WO2014168056A1 - １，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法 - Google Patents

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石井　章央
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俊介 三村
真人 木村
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    • C07C49/227—Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone.
  • Non-patent Document 1 a method of reacting trifluoroacetone and trifluoroacetate ester
  • Patent Document 1 a method of reacting trifluoroacetone and trifluoroacetate ester
  • Patent Document 1 A method of reacting trifluoroacetic anhydride (Patent Document 1) can be mentioned.
  • Non-Patent Documents 2 to 5 reactions between 3,3,3-trifluoropropynyl metal (for example, CF 3 C ⁇ CLi) and various electrophiles have been reported.
  • Non-Patent Documents 4, 6 and 7 reactions between a carbon-carbon multiple bond compound having a trifluoromethyl group and various nucleophiles have been reported.
  • the method for producing 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone of Non-Patent Document 1 requires the use of an expensive raw material substrate (specifically, trifluoroacetone), and the availability of the raw material substrate From the viewpoint of, it was difficult to adopt industrially.
  • Patent Document 1 since trifluoroacetone is not used as a raw material substrate, cost competitiveness is improved as compared with the method of Non-Patent Document 1. However, there is a strong demand for a manufacturing method that can be easily employed industrially.
  • an object of the present invention is to provide an industrially easy production method for 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone.
  • the inventors of the present invention have made extensive studies based on the above problems. As a result, 3,3,3-trifluoropropynyl metal and trifluoroacetate are reacted to produce 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one or an equivalent thereof at least. Hydration of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone by contacting the resulting reaction mixture (A) with water in the presence of an acid. We found that the product can be manufactured. Furthermore, 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone could be produced by dehydrating the hydrate.
  • the present invention includes the following inventions 1 to 14.
  • [Invention 1] A method for producing a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3], comprising at least the following first step and second step. [Wherein n represents a positive integer. ] First step: 3,1,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] is reacted with a trifluoroacetic acid ester represented by the general formula [2] to obtain 1,1,1,5,5 , Obtaining a reaction mixture (A) containing at least 5-hexafluoro-3-pent-2-one or an equivalent thereof.
  • Second step The reaction mixture (A) obtained in the first step is brought into contact with water in the presence of an acid, and 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3] Obtaining a hydrate of
  • [Invention 9] A process for producing a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone by the method according to any one of Inventions 1 to 8, and the obtained 1,1,1,5,5,5 -A method for producing 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the formula [4], which comprises a step of dehydrating a hydrate of hexafluoroacetylacetone.
  • [Invention 10] A metal hemiketal of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one represented by the general formula [5].
  • M represents a lithium atom or a halogenated magnesium group (MgX)
  • X represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom
  • R represents an alkyl group.
  • [Invention 12] A method for producing a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3], comprising at least the following first 'step and second' step. [Wherein n represents a positive integer. ] Step 1 ′: 3,3,3-trifluoropropyne represented by the formula [7] and an organolithium reagent or Grignard reagent represented by the general formula [8] are reacted in a preparation solvent to prepare the prepared solution (B). And obtaining the reaction mixture (C) by further reacting the prepared solution (B) with the trifluoroacetic acid ester represented by the general formula [2].
  • invention 14 One or more selected from the group consisting of a preparation solvent and a reaction raw material separated from a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone is further purified and reused. The method of invention 13.
  • the 3,3,3-trifluoropropynyl metal which is one of the raw material substrates of the present invention, can be easily derived from 3,3,3-trifluoropropyne, Easy to obtain on a large scale.
  • trifluoroacetate which is another raw material substrate, is easily available on a large scale. As described above, it is possible to provide a production method of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone that can be easily employed industrially.
  • a reaction mixture (A) is obtained by reacting the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] with the trifluoroacetic acid ester represented by the general formula [2].
  • the resulting reaction mixture (A) is brought into contact with water in the presence of an acid, whereby a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3] is obtained.
  • the hydrate can be dehydrated to produce 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the formula [4].
  • the reaction mixture (A) contains at least 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one or an equivalent thereof as a component.
  • the equivalent of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one is subjected to a second step (contact with water in the presence of an acid), which will be described later. ], As long as it gives a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone.
  • Examples of the equivalent include a metal hemiketal of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one represented by general formula [5], and 1 represented by general formula [6].
  • 1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one hydrate or alkyl hemiketal but is not limited thereto. These are very important equivalents of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one, and 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone Or a very important precursor of the hydrate.
  • step 1a -2-non-metal hemiketal is included as a component in the reaction mixture (A)
  • step 1b is explicitly expressed as 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pentyl
  • step 1b 2-non hydrate or alkyl hemiketal is contained as a component in the reaction mixture (A)
  • reaction mixture (C) a case where a preparation solution (B) described later (sometimes referred to simply as “preparation solution”) is used as the 3,3,3-trifluoropropynyl metal.
  • first step a case where a preparation solution (B) described later (sometimes referred to simply as “preparation solution”) is used as the 3,3,3-trifluoropropynyl metal.
  • reaction mixture (C) The reaction mixture obtained in the 1 'step.
  • the mode described as the first step is the first step, the first step b, and the first step. 1 'process shall also be included.
  • M of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] represents a lithium atom or a magnesium halide group (MgX), and X represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • MgX a magnesium halide group
  • X represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • a lithium atom, a magnesium chloride group (MgCl) and a magnesium bromide group (MgBr) are preferable, and a lithium atom is particularly preferable.
  • 3,3,3-trifluoropropynyl metal can be obtained by referring to Non-Patent Documents 2 to 4 and RussianRJournal Organic Chemistry ( Russian), 1993, Vol. 29, p.1445-1449. It can be derived from 3-trifluoropropyne. Specifically, 3,3,3-trifluoropropyne and an organolithium reagent or Grignard reagent represented by the general formula [8] are reacted in a preparation solvent described later at ⁇ 150 to + 50 ° C. within 12 hours. Thus, the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] can be prepared with high yield [Preparation Solution (B)].
  • 3,3,3-trifluoropropyne can be easily obtained on a large scale by adopting the production method disclosed in International Publication No. 2008/132964 or the like.
  • 3,3,3-trifluoropropyne is 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-nucleophile in the manufacture of acetylacetone - as (CF 3 COCH 2 equivalents) are used in the background art Compared to trifluoroacetone and trifluoroacetoacetate which have been used, it is industrially easy to adopt. Therefore, derivatization from 3,3,3-trifluoropropyne is a preferred embodiment in the present invention.
  • the 3,3,3-trifluoropropynyl metal in the first step may contain impurities as long as it does not inhibit the reaction in this step and the second step described later. It may be used.
  • the purified 3,3,3-trifluoropropynyl metal may be subjected to the reaction, but because it is unstable to heat, moisture, oxygen, etc., 3,3,3-trifluoropropynyl metal is the product.
  • the solution (prepared solution) containing is directly subjected to the reaction.
  • the solvent (preparation solvent) for this solution is preferably the reaction solvent used in the first step.
  • lithium hydride lithium halide (fluoride, chloride, bromide or iodide), magnesium halide (fluoride) , Chloride, bromide or iodide), methane, ethane, propane, n-butane, benzene, diisopropylamine, hexamethyldisilazane or 2,2,6,6-tetramethylpiperidine etc.
  • the reaction of the first step can be performed in the presence of these.
  • the reaction can be carried out by intentionally adding a compound mixed in these systems.
  • the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] according to the present invention includes itself (CF3C ⁇ CM) aggregate, a compound mixed in a preparation solution or a complex with a solvent, and Complex aggregates and the like are also included.
  • R of the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2] represents an alkyl group.
  • the alkyl group is a straight chain or branched chain having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic having 3 to 12 carbon atoms. Among them, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.
  • the alkyl group may have a substituent that does not substantially affect the desired reaction, and such a substituted alkyl group is also generally described in the claims of the present invention.
  • substituents include halogen atoms such as fluorine atom and chlorine atom, and alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group.
  • the amount of the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2] may be 0.7 mol or more relative to 1 mol of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1]. 0.8 to 5 mol is preferable, and 0.9 to 3 mol is particularly preferable.
  • the reaction of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] and the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2] is performed by reacting zinc halide (fluoride, chloride). , Bromide or iodide), diethyl ether complex of boron trifluoride, 12-crown-4, polyethylene glycol, hexamethylphosphoric triamide (abbreviation: HMPA) and N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (
  • HMPA hexamethylphosphoric triamide
  • TMEDA hexamethylphosphoric triamide
  • the first step can be performed not only by a batch type reaction but also by a flow type reaction.
  • the flow from the preparation of 3,3,3-trifluoropropynyl metal to the reaction with trifluoroacetate can be carried out continuously.
  • a reaction solvent may be used.
  • the reaction solvent include aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane, cyclohexane and n-heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene and mesitylene, diethyl ether, tetrahydrofuran, 1 , 2-dimethoxyethane, 1,4-dioxane, tert-butyl methyl ether, 2-methyltetrahydrofuran, diethoxymethane, diisopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, anisole, di n-butyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, N, Amide systems such as N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and dimethyl
  • the amount of the reaction solvent used in the first step is 0.05 L (L represents liter, the same shall apply hereinafter) or more with respect to 1 mol of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1]. It may be used, preferably 0.1 to 30 L, particularly preferably 0.2 to 20 L. The amount used includes the solvent associated with the 3,3,3-trifluoropropynyl metal solution.
  • the reaction temperature in the first step may be + 75 ° C. or less, preferably +50 to ⁇ 100 ° C., particularly preferably +25 to ⁇ 75 ° C., and extremely preferably 0 to ⁇ 50 ° C.
  • This reaction temperature is not the preparation temperature of 3,3,3-trifluoropropynyl metal, but the reaction temperature with the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2].
  • the reaction time in the first step may be within 48 hours, and varies depending on the raw material substrate and reaction conditions. Therefore, the progress of the reaction is traced by analysis means such as gas chromatography, liquid chromatography, nuclear magnetic resonance,
  • the end point may be the time point when almost no decrease in the raw material substrate is recognized.
  • a reaction mixture (A) can be obtained by employing a general operation in organic synthesis.
  • this reaction mixture (A) 1,1,1,5,5,5-hexafluoro- 3- pent-2-one (CF 3 C ⁇ CCOCF 3 ) or 1,1 as an intermediate is used as a component.
  • 1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one Specific examples of the equivalent include metal hemiketals, hydrates, and alkyl hemiketals.
  • the reaction solvent, by-product for example, corresponding metal alkoxide: ROM
  • unreacted raw material and the like may be included.
  • reaction solvents, by-products, unreacted raw materials, etc. When these reaction solvents, by-products, unreacted raw materials, etc. are included, hydrates of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone were obtained in the second step, as will be described later. Thereafter, these reaction solvents, by-products, unreacted raw materials and the like separated by purifying the hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone are recovered and purified. Can be reused in the present invention.
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one obtained as the reaction mixture (A) or an equivalent thereof is isolated or without isolation. Can be used. Any embodiment is included in the reaction mixture (A) described in the claims of the present invention.
  • step 2a the reaction mixture (A) obtained in the first step is brought into contact with water in the presence of an acid, and 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3]
  • step 2b The case where the reaction mixture (A) explicitly contains a metal hemiketal of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one is called “step 2a”, and the reaction mixture
  • step 2b the case where (A) explicitly contains a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one or an alkyl hemiketal is referred to as “step 2b”.
  • reaction mixture (C) obtained in the first ′ step is used in place of the reaction mixture (A) obtained in the first step
  • second ′ step the mode described as the second process is the second process, the second process and the second process.
  • a 2 ′ step is also included.
  • the second step is the completion of the reaction obtained by the reaction of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] with the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2] in the first step. It is simple and industrial to carry out the solution as it is without any treatment.
  • 1,1,1,5,5,5-represented by the general formula [5] There is a metal hemiketal of hexafluoro-3-pent-2-one.
  • M represents a lithium atom or a halogenated magnesium group (MgX)
  • X represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom
  • R represents an alkyl group.
  • M and R are derived from M of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1] and R of the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2], respectively.
  • a reaction mixture obtained by reacting 3,3,3-trifluoropropynyllithium with ethyl trifluoroacetate is directly reacted with trimethylsilyl chloride to obtain the following formula.
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one trimethylsilylethyl ketal can be obtained in good yield.
  • Me represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group.
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one contained as a component in the reaction mixture (A) is 1,1,1 represented by the general formula [5].
  • the metal hemiketal of 1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one is not limited to the metal hemiketal, and after passing through the second step (contact with water in the presence of an acid), the general formula [3 Any of those which give a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by As an equivalent of such 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one, 1,1,1,5,5,5 represented by the general formula [6] Mention may also be made of hydrates of hexafluoro-3-pent-2-one or alkyl hemiketals. [Wherein R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group. When R 2 is an alkyl group, it is derived from R of the trifluoroacetate ester
  • the type of acid in the second step there is no particular limitation on the type of acid in the second step.
  • acid in the second step hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, perchloric acid, sulfuric acid, nitric acid, fluorosulfonic acid and other inorganic acids, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, etc.
  • the organic acid can be used. Among them, an inorganic acid is preferable and sulfuric acid is particularly preferable in order to smoothly advance the contact with water in the second step.
  • the amount of acid used in the second step is not particularly limited, and it may be 0.01 to 200 mol based on 1 mol of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1]. Particularly in Step 2a, 0.7 mol or more may be used, preferably 0.8 to 100 mol, particularly preferably 0.9 to 50 mol. In the step 2b, a catalyst amount of 0.3 mol or less may be used.
  • the amount of water used in the second step may be 0.03 L or more with respect to 1 mol of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1], preferably 0.04 to 30 L, 0.05 to 15 L is particularly preferable.
  • the contact with water often becomes a two-phase system.
  • Such two-phase contacts include tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium chloride, tetra-n-butylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride and methyltri-n-octylammonium chloride.
  • phase transfer catalyst such as quaternary ammonium salts and quaternary phosphonium salts such as tetra-n-butylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide and methyltriphenylphosphonium chloride.
  • phase transfer catalyst such as quaternary ammonium salts and quaternary phosphonium salts such as tetra-n-butylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide and methyltriphenylphosphonium chloride.
  • the reaction mixture (A) used in the second step may contain a preparation solvent for 3,3,3-trifluoropropynyl metal or the reaction solvent used in the first step as a component, A part or all of the solvent may be removed, or part or all of the solvent may be replaced with another solvent.
  • This step can also be performed in a neat state where the reaction mixture (A) does not contain a solvent.
  • the reaction mixture (A) obtained in the first step can be directly brought into contact with water in the presence of an acid.
  • a new solvent (“contact” is used to distinguish it from the reaction solvent in the first step. May also be used.
  • the type of contact solvent used here is preferably selected from reaction solvents that can be used in the first step, but other solvents can also be selected.
  • solvents include, for example, halogen systems such as methylene chloride, chloroform and 1,2-dichloroethane, alcohol systems such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol and tert-butanol, and acetonitrile, propio Examples include nitriles such as nitrile and benzonitrile.
  • halogen systems such as methylene chloride, chloroform and 1,2-dichloroethane
  • alcohol systems such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol and tert-butanol
  • acetonitrile, propio Examples include nitriles such as nitrile and benzonitrile.
  • aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, ethers and alcohols are preferred, and ethers are particularly preferred and can be used as contact solvents.
  • the amount of contact solvent used in the second step (the total amount used when the solvent in the first step is included) is 1 mol of the 3,3,3-trifluoropropynyl metal represented by the general formula [1].
  • 0.05 L or more may be used, preferably 0.1 to 30 L, particularly preferably 0.2 to 20 L.
  • the contact temperature when the reaction mixture (A) is contacted with water in the presence of an acid may be 150 ° C. or less, preferably 125 to 10 ° C., particularly preferably 100 to 20 ° C., 75 Extremely preferred is ⁇ 30 ° C.
  • the contact time for contacting the reaction mixture (A) with water in the presence of an acid may be 48 hours or less, and the intermediate (1,1,1,5,5,5-hexa Fluoro-3-pent-2-one or its equivalent) and contact conditions, so the progress of contact can be tracked and the number of intermediates reduced by analytical means such as gas chromatography, liquid chromatography, and nuclear magnetic resonance.
  • the end point may be the point when almost no is recognized.
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoro represented by the general formula [3], which is the target product is adopted by employing a general operation in organic synthesis.
  • Acetylacetone hydrate can be obtained with high selectivity and high yield.
  • a “general operation in organic synthesis” for example, when the contact-terminated liquid undergoes two-phase separation, the organic layer is recovered and concentrated, a poor solvent is added to the residue and cooled, and the precipitated crystals are collected by filtration. An operation of drying is mentioned as an example, but is not limited thereto. At this time, the reaction solvent, by-products, unreacted raw materials, etc.
  • n in the hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3] represents a positive integer, and the upper limit is not particularly set.
  • n 1, it represents a monohydrate and is represented by the following formula.
  • n 2, it represents a dihydrate and is represented by the following formula.
  • n 3 or more, it means that one or more water molecules are present in the dihydrate via a hydrogen bond or the like.
  • n is an extremely large integer, the dihydrate is an aqueous solution. It is present in the state.
  • a hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3] is an ether-based extraction solvent from a water layer even though it has a gem-diol group. It can be recovered efficiently.
  • the extraction solvent include ether-based reaction solvents exemplified in the first step.
  • the recovered crude product can be purified to high purity by activated carbon treatment, fractional distillation, recrystallization, column chromatography, or the like, if necessary.
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone dihydrate can be isolated as a solid (crystal) and further purified by a simple operation such as washing with a poor solvent.
  • the trimethylsilylethyl ketal of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one described above is also represented by the general formula [3] by contacting with water in the presence of an acid.
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone hydrate can be obtained in good yield (see Example 2).
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one obtained in the first step or 1,1,1,5 , 5,5-hexafluoro-3-pent-2-one equivalents may also be included.
  • the type of the derivative is not particularly limited.
  • acyl protecting groups such as formyl group, acetyl group and benzoyl group
  • silyl protecting groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group and dimethyl-tert-butylsilyl group Derivatives protected with are particularly preferred.
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-onone metal hemiketal represented by the general formula [5] and 1,1 represented by the general formula [6] 1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one hydrate or alkylhemiketal is a very important intermediate in the production method of the present invention, and to the best of our knowledge In, it is a novel compound.
  • M in the metal hemiketal of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one represented by the general formula [5] represents a lithium atom or a magnesium halide group (MgX);
  • X represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • R represents an alkyl group.
  • the alkyl group is derived from R of the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2] and takes the same alkyl group.
  • R2 of the alkyl hemiketal represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group is derived from R of the trifluoroacetate ester represented by the general formula [2] and takes the same alkyl group.
  • the hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone represented by the general formula [3] obtained in the second step can be suitably used in this step, and the formula [4] 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone can be obtained with high selectivity and good yield.
  • Specific operations in this step are described in JP-A-2001-187760, JP-A-2001-261607, JP-A-2001-354610, JP-A-2004-2466, and references cited therein (J. Inorganic). and Nuclear Chemistry, 1956, Vol. 2, p.11-31, Non-Patent Document 1, etc.) and the like.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-187760 describes a method for dehydrating 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone dihydrate using concentrated sulfuric acid as a dehydrating agent.
  • the method of dehydration is not particularly limited, and examples thereof include a thermal decomposition method, an azeotropic dehydration method, and a method using a dehydrating agent. Among these, a method using a dehydrating agent is preferable.
  • the dehydrating agent is acetic anhydride, diphosphorus pentoxide, soda lime, calcium chloride, anhydrous zinc chloride, anhydrous sodium sulfate, anhydrous magnesium sulfate, anhydrous calcium sulfate, in addition to the concentrated sulfuric acid used in the above-mentioned JP-A-2001-187760.
  • Alumina, silica gel, synthetic zeolite and the like can be used.
  • Me represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Example 1 In 50 mL of tetrahydrofuran, the following formula: Then, 5.1 g (36 mmol, 1.2 eq) of ethyl trifluoroacetate represented by the formula (1) was added, and the mixture was cooled to ⁇ 30 ° C. with stirring to give solution I. Meanwhile, in 50 mL of tetrahydrofuran, the following formula: 4.0 g (43 mmol, 1.4 eq) represented by the following formula was added at 0 ° C., and further 19 mL (30 mmol, 1.0 eq) of n-hexane solution (1.6 M) of n-butyllithium.
  • the amount of the recovered organic layer was determined by 19 F-NMR analysis by an internal standard method (internal standard substance: ⁇ , ⁇ , ⁇ -trifluorotoluene). 25 mmol of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone dihydrate represented by the following formula: 0.60 mmol of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone monohydrate represented by the formula: The combined yield of the desired product was 87%.
  • reaction-terminated liquid was directly concentrated under reduced pressure (40 ° C./200 hPa), the precipitated lithium chloride was removed by decantation, and distilled under reduced pressure (46-65 ° C./ ⁇ 2.8 kPa) to obtain 1,1,1,5
  • 4.2 g of trimethylsilylethyl ketal of 5,5-hexafluoro-3-pent-2-one was obtained.
  • the total yield was 54%.
  • the gas chromatography purity was 97.4%.
  • 1 H-NMR, 13 C-NMR and 19 F-NMR of trimethylsilylethyl ketal of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2- one are shown below.
  • Example 3 To 36 kg of tert-butyl methyl ether, the following formula: In addition, 6.5 kg (69 mol, 1.0 eq) of 3,3,3-trifluoropropyne represented by the following formula was added at ⁇ 98 to ⁇ 44 ° C., and further 17 kg (66 mol, n-heptane solution of n-butyllithium (25 wt%)). 1.0 eq) was added at ⁇ 103 to ⁇ 28 ° C., and the mixture was stirred at ⁇ 30 ° C. for 30 minutes.
  • the two phases were separated and quantified by an internal standard method (internal standard substance: ⁇ , ⁇ , ⁇ -trifluorotoluene) from 19 F-NMR analysis of the recovered organic layer.
  • the combined yield of the equivalents was quantitative.
  • 19 F-NMR of ethyl hemiketal and hydrate of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one is shown below.
  • the two phases were separated and quantified by an internal standard method (internal standard substance: ⁇ , ⁇ , ⁇ -trifluorotoluene) from 19 F-NMR analysis of the recovered organic layer.
  • the recovered organic layer was washed with 40 kg of water, concentrated under reduced pressure (oil bath temperature: ⁇ 29 ° C, degree of vacuum: ⁇ 6.2 kPa), 30 kg of n-heptane was added to the residue, and concentrated under reduced pressure (oil bath temperature: ⁇ 33). 1, 1, 5, 5 by adding 45 kg of n-heptane and stirring at 4 ° C.
  • the amount of the recovered organic layer was determined by 19 F-NMR analysis by an internal standard method (internal standard substance: ⁇ , ⁇ , ⁇ -trifluorotoluene).
  • 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone dihydrate represented by the following formula: In total, 14 mmol of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone monohydrate was contained. The combined yield of the desired product was 35%.
  • Example 5 In 90 mL of tert-butyl methyl ether, the following formula: 12 g (130 mmol, 1.1 eq) represented by the formula (1) is added at ⁇ 49 to ⁇ 50 ° C., and 31 g (120 mmol, 1. mmol) of n-butyllithium solution (25 wt%) is added. 0 eq) was added at ⁇ 56 to ⁇ 26 ° C., and the mixture was stirred at ⁇ 30 ° C. for 35 minutes. Furthermore, the following formula: 16 g (120 mmol, 1.0 eq) of methyl trifluoroacetate represented by the above was added at ⁇ 45 to ⁇ 40 ° C.
  • reaction completed solution The operation so far was performed in a nitrogen gas atmosphere.
  • sulfuric acid aqueous solution prepared from concentrated sulfuric acid 29 g (300 mmol, 2.5 eq) and water 88 g
  • the reaction-terminated liquid was added at 5 ° C. and stirred at the same temperature for 15 minutes (two-phase system).
  • the two phases were separated and quantified by an internal standard method (internal standard substance: ⁇ , ⁇ , ⁇ -trifluorotoluene) from 19 F-NMR analysis of the recovered organic layer.
  • Example 6 A fractional distillation was performed by adding 26.4 g of 33% aqueous sodium hydroxide solution [prepared from 8.8 g (220 mmol) of sodium hydroxide and 17.6 g of water] to 2109.0 g of the distillate obtained by concentration under reduced pressure in Example 3.
  • aqueous sodium hydroxide solution prepared from 8.8 g (220 mmol) of sodium hydroxide and 17.6 g of water
  • theoretical plate number 10 887.6 g of tert-butyl methyl ether [distillation temperature to 62 ° C., atmospheric pressure] and 726.9 g of n-heptane [distillation temperature to 99 ° C., atmospheric pressure] were recovered. did.
  • the two phases were separated and quantified by an internal standard method (internal standard substance: ⁇ , ⁇ , ⁇ -trifluorotoluene) from 19 F-NMR analysis of the recovered organic layer.
  • internal standard method internal standard substance: ⁇ , ⁇ , ⁇ -trifluorotoluene
  • the ethyl hemiketal of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one represented by the formula: 70 mmol of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-3-pent-2-one hydrate represented by the following formula was contained.
  • the combined yield of the equivalents was 79%, and the recovered solvent could be reused.
  • the 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone produced in the present invention can be used as an intermediate for medical pesticides or electronic materials.

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Abstract

　本発明によれば、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属とトリフルオロ酢酸エステルを反応させて１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体を含む反応混合物を得る第１工程と、さらに、第１工程で得た該反応混合物を酸の存在下で水と接触させる第２工程を含む方法により、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物が製造できる。該水和物を脱水することにより１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンを製造することができる。よって、本発明の製造方法は工業的に採用可能である。

Description

１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法
　本発明は、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法に関する。
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの代表的な製造方法としては、トリフルオロアセトンとトリフルオロ酢酸エステルを反応させる方法（非特許文献１）と、トリフルオロアセト酢酸エステルとトリフルオロ酢酸無水物を反応させる方法（特許文献１）が挙げられる。
　一方、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属（例えばＣＦ3Ｃ≡ＣＬｉ）と各種求電子剤との反応が報告されている（非特許文献２～５）。また、トリフルオロメチル基を有する炭素－炭素多重結合化合物と各種求核剤との反応が報告されている（非特許文献４、６および７）。
中国特許出願公開第102260151号明細書
J. Am. Chem. Soc. （米国），1956年，第78巻，p.2790-2792 J. Fluorine Chem. （オランダ），1990年，第47巻，p.45-57 J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 （英国），1992年，p.2485-2494 J. Fluorine Chem. （オランダ），1993年，第62巻，p.39-49 J. Org. Chem. （米国），1995年，第60巻，p.6046-6056 J. Org. Chem. （米国），1986年，第51巻，p.4082-4083 J. Org. Chem. （米国），1992年，第57巻，p.5530-5532
　非特許文献１の１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法は、高価な原料基質（具体的にはトリフルオロアセトン）を用いる必要があり、原料基質の入手容易性の観点から、工業的に採用し難いものであった。
　特許文献１の製造方法では、原料基質としてトリフルオロアセトンを用いていないため、非特許文献１の方法に比べてコスト競争力が改善されている。しかしながら、さらに工業的に採用容易な製造方法が強く望まれている。
　したがって、本発明の課題は、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの工業的に採用容易な製造方法を提供することである。
　本発明者らは、上記の課題を踏まえて鋭意検討した。その結果、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属とトリフルオロ酢酸エステルを反応させて１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体を少なくとも含む反応混合物（Ａ）を得て、次いで得られた反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させることにより、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物が製造できることを見出した。さらに、該水和物を脱水することで、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンを製造することができた。
　すなわち、本発明は以下の発明１～１４を含む。
　［発明１］
　以下の第１工程と第２工程を少なくとも含む、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を製造する方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 ［式中、ｎは正の整数を表す。］
　第１工程：一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属と、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルを反応させて、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体を少なくとも含む反応混合物（Ａ）を得る工程。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 ［式中、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 ［式中、Ｒはアルキル基を表す。］
　第２工程：第１工程で得た反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させて、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を得る工程。
　［発明２］
　第２工程で得た１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を精製することを特徴とする、発明１の方法。
　［発明３］
　反応溶媒を用いて第１工程の反応を行うことを特徴とする、発明２の方法。
　［発明４］
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物より分離した反応溶媒および反応原料からなる群から選ばれる１種以上をさらに再利用することを特徴とする、発明３の方法。
　［発明５］
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体が、一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールである、発明１乃至４の何れか一の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 ［式中、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒはアルキル基を表す。］
　［発明６］
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体が、一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールである、発明１乃至４の何れか一の方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 ［式中、Ｒ2は水素原子またはアルキル基を表す。］
　［発明７］
　一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属のＭがリチウム原子であることを特徴とする、発明１乃至６の何れか一の方法。
　［発明８］
　酸が硫酸であることを特徴とする、発明１乃至７の何れか一の方法。
　［発明９］
　発明１乃至８の何れか一の方法により１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を製造する工程と、得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を脱水する工程を含む、式［４］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンを製造する方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　［発明１０］
　一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタール。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 ［式中、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒはアルキル基を表す。］
　［発明１１］
　一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタール。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 ［式中、Ｒ2は水素原子またはアルキル基を表す。］
　［発明１２］
　以下の第１’工程と第２’工程を少なくとも含む、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を製造する方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 ［式中、ｎは正の整数を表す。］
　第１’工程：式［７］で示される３，３，３－トリフルオロプロピンと、一般式［８］で示される有機リチウム試薬またはグリニャール試薬を調製溶媒中で反応させて調製溶液（Ｂ）を得て、さらに調製溶液（Ｂ）と、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルを反応させて反応混合物（Ｃ）を得る工程。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 ［式中、Ｒ3は炭素数が１～８の、直鎖状または分枝状の鎖式、もしくは炭素数が３～８の環式を表し、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 ［式中、Ｒはアルキル基を表す。］
　第２’工程：第１’工程で得た反応混合物（Ｃ）を酸の存在下で水と接触させて、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を得る工程。
　［発明１３］
　第２’工程で得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を、さらに高純度に精製することを特徴とする、発明１２の方法。
　［発明１４］
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物より分離された調製溶媒および反応原料からなる群から選ばれる１種以上を、さらに精製して再利用することを特徴とする、発明１３の方法。
　３，３，３－トリフルオロプロピニル金属と、求電子剤としてのエステルを反応させることにより、トリフルオロメチル基を有するイノン（ＣＦ3Ｃ≡ＣＣＯＲ1；Ｒ1はアルキル基、アリール基等を表す。）もしくはその等価体が収率良く得られる例は報告されていない。例えば、３，３，３－トリフルオロプロピニルリチウムは、アルデヒドやケトンとは良好に反応して目的生成物を高収率で与えるが、一方でエステルとは複雑な混合物を与えるのみである（非特許文献５）。当然、本発明で開示するトリフルオロ酢酸エステルを求電子剤とする反応も一切報告されていない。さらに本発明では、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノン（ＣＦ3Ｃ≡ＣＣＯＣＦ3）またはその等価体の三重結合が水和されることになるが、ヒドロキシル基が所望の４位に導入できるか否かも全く不明であった。例えば、非特許文献４、非特許文献６および非特許文献７において、トリフルオロメチル基を有する炭素－炭素多重結合化合物［ＣＦ3Ｃ≡ＣＣＨ（ＯＡｃ）Ｍｅ、ＣＦ3Ｃ≡ＣＣＯＰｈ、（ＣＦ3）2Ｃ＝ＣＨＣＯ2Ｅｔ；Ａｃはアセチル基、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｅｔはエチル基を表す。］と各種求核剤との反応が報告されているが、トリフルオロメチル基を電子求引基とする共役付加物が主生成物として得られており、本発明での所望の位置選択性とは逆である。
　本発明の原料基質の１つである３，３，３－トリフルオロプロピニル金属は、３，３，３－トリフルオロプロピンから容易に誘導することができ、３，３，３－トリフルオロプロピンは大量規模での入手が容易である。また、もう１つの原料基質であるトリフルオロ酢酸エステルも、大量規模での入手が容易である。この様に、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの工業的に採用容易な製造方法を提供することができる。
　本発明の１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法について詳細に説明する。本発明の範囲は、これらの説明に限定されることなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更し実施することができる。また、本明細書において引用した全ての刊行物（例えば先行技術文献の特許文献および非特許文献等）の内容は、参照として本明細書に組み込まれるものとする。なお、以下の説明において、一般式［１］～［３］、［５］、［６］および［８］並びに式［４］および式［７］の具体的な構造は、先に示した通りである。
　本発明では、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属と、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルを反応させて反応混合物（Ａ）を得て、次いで、得られた反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させることにより、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を製造することができる。該水和物は、脱水することにより、式［４］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンを製造することができる。ここで、前記反応混合物（Ａ）中には、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体が成分として少なくとも含まれる。１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体は、後述する第２工程（酸存在下での水との接触）を経て、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を与えるものであれば、特に限定されない。前記等価体としては例えば、一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタール、一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールが挙げられるが、これらに限定されない。これらは１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの非常に重要な等価体であり、さらに１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンまたはその水和物の非常に重要な前駆体となる。
　［第１工程］
　最初に、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属と、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルを反応させて１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体を少なくとも含む反応混合物（Ａ）を得る第１工程について説明する。また、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体として、明示的に１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールを反応混合物（Ａ）中の成分として含む場合を「第１ａ工程」といい、明示的に１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールを反応混合物（Ａ）中の成分として含む場合を「第１ｂ工程」という。また、第１工程において、前記３，３，３－トリフルオロプロピニル金属として、後述する調製溶液（Ｂ）（単に「調製溶液」と呼ぶことがある。）を用いる場合を「第１’工程」といい、第１’工程で得られる反応混合物を反応混合物（Ｃ）という。本明細書において、第１工程、第１ａ工程、第１ｂ工程および第１’工程をそれぞれ明確に区別する場合を除いて、第１工程として説明する態様には第１ａ工程、第１ｂ工程および第１’工程も含まれるものとする。
　第１工程における一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属のＭは、リチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。その中でも、第１工程における所望の反応を円滑に進行させるには、リチウム原子、塩化マグネシウム基（ＭｇＣｌ）および臭化マグネシウム基（ＭｇＢｒ）が好ましく、リチウム原子が特に好ましい。
　３，３，３－トリフルオロプロピニル金属は、非特許文献２～４およびRussian Journal of Organic Chemistry （ロシア），1993年，第29巻，p.1445-1449等を参考にして、３，３，３－トリフルオロプロピンから誘導することができる。具体的には、３，３，３－トリフルオロプロピンと、一般式［８］で示される有機リチウム試薬またはグリニャール試薬を、後述する調製溶媒中で、－１５０～＋５０℃で１２時間以内で反応させることにより、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属を収率良く調製することができる［調製溶液（Ｂ）］。この調製においては、市販の濃度調整された有機リチウム試薬またはグリニャール試薬の各種溶液を用いるのが簡便である。３，３，３－トリフルオロプロピンの使用量は、有機リチウム試薬またはグリニャール試薬１モルに対して０．７モル以上を用いればよく、０．８～１．６モルが好ましく、０．９～１．３モルが特に好ましい。また、調製溶液の使用量は、第１工程における反応溶媒の使用量に記載された内容を考慮すればよい。また、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属は、非特許文献５およびChem.Commun. （英国），2002年，p.2420-2421等を参考にして、２－ブロモ－３，３，３－トリフルオロプロペンまたは１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから誘導することもできる。当然、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属の調製は、これらの上記の方法に限定されるものではない。
　３，３，３－トリフルオロプロピンは、国際公開2008/132964号等で開示された製造方法を採用すれば、大量規模での入手が容易である。したがって、３，３，３－トリフルオロプロピンは、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造における求核剤（ＣＦ3ＣＯＣＨ2 -等価体）として、背景技術で用いられていたトリフルオロアセトンやトリフルオロアセト酢酸エステルに比べて、工業的に採用容易である。そのため、３，３，３－トリフルオロプロピンからの誘導は、本発明における好ましい態様である。
　第１工程における３，３，３－トリフルオロプロピニル金属は、本工程および後述する第２工程の反応を阻害しないものであれば不純物を含んでいてもよく、どのような経緯で得たものを用いてもよい。３，３，３－トリフルオロプロピニル金属は精製したものを反応に供してもよいが、熱、水分および酸素等に対して不安定なため、生成物として３，３，３－トリフルオロプロピニル金属を含む溶液（調製溶液）を直接反応に供するのが良い。この溶液の溶媒（調製溶媒）には、第１工程で用いる反応溶媒がよい。
　また、反応原料である３，３，３－トリフルオロプロピニル金属の調製方法によっては、水素化リチウム、リチウムのハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化物またはヨウ化物）、マグネシウムのハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化物またはヨウ化物）、メタン、エタン、プロパン、ｎ－ブタン、ベンゼン、ジイソプロピルアミン、ヘキサメチルジシラザンもしくは２，２，６，６－テトラメチルピペリジン等が調製溶液に混入する場合もあるが、敢えて取り除く必要はなく、これらの存在下で第１工程の反応を行うことができる。当然、これらの系内に混入する化合物を意図的に添加して反応を行うこともできる。
　本発明に係る一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属には、これ自体（ＣＦ３Ｃ≡ＣＭ）の会合体、調製溶液に混入する化合物または溶媒との錯体、および該錯体の会合体等も含まれるものとする。
　第１工程における一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルのＲは、アルキル基を表す。該アルキル基は、炭素数が１～１２の、直鎖状または分枝状の鎖式、もしくは炭素数が３～１２の環式である。その中でも炭素数が１～４のアルキル基が好ましく、メチル基およびエチル基が特に好ましい。また、該アルキル基は、所望の反応に対して実質的に影響を与えることのない置換基を有していてもよく、この様な置換アルキル基も、本発明の請求項に記載した、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルのＲに含まれるものとして扱う。係る置換基としては、フッ素原子および塩素原子等のハロゲン原子、並びにメトキシ基およびエトキシ基等の炭素数が１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
　一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルの使用量は、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属１モルに対して０．７モル以上を用いればよく、０．８～５モルが好ましく、０．９～３モルが特に好ましい。
　第１工程において、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属と一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルの反応は、亜鉛のハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化物またはヨウ化物）、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体、１２－クラウン－４、ポリエチレングリコール、ヘキサメチルリン酸トリアミド（略称：ＨＭＰＡ）およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン（略称：ＴＭＥＤＡ）等の添加剤を加えることにより、所望の反応が円滑に進行する場合がある。当然、本発明の好適な反応条件を採用することにより、必ずしも添加剤を加える必要はない。
　また、第１工程は、バッチ型反応だけでなく、フロー型反応で行うこともできる。当然、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属の調製からトリフルオロ酢酸エステルとの反応までを連続的にフロー型反応で行うこともできる。
　第１工程では反応溶媒を用いてもよい。この反応溶媒としては、ｎ－ペンタン、ｎ－ヘキサン、シクロヘキサンおよびｎ－ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンおよびメシチレン等の芳香族炭化水素系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、１，４－ジオキサン、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、２－メチルテトラヒドロフラン、ジエトキシメタン、ジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、ジｎ－ブチルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル系、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンおよび１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系、並びにジメチルスルホキシド等が使用可能である。その中でも脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系およびエーテル系が好ましく、エーテル系が特に好ましい。これらの反応溶媒は、単独でまたは組み合わせて用いることができる。
　第１工程における反応溶媒の使用量は、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属１モルに対して０．０５Ｌ（Ｌはリットルを表す。以下同じ。）以上を用いればよく、０．１～３０Ｌが好ましく、０．２～２０Ｌが特に好ましい。該使用量には、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属の溶液に伴う溶媒も含まれる。
　第１工程における反応温度は、＋７５℃以下で行えばよく、＋５０～－１００℃が好ましく、＋２５～－７５℃が特に好ましく、０～－５０℃が極めて好ましい。本反応温度は、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属の調製温度ではなく、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルとの反応温度を対象とする。
　第１工程における反応時間は、４８時間以内で行えばよく、原料基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、核磁気共鳴等の分析手段により、反応の進行状況を追跡し、原料基質の減少が殆ど認められなくなった時点を終点とすればよい。
　第１工程の反応の後処理は、有機合成における一般的な操作を採用することにより、反応混合物（Ａ）を得ることができる。この反応混合物（Ａ）中には成分として、中間体である１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノン（ＣＦ3Ｃ≡ＣＣＯＣＦ3）または１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体が少なくとも含まれる。該等価体は具体的には、金属ヘミケタール、水和物およびアルキルヘミケタール等が挙げられる。その他には、第１工程で用いた反応溶媒、副生成物（例えば、対応する金属アルコキシド：ＲＯＭ）、未反応原料資材等が含まれることもある。これらの反応溶媒、副生成物、未反応原料資材等が含まれる場合、後述するように、第２工程で１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を得た後、該１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を精製することで分離されたこれらの反応溶媒、副生成物、未反応原料資材等を回収し、精製して本発明に再利用することができる。
　次工程では、反応混合物（Ａ）として得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体は単離して、もしくは単離することなく用いることができる。何れの態様も、本発明の請求項に記載した反応混合物（Ａ）に含まれる。
　［第２工程］
　次に、第１工程で得た反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させて、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を得る第２工程について説明する。また、反応混合物（Ａ）が明示的に１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールを含む場合を「第２ａ工程」といい、反応混合物（Ａ）が明示的に１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールを含む場合を「第２ｂ工程」という。また、第１工程で得た反応混合物（Ａ）の代わりに第１’工程で得た反応混合物（Ｃ）を用いる場合を「第２’工程」という。本明細書において、第２工程、第２ａ工程、第２ｂ工程および第２’工程をそれぞれ明確に区別する場合を除いて、第２工程として説明する態様には第２ａ工程、第２ｂ工程および第２’工程も含まれるものとする。
　第２工程は、第１工程で、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属と、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルとの反応で得られる反応終了液に対して、一切処理をすることなく、そのまま行うのが簡便で且つ工業的である。
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの構造式は、下記式で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体の具体例として、一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールがある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 ［式中、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒはアルキル基を表す。ＭおよびＲは、それぞれ一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属のＭ、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルのＲに由来し、同じ金属およびアルキル基を採る。］
　例えば、実施例２で後述する様に、３，３，３－トリフルオロプロピニルリチウムとトリフルオロ酢酸エチルを反応させて得られた反応混合液を、直接、トリメチルシリルクロリドと反応させることにより、下記式で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのトリメチルシリルエチルケタールを収率良く得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 ［式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。］
　このことから、一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタール（Ｍ；リチウム原子、Ｒ；エチル基）が、前記反応混合液中に存在していることが証明される。
　反応混合物（Ａ）中に成分として含まれる１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体は、一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールに限定されるものではなく、第２工程（酸存在下での水との接触）を経て、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を与えるものであればよい。この様な１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体としては、一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールも挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 ［式中、Ｒ2は水素原子またはアルキル基を表す。このＲ2がアルキル基の場合には、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルのＲに由来し、同じアルキル基を採る。］
　第２工程における酸の種類としては、特に制限はない。例えば塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、過塩素酸、硫酸、硝酸およびフルオロスルホン酸等の無機酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸およびパラトルエンスルホン酸等の有機酸を用いることができる。その中でも、第２工程における水との接触を円滑に進行させるには、無機酸が好ましく、硫酸が特に好ましい。
　第２工程における酸の使用量は特に制限はなく、通常一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属１モルに対して０．０１～２００モルを用いればよい。特に第２ａ工程においては、０．７モル以上を用いればよく、０．８～１００モルが好ましく、０．９～５０モルが特に好ましい。また、第２ｂ工程においては、０．３モル以下の触媒量でもよい。
　第２工程における水の使用量は、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属１モルに対して０．０３Ｌ以上を用いればよく、０．０４～３０Ｌが好ましく、０．０５～１５Ｌが特に好ましい。
　３，３，３－トリフルオロプロピニル金属とトリフルオロ酢酸エステルとの反応で得られる反応混合物（Ａ）に対して本工程を行う場合、水との接触が２相系になることが多い。この様な２相系の接触は、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムクロリド、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドおよびメチルトリ－ｎ－オクチルアンモニウムクロリド等の４級アンモニウム塩、ならびにテトラ－ｎ－ブチルホスホニウムクロリド、テトラ－ｎ－ブチルホスホニウムブロミドおよびメチルトリフェニルホスホニウムクロリド等の４級ホスホニウム塩等の相間移動触媒の存在下で行うことにより、所望の水との接触が円滑に進行する場合がある。当然、本発明の好適な反応条件を採用することにより、必ずしも相間移動触媒を加える必要はない。
　第２工程に供する反応混合物（Ａ）は、３，３，３－トリフルオロプロピニル金属の調製溶媒や第１工程で用いた反応溶媒が成分として含まれるものであってもよいし、溶媒の一部もしくは全部を取り除いたもの、または溶媒の一部もしくは全部を他の溶媒に置換したものであってもよい。
　本工程は、反応混合物（Ａ）が溶媒を含まないニートの状態で行うこともできる。
　第２工程において、第１工程で得た反応混合物（Ａ）をそのまま酸の存在下で水と接触させることができるが、新たに溶媒（前記第１工程の反応溶媒と区別するために「接触溶媒」と呼ぶ。）を用いてもよい。ここで用いる接触溶媒の種類としては、第１工程で使用可能な反応溶媒から選ばれることが好ましいが、他の溶媒を選ぶこともできる。他の溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムおよび１，２－ジクロロエタン等のハロゲン系、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノールおよびｔｅｒｔ－ブタノール等のアルコール系、ならびにアセトニトリル、プロピオニトリルおよびベンゾニトリル等のニトリル系等が挙げられる。これらと第１工程で使用可能な反応溶媒も含めた中でも、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系およびアルコール系が好ましく、エーテル系が特に好ましく接触溶媒として用いることができる。ここで挙げた溶媒は、単独でまたは組み合わせて用いることができる。
　第２工程における接触溶媒の使用量（第１工程の溶媒が含まれる場合は合計の使用量）は、一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属１モルに対して０．０５Ｌ以上を用いればよく、０．１～３０Ｌが好ましく、０．２～２０Ｌが特に好ましい。
　第２工程において、反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させる際の接触温度は、１５０℃以下で行えばよく、１２５～１０℃が好ましく、１００～２０℃が特に好ましく、７５～３０℃が極めて好ましい。
　第２工程において、反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させる際の接触時間は、４８時間以内で行えばよく、中間体（１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体）および接触条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、核磁気共鳴等の分析手段により、接触の進行状況を追跡し、中間体の減少が殆ど認められなくなった時点を終点とすればよい。
　第２工程の接触の後処理は、有機合成における一般的な操作を採用することにより、目的生成物である一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を高い選択性で、且つ収率良く得ることができる。「有機合成における一般的な操作」としては、例えば、接触終了液が２相分離する場合は、有機層を回収して濃縮し、残渣に貧溶媒を加えて冷却し、析出した結晶を濾取、乾燥する操作が一例として挙げられるが、これに限定されるものではない。また、このとき１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物から分離した第１工程、第２工程由来の反応溶媒、副生成物、未反応原料資材等は、回収して、それぞれ精製して本発明に再利用することができる。また、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物の精製に貧溶媒を用いた場合、この貧溶媒を回収して精製し、本発明に再利用することもできる。
　ここで、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物のｎは、正の整数を表し、上限は特に設定されない。
　ｎが１の場合は、１水和物を表し、下記式で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 　ｎが２の場合は、２水和物を表し、下記式で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 　ｎが３以上の場合は、２水和物に水素結合等を介して、さらに１つ以上の水分子が存在することを表し、ｎが極端に大きな整数の場合は、２水和物が水溶液の状態で存在することを表す。当然、片方または両方のカルボニル基が残存する状態（それぞれ１水和物、無水物に対応する。）で、１つの水分子と共存する場合も、それぞれ２水和物、１水和物として扱う。その中でもｎが１および２の水和物が好ましく、ｎが２の水和物が特に好ましい。
　一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物は、ｇｅｍ－ジオール基を有するにも拘わらず、エーテル系の抽出溶媒で、水層から効率良く回収することができる。この抽出溶媒としては、第１工程で例示したエーテル系の反応溶媒が挙げられる。回収された粗生成物は、必要に応じて活性炭処理、分別蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等により、高い純度に精製することができる。１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物は、固体（結晶）として単離することができ、さらに貧溶媒による洗浄等の簡便な操作で精製できる。従って、後述する脱水工程を経て、高純度の１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトン（無水物）を得ることができる（特開２００１－１８７７６０号公報を参照）。また、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物の精製として貧溶媒による洗浄操作を行う場合、洗浄後の溶液を回収し、該貧溶媒を精製することで、本発明に再利用することもできる。
　前述した１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのトリメチルシリルエチルケタールからも、酸の存在下で水と接触させることにより、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を収率良く得ることができる（実施例２を参照）。本発明の反応混合物（Ａ）中の成分として、第１工程で得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたは１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体をこの様に変換した誘導体も含まれていてもよい。該誘導体の種類には、特に制限はなく、Protective Groups in Organic Synthesis,Third Edition,1999,John Wiley & Sons,Inc.等に記載されているヒドロキシル基の保護基の中でも、酸存在下で水との接触により、脱保護できる保護基で保護された誘導体が好ましく、ホルミル基、アセチル基およびベンゾイル基等のアシル保護基、ならびにトリメチルシリル基、トリエチルシリル基およびジメチル－ｔｅｒｔ－ブチルシリル基等のシリル保護基で保護された誘導体が特に好ましい。
　この様に、一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールおよび、一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールは、本発明の製造方法における極めて重要な中間体であり、本発明者らの知る限りにおいて、新規化合物である。
　一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールのＭは、リチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。
　一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールのＲは、アルキル基を表す。該アルキル基は、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルのＲに由来し、同じアルキル基を採る。
　一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールのＲ２は、水素原子またはアルキル基を表す。該アルキル基は、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルのＲに由来し、同じアルキル基を採る。
　［脱水工程］
　次に、「１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を脱水する工程」について説明する。
　第２工程で得られた一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物は、本工程に好適に用いることができ、式［４］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンを高い選択率で且つ収率良く得ることができる。本工程の具体的な操作は、特開２００１－１８７７６０号公報、特開２００１－２６１６０７号公報、特開２００１－３５４６１０号公報、特開２００４－２４６６号公報ならびに、これらの引用文献（J. Inorganic and Nuclear Chemistry，1956年，第2巻，p.11-31および非特許文献１等）等を参考にして同様に行えばよい。例えば特開２００１－１８７７６０号公報では、脱水剤として濃硫酸を用いて１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物を脱水する方法が記載されている。
　脱水の方法は、特に制限はなく、例えば、熱分解する方法、共沸脱水する方法、脱水剤を用いる方法が例示できる。その中でも脱水剤を用いる方法が好ましい。
　脱水剤は、前記の特開２００１－１８７７６０号公報で用いられる濃硫酸以外に、無水酢酸、五酸化二リン、ソーダ石灰、塩化カルシウム、無水塩化亜鉛、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸カルシウム、アルミナ、シリカゲルおよび合成ゼオライト等を用いることができる。
　実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。
　［実施例１］
　テトラヒドロフラン５０ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 で示されるトリフルオロ酢酸エチル５．１ｇ（３６ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ）を加え、撹拌しながら－３０℃に冷却してＩ液とした。
　一方、テトラヒドロフラン５０ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 で示される３，３，３－トリフルオロプロピン４．０ｇ（４３ｍｍｏｌ、１．４ｅｑ）を０℃で加え、さらにｎ－ブチルリチウムのｎ－ヘキサン溶液（１．６Ｍ）１９ｍＬ（３０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－３０℃で加え、同温度で１５分撹拌してＩＩ液とした。
　Ｉ液にＩＩ液を加え、－３０℃で２時間撹拌した（反応終了液）。ここまでの操作は、窒素ガス雰囲気下で行った。硫酸水溶液７８ｇ［濃硫酸１５ｇ（１５０ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ）と氷水６３ｇから調製］に、反応終了液を０℃で加え、５０℃で１０時間撹拌した（２相系）。２相分離し、水層をｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテルで抽出し、有機層を合わせた。
　回収有機層の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物が２５ｍｍｏｌと、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの１水和物が０．６０ｍｍｏｌ含まれていた。目的生成物の合算収率は、８７％であった。
　回収有機層を水２０ｍＬで洗浄し、減圧濃縮（４０℃／６０ｍｍＨｇ）し、残渣にトルエン１８ｍＬを加え、氷冷下で３時間１０分撹拌し、析出した結晶を濾過し、減圧乾燥することにより、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物（２水和物：１水和物＝９７：３）が４．０ｇ得られた。トータル収率は、５３％であった。１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物と１水和物の、1Ｈ－ＮＭＲと19Ｆ－ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ－ＮＭＲ［基準物質；（ＣＨ3）4Ｓｉ、重溶媒；ＣＤ3ＣＮ］
２水和物／δ ｐｐｍ；６．０８（２Ｈ）、ヒドロキシル基の４つのプロトンは帰属できず。
19Ｆ－ＮＭＲ（基準物質；ＣＦＣｌ3、重溶媒；ＣＤ3ＣＮ）
２水和物／δ ｐｐｍ；－８７．７８（６Ｆ）。
１水和物／δ ｐｐｍ；－８０．０２（３Ｆ）、－８６．８１（３Ｆ）。
　得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物３．４ｇ（１４ｍｍｏｌ、１ｅｑ）に、濃硫酸６．８ｇ（６９ｍｍｏｌ、４．９ｅｑ）を１０℃で加え、室温で３時間３５分撹拌した（２相系）。
　脱水終了液を２相分離することにより、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンが２．７ｇ得られた。回収率は、９３％であった。ガスクロマトグラフィー純度は、９９．８％であった。１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの1Ｈ－ＮＭＲと19Ｆ－ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ－ＮＭＲ［基準物質；（ＣＨ3）4Ｓｉ、重溶媒；ＣＤ3ＣＮ］
δ ｐｐｍ；１０．４５（２Ｈ）。
19Ｆ－ＮＭＲ（基準物質；ＣＦＣｌ3、重溶媒；ＣＤ3ＣＮ）
δ ｐｐｍ；－７７．１８（６Ｆ）。
　［実施例２］
　テトラヒドロフラン４０ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 で示されるトリフルオロ酢酸エチル７．１ｇ（５０ｍｍｏｌ、１．９ｅｑ）を加え、撹拌しながら－７８℃に冷却してＩ液とした。
　一方、テトラヒドロフラン６０ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 で示される３，３，３－トリフルオロプロピン２．５ｇ（２７ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を０℃で加え、さらにｎ－ブチルリチウムのｎ－ヘキサン溶液（１．６Ｍ）１６ｍＬ（２６ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－７８℃で加え、同温度で３０分撹拌してＩＩ液とした。
　Ｉ液にＩＩ液を加え、－７８℃で１時間撹拌した（反応混合液）。ここまでの操作は、窒素ガス雰囲気下で行った。トリメチルシリルクロリドのテトラヒドロフラン溶液２１ｇ［トリメチルシリルクロリド３．０ｇ（２８ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）とテトラヒドロフラン１８ｇから調製］に、反応混合液を０℃で加え、室温で３日間撹拌した（反応終了液）。
　反応終了液の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのトリメチルシリルエチルケタールが２０ｍｍｏｌ含まれていた。該等価体の収率は、７７％であった。
　反応終了液を直接、減圧濃縮し（４０℃／２００ｈＰａ）、析出した塩化リチウムをデカンテーションにより取り除き、減圧蒸留（４６～６５℃／～２．８ｋＰａ）することにより、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのトリメチルシリルエチルケタールが４．２ｇ得られた。トータル収率は、５４％であった。ガスクロマトグラフィー純度は、９７．４％であった。１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのトリメチルシリルエチルケタールの1Ｈ－ＮＭＲ、13Ｃ－ＮＭＲと19Ｆ－ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ－ＮＭＲ［基準物質；（ＣＨ3）4Ｓｉ、重溶媒；ＣＤＣｌ3］
δ ｐｐｍ；０．２６（９Ｈ）、１．２９（３Ｈ）、３．７８（２Ｈ）。
13Ｃ－ＮＭＲ［基準物質；（ＣＨ3）4Ｓｉ、重溶媒；ＣＤＣｌ3］
δ ｐｐｍ；０．８２、１４．７８、６１．３７、７３．８９、７９．５３、９１．０２、１１３．４２、１２０．５７。
19Ｆ－ＮＭＲ（基準物質；Ｃ6Ｆ6、重溶媒；ＣＤＣｌ3）
δ ｐｐｍ；７８．０９、１０９．９５。
　得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのトリメチルシリルエチルケタール０．１５ｇ（０．４９ｍｍｏｌ、１ｅｑ）に、テトラヒドロフラン２．０ｍＬと硫酸水溶液１．３ｇ［濃硫酸０．３０ｇ（３．１ｍｍｏｌ、６．３ｅｑ）と水１．０ｇから調製］を加え、４０℃で３時間３０分撹拌し、さらに５０℃で４時間３０分撹拌した（均一溶液）。
　反応終了液の19Ｆ－ＮＭＲ分析より、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物への変換率を測定したところ、９３％であった。
　［実施例３］
　ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル３６ｋｇに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 で示される３，３，３－トリフルオロプロピン６．５ｋｇ（６９ｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－９８～－４４℃で加え、さらにｎ－ブチルリチウムのｎ－ヘプタン溶液（２５ｗｔ％）１７ｋｇ（６６ｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－１０３～－２８℃で加え、－３０℃で３０分撹拌した。さらに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 で示されるトリフルオロ酢酸エチル９．５ｋｇ（６７ｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－３８～－３３℃で加え、－３０℃で２時間撹拌した（反応終了液）。ここまでの操作は、窒素ガス雰囲気下で行った。硫酸水溶液６４ｋｇ［濃硫酸１６ｋｇ（１６０ｍｏｌ、２．４ｅｑ）と水４８ｋｇから調製］に、反応終了液を３℃で加え、５℃で３０分攪拌した（２相系）。
　２相分離し、回収有機層の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのエチルヘミケタールが３７ｍｏｌと、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物が２９ｍｏｌ含まれていた。該等価体の合算収率は、定量的であった。
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのエチルヘミケタールと水和物の、19Ｆ－ＮＭＲを以下に示す。
19Ｆ－ＮＭＲ（基準物質；ＣＦＣｌ3、重溶媒；使用せず、回収有機層のままで測定）
エチルヘミケタール／δ ｐｐｍ；－８５．０５（３Ｆ）、－５２．５２（３Ｆ）。
水和物／δ ｐｐｍ；－８６．３７（３Ｆ）、－５２．５２（３Ｆ）。
　得られた回収有機層に、新たに硫酸水溶液２９ｋｇ［濃硫酸０．２９ｋｇ（３．０ｍｏｌ、０．０４５ｅｑ）と水２９ｋｇから調製］を加え、５２℃で１０時間撹拌した（２相系）。
　２相分離し、回収有機層の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物が５８ｍｏｌ含まれていた。目的生成物の収率は、８８％であった。回収有機層を水４０ｋｇで洗浄し、減圧濃縮（油浴温度：～２９℃、減圧度：～６．２ｋＰａ）し、残渣にｎ－ヘプタン３０ｋｇを加え、再び減圧濃縮（油浴温度：～３３℃、減圧度：～５．５ｋＰａ）し、さらにｎ－ヘプタン４５ｋｇを加え、４℃で２時間撹拌し、析出した結晶を濾過し、減圧乾燥することにより、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物（２水和物：１水和物＝９２：８）が１３ｋｇ得られた。トータル収率は、８２％であった。
　濃硫酸４．０ｋｇ（４１ｍｏｌ、２．６ｅｑ）に、得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物４．０ｋｇ（１６ｍｏｌ、１．０ｅｑ）を１５～２０℃で加え、同温度で３時間３０分撹拌した（２相系）。
　脱水終了液を２相分離することにより、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの粗体が３．３ｋｇ得られた。回収率は、定量的であった。粗体のガスクロマトグラフィー純度は、９９．７％であった。
　粗体３．２ｋｇ（１５ｍｏｌ、１．０ｅｑ）に、濃硫酸０．３３ｋｇ（３．４ｍｏｌ、０．２３ｅｑ）を加え、分別蒸留（留出温度６９℃／大気圧）することにより、上記式で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製品が２．６ｋｇ得られた。回収率は、８１％であった。精製品のガスクロマトグラフィー純度は、１００．０％であった。
　［実施例４］
　テトラヒドロフラン３５ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 で示されるトリフルオロ酢酸エチル９．２ｇ（６５ｍｍｏｌ、１．６ｅｑ）を加え、撹拌しながら－４０℃に冷却してＩ液とした。
　一方、テトラヒドロフラン３５ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 で示される３，３，３－トリフルオロプロピン４．０ｇ（４３ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）を０℃で加え、さらにメチルマグネシウムクロリドのテトラヒドロフラン溶液（２．０Ｍ）２０ｍＬ（４０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を０℃で加え、同温度で３０分撹拌してＩＩ液とした。
　Ｉ液にＩＩ液を加え、－３０℃で１時間１０分撹拌した（反応終了液）。ここまでの操作は、窒素ガス雰囲気下で行った。硫酸水溶液１００ｇ［濃硫酸２０ｇ（２００ｍｍｏｌ、５．０ｅｑ）と氷水８４ｇから調製］に、反応終了液を０℃で加え、５０℃で１時間１０分撹拌した（２相系）。２相分離し、水層をｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテルで抽出し、有機層を合わせた。
　回収有機層の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物と、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの１水和物が合算で１４ｍｍｏｌ含まれていた。目的生成物の合算収率は、３５％であった。
　［実施例５］
　ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル９０ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 で示される３，３，３－トリフルオロプロピン１２ｇ（１３０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）を－４９～－５０℃で加え、さらにｎ－ブチルリチウムのｎ－ヘプタン溶液（２５ｗｔ％）３１ｇ（１２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－５６～－２６℃で加え、－３０℃で３５分撹拌した。さらに、下記式：
で示されるトリフルオロ酢酸メチル１６ｇ（１２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－４５～－４０℃で加え、－３０℃で２時間撹拌した（反応終了液）。ここまでの操作は、窒素ガス雰囲気下で行った。硫酸水溶液１１７ｇ［濃硫酸２９ｇ（３００ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ）と水８８ｇから調製］に、反応終了液を５℃で加え、同温度で１５分攪拌した（２相系）。
　２相分離し、回収有機層の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのメチルヘミケタールと、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物が合算で１２０ｍｍｏｌ含まれていた。該等価体の合算収率は、定量的であった。
　１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのメチルヘミケタールの19Ｆ－ＮＭＲを以下に示す。
19Ｆ－ＮＭＲ（基準物質；ＣＦＣｌ3、重溶媒；使用せず、回収有機層のままで測定）
δ ｐｐｍ；－８４．１５（３Ｆ）、－５１．７６（３Ｆ）。
　得られた回収有機層に、新たに硫酸水溶液６０ｇ［濃硫酸０．６０ｇ（６．１ｍｍｏｌ、０．０５１ｅｑ）と水５９ｇから調製］とｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル４２ｍＬを加え、４９℃で１５時間撹拌した（２相系）。
　２相分離し、回収有機層を水５０ｍＬで洗浄し、19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物が９９ｍｍｏｌ含まれていた。目的生成物の収率は、８３％であった。
　［実施例６］
　実施例３で減圧濃縮により得られた留出液２１０９．０ｇに、３３％水酸化ナトリウム水溶液２６．４ｇ［水酸化ナトリウム８．８ｇ（２２０ｍｍｏｌ）と水１７．６ｇから調製］を加えて分別蒸留（理論段数１０段）することにより、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル［留出温度～６２℃、大気圧］を８８７．６ｇ、ｎ－ヘプタン［留出温度～９９℃、大気圧］を７２６．９ｇ回収した。
　回収して得られたｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル１２０ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 で示される３，３，３－トリフルオロプロピン１６．０ｇ（１７０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）を－５１～－３８℃で加え、さらにｎ－ブチルリチウムのｎ－ヘプタン溶液（２５ｗｔ％）４１．０ｇ（１６０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－５１～－２９℃で加え、－３０℃で３０分撹拌した。さらに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 で示されるトリフルオロ酢酸エチル２３．９ｇ（１６８ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）を－４２～－３９℃で加え、－３０℃で２時間撹拌した（反応終了液）。ここまでの操作は、窒素ガス雰囲気下で行った。硫酸水溶液１５７．２ｇ［濃硫酸３９．２ｇ（４００ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ）と水１１８ｇから調製］に、反応終了液を３℃で加え、５℃で１０分攪拌した（２相系）。
　２相分離し、回収有機層の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したところ、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンのエチルヘミケタールが５５ｍｍｏｌと、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物が７０ｍｍｏｌ含まれていた。該等価体の合算収率は７９％であり、回収溶媒の再利用をすることができた。
　［比較例１］
　ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル６０ｍＬに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 で示される３，３，３－トリフルオロプロピン８．０ｇ（８５ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）を－４０～－３８℃で加え、さらにｎ－ブチルリチウムのｎ－ヘキサン溶液（１．６Ｍ）５０ｍＬ（８０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を－４０～－２５℃で加え、－３０℃で１時間５分撹拌した。さらに、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 で示されるトリフルオロ酢酸エチルのｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル溶液５６ｇ［トリフルオロ酢酸エチル１２ｇ（８４ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）とｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル４４ｇから調製］を－３０℃で加え、同温度で２時間撹拌した（反応終了液）。ここまでの操作は、窒素ガス雰囲気下で行った。水８０ｍＬに、反応終了液を氷冷下で加え、５０℃で１０時間攪拌した（２相系）。
　２相分離し、回収有機層の19Ｆ－ＮＭＲ分析より内部標準法（内部標準物質；α，α，α－トリフルオロトルエン）で定量したが、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの２水和物と、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの１水和物が合算で１．３ｍｍｏｌしか含まれていなかった。該水和物の合算収率は、２％であった。
　この様に、第２工程では、第１工程で得られた反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させる必要があり、酸の非存在下で単に水と接触させるだけでは所望の反応が進行せず、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を収率良く得ることができない。このことは実施例１と比較することで明確である。
　本発明で製造する１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンは、医農薬または電子材料の中間体として利用できる。

Claims (14)

  1. 以下の第１工程と第２工程を少なくとも含む、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を製造する方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［式中、ｎは正の整数を表す。］
    　第１工程：一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属と、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルを反応させて、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンまたはその等価体を少なくとも含む反応混合物（Ａ）を得る工程。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［式中、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     ［式中、Ｒはアルキル基を表す。］
    　第２工程：第１工程で得た反応混合物（Ａ）を酸の存在下で水と接触させて、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を得る工程。
  2. 第２工程で得た１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を精製することを特徴とする請求項１に記載の方法。
  3. 反応溶媒を用いて第１工程の反応を行うことを特徴とする請求項２に記載の方法。
  4. １，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物より分離した反応溶媒および反応原料からなる群から選ばれる１種以上をさらに再利用することを特徴とする、請求項３に記載の方法。
  5. １，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体が、一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタールである、請求項１乃至４の何れか一に記載の方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     ［式中、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒはアルキル基を表す。］
  6. １，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの等価体が、一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタールである、請求項１乃至４の何れか一に記載の方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     ［式中、Ｒ2は水素原子またはアルキル基を表す。］
  7. 一般式［１］で示される３，３，３－トリフルオロプロピニル金属のＭがリチウム原子であることを特徴とする、請求項１乃至６の何れか一に記載の方法。
  8. 酸が硫酸であることを特徴とする、請求項１乃至７の何れか一に記載の方法。
  9. 請求項１乃至８の何れか一に記載の方法により１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を製造し、次いで、得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を脱水することにより、式［４］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンを製造する方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
  10. 一般式［５］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの金属ヘミケタール。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     ［式中、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒはアルキル基を表す。］
  11. 一般式［６］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－３－ペンチ－２－ノンの水和物またはアルキルヘミケタール。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     ［式中、Ｒ2は水素原子またはアルキル基を表す。］
  12. 以下の第１’工程と第２’工程を少なくとも含む、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を製造する方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     ［式中、ｎは正の整数を表す。］
    　第１’工程：式［７］で示される３，３，３－トリフルオロプロピンと、一般式［８］で示される有機リチウム試薬またはグリニャール試薬を調製溶媒中で反応させて調製溶液（Ｂ）を得て、さらに調製溶液（Ｂ）と、一般式［２］で示されるトリフルオロ酢酸エステルを反応させて反応混合物（Ｃ）を得る工程。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     ［式中、Ｒ3は炭素数が１～８の、直鎖状または分枝状の鎖式、もしくは炭素数が３～８の環式を表し、Ｍはリチウム原子またはハロゲン化マグネシウム基（ＭｇＸ）を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     ［式中、Ｒはアルキル基を表す。］
    　第２’工程：第１’工程で得た反応混合物（Ｃ）を酸の存在下で水と接触させて、一般式［３］で示される１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を得る工程。
  13. 第２’工程で得られた１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物を、さらに高純度に精製することを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
  14. １，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの水和物より分離された調製溶媒および反応原料からなる群から選ばれる１種以上を、さらに精製して再利用することを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6341040B2 (ja) * 2014-09-30 2018-06-13 セントラル硝子株式会社 １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法
TW202104480A (zh) * 2019-04-03 2021-02-01 紐西蘭商艾克福特士技術有限公司 溶劑乾燥組成物及其製法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6377834A (ja) * 1986-09-18 1988-04-08 Nitto Chem Ind Co Ltd メチルケトン類の製造方法
JP2000502077A (ja) * 1995-12-13 2000-02-22 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト アルキン類またはアレン類への求核剤の接触付加法
JP2001354610A (ja) * 2000-06-14 2001-12-25 Central Glass Co Ltd １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法
CN102260151A (zh) * 2011-06-28 2011-11-30 西安彩晶光电科技股份有限公司 1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮的制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3480825B2 (ja) 2000-01-05 2003-12-22 セントラル硝子株式会社 １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法
JP3494363B2 (ja) 2000-03-17 2004-02-09 セントラル硝子株式会社 １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法
JP2004002466A (ja) 2003-08-05 2004-01-08 Central Glass Co Ltd １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物の精製方法
JP5380882B2 (ja) 2007-04-17 2014-01-08 セントラル硝子株式会社 ３，３，３−トリフルオロプロピンの製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6377834A (ja) * 1986-09-18 1988-04-08 Nitto Chem Ind Co Ltd メチルケトン類の製造方法
JP2000502077A (ja) * 1995-12-13 2000-02-22 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト アルキン類またはアレン類への求核剤の接触付加法
JP2001354610A (ja) * 2000-06-14 2001-12-25 Central Glass Co Ltd １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法
CN102260151A (zh) * 2011-06-28 2011-11-30 西安彩晶光电科技股份有限公司 1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮的制备方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CREARY, XAVIER: "Reaction of organometallic reagents with ethyl trifluoroacetate and diethyl oxalate. Formation of trifluoromethyl ketones and alpha-keto esters via stable tetrahedral adducts", JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, vol. 52, no. 22, 1987, pages 5026 - 30 *
HANZAWA, YUJI ET AL.: "Enantioselective reduction of fluoroalkyl alkynyl ketones: enormous electronic effect of the trifluoromethyl group", CHEMICAL & PHARMACEUTICAL BULLETIN, vol. 35, no. 6, 1987, pages 2609 - 12 *
SHEN, YANCHANG ET AL.: "A facile synthesis of symmetrically substituted perfluoro-alpha,beta- ynones", SYNTHESIS, vol. 11, 1984, pages 924 - 6 *

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