WO2014174601A1 - 新規ピリミジン誘導体 - Google Patents

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    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029

Definitions

  • Patent Document 1 discloses 2-pyrimidylthioaryl ethers useful as herbicides
  • Patent Document 2 discloses arylthioaminopyrimidines useful as herbicides
  • Patent Document 3 discloses Piperazine compounds useful as antagonists are disclosed.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • X represents a structure represented by the following formula (II) or formula (III), or Y
  • Y represents a photocleavable unit.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 in the general formula (I), R 10 , R 11 , R 12 and R 13 in the general formula (III), and Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 14 and R 15 in the general formula (IV) include, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, Amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, octyl, isooctyl, 2-ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl, etc.
  • R 9 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, the nitrogen atom to which R 9 is attached, -NR 8 R 9 are attached, a carbon atom in the phenyl group, And a carbon atom in the ortho position of the carbon atom to form a 5-membered ring, and the 5-membered ring contains a heteroatom such as N, S, O, or P in addition to the nitrogen atom.
  • R 8 may form a further bond constituting a carbon-nitrogen double bond with the carbon atom bonded to —NR 8 in R 9 when the 5-membered ring is formed. Good.
  • the compounds of the present invention have good thermal stability and low volatility, are also suitable for photopolymerization in the presence of air (oxygen), and there is little yellowing of the composition after photopolymerization .
  • low molecular weight monomer examples include styrene, acrylonitrile, (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl ester, vinyl ether, monofunctional (meth) acrylate, bifunctional (meth) acrylate, Examples include polyfunctional (meth) acrylates, divinylbenzene, divinyl succinate, diallyl phthalate, triallyl phosphate, triallyl isocyanurate.
  • the laser direct drawing method that directly forms an image from digital information such as a computer without using a mask improves not only productivity but also resolution and positional accuracy.
  • the laser light light having a wavelength of 340 to 430 nm is preferably used, but excimer laser (F 2 , KrF, ArF), nitrogen laser, argon ion laser, helium cadmium laser
  • a laser emitting light in the visible to infrared region such as a helium neon laser, a krypton ion laser, various semiconductor lasers, and a YAG laser is also used.
  • a sensitizing dye that absorbs the region from visible to infrared is added.
  • Example 1 Compound No. 1 ⁇ Step 1> Preparation of 3- [4- (4,6-dimethyl-2-pyrimidyl) thio-2-methylbenzoyl] -6-ethanoyl-9- [4- (2-octanoyl) phenyl] carbazole
  • DMAc N-dimethylacetamide
  • 4,6-dimethyl-2-mercaptopyrimidine 22.43 g; 160.00 mmol
  • potassium carbonate 33.17 g; 240.00 mmol
  • Comparative photosensitive composition No. Preparation of Compound No. 2 obtained in Example 1 1 is a comparative compound No. 1 represented by the following formula. 2 (Comparative photosensitive composition No. 2) in the same manner as in Example 3 except that the compound of Example 4 of Patent Document 4 was changed. 1 was obtained.
  • the novel pyrimidine derivative of the present invention shows high photoradiation sensitivity by forming a photoradiation sensitive composition as a photopolymerization initiator, and can provide an excellent and useful curing material. It is extremely useful as a component of a photosensitive composition.

Abstract

　本発明は、式（Ｉ）で表されるピリミジン誘導体に関する。（式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、水素等を表し、Ｘは、式(II)又は式（III）で表される構造、あるいはＹを表し、Ｙは、光開裂性ユニットである。）（式(II)中、Ｒ８及びＲ９は、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素又はＹで置換されていてもよいフェニルを表し、Ｒ９は、Ｒ９が結合する窒素、－ＮＲ８Ｒ９が結合している、フェニル中の炭素、及び該炭素のオルト位にある１つの炭素と共に５員環を形成していてもよく、該５員環は、上記窒素以外のヘテロ原子を含んでいてもよく、該５員環が形成される場合、Ｒ８は、Ｒ９中の－ＮＲ８に結合している炭素と共に炭素－窒素二重結合を構成する更なる結合を形成してもよい。）（式（III）中、Ｒ１０及びＲ１１は、アルキルを表し、Ｒ１２及びＲ１３は、アルキル又は互いに結合してピペリジン環又はモルホリン環を形成する。）

Description

新規ピリミジン誘導体
　本発明は、新規ピリミジン誘導体に関する。
　ピリミジン誘導体は、医薬、界面活性剤、分散剤、殺菌剤、除草剤等の幅広い用途に用いられている。
　かかる特徴を有するピリミジン誘導体の分子中に光開裂性ユニットを導入した化合物も有用な化学物質と予想されるものの、未だ該化合物を合成したという報告はされていない。また、ピリミジン構造を有しかつ光開裂性ユニットを有する化合物も知られていない。
　特許文献１には、除草剤として有用な２－ピリミジルチオアリールエーテル類が、また特許文献２には、除草剤として有用なアリールチオアミノピリミジン類が開示されており、特許文献３には、拮抗剤として有用なピペラジン化合物が開示されている。
　また、特許文献４～６には、複数の光開裂性ユニットを有する化合物が開示されている。
特開平１－０５０８６５号公報 特開平１－３０５０６３号公報 米国特許第５８８３０９６号明細書 特表２００９－５１９９９１号公報 特開２０１１－１０５７１３号公報 特開２０１１－１７８７７６号公報
　本発明の目的は、光開裂性ユニットを有する新規ピリミジン誘導体を提供することにある。
　本発明の要旨は以下のとおりである。
（１）下記一般式（Ｉ）で表される新規ピリミジン誘導体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基又はシアノ基を表し、Ｘは、下記式(II)又は式（III）で表される構造、あるいはＹを表し、Ｙは、光開裂性ユニットである。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
（式中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～１０の炭化水素基又はＹで置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ９は、Ｒ９が結合する窒素原子、－ＮＲ８Ｒ９が結合している、フェニル基中の炭素原子、及び該炭素原子のオルト位にある１つの炭素原子と共に５員環を形成していてもよく、該５員環は、上記窒素原子以外のヘテロ原子を含んでいてもよく、該５員環が形成される場合、Ｒ８は、Ｒ９中の－ＮＲ８に結合している炭素原子と共に炭素－窒素二重結合を構成する更なる結合を形成してもよい。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
（式中、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基又は互いに結合してピペリジン環又はモルホリン環を形成する。）
（２）上記一般式（Ｉ）におけるＸを表す一般式(II)におけるＲ８及びＲ９が、Ｙで置換されたフェニル基である上記（１）に記載の新規ピリミジン誘導体。
（３）上記一般式（Ｉ）におけるＹで表される光開裂性ユニットが、下記一般式(IV)で表される上記（１）又は（２）に記載の新規ピリミジン誘導体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
（式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数３～８のシクロアルキル基、炭素数６～１８のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、炭素数８～３１のアリールアルケニル基又はシアノ基を表す。）
（４）上記一般式（Ｉ）におけるＸを表す一般式(III)におけるＲ１２及びＲ１３が、互いに結合してモルホリン環を形成する上記（１）に記載の新規ピリミジン誘導体。
（５）上記（１）～（４）のいずれかに記載の新規ピリミジン誘導体を含有する感光性組成物。
　本発明の新規ピリミジン誘導体は、可視光領域の透過率が高く、３６５ｎｍ（ｉ線）等の輝線に対して効率よくラジカルを発生させ、光重合開始剤として有用なものである。
　以下、本発明の新規ピリミジン誘導体について詳細に説明する。
　本発明の新規ピリミジン誘導体は、上記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
　上記一般式（Ｉ）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７、上記一般式（III）中のＲ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３、並びに上記一般式（IV）中のＲ１４及びＲ１５で表される炭素数１～１０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、アミル、イソアミル、ｔ－アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、２－エチルヘキシル、ｔ－オクチル、ノニル、イソノニル、デシル等が挙げられ、
　上記一般式（II）中のＲ８及びＲ９で表される炭素数１～１０の炭化水素基としては、上記炭素数１～１０のアルキル基の他、例えば、ビニル、アリル等のアルケニル基等が挙げられ、
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７で表される炭素数１～１０のアルコキシル基としては、例えば、メチルオキシ、エチルオキシ、イソプロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２－エチルヘキシルオキシ等が挙げられ、
　Ｒ１４及びＲ１５で表される炭素数３～８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられ、
　Ｒ１４及びＲ１５で表される炭素数６～１８のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、ナフチル、イソプロピルフェニル、ｔ－ブチルフェニル、ジメチルフェニル等が挙げられ、
　Ｒ１４及びＲ１５で表される炭素数７～３０のアリールアルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等が挙げられ、
　Ｒ１４及びＲ１５で表される炭素数８～３１のアリールアルケニル基としては、例えば、スチリル等が挙げられ、
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
　上記一般式（Ｉ）中、Ｙで表される光開裂性ユニットとしては、カルボニルのα開裂、β開裂反応、光フリー転位反応、ベンジルエステルの転位反応、フェナシルエステルの開裂反応、スルホンイミド開裂反応、スルホニルエステル開裂反応、Ｎ－ヒドロキシスルホニルエステル開裂反応、αケトスルホネート開裂反応、ケトスルホン開裂反応等を利用したものが挙げられ、これらの反応により、光により開裂しうる単結合が切断される。
　該光開裂性ユニットとしては、例えば、アリールジアゾ構造、ケトン構造（ベンゾイン、アセトフェノン、アルキルアリールケトン等）、エステル構造（アルキルエステル、ニトロベンジルエステル、オキシムエステル、オキシムスルホネート等）、ベンジルメチルケタール等が挙げられる。
　上記一般式（II）において、Ｒ９が炭素数１～１０の炭化水素基であるとき、Ｒ９が結合する窒素原子、－ＮＲ８Ｒ９が結合している、フェニル基中の炭素原子、及び該炭素原子のオルト位にある１つの炭素原子と共に５員環を形成することができ、該５員環は、上記窒素原子以外に、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｐ等のヘテロ原子を含んでいてもよく、該５員環が形成される場合、Ｒ８は、Ｒ９中の－ＮＲ８に結合している炭素原子と共に炭素－窒素二重結合を構成する更なる結合を形成してもよい。該５員環が上記窒素原子以外のヘテロ原子を含む場合は、Ｒ９が－ＮＲ８Ｒ９の結合しているフェニル基の炭素原子のうち１個にヘテロ原子が直接結合してもよい。該５員環としては、例えば、ピロール、イミダゾール、トリアゾール、チアゾール、オキサゾール等が挙げられる。
　上記一般式（II）において、Ｒ９がＹで置換されていてもよいフェニル基であるとき、Ｒ９が結合する窒素原子、－ＮＲ８Ｒ９が結合している、フェニル基中の炭素原子、及び該炭素原子のオルト位にある１つの炭素原子と共に５員環を形成することができる。
　上記一般式（II）において、Ｒ９が、上記のような５員環を形成している場合の具体的な構造としては、以下に記載されたものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　本発明のピリミジン誘導体の中でも、上記一般式（Ｉ）において、ＸがＹで表されるもの；Ｒ８及びＲ９がＹで置換されたフェニル基であるもの；Ｒ９が結合された窒素原子と共に５員環を形成しているもの；Ｒ１２及びＲ１３が互いに結合してモルホリン環を形成しているもの；Ｙが下記式（IV）で表されるものが、感度が高いため好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
（式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数３～８のシクロアルキル基、炭素数６～１８のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又はシアノ基を表す。）
　上記一般式（Ｉ）で表される本発明のピリミジン誘導体の好ましい具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２１の化合物が挙げられる。ただし、本発明は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　本発明の新規ピリミジン誘導体は、医薬、界面活性剤、分散剤、殺菌剤、除草剤等に用いられるだけでなく、光開裂性ユニットを有するため、光重合開始剤あるいは乳化重合、パール重合、懸濁重合のための開始剤、液晶の単量体を固定するための重合開始剤、有機材料に染料を固着するための開始剤としても有用である。
　本発明の化合物は、良好な熱安定性及び低い揮発性を有し、空気（酸素）の存在下での光重合にも適しており、光重合の後の組成物の黄変も僅かである。
　次に、本発明の新規ピリミジン誘導体の製造方法について説明する。本発明の新規ピリミジン誘導体の製造方法は、特に限定されないが、例えば、上記一般式（Ｉ）において、Ｘが上記一般式（IV）で表され、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７が水素原子である場合、下記反応式に示す方法で製造できる。
　すなわち、フルオロベンゾフェノン誘導体１とメルカプトピリミジン２を反応させて中間体３を得て、続いてオキシム化を行い中間体４を得て、酸クロリドと反応させて一般式（Ｉ）で表される化合物を得る。Ｘが上記一般式（IV）で表されるもの以外についても、下記方法に準じて製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　次に、本発明の感光性組成物について説明する。
　本発明の感光性組成物は、必須成分として、本発明の新規ピリミジン誘導体を有効成分とする光重合開始剤と、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物とを含有するとともに、任意成分として、アルカリ可溶性樹脂、本発明の新規ピリミジン誘導体以外の感放射線性重合開始剤、増感色素、エポキシ化合物、多官能エポキシ化合物、密着助剤、連鎖移動剤、ポリイミド前駆体、熱可塑性有機重合体、界面活性剤、色材、溶媒等の成分を組み合わせて含有するものである。
　本発明の感光性組成物において光重合開始剤として本発明の新規ピリミジン誘導体を用いる場合、上記一般式（Ｉ）で表される一種を単独で用いてもよく、また二種以上を併用してもよい。また、本発明の新規ピリミジン誘導体と、本発明の新規ピリミジン誘導体以外の感放射線性重合開始剤及び増感色素を併用することも可能であり、併用することにより更なる高感度化等の著しい相乗効果を奏する場合もある。
　本発明の感光性組成物における光重合開始剤の含有量は、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物１００質量部に対し０．１～５０質量部、更に１～４０質量部であるのが、感度及び解像度の点から好ましい。
　本発明の新規ピリミジン誘導体と併用することのできる感放射線性重合開始剤としては、放射線に感応してエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である限り特に限定されるものではないが、例えば、Ｏ－アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物、ベンジル化合物、ベンジルケタール化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、オニウム塩、ボレート塩、メタロセン化合物等が挙げられる。
　本発明の新規ピリミジン誘導体と併用することのできる増感色素としては、例えば、クマリン化合物、キサンテン色素、ピロメテン色素、スチリル系色素、ジアミノベンゼン化合物等を挙げることができる。
　上記エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物としては、少なくとも１つのオレフィン性二重結合を有する光重合性化合物が挙げられ、従来感光性組成物に用いられているものを用いることができる。
　低分子量の単量体としては、例えば、スチレン、アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルピロリドン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルエステル、ビニルエーテル、単官能（メタ）アクリレート、二官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、フタル酸ジアリル、リン酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル等が挙げられる。
　高分子量のオリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート、エポキシ基を有するポリエステル・ポリウレタン・ポリエーテル、ビニルエーテル基を有するポリエステル・ポリウレタン・ポリエーテル、エチレン性不飽和カルボン酸とポリオールのエステル、エチレン性不飽和カルボン酸とポリエポキシドのエステル、エチレン性不飽和カルボン酸とポリアミンとのアミド等が挙げられる。
　これらのエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物は、単独で又は二種以上を混合して用いることができる。
　本発明の感光性組成物において、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、光重合開始剤１質量部に対して１０～２００質量部、更に２０～１５０質量部であるのが、感度及び硬化膜の透明性の点で好ましい。
　上記アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、１つ以上の酸基及び１つ以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物のホモポリマー、又はそれらの２種類以上のコポリマー、又は上記の酸基を含有しないエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物１つ以上とのコポリマーが挙げられる。酸基としては、カルボキシル基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシル基等が挙げられる。
　上記色材としては、顔料、染料、天然色素等が挙げられる。これらの色材は、単独で又は二種以上を混合して用いることができる。
　本発明の感光性組成物において、上記色材の含有量は、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは５０～３５０質量部、より好ましくは１００～２５０質量部である。
　上記溶媒としては、本発明の感光性組成物を構成する各成分を溶解又は分散させることができるものである限り特に限定されるものではないが、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール－ｔ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトンのようなケトン類；エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、３－メトキシブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリンのような１価又は多価アルコール類；ｎ－ペンタン、ｎ－オクタン、ジイソブチレン、ｎ－ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類；アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、γ－ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類；３－メトキシプロピオン酸、３－エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類；ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類；メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類；アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類；等が挙げられる。
　上記溶媒のうち、沸点が１００～２００℃、更に１２０～１７０℃のものが、溶解性、各成分との非反応性、被膜形成の容易性等の観点から好ましい。
　これらの溶媒は、単独で又は二種以上を混合して用いることができる。
　本発明の感光性組成物には、必要に応じて、反射防止剤、導電剤、安定剤、難燃剤、機械的強度向上剤、特殊波長吸収剤、撥インク剤等、熱重合抑制剤、乳化剤、可塑剤、接着促進剤、密着助剤、充填剤、消泡剤、レベリング剤、表面調整剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、分散剤、分散助剤、凝集防止剤、触媒、硬化促進剤、架橋剤、潤滑剤、湿潤剤、艶消剤、増粘剤、シランカップリング剤、メラミン、充填剤、無機化合物等の慣用の添加物を加えることができる。
　本発明の感光性組成物において、光重合開始剤及びエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物以外の任意成分（但し、前記の他の光重合開始剤、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、アルカリ可溶性樹脂、色材及び溶媒は除く）の使用量は、その使用目的に応じて適宜選択され特に制限されないが、好ましくは、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物１００質量部に対して合計で５０質量部以下とする。
　本発明の感光性組成物は、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、木材、紙、織物、セラミック、プラスチック（ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィン、酢酸セルロース等）等の支持基体上に適用することができる。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。
　また、本発明の感光性組成物を硬化させる際に用いられるエネルギー線の光源としては、１５０～６００ｎｍの電磁放射線、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、キセノンアーク灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、殺菌灯、レーザーダイオード、発光ダイオード、ＣＲＴ光源等から得られる２０００オングストロームから７０００オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、Ｘ線、放射線等の高エネルギー線を利用することができるが、好ましくは、波長３００～４５０ｎｍの光を発光する超高圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯等が挙げられる。
　更に、露光光源にレーザー光を用いることにより、マスクを用いずに、コンピューター等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから有用であり、そのレーザー光としては、３４０～４３０ｎｍの波長の光が好適に使用されるが、エキシマーレーザー（Ｆ２、ＫｒＦ、ＡｒＦ）、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー及びＹＡＧレーザー等の可視から赤外領域の光を発するものも用いられる。これらのレーザーを使用する場合には、可視から赤外の当該領域を吸収する増感色素が加えられる。
　本発明の感光性組成物は、各種印刷インキ、塗料、ワニス、接着剤、プリント基板、カラーフィルタ、プラズマ表示パネル用の電極材料、粉末コーティング、プリント回路基板、接着剤、歯科用組成物、ゲルコート、電子工学用のフォトレジスト、電気メッキレジスト、エッチングレジスト、ドライフィルムレジスト、はんだレジスト、永久レジスト、ソルダーレジスト、レリーフ、磁気記録材料、光導波路、ホログラフィ記録用材料、画像記録材料、光造型樹脂、光ファイバー形成材料、電子部品・集積回路・ＬＥＤ等のパッケージ、保護膜、絶縁膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。
　本発明の感光性組成物は、基材の少なくとも一面に塗布して被覆基材を得、得られた被覆基材を像様式暴露に付し、次いで非暴露部分を現像液で除去することによりレリーフ像の写真を生成することができる。像様式暴露は、マスクを通した照射により、又は上述の、レーザー光照射によって実施することができる。特に有益なものは、レーザービーム暴露である。
　以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。
　尚、部及び百分率は、特に記述のない限り質量に基づく。３個を超えるｎ個の炭素原子を有するアルキル基については、以下の実施例において特定の異性体の記述がなくとも、それぞれの場合で、ｎ個の異性体があってもよい。
〔実施例１〕化合物Ｎｏ．１の製造
＜ステップ１＞３－［４－（４，６－ジメチル－２－ピリミジル）チオ－２－メチルベンゾイル］－６－エタノイル－９－［４－（２－オクタノイル）フェニル］カルバゾールの製造
　Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（６４ｍＬ）、４，６－ジメチル－２－メルカプトピリミジン（２２．４３ｇ；１６０．００ｍｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、炭酸カリウム（３３．１７ｇ；２４０．００ｍｍｏｌ）を加えた。９５℃で１時間攪拌した後、３－（４－フルオロ－２－メチルベンゾイル）－６－エタノイル－９－［４－（２－オクタノイル）フェニル］カルバゾール（４３．８１ｇ；８０．００ｍｍｏｌ）を加え、１５５℃で１９時間攪拌した。反応が完了した後、反応混合物を水（１６００ｍＬ）に注いだ。次いで、生成物をトルエン（１０００ｍＬ）で２回抽出し、続いて硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下での濃縮によって、濃褐色固体を粗生成物（４２．７１ｇ）として得た。
純粋な生成物を、溶離剤としてトルエン／酢酸エチル（３０／１～９／１）を用いるシリカゲルクロマトグラフィーによって得た。（２８．００ｇ、５２．８％）。
＜ステップ２＞３－［４－（４，６－ジメチル－２－ピリミジル）チオ－２－メチルベンゾイル］－６－｛１－（ヒドロキシイミノ）エチル｝－９－［４－｛２－（ヒドロキシイミノ）オクチル｝フェニル］カルバゾール
の製造
　メタノール（４３ｍＬ）中、ヒドロキシルアミン塩酸塩（１４．４３ｇ；２０７．７０ｍｍｏｌ）に、水酸化ナトリウム（７．４８ｇ；１８６．９３ｍｍｏｌ）を加えた。２５℃で１５分間攪拌した後、ステップ１で得られた３－［４－（４，６－ジメチル－２－ピリミジル）チオ－２－メチルベンゾイル］－６－エタノイル－９－［４－（２－オクタノイル）フェニル］カルバゾール（２７．７４ｇ；４１．５４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（１３０ｍＬ）溶液を加え、６０℃で２時間攪拌した。反応が完了した後、反応混合物を水（６００ｍＬ）に注ぎ、１０％塩酸水溶液（２０．２４ｇ）を加えてｐＨを５に調整した。析出した結晶を吸引ろ過して得た。（２８．９４ｇ、９９．８％）。
＜ステップ３＞３－［４－（４，６－ジメチル－２－ピリミジル）チオ－２－メチルベンゾイル］－６－｛１－（アセチルオキシイミノ）エチル｝－９－［４－｛２－（アセチルオキシイミノ）オクチル｝フェニル］カルバゾールの製造
　Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（８７ｍＬ）中、ステップ２で得られた３－［４－（４，６－ジメチル－２－ピリミジル）チオ－２－メチルベンゾイル］－６－｛１－（ヒドロキシイミノ）エチル｝－９－［４－｛２－（ヒドロキシイミノ）オクチル｝フェニル］カルバゾール（２８．７４ｇ；４１．４７ｍｍｏｌ）を遮光したフラスコ反応容器に入れ、トリエチルアミン（２５．１８ｇ；２４８．８２ｍｍｏｌ）を加え、次いで無水酢酸（２５．４０ｇ；２４８．８２ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下、０℃で加えた。反応混合物を０℃で３０分間攪拌した。反応が完了した後、反応混合物を水（６００ｍＬ）に５℃で注ぎ、３０分間攪拌した。析出した結晶を吸引ろ過し、白色固体を粗生成物として得た。純粋な生成物は、水による洗浄を繰り返し行って得た。（３１．５１ｇ、９７．２％）。構造を１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３）及び赤外線吸収スペクトル（ＫＣｌ）により確認した。
〔実施例２〕化合物Ｎｏ．９の製造
＜ステップ１＞４，６－ジメチル－２－（４－オクタノイルフェニル）チオピリミジンの製造
　Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（１９０ｍＬ）中、４，６－ジメチル－２－メルカプトピリミジン（２８．１０ｇ；２００．４０ｍｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、炭酸カリウム（４６．１６ｇ；３３４．００ｍｍｏｌ）を加えた。９５℃で１時間攪拌した後、１－フルオロ－４－オクタノイルベンゼン（３７．１２ｇ；１６７．００ｍｍｏｌ）を加え、１５５℃で８時間攪拌した。反応が完了した後、反応混合物を水（５６０ｍＬ）に注いだ。次いで、生成物をシクロヘキサン（５００　ｍＬ）で２回抽出した。有機層を水（５００ｍＬ）で２回洗浄し、続いて硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下での濃縮によって、濃褐色固体を粗生成物（５５．００　ｇ）として得た。純粋な生成物を、溶離剤としてシクロヘキサン／酢酸エチル（４０／１～１０／１）を用いるシリカゲルクロマトグラフィーにより得た。（３２．００ｇ、５６．０％）。
＜ステップ２＞４，６－ジメチル－２－［４－｛（２－（ベンゾイルオキシイミノ）オクタノイル｝フェニル］チオピリミジンの製造
　ジクロロメタン（２０６ｍＬ）中、ステップ１で得られた４，６－ジメチル－２－（４－オクタノイルフェニル）チオピリミジン（２０．５５ｇ；６０．００ｍｍｏｌ）に塩化カルシウム（６．６６ｇ；６０．００ｍｍｏｌ）を加え、次いで亜硝酸ｔ－ブチル（１０．３２ｇ；９０．００ｍｍｏｌ）を加えた後、－１０℃まで冷却し、－５℃で攪拌しつつ、塩化水素ガスを液面下より４時間導入した。反応が完了した後、反応混合物に－１０℃で窒素を３０分間液面下に導入した。次いで、ろ過して無機物を除去し、ろ液に１２％塩酸水溶液（６００ｍＬ）を－１０℃で注ぎ、１５分間攪拌した後、分液して水層を除去した。－２０℃にて、減圧下での濃縮を行い、得られた４，６－ジメチル－２－［４－｛（２－（ヒドロキシイミノ）オクタノイル｝フェニル］チオピリミジンのジクロロメタン溶液に、塩化ベンゾイル（８．４３ｇ；６０．００ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０ｍＬ）溶液を加えた後、－１０℃まで冷却し、トリエチルアミン（１２．１４ｇ；６０．００ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０ｍＬ）溶液を加え、－１０℃で１時間攪拌した。反応が完了した後、反応混合物を水（２６７ｍＬ）に注ぎ、１５分間攪拌した後、分液して水層を除去した。次いで、有機層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液（２６７ｍＬ）、２％塩酸水溶液（２６７ｍＬ）、水（２６０ｍＬ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下での濃縮及びメタノール／水混液による洗浄によって、濃褐色固体を粗生成物（２６．３５ｇ）として得た。純粋な生成物を、メタノールによる洗浄、次いでｔ－ブチルメチルエーテル／ｎ－ヘキサンによる再結晶により得た。（１７．５８ｇ、６１．６％）。構造を１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３）及び赤外線吸収スペクトル（ＫＣｌ）により確認した。
　分析結果を表１及び表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
〔製造例１〕アルカリ可溶性樹脂Ｎｏ．１の製造
　ベンジルメタクリレート２４ｇ 、メタクリル酸６ｇ及びアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．５２５ｇを、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート（ＰＧＭＥＡ）９０ｍｌに溶解した。得られた反応混合物を、８０℃で予熱した油浴の中に入れた。窒素下、８０℃ で５時間攪拌した後、得られた粘性溶液を室温に冷却し、ベンジルメタクリレート－メタクリル酸共重合体としてアルカリ可溶性樹脂Ｎｏ．１を得た（固形分約２５％）。
〔実施例３及び４〕感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２の製造
　製造例１で調製したアルカリ可溶性樹脂Ｎｏ．１のＰＧＭＥＡ溶液２００．０質量部、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＵＣＢ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）５０．０質量部、化合物Ｎｏ．１又は化合物Ｎｏ．９のそれぞれ２．０質量部、及びＰＧＭＥＡ１５０．０質量部を混合し、感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２を得た。
〔比較例１〕比較感光性組成物Ｎｏ．１の製造
　実施例１で得られた化合物を下記式で表される比較化合物Ｎｏ．１に替えた以外は実施例３と同様の手法で、比較感光性組成物Ｎｏ．１を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
〔比較例２〕比較感光性組成物Ｎｏ．２の製造
　実施例１で得られた化合物Ｎｏ．１を下記式で表される比較化合物Ｎｏ．２（特許文献４の実施例４の化合物）に替えた以外は実施例３と同様の手法で、比較感光性組成物Ｎｏ．１を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
〔評価例１－１～１－２及び比較評価例１－１～１－２〕溶解性評価
　表３に示す化合物について、ＰＧＭＥＡに対する溶解度を調べた。結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
　表３の結果より、本発明の化合物Ｎｏ．１及びＮｏ．９は、ＰＧＭＥＡに対する溶解度が高く、感光性組成物中で均一に存在するため均一な硬化物が得られるため光重合開始剤として有用であることが明らかである。
〔評価例２－１～２－２及び比較評価例２－１～２－２〕感受性評価
　実施例３～４で得られた感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２及び比較例１～２で得られた比較感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２について、感受性評価を以下のようにして行った。
　全ての操作は、黄色灯の下で実施した。実施例３～４で得られた感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２及び比較例１～２で得られた比較感光性組成物を、ワイヤワウンドバーを有する電気アプリケーターを使用して、それぞれアルミニウムプレートに塗布した。対流式オーブンにより１００℃で２分間加熱して溶媒を除去した。乾燥膜の厚さは、およそ２μｍであった。２１ステップの異なる光学濃度を有する標準検査ネガティブフィルム（ストウファー（Ｓｔｏｕｆｆｅｒ）ステップウエッジ）を、膜とレジストの間のおよそ１００μｍの空隙に置いた。暴露は、２５０Ｗの超高圧水銀灯（ＵＳＨＩＯ、ＵＳＨ－２５０ＢＹ）を１５ｃｍの間隔で使用して実施した。試験ネガティブフィルムで光強度測定器（ＵＶ－３５検出器を有するＯＲＣ　ＵＶ　Ｌｉｇｈｔ　Ｍｅａｓｕｒｅ　Ｍｏｄｅｌ　ＵＶ－Ｍ０２）により、１０ｍＪ／ｃｍ２毎に、照射量を変えた試験片を作成した。最終的な総暴露線量は、１５０ｍＪ／ｃｍ２であった。暴露の後、暴露されたそれぞれの膜を、噴霧型現像液（Ｗａｌｔｅｒ　Ｌｅｍｍｅｎ、Ｔ２１モデル）を使用して１％炭酸ナトリウム水溶液により３０℃で１００秒間現像した。光重合開始剤として加えた各感光性組成物中の本発明の化合物の感受性は、現像した後に残った試験片の相対強度を測定し、最高強度１００に到達するまでの暴露光量によって測定した。結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
　光重合開始剤として加えた各感光性組成物中の本発明の化合物は、暴露光量が少なくて済み、光感受性に優れた性能を有することが認められる。
〔評価例３－１～３－２及び比較評価例３－１～３－２〕密着性評価
　実施例３～４で得られた感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２及び比較例１～２で得られた比較感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２について、密着性評価を以下のようにして行った。
　実施例３～４で得られた感光性組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．２及び比較例１～２で得られた比較感光性組成物を、ワイヤワウンドバーを有する電気アプリケーターを使用して、無アルカリガラス基板上にそれぞれ塗布した後、８０℃のホットプレート上で、３分間プレベークして、感光放射線性組成物の被膜（膜厚４．０μｍ）を形成した。得られた被膜上に、直径１０μｍの丸状残しパターンを２０個有するフォトマスクを使用して、１５０ｍＪ／ｃｍ２で試験片を露光した。このとき、被膜表面とフォトマスクとの間に所定の間隙（露光ギャップ）を設けた。続いて、濃度を０．０５質量％とした水酸化カリウム水溶液を用いて、２５℃にて２０秒の現像時間でシャワー法により現像した後、純水洗浄を１分間行い、更にオーブン中２３０℃にて２０分間ポストベークした試験片に対し、比較例と共に同一条件にて、光硬化膜表面に接着テープを貼り付けた後、剥がして、接着テープの粘着部に、光硬化部２０個のうち、何個が付着しているかどうか確かめて、密着性の相対的な評価試験を行った。結果を表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
　本発明の化合物は、従来の化合物と同程度の優れた密着性を示すことが明らかである。
　以上より、本発明の新規ピリミジン誘導体は、光重合開始剤として光放射線感受性組成物を形成することによって、高い光放射線感受性を示し、優れて有用な硬化材料を提供することが可能なことから、感光性組成物の成分として極めて有用である。

Claims (5)

  1. 　下記一般式（Ｉ）で表される新規ピリミジン誘導体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基又はシアノ基を表し、Ｘは、下記式(II)又は式（III）で表される構造、あるいはＹを表し、Ｙは、光開裂性ユニットである。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～１０の炭化水素基又はＹで置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ９は、Ｒ９が結合する窒素原子、－ＮＲ８Ｒ９が結合している、フェニル基中の炭素原子、及び該炭素原子のオルト位にある１つの炭素原子と共に５員環を形成していてもよく、該５員環は、上記窒素原子以外のヘテロ原子を含んでいてもよく、該５員環が形成される場合、Ｒ８は、Ｒ９中の－ＮＲ８に結合している炭素原子と共に炭素－窒素二重結合を構成する更なる結合を形成してもよい。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基又は互いに結合してピペリジン環又はモルホリン環を形成する。）
  2. 　上記一般式（Ｉ）におけるＸを表す一般式(II)におけるＲ８及びＲ９が、Ｙで置換されたフェニル基である請求項１記載の新規ピリミジン誘導体。
  3. 　上記一般式（Ｉ）におけるＹで表される光開裂性ユニットが、下記一般式(IV)で表される請求項１又は２記載の新規ピリミジン誘導体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数３～８のシクロアルキル基、炭素数６～１８のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、炭素数８～３１のアリールアルケニル基又はシアノ基を表す。）
  4. 　上記一般式（Ｉ）におけるＸを表す一般式(III)におけるＲ１２及びＲ１３が、互いに結合してモルホリン環を形成する請求項１記載の新規ピリミジン誘導体。
  5. 　請求項１～４のいずれか１項に記載の新規ピリミジン誘導体を含有する感光性組成物。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62132862A (ja) * 1985-12-05 1987-06-16 バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト ピリジル−オキシ−もしくは−チオ‐またはピリミジル−オキシ−もしくは−チオ−安息香酸誘導体
JPH11501014A (ja) * 1995-02-23 1999-01-26 シェーリング コーポレイション ムスカリン様アンタゴニストとしてのベンジルピペリジンおよびピペラジン
JP2007210991A (ja) * 2006-01-13 2007-08-23 Toyo Ink Mfg Co Ltd オキシムエステル化合物、ラジカル重合開始剤および重合性組成物
JP2009519991A (ja) * 2005-12-20 2009-05-21 チバ ホールディング インコーポレーテッド オキシムエステル光開始剤
JP2009173560A (ja) * 2008-01-22 2009-08-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd オキシムエステル系化合物及び感光性組成物
JP2011178776A (ja) * 2010-02-05 2011-09-15 Jsr Corp 新規化合物及びそれを含有する感放射線性組成物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62132862A (ja) * 1985-12-05 1987-06-16 バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト ピリジル−オキシ−もしくは−チオ‐またはピリミジル−オキシ−もしくは−チオ−安息香酸誘導体
JPH11501014A (ja) * 1995-02-23 1999-01-26 シェーリング コーポレイション ムスカリン様アンタゴニストとしてのベンジルピペリジンおよびピペラジン
JP2009519991A (ja) * 2005-12-20 2009-05-21 チバ ホールディング インコーポレーテッド オキシムエステル光開始剤
JP2007210991A (ja) * 2006-01-13 2007-08-23 Toyo Ink Mfg Co Ltd オキシムエステル化合物、ラジカル重合開始剤および重合性組成物
JP2009173560A (ja) * 2008-01-22 2009-08-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd オキシムエステル系化合物及び感光性組成物
JP2011178776A (ja) * 2010-02-05 2011-09-15 Jsr Corp 新規化合物及びそれを含有する感放射線性組成物

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