WO2015008443A1 - レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 - Google Patents

レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 Download PDF

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WO2015008443A1
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cleaning
filter
tank
liquid
cleaning liquid
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真一郎 淵上
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パナソニックＩｐマネジメント株式会社
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    • C11D2111/10—Objects to be cleaned
    • C11D2111/14—Hard surfaces
    • C11D2111/20—Industrial or commercial equipment, e.g. reactors, tubes or engines

Definitions

  • the present invention relates to a resist stripper filtration filter cleaning liquid, a cleaning apparatus, and a cleaning method for cleaning a resist stripper filter for filtering a resist stripper used for manufacturing liquid crystal and organic EL display devices and semiconductors. .
  • the peeling device is provided with a filter for filtering the stripping solution and the cleaning solution.
  • Patent Document 1 two filters for filtering a fluorine-based etching solution used in the etching process are prepared. When one of the filters is clogged, the filter is switched to the other filter, and the clogged filter is washed with a cleaning solution. Techniques for cleaning and reusing are disclosed.
  • the cleaning liquid used here is 1 to 20% by weight of a first chelating agent selected from alkylene polyamine polyacetic acid or its ammonium salt or alkali metal salt, and a carboxylic acid or its ammonium salt optionally having a hydroxyl group.
  • a second chelating agent selected from alkali metal salts and different from the first chelating agent, an alkali agent sufficient to bring the pH of the cleaning solution to 9 to 11 and water,
  • the total amount of the chelating agent and the second chelating agent is 5 to 30% by weight.
  • Patent Document 2 discloses that particles accumulated in a filter for filtering a processing solution for etching are dissolved and removed with a chemical solution.
  • the material to be etched is a silicon nitride film
  • the etching treatment liquid is phosphoric acid
  • the chemical liquid uses hydrofluoric acid.
  • Patent Document 3 first, the substrate on which the resist remains is washed with a persulfuric acid solution in which ozone and / or hydrogen peroxide is added to a sulfuric acid solution. Next, the resist and the like are separated from the persulfuric acid solution containing the washed resist and the like by a filter.
  • This filter has two systems. If one of the filters is clogged, switch to the other and continue filtering.
  • the filter that has been clogged first removes the persulfuric acid solution with compressed air. Then, ultrapure water is supplied to the filter, and the resist clogged in the filter is removed.
  • Patent Documents 1 and 2 mainly relate to regeneration of a filter obtained by filtering an etching solution obtained by etching silicon nitride. Therefore, even if knowledge is obtained regarding a filter cleaning apparatus in which two systems of filters are prepared and regenerated while switching, it cannot be said that it is disclosed in terms of regeneration of the filter after filtering the photoresist.
  • Patent Document 3 is an invention relating to regeneration of a filter obtained by filtering a solution containing a photoresist used in an etching process.
  • a persulfuric acid solution is used for substrate cleaning, and the resist hardly dissolves in this solution. Further, after removing the persulfuric acid solution with compressed air, the resist residue is removed from the filter with ultrapure water.
  • Patent Document 3 does not disclose any knowledge about regeneration of a filter obtained by filtering a resist stripping solution obtained by removing a resist from a substrate.
  • the present invention has been conceived in view of the above problems, and a cleaning liquid for removing a resist that has been removed by washing a filter (resist peeling liquid filtration filter) obtained by filtering a resist peeling liquid from which a resist has been removed from a substrate, and a resist An apparatus and a cleaning method for cleaning a stripping solution filtration filter are provided.
  • a filter resist peeling liquid filtration filter
  • the resist remover filtration filter cleaning liquid according to the present invention is: It contains ammonia and hydrogen peroxide.
  • ammonia is contained in an amount of 2.5 to 12.5% by mass with respect to the total amount of the cleaning liquid
  • the hydrogen peroxide is contained in an amount of 8.8 to 17.5% by mass with respect to the total amount of the cleaning liquid.
  • the resist stripping solution filtration filter cleaning device is: A washing tank; Cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid into the cleaning tank; A filter cartridge connection disposed in the cleaning tank; A first pipe coupled to the filter cartridge connection part; A water outlet is connected to the first pipe, and the water inlet is connected to a pump connected to a second pipe communicating with the inside of the cleaning tank; A cooling means for cooling the cleaning liquid in the cleaning tank; It has exhaust means provided in the washing tank.
  • the resist stripping solution filtration filter cleaning method includes: An association process for associating the filter cartridge to be cleaned with the cleaning liquid; A cooling step for cooling the cleaning liquid; A separation step for separating the cleaning liquid and the filter cartridge to be cleaned; It has a rinse process which wash
  • the cleaning solution for the resist stripping solution filtering filter according to the present invention can dissolve and remove the resist adhering to the filter for filtering the resist stripping solution for stripping the developed positive resist from the substrate. Therefore, the used resist stripping solution filtration filter can be regenerated and used instead of being discarded.
  • the cleaning liquid according to the present invention can remove even the resist adhering to the back of the bowl-shaped element simply by immersing the used resist stripping filter filter.
  • the cleaning device for the resist stripping solution filtration filter according to the present invention includes a cooling unit, a defoaming unit, and an exhaust unit against the heat and bubbles generated when the post-use filter is cleaned with the cleaning solution according to the present invention. Since it has, it can wash
  • FIG. It is a figure which shows the structure of the resist stripping solution filtration filter washing
  • FIG. It is a figure which shows the association process in which the filter after use was immersed in the washing
  • FIG. 1 shows a cleaning apparatus for a resist stripping solution filtration filter according to the present invention (hereinafter simply referred to as “cleaning apparatus”).
  • the cleaning apparatus 1 includes a cleaning tank 10, a filter cartridge connection unit 12, a pump 14, a cleaning liquid supply unit 16, a foam discharge unit 20, and an exhaust unit 22. Moreover, you may have the controller 30.
  • FIG. FIG. 1 shows a case where there are three filter cartridge connecting portions 12.
  • the cleaning tank 10 has a used resist stripping solution filtration filter (hereinafter also simply referred to as “after-use filter”) disposed therein, and a tank for removing the resist adhering to the post-use filter 9 (see FIG. 2) with the cleaning liquid. It is.
  • the cleaning tank 10 is provided with a drain 10e and a bubble discharging means 20.
  • the drain 10 e is a drainage path for discharging the solution in the cleaning tank 10.
  • a drain valve 10ev is provided.
  • the drain valve 10ev is preferably configured to be opened and closed by an external instruction CV10v.
  • the foam discharge means 20 is a discharge port provided on the upper side surface of the cleaning tank 10.
  • the cleaning liquid used in the cleaning tank 10 is a mixed solution of hydrogen peroxide and ammonia.
  • the bubble discharging means 20 may be a through hole formed on the upper side surface of the cleaning tank 10.
  • the bubble discharging means 20 is constituted by a through hole
  • the liquid level of the cleaning liquid rises up to the through hole, and the bubbles can be discharged while overflowing the cleaning liquid. Therefore, it is preferable to provide the through hole at a position above the liquid level where the post-use filter disposed in the cleaning tank 10 is completely immersed in the cleaning liquid.
  • the bubble discharging means 20 may be configured to suck and remove bubbles from the upper part of the cleaning tank 10.
  • the upper surface of the cleaning tank 10 may be opened, and an overflow tank (not shown) may be provided around the cleaning tank 10 to overflow the cleaning liquid from the upper end of the cleaning tank 10 and discharge the bubbles.
  • the exhausting means 22 is also provided in the washing tank 10. Since the cleaning liquid contains hydrogen peroxide, a large amount of oxygen is released when the resist is dissolved. Therefore, attention is necessary for ignition.
  • the upper end of the cleaning tank 10 may be opened, but it is desirable that the suction fan is rotated above the cleaning tank 10 to forcibly discharge it.
  • the cleaning tank 10 is provided with a temperature sensor 28.
  • the cleaning liquid dissolves the resist adhering to the filter after use, reaction heat is generated and the temperature of the cleaning liquid rises. Therefore, the cooling means 24 mentioned later is operated. Therefore, the measurement of the temperature of the cleaning liquid by the temperature sensor 28 can obtain information on the presence / absence of the operation of the cooling means 24 and the effect of the operation.
  • the temperature sensor 28 is preferably configured to transmit the measured temperature to the outside (a controller 30 described later) by a signal St.
  • the cleaning tank 10 is provided with a liquid level sensor 27. This is because the detection of the liquid level in the cleaning tank 10 can control the input / output of the cleaning liquid and the input / output of pure water.
  • a filter cartridge connecting part 12 for setting a filter after use is provided in the washing tank 10.
  • the filter cartridge connection part 12 is a cleaning liquid spout fitted into the connection port of the resist stripping liquid filtration filter. It is formed according to the connection port of the post-use filter to be cleaned.
  • a plurality of filter cartridge connection portions 12 may be arranged in the cleaning tank 10.
  • the first pipe 11a is connected to the filter cartridge connecting portion 12.
  • the first pipe 11 a is connected to the water outlet 14 o of the pump 14 outside the cleaning tank 10.
  • the handling of the first piping 11a is not particularly limited.
  • a liquid-tight through hole may be provided on the side surface of the cleaning tank 10, and may extend outside the cleaning tank 10 from the liquid-tight through hole. The liquid supplied through the first pipe 11a is ejected from the filter cartridge connection part 12.
  • a pressure sensor (“PI" in FIG. 1) is displayed between the first pipe 11a and the pump 14. ) 26 is provided.
  • the type of the pressure sensor 26 is not particularly limited.
  • the pressure sensor 26 preferably has a function of transmitting the currently measured pressure value to the outside as a signal Sp.
  • the second pipe 11b is connected to the water inlet 14i of the pump 14.
  • the other opening of the second pipe 11 b is disposed at the bottom of the cleaning tank 10. This is because the cleaning liquid can be pumped even when the level of the cleaning liquid in the cleaning tank 10 is low. It is desirable that the pump 14 is configured so that the operation can be started / stopped or the supply amount can be adjusted by an instruction Cp from the outside.
  • the cleaning apparatus 1 preferably has a cooling means 24 for cleaning liquid.
  • HEX hydrogen peroxide foams exothermically.
  • the cooling means 24 can be provided in the 1st piping 11a or the 2nd piping 11b.
  • the form of the cooling means 24 is not particularly limited. In FIG. 1, the structure which provided the cooling means 24 in the 2nd piping 11b was shown.
  • the cooling means 24 in FIG. 1 represents a heat exchanger. When the cooling water is supplied to the supply port 24i, heat exchange is performed with the second pipe 11b, and the cooling water that has received the heat is discharged from the discharge port 24o.
  • the cooling means 24 may have, for example, a structure in which a cooling pipe is disposed around the side surface of the cleaning tank 10 or a structure in which a cooling pipe is directly disposed inside the cleaning tank 10. Further, the cooling means 24 may be capable of adjusting the cooling efficiency by an instruction Ctm from the outside.
  • the cleaning liquid supply means 16 supplies the cleaning liquid to the cleaning tank 10 from the outside of the cleaning tank 10.
  • a supply pipe 16a for supplying cleaning liquid and an open / close valve 16b can be used.
  • a cleaning liquid tank (not shown) is disposed upstream of the supply pipe 16a.
  • the open / close valve 16b is preferably configured to be opened and closed by an external instruction CV16b.
  • the pure water supply means 17 supplies pure water to the cleaning tank 10 from the outside of the cleaning tank 10.
  • the pure water supply means 17 can be composed of a supply pipe 17a for supplying pure water and an open / close valve 17b.
  • a pure water tank (not shown) is disposed upstream of the supply pipe 17a.
  • the opening / closing valve 17b is preferably configured to be opened and closed by an instruction CV17b from the outside.
  • shower means 18 may be provided in the cleaning tank 10.
  • the shower means 18 spreads the cleaning liquid on the liquid level of the cleaning tank 10 or on the resist stripping solution filtration filter disposed in the cleaning tank 10.
  • the shower means 18 is effective in removing bubbles generated on the liquid surface of the cleaning liquid in the cleaning tank 10.
  • the shower means 18 can be composed of a supply pipe 18a, an opening / closing valve 18b, and a water spout 18c.
  • the supply pipe 18 a can also be used as the supply pipe 16 a of the cleaning liquid supply means 16. This is because the same cleaning solution is allowed to flow.
  • the opening / closing valve 18b is preferably configured to be opened and closed by an instruction CV18b from the outside.
  • a controller 30 that controls the entire operation may be provided.
  • the controller 30 is connected to the pump 14, the cooling means 24, the pressure sensor 26, the liquid level sensor 27, the temperature sensor 28, the open / close valves 16b, 17b, 18b, and the drain valve 10ev. Then, the controller 30 transmits the signals of the instruction signals Cp, Ctm, CV16b, CV17b, CV18b, CV10v to the pump 14, the cooling means 24, the open / close valves 16b, 17b, 18b, and the drain valve 10ev, and the operation To control.
  • signals Sp, SL, St are received from the pressure sensor 26, the liquid level sensor 27, and the temperature sensor 28.
  • the cleaning tank 10 is in a state where there is no cleaning liquid. That is, after the previous cleaning, the solution in the cleaning tank 10 is discharged through the drain 10e.
  • the open / close valve 17b of the pure water supply means 17, the open / close valve 16b of the cleaning liquid supply means 16, the open / close valve 18b of the shower means 18, and the drain valve 10ev of the drain 10e are closed.
  • the post-use filter 9 which is an object to be cleaned is attached to the filter cartridge connecting portion 12 (see FIG. 2). Thereafter, the operator may issue an instruction to the controller 30 or may perform each operation with his / her own hand. The following description will be made assuming that the controller 30 performs processing.
  • the controller 30 transmits an instruction CV16b to the opening / closing valve 16b, and opens the opening / closing valve 16b.
  • the cleaning liquid flows through the supply pipe 16a and is injected into the cleaning tank 10.
  • the post-use filter 9 associates with the cleaning liquid (association step).
  • the cleaning liquid is a mixed solution of hydrogen peroxide and ammonia as shown in the examples described later.
  • the closed on-off valves 17b, 18b, and 10ev are filled with black.
  • the controller 30 transmits an instruction Cp to the pump 14 to operate the pump 14.
  • the controller 30 can know the liquid level of the cleaning liquid from the signal SL from the liquid level sensor 27.
  • the cleaning liquid in the cleaning tank 10 is sucked into the second pipe 11b and sucked into the water inlet 14i of the pump 14.
  • the cleaning liquid is supplied from the water outlet 14o of the pump 14 to the filter cartridge connecting portion 12 in the cleaning tank 10 through the first pipe 11a.
  • the cleaning liquid is ejected from the inside of the filter 9 after use.
  • the resist adhering to the filter 9 after use is dissolved in the cleaning liquid. This may be referred to as a step of stirring the cleaning liquid (stirring step).
  • the cleaning solution causes an exothermic reaction when the resist is dissolved, and the temperature rises.
  • the controller 30 monitors the temperature of the cleaning liquid based on the signal St from the temperature sensor 28. When the temperature reaches a predetermined temperature or higher, a cooling instruction Ctm is transmitted to the cooling means 24.
  • the cooling means 24 cools the cleaning liquid circulating in the pump 14, the first pipe 11a, and the second pipe 11b to a predetermined temperature (cooling step).
  • the temperature of the cleaning liquid increases due to an exothermic reaction. In order to dissolve the resist adhering to the filter 9 after use, it is better that the temperature of the cleaning liquid is high to some extent. However, if it becomes too high, the material of the filter 9 after use becomes unbearable.
  • the cleaning liquid is preferably about 50 ° C. to 70 ° C.
  • the controller 30 sends an instruction CV 18b to the opening / closing valve 18b to activate the shower means 18 (defoaming step).
  • the shower unit 18 sprays the cleaning liquid from above the liquid surface of the cleaning liquid and defoams it.
  • bubbles are also removed (bubble discharging step).
  • the defoaming step may be operated before the liquid level reaches the level of the bubble discharging means 20.
  • the controller 30 monitors the signal Sp from the pressure sensor 26 after operating the pump 14. Then, the circulation of the cleaning liquid is continued until the pressure of the pressure sensor 26 (feeding pressure of the cleaning liquid) becomes a predetermined pressure or less. While the resist is adhered, the pressure of the cleaning liquid is high. However, when the resist is dissolved and removed from the filter 9 after use, the pressure of the cleaning liquid is lowered.
  • the controller 30 stops the shower unit 18, the pump 14, and the cooling unit 24 when the pressure of the cleaning liquid is below a predetermined value. Then, the instruction CV10v is sent and the drain valve 10ev is opened. Thus, the cleaning liquid in the cleaning tank 10 is discharged (see FIG. 4). This can be said to be a separation process between the cleaning solution and the resist stripping solution filtration filter.
  • the controller 30 closes the drain valve 10ev, transmits an instruction CV17b, and opens the open / close valve 17b.
  • the opening / closing valve 17b is opened, pure water is introduced into the cleaning tank 10 through the supply pipe 17a (see FIG. 5).
  • the controller 30 starts the pump 14.
  • the pure water in the washing tank 10 is ejected from the inside of the filter 9 after use from the pump 14 to the outside.
  • the post-use filter 9 is rinsed (rinse washed) (rinsing step).
  • the pump 14 is operated for a predetermined time determined in advance, and pure water is passed through the filter 9 after use. Further, in the rinsing process, it is not necessary to check the pressure supplied from the pump 14. This is because the flow resistance is low because the resist is already dissolved.
  • the controller 30 stops the pump 14, opens the drain valve 10ev, and discharges pure water. In addition, you may perform a rinse process in multiple times.
  • the resist stripping solution filtration filter after cleaning is referred to as a post-cleaning filter.
  • the rinsing process is repeated a plurality of times.
  • the rinsing process is performed once, it may be performed while overflowing pure water.
  • the pure water may overflow in each process.
  • Embodiment 2 In FIG. 6, the structure of the resist stripping solution filtration filter washing
  • cleaning and rinsing with a cleaning liquid are performed in one cleaning tank 10, cleaning of the filter 9 after the next use cannot be started unless cleaning and rinsing are completed.
  • a tank for cleaning with a cleaning liquid and a tank for rinsing are prepared separately.
  • the resist stripping solution filtration filter cleaning device 2 includes a cleaning tank 40 and rinse tanks 42 and 44.
  • the cleaning tank 40 and the rinsing tanks 42 and 44 the post-use filter 9 can be washed in a flowing manner and made recyclable.
  • the number of rinsing tanks may be one, or may be three or more.
  • the filter 9 is placed in the washing tub 8 and moves between the washing tank 40 and the rinsing tanks 42 and 44.
  • the type of liquid that passes through the post-use filter 9 is changed, but in this embodiment, the post-use filter 9 itself moves.
  • the cleaning bowl 8 is moved by the moving device 50.
  • the moving device 50 for example, a crane including a rail 51, a winding pulley 52, and a chuck 53 can be suitably used.
  • the cleaning tank 40 includes a drain 40e, a drain valve 40ev, a foam discharge unit 20, a shower unit 18, a cleaning liquid supply unit 16, a pump 14, a second pipe 11b, an exhaust unit 22, a cooling unit 24, a pressure sensor 26, and a temperature sensor. 28 is provided.
  • the filter cartridge connection part 12 is not provided. Therefore, the first pipe 11 a communicates only with the cleaning tank 40 and does not communicate with the filter cartridge connection portion 12.
  • the rinse tanks 42 and 44 are a first rinse tank 42 and a second rinse tank 44. Since the first rinse tank 42 and the second rinse tank 44 have the same configuration, the first rinse tank 42 will be described.
  • the first rinse tank 42 includes a drain 42e and a drain valve 42ev.
  • pure water supply means 41 is provided.
  • the pure water supply means 41 includes a supply pipe 41a and an opening / closing valve 41v.
  • the opening / closing valve 41v is preferably configured to be opened / closed by an external instruction CV41v.
  • the first rinsing tank 42 may have an overflow means 42ov and an aeration means 43.
  • the overflow means 42ov is a waste water means for replacing pure water for rinsing. It may be a through hole formed in the upper side surface of the first rinse tank 42.
  • the aeration means 43 is composed of an air diffusion pipe 43a, an air pipe 43b, and an opening / closing valve 43v.
  • the air diffuser 43a is disposed so as to be under the washing basket 8 containing the filter 9 after use.
  • the air pipe 43b extends from a compressed air source (not shown).
  • An open / close valve 43v is provided in the middle of the air pipe 43b. That is, when the opening / closing valve 43v is opened, the compressed air is released from the diffuser tube 43a.
  • the opening / closing valve 43v is preferably configured to be opened and closed by an instruction CV43v from the outside.
  • the second rinse tank 44 may be composed of the same parts as the first rinse tank 42. Therefore, it has the drain 44e, the drain valve 44ev, the pure water supply means 47, the overflow means 44ov, and the aeration means 45.
  • the resist stripping solution filtration filter cleaning device 2 is provided with a moving device 50 for transferring the cleaning basket 8 from the cleaning tank 40 to the first rinse tank 42 and from the first rinse tank 42 to the second rinse tank 44.
  • the moving device 50 can place the cleaning basket 8 into the cleaning tank 40 from the initial placement location.
  • a transfer pallet (not shown) from the cleaning tank 40 to the first rinse tank 42, from the first rinse tank 42 to the second rinse tank 44, and from the second rinse tank 44 to the next process or the next process. Can be placed on top.
  • the hoisting pulley 52 of the moving device 50 and the raising / lowering and gripping / opening of the chuck 53 may be controlled by an instruction Cm from the outside.
  • the resist stripping solution filtration filter cleaning device 2 may have a controller 32.
  • the controller 32 manages the movement of the washing tub 8 to each tank, the residence time for each tank, and the amount of solution supplied to each tank.
  • cleaning apparatus 2 which has the above structure is demonstrated.
  • the inside of cleaning tank 40 may be filled with a cleaning liquid. This is because the post-use filter 9 is put in the cleaning basket 8 and immersed in the cleaning tank 40.
  • the controller 32 transmits an instruction Cm (see FIG. 6) to the moving device 50, obtains one washing basket 8 from the first placement place, and immerses it in the washing tank 40 (association step). Needless to say, a post-use filter 9 to be cleaned is placed in the cleaning bowl 8.
  • the controller 32 operates the pump 14 to circulate the cleaning liquid in the cleaning tank 40 (stirring step).
  • the post-use filter 9 in the cleaning bowl 8 associates with the cleaning liquid, the resist to which the cleaning liquid has adhered is dissolved.
  • cleaning liquid which concerns on this invention can remove the adhering resist only by immersing the filter 9 after use. Therefore, the stirring step is not necessarily required.
  • the controller 32 detects the temperature of the temperature sensor 28 in the cleaning tank 40, and when the temperature becomes higher than a predetermined temperature, the controller 32 operates the cooling means 24 to cool the cleaning liquid (cooling process).
  • the shower means 18 may be operated and the foam in the washing tank 40 may be defoamed (defoaming process).
  • the exhaust means 22 is preferably always operated. In the present embodiment, the cleaning with the cleaning liquid is continued for a predetermined time determined in advance.
  • the controller 32 transmits an instruction Cm (see FIG. 6) to the moving device 50, and transfers the cleaning basket 8 from the cleaning tank 40 to the first rinse tank 42 (see FIG. 8). ).
  • the aeration means 43 is activated when the cleaning tub 8 is immersed in water (rinsing step). Specifically, the controller 32 transmits an instruction CV43v (see FIG. 6) to the open / close valve 43v, and sends air to the air diffuser 43a. By the operation of the aeration means 43, an impact is given to the cleaning basket 8 with air (aeration process).
  • This first rinsing step is also performed for a predetermined time. During this time, a predetermined amount of pure water may be supplied from the pure water supply means 41 to the first rinsing tank 42 and the pure water may be discharged from the overflow means 42ov. This is to replace a certain amount of pure water.
  • the controller 32 When the controller 32 performs the first rinsing process for a predetermined time, the controller 32 transmits an instruction Cm (see FIG. 6) to the moving device 50, and transfers the cleaning basket 8 to the second rinsing tank 44 (see FIG. 9). Even in the second rinse tank 44, the aeration means 45 is operated, and rinsing is performed while applying a shock to the filter 9 after use with compressed air. The second rinsing step is also performed for a predetermined time. Alternatively, a predetermined amount of pure water may be supplied to the second rinse tank 44 by the pure water supply means 47 so as to overflow from the overflow means 44ov, and the pure water in the second rinse tank 44 may be replaced.
  • the controller 32 transmits an instruction Cm to the moving device 50 and moves the resist stripping solution filtration filter in the cleaning bowl 8 to a predetermined position for drying.
  • the resist stripping solution filtration filter after cleaning is referred to as a post-cleaning filter.
  • the amount of pure water supplied to each rinse tank may not be the same.
  • the pure water supply amount to the first rinse tank 42 and the pure water supply amount to the second rinse tank 44 may not be the same.
  • the amount of pure water supplied to the first rinse tank 42 may be less than the amount of pure water supplied to the second rinse tank 44.
  • the effect of removing the cleaning liquid is ensured even if the rinsing pure water in the first rinsing tank 42 is somewhat mixed with the cleaning liquid. On the other hand, if the amount of pure water supplied to the first rinse tank 42 can be reduced, the cost can be reduced.
  • FIG. 6 shows a state in which the cleaning basket 8 is immersed in three tanks.
  • the resist stripping solution filtration filter cleaning device 2 dissolves and removes the resist from the resist stripping solution filtration filter to which the resist is attached, and can be used again.
  • the resist remover filtration filter is made of polypropylene and has a diameter of several ⁇ m to several tens of ⁇ m.
  • the resist is a positive resist. Positive resists are frequently used for FPD and organic EL etching.
  • a novolac resin is used as the resin component, and a photosensitive substance such as diazonaphthoquinone (DNQ) is used as the dissolution inhibitor.
  • DNQ diazonaphthoquinone
  • Resist stripper filter is polypropylene (PP) with a diameter of several to several tens of micrometers These fibers are bundled to form a hook-shaped element.
  • the filtration accuracy (the size of foreign matter that can be filtered off) is 10 ⁇ m.
  • the outer shape is 130 mm in diameter and 250 mm in length. It is put in a PP filter cartridge with a 30 ⁇ 50 mm square grid formed on the side. One end of the filter cartridge is provided with a flanged opening (diameter 50 mm) for pipe connection.
  • FIG. 10A shows the configuration of an evaluation jig 60 for evaluating the water permeability of the filtration filter.
  • the evaluation jig 60 includes a pure water supply source 67, a filter holder 62, a primary side pipe 66a, a secondary side pipe 66b, a manual valve 63, a flow meter 64, and a Bourdon tube pressure gauge 65.
  • the filter cartridge to be measured was disassembled from the filter cartridge, the filter medium part (element) was taken out, cut into a circular shape of ⁇ 47 mm, and used as an experimental filter piece 61.
  • the filter piece 61 was set on an In-Line FilterHolder, 47 mm (referred to as filter holder 62) manufactured by Merck Millipore Corporation.
  • the primary side 62 a of the filter holder 62 communicated with the pure water supply source 67. Further, the secondary side 62b of the filter holder 62 was in an open state.
  • the pure water supply source 67 is supplied with pure water at a pressure higher by 0.3 MPa than the atmospheric pressure. In addition, all the following pressure displays show atmospheric pressure as a reference
  • the pipe 66a on the primary side 62a of the filter holder 62 was provided with a manual valve 63 for adjusting the flow rate, a flow meter 64 for measuring the flow rate, and a Bourdon tube pressure gauge 65 for measuring the pressure.
  • the discharge port 66bx of the pipe 66b on the secondary side 62b of the filter holder 62 is disposed so as to be above the filter holder 62 in the gravity direction so that the secondary side pipe 66b is filled with pure water. ing.
  • a normal PVC pipe or SUS pipe for water supply was used
  • the secondary side pipe 66b a soft PVC hose was used.
  • a filter piece 61 made from the filter element to be evaluated was held between the filter holder 62 of the evaluation jig 60.
  • the filter piece 61 is held liquid-tight between the primary side pipe 66a and the secondary side pipe 66b.
  • the manual valve 63 is opened and pure water is allowed to flow.
  • the flow rate Q is read from the flow meter 64 and the pressure ⁇ P is read from the Bourdon tube pressure meter 65.
  • the inspection of the filter piece 61 by the evaluation jig 60 is referred to as “water passage inspection”.
  • FIG. 10B illustrates a graph in which the relationship between the flow rate Q and the pressure ⁇ P is plotted as a result of the water flow inspection.
  • the horizontal axis is the flow rate Q
  • the vertical axis is the pressure ⁇ P.
  • a new resist stripping filter (hereinafter referred to as a “new filter”) is fed at a pressure of 0.005 MPa to flow 600 ml of pure water per minute.
  • a pressure of 0.058 MPa is required to flow 500 ml of pure water per minute. That is, the resist stripping solution filtration filter after use has a single digit feeding pressure higher than that of a new one.
  • the effect of the cleaning liquid according to the present invention was confirmed in the following manner.
  • the filter after use was immersed for a predetermined time in the cleaning liquid according to the present invention (6 levels) and the cleaning liquid of the comparative example (10 levels), and the color change of the elements was visually confirmed.
  • water permeability was checked with pure water after washing.
  • the filter cartridge was disassembled, the bowl-shaped element was taken out, and visual observation, electron microscope observation, and IR absorbance analysis were performed.
  • Table 1 shows the compositions of cleaning liquids of Examples and Comparative Examples (hereinafter also referred to as “sample cleaning liquids”). It also describes the determination of the washability of the post-use filter for each composition. In the determination, a case where it can be determined that it can be used practically is indicated by “ ⁇ ” (circle), and cleaning is possible, but a case where it can be determined that practical use is difficult is indicated by “ ⁇ ” (triangle). The case where is not possible is represented by “x” (X). In addition, that it can be used practically means the case where the resist adhering to the filter after use can be removed in a few hours.
  • a cleaning liquid having a predetermined composition ratio was prepared by mixing an appropriate amount of 25% by mass of ammonia water, 35% by mass of hydrogen peroxide water and pure water.
  • the composition ratio was 2.5 mass% ammonia and 17.5 mass% hydrogen peroxide.
  • a comparative example is as follows.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 1 is a hydrogen peroxide solution having a concentration of 8.8% by mass.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 2 is a hydrogen peroxide solution having a concentration of 17.5% by mass.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 3 is a hydrogen peroxide solution having a concentration of 35.0% by mass.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 4 is a mixed liquid in which sulfuric acid is 5.0% by mass and hydrogen peroxide is 17.5% by mass.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 5 is 68.0% by mass sulfuric acid.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 6 is 96.0% by mass sulfuric acid.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 7 is 99.8% by mass of acetone.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 8 is 2.5% by mass of tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • the cleaning liquid of Comparative Example 9 is 25% by mass of TMAH.
  • the cleaning liquid of Comparative Example 10 is
  • a container containing 4 L of each sample cleaning solution was prepared, and the filter was immersed in the sample cleaning solution after use.
  • Comparative Examples 1 to 3 are hydrogen peroxide solutions having different concentrations.
  • the filter after use immersed in these sample cleaning solutions did not lose the brown color in 3 hours. Therefore, it was continuously immersed for 10 days. After immersion for 10 days, the filter was rinsed with pure water to obtain the washed filters of Comparative Examples 1 to 3.
  • the degree of thinness Comparative Example 3 having a high hydrogen peroxide content ratio was the thinnest, and Comparative Example 1 having a low hydrogen peroxide content ratio was darker than Comparative Example 3.
  • Comparative Example 1 After cleaning, the filter was disassembled and observed with an electron microscope. In Comparative Example 1, it was confirmed that deposits remained between the fibers. In Comparative Example 3, the presence of deposits was slightly confirmed.
  • the pressure was reduced to about one third as a result of comparison with the post-use filter. However, as in the example, the feed pressure did not decrease to the extent of a new filter.
  • Comparative Example 4 is a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.
  • the filter after use immersed in the sample cleaning solution of Comparative Example 4 did not change the color of the brown element when immersed for 3 hours as in Comparative Examples 1 to 3. Therefore, as in Comparative Examples 1 to 3, it was allowed to stand for 10 days. After immersion for 10 days, rinsing was performed to obtain a filter after washing.
  • the washed filter of Comparative Example 4 had a lighter element color than the used filter. The color intensity was determined to be the same as in Comparative Example 2.
  • Comparative Examples 5 and 6 are concentrated sulfuric acid.
  • the post-use filter elements immersed in the sample cleaning solutions of Comparative Examples 5 and 6 did not change color in 3 hours. Therefore, it was immersed for 10 days. However, the color of the filter element after use for 10 days was almost unchanged. Considering the result of Comparative Example 4, it was considered that sulfuric acid hardly contributed to the regeneration of the filter after use.
  • Comparative Example 7 is a single acetone. As in Comparative Examples 1 to 6, there was no change in the color of the filter element after use after immersion for 3 hours. Therefore, it was immersed for 10 days. However, there was no change in the color of the elements.
  • Comparative Examples 8 and 9 are TMAH.
  • TMAH is a chemical used at the time of development of etching, and is used when removing the exposed resist. However, even when immersed in TMAH for 10 days, there was no change in the color of the filter element after use. After immersion for 10 days, rinsing was performed and a water flow test was performed, but the pressure was the same as that of the filter after use.
  • Comparative Example 10 is monoethanolamine (MEA). The element color did not change after the MEA was also immersed for 10 days.
  • the cleaning solution for the resist stripping filter according to the present invention can be removed up to the deepest part of the element folded in a bowl and housed in the filter cartridge by simply immersing the filter for several hours after use. Can do.
  • the cleaning solution, cleaning device, and cleaning method for the resist stripping filter of the present invention can be suitably used for regeneration of a filter that filters the resist stripping solution when a positive resist is used.
  • This can be suitably used for general production of FPD such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL.

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Abstract

ポジ型レジストを基板から除去したレジスト剥離液をろ過したフィルタからレジストを除去し、再びろ過フィルタとして再利用できるようにする。洗浄液全量に対して、２．５～１２．５質量％のアンモニアと、洗浄液全量に対して８．８～１７．５質量％の過酸化水素を含有するレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液に、使用後のレジスト剥離液ろ過フィルタを浸漬させておくことで、付着したレジストを除去することができ、レジスト剥離液ろ過フィルタを再利用することができる。

Description

レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法
　本発明は、液晶、有機ＥＬ等のディスプレイデバイスや半導体の製造時に用いるレジスト剥離液をろ過するレジスト剥離液ろ過フィルタを、洗浄するためのレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液と、洗浄装置および洗浄方法に関する。
　液晶や有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）等のＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）製造プロセスにおける、レジスト剥離洗浄工程においては、剥離液中のレジスト析出物、各種の異物が基板に再付着し、製品の歩留まりが悪化するのを防ぐために、剥離装置内に剥離液や洗浄液をろ過するためのフィルタを備えている。
　近年、第８～第１０世代と基板の大型化が進み、かつ、フルＨＤ～４Ｋ２Ｋと高精細化も進んでおり、異物がＴＦＴのパターンに付着することによる不良リスクが、飛躍的に高まっている。
　そこで、フィルタのろ過精度を高める若しくは、ろ過流量を増やすといった対策がなされる。しかし、その結果、フィルタの目詰まりが頻発し、多い場合では、数日のサイクルでフィルタ交換が必要となるケースも生じる場合がある。
　例えば、第８世代以降の大型基板の剥離洗浄装置には、１台あたり通常３個以上のフィルタが設置されており、フィルタ交換が頻発することによる、フィルタのコスト、フィルタ交換の手間及び設備稼働率の低下が工場運用上の大きな課題となる。そこで、目詰まりしたフィルタの再生が考えられる。
　エッチング工程で使用するフィルタの再生という観点では、従来いくつかの提案がされていた。例えば、ＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ　Ｓｃａｌｅ　Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）回路やＴＦＴ製造プロセスにおける窒化シリコン（ＳｉＮｘ）等の絶縁膜のエッチング工程において、エッチング液中に難溶解性のスケールが析出し、エッチング液フィルタが閉塞する。
そのため、エッチング装置を停止することなくフィルタの交換や再生ができる装置が提案されている。
　特許文献１には、エッチング工程で使用するフッ素系エッチング液をろ過するフィルタを、２系統用意し、一方が目詰まりした際には、他方のフィルタに切換え、目詰まりした方のフィルタを洗浄液で洗浄し、再利用する技術が開示されている。
　ここで用いられる洗浄液は、アルキレンポリアミンポリ酢酸又はそのアンモニウム塩若しくはアルカリ金属塩から選択される第１のキレート剤が１～２０重量％と、水酸基を有していてもよいカルボン酸又はそのアンモニウム塩若しくはアルカリ金属塩から選択され且つ第１のキレート剤と異なる第２のキレート剤を１～２０重量％と、洗浄液のｐＨを９～１１にするに足りるアルカリ剤、および水を含有し、第１のキレート剤と第２のキレート剤の合計量が５～３０重量％であるフッ素系スケール除去用洗浄液とされている。
　また、エッチングの際の処理液をろ過するフィルタの再生という観点では、特許文献２もある。特許文献２は、エッチング用の処理液をろ過するフィルタに溜まるパーティクルを薬液で溶解除去する点を開示している。この場合、エッチングされる材料は窒化珪素膜で、エッチングの処理液はリン酸であり、薬液はフッ酸を使用する。
　一方、エッチングにはフォトリソグラフィの技術が使用されるが、その際に使用するレジストの剥離液をろ過するフィルタの洗浄についても、開示された技術がある。特許文献３によれば、まずレジストが残っている基板を、硫酸溶液にオゾン及び／又は過酸化水素が添加された過硫酸溶液で洗浄する。次に洗浄後のレジスト等が含まれた過硫酸溶液からレジスト等をフィルタで分離する。
　このフィルタは２系統設けてあり、一方が目詰まりを起こしたときは、他方に切換えてろ過を続ける。目詰まりを起こした方のフィルタは、まず圧縮空気で過硫酸溶液を排除する。そして、フィルタに超純水を供給し、フィルタに詰まったレジストを除去する。
特開２００５－２５１９３６号公報 特開平０６－３１０４８７号公 特開２００７－２６６４７７号公報
　特許文献１および２は、主に窒化珪素をエッチングしたエッチング液をろ過したフィルタの再生に関するものである。したがって、フィルタを２系統用意し、切り換えながら再生するというフィルタの洗浄装置に関しては知見が得られるとしても、フォトレジストをろ過したフィルタの再生という点では、開示されているとは言えない。
　一方、特許文献３は、エッチング工程で用いられるフォトレジストを含む溶液をろ過したフィルタの再生に係る発明である。しかしながら、基板洗浄に用いているのが、過硫酸溶液であり、この溶液にはレジストは殆ど溶解しないとされている。また、圧縮空気で過硫酸溶液を排除した後、超純水でレジスト残物をフィルタから除去している。
　しかしながら、通常、エッチングが終了した際に基板上に残っているレジストは、レジスト剥離液で溶解して除去する。そのレジスト剥離液をろ過すると、フィルタにはべっとりしたレジスト溶液がろ過残留物として残る。このろ過残留物はフィルタを構成する繊維質に付着する。したがって、特許文献３で開示されているような、超純水で除去できるものではない。
　したがって、特許文献３にも、レジストを基板から除去したレジスト剥離液をろ過したフィルタの再生に関する知見は開示されていないと結論できる。
　本発明は上記の課題に鑑みて想到されたものであり、レジストを基板から除去したレジスト剥離液をろ過したフィルタ（レジスト剥離液ろ過フィルタ）を洗浄し、付着したレジストを除去する洗浄液と、レジスト剥離液ろ過フィルタを洗浄する装置と洗浄方法を提供するものである。
　より具体的に本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液は、
アンモニアと過酸化水素を含むことを特徴とする。
　さらに、前記アンモニアは、前記洗浄液全量に対して、２．５～１２．５質量％含有され、
前記過酸化水素は、前記洗浄液全量に対して８．８～１７．５質量％含有されていることを特徴とする。
　また、本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置は、
　洗浄槽と、
　前記洗浄槽内に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
　前記洗浄槽内に配置されたフィルターカートリッジ接続部と、
　前記フィルターカートリッジ接続部に連結された第１の配管と、
　出水口が前記第１の配管に連結され、入水口には、前記洗浄槽内と連通する第２の配管が連結されたポンプと、
　前記洗浄槽内の洗浄液を冷却する冷却手段と、
　前記洗浄槽に設けられた排気手段を有することを特徴とする。
　また、本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄方法は、
　被洗浄フィルターカートリッジを洗浄液に会合させる会合工程と、
　前記洗浄液を冷却する冷却工程と、
　前記洗浄液と前記被洗浄フィルターカートリッジを乖離させる乖離工程と、
　前記被洗浄フィルターカートリッジをリンス液で洗浄するリンス工程を有することを特徴とする。
　本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液は、現像後のポジ型レジストを基板から剥離させるレジスト剥離液をろ過するフィルタに付着したレジストを溶解・除去することができる。そのため、使用後のレジスト剥離液ろ過フィルタを廃棄するのではなく、再生して使用することができる。
　また、本発明に係る洗浄液は、使用後のレジスト剥離液ろ過フィルタを浸漬させておくだけで、襞状のエレメントの奥に付着したレジストまで除去することができる。
　また、本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄装置は、本発明に係る洗浄液で使用後フィルタを洗浄する際に、発生する熱と泡に対して、冷却手段、消泡手段および排気手段を有するので、安全に洗浄を行うことができる。
　また、攪拌手段を有することで、単に浸漬させ放置する場合よりも素早く洗浄を終えることができる。
本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置の構成を示す図である。 洗浄槽内のフィルターカートリッジ接続部に使用後フィルタを設置して、洗浄液を導入している状態を示す図である。 使用後フィルタが完全に洗浄液に浸漬され洗浄されている状態を示す図である。 洗浄液による洗浄が終了し、洗浄槽から洗浄液を排出している状態を示す図である。 純水を洗浄槽に導入し、リンス工程を行っている状態を示す図である。 実施の形態２に係るレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置の構成を示す図である。 使用後フィルタが、洗浄液中に浸漬された会合工程を示す図である。 洗浄液による洗浄の後、第１リンス槽でリンス工程が行われている状態を示す図である。 第２リンス槽でリンス工程が行われている状態を示す図である。 （ａ）通水性を調べるための評価治具の構成と、（ｂ）計測結果例を示す図である。
　以下本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法について説明する。なお、以下の説明は本発明に係るフォトレジスト剥離液の一実施形態を示すものであり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、以下の実施形態および実施例は改変されてもよい。
　（実施の形態１）
　図１に本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄装置（以下単に「洗浄装置」と呼ぶ。）を示す。洗浄装置１は、洗浄槽１０と、フィルターカートリッジ接続部１２と、ポンプ１４と、洗浄液供給手段１６と、泡排出手段２０と、排気手段２２を含む。また、制御器３０を有していてもよい。図１では、フィルターカートリッジ接続部１２が、３つある場合を示している。
　洗浄槽１０は、内部に使用後のレジスト剥離液ろ過フィルタ（以後単に「使用後フィルタ」ともいう。）を配置し、洗浄液で使用後フィルタ９（図２参照）に付着したレジストを除去する槽である。洗浄槽１０には、ドレイン１０ｅと、泡排出手段２０が設けられている。ドレイン１０ｅは洗浄槽１０内の溶液を排出する排水経路である。ドレインバルブ１０ｅｖが設けられている。ドレインバルブ１０ｅｖは外部からの指示ＣＶ１０ｖによって開閉が制御されるように構成されるのが好ましい。
　泡排出手段２０は、洗浄槽１０の上方側面に設けられた排出口である。洗浄槽１０で用いる洗浄液は後述するように過酸化水素とアンモニアの混合溶液である。この洗浄液で使用後フィルタを洗浄すると、発熱し発泡する。そこで、泡排出手段２０によって、この泡を洗浄槽１０から排出する。泡排出手段２０は、洗浄槽１０の上部側面に形成された貫通孔であってもよい。
　泡排出手段２０を貫通孔で構成した場合は、この貫通孔まで洗浄液の液面が上がり、洗浄液をオーバーフローさせながら泡を排出することができる。したがって、この貫通孔は、洗浄槽１０中に配置させる使用後フィルタが完全に洗浄液に浸漬する液面以上の位置に設けるのが好適である。
　また、泡排出手段２０は、洗浄槽１０の上部から泡を吸引除去する構成であってもよい。また、洗浄槽１０の上面を開口させ、周囲にさらにオーバーフロー槽（図示せず）を設け、洗浄槽１０の上端から洗浄液をオーバーフローさせて、泡を排出する構成であってもよい。
　洗浄槽１０には、排気手段２２も設けられる。洗浄液は過酸化水素を含有するため、レジストを溶解する際に多量の酸素を放出する。したがって、引火等には注意が必要だからである。洗浄槽１０の上端を開放しておくことでよいが、洗浄槽１０の上方で吸引ファンを回し、強制的に排出するのが望ましい。
　また洗浄槽１０には温度センサ２８が設けられているのが望ましい。洗浄液が使用後フィルタに付着したレジストを溶解する際には、反応熱が発生し、洗浄液の温度が上昇する。そのため後述する冷却手段２４を動作させる。したがって温度センサ２８による洗浄液の温度測定は、冷却手段２４の動作の有無および動作の効果に関する情報を得ることができる。なお、温度センサ２８は測定した温度を信号Ｓｔによって外部（後述する制御器３０）に送信することができるように構成されるのが望ましい。
　また、洗浄槽１０には、液面センサ２７が設けられるのが望ましい。洗浄槽１０内の液面を検出することで、洗浄液の入出および純水の入出を制御することができるからである。
　洗浄槽１０内には、使用後フィルタをセットするための、フィルターカートリッジ接続部１２が設けられる。フィルターカートリッジ接続部１２は、レジスト剥離液ろ過フィルタの接続口に嵌合する洗浄液噴出口である。洗浄対象となる使用後フィルタの接続口に合わせて形成される。フィルターカートリッジ接続部１２は、洗浄槽１０中に複数個配置されてよい。
　フィルターカートリッジ接続部１２には、第１の配管１１ａが連結される。第１の配管１１ａは、洗浄槽１０の外側にあるポンプ１４の出水口１４ｏと連結される。第１の配管１１ａの取り回しは特に限定されるものではない。洗浄槽１０の側面に液密な貫通孔を設け、その液密な貫通孔から洗浄槽１０の外に延設してもよい。第１の配管１１ａを通って供給される液体は、フィルターカートリッジ接続部１２から噴出される。
　第１の配管１１ａとポンプ１４の間には、圧力センサ（図１では「ＰＩ」と表示する。
）２６が設けられる。圧力センサ２６の形式は特に限定されない。なお、圧力センサ２６は現在測定した圧力の値を外部に信号Ｓｐとして送信できる機能を有しているのが望ましい。
　ポンプ１４の入水口１４ｉには第２の配管１１ｂが連結される。第２の配管１１ｂの他方の開口は、洗浄槽１０の底部に配置される。洗浄槽１０内の洗浄液の液面が低い場合でも、洗浄液を汲み上げることができるからである。ポンプ１４は外部からの指示Ｃｐによって運転の開始・停止また供給量の調節などが行えるように構成するのが望ましい。
　洗浄装置１は、洗浄液の冷却手段２４を有するのが望ましい。図では、「ＨＥＸ」と記した。過酸化水素を含む洗浄液は、発熱発泡するからである。冷却手段２４は、第１の配管１１ａ若しくは、第２の配管１１ｂに設けることができる。冷却手段２４の形態は特に限定されない。図１では、第２の配管１１ｂに冷却手段２４を設けた構成を示した。図１の冷却手段２４は、熱交換器を表している。冷却水が供給口２４ｉに供給されると、第２の配管１１ｂとの間で熱交換が行われ、熱を受け取った冷却水が排出口２４ｏから排出される。
　なお、冷却手段２４は、例えば、洗浄槽１０の側面の周囲に冷却パイプを配置した構造若しくは、洗浄槽１０の内部に直接冷却パイプを配設した構造であってもよい。また、冷却手段２４は外部からの指示Ｃｔｍによって冷却効率を調整できるものであってもよい。
　洗浄液供給手段１６は、洗浄槽１０の外部から洗浄液を洗浄槽１０に供給する。洗浄液供給のための供給配管１６ａと、開閉バルブ１６ｂで構成することができる。供給配管１６ａの上流には図示しない洗浄液タンクが配置されている。なお、開閉バルブ１６ｂは外部からの指示ＣＶ１６ｂによって開閉可能に構成されているのが望ましい。
　純水供給手段１７は、洗浄槽１０の外部から純水を洗浄槽１０に供給する。純水供給手段１７は、純水供給のための供給配管１７ａと、開閉バルブ１７ｂで構成することができる。供給配管１７ａの上流には図示しない純水タンクが配置されている。なお、開閉バルブ１７ｂは、外部からの指示ＣＶ１７ｂによって開閉可能に構成されているのが望ましい。
　また、洗浄槽１０には、シャワー手段１８が設けられていてもよい。シャワー手段１８は、洗浄液を洗浄槽１０の液面若しくは洗浄槽１０中に配置されたレジスト剥離液ろ過フィルタに散布する。特にシャワー手段１８は、洗浄槽１０の洗浄液の液面に発生する泡を消泡する場合に有効である。
　シャワー手段１８は、供給配管１８ａ、開閉バルブ１８ｂ、散水口１８ｃで構成することができる。なお、供給配管１８ａは、洗浄液供給手段１６の供給配管１６ａと兼用することもできる。同じ洗浄液を流すからである。また、開閉バルブ１８ｂは、外部からの指示ＣＶ１８ｂによって開閉可能に構成されているのが望ましい。
　また、全体の動作を制御する制御器３０が設けられていてもよい。制御器３０は、ポンプ１４、冷却手段２４、圧力センサ２６、液面センサ２７、温度センサ２８、開閉バルブ１６ｂ、１７ｂ、１８ｂ、ドレインバルブ１０ｅｖと接続される。そして、制御器３０は、ポンプ１４、冷却手段２４、開閉バルブ１６ｂ、１７ｂ、１８ｂ、ドレインバルブ１０ｅｖに対して、指示信号Ｃｐ、Ｃｔｍ、ＣＶ１６ｂ、ＣＶ１７ｂ、ＣＶ１８ｂ、ＣＶ１０ｖの信号を送信し、その動作を制御する。
　また、圧力センサ２６、液面センサ２７、温度センサ２８からは、信号Ｓｐ、ＳＬ、Ｓｔを受信する。
　以上の構成を有する洗浄装置１の動作について説明する。まず、洗浄槽１０内は、洗浄液がない状態である。つまり、前回の洗浄後、洗浄槽１０内の溶液はドレイン１０ｅを介して排出してある。また、純水供給手段１７の開閉バルブ１７ｂ、洗浄液供給手段１６の開閉バルブ１６ｂ、シャワー手段１８の開閉バルブ１８ｂ、ドレイン１０ｅのドレインバルブ１０ｅｖは閉じている。
　このような状態で、被洗浄物である使用後フィルタ９は、フィルターカートリッジ接続部１２に取り付けられる（図２参照）。この後、操作者は、制御器３０に指示を出してもよいし、自身の手で各操作を行ってもよい。以後の説明は制御器３０が処理を行うとして説明を行う。
　制御器３０は、開閉バルブ１６ｂに対して指示ＣＶ１６ｂを送信し、開閉バルブ１６ｂを開く。開閉バルブ１６ｂが開くと、洗浄液が供給配管１６ａを通って流れ、洗浄槽１０中に注入される。ここで、使用後フィルタ９は、洗浄液と会合する（会合工程）。なお、洗浄液は後述する実施例に示すように、過酸化水素とアンモニアの混合溶液である。また、図２では、閉じた開閉バルブ１７ｂ、１８ｂ、１０ｅｖは黒で塗りつぶした。
　洗浄液が洗浄槽１０の下部に配置される第２の配管１１ｂの開口部より高い液面になったら、制御器３０は、ポンプ１４に対して指示Ｃｐを送信し、ポンプ１４を稼動させる。
なお、洗浄液の液面は、液面センサ２７からの信号ＳＬによって、制御器３０は知ることができる。
　ポンプ１４が作動すると、洗浄槽１０内の洗浄液が第２の配管１１ｂに吸引され、ポンプ１４の入水口１４ｉに吸引される。洗浄液はポンプ１４の出水口１４ｏから第１の配管１１ａを介して洗浄槽１０内のフィルターカートリッジ接続部１２に供給される。そして洗浄液は、使用後フィルタ９の中から外に向かって噴出する。この際、使用後フィルタ９に付着しているレジストが、洗浄液に溶解される。これは洗浄液を攪拌する工程（撹拌工程）といっても良い。
　洗浄液は、レジストを溶解する際に、発熱反応を生じ、温度が上昇する。制御器３０は、温度センサ２８からの信号Ｓｔによって、洗浄液の温度を監視する。そして、予め決められた温度以上になったら、冷却手段２４に冷却の指示Ｃｔｍを送信する。冷却手段２４は、ポンプ１４と第１の配管１１ａおよび第２の配管１１ｂで循環している洗浄液を所定の温度に冷却する（冷却工程）。
　洗浄液は、発熱反応によって温度が高くなる。使用後フィルタ９に付着したレジストを溶解するには、洗浄液はある程度温度が高い方が良い。しかし、高くなりすぎると使用後フィルタ９の素材が耐えられなくなる。洗浄液は、５０℃乃至７０℃程度が好適である。
　洗浄槽１０の液面が高くなり、泡排出手段２０のレベルまで到達すると、洗浄液はオーバーフローする（図３参照）。また、洗浄液の温度が高くなると発泡する。したがって、洗浄液の液面が泡排出手段２０のレベルまで到達したら、制御器３０は開閉バルブ１８ｂに指示ＣＶ１８ｂを送り、シャワー手段１８を作動させる（消泡工程）。シャワー手段１８は、洗浄液の液面上方から洗浄液を散布し消泡する。また、洗浄液が泡排出手段２０からオーバーフローする際に泡も共に排除される（排泡工程）。なお、消泡工程は液面が泡排出手段２０のレベルに到達する前に作動させてもよい。
　制御器３０は、ポンプ１４を稼動させた後は、圧力センサ２６からの信号Ｓｐをモニタする。そして、洗浄液の循環は、圧力センサ２６の圧力（洗浄液の送圧）が所定の圧力以下になるまで継続する。レジストが付着している間は、洗浄液の送圧は高い。しかし、レジストが溶解し使用後フィルタ９から除去されると、洗浄液の送圧は低くなる。
　制御器３０は、洗浄液の送圧が所定の値以下になったら、シャワー手段１８、ポンプ１４および冷却手段２４を停止させる。そして、指示ＣＶ１０ｖを送り、ドレインバルブ１０ｅｖを開く。これで、洗浄槽１０内の洗浄液は、排出される（図４参照）。これは洗浄液とレジスト剥離液ろ過フィルタの乖離工程といえる。
　制御器３０は、洗浄槽１０から洗浄液が排出されたら、ドレインバルブ１０ｅｖを閉じ、指示ＣＶ１７ｂを送信し、開閉バルブ１７ｂを開く。開閉バルブ１７ｂが開くと、供給配管１７ａを通って、洗浄槽１０内に純水が導入される（図５参照）。
　純水の水面が第２の配管１１ｂの洗浄槽１０内の開口より上になったら、制御器３０は、ポンプ１４を始動させる。洗浄槽１０内の純水は、ポンプ１４から使用後フィルタ９の内側から外側に噴出する。この操作で使用後フィルタ９のリンス（すすぎ洗い）を行う（リンス工程）。リンス工程では、あらかじめ決めておいた所定時間の間、ポンプ１４を稼働させ、純水を使用後フィルタ９に通液させる。また、リンス工程では、ポンプ１４からの送圧をチェックしなくてもよい。すでにレジストは溶解されているので、流れ抵抗は低くなっているからである。
　所定時間の純水の通液が終了したら、制御器３０はポンプ１４を停止させ、ドレインバルブ１０ｅｖを開き、純水を排出する。なお、リンス工程は、複数回行ってもよい。以上の操作によって、使用後フィルタ９に付着したレジストは溶解され、使用後フィルタ９は再使用可能になる。洗浄後のレジスト剥離液ろ過フィルタを洗浄後フィルタと呼ぶ。
　なお、リンス行程を複数回行う場合は、洗浄槽１０の水位が泡排出手段２０のレベルまで到達したら純水の供給を止めて、所定時間通液させる。その後洗浄槽１０の純水を排出し、リンス行程を複数回繰り返す。リンス行程が１回の場合は純水をオーバーフローさせながら行っても良い。もちろん複数回リンス工程を行う場合でも各工程で純水をオーバーフローさせてもよい。
　（実施の形態２）
　図６に、本実施の形態に係るレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置２の構成を示す。実施の形態１の場合は、１つの洗浄槽１０で洗浄液による洗浄とリンスを行っているので、洗浄とリンスが終了しなければ、次の使用後フィルタ９の洗浄を始めることができない。
本実施の形態では、洗浄液で洗浄する槽とリンスを行う槽を別々に用意する。
　本実施の形態に係るレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置２は、洗浄槽４０とリンス槽４２、４４を有する。このように、洗浄槽４０とリンス槽４２、４４を別々に有することで、使用後フィルタ９を流れ作業的に洗浄し、再生可能にすることができる。なお、本実施の形態ではリンス槽が２つの場合について説明するが、リンス槽の数は１つでもよいし、３つ以上あってもよい。
　使用後フィルタ９は、洗浄籠８に入れられて、洗浄槽４０、リンス槽４２、４４を移動する。つまり、実施の形態１では、使用後フィルタ９に通液する液体の種類を変えたが、本実施の形態では使用後フィルタ９自身が、移動する。なお、洗浄籠８は、移動装置５０によって移動される。移動装置５０は、例えば、レール５１と、巻き上げ滑車５２と、チャック５３で構成されるクレーン等が好適に使用できる。
　洗浄槽４０には、ドレイン４０ｅ、ドレインバルブ４０ｅｖ、泡排出手段２０、シャワー手段１８、洗浄液供給手段１６、ポンプ１４、第２の配管１１ｂ、排気手段２２、冷却手段２４、圧力センサ２６、温度センサ２８が設けられている。しかし、フィルターカートリッジ接続部１２は有していない。したがって、第１の配管１１ａは、洗浄槽４０内に連通するだけで、フィルターカートリッジ接続部１２に連通してはいない。
　リンス槽４２、４４は、第１リンス槽４２、第２リンス槽４４とする。第１リンス槽４２と第２リンス槽４４は、同じ構成であるので、第１リンス槽４２で説明する。第１リンス槽４２は、ドレイン４２ｅ、ドレインバルブ４２ｅｖを有する。また、純水供給手段４１を有している。純水供給手段４１は、供給配管４１ａと開閉バルブ４１ｖで構成されている。開閉バルブ４１ｖは、外部からの指示ＣＶ４１ｖで開閉できるように構成されるのが望ましい。
　また、第１リンス槽４２は、オーバーフロー手段４２ｏｖと、曝気手段４３を有していてもよい。オーバーフロー手段４２ｏｖは、リンス用の純水を入れ替えるための廃水手段である。第１リンス槽４２の上方側面に穿設された貫通孔であってよい。
　また、曝気手段４３は、散気管４３ａ、空気配管４３ｂ、開閉バルブ４３ｖで構成される。散気管４３ａは、使用後フィルタ９が入った洗浄籠８の下側になるように配置される。空気配管４３ｂは、図示しない圧縮エア源から延設されてくる。空気配管４３ｂの途中には、開閉バルブ４３ｖが設けられている。すなわち、開閉バルブ４３ｖが開くと、圧縮空気が散気管４３ａから放出される。開閉バルブ４３ｖは外部からの指示ＣＶ４３ｖによって開閉可能に構成されるのが望ましい。
　第２リンス槽４４も第１リンス槽４２と同様の部品で構成されていてよい。したがって、ドレイン４４ｅ、ドレインバルブ４４ｅｖ、純水供給手段４７、オーバーフロー手段４４ｏｖ、曝気手段４５を有している。
　また、レジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置２は、洗浄槽４０から第１リンス槽４２へ、第１リンス槽４２から第２リンス槽４４へ、洗浄籠８を移送する移動装置５０が配置される。この移動装置５０は、洗浄籠８を最初の載置場所から洗浄槽４０内へ配置させることができる。
　また、洗浄槽４０から第１リンス槽４２へ、第１リンス槽４２から第２リンス槽４４へ、さらに、第２リンス槽４４から次の工程若しくは次の工程への移送パレット（図示せず）上に載置することができる。なお、移動装置５０の巻き上げ滑車５２と、チャック５３の上げ下げおよび把持・開放は、外部からの指示Ｃｍによって制御されるようにしてもよい。
　また、レジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置２は制御器３２を有していてもよい。制御器３２は、洗浄籠８の各槽への移動と、各槽毎の滞留時間、各槽への溶液供給量の管理を行う。
　以上の構成を有するレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置２の動作について説明する。
図７を参照して、洗浄槽４０内は、洗浄液に満たされていてもよい。使用後フィルタ９は、洗浄籠８に入れられ、洗浄槽４０に漬けられるからである。
　制御器３２は、移動装置５０に指示Ｃｍ（図６参照）を送信し、最初の載置場所から洗浄籠８を１つ取得させ、洗浄槽４０に浸漬させる（会合工程）。なお、洗浄籠８の中には、洗浄対象となる使用後フィルタ９が、入れられているのは、いうまでもない。
　制御器３２は、ポンプ１４を稼働させ、洗浄槽４０内の洗浄液を循環させる（攪拌工程）。洗浄籠８中の使用後フィルタ９が洗浄液と会合すると、洗浄液が付着したレジストを溶解する。なお、後述する実施例でも示すように、本発明に係る洗浄液は、使用後フィルタ９が浸漬されるだけで、付着したレジストを除去することができる。したがって、攪拌工程は必ずしもなくてもよい。
　使用後フィルタ９が洗浄液に浸漬されると、発熱と発泡が生じる。したがって、制御器３２は、洗浄槽４０の温度センサ２８の温度を検知して、所定の温度より高くなった場合は、冷却手段２４を稼働させ、洗浄液の冷却を行う（冷却工程）。
　また、発泡するので、シャワー手段１８を稼働させ、洗浄槽４０中の泡を消泡してもよい（消泡工程）。なお、排気手段２２は常に作動させておくのがよい。本実施の形態では、洗浄液による洗浄は、予め決めておいた所定時間だけ継続させる。
　したがって、所定時間の洗浄が終了したら、制御器３２は、移動装置５０に指示Ｃｍ（図６参照）を送信し、洗浄籠８を洗浄槽４０から第１リンス槽４２に移送する（図８参照）。第１リンス槽４２では、洗浄籠８が水に浸漬される（リンス工程）と、曝気手段４３を稼動させる。具体的には、制御器３２が、開閉バルブ４３ｖに指示ＣＶ４３ｖ（図６参照）を送信し、散気管４３ａに空気を送る。曝気手段４３の稼動によって、洗浄籠８にエアで衝撃が与えられる（曝気工程）。
　このエアの衝撃によって、使用後フィルタ９は洗浄籠８の中で振動し、洗浄液の除去が促進される。この第１リンス工程も所定の時間行われる。なお、この間、純水供給手段４１から所定量の純水を第１リンス槽４２に供給し、オーバーフロー手段４２ｏｖから純水を排出させるようにしてもよい。これは、一定量の純水を入れ替えるためである。
　制御器３２は、所定の時間第１リンス工程をおこなったら、移動装置５０に指示Ｃｍ（図６参照）を送信し、洗浄籠８を第２リンス槽４４に移送させる（図９参照）。第２リンス槽４４でも、曝気手段４５を稼働させ、圧縮空気で使用後フィルタ９に衝撃を与えながら、すすぎを行う。第２リンス工程も予め決められた所定時間行う。また、純水供給手段４７によって所定量の純水を第２リンス槽４４に供給し、オーバーフロー手段４４ｏｖからあふれさせるようにし、第２リンス槽４４中の純水を入れ替えるようにしてもよい。
　第２リンス槽４４でのリンス工程が終了したら、制御器３２は、移動装置５０に指示Ｃｍを送信し、洗浄籠８の中のレジスト剥離液ろ過フィルタを乾燥させる所定位置に移送させる。洗浄後のレジスト剥離液ろ過フィルタを洗浄後フィルタと呼ぶ。
　なお、リンス槽を本実施の形態のように複数用意した場合は、各リンス槽への純水の供給量は同じでなくてもよい。具体的に本実施の形態の場合は、第１リンス槽４２への純水供給量と、第２リンス槽４４への純水供給量は、同じでなくてもよい。例えば、第１リンス槽４２への純水供給量は、第２リンス槽４４への純水供給量より少なくしてもよい。
　複数のリンス槽を有することで、第１リンス槽４２のリンス用純水が多少洗浄液が混じっていても、洗浄液を除去するという効果は確保される。一方、第１リンス槽４２への純水供給量を減らせれば、コスト削減が可能だからである。
　また、図７から図９は１つの洗浄籠８が順次各槽を移動するように説明をしたが、洗浄籠８が移動した後の槽には次の洗浄籠８を入れても良い。例えば、図６では、３つの槽にそれぞれ洗浄籠８が浸漬されている様子を示している。
　以上のように本実施の形態に係るレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置２は、レジストが付着したレジスト剥離液ろ過フィルタからレジストを溶解除去し、再度使用できるようにする。
　以下にレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液の実施例を説明する。レジスト剥離液ろ過フィルタは、ポリプロピレン製で直径が数μｍから数十μｍの繊維でできたものである。
レジストは、ポジ型レジストである。ポジ型レジストは、ＦＰＤや有機ＥＬのエッチングに多用されている。樹脂成分としてノボラック系樹脂が使用され、溶解防止剤としてジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）等の感光性物質が使用されている。
　レジスト剥離液ろ過フィルタは、直径が数μｍから数十μｍのポリプロピレン（ＰＰ）
の繊維を束ねて襞状のエレメントに構成したものである。ろ過精度（ろ過で濾し取れる異物の大きさ）は１０μｍとされている。外形は、直径１３０ｍｍ、長さ２５０ｍｍである。側面には３０×５０ｍｍ四方の格子が形成されたＰＰ製のフィルターカートリッジに、入れられている。フィルターカートリッジの一方の端部には、配管接続用のフランジ付開口（直径５０ｍｍ）が設けられている。
　レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄効果を評価するためには、フィルターカートリッジに通液し、所定流量におけるフィルターカートリッジ前後の静圧差を測定するのが一般的である。しかし、フィルターカートリッジそのものは２００Ｌ／ｍｉｎもの大流量を処理するものであり、洗浄評価実験で実スケールのフィルターカートリッジそのものを評価するためには装置が大型化する。また、装置が大型化すると、薬液やエネルギーの消費量が大きく、コスト、手間、安全、環境負荷などの面から実用的とはいえない。したがって、ろ過フィルタの通水性を評価するための評価治具が必要となる。
　図１０（ａ）には、ろ過フィルタの通水性を評価するための評価治具６０の構成を示す。評価治具６０は、純水供給源６７、フィルタホルダー６２、１次側配管６６ａ、２次側配管６６ｂ、手動バルブ６３、流量計６４、ブルドン管圧力計６５を含む。
　測定対象のろ過フィルターは、フィルターカートリッジが分解され、ろ材部分（エレメント）が取り出され、φ４７ｍｍの円形に切り出され、実験用のフィルター小片６１とされた。このフィルター小片６１をメルクミリポア（株）製Ｉｎ－Ｌｉｎｅ　ＦｉｌｔｅｒＨｏｌｄｅｒ，４７ｍｍ（フィルタホルダー６２と呼ぶ）にセットした。フィルタホルダー６２の１次側６２ａは、純水供給源６７に連通された。またフィルタホルダー６２の２次側６２ｂは、大気開放状態とした。純水供給源６７は、大気圧より０．３ＭＰａ高い圧力で純水が供給される。なお、以下の圧力表示はすべて大気圧を基準（０ＭＰａ）として示す。
　フィルタホルダー６２の１次側６２ａの配管６６ａには流量調整用の手動バルブ６３、流量測定用の流量計６４、圧力測定用のブルドン管圧力計６５を設置した。尚、フィルタホルダー６２の２次側６２ｂの配管６６ｂの吐出口６６ｂｘは、２次側配管６６ｂ内が純水で満たされるようにするため、フィルタホルダー６２よりも重力方向上側となるように配置されている。１次側配管６６ａは通常の水道用の塩ビ管やＳＵＳ配管を用い、２次側配管６６ｂは軟質塩ビホースを用いた。
　評価は以下の手順で行った。上記の評価治具６０のフィルタホルダー６２に、評価対象となるフィルタのエレメントから作成されたフィルター小片６１を挟持させた。フィルター小片６１は１次側配管６６ａと２次側配管６６ｂとの間で液密に保持される。手動バルブ６３を開いて、純水を流す。そして、流量Ｑを流量計６４からまた、圧力ΔＰをブルドン管圧力計６５から読み取る。この評価治具６０によるフィルター小片６１の検査を「通水検査」と呼ぶ。
　図１０（ｂ）に通水検査の結果として流量Ｑと圧力ΔＰとの関係をプロットしたグラフを例示する。横軸は流量Ｑであり、縦軸は圧力ΔＰである。新品フィルタのΔＰ－Ｑの関係がライン７２で表されるとすると、使用後フィルタのΔＰ－Ｑの関係は、ライン７０のようになる。したがって、洗浄後フィルタのΔＰ－Ｑの関係がライン７２に近似すれば、フィルタを再生利用することができると言える。
　より具体例を示すと、新品の状態のレジスト剥離液ろ過フィルタ（以後「新品フィルタ」と呼ぶ。）は、毎分６００ｍｌの純水を流すのに、０．００５ＭＰａの送圧である。一方、レジスト剥離液をろ過して交換された時の使用後フィルタでは、毎分５００ｍｌの純水を流すのに、０．０５８ＭＰａの送圧が必要になる。すなわち、使用後のレジスト剥離液ろ過フィルタは、新品と比較して１桁送圧が高くなっている。
　以下の要領で本発明に係る洗浄液の効果を確認した。本発明に係る洗浄液（６水準）と比較例の洗浄液（１０水準）に対して、使用後フィルタを所定時間浸漬させ、エレメントの色の変化を目視で確認した。また、洗浄後に純水による通水性を通水検査で確認した。
また、いくつかの洗浄後フィルタに関しては、フィルターカートリッジを分解し、襞状のエレメントを取り出し、目視、電子顕微鏡観察およびＩＲ吸光度分析を行った。
　実施例および比較例の洗浄液（以後「サンプル洗浄液」とも呼ぶ。）組成を表１に示す。また、各組成における使用後フィルタの洗浄可能性についての判定も記す。なお、判定は、実用上使用できると判断できる場合を「○」（丸）で表し、洗浄は可能であるが、実用上使用は困難と判断できる場合を「△」（三角）で表し、洗浄は可能とはいえない場合を「×」（バツ）で表した。なお、実用上使用できるとは、使用後フィルタから付着したレジストを、数時間で除去することができる場合をいう。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１を参照して、実施例は、アンモニア水と過酸化水素水から調製した。２５質量％のアンモニア水と、３５質量％の過酸化水素水および純水を適量に混合することで、所定の組成比の洗浄液を作製した。例えば、実施例１の洗浄液では、アンモニア２．５質量％、過酸化水素１７．５質量％の組成比とした。
　一方、比較例を見ると、以下のようである。
比較例１の洗浄液は、８．８質量％の濃度の過酸化水素水である。
比較例２の洗浄液は、１７．５質量％の濃度の過酸化水素水である。
比較例３の洗浄液は、３５．０質量％の濃度の過酸化水素水である。
比較例４の洗浄液は、硫酸が５．０質量％であり、過酸化水素が１７．５質量％の比率の混合液である。
比較例５の洗浄液は、６８．０質量％の硫酸である。
比較例６の洗浄液は、９６．０質量％の硫酸である。
比較例７の洗浄液は、９９．８質量％のアセトンである。
比較例８の洗浄液は、２．５質量％のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）である。
比較例９の洗浄液は、２５質量％のＴＭＡＨである。
比較例１０の洗浄液は、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）である。
　各サンプル洗浄液が４Ｌ入った容器を用意し、使用後フィルタをサンプル洗浄液に浸漬させた。
　実施例１～６のサンプル洗浄液では、３時間の浸漬後、純水ですすぎ、目視検査を行うと、全ての場合で、洗浄後フィルタは白色になった。これらの洗浄後フィルタを解体し、襞状のエレメントを詳細に観察したが、茶色に残っている部分はなかった。電子顕微鏡による観察でも、繊維間に異物の残留は認められなかった。
　また、通水検査をおこなってみたが、新品フィルタと同じ通水圧であった。さらに、ＩＲ吸光度を調べてみたが、ノボラック樹脂や感光後の感光剤由来物質（インデンカルボン酸）の特性ピークは観測されなかった。なお、浸漬させてから４０分ほど経過すると激しく発泡し、洗浄液の温度も６０℃まで上昇していた。
　比較例１乃至３は、濃度が異なる過酸化水素水である。これらのサンプル洗浄液中に浸漬させた使用後フィルタは、３時間では茶色の色が落ちることはなかった。そこで、継続して１０日浸漬させておいた。１０日の浸漬後、純水ですすぎを行い比較例１乃至３の洗浄後フィルタを得た。目視観察を行ったところ、薄く茶色は残っているものの、使用後フィルタと比較すると、かなり薄い茶色になっていた。薄さの程度は、過酸化水素の含有比率の高い比較例３が最も薄く、過酸化水素の含有比率の低い比較例１は比較例３と比べると、濃かった。
　洗浄後フィルタを解体し、電子顕微鏡で観察したところ、比較例１の場合は、繊維の間に付着物が残っているのが確認された。比較例３は、わずかに付着物の存在を確認した程度であった。通水検査を行ってみると、使用後フィルタの場合と比較した結果、３分の１程度に送圧が低くなっていた。しかし、実施例のように、新品フィルタ程度に送圧が低下することはなかった。
　比較例４は、硫酸と過酸化水素の混合液である。比較例４のサンプル洗浄液に浸漬させた使用後フィルタは、比較例１乃至３同様に３時間での浸漬では、茶色いエレメントに色の変化はなかった。そこで、比較例１乃至３同様に、１０日間放置してみた。１０日の浸漬後、すすぎを行い洗浄後フィルタを得た。比較例４の洗浄後フィルタは、使用後フィルタと比べると、エレメントの色は薄くなっていた。色の濃さは、比較例２と同じ程度と判断された。
　比較例５および６は、濃硫酸である。比較例５および６のサンプル洗浄液に浸漬させた使用後フィルタのエレメントは、３時間では色の変化はなかった。そこで、１０日間浸漬させておいた。しかし、１０日間浸漬させた使用後フィルタのエレメントの色は、ほとんど変化なかった。比較例４の結果を考慮すると、硫酸は使用後フィルタの再生へほとんど寄与しないと考えられた。
　比較例７は、単独のアセトンである。比較例１乃至６同様、３時間の浸漬では使用後フィルタのエレメントの色に変化はなかった。そこで１０日の間、浸漬させておいた。しかし、エレメントの色に変化はなかった。
　比較例８および９はＴＭＡＨである。ＴＭＡＨは、エッチングの現像時に用いる薬品で、感光させたレジストを除去する際に使用する。しかし、ＴＭＡＨに１０日間浸漬させた場合でも、使用後フィルタのエレメントの色に変化はなかった。１０日間の浸漬後、すすぎを行い、通水検査を行ったが、使用後フィルタと同じ送圧であった。
　比較例１０は、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）である。ＭＥＡも１０日間浸漬させた後も、エレメントの色は変化しなかった。
　以上のように、レジスト剥離液ろ過フィルタから付着物を除去し、新品同様に再生させるには、アンモニアと過酸化水素を含む洗浄液が有効であることがわかった。比較例１乃至３で示されたように、過酸化水素水であっても一定の効力はあると考えられるが、付着物の除去に１０日もかかるのであれば、レジスト剥離液ろ過フィルタの交換サイクルに間に合わない場合もある。したがって、過酸化水素水単独では、有効であるとはいえない。
　また、本発明に係るレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液は、使用後フィルタを数時間浸漬させておくだけで、襞状に折りたたまれフィルターカートリッジに収納されたエレメントの最深部の付着物まで除去することができる。
　本発明のレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法は、ポジ型レジストを用いた場合のレジスト剥離液をろ過するフィルタの再生に好適に利用することができる。これは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬなどＦＰＤの製造一般に好適に利用することができる。
１、２　レジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置
８　洗浄籠
９　使用後フィルタ
１０　洗浄槽
１０ｅ　ドレイン
１０ｅｖ　ドレインバルブ
１１ａ　第１の配管
１１ｂ　第２の配管
１２　フィルターカートリッジ接続部
１４　ポンプ
１４ｉ　入水口
１４ｏ　出水口
１６　洗浄液供給手段
１６ａ　供給配管
１６ｂ　開閉バルブ
１７　純水供給手段
１７ａ　供給配管
１７ｂ　開閉バルブ
１８　シャワー手段
１８ａ　供給配管
１８ｂ　開閉バルブ
１８ｃ　散水口
２０　泡排出手段
２２　排気手段
２４　冷却手段
２４ｉ　（冷却水の）供給口
２４ｏ　（冷却水の）排出口
２６　圧力センサ
２７　液面センサ
２８　温度センサ
３０、３２　制御器
４０　洗浄槽
４０ｅ　ドレイン
４０ｅｖ　ドレインバルブ
４１　純水供給手段
４１ａ　供給配管
４１ｖ　開閉バルブ
４２　第１リンス槽
４２ｅ　ドレイン
４２ｅｖ　ドレインバルブ
４２ｏｖ　オーバーフロー手段
４３　曝気手段
４３ａ　散気管
４３ｂ　空気配管
４３ｖ　開閉バルブ
４４　第２リンス槽
４４ｅ　ドレイン
４４ｅｖ　ドレインバルブ
４４ｏｖ　オーバーフロー手段
４５　曝気手段
４７　純水供給手段
５０　移動装置
５１　レール
５２　巻き上げ滑車
５３　チャック

Claims (13)

  1. 　被洗浄フィルターカートリッジを洗浄液に会合させる会合工程と、
    　前記洗浄液を冷却する冷却工程と、
    　前記洗浄液と前記被洗浄フィルターカートリッジを乖離させる乖離工程と、
    　前記被洗浄フィルターカートリッジをリンス液で洗浄するリンス工程を有することを特徴とするレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄方法。
  2. 　前記会合工程の後に前記洗浄液を攪拌する攪拌工程を有することを特徴とする請求項１に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄方法。
  3. 　さらに、発泡する泡を消泡する消泡工程を有することを特徴とする請求項１または２の何れかの請求項に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄方法。
  4. 　前記リンス工程では、
    　前記被洗浄フィルターカートリッジを前記リンス液中で曝気に曝す曝気工程を有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄方法。
  5. 　前記被洗浄フィルターカートリッジを洗浄液に会合させる工程は、
    　前記被洗浄フィルターカートリッジに前記洗浄液を通過させ、
    　前記洗浄液の送圧が所定の圧力以下になるまで継続することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄方法。
  6. 　前記洗浄液は、アンモニアと過酸化水素を含有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄方法。
  7. 　アンモニアと過酸化水素を含むことを特徴とするレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液。
  8. 　前記アンモニアは、前記洗浄液全量に対して、２．５～１２．５質量％含有され、
    　前記過酸化水素は、前記洗浄液全量に対して８．８～１７．５質量％含有されていることを特徴とする請求項７に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液。
  9. 　洗浄槽と、
    　前記洗浄槽内に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
    　前記洗浄槽内に配置されたフィルターカートリッジ接続部と、
    　前記フィルターカートリッジ接続部に連結された第１の配管と、
    　出水口が前記第１の配管に連結され、入水口には、前記洗浄槽内と連通する第２の配管が連結されたポンプと、
    　前記洗浄槽内の洗浄液を冷却する冷却手段と、
    　前記洗浄槽に設けられた排気手段を有することを特徴とするレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置。
  10. 　前記第１の配管に圧力センサが設けられたことを特徴とする請求項９に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置。
  11. 　洗浄槽と、
    　前記洗浄槽内に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
    　前記洗浄槽内と連通した第１の配管と、
    　出水口が前記第１の配管に連結され、入水口には、前記洗浄槽内と連通する第２の配管が連結されたポンプと、
    　前記洗浄槽内の洗浄液を冷却する冷却手段と、
    　前記洗浄槽に設けられた排気手段を有することを特徴とするレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置。
  12. 　前記洗浄槽の上部から洗浄液を散水させるシャワー手段と、
    　前記洗浄槽に設けられた泡オーバーフロー排出手段を有することを特徴とする請求項９乃至１１の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置。
  13. 　前記洗浄液は、アンモニアと過酸化水素を含有することを特徴とする請求項９乃至１２の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液ろ過フィルタ洗浄装置。

     
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