WO2015068276A1

WO2015068276A1 - 赤外線吸収性フレキソ印刷インキ

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Publication number: WO2015068276A1
Application number: PCT/JP2013/080291
Authority: WO
Inventors: 文人小林; 博昭島根; 渉吉住; 正太川▲崎▼; 芝岡　良昭
Original assignee: 共同印刷株式会社
Priority date: 2013-11-08
Filing date: 2013-11-08
Publication date: 2015-05-14

Abstract

　アンチモンドープ酸化錫及びビヒクルを含む赤外線吸収性フレキソ印刷インキであって、　前記アンチモンドープ酸化錫は、酸化錫と酸化アンチモンを含有し、かつ下記（ａ）及び／又は（ｂ）を満たす：　（ａ）Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークの半値幅（Δ２θ）が、０．３０以下である；及び／又は　（ｂ）前記酸化アンチモンの含有量が、前記アンチモンドープ酸化錫の重量を基準として、０．５～１０．０重量％であり、かつ、Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークのピーク値を半値幅（Δ２θ）で除算した値である結晶化度が、５８４２７以上である、　赤外線吸収性フレキソ印刷インキが提供される。

Description

赤外線吸収性フレキソ印刷インキ

　本発明は、赤外線吸収性フレキソ印刷インキに関し、特に、偽造防止用の赤外線吸収性フレキソ印刷インキに関する。

　紙幣、有価証券等に、赤外線吸収性フレキソ印刷インキを使用してフレキソ印刷を部分的に施すことが検討されている。また、紙ケース、段ボールケース、フィルムケースなどのケースの印刷パターンについても、赤外線吸収性フレキソ印刷インキを使用したフレキソ印刷が望まれる。

　赤外線吸収性フレキソ印刷インキは、一般に用いられるフレキソ印刷インキに赤外線吸収剤を加えて構成される。

　赤外線吸収剤としては、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物などの赤外線吸収性有機材料；又はカーボンブラック、酸化タングステン、酸化鉛などの赤外線吸収性無機材料が、知られている。

　例えば、特許文献１には、赤外線吸収剤として、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとシアニン系色素カチオンとの対イオン結合体などの赤外線吸収性有機材料；及び複合タングステン酸化物、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）などの赤外線吸収性無機材料が、記述されている。

　また、特許文献２には、赤外線吸収剤としてシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ジオール系色素、トリフェニルメタン系色素などの赤外線吸収性有機材料を含むフレキソ印刷インキが、記述されている。

　さらに、特許文献３には、赤外線吸収剤としてアンチモンドープ酸化錫を含む偽造防止用赤外線吸収性インキが、記述されている。

特開２０１２－１２１１７０号公報国際公開第２００９／１５４２８１号特開２０１０－００６９９９号公報

　しかしながら、赤外線吸収剤として赤外線吸収性有機材料を含有したフレキソ印刷インキは、この材料の色が多彩であるため、様々な色のインキを調合することができるが、インキの耐候性が低いという問題が指摘されている。

　一方、赤外線吸収性無機材料としてカーボンブラックを用いたフレキソ印刷インキは、耐候性が赤外線吸収性有機材料含有インキより優れているものの、カーボンブラックが濃い暗色系の色調を有する顔料であるため、インキの色は、黒色系又は明度の低いものに限られていた。このため、赤外線吸収性無機材料としてカーボンブラックを用いた場合、他の色を有する顔料又は染料と混合して、バリエーションに富んだ色彩を有するフレキソ印刷インキを調合することができなかった。中でも明色、特に淡色系の明色のフレキソ印刷インキを調合することは不可能であった。仮に、カーボンブラックを含有するフレキソ印刷インキの明度を高くするため、酸化チタン、酸化亜鉛などの白色顔料を添加しても、白色顔料は赤外線を反射する特性を持つため、インキの赤外線吸収性が阻害されることになり、偽造防止用インキとしての機能に悪影響を及ぼすことになる。

　また、酸化タングステン、酸化鉛などの金属酸化物を赤外線吸収性無機材料として含むフレキソ印刷インキは、透明度が高いものの赤外線吸収効果が弱く、インキ又は印刷物を形成したときに十分な赤外線吸収効果が得られないという問題がある。

　また、金属酸化物の中でも、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）は、比較的吸収効果が高いことで知られている。しかしながら、インジウムがレアメタルであるために、ＩＴＯのコストは高い。

　また、金属酸化物の中でも、酸化アンチモン錫（ＡＴＯ）は、透明性及び耐候性において優れているが、各業界の規制（例えば、化学物質排出移動量届出制度（ＰＲＴＲ）、玩具安全基準など）があるため、アンチモンの量を低減することが望まれていた。また、アンチモンもレアメタルであるため、ＡＴＯ中に含まれるアンチモンの量を低減してＡＴＯ含有インキの製造コストを抑制することが望まれていた。

　これに関連して、従来のアンチモンドープ酸化錫に含まれる酸化アンチモンの量については検討の余地があった。また、従来のアンチモンドープ酸化錫を含むフレキソ印刷インキについては、詳細な検討が行われていなかった。

　したがって、本発明は、赤外線吸収性、透明性、耐候性、安全性及びコストに優れ、かつ様々な色の着色剤と組み合わせてバリエーションに富んだ色彩を呈し得る、フレキソ印刷インキを提供することを目的とする。

　上記課題を解決するために、本発明は以下の解決手段を採用する：
［１］　アンチモンドープ酸化錫及びビヒクルを含む赤外線吸収性フレキソ印刷インキであって、
　前記アンチモンドープ酸化錫は、酸化錫と酸化アンチモンを含有し、かつ下記（ａ）及び／又は（ｂ）を満たす：
　　（ａ）Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークの半値幅（Δ２θ）が、０．３０以下である；及び／又は
　　（ｂ）前記酸化アンチモンの含有量が、前記アンチモンドープ酸化錫の重量を基準として、０．５～１０．０重量％であり、かつ、Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークのピーク値を半値幅（Δ２θ）で除算した値である結晶化度が、５８４２７以上である、
　赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［２］　偽造防止用である、［１］に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［３］　前記（ａ）において、前記半値幅（Δ２θ）は、０．２１以下である、［１］又は［２］に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［４］　前記（ｂ）において、前記酸化アンチモンの含有量は、前記アンチモンドープ酸化錫の重量を基準として、２．８～９．３重量％である、［１］又は［２］に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［５］　前記結晶化度が７８０２０以上である、［１］又は［２］に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［６］　前記アンチモンドープ酸化錫の平均粒径が、２５μｍ以下である、［１］～［５］のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［７］　前記ビヒクルは、溶剤を含む、［１］～［６］のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［８］　前記溶剤は、有機溶剤、水、又はこれらの混合物である、［７］に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［９］　補助剤をさらに含む、［１］～［８］のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［１０］　着色剤をさらに含む、［１］～［９］のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
［１１］　［１］～［１０］のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキを使用して、フレキソ印刷で印刷物を得る方法。
［１２］　［１］～［１０］のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキにより印刷された印刷部を備える印刷物。

　本発明に使用されるアンチモンドープ酸化錫顔料は、無機顔料であり、紫外線等の光線による劣化が起こり難いため、本発明によれば、高い耐候性及び赤外線吸収性を有するフレキソ印刷インキを得ることができる。

　また、アンチモンドープ酸化錫顔料を含む本発明のフレキソ印刷インキは、明度が高く、かつ淡い白色を呈するので、他の着色剤と混合されることによって、様々な色彩、特に明るい色彩を提供することができる。すなわち、本発明によれば、カーボンブラックなどの従来の赤外線吸収性無機材料では実現できなかった淡色系の赤外線吸収性フレキソ印刷インキを作製することができるので、偽造防止効果及びデザイン性に優れた紙幣、有価証券、カード、ケース等の印刷物を作製することができる。

　また、アンチモンドープ酸化錫顔料は、スズドープ酸化インジウム顔料に比べて製造コストが低い。さらに、本発明によれば、従来のアンチモンドープ酸化錫顔料と比べて酸化アンチモン含有率の低いアンチモンドープ酸化錫顔料をフレキソ印刷インキに使用することができる。したがって、本発明によれば、幅広い業界において、アンチモンの使用量に関する安全規制を遵守しながら、経済性に優れた偽造防止用フレキソ印刷インキを提供できる。

図１は、アンチモンドープ酸化錫を製造する本発明の方法の一態様を示す工程図である。図２（Ａ）は、実施例１のアンチモンドープ酸化錫（酸化アンチモン含有率０．７重量％、通気焼成・冷却あり）のＸ線回折の結果を示す図であり、図２（Ｂ）は、実施例２のアンチモンドープ酸化錫（酸化アンチモン含有率２．８重量％、通気焼成・冷却あり）のＸ線回折の結果を示す図である。図３（Ａ）は、実施例３のアンチモンドープ酸化錫（酸化アンチモン含有率５．３重量％、通気焼成・冷却あり）のＸ線回折の結果を示す図であり、図３（Ｂ）は、実施例４のアンチモンドープ酸化錫（酸化アンチモン含有率９．３重量％、通気焼成・冷却あり）によるＸ線回折の結果を示す図である。図４（Ａ）は、実施例５のアンチモンドープ酸化錫（市販品の通気焼成・冷却、２００［℃／時間］以上の冷却速度、酸化アンチモン含有率２．７重量％）のＸ線回折の結果を示す図であり、図４（Ｂ）は、実施例６のアンチモンドープ酸化錫（市販品の通気焼成・冷却、２００［℃／時間］未満の冷却速度、酸化アンチモン含有率２．７重量％）によるＸ線回折の結果を示す図である。図５は、実施例７のアンチモンドープ酸化錫（メタ錫酸と三酸化アンチモンの混合物の通気焼成・冷却、酸化アンチモン含有率４．２重量％）のＸ線回折の結果を示す図である。図６（Ａ）は、比較例１のアンチモンドープ酸化錫（酸化アンチモン含有率９．９重量％、市販品）のＸ線回折の結果を示す図であり、図６（Ｂ）は、比較例２のアンチモンドープ酸化錫（酸化アンチモン含有率２．８重量％、通気焼成・冷却なし）のＸ線回折の結果を示す図である。図７は、結晶化度の算出方法を概略的に示す概念図である。図８は、２００ｎｍ～２５００ｎｍの波長において酸化アンチモン含有率が反射率に与える影響を示すグラフである。図９は、２００ｎｍ～２５００ｎｍの波長及び２．７～２．８重量％の酸化アンチモン含有率において、通気焼成工程が反射率に与える影響を示すグラフである。図１０は、２００ｎｍ～２５００ｎｍの波長において、通気焼成工程が、市販のアンチモンドープ酸化錫原料の反射率及びアンチモン含有率に与える影響を示すグラフである。図１１は、２００ｎｍ～２５００ｎｍの波長において、通気焼成工程が、メタ錫酸と三酸化アンチモンの混合物の反射率に与える影響を示すグラフである。図１２は、３５０ｎｍ～１５００ｎｍの波長における藍・紅・黄（ＣＭＹ）プロセスインキの反射率を示すグラフである。

＜フレキソ印刷インキ＞
　本発明のインキは、アンチモンドープ酸化錫及びビヒクルを含む。また、本発明のインキは、アンチモンドープ酸化錫の赤外線吸収性を利用して印刷物の偽造を防止するために、使用されることができる。

　本発明のインキは、フレキソ印刷に使用される任意の乾燥方式に適する。一般に、フレキソ印刷インキの乾燥方式は、浸透による乾燥、蒸発による乾燥、及び重合による乾燥に大別される。これらの乾燥方式は、フレキソ印刷時において、それぞれ単独で、又は組み合わせて利用されることができる。

　浸透による乾燥は、インキ中の低粘度ビヒクル成分が被印刷体に浸透することにより、インキの粘度が上昇して、インキが見掛け上乾燥することをいい、紙、不織布などの高吸収性被印刷物のフレキソ印刷に利用される。インキが高吸収性被印刷物に転移した直後に、インキは、例えば毛細管現象により、被印刷体に浸透する。したがって、浸透による乾燥を促進するためには、被印刷体の表面特性及び内部構造に応じて、ビヒクル成分を選択することが好ましい。

　蒸発による乾燥は、ビヒクル中に含まれる溶剤の蒸発によりインキが乾燥することをいい、ビヒクルとして溶剤を使用するフレキソ印刷に利用される。蒸発による乾燥としては、例えば、インキ膜からの溶剤の自然蒸発；常温送風、熱風送風などによるインキの外部乾燥；赤外線などによるインキの電磁波加熱などが挙げられる。一般に、インキ膜からの溶剤の自然蒸発には、室温で蒸発するような低沸点溶剤が使用される。一方で、インキの熱風乾燥には、約２００℃～約２５０℃で蒸発するような高沸点溶剤が使用される。なお、水のように、蒸発潜熱の大きい溶剤を使用するときには、エネルギー効率の高い乾燥設備を利用するか、又は凸版胴の周長を伸ばして版上の乾燥領域を増やすことにより、蒸発による乾燥を行なうことが好ましい。

　重合による乾燥は、インキ中のビヒクル成分の重合によりインキが乾燥することをいう。重合による乾燥としては、例えば、ビヒクル成分の酸化重合による乾燥、ビヒクル成分の光又は電子線重合による硬化、ビヒクル成分の熱重合による乾燥などが挙げられる。

　重合による乾燥を本発明のインキに適用するときには、本発明のインキを、酸化重合型インキ、紫外線硬化型インキ、又は酸化重合型・紫外線硬化型併用インキとして調製することができる。

　ここで、酸化重合型インキは、ビヒクル成分の酸化重合により硬化可能なインキである。一般に、酸化重合型インキは、樹脂、架橋剤又は乾燥促進剤、乾性油又は半乾性油、溶剤などを含む。

　紫外線硬化型インキは、ビヒクル成分の光重合により硬化可能なインキである。一般に、紫外線硬化型インキは、光重合性樹脂、光重合開始剤などを含む。

　酸化重合型・紫外線硬化型併用インキは、酸化重合型インキとＵＶインキの両方の硬化特性を備えたインキである。

　また、本発明のインキは、アンチモンドープ酸化錫及びビヒクルだけでなく、補助剤及び／又は着色剤も含んでよい。インキ中のビヒクル及び／又は補助剤の種類及び含有量を調整することにより、フレキソ印刷時に、上記の乾燥方式を使い分けるか、又は組み合わせることができる。

　一般に、フレキソ印刷インキには、流動性、乾燥性などの印刷適性が求められるので、フレキソ印刷インキ中のビヒクルは、溶剤を含むことが好ましい。また、溶剤を含むインキは、リキッドインキと呼ばれることもある。これに関連して、フレキソ印刷ではインキ出しロール（ファウンテン・ロール）又は凸版胴の耐溶剤性に制限が有るので、本発明のフレキソ印刷インキは、水を主溶剤とする水性インキ、又は有機溶剤を主溶剤とする有機溶剤含有インキとして使用されることが好ましい。

　ここで、水性インキは、水を主溶剤とするインキであるが、有機溶剤を含んでもよい。さらに、水性インキは、水に加えて、例えば、水溶性樹脂、コロイダルディスパージョン樹脂、エマルション樹脂などの様々な樹脂を含むことができるので好ましい。

　一方で、有機溶剤含有インキは、有機溶剤を主溶剤とするインキであるが、実質的に水を含まなくてよい。なお、「実質的に水を含まない」とは、インキ中の水の含有率が０質量％であること、又はインキが１質量％以下の水を不可避的に含むことをいう。

　本発明のインキに含まれるアンチモンドープ酸化錫、ビヒクル、補助剤及び着色剤について以下に説明する。

［アンチモンドープ酸化錫］
　アンチモンドープ酸化錫は、酸化錫にアンチモンがドープされている物質である。また、アンチモンドープ酸化錫は、酸化錫と酸化アンチモンを含む顔料の形態でよい。

　本発明のアンチモンドープ酸化錫は、酸化錫と酸化アンチモンを含む。酸化アンチモンの含有量は、アンチモンドープ酸化錫の重量を基準として、約０．５重量％以上、約１．０重量％以上、約１．５重量％以上、約２．０重量％以上、約２．５重量％以上、又は約２．８重量％以上であることが好ましく、また、この含有量は、約１０．０重量％以下、約９．５重量％以下、約９．３重量％以下、約８．０重量％以下、約７．０重量％以下、約６．０重量％以下、約５．５重量％以下、約５．０重量％以下、約４．０重量％以下、約３．５重量％以下、又は約３．０重量％以下であることが好ましい。また、酸化アンチモンの含有量は、アンチモンドープ酸化錫の重量を基準として、約２．５～約９．３重量％、約２．８～約９．３重量％、約２．８～約５．５重量％、又は約２．８～約３．５重量％であることがより好ましい。

　従来のアンチモンドープ酸化錫は、十分な導電性を有する透明導電材料を得るために、１０重量％を超える酸化アンチモンを含む必要があった。一方で、本発明のアンチモンドープ酸化錫は、上記の通り、従来のアンチモンドープ酸化錫と比較して、酸化アンチモンの使用量を低減させることができる。

　ただし、酸化アンチモンは、酸化錫の結晶格子中に入り込むことにより、赤外線を吸収する役割を発揮すると考えられているため、その使用量を単純に低減させるだけだと、その分赤外線吸収効果が低下することになる。

　そこで、本発明のアンチモンドープ酸化錫は、赤外線吸収効果の低下を抑制するために、Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近の半値幅（Δ２θ）が、０．３５以下であり、かつ／又はＸ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークのピーク値を半値幅（Δ２θ）で除算した値である結晶化度が、１８０９２以上である。

　赤外線吸収効果は、主成分である酸化錫の結晶格子中に、酸化アンチモンが固溶される（入り込む）ことで、発生する効果である。つまり、アンチモンドープ酸化錫を製造する際には、主成分である酸化錫に酸化アンチモンを含有させることになる。

　したがって、酸化錫の結晶格子中に酸化アンチモンが適切に固溶されている場合、本発明のアンチモンドープ酸化錫は、結晶構造を適切に維持することによって、アンチモンドープ酸化錫中の酸化アンチモン含有量が微量（例えば、少なくとも０．５重量％）であったとしても、赤外線吸収効果を発揮することができる。このとき、例えば、Ｘ線回折測定において、２θ＝２７°付近に鋭いピークが見られる。

　一方で、例えば従来のアンチモンドープ酸化錫のように、酸化錫の結晶格子中に固溶されない酸化アンチモンが不純物として存在していると、不純物は、赤外線吸収効果に寄与していなかったと考えられる。

　その場合、赤外線吸収効果に寄与していない部分の酸化アンチモンは、無駄な原料（不純物）としてそのまま残存することになる。このため、アンチモンドープ酸化錫を製造する際には、必要以上に酸化アンチモンの使用量が増加してしまっていた。そこで本発明の発明者等は、この不純物について研究を重ねた結果、アンチモンドープ酸化錫の半値幅（Δ２θ）が広く、かつ／又は結晶化度（物質が結晶化した際の物質全体に対する結晶化部分の割合）が低い場合には不純物としての酸化アンチモンが多くなり、一方で、半値幅（Δ２θ）が狭く、かつ／又は結晶化度が高い場合には不純物としての酸化アンチモンが少なくなることを突き止めた。

　なお、不純物としての酸化アンチモンを除去しながらアンチモンドープ酸化錫の結晶性を向上させる手段としては、例えば、後述する通気焼成、後述する気化精製などが挙げられる。

　そのため、本発明では、酸化アンチモンの使用量を必要最低限に抑えるために、半値幅（Δ２θ）を狭めたか、かつ／又は結晶化度を高めたアンチモンドープ酸化錫が提供される。この点、半値幅（Δ２θ）を狭めるか、又は結晶化度を高めると、不純物が少なくなり、効果的に酸化アンチモンを固溶した状態にすることができ、赤外線吸収効果を向上させることができる。

　したがって、Ｘ線回折測定において、２θ＝２７°付近の半値幅（Δ２θ）を０．３５以下に調整し、かつ／又は２θ＝２７°付近の結晶化度を１８０９２以上に調整することにより、酸化アンチモンの使用量を抑えても、十分な赤外線吸収効果を発揮することができる。

　なお、本明細書では、Ｘ線回折を測定するときに、市販のＸ線回折装置を用いて、任意のスキャン速度を選択してよいが、積算回数を１回に設定するものとする。

　本発明のアンチモンドープ酸化錫では、酸化アンチモンの使用量を低減させながらも、赤外線吸収効果を十分に発揮させるために、２θ＝２７°付近の半値幅（Δ２θ）は、０．３０以下、０．２５以下、０．２１以下、０．２０以下、又は０．１９以下であることが好ましい。

　また、本発明のアンチモンドープ酸化錫は、２θ＝２７°付近の結晶化度が５８４２７以上、特に７８０２０以上であることが好ましい。

　アンチモンドープ酸化錫の結晶化度を５８４２７以上、特に７８０２０以上とすると、不純物をより減らし、効果的に酸化アンチモンを固溶した状態にして、赤外線吸収効果をより向上させることができる。それ故に、本発明によれば、酸化アンチモンの使用量を低減させながらも、赤外線吸収効果を十分に発揮させることができる。

　また、上記アンチモンドープ酸化錫を、アクリルポリマー及びシリコーンを含むワニスに溶解させ、基材に塗布し、乾燥し、７０μｍの厚さ及び約１１．６重量％のアンチモンドープ酸化錫の固形分重量比を有する塗膜を形成したときに、この塗膜の日射反射率をＪＩＳ　Ｋ５６０２に従って測定すると、３８０～７８０ｎｍの波長域における平均反射率から７８０～１１００ｎｍの波長域における平均反射率を引くことにより得られた値が、約３．００％以上であることが好ましい。

　これに関連して、３８０～７８０ｎｍの波長域における平均反射率から７８０～１１００ｎｍの波長域における平均反射率を引くことにより得られた値が３．００％以上であれば、アンチモンドープ酸化錫の可視光吸収性が相対的に低く、すなわち、アンチモンドープ酸化錫の可視光透明性が相対的に高くなる。したがって、アンチモンドープ酸化錫の呈する色に束縛されることなく、アンチモンドープ酸化錫を幅広い用途で使用することができる。

　また、３８０～７８０ｎｍの波長域における平均反射率から７８０～１１００ｎｍの波長域における平均反射率を引くことにより得られた値は、約４．８０％以上、又は約４．８５％以上であることがより好ましく、また約９９％以下、約９０％以下、又は約８０％以下であることがより好ましい。

　本発明に使用される赤外線吸収顔料は、上記のアンチモンドープ酸化錫からなる赤外線吸収顔料でよい。

　本発明に使用される赤外線吸収顔料によれば、上述したアンチモンドープ酸化錫の作用・効果を赤外線吸収顔料にて実現することができる。このため、酸化アンチモンの使用量を低下させつつ、赤外線吸収効果も十分に発揮することができるとともに、所定の安全基準等を遵守した高品質の赤外線吸収顔料を提供することができる。

　本発明の印刷物は、上記の赤外線吸収インキにより印刷された印刷部を備える印刷物である。

　本発明の印刷物によれば、上記の赤外線吸収インキにより、文字、図形等を印刷した印刷部を備えるため、酸化アンチモンの使用量を低下させつつ、赤外線吸収効果も十分に発揮させた印刷物とすることができる。また、高品質の印刷物を提供するのみならず、環境にも配慮した印刷物を提供することができる。

　本発明の印刷物は、印刷部に含有されるアンチモンドープ酸化錫の固形分重量比が１１．６重量％である場合、７８０～１１００ｎｍの赤外線波長域における反射率のピーク値が２８．７７６％以下であることが好ましい。

　このように、赤外線の反射率が低い印刷物とすることにより、印刷部に含有される酸化アンチモンを低減することができると共に、赤外線吸収効果を十分に発揮させることができる。

　本発明のアンチモンドープ酸化錫は、例えば、以下の方法により製造されることができる。

〔アンチモンドープ酸化錫の製造方法〕
　本発明のアンチモンドープ酸化錫の製造方法は、アンチモンドープ酸化錫原料を通気下で焼成する通気焼成工程を含む。

　本発明において、通気焼成又は冷却は、焼成又は冷却雰囲気を流通させながら焼成又は冷却を行うことだけでなく、外気を遮断しない開放空間（以下、「開放系」とも呼ぶ）で焼成又は冷却を行うことも含む。

　本発明のアンチモンドープ酸化錫の製造方法は、アンチモンドープ酸化錫の半値幅を従来品よりも狭め、かつ／又はアンチモンドープ酸化錫の結晶化度を従来品よりも高めることができる。

　本発明のアンチモンドープ酸化錫の製造方法は、通気焼成工程を含むことにより、酸化アンチモンの使用量を低減させながらも、赤外線吸収効果を十分に発揮させることができるアンチモンドープ酸化錫を製造することができる。

　本明細書では、「アンチモンドープ酸化錫原料」は、通気焼成により本発明のアンチモンドープ酸化錫になる原料であり、例えば、下記（ｉ）～（ｖ）の少なくとも１つを満たす原料である：
（ｉ）錫化合物とアンチモン化合物の混合物；
（ｉｉ）上記（ｉ）の混合物を閉鎖系（外気を遮断する密閉空間）で焼成することにより得られる生成物；
（ｉｉｉ）上記（ｉｉ）の生成物を閉鎖系で冷却することにより得られる生成物；
（ｉｖ）錫化合物及びアンチモン化合物を原料として用いる共沈焼成法により得られる粗アンチモンドープ酸化錫；及び
（ｖ）Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近の半値幅（Δ２θ）が、０．３５を超えており、かつ／又は、Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークのピーク値を半値幅（Δ２θ）で除算した値である結晶化度が、１８０９２未満である粗アンチモンドープ酸化錫。

　上記（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）からも明らかな通り、従来は閉鎖系で焼成工程及び冷却工程を行っていたため、従来のアンチモンドープ酸化錫では、酸化錫の結晶格子中に固溶されない酸化アンチモンが不純物として存在しており、赤外線吸収効果に寄与していないにもかかわらず、酸化アンチモンの多いアンチモンドープ酸化錫となっていた。

　そこで、本件発明者等は、通気焼成工程、及びその後の冷却工程を行うことにより、余分な酸化アンチモンの除去を達成できることを見出した。そして、本発明の製造方法により得られるアンチモンドープ酸化錫は、半値幅が狭く、かつ／又は結晶化度が高くなるが、これは不純物の酸化アンチモンが少ないことに起因しているものと考えられる。一方、アンチモンドープ酸化錫の中に、余分な酸化アンチモンが存在していると、Ｘ線回折での測定時にＸ線が散乱され、ピークが低くなるものと考えられる。

　なお、本明細書では、通気焼成工程、及びその後の通気冷却工程を少なくとも含むアンチモンドープ酸化錫の製造方法を「気化精製法」と呼ぶ。

　また、結晶格子中に固溶されている酸化アンチモンについては、本発明の製造方法では、通気焼成工程により、その一部を除去しつつ、結晶構造を適切に維持することができるため、高い赤外線吸収効果を維持することができる。このため、通気焼成工程を経ることにより、酸化アンチモンの使用量を低減させながら、高い赤外線吸収効果を得ることができる。

　「錫化合物」としては、例えば、メタ錫酸、錫酸ナトリウム三水和物、ニオブ三錫、酸化フェンブタ錫、酸化錫、水素化錫を挙げることができる。

　「アンチモン化合物」としては、例えば、酸化アンチモン、アンチモン化インジウム、スチビンを挙げることができる。

　所望により、本発明のアンチモンドープ酸化錫の製造方法は、通気焼成工程の後に、以下の工程を含んでよい：
　得られたアンチモンドープ酸化錫を、通気下で冷却する通気冷却工程；及び／又は
　得られたアンチモンドープ酸化錫を２００［℃／時間］以上の冷却速度で冷却する冷却工程。

　通気冷却工程は、例えば、炉の中に空気を送り込むことにより行なわれることができる（具体的には、冷却装置の設定により何時間後に何度まで冷却するという設定が可能である）。

　仮に密閉冷却工程（いわゆる自然冷却）に要する時間が１０時間であるとすれば、通気冷却工程では、それよりも早い時間（例えば５時間程度）で冷却させてよい。このため、通気冷却工程は、自然冷却よりも積極的に冷却していることになる。

　通気冷却工程又は単なる冷却工程において、冷却速度は、２００［℃／時間］以上、２１５［℃／時間］以上、又は２１６［℃／時間］以上であることが好ましい。

　また、本発明のアンチモンドープ酸化錫の製造方法は、通気焼成工程の前に、以下の混合工程及び閉鎖焼成工程を含むことが好ましい：
　錫化合物とアンチモン化合物を混合して、混合物を得る混合工程；及び
　混合物を閉鎖系で焼成して、アンチモンドープ酸化錫原料を得る閉鎖焼成工程。

　さらに、本発明のアンチモンドープ酸化錫の製造方法は、閉鎖焼成工程と通気焼成工程の間に、アンチモンドープ酸化錫原料を閉鎖系で冷却する閉鎖冷却工程を含むことが好ましい。

　混合工程、閉鎖焼成工程、及び閉鎖冷却工程によって、それぞれ上記（ｉ）～（ｉｉｉ）を満たすアンチモンドープ酸化錫原料を得ることができる。

　本発明の一実施形態に係るアンチモンドープ酸化錫の製造方法の各工程について、図１を参照して、以下に説明する。

〔原料混合工程：ステップＳ１００〕
　この工程では、アンチモンドープ酸化錫の原料となる錫化合物とアンチモン化合物と混合する。具体的には、粉末状のメタ錫酸（Ｈ₂ＳｎＯ₃）と粉末状の三酸化アンチモン（Ｓｂ₂Ｏ₃）とを混合する。配合の割合は、「メタ錫酸（Ｈ₂ＳｎＯ₃）＝９０重量％、三酸化アンチモン（Ｓｂ₂Ｏ₃）＝１０重量％」の割合とし、水を媒体としてボールミルで砕混合を行う。なお、三酸化アンチモンの含有量は、１０重量％が好ましいが、５～２０重量％程度であってもよい。

〔第１乾燥工程：ステップＳ１０２〕
　この工程では、先の原料混合工程（ステップＳ１００）で混合された材料を３２０℃にて乾燥させる。これにより、先の原料混合工程（ステップＳ１００）にて材料を混合する際に使用した水を除去することができる。

〔第１粉砕工程：ステップＳ１０４〕
　この工程では、先の第１乾燥工程（ステップＳ１０２）にて乾燥された材料を粉砕する。具体的には、乾燥された材料を微粉砕機で粉末状に粉砕する。

〔閉鎖焼成工程：ステップＳ１０６〕
　この工程では、先の第１粉砕工程（ステップＳ１０４）にて粉砕された材料を焼成する。具体的には、先の第１粉砕工程（ステップＳ１０４）にて粉砕された材料を閉鎖系にて１０００～１３００℃で１時間以上焼成する。閉鎖焼成工程では、閉鎖系にて焼成しているため、酸化アンチモンの含有率（固溶比率）は、１０重量％程度に維持される。

〔閉鎖冷却工程：ステップＳ１０７〕
　この工程では、先の閉鎖焼成工程（ステップＳ１０６）で焼成された材料を冷却する。具体的には、閉鎖焼成工程の終了と同時に冷却を開始して、焼成された材料を閉鎖系で冷却する。これにより、錫（Ｓｎ）とアンチモン（Ｓｂ）とを複合させたアンチモンドープ酸化錫原料が生成される。アンチモンドープ酸化錫原料は、閉鎖焼成工程（ステップＳ１０６）及び閉鎖冷却工程（ステップＳ１０７）を経て生成される。なお、冷却は自然冷却でもよいが、後述する通気冷却工程と同様に、焼成された材料を通気下で冷却してもよい。

〔第１微粉砕工程：ステップＳ１０８〕
　所望により、この工程を行なって、先の閉鎖冷却工程（ステップＳ１０７）にて冷却された材料を粉砕してよい。具体的には、水を媒体としつつ、ビーズミルを用いて、焼成後の材料を粒径（レーザー回折散乱法でのメディアン径）が１００ｎｍ程度になるまで粉砕することができる。なお、この工程を省略する場合には、この工程より前の工程（例えば、ステップＳ１０６、ステップＳ１０７など）で使用された装置内において、連続的に後の工程に進んでよい。

〔第２乾燥工程：ステップＳ１１０〕
　所望により、この工程を行なって、先の第１微粉砕工程（ステップＳ１０８）で粉砕された材料を、３２０℃に加熱することにより乾燥させてよい。これにより、先の第１微粉砕工程（ステップＳ１０８）にて材料を粉砕する際に使用した水を除去することができる。なお、この工程を省略する場合には、この工程より前の工程（例えば、ステップＳ１０６、ステップＳ１０７など）で使用された装置内において、連続的に後の工程に進んでよい。

〔第２粉砕工程：ステップＳ１１２〕
　所望により、この工程を行なって、先の第２乾燥工程（ステップＳ１１０）にて乾燥された材料を粉砕してよい。具体的には、乾燥された材料を微粉砕機で粉末状に粉砕することができる。なお、この工程を省略する場合には、この工程より前の工程（例えば、ステップＳ１０６、ステップＳ１０７など）で使用された装置内において、連続的に後の工程に進んでよい。

〔通気焼成工程：ステップＳ１１４〕
　この工程では、先の第２粉砕工程（ステップＳ１１２）にて粉砕された材料を焼成する。具体的には、先の第２粉砕工程（ステップＳ１１２）にて粉砕された材料を、炉において通気下（炉内部に通気を保った状態）にて焼成する。この工程では、焼成温度は、１０００℃以上、１０５０℃以上、１１００℃以上、又は１１５０℃以上でよく、また、この焼成温度は、１３００℃以下、１２５０℃以下、又は１２００℃以下でよい。この工程では、焼成時間は、１時間以上、２時間以上、３時間以上、４時間以上、５時間以上、６時間以上、７時間以上、又は８時間以上でよく、また、この焼成時間は、１２時間以下、１１時間以下、１０時間以下、又は９時間以下でよい。この通気焼成工程により、閉鎖焼成工程により生成されたアンチモンドープ酸化錫原料を通気下で再び焼成することになる。また、通気焼成工程では、通気下にて焼成しているため、酸化錫（ＳｎＯ₂）中の余分な酸化アンチモンを気化させて消失させることができる。そして、最終的な酸化アンチモンの含有量（固溶比率）は、約０．５～１０．０重量％になる。

〔通気冷却工程：ステップＳ１１６〕
　この工程では、先の通気焼成工程（ステップＳ１１４）で焼成されたアンチモンドープ酸化錫を、通気下にて冷却する。

　具体的には、通気焼成工程の終了と同時に冷却を開始し、３００分以内に焼成炉内の温度を室温（例えば２０～２５℃程度）にすることにより、再び焼成されたアンチモンドープ酸化錫を冷却する。なお、通気冷却工程は通気下で行われる。

　なお、実施形態において気化精製法を行う場合には、通気焼成工程（ステップＳ１１４）の後に、通気冷却工程（ステップＳ１１６）を行うことができる。

〔第２微粉砕工程：ステップＳ１１８〕
　この工程では、先の通気冷却工程（ステップＳ１１６）にて冷却された精製後の材料を粉砕する。具体的には、水を媒体としつつ、ビーズミルを用いて、精製後の材料を粒径（レーザー回折散乱法でのメディアン径）が１００ｎｍ程度になるまで粉砕する。

〔洗浄工程：ステップＳ１２０〕
　この工程では、先の第２微粉砕工程（ステップＳ１１８）にて粒度調整された材料の不純物を水洗により除去する。不純物は、原材料に含まれる微量の電解質（例えば、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）など）であり、不純物が十分に除去されたか否かは、導電率で確認することができる。

〔第３乾燥工程：ステップＳ１２２〕
　この工程では、先の洗浄工程（ステップＳ１２０）で洗浄された材料を１４５℃に加熱することにより乾燥させる。これにより、先の洗浄工程（ステップＳ１２０）にて材料を洗浄する際に使用した水を除去することができるとともに、洗浄後の材料を乾燥させることができる。

〔仕上粉砕工程：ステップＳ１２４〕
　この工程では、先の第３乾燥工程（ステップＳ１２２）にて乾燥された材料を粉砕する。具体的には、乾燥された材料を微粉砕機で、粒径（レーザー回折散乱法でのメディアン径）が数１０ｎｍ～１００μｍ程度になるように仕上粉砕する。

　そして、上記の各工程を経ることにより、本発明のアンチモンドープ酸化錫が製造される。

［ビヒクル］
　ビヒクルは、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を分散させて、被印刷物に付着させる媒体である。本発明のインキには、印刷に使用されている既知のビヒクル成分を含有させてよい。本発明のインキは、水性インキ又は有機溶剤含有インキとして形成されることができるので、水性インキに適したビヒクル及び有機溶剤含有インキに適したビヒクルについて以下に説明する。

（水性インキに適したビヒクル）
　水性インキに適したビヒクルは、水を含む。また、水性インキに適したビヒクルには、有機溶剤、樹脂などを単独または複数組み合わせて含有させてよい。水、有機溶剤及び樹脂について以下に説明する。

〔水〕
　水は、水性インキの必須成分である。水は、アンチモンドープ酸化錫、樹脂、モノマー、有機溶剤、着色剤、補助剤などと共に水性分散体を形成することができる。また、ビヒクルとして水を使用することにより、印刷時に、火災の危険性、有機溶剤の毒性、炭化水素の排出量、及び凸版胴の腐食を抑制することができる。

　水性インキのビヒクルとして使用される水としては、例えば、純水、脱イオン水、蒸留水、飲料水、水道水、海水、地下水、農業用水、工業用水、軟水、硬水、軽水、重水などが挙げられる。

　本発明のインキ中の全溶媒量に対する水の含有量は、水性インキに必要な性能のバランスを考慮して、５０重量％以上、又は７０重量％以上でよく、また、この含有量は、９０重量％以下、又は８５重量％以下でよい。

〔有機溶剤〕
　水性インキに水と有機溶剤の混合物を加えるときには、混合物の引火点、燃焼継続時間、揮発性などを考慮して、有機溶剤の種類及び含有量を決定することが好ましい。また、本発明の水性インキでは、有機溶剤は水混和性であることが好ましい。

　水混和性有機溶剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコールなどのグリコール化合物；前記グリコール化合物のメチル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキルエーテル化合物；アルキルエステル化合物等のグリコール誘導体；グリセリンとその誘導体；２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等の環状含窒素化合物；アセトニルアセトン等のケトン化合物；エタノール、イソプロピルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール化合物などが挙げられる。これらの中でも、アルコール化合物、グリセリンとその誘導体、又はグリコール化合物は、毒性又は臭気が少なく、かつ経済的にも有利であるので好ましい。

　本発明のインキ中の全溶媒量に対する有機溶剤の含有量は、水性インキに必要な性能のバランスを考慮して、１０重量％以上、又は１５重量％以上でよく、また、この含有量は、５０重量％以下、又は３０重量％以下でよい。

〔樹脂〕
　被印刷体に対する密着性、乾燥性、耐熱性、光沢性などの所望のインキ特性に応じて、水性インキには、印刷に使用されている既知の樹脂を含有させてよい。また、水性インキのビヒクルに適した樹脂の酸価は、水性インキ中での樹脂の溶解性を確保するために、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、又は１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、また、この酸価は、インキ塗膜の耐水性を確保するために、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、又は２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。

　樹脂としては、例えば、ロジン変性マレイン酸樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリスチレン、スチレン－（メタ）アクリル酸コポリマー、スチレン－（メタ）アクリル酸エステルコポリマー、スチレン－マレイン酸コポリマー、（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステルコポリマー、α－メチルスチレン－（メタ）アクリル酸コポリマー、α－メチルスチレン－（メタ）アクリル酸エステルコポリマー、スチレン－（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステルコポリマー、スチレン－（メタ）アクリル酸－マレイン酸コポリマー、シェラックなどの天然樹脂などが挙げられる。ここで、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸又はメタアクリル酸を意味する。また、ロジン変性マレイン酸樹脂及び天然樹脂は、酸化重合に適した樹脂として好ましい。

　また、上記で列挙した樹脂とは別に、これらの樹脂を形成するためのモノマーを水性インキのビヒクル成分として使用してもよい。モノマーは、例えば、アクリル系モノマー、スチレン系モノマー、マレイン酸系モノマーなどでよい。

　アクリル系モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物；ベンジル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレートなどの芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステル化合物；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル化合物などが挙げられる。ここで、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。

　スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、及びこれらの誘導体などが挙げられる。

　マレイン酸系モノマーとしては、例えば、（無水）マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モノヘキシル、マレイン酸モノオクチル、マレイン酸モノ２－エチルヘキシル、マレイン酸モノラウリル、マレイン酸モノステアリルなどのマレイン酸モノアルキルエステル；マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチルなどのマレイン酸ジアルキルエステル化合物などが挙げられる。

　また、アクリル系モノマー、スチレン系モノマー又はマレイン酸系モノマーに加えて、所望により、アクリルアミド、メタクリルアミド、クロトン酸及びそのエステル化合物、イタコン酸及びそのエステル化合物、シトラコン酸及びそのエステル化合物、アクリロニトリル、オレフィン化合物などの他の共重合可能なモノマーをビヒクルに加えてよい。

　上記で列挙した樹脂及びモノマーは、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。また、上記で列挙した樹脂以外の樹脂、又は上記で列挙したモノマー以外のモノマーをビヒクルに加えてもよい。

　ここで、水性インキに含まれる樹脂は、印刷時と印刷後に異なる役割を果たす。具体的には、水性インキに含まれる樹脂は、印刷時には、アンチモンドープ酸化錫を水中に分散させるのに対して、印刷後には、アンチモンドープ酸化錫を被印刷体に固着させて水への溶出を防ぐ。それ故に、水性インキに含まれる樹脂は、水溶性樹脂、コロイダルディスパージョン樹脂、又はエマルション樹脂の形態であることが好ましい。これらの形態について以下に説明する。

　水溶性樹脂は、水中に溶解して水溶液を形成できる樹脂である。したがって、水溶性樹脂の構造は、親水性部分を有するように設計されていることが好ましい。その場合、親水性部分を有する樹脂は、水酸基、エーテル基、アミド基などの親水性基を有するノニオン型樹脂；カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸エステル基などの親水性基が、アルカリ物質で中和されているアニオン型樹脂；又は、一級、二級、三級若しくは四級アミン基などの親水性基が、酢酸などの酸で中和されているカチオン型樹脂でよい。

　例えば、アニオン型樹脂を乾燥させると、中和に使用されたアルカリ物質が水と共に揮散するので、乾燥された塗膜には、中和前の樹脂が残る。アルカリ物質としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ化合物；ブチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミンなどの有機アミン化合物などが挙げられる。

　また、カチオン型樹脂を乾燥させると、中和に使用された酸が水と共に揮散するので、乾燥された塗膜には、中和前の樹脂が残る。

　例えば、上記で列挙された樹脂の水溶性が低いときには、その樹脂がノニオン型、アニオン型又はカチオン型樹脂になるように、その樹脂に親水性部分を組み込んで、その樹脂を水溶性化してよい。一般に、水溶性化された樹脂の水分散体は、透明である。

　コロイダルディスパージョン樹脂は、樹脂が水中でコロイドの形態で分散している樹脂分散体である。一般に、コロイダルディスパージョン樹脂は、水中で、樹脂の親油性部分が親水性部分で囲まれている状態であり、いわゆる半溶解状態である。したがって、コロイド状分散体中の樹脂は、ブラウン運動により安定に分散している。

　一般に、コロイダルディスパージョン樹脂は、約０．０１μｍ～約０．１μｍの樹脂粒径を有する。また、コロイダルディスパージョン樹脂は、水溶性樹脂とエマルション樹脂の中間的性質を有しているので、印刷適性と塗膜物性のバランスに優れる。

　例えば、コロイダルディスパージョン樹脂は、界面活性剤などの乳化剤の存在する水溶液中で重合を行なうときに、アニオン型又はカチオン型樹脂と同様に、樹脂の一部をイオン化することにより得られる。また、重合時に水と共にアルコールを使用して、コロイダルディスパージョン樹脂を得ることも好ましい。

　コロイダルディスパージョン樹脂としては、例えば、上記で列挙された樹脂と乳化剤の水分散体を使用することができる。

　エマルション樹脂は、界面活性剤などの乳化剤の存在する水溶液中で重合を行なうことにより得られる樹脂分散体である。エマルション樹脂は、分散体中の樹脂が概ね粒子の形態であり、粒子同士の電気的反発により、水溶液中で安定に分散している。一般に、エマルション樹脂は、乳化重合を採用すると、水中で約０．１μｍ～約１μｍの樹脂粒径を有し、懸濁重合を採用すると、水中で約１μｍ～約１０μｍの樹脂粒径を有する。また、エマルション樹脂は、概ね白濁している。

　一般に、エマルション樹脂は、水溶性樹脂と比べて、インキの固形分量を高くすることができるので、乾燥性及び塗膜物性を制御し易い。また、エマルション樹脂としては、例えば、上記で列挙された樹脂と乳化剤の水分散体を使用することができる。

（有機溶剤含有インキに適したビヒクル）
　有機溶剤含有インキに適したビヒクルとしては、例えば、樹脂、有機溶剤などを単独または複数組み合わせて使用することができる。有機溶剤含有インキに適した樹脂及び有機溶剤について以下に説明する。

〔樹脂〕
　有機溶剤への溶解性、被印刷体に対する密着性、成膜性、インキ塗膜の柔軟性、インキ塗膜の光沢性、インキ塗膜の安定性などの所望のインキ特性に応じて、有機溶剤含有インキには、印刷に使用されている既知の樹脂を含有させてよい。

　例えば、ニトロセルロース、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、マレイン酸樹脂などの樹脂を有機溶剤含有インキに含有させることができる。なお、上記で列挙した樹脂は、それぞれ単独で、又は２種類以上を併用して、使用されることができる。また、上記で列挙した樹脂を形成するためのモノマーを、プレポリマーとして有機溶剤含有インキに含有させてよい。さらに、本発明の有機溶剤含有インキは、上記で列挙した樹脂以外の樹脂を含んでもよい。

〔有機溶剤〕
　樹脂に対する溶解力、乾燥速度、粘度、流動性、被印刷体への濡れ性、臭気の有無、環境又は人体への影響などの様々な性質を考慮して、本発明のインキには、印刷に使用されている既知の有機溶剤を含有させてよい。また、有機溶剤の様々な性質を調整するために、１種類の有機溶剤を使用するだけでなく、複数の種類の有機溶剤を混合して使用することも好ましい。

　有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコールなどのアルコール系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、酢酸－エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸－エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエステル系溶剤；ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶剤などが挙げられる。

　上記で列挙した有機溶剤は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。

　例えば、アルコール系溶剤とエステル系溶剤の混合物は、樹脂としてニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、又はマレイン酸樹脂を使用するときに、樹脂の溶解性及びインキ塗膜の接着性を向上することができるので好ましい。

　また、アルコール系溶剤とエステル系溶剤と脂肪族炭化水素系溶剤の３成分型混合物は、樹脂としてポリアミド樹脂を使用するときに、ポリアミド樹脂の溶解性を向上させることができるので好ましい。

［補助剤］
　本発明のインキには、印刷に使用されている既知の補助剤を含有させてよい。補助剤としては、例えば、ワックス、分散剤、潤滑剤、消泡剤、可塑剤、架橋剤、光重合開始剤、乾燥促進剤、水溶化剤、乾性油及び半乾性油、その他の添加剤などが挙げられる。これらの補助剤について以下に説明する。

〔ワックス〕
　ワックスは、印刷面の擦傷を防ぐための補助剤である。具体的には、ワックスは、インキ被膜の表面に耐摩擦性、ブロッキング防止性、スベリ性、スリキズ防止性などの性質を付与することができる。本発明のインキには、印刷に使用されている既知のワックスを含有させてよい。

　ワックスとしては、例えば、カルナバワックス、木ろう、ラノリン、モンタンワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックスなどの天然ワックス；フィッシャートロプスワックス、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、ポリテトラフルオロエチレンワックス、ポリアミドワックス、シリコーン化合物などの合成ワックス；合成ワックスのフッ素化物などが挙げられる。

　ワックスを本発明のインキに含有させる方法としては、例えば、ワックスをインキに直接添加する方法、ワックスをビヒクルに溶解又は分散させてからインキに添加する方法などが挙げられる。

〔分散剤〕
　分散剤は、インキのレベリング性、安定性及び分散性を向上させるための補助剤である。具体的には、分散剤は、ビヒクル成分によるアンチモンドープ酸化錫又は着色剤の濡れを向上させるか、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤をビヒクル成分に吸着させるか、かつ／又は、インキ中に分散しているアンチモンドープ酸化錫又は着色剤の再凝集を防ぐために、使用されることができる。

　分散剤としては、例えば、低分子分散剤、高分子分散剤、顔料誘導体、カップリング剤などが挙げられる。

　低分子分散剤は、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤への配向性又は吸着性が高い部分、及びビヒクルとの親和性が高い部分を有する低分子量物質であり、界面活性剤又は湿潤剤とも呼ばれる。

　低分子分散剤としては、例えば、石けん、α－スルホ脂肪酸エステル塩（ＭＥＳ）、アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＡＢＳ）、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＬＡＳ）、アルキル硫酸塩（ＡＳ）、アルキルエーテル硫酸エステル塩（ＡＥＳ）、アルキル硫酸トリエタノールアミンなどのアニオン性化合物；アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、アルキルピリジニウムクロリドなどのカチオン性化合物；アミノ酸、アルキルカルボキシベタイン、スルホベタイン、レシチンなどの両性化合物；脂肪酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル（ＡＥ）、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル（ＡＰＥ）などのノニオン性化合物などが挙げられる。

　高分子分散剤は、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤の表面に吸着するアンカー基と、ビヒクル中で立体障害効果を発揮するバリアー基とを有する高分子量物質である。一般に、高分子分散剤には、複数のアンカー基を組み込み易いので、高分子分散剤はアンチモンドープ酸化錫又は着色剤との多点吸着が可能である。また、高分子分散剤は、低分子分散剤と比べて、バリアー基が、かさ高くなるので、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤の分散安定性が向上する。

　高分子分散剤としては、アンカー基とバリアー基に対応する部分を有するポリマーを任意に使用してよい。例えば、有機溶剤含有インキには、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリアルキレンポリアミンなどの非水系高分子分散剤を使用することが好ましい。また、水性インキには、ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、ビニル化合物とカルボン酸含有単量体との共重合体の塩、カルボキシメチルセルロースなどの水系高分子分散剤を使用することが好ましい。

　顔料誘導体は、顔料骨格にカルボキシル基、スルホン基、三級アミノ基などの極性基を導入することにより得られる。顔料誘導体の顔料骨格部分は、対応する顔料と吸着し易く、一方で、導入された極性基は、ビヒクル又は他の分散剤との親和性に優れる。

　顔料誘導体は、本発明のインキに含まれる顔料の骨格に応じて、既知の方法により合成されることができる。例えば、ジアルキルアミノメチレン銅フタロシアニン、アミン塩銅フタロシアニンなどが、フタロシアニンを着色剤として含むフレキソ印刷インキを形成するために使用される。

　カップリング剤は、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤の表面に吸着するか、又は化学結合して、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤とビヒクルとの接着性を向上させる材料である。カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。

　シランカップリング剤は、分子内に、有機材料と反応結合する有機官能基、及び無機材料と反応結合する加水分解性基を有する有機ケイ素化合物である。一般に、有機官能基としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、メタクリロキシ基、アミノ基などが挙げられ、かつ加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、クロル基、アセトキシ基などが挙げられる。

　加水分解性基が、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤と結合し、かつ有機官能基がビヒクル成分との親和性又は反応性を有するので、シランカップリング剤は、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤とビヒクル成分との接着性を向上させることができる。

　例えば、加水分解性基が、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基であるときには、アルコキシ基の加水分解により得られるシラノール基が、自己縮合するか、又はシランカップリング剤以外の成分の水酸基と反応する。したがって、シランカップリング剤は、表面に水酸基を有する着色剤（例えば、ガラス、シリカ、アルミナなどを含む無機顔料）の分散性を向上させるために使用されることが好ましい。

　具体的には、シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。

　チタネートカップリング剤は、分子内に、有機材料と反応結合する有機官能基、及び無機材料と反応結合する加水分解性基を有する有機チタン化合物である。また、シランカップリング剤について説明された有機官能基及び加水分解性基を、チタネートカップリング剤に組み込むことができる。

　一般に、チタネートカップリング剤は、水への溶解性が低いので、チタネートカップリング剤を有機溶剤に溶解させて使用することが好ましい。

〔潤滑剤〕
　潤滑剤は、塗膜面を潤滑にするための補助剤である。例えば、インキに潤滑剤を加えると、印刷時に、インキと版銅又は被印刷体との間の摩擦を減らし、摩擦熱の発生、版銅又は被印刷体の摩耗などを防ぐことができる。

　本発明のインキには、印刷に使用されている既知の潤滑剤を含有させてよい。潤滑剤としては、例えば、潤滑油、グリース、固体潤滑剤などが挙げられる。また、上記ワックスと潤滑剤を併用することも好ましい。潤滑油、グリース及び固体潤滑剤について以下に説明する。

　潤滑油としては、上記ワックス以外の油を使用してよく、例えば、スピンドル油、マシン油、エンジンオイル、白灯油、非芳香族系石油溶剤、ヒマシ油などを使用してよい。

　グリースは、カルシウム、ナトリウム、リチウム、アルミニウムの石けん、又はベントナイトなどの非石けん物質を、潤滑油に分配することにより得られる。所望により、ポリテトラフルオロエチレン、酸化カルシウム、シリコーン樹脂などをグリースに添加してもよい。

　固体潤滑剤としては、例えば、グラファイト、二硫化モリブデン、ポリテトラフルオロエチレン、銀、鉛などを使用することができる。固体潤滑剤は、ブロック、粉末、顆粒などの形態でよい。

〔消泡剤〕
　消泡剤は、インキ中の泡の発生を抑制するか、又はインキ中に発生した泡を減少させるために使用される補助剤である。例えば、消泡剤は、インキの製造、貯蔵、循環、移動又は印刷の際に、使用されることができる。

　ここで、水の表面張力が高いので、水性インキに適したビヒクルは、有機溶剤含有インキに適したビヒクルよりも発泡し易い。したがって、版銅の凹部に水性インキを入れ易くするために、又はインキパンに滞留した泡が皮状のインキ残留物を形成することを防ぐために、消泡剤を水性インキに加えることが好ましい。

　消泡剤としては、例えば、シリコーン化合物、ポリシロキサン、ポリグリコール、ポリアルコキシ化合物などを単独または複数組み合わせて使用することができる。

　具体的には、消泡剤としては、例えば、Ｂｙｋ－Ｃｈｅｍｉｅ社製のＢＹＫ（登録商標）－０１９、ＢＹＫ（登録商標）－０２２、ＢＹＫ（登録商標）－０２４、ＢＹＫ（登録商標）－０６５、及びＢＹＫ（登録商標）－０８８；日信化学工業社製のサーフィノールＤＦ－３７、サーフィノールＤＦ－７５、サーフィノールＤＦ－１１０Ｄ、及びサーフィノールＤＦ－２１０；米国のエア・プロダクツ・アンド・ケミカルズ社製のＥｎｖｉｒｏＧｅｍ（登録商標）ＡＥ０３；独国のＥｖｏｎｉｋＴｅｇｏＣｈｅｍｉｅ社から市販されているＦＯＡＭＥＸ８３５などが挙げられる。

〔可塑剤〕
　可塑剤は、インキのフィルム形成性又はインキ塗膜の柔軟性を調整するための補助剤である。一般に、可塑剤は液体の形態である。また、可塑剤の重量平均分子量は、約３０，０００以下、又は約５０００以下でよく、さらに、この重量平均分子量は、約２００以上、又は約３００以上でよい。ここで、重量平均分子量は、ポリスチレン換算の値とする。

　可塑剤としては、例えば、ナフテン油、パラフィン油などの脂肪族炭化水素油；液状ポリブタジエン、液状ポリイソプレンなどの液状ポリジエン；ポリスチレン；ポリ－α－メチルスチレン；α－メチルスチレン－ビニルスチレン共重合体；水添ロジンのペンタエリトリトールエステル；ポリテルペン樹脂；エステル樹脂などが挙げられる。

〔架橋剤〕
　架橋剤は、複数の物質を化学的に結合させるために必要な補助剤であり、ゲル化剤又は硬化剤とも呼ばれる。例えば、架橋には、鎖状高分子が網掛け構造に変わること；イソシアネート基と水酸基の反応によるウレタン結合の形成；一級アミンとエポキシ基の反応による二級アミンの形成と、それに続く二級アミンとエポキシ基の反応などが含まれる。

　一般に、架橋剤としては、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、オキサゾリン化合物、ホルマリン化合物、ジビニル化合物、メラミン化合物などを単独または複数組み合わせて使用することができる。

　具体的には、架橋剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネートなどのイソシアネート化合物；トリメチロールプロパン－トリス－β－Ｎ－アジリジニルプロピオネート、ペンタエリスリトールプロパン－トリス－β－Ｎ－アジリジニルプロピオネートなどのアジリジン化合物；グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルなどのエポキシ化合物；アルミニウムトリイソプロポキシド、モノ－ｓｅｃ－ブトキシアルミニウムジイソプロポキシド、アルミニウムトリ－ｓｅｃ－ブトキシド、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロポキシド、アルミニウムトリスエチルアセトアセテートなどのアルミニウムアルコラート類；アルミニウムキレート化合物；ステアリン酸アルミニウム、オクタン酸アルミニウムなどの金属セッケン；金属セッケンのオリゴマー又はキレート化合物；ベントナイトなどが挙げられる。

〔光重合開始剤〕
　光重合開始剤は、紫外線などの光の照射によって活性酸素等のラジカルを発生する化合物である。本発明のインキには、印刷に使用されている既知の光重合開始剤を含有させてよい。

　光重合開始剤としては、限定されるものではないが、例えば、アセトフェノン、α－アミノアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピル）ケトン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノンなどのアセトフェノン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン－ｎ－プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインジメチルケタール、ベンゾインパーオキサイドなどのベンゾイン類；２，４，６－トリメトキシベンゾインジフェニルホスフィンオキサイドなどのアシルホスフィンオキサイド類；ベンジル及びメチルフェニル－グリオキシエステル；ベンゾフェノン、メチル－４－フェニルベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイルベンゾエート、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルスルフィド、アクリル－ベンゾフェノン、３，３’４，４’－テトラ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；２－メチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン類；ミヒラーケトン、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノンなどのアミノベンゾフェノン類；テトラメチルチウラムモノスルフィド；アゾビスイソブチロニトリル；ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド；１０－ブチル－２－クロロアクリドン；２－エチルアントラキノン；９，１０－フェナントレンキノン；カンファキノンなどが挙げられる。

　また、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルなどの光重合開始助剤を上記光重合開始剤と併用してもよい。

〔乾燥促進剤〕
　乾燥促進剤は、ビヒクル成分の酸化重合による乾燥を促進する補助剤である。具体的には、乾燥促進剤は、インキ被膜の表面及び内部の硬化を促進することができる。乾燥促進剤としては、例えば、有機カルボン酸の金属塩、無機酸の金属塩などを単独または複数組み合わせて使用することができる。

　乾燥促進剤を形成するための有機カルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソペンタン酸、ヘキサン酸、２－エチル酪酸、ナフテン酸、オクチル酸、ノナン酸、デカン酸、２－エチルヘキサン酸、イソオクタン酸、イソノナン酸、ラウリル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、ネオデカン酸、バーサチック酸、セカノイック酸、トール油脂肪酸、アマニ油脂肪酸、大豆油脂肪酸、ジメチルヘキサノイック酸、３，５，５－トリメチルヘキサノイック酸、ジメチルオクタノイック酸などが挙げられる。

　無機酸としては、例えば、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸、ホウ酸、フッ化水素酸などが挙げられる。

　上記有機カルボン酸又は無機酸の金属塩を形成するための金属としては、例えば、カルシウム、コバルト、鉛、鉄、マンガン、亜鉛、バナジウム、セリウム、ジルコニウム、ナトリウムなどが挙げられる。

　さらに、乾燥促進剤としては、例えば、ホウ酸コバルト、オクチル酸コバルト、オクチル酸マンガン、オクチル酸ジルコン、ナフテン酸コバルト、一酸化鉛などの金属化合物；１，１０－フェナントロリン、５－メチル－フェナントロリンなどのフェナントロリン系化合物；２，２’－ジピリジルなどが挙げられる。

〔水溶化剤〕
　水溶化剤は、アンチモンドープ酸化錫、着色剤、又はビヒクル成分を水溶性にするための補助剤であり、水性インキの製造に概ね使用される。

　アンチモンドープ酸化錫又は着色剤に適した水溶化剤としては、上記分散剤の中でも、分子内に、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤への配向性又は吸着性が高い部分、及び水との親和性が高い部分を有するものを使用してよい。

　ビヒクル成分を水溶性にするための水溶化剤は、上記コロイダルディスパージョン樹脂又は上記エマルション樹脂について説明した通り、界面活性剤などの乳化剤でよい。

〔乾性油・半乾性油〕
　乾性油及び半乾性油は、空気酸化作用により重合して硬化する油系材料である。乾性油とは、１３０以上のヨウ素価を有する植物油又は植物油由来成分をいう。また、半乾性油とは、１００～１３０のヨウ素価を有する植物油又は植物油由来成分をいう。

　乾性油としては、例えば、アマニ油、キリ油（桐油）、ケシ油、シソ油、クルミ油、エ油（荏油）、サフラワー油、ヒマワリ油などの植物油；これらの植物油の炭素鎖に無水マレイン酸を付加することにより得られるマレイン化油；これらの植物油の脂肪酸エステル；これらの植物油を原料として得られる重合油；脱水ヒマシ油；石油精製中に抽出可能なオレフィン、ジオレフィンなどの石油系合成油などが挙げられる。

　半乾性油としては、例えば、ダイズ油、ナタネ油、綿実油、コーン油、ゴマ油などの植物油；これらの植物油の脂肪酸エステル；これらの植物油を原料として得られる重合油などが挙げられる。

　乾性油及び半乾性油として使用可能な他の植物油としては、例えば、アサ実油、オイチシカ油、オリーブ油、カカオ油、カポック油、カヤ油、カラシ油、キョウニン油、ククイ油、ダイコン種油、ダイフウシ油（大風子油）、ツバキ油、ニガー油、ヌカ油、パーム油、ヒマシ油、ブドウ種子油、ヘントウ油、マツ種子油、ヤシ油、ラッカセイ油（落花生油）などが挙げられる。

　植物油の中でも、乾燥性、柔軟性、重合性及びコストの観点から、アマニ油、キリ油又はダイズ油が好ましい。アマニ油は、アマの種子より得られる微黄色の油であり、１７５～１９５のヨウ素価及び１８９～１９５のケン化価を有する。キリ油は、アブラギリ属植物の種子より得られる油であり、１６０～１７３のヨウ素価及び１９０～１９６のケン化価を有する。ダイズ油は、ダイズから得られる油であり、１２３～１４２のヨウ素価及び１８８～１９５のケン化価を有する。

　植物油の脂肪酸エステルは、植物油と脂肪酸のエステル化合物である。植物油の脂肪酸エステルとしては、例えば、脂肪酸モノアルキルエステル化合物などが挙げられる。

　脂肪酸エステルを形成するための脂肪酸としては、炭素数１６～２０の飽和又は不飽和脂肪酸が好ましく、例えば、ステアリン酸、イソステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エレオステアリン酸などが挙げられる。

　また、脂肪酸エステルを形成するためのアルコールに由来するアルキル基としては、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、２－エチルヘキシルなどが挙げられる。

　植物油を原料として得られる重合油としては、例えば、スタンド油、２種類以上の植物油の共重合体などが挙げられる。

　スタンド油は、植物油を高温で重合させて増粘させた油である。顔料の濡れ性、及びインキの流動性又は乾燥性を向上させるために、スタンド油は、アマニ油スタンド油であることが好ましい。

　アマニ油スタンド油は、アマニ油を３００℃付近の高温で重合させることにより得られる。オフセット印刷インキの低温時の流動性、又はブランケットなどの転写体への転移性を改良するために、アマニ油スタンド油を使用してよい。

　２種類以上の植物油の共重合体としては、例えば、ダイズ油とキリ油、アマニ油とキリ油などの共重合体が挙げられる。また、共重合油としては、単数又は複数の植物油にスチレンを反応させたスチレン油、単数又は複数の植物油にシクロペンタジエンを反応させたシクロペンタジエン共重合油なども使用してよい。

　上記で列挙した乾性油又は半乾性油は、それぞれ単独で、又は２種以上を併用して使用されることができる。

〔その他の添加剤〕
　本発明のインキには、所望により、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、カオリン、タルク、シリカ、コーン澱粉、二酸化チタンなどの体質顔料；光吸収材；沈降防止剤；増粘剤；防腐剤；皮張り防止剤；レベリング剤；分散安定剤；帯電防止剤；導電剤；難燃剤；転移性向上剤；乾燥遅延剤；酸化防止剤；裏移り防止剤；撥液剤；界面活性剤などを含有させてよい。

　上記で列挙された補助剤は、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。

［着色剤］
　着色剤は、インキに色を付ける成分である。本発明のインキには、印刷に使用されている既知の着色剤を含有させてよい。着色剤としては、例えば、無機顔料、有機顔料、染料、トナー用有機色素などが挙げられる。

　無機顔料としては、例えば、黄鉛、亜鉛黄、紺青、硫酸バリウム、カドミウムレッド、酸化チタン、亜鉛華、アルミナホワイト、炭酸カルシウム、群青、グラファイト、アルミニウム粉、ベンガラ、バリウムフェライト、銅と亜鉛の合金粉、ガラス粉、カーボンブラックなどが挙げられる。

　有機顔料としては、例えば、β－ナフトール系顔料、β－オキシナフトエ酸系顔料、β－オキシナフトエ酸系アニリド系顔料、アセト酢酸アニリド系顔料、ピラゾロン系顔料などの溶性アゾ顔料；β－ナフトール系顔料、β－オキシナフトエ酸アニリド系顔料、アセト酢酸アニリド系モノアゾ、アセト酢酸アニリド系ジスアゾ、ピラゾロン系顔料などの不溶性アゾ顔料；銅フタロシアニンブルー、ハロゲン化（例えば、塩素又は臭素化）銅フタロシアニンブルー、スルホン化銅フタロシアニンブルー、金属フリーフタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料；キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、スレン系顔料（ピラントロン、アントアントロン、インダントロン、アントラピリミジン、フラバントロン、チオインジゴ、アントラキノン、ペリノン、ペリレンなど）、イソインドリノン系顔料、金属錯体系顔料、キノフタロン系顔料などの多環式又は複素環式顔料などが挙げられる。

　染料としては、例えば、アゾ染料、アゾ染料とクロムの錯塩、アントラキノン染料、インジゴ染料、フタロシアニン染料、キサンテン系染料、チアジン系染料などが挙げられる。

　ここで、有機顔料は、レーキ顔料を含むものとする。一般に、レーキ顔料は、染料を無機顔料又は体質顔料に染め付けることにより得られるものであり、無機顔料又は体質顔料の水不溶性に応じて、レーキ顔料も水不溶性を有する。レーキ顔料としては、例えば、ＢＡＳＦ社から入手可能なファナル（ＦＡＮＡＬ、登録商標）カラーシリーズなどが挙げられる。

　トナー用有機色素は、トナーに含有させることができる有機色素であり、着色剤の一般的な特性に加えて帯電性を有する。トナー用有機色素としては、染料又は有機顔料を使用してよいが、透明性及び着色力の観点から染料が好ましい。

　さらに、上記で説明した着色剤以外に、機能性顔料、機能性染料などの他の機能性材料を、本発明に使用されるインキに配合してもよい。ここで、機能性材料は、無機でも有機でもよく、またインキに機能性を付与する添加剤でもよい。

　機能性材料としては、例えば、クロミック材料、磁性顔料、紫外線吸収剤、光学可変材料、パール顔料などが挙げられる。一般に、クロミック材料は、光・熱・電気などのエネルギーに反応して呈色し、かつ該エネルギーが遮られるか、又は失われると、退色する材料である。クロミック材料としては、例えば、蛍光顔料、励起発光顔料、感温変色材料、フォトクロミック材料、応力発光体などが挙げられる。

　なお、上記で列挙した着色剤は、それぞれ単独で、又は２種類以上を併用して、使用されることができる。

　水性インキを用いるフレキソ印刷では、着色剤として顔料又は染料を使用してよい。一方で、有機溶剤含有インキを用いるフレキソ印刷では、着色剤として顔料が概ね使用される。また、印刷物の耐候性の観点から、着色剤が無機顔料であることも好ましい。

＜水性インキ及び有機溶剤含有インキの組成及び粘度＞
　水性インキに含まれる各成分の配合比率は、着色剤が、０～約３０重量％であり、ビヒクルが、約５０～９０重量％であり、補助剤が、０～約１０重量％であり、かつアンチモンドープ酸化錫が、約０．０１～４０重量％である。

　水性インキのビヒクルが水溶性であり、かつアルカリ可溶性であるときには、ビヒクルは、ビヒクル成分の合計重量を基準として、約１０～２０重量％の樹脂、０～約２０重量％のアルコール、約０．０１～１重量％のアルカリ成分、約２５～７０重量％の水を含むことが好ましい。

　また、水性インキのビヒクルがエマルション型であるときには、ビヒクルは、ビヒクル成分の合計重量を基準として、約１５～４０重量％のエマルション型樹脂、０～約１５重量％のアルコール、約０．０１～１重量％のアルカリ成分、約１０～５０重量％の水を含むことが好ましい。

　本発明の水性インキは、固形分が約１～５０重量％でよく、かつ揮発性成分の含有率が０～約５０重量％でよい。また、本発明の水性インキの粘度は、５～３５℃の温度において、約５０ｍＰａ・ｓ以上、約２００ｍＰａ・ｓ以上、又は約４００ｍＰａ・ｓ以上でよく、また、この粘度は、約２０００ｍＰａ・ｓ以下、約１６００ｍＰａ・ｓ以下、又は約１０００ｍＰａ・ｓ以下でよい。

　有機溶剤含有インキに含まれる各成分の配合比率は、着色剤が、０～約３０重量％であり、ビヒクルが、約５０～９０重量％であり、補助剤が、０～約１０重量％であり、かつアンチモンドープ酸化錫が、約０．０１～４０重量％である。

　また、有機溶剤含有インキのビヒクルは、ビヒクル成分の合計重量を基準として、約１０～３０重量％の樹脂と約７０～９０重量％の有機溶剤を含むことが好ましい。

　有機溶剤含有インキは、固形分が約１～５０重量％でよく、揮発性成分の含有率が約５０～７０重量％でよい。

　本発明の有機溶剤含有インキの粘度は、５～３５℃の温度において、約５０ｍＰａ・ｓ以上、約２００ｍＰａ・ｓ以上、又は約４００ｍＰａ・ｓ以上でよく、また、この粘度は、約２０００ｍＰａ・ｓ以下、約１６００ｍＰａ・ｓ以下、又は約１０００ｍＰａ・ｓ以下でよい。

　また、本発明の有機溶剤含有インキは、ザーンカップ（Zahn cup）＃３で測定したときに、粘度が約１５～２０秒であることがより好ましく、約１７～１９秒であることがさらに好ましい。

＜インキの製造方法＞
　本発明のインキは、アンチモンドープ酸化錫を、所望により補助剤及び／又は着色剤とともに、ビヒクルに分散することにより得られる。

　本発明のインキを酸化重合型インキとして形成するときには、ビヒクル成分として樹脂及び溶剤を使用し、かつ補助剤として架橋剤、乾燥促進剤、乾性油及び／又は半乾性油を使用することが好ましい。

　本発明のインキを紫外線硬化型インキとして形成するときには、ビヒクル成分として樹脂、モノマー及び溶剤を使用し、かつ補助剤として光重合開始剤を使用することが好ましい。

　また、溶剤以外の酸化重合型インキ用ビヒクル成分に、着色剤及び／又はアンチモンドープ酸化錫を加え、インキ用ミルベースを形成し、このインキ用ミルベースに光重合開始剤をさらに加え、所望により、溶剤、補助剤などの他の材料も加えて、酸化重合型・紫外線硬化型併用インキを得ることができる。

　本発明のインキを製造する方法の一態様は、以下のステップを含む：
　（１ａ）アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を、所望により補助剤とともに、ビヒクルに混合して、混合物を得る混合ステップ；
　（１ｂ）上記混合物を分散して、ミルベースを得る分散ステップ；
　（１ｃ）上記ミルベースにアンチモンドープ酸化錫、着色剤、ビヒクル及び／又は補助剤を混合して、インキを得る調整ステップ；及び
　（１ｄ）上記インキを容器に充填する充填ステップ。

　ステップ（１ａ）は、混合タンクなどの容器において、ディゾルバー、一軸ミキサー、二軸ミキサーなどのミキサーを用いて、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤をビヒクルに混合することにより行なわれることができる。アンチモンドープ酸化錫又は着色剤が、乾燥された固体又は紛体であるときに、ステップ（１ａ）によって、アンチモンドープ酸化錫又は着色剤の飛散を防ぐことができる。

　また、ステップ（１ｂ）を容易に行なうために、ステップ（１ａ）において、アンチモンドープ酸化錫、着色剤、樹脂、水、有機溶剤、補助剤などの成分を、一括して混合してもよいし、段階的に混合してもよい。

　例えば、ステップ（１ａ）において、樹脂加工品形成法、ノンレジン（non-resin）ベース形成法、一括湿式混合法などを採用することができる。

　樹脂加工品形成法は、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤と樹脂とを、所望により少量の溶剤又は補助剤とともに、ニーダー、２本ローラーミル、３本ローラーミルなどで予め混合、練肉又は分散し、次いで乾燥して、アンチモンドープ酸化錫、着色剤又はこれらの混合物の含有率が約４０～８０重量％である樹脂加工品を得る方法である。

　樹脂加工品は、シート、チップ、ビーズ、ボール、ブロックなどの形態でよい。さらに、溶剤などのビヒクル成分に樹脂加工品を溶解させて、ステップ（１ａ）の混合物を得ることができる。

　ノンレジン（non-resin）ベース形成法は、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を、分散剤などの補助剤を含む溶剤中に分散して、インキベースを得る方法である。さらに、インキベースに樹脂を加えてインキを得てもよい。

　また、ノンレジンベース形成法は、水性インキを形成するときに有効である。つまり、ステップ（１ａ）において、樹脂を含まないアンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤の水分散体をインキベースとして形成してよい。また、水分散体に樹脂を加えないままステップ（１ｂ）に進むことにより、ノンレジン型水性インキを形成することもできる。

　一括湿式混合法は、アンチモンドープ酸化錫、着色剤、樹脂、水、有機溶剤、補助剤などの成分を一括して混合して、混合物を得る方法である。混合物は、ステップ（１ｂ）において直接分散されることができる。

　また、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤が水を含むときには、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を乾燥させずに、ステップ（１ａ）において水に直接分散することにより水性インキのためのインキベースを得てもよい。

　一方で、水を含むアンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を用いて有機溶剤含有インキを形成するときには、ステップ（１ａ）の前に、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を乾燥させるか、又はフラッシング（flashing）して、ミルベースを得てもよい。フラッシングとは、ニーダーなどのフラッシャーを用いて、含水アンチモンドープ酸化錫及び／又は含水着色剤をビヒクルと混練することにより、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を水相からビヒクル相に移す操作をいう。

　ステップ（１ｂ）は、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤をビヒクル成分で濡らし、アンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤を摩砕して一次粒子にし、そしてアンチモンドープ酸化錫及び／又は着色剤の一次粒子をビヒクル中に安定化して再凝集を防ぐために行われる。

　ステップ（１ｂ）は、ビーズミル、ボールミル、パールミル、サンドグラインダー、アトライターなどの練肉機（ink mill）により行なわれることができる。

　ステップ（１ｃ）は、アンチモンドープ酸化錫、着色剤、ビヒクル及び／又は補助剤をミルベースに追加して、インキの最終組成、粘度、色調又は乾燥度を調整するために行われる。なお、ミルベースに追加されるアンチモンドープ酸化錫、着色剤、ビヒクル及び／又は補助剤は、レットダウン（let down）とも呼ばれる。

　ステップ（１ｃ）は、ステップ（１ｂ）で使用された練肉機を用いて連続的に行なわれるか、又は混合タンクなどの容器において、ディゾルバー、一軸ミキサー、二軸ミキサーなどのミキサーを用いて行なわれることができる。なお、ステップ（１ｃ）を省略してもよい。

　また、ステップ（１ｃ）において、インキが所望の色を呈するように色合わせを行なってもよい。色合わせは、練り台、練りヘラ、天秤、展色機などを用いて行なわれることができる。

　本発明のインキに含まれる各成分は、ステップ（１ａ）及び／又は（１ｃ）により、最終的に所望の配合比率に調整されることができる。したがって、ステップ（１ａ）及び（１ｃ）の少なくとも１つにおいて、アンチモンドープ酸化錫をビヒクルに加えればよい。また、アンチモンドープ酸化錫を含み、かつ着色剤を含まないインキを調製するときには、ステップ（１ａ）又は（１ｃ）において着色剤を使用しなくてよい。

　ステップ（１ｄ）は、缶、瓶、包装袋などの容器にインキを充填するために行われる。一般に、ステップ（１ｄ）は、練肉機に備えられている計量充填器により行なわれることができる。

　上記の態様において、本発明のインキを製造することができる。

＜赤外線吸収性フレキソ印刷インキ中のアンチモンドープ酸化錫の粒径＞
　赤外線吸収性フレキソ印刷インキ中のアンチモンドープ酸化錫の平均粒径は、２５μｍ以下、２０μｍ以下、１５μｍ以下、１０μｍ以下、５μｍ以下、２．５μｍ以下、１μｍ以下、０．５μｍ以下、０．１μｍ以下、０．０５μｍ以下、又は０．０２５μｍ以下であってよく、また、この平均粒径は、０．０１μｍ以上、又は０．０１５μｍ以上であってよい。なお、平均粒径とは、レーザー回析・散乱法のメディアン径を指す。

　インキ中のアンチモンドープ酸化錫の平均粒径を０．０１μｍ～２５μｍの範囲に調整する手段は、限定されるものではないが、アンチモンドープ酸化錫の製造時にアンチモンドープ酸化錫を粉砕する手段と、フレキソ印刷インキの製造時にアンチモンドープ酸化錫をビヒクルに分散する手段との組み合わせであると考えられる。例えば、上記ステップＳ１１８又はＳ１２４により、アンチモンドープ酸化錫は、十分に粉砕される。また、上記ステップ（１ｂ）により、アンチモンドープ酸化錫は、ビヒクルに十分に分散される。

　また、赤外線吸収性フレキソ印刷インキ中のアンチモンドープ酸化錫の最大粒径は、約１００μｍ以下、又は約９０μｍ以下であることが好ましい。なお、最大粒径は、レーザー回析・散乱法により測定されることができる。

＜フレキソ印刷＞
　本発明のインキを使用して、フレキソ印刷で印刷物を得ることができる。フレキソ印刷は、凹部を有するロールにインキを付着させ、凹部内のインキを凸版胴の凸部に移してから、凸部上のインキを被印刷体に移す印刷方式である。

　ここで、凹部を有するロールは、アニロックスロールとも呼ばれ、かつアニロックスロールの凹部は、セルとも呼ばれる。所望により、アニロックスロールの凹部の角度、線数又は深度を調節することができる。

　凸版胴は、凸部を有する版胴である。一般に、フレキソ印刷のための凸版胴は、感光性樹脂又はゴムなどの材料で形成されることができる。例えば、凸版胴は、フォトレジスト法、ケミカルエッチング法、ダイヤモンドエッチング法、レーザーエッチング法などの方法で、版胴の表面に凸部を形成することにより形成されることができる。フレキソ印刷の精度は、版の厚さ精度に依存するので、凸部の高さを保持することが好ましい。一般に、感光性樹脂で形成された凸版胴は、ゴム製凸版胴よりも厚さ精度に優れる。

　被印刷体としては、例えば、ライナー紙などで形成される段ボール；紙又はポリエチレン処理紙などで形成されるワンウェイ紙器；乳白ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、不織布などで形成されるフィルム包材；クラフト紙、上質紙などで形成される紙包材；紙などで形成されるビジネスフォーム；紙、金属箔などで形成される医療包材；紙などで形成されるカップ；紙などで形成されるナプキン；ポリエチレンなどで形成される薬包材などが挙げられる。

　一般に、フレキソ印刷は、アニロックスロール及び凸版胴を用いて行われるので、フレキソ輪転印刷機により行われる。フレキソ輪転印刷機の印刷速度は、約１０ｍ／分以上、約２０ｍ／分以上、又は約３０ｍ／分以上でよく、また、この印刷速度は、約６００ｍ／分以下、約５００ｍ／分以下、約４００ｍ／分以下、約３００ｍ／分以下、又は約２００ｍ／分以下でよい。また、本発明のインキは、フレキソ輪転印刷機で印刷されることができる。

　一般に、フレキソ輪転印刷機は、被印刷体の巻出しユニット、印刷ユニット、乾燥ユニット及び被印刷体の巻取りユニットを含む。使用される印刷ユニットの種類又は数は、所定の色に応じて決まる。例えば、墨色、黄色、紅色、藍色、特色などの色に応じて、単数又は複数の印刷ユニットが、フレキソ輪転印刷機に組み込まれることができる。なお、特色は、墨色、黄色、紅色及び藍色以外の色でよく、例えば、白色、機能性インキなどに対応する色でよい。また、それぞれの印刷ユニットは、インキパン又はインキチャンバ―、アニロックスロール、凸版胴及び圧胴を含む。

　通常、フレキソ輪転印刷機で重ね刷りを行なうときには、墨インキ、藍（シアン）インキ、紅（マゼンタ）インキ、黄（イエロー）インキ、特色インキなどに対応した凸版胴を有する印刷ユニットが、それぞれ作製される。ここで、本発明に使用されるアンチモンドープ酸化錫のみをビヒクルに分散させると、分散体は、明度が高く、かつ淡い白色を呈する。したがって、本発明のインキは、任意の色インキとして使用されてよいが、特に藍インキ、紅インキ、黄インキ若しくは特色インキとして形成されるか、又は藍インキ、紅インキ、黄インキ若しくは特色インキと混合されることが好ましい。

　また、インキパン又はインキチャンバ―からアニロックスロールにインキを付着させるときに、インキ転移量を正確に制御するためにドクターブレードを使用することが好ましい。その場合、ドクターブレードは、アニロックスロールに接するように配置されて、アニロックスロールのセル容量を超える量のインキを掻き落としてインキパン又はチャンバ―に戻す。

　さらに、フレキソ印刷の高速化、及びフレキソ印刷におけるプロセス色の導入に対応するために、複数の印刷ユニットが存在するときには、それぞれの印刷ユニットの圧胴が共通しているセンタードラム方式を採用することが好ましい。

＜印刷物＞
　本発明のインキは、赤外線吸収性を有する。したがって、本発明のインキを基材に印刷することにより得られた印刷物を、赤外線カメラなどの赤外光検知器で観察すると、本発明のインキが印刷された部分は、赤外線を吸収し、その他の部分よりも黒く表示されるので、赤外線吸収のコントラストを検知することができる。例えば、所定の赤外線吸収のコントラストと観察対象の赤外線吸収のコントラストとを比較することにより、印刷物の真贋を判定することができる。

＜アンチモンドープ酸化錫の作製＞
　使用した材料は、以下の通りである：
　メタ錫酸：日本化学産業株式会社製のメタ錫酸
　三酸化アンチモン：ＰＡＴＯＸ－ＣＦ（登録商標；日本精鉱株式会社製）
　アンチモンドープ酸化錫原料（市販品）：日揮触媒化成株式会社製のＥＬＣＯＭ（登録商標）　Ｐ－特殊品（酸化アンチモンの含有量：９．９重量％、通気焼成なし、通気冷却なし）

　使用した焼成炉は、冷却装置付きシャトル式焼成炉（司電気炉製作所製）である。

［実施例１］
　１１８．８ｇのメタ錫酸及び１ｇの三酸化アンチモンを用いて、図１に記載の通りに、ステップ１００～ステップ１２４を行なった。

　具体的には、下記表１に記載の通りに、混合工程（Ｓ１００）、閉鎖焼成工程（Ｓ１０６）、閉鎖冷却工程（Ｓ１０７）、通気焼成工程（Ｓ１１４）及び通気冷却工程（Ｓ１１６）を含む方法により、酸化アンチモン含有量が０．７重量％であるアンチモンドープ酸化錫を得た。

　なお、通気焼成工程（Ｓ１１４）は、通気された炉内の温度を約１１００℃に設定して、約８時間に亘って行われた。また、通気冷却工程（Ｓ１１６）は、約２００［℃／時間］以上の冷却速度で行われた。

［実施例２～７並びに比較例１及び２］
　下記表１に記載の通りに、実施例２～７並びに比較例１及び２を行なった。実施例２～４については、メタ錫酸及び三酸化アンチモンの重量、及び／又は通気焼成工程（Ｓ１１４）の時間を変化させることによって、得られたアンチモンドープ酸化錫中の酸化アンチモン含有量を変化させた。

　一方で、比較例２では、混合工程（Ｓ１００）、閉鎖焼成工程（Ｓ１０６）及び閉鎖冷却工程（Ｓ１０７）を実施例１と同様に行なったが、通気焼成工程（Ｓ１１４）及び通気冷却工程（Ｓ１１６）を行わずに、実施例２と同じ酸化アンチモン含有量を有する生成物を得た。

　比較例１では、市販品のアンチモンドープ酸化錫原料を用意した。一方で、実施例５及び６では、比較例１の市販品を通気焼成工程（Ｓ１１４）及び通気冷却工程（Ｓ１１６）に供した。通気冷却工程（Ｓ１１６）の冷却速度は、実施例５では２００［℃／ｈ］以上であり、実施例６では２００［℃／ｈ］未満であった。

　実施例７では、メタ錫酸と三酸化アンチモンの単なる混合物を通気焼成工程（Ｓ１１４）及び通気冷却工程（Ｓ１１６）に供した。

〔生成物中の酸化アンチモン含有量の測定方法〕
　生成物中の酸化アンチモン含有量の測定は、蛍光Ｘ線分析装置ＲＩＸ－１０００（株式会社リガク製）のオーダー分析法にて行っている。また、測定条件としては、アンチモンドープ酸化錫を粉末にして測定を行っている。粉末は、粒径（レーザー回折散乱法でのメディアン径）が１２０ｎｍの条件で測定を行っている。

〔生成物のＸ線回折測定〕
　そして、実施例及び比較例の各生成物についてＸ線回折を行い、その測定結果から結晶化度の値を算出した。

　表１に示す通り、図２～５は、実施例のアンチモンドープ酸化錫によるＸ線回折の結果を示す図であり、図６は、比較例のＸ線回折の結果を示す図である。なお、各図において、縦軸はＸ線を照射した際の反射光の「強度（ＣＰＳ）」を示しており、横軸は「２θ（ｄｅｇ）」を示している。

〔ＣＰＳ〕
　ここで、「ＣＰＳ（Ｃｏｕｎｔ　Ｐｅｒ　Ｓｅｃｏｎｄ）」とは、測定対象物にＸ線を照射した際の１秒あたりの光子の反射量を示しており、反射光の強度（レベル）として捉えることもできる。

〔２θ〕
　また、「２θ」は、測定対象物にＸ線を照射する際の照射角度を示している。なお、「２θ」としている理由は、Ｘ線を照射する角度（入射角）がθであれば、反射角もθとなるため、この入射角と反射角とを合計した角度は２θとなるからである。

〔結晶化度の算出方法〕
　結晶化度は、Ｘ線回折（ＸＲＤ）の測定結果に基づいて算出している。使用機器及び測定条件は、以下の通りである。
（１）使用機器：株式会社リガク製　ＭｕｌｔｉＦｌｅｘ（Ｘ線回折装置）
（２）測定条件：
　　　　スキャン速度：４．０°／ｍｉｎ．
　　　　線源：４０ｋＶ、３０ｍＡ
　　　　積算回数：１回

　例えば、図２（Ｂ）のグラフは、実施例２のアンチモンドープ酸化錫によるＸ線回折の結果を示すグラフである。実施例２のアンチモンドープ酸化錫では、反射光の強度が大きく上昇する地点（波形が立ち上がる地点）が複数箇所にわたって発生している。

　具体的には、「２θ＝２７°」付近の地点、「２θ＝３４°」付近の地点、「２θ＝３８°」付近の地点、「２θ＝５２°」付近の地点、「２θ＝５５°」付近の地点、「２θ＝５８°」付近の地点である。
　そして、反射光の強度が上昇する地点のうち、反射光の強度が最も高い地点での２θ（ｄｅｇ）と強度（ＣＰＳ）の測定値を用いて結晶化度を算出する。アンチモンドープ酸化錫で反射光の強度が最も高い地点は、「２θ＝２７°」付近の地点である。

　図７は、結晶化度の算出方法を概略的に示す概念図である。
　結晶化度は、物質が結晶化した際の物質全体に対する結晶化部分の割合を示しており、ここでは、結晶化度＝ＣＰＳ／Δ２θ（半値幅）と定義している。すなわち、結晶化度は、２θ＝２７°付近の地点における数値で定義している。これにより、Ｘ線回折（ＸＲＤ）の測定結果から結晶化度を算出することができる。また、図示のグラフにおいて、規則正しい結晶構造を持ち、不純物がない程、波形のピークは大きく、波形の先端がシャープになる。

〔ＣＰＳ〕
　ＣＰＳは、反射光の強度（レベル）であるため、図示の例では波形の高さとなる。

〔Δ２θ〕
　また、Δ２θは、Ｘ線回折測定により得られたＣＰＳの最大値（ピーク値）の半分の値に対応する半値幅の広さとなる（図７において、長さＡ１と、長さＡ２とは同じ長さである）。

　このため、ＣＰＳの値が大きいほど（波形のピークが高いほど）、結晶化度の値は大きくなる。また、Δ２θの値が小さいほど（半値幅が狭いほど）、結晶化度の値は大きくなる。

　ここで、検査対象となる材料にＸ線を照射する場合、Ｘ線を照射する角度によって、反射光が発生する角度と反射光が発生しない角度とがある。反射光が発生する角度は、物質によって一定したものとなっており、同じ物質であれば、波形の立ち上がり又は立ち下がりの傾向はおおむね一致する。本実施形態では、各実施例及び各比較例において、同じ物質であるアンチモンドープ酸化錫を用いているため、ＣＰＳの値が最大となる２θの位置は「２θ＝２７°」で統一されている。

　実施例１～７並びに比較例１及び２について、２θ＝２７°付近の半値幅（Δ２θ）、２θ＝２７°付近の強度（ＣＰＳ）、結晶化度（ＣＰＳ／Δ２θ）及びＸ線回折グラフの図面番号を下記表１に示す。

　図２（Ａ）のグラフは、実施例１のアンチモンドープ酸化錫によるＸ線回折の結果を示すグラフである。実施例１のアンチモンドープ酸化錫は、「２θ＝２７°」付近の地点で反射光の強度が最も高く、ＣＰＳの最大値が１２０００程度である。Δ２θに関しても、ＣＰＳの値がピークとなる波形の裾部分の幅が、上記実施例２～４のものと比較してほとんど変わらない。したがって、実施例１は、アンチモンドープ酸化錫として十分な結晶度であると考えられる。ただし、酸化アンチモンの含有量が０．７重量％であり、酸化錫の結晶格子中に固溶されている酸化アンチモンの量が少ないため、実施例２～４よりも赤外線吸収効果が低いと考えられる。

　図３（Ａ）及び（Ｂ）のグラフは、それぞれ実施例３及び４のアンチモンドープ酸化錫によるＸ線回折の結果を示すグラフである。実施例３及び４のアンチモンドープ酸化錫でも、反射光の強度が最も高い地点は、「２θ＝２７°」付近の地点である。

　また、図４（Ａ）及び（Ｂ）のグラフは、それぞれ実施例５及び６のアンチモンドープ酸化錫によるＸ線回折の結果を示すグラフであり、そして図５のグラフは、実施例７のアンチモンドープ酸化錫によるＸ線回折の結果を示すグラフである。実施例５～７のアンチモンドープ酸化錫でも、反射光の強度が最も高い地点は、「２θ＝２７°」付近の地点である。

　実施例２～４のアンチモンドープ酸化錫は、いずれもＣＰＳの最大値が１５０００程度であり、反射光の強度が最も高い地点に出現する波形に関しても、先が尖っており裾部分の幅が狭いシャープな波形となっている。

　図６（Ａ）のグラフは、比較例１の市販品によるＸ線回折の結果を示すグラフである。比較例１の市販品は、反射光の強度が最も高いのは「２θ＝２７°」付近の地点であるが、ＣＰＳの値が上記実施例１～７のものと比較して極端に小さい（２０００程度）。また、Δ２θに関しても、ＣＰＳの値がピークとなる波形の裾部分の幅が、上記実施例１～７のものと比較して広くなっている。これは、気化精製法を用いずに製造したアンチモンドープ酸化錫であるため、不純物が多いことが原因であると考えられる。

　図６（Ｂ）のグラフは、比較例２の生成物によるＸ線回折の結果を示すグラフである。比較例２の生成物は、反射光の強度が最も高いのは「２θ＝２７°」付近の地点であるが、ＣＰＳの値が上記実施例１～７のものと比較して小さい（ＣＰＳ＝６８６０．０）。また、Δ２θに関しても、ＣＰＳの値がピークとなる波形の裾部分の幅が、上記実施例１～７のものと比較して広くなっている。これは、上述した気化精製法を用いずに製造したアンチモンドープ酸化錫であるため、不純物が多いことが原因であると考えられる。これは、比較例２が実施例２と同じ酸化アンチモン含有量であるにもかかわらず、実施例２に比べて比較例２の結晶化度が低いことからもわかる。

〔赤外線吸収効果の測定〕
　赤外線吸収効果の測定は、分光光度計を用いて光反射率を測定することによって行った。使用機器、測定条件、及び測定方法は、以下の通りである。

（１）使用機器：日本分光株式会社製　分光光度計Ｖ５７０
（２）試料作成条件：アクリル／シリコーン系ワニス（ウレタン技研工業株式会社製　水性セフコート　＃８００　クリアー）９５部に、実施例及び比較例の赤外線吸収顔料５部を添加し、遊星式分散ミルを用いて分散させて赤外線吸収インキを作成し、厚さ２００μｍのＰＥＴフィルム上にフィルムアプリケーターで塗工して、乾燥させ、乾燥状態で膜厚７０μｍの印刷部を形成し、塗工フィルム（試料印刷物）を作成した。
（３）測定方法：塗工フィルムの背面に標準白色板を装着し、２００～２５００ｎｍの波長範囲での反射率を測定した。なお、実施例及び比較例の赤外線吸収顔料については、いずれも粒径（レーザー回折散乱法でのメディアン径）を１２０ｎｍにして測定している。
　また、標準白色板の反射率を、約１００％の標準値として設定した。
　なお、上記測定方法は「ＪＩＳＫ５６０２　塗膜の日射反射率の求め方」に準拠している。また、印刷部に含有される赤外線吸収顔料の固形分重量比（顔料比）については、次のように計算する。上記（２）記載のアクリル／シリコーン系ワニスには樹脂等の固形分のほか、乾燥時に揮発して消失する溶剤等が含まれる。アクリル／シリコーン系ワニスの固形分重量比が４０重量％であるため、アクリル／シリコーン系ワニスの固形分が３８部、赤外線吸収顔料が５部となり、赤外線吸収顔料の固形分重量比は１１．６重量％である。なお、残りの８８．４重量％は、樹脂及び／又はその他の添加剤である。

　実施例１～７並びに比較例１及び２について、２００ｎｍ～２５００ｎｍの波長と反射率の関係を図８～１１に示し、かつ３８０ｎｍ～７８０ｎｍ及び／又は７８０～１１００ｎｍの波長域において、平均反射率、最大反射率、及び最大反射率を示す波長を下記表１に示す。

　図８から、酸化アンチモンが酸化錫の結晶格子中に固溶しているアンチモンドープ酸化錫は、赤外線吸収効果を奏することが分かる。

　また、一般的な真贋判定に用いられる近赤外領域（波長が７８０～１１００ｎｍの領域）では、赤外線吸収効果が高いことが望ましく、特に一般的な印刷条件であるアンチモンドープ酸化錫顔料の固形分重量比が１１．６重量％のときに、反射率が３０％以下であると、赤外線カメラ等の真贋判定装置で印刷物を観察した場合、アンチモンドープ酸化錫を含有する印刷部と他の部分との差が大きく、１０人中１０人が区別できるため、真贋判定に用い易く、好まれる。これに関連して、図８に示されるように、２．８重量％以上の酸化アンチモン含有率を有する実施例２～４は、その領域で反射率３０％以下を保っている。

　図９から、２．７～２．８重量％の酸化アンチモン含有率を有するとしても、通気焼成工程を経ていない比較例２は、通気焼成工程を経た実施例２、５及び６に比べて、赤外線吸収効果が低いことが明らかである。つまり、通気焼成工程は、アンチモンドープ酸化錫の結晶性を高め、それによって、赤外線吸収効果を向上させることができる。これは、下記表１において、実施例２、５及び６と比較例２の結晶性を対比することにより裏付けられる。

　また、実施例５及び６は、通気冷却工程（Ｓ１１６）の冷却速度を除いて、ほぼ同じ条件下で行われた。しかしながら、下記表１に示されるように、２００［℃／時間］以上の冷却速度で行われた実施例５は、２００［℃／時間］未満の冷却速度で行われた実施例６よりも、半値幅（Δ２θ）が狭く、かつ結晶化度が高い。これに関連して、通気焼成によって、酸化錫の結晶格子中に固溶されていない余分な酸化アンチモンとともに、その結晶格子中に固溶されている酸化アンチモンも微量ながら除去されるとしても、通気焼成後に積極的に冷却することによって、その結晶格子は維持されることが予想される。したがって、通気冷却工程において冷却速度を２００［℃／時間］以上に調整することは、アンチモンドープ酸化錫の結晶性の向上に寄与するものと考えられる。

　図１０から、酸化アンチモンの含有率が９．９重量％である市販品のアンチモンドープ酸化錫顔料（比較例１）であったとしても、通気焼成工程を経ることによって、十分な赤外線吸収効果を有し、かつ酸化アンチモンの含有率が２．７重量％であるアンチモンドープ酸化錫（実施例５）になることが分かる。つまり、通気焼成工程によって、結晶格子中に固溶されていない余分な酸化アンチモン（すなわち、赤外線吸収効果に寄与していない不純物）を除去することができる。

　図１１から、閉鎖焼成工程及び閉鎖冷却工程を省略しても、つまり、混合工程、通気焼成工程及び通気冷却工程しか行わなくても、十分な赤外線吸収効果を有するアンチモンドープ酸化錫が得られることが分かる。

　ここで、下記表１について実施例１～７を対比すると、実施例１～６は、実施例７よりも、可視光波長域（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の平均反射率と赤外線波長域（７８０～１１００ｎｍ）の平均反射率の差が大きい。したがって、実施例１～６のアンチモンドープ酸化錫は、実施例７のアンチモンドープ酸化錫と比べて、アンチモンドープ酸化錫の呈する色に束縛されることなく、幅広い用途で使用可能であることが分かる。

　したがって、通気焼成工程を用いてアンチモンドープ酸化錫を製造することにより、必要最低限の酸化アンチモンの含有量で結晶性を向上させることができ、十分な赤外線吸収効果を有するアンチモンドープ酸化錫を製造することができる。

　しかも、得られたアンチモンドープ酸化錫は、酸化アンチモンの含有量が９．３重量％以下でありながら、酸化アンチモンの含有量が９．９重量％であるアンチモンドープ酸化錫と略同等又はそれ以上の赤外線吸収効果が得られている。

＜フレキソ印刷インキの作製＞
　バインダー樹脂として、市販のフレキソ印刷インキ用バインダー（Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製　ＵＶ　ＶＥＣＴＡ　コートニス　ザーンカップ＃４　４５秒）を用意した。

　実施例２の赤外線吸収性顔料を、平均粒径が２８０ｎｍになるまで粉砕（粉砕機ナノジェットマイザー　株式会社アイシンナノテクノローズ）した。ミキサー（ポニーミキサー　株式会社井上製作所）内で、粉砕された赤外線吸収性顔料３０重量部、上記バインダー樹脂２０重量部、及び水１０重量部を混合して、混合物を得た。

　ビーズミル（Ｂｕｈｌｅｒ（株）Ｋ８型ラボビーズミル）内で上記混合物を混練し、上記バインダー樹脂３０重量部及び水１０重量部をさらに添加し、混練して、赤外線吸収性を有するフレキソ印刷インキを得た。

〔フレキソ印刷インキの赤外線吸収効果〕
　赤外線吸収インキとして上記フレキソ印刷インキを使用して、下記印刷条件に従ってフレキソテスター（松尾産業社製　フレキソプルーフ１００ＵＶ）でフレキソ印刷を行なって、印刷物を得た：
（印刷条件）
　アニロックスロール線数：１４０ＬＰＩ（線／インチ）
　アニロックスロール容量：１８ｃｍ^３／ｍ^２
　フレキソ版：サイレル（デュポン社製　ＤＰＮ　１．１４ｍｍ厚）
　印刷機パラメーター１：版銅と圧銅ダイヤル値　５０
　印刷機パラメーター２：版銅とアニロックスロールダイヤル値　５０
　用紙：トップコート＋＜１１０＞（王子製紙社製）

　上記印刷物を赤外線カメラ（ＡＮＭＯ社製Ｄｉｎｏ－Ｌｉｔｅ　Ｐｒｏ）を用いて観察したところ、赤外線吸収インキの印刷面は、赤外光を吸収するために黒く見えたのに対して、赤外線吸収インキを印刷していない面（例えば、原紙部分、一般プロセスインキの印刷部分など）は、赤外線を透過又は反射するために、白く見えた。

〔フレキソ印刷インキの色調と赤外線吸収性の関係〕
　以下に示される基材及びインキを用意した：
　　基材：一般紙（王子製紙株式会社製　ＯＫプリンス上質　斤量９０ｋｇ）
　　プロセスインキ（３色）：
　　　藍色（Ｃ）：スーパーテックＧＴシリーズ　藍（株式会社Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製）
　　　紅色（Ｍ）：スーパーテックＧＴシリーズ　紅（株式会社Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製）
　　　黄色（Ｙ）：スーパーテックＧＴシリーズ　黄（株式会社Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製）

　以下の印刷サンプル作製条件に従って、基材に上記３色のプロセスインキをそれぞれ印刷して、それぞれの色に対応した３種類の印刷サンプルを得た：
（印刷サンプル作製条件）
　印刷機：オフセット印刷機　ＲＩテスター（株式会社ＩＨＩ機械システム製）
　インキ盛量：０．１２５ｃｃ
　インキ膜厚：約１μｍ

　以下の測定条件に従って、３種類の印刷サンプルの光反射率を測定した：
（測定条件）
　測定装置：紫外可視分光光度計　Ｕ－４０００　（株式会社日立製作所製）
　測定項目：反射率（％）
　測定波長：３５０～２５００ｎｍ

　藍（Ｃ）、紅（Ｍ）及び黄（Ｙ）プロセスインキについて、３５０～１５００ｎｍの波長域における反射率を図１２に示す。

　図１２は、ＣＭＹプロセスインキのオフセット印刷により得られた印刷物の反射率を示すグラフである。しかしながら、着色剤濃度、膜厚及び測定条件を揃える限り、フレキソ印刷により得られた印刷物の反射率は、オフセット印刷により得られた印刷物の反射率と同じであると考えられる。したがって、図１２に示されるＣＭＹプロセスインキの反射率グラフと、図８～１１に示される実施例１～７の反射率グラフとを組み合わせることにより、本発明のフレキソ印刷インキを一般的な色インキとして使用したときの色調と赤外線吸収性の関係を予想できる。

　例えば、図１２では、紅及び黄プロセスインキが、赤外線波長域（７８０～１１００ｎｍ）の光を吸収していない。一方で、図８～１１に示される実施例１～７の反射率グラフでは、可視光波長域（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の平均反射率よりも赤外線波長域の平均反射率が低いので、可視光よりも赤外光が吸収されていると考えられる。したがって、本発明に使用されるアンチモンドープ酸化錫を紅又は黄インキに含有させるか、又は本発明のフレキソ印刷インキを紅又は黄インキとして使用すると、紅色又は黄色の色調に影響を与えることなく、インキに赤外線吸収性を付与できることが分かる。

　また、図１２から、藍プロセスインキが、赤外線波長域（７８０～１１００ｎｍ）の光を僅かに吸収していると考えることもできる。しかしながら、図８～１１において実施例１～７の赤外線吸収インキが赤外光を吸収する割合と比べれば、藍プロセスインキが赤外光を吸収する割合は、考慮しなくてよいほど低い。したがって、本発明に使用されるアンチモンドープ酸化錫を藍インキに含有させるか、又は本発明のフレキソ印刷インキを藍インキとして使用しても、藍色の色調に影響を与えることなく、インキに赤外線吸収性を付与できることが分かる。

　さらに、実施例１～７で得られたアンチモンドープ酸化錫を含み、かつ着色剤を含まない赤外線吸収インキは、墨、藍、紅又は黄インキに該当しない。これに関連して、実施例１～７で得られたアンチモンドープ酸化錫を含み、かつ着色剤を含まない赤外線吸収インキは、明度が高く、かつ淡い白色を呈するので、墨、藍、紅又は黄インキの色調に与える影響は少ないと考えられる。したがって、実施例１～７で得られたアンチモンドープ酸化錫を含み、かつ着色剤を含まない赤外線吸収インキを、フレキソ印刷に適した特色インキ又は機能性インキとして把握することができる。その場合、図８～１１に示される実施例１～７の反射率グラフを、本発明の特色インキの光反射特性を表すグラフとして見なすことができる。

　本発明は、上述した実施形態及び実施例に制約されることなく、各種の変形又は置換を伴って実施することができる。また、上述した実施形態及び実施例で挙げた構成又は材料はいずれも好ましい例示であり、これらを適宜変形して実施可能であることを理解されたい。

Claims

　アンチモンドープ酸化錫及びビヒクルを含む赤外線吸収性フレキソ印刷インキであって、
　前記アンチモンドープ酸化錫は、酸化錫と酸化アンチモンを含有し、かつ下記（ａ）及び／又は（ｂ）を満たす：
　　（ａ）Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークの半値幅（Δ２θ）が、０．３０以下である；及び／又は
　　（ｂ）前記酸化アンチモンの含有量が、前記アンチモンドープ酸化錫の重量を基準として、０．５～１０．０重量％であり、かつ、Ｘ線回折測定により得られた２θ＝２７°付近のピークのピーク値を半値幅（Δ２θ）で除算した値である結晶化度が、５８４２７以上である、
　赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　偽造防止用である、請求項１に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　前記（ａ）において、前記半値幅（Δ２θ）は、０．２１以下である、請求項１又は２に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　前記（ｂ）において、前記酸化アンチモンの含有量は、前記アンチモンドープ酸化錫の重量を基準として、２．８～９．３重量％である、請求項１又は２に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　前記結晶化度が７８０２０以上である、請求項１又は２に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　前記アンチモンドープ酸化錫の平均粒径が、２５μｍ以下である、請求項１～５のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　前記ビヒクルは、溶剤を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　前記溶剤は、有機溶剤、水、又はこれらの混合物である、請求項７に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　補助剤をさらに含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　着色剤をさらに含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキ。
　請求項１～１０のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキを使用して、フレキソ印刷で印刷物を得る方法。
　請求項１～１０のいずれか１項に記載の赤外線吸収性フレキソ印刷インキにより印刷された印刷部を備える印刷物。