WO2015076229A1 - フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物およびそれらの硬化物 - Google Patents

フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物およびそれらの硬化物 Download PDF

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phenol
phenol resin
reaction
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篤彦 長谷川
政隆 中西
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日本化薬株式会社
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    • C08G59/62Alcohols or phenols
    • C08G59/621Phenols

Definitions

  • the present invention relates to an epoxy resin composition suitable for electrical and electronic material applications requiring heat resistance, and a cured product thereof.
  • Epoxy resin compositions are widely used in the fields of electrical and electronic parts, structural materials, adhesives, paints, etc. due to their workability and excellent electrical properties, heat resistance, adhesion, moisture resistance (water resistance), etc. It has been.
  • Non-Patent Document 1 Required characteristics such as heat resistance and high fluidity are required.
  • Non-patent Document 2 demands for improving heat resistance are becoming more severe.
  • heat resistance of 150 ° C. or higher has been required due to an increase in semiconductor driving temperature.
  • an epoxy resin having a high softening point tends to have a high heat resistance, but on the other hand, a decrease in thermal decomposition temperature and a decrease in flame retardancy are problems.
  • Epoxy resins generally have low flame retardancy when the Tg is increased. This is due to an increase in crosslink density. However, while high Tg is required for semiconductor peripheral materials that require flame retardancy, it is expected to rapidly develop a resin having these contradictory characteristics. Therefore, it has been urgent to find an epoxy resin that can be expected to have such characteristics.
  • the present invention relates to the following (1) to (7).
  • R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • k represents an integer of 1 to 4
  • n represents an integer of 0 to 10.
  • the phenol resin and epoxy resin of the present invention are a phenol resin or an epoxy resin having a benzopyran structure.
  • a phenol resin or an epoxy resin has a benzopyran structure, it is possible to obtain a resin excellent in both heat resistance and flame retardancy.
  • the phenol resin of the present invention can be obtained by reacting dihydroxybenzenes (a) and ketones (b). First, dihydroxybenzenes (a) will be described. Dihydroxybenzenes (a) are compounds represented by the following formula (2).
  • each R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and k represents an integer of 1 to 4)
  • Dihydroxybenzenes (a) include catechol, 3-methylcatechol, 4-tert-butylcatechol, 3,5-di-tert-butylcatechol, resorcin, 2-methylresorcin, 5-methylresorcin, 2,5- Dimethylresorcin, 4-butylresorcin, 4-hexylresorcin, hydroquinone, 2-methylhydroquinone, 2,6-dimethylhydroquinone, 2,3-dimethylhydroquinone, 2,3,5-trimethylhydroquinone, 2-tert-butylhydroquinone, Examples include 2,5-di-tert-butylhydroquinone, but are not limited thereto.
  • resorcin is particularly preferred.
  • resorcin in order to obtain a compound in which n is larger than 0 in the formula (1) (for example, n is 1 or more), resorcin can be used particularly preferably.
  • Ketones are compounds represented by the following formula (3).
  • Ketones (b) include acetone, methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, 3-methyl-2-butanone, methyl isobutyl ketone, 3-pentanone, 2-methyl-3-pentanone, 2,4-dimethyl-3-pentanone, etc. Acetone and methyl ethyl ketone are preferable, and acetone is particularly preferable.
  • the phenol resin of the present invention is obtained by a condensation reaction between one or more compounds represented by formula (2) and a compound represented by formula (3) under acidic conditions.
  • the reaction can be carried out under basic conditions, but acidic conditions are preferred.
  • the compound represented by the formula (3) is usually used in an amount of 0.25 to 5.0 mol, preferably 0.3 to 2.5 mol, per 1 mol of the compound represented by the formula (2).
  • the acidic catalyst that can be used is not particularly limited, and examples thereof include organic acid catalysts such as toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, and oxalic acid, and inorganic acid catalysts such as hydrochloric acid and sulfuric acid. These may be used alone or in combination of a plurality of types.
  • the amount of the acidic catalyst to be used is generally 0.001 to 15 mol, preferably 0.002 to 10 mol, per 1 mol of the compound represented by the formula (3).
  • the condensation reaction can be performed in the same manner under basic conditions, and the basic catalyst used is not particularly limited as long as it is a known one.
  • a solvent may be used as necessary.
  • the solvent that can be used is not particularly limited as long as it is not reactive with the compound represented by the formula (2) such as ketones, but the compound represented by the formula (2) as a raw material can be easily used. It is preferable to use alcohols as the solvent in terms of dissolution in the solvent.
  • the solvent that can be used include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropyl alcohol, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, dioxane, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, and toluene and xylene.
  • alcohols such as methanol, ethanol, and isopropyl alcohol
  • aprotic polar solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, dioxane, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone
  • An aromatic hydrocarbon etc. are mentioned.
  • the amount used in the case of using a solvent is not particularly limited. For example, it can be used in an amount of 100 to 500 parts by weight per 1 mol of the compound represented by the formula (2).
  • the reaction temperature is usually 10 to 150 ° C., preferably 50 to 140 ° C., and it is particularly preferable to react at 85 ° C. to 140 ° C.
  • the reaction time is usually 0.5 to 20 hours, but is not limited to this because the reactivity varies depending on the type of raw material compound.
  • the reaction is allowed to proceed at a high temperature as a second stage.
  • the second stage high temperature reaction is preferably carried out at 100 ° C. or higher.
  • the acid catalyst is neutralized with a base.
  • a base Sodium hydroxide, sodium carbonate, trisodium phosphate 5 sodium, ammonia etc. are illustrated. At this time, in order to uniformly disperse the base, it is preferable to gradually drop it as an aqueous solution.
  • the phenol resin of the present invention thus obtained is a phenol resin represented by the following formula (1).
  • R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • k represents an integer of 1 to 4
  • n represents an integer of 0 to 10.
  • the peak area of CH 2 carbon is usually 0 or more and 0.3 or less, preferably 0.2 or less, particularly preferably 1 when the peak area of CH 3 carbon derived from acetone is 1. It is 0.1 or less, and very preferably 0.05 or less. In particular, it is preferable to be 0.2 or less because excellent flame retardancy is exhibited.
  • the average value of n in the formula (1) of the molecules constituting the resin is preferably 0.05 to 4, and more preferably 0.1 to 3 phenol resin. This is because the dielectric constant can be lowered by the large number of repetitions.
  • the content ratio of the molecule (phenol compound) in which n is not 0 in the obtained phenol resin is the content ratio calculated by gel permeation chromatography (GPC) (the total area of all peaks in the chromatogram). Is preferably 5 to 80 area%, more preferably 20 to 70 area%.
  • the hydroxyl equivalent is preferably 125 to 250 g / eq, particularly preferably 140 to 200 g / eq.
  • the softening point is preferably from 100 to 200 ° C., particularly preferably from 120 to 180 ° C.
  • the phenol resin of the present invention is useful as a raw material for resins such as cyanate resin and epoxy resin.
  • the epoxy resin of the present invention can be obtained by reacting the phenol resin of the present invention obtained by the above-described method with epihalohydrin in a solvent and epoxidizing it.
  • a phenol compound other than the phenol resin of the present invention may be used in combination with the phenol resin of the present invention.
  • any phenol compound that is usually used as a raw material for an epoxy resin can be used without particular limitation.
  • the epoxy resin of the present invention a cured product having excellent heat resistance due to a high melting point and high flame retardancy can be obtained.
  • epichlorohydrin, ⁇ -methylepichlorohydrin, ⁇ -methylepichlorohydrin, epibromohydrin and the like can be used as the epihalohydrin, and epichlorohydrin which is easily available industrially is preferable.
  • the amount of epihalohydrin used is usually 2 to 20 mol, preferably 2 to 15 mol, particularly preferably 2 to 8 mol, per 1 mol of the hydroxyl group of the phenol resin of the present invention.
  • the epoxy resin is obtained by a reaction in which a phenol compound and an epihalohydrin are added in the presence of an alkali metal oxide, and then the resulting 1,2-halohydrin ether group is opened to epoxidize.
  • epihalohydrin in an amount significantly smaller than usual as described above, the molecular weight of the epoxy resin can be increased and the molecular weight distribution can be broadened.
  • the resulting epoxy resin can be removed from the system as a resinous material having a relatively low softening point, and exhibits excellent solvent solubility.
  • an alcohol such as methanol, ethanol or isopropyl alcohol, or an aprotic polar solvent such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran or dioxane.
  • alcohols are preferable, and the ionic reaction during epoxidation can be efficiently advanced depending on the polarity of the alcohol solvent, and an epoxy resin can be obtained with high purity.
  • the alcohol solvent that can be used methanol, ethanol, and isopropyl alcohol are preferable. Among these, it is particularly preferable to use methanol from the viewpoint of compatibility with the epoxy resin.
  • the amount used is usually 2 to 50% by mass, preferably 4 to 35% by mass, based on the amount of epihalohydrin used.
  • an aprotic polar solvent is used, it is usually 5 to 100% by mass, preferably 10 to 80% by mass, based on the amount of epihalohydrin used.
  • alkali metal hydroxide examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like, and these may be used as they are, or an aqueous solution thereof may be used.
  • an aqueous solution the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system and separated from a mixture of water and epihalohydrin distilled continuously under reduced pressure or normal pressure. Alternatively, water may be removed and only the epihalohydrin is continuously returned to the reaction system.
  • the amount of the alkali metal hydroxide used is usually 0.9 to 3.0 mol, preferably 1.0 to 2.5 mol, more preferably 1.0 to 2.5 mol per mol of the hydroxyl group of the phenol resin of the present invention.
  • the amount is 2.0 mol, particularly preferably 1.0 to 1.3 mol.
  • the flaky sodium hydroxide is preferably added in portions in the reaction system. By performing divided addition, it is possible to prevent a rapid decrease in the reaction temperature, thereby preventing the formation of impurities such as 1,3-halohydrin and halomethylene.
  • a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride as a catalyst.
  • the amount of the quaternary ammonium salt used is usually 0.1 to 15 g, preferably 0.2 to 10 g, per 1 mol of the hydroxyl group of the phenol compound of the present invention.
  • the reaction temperature is usually 30 to 90 ° C, preferably 35 to 80 ° C.
  • the reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours.
  • an alcohol solvent it is preferably 50 ° C. to 90 ° C., more preferably 60 to 85 ° C., and particularly preferably 70 to 80 ° C.
  • the reaction product is washed with water or without washing with water, and epihalohydrin, solvent, etc. are removed from the reaction solution under heating and reduced pressure.
  • the recovered epoxy resin of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, and an alkali metal such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • the reaction can be carried out by adding an aqueous solution of hydroxide to ensure ring closure.
  • the amount of the alkali metal hydroxide used is usually 0.01 to 0.3 mol, preferably 0.05 to 0.2 mol, relative to 1 mol of the hydroxyl group of the phenol compound of the present invention.
  • the reaction temperature is usually 50 to 120 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours.
  • the produced salt is removed by filtration, washing with water, and the like, and the solvent is distilled off under heating and reduced pressure to obtain the epoxy resin of the present invention.
  • the epoxy resin of this invention precipitates as a crystal
  • generated in a lot of water you may collect the crystal
  • a glycidylated product of the above formula (1) is obtained.
  • the phenolic compound represented by the above formula (2) is contained in the phenol resin used as a raw material, In this case, the glycidyl compound of the above formula (2) is also obtained.
  • the content ratio of the glycidylated product of the above formula (2) calculated by the measurement of gel permeation chromatography (GPC) in the resin (relative to the total area of all peaks in the chromatogram)
  • the ratio is preferably from 1 to 25 area%, more preferably from 1 to 20 area%.
  • the total halogen content of the epoxy resin of the present invention obtained by using flaky sodium hydroxide is usually 1800 ppm or less, preferably 1600 ppm or less, more preferably 1300 ppm or less. If the total halogen content is too large, the cured product will be adversely affected and may remain as an uncrosslinked terminal. There is concern that the physical properties may be degraded.
  • the epoxy resin composition of the present invention contains at least one of the epoxy resin of the present invention and the phenol resin of the present invention as an essential component.
  • the epoxy resin of the present invention can be used alone or in combination with other epoxy resins.
  • epoxy resins include bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, bisphenol AD, bisphenol I, etc.) and phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, aromatic-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted) Naphthol, dihydroxybenzene, alkyl-substituted dihydroxybenzene and dihydroxynaphthalene) and various aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, alkylaldehyde, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, naphthaldehyde, glutaraldehyde, phthalaldehyde, crotonaldehyde, cinnamaldehyde, etc.) Of polycondensates with aromatic compounds such as xylene and formaldehyde Polycondensates with aromatic
  • the proportion of the epoxy resin of the present invention in the total epoxy resin component in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and 70% by mass. The above is more preferable, and 100% by mass (when no other epoxy resin is used in combination) is particularly preferable.
  • the epoxy resin of the present invention is used as a modifier for the epoxy resin composition, it is added in a proportion of 1 to 30% by mass in the total epoxy resin.
  • curing agent examples include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, and phenol compounds. Specific examples of these other curing agents are shown in the following (a) to (e).
  • Phenol compound polyhydric phenols bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,2′-dihydroxybiphenyl, 3,3 ′, 5, 5′-tetramethyl- (1,1′-biphenyl) -4,4′-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane and 1,1,2,2-tetrakis (4 -Hydroxyphenyl) ethane, etc .; phenols (eg, phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene and dihydroxynaphthalene) and aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p
  • active hydrogen such as amine compounds such as diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and naphthalenediamine, and condensates of catechol with aldehydes, ketones, dienes, substituted biphenyls or substituted phenyls.
  • a curing agent having a structure in which groups are adjacent is preferable because it contributes to the arrangement of the epoxy resin.
  • Other curing agents may be used alone or in combination.
  • the proportion of the phenolic compound of the present invention in the total curing agent component in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and 70% by mass.
  • the use amount of the total curing agent containing the phenol resin of the present invention is preferably 0.5 to 2.0 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy groups of all epoxy resins, 0.6 to 1.5 equivalents are particularly preferred.
  • a curing accelerator may be added to the epoxy resin composition of the present invention.
  • the curing accelerator include phosphines such as triphenylphosphine and bis (methoxyphenyl) phenylphosphine, imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethylimidazole and 4-methylimidazole, Tertiary amines such as 2- (dimethylaminomethyl) phenol, trisdimethylaminomethylphenol, diazabicycloundecene, tetrabutylammonium salt, triisopropylmethylammonium salt, trimethyldecanylammonium salt, cetyltrimethylammonium salt, etc.
  • Quaternary phosphonium salts such as quaternary ammonium salts, triphenylbenzyl phosphonium salts, triphenylethyl phosphonium salts, tetrabutyl phosphonium salts (the counter ions of quaternary salts are halogen ions) , Organic acid ion, a hydroxide ion, etc., in particular specify no particular organic acid ion, a hydroxide ion.), Metal compounds such as tin octylate and the like.
  • the amount of the curing accelerator used is usually 0.2 to 5.0 parts by weight, preferably 0.2 to 4.0 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin.
  • the epoxy resin composition of the present invention can contain an inorganic filler as required. If the inorganic filler which the epoxy resin composition of this invention contains is a well-known thing, there will be no restriction
  • thermosetting resins and thermoplastic resins include vinyl ester resins, unsaturated polyester resins, maleimide resins, cyanate resins, isocyanate compounds, benzoxazine compounds, vinyl benzyl ether compounds, polybutadiene and its modified products, and acrylonitrile.
  • thermosetting resin or the thermoplastic resin is used in an amount that usually occupies 60% by mass or less in the epoxy resin composition of the present invention.
  • the epoxy resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above-mentioned components, and preferred applications thereof include semiconductor encapsulants and printed wiring boards.
  • the epoxy resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by a method similar to a conventionally known method.
  • the epoxy resin composition of the present invention obtained by sufficiently mixing until uniform using a kneader or a roll is molded by a melt casting method, a transfer molding method, an injection molding method, a compression molding method, etc.
  • a cured product of the epoxy resin composition of the present invention can be obtained by heating at the melting point or higher for 2 to 10 hours.
  • the epoxy resin composition of the present invention can be used for semiconductor sealing applications.
  • the epoxy resin composition of the present invention can be a varnish containing a solvent.
  • the varnish includes, for example, at least one of the epoxy resin of the present invention or the phenol resin of the present invention in at least one of an epoxy resin and a curing agent, and if necessary, has a thermal conductivity of 20 W / m ⁇ K or more.
  • Mixtures containing other components such as inorganic fillers, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, N, N′-dimethylformamide, N, N′-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl Glycol ethers such as ether, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dial
  • the varnish obtained as described above is impregnated into a fiber substrate such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber and paper, and then the solvent is removed by heating, and the epoxy resin composition of the present invention By making a semi-cured state, the prepreg of the present invention can be obtained.
  • the “semi-cured state” means a state in which an epoxy group which is a reactive functional group partially remains unreacted.
  • the prepreg can be hot press molded to obtain a cured product.
  • Hydroxyl equivalent Measured by the method described in JIS K-7236, the unit is g / eq. It is. Epoxy equivalent Measured by the method described in JIS K-7236, the unit is g / eq. It is. -Softening point Measured by a method according to JIS K-7234, the unit is ° C. -ICI melt viscosity Measured by a method according to JIS K 7117-2, and the unit is Pa.s.
  • Example 1 (Synthesis 1 of phenol resin) To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 330 parts of resorcin and 174 parts of acetone were added while purging with nitrogen, dissolved under stirring, and heated to 100 ° C. When 88 parts of 98% sulfuric acid was added dropwise thereto, the reaction solution exothermed vigorously and rose to 125 ° C. After cooling to 80 ° C. at room temperature, the reaction was continued for 10 hours. Subsequently, Dean Stark was placed in the flask, and the temperature was raised to 120 ° C. while dehydrating by azeotropic distillation, and the reaction was further continued for 10 hours.
  • the mixture was neutralized with 10% sodium hydroxide, and 1000 parts of methyl isobutyl ketone was added to dissolve the resin. Subsequently, washing with water is carried out until the washing water becomes neutral. From the resulting solution, 318 parts of the phenol resin (P1) of the present invention are obtained by distilling off methyl isobutyl ketone and the like under reduced pressure using a rotary evaporator. It was. The obtained phenol resin P1 has a hydroxyl group equivalent of 170 g / eq.
  • the softening point is 146 ° C.
  • the ICI melt viscosity is 5.4 Pa ⁇ s
  • the average value of n in the general formula (1) is 0.44
  • the peak of CH 2 carbon was not detected.
  • the obtained phenol resin P2 has a hydroxyl group equivalent of 215 g / eq.
  • the softening point is 127 ° C.
  • the ICI melt viscosity is 8.0 Pa ⁇ s
  • the peak area of CH 3 carbon derived from acetone is 1 in 13 C-NMR.
  • the CH 2 carbon peak area was 0.27.
  • Example 2 (Synthesis 1 of epoxy resin) A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 210 parts of the phenol resin (P1) of the present invention, 462 parts of epichlorohydrin (4 molar equivalents to phenol resin) and 28 parts of methanol while purging with nitrogen. In addition, the mixture was dissolved under stirring, and the temperature was raised to 70 to 75 ° C. Next, 51.1 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the reaction was further carried out at 75 ° C. for 75 minutes.
  • Example 3 and Comparative Examples 5 and 6 The compound shown in the column of the composition of the compound of Table 1 was uniformly mixed with the mixing roll, and the epoxy resin composition was obtained. This composition was pulverized and a tablet was obtained using a tablet machine. The obtained tablet was shape
  • XLC Phenylaralkyl type phenolic resin (Mirex (trade name) XLC-3L manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
  • TPP Triphenylphosphine (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.)
  • Filler fused silica filler (manufactured by Tatsumori Co., Ltd. MSR-2212)
  • Example 4 and Comparative Example 7 Various components are blended in the proportions (parts) shown in Table 2, kneaded with mixing rolls, tableted, prepared by resin molding by transfer molding, heated at 160 ° C. for 2 hours, and further heated at 180 ° C. for 8 hours. Hardened
  • thermomechanical measuring device TM-7000 manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd. Temperature increase rate: 2 ° C./min.
  • PN phenol novolak (M-1 Kasei Kogyo H-1)
  • the epoxy resin of the present invention is superior in maintaining low heat absorption and low dielectric properties in addition to maintaining high heat resistance as compared with the heat resistant resin shown in Comparative Example 7. In particular, it can be suitably used for electronic materials.
  • the epoxy resin composition using the phenolic resin of the present invention has an excellent heat resistance and flame retardancy because the cured product has an insulating material for electrical / electronic parts, particularly electrical / electronic parts, structural materials, and adhesives. Useful for paints and the like.

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Abstract

 本発明は、その硬化物の耐熱性と難燃性の両方の特性が優れた樹脂を提供することを目的とする。本発明のフェノール樹脂及びエポキシ樹脂は、ベンゾピラン構造を有する樹脂であり、フェノール樹脂は、下記式(1)で表される。 (式中、Rはそれぞれ独立して炭素数1~6のアルキル基を表し、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表し、kは1~4の整数を示し、nは0~10の整数を示す。)

Description

フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物およびそれらの硬化物
 本発明は耐熱性が要求される電気電子材料用途に好適なエポキシ樹脂組成物、およびその硬化物に関する。
 エポキシ樹脂組成物は作業性及びその硬化物の優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐湿性(耐水性)等により電気・電子部品、構造用材料、接着剤、塗料等の分野で幅広く用いられている。
 しかし近年、電気・電子分野においてはその発展に伴い、樹脂組成物の高純度化をはじめ耐湿性、密着性、誘電特性、フィラー(無機または有機充填剤)を高充填させるための低粘度化、成型サイクルを短くするための反応性のアップ等の諸特性の一層の向上が求められている。又、構造材としては航空宇宙材料、レジャー・スポーツ器具用途などにおいて軽量で機械物性の優れた材料が求められている。特に半導体封止分野、基板(基板自体、もしくはその周辺材料)においては、その半導体の変遷に従い、薄層化、スタック化、システム化、三次元化と複雑になっていき、非常に高いレベルの耐熱性や高流動性といった要求特性が求められる(非特許文献1)。なお、特にプラスチックパッケージの車載用途への拡大に伴い、耐熱性の向上要求がいっそう厳しくなっている(非特許文献2)。具体的には、半導体の駆動温度の上昇により、150℃以上の耐熱性が求められるようになってきている。一般にエポキシ樹脂は軟化点の高いエポキシ樹脂が高い耐熱性を有する傾向があるが、その反面、熱分解温度の低下、難燃性の低下が課題となる。
 そこで、従来から難燃性及び耐熱性が共に高いという性能を有するエポキシ樹脂が要求されていた。そして、耐熱性が良好なエポキシ樹脂として、アセトンとレゾルシンの反応が試みられ、特許文献1、非特許文献3に示すようなジフラバン構造を有するエポキシ樹脂が開発されてきた。しかし、フラバン構造では高い難燃性が生じ難い。また、上記2種類の化合物の反応物から得られる構造はフラバン構造であるとの結果が特許文献1及び非特許文献3から得られていたことから、難燃性及び耐熱性が得られるフェノール樹脂の開発は別骨格のフェノール樹脂へ委ねられていった。そのような中、難燃性及び耐熱性の両方で優れた特性を満たすフェノール樹脂の要求は未だ高まっていた。
日本国特開2010-275221号公報
"2008年 STRJ報告 半導体ロードマップ専門委員会 平成20年度報告"、第8章、p1-1、[online]、平成21年3月、JEITA(社)電子情報技術産業協会 半導体技術ロードマップ専門委員会、[平成24年5月30日検索]、インターネット<URL:http://strj-jeita.elisasp.net/strj/nenjihoukoku-2008.cfm> 高倉信之他、松下電工技報 車関連デバイス技術 車載用高温動作IC、74号、日本、2001年5月31日、35-40頁 P.Livant他、J.Org.Chem.、1997、Vol.62、737~742頁
 エポキシ樹脂は一般的に高Tg化すると、難燃性が低下する。これは架橋密度が増加することによる影響である。しかしながら、難燃性が求められる半導体周辺材料への高Tg化が要求される中、この相反する特性を有する樹脂を早急に開発することが期待されている。そこで、このような特性が期待できるエポキシ樹脂を見出すことが急務であった。
 本発明者らは前記課題を解決するために鋭意研究した結果、本発明を完成させるに到った。
 すなわち本発明は、下記(1)~(7)に関する。
(1)下記式(1)で表されるフェノール樹脂。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式中、Rはそれぞれ独立して炭素数1~6のアルキル基を表し、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表し、kは1~4の整数を示し、nは0~10の整数を示す。)
(2)樹脂を構成する分子の前記式(1)中のnの平均値が0.05以上、4.0以下である前項(1)に記載のフェノール樹脂。
(3)13C-NMRスペクトルチャートにおいてケトン由来のCHカーボンのピーク面積を1とした場合、CHカーボンのピーク面積が0以上、0.2以下である前項(1)に記載のフェノール樹脂。
(4)前項(1)~(3)のいずれか一項に記載のフェノール樹脂にエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂。
(5)前項(1)~(3)のいずれか一項に記載のフェノール樹脂と、エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。
(6)前項(4)に記載のエポキシ樹脂と、硬化剤と、任意に硬化促進剤を含有するエポキシ樹脂組成物。
(7)前項(5)または(6)に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
 本発明のフェノール樹脂及びエポキシ樹脂は、ベンゾピラン構造を有するフェノール樹脂ないしエポキシ樹脂である。このようにフェノール樹脂ないしエポキシ樹脂がベンゾピラン構造を有することによって、耐熱性と難燃性の両方の特性が優れた樹脂を得ることが可能である。
 本発明のフェノール樹脂は、ジヒドロキシベンゼン類(a)とケトン類(b)を反応させて得ることができる。
 まず、ジヒドロキシベンゼン類(a)について説明する。ジヒドロキシベンゼン類(a)は下記式(2)で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(式(2)中、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表し、kは1~4の整数を示す。)
 ジヒドロキシベンゼン類(a)としては、カテコール、3-メチルカテコール、4-tert-ブチルカテコール、3,5-ジ-tert-ブチルカテコール、レゾルシン、2-メチルレゾルシン、5-メチルレゾルシン、2,5-ジメチルレゾルシン、4-ブチルレゾルシン、4-ヘキシルレゾルシン、ハイドロキノン、2-メチルハイドロキノン、2,6-ジメチルハイドロキノン、2,3-ジメチルハイドロキノン、2,3,5-トリメチルハイドロキノン、2-tert-ブチルハイドロキノン、2,5-ジ-tert-ブチルハイドロキノンなどが例示されるが、これらには限定されない。カテコール、レゾルシン、ハイドロキノンが好ましく、レゾルシンが特に好ましい。ここで、式(1)においてnが0より大きいもの(例えば、nが1以上のもの)を得るためには、レゾルシンを特に好適に使用することができる。
 次に、ケトン類(b)について説明する。ケトン類は、下記式(3)で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式(3)中、Rは式(1)と同じ意味を表す。)
 ケトン類(b)としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、3-メチル-2-ブタノン、メチルイソブチルケトン、3-ペンタノン、2-メチル-3-ペンタノン、2,4-ジメチル-3-ペンタノン等が挙げられ、アセトン、メチルエチルケトンが好ましく、アセトンが特に好ましい。
 本発明のフェノール樹脂は、酸性条件下で、式(2)で表される化合物の一種以上と式(3)で表される化合物との縮合反応によって得られる。尚、塩基性条件下で反応を行うこともできるが、酸性条件下の方が好ましい。
 式(3)で表される化合物は式(2)で表される化合物1モルに対して通常0.25~5.0モル、好ましくは0.3~2.5モルを使用する。
 酸性条件下で縮合反応を行う場合、用い得る酸性触媒は特に限定されないが、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸触媒、塩酸、硫酸等の無機酸触媒が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、複数の種類を併用してもよい。酸性触媒の使用量は、式(3)で表される化合物1モルに対して通常0.001~15モル、好ましくは0.002~10モルである。
 塩基性条件下で縮合反応を行う場合も同様に行うことができ、使用する塩基性触媒は公知のものであれば特に限定されない。
 本発明のフェノール樹脂を得る反応では、必要に応じて溶剤を使用してもよい。用い得る溶剤としては、例えばケトン類のように式(2)で表される化合物との反応性を有するものでなければ特に制限はないが、原料の式(2)で表される化合物を容易に溶解させる点ではアルコール類を溶剤として用いるのが好ましい。
 用いることができる溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の非プロトン性極性溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられる。
 溶剤を使用する場合の使用量は特に制限されないが、例えば、式(2)で表される化合物1モルに対し100~500重量部使用することができる。
 反応温度は通常10~150℃であり、好ましくは50~140℃であり、85℃~140℃で反応させると特に好ましい。反応時間は通常0.5~20時間であるが、原料化合物の種類によって反応性に差があるため、この限りではない。
 本発明のフェノール樹脂を得るためには、上記式(2)及び(3)の化合物の反応終了後、さらに2段階目として高温で反応を進行させる。2段階目の高温反応は100℃以上で行うことが好ましい。この際に副生した水を共沸等により除去することが、反応を完結させる上で好ましい。2段階目の反応を行なうことにより、13C-NMRスペクトルチャートにおけるCHカーボンのピークが減少し、一般式(1)で表される構造を有する化合物が生成する。
 反応終了後、塩基を用いて酸触媒を中和する。塩基としては特に限定されないが、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、トリポリリン酸5ナトリウム、アンモニア等が例示される。この際、塩基を均一に分散させるために、水溶液として徐々に滴下することが好ましい。
 反応終了後、生成物を樹脂として取り出す場合には、反応物を水洗後または水洗することなく、加熱減圧下で反応液から未反応物や溶媒等を除去する。未反応物を効率的に除去するために、塩基性条件下、水洗を行ってもよい。生成物を結晶で取り出す場合、大量の水中に反応液を滴下することにより結晶を析出させる。
 このようにして得られる本発明のフェノール樹脂は、下記式(1)で表されるフェノール樹脂である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
(式中、Rはそれぞれ独立して炭素数1~6のアルキル基を表し、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表し、kは1~4の整数を示し、nは0~10の整数を示す。)
 本発明のフェノール樹脂においては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)分析によるクロマトグラム中、n=0の構造を有する分子のピーク面積は、全ピークの総面積に対し、通常20~95面積%、好ましくは30~80面積%である。
 13C-NMRスペクトルチャートにおいて、CHカーボンのピーク面積はアセトン由来のCHカーボンのピーク面積を1とした場合、通常0以上0.3以下、好ましくは0.2以下であり、特に好ましくは0.1以下であり、極めて好ましくは0.05以下である。特に0.2以下となることで優れた難燃性を示すため好ましい。
 樹脂を構成する分子の式(1)中のnの平均値は0.05~4であることが好ましく、0.1~3のフェノール樹脂であることが特に好ましい。このように、繰り返し数が多いことにより、誘電率を低下させることができるためである。ここで、得られたフェノール樹脂中のnが0でない分子(フェノール化合物)の含有割合は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定により算出される含有割合(クロマトグラム中の全ピークの総面積に対する割合)が、5~80面積%であることが好ましく、20~70面積%であることがより好ましい。
 また、水酸基当量は125~250g/eqであることが好ましく、140~200g/eqであることが特に好ましい。軟化点は100~200℃であることが好ましく、120~180℃であることが特に好ましい。
 本発明のフェノール樹脂はシアネート樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂原料として有用である。
 次に、本発明のエポキシ樹脂について説明する。
 本発明のエポキシ樹脂は、上記手法によって得られた本発明のフェノール樹脂と溶剤中、エピハロヒドリンとを反応させ、エポキシ化することにより得られる。ここで、本発明のフェノール樹脂に、本発明のフェノール樹脂以外のフェノール化合物を併用しても良い。
 併用できる本発明のフェノール樹脂以外のフェノール化合物としては、エポキシ樹脂の原料として通常用いられるフェノール化合物であれば特に制限なく用いることができる。
 本発明のエポキシ樹脂によれば、高い融点により優れた耐熱性を有し、かつ高い難燃性を有する硬化物が得られる。
 本発明のエポキシ樹脂を得る反応において、エピハロヒドリンとしてはエピクロルヒドリン、α-メチルエピクロルヒドリン、β-メチルエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が使用できるが、工業的に入手が容易なエピクロルヒドリンが好ましい。エピハロヒドリンの使用量は、本発明のフェノール樹脂の水酸基1モルに対し通常2~20モル、好ましくは2~15モル、特に好ましくは2~8モルである。エポキシ樹脂は、アルカリ金属酸化物の存在下でフェノール化合物とエピハロヒドリンとを付加させ、次いで生成した1,2-ハロヒドリンエーテル基を開環させてエポキシ化する反応により得られる。この際、エピハロヒドリンを上記のように通常より顕著に少ない量で使用することで、エポキシ樹脂の分子量を延ばすとともに分子量分布を広げることができる。この結果、得られるエポキシ樹脂は、比較的低い軟化点を有する樹脂状物として系中から取り出せ、優れた溶剤溶解性を示す。
 また、エポキシ化の際に、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが反応進行上好ましい。中でも、アルコール類が好ましく、アルコール溶剤の極性により、エポキシ化時のイオン反応を効率良く進行することができ、高純度でエポキシ樹脂を得ることができる。用い得るアルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが好ましい。中でも、エポキシ樹脂との相溶性の観点から、メタノールを用いることが特に好ましい。
 上記アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの使用量に対し通常2~50質量%、好ましくは4~35質量%である。また非プロトン性極性溶媒を用いる場合はエピハロヒドリンの使用量に対し通常5~100質量%、好ましくは10~80質量%である。
 エポキシ化反応に使用できるアルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、これらは固形物をそのまま使用しても、あるいはその水溶液を使用してもよい。水溶液を使用する場合は、該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に、減圧下または常圧下で連続的に留出させた水及びエピハロヒドリンの混合液から分液により水を除去し、エピハロヒドリンのみを反応系内に連続的に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は、本発明のフェノール樹脂の水酸基1モルに対して通常0.9~3.0モル、好ましくは1.0~2.5モル、より好ましくは1.0~2.0モル、特に好ましくは1.0~1.3モルである。
 また、エポキシ化反応において、特にフレーク状の水酸化ナトリウムを用いることで、水溶液とした水酸化ナトリウムを使用するよりも得られるエポキシ樹脂に含まれるハロゲン量を顕著に低減させることが可能となる。更にこのフレーク状の水酸化ナトリウムは、反応系内に分割添加されることが好ましい。分割添加を行なうことで、反応温度の急激な減少を防ぐことができ、これにより不純物である1,3-ハロヒドリン体やハロメチレン体の生成を防止することができる。
 エポキシ化反応を促進するために、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加することが好ましい。4級アンモニウム塩の使用量としては、本発明のフェノール化合物の水酸基1モルに対し通常0.1~15gであり、好ましくは0.2~10gである。
 反応温度は通常30~90℃であり、好ましくは35~80℃である。反応時間は通常0.5~10時間であり、好ましくは1~8時間である。中でも、アルコール溶剤を用いた場合、50℃~90℃が好ましく、60~85℃がより好ましく、70~80℃が特に好ましい。
 反応終了後、反応物を水洗後、または水洗することなく加熱減圧下で反応液からエピハロヒドリンや溶媒等を除去する。また得られたエポキシ樹脂中に含まれるハロゲン量をさらに低減させるために、回収した本発明のエポキシ樹脂をトルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行ない、閉環を確実なものにすることも出来る。この場合、アルカリ金属水酸化物の使用量は、本発明のフェノール化合物の水酸基1モルに対して通常0.01~0.3モル、好ましくは0.05~0.2モルである。反応温度は通常50~120℃、反応時間は通常0.5~2時間である。
 反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に加熱減圧下で溶剤を留去することにより本発明のエポキシ樹脂が得られる。また、本発明のエポキシ樹脂が結晶として析出する場合は、大量の水に生成した塩を溶解した後に、本発明のエポキシ樹脂の結晶を濾取してもよい。
 このようにして得られるエポキシ樹脂としては、上記式(1)のグリシジル化物が得られることとなるが、原料とするフェノール樹脂に上記式(2)で表されるフェノール化合物が含有されていた場合には、上記式(2)のグリシジル化物も得られることとなる。よって、少なくとも2種類のエポキシ樹脂の混合物となる。ここで、得られたエポキシ樹脂において、その樹脂中、上記式(2)のグリシジル化物がゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定により算出される含有割合(クロマトグラム中の全ピークの総面積に対する割合)は、1~25面積%が好ましく、1~20面積%がより好ましい。
 上記の通りフレーク状の水酸化ナトリウムを使用して得られる本発明のエポキシ樹脂の全ハロゲン量は1800ppm以下が通常であり、1600ppm以下であることが好ましく、さらに好ましくは1300ppm以下である。全ハロゲン量が多すぎるものは硬化物の硬化物性に悪影響を及ぼすことに加えて、未架橋の末端として残る恐れがあることから、硬化時の融解状態時の分子同士の配向が進まずに硬化物性の低下につながる懸念がある。
 以下、本発明のエポキシ樹脂組成物について記載する。本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂及び本発明のフェノール樹脂の少なくともどちらか1つを必須成分として含有する。
 本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のエポキシ樹脂は単独でまたは他のエポキシ樹脂と併用して使用することが出来る。
 他のエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビフェノール、ビスフェノールAD及びビスフェノールI等)やフェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン及びジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒド(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド及びシンナムアルデヒド等)との重縮合物、キシレン等の芳香族化合物とホルムアルデヒドの重縮合物とフェノール類との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物(ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、ビニルノルボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン及びイソプレン等)との重合物、フェノール類とケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン及びベンゾフェノン等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類(ベンゼンジメタノール及びビフェニルジメタノール等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類(α,α’-ジクロロキシレン及びビスクロロメチルビフェニル等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ビスアルコキシメチル類(ビスメトキシメチルベンゼン、ビスメトキシメチルビフェニル及びビスフェノキシメチルビフェニル等)との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、並びにアルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられるが、通常用いられるエポキシ樹脂であればこれらに限定されるものではない。これらは、1種類のみ使用しても、2種以上を併用してもよい。
 他のエポキシ樹脂を併用する場合、本発明のエポキシ樹脂組成物中の全エポキシ樹脂成分に占める本発明のエポキシ樹脂の割合は30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、70質量%以上が更に好ましく、特に好ましくは100質量%(他のエポキシ樹脂を併用しない場合)である。ただし、本発明のエポキシ樹脂をエポキシ樹脂組成物の改質剤として使用する場合は、全エポキシ樹脂中で1~30質量%となる割合で添加する。
 本発明のエポキシ樹脂組成物において用い得る硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物及びフェノール系化合物等が挙げられる。これら他の硬化剤の具体例を下記(a)~(e)に示す。
 (a)アミン系化合物 ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン及びナフタレンジアミン等
 (b)酸無水物系化合物 無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルヘキサヒドロ無水フタル酸等
 (c)アミド系化合物 ジシアンジアミド、若しくはリノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂等、
 (d)フェノール系化合物多価フェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、2,2’-ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’-テトラメチル-(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン及び1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン等);フェノール類(例えば、フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン及びジヒドロキシナフタレン等)と、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、o-ヒドロキシベンズアルデヒド及びフルフラール等)、ケトン類(p-ヒドロキシアセトフェノン及びo-ヒドロキシアセトフェノン等)、若しくはジエン類(ジシクロペンタジエン及びトリシクロペンタジエン等)との縮合により得られるフェノール樹脂;前記フェノール類と、置換ビフェニル類(4,4’-ビス(クロルメチル)-1,1’-ビフェニル及び4,4’-ビス(メトキシメチル)-1,1’-ビフェニル等)、若しくは置換フェニル類(1,4-ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4-ビス(メトキシメチル)ベンゼン及び1,4-ビス(ヒドロキシメチル)ベンゼン等)等との重縮合により得られるフェノール樹脂;前記フェノール類及び/又は前記フェノール樹脂の変性物;テトラブロモビスフェノールA及び臭素化フェノール樹脂等のハロゲン化フェノール類
 (e)その他イミダゾール類、BF アミン錯体、グアニジン誘導体
 これら他の硬化剤の中ではジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン及びナフタレンジアミンなどのアミン系化合物、並びにカテコールとアルデヒド類、ケトン類、ジエン類、置換ビフェニル類又は置換フェニル類との縮合物などの活性水素基が隣接している構造を有する硬化剤がエポキシ樹脂の配列に寄与するため好ましい。
 他の硬化剤は単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。他の硬化剤を併用する場合、本発明のエポキシ樹脂組成物中の全硬化剤成分に占める本発明のフェノール化合物の割合は20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、70質量%以上が更に好ましく、特に好ましくは100質量%(他の硬化剤を併用しない場合)である。
 本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のフェノール樹脂を含む全硬化剤の使用量は、全エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5~2.0当量が好ましく、0.6~1.5当量が特に好ましい。
 本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要により硬化促進剤を添加しても良い。硬化促進剤の具体例としては、トリフェニルフォスフィン、ビス(メトキシフェニル)フェニルフォスフィン等のフォスフィン類、2―メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2―エチル,4―メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2-(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリスジメチルアミノメチルフェノール、ジアザビシクロウンデセン等の3級アミン類、テトラブチルアンモニウム塩、トリイソプロピルメチルアンモニウム塩、トリメチルデカニルアンモニウム塩、セチルトリメチルアンモニウム塩などの4級アンモニウム塩、トリフェニルベンジルフォスフォニウム塩、トリフェニルエチルフォスフォニウム塩、テトラブチルフォスフォニウム塩などの4級フォスフォニウム塩(4級塩のカウンターイオンはハロゲン、有機酸イオン、水酸化物イオンなど、特に指定は無いが、特に有機酸イオン、水酸化物イオンが好ましい。)、オクチル酸スズ等の金属化合物等が例示される。
 硬化促進剤の使用量は、エポキシ樹脂100重量部当たり、通常0.2~5.0重量部、好ましくは、0.2~4.0重量部である。
 本発明のエポキシ樹脂組成物は必要に応じて無機充填材を含有させることができる。
 本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する無機充填材は、公知のものであれば何ら制限はない。無機充填材の具体例としては、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化チタン、酸化亜鉛、炭化タングステン、アルミナ、酸化マグネシウム等の無機粉末充填材、合成繊維、セラミックス繊維等の繊維質充填材、着色剤等が挙げられる。これら無機充填材の形状は、粉末(塊状、球状)、単繊維、長繊維等いずれであってもよい。
 本発明のエポキシ樹脂組成物における無機充填材の使用量は、エポキシ樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して通常2~1000質量部である。これら無機充填材は1種のみを使用しても、2種類以上を併用してもよい。
 本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてシランカップリング剤、離型剤及び顔料等種々の配合剤、各種熱硬化性樹脂並びに各種熱可塑性樹脂等を添加することができる。熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の具体例としては、ビニルエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、マレイミド樹脂、シアナート樹脂、イソシアナート化合物、ベンゾオキサジン化合物、ビニルベンジルエーテル化合物、ポリブタジエンおよびこの変性物、アクリロニトリル共重合体の変性物、インデン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ジシクロペンタジエン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂、または熱可塑性樹脂は本発明のエポキシ樹脂組成物中において通常60質量%以下を占める量が用いられる。
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成分を均一に混合することにより得られ、その好ましい用途としては半導体封止材やプリント配線版等が挙げられる。
 本発明のエポキシ樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法で容易にその硬化物とすることが出来る。例えば、本発明のエポキシ樹脂組成物の必須成分であるエポキシ樹脂、硬化剤、並びに必要により硬化促進剤、配合剤、各種熱硬化性樹脂や各種熱可塑性樹脂等を、必要に応じて押出機、ニーダ又はロール等を用いて均一になるまで充分に混合して得られた本発明のエポキシ樹脂組成物を、溶融注型法あるいはトランスファー成型法やインジェクション成型法、圧縮成型法などによって成型し、更にその融点以上で2~10時間加熱することにより本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物を得ることが出来る。前述の方法でリードフレーム等に搭載された半導体素子を封止することにより、本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止用途に用いることができる。
 また、本発明のエポキシ樹脂組成物は溶剤を含むワニスとすることもできる。該ワニスは、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤のうち、少なくとも一方に本発明のエポキシ樹脂、もしくは本発明のフェノール樹脂の少なくとも一方を含み、必要に応じて熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材などのその他の成分を含む混合物を、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、N,N’-ジメチルホルムアミド、N,N’-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のエステル類、γ-ブチロラクトン等の環状エステル類、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ及びソルベントナフサ等の石油系溶剤等の有機溶剤と混合することにより得ることが出来る。溶剤の量はワニス全体に対し通常10~95質量%、好ましくは15~85質量%である。
 上記のようにして得られるワニスをガラス繊維、カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維及び紙などの繊維基材に含浸させた後に加熱によって溶剤を除去すると共に、本発明のエポキシ樹脂組成物を半硬化状態とすることにより、本発明のプリプレグを得ることが出来る。尚、ここで言う「半硬化状態」とは、反応性の官能基であるエポキシ基が一部未反応で残っている状態を意味する。該プリプレグを熱プレス成型して硬化物を得ることが出来る。
 以下、本発明を実施例で更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。合成例、実施例、比較例において部は質量部を意味する。
 なお、水酸基当量、エポキシ当量、軟化点、ICI溶融粘度は以下の条件で測定した。
・水酸基当量
 JIS K-7236に記載された方法で測定し、単位はg/eq.である。
・エポキシ当量
 JIS K-7236に記載された方法で測定し、単位はg/eq.である。
・軟化点
 JIS K-7234に準拠した方法で測定し、単位は℃である。
・ICI溶融粘度
 JIS K 7117-2に準拠した方法で測定し、単位はPa・sである。
実施例1(フェノール樹脂の合成1)
 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらレゾルシン330部、アセトン174部を加え、撹拌下で溶解し、100℃にまで昇温した。この中に98%硫酸を88部滴下したところ、反応液は激しく発熱し、125℃まで上昇した。室温において80℃まで冷却した後、10時間反応を続けた。続いて、フラスコにディーンシュタークを設置し、共沸により脱水しながら、120℃まで昇温し、さらに10時間反応させた。反応終了後、10%水酸化ナトリウムを用いて中和し、メチルイソブチルケトンを1000部加えて、樹脂を溶解させた。続けて洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のフェノール樹脂(P1)318部を得た。得られたフェノール樹脂P1の水酸基当量は170g/eq.、軟化点は146℃、ICI溶融粘度は5.4Pa・s、GPCにおいて、n=0成分は41面積%、一般式(1)中のnの平均値は0.44、CHカーボンのピークは検出されなかった。
比較例1(フェノール樹脂の合成2)
 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらレゾルシン330部、アセトン174部を加え、撹拌下で溶解し、100℃にまで昇温した。この中に98%硫酸を88部滴下したところ、反応液は激しく発熱し、125℃まで上昇した。室温において80℃まで冷却した後、10時間反応を続けた。反応終了後、10%水酸化ナトリウムを用いて中和し、メチルイソブチルケトンを1000部加えて、樹脂を溶解させた。続けて洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することでフェノール樹脂(P2)342部を得た。得られたフェノール樹脂P2の水酸基当量は215g/eq.、軟化点は127℃、ICI溶融粘度は8.0Pa・s、GPCにおいて、n=0成分は12面積%、13C-NMRにおいては、アセトン由来のCHカーボンのピーク面積を1とした場合のCHカーボンのピーク面積は0.27であった。
比較例2(フェノール樹脂の合成3)
 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、レゾルシン300部、アセトン78部、パラトルエンスルホン酸0.3部を仕込み、80℃で2時間反応させた。次いでアセトン78部を追加し80℃で2時間反応させた。次いで純水で洗浄水が中性になるまで洗浄を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下に留出分を除去し、白色結晶のフェノール樹脂(P3)を228部得た。得られたフェノール樹脂P3の融点は200℃、水酸基当量は118g/eq.であった。
実施例2(エポキシ樹脂の合成1)
 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら本発明のフェノール樹脂(P1)210部、エピクロロヒドリン462部(4モル当量 対 フェノール樹脂)、メタノール28部を加え、撹拌下で溶解し、70~75℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム51.1部を90分かけて分割添加した後、更に75℃で75分反応を行った。反応終了後,水洗を行い、油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン532部を加え溶解し、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液16.8部、メタノール6.3部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することで本発明のエポキシ樹脂(E1)35部を得た。得られたエポキシ樹脂E1のエポキシ当量は259g/eq.、軟化点72℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.21Pa・sであった。
比較例3(エポキシ樹脂の合成2)
 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらフェノール樹脂(P2)237部、エピクロロヒドリン953部(9.2モル当量 対 フェノール樹脂)、メタノール62部を加え、撹拌下で溶解し、70~75℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム46.4部を90分かけて分割添加した後、更に75℃で75分反応を行った。反応終了後,水洗を行い、油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン570部を加え溶解し、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液14.9部、メタノール6.8部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することでエポキシ樹脂(E2)296部を得た。得られたエポキシ樹脂E2のエポキシ当量は276g/eq.、軟化点71℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.15Pa・sであった。
比較例4(エポキシ樹脂の合成3)
 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらフェノール樹脂(P3)336部、エピクロロヒドリン1082部(4モル当量 対 フェノール樹脂)、メタノール70部を加え、撹拌下で溶解し、70~75℃にまで昇温した。次いでフレーク状の水酸化ナトリウム121.1部を90分かけて分割添加した後、更に75℃で75分反応を行った。反応終了後,水洗を行い、油層からロータリーエバポレーターを用いて減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤類を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン950部を加え溶解し、75℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液39.0部、メタノール11.4部を加え、1時間反応を行った後、油層の洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液から、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することでエポキシ樹脂(E3)466部を得た。得られたエポキシ樹脂E3のエポキシ当量は207g/eq.、軟化点79℃、150℃におけるICI溶融粘度は0.57Pa・sであった。
実施例3、比較例5、6
 表1の配合物の組成の欄に示す配合物を、ミキシングロールにて均一に混合し、エポキシ樹脂組成物を得た。この組成物を粉砕し、タブレットマシンでタブレットを得た。得られたタブレットをトランスファー成型機で成形し、10×4×90mmの試験片を成形した。この試験片を160℃で2時間、更に180℃で8時間加熱を行い、後硬化を行った。
 この試験片をクランプに垂直に保持し、バーナーの炎を19mmの青色炎に調節し、試験片の下端中央部に炎の9.5mmを10秒接炎した。接炎後バーナーを離して、燃焼継続時間を測定した。消炎後、直ちに10秒接炎した後、バーナーを離し、燃焼継続時間を測定した。各サンプル10回分の燃焼時間合計値を表1にあわせて示す。
 なお、表1中の耐熱性(DMA)は、以下の条件で測定した。
・耐熱性(DMA)
 動的粘弾性測定器:TA-instruments、DMA-2980
 測定温度範囲:-30~280℃
 温速度:2℃/分
 Tg:Tan-δのピーク点をTgとした
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
XLC:フェニルアラルキル型フェノール樹脂(三井化学株式会社製 ミレックス(商品名)XLC-3L)
TPP:トリフェニルホスフィン(純正化学株式会社製)
フィラー:溶融シリカフィラー(株式会社龍森製 MSR-2212)
実施例4、比較例7
 各種成分を表2の割合(部)で配合し、ミキシングロールで混練、タブレット化後、トランスファー成形で樹脂成形体を調製し、160℃で2時間、更に180℃で8時間加熱を行い、本発明のエポキシ樹脂組成物及び比較用樹脂組成物の硬化物を得た。これら硬化物の物性を以下の条件で測定した結果を表2に示した。
・TMA
 TMA熱機械測定装置:真空理工(株)製TM-7000
 昇温速度:2℃/min.
・ピール強度
 JISK-6911に準拠
・吸水湿性
 直径5cm×厚み4mmの円盤状の試験片を100℃―浸水、85℃―85%、121℃―100%の各条件下、24時間煮沸した後の重量増加率(%)
・誘電性
 K6991に準拠して1GHzにおいて測定
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
PN:フェノールノボラック(明和化成工業株式会社製 H-1)
 表1の結果からみて明らかな通り、比較例5、6に対し、実施例3の硬化物は高い難燃性と耐熱性を有していた。さらに、表2の結果より、本発明のエポキシ樹脂は比較例7に示す耐熱樹脂と比較し、高い耐熱性を保持することに加え、低吸水性、低誘電特性にも優れていることから、特に電子材料用途に好適に用いることができる。
 本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
 なお、本出願は、2013年11月19日付で出願された日本国特許出願(特願2013-238463)及び2014年6月18日付で出願された日本国特許出願(特願2014-125009)に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。
 本発明のフェノール樹脂を使用したエポキシ樹脂組成物は、その硬化物が優れた耐熱性と難燃性を有するので、電気・電子部品、特に電気電子部品用絶縁材料や、構造用材料、接着剤、塗料等に有用である。

Claims (7)

  1. 下記式(1)で表されるフェノール樹脂。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式中、Rはそれぞれ独立して炭素数1~6のアルキル基を表し、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表し、kは1~4の整数を示し、nは0~10の整数を示す。)
  2. 樹脂を構成する分子の前記式(1)中のnの平均値が0.05以上、4.0以下である請求項1に記載のフェノール樹脂。
  3. 13C-NMRスペクトルチャートにおいてケトン由来のCHカーボンのピーク面積を1とした場合、CHカーボンのピーク面積が0以上、0.2以下である請求項1に記載のフェノール樹脂。
  4. 請求項1~3のいずれか一項に記載のフェノール樹脂にエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂。
  5. 請求項1~3のいずれか一項に記載のフェノール樹脂と、エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。
  6. 請求項4に記載のエポキシ樹脂と、硬化剤と、任意に硬化促進剤を含有するエポキシ樹脂組成物。
  7. 請求項5または6に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
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