferably 20 ⁇ m or less.
  • the distance between adjacent partition walls (pattern width) is preferably 300 ⁇ m or less, and particularly preferably 100 ⁇ m or less.
  • the height of the partition wall is preferably 0.05 to 50 ⁇ m, particularly preferably 0.2 to 10 ⁇ m.
  • the partition of the present invention can be used as a partition having the opening as an ink injection region when pattern printing is performed by the IJ method.
  • pattern printing is performed by the IJ method
  • the partition wall of the present invention is formed and used so that the opening thereof coincides with a desired ink injection region, the partition top surface has good ink repellency. It is possible to suppress ink from being injected into an undesired opening, that is, an ink injection region beyond the partition wall.
  • the opening surrounded by the partition wall has good ink wetting and spreading properties, it is possible to print the ink uniformly without causing white spots or the like in a desired region.
  • the partition wall of the present invention is used, pattern printing by the IJ method can be performed with precision as described above. Therefore, the partition of the present invention is useful as a partition for an optical element having a partition located between a plurality of dots and adjacent dots on the substrate surface where the dots are formed by the IJ method.
  • the optical element of the present invention is an optical element having a plurality of dots and a partition wall of the present invention located between adjacent dots on the substrate surface.
  • the dots are preferably formed by the IJ method.
  • the manufacturing method of the optical element of this invention is not limited to the following.
  • 2A to 2B schematically show a method of manufacturing an optical element by using the partition wall 4 formed on the substrate 1 shown in FIG. 1D.
  • the partition 4 on the substrate 1 is formed so that the opening 5 matches the dot pattern of the optical element to be manufactured.
  • ink 10 is dropped from the inkjet head 9 into the opening 5 surrounded by the partition wall 4 and a predetermined amount of ink 10 is injected into the opening 5.
  • a well-known ink for optical elements is appropriately selected and used in accordance with the dot function.
  • the partition wall of the present invention it is possible to spread the ink uniformly and uniformly in the openings partitioned by the partition wall during the manufacturing process. It is an optical element having.
  • optical elements examples include organic EL elements, color filters of liquid crystal elements and TFT array elements, quantum dot displays, and thin film solar cells.
  • the TFT array element is an element in which a plurality of dots are arranged in a matrix in a plan view, and each dot is provided with a TFT as a pixel electrode and a switching element for driving the pixel electrode.
  • the TFT array element is provided as a TFT array substrate in an organic EL element or a liquid crystal element.
  • the TFT array can be manufactured, for example, as follows, but is not limited thereto.
  • a gate electrode such as aluminum or an alloy thereof is formed on a light-transmitting substrate such as glass by a sputtering method or the like. This gate electrode is patterned as necessary.
  • a gate insulating film such as silicon nitride is formed by a plasma CVD method or the like.
  • a source electrode and a drain electrode may be formed over the gate insulating film.
  • the source electrode and the drain electrode can be formed by forming a metal thin film such as aluminum, gold, silver, copper, or an alloy thereof by, for example, vacuum deposition or sputtering.
  • a metal thin film such as aluminum, gold, silver, copper, or an alloy thereof by, for example, vacuum deposition or sputtering.
  • a resist is coated, exposed and developed to leave the resist in a portion where the electrode is to be formed, and then exposed with phosphoric acid or aqua regia. There is a method of removing the metal and finally removing the resist.
  • a resist is applied in advance, exposed and developed to leave the resist in a portion where it is not desired to form an electrode, and after forming the metal thin film, the photoresist is applied together with the metal thin film.
  • the source electrode and the drain electrode may be formed by a method such as ink jet using a metal nanocolloid such as silver or copper.
  • partition walls are formed in a lattice shape in plan view along the outline of each dot by a photolithography method including coating, exposure and development.
  • a semiconductor solution is applied in the dots by the IJ method, and the solution is dried to form a semiconductor layer.
  • an organic semiconductor solution or an inorganic coating type oxide semiconductor solution can also be used.
  • the source electrode and the drain electrode may be formed by using a method such as inkjet after forming the semiconductor layer.
  • a transparent electrode such as ITO is formed by sputtering or the like, and a protective film such as silicon nitride is formed.
  • An organic EL element can be manufactured as follows, for example.
  • a light-transmitting electrode such as tin-doped indium oxide (ITO) is formed on a light-transmitting substrate such as glass by a sputtering method or the like.
  • the translucent electrode is patterned as necessary.
  • partition walls are formed in a lattice shape in plan view along the outline of each dot by photolithography including coating, exposure and development.
  • the materials of the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, the hole blocking layer, and the electron injection layer are applied and dried in the dots by the IJ method, and these layers are sequentially stacked.
  • the kind and number of organic layers formed in the dots are appropriately designed.
  • a reflective electrode such as aluminum is formed by vapor deposition or the like.
  • the quantum dot display can be manufactured, for example, as follows, but is not limited thereto.
  • a light-transmitting electrode such as tin-doped indium oxide (ITO) is formed on a light-transmitting substrate such as glass by a sputtering method or the like.
  • the translucent electrode is patterned as necessary.
  • partition walls are formed in a lattice shape in plan view along the outline of each dot by photolithography including coating, exposure and development.
  • the materials of the hole injection layer, the hole transport layer, the quantum dot layer, the hole blocking layer, and the electron injection layer are respectively applied and dried in the dots by the IJ method, and these layers are sequentially stacked. .
  • the kind and number of organic layers formed in the dots are appropriately designed.
  • a reflective electrode such as aluminum is formed by vapor deposition or the like.
  • the optical element of the embodiment of the present invention can be applied to, for example, a blue light conversion type quantum dot display manufactured as follows.
  • the composition of the present invention is used for a translucent substrate such as glass, and partition walls are formed in a lattice pattern in plan view along the outline of each dot.
  • a nanoparticle solution that converts blue light into green light by the IJ method, a nanoparticle solution that converts blue light into red light, and a blue color ink as necessary are coated in the dots and dried.
  • Create A liquid crystal display having excellent color reproducibility can be obtained by using a light source that emits blue as a backlight and using the module as a color filter alternative.
  • Examples 1, 2, 5 to 8, and Examples 10 to 16 are examples, and Examples 3, 4, 9, and Examples 17 to 19 are comparative examples.
  • the column is maintained at 37 ° C., tetrahydrofuran is used as the eluent, the flow rate is 0.2 mL / min, and a 0.5% tetrahydrofuran solution of the measurement sample is used. 40 ⁇ L was injected.
  • fluorine atom content (% by mass) was calculated by 19 F NMR measurement using 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene as a standard substance.
  • Alkali-soluble resin (AP) Alkali-soluble resin (AP1) composition: Cresol novolak epoxy resin is reacted with acrylic acid and then 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, and acryloyl group and carboxy group introduced resin is purified with hexane Composition (solid content 70% by mass, PGMEA 30% by mass) of the obtained resin (alkali-soluble resin (A1), acid value 60 mgKOH / g).
  • Example 1 Synthesis of polymer (C1-1)
  • Example 2 Synthesis of polymer (C1-1)
  • a 300 cm 3 three-necked flask equipped with a stirrer 3.87 g of compound (cx-11), 13.30 g of compound (cx-21), 4.16 g of compound (cx-31), compound (cx-51)
  • PGME PGME
  • Table 1 shows the amount of raw material hydrolyzable silane compound used in the production of the obtained polymer (C1-1).
  • the silane compound means a hydrolyzable silane compound.
  • Example 2 to 4 Synthesis of polymers (C1-2) and (Cf-1), (Cf-2)
  • a raw material solution was prepared by adding PGME to the mixture of the silane compounds shown in Table 1, and the acid aqueous solution shown in Table 1 was added thereto. Dropped and stirred in the same manner as in Example 1, and the solutions of the polymers (C1-2) and (Cf-1), (Cf-2) (all compound concentration: 10% by mass, hereinafter, each solution was referred to as “polymer (C1-2), (Cf-1), also referred to as (Cf-2) solution ”).
  • Table 1 shows the charged amounts and molar ratios of the raw material hydrolyzable silane compounds used in the production of the polymers (C1-2), (Cf-1) and (Cf-2) obtained above.
  • the silane compound means a hydrolyzable silane compound.
  • Example 5 Synthesis of Polymer (C2-1) To an autoclave having an internal volume of 1 L equipped with a stirrer, MEK (466.7 g), C6FMA (94.0 g), MOI-BP (66.0 g), PME-400 (40.0 g) and polymerization initiator V-65 (0.91 g) was charged and polymerized at 50 ° C. for 24 hours with stirring in a nitrogen atmosphere to obtain a solution of the polymer (C2-1). The solution of the polymer (C2-1) obtained in hexane was added and purified by reprecipitation, followed by vacuum drying to obtain a polymer (C2-1) (169.2 g). The polymer (C2-1) had a number average molecular weight of 35,900 and a mass average molecular weight of 71,600.
  • Example 6 Synthesis of polymer (C2-2)
  • a polymer (C2-2) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 5 except that MOI-BP was changed to MOI-BP.
  • the polymer (C2-2) had a number average molecular weight of 34,500 and a mass average molecular weight of 72,300.
  • Example 7 Synthesis of polymer (C2-3)
  • MEK 466.7 g
  • C6FMA 94.0 g
  • 2-HEMA 46.0
  • MOI-BP 20.0 g
  • PME-400 40. 0 g
  • a polymerization initiator V-65 1.2 g
  • the polymer (C2-3) precursor solution (500.0 g), AOI (37.5 g), DBTDL (0.15 g), and TBQ (1.87 g) were placed in an autoclave with an internal volume of 1 L equipped with a stirrer. While charging and stirring, the mixture was reacted at 40 ° C. for 24 hours to obtain a polymer (C2-3) solution.
  • a solution of the polymer (C2-3) obtained in hexane was added and purified by reprecipitation, followed by vacuum drying to obtain a polymer (C2-3) (143.1 g).
  • the polymer (C2-3) had a number average molecular weight of 41,200 and a weight average molecular weight of 85,700.
  • Example 10 Production of negative photosensitive resin composition
  • the mixture was placed in a 200 cm 3 stirring container and stirred for 3 hours to produce a negative photosensitive resin composition 1.
  • the glass substrate after the exposure treatment was developed by immersing in a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution for 40 seconds, and the non-exposed portion was washed away with water and dried. Next, this was heated on a hot plate at 230 ° C. for 60 minutes to obtain a partition wall as a cured film having an opening corresponding to the masking portion of the photomask.
  • PGMEA contact angle on the upper surface of the partition wall obtained above was measured by the following method to evaluate ink repellency.
  • PGMEA droplets were placed on the upper surface of the cured film by the sessile drop method, and each PGMEA droplet was measured.
  • the droplet was 2 ⁇ L / droplet, and the measurement was performed at 20 ° C.
  • the contact angle was determined from the average value of 3 measurements.
  • the PGMEA contact angle of the opening surrounded by the partition wall obtained above was measured by the same method as the ink repellency evaluation method described above to evaluate ink affinity. In addition, if the PGMEA contact angle is 40 degrees or more, it can be said that the ink repellency is good. Further, if the PGMEA contact angle is 5 degrees or less, it can be said that the ink affinity is good.
  • ⁇ Storage stability of negative photosensitive resin composition The negative photosensitive resin composition 1 was stored at room temperature (20 to 25 ° C.) for 20 days. Then, after visually observing the state (transparent or cloudy) of the negative photosensitive resin composition 1, the partition and the cured film (however, the size of the glass substrate is 7.5 cm square) in the same manner as described above. Manufactured. During the production, the presence or absence of foreign matter on the film surface was observed visually and with a laser microscope in the state of the coating film.
  • the partition wall and the cured film formed in the same manner as described above from the negative photosensitive resin composition 1 before storage by visually observing the appearance of the partition wall and the cured film, the presence or absence of foreign matter on the film surface, and observation with a laser microscope ( However, the size of the glass substrate was changed to 7.5 cm square), and evaluation was performed according to the following criteria.
  • A No foreign matter can be confirmed even by visually observing the coating film with a laser microscope and visually, and the appearance is the same as that of a partition wall and a cured film formed from a negative photosensitive resin composition before storage.
  • ⁇ Particulate foreign matter can be confirmed when the coating film is observed with a laser microscope.
  • delta When a coating film is observed visually, a particulate foreign material can be confirmed.
  • X The negative photosensitive resin composition after storage becomes cloudy.
  • Negative photosensitive resin compositions of Examples 11 to 19 were produced in the same manner as in Example 10 with the compositions shown in Table 3.
  • a partition wall was produced in the same manner as in Example 10 using the obtained negative photosensitive resin composition.
  • the obtained negative photosensitive resin composition, partition walls, and openings were evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 3.
  • the ink repellent agent of the present invention is used, for example, in a photosensitive resin composition or the like, and when performing pattern printing by the IJ method in an optical element such as an organic EL element, a color filter of a liquid crystal element, and a TFT array. It is suitable for forming a partition wall.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention is suitably used as a composition for forming partition walls when performing pattern printing by the IJ method in optical elements such as organic EL elements, color filters of liquid crystal elements, and TFT arrays. be able to.
  • the partition wall of the present invention is a partition wall (bank) for pattern printing of an organic layer such as a light emitting layer by an IJ method in an organic EL element, or a partition wall for pattern printing of a color filter by a IJ method in a liquid crystal element ( This partition can be used as a black matrix (BM).
  • BM black matrix
  • the partition wall of the present invention can also be used as a partition wall for printing a conductor pattern or a semiconductor pattern by the IJ method in a TFT array.
  • the partition wall of the present invention can be used as a partition wall for pattern printing of the organic semiconductor layer, the gate electrode, the source electrode, the drain electrode, the gate wiring, the source wiring, and the like forming the channel layer of the TFT by the IJ method.

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Abstract

　これを含有する感光性樹脂組成物の貯蔵安定性が充分であるとともに、上面に良好な撥インク性を有する隔壁と親インク性が良好な開口部を形成可能な感光性樹脂組成物の作製が可能な撥インク剤、これを含有するネガ型感光性樹脂組成物、上面に良好な撥インク性を有する隔壁、該隔壁で仕切られた開口部にインクが均一塗布され精度よく形成されたドットを有する光学素子の提供。　基板表面をドット形成用の複数の区画に仕切る形に形成される隔壁の上面に撥インク性を付与する撥インク剤であって、フッ素原子含有単位と、加熱により脱ブロックしてイソシアネート基を生成しうるブロックイソシアネート基含有単位とを有し、フッ素原子の含有率が１～４０質量％の重合体からなる撥インク剤。

Description

撥インク剤、ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁および光学素子
　本発明は、撥インク剤、ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁および光学素子に関する。
　有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子等の光学素子の製造においては、発光層等の有機層をドットとして、インクジェット（ＩＪ）法にてパターン印刷する方法を用いることがある。かかる方法においては、形成しようとするドットの輪郭に沿って隔壁を設け、該隔壁で囲まれた区画（以下、「開口部」ともいう。）内に、有機層の材料を含むインクを注入し、これを乾燥や加熱等を行うことにより所望のパターンのドットを形成する。
　上記方法においては、隣接するドット間におけるインクの混合防止とドット形成におけるインクの均一塗布のため、隔壁上面は撥インク性を有する一方隔壁側面を含む隔壁で囲まれたドット形成用の開口部は親インク性を有する必要がある。
　そこで、上面に撥インク性を有する隔壁を得るために、撥インク剤を含ませた感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりドットのパターンに対応する隔壁を形成する方法が知られている。例えば、特許文献１や特許文献２には、含フッ素加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物からなるシリコーン系の撥インク剤を含むネガ型感光性樹脂組成物が開示されている。
　このような撥インク剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する場合、該組成物の塗膜の隔壁相当部分を露光した後、現像により開口部に相当する組成物が除去される。この際、開口部からネガ型感光性樹脂組成物を完全に除去することは困難であり、通常、開口部には若干の残渣が存在する。このネガ型感光性樹脂組成物の残渣の存在により開口部の親インク性が低下して、インクの均一塗布に支障をきたすことが問題であった。
国際公開第２０１０／０１３８１６号 国際公開第２０１４／０４６２０９号
　上記開口部におけるネガ型感光性樹脂組成物の残渣については、残渣の量よりも用いるネガ型感光性樹脂組成物の種類、より詳細にはネガ型感光性樹脂組成物が含有する撥インク剤の種類によって、開口部における親インク性の程度が異なることを本発明者らは確認した。
　そこで、上記開口部における親インク性を良好とする観点からネガ型感光性樹脂組成物に配合する撥インク剤を選択すると、該撥インク剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物においては貯蔵安定性が充分でないことが問題になった。また、同様の問題がポジ型感光性樹脂組成物にも存在した。
　本発明は、これを含有する感光性樹脂組成物の貯蔵安定性が充分であるとともに、上面に良好な撥インク性を有する隔壁と親インク性が良好な開口部を形成可能な感光性樹脂組成物の作製が可能な撥インク剤の提供を目的とする。
　本発明は、貯蔵安定性が良好であり、上面の撥インク性が良好な隔壁と親インク性が良好な開口部の形成が可能なネガ型感光性樹脂組成物の提供を目的とする。
　本発明は、上面に良好な撥インク性を有する隔壁の提供を目的とする。
　本発明は、また、隔壁で仕切られた開口部にインクが均一塗布され精度よく形成されたドットを有する光学素子の提供を目的とする。
　本発明は、以下の構成を有する、撥インク剤、ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁および光学素子を提供する。
［１］基板表面をドット形成用の複数の区画に仕切る形に形成される隔壁の上面に撥インク性を付与する撥インク剤であって、
　フッ素原子含有単位と、加熱により脱ブロックしてイソシアネート基を生成しうるブロックイソシアネート基含有単位とを有し、フッ素原子の含有率が１～４０質量％の重合体からなる、撥インク剤。
［２］前記ブロックイソシアネート基が脱ブロックしてイソシアネート基となる１０時間半減期温度が６０～１８０℃である、［１］の撥インク剤。
［３］前記ブロックイソシアネート基が下記式（１）で示される、［１］または［２］の撥インク剤。
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｂ　　…（１）
（式（１）中、Ｂは１価アルコール類、フェノール類、ラクタム類、オキシム類、アセト酢酸アルキルエステル類、マロン酸アルキルエステル類、フタルイミド類、イミダゾール類もしくは、ピラゾール類が有する活性水素の１つを除いた基；塩素原子もしくはニトリル基；または亜硫酸水素ナトリウムの水素を除いた基である。）
［４］Ｂが、オキシム類の水酸基の水素原子を除いた基、または、ピラゾール類の環を構成する窒素原子に結合した活性水素を除いた基である、［３］の撥インク剤。
［５］前記重合体が炭化水素鎖を主鎖とし、質量平均分子量が５×１０３～１×１０５の範囲にある重合体であり、前記フッ素原子含有単位がエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキレン基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基を有する単位である、［１］～［４］のいずれかの撥インク剤。
［６］前記重合体が、さらに、酸性基を有する単位、エチレン性二重結合を有する単位、水酸基を有する単位およびポリオキシアルキレン鎖を有する単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の単位を有する、［５］の撥インク剤。
［７］前記重合体が加水分解性シラン化合物の部分加水分解縮合物であり、前記フッ素原子含有単位が、エーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキレン基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基を有する基がケイ素原子に結合したシロキサン単位である、［１］～［４］のいずれかの撥インク剤。
［８］前記部分加水分解縮合物が、フッ素原子含有基を有する加水分解性シラン化合物とブロックシソシアネート基を有する加水分解性シラン化合物とを含む加水分解性シラン化合物混合物の部分加水分解縮合物であって、該加水分解性シラン化合物混合物は、任意に、ケイ素原子に４個の加水分解性基が結合した加水分解性シラン化合物、エチレン性二重結合を有する基を有しかつフッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物、ケイ素原子に結合した炭化水素基のみを有する加水分解性シラン化合物およびメルカプト基を有しかつフッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の加水分解性シラン化合物を含む、［７］の撥インク剤。
［９］前記基板の少なくとも前記隔壁が形成される表面が、イソシアネート基と反応性を有する官能基を有する、［１］～［８］のいずれかの撥インク剤。
［１０］光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂または光硬化性を有するアルカリ可溶性単量体と、光重合開始剤と、［１］～［８］のいずれかの撥インク剤と、を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
［１１］さらに、黒色着色剤を含有する、［１０］のネガ型感光性樹脂組成物。
［１２］基板表面をドット形成用の複数の区画に仕切る形に形成された隔壁であって、［１０］または［１１］のネガ型感光性樹脂組成物の硬化物からなる隔壁。
［１３］前記隔壁が、イソシアネート基と反応性を有する官能基を有する基板上に形成されている、［１２］の隔壁。
［１４］基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する隔壁とを有する光学素子であって、前記隔壁が［１２］または［１３］の隔壁で形成されていることを特徴とする光学素子。
［１５］前記ドットがインクジェット法で形成されている、［１４］の光学素子。
　本発明によれば、これを含有する感光性樹脂組成物の貯蔵安定性が充分であるとともに、上面に良好な撥インク性を有する隔壁と親インク性が良好な開口部を形成可能な感光性樹脂組成物の作製が可能な撥インク剤が提供できる。
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、貯蔵安定性が良好であり、これを用いれば上面の撥インク性が良好な隔壁と親インク性が良好な開口部の形成が可能である。
　本発明の隔壁は、上面に良好な撥インク性を有する。
　本発明の光学素子は、隔壁で仕切られた開口部にインクが均一塗布され精度よく形成されたドットを有する光学素子である。
本発明の実施形態の隔壁の製造方法を模式的に示す工程図である。 本発明の実施形態の隔壁の製造方法を模式的に示す工程図である。 本発明の実施形態の隔壁の製造方法を模式的に示す工程図である。 本発明の実施形態の隔壁の製造方法を模式的に示す工程図である。 本発明の実施形態の光学素子の製造方法を模式的に示す工程図である。 本発明の実施形態の光学素子の製造方法を模式的に示す工程図である。
　本明細書において、「（メタ）アクリロイル基」は、「メタクリロイル基」と「アクリロイル基」の総称である。（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、および（メタ）アクリル樹脂もこれに準じる。
　本明細書において、式（ｘ）で表される基を、単に基（ｘ）と記載することがある。
　本明細書において、式（ｙ）で表される化合物を、単に化合物（ｙ）と記載することがある。
　ここで、式（ｘ）、式（ｙ）は、任意の式を示している。
　本明細書における「側鎖」とは、炭素原子からなる繰り返し単位が主鎖を構成する重合体において、主鎖を構成する炭素原子に結合する、水素原子およびハロゲン原子以外の基である。フッ素原子含有単位等の「単位」は重合単位を示す。
　本明細書において、数平均分子量（Ｍｎ）および質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に断りのない限り、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により、ポリスチレンを標準物質として、測定されたものをいう。
　本明細書における「感光性樹脂組成物の全固形分」とは、感光性樹脂組成物が含有する成分のうち後述する硬化膜を形成する成分を指し、感光性樹脂組成物を１４０℃で２４時間加熱して溶媒を除去した残存物から求める。なお、全固形分量は仕込み量からも計算できる。
　本明細書においては、樹脂を主成分とする組成物の硬化物からなる膜を「樹脂硬化膜」という。
　本明細書においては、感光性樹脂組成物を塗布した膜を「塗膜」、それを乾燥させた膜を「乾燥膜」という。該「乾燥膜」を硬化させて得られる膜は「樹脂硬化膜」である。また、本明細書においては、「樹脂硬化膜」を単に「硬化膜」ということもある。
　「隔壁」は、所定の領域を複数の区画に仕切る形に形成された樹脂硬化膜の一形態である。隔壁で仕切られた区画、すなわち隔壁で囲まれた開口部に、例えば、以下の「インク」が注入され、「ドット」が形成される。
　本明細書における「インク」とは、乾燥、硬化等した後に、光学的および／または電気的な機能を有する液体を総称する用語である。
　有機ＥＬ素子、液晶素子のカラーフィルタおよびＴＦＴ（Thin Film Transistor）アレイ等の光学素子においては、各種構成要素としてのドットを、該ドット形成用のインクを用いてインクジェット（ＩＪ）法によりパターン印刷することがある。本明細書における「インク」には、かかる用途に用いられるインクが含まれる。
　本明細書における「撥インク性」とは、上記インクをはじく性質であり、撥水性と撥油性の両方を有する。撥インク性は、例えば、インクを滴下したときの接触角により評価できる。「親インク性」は撥インク性と相反する性質であり、撥インク性と同様にインクを滴下したときの接触角により評価できる。または、インクを滴下したときのインクの濡れ広がりの程度（インクの濡れ広がり性）を所定の基準で評価することにより親インク性が評価できる。
　本明細書における「ドット」とは、光学素子における光変調可能な最小領域を示す。有機ＥＬ素子、液晶素子のカラーフィルタ、およびＴＦＴアレイ等の光学素子においては、白黒表示の場合に１ドット＝１画素であり、カラー表示の場合に例えば３ドット（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）等）＝１画素である。
　以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本明細書において特に説明のない場合、％は質量％を表す。
［撥インク剤］
　本発明の撥インク剤は、基板表面をドット形成用の複数の区画に仕切る形に形成される隔壁の上面に撥インク性を付与する撥インク剤であって、フッ素原子含有単位と、加熱により脱ブロックしてイソシアネート基を生成しうるブロックイソシアネート基含有単位とを有し、フッ素原子の含有率が１～４０質量％の重合体からなる。
　なお、本明細書において、本発明の撥インク剤を撥インク剤（Ｃ）ともいう。また、撥インク剤（Ｃ）として使用される上記特性を有する重合体を重合体（Ｃ）という。
　撥インク剤（Ｃ）が適用される隔壁は特に限定されない。撥インク剤（Ｃ）は、好ましくは、感光性樹脂組成物に含有され、該組成物を基板に塗布後、後述のようにして隔壁を形成する過程で組成物層の上面に移行し、得られる隔壁の上面を含む上層部に撥インク剤（Ｃ）が密に存在する層（以下、「撥インク層」ということもある。）を形成することで、隔壁上面に撥インク性を付与する形態で用いられる。上記感光性樹脂組成物は、ポジ型であっても、ネガ型であってもよい。
　重合体（Ｃ）は、フッ素原子を１～４０質量％の割合で含有することで、組成物層の上面に移行する性質（上面移行性）および撥インク性を有し、得られる隔壁の上面に良好な撥インク性を付与できる。重合体（Ｃ）中のフッ素原子の含有率は、５～３５質量％が好ましく、１０～３０質量％が特に好ましい。重合体（Ｃ）のフッ素原子の含有率が上記範囲の下限値以上であると、隔壁上面に良好な撥インク性を付与でき、上限値以下であると、感光性樹脂組成物中の他の成分との相溶性が良好になる。
　また、重合体（Ｃ）は加熱により脱ブロックしてイソシアネート基を生成しうるブロックイソシアネート基（以下、単に「ブロックイソシアネート基」ともいう。）を有することで、上記脱ブロックが生じる温度未満では反応性が抑制されることから、撥インク剤として、または感光性樹脂組成物に含有されて貯蔵される際には、貯蔵安定性を向上できる。さらに、使用時に加熱により脱ブロックさせてイソシアネート基とすることで、重合体（Ｃ）の反応性が向上し、他の成分や、他の材料との結合性や密着性が向上する。これにより、隔壁に囲まれた開口部において感光性樹脂組成物の残渣がインクの濡れ広がり性を阻害するのを抑制し、親インク性を良好にできる。
　このような観点から、撥インク剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物を用いて基板表面に隔壁を形成する場合の基板としては、少なくとも隔壁が形成される表面がイソシアネート基と反応性を有する官能基、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、メルカプト基等を有することが好ましい。すなわち、撥インク剤（Ｃ）は、例えば、感光性樹脂組成物に含有されて用いられる際に、少なくとも隔壁が形成される表面がイソシアネート基と反応性を有する官能基を有する基板に用いられる場合に、特に効果を発揮できる。隔壁が形成される基板表面がイソシアネート基と反応性を有する官能基を有することで、開口部において基板表面と撥インク剤（Ｃ）との密着性が向上し、開口部に感光性樹脂組成物の残渣を有する場合においても、開口部の親インク性が確保されると考えられるためである。
　加熱により脱ブロックしてイソシアネート基を生成しうるブロックイソシアネート基は、具体的には、イソシアネート基を活性水素含有化合物（ブロック剤）と反応させて常温で不活性化した官能基であり、これを加熱するとブロック剤が解離してイソシアネート基が再生されるという性質をもつものである。
　なお、該ブロックイソシアネート基が脱ブロックしてイソシアネート基となる１０時間半減期温度は、６０～１８０℃であることが好ましく、８０～１５０℃がより好ましい。該ブロックイソシアネート基の１０時間半減期温度が上記範囲であれば、親インク性が良好である。
　このようなブロックイソシアネート基として、具体的には、下記式（１）で示される基が挙げられる。
　－ＮＨＣ(＝Ｏ)－Ｂ　　…（１）
（式（１）中、Ｂは１価アルコール類、フェノール類、ラクタム類、オキシム類、アセト酢酸アルキルエステル類、マロン酸アルキルエステル類、フタルイミド類、イミダゾール類もしくは、ピラゾール類が有する活性水素の１つを除いた基；塩素原子もしくはニトリル基；または亜硫酸水素ナトリウムの水素を除いた基である。）
　上記において、１価アルコール類、フェノール類、オキシム類は、これらが有するヒドロキシ基の水素が活性水素である。アセト酢酸アルキルエステル類、マロン酸アルキルエステル類は、メチレン活性水素を有する化合物である。ラクタム類、フタルイミド類、イミダゾール類、ピラゾール類は、アミノ活性水素を有する化合物である。
　１価アルコール類としては、炭素数１～１０の直鎖状または分岐状の１価アルコールが挙げられ、メタノール、エタノール等が好ましい。フェノール類としては、芳香環に結合する水素の１個がヒドロキシ基に置換した炭素数６～１５のフェノール化合物が挙げられ、フェノール、クレゾール等が好ましい。
　ラクタム類としては、員数が３～６のラクタムが挙げられる。オキシム類としては、＞Ｃ＝Ｎ－ＯＨ基を有する炭素数１～６のアルドオキシムまたは炭素数３～９のケトオキシムが挙げられ、Ｒｋ１Ｒｋ２Ｃ＝Ｎ－ＯＨ（Ｒｋ１およびＲｋ２は、それぞれ独立に炭素数１～４のアルキル基を示す。）で表される炭素数３～７のケトオキシムが好ましい。
　アセト酢酸アルキルエステル類およびマロン酸アルキルエステル類のアルキル基部分は、それぞれ炭素数１～４の直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。
　フタルイミド類としては、フタルイミドおよびフタルイミド環の炭素原子に結合する水素原子が炭素数１～６の直鎖状または分岐状のアルキル基で置換されたフタルイミド誘導体等が挙げられる。イミダゾール類としては、イミダゾールおよびイミダゾール環の炭素原子に結合する水素原子が炭素数１～６の直鎖状または分岐状のアルキル基で置換されたイミダゾール誘導体等が挙げられる。ピラゾール類としては、ピラゾールおよびピラゾール環の炭素原子に結合する水素原子が炭素数１～６の直鎖状または分岐状のアルキル基で置換されたピラゾール誘導体等が挙げられる。
　これらのうちでも、オキシム類、ピラゾール類が好ましく、ピラゾール類が特に好ましい。オキシム類の場合、－Ｂは、オキシム類の水酸基の水素原子を除いた基であり、ピラゾール類の場合、－Ｂはピラゾール類の環を構成する窒素原子に結合した水素原子を除いた基である。特に好ましい－Ｂとして、下記式（ｂ１）に示す基および下記式（ｂ２）に示す基等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　ここで、例えば、基（１）のうちでも、－Ｂが基（ｂ１）である－ＮＨＣ(＝Ｏ)－(ｂ１)、－Ｂが基（ｂ２）である－ＮＨＣ(＝Ｏ)－(ｂ２)についての１０時間半減期温度は、それぞれ１１０℃および１４０℃である。
　重合体（Ｃ）は、上記フッ素原子をフッ素原子含有単位として、ブロックイソシアネート基をブロックイソシアネート基含有単位としてそれぞれ含有する。重合体（Ｃ）において、フッ素原子含有単位とブロックイソシアネート基含有単位は同一の単位、すなわちフッ素原子とブロックイソシアネート基を同一の単位に有するものであってもよいが、通常はフッ素原子含有単位とブロックイソシアネート基含有単位は異なる単位である。
　このような重合体（Ｃ）としては、例えば、フッ素原子含有基を有する加水分解性シラン化合物とブロックイソシアネート基含有加水分解性シラン化合物を含む加水分解性シラン化合物混合物の部分加水分解縮合物からなる重合体（以下、重合体（Ｃ１）という）、主鎖が炭化水素鎖であり、フッ素原子を含む側鎖を有する単位と、ブロックイソシアネート基を有する単位を有する重合体（以下、重合体（Ｃ２）という）等が挙げられる。
　なお、重合体（Ｃ）における、ブロックイソシアネート基の含有量は、重合体（Ｃ１）および重合体（Ｃ２）によらず、０．２ｍｍｏｌ／ｇ～４ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．３ｍｍolｏｌ／ｇ～４ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。
＜重合体（Ｃ１）＞
　重合体（Ｃ１）は、加水分解性シラン化合物混合物（以下、「混合物（Ｍ）」ともいう。）の部分加水分解縮合物である。該混合物（Ｍ）は、フッ素原子含有基を有する加水分解性シラン化合物、例えば、エーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキレン基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基と加水分解性基とを有する加水分解性シラン化合物（以下、「化合物（ｓ１）」ともいう。）とブロックシソシアネート基を有する加水分解性シラン化合物（以下、「化合物（ｓ２）」ともいう。）を必須成分として含み、任意に化合物（ｓ１）、（ｓ２）以外の加水分解性シラン化合物を含む。混合物（Ｍ）が任意に含有する加水分解性シラン化合物としては、以下の加水分解性シラン化合物（ｓ３）～（ｓ６）（以降、それぞれ「化合物（ｓ３）」、「化合物（ｓ４）」、「化合物（ｓ５）」、「化合物（ｓ６）」ともいう。）が挙げられる。混合物（Ｍ）が任意に含有する加水分解性シラン化合物としては、化合物（ｓ３）が特に好ましい。
　加水分解性シラン化合物（ｓ３）；ケイ素原子に４個の加水分解性基が結合した加水分解性シラン化合物。
　加水分解性シラン化合物（ｓ４）；エチレン性二重結合を有する基と加水分解性基とを有し、フッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物。
　加水分解性シラン化合物（ｓ５）；ケイ素原子に結合する基として炭化水素基と加水分解性基のみを有する加水分解性シラン化合物（ただし、加水分解性シラン化合物（ｓ４）に含まれるものは除く）。
　加水分解性シラン化合物（ｓ６）；メルカプト基と加水分解性基とを有し、フッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物。
　以下、化合物（ｓ１）～（ｓ６）について説明する。
＜１＞化合物（ｓ１）
　化合物（ｓ１）を用いることで、重合体（Ｃ１）はフッ素原子を、エーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキレン基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基の形で有し、優れた上面移行性と撥インク性を有する。
　化合物（ｓ１）が有するこれらの性質をより高いレベルとするためには、化合物（ｓ１）は、フルオロアルキル基、ペルフルオロアルキレン基およびペルフルオロアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を有することがより好ましく、ペルフルオロアルキル基を有することが特に好ましい。なお、これらの含フッ素炭化水素基はエーテル性酸素原子を含んでいてもよく、エーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基も好ましい。すなわち、化合物（ｓ１）として最も好ましい化合物は、ペルフルオロアルキル基および／またはエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基を有する化合物である。
　加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアネート基、アミノ基、アミノ基の少なくとも１つの水素がアルキル基で置換された基等が挙げられる。加水分解反応により水酸基（シラノール基）となり、さらに分子間で縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する反応が円滑に進みやすい点から、炭素原子数１～４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、メトキシ基、エトキシ基または塩素原子がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
　化合物（ｓ１）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　化合物（ｓ１）としては、下式（ｃｘ－１）で表される化合物が好ましい。
　(Ａ－ＲＦ１１)ａ－Ｓｉ(ＲＨ１１)ｂＸ１１ (４－ａ－ｂ)　　…（ｃｘ－１）
　式（ｃｘ－１）中、各記号は以下のとおりである。
　ＲＦ１１は、少なくとも１つのフルオロアルキレン基を含む、エーテル性酸素原子を含んでいてもよい炭素原子数１～１６の２価の有機基である。ただし、ＲＦ１１のＡに結合する末端原子およびＳｉに結合する末端原子はいずれも炭素原子である。
　ＲＨ１１は炭素原子数１～６の炭化水素基である。
　ａは１または２、ｂは０または１、ａ＋ｂは１または２である。
　Ａはフッ素原子または下式（Ｉａ）で表される基である。
　－Ｓｉ(ＲＨ１２)ｃＸ１２ (３－ｃ)　　…（Ｉａ）
　ＲＨ１２は炭素原子数１～６の炭化水素基である。
　ｃは０または１である。
　Ｘ１１およびＸ１２は加水分解性基である。
　Ｘ１１が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ｘ１２が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ａ－ＲＦ１１が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　化合物（ｃｘ－１）は、２または３官能性の加水分解性シリル基を１個または２個有する含フッ素加水分解性シラン化合物である。
　ＲＨ１１およびＲＨ１２は、炭素原子数１～３の炭化水素基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
　式（ｃｘ－１）中、ａが１であり、ｂが０または１であることが特に好ましい。
　Ｘ１１およびＸ１２の具体例および好ましい様態は上記のとおりである。
　化合物（ｓ１）としては、下式（ｃｘ－１ａ）で表される化合物が特に好ましい。
　Ｔ－ＲＦ１２－Ｑ１１－ＳｉＸ１１ ３　　…（ｃｘ－１ａ）
　式（ｃｘ－１ａ）中、各記号は以下のとおりである。
　ＲＦ１２は炭素原子数２～１５のエーテル性酸素原子を含んでいてもよいペルフルオロアルキレン基である。
　Ｔはフッ素原子または下式（Ｉｂ）で表される基である。
　－Ｑ１２－ＳｉＸ１２ ３　　…（Ｉｂ）
　Ｘ１１およびＸ１２は加水分解性基である。
　３個のＸ１１は互いに異なっていても同一であってもよい。
　３個のＸ１２は互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ｑ１１およびＱ１２は炭素原子数１～１０のフッ素原子を含まない２価の有機基を示す。
　式（ｃｘ－１ａ）において、Ｔがフッ素原子である場合、ＲＦ１２は、炭素原子数４～８のペルフルオロアルキレン基、または炭素原子数４～１０のエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素原子数４～８のペルフルオロアルキレン基がより好ましく、炭素原子数６のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
　また、式（ｃｘ－１ａ）において、Ｔが基（Ｉｂ）である場合、ＲＦ１２は、炭素原子数３～１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素原子数３～１５のエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素原子数４～６のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
　ＲＦ１２が上記例示した基であると、重合体（Ｃ１)が良好な撥インク性を有し、かつ、化合物（ｃｘ－１ａ）は溶媒への溶解性に優れる。
　ＲＦ１２の構造としては、直鎖構造、分岐構造、環構造、部分的に環を有する構造等が挙げられ、直鎖構造が好ましい。
　ＲＦ１２の具体例としては、国際公開第２０１４／０４６２０９号（以下、ＷＯ２０１４／０４６２０９という）の例えば、段落［００４３］に記載されたもの等が挙げられる。
　Ｑ１１およびＱ１２は、右側の結合手にＳｉが、左側の結合手にＲＦ１２がそれぞれ結合するとして表示した場合、具体的には、－(ＣＨ２)ｉ１－（ｉ１は１～５の整数。）、－ＣＨ２Ｏ(ＣＨ２)ｉ２－（ｉ２は１～４の整数。）、－ＳＯ２ＮＲ１－(ＣＨ２)ｉ３－（Ｒ１は水素原子、メチル基、またはエチル基であり、ｉ３は１～４の整数であり、Ｒ１と(ＣＨ２)ｉ３との炭素原子数の合計は４以下の整数である。）、または－(Ｃ＝Ｏ)－ＮＲ１－(ＣＨ２)ｉ４－（Ｒ１は上記と同様であり、ｉ４は１～４の整数であり、Ｒ１と(ＣＨ２)ｉ４との炭素原子数の合計は４以下の整数である。）で表される基が好ましい。Ｑ１１およびＱ１２としては、ｉ１が２～４の整数である－(ＣＨ２)ｉ１－がより好ましく、－(ＣＨ２) ２－が特に好ましい。
　なお、ＲＦ１２がエーテル性酸素原子を含まないペルフルオロアルキレン基である場合、Ｑ１１およびＱ１２としては、－(ＣＨ２)ｉ１－で表される基が好ましい。ｉ１は２～４の整数がより好ましく、ｉ１は２が特に好ましい。
　ＲＦ１２がエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基である場合、Ｑ１１およびＱ１２としては、－(ＣＨ２)ｉ１－、－ＣＨ２Ｏ(ＣＨ２)ｉ２－、－ＳＯ２ＮＲ１－(ＣＨ２)ｉ３－、または－(Ｃ＝Ｏ)－ＮＲ１－(ＣＨ２)ｉ４－で表される基が好ましい。この場合においても、－(ＣＨ２)ｉ１－がより好ましく、ｉ１が２～４の整数がさらに好ましく、ｉ１は２が特に好ましい。
　Ｔがフッ素原子の場合、化合物（ｃｘ－１ａ）の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００４６］に記載されたもの等が挙げられる。
　Ｔが基（Ｉｂ）である場合、化合物（ｃｘ－１ａ）の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００４７］に記載されたもの等が挙げられる。
　本発明において、化合物（ｃｘ－１ａ）としては、なかでも、Ｆ(ＣＦ２)６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ(ＯＣＨ３)３、および、Ｆ(ＣＦ２)３ＯＣＦ(ＣＦ３)ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２)２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ(ＯＣＨ３)３が特に好ましい。
　混合物（Ｍ）における化合物（ｓ１）の含有割合は、該混合物から得られる部分加水分解縮合物におけるフッ素原子の含有率が１～４０質量％、より好ましくは５～３５質量％、特に好ましくは１０～３０質量％であることが好ましい。化合物（ｓ１）の含有割合が上記範囲の下限値以上であると、硬化膜の上面に良好な撥インク性を付与でき、上限値以下であると、該混合物中の他の加水分解性シラン化合物との相溶性が良好になる。
＜２＞化合物（ｓ２）
　本発明における混合物（Ｍ）に化合物（ｓ２）を含ませることで、撥インク剤として、または感光性樹脂組成物に含有されて貯蔵される際には、貯蔵安定性を向上できる。さらに、使用時に加熱により脱ブロックさせてイソシアネート基とすることで、重合体（Ｃ）の反応性が向上し、他の成分や、他の材料との結合性や密着性が向上する。これにより、隔壁に囲まれた開口部において感光性樹脂組成物の残渣がインクの濡れ広がり性を阻害するのを抑制し、親インク性を良好にできる。化合物（ｓ２）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　加水分解性基としては、化合物（ｓ１）の加水分解性基と同様のものを用いることができる。
　化合物（ｓ２）は、下式（ｃｘ－２）で表すことができる。
(ＢＩ－Ｑ２)ｄ－Ｓｉ(ＲＨ２)ｅＸ２ （４－ｄ－ｅ）　　…（ｃｘ－２）
　式（ｃｘ－２）中の記号は、以下のとおりである。
　ＢＩはブロックシソシアネート基である。
　Ｑ２は炭素原子数１～６のフッ素原子を含まない２価の有機基である。ただし、Ｑ２のＳｉに結合する末端原子は炭素原子である。
　ＲＨ２は炭素原子数１～６の炭化水素基である。
　Ｘ２は加水分解性基である。
　ｄは１または２、ｅは０または１、ｄ＋ｅは１または２である。
　ＢＩ－Ｑ２が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ｘ２が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　ＲＨ２としては、前記ＲＨ１１およびＲＨ１２と同様の基が用いられる。
　Ｘ２としては、前記Ｘ１１およびＸ１２と同様の基が用いられる。
　ＢＩとしては、上記基（１）が挙げられ、好ましい態様についても基（１）と同様である。
　ｄが１であり、ｅが０または１であることが好ましい。
　化合物（ｃｘ－２）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　化合物（ｃｘ－２）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　混合物（Ｍ）における化合物（ｓ２）の含有割合は、化合物（ｓ１）の１モルに対して、０．５～６モルが好ましく、０．５～５モルが特に好ましい。さらに、混合物（Ｍ）における化合物（ｓ２）の含有割合は、該混合物から得られる部分加水分解縮合物、すなわち重合体（Ｃ１）におけるブロックイソシアネート基の含有量が上記範囲となる割合であることが好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、貯蔵安定性と開口部の親インク性が良好である。上限値以下であると重合体（Ｃ１）中のフッ素原子の含有率が高く良好な撥インク性を付与できる。
＜３＞化合物（ｓ３）
　本発明における混合物（Ｍ）に化合物（ｓ３）を含ませることで、例えば、重合体（Ｃ１)を含む感光性樹脂組成物を用いて得られる隔壁において、重合体（Ｃ１）が上面移行した後の造膜性を高められる。すなわち、化合物（ｓ３）中の加水分解性基の数が多いことから、上面移行した後に重合体（Ｃ１）同士が良好に縮合し、上面全体に薄い膜を形成して撥インク層となると考えられる。
　また、混合物（Ｍ）に化合物（ｓ３）を含ませることで、重合体（Ｃ１)は炭化水素系の溶媒に溶解しやすくなる。
　化合物（ｓ３）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　加水分解性基としては、化合物（ｓ１）の加水分解性基と同様のものを用いることができる。
　化合物（ｓ３）は、下式（ｃｘ－３）で表すことができる。
　ＳｉＸ３ ４　　…（ｃｘ－３）
　式（ｃｘ－３）中、Ｘ３は加水分解性基を示し、４個のＸ３は互いに異なっていても同一であってもよい。Ｘ３としては、前記Ｘ１１およびＸ１２と同様の基が用いられる。
　化合物（ｃｘ－３）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。また、化合物（ｃｘ－３）として、必要に応じてその複数個を予め部分加水分解縮合して得た部分加水分解縮合物を用いてもよい。
　Ｓｉ(ＯＣＨ３)４、Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５)４、Ｓｉ(ＯＣＨ３)４の部分加水分解縮合物、Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５)４の部分加水分解縮合物。
　混合物（Ｍ）が化合物（ｓ３）を含む場合、混合物（Ｍ）における化合物（ｓ３）の含有割合は、化合物（ｓ１）の１モルに対して、０．０１～５モルが好ましく、０．０５～３モルが特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、重合体（Ｃ１）の造膜性が良好であり、上限値以下であると重合体（Ｃ１）の撥インク性が良好である。
＜４＞化合物（ｓ４）
　本発明における混合物（Ｍ）に、化合物（ｓ４）を含ませることで、エチレン性二重結合を有する基を介して重合体（Ｃ１）同士あるいは重合体（Ｃ１）と、例えば、感光性樹脂組成物が含有するエチレン性二重結合を有する他成分との（共）重合が可能となり好ましい。これにより、上に説明したとおり、撥インク層における重合体（Ｃ１）の定着性を高める効果が得られる。
　化合物（ｓ４）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　加水分解性基としては、化合物（ｓ１）の加水分解性基と同様のものを用いることができる。
　エチレン性二重結合を有する基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ノルボルニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
　化合物（ｓ４）としては、下式（ｃｘ－４）で表される化合物が好ましい。
　(Ｙ－Ｑ４)ｇ－Ｓｉ(ＲＨ４)ｈＸ４ (４－ｇ－ｈ)　　…（ｃｘ－４）
　式（ｃｘ－４）中の記号は、以下のとおりである。
　Ｙはエチレン性二重結合を有する基である。
　Ｑ４は炭素原子数１～６のフッ素原子を含まない２価の有機基である。ただし、Ｑ４のＳｉに結合する末端原子は炭素原子である。
　ＲＨ４は炭素原子数１～６の炭化水素基である。
　Ｘ４は加水分解性基である。
　ｇは１または２、ｈは０または１、ｇ＋ｈは１または２である。
　Ｙ－Ｑ４が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ｘ４が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　ＲＨ４としては、前記ＲＨ１１およびＲＨ１２と同様の基が用いられる。
　Ｘ４としては、前記Ｘ１１およびＸ１２と同様の基が用いられる。
　Ｙとしては、（メタ）アクリロイルオキシ基またはビニルフェニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
　Ｑ４の具体例としては、炭素原子数２～６のアルキレン基、フェニレン基等が挙げられる。なかでも、－(ＣＨ２)３－が好ましい。
　ｇが１であり、ｈが０または１であることが好ましい。
　化合物（ｃｘ－４）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　化合物（ｃｘ－４）の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００５７］に記載されたもの等が挙げられる。
　混合物（Ｍ）が化合物（ｓ４）を含む場合、混合物（Ｍ）における化合物（ｓ４）の含有割合は、化合物（ｓ１）の１モルに対して、０．１～５モルが好ましく、０．５～４モルが特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、重合体（Ｃ１）の上面移行性が良好であり、また、上面移行後に上面を含む撥インク層において、重合体（Ｃ１)の定着性が良好であり、さらに、撥インク剤（Ｃ１）の貯蔵安定性が良好である。上限値以下であると重合体（Ｃ１）の撥インク性が良好である。
＜５＞化合物（ｓ５）
　本発明の混合物（Ｍ）において化合物（ｓ３）を用いる場合、例えば、感光性樹脂組成物を硬化してなる隔壁において、その上面の端部に盛り上がりが形成される場合がある。これは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等によって観察されるレベルの微小なものである。本発明者は、この盛り上がりにおいて、他の部分よりもＦおよび／またはＳｉの含有量が多いことを確認した。
　上記盛り上がりは、隔壁等として特に支障をきたすものではないが、本発明者は、化合物（ｓ３）の一部を加水分解性基の数の少ない化合物（ｓ５）に置き換えることで、上記盛り上がりの発生が抑えられることを見出した。
　加水分解性基の数の多い化合物（ｓ３）によって生成されるシラノール基同士の反応により、重合体（Ｃ１）の造膜性は増す。しかしながら、その高い反応性のために、上記盛り上がりが起こると考えられる。そこで、化合物（ｓ３）の一部を加水分解性基の数の少ない化合物（ｓ５）に置き換えることで、シラノール基同士の反応が抑えられ、上記盛り上がりの発生が抑えられると考えられる。
　化合物（ｓ５）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　加水分解性基としては、化合物（ｓ１）の加水分解性基と同様のものを用いることができる。
　化合物（ｓ５）としては、下式（ｃｘ－５）で表される化合物が好ましい。
　(ＲＨ５)ｊ－ＳｉＸ５ (４－ｊ)　　…（ｃｘ－５）
　式（ｃｘ－５）中、各記号は以下のとおりである。
　ＲＨ５は炭素原子数１～２０の炭化水素基である。
　Ｘ５は加水分解性基である。
　ｊは１～３の整数であり、好ましくは２または３である。
　ＲＨ５が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ｘ５が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　ＲＨ５としては、ｊが１の場合には、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基または炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基が挙げられ、炭素原子数１～１０のアルキル基、フェニル基等が好ましい。ｊが２または３の場合には、ＲＨ５は炭素原子数１～６の炭化水素基が好ましく、炭素原子数１～３の炭化水素基がより好ましい。
　Ｘ５としては、前記Ｘ１１およびＸ１２と同様の基が用いられる。
　化合物（ｃｘ－５）の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００６３］に記載されたもの等が挙げられる。
　混合物（Ｍ）が化合物（ｓ５）を含む場合、混合物（Ｍ）における化合物（ｓ５）の含有割合は、化合物（ｓ１）の１モルに対して、０．０５～５モルが好ましく、０．３～３モルが特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、隔壁上面の端部の盛り上がりを抑制できる。上限値以下であると重合体（Ｃ１）の撥インク性が良好である。
＜６＞化合物（ｓ６）
　化合物（ｓ６）を用いることで、例えば、感光性樹脂組成物において、より低露光量での硬化が可能となる。化合物（ｓ６）中のメルカプト基が連鎖移動性を有し、上記アルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶性単量体や重合体（Ｃ１）がエチレン性二重結合を有する場合には、重合体（Ｃ１）自身が有するエチレン性二重結合等と結び付きやすく、光硬化を促進させるためと考えられる。
　また、メルカプト基を含む化合物（ｓ６）はｐＫａが１０程度であり、アルカリ溶液中で脱プロトン、すなわち解離しやすい。ここで、ｐＫａ＝－ｌｏｇ１０Ｋａで表され、式中、Ｋａは酸解離定数を示す。そのため、メルカプト基が、感光性樹脂組成物の現像時のアルカリ可溶性を高めると考えられる。
　化合物（ｓ６）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　加水分解性基としては、化合物（ｓ１）の加水分解性基と同様のものを用いることができる。
　化合物（ｓ６）としては、下式（ｃｘ－６）で表される化合物が好ましい。
　(ＨＳ－Ｑ６)ｐ－Ｓｉ(ＲＨ６)ｑＸ６ (４－ｐ－ｑ)　　…（ｃｘ－６）
　式（ｃｘ－６）中、各記号は以下のとおりである。
　Ｑ６は炭素原子数１～１０のフッ素原子を含まない２価の有機基である。ただし、Ｑ６のＳｉに結合する末端原子は炭素原子である。
　ＲＨ６は炭素原子数１～６の炭化水素基である。
　Ｘ６は加水分解性基である。
　ｐは１または２、ｑは０または１、ｐ＋ｑは１または２である。
　ＨＳ－Ｑ６が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ｘ６が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。
　Ｘ６としては、前記Ｘ１１およびＸ１２と同様の基が用いられる。
　Ｑ６としては、炭素原子数１～１０のアルキレン基が好ましく、炭素原子数１～５のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数１～３のアルキレン基が特に好ましい。
　ＲＨ６としては、前記ＲＨ１１およびＲＨ１２と同様の基が用いられる。
　化合物（ｃｘ－６）の具体例としては、ＨＳ－(ＣＨ２)３－Ｓｉ(ＯＣＨ３)３、ＨＳ－(ＣＨ２)３－Ｓｉ(ＣＨ３)(ＯＣＨ３)２等が挙げられる。
　混合物（Ｍ）が化合物（ｓ６）を含む場合、混合物（Ｍ）における化合物（ｓ６）の含有割合は、化合物（ｓ１）の１モルに対して、０．１２５～１８モルが好ましく、０．１２５～８モルが特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、例えば、感光性樹脂組成物において、より低露光量での硬化が可能となる。また、アルカリ可溶性が高められ現像性が良好である。上限値以下であると重合体（Ｃ１）の撥インク性が良好である。
＜７＞その他の加水分解性シラン化合物
　混合物（Ｍ）は、任意に化合物（ｓ１）～（ｓ６）以外の加水分解性シラン化合物を１種または２種以上含むことができる。
　その他の加水分解性シラン化合物としては、オキシアルキレン基と加水分解性基を有し、フッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物が挙げられる。具体的には、例えば、ＣＨ３Ｏ(Ｃ２Ｈ４Ｏ)ｋＣ３Ｈ６Ｓｉ(ＯＣＨ３)３（ポリオキシエチレン基含有トリメトキシシラン）（ここで、ｋは例えば約１０である。）等が挙げられる。
＜８＞重合体（Ｃ１)
　重合体（Ｃ１)は、混合物（Ｍ）の部分加水分解縮合物である。
　重合体（Ｃ１)の一例として、化合物（ｃｘ－１ａ）および化合物（ｃｘ－２）を必須成分として含み、化合物（ｃｘ－３）～（ｃｘ－６）を任意で含み、化合物（ｃｘ－１ａ）中の基Ｔがフッ素原子である混合物（Ｍ）の部分加水分解縮合物である、重合体（Ｃ１１)の平均組成式を下式（ＩＩ）に示す。
［Ｔ－ＲＦ１２－Ｑ１１－ＳｉＯ３／２］ｎ１・［(ＢＩ－Ｑ２)ｄ－Ｓｉ(ＲＨ２)ｅＳｉＯ(４－ｄ－ｅ)／２］ｎ２・［ＳｉＯ４／２］ｎ３・［(Ｙ－Ｑ４)ｇ－Ｓｉ(ＲＨ４)ｈＳｉＯ(４－ｇ－ｈ)／２］ｎ４・［(ＲＨ５)ｊ－ＳｉＯ(４－ｊ)／２］ｎ５・［(ＨＳ－Ｑ６)ｐ－Ｓｉ(ＲＨ６)ｑＯ(４－ｐ－ｑ)／２］ｎ６　　…（ＩＩ）
　式（ＩＩ）中、ｎ１～ｎ６は構成単位の合計モル量に対する各構成単位のモル分率を示す。ｎ１＞０、ｎ２＞０、ｎ３≧０、ｎ４≧０、ｎ５≧０、ｎ６≧０、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４＋ｎ５＋ｎ６＝１である。その他の各符号は、上述のとおりである。ただし、Ｔはフッ素原子である。
　なお、重合体（Ｃ１１)は、実際は加水分解性基またはシラノール基が残存した生成物（部分加水分解縮合物）であるので、この生成物を化学式で表すことは困難である。
　式（ＩＩ）で表される平均組成式は、重合体（Ｃ１１)において、加水分解性基またはシラノール基の全てがシロキサン結合となったと仮定した場合の化学式である。
　また、式（ＩＩ）において、化合物（ｃｘ－１ａ）、（ｃｘ－２）～（ｃｘ－６）にそれぞれ由来する単位は、ランダムに配列していると推測される。
　式（ＩＩ）で表される平均組成式中の、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４：ｎ５：ｎ６は、混合物（Ｍ）における化合物（ｃｘ－１ａ）、および（ｃｘ－２）～（ｃｘ－６）の仕込み組成と一致する。
　各成分のモル比は、各成分の効果のバランスから設計される。
　ｎ１は、重合体（Ｃ１１)におけるフッ素原子の含有率が、上記好ましい範囲となる量において、０．０２～０．４が好ましく、０．０２～０．３が特に好ましい。
　ｎ２は、０．０５～０．６が好ましく、０．１～０．５が特に好ましい。
　ｎ３は、０～０．９８が好ましく、０．０５～０．６が特に好ましい。
　ｎ４は、０～０．８が好ましく、０～０．５が特に好ましい。
　ｎ５は、０～０．５が好ましく、０．０５～０．３が特に好ましい。
　ｎ６は、０～０．９が好ましく、０～０．８がより好ましく、０～０．４が特に好ましい。
　なお、上記各成分の好ましいモル比は、化合物（ｃｘ－１ａ）中のＴが基（Ｉｂ）である場合も同様である。
　また、上記各成分の好ましいモル比は、混合物（Ｍ）が化合物（ｓ１）と化合物（ｓ２）を含有し、化合物（ｓ３）～（ｓ６）を任意で含む場合においても、同様に適用できる。すなわち、重合体（Ｃ１)を得るための混合物（Ｍ）における化合物（ｓ１）～（ｓ６）の好ましい仕込み量は、それぞれ上記ｎ１～ｎ６の好ましい範囲に相当する。
　重合体（Ｃ１)の質量平均分子量（Ｍｗ）は、５×１０２以上が好ましく、１×１０６未満が好ましく、１×１０４未満が特に好ましい。
　質量平均分子量（Ｍｗ）が下限値以上であると、感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する際に、撥インク剤（Ｃ１)が上面移行しやすい。上限値未満であると、重合体（Ｃ１)の溶媒への溶解性が良好になる。
　重合体（Ｃ１)の質量平均分子量（Ｍｗ）は、製造条件により調節できる。
　重合体（Ｃ１)は、上述した混合物（Ｍ）を、公知の方法により加水分解および縮合反応させることで製造できる。
　この反応には、通常用いられる塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、あるいは、酢酸、シュウ酸、マレイン酸等の有機酸を触媒として用いることが好ましい。また、必要に応じて水酸化ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）等のアルカリ触媒を用いてもよい。
　上記反応には公知の溶媒を用いることができる。
　上記反応で得られる重合体（Ｃ１)は、溶媒とともに溶液の性状で感光性樹脂組成物に配合してもよい。
＜重合体（Ｃ２）＞
　重合体（Ｃ２）は、主鎖が炭化水素鎖であり、フッ素原子を含む側鎖を有する単位と、ブロックイソシアネート基を有する単位を有する。重合体（Ｃ２）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、１×１０２～１×１０６が好ましく、５×１０３～１×１０５が特に好ましい。質量平均分子量（Ｍｗ）が下限値以上であると、感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する際に、重合体（Ｃ２)が上面移行しやすい。上限値未満であると、重合体（Ｃ２)の溶媒への溶解性が良好になる。
　重合体（Ｃ２）は、上記フッ素原子を含む側鎖を有する単位として、エーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキレン基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基を有する単位を有することが好ましい。
　フルオロアルキル基は直鎖状でもよく、分岐状でもよい。
　エーテル性酸素原子を含まないフルオロアルキル基の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００８２］に記載されたもの等が挙げられる。
　エーテル性酸素原子を含むフルオロアルキル基の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００８３］に記載されたもの等が挙げられる。
　フルオロアルキル基としては、撥インク性が良好になる点で、ペルフルオロアルキル基が好ましい。
　フルオロアルキル基の炭素原子数は４～１５であることが好ましく、４～１２がより好ましい。フルオロアルキル基の炭素原子数が４～１５であれば、撥インク性に優れ、また、重合体（Ｃ２）を製造する際に、フルオロアルキル基を有する単量体と後述する該単量体以外の単量体との相溶性が良好となる。
　重合体（Ｃ２）は、上記フッ素原子を含む側鎖を有する単位として、フルオロアルキル基を有する単位を含む重合体であることが好ましい。フルオロアルキル基を有する単位は、フルオロアルキル基を有する重合性単量体を重合させることにより重合体に導入することが好ましい。また、反応部位を有する重合体に適宜化合物を反応させる各種変性方法によって、フルオロアルキル基を重合体に導入することもできる。
　重合体（Ｃ２）の主鎖を構成する炭化水素鎖として、具体的には、エチレン性二重結合を有する単量体の重合で得られる主鎖、－Ｐｈ－ＣＨ２－（ただし、「Ｐｈ」はベンゼン骨格を示す。）の繰り返し単位からなるノボラック型の主鎖等が挙げられる。
　重合体（Ｃ２）を、エチレン性二重結合を有する単量体の重合で得る場合には、エチレン性二重結合を有するとともにフルオロアルキル基を有する単量体とエチレン性二重結合を有するとともにブロックイソシアネート基を有する単量体を、または必要に応じて、その他のエチレン性二重結合を有する単量体と重合させればよい。
　以下、重合体（Ｃ２）の主鎖が、エチレン性二重結合を有する単量体の重合で得られる主鎖の場合について説明する。
　エチレン性二重結合を有するとともにフルオロアルキル基を有する単量体としては、ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ６ＮＲ４ＳＯ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ６ＮＲ４ＣＯＲｆ、ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)Ｒ５Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＲ４＝ＣＦＲｆ等が挙げられる。
　上記式中、Ｒｆはフルオロアルキル基を、Ｒ４は水素原子、フッ素原子以外のハロゲン原子またはメチル基を、Ｒ５は単結合または炭素数１～６の２価有機基を、Ｒ６は炭素数１～６の２価有機基を、それぞれ示す。
　Ｒｆとしては、炭素原子数４～８のペルフルオロアルキル基、または炭素原子数４～１０のエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素原子数４～８のペルフルオロアルキル基がより好ましく、炭素原子数６のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。
　Ｒ４が示すハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
　Ｒ５およびＲ６としては、いずれもアルキレン基が好ましい。Ｒ５、Ｒ６の具体例としては、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ(ＣＨ３)－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－Ｃ(ＣＨ３)２－、－ＣＨ(ＣＨ２ＣＨ３)－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ(ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３)－、－ＣＨ２(ＣＨ２)３ＣＨ２－、ＣＨ(ＣＨ２ＣＨ(ＣＨ３)２)－等が挙げられる。
　上記の重合性単量体は１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　重合体（Ｃ２）は、上記フッ素原子を含む側鎖を有する単位とともにブロックイソシアネート基を有する単位を含む。重合体（Ｃ２）は、ブロックイソシアネート基を有することで、撥インク剤として、または感光性樹脂組成物に含有されて貯蔵される際には、貯蔵安定性を向上できる。さらに、使用時に加熱により脱ブロックさせてイソシアネート基とすることで、重合体（Ｃ２）の反応性が向上し、他の成分や、他の材料との結合性や密着性が向上する。これにより、隔壁に囲まれた開口部において感光性樹脂組成物の残渣がインクの濡れ広がり性を阻害するのを抑制し、親インク性を良好にできる。
　ブロックイソシアネート基としては、上記式（１）で示される基（１）が挙げられる。上記のとおり、その中でもイソシアネート基とピラゾール類またはオキシム類と反応させて得られるブロックイソシアネート基が好ましく、ピラゾール類と反応させて得られるブロックイソシアネート基が特に好ましい。
　エチレン性二重結合を有するとともにブロックイソシアネート基を有する単量体としては、ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５－ＮＨＣ(＝Ｏ)－Ｂ等が挙げられる。該式中、Ｒ４およびＲ５はフルオロアルキル基を有する単量体の場合とＲ４およびＲ５同じ意味であり、Ｂは式（１）におけるＢと同じ意味である。
　ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５－ＮＨＣ(＝Ｏ)－Ｂとして具体的には下記式（ｍ１）で示される単量体、および下記式（ｍ２）で示される単量体が挙げられる。
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　重合体（Ｃ２）は、フッ素原子含有単位とブロックイソシアネート基含有単位に加えて、さらに、酸性基を有する単位、エチレン性二重結合を有する単位、水酸基を有する単位およびポリオキシアルキレン鎖を有する単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の単位を有していてもよい。
　重合体（Ｃ２）は、アルカリ可溶性が良好となる点で、酸性基を有する重合体であることが好ましい。
　酸性基としては、カルボキシ基、フェノール性水酸基およびスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの酸性基またはその塩が好ましい。
　重合体（Ｃ２）は、光架橋性を有し、感光性樹脂組成物を硬化してなる硬化膜の製造過程において、硬化膜の上層部において、互いにあるいは感光性樹脂組成物が含有するエチレン性二重結合を有する他成分と結合することで、重合体（Ｃ２）の定着性を向上できる点で、エチレン性二重結合を有する重合体であることが好ましい。
　エチレン性二重結合を有する基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ノルボルニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
　エチレン性二重結合は重合体形成後に導入して重合体（Ｃ２）とすることが好ましい。エチレン性二重結合は単量体の重合の際に反応することより、通常エチレン性二重結合を有する重合体を単量体の重合のみによっては製造できない。この場合、単量体の重合で水酸基などの反応部位を有する重合体を製造し、次いでエチレン性二重結合を有しかつ重合体の反応部位に結合しうる化合物を反応させて、エチレン性二重結合を有する重合体が製造される。具体的には、たとえば、フッ素原子を含む側鎖を有する単位とブロックイソシアネート基を有する単位と水酸基を有する単位とを含む重合体を製造し、次にイソシアネートアルキル（メタ）アクリレートを反応させて、エチレン性二重結合を有する重合体（Ｃ２）を製造できる。
　重合体（Ｃ２）は、水酸基やポリオキシアルキレン基を有していてもよい。
　ポリオキシアルキレン基や水酸基は光架橋性を有しないが、ポリオキシアルキレン基や水酸基を有する重合体（Ｃ２）は、エチレン性二重結合を有する場合と同様に、硬化膜の製造過程において、上層部で互いにあるいは感光性樹脂組成物が含有する他成分と結合することで、重合体（Ｃ２）の定着性を向上できる。また、水酸基は、上記のように重合体の反応部位として機能させることもできる。ポリオキシアルキレン基のうちポリオキシエチレン基は親水性を有するので、現像液に対する濡れ性を高める効果もある。
　重合体（Ｃ２）は、酸性基、エチレン性二重結合、水酸基およびポリオキシアルキレン基のうち１種以上を含むことができる。重合体の１つの側鎖に、これらの基のうち２種以上が含まれていてもよい。たとえば、ポリオキシアルキレン基の末端に水酸基が結合していてもよい。
　上記の基の導入方法としては、フルオロアルキル基を有する単量体と、ブロックイソシアネート基を有する単量体と、上記の基を有する単量体とを共重合させる方法が好ましい。また、反応部位を有する重合体に適宜化合物を反応させる各種変性方法によって、上記の基を重合体に導入することもできる。
　カルボキシ基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体およびスルホ基を有する単量体の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００９２］、［００９３］および［００９４］に記載されたもの等が挙げられる。
　反応部位を有する重合体にカルボキシ基を導入する方法としては、例えば、（１）水酸基を有する重合体に酸無水物を反応させる方法、（２）エチレン性二重結合を有する酸無水物の単位を有する重合体に水酸基を有する化合物を反応させる方法等が挙げられる。
　水酸基を有する単量体の具体例としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００９６］に記載されたもの等が挙げられる。
　水酸基を有する単量体は、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。
　例えば、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００９７］に記載されたもの等が挙げられる。
　酸無水物としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００９８］に記載されたもの等が挙げられる。
　水酸基を有する化合物としては、１つ以上の水酸基を有している化合物であればよく、例えば、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［００９９］に記載されたもの等が挙げられる。
　水酸基および酸性基を含まず、ポリオキシアルキレン基を有する単量体、例えば、下式（ＰＯＡ－１）、または（ＰＯＡ－２）で表される単量体を用いることもできる。
　ＣＨ２＝ＣＲ７１－ＣＯＯ－Ｗ－(Ｒ７２－Ｏ)Ｋ４－Ｒ７３　　…（ＰＯＡ－１）
　ＣＨ２＝ＣＲ７１－Ｏ－Ｗ－(Ｒ７２－Ｏ) Ｋ４－Ｒ７３　　…（ＰＯＡ－２）
（Ｒ７１は、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数７～２０のアリール基で置換されたアルキル基、炭素数６～２０のアリール基、または炭素数３～２０のシクロアルキル基である。
　Ｒ７２は炭素原子数１～５のアルキレン基である。Ｒ７３は炭素原子数１～４のアルキル基である。Ｗは、単結合または炭素数が１～１０のフッ素原子を有しない２価の有機基である。ｋ４は６～３０の整数である。）
　その他、所望の組成に応じて、公知の単量体および反応を適宜選択することで、フッ素原子を有する側鎖とブロックイソシアネート基とを有し、必要に応じて、酸性基、エチレン性二重結合、水酸基およびポリオキシアルキレン基を有する、重合体（Ｃ２）を得ることができる。
　なお、この際、重合体（Ｃ２）におけるフッ素原子およびブロックイソシアネート基の含有量が上記好ましい範囲となるように、用いる単量体の配合割合を適宜調整することが好ましい。
　重合体（Ｃ２）の主鎖が－Ｐｈ－ＣＨ２－の繰り返し単位からなるノボラック型の主鎖である場合、通常、主鎖を構成するベンゼン骨格（Ｐｈ）に、フッ素原子を有する側鎖とブロックイソシアネート基を有する側鎖とを有し、任意に酸性基を有する基、エチレン性二重結合を有する基、オキシアルキレン基等が結合した重合体が重合体（Ｃ２）として用いられる。上記フッ素原子を有する側鎖は、好ましくはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基を有する側鎖である。酸性基、エチレン性二重結合を有する基、オキシアルキレン基等については、上に説明したエチレン性二重結合を有する単量体の重合で得られる主鎖を有する重合体（Ｃ２）の場合と同様のものが挙げられる。
　なお、この場合も、重合体（Ｃ２）におけるフッ素原子およびブロックイソシアネート基の含有量が上記好ましい範囲となるように、重合体（Ｃ２）を分子設計することが好ましい。
　このような重合体（Ｃ２）は、ベンゼン骨格にあらかじめ上記各基が導入された単量体を重合することで製造してもよく、反応部位、具体的には、水酸基、アミノ基、メルカプト基、スルホン酸基、カルボン酸基、カルボニル基、エチレン性二重結合等を有する重合体を得た後に、該反応部位に適宜化合物を反応させる変性方法によって、上記各基を重合体に導入してもよい。
［ネガ型感光性樹脂組成物］
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（以下、樹脂（ＡＰ）ともいう）または光硬化性を有するアルカリ可溶性単量体（以下、単量体（ＡＭ）ともいう）と、光重合開始剤と、上記撥インク剤（Ｃ）と、を含有する。本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、撥インク剤として撥インク剤（Ｃ）を含有することで、貯蔵安定性が良好であり、かつ、これを用いて隔壁を製造した場合に、隔壁上面は優れた撥インク性を有し、開口部は良好な親インク性を有する。
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、さらに必要に応じて、黒色着色剤、架橋剤、溶媒およびその他の任意成分を含有する。
　以下、本発明のネガ型感光性樹脂組成物が含有する各成分について説明する。
　樹脂（ＡＰ）としては、１分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂が好ましい。樹脂（ＡＰ）が分子中にエチレン性二重結合を有することで、ネガ型感光性樹脂組成物の露光部は、光重合開始剤から発生したラジカルにより重合して硬化する。
　このようにして硬化した露光部はアルカリ現像液にて除去されない。また、樹脂（ＡＰ）が分子中に酸性基を有することで、アルカリ現像液にて、硬化していないネガ型感光性樹脂組成物の非露光部を選択的に除去できる。その結果、硬化膜を、所定の領域を複数の区画に仕切る形の隔壁の形態とすることができる。
　酸性基としては、カルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホ基およびリン酸基等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　エチレン性二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基およびビニルオキシアルキル基等の付加重合性を有する二重結合が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。なお、エチレン性二重結合が有する水素原子の一部または全てが、メチル基等のアルキル基で置換されていてもよい。
　樹脂（ＡＰ）としては、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する樹脂（ＡＰ－１）、およびエポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とが導入された樹脂（ＡＰ－２）等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　樹脂（ＡＰ－１）としては、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有するビニル樹脂等が挙げられる。
　樹脂（ＡＰ－２）としては、エポキシ樹脂と、カルボキシ基とエチレン性二重結合とを有する化合物とを反応させた後に、多価カルボン酸またはその無水物とを反応させて得られる樹脂等が挙げられる。用いるエポキシ樹脂としては、特に限定されず、ネガ型感光性樹脂の主鎖として用いられる従来公知のエポキシ樹脂、例えば、国際公開第２０１０／０１３８１６号などに記載のエポキシ樹脂が使用できる。
　また、樹脂（ＡＰ）としては、酸価が１０～３００ｍｇＫＯＨ／ｇのものが好ましく、３０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇのものが特に好ましい。また、数平均分子量（Ｍｎ）は、５×１０２～２×１０４が好ましく、２×１０３～１．５×１０４が特に好ましい。また、質量平均分子量（Ｍｗ）は、１×１０３～４×１０４が好ましく、３×１０３～２×１０４が特に好ましい。
　樹脂（ＡＰ）としては、現像時の硬化膜の剥離が抑制されて、高解像度のドットのパターンを得ることができる点、ドットが直線状である場合のパターンの直線性が良好である点、平滑な硬化膜表面が得られやすい点で、樹脂（ＡＰ－２）を用いることが好ましい。
　単量体（ＡＭ）としては、例えば、酸性基とエチレン性二重結合とを有する単量体（ＡＭ－１）が好ましく用いられる。酸性基およびエチレン性二重結合は、樹脂（ＡＰ）と同様である。単量体（ＡＭ）の酸価についても、樹脂（ＡＰ）と同様の範囲が好ましい。
　単量体（ＡＭ－１）としては、２，２，２－トリアクリロイルオキシメチルエチルフタル酸等が挙げられる。
　ネガ型感光性樹脂組成物に含まれる樹脂（ＡＰ）および単量体（ＡＭ）は、それぞれ、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の樹脂（ＡＰ）の含有割合および単量体（ＡＭ）の含有割合は、それぞれ、５～８０質量％が好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物が、後述の黒色着色剤を含有しない場合、その含有量は、３０～７０質量％が特に好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物が、後述の黒色着色剤を含有する場合、その含有量は、１０～６０質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の光硬化性および現像性が良好である。
（光重合開始剤）
　本発明における光重合開始剤は、光重合開始剤としての機能を有する化合物であれば特に制限されず、光によりラジカルを発生する化合物が好ましい。
　光重合開始剤としては、α－ジケトン類、アシロイン類、アシロインエーテル類、チオキサントン類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、キノン類、アミノ安息香酸類、過酸化物、オキシムエステル類、脂肪族アミン類等に分類される各種化合物が挙げられる。
　光重合開始剤のなかでも、ベンゾフェノン類、アミノ安息香酸類および脂肪族アミン類は、その他のラジカル開始剤と共に用いると、増感効果を発現することがあり好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン類に分類される２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、オキシムエステル類に分類される１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、エタノン１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、チオキサントン類に分類される２，４－ジエチルチオキサントンが好ましい。さらに、これらとベンゾフェノン類、例えば、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンとの組み合わせが特に好ましい。
　光重合開始剤は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の光重合開始剤の含有割合は、０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物が、後述の黒色着色剤を含有しない場合、その含有量は、５～１５質量％が特に好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物が、後述の黒色着色剤を含有する場合、その含有量は、２～１２質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の光硬化性および現像性が良好である。
（撥インク剤（Ｃ））
　本発明の撥インク剤（Ｃ）は、感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する過程で充分に上面に移行し、得られる隔壁の上面に良好な撥インク性を付与する機能を有する。撥インク剤（Ｃ）は、また感光性樹脂組成物に含有されて貯蔵される際には、貯蔵安定性を向上できる。さらに、使用時に加熱により脱ブロックさせてイソシアネート基とすることで、撥インク剤（Ｃ）の反応性が向上し、他の成分や、他の材料との結合性や密着性が向上する。これにより、隔壁に囲まれた開口部において感光性樹脂組成物の残渣がインクの濡れ広がり性を阻害することを抑制し、親インク性を良好にできる。
　ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の撥インク剤（Ｃ）の含有割合は、０．０１～１５質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましく、０．０３～１．５質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物から形成される硬化膜の上面は優れた撥インク性を有する。上記範囲の上限値以下であると、硬化膜と基板との密着性が良好になる。
（黒色着色剤）
　本発明のネガ型用感光性組成物は、用途に応じて、隔壁に遮光性を付与する場合に、黒色着色剤を含有する。従来の撥インク剤を含有するネガ型用感光性組成物に、着色剤を配合すると、隔壁上面の撥インク性が充分でなくなったり、開口部の親インク性が充分でなくなったりした。本発明の撥インク剤（Ｃ）を用いることで、着色剤を配合した場合であっても、上記問題を起こすことなく、隔壁上面の良好な撥インク性と開口部の親インク性を両立させることができる。
　特に、主鎖が炭化水素鎖でありフッ素原子を含む側鎖を有する重合体を撥インク剤とした場合には、着色剤を含有するネガ型用感光性組成物を用いて隔壁を作製すると開口部の親インク性が充分と言えないことが多かった。本発明の撥インク剤（Ｃ）として重合体（Ｃ２）を用いてネガ型用感光性組成物を調製すれば、この開口部の親インク性の問題を解決し、充分な親インク性を有する開口部と上面に充分な撥インク性を有する隔壁を得ることができる。
　黒色着色剤としては、カーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１等が挙げられる。黒色着色剤としては、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料、黄色顔料等の有機顔料や無機顔料の混合物を用いることもできる。有機顔料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、ピグメントレッド２５４、ピグメントグリーン３６、ピグメントイエロー１５０、アゾメチン系顔料等が挙げられる。黒色着色剤としては、電気特性の点から有機顔料が好ましく、価格および遮光性の点からはカーボンブラックが好ましい。カーボンブラックは樹脂等で表面処理されているのが好ましく、また、色調を調整するため、青色顔料や紫色顔料を併用することができる。
　有機顔料としては、ブラックマトリックスの形状の観点から、ＢＥＴ法による比表面積が５０～２００ｍ２／ｇであるものが好ましい。比表面積が５０ｍ２／ｇ以上であると、ブラックマトリックス形状が劣化しにくい。２００ｍ２／ｇ以下であると、有機顔料に分散助剤が過度に吸着することなく、諸物性を発現させるために多量の分散助剤を配合する必要がなくなる。
　また、有機顔料の透過型電子顕微鏡観察による平均１次粒子径は、２０～１５０ｎｍであることが好ましい。平均１次粒子径が２０ｎｍ以上であると、ネガ型用感光性組成物で高濃度に分散でき、経時安定性の良好なネガ型用感光性組成物が得られやすい。１５０ｎｍ以下であると、隔壁形状が劣化しにくい。また、透過型電子顕微鏡観察による平均２次粒子径としては、８０～２００ｎｍが好ましい。
　ネガ型用感光性組成物における全固形分中の黒色着色剤の含有割合は、２０～６５質量％が好ましく、２５～６０質量％がより好ましく、３０～６０質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、得られる隔壁の光の遮光性を示す値である光学濃度が充分になる。上記範囲の上限値以下であると、ネガ型用感光性組成物の硬化性が良好になり、良好な外観の硬化膜が得られ、撥インク性も良好になる。
　黒色着色剤のネガ型用感光性組成物における分散性を向上するためには、塩基性高分子分散剤または酸性高分子分散剤を含有させることが好ましい。該塩基性高分子分散剤のアミン価は１０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０～７０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。該酸性高分子分散剤の酸価は３０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。該高分子分散剤は、黒色着色剤への親和性の点から、塩基性官能基を有する化合物が好ましい。該塩基性官能基として、１級、２級もしくは３級アミノ基を有すると、特に分散性に優れる。
　高分子分散剤としては、ウレタン系、ポリイミド系、アルキッド系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系、メラミン系、フェノール系、アクリル系、塩化ビニル系、塩化ビニル酢酸ビニル系共重合体系、ポリアミド系、ポリカーボネート系等の化合物が挙げられる。中でも特にウレタン系、ポリエステル系の化合物が好ましい。
　高分子分散剤の使用量は、黒色着色剤に対して５～３０重量％が好ましく、１０～２５重量％が特に好ましい。使用量が上記範囲の下限値以上であると、黒色着色剤の分散が良好になり、上記範囲の上限値以下であると、現像性が良好になる。
（架橋剤）
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物が任意に含有する架橋剤は、１分子中に２個以上のエチレン性二重結合を有し酸性基を有しない化合物である。ネガ型感光性樹脂組成物が架橋剤を含むことにより、露光時におけるネガ型感光性樹脂組成物の硬化性が向上し、低い露光量でも硬化膜を形成することができる。
　架橋剤としては、ＷＯ２０１４／０４６２０９の例えば、段落［０１３７］に記載されたもの等が挙げられる。
　光反応性の点からは、多数のエチレン性二重結合を有することが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレートおよびウレタンアクリレート等が好ましい。
　架橋剤は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の架橋剤の含有割合は、１０～６０質量％が好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物が、黒色着色剤を含有しない場合、その含有量は、２０～５５質量％が特に好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物が、黒色着色剤を含有する場合、その含有量は、５～５０質量％が特に好ましい。
（溶媒）
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、溶媒を含有することで粘度が低減され、ネガ型感光性樹脂組成物の基板表面への塗布がしやすくなる。その結果、均一な膜厚のネガ型感光性樹脂組成物の塗膜が形成できる。
　溶媒（Ｆ）としては公知の溶媒が用いられる。溶媒は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
　溶媒としては、アルキレングリコールアルキルエーテル類、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、アルコール類、ソルベントナフサ類等が挙げられる。なかでも、アルキレングリコールアルキルエーテル類、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、およびアルコール類からなる群から選ばれる少なくとも１種の溶媒が好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、および２－プロパノールからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶媒がさらに好ましい。
　ネガ型感光性樹脂組成物における溶媒の含有割合は、組成物全量に対して５０～９９質量％が好ましく、６０～９５質量％がより好ましく、６５～９０質量％が特に好ましい。
（その他の成分）
　本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物はさらに、必要に応じて、熱架橋剤、分散助剤、シランカップリング剤、微粒子（フィラー）、リン酸化合物、硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤および紫外線吸収剤等の他の添加剤を１種または２種以上含有してもよい。
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、上記各成分の所定量を混合して得られる。
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、貯蔵安定性が改善された撥インク剤（Ｃ）を含有することから、良好な貯蔵安定性を有する。本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いれば、得られる隔壁は上面に良好な撥インク性を有するとともに、隔壁に囲まれた開口部は良好な親インク性を有する。
［隔壁］
　本発明の隔壁は、基板表面をドット形成用の複数の区画に仕切る形に形成された上記の本発明のネガ型感光性樹脂組成物の硬化物からなる隔壁である。隔壁は、例えば、基板等の基板の表面に本発明のネガ型感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥して溶媒等を除去した後、ドット形成用の区画となる部分にマスキングを施し、露光した後、現像、さらに加熱することで得られる。
　現像によって、マスキングにより非露光の部分が除去されドット形成用の区画に対応する開口部が隔壁とともに形成される。隔壁形成に際して、ネガ型感光性樹脂組成物が含有する撥インク剤（Ｃ）は、上面移行して隔壁の上層の撥インク層に高濃度に存在するようになる。さらに、加熱により撥インク剤（Ｃ）のブロックイソシアネート基が脱ブロックしてイソシアネート基となり、撥インク層に強固に固定される。さらに、現像によって非露光部分が除去しきれずに、開口部に部分的に存在する場合であっても、撥インク剤（Ｃ）は基板表面に固定化されて、開口部の親インク性が確保される。
　よって、本発明の隔壁を形成する基板としては、少なくとも隔壁が形成される表面がイソシアネート基と反応性を有する官能基、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、メルカプト基等を有することが好ましい。隔壁が形成される基板表面がイソシアネート基と反応性を有する官能基を有することで、開口部において基板表面と撥インク剤（Ｃ）との密着性が向上し、開口部に感光性樹脂組成物の残渣を有する場合においても、開口部の親インク性が確保されるためである。
　上記イソシアネート基と反応性を有する官能基を有する表面を構成する材料として、具体的には、ガラス、金属酸化物、有機膜等が挙げられる。金属酸化物としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）等が挙げられる。また、例えば、金属電極の表面等、金属酸化物が形成された表面を有する場合には、上記イソシアネート基と反応性を有する官能基を有する表面に含めることができる。
　以下、本発明の実施形態の隔壁の製造方法の一例を、図１Ａ～１Ｄを用いて説明するが、隔壁の製造方法は以下に限定されない。なお、以下の製造方法は、ネガ型感光性樹脂組成物が溶媒（Ｆ）を含有するものとして説明する。
　図１Ａに示すように、基板１の一方の主面全体にネガ型感光性樹脂組成物を塗布して、塗膜２１を形成する。このとき、塗膜２１中には撥インク剤（Ｃ）が全体的に溶解し、均一に分散している。なお、図１Ａ中、撥インク剤（Ｃ）は模式的に示してあり、実際にこのような粒子形状で存在しているわけではない。
　次に、図１Ｂに示すように、塗膜２１を乾燥させて、乾燥膜２２とする。乾燥方法としては、加熱乾燥、減圧乾燥および減圧加熱乾燥等が挙げられる。溶媒の種類にもよるが、加熱乾燥の場合、加熱温度は５０～１２０℃が好ましい。加温時間は３０秒～５分間程度が好ましい。
　この乾燥過程において、撥インク剤（Ｃ）は乾燥膜の上層部に移行する。なお、ネガ型感光性樹脂組成物が、溶媒を含有しない場合であっても、塗膜内で撥インク剤（Ｃ）の上面移行は同様に達成される。
　次に、図１Ｃに示すように、隔壁に囲まれる開口部に相当する形状のマスキング部３１を有するフォトマスク３０を介して、乾燥膜２２に対して光を照射し露光する。乾燥膜２２を露光した後の膜を露光膜２３と称す。露光膜２３において、露光部２３Ａは光硬化しており、非露光部２３Ｂは乾燥膜２２と同様の状態である。
　照射する光としては、可視光；紫外線；遠紫外線；ＫｒＦエキシマレーザ光、ＡｒＦエキシマレーザ光、Ｆ２エキシマレーザ光、Ｋｒ２エキシマレーザ光、ＫｒＡｒエキシマレーザ光およびＡｒ２エキシマレーザ光等のエキシマレーザ光；Ｘ線；電子線等が挙げられる。
　照射する光としては、波長１００～６００ｎｍの光が好ましく、３００～５００ｎｍの光がより好ましく、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）またはｇ線（４３６ｎｍ）を含む光が特に好ましい。また、必要に応じて３３０ｎｍ以下の光をカットしてもよい。
　露光方式としては、全面一括露光、スキャン露光等が挙げられる。同一箇所に対して複数回に分けて露光してもよい。この際、複数回の露光条件は同一でも同一でなくても構わない。露光量は、上記いずれの露光方式においても、例えば、５～１，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、５～５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、５～３００ｍＪ／ｃｍ２がさらに好ましい。なお、露光量は、照射する光の波長、ネガ型感光性樹脂組成物の組成および塗膜の厚さ等により、適宜好適化される。
　単位面積当たりの露光時間は特に制限されず、用いる露光装置の露光パワーおよび必要な露光量等から設計される。なお、スキャン露光の場合、光の走査速度から露光時間が求められる。単位面積当たりの露光時間は通常１～６０秒程度である。
　次に、図１Ｄに示すように、アルカリ現像液を用いた現像を行い、露光膜２３の露光部２３Ａに対応する部位のみからなる隔壁４が形成される。隔壁４で囲まれた開口部５は、露光膜２３において非露光部２３Ｂが存在していた部位であり、現像により非露光部２３Ｂが除去された後の状態を、図１Ｄは示している。非露光部２３Ｂは、上に説明したとおり、撥インク剤（Ｃ）が上層部に移行してそれより下の層にほとんど撥インク剤（Ｃ）が存在しない状態でアルカリ現像液により溶解、除去されるため、得られる隔壁の上面は良好な撥インク性を有する。
　なお、図１Ｄに示す隔壁４において、その上面を含む最上層は撥インク層４Ａである。撥インク剤（Ｃ）がエチレン性二重結合を有する側鎖を有しない場合、露光の際に、撥インク剤（Ｃ）はそのまま最上層に高濃度に存在して撥インク層となる。より詳細には、露光に際して、撥インク剤（Ｃ）の周辺に存在する樹脂（ＡＰ）または単量体（ＡＭ）さらには任意に含有するそれ以外の光硬化成分が強固に光硬化することで、撥インク剤（Ｃ）は撥インク層に定着する。
　撥インク剤（Ｃ）がエチレン性二重結合を有する場合、撥インク剤（Ｃ）は、互いに、および／または、樹脂（ＡＰ）または単量体（ＡＭ）やその他の光硬化成分とともに、光硬化して、撥インク剤（Ｃ）が強固に結合した撥インク層４Ａを形成する。
　上記のいずれの場合も、撥インク層４Ａの下側には、主として樹脂（ＡＰ）または単量体（ＡＭ）さらには任意に含有するそれ以外の光硬化成分が光硬化して、撥インク剤（Ｃ）をほとんど含有しない層４Ｂが形成される。
　現像後、隔壁４をさらに加熱する。加熱温度は、撥インク剤（Ｃ）のブロックイソシアネート基が脱ブロックしてイソシアネート基を生成する温度以上とする。撥インク剤（Ｃ）が有するブロックイソシアネート基の種類にもよるが、加熱温度は、概ね１５０～２５０℃とすることができ、２００～２５０℃が好ましい。加温時間は２０～７０分間程度が好ましい。
　加熱により撥インク剤（Ｃ）のブロックイソシアネート基が脱ブロックしてイソシアネート基となり、撥インク剤（Ｃ）は撥インク層４Ａ内により強固に定着する。また、加熱により隔壁４の硬化がより強固なものとなる。
　さらに、上記現像によって非露光部分が除去しきれずに、開口部にわずかにかつ部分的に非露光部２３Ｂが残渣として存在する場合がある。そのような場合であっても、脱ブロックされたイソシアネート基の作用により撥インク剤（Ｃ）は基板表面に固定化されて、開口部の親インク性が確保される。
　このようにして得られる本発明の隔壁４は、露光が低露光量で行われる場合であっても、上面に良好な撥インク性を有する。また、隔壁４においては、現像、加熱後に、開口部５の親水性が良好であり、開口部５へのインクの均一な塗工性を充分に確保できる。
　なお、開口部５の親インク性をより確実に得ることを目的として、上記加熱後、開口部５に存在する可能性があるネガ型感光性樹脂組成物の現像残渣等を除去するために、隔壁４付きの基板１に対して紫外線／オゾン処理を施してもよい。
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物から形成される隔壁は、例えば、幅が１００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることが特に好ましい。また、隣接する隔壁間の距離（パターンの幅）は３００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることが特に好ましい。隔壁の高さは０．０５～５０μｍであることが好ましく、０．２～１０μｍであることが特に好ましい。
　本発明の隔壁は、ＩＪ法にてパターン印刷を行う際に、その開口部をインク注入領域とする隔壁として利用できる。ＩＪ法にてパターン印刷を行う際に、本発明の隔壁を、その開口部が所望のインク注入領域と一致するように形成して用いれば、隔壁上面が良好な撥インク性を有することから、隔壁を超えて所望しない開口部すなわちインク注入領域にインクが注入されることを抑制できる。また、隔壁で囲まれた開口部は、インクの濡れ広がり性が良好であるので、インクを所望の領域に白抜け等が発生することなく均一に印刷することが可能となる。
　本発明の隔壁を用いれば、上記のとおりＩＪ法によるパターン印刷が精巧に行える。よって、本発明の隔壁は、ドットがＩＪ法で形成される基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する隔壁を有する光学素子の隔壁として有用である。
［光学素子］
　本発明の光学素子は、基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する上記本発明の隔壁とを有する光学素子である。本発明の光学素子においてドットはＩＪ法により形成されることが好ましい。
　以下、本発明の実施形態の光学素子をＩＪ法により製造する場合を例にして説明する。なお、本発明の光学素子の製造方法は以下に限定されない。
　図２Ａ～２Ｂは、上記図１Ｄに示す基板１上に形成された隔壁４を用いて光学素子を製造する方法を模式的に示すものである。ここで、基板１上の隔壁４は、開口部５が、製造しようとする光学素子のドットのパターンに一致するように形成されたものである。
　図２Ａに示すように、隔壁４に囲まれた開口部５に、インクジェットヘッド９からインク１０を滴下して、開口部５に所定量のインク１０を注入する。インクとしては、ドットの機能に合わせて、光学素子用として公知のインクが適宜選択して用いられる。
　次いで、用いたインク１０の種類により、例えば、溶媒の除去や硬化のために、乾燥および／または加熱等の処理を施して、図２Ｂに示すように、隔壁４に隣接する形で所望のドット１１が形成された光学素子１２を得る。
　本発明の光学素子は、本発明の隔壁を用いることで、製造過程において隔壁で仕切られた開口部にインクがムラなく均一に濡れ広がることが可能であり、これにより精度よく形成されたドットを有する光学素子である。
　光学素子としては、有機ＥＬ素子、液晶素子のカラーフィルタおよびＴＦＴアレイ素子、量子ドットディスプレイ、薄膜太陽電池等が挙げられる。
　ＴＦＴアレイ素子とは、複数のドットが平面視マトリクス状に配置され、各ドットに画素電極とこれを駆動するためのスイッチング素子としてＴＦＴが設けられた素子である。
　ＴＦＴアレイ素子は、有機ＥＬ素子あるいは液晶素子等に、ＴＦＴアレイ基板として備えられる。
　ＴＦＴアレイは、例えば、以下のように製造できるがこれに限定されない。
　ガラス等の透光性基板にアルミニウムやその合金等のゲート電極をスパッタ法等によって成膜する。このゲート電極は必要に応じてパターニングされる。
　次に、窒化ケイ素等のゲート絶縁膜をプラズマＣＶＤ法等によって形成する。ゲート絶縁膜上にソース電極、ドレイン電極を形成してもよい。ソース電極およびドレイン電極は、例えば、真空蒸着やスパッタリングでアルミニウム、金、銀、銅やそれらの合金などの金属薄膜を形成し、作成することができる。ソース電極およびドレイン電極をパターニングする方法としては、金属薄膜を形成後、レジストを塗装し、露光、現像して電極を形成させたい部分にレジストを残し、その後、リン酸や王水などで露出した金属を除去、最後にレジストを除去する手法がある。また、金などの金属薄膜を形成させた場合は、予めレジストを塗装し、露光、現像して電極を形成させたくない部分にレジストを残し、その後金属薄膜を形成後、金属薄膜と共にフォトレジストを除去する手法もある。また、銀や銅等の金属ナノコロイド等を用いてインクジェット等の手法により、ソース電極およびドレイン電極を形成してもよい。
　次に、本発明の組成物を用い、塗布、露光および現像を含むフォトリソグラフィ法により、各ドットの輪郭に沿って、平面視格子状に隔壁を形成する。
　次にドット内に半導体溶液をＩＪ法によって塗布し、溶液を乾燥させることによって半導体層を形成する。この半導体溶液としては有機半導体溶液、無機の塗布型酸化物半導体溶液も用いることができる。ソース電極、ドレイン電極は、この半導体層形成後にインクジェットなどの手法を用いて形成されてもよい。
　最後にＩＴＯ等の透光性電極をスパッタ法等によって成膜し、窒化ケイ素等の保護膜を成膜することで形成する。
　有機ＥＬ素子は例えば、以下のように製造できる。
　ガラス等の透光性基板にスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透光性電極をスパッタ法等によって成膜する。この透光性電極は必要に応じてパターニングされる。
　次に、本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用い、塗布、露光および現像を含むフォトリソグラフィ法により、各ドットの輪郭に沿って、平面視格子状に隔壁を形成する。
　次に、ドット内に、ＩＪ法により、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層および電子注入層の材料をそれぞれ塗布および乾燥して、これらの層を順次積層する。ドット内に形成される有機層の種類および数は適宜設計される。
　最後に、アルミニウム等の反射電極を蒸着法等によって形成する。
　また、量子ドットディスプレイは、例えば、以下のように製造できるがこれに限定されない。
　ガラス等の透光性基板にスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透光性電極をスパッタ法等によって成膜する。この透光性電極は必要に応じてパターニングされる。
　次に、本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用い、塗布、露光および現像を含むフォトリソグラフィ法により、各ドットの輪郭に沿って、平面視格子状に隔壁を形成する。
　次に、ドット内に、ＩＪ法により、正孔注入層、正孔輸送層、量子ドット層、正孔阻止層および電子注入層の材料をそれぞれ塗布および乾燥して、これらの層を順次積層する。ドット内に形成される有機層の種類および数は適宜設計される。
　最後に、アルミニウム等の反射電極を蒸着法等によって形成する。
　さらに本発明の実施形態の光学素子は、例えば以下のように製造される、青色光変換型の量子ドットディスプレイにも応用可能である。
　ガラス等の透光性基板に本発明の組成物を用い、各ドットの輪郭に沿って、平面視格子状に隔壁を形成する。
　次に、ドット内に、ＩＪ法により青色光を緑色光に変換するナノ粒子溶液、青色光を赤色光に変換するナノ粒子溶液、必要に応じて青色のカラーインクを塗布、乾燥して、モジュールを作成する。青色を発色する光源をバックライトとして使用し前記モジュールをカラーフィルター代替として使用することに依り、色再現性の優れた液晶ディスプレイが得られる。
　以下、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。例１、２、５～８、例１０～１６が実施例、例３、４、９、例１７～１９が比較例である。
　各測定は以下の方法で行った。
［数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）］
　ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により、ポリスチレンを標準物質として、数平均分子量（Ｍｎ）および質量平均分子量（Ｍｗ）を測定した。ゲルパーミエーションクロマトグラフィとしては、ＨＰＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を使用した。カラムとしては、ｓｈｏｄｅｘ　ＬＦ－６０４を３本、接続したものを使用した。検出器としては、ＲＩ検出器を使用した。標準物質としては、ＥａｓｉＣａｌ　ＰＳ１（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）を使用した。さらに、数平均分子量および質量平均分子量を測定する際は、カラムを３７℃で保持し、溶離液としては、テトラヒドロフランを用い、流速を０．２ｍＬ／分とし、測定サンプルの０．５％テトラヒドロフラン溶液４０μＬを注入した。
［フッ素原子の含有率］
　フッ素原子の含有率（質量％）は、１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを標準物質として、１９Ｆ　ＮＭＲ測定により算出した。
［ブロックイソシアネート基の含有量］
　ブロックイソシアネート基の含有量は、原料の配合割合から算出した。
［エチレン性二重結合（Ｃ＝Ｃ）の含有量］
　エチレン性二重結合の含有量は、原料の配合割合から算出した。
［酸価］
　酸価は、原料の配合割合から理論的に算出した。
　以下の各例において用いた化合物の略号を以下に示す。
（アルカリ可溶性樹脂（ＡＰ））
　アルカリ可溶性樹脂（ＡＰ１）組成物；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂をアクリル酸、次いで１，２，３，６－テトラヒドロ無水フタル酸を反応させて、アクリロイル基とカルボキシ基とを導入した樹脂をヘキサンで精製した樹脂（アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ）の組成物（固形分７０質量％、ＰＧＭＥＡ３０質量％）。
（光重合開始剤）
ＩＲ９０７；ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、商品名、ＢＡＳＦ社製、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン。
ＯＸＥ０２；商品名；ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０２、エタノン１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（ＢＡＳＦ社製）。
ＥＡＢ；４，４'－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン。
（重合体（Ｃ１）の原料）
化合物（ｃｘ－１）に相当する化合物（ｃｘ－１１）；Ｆ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
化合物（ｃｘ－２）に相当する化合物（ｃｘ－２１）；３－イソシアネートプロピルトリエトキシシランを３，５－ジメチルピラゾールでブロックした化合物のトルエン５０質量％溶液（公知の方法で製造した。）。
化合物（ｃｘ－３）に相当する化合物（ｃｘ－３１）；Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４。
化合物（ｃｘ－４）に相当する化合物（ｃｘ－４１）；ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
化合物（ｃｘ－５）に相当する化合物（ｃｘ－５１）；（ＣＨ３）３－Ｓｉ－ＯＣＨ３。
化合物（ｃｘ－６）に相当する化合物（ｃｘ－６１）；ＨＳ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
（重合体（Ｃ２）の原料）
Ｃ６ＦＭＡ；ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ
ＭＡＡ；メタクリル酸
２－ＨＥＭＡ；２－ヒドロキシエチルメタクリレート
ＰＭＥ４００；ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）９ＣＨ３
ＭＯＩ－ＢＰ；カレンズＭＯＩ－ＢＰ（商品名、昭和電工社製、上記式（ｍ１）に示す化合物）
ＭＯＩ－ＢＭ；カレンズＭＯＩ－ＢＭ（商品名、昭和電工社製、上記式（ｍ２）に示す化合物）
Ｖ－６５；（２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル））
ＡＯＩ；カレンズＡＯＩ（商品名、昭和電工社製、２－アクリロイルオキシエチルイソシアネート）
ＤＢＴＤＬ；ジブチル錫ジラウレート
ＴＢＱ；t－ブチル－ｐ－ベンゾキノン
ＭＥＫ；２－ブタノン
（黒色着色剤）
黒色着色剤（Ｄ－１）：黒色有機顔料のＰＧＭＥＡ分散液（アゾメチン系黒色有機顔料：１２質量％、高分子分散剤：７．２質量％、ＰＧＭＥＡ：８０．８質量％、固形分酸価：７．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
（架橋剤）
ＤＰＨＡ；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（溶媒）
ＰＧＭＥＡ；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＰＧＭＥ；プロピレングリコールモノメチルエーテル
［重合体（Ｃ）の合成］
　重合体（Ｃ１)および重合体（Ｃ２）を以下のとおり合成した。また、比較例の重合体（Ｃｆ）を合成した。
（例１；重合体（Ｃ１－１）の合成）
　撹拌機を備えた３００ｃｍ３の三口フラスコに、化合物（ｃｘ－１１）の３．８７ｇ、化合物（ｃｘ－２１）の１３．３０ｇ、化合物（ｃｘ－３１）の４．１６ｇ、化合物（ｃｘ－５１）の１．２８ｇを入れて、加水分解性シラン化合物混合物を得た。次いで、この混合物にＰＧＭＥの７１．１ｇを入れて、原料溶液とした。
　得られた原料溶液に、１％硝酸水溶液の６．３０ｇを滴下した。滴下終了後、４０℃で１２時間撹拌して、重合体（Ｃ１－１）のＰＧＭＥ溶液（重合体（Ｃ１－１）濃度：１０質量％、以下、「重合体（Ｃ１－１）溶液」ともいう。）を得た。
　なお、反応終了後、反応液の成分をガスクロマトグラフィを使用して測定し、原料としての各化合物が検出限界以下になったことを確認した。
　得られた重合体（Ｃ１－１）の製造に用いた原料加水分解性シラン化合物の仕込み量等を表１に示す。表１中、シラン化合物は、加水分解性シラン化合物を意味する。また、得られた重合体（Ｃ１－１）の数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）、フッ素原子の含有率、Ｃ＝Ｃの含有量を測定した結果を併せて表１に示す。
（例２～４：重合体（Ｃ１－２）および（Ｃｆ－１）、（Ｃｆ－２）の合成）
　原料組成を表１に示すものとした以外は、例１と同様にして、すなわち、表１に示す各シラン化合物の混合物にＰＧＭＥを加え原料溶液を作製し、これに表１に示す酸水溶液を滴下し例１と同様に撹拌して、重合体（Ｃ１－２）および（Ｃｆ－１）、（Ｃｆ－２）の溶液（いずれも化合物濃度：１０質量％、以下、各溶液を「重合体（Ｃ１－２）、（Ｃｆ－１）、（Ｃｆ－２）溶液」ともいう。）を得た。
　上記で得られた重合体（Ｃ１－２）および（Ｃｆ－１）、（Ｃｆ－２）の製造に用いた原料加水分解性シラン化合物の仕込み量、モル比を表１に示す。表１中、シラン化合物は、加水分解性シラン化合物を意味する。また、得られた重合体の数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）、フッ素原子の含有率、Ｃ＝Ｃの含有量を測定した結果を併せて表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
（例５；重合体（Ｃ２－１）の合成）
　撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、ＭＥＫ（４６６．７ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（９４．０ｇ）、ＭＯＩ－ＢＰ（６６．０ｇ）、ＰＭＥ－４００（４０．０ｇ）および重合開始剤Ｖ－６５（０．９１ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合させ、重合体（Ｃ２－１）の溶液を得た。ヘキサンに得られた重合体（Ｃ２－１）の溶液を加えて再沈精製した後、真空乾燥し、重合体（Ｃ２－１）（１６９．２ｇ）を得た。重合体（Ｃ２－１）は、数平均分子量が３５，９００、質量平均分子量が７１，６００であった。
（例６：重合体（Ｃ２－２）の合成）
　ＭＯＩ－ＢＰをＭＯＩ－ＢＰに変更した以外は、合成例５と同様にして、重合体（Ｃ２－２）を得た。重合体（Ｃ２－２）は、数平均分子量が３４，５００、質量平均分子量が７２，３００であった。
（例７：重合体（Ｃ２－３）の合成）
　撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、ＭＥＫ（４６６．７ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（９４．０ｇ）、２－ＨＥＭＡ（４６．０）、ＭＯＩ－ＢＰ（２０．０ｇ）、ＰＭＥ－４００（４０．０ｇ）および重合開始剤Ｖ－６５（１．２ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合させ、重合体（Ｃ２－３）前駆体の溶液を得た。
　撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに上記重合体（Ｃ２－３）前駆体の溶液（５００．０ｇ）、ＡＯＩ（３７．５ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１５ｇ）、ＴＢＱ（１．８７ｇ）を仕込み、撹拌しながら、４０℃で２４時間反応させ、重合体（Ｃ２－３）の溶液を得た。ヘキサンに得られた重合体（Ｃ２－３）の溶液を加えて再沈精製した後、真空乾燥し、重合体（Ｃ２－３）（１４３．１ｇ）を得た。重合体（Ｃ２－３）は、数平均分子量が４１，２００、質量平均分子量が８５，７００であった。
（例８および例９：重合体（Ｃ２－４）および（Ｃｆ－３）の合成）
　重合体（Ｃ２－３）において、原料の配合を表２のように変更した他は同様の反応により、重合体（Ｃ２－４）および（Ｃｆ－３）を合成した。
　例１～４で得られた重合体の数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）、フッ素原子の含有率、ブロックイソシアネート基の含有量、エチレン性二重結合の含有量、酸価を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
［ネガ型感光性樹脂組成物の製造および隔壁の製造］
（例１０；ネガ型感光性樹脂組成物の製造）
　アルカリ可溶性樹脂（ＡＰ１）組成物の１２．６６ｇ、ＩＲ９０７の１．１２ｇ、ＥＡＢの１．００ｇ、重合体（Ｃ１－１）溶液の１．６１ｇ、Ａ９５３０の８．９６ｇ、ＰＧＭＥＡの７４．７ｇを２００ｃｍ３の撹拌用容器に入れ、３時間撹拌してネガ型感光性樹脂組成物１を製造した。
（隔壁の製造）
　１０ｃｍ四方のガラス基板をエタノールで３０秒間超音波洗浄し、次いで、５分間のＵＶ／Ｏ３処理を行った。ＵＶ／Ｏ３処理には、ＵＶ／Ｏ３発生装置としてＰＬ２００１Ｎ－５８（センエンジニアリング社製）を使用した。２５４ｎｍ換算の光パワー（光出力）は１０ｍＷ／ｃｍ２であった。
　上記洗浄後のガラス基板表面に、スピンナを用いて、上記で得られたネガ型感光性樹脂組成物１を塗布した後、１００℃で２分間、ホットプレート上で乾燥させ、膜厚２．４μｍの乾燥膜を形成した。得られた乾燥膜に対して、マスキング部（非露光部）が２．５ｃｍ×５ｃｍとなるフォトマスクを介して、３６５ｎｍ換算の露光パワー（露光出力）が２５ｍＷ／ｃｍ２である超高圧水銀ランプのＵＶ光を全面一括で照射した（露光量は２５０ｍＪ／ｃｍ２）。露光の際に、３３０ｎｍ以下の光はカットした。また、乾燥膜とフォトマスクとの離間距離は５０μｍとした。
　次いで、上記露光処理後のガラス基板を２．３８％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に４０秒間浸漬して現像し、非露光部を水により洗い流し、乾燥させた。次いで、これをホットプレート上、２３０℃で６０分間加熱することにより、フォトマスクのマスキング部に対応した開口部を有する硬化膜として隔壁を得た。
　得られたネガ型感光性樹脂組成物１および隔壁について、以下の評価を実施した。評価結果を表３に示す。
（評価）
＜隔壁の膜厚＞
　レーザ顕微鏡（キーエンス社製、装置名：ＶＫ－８５００）を用いて測定した。
＜隔壁の撥インク性＞
　上記で得られた隔壁上面のＰＧＭＥＡ接触角を下記の方法で測定し、撥インク性の評価とした。
　静滴法により、ＪＩＳ　Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して、硬化膜上面３ヶ所にＰＧＭＥＡ滴を載せ、各ＰＧＭＥＡ滴について測定した。液滴は２μＬ／滴とし、測定は２０℃で行った。接触角は、３測定値の平均値から求めた。
＜開口部の親インク性＞
　上記で得られた隔壁で囲まれた開口部のＰＧＭＥＡ接触角を上記の撥インク性の評価方法と同様の方法で測定し、親インク性の評価とした。
　なお、ＰＧＭＥＡ接触角が４０度以上であれば撥インク性が良好であると言える。また、ＰＧＭＥＡ接触角が５度以下であれば親インク性が良好であると言える。
＜ネガ型感光性樹脂組成物の貯蔵安定性＞
　ネガ型感光性樹脂組成物１を室温（２０～２５℃）で２０日間保管した。その後、ネガ型感光性樹脂組成物１の状態（透明または白濁）を目視により観察した後、上記と同様にして隔壁および硬化膜（ただし、ガラス基板の大きさを７．５ｃｍ四方とする）を製造した。なお、製造途中、塗膜の状態で、膜表面の異物の有無を目視、およびレーザ顕微鏡で観察した。
　得られた隔壁および硬化膜の外観、膜表面の異物の有無を目視、およびレーザ顕微鏡で観察して、保管前のネガ型感光性樹脂組成物１から上記と同様に形成した隔壁および硬化膜（ただし、ガラス基板の大きさを７．５ｃｍ四方に変更）と比較して以下の基準により評価した。
　◎：塗膜をレーザ顕微鏡および目視で観察しても異物が確認できず、保管前のネガ型感光性樹脂組成物から形成した隔壁および硬化膜と同様の外観である。
　○：塗膜をレーザ顕微鏡で観察した場合に粒子状の異物が確認できる。
　△：塗膜を目視で観察した場合に粒子状の異物が確認できる。
　×：保管後のネガ型感光性樹脂組成物が白濁する。
（例１１～１９）
　表３に示す組成により例１０と同様にして、例１１～例１９のネガ型感光性樹脂組成物を製造した。得られたネガ型感光性樹脂組成物を用いて、例１０と同様にして隔壁を製造した。得られたネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、開口部について例１０と同様にして評価を行った。結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　本発明の撥インク剤は、例えば、感光性樹脂組成物等に含有して用いて、有機ＥＬ素子、液晶素子のカラーフィルタおよびＴＦＴアレイ等の光学素子において、ＩＪ法によるパターン印刷を行う際の隔壁を形成するのに好適である。
　本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、有機ＥＬ素子、液晶素子のカラーフィルタおよびＴＦＴアレイ等の光学素子において、ＩＪ法によるパターン印刷を行う際の隔壁形成用等の組成物として好適に用いることができる。
　本発明の隔壁は、有機ＥＬ素子において、発光層等の有機層をＩＪ法にてパターン印刷するための隔壁（バンク）、あるいは液晶素子においてカラーフィルタをＩＪ法にてパターン印刷するための隔壁（この隔壁はブラックマトリックス（ＢＭ）を兼ねることができる。）等として利用できる。
　本発明の隔壁はまた、ＴＦＴアレイにおいて導体パターンまたは半導体パターンをＩＪ法にてパターン印刷するための隔壁等として利用できる。
　本発明の隔壁は例えば、ＴＦＴのチャネル層をなす有機半導体層、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、ゲート配線、およびソース配線等をＩＪ法にてパターン印刷するための隔壁等として利用できる。
　なお、２０１４年６月９日に出願された日本特許出願２０１４－１１８４７５号の明細書、特許請求の範囲、要約書および図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
１…基板、２１…塗膜、２２…乾燥膜、２３…露光膜、２３Ａ…露光部、２３Ｂ…非露光部、４…隔壁、４Ａ…撥インク層、５…開口部、３１…マスキング部、３０…フォトマスク、９…インクジェットヘッド、１０…インク、１１…ドット、１２…光学素子。

Claims (15)

  1. 　基板表面をドット形成用の複数の区画に仕切る形に形成される隔壁の上面に撥インク性を付与する撥インク剤であって、
    　フッ素原子含有単位と、加熱により脱ブロックしてイソシアネート基を生成しうるブロックイソシアネート基含有単位とを有し、フッ素原子の含有率が１～４０質量％の重合体からなる、撥インク剤。
  2. 　前記ブロックイソシアネート基が脱ブロックしてイソシアネート基となる１０時間半減期温度が６０～１８０℃である、請求項１に記載の撥インク剤。
  3. 　前記ブロックイソシアネート基が下記式（１）で示される、請求項１または２に記載の撥インク剤。
    －ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｂ　　…（１）
    （式（１）中、Ｂは１価アルコール類、フェノール類、ラクタム類、オキシム類、アセト酢酸アルキルエステル類、マロン酸アルキルエステル類、フタルイミド類、イミダゾール類もしくは、ピラゾール類が有する活性水素の１つを除いた基；塩素原子もしくはニトリル基；または亜硫酸水素ナトリウムの水素を除いた基である。）
  4. 　Ｂが、オキシム類の水酸基の水素原子を除いた基、または、ピラゾール類の環を構成する窒素原子に結合した活性水素を除いた基である、請求項３に記載の撥インク剤。
  5. 　前記重合体が炭化水素鎖を主鎖とし、質量平均分子量が５×１０３～１×１０５の範囲にある重合体であり、前記フッ素原子含有単位がエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキレン基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基を有する単位である、請求項１～４のいずれか１項に記載の撥インク剤。
  6. 　前記重合体が、さらに、酸性基を有する単位、エチレン性二重結合を有する単位、水酸基を有する単位およびポリオキシアルキレン鎖を有する単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の単位を有する、請求項５に記載の撥インク剤。
  7. 　前記重合体が加水分解性シラン化合物の部分加水分解縮合物であり、前記フッ素原子含有単位が、エーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキレン基および／またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基を有する基がケイ素原子に結合したシロキサン単位である、請求項１～４のいずれか１項に記載の撥インク剤。
  8. 　前記部分加水分解縮合物が、フッ素原子含有基を有する加水分解性シラン化合物とブロックシソシアネート基を有する加水分解性シラン化合物とを含む加水分解性シラン化合物混合物の部分加水分解縮合物であって、該加水分解性シラン化合物混合物は、任意に、ケイ素原子に４個の加水分解性基が結合した加水分解性シラン化合物、エチレン性二重結合を有する基を有しかつフッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物、ケイ素原子に結合した炭化水素基のみを有する加水分解性シラン化合物およびメルカプト基を有しかつフッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の加水分解性シラン化合物を含む、請求項７に記載の撥インク剤。
  9. 　前記基板の少なくとも前記隔壁が形成される表面が、イソシアネート基と反応性を有する官能基を有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の撥インク剤。
  10. 　光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂または光硬化性を有するアルカリ可溶性単量体と、光重合開始剤と、請求項１～８のいずれか１項に記載の撥インク剤と、を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
  11. 　さらに、黒色着色剤を含有する、請求項１０に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
  12. 　基板表面をドット形成用の複数の区画に仕切る形に形成された隔壁であって、請求項１０または１１に記載のネガ型感光性樹脂組成物の硬化物からなる隔壁。
  13. 　前記隔壁が、イソシアネート基と反応性を有する官能基を有する基板上に形成されている、請求項１２に記載の隔壁。
  14. 　基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する隔壁とを有する光学素子であって、前記隔壁が請求項１２または１３に記載の隔壁で形成されていることを特徴とする光学素子。
  15. 　前記ドットがインクジェット法で形成されている、請求項１４に記載の光学素子。
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