WO2015137448A1

WO2015137448A1 - Ｅｌ素子、ｅｌ素子用基板、照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置

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Abstract

　本発明のＥＬ素子（１０、２０、１１１、１２１）は、透明電極（４、１０４）、発光層（３、１０３）、及び対向電極（２、１０２）がこの順に積層されたＥＬ発光部（５、１０５）と、凹凸形状を有するとともに前記発光層（３、１０３）で発生した光を外部に出射する光学シート（９）が表面に配置された透光性基板（１０７）と、光散乱層（６、１０６）とを備える。光散乱層（６、１０６）は、光散乱粒子（１６Ａ、１６Ｂ）を含んで構成され、前記光散乱粒子（１６Ａ、１６Ｂ）によって構成される凝集体（１７）により凹凸形状が形成されているとともに前記ＥＬ発光部（５、１０５）の前記透明電極（４、１０４）に向いた第１表面（６ａ）と、密集状態の前記光散乱粒子（１６Ａ、１６Ｂ）が前記第１表面の前記凹凸形状に比べて滑らかな面に沿って整列しているとともに前記透光性基板（１０７）に向いた第２表面（６ｂ）とを有し、前記ＥＬ発光部（５、１０５）と前記透光性基板（１０７）との間に配置されている。

Description

ＥＬ素子、ＥＬ素子用基板、照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置

　本発明は、ＥＬ素子（エレクトロ・ルミネッセンス素子）、ＥＬ素子用基板、照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置に関する。
　本願は、２０１４年３月１４日に日本に出願された特願２０１４－０５１９６３号及び２０１４年３月１４日に日本に出願された特願２０１４－０５１９６４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　従来、例えば、照明装置、ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置における表示部や光源（表示用光源）、あるいは照明用光源として、ＥＬ素子を用いた装置が知られている。
　このようなＥＬ素子として、例えば、蛍光有機化合物を含む発光層を陽極と陰極との間に挟んだ発光構造が知られている。この発光構造が透光性基板の片面上に設けられた構成を有する有機ＥＬ素子が用いられることが多い。
　このような有機ＥＬ素子においては、陽極と陰極の間に直流電圧を印加し、発光層に電子及び正孔を注入して再結合させることにより励起子を生成し、この励起子が失活する際の光の放出を利用して有機ＥＬ素子は発光する。このため、発光構造体を構成する電極は、少なくとも光取り出し側の電極が透明電極で構成される。一般には、透光性基板上に設けられた陽極が透明電極で形成され、発光層から出射された光は、この透明電極と透光性基板とを通して外部に出射される。
　しかし、このようなＥＬ素子では、発光層から放出された光が透光性基板から外部に射出する際に、一部の光が透光性基板の表面上で全反射されてしまい（一部の光が透光性基板と透明電極との界面で全反射してしまい）、この光は外部に出射されず、内部反射を繰り返すうちに減衰する。これにより、光量損失が生じるという問題があった。この場合、このような光量損失が発生するＥＬ素子における光の外部取り出し効率は（以下、光取り出し効率という）は、一般に２０％程度と言われている。

　このように光取り出し効率が低いと、必要な輝度を得るために、より多くの投入電力が必要となる。また、投入電力が増大されることで、ＥＬ素子に対する負荷が増大して素子自体の信頼性を低下させることにもなる。
　このような問題に関し、ＥＬ素子における光取り出し効率を向上させる目的で透光性基板に微細な凹凸を形成し、全反射することでロスしている光線の一部を外部に取り出すようにしたＥＬ素子が提案されている。例えば、特許文献１には、透光性基板の一方の面に複数のマイクロレンズエレメントを平面的に配列してなるマイクロレンズアレイを形成することが提案されている。

　また、上述したようなＥＬ素子を高輝度で発光させると、高駆動電流を要するため、ＥＬ素子に対する負荷が増大する結果、ＥＬ素子自体が劣化してしまうおそれがあった。
　このため、電極、ＥＬ層、高屈折率層、及び透光体がこの順に配置されてなるＥＬ素子において、高屈折率層及び透光体のそれぞれの光取り出し面側に、光散乱機能を有する層を設けることが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
　特許文献２には、高屈折率層の光取り出し面側の光散乱機能を有する層として、透明樹脂マトリックスに屈折率差を有する透明粒子を分散させた構成が記載されている。

日本国特開２００２－２６０８４５号公報日本国特開２００６－２８６６１６号公報

　しかしながら、上記のような従来技術には、以下のような問題があった。
　特許文献１に記載の技術のように、透光性基板の表面にマイクロレンズエレメントを設ける場合、マイクロレンズエレメントへの入射角によっては、発光層側に反射される光成分がある。このような光成分はＥＬ素子の内部に戻ることにより光量損失を起こしやすいという問題がある。
　したがって、特許文献１に記載の技術では、マイクロレンズエレメントを有しない場合に比べれば、光取り出し効率を向上できるが、さらに光取り出し効率を向上することが強く求められていた。

　更に、特許文献２の場合、発光構造体に用いられる透明電極の屈折率は、一般的な透明樹脂やガラスなどの屈折率に比べて高い。このため、透明電極と隣接する光散乱機能を有する層（以下、光散乱層という）の透明樹脂マトリックスは、透明樹脂マトリックスと透明電極との界面での全反射を抑制するために、透明電極の屈折率に近い高屈折率材料を用いる必要がある。しかし、透明粒子を分散できるような樹脂材料の屈折率は高い物でも透明電極ほどではないため、全反射を低減しにくいという問題がある。
　また、光取り出し効率を高めるには、光散乱層における透明粒子の大きさや分布密度を適切に設定する必要がある。しかし散乱に用いる透明粒子は、透明樹脂マトリックスの内部で凝集を起こしやすく、透明粒子の凝集が起こると光散乱性能や透過率に悪影響を与えるため、配合量に制限がある。
　このため、光散乱層を用いて、光取り出し効率をより向上させる技術が強く望まれていた。

　本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、光取り出し効率を向上することができるＥＬ素子及びＥＬ素子用基板を提供することを目的とする。
　また、本発明は、このようなＥＬ素子を備えることにより、電力消費を低減することができる（省電力性能の向上）、照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置を提供することを目的とする。

　本発明の第１態様に係るＥＬ素子は、透明電極、発光層、及び対向電極がこの順に積層されたＥＬ発光部と、凹凸形状を有するとともに前記発光層で発生した光を外部に出射する光学シートが表面に配置された透光性基板と、光散乱粒子を含んで構成され、前記光散乱粒子が凝集した凝集体により凹凸形状が形成されているとともに前記ＥＬ発光部の前記透明電極に向いた第１表面と、密集状態の前記光散乱粒子が前記第１表面の前記凹凸形状に比べて滑らかな面に沿って整列しているとともに前記透光性基板に向いた第２表面とを有し、前記ＥＬ発光部と前記透光性基板との間に配置された光散乱層と、備える。

　本発明の第１態様に係るＥＬ素子においては、前記光散乱層は、前記第１表面における前記凹凸形状を覆う平滑な接合面を形成する光透過性の平滑化層を介して、前記透明電極と接合されてもよい。

　本発明の第１態様に係るＥＬ素子は、前記透光性基板において前記光散乱層に向いた表面に、接合層を介して接合された、透光性を有するシート状の基材をさらに備え、前記第２表面に設けられた前記光散乱粒子は、前記基材における前記接合層が設けられた表面と反対側の表面に沿って整列してもよい。

　本発明の第１態様に係るＥＬ素子においては、前記第２表面に設けられた前記光散乱粒子は、前記透光性基板における前記光学シートが配置された表面と反対側の表面に沿って整列してもよい。

　本発明の第１態様に係るＥＬ素子においては、前記光散乱層の前記光散乱粒子は、前記第１表面における粒子密度に比べて、前記第２表面における粒子密度が高くてもよい。

　本発明の第１態様に係るＥＬ素子においては、前記光散乱層の前記光散乱粒子は、前記第１表面における平均粒子径に比べて、前記第２表面における平均粒子径が小さくてもよい。

　本発明の第２態様に係る照明装置は、上述した第１態様に係るＥＬ素子を発光部として備える。

　本発明の第３態様に係るディスプレイ装置は、上述した第１態様に係るＥＬ素子を備え、前記ＥＬ素子の前記ＥＬ発光部は、独立に駆動可能な複数の画素を有する。

　本発明の第４態様に係る液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、画像表示素子の背面に配置された、上述した第１態様に係るＥＬ素子とを備える。

　本発明の第５態様に係る液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、画像表示素子の背面に配置された、上述した第２態様に係る照明装置とを備える。

　本発明の第６態様に係るＥＬ素子用基板は、少なくとも一方が透明電極からなる電極対と前記電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体が配置され、ＥＬ素子を形成する。本発明の第６態様に係るＥＬ素子用基板は、透光性基板と、光透過性を有する屈折率調整用粒子と光透過性を有するバインダーとが配合されることにより屈折率が前記透光性基板の屈折率よりも高い一定値に調整された母材部と、前記母材部の屈折率とは異なる屈折率を有する透明材料で形成されて前記母材部の内部に分散された散乱粒子とを有し、前記透光性基板の一方の表面に形成され、前記発光構造体の前記透明電極が配置される光散乱層とを備える。前記バインダーに対する前記屈折率調整用粒子の重量比Ｗ_Ｈと、前記バインダーに対する前記散乱粒子の重量比Ｗ_Ａとが、下記式（１）を満足する。
２≦Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａ≦９　　　　　　　　　　　・・・（１）

　本発明の第６態様に係るＥＬ素子用基板においては、前記散乱粒子の屈折率をｎ_Ａ、前記母材部の屈折率をｎ_ＢＨとするとき、下記式（２）を満足してもよい。
０．０５≦｜ｎ_ＢＨ－ｎ_Ａ｜≦０．５　　　・・・（２）

　本発明の第６態様に係るＥＬ素子用基板においては、前記屈折率調整用粒子は、粒径が１ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に分布する多分散粒子であり、前記散乱粒子は、前記散乱粒子の平均粒径をＲ_Ａ、前記光散乱層の膜厚をＨとするとき、下記式（３）を満足する単分散粒子であってもよい。
１．５≦Ｈ／Ｒ_Ａ≦２０　　　　　　　　　　・・・（３）

　本発明の第７態様に係るＥＬ素子は、上述した第６態様に係るＥＬ素子用基板と、少なくとも一方が透明電極からなる電極対と前記電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体とを備え、前記ＥＬ素子用基板の前記透光性基板は、前記透明電極の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記発光構造体の前記透明電極は、前記透光性基板と前記透明電極との間に前記ＥＬ素子用基板の前記光散乱層を挟むように、前記透光性基板と対向する位置に配置されている。

　本発明の第７態様に係るＥＬ素子においては、前記発光構造体は、独立に駆動可能な複数の画素を形成してもよい。

　本発明の第８態様に係る照明装置は、上述した第７態様に係るＥＬ素子を照明光源として備える。

　本発明の第９態様に係るディスプレイ装置は、上述した第７態様に係るＥＬ素子を表示部として備える。

　本発明の第１０態様に係る液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、前記画像表示素子の背面に照明光源として配置された、上述した第７態様に係るＥＬ素子とを備える。

　本発明の第１１態様に係る液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、前記画像表示素子の背面に配置された、上述した第８態様に係る照明装置とを備える。

　本発明の上記態様に係るＥＬ素子によれば、透明電極に向いた第１表面と透光性基板に向いた第２表面とで、光散乱粒子の配置を変えた光散乱層を備えるため、光取り出し効率を向上することができるという効果を奏する。
　また、本発明の上記態様に係る照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置によれば、本発明の上記態様に係るＥＬ素子を備えるため、省電力性能を向上することができるという効果を奏する。

　本発明の上記態様に係るＥＬ素子用基板及びＥＬ素子によれば、光散乱層が、屈折率調整用粒子とバインダーとが配合された透光性基板よりも高い屈折率に調整された母材部と散乱粒子とを有し、バインダーに対する屈折率調整用粒子の重量比Ｗ_Ｈを、散乱粒子の重量比Ｗ_Ａの２倍以上９倍以下にしている。このため、ＥＬ素子の発光構造体入射する光の光取り出し効率を向上することができるという効果を奏する。
　また、本発明の上記態様に係る照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置によれば、本発明の上記態様に係るＥＬ素子を備えることにより電力消費を低減することができるという効果を奏する。

本発明の第１実施形態に係る液晶ディスプレイ装置及びＥＬ素子の構成を示す模式的な断面図である。図１におけるＡ部の模式的な部分拡大図である。図２におけるＣ部の模式的な部分拡大図である。図２におけるＤ部の模式的な部分拡大図である。本発明の第１実施形態に係るＥＬ素子の製造工程の一例を示す模式的な工程説明図である。本発明の第１実施形態に係るＥＬ素子の製造工程の一例を示す模式的な工程説明図である。本発明の第１実施形態に係るＥＬ素子の製造工程の一例を示す模式的な工程説明図である。本発明の第１実施形態に係るＥＬ素子の変形例における主要部の構成を示す模式的な断面図である。本発明の第２実施形態に係る液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図である。本発明の第２実施形態に係る液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図であって、図６ＡにおけるＡ部を示す模式的な拡大図である。本発明の第２実施形態に係る第１変形例の液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図である。本発明の第２実施形態に係るＥＬ素子の第２変形例の構成を示す模式的な断面図である。

　以下、図面を参照して本発明を適用した実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際のＥＬ素子、ＥＬ素子用基板、照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置の寸法関係とは異なる場合がある。

（第１実施形態）
　以下では、本発明の第１実施形態について添付図面を参照して説明する。
　本発明の第１実施形態に係るＥＬ素子及びＥＬ素子を備える液晶ディスプレイ装置について説明する。
　図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶ディスプレイ装置及びＥＬ素子の構成を示す模式的な断面図である。図２は、図１におけるＡ部の模式的な部分拡大図である。図３Ａは、図２におけるＣ部の模式的な部分拡大図である。図３Ｂは、図２におけるＤ部の模式的な部分拡大図である。
　なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

　図１に示すように、第１実施形態に係る液晶ディスプレイ装置５０は、液晶パネル１１（画像表示素子）、及び第１実施形態に係るＥＬ素子１０を備える。なお「ＥＬ」はエレクトロ・ルミネッセンスを表す。

　液晶パネル１１は、液晶を用いた画像表示素子であり、詳細構成の図示は省略するが、公知の種々の構成を採用することができる。
　液晶パネル１１に好適な構成の例としては、例えば、平面視矩形状に配列された画素における光透過率を、偏光板に挟まれた液晶層の偏光状態を画素ごとに独立して制御することにより変化させて、画像表示を行う構成が可能である。この場合、液晶層の偏光状態は、画素ごとに配置された図示略の電極によって、画像信号に応じた電界を印加することにより制御される。

　ＥＬ素子１０は、第１実施形態では、液晶パネル１１の背面に配置され、液晶パネル１１を背面から照明するための発光部（発光装置）であり、液晶ディスプレイ装置５０における照明装置を構成している。
　このため、ＥＬ素子１０は、均一な照明光を液晶パネル１１に照射できればよいが、第１実施形態では、独立に発光可能な複数の発光画素を有している。図１には、一発光画素における構成を示しており、このため、ＥＬ素子１０では、図示のような構成が、図示の左右方向及び図示奥行き方向に複数隣接して形成されている。

　ＥＬ素子１０の概略構成は、対向基板１、発光構造体５（ＥＬ発光部）、光散乱層６、透光性基板７、及び光指向性フィルム９がこの順に積層された構成を備える。
　発光構造体５は、液晶パネル１１に照射する照明光をＥＬ発光によって発生する装置部分である。
　第１実施形態では、発光構造体５で発生した光Ｂ０は、光散乱層６、透光性基板７、及び光指向性フィルム９を透過して、光Ｂ１として外部に出射され、液晶パネル１１に照射される。
　本明細書において、「透光性」とは、特に断らない限り、発光構造体５で発生した光Ｂ０の波長光に関する透光性を意味する。

　対向基板１及び透光性基板７は、互いの間に発光構造体５及び光散乱層６を挟むため、互いに対向して配置された板状またはシート状の部材である。
　対向基板１は、第１実施形態では、ＥＬ素子１０の厚さ方向に垂直な一方の外表面を形成している。
　対向基板１は、特に透光性を必要とはしないため、発光構造体５を積層可能な適宜の材質、例えば、合成樹脂、ガラス、金属などを用いることが可能である。
　第１実施形態では、一例として、後述する透光性基板７と同様の材質を採用している。

　透光性基板７の光透過率は、全光線透過率として、５０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
　透光性基板７に用いる材料としては、種々のガラス材料を用いることができる。この他の材料として、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル樹脂）、ポリカーボネート、ポリスチレン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート樹脂）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート樹脂）等の合成樹脂材料を用いることができる。
　合成樹脂材料を用いる場合、特に好ましい材料はシクロオレフィン系のポリマーである。このポリマーは、加工性及び耐熱性、耐水性、光学透光性等の材料特性の全てにおいて優れた材料である。

　発光構造体５は、透明電極４、発光層３、及び対向電極２がこの順に積層され、対向電極２が対向基板１に向いた状態で、対向基板１上に配置されている。
　発光構造体５においては、透明電極４と対向電極２とに電圧を印加することにより発光層３が発光する。発光構造体５の構成としては、従来公知のさまざまな構成を採用することができる。

　透明電極４は、発光層３に電圧を印加するための一方の電極（第１電極）であり、光Ｂ０を透過させることができる材質からなる。このような透光性を有する電極材料としては、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などの例を挙げることができる。

　対向電極２は、発光層３に電圧を印加するための他方の電極（第２電極）である。対向電極２の材質は、透明電極４と同様の材質を採用することもできる。しかし、第１実施形態では、対向電極２は透光性の有無や程度は問わないため、対向電極２の材料としては、導電性が良好な適宜の金属材料、例えば、アルミニウム、銀、銅などを採用することもできる。
　第１実施形態では、なるべく多くの光Ｂ０を光指向性フィルム９から出射するため、対向電極２は、良好な光反射機能を有する材料を採用することが好ましい。対向電極２の光反射率は、５０％以上１００％以下であることが好ましい。
　対向電極２として、光反射率が低いかあるいは透明な材質を用いる場合には、対向電極２から対向基板１までの間に、光反射層を設けることが好ましい。この光反射層は、対向電極２と対向基板１との中間に設けてもよいし、対向基板１あるいは対向電極２に積層して設けたり、対向基板１の内部に設けたりすることも可能である。
　また、対向基板１自体を、光反射性の材質で製作することにより、対向基板１が光反射層を兼ねる構成とすることも可能である。

　透明電極４及び対向電極２の極性は特に限定されないが、第１実施形態では、一例として、透明電極４を陽極、対向電極２を陰極として用いている。

　発光層３は、例えば、白色発光層とすることができる。この場合には、透明電極４をＩＴＯで形成し、対向電極２をアルミニウムで形成し、透明電極４から対向電極２に向かって、ＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）／α－ＮＰＤにルブレン１％ドープ／ジナクチルアントラセンにペリレン１％ドープ／Ａｌｑ３／フッ化リチウムが、この順に積層された構成を採用することができる。
　ただし、発光層３の構成は、これに限定されず、発光層３から射出する光線の波長を、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を示す波長に設定することのできる適宜材料を用いた任意の構成を採用することが可能である。
　また、液晶ディスプレイ装置５０をフルカラーディスプレイ用途で使用する場合には、例えば、発光層３を、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応した３種類の発光材料に塗り分けた構成や、白色発光層上にカラーフィルターを重ねた構成を採用することができる。

　第１実施形態では、ＥＬ素子１０の発光が発光画素ごとに制御されるため、発光構造体５は、各発光画素に対応して形成され、各発光画素の透明電極４、対向電極２には、図示略の駆動部に配線されている。

　光散乱層６は、発光層３で発生し、透明電極４に入射した光を透光性基板７側に透過させるとともに、散乱して光の進行方向を変化させる層状部であり、１種類以上の光散乱粒子を含んで構成される。
　光散乱層６は、層厚方向に、光散乱粒子の粒子密度を変えることで、透明電極４から入射する光Ｂ０が透過しやすく、透光性基板７を通じて入射する光を透光性基板７に向けて反射しやすくなる構成としている。
　具体的には、図２に模式的に示すように、光散乱層６は、第１表面６ａと第２表面６ｂとの間に、第１光散乱層６Ａと、第２光散乱層６Ｂとが形成されている。
　図２は模式図のため、第１光散乱層６Ａと第２光散乱層６Ｂとの間に境界面Ｓを図示しているが、境界面Ｓに、物理的な界面が形成されることは必須ではない。例えば、第１光散乱層６Ａから第２光散乱層６Ｂに、光散乱粒子の粒子密度が連続的に変化し、物理的な界面が形成されない構成が可能である。
　第１実施形態では、境界面Ｓは、製法上の光散乱粒子の粒子密度を切り替えた境界の位置を示しており、必ずしも物理的な界面にはなっていない。

　第１光散乱層６Ａは、透明電極４に第１表面６ａが向くように配置された層状部である。第１実施形態では、第１光散乱層６Ａは、平滑化層１２を介して透明電極４の表面４ａに接合されている。

　図３Ａに示すように、第１光散乱層６Ａは、光散乱粒子１６Ａがバインダー１９Ａ中に分散された構成を有する。
　光散乱粒子１６Ａとしては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機系粒子、アクリル、スチレン、アクリル／スチレン共重合体、メラミン等の有機系粒子、あるいはこれらの粒子から選ばれた２種類以上の粒子を混合した混合粒子を採用することができる。
　光散乱粒子１６Ａの平均粒子径としては、５０ｎｍ～１０００ｎｍが好ましく、１００ｎｍ～３００ｎｍがより好ましい。なお、粒子径は、ＳＡＬＤ－７１００（商品名；島津製作所製）を用いて測定できる。
　第１光散乱層６Ａの第１表面６ａは、光散乱粒子１６Ａが塊状に凝集して形成された凝集体１７が分布することによって凹凸形状が形成されている。この凹凸形状は、凝集体１７により形成されるため、規則性を有しておらず、凹凸ピッチや深さは、ばらついている。第１表面６ａの凹凸の大きさとしては、隣接する凹凸の高低差が、０．２μｍ～３μｍ程度であることが好ましい。
　１つの凸部を形成する凝集体１７の粒子数としては、光散乱粒子１６Ａの粒径分布にもよるが、例えば、２個～１０個程度が好ましい。

　第１光散乱層６Ａにおいて、光散乱粒子１６Ａの粒子密度は、第１表面６ａから境界面Ｓに向かうにつれて増大することが好ましい。ただし、後述する第２光散乱層６Ｂにおける光散乱粒子１６Ｂの粒子密度に比べて低いことが好ましい。

　バインダー１９Ａは、その屈折率が光散乱粒子１６Ａの屈折率と屈折率差を有する適宜の透明樹脂材料で構成される。
　バインダー１９Ａのバインダーマトリックス材料としては、例えば、電離放射線硬化型または熱硬化型の合成樹脂、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル／スチレン系の共重合樹脂を使用することができる。
　電離放射線として紫外線を用いる場合、バインダーマトリックス材料に光散乱粒子１６Ａを混合したハードコート層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤は、公知の光重合開始剤を用いることができるが、用いるバインダーマトリックス形成材料に適した光重合開始剤を用いることが好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類等を用いることができる。光重合開始剤の使用量は、バインダーマトリックス形成材料に対して０．５重量部以上２０重量部以下である。好ましくは１重量部以上５重量部以下である。

　平滑化層１２は、第１光散乱層６Ａを覆う平滑な接合面１２ａを形成するとともに、第１光散乱層６Ａを透明電極４に接合するための層状部であり、光透過性を有する合成樹脂からなる。
　平滑化層１２の材質としては、バインダー１９Ａに好適な上記の合成樹脂のうちから適宜の樹脂材料を選択することが可能である。
　ただし、平滑化層１２の屈折率は、光Ｂ０が表面４ａで全反射されないか、または全反射される量を低減できるような屈折率とする。すなわち、平滑化層１２の屈折率は、透明電極４の屈折率以上、または透明電極４の屈折率未満の場合に透明電極４の屈折率に近い屈折率を有する。透明電極４の屈折率未満の場合の屈折率差は、０．４以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましい。

　一般に、透明電極４に用いる材料の屈折率は、高屈折率であること多いため、これに応じて平滑化層１２を高屈折率化する。このため、上述のバインダー１９Ａと同様の樹脂材料に屈折率調整用粒子（後述する符号１０６ｂ）を添加した構成も可能である。
　例えば、屈折率調整用粒子としては、例えば、ジルコニア、チタニア、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛等の金属酸化物のうち１種を単体で、または２種以上を混合して用いることができる。この中でも特に、ジルコニア及びチタニアは、屈折率が高く、化学的安定性に優れ、可視光域における光の透過率が高く、粒径が揃え易い等の性質を備えるため好ましい。
　また、これらの屈折率調整用粒子は、表面が修飾されていてもよい。
　また、光散乱層６において、屈折率調整用粒子は、粒径ＲＨが１ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に分布する多分散粒子であることが好ましい。一方、光散乱粒子１６Ａは、単分散性粒子であることが好ましい。なお、屈折率調整用粒子は、粒径ＲＨを１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲とすることで、より分散性を高めることができる。
　屈折率調整用粒子は、上記粒子径の範囲であれば、分散性を考慮し適宜選択することにより、光散乱層６の屈折率を適切なものとすることができる。
　ここで、「単分散性粒子」とは、粒径分布が、ほぼ一定サイズに揃っていて粒径分布が狭い粒子群を言う。典型的には、粒子の粒子径が平均粒径Ｒ_Ａ±Ｒ_Ａ×０．５ｎｍの粒径範囲内にあることを意味し、より厳密には、Ｒ_Ａ－Ｒ_Ａ×０．５μｍ≦Ｄ１０かつ、Ｄ９０≦Ｒ_Ａ＋Ｒ_Ａ×０．５μｍである。
　他方、「多分散粒子」とは、粒子のサイズが揃っていない粒径分布が広い粒子群を言う。典型的には、粒子の典型的には、粒子の粒子径が平均粒径Ｒ_Ａ±Ｒ_Ａ×０．１μｍの粒径範囲より広いことを意味し、より厳密には、Ｄ１０≦Ｒ_Ａ－Ｒ_Ａ×０．１μｍかつ、Ｒ_Ａ＋Ｒ_Ａ×０．１μｍ≦Ｄ９０である。
　なお、Ｄ１０、Ｄ９０に関し、粒子径分布において細かい粒子径を示す位置をゼロと定義し、かつ、右上がりのカーブとなるオーバーサイズの累積分布が表された場合、累積値が１０％となる粒子径がＤ１０であり、累積値が９０％となる粒子径がＤ９０である。

　このような平滑化層１２を介して、透明電極４に第１光散乱層６Ａを接合することにより、透明電極４を透過して、表面４ａに到達した光Ｂ０は、略全反射されることなく（すべて全反射される場合も含む）平滑化層１２に入射して、第１表面６ａに到達する。
　また、平滑化層１２を備えることにより、透明電極４を平滑な接合面１２ａ上に形成することができるため、透明電極４の層厚のバラツキを抑制することができる。
　例えば、第１表面６ａ上に、直に透明電極４を形成すると、第１表面６ａの凹凸形状に応じて、透明電極４の層厚にバラツキが生じる。透明電極４の層厚がばらつくと、輝度ムラが生じたり、電流のショートが発生したりする問題が生じる可能性があるが、第１実施形態ではこれらの発生を防止できる。

　第２光散乱層６Ｂは、図３Ｂに示すように、境界面Ｓにおいて第１光散乱層６Ａと積層され、透光性基板７に第２表面６ｂが向くように配置された層状部である。第１実施形態では、図２に示すように、第２光散乱層６Ｂは、基材１３に積層された状態で、接合層１４を介して透光性基板７の入射側表面７ａに接合されている。

　図３Ｂに示すように、第２光散乱層６Ｂは、光散乱粒子１６Ｂがバインダー１９Ｂ中に分散された構成を有する。
　光散乱粒子１６Ｂとしては、上述した光散乱粒子１６Ａに好適な粒子材料のうちから適宜の１種以上の粒子材料を選択することができる。光散乱粒子１６Ｂの種類は、光散乱粒子１６Ａと同じでもよいし、異なっていてもよい。
　光散乱粒子１６Ｂの平均粒子径は、光散乱粒子１６Ａと同様の平均粒子径を採用することが可能である。ただし、後述する層状整列部１８を形成する一つの方法として、光散乱粒子１６Ｂの平均粒径を小径にする場合には、光散乱粒子１６Ａよりも平均粒子径が小さい光散乱粒子１６Ｂを採用することもできる。
　このため、光散乱粒子１６Ｂの平均粒子径としては、例えば、５０ｎｍ～３００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ～１５０ｎｍがより好ましい。

　また、バインダー１９Ｂは、その屈折率が光散乱粒子１６Ｂの屈折率と屈折率差を有する適宜の透明樹脂材料で構成される。具体的には、上述したバインダー１９Ａに好適な材料のうちから、光散乱粒子１６Ｂの屈折率に応じて、適宜の樹脂材料を選択して用いることができる。バインダー１９Ｂの種類は、バインダー１９Ａと同じでもよいし、異なっていてもよい。

　図２に示すように、基材１３は、光散乱層６を積層して、シート状の組立体１５を形成するシート状部材である。
　基材１３の材質としては、透光性を有する樹脂フィルムを採用することができる。例えば、セルローストリアセテート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂からなる延伸フィルムまたは未延伸フィルムを採用することができる。
　基材１３の透過率としては、例えば、９０％以上であることが好ましい。

　接合層１４は、接合層１４を透光性基板７に接合することができ、透光性を有する適宜の粘着剤または接着剤を採用することができる。
　接合層１４として好適な材料としては、例えば、アクリル系、ウレタン系、ゴム系、シリコーン系等の各種の粘着剤、接着剤が挙げられる。
　いずれの場合も、接合層１４は、高温となる発光構造体５に隣接されているため、１００℃で貯蔵弾性率Ｇ’が１．０×１０^＋４（Ｐａ）程度以上である接合層を用いることが望ましい。
　貯蔵弾性率Ｇ’が上記値よりも低いと、使用中に基材１３と透光性基板７との間に位置ずれが生じてしまう可能性がある。このような位置ずれは、発光構造体５の発光画素と、光指向性フィルム９との間の位置ずれにつながり、このような位置ずれは、後述する光指向性フィルム９による光取り出し効率の低下につながるおそれがある。

　なお、基材１３と透光性基板７との間の離間寸法を安定的に確保するために、接合層１４の中に、例えば、ビーズ等の透明の微粒子を混ぜるようにしてもよい。この場合、透明な微粒子の屈折率と、接合層１４のベースとなる材料の屈折率との差は、０．０１未満にすることが好ましい。このような屈折率差の条件を満たすことで、透明の微粒子を接合層に混ぜても、微粒子と接合層１４のベース材料との屈折率差による光の散乱が発生しにくくなり、微粒子を接合層に混ぜても、微粒子とベース材料との屈折率差による光の散乱が抑制される。このため、透過光が基材１３内ではほぼ直進する（完全に直進する場合を含む）。このため、接合層１４を透明な状態に維持することが可能となる。
　また、接合層１４を構成する粘着剤や接着剤は、両面テープでもよいし、単層で形成されてもよい。

　また、基材１３、接合層１４、及び透光性基板７の屈折率は、それぞれの界面（基材１３と接合層１４との界面及び接合層１４と透光性基板７との界面）において、全反射が起こりにくいように、略等しい（等しい場合を含む）屈折率にすることが好ましい。基材１３、接合層１４、及び透光性基板７の屈折率は、例えば、隣接する部材間の屈折率差が、０．１以下であることが好ましい。

　第２光散乱層６Ｂは、第１光散乱層６Ａに、透明電極４を通じて入射して、散乱されつつ進んで入射する光Ｂ０を、散乱させつつ光Ｂ２として基材１３を通して透光性基板７に向けて出射するとともに、透光性基板７から基材１３を通して入射する光Ｂ３は、光Ｂ４のように透光性基板７に向かって反射しやすい構成を有する。
　具体的には、第２光散乱層６Ｂにおける光散乱粒子１６Ｂの粒子密度が、第１光散乱層６Ａの粒子密度以上になっており、かつ、粒子密度が、基材１３の入射側表面１３ａに隣接する第２表面６ｂで最も高くなるように、第２光散乱層６Ｂは構成されている。
　このため、第２光散乱層６Ｂの第２表面６ｂでは、密集状態の光散乱粒子１６Ｂが、第１表面６ａの凹凸形状に比べて滑らかな面である基材１３の入射側表面１３ａに沿って整列しており、入射側表面１３ａの近傍に層状整列部１８が形成されている。層状整列部１８は、光散乱粒子１６Ｂが密集しているため、入射光はほとんど、光散乱粒子１６Ｂを通ることになる。
　これに対して、層状整列部１８と境界面Ｓとの間の領域の第２光散乱層６Ｂは、層状整列部１８に比べて光散乱粒子１６Ｂの粒子密度が低い領域であり、光散乱粒子１６Ｂの間には、バインダー１９Ｂが充填された隙間が形成されている。

　以上説明したように、第１実施形態に係るＥＬ素子１０は、対向基板１と透光性基板７との間に、対向電極２、発光層３、透明電極４、第１光散乱層６Ａ、第２光散乱層６Ｂ、基材１３、及び接合層１４が、対向基板１からこの順に積層されている。

　第１実施形態に係るＥＬ素子１０では、図１に示すように、透光性基板７における入射側表面７ａと反対側の出射側表面７ｂに、接合層８を介して光指向性フィルム９が接合されている。

　光指向性フィルム９は、発光構造体５で発生し、透光性基板７を透過した光を透光性基板７の法線方向である正面方向を中心に向かせる指向性を付与して外部に出射させるため、表面に凹凸形状を有する光学シートである。
　光指向性フィルム９においては、シート状の透光性材料からなる基材部９Ａの一方の表面に、凹凸形状を有する光指向性構造層部９Ｂが設けられている。

　基材部９Ａは、発光層３から出射される光Ｂ０の波長に対して光透過性を有する各種の材料を使用することができ、例えば、光学部材用の合成樹脂材料等を使用することができる。
　このような合成樹脂材料の例として、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネ－ト樹脂、ポリスチレン樹脂、ＭＳ（アクリルとスチレンの共重合体）樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、シクロオレフィンポリマー等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
　その他の例としては、例えば、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等のオリゴマーまたはアクリレート系等からなる電離放射線硬化性樹脂等を挙げることができる。

　光指向性構造層部９Ｂは、基材部９Ａの表面に多角形状の断面が一方向に延ばされた単位プリズムレンズ９ｂを互いに交差するように２軸方向に配列した構成を有する。
　このため、光指向性構造層部９Ｂの表面形状は、複数の平坦面９ａの組み合わせで形成されている。光指向性構造層部９Ｂを形成（加工）する際に、光指向性構造層部９Ｂの頂部には、微小な丸みを有する湾曲面が形成される。頂部に形成される湾曲面以外の部分では、光指向性構造層部９Ｂは、曲面を有しない。
　このように、光指向性構造層部９Ｂの表面に、曲面でなく平坦面９ａを備えることより、光指向性構造層部９Ｂを透過する光、反射する光の透過率、反射率の入射角度に対する角度依存性を強くすること可能となる。このため、光指向性構造層部９Ｂを透過する光の角度が絞られるため、光の指向性を大きくすることが可能となる。

　なお、単位プリズムレンズ９ｂが配列される２軸方向は、特には限定されないが、２軸方向の交差角度は８０°以上９０°以下であることが好ましい。第１実施形態では、一例として、交差角度は９０°としている。図１は、断面図であるため、紙面左右方向に配列された単位プリズムレンズ９ｂが図示され、紙面奥行き方向に配列された単位プリズムレンズ９ｂの図示は省略されている。

　単位プリズムレンズ９ｂの断面形状は、多角形状の一例として、平坦面９ａが頂角θをなす二等辺三角形状に形成された場合の例を図示しいている。頂角θは、８０°以上１００°以下が好ましい。
　ただし、光指向性構造層部９Ｂにおける光再分配効果を高め、光指向性フィルム９から出射される光Ｂ１の指向性を強くするためには、２軸方向における各単位プリズムレンズ９ｂの頂角θを同じ値にすることが好ましい。この場合、指向性の低い角度の方向のブリズムで光が散乱されにくくなる。
　単位プリズムレンズ９ｂの高さは、すべて同一でもよいし、適宜変化されていてもよい。
　光指向性構造層部９Ｂの材質は、基材部９Ａと同一の材質を採用することができる。

　このような構成の光指向性フィルム９は、例えば、上記の材料を予め形成した金型に流し込み凝固させることで成形することができる。この金型は、単位プリズムレンズ９ｂの断面形状と同様の形状を有するダイヤモンドバイトを用い、銅メッキを施した金型母材に対して、単位プリズムレンズ９ｂの外形に対応する凹形状を切削加工することで製造できる。
　また、光指向性フィルム９は、上記のような流し込み凝固により成形する方法の他、熱可塑性樹脂を用いた押出し成形または射出成形や、例えば、紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化性樹脂を用いた電離放射線成形法などで成形することもできる。その際、基材部９Ａ及び光指向性構造層部９Ｂの形状を、一体的に成形してもよいし、例えば、基材部９Ａ、光指向性構造層部９Ｂをそれぞれ分割して成形し、その後に組み立てるようにしてもよい。
　また、いずれの場合にも、光指向性フィルム９を形成する材料に光拡散機能を発揮するフィラー等の拡散剤を分散させて成形することができる。
　さらに、光指向性フィルム９には、帯電防止剤として導電性微粒子のアンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）や、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）等の超微粒子を分散させてもよい。帯電防止剤を分散することで、光指向性フィルム９の防汚性を向上させることができる。

　光指向性フィルム９において、例えば、基材部９Ａ上に、電離放射線成形法などにより光指向性構造層部９Ｂを成形する場合には、基材部９Ａとして、例えば、セルローストリアセテート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂からなる延伸又は未延伸の透明なフィルムを使用することもできる。
　この場合、基材部９Ａの厚さは、用いる材料の剛性等の特性にもよるが、５０μｍ～３００μｍとすることが、加工性及び取扱いの面から見て好ましい。

　このような光指向性フィルム９を、出射側表面７ｂに接合する接合層８は、透光性を有する適宜の粘着剤または接着剤を採用することができる。
　接合層８の材料としては、上述した接合層１４と同様な材料を用いることができる。接合層８の構成としては、上述した接合層１４と同様な構成を採用することができる。ただし、接合層８の材料及び構成は、接合層１４と全く同様である必要はなく、例えば、接合対象の材質の相違や使用時の温度条件の相違などに応じて、上述の材料及び構成のうちから、接合層１４と異なる適宜材料、構成を選択することが可能である。
　接合層８では、透光性基板７の出射側表面７ｂから出射された光が、その出射角度分布を保って光指向性フィルム９に入射できるようにすることが、光指向性フィルム９による指向性を所定の範囲に収めるためには特に重要である。
　このため、接合層８の構成としては、層厚の安定が確保され、かつ、接合層８の透過光の散乱が抑制されるような透明性を有する構成が特に好ましい。具体的には、例えば、接合層８のベース材料との屈折率差が少ないビーズ等の微粒子を接合層８に混ぜた構成などが特に好ましい。また、接合層８の屈折率の値が、光指向性フィルム９の屈折率と透光性基板７の屈折率との間であれば、それぞれ界面（接合層８と透光性基板７との界面及び接合層８と光指向性フィルム９との界面）での反射が抑えられるため、好ましい。

　このようなＥＬ素子１０を製造するには、例えば、透光性基板７の入射側表面７ａに、接合層１４を介して組立体１５を貼り付け、光散乱層６の第１表面６ａに平滑化層１２を設けてから、平滑化層１２の上に発光構造体５を形成する。
　そして、発光構造体５上に対向基板１を貼り合わせる。次に、透光性基板７の入射側表面７ａに接合層８を介して、上述のようにして成形された光指向性フィルム９を貼り合わせる。

　ここで、組立体１５の製造方法について詳しく説明する。
　図４Ａ、図４Ｂ、及び図４Ｃは、本発明の第１実施形態に係るＥＬ素子の製造工程の一例を示す模式的な工程説明図である。

　まず、図４Ａに示すように、基材１３を形成する。基材１３の入射側表面１３ａ及び出射側表面１３ｂは、いずれも平坦面になっている。
　このとき、図示略の接合層１４は、予め出射側表面１３ｂ上に塗工しておいてもよいし、以下に説明する光散乱層６を形成した後に塗工してもよい。

　次に、入射側表面１３ａ上に、第２光散乱層６Ｂを形成するため、光散乱粒子塗液６０Ｂを塗布する（図４Ｂ参照）。
　塗布方法としては、例えば、スピンコート、ダイコート、カーテンコートなど公知の塗布方法から適宜選択することができる。

　光散乱粒子塗液６０Ｂにおいては、未硬化のバインダー１９Ｂに、必要な粒子密度が得られるように光散乱粒子１６Ｂが混合されている。第２光散乱層６Ｂにおいては少なくとも入射側表面１３ａに沿って光散乱粒子１６Ｂが整列する必要がある。
　バインダー１９Ｂ内で、光散乱粒子１６Ｂが沈降する傾向を有するので、このような第２光散乱層６Ｂの構成は、ある程度は自然に形成される。
　このような構成を有する第２光散乱層６Ｂをより確実に形成するには、例えば、微小粒径の光散乱粒子１６Ｂを高濃度に含む光散乱粒子塗液６０Ｂを用いるとよい。この場合、バインダー１９Ｂと光散乱粒子１６Ｂとが混合される過程で、小粒径の光散乱粒子１６Ｂが大粒径の光散乱粒子１６Ｂの隙間に入り込んで行くため、入射側表面１３ａの近傍に光散乱粒子１６Ｂが整列しやすくなる。
　例えば、光散乱粒子１６Ｂが酸化チタン、バインダー１９Ｂがアクリルの場合、粒径が１００ｎｍ未満の酸化チタンを、アクリルに５０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ｂを厚さ０．５μｍ～１μｍとなるように塗布することが好適である。
　また、光散乱粒子１６Ｂの粒径が大きい場合には、自重による沈降効果が高まるため、光散乱粒子塗液６０Ｂにおける光散乱粒子１６Ｂの濃度を低めに設定するとよい。
　例えば、上記と同様の材料、塗布厚さの場合、粒径が１００ｎｍ程度の酸化チタンを、アクリルに５０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ｂが好適である。

　光散乱粒子塗液６０Ｂを塗布後、乾燥、硬化させて、第２光散乱層６Ｂが形成されたら、図４Ｃに示すように、境界面Ｓとなる第２光散乱層６Ｂの上面に、第１光散乱層６Ａを形成するため、光散乱粒子塗液６０Ａを塗布する。
　塗布方法としては、光散乱粒子塗液６０Ｂの塗布方法と同様の方法を採用することができる。

　光散乱粒子塗液６０Ａにおいては、必要な粒子密度が得られるように、未硬化のバインダー１９Ａに光散乱粒子１６Ａが混合されている。第１光散乱層６Ａにおいては、少なくとも、第１表面６ａにおいて、凝集体１７による凹凸形状が形成される必要がある。
　このような構成は、バインダー１９Ａに低濃度の微粒子からなる光散乱粒子１６Ａが含まれている場合に、ある程度は自然に形成される。
　好適となる凹凸形状をより確実に形成するには、例えば、大きめの粒径の光散乱粒子１６Ａを高濃度に含む光散乱粒子塗液６０Ａを用いるとよい。この場合、バインダー１９Ａと光散乱粒子１６Ａとが混合される過程で発生する凝集によって形成される凝集体１７の径が大きくなるため、例えば、０．２μｍ～０．８μｍ程度の好ましい凹凸形状が容易に得られる。
　例えば、光散乱粒子１６Ｂが酸化チタン、バインダー１９Ｂがアクリルの場合、粒径が１００ｎｍを超える酸化チタンを用い、アクリルに３０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ａを用い、厚さ０．５μｍ～１μｍとなるように光散乱粒子塗液６０Ａを第２光散乱層６Ｂ上に塗布することが好適である。
　また、光散乱粒子１６Ａの粒径がそれほど大きくない場合には、光散乱粒子塗液６０Ａにおける濃度を、適宜の塊状に凝集しやすい濃度に設定するとよい。
　例えば、上記と同様の材料、塗布厚さの場合、粒径が１００ｎｍ程度の酸化チタンを、アクリルに２０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ａが好適である。

　光散乱粒子塗液６０Ａを塗布後、乾燥、硬化させると、バインダー１９Ａが収縮して表面に凝集体１７が露出し、凹凸形状を有する第１表面６ａが形成された第１光散乱層６Ａが得られる。
　このような第１光散乱層６Ａは、第１光散乱層６Ａの内部でも光散乱粒子１６Ａが凝集し、これら離間した凝集体１７の間に、バインダー１９Ａが充填された状態になっている。
　このようにして、基材１３上に光散乱層６が形成される。なお、予め基材１３に接合層１４を塗工しなかった場合には、接合層１４を塗工する。
　このようにして組立体１５が製造される。

　このような組立体１５は、例えば、連続シートなどとして、予め製造しておき、ＥＬ素子１０を製造する際に、必要な大きさに切断して、貼り付けることができるため生産効率が高くなり好ましい。

　次に、ＥＬ素子１０の作用について説明する。
　図１に示すように、発光層３で発生した光Ｂ０は、透明電極４の表面４ａに到達する。
　光Ｂ０は、発光層３から種々の方向に放射されるため、所定の配光分布を有している。
　第１実施形態では、図２に示すように、表面４ａと接して、透明電極４の屈折率と近い（一致する場合も含む）屈折率を有する平滑化層１２が設けられている。
　このため、光Ｂ０は、それぞれ進路を略直進して（直進する場合を含む）、表面４ａで略全反射されることなく（完全に全反射されない場合も含む）平滑化層１２に入射して略直進し、第１表面６ａに到達する。
　このため、光Ｂ０は、配光分布が略変わることなく、平滑化層１２内を進んで、第１表面６ａに達する。

　第１表面６ａは、図３Ａに示すように、光散乱粒子１６Ａの凝集体１７によって凹凸形状が形成されているため、平滑化層１２側への戻り光が低減され、光Ｂ０は、効率的に第１光散乱層６Ａ内に入射する。
　すなわち、光散乱粒子１６Ａにより散乱されて平滑化層１２内に戻る光は、凝集体１７の表面から満遍なく外部に出射されるため、凸部の側方から散乱された光は、透明電極４に向かうことなく隣り合う凝集体１７の凸部に再入射する。
　これに対して、例えば、第１表面６ａにおいて、光散乱粒子１６Ａが密集して平面上に整列して構成されている場合、このような光散乱粒子１６Ａは散乱反射面として機能するため、平滑化層１２に向けて出射される散乱光は、すべていったん平滑化層１２に入射して透明電極４に向かう。このため、第１表面６ａが凹凸形状に形成されている場合に比べて光散乱層へ再入射する確率が低下する。
　また、第１表面６ａがバインダー１９Ａのみによる平坦面として形成されている場合、平滑化層１２は、バインダー１９Ａの屈折率に比べて高屈折率であるため、光Ｂ０の入射角によっては全反射が起こる。このため、平滑化層１２への戻り光が多くなる。
　第１実施形態のような第１表面６ａによれば、凹凸形状により、上記のような戻り光の発生が抑制されるため、光Ｂ０が効率的に第１光散乱層６Ａに入射する。

　第１光散乱層６Ａに入射した光Ｂは、光散乱粒子１６Ａによって散乱されて、進行方向を変化させながら、第２光散乱層６Ｂに到達する。
　光Ｂ０は、第２光散乱層６Ｂ内で、光散乱粒子１６Ｂにより散乱されて種々の方向に偏向しつつ進むため、全体として光の進行方向が多様化する。
　そして、図３Ｂに示すように、第２表面６ｂから、入射側の配光分布よりも広範囲に放射される光Ｂ２として、透光性基板７に入射していく。

　図１に示すように、透光性基板７に入射した光Ｂ２のうち、例えば、斜め方向に進む光Ｂ２’は、透光性基板７、接合層８、光指向性フィルム９の内部を略直進して、単位プリズムレンズ９ｂの平坦面９ａに到達する。
　平坦面９ａは、出射側表面７ｂに対して傾斜しているため、光Ｂ２’は、平坦面９ａに対する入射角に応じて屈折され、ＥＬ素子１０の正面方向に近い方向に偏向された光Ｂ５として出射される。

　一方、光Ｂ２のうち、入射側表面７ａから垂直に近い方向に放射される光Ｂ２’’は、対をなす平坦面９ａによって、全反射されるため、光Ｂ３のように、略同様の角度で、入射側表面７ａに戻る。
　このように戻る光Ｂ３は、光散乱層６がない場合には、透光性基板７を出射後に直接的に、透明電極４に入射して、発光構造体５の内部で減衰してしまう。
　しかし、第１実施形態では、図３Ｂに示すように、基材１３を介して、第２光散乱層６Ｂが設けられているため、入射側表面７ａから透明電極４側に向かう光Ｂ３は、基材１３を透過して、第２光散乱層６Ｂの第２表面６ｂに到達する。
　第２表面６ｂには、平坦な入射側表面１３ａに沿って密集して整列しているため光Ｂ０に対して散乱反射面として機能する層状整列部１８が形成されている。このため、光Ｂ３は、光Ｂ４のように散乱反射されて、光Ｂ２と同様に、光指向性フィルム９に向かう光となる。その際、光Ｂ４は、散乱反射されることにより配光分布をもつため、大部分が平坦面９ａによって全反射されない方向に反射される。この結果，光Ｂ４が平坦面９ａに到達すると、その入射角度分布に応じて外部に出射される。

　すなわち、ＥＬ素子１０では、透明電極４を透過した光Ｂ０は、光散乱層６によって散乱されつつ透過するため、光Ｂ２’のように、光指向性フィルム９から外部に出射される光成分が、光散乱層６を有しない場合に比べて増える。
　また、例えば、光Ｂ２’’のように、単位プリズムレンズ９ｂの平坦面９ａで光が全反射される場合にも、光散乱層６の第２光散乱層６Ｂが層状整列部１８（図３Ｂ参照）を備える。このため、図１に白抜き矢印で示すように、単位プリズムレンズ９ｂと層状整列部１８との間で反射を繰り返し、層状整列部１８で散乱反射されることにより、次第に光Ｂ２’と同様に外部に出射させる成分が増えていく。
　このため、層状整列部１８を有しない場合のように、光Ｂ３が透明電極４に戻って光量損失となる成分が低減される。

　このように、ＥＬ素子１０では、透明電極４に向いた第１表面６ａと透光性基板７に向いた第２表面６ｂとで、光散乱粒子の配置を変えた光散乱層６を備えるため、光取り出し効率を向上することができる。
　また、液晶ディスプレイ装置５０は、このようなＥＬ素子１０を備えるため、必要な輝度を得るためのＥＬ素子１０の電力消費量が低減されて、省電力な装置となる。

（変形例）
　次に、第１実施形態に係るＥＬ素子の変形例について説明する。
　図５は、本発明の第１実施形態に係るＥＬ素子の変形例の主要部の構成を示す模式的な断面図である。

　本変形例のＥＬ素子２０においては、上記第１実施形態に係るＥＬ素子１０の基材１３及び接合層１４を削除し、光散乱層６の第２表面６ｂが透光性基板７の入射側表面７ａに形成されている。
　ＥＬ素子２０は、上記第１実施形態に係るＥＬ素子１０に代えて、液晶ディスプレイ装置５０における照明装置として用いることができる。
　以下、上記第１実施形態と異なる点を中心に説明する。

　このようなＥＬ素子２０は、図４Ｂ及び図４Ｃに示すように、透光性基板７の入射側表面７ａ上に、第２光散乱層６Ｂを形成してから、上記第１実施形態と同様に第１光散乱層６Ａを形成する以外は、上記第１実施形態と同様にして製造することができる。

　ＥＬ素子２０によれば、透明電極４と透光性基板７との間に、上記第１実施形態と同様の光散乱層６を備えるため、上記第１実施形態と同様に、光取り出し効率を向上することができる。
　その際、本変形例では、基材１３及び接合層１４が削除されている。このため、これらによる反射や吸収による光量損失がなくなるため、上記第１実施形態に比べて、さらに光取り出し効率を向上することができる。
　また、基材１３及び接合層１４を削除することができるため、製造コストをより低減することができる。

　なお、上記第１実施形態及び変形例の説明では、第１光散乱層６Ａの第１表面６ａを覆う平滑な接合面１２ａを形成する場合の例で説明したが、平滑化層１２を設けなくても、輝度ムラやショートなどが発生しないような層厚の透明電極４を形成することができる場合には、平滑化層１２を省略することができる。

　上記第１実施形態及び変形例の説明では、光散乱層６が、第１光散乱層６Ａと第２光散乱層６Ｂとの二層からなる場合の例で説明したが、層状整列部１８や凹凸形状の第１表面６ａを形成できれば、一定の層厚内で光散乱粒子の配置や粒子密度が変化する一層構造としてもよい。また、３層以上の多層構造としてもよい。

　上記第１実施形態及び変形例の説明では、ＥＬ素子１０、２０が、液晶ディスプレイ装置５０の画像表示素子の背面に配置して用いられた照明装置になっている場合の例で説明したが、ＥＬ素子１０、２０は、画像表示素子以外の対象を照明する照明装置として用いることが可能である。
　また、ＥＬ素子１０、２０は、画素駆動可能であるため、画像信号に基づいて各発光画素を発光させることにより、例えば、画像、文字情報、絵柄パターンなどを表示するディスプレイ装置として用いることも可能である。

　上記第１実施形態及び変形例の説明では、ＥＬ素子１０、２０の発光画素が、独立に駆動可能な複数が画素を構成している場合の例で説明したが、照明の用途によっては、画素駆動することは必須ではない。
　例えば、各発光層を同時に駆動して面発光光源を構成することも可能である。

　上記第１実施形態及び変形例の説明では、光指向性構造層部９Ｂの単位プリズムレンズ９ｂの断面が三角形等の多角柱状のプリズムレンズの場合の例で説明したが、単位プリズムレンズ９ｂは、多角錘状のプリズムレンズとすることが可能である。
　また、光指向性構造層部９Ｂの凹凸形状は、これら以外にも、公知の種々の凹凸形状を採用することができる。例えば、光指向性構造層部９Ｂは、単位プリズムレンズを有さず、大きさや形状が異なる複数の凹凸形状によって形成されていてもよい。

　上記の第１実施形態、変形例に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせを代えたり、削除したりして実施することができる。

（第２実施形態）
　以下では、本発明の第２実施形態について添付図面を参照して説明する。
　まず、本発明の第２実施形態に係るＥＬ素子用基板、ＥＬ素子、照明装置、及び液晶ディスプレイ装置について説明する。
　図６Ａは、本発明の第２実施形態に係る液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図である。図６Ｂは、図６ＡにおけるＡ部の模式的な拡大図である。
　なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

　図６Ａに示すように、第２実施形態に係る液晶ディスプレイ装置１５０は、液晶パネル１１３（液晶を用いた画像表示素子）と、第２実施形態に係る照明装置１１２と、を備える。

　液晶パネル１１３は、図示略の信号源から入力される画像信号に基づいて、画素に対応する液晶シャッターの駆動を行って、透過光を制御することにより画像表示を行う画像表示素子である。

　照明装置１１２は、液晶パネル１１３の背面に配置され、液晶パネル１１３を照射する照明光を供給するバックライトを構成する装置部分であり、第２実施形態では、独立に発光可能な複数の画素を有している。これらの画素は、図示略の駆動部に送出された画像信号等の制御信号に基づいて画素駆動され、駆動された画素が発光する。
　このような画素駆動により、照明装置１１２では、例えば、制御信号に基づいて照明範囲を変化させたり、照明光の色を変えたりすることができる。

　照明装置１１２の主要部の構成は、ＥＬ素子１１１及びガラス基板１１０を備え、これらがこの順に積層されている。
　ＥＬ素子１１１は、照明装置１１２において照明光源を構成する装置部分であり、ガラス基板１１０と反対側から、対向基板１０１、発光構造体１０５、及びＥＬ素子用基板１０８がこの順に積層された構成を有する。

　対向基板１０１は、後述するＥＬ素子用基板１０８に対向して配置され、後述する発光構造体１０５をＥＬ素子用基板１０８との間に挟持する板状またはシート状の部材である。
　対向基板１０１の材質は、適度な機械的強度を有して発光構造体１０５を支持することができ、例えば、水分や外気などから発光構造体１０５を保護することができる材質であれば、特に限定されない。
　対向基板１０１に好適に用いることができる材料の例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等のフィルムを挙げることができる。
　これらの材料は、それぞれ適度な機械的強度、屈折率を有している点で好適である。
　また、対向基板１０１は、厚さ方向に垂直ないずれかの表面に、発光構造体１０５で発生した光をＥＬ素子用基板１０８に向けて反射する光反射層を備えることが好ましい。
　また、対向基板１０１は、光反射性を有する金属材料で形成することも可能であり、この場合には、対向基板１０１自体が光反射層を構成している。

　発光構造体１０５は、対向基板１０１上に配置された対向電極１０２と、対向基板１０１に対向するＥＬ素子用基板１０８の表面に配置された透明電極１０４と、対向電極１０２及び透明電極１０４の間に挟持された発光層１０３とで構成される。
　発光構造体１０５においては、電極対を構成する透明電極１０４と対向電極１０２とに電圧を印加することにより発光層１０３がＥＬ発光する。発光構造体１０５の構成としては、従来公知のさまざまな構成を採用することができる。

　対向電極１０２及び透明電極１０４の極性は特に限定されないが、第２実施形態では、発光層１０３で発生した光をＥＬ素子用基板１０８に向けて出射するため、少なくとも透明電極１０４は良好な透光性を有する電極とする必要がある。
　透明電極１０４に好適な材料の例としては、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ、屈折率１．７～２．３）、ＩＺＯ（登録商標、インジウム亜鉛、屈折率１．９～２．４）などの例を挙げることができる。透明電極１０４の材料としてＩＴＯを用いる場合には、透明電極１０４は陽極とすることが好ましい。
　なお、本明細書において、屈折率、透過率等の測定波長に依存する物理量の数値例を挙げる場合、特に断らない限り、波長５５０ｎｍに対する物理量を表す。

　対向電極１０２の材料としては、対向電極１０２では透光性の有無や程度が問われないため、導電性が良好な適宜の金属材料、例えば、アルミニウム、銀、銅などを採用することができる。
　ＥＬ素子用基板１０８に向かう光を増大させるためには、対向電極１０２の材料は、反射率が高い材料を用いることが好ましい。ただし、対向基板１０１が良好な光反射性を有する場合や、対向基板１０１に光反射層を設けられている場合には、対向電極１０２の材料として、透明電極１０４と同様な材料を採用することも可能である。

　発光層１０３は、例えば、白色発光層とすることができる。この場合には、透明電極１０４をＩＴＯで形成し、対向電極１０２をアルミニウムで形成し、透明電極１０４から対向電極１０２に向かって、ＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）／α－ＮＰＤにルブレン１％ドープ／ジナクチルアントラセンにペリレン１％ドープ／Ａｌｑ３／フッ化リチウムが、この順に積層された構成を採用することができる。
　ただし、発光層１０３の構成は、これに限定されず、発光層１０３から射出する光線の波長を、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を示す波長に設定することのできる適宜材料を用いた任意の構成を採用することが可能である。

　また、第２実施形態では、照明装置１１２は画素駆動されるため、発光構造体１０５は、各画素に対応して形成され、各画素の透明電極１０４、対向電極１０２が図示略の駆動部に配線されている。すなわち、図６Ａでは、１画素の構成のみが記載されているが、対向基板１０１とＥＬ素子用基板１０８との間には、図示の発光構造体１０５に隣り合って、他の画素を構成する複数の発光構造体１０５が配置されている。
　これら複数の発光構造体１０５の配置パターンは、特に限定されないが、例えば、平面視矩形格子状などの配置パターンが可能である。

　ＥＬ素子用基板１０８は、発光構造体１０５を対向基板１０１と反対側から覆うことにより、発光構造体１０５を保護するとともに、発光層１０３で発生して透明電極１０４を透過した光を、外部に取り出すための透光性の板状部材である。
　第２実施形態では、ＥＬ素子用基板１０８は、透明電極１０４の屈折率ｎ_Ｅよりも低い屈折率ｎ_Ｔを有する透光性基板１０７と、透光性基板１０７上に積層して形成され、発光層１０３と反対側の透明電極１０４の表面に密着して配置された光散乱層１０６とを備える。

　光散乱層１０６は、光散乱層１０６と透明電極１０４との界面における全反射と、光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面における全反射とを起こりにくくする。これにより、光散乱層１０６は、発光構造体１０５で発生した光に関して、透明電極１０４から透光性基板１０７への光透過率を向上するために設けられた光透過性の層状部である。
　光散乱層１０６は、図６Ｂに模式的に示すように、母材部１０６Ｂと、散乱粒子１０６Ａとを備える。

　母材部１０６Ｂは、光透過性を有する屈折率調整用粒子１０６ｂとバインダー１０６ａとが配合されることにより、屈折率が一定値ｎ_ＢＨに調整された部分である。
　屈折率ｎ_ＢＨの大きさは、発光構造体１０５で発生した光が、光散乱層１０６と透明電極１０４との界面及び光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面の少なくとも一方において、全反射しにくくなる（全反射しない場合も含む）適宜値に設定する。
　ただし、屈折率ｎ_ＢＨは、透光性基板１０７の屈折率ｎ_Ｔ以下であると、透光性基板１０７の界面では、全反射は発生しないが、光散乱層１０６と透明電極１０４との界面においては、光散乱層１０６を有しない場合よりも全反射が起こりやすくなってしまう。
　このため、屈折率ｎ_ＢＨは、少なくとも透光性基板１０７の屈折率よりも高い屈折率に設定する必要がある。

　例えば、屈折率ｎ_ＢＨを、透明電極１０４の屈折率ｎ_Ｅと、透光性基板１０７の屈折率ｎ_Ｔとの中間の大きさに設定することが可能である。
　具体的には、例えば、透光性基板１０７の屈折率ｎ_Ｔが、１．６０であって、透明電極１０４が、ｎ_Ｅ＝１．９０のＩＴＯの場合、ｎ_ＢＨは、１．６０より大きく１．９０未満が好ましく、１．７０以上１．９０未満がより好ましい。
　ただし、第２実施形態では、光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面における全反射は、後述する散乱粒子１０６Ａの作用により散乱粒子１０６Ａを有しない場合に比べて低減されている。このため、屈折率ｎ_ＢＨは、透明電極１０４の屈折率ｎ_Ｅに近くなるように、屈折率差（ｎ_Ｅ－ｎ_ＢＨ）が小さいことがより好ましい。例えば、屈折率差（ｎ_Ｅ－ｎ_ＢＨ）は、０より大きく、０．１５以下の範囲とすることがより好ましい。

　バインダー１０６ａ及び屈折率調整用粒子１０６ｂの材質は、屈折率ｎ_ＢＨの層状部が形成できれば、特に限定されない。ただし、母材部１０６Ｂを低コストで形成するには、バインダー１０６ａとして低屈折率材料を採用し、より高屈折率の材料からなる屈折率調整用粒子１０６ｂの配合量を調整して、屈折率ｎ_ＢＨを調整することが好ましい。

　バインダー１０６ａに好適な材料の例としては、電離放射線硬化樹脂、熱硬化樹脂のどちらでもよく、樹脂材料の種類としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル／スチレン系の共重合樹脂などを挙げることができる。
　上記樹脂を硬化させる際に、電離放射線として紫外線を用いる場合、ハードコート層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。
　光重合開始剤は、公知の光重合開始剤を用いることができるが、バインダー１０６ａを形成する材料（以下、バインダーマトリックス形成材料）に適した光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類等を用いることができる。
　光重合開始剤の使用量は、バインダーマトリックス形成材料に対して０．５重量部以上２０重量部以下が好ましく、１重量部以上５重量部以下がより好ましい。

　屈折率調整用粒子１０６ｂに好適な材料の例としては、例えば、酸化ジルコニア（屈折率２．４）、酸化チタン（屈折率２．５２、２．７１）、酸化亜鉛（屈折率１．９５）等の金属酸化物を挙げることができる。
　中でも、酸化ジルコニア、酸化チタンは、屈折率の高さ、化学的安定性、可視光域における光の吸収の少なさ、粒径の点で、屈折率調整用粒子１０６ｂの材料として特に好ましい。
　屈折率調整用粒子１０６ｂとしては、上記粒子のうちの１種を用いてもよいし、２種以上を混合した混合粒子を用いてもよい。

　散乱粒子１０６Ａは、母材部１０６Ｂに入射する光を散乱する部材であり、母材部１０６Ｂの屈折率ｎ_ＢＨとは異なる屈折率ｎ_Ａを有する透明材料で形成され、母材部１０６Ｂの内部に分散されている。
　散乱粒子１０６Ａとして好適な材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン等の無機系粒子や、シリコーン、メラミン、アクリル・スチレン共重合粒子等の有機系粒子の例を挙げることができる。
　母材部１０６Ｂ中に分散される散乱粒子１０６Ａは、１種類の材料の粒子を用いてもよいし、２種類以上の材料の粒子を混合して用いてもよい。

　光散乱層１０６の組成は、バインダー１０６ａに対する屈折率調整用粒子１０６ｂの重量比Ｗ_Ｈと、バインダー１０６ａに対する散乱粒子１０６Ａの重量比Ｗ_Ａとが、下記式（１）を満足する組成とする。

２≦Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａ≦９　　　　　　　　　　　・・・（１）

　Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａが２未満の場合、散乱粒子１０６Ａに対する屈折率調整用粒子１０６ｂの含有量が少なすぎる。このため、母材部１０６Ｂの屈折率を高めるために、屈折率調整用粒子１０６ｂを増やすと、散乱粒子１０６Ａの量が多くなりすぎ、散乱粒子１０６Ａの間隔が狭くなる。この結果、散乱粒子１０６Ａにより透明電極１０４に反射される光成分が増大して、光散乱層１０６における透過率が低下してしまう。
　これに対して、光散乱層１０６の透過率が低くなりすぎないように、十分な間隔をおいて散乱粒子１０６Ａが分散されるような含有量を設定する場合、母材部１０６Ｂ内の屈折率調整用粒子１０６ｂの含有量が少なくなりすぎるため、母材部１０６Ｂとして好適な屈折率ｎ_ＢＨが得られなくなる。この結果、母材部１０６Ｂの屈折率ｎ_ＢＨと透明電極１０４の屈折率との差が大きくなりすぎて、母材部１０６Ｂと透明電極１０４との界面での全反射を低減することができなくなる。
　Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａが９を超える場合、散乱粒子１０６Ａに対する屈折率調整用粒子１０６ｂの含有量が過大となり、散乱粒子１０６Ａ同士の凝集が強くなる。このため、散乱粒子１０６Ａが凝集して塊状の状態で、母材部１０６Ｂ中に分散することになる。このように凝集して塊状になった散乱粒子１０６Ａは、断面積が多くなることにより、透明電極１０４に反射される光成分が増大する結果、光散乱層１０６の透過率が低下してしまう。
　また、この場合、Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａが大きくなればなるほど、散乱粒子１０６Ａの絶対数が少なくなったり、上記のように散乱粒子１０６Ａの凝集により塊状の散乱粒子１０６Ａ間の距離が開いたりする。すると、光散乱層１０６への入射光のうち、散乱されずに光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面に到達する光量が増えるため、光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面における全反射を低減しにくくなる。
　なお、Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａは、式（１）の範囲より狭い範囲にあることがより好ましい。例えば、Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａのより好ましい範囲は、４以上７以下である。

　また、光散乱層１０６において、散乱粒子１０６Ａの屈折率ｎ_Ａと母材部１０６Ｂの屈折率ｎ_ＢＨは、下記式（２）を満足することが好ましい。

０．０５≦｜ｎ_ＢＨ－ｎ_Ａ｜≦０．５　　　　　・・・（２）

　｜ｎ_ＢＨ－ｎ_Ａ｜の値（ｎ_ＢＨ－ｎ_Ａの絶対値）が０．０５未満の場合、母材部１０６Ｂと散乱粒子１０６Ａとの屈折率の値が近すぎるため、散乱粒子１０６Ａの散乱性能が弱くなる。このため、光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面での全反射をあまり低減できなくなるため、ＥＬ素子１１１からの光取り出し効率が低下しやすくなる。
　｜ｎ_ＢＨ－ｎ_Ａ｜の値が０．５を超える場合、散乱粒子１０６Ａによる散乱が強くなり、光散乱層１０６としての透過率が低下しやすくなる。

　また、光散乱層１０６において、屈折率調整用粒子１０６ｂは、粒径ＲＨが１ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に分布する多分散粒子であることが好ましく、かつ、散乱粒子１０６Ａは、光散乱層１０６の膜厚をＨとするとき、平均粒径Ｒ_Ａが下記式（２）を満足する単分散粒子であることが好ましい。
　なお、屈折率調整用粒子１０６ｂは、粒径ＲＨを１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲とすることで、より分散性を高めることができる。屈折率調整用粒子１０６ｂは、上記粒子径の範囲であれば、分散性を考慮し適宜選択することにより、光散乱層１０６の屈折率を適切に設定することができる。
　ここで、「単分散粒子」とは、粒径分布が、ある一定サイズに揃っていて粒径分布が狭いである粒子群を言う。典型的には、粒子の粒子径が平均粒径Ｒ_Ａ±１μｍの粒径範囲内にあることを意味し、より厳密には、Ｒ_Ａ－１μｍ≦Ｄ１０かつ、Ｄ９０≦Ｒ_Ａ＋１μｍであるする。
　他方、「多分散粒子」とは、粒子のサイズが揃っていない粒径分布が広い粒子群を言う。典型的に、多分散粒子は、粒子の粒子径が平均粒径Ｒ_Ａ±Ｒ_Ａ×０．１μｍの粒径範囲より広いことを意味し、より厳密には、Ｄ１０≦Ｒ_Ａ－Ｒ_Ａ×０．１μｍ、かつ、Ｒ_Ａ＋Ｒ_Ａ×０．１μｍ≦Ｄ９０の条件を満たすことを意味する。
　なお、Ｄ１０、Ｄ９０に関し、粒子径分布において細かい粒子径を示す位置をゼロと定義し、かつ、右上がりのカーブとなるオーバーサイズの累積分布が表された場合、累積値が１０％となる粒子径がＤ１０であり、累積値が９０％となる粒子径がＤ９０である。

１．５≦Ｈ／Ｒ_Ａ≦２０　　　　　　　　　　・・・（３）

　Ｈ／Ｒ_Ａが１．５未満の場合、光散乱層１０６の膜厚の割に、散乱粒子１０６Ａが大きいため、散乱性が強くなる。このため、光散乱層１０６としての透過率が低下しやすくなる。
　Ｈ／Ｒ_Ａが２０を超える場合、光散乱層１０６の膜厚の割に、散乱粒子１０６Ａが小さいため、散乱性が弱くなる。このため、ＥＬ素子１１１としての光取り出し効率が低下しやすくなる。

　また、光散乱層１０６と透明電極１０４との界面が形成する位置に、散乱粒子１０６Ａの突出を防止し、界面を平坦化する平滑化層（オーバーコート層）を設けてもよい。
　光散乱層１０６と透明電極１０４との界面において、散乱粒子１０６Ａが露出し凹凸が生じてしまうと、例えば、光散乱層１０６上に、透明電極１０４を形成する場合に、透明電極１０４の表面が光散乱層１０６の表面の凹凸に追随した形状で形成されたり、透明電極１０４の膜厚が不均一になったりするおそれがある。この場合、透明電極１０４の電気特性に問題が生じたり、ショートが発生したりするおそれがある。
　平滑化層を設けておくと、このような不具合を確実に防止することができるため、好ましい。
　平滑化層を形成する材料としては、透明電極１０４及び光散乱層１０６のそれぞれの屈折率に近い屈折率を有する樹脂材料を採用することができる。特に好ましい材料は、光散乱層１０６の母材部１０６Ｂと同じ材料である。

　図６Ａに示すように、透光性基板１０７は、発光構造体１０５から光散乱層１０６を透過した光を、ガラス基板１１０に向けて透過する板状またはシート状の部材である。
　透光性基板１０７の材質は、透過率が良好な適宜の透光性材料を採用することができる。
　透光性基板１０７の透過率としては、８５％以上であることが好ましい。
　透光性基板１０７に好適に用いることができる材料の例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等のフィルムを挙げることができる。
　これらの材料は、それぞれ適度な透明性、機械的強度、屈折率を有している点で好適である。

　ガラス基板１１０は、照明装置１１２の光出射側の表面を形成する透光性部材である。
　ガラス基板１１０は、光散乱層１０６と反対側の透光性基板１０７の表面に、透明の接着剤や粘着剤などからなる貼合層１０９を介して、貼り合わせられている。
　貼合層１０９の材質としては、例えば、アクリル系の接着剤や粘着剤などを採用することができる。

　このような照明装置１１２を製造するには、例えば、光散乱層１０６を形成するため、未硬化のバインダー１０６ａに、屈折率調整用粒子１０６ｂ及び散乱粒子１０６Ａを分散させた塗液を調製して、透光性基板１０７の表面に塗布する。
　次に、バインダー１０６ａの硬化タイプに応じて、例えば、電離放射線の照射や加熱を行って硬化させ、透光性基板１０７の表面に光散乱層１０６を形成する。これにより、ＥＬ素子用基板１０８が得られる。
　次に、ＥＬ素子用基板１０８の光散乱層１０６上に、透明電極１０４を形成し、順次、発光層１０３、対向電極１０２を形成して、複数の発光構造体１０５を形成する。
　その後、対向基板１０１とＥＬ素子用基板１０８との間に、発光構造体１０５を挟んだ状態で対向基板１０１を配置して、例えば、ラミネートなどして、対向基板１０１上に発光構造体１０５を密着させる。これにより、ＥＬ素子１１１が形成される。
　次に、ＥＬ素子１１１の透光性基板１０７上に、貼合層１０９を介して、ガラス基板１１０を貼り合わせる。これにより、照明装置１１２が形成される。
　液晶ディスプレイ装置１５０は、このような照明装置１１２のガラス基板１１０を液晶パネル１１３に向けて、液晶パネル１１３の背面に配置することにより、製造することができる。

　次に、液晶ディスプレイ装置１５０及び照明装置１１２の動作及び作用について、ＥＬ素子１１１の動作及び作用を中心として説明する。
　図示略の駆動部から透明電極１０４及び対向電極１０２の間に直流電圧が印加されると、第２実施形態では、透明電極１０４から正孔が発光層１０３に注入され、対向電極１０２から電子が発光層１０３に注入される。注入された電子及び正孔は再結合して励起子を生成し、この励起子の失活する際に光が発光層１０３から放出される。
　発光層１０３において発生した光のうち、透明電極１０４に向かう光は、透明電極１０４に入射し、対向電極１０２に向かう光は、対向電極１０２もしくは対向基板１０１で反射された後に、透明電極１０４に入射する。

　透明電極１０４に入射した光は、入射角に応じて光散乱層１０６を透過する。
　光散乱層１０６においては、屈折率調整用粒子１０６ｂによって屈折率ｎ_ＢＨに調整された母材部１０６Ｂ中に散乱粒子１０６Ａが分散している。
　第２実施形態では、母材部１０６Ｂの屈折率ｎ_ＢＨが、透光性基板１０７の屈折率ｎ_Ｔよりも高い。このため、透光性基板１０７が透明電極１０４に直接積層されている場合に比べて、より多くの光が、光散乱層１０６に入射し、ＥＬ素子用基板１０８と透明電極１０４との界面での全反射が低減される。

　光散乱層１０６に入射した光は、散乱粒子１０６Ａに到達すると、散乱粒子１０６Ａと母材部１０６Ｂとの屈折率差に応じて屈折して、散乱粒子１０６Ａを透過するか、または散乱粒子１０６Ａ内で内部反射を繰り返した後に、光は散乱粒子１０６Ａから出射される。これにより、散乱粒子１０６Ａに入射する光は、入射方向の周りに散乱される。
　第２実施形態では、Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａが上記式（１）を満足するため、屈折率ｎ_ＢＨが良好に調整された状態では、散乱粒子１０６Ａが凝集を起こすことなく、母材部１０６Ｂ中で、透明電極１０４の電極面に沿う方向に適宜離間して分散している。
　このため、光散乱層１０６に入射後、光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面に臨界角未満の入射角となる方向に進む光は、散乱粒子１０６Ａの間を通過する確率が高くなり、光散乱層１０６と透光性基板１０７の界面で全反射を起こすことなく透光性基板１０７に入射する。また、散乱粒子１０６Ａに入射した光も、散乱粒子１０６Ａが凝集を起こしていないため、散乱における断面積が小さく、透明電極１０４に向けて反射される光成分の量よりも、透光性基板１０７に向けて散乱される光成分の量が多くなる。
　一方、光散乱層１０６に入射後、光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面に臨界角を超える入射角となる方向に進む光は、光散乱層１０６内の行程が長くなるため、より小さな入射角で入射する光に比べて、散乱粒子１０６Ａに入射する確率が増大する。散乱粒子１０６Ａに入射した光は、散乱粒子１０６Ａによって散乱されるため、光散乱層１０６と透光性基板１０７との界面に対して、より小さな入射角で入射する光成分が格段に増大する。

　このようにして、上記式（１）を満足する光散乱層１０６によれば、ＥＬ素子用基板１０８が透光性基板１０７のみからなる場合に比べて、透明電極１０４から透光性基板１０７に入射する光量が増大する。透光性基板１０７に入射した光は、ＥＬ素子１１１の外部に出射される。
　このため、ＥＬ素子１１１によれば、光散乱層１０６を有するＥＬ素子用基板１０８を備えるため、発光構造体１０５から入射する光の光取り出し効率を向上することができる。
　第２実施形態に係る照明装置１１２は、このような光取り出し効率が高いＥＬ素子１１１を備えるため、照明光を形成する際の電力消費を低減することができる。

　第２実施形態に係るＥＬ素子１１１は、さらに、上記式（２）、または上記式（３）を満足することによって、より良好な光取り出し効率が得られる。

（第１変形例）
　次に、上記第２実施形態に係る第１変形例の液晶ディスプレイ装置について説明する。
　図７は、本発明の第２実施形態に係る第１変形例の液晶ディスプレイ装置の構成を示す模式的な断面図である。

　図７に示すように、本変形例の液晶ディスプレイ装置１５１は、上記第２実施形態に係る液晶ディスプレイ装置１５０において、照明装置１１２に代えて、上記第２実施形態と同様のＥＬ素子１１１を備える。
　すなわち、液晶ディスプレイ装置１５１は、上記第２実施形態に係る液晶ディスプレイ装置１５０において、貼合層１０９及びガラス基板１１０を削除した構成になっている。
　本変形例のＥＬ素子１１１は、液晶パネル１１３の背面に配置され、液晶パネル１１３を照射する照明光を供給するバックライトを構成している。このため、本変形例は、ＥＬ素子１１１自体を照明装置として用いた場合の例になっている。

　液晶ディスプレイ装置１５１は、上記第２実施形態と同様に照明光源として、ＥＬ素子１１１を備えるため、上記第２実施形態と同様の効果を奏する。

（第２変形例）
　次に、上記第２実施形態に係るＥＬ素子及びディスプレイ装置の第２変形例について説明する。
　図８は、本発明の第２実施形態に係るＥＬ素子の第２変形例の構成を示す模式的な断面図である。

　図８に示すように、本変形例のＥＬ素子１２１は、上記第２実施形態と同様な対向基板１０１、発光構造体１０５、及びＥＬ素子用基板１０８がこの順に積層された構成を有し、さらに透光性基板１０７に貼合層１０９を介してバリアフィルム１２０が積層されている。すなわち、ＥＬ素子１２１は、上記第２実施形態に係る照明装置１１２のガラス基板１１０に代えて、バリアフィルム１２０を備えた基板と同様な構成を有している。
　本変形例のＥＬ素子１２１は、バックライトなどの照明装置として用いることも可能であり、例えば、上記第２実施形態に係る液晶ディスプレイ装置１５０において、照明装置１１２に代えて用いることができる。
　また、ＥＬ素子１２１は、ＥＬ素子１１１と同様に画素駆動可能になっているため、ＥＬ素子１２１自体を表示部とするディスプレイ装置として用いることができる。以下、上記第２実施形態と異なる点を中心に説明する。

　バリアフィルム１２０は、対向基板１０１と反対側のＥＬ素子１２１の表面を構成し、水分や外気などから発光構造体１０５を保護するシート状部材であり、適度な機械的強度、可撓性、及び透光性を備える。
　バリアフィルム１２０の透過率は、８５％以上であることが好ましく、バリアフィルム１２０の屈折率は、光散乱層１０６の屈折率に近くなっていることが好ましい。
　バリアフィルム１２０として、例えば、ＰＥＴ等の基材に酸化ケイ素、アルミナなどを蒸着、スパッタ等により製膜したフィルムものを挙げることができる。

　このような構成のＥＬ素子１２１によれば、ＥＬ素子用基板１０８を備えるため、上記第２実施形態に係るＥＬ素子１１１と同様に、光取り出し効率を向上することができる。
　また、ＥＬ素子１２１は、対向基板１０１、透光性基板１０７を、バリアフィルム１２０と同様に可能性を有する材料で構成することにより、ＥＬ素子１２１全体として、可撓性を備えることができる。このようなＥＬ素子１２１によれば、湾曲した表示面や、照明面を形成することができる。

　なお、上記第２実施形態の説明では、照明装置１１２の光出射側の表面が平板状のガラス基板１１０で構成される場合の例で説明したが、ガラス基板１１０としては、平板ガラスに限定されず、例えば、集光や光拡散を行うための、適宜のレンズ、拡散層などが形成された光学シートを用いたり、このような光学シートがガラス基板１１０に積層された構造を用いることができる。

　また、上記に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせを代えたり、削除したりして実施することができる。
　例えば、上記第２実施形態に係るＥＬ素子１１１は、第２変形例のＥＬ素子１２１と同様に、ＥＬ素子１１１自体を表示部とするディスプレイ装置として用いることができる。
　また、上記第２実施形態に係る照明装置１１２も、ＥＬ素子１１１を画素駆動することにより、画像等を表示するディスプレイ装置として用いることができる。

　以上、本発明の好ましい実施形態を説明し、上記で説明してきたが、これらは本発明の例示的なものであり、限定するものとして考慮されるべきではないことを理解すべきである。追加、省略、置換、およびその他の変更は、本発明の範囲から逸脱することなく行うことができる。従って、本発明は、前述の説明によって限定されていると見なされるべきではなく、請求の範囲によって制限されている。

　以下では、上記第２実施形態に係るＥＬ素子１１１に対応する実施例１～６について、比較例１～４とともに説明する。
　実施例１～６、比較例１～４は、いずれにおいても、対向基板１０１、発光構造体１０５、及び透光性基板１０７の構成は同一であり、光散乱層１０６及び光散乱層１０６に相当する層状部（以下、これらを単に光散乱層という場合がある）の構成のみが異なる。
　下記表１に、実施例１～６、比較例１～４の光散乱層の製作条件を示す。

（実施例１）
　実施例１のＥＬ素子１１１は、以下のようにして製作した。
　透光性基板１０７として、厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムであるＡ４３００（商品名；東洋紡績株式会社製）を用いた。Ａ４３００の透過率は、９２．３％、屈折率ｎ_Ｔは、１．６０である。
　光散乱層１０６の母材部１０６Ｂを形成するバインダーマトリックス形成材料として、硬化時にバインダー１０６ａとなる屈折率１．５２のアクリル系のＵＶ硬化型樹脂（共栄社化学株式会社製）と、光重合開始剤（ＢＡＳＦ製）と、屈折率調整用粒子１０６ｂとして高屈折率微粒子であるジルコニア分散体（株式会社ソーラー製）と、散乱粒子１０６Ａとしてアクリル／スチレン共重合体（綜研化学株式会社製）とを用意した。
　上記材料を適宜配合して、塗液＃１を形成した。塗液＃１における諸元は、表１に示す通りである。
　すなわち、屈折率調整用粒子１０６ｂ、散乱粒子１０６Ａは、それぞれバインダー１０６ａに対する重量比が、Ｗ_Ｈ＝１８０、Ｗ_Ａ＝３０になるように配合した。

　散乱粒子１０６Ａの平均粒径Ｒ_Ａは、ＭＥＫ溶媒に散乱粒子１０６Ａを分散させ、ナノ粒子径分布測定装置ＳＡＬＤ－７１００（商品名；島津製作所製）を用いて測定したところ、単分散であり、Ｒ_Ａ＝２（μｍ）であった。
　また、屈折率調整用粒子１０６ｂの粒径ＲＨは、屈折率調整用粒子１０６ｂの分散液を希釈して同様に測定したところ、多分散であり、ＲＨは、２８ｎｍであった。

　散乱粒子１０６Ａの屈折率は、液浸法により求めたところ、ｎ_Ａ＝１．４９であった。
　液浸法は、屈折率を変えた分散液に、被測定微粒子を浸漬し、光を照射して分散液中の微粒子による散乱光が目視により見えなくなった時の屈折率を微粒子の屈折率とする測定方法である。

　次に、塗液＃１を、スロットダイコータで透光性基板１０７の表面に塗工し、塗液＃１に含まれる溶剤を蒸発させた。その後、高圧水銀灯を用いて酸素濃度が０．０３％以下の雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、塗液＃１を硬化させた。これにより、膜厚Ｈが７μｍの光散乱層１０６を形成された。このようにして実施例１のＥＬ素子用基板１０８を得た。
　また、ＥＬ素子１１１としての評価を行うため、得られたＥＬ素子用基板１０８の光散乱層１０６に透明電極１０４として、屈折率ｎ_Ｅ＝１．９０のＩＴＯを製膜し、さらに発光層１０３、対向電極１０２を形成して、対向基板１０１を貼り合わせて、実施例１のＥＬ素子１１１を得た。

　ここで、光散乱層１０６の膜厚Ｈは、電子マイクロメーター（ニコン製　デジマイクロＭＵ－５０１Ａ）を用いＪＩＳ－Ｋ５６００－１９９９に準じて、有効表面領域全体に一様に分布させた規定箇所の局所膜厚測定を行い、平均膜厚を求めた。なお、有効表面領域は０．１ｍ四方とし、規定箇所数は１０点とした。

　この母材部１０６Ｂの屈折率ｎ_ＢＨを測定するため、バインダー１０６ａに対して重量比Ｗ_Ｈの配合した測定用の塗液を調製し、この塗液を成膜して硬化させた屈折率測定用サンプルを作製した。
　そして、反射分光膜厚計ＦＥ－３０００（商品名；大塚電子製）を用いて、この屈折率測定用サンプルの屈折率を測定したところ、ｎ_ＢＨ＝１．７０であった。

（実施例２～６）
　実施例２～６においては、上記実施例１と、バインダー１０６ａ、屈折率調整用粒子１０６ｂの種類は共通とし、散乱粒子１０６Ａは屈折率、粒径のみ変更した。配合量を変えることによって、異なる塗液＃２～＃６を調製し、必要に応じて光散乱層１０６の膜厚を変えて、ＥＬ素子用基板１０８及びＥＬ素子１１１を作製した。

　実施例２においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．４９、Ｒ_Ａ＝０．８（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝３５０、Ｗ_Ａ＝４０の配合で、塗液＃２を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝６（μｍ）の光散乱層１０６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎ_ＢＨ＝１．７８であった。

　実施例３においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．５２、Ｒ_Ａ＝１．０（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝４０、Ｗ_Ａ＝２０の配合で、塗液＃３を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝７（μｍ）の光散乱層１０６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎ_ＢＨ＝１．６０であった。

　実施例４においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．４９、Ｒ_Ａ＝２．５（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝４５、Ｗ_Ａ＝２０の配合で、塗液＃４を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝３（μｍ）の光散乱層１０６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎ_ＢＨ＝１．６０であった。

　実施例５においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．５３、Ｒ_Ａ＝０．７（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝６０、Ｗ_Ａ＝２５の配合で、塗液＃５を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝１５．０（μｍ）の光散乱層１０６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎ_ＢＨ＝１．６２であった。

　実施例６においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．５２、Ｒ_Ａ＝２．０（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝３５０、Ｗ_Ａ＝４０の配合で、塗液＃６を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝４（μｍ）の光散乱層１０６を形成した点が、実施例１と異なる。本実施例では、ｎ_ＢＨ＝１．７１であった。

（比較例１～４）
　比較例１～４においては、上記実施例１と、バインダー１０６ａ、屈折率調整用粒子１０６ｂの種類は共通とし、散乱粒子１０６Ａは屈折率、粒径のみ変更した。配合量を変えることによって、異なる塗液＃７～＃１０を調製し、光散乱層の膜厚を変えて、比較例のＥＬ素子用基板及びＥＬ素子を作製した。

　比較例１においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．５２、Ｒ_Ａ＝１．５（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝３０、Ｗ_Ａ＝３０の配合で、塗液＃７を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝６（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎ_ＢＨ＝１．５８であった。

　比較例２においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．５２、Ｒ_Ａ＝２．０（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝３００、Ｗ_Ａ＝３０の配合で、塗液＃８を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝１０（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎ_ＢＨ＝１．７８であった。

　比較例３においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．５４、Ｒ_Ａ＝１．０（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝２０、Ｗ_Ａ＝２５の配合で、塗液＃９を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝１（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎ_ＢＨ＝１．５５であった。

　比較例４においては、散乱粒子１０６Ａをｎ_Ａ＝１．４９、Ｒ_Ａ＝２．５（μｍ）として、Ｗ_Ｈ＝０、Ｗ_Ａ＝２５の配合で、塗液＃１０を調製し、透光性基板１０７に塗布して硬化させることにより、Ｈ＝５（μｍ）の光散乱層を形成した点が、実施例１と異なる。本比較例では、ｎ_ＢＨ＝１．５２であった。

（評価）
　上記実施例１～６、比較例１～４について、それぞれのＥＬ素子の光取り出し効率、光散乱層の透過率、光散乱層における散乱粒子の凝集状態、総合評価、上記式（１）～（３）に関する数値を、それぞれ評価した。それらの結果を下記表２に示す。

　光取り出し効率の評価においては、各実施例、各比較例のＥＬ素子を発光させた際の全光束と、光散乱層を削除した比較用のＥＬ素子の全光束とを測定し、比較用のＥＬ素子の全光束に対する光束の増加率による相対評価を行った。
　全光束の測定においては、積分球を用いた全光束測定器であるＬＭＳ－４００（商品名；ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製）を用いて行った。
　評価結果は、表２の「効率」欄に、光束の増加率が２０％以上の場合には「◎」（優、ｖｅｒｙ　ｇｏｏｄ）、５％以上２０未満の場合には「○」（良、ｇｏｏｄ）、５％未満の場合には「×」（悪、ｎｏ　ｇｏｏｄ）と記載した。

　光散乱層の透過率は、各実施例、各比較例のＥＬ素子用基板の透過率と、透光性基板１０７の透過率との差によって求めた。透過率の測定には、分光光度計Ｕ－４１００（商品名；株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いた。
　評価結果は、表２の「透過率」欄に、透過率が８０％以上の場合には「○」（良、ｇｏｏｄ）、８０％未満の場合には「×」（悪、ｎｏ　ｇｏｏｄ）と記載した。

　光散乱層における散乱粒子の凝集状態の評価は、各実施例、各比較例のＥＬ素子用基板の光散乱層を光学顕微鏡ＭＸ５０Ｔ－８７７ＭＤ（商品名；オリンパス製）を用いた観察により評価した。
　評価結果は、表２の「凝集」欄に、凝集が確認されない場合には「○」（良、ｇｏｏｄ）、凝集が確認された場合には「×」（悪、ｎｏ　ｇｏｏｄ）と記載した。

　総合評価は、主に光取り出し効率によって三段階の判定を行い、判定結果を、「◎」（優、ｖｅｒｙ　ｇｏｏｄ））、「○」（良、ｇｏｏｄ）、「×」（悪、ｎｏ　ｇｏｏｄ）と記載した。

　また、表２には、上記式（１）～（３）に対応する諸量の計算値を示し、各実施例、各比較例が上記式（１）～（３）を満足する場合には、「○」（良）、満足しない場合には「×」（悪）と記載した。
　表２によれば、実施例１～３、６は、上記式（１）～（３）をすべて満足している例になっている。実施例４、５は、上記式（１）、（２）を満足している例になっている。比較例１、２、４は、上記式（１）を満足しない例になっている。比較例３は、式（１）、（２）を満足しない例になっている。

　表２に示すように、上記式（１）を満足する実施例１～６は、いずれも、光取り出し効率が良好であり、総合評価は「◎」（優）または「○」（良）であった。
　これに対して、比較例１～４は、上記式（１）を満足しないため、光取り出し効率が悪く、総合評価は、「×」（悪、ｎｏ　ｇｏｏｄ）であった。
　ただし、実施例４、５は、上記式（３）を満足しないため、実施例１～３、６に比べると光取り出し効率が劣る結果になった。

１、１０１　対向基板
２、１０２　対向電極
３、１０３　発光層
４、１０４　透明電極
４ａ　表面
５、１０５　発光構造体（ＥＬ発光部）
６、１０６　光散乱層
６Ａ　第１光散乱層
６Ｂ　第２光散乱層
６ａ　第１表面
６ｂ　第２表面
７、１０７　透光性基板
７ａ　入射側表面
８、１４　接合層
９　光指向性フィルム（光学シート）
９Ｂ　光指向性構造層部
９ａ　平坦面
９ｂ　単位プリズムレンズ
１０、２０、１１１、１２１　ＥＬ素子（照明装置、ディスプレイ装置）
１１　液晶パネル（画像表示素子）
１２　平滑化層
１２ａ　接合面
１３　基材
１５　組立体
１６Ａ、１６Ｂ　光散乱粒子
１７　凝集体
１８　層状整列部
１９Ａ、１９Ｂ、１０６ａ　バインダー
５０、１５０、１５１　液晶ディスプレイ装置
１０６Ａ　散乱粒子
１０６Ｂ　母材部
１０６ｂ　屈折率調整用粒子
１０８　ＥＬ素子用基板
１１０　ガラス基板
１１２　照明装置
１１３　液晶パネル（液晶を用いた画像表示素子）
１２０　バリアフィルム
Ｂ０、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ２’、Ｂ２’’Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５　光

Claims

　透明電極、発光層、及び対向電極がこの順に積層されたＥＬ発光部と、
　凹凸形状を有するとともに前記発光層で発生した光を外部に出射する光学シートが表面に配置された透光性基板と、
　光散乱粒子を含んで構成され、前記光散乱粒子が凝集した凝集体により凹凸形状が形成されているとともに前記ＥＬ発光部の前記透明電極に向いた第１表面と、密集状態の前記光散乱粒子が前記第１表面の前記凹凸形状に比べて滑らかな面に沿って整列しているとともに前記透光性基板に向いた第２表面とを有し、前記ＥＬ発光部と前記透光性基板との間に配置された光散乱層と、
を備えるＥＬ素子。
　前記光散乱層は、
　前記第１表面における前記凹凸形状を覆う平滑な接合面を形成する光透過性の平滑化層を介して、前記透明電極と接合されている請求項１に記載のＥＬ素子。
　前記透光性基板において前記光散乱層に向いた表面に、接合層を介して接合された、透光性を有するシート状の基材をさらに備え、
　前記第２表面に設けられた前記光散乱粒子は、
　前記基材における前記接合層が設けられた表面と反対側の表面に沿って整列している請求項１又は請求項２に記載のＥＬ素子。
　前記第２表面に設けられた前記光散乱粒子は、
　前記透光性基板における前記光学シートが配置された表面と反対側の表面に沿って整列している請求項１又は請求項２に記載のＥＬ素子。
　前記光散乱層の前記光散乱粒子は、
　前記第１表面における粒子密度に比べて、前記第２表面における粒子密度が高い請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のＥＬ素子。
　前記光散乱層の前記光散乱粒子は、
　前記第１表面における平均粒子径に比べて、前記第２表面における平均粒子径が小さい請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のＥＬ素子。
　請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のＥＬ素子を発光部として備える照明装置。
　請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のＥＬ素子を備え、
　前記ＥＬ素子の前記ＥＬ発光部は、独立に駆動可能な複数の画素を有するディスプレイ装置。
　液晶を用いた画像表示素子と、
　画像表示素子の背面に配置された請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のＥＬ素子と、を備える液晶ディスプレイ装置。
　液晶を用いた画像表示素子と、
　画像表示素子の背面に配置された請求項７に記載の照明装置と、
を備える液晶ディスプレイ装置。
　少なくとも一方が透明電極からなる電極対と前記電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体が配置され、ＥＬ素子を形成するＥＬ素子用基板であって、
　透光性基板と、
　光透過性を有する屈折率調整用粒子と光透過性を有するバインダーとが配合されることにより屈折率が前記透光性基板の屈折率よりも高い一定値に調整された母材部と、前記母材部の屈折率とは異なる屈折率を有する透明材料で形成されて前記母材部の内部に分散された散乱粒子とを有し、前記透光性基板の一方の表面に形成され、前記発光構造体の前記透明電極が配置される光散乱層と、
を備え、
　前記バインダーに対する前記屈折率調整用粒子の重量比Ｗ_Ｈと、前記バインダーに対する前記散乱粒子の重量比Ｗ_Ａとが、下記式（１）を満足する、ＥＬ素子用基板。
２≦Ｗ_Ｈ／Ｗ_Ａ≦９　　　　　　　　　　　・・・（１）
　前記散乱粒子の屈折率をｎ_Ａ、前記母材部の屈折率をｎ_ＢＨとするとき、下記式（２）を満足する請求項１１に記載のＥＬ素子用基板。
０．０５≦｜ｎ_ＢＨ－ｎ_Ａ｜≦０．５　　　・・・（２）
　前記屈折率調整用粒子は、
　粒径が１ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に分布する多分散粒子であり、
　前記散乱粒子は、
　前記散乱粒子の平均粒径をＲ_Ａ、前記光散乱層の膜厚をＨとするとき、下記式（３）を満足する単分散粒子である請求項１１又は請求項１２に記載のＥＬ素子用基板。
１．５≦Ｈ／Ｒ_Ａ≦２０　　　　　　　　　　・・・（３）
　請求項１１から請求項１３のいずれか一項に記載のＥＬ素子用基板と、
　少なくとも一方が透明電極からなる電極対と前記電極対に挟まれた発光層とを有する発光構造体と
を備え、
　前記ＥＬ素子用基板の前記透光性基板は、前記透明電極の屈折率よりも低い屈折率を有し、
　前記発光構造体の前記透明電極は、前記透光性基板と前記透明電極との間に前記ＥＬ素子用基板の前記光散乱層を挟むように、前記透光性基板と対向する位置に配置された、ＥＬ素子。
　前記発光構造体は、
　独立に駆動可能な複数の画素を形成している請求項１４に記載のＥＬ素子。
　請求項１４又は請求項１５に記載のＥＬ素子を照明光源として備える照明装置。
　請求項１４又は請求項１５に記載のＥＬ素子を表示部として備えるディスプレイ装置。
　液晶を用いた画像表示素子と、
　前記画像表示素子の背面に照明光源として配置された、請求項１４又は請求項１５に記載のＥＬ素子とを備える液晶ディスプレイ装置。
　液晶を用いた画像表示素子と、
　前記画像表示素子の背面に配置された、請求項１６に記載の照明装置と、を備える液晶ディスプレイ装置。