WO2014119710A1 - コーティング液及び反射防止膜 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 88
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 83
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 title abstract 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 195
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 118
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 87
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 22
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000010248 power generation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 89
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 51
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 25
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 12
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 claims description 4
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims description 4
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 47
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 21
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 7
- 238000006748 scratching Methods 0.000 abstract 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 104
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 54
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 40
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 21
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910010275 TiOOH Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000011221 initial treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
Definitions
- the present invention relates to a coating liquid for forming an antireflection film and an antireflection film formed by applying and drying the coating liquid.
- Sunlight which is called natural energy or renewable energy
- a solar cell that converts sunlight into electricity generally has a panel structure in which a large number of photoelectric conversion elements are arranged, and a transparent protective cover for protecting the elements is disposed on the panel surface.
- a photoelectric conversion element is arranged on one surface of a transparent member. If the light transmittance of the protective cover or the transparent member affects the power generation efficiency, a glass substrate having a high light transmittance is selected as these materials, and the surface is further coated with an antireflection film for light. It is known to improve the transmittance. As an antireflection film, it is desired that the light transmittance be improved by 1.5% or more due to coating.
- the functional effect of improving hardness and antifouling can be obtained, if the light transmittance decreases due to the formation of the functional coating film, the power generation efficiency is affected.
- the decrease in light transmittance due to coating is less than 0.2%, it may be within the allowable range, but in reality, the light transmittance does not decrease. It is preferable that the light transmittance is improved.
- the antireflection film has not only an improvement in light transmittance due to coating but also a function of suppressing a decrease in light transmittance during use.
- improvement of the hardness of the substrate surface and antifouling are effective.
- the present invention has been made on the basis of the above-mentioned circumstances, and the object thereof is to provide an antireflection having high surface transmittance and high antifouling functionality by coating, thereby improving the high light transmittance.
- the object is to provide a coating liquid capable of forming a film.
- Another object of the present invention is to provide an antireflection film having a high light transmittance, a high surface hardness and antifouling functionality, which is formed by the coating method described later using the coating liquid as a raw material. There is to do.
- the gist of the present invention is as follows.
- a coating liquid for forming an antireflection film in which colloidal silica and titania-silica are dispersed in a solvent, and the molar ratio of all silicon elements and all titanium elements composing the solution (Si / Ti ) Is 3 or more (Si / Ti ⁇ 3).
- the titania-silica contains peroxo-type titania-silica and the total silicon element constituting the solution
- the molar ratio (Si / Ti) of all titanium elements is preferably 24 or more (Si / Ti ⁇ 24).
- the coating liquid, wherein the molar ratio (Si / Ti) is in the range of 24-60.
- the coating liquid, wherein the molar ratio (Si / Ti) is 30 to 55.
- the coating liquid, wherein the colloidal silica is purified from water glass as a raw material and has an alkali metal ion of 5000 ppm or less.
- the coating liquid, wherein the colloidal silica is colloidal silica made from an organic salt of silicon (Si).
- a coating solution further comprising a water-soluble alkali silicate salt is a water-soluble alkali silicate salt.
- the coating solution wherein the water-soluble alkali silicate is one or more of ammonium silicate, lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate, rubidium silicate, and cesium silicate.
- a coating liquid wherein the ratio of peroxo groups constituting the solution is 0.0005 mass% to 0.1 mass%.
- the titania-silica contains peroxo-type titania-silica, and the total silicon element and the total titanium element that constitute the antireflection film
- the molar ratio (Si / Ti) is preferably 24 or more (Si / Ti ⁇ 24).
- the antireflection film wherein the molar ratio (Si / Ti) is in the range of 24-60.
- colloidal silica and titania-silica are dispersed in a solvent, and the molar ratio (Si / Ti) of all silicon elements to all titanium elements composing the solution is 3 or more (Si / Ti ⁇ 3).
- the coating liquid is preferably adjusted to 24 to 60, more preferably 30 to 55, so that the light transmittance is improved by 1.5% or more by coating, and the scratch hardness test (pencil method, JIS K5600- In 5-4), it becomes possible to easily form an antireflection film having a surface hardness of 6H or more and capable of exhibiting an antifouling function by the photocatalytic action of titania-silica at a low temperature.
- FIG. 2 shows an antireflective coating according to an embodiment of the present invention. It is a correlation diagram of the molar ratio (Si / Ti) of a film composition and light transmittance. The water contact angle of the antireflection film is shown. The procedure for preparing titania-silica composing the coating solution is shown. It is a correlation diagram of water-soluble silica concentration and light transmittance of the antireflection film. The result of the water resistance test of the antireflection film to which water-soluble silica is not added is shown. The result of the water resistance test of the antireflection film to which water-soluble silica is added is shown. The procedure for preparing titania for the composition of the coating solution is shown.
- the glass of the solar power generation daylighting portion of the solar cell is cited as an example of the substrate to be coated, but is not limited to the solar power generation daylighting portion of the solar cell, an optical lens, Includes all materials that require light transmission properties, such as electronic device displays, building materials, and automotive window glass.
- the antireflection film 1 of the present embodiment is formed on the surface of a substrate 2 having optical transparency.
- the antireflection film 1 may be formed not only on the front surface of the substrate 2 but also on both the front surface and the back surface. Furthermore, another thin film may be interposed between the substrate 2 and the antireflection film 1.
- substrate 2 is shown in FIG. 1 as an example, the planar shape of the board
- the substrate 2 preferably has an average light transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 to 700 nm when the antireflection film 1 is not formed.
- the desired value of average light transmittance may vary depending on the application, installation location, design specifications, and the like.
- a glass substrate having an average light transmittance of, for example, 90% or more at a wavelength of 400 to 700 nm is used to obtain high power generation efficiency. If the average light transmittance satisfies the above criteria, the thickness of the substrate 2 can be variously set according to the application.
- a glass substrate having a thickness of 3 to 5 mm is used.
- the substrate 2 is preferably made of glass (glass substrate). Of these, quartz glass is preferable because of its excellent permeability. Of course, the kind of glass is not limited, and any known glass such as soda glass, crystal glass, borosilicate glass, or the like can be applied. Further, the substrate 2 can be made of a material other than glass. Examples of materials other than glass include resin materials such as transparent plastic, and transparent films having flexibility.
- the antireflection film 1 preferably satisfies the criteria for the following three main items (1) to (3), and more preferably satisfies the criteria for the two additional items (4) to (5).
- Light transmittance Improvement rate due to film formation is 1.5% or more
- Film hardness Scratch hardness test (pencil method, JIS K5600-5-4) 6H or more)
- Antifouling function demonstrating photocatalytic function
- Leveling performance film surface roughness is average film thickness ⁇ 30% or less
- Impurity level the alkali metal in the coating solution is 1200 ppm or less, more preferably 250 ppm or less, the chloride (Cl) is 5 ppm or less, the sulfide (SO 4 ) is 5 ppm or less, more preferably 1 ppm or less)
- the antireflection film 1 is formed on the surface of the substrate 2 with a thickness of, for example, 50 to 150 nm.
- the film forming method is not particularly limited, but it is preferable to form a film by a coating method described later using a coating liquid described later.
- the antireflection film 1 is formed of a film composition derived from colloidal silica and titania-silica. That is, a coating composition containing colloidal silica and titania-silica is applied to the substrate surface and dried to form a film composition in which the silica of colloidal silica and titania-silica are uniformly distributed and scattered.
- the antireflection film 1 is preferably improved in light transmittance by coating the surface of the substrate 2.
- a preferable reference value is that when a thin film having a thickness of about 100 nm is formed on a substrate, the average light transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm is improved by 1.5% or more.
- the molar ratio (Si / Ti) of all silicon elements and all titanium elements composing the antireflection film 1 is 3 or more (Si / Ti ⁇ 3). It is important that The molar ratio (Si / Ti) is preferably 3 to 96, more preferably 24 to 60, and still more preferably 30 to 55.
- the molar ratio (Si / Ti) finely according to the use of the substrate 2.
- the molar ratio (Si / Ti) is less than 3
- the light transmittance is often not improved to the standard value.
- the molar ratio (Si / Ti) is less than 1, the light transmittance may decrease. is there.
- the average light transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm decreased by 2.0%.
- the molar ratio (Si / Ti) is 24 to 60, preferably 30 to Set to 55.
- the molar ratio (Si / Ti) is small, the antifouling function is improved by the amount of the titania content, but on the other hand, the light transmittance and film hardness may be reduced. If it sets within the said range, high film
- the liquid composition and molar ratio according to the coating liquid of this embodiment it is possible to obtain an antireflection film having a low refractive index and excellent light transmittance suitable for solar cells.
- the molar ratio (Si / Ti) when the molar ratio (Si / Ti) is large, the light transmittance and the film hardness are improved, but the antifouling function may not be obtained.
- the molar ratio (Si / Ti) of the film composition can be measured using a measuring device such as ICP-AES or EDX.
- the molar ratio (Si / Ti) can also be determined from the concentrations of silica and titania-silica in the coating solution.
- the third component other than colloidal silica and titania-silica such as water-soluble silica and peroxo-type titania, which will be described later, contains Si or Ti
- the Si and Ti of these third components are also moles of all silicon elements and all titanium elements. Included in the ratio (Si / Ti).
- FIG. 2 is a correlation diagram between the molar ratio (Si / Ti) and the change rate of the average light transmittance (difference before and after film formation), and was created based on actual test results.
- the plot ⁇ represents the composition of the coating solution, a commercially available colloidal silica, and a peroxo-type titania-silica prepared by the method described later for titania-silica.
- Plot ⁇ is the result when using a TEOS-based peroxo-type titania-silica with a molar ratio adjusted.
- the substrate 2 was made of glass (average light transmittance of 90%) so that the antireflection film 1 had a thickness of 100 nm.
- the application was performed using a spray, and the film was formed by evaporating the solvent by natural drying.
- the light transmittance sharply improves in the range of the molar ratio (Si / Ti) of 1 to 3, and 1.5% when the molar ratio (Si / Ti) is 3 or more.
- the above standard values were achieved. Even when the molar ratio (Si / Ti) is 3 or more, the light transmittance is improved as the molar ratio (Si / Ti) is increased, and the improvement ratio is 2.0% or more when the molar ratio (Si / Ti) is 6 or more.
- the improvement ratio is 2.0% or more when the molar ratio (Si / Ti) is 6 or more.
- titanium-silica includes a Ti—O—Si composite compound in which Ti and Si are bonded via O, and at least TiOOH, SiOOH, TiOTi, SiOOSi, and TiOOSi are peroxidized. It means a substance containing one or more bonds, and is distinguished from titania alone or a simple mixture of titania and silica. Titania-silica exhibits a function of decomposing dirt (for example, organic substances) adhering to the substrate surface by a photocatalytic function. Furthermore, the function of preventing contamination is also exhibited by the hydrophilicity exhibited by the structural portion of silica. Such titania-silica is reported, for example, by Japanese Patent No. 2913257.
- the titania-silica is at least one of peroxo type titania-silica, anatase type titania-silica, rutile type titania-silica, and brookite type titania-silica.
- it is a mixture of peroxo titania-silica that acts as a binder and one or more titania-silicas of anatase type and brookite type that are excellent in photocatalytic activity. More preferred is a mixture of peroxo type titania-silica and anatase type titania-silica.
- Colloidal silica is a silica sol obtained by hydrolyzing an inorganic salt of silicon (Si), a silica sol obtained by hydrolyzing an organic salt, or a mixture thereof.
- the inorganic salt of silicon (Si) include ammonium silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, calcium silicate, and magnesium silicate.
- the organic salt of silicon (Si) include alkoxides of silicon such as TEOS (Tetraethyl orthosilicate), TMOS (Tetramethoxysilane), TiPOS (Tetraisopropoxysilane) or TBOS (Tetrabutoxysilane).
- TEOS is particularly preferable because it is inexpensive and has a high light transmission improvement rate.
- anionic colloidal silica and cationic silica sol can be used.
- typical examples of organic colloidal silica include products of Tama Chemical Industry Co., Ltd. and Fuso Chemical Industry Co., Ltd., which can be produced by hydrolyzing Tetraorganosilane in-house.
- Colloidal silica is, for example, a silica sol in which fine particles having a particle size of several nanometers to several tens of micrometers are dispersed in a liquid. Furthermore, it is preferable that the average particle diameter of the fine particles constituting the colloidal silica is 50 nm or less in order to reach a surface hardness of 6H or more in a scratch hardness test (pencil method, JIS K5600-5-4). Titania-silica is also a fine particle having a particle size of several nanometers to several tens of micrometers, for example, and forms a sol in the coating liquid.
- a preferred coating solution contains colloidal silica and titania-silica having the molar ratio (Si / Ti) described above.
- a sol component having a binder property that easily forms a hydrogen bond with silica (SiO 2 ) on the surface of the glass substrate is indispensable.
- Applicable examples include colloidal silica that easily forms a siloxane bond with silica on the surface of the glass substrate by dehydration condensation polymerization by hydrolysis.
- a hydrogen bond is formed. This is because there is a peroxo form easily present in the film composition.
- the presence of titanium (Ti) is indispensable because peroxo forms cannot be formed only with silicon (Si).
- the titania-silica contains peroxo-type titania-silica.
- the ratio of the peroxo group in the film composition is preferably 0.05% by mass to 10% by mass. Accordingly, when the solid content concentration of the coating liquid is 1% by mass, the ratio of peroxo groups in the liquid is preferably 0.0005% by mass to 0.1% by mass.
- the solid concentration of the coating liquid is not limited to 1% by mass. Even if the solid concentration is other than 1% by mass, the ratio of the peroxo group in the liquid may be 0.0005% by mass to 0.1% by mass when converted to 1% by mass.
- the ratio of the peroxo group is too small, it may be difficult to obtain a uniform distribution of the solution with respect to the substrate 2. On the other hand, if the ratio is too large, free hydrogen peroxide will be present, which is generated by decomposition. Bubbles may inhibit smooth film formation.
- a peroxo type titania may be added. Of course, both peroxo-type titania-silica and peroxo-type titania may be contained.
- FIG. 2 also shows the results of film hardness when the molar ratio (Si / Ti) is set to 1, 3, 6, 9, 12. The film hardness was measured after 1 day. As is clear from the results of FIG. 2, a pencil hardness of 6H was achieved at a molar ratio (Si / Ti) of 6 or more.
- titania-silica has both a photocatalytic function for decomposing organic substances and a photocatalytic function for expressing hydrophilicity, and these photocatalytic functions exhibit a high antifouling function.
- anatase type and brookite type titania-silica are excellent in photocatalytic function.
- One of the indexes for determining whether the antifouling function satisfies the reference value is the water contact angle of the antireflection film 1.
- the water contact angle is at least 20 ° or less, preferably 10 ° or less, it is determined that there is an antifouling function particularly based on hydrophilicity (measurement method; JIS R 1703-1, fine ceramics-photocatalytic material Self-cleaning test method-Part 1: Measurement of water contact angle). That is, since the water contact angle is small, foreign matter such as dust in the atmosphere is difficult to adhere to the substrate surface, and even if it adheres, the foreign matter easily flows down with rainwater or the like.
- FIG. 3 shows an antireflection film 1 in which the molar ratio (Si / Ti) is set to 12, an antireflection film (film raw material: colloidal silica) containing only silica (SiO 2 ), and a substrate glass on which the antireflection film is not formed.
- the result of having measured the water contact angle of (no coat) is shown. The water contact angle was performed under UV exposure so that the photocatalytic function would work.
- the antireflection film 1 having a molar ratio (Si / Ti) set to 12 has a water contact angle of 20 ° or less in 144 hours (6 days) under UV exposure and 10 ° in about 350 hours. The following were achieved. That is, the antifouling function due to the photocatalytic function can be exhibited.
- the film hardness is improved by including a peroxo compound of a titanium compound. Since the peroxo group of the titanium compound is limited in the position where the peroxo group is coordinated on the surface of the glass substrate, it contributes to the improvement of leveling properties during film formation. That is, by containing peroxo-type titania-silica, it is possible to easily form an antireflection film 1 that is a smooth thin film having a small unevenness on the surface and in which the crystal nucleus component is well dispersed, High prevention effect. Peroxo-type titania can be expected to have the same effects.
- the film surface roughness can be used as an indicator that the surface is smooth. When actually measured, the average film thickness was ⁇ 30%.
- a slight amount of a leveling agent may be added, and it is selected from various leveling agents and surfactants according to the film forming method.
- the use concentration is preferably about 200 ppm or less, more preferably in the range of 10 to 100 ppm.
- it selects from the products of Air Products Japan Co., Ltd., Big Chemie Japan Co., Ltd., Enomoto Kasei Co., Ltd., Kao Co., Ltd., Lion Co., Ltd., Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd., and Toho Chemical Co., Ltd.
- Impurity level It is desirable that the film composition has very little or no anionic / cationic impurities.
- Cationic impurities are in particular alkali metals.
- Anionic impurities are chloride (Cl) and sulfide (SO 4 ) in particular. If these impurities are contained, metals in the air are chemically trapped, causing contamination, which may lead to a decrease in light transmittance.
- an alkali metal is often contained in advance as a cation. Therefore, it is necessary to remove the alkali metal or select one having a small amount of alkali metal.
- colloidal silica obtained by hydrolyzing a silicon (Si) organometal (for example, silicon alkoxide) is preferable because it contains less anion and cation impurities. However, it is necessary to pay attention to the high price and the remaining amount of alcohol after the hydrolysis reaction.
- alkali metal in this solution is 1200 ppm or less, more preferably 250 ppm or less
- chloride (Cl) is 5 ppm or less
- sulfide (SO 4 ) is 5 ppm or less, more preferably, all are 1 ppm or less. It is.
- the flowchart shown in FIG. 4 shows a titania-silica solution in which peroxo-type titania-silica fine particles are dispersed, and titania-silica in which anatase-type titania-silica fine particles are dispersed using the peroxo-type titania-silica fine particles as a raw material.
- a preferred example of preparing a solution The coating liquid applied to the substrate 2 is prepared by mixing the obtained titania-silica with colloidal silica. The mixing ratio is based on the set value of the molar ratio (Si / Ti) described above. According to the preparation method shown in FIG.
- a titania-silica solution having a molar ratio (Si / Ti) of 9 is prepared according to the flowchart shown in FIG.
- a target coating solution can be prepared.
- the concentration of solid content (silica and titania-silica fine particles) in the coating liquid can be adjusted to, for example, 0.05 mass% to 5.0 mass%.
- the solvent for example, water, alcohols, hydrogen peroxide solution, dilute nitric acid, or the like can be selected.
- a suitable liquid composition has a solid concentration of 0.1 to 3.0% by mass, more preferably 0.000 to 0.1% by mass of titania-silica and / or titania containing at least 0.0005 to 0.1% by mass of peroxo group.
- a colloidal silica sol solution of 25 to 1.2% by mass.
- a colloidal silica solution containing titania-silica produced at once by hydrolysis of an organometallic raw material is suitable as shown in FIG.
- Tia raw material titanium tetraisopropoxide (TIP) and isopropanol (IPA), which is a titania raw material, and a mixture of IPA and water are mixed to hydrolyze TIP.
- TIP titanium tetraisopropoxide
- IPA isopropanol
- the fine particles of titania are separated by filtration and dried at, for example, 100 ° C. to obtain titania powder.
- the titania powder thus obtained is an amorphous titania having no grain boundary.
- the titania raw material is not limited to TIP, and other titanium alkoxides (compounds in which H in the OH group of the alcohol molecule is substituted with Ti) such as titanium tetraethoxide may be used.
- the titania gel body to which the silica precursor is added is further peroxylated by further adding an acid or an oxidizing solution (for example, 35% by mass of hydrogen peroxide water), whereby the titania and the silica are bonded by a peroxide bond.
- a sol body of titania-silica fine particles is produced (this is referred to as “secondary treatment”).
- an alkaline solution for pH adjustment for example, 35% ammonia water is added to adjust the pH to a neutral region of, for example, 6 to 8, thereby containing titania-silica containing peroxo-type titania-silica fine particles. Obtain a solution.
- the anatase-type titania-silica fine particles can be prepared by anatating the peroxo-type titania-silica fine particles. More specifically, a liquid containing peroxo-type titania-silica fine particles is heat-treated at, for example, 95 to 120 ° C. As a result, the peroxo-type titania-silica is modified into anatase-type titania-silica, and a titania-silica solution containing anatase-type titania-silica fine particles is obtained. By changing the heating temperature, it can be modified into a rutile type or a brookite type.
- the titania-silica molar ratio (Si / Ti) is measured, or calculated based on the blending amount of the titanium raw material and the silica raw material, and further according to the target value.
- a coating solution is prepared by mixing with a certain amount of colloidal silica.
- the titania-silica may be, for example, only the peroxo type, only the anatase type, or a mixture of the peroxo type and the anatase type, but the anatase type is selected when a more remarkable antifouling function is expected.
- the film forming operation may be performed in a factory or on-site.
- the coating liquid is applied to a glass substrate whose surface has been pretreated such as cleaning or polishing (hydrophilization).
- the coating method may be any method such as spray coating, dip coating, spin coating, slit coating, roller coating, and hand coating with a brush.
- the application amount is such that the liquid amount per unit area is 20 g / m 2 to 40 g / m 2 .
- the thickness of the coating film is preferably 80 nm to 130 nm.
- the coating liquid according to the present embodiment reached a film hardness of 6H when exposed outdoors. That is, the coating liquid according to the present embodiment can be formed by natural drying, and has an advantage that a heating apparatus such as a conventional heat treatment after application and an electric furnace therefor can be omitted. Of course, heat treatment may be performed.
- the temperature for the heat treatment can be set, for example, at 100 to 200 ° C.
- the antireflection film 1 that coats the surface of the light-transmitting substrate 2 such as a glass substrate contains the composition derived from colloidal silica and titania-silica, and the antireflection film 1
- the molar ratio (Si / Ti) of the total silicon element and the total titanium element constituting the composition is 3 or more (Si / Ti ⁇ 3), so that the antireflection film 1 is coated so that the wavelength of the substrate 2 is 400 to 700 nm.
- the average light transmittance is improved by 1.5% or more, the surface hardness reaches 6H or more in the scratch hardness test (pencil method, JIS K5600-5-4), and the antifouling function is exhibited by the photocatalytic action of titania-silica. be able to.
- colloidal silica and titania-silica are dispersed in a solvent as a coating liquid for forming the antireflection film 1 by a coating method, and all silicon elements and all titanium elements composing the solution are used.
- a solution having a molar ratio (Si / Ti) of 3 or more (Si / Ti ⁇ 3) an average of wavelengths of 400 to 700 nm of the substrate 2 is formed on the surface of the substrate 2 by a coating method.
- the light transmittance is improved by 1.5% or more, the surface hardness reaches 6H or more in the scratch hardness test (pencil method, JIS K5600-5-4), and the antifouling function is exhibited by the photocatalytic action of titania-silica. Can do.
- the antireflection film 1 may contain a hardness enhancer in order to further increase the film hardness.
- a hardness enhancer water-soluble silica is preferable, and a water-soluble alkali silicate whose main component is alkali silicate is particularly preferable.
- Specific examples of the substance include one or more of ammonium silicate, lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate, rubidium silicate, and cesium silicate. In the case of alkaline earth metals, the solubility is low and it is difficult to use. Further, an oxide colloidal sol of Al or Zr can be used as a hardness enhancer.
- water-soluble silica When water-soluble silica is used as the hardness enhancer, it is mixed with the above-described coating solution at a predetermined ratio and applied to the substrate as a single solution. As described above, when an alkali metal is contained in the film composition, it causes contamination and a decrease in light transmittance due to so-called glass burn. Therefore, the amount of water-soluble silica mixed is as small as possible. It is preferable that the hardness is within a range that can be obtained. That is, the mixing amount of the water-soluble silica is set to a solid ratio of 0.1 to 1.0 when the solid content of the coating liquid (that is, colloidal silica and titania-silica) is 1, for example. When a hardness of 9H is required, it is preferably set to 0.3 to 1.0.
- FIG. 5 shows the measurement results of the rate of change in average light transmittance (difference before and after film formation) and film hardness when water-soluble silica was added to the coating liquid in which the molar ratio (Si / Ti) was set to 12.
- the substrate 2 was a glass substrate (average light transmittance of 90%) and was formed so that the thickness of the antireflection film 1 was 100 nm.
- the application was performed using a spray, and the film was formed by evaporating the solvent by natural drying.
- the film hardness 9H can be achieved when the silica addition ratio is 0.3 or more, and the average light transmittance improvement rate of 1.6% or more is achieved in the range of 0.3 to 1.0. did it.
- the water resistance test is one of tests performed as a substitute for the constant temperature and humidity test.
- the substrate 2 coated with the antireflection film 1 is immersed in a bath of ion-exchanged water at a predetermined temperature, and it is determined whether or not the pencil hardness after a predetermined time elapses satisfies a required physical property (for example, 6H). .
- the pencil hardness is required to satisfy the required physical properties before immersion (for example, 6H or more).
- Pencil hardness is measured by the scratch hardness test (pencil method, JIS K5600-5-4). For example, when the substrate is a glass substrate of a daylighting portion for power generation of a solar cell, the antireflection film 1 is required to satisfy a pencil hardness of 6H in a water resistance test.
- FIG. 6 shows the results of a hot water test (90 ° C.) and a boiling water test (95 ° C. or higher) of the antireflection film 1 in which the water-soluble silica that is the above-described hardness enhancer was not added. More specifically, in the hot water test, a coating solution having a solid concentration of 3% by mass was applied to the glass substrate (dip method), and then the antireflection film 1 was formed by drying at 90 ° C. for 30 minutes. In the boiling water test, a coating solution having a solid concentration of 3% by mass was applied to the glass substrate (spray method), and then the antireflection film 1 was formed by drying at 90 ° C. for 30 minutes.
- the antireflection film 1 formed on the glass substrate with the coating liquid containing colloidal silica and titania-silica has a molarity in order to satisfy the required physical properties in the hot water and boiling water test.
- the ratio (Si / Ti) should be 24 or more, preferably 30 or more (especially 36 or more). In severe conditions such as boiling water, the film may be weakened, weakened, peeled off due to vibration caused by bumping, but the required physical properties can be improved by setting the molar ratio (Si / Ti) to 30 or more (especially 36 or more). Can be satisfied.
- the initial hardness is difficult to develop when applied by the spray method, but the initial hardness is easily expressed when applied by the dip method. In order to develop the initial hardness more reliably, it is preferable to add water-soluble silica.
- FIG. 7 shows the results of a cold water test (22.5 ⁇ 2.5 ° C.) of the antireflection film 1 to which water-soluble silica was added. More specifically, after coating (spraying) a coating liquid having a solid concentration of 3% by mass on a glass substrate, the antireflection film 1 was formed by drying at 90 ° C. for 30 minutes. The evaluation method is the same as the hot water test and the boiling water test. Further, in this test, tests were conducted at various molar ratios (Si / Ti), but the molar ratio (Si / Ti) shown in FIG. 7 includes silicon elements of water-soluble silica.
- the antireflection film 1 to which water-soluble silica is added exhibits early hardness early to satisfy the required physical properties.
- molar ratio (Si / Ti) 46 or more a required physical property can be satisfy
- the breakdown of the molar ratio is a compound having a molar ratio of colloidal silica to titania-silica (Si / Ti) of 36, and is 46 by adding Si of water-soluble silica.
- a titania solution in which peroxo-type titania fine particles are dispersed is obtained by subjecting a titania gel body not added with TEOS and EtOH to a secondary treatment with the hydrogen peroxide. Except for the sol body, it can be prepared by the same procedure as titania-silica. Further, the anatase-type titania fine particles can be prepared by anatizing the obtained peroxo-type titania fine particles.
- the peroxo type titania and the anatase type titania obtained by this method can be added to the coating solution depending on the purpose. As an example, peroxo-type titania is added when aiming at the binder function, and anatase-type titania is added when aiming at the photocatalytic function.
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Abstract
【課題】コーティングすることで高い光透過率の向上が得られ、表面硬度が高く、防汚の機能性を備えた反射防止膜を形成することのできるコーティング液を提供する 【解決手段】コロイダルシリカとチタニア-シリカが溶媒に分散しており、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)、好ましくは24以上に調製されたコーティング液を用いることにより、例えば太陽電池の発電用採光部分の表面をコーティングすることによって光透過率が1.5%以上向上し、引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)で表面硬度が6H以上を到達し、チタニア-シリカの光触媒作用によって防汚機能を発揮することができる反射防止膜を、低温で容易に成膜することが可能となる。
Description
本発明は、反射防止膜を形成するためのコーティング液、及び前記コーティング液を塗布及び乾燥させて成膜した反射防止膜に関する。
近年、クリーンエネルギーに関する技術開発が盛んに行われている。自然エネルギーや再生可能エネルギーなどと称される太陽光も、クリーンエネルギーの一つである。太陽光を電気に変える太陽電池は、一般的に、多数の光電変換素子を配列したパネル構造とされ、素子を保護する透明性の保護カバーがパネル表面に配置されている。また、透明性部材の一面に光電変換素子を配置した一体型の太陽電池もある。前記保護カバーや前記透明性部材の光透過率が低いと発電効率に影響を及ぼすため、これらの材料としては光透過率が高いガラス基板が選択され、さらに反射防止膜で表面をコーティングして光透過率を向上させることが知られている。反射防止膜としては、コーティングすることに因って光透過率が1.5%以上向上することが望まれる。
一方で、太陽電池は、屋外に設置されることが多いため、ガラス基板の表面に汚れが付着したり、傷がついたりして、次第に光透過率が低下する場合がある。そのため、硬度向上を目的にしたコーティング膜や、防汚を目的としたコーティング膜など、特定の効果を発揮する機能性コーティング膜の検討がなされている(例えば、特許文献1~4参照)。
しかしながら、硬度向上や防汚の機能的効果が得られる一方で、機能性コーティング膜を形成することに因って光透過率が低下してしまうと、発電効率に影響を及ぼす。太陽電池用のガラス基板においては、コーティングすることに因る光透過率の低下が0.2%未満であれば許容範囲内とされる場合もあるが、現実的には光透過率が低下しないことが好ましく、光透過率が向上することがより好ましい。
すなわち、反射防止膜は、コーティングすることに因る光透過率の向上だけでなく、使用中の光透過率低下を抑える機能性を有していることが有用である。そのような機能性としては、基板表面の硬度向上と防汚が有効である。但し、硬度向上と防汚の機能を発揮する成分を膜組成に加えたことで光透過率が低下したのでは意味がなく、所望の光透過率を確保することが重要である。
本発明は、上述の事情に基づいてなされたものであり、その目的は、コーティングすることで高い光透過率の向上が得られ、さらに表面硬度が高く、防汚の機能性を備えた反射防止膜を成膜することのできるコーティング液を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、前記コーティング液を原料として後述する塗布法によって成膜される、光透過率が高く、表面硬度が高く、防汚の機能性を備えた反射防止膜を提供することにある。
本発明の要旨とするところは、以下の通りである。
(1)反射防止膜を形成するためのコーティング液であって、コロイダルシリカとチタニア-シリカが溶媒に分散しており、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)であることを特徴とするコーティング液。特に、太陽電池の発電用採光部分の表面をコートする反射防止膜を形成するためのコーティング液である場合、前記チタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含み、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が24以上(Si/Ti≧24)であることが好ましい。
(2)前記モル比(Si/Ti)が24~60の範囲内であることを特徴とするコーティング液。
(3)前記モル比(Si/Ti)が30~55であることを特徴とするコーティング液。
(4)前記コロイダルシリカが、水ガラスを原料として精製し、アルカリ金属イオンが5000ppm以下の物であることを特徴とするコーティング液。
(5)前記コロイダルシリカが、ケイ素(Si)の有機塩を原料としたコロイダルシリカであることを特徴とするコーティング液。
(6)水溶性の珪酸アルカリ塩をさらに含むことを特徴とするコーティング液。
(7)前記水溶性の珪酸アルカリ塩が、珪酸アンモニウム、珪酸リチウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸ルビジウム、珪酸セシウムのいずれか1種以上であることを特徴とするコーティング液。
(8)前記溶液を組成するペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることを特徴とするコーティング液。
(9)ペルオキソ型のチタニアをさらに含有し、前記溶液を組成するペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることを特徴とするコーティング液。
(10)前記コーティング液を塗布、乾燥して成膜された反射防止膜であって、前記コロイダルシリカに由来するシリカとチタニア-シリカを膜組成物に含有し、前記反射防止膜を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)であることを特徴とする反射防止膜。特に、太陽電池の発電用採光部分の表面をコートする反射防止膜である場合、前記チタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含み、該反射防止膜を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が24以上(Si/Ti≧24)であることが好ましい。
(11)前記モル比(Si/Ti)が24~60の範囲内であることを特徴とする反射防止膜。
(12)前記モル比(Si/Ti)が30~55であることを特徴とする反射防止膜。
(1)反射防止膜を形成するためのコーティング液であって、コロイダルシリカとチタニア-シリカが溶媒に分散しており、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)であることを特徴とするコーティング液。特に、太陽電池の発電用採光部分の表面をコートする反射防止膜を形成するためのコーティング液である場合、前記チタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含み、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が24以上(Si/Ti≧24)であることが好ましい。
(2)前記モル比(Si/Ti)が24~60の範囲内であることを特徴とするコーティング液。
(3)前記モル比(Si/Ti)が30~55であることを特徴とするコーティング液。
(4)前記コロイダルシリカが、水ガラスを原料として精製し、アルカリ金属イオンが5000ppm以下の物であることを特徴とするコーティング液。
(5)前記コロイダルシリカが、ケイ素(Si)の有機塩を原料としたコロイダルシリカであることを特徴とするコーティング液。
(6)水溶性の珪酸アルカリ塩をさらに含むことを特徴とするコーティング液。
(7)前記水溶性の珪酸アルカリ塩が、珪酸アンモニウム、珪酸リチウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸ルビジウム、珪酸セシウムのいずれか1種以上であることを特徴とするコーティング液。
(8)前記溶液を組成するペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることを特徴とするコーティング液。
(9)ペルオキソ型のチタニアをさらに含有し、前記溶液を組成するペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることを特徴とするコーティング液。
(10)前記コーティング液を塗布、乾燥して成膜された反射防止膜であって、前記コロイダルシリカに由来するシリカとチタニア-シリカを膜組成物に含有し、前記反射防止膜を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)であることを特徴とする反射防止膜。特に、太陽電池の発電用採光部分の表面をコートする反射防止膜である場合、前記チタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含み、該反射防止膜を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が24以上(Si/Ti≧24)であることが好ましい。
(11)前記モル比(Si/Ti)が24~60の範囲内であることを特徴とする反射防止膜。
(12)前記モル比(Si/Ti)が30~55であることを特徴とする反射防止膜。
本発明によれば、コロイダルシリカとチタニア-シリカが溶媒に分散しており、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)、好ましくは24~60、より好ましくは30~55に調製されたコーティング液であることにより、コーティングすることによって光透過率が1.5%以上向上し、引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)で表面硬度が6H以上に到達し、チタニア-シリカの光触媒作用によって防汚機能を発揮することができる反射防止膜を、低温で容易に成膜することが可能となる。
以下、本発明の好ましい実施形態に従うコーティング液及び反射防止膜について、添付図面を参照しながら詳しく説明する。但し、以下に説明する実施形態によって本発明の技術的範囲は何ら限定解釈されることはない。また、以下の説明では、コーティング対象である基板の一例として太陽電池の発電用採光部分のガラスを挙げているが、太陽電池の発電用採光部分のガラスに制限されることはなく、光学レンズ,電子機器のディスプレイ,建築材、自動車の窓ガラスなど、光透過特性が求められるすべての部材を含む。
図1に示すように、本実施形態の反射防止膜1は、光透過性を有する基板2の表面に形成されている。反射防止膜1は、基板2の表面にだけでなく、表面と裏面の両方に形成してもよい。さらに、基板2と反射防止膜1との間に他の薄膜が介在してもよい。また、図1には一例として平板状の基板2を示しているが、基板2の平面形状及び断面形状並びに厚みも特に限定されることはない。
基板2は、反射防止膜1が未形成のときに、波長400-700nmの平均光透過率が80%以上であることが好ましい。但し、用途,設置場所,設計仕様等によって平均光透過率の要望値が変わる場合もある。特に、太陽電池の場合は、高い発電効率を得るために波長400-700nmの平均光透過率が例えば90%以上のガラス基板が用いられる。平均光透過率が前記基準を満たしていれば、用途等に応じて基板2の厚みを種々設定することができる。一例として、太陽電池の発電用採光部分のガラスの場合は、3~5mmの厚みのガラス基板を用いる。
基板2は、好ましくはガラス(ガラス基板)を用いる。その中でも石英ガラスが透過性に優れるので好ましい。勿論、ガラスの種類が制限されることはなく、ソーダガラス,クリスタルガラス,硼珪酸ガラスなど、公知のガラスのいずれをも適用することができる。また、基板2は、ガラス以外の材料を用いることもできる。ガラス以外の材料としては、透明プラスチック等の樹脂材料や、可撓性を有する透明フィルム等を一例として挙げることができる。
反射防止膜1は、以下の3つの主要項目(1)~(3)について基準を満たすことが好ましく、更に2つの追加項目(4)~(5)について基準を満たすことが、より好ましい。
(1)光透過率(成膜することに因る向上率が1.5%以上)
(2)膜硬度(引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)で6H以上)
(3)防汚機能(光触媒機能を発揮すること)
(4)レベリング性能(膜表面粗さが平均膜厚±30%以下)
(5)不純物レベル(コーティング液中のアルカリ金属が1200ppm以下、より好ましくは250ppm以下、塩化物(Cl)が5ppm以下、硫化物(SO4)が5ppm以下、より好ましくは、いずれも1ppm以下)
(1)光透過率(成膜することに因る向上率が1.5%以上)
(2)膜硬度(引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)で6H以上)
(3)防汚機能(光触媒機能を発揮すること)
(4)レベリング性能(膜表面粗さが平均膜厚±30%以下)
(5)不純物レベル(コーティング液中のアルカリ金属が1200ppm以下、より好ましくは250ppm以下、塩化物(Cl)が5ppm以下、硫化物(SO4)が5ppm以下、より好ましくは、いずれも1ppm以下)
(1)光透過性
反射防止膜1は、基板2の表面に例えば50~150nmの厚みで成膜される。成膜方法は、特に限定されないが、後述するコーティング液を用いて、後述する塗布法によって成膜することが好ましい。反射防止膜1は、コロイダルシリカとチタニア-シリカに由来する膜組成物によって形成されている。すなわち、コロイダルシリカとチタニア-シリカを含有するコーティング液を基板表面に塗布し、乾燥することによって、コロイダルシリカのシリカとチタニア-シリカが均一に分布・散在した膜組成物が形成されている。
反射防止膜1は、基板2の表面に例えば50~150nmの厚みで成膜される。成膜方法は、特に限定されないが、後述するコーティング液を用いて、後述する塗布法によって成膜することが好ましい。反射防止膜1は、コロイダルシリカとチタニア-シリカに由来する膜組成物によって形成されている。すなわち、コロイダルシリカとチタニア-シリカを含有するコーティング液を基板表面に塗布し、乾燥することによって、コロイダルシリカのシリカとチタニア-シリカが均一に分布・散在した膜組成物が形成されている。
反射防止膜1は、基板2の表面をコートすることによって光透過率が向上することが好ましい。好ましい基準値は、基板上に約100nmの薄膜を形成したときに、波長400-700nmの平均光透過率が1.5%以上向上することである。1.5%以上向上という基準値を満足するためは、反射防止膜1を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)となっていることが重要である。好ましくはモル比(Si/Ti)が3~96、より好ましくは24~60、更に好ましくは30~55である。これらの範囲内において、基板2の用途に応じてモル比(Si/Ti)をきめ細かく設定するようにすれば更に好ましい。モル比(Si/Ti)が3未満の場合、光透過率の向上が基準値に達成しない場合が多く、またモル比(Si/Ti)が1を下回ると、光透過率が低下する場合がある。一例として実施した試験では、モル比(Si/Ti)を1としたときに波長400-700nmの平均光透過率が2.0%低下した。
用途に応じたモル比(Si/Ti)の設定値の一例として、基板2が太陽電池の発電用採光部分のガラスの場合は、モル比(Si/Ti)を24~60、好ましくは30~55に設定する。モル比(Si/Ti)が小さいと、チタニアの含有率が多い分だけ防汚機能が向上するが、反面、光透過性及び膜硬度の低下が起こる場合がある。前記の範囲内に設定すれば高い膜硬度を実現でき、例えば後述する熱水試験や沸騰水試験において鉛筆硬度6H以上を達成することが可能である。特に、本実施形態のコーティング液に従う液組成物及びモル比にすることで太陽電池用に適した低屈折率で光透過性に優れた反射防止膜を得ることが可能である。反対に、モル比(Si/Ti)が大きいと、光透過性及び膜硬度が向上するが、防汚機能が得られない場合がある。なお、膜組成物のモル比(Si/Ti)は、ICP-AES、EDX等の測定装置を用いて測定することができる。また、コーティング液中のシリカ及びチタニア-シリカの濃度からモル比(Si/Ti)を求めることもできる。なお、後述する水溶性シリカやペルオキソ型チタニア等、コロイダルシリカ及びチタニア-シリカ以外の第3成分がSi又はTiを含む場合、これら第3成分のSi及びTiも全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)に含める。
図2は、モル比(Si/Ti)と平均光透過率の変化率(成膜前後の差分)との相関図であり、実際の試験結果に基づいて作成した。図2におけるプロット●は、コーティング液の組成物として、コロイダルシリカは市販品を用い、チタニア-シリカは後述する方法で調製したペルオキソ型のチタニア-シリカを用いた。また、プロット▲は、TEOS系のペルオキソ型のチタニア-シリカのみでモル比を調整した物を用いたときの結果である。基板2は、ガラス(平均光透過率90%)を用い、反射防止膜1の厚みが100nmとなるように成膜した。塗布はスプレーを用いて行い、自然乾燥で溶媒を蒸発させて成膜した。図2から明らかなように、モル比(Si/Ti)が1から3の範囲に光透過率が急激に向上する臨界特性があり、モル比(Si/Ti)が3以上で1.5%以上の基準値を達成できた。モル比(Si/Ti)が3以上においても、モル比(Si/Ti)が大きくなるに従って光透過率が向上し、モル比(Si/Ti)が6以上で2.0%以上の向上率を達成できた。
ここで、「チタニア-シリカ」とは、TiとSiがOを介して結合したTi-O-Si複合化合物を含むものであって、且つ、少なくともTiOOH,SiOOH,TiOOTi,SiOOSi,TiOOSiの過酸化結合の一種以上を含むものを意味し、チタニアのみや、チタニアとシリカを単純に混合したものとは区別される。チタニア-シリカは、光触媒機能によって基板表面に付着した汚れ(例えば、有機物)を分解する機能を発揮する。さらに、シリカの構造部分によって発揮される親水性によって汚れを防止する機能も発揮する。このようなチタニア-シリカは、例えば特許第2913257号によって報告されている。
チタニア-シリカは、ペルオキソ型のチタニア-シリカ、アナターゼ型のチタニア-シリカ、ルチル型のチタニア-シリカ、ブルッカイト型のチタニア-シリカのいずれか1種以上である。好ましくは、バインダーとして作用するペルオキソ型のチタニア-シリカと、光触媒作用が優れたアナターゼ型及びブルッカイト型のいずれか1種以上のチタニア-シリカとの混合物である。さらに好ましくは、ペルオキソ型のチタニア-シリカとアナターゼ型のチタニア-シリカの混合物である。ペルオキソ型のチタニア-シリカ、アナターゼ型のチタニア-シリカ、ルチル型のチタニア-シリカ、ブルッカイト型のチタニア-シリカは、市販の物を使用することができる。又は製造した物を使用することもできる。
コロイダルシリカは、ケイ素(Si)の無機塩を加水分解して得られるシリカゾル、有機塩を加水分解して得られるシリカゾル、或いはこれらの混合物である。ケイ素(Si)の無機塩としては、珪酸アンモニウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム等が一例として挙げられる。また、ケイ素(Si)の有機塩としては、TEOS(Tetraethyl orthosilicate)、TMOS(Tetramethoxysilane)、TiPOS(Tetraisopropoxysilane)又はTBOS(Tetrabutoxysilane)等のケイ素のアルコキシドが一例として挙げられる。その中でも、特にTEOSが安価で光透過性の向上率が高いので好適である。無機系のコロイダルシリカは、アニオン性のコロイダルシリカ及びカチオン性のシリカゾルを採用することができ、代表的な例として日産化学株式会社のスノーテックス,日本化学工業株式会社のシリカドール,株式会社ADEKA(アデカ)のアデライトがある。一方、有機系のコロイダルシリカの代表的な例として、多摩化学工業株式会社、扶桑化学工業株式会社の製品があるが、自社でTetraorganosilaneを加水分解してつくることができる。
コロイダルシリカは、例えば粒径が数ナノメートルから数十マイクロメーターの微粒子が液中に分散したシリカゾルである。さらに、引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)で表面硬度が6H以上を到達するためにコロイダルシリカを構成する微粒子の平均粒径が50nm以下であることが好ましい。チタニア-シリカも、例えば粒径が数ナノメートルから数十マイクロメーターの微粒子であり、コーティング液中でゾルを形成している。好ましいコーティング液は、前述のモル比(Si/Ti)となるコロイダルシリカとチタニア-シリカを含有している。
(2)膜硬度
さらに、膜硬度が前記基準を満たすためには、ガラス基板表面のシリカ(SiO2)と水素結合を形成し易いバインダー的性質を有するゾル成分が不可欠である。該当するものとしては、加水分解による脱水縮重合でガラス基板表面のシリカとシロキサン結合を容易に形成するコロイダルシリカが挙げられるが、更に基板表面との密着性を向上させるには、水素結合を形成し易いペルオキソ体が膜組成物に存在することである。しかし、ケイ素(Si)のみではペルオキソ体を形成することができないため、チタン(Ti)の存在が不可欠となる。そのため、前述したようにチタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含んでいることが好ましい。そのとき、膜組成物中のペルオキソ基の割合が0.05質量%~10質量%であることが好ましい。従って、コーティング液の固形分濃度が1質量%の場合は、液中のペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることが好ましい。コーティング液の固形物濃度は1質量%に限定はされない。1質量%以外の固形物濃度であっても、1質量%に換算したときに液中のペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であればよい。ペルオキソ基の割合が少な過ぎると、基板2に対する溶液の一様な分布が得られ難くなる場合があり、反対に多過ぎると、遊離の過酸化水素が存在することになり、その分解で発生する気泡が平滑な膜形成を阻害する場合がある。なお、チタニア-シリカがペルオキソ型でないものを使用する場合、ペルオキソ型のチタニアを加えるようにしてもよい。勿論、ペルオキソ型のチタニア-シリカとペルオキソ型のチタニアの両方を含有していてもよい。
さらに、膜硬度が前記基準を満たすためには、ガラス基板表面のシリカ(SiO2)と水素結合を形成し易いバインダー的性質を有するゾル成分が不可欠である。該当するものとしては、加水分解による脱水縮重合でガラス基板表面のシリカとシロキサン結合を容易に形成するコロイダルシリカが挙げられるが、更に基板表面との密着性を向上させるには、水素結合を形成し易いペルオキソ体が膜組成物に存在することである。しかし、ケイ素(Si)のみではペルオキソ体を形成することができないため、チタン(Ti)の存在が不可欠となる。そのため、前述したようにチタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含んでいることが好ましい。そのとき、膜組成物中のペルオキソ基の割合が0.05質量%~10質量%であることが好ましい。従って、コーティング液の固形分濃度が1質量%の場合は、液中のペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることが好ましい。コーティング液の固形物濃度は1質量%に限定はされない。1質量%以外の固形物濃度であっても、1質量%に換算したときに液中のペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であればよい。ペルオキソ基の割合が少な過ぎると、基板2に対する溶液の一様な分布が得られ難くなる場合があり、反対に多過ぎると、遊離の過酸化水素が存在することになり、その分解で発生する気泡が平滑な膜形成を阻害する場合がある。なお、チタニア-シリカがペルオキソ型でないものを使用する場合、ペルオキソ型のチタニアを加えるようにしてもよい。勿論、ペルオキソ型のチタニア-シリカとペルオキソ型のチタニアの両方を含有していてもよい。
密着性が向上する理由について詳しく説明すると、チタン化合物のペルオキソ体が存在する場合、結晶中心のTiに結合した-O-O-H基がTi及び/又はSiを引き連れて基板ガラスのSiO2に配位し、-O-O-H基の-O-O-部分(δ-)が基板ガラスのSiO2のSi(δ+)に引き付けられ、一方、-O-O-H基のH(δ+)がSi-O-SiのO(δ-)と水素結合が形成し易くなると考えられる。すなわち、単なるコロイダルシリカの密着性・レベリング性に加えて、この作用により一層密着性が向上し、高い膜硬度が得られる。一例として実施した試験では、塗布後1日以内で引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)が2H以上となり、屋外暴露で1週間後に4H、30日後に6Hに到達した。
図2には、モル比(Si/Ti)を1,3,6,9,12に設定したときの膜硬度の結果を併せて示している。膜硬度の測定は、1日経過後に行った。図2の結果から明らかなように、モル比(Si/Ti)が6以上で鉛筆硬度6Hが達成できた。
(3)防汚機能
既述のように、チタニア-シリカは、有機物を分解する光触媒機能及び親水性を発現する光触媒機能の両方を有し、これら光触媒機能によって高い防汚機能を発揮する。特に、アナターゼ型及びブルッカイト型のチタニア-シリカが光触媒機能に優れている。防汚機能が前記基準値を満たすか否かを判断する指標の一つとして、反射防止膜1の水接触角がある。一般に、水接触角が少なくとも20°以下、望ましくは10°以下であれば、特に親水性に基づく防汚機能があると判定される(測定法;JIS R 1703-1, ファインセラミックス-光触媒材料のセルフクリーニング試験方法-第1部:水接触角の測定)。すなわち、水接触角が小さいことで、大気中のダスト等の異物が基板表面に付着し難く、また付着しても雨水等で容易に異物が流れ落ちる。
既述のように、チタニア-シリカは、有機物を分解する光触媒機能及び親水性を発現する光触媒機能の両方を有し、これら光触媒機能によって高い防汚機能を発揮する。特に、アナターゼ型及びブルッカイト型のチタニア-シリカが光触媒機能に優れている。防汚機能が前記基準値を満たすか否かを判断する指標の一つとして、反射防止膜1の水接触角がある。一般に、水接触角が少なくとも20°以下、望ましくは10°以下であれば、特に親水性に基づく防汚機能があると判定される(測定法;JIS R 1703-1, ファインセラミックス-光触媒材料のセルフクリーニング試験方法-第1部:水接触角の測定)。すなわち、水接触角が小さいことで、大気中のダスト等の異物が基板表面に付着し難く、また付着しても雨水等で容易に異物が流れ落ちる。
図3は、前述のモル比(Si/Ti)を12に設定した反射防止膜1、シリカ(SiO2)のみの反射防止膜(膜原料;コロイダルシリカ)、反射防止膜が未形成の基板ガラス(コートなし)の水接触角を測定した結果を示す。水接触角は、光触媒機能が作用するように紫外線暴露下で行った。図3から明らかなように、モル比(Si/Ti)を12に設定した反射防止膜1は、紫外線暴露下144時間(6日)で水接触角が20°以下、約350時間で10°以下を達成した。すなわち、光触媒機能による防汚機能を発揮できる。
(4)レベリング性
既述のように、チタン化合物のペルオキソ体を含むことで膜硬度が向上する。チタン化合物のペルオキソ体は、ペルオキソ基がガラス基板の表面上で配位する位置が限定されることから、成膜時のレベリング性向上にも寄与する。すなわち、ペルオキソ型のチタニア-シリカを含むことで、表面の凹凸差が小さい平滑な薄膜であって、且つ、結晶核成分が良好に分散した反射防止膜1を容易に形成することができ、反射防止効果が高い。ペルオキソ型のチタニアも同様の作用・効果が期待できる。表面が平滑であることの指標としては、膜表面粗さを用いることができる。実際に測定したところ、平均膜厚±30%であった。なお、レベリング性を一層向上させるために、微量のレベリング剤の添加をしてもよく、各種のレベリング剤や界面活性剤の中から成膜方法に応じて選定する。その場合、使用濃度は概ね200ppm以下の添加が好ましく、10~100ppmの範囲がより好ましい。一例として、エアプロダクツジャパン株式会社、ビッグケミー・ジャパン株式会社、楠本化成株式会社、花王株式会社、ライオン株式会社、三洋化成工業株式会社、東邦化学工業株式会社の製品の中から選定する。
既述のように、チタン化合物のペルオキソ体を含むことで膜硬度が向上する。チタン化合物のペルオキソ体は、ペルオキソ基がガラス基板の表面上で配位する位置が限定されることから、成膜時のレベリング性向上にも寄与する。すなわち、ペルオキソ型のチタニア-シリカを含むことで、表面の凹凸差が小さい平滑な薄膜であって、且つ、結晶核成分が良好に分散した反射防止膜1を容易に形成することができ、反射防止効果が高い。ペルオキソ型のチタニアも同様の作用・効果が期待できる。表面が平滑であることの指標としては、膜表面粗さを用いることができる。実際に測定したところ、平均膜厚±30%であった。なお、レベリング性を一層向上させるために、微量のレベリング剤の添加をしてもよく、各種のレベリング剤や界面活性剤の中から成膜方法に応じて選定する。その場合、使用濃度は概ね200ppm以下の添加が好ましく、10~100ppmの範囲がより好ましい。一例として、エアプロダクツジャパン株式会社、ビッグケミー・ジャパン株式会社、楠本化成株式会社、花王株式会社、ライオン株式会社、三洋化成工業株式会社、東邦化学工業株式会社の製品の中から選定する。
(5)不純物レベル
膜組成物は、陰・陽イオン系不純物が非常に少ないか、存在しないことが望まれる。陽イオン系不純物とは、特にアルカリ金属である。また、陰イオン系不純物とは、特に塩化物(Cl)や硫化物(SO4)である。これらの不純物を含んでいると、空気中の金属類を化学的に捕捉し、コンタミの原因となり、光透過率の低下につながる場合がある。市販のコロイダルシリカを使用する場合、予め陽イオンとしてアルカリ金属が含まれていることが多いので、アルカリ金属を除去するか、アルカリ金属の少ないものを選定する必要がある。ケイ素(Si)の有機金属(例えば、ケイ素のアルコキシド)を加水分解して得られるコロイダルシリカは、陰陽イオンの不純物が少なく好適である。但し、価格が高いことと加水分解反応後のアルコール等の残存量に注意する必要がある。不純物レベルの指標としては、本溶液中のアルカリ金属が1200ppm以下、より好ましくは250ppm以下、塩化物(Cl)が5ppm以下、硫化物(SO4)が5ppm以下、より好ましくは、いずれも1ppm以下である。
膜組成物は、陰・陽イオン系不純物が非常に少ないか、存在しないことが望まれる。陽イオン系不純物とは、特にアルカリ金属である。また、陰イオン系不純物とは、特に塩化物(Cl)や硫化物(SO4)である。これらの不純物を含んでいると、空気中の金属類を化学的に捕捉し、コンタミの原因となり、光透過率の低下につながる場合がある。市販のコロイダルシリカを使用する場合、予め陽イオンとしてアルカリ金属が含まれていることが多いので、アルカリ金属を除去するか、アルカリ金属の少ないものを選定する必要がある。ケイ素(Si)の有機金属(例えば、ケイ素のアルコキシド)を加水分解して得られるコロイダルシリカは、陰陽イオンの不純物が少なく好適である。但し、価格が高いことと加水分解反応後のアルコール等の残存量に注意する必要がある。不純物レベルの指標としては、本溶液中のアルカリ金属が1200ppm以下、より好ましくは250ppm以下、塩化物(Cl)が5ppm以下、硫化物(SO4)が5ppm以下、より好ましくは、いずれも1ppm以下である。
(コーティング液)
続いて、コーティング液の好ましい調製方法について説明する。図4に示すフローチャートは、ペルオキソ型のチタニア-シリカ微粒子を分散させたチタニア-シリカ溶液、及び前記ペルオキソ型のチタニア-シリカ微粒子を原料にしてアナタース型のチタニア-シリカ微粒子を分散させたチタニア-シリカ溶液を調製する好ましい一例である。基板2に塗布するコーティング液は、得られたチタニア-シリカをコロイダルシリカと混合することによって調製する。混合割合は、前述のモル比(Si/Ti)の設定値に基づく。図4に示す調製方法によれば、チタン化合物(TIP)及びシリカ化合物(TEOS)の配合量を変えることによって、種々のモル比(Si/Ti)のチタニア-シリカ(例えば、Si/Ti=1,3,6,9,12など)を生成することができる。
続いて、コーティング液の好ましい調製方法について説明する。図4に示すフローチャートは、ペルオキソ型のチタニア-シリカ微粒子を分散させたチタニア-シリカ溶液、及び前記ペルオキソ型のチタニア-シリカ微粒子を原料にしてアナタース型のチタニア-シリカ微粒子を分散させたチタニア-シリカ溶液を調製する好ましい一例である。基板2に塗布するコーティング液は、得られたチタニア-シリカをコロイダルシリカと混合することによって調製する。混合割合は、前述のモル比(Si/Ti)の設定値に基づく。図4に示す調製方法によれば、チタン化合物(TIP)及びシリカ化合物(TEOS)の配合量を変えることによって、種々のモル比(Si/Ti)のチタニア-シリカ(例えば、Si/Ti=1,3,6,9,12など)を生成することができる。
一例として、コーティング液のモル比(Si/Ti)の目標値を12とした場合、図4に示すフローチャートに従って例えばモル比(Si/Ti)が9のチタニア-シリカ溶液を調製し、これにコロイダルシリカによって3のシリカ分を加えることで目標値のコーティング液を調製することができる。コーティング液中の固形分(シリカ及びチタニア-シリカの微粒子)の濃度は、例えば0.05質量%~5.0質量%に調整することが出来る。また、溶媒としては、例えば水、アルコール類、過酸化水素水、希硝酸などを選択することができる。好適な液組成は、少なくともペルオキソ基を0.0005~0.1質量%含有するチタニア-シリカ及び/又はチタニアを配合した固形物濃度が0.1~3.0質量%、より好ましくは0.25~1.2質量%のコロイダルシリカゾル溶液である。高い光透過率の向上を期待する場合は、図4に一例を示すように有機金属系原料の加水分解で一挙に生成したチタニア-シリカを含有するコロイダルシリカ溶液が好適である。
図4のフローチャートについて詳しく説明すると、まず、チタニアの原料となるチタンテトライソプロポキシド(TIP)とイソプロパノール(IPA)の混合液と、IPAと水の混合液とを混合し、TIPを加水分解させてチタニアの微粒子を生成させる。配合モル比としては、例えばTIP:IPA:H2O=1:10:4とすることができる。そしてこのチタニアの微粒子を濾過分離し、例えば100℃で乾燥させてチタニアの粉末を得る。このようにして得られたチタニアの粉末は、粒界を有しないアモルファス型のチタニアである。なお、チタニアの原料としては、TIPに限られず、例えばチタンテトラエトキシドなど、その他のチタンアルコキシド(アルコール分子のOH基のHがTiに置換された化合物)を用いてもよい。
続いて前記アモルファス型のチタニアを、酸又は酸化液(例えば35質量%の過酸化水素水)に溶解せしめることにより、チタニアのゲル体を生成させる(これを「一次処理」と称する)。そしてこのゲル体に、シリカ前駆体であるオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)とエタノールの混合物を添加する。
続いて、シリカ前駆体を加えたチタニアのゲル体に、酸又は酸化液(例えば35質量%の過酸化水素水)をさらに加えてペルオキソ化することにより、過酸化結合によってチタニアとシリカが結合したチタニア-シリカ微粒子のゾル体を生成させる(これを「二次処理」と称する)。最後に、pH調整のためにアルカリ溶液として、例えば35%アンモニア水を添加し、pHを例えば6~8の中性領域に調整することにより、ペルオキソ型のチタニア-シリカ微粒子を含有するチタニア-シリカ溶液を得る。
さらに、図4に示すように、アナタース型のチタニア-シリカ微粒子は、前述のペルオキソ型のチタニア-シリカ微粒子をアナタース化することによって調製することができる。より具体的には、ペルオキソ型のチタニア-シリカ微粒子を含有する液を、例えば95~120℃に加熱処理する。これにより、ペルオキソ型のチタニア-シリカがアナタース型のチタニア-シリカに変性し、アナタース型のチタニア-シリカ微粒子を含有するチタニア-シリカ溶液を得る。加熱温度を変えることでルチル型、ブルッカイト型に変性させることもできる。
図4のフローチャートに従ってチタニア-シリカ溶液が得られると、チタニア-シリカのモル比(Si/Ti)を測定するか、或いはチタン原料及びシリカ原料の配合量に基づいて算出し、さらに目標値に応じた量のコロイダルシリカと混合することによってコーティング液が調製される。チタニア-シリカは、例えば、ペルオキソ型のみ又はアナタース型のみ、もしくはペルオキソ型とアナタース型混合物の何れの場合でもよいが、より顕著な防汚機能を期待する場合はアナタース型を選択する。
続いて、上述のコーティング液を用いて、基板2としてのガラス基板に反射防止膜1を成膜する手順について説明する。成膜の作業は、工場内で施工してもよく、現場施工であってもよい。まず、コーティング液は、予め表面を洗浄や研磨(親水化)などの前処理したガラス基板に塗布する。塗布法は、スプレーコート、ディップコート、スピンコート、スリットコート、ローラーコート、刷毛などによる手塗りなど、いずれの方法であってもよい。塗布量としては、単位面積あたりの液量が20g/m2~40g/m2となるようにする。塗膜の厚みは、80nm~130nmであることが好ましい。
一般的な従来のコーティング液は、膜硬度を得るための高温加熱の必要性が高く、現場施工が困難であった。一方、既述したように本実施形態によるコーティング液は、屋外暴露で膜硬度が6Hに到達した。すなわち、本実施形態によるコーティング液は、自然乾燥で成膜することができ、従来のような塗布後の加熱処理及びそのための電気炉など加熱装置を省略できる利点がある。勿論、加熱処理を行うようにしてもよい。加熱処理する場合の温度は、例えば100~200℃で設定することができる。
上述の実施形態によれば、ガラス基板等の光透過性を有する基板2の表面をコートする反射防止膜1が、コロイダルシリカとチタニア-シリカに由来する組成物を含有し、該反射防止膜1を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)であることにより、反射防止膜1をコートすることによって基板2の波長400-700nmの平均光透過率が1.5%以上向上し、引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)で表面硬度が6H以上を到達し、チタニア-シリカの光触媒作用によって防汚機能を発揮することができる。
また、上述の実施形態によれば、塗布法で反射防止膜1を形成するコーティング液として、コロイダルシリカとチタニア-シリカが溶媒に分散しており、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が3以上(Si/Ti≧3)に調製された溶液を用いることにより、基板2の表面に塗布法で成膜することによって基板2の波長400-700nmの平均光透過率が1.5%以上向上し、引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)で表面硬度が6H以上に到達し、チタニア-シリカの光触媒作用によって防汚機能を発揮することができる。
(硬度増進剤)
反射防止膜1は、膜硬度をより一層高めるために硬度増進剤を含有していてもよい。硬度増進剤としては、水溶性シリカが好ましく、特に主成分が珪酸アルカリの水溶性の珪酸アルカリ塩が好ましい。具体的な物質としては、例えば珪酸アンモニウム、珪酸リチウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸ルビジウム、珪酸セシウムのいずれか1種以上を挙げることができる。アルカリ土類金属の場合、溶解度が小さく使用が難しい。また、硬度増強剤として、AlやZrの酸化物コロイドゾルを用いることもできる。硬度増強剤として水溶性シリカを用いる場合、前述のコーティング液に所定の割合で混合し、一液で基板に塗布する。既述のように、膜組成物にアルカリ金属が含まれるとコンタミや、いわゆるガラスのヤケ等で光透過率低下の一因となるため、水溶性シリカの混合量は、可能な限り少量で膜硬度の向上効果が得られる範囲であることが好ましい。すなわち、水溶性シリカの混合量は、例えばコーティング液の固形分(すなわち、コロイダルシリカとチタニア-シリカ)を1としたときに0.1~1.0の固体割合になるようする。硬度9Hが要求される場合、0.3~1.0に設定することが好ましい。
反射防止膜1は、膜硬度をより一層高めるために硬度増進剤を含有していてもよい。硬度増進剤としては、水溶性シリカが好ましく、特に主成分が珪酸アルカリの水溶性の珪酸アルカリ塩が好ましい。具体的な物質としては、例えば珪酸アンモニウム、珪酸リチウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸ルビジウム、珪酸セシウムのいずれか1種以上を挙げることができる。アルカリ土類金属の場合、溶解度が小さく使用が難しい。また、硬度増強剤として、AlやZrの酸化物コロイドゾルを用いることもできる。硬度増強剤として水溶性シリカを用いる場合、前述のコーティング液に所定の割合で混合し、一液で基板に塗布する。既述のように、膜組成物にアルカリ金属が含まれるとコンタミや、いわゆるガラスのヤケ等で光透過率低下の一因となるため、水溶性シリカの混合量は、可能な限り少量で膜硬度の向上効果が得られる範囲であることが好ましい。すなわち、水溶性シリカの混合量は、例えばコーティング液の固形分(すなわち、コロイダルシリカとチタニア-シリカ)を1としたときに0.1~1.0の固体割合になるようする。硬度9Hが要求される場合、0.3~1.0に設定することが好ましい。
図5は、モル比(Si/Ti)を12に設定したコーティング液に水溶性シリカを添加したときの、平均光透過率の変化率(成膜前後の差分)と膜硬度の測定結果を示す。図中の水溶性シリカ添加割合Xは、コーティング液の固形物に対する水溶性シリカの質量比(固形分:水溶性シリカ=1:X)を意味する。なお、基板2は、ガラス基板(平均光透過率90%)を用い、反射防止膜1の厚みが100nmとなるように成膜した。塗布はスプレーを用いて行い、自然乾燥で溶媒を蒸発させて成膜した。図5から明らかなように、シリカ添加割合が0.3以上で膜硬度9Hを達成でき、さらに0.3~1.0の範囲において1.6%以上の平均光透過率の向上率を達成できた。
続いて、耐水性試験の結果について図6を参照しながら説明する。耐水性試験は、恒温恒湿試験の代用として行われる試験の一つである。評価方法は、所定温度のイオン交換水の浴中に反射防止膜1をコートした基板2を浸漬し、所定時間経過後の鉛筆硬度が要求物性(例えば、6H)を満たすか否かを判定する。但し、浸漬する前にも鉛筆硬度が要求物性を満たしていることが要求される(例えば、6H以上)。鉛筆硬度の測定は、引っかき硬度試験(鉛筆法、JIS K5600-5-4)による。例えば基板が太陽電池の発電用採光部分のガラス基板の場合、反射防止膜1は、耐水性試験において鉛筆硬度6Hを満たすことが要求される。
図6は、前述の硬度増進剤である水溶性シリカを添加しなかった反射防止膜1の熱水試験(90℃)及び沸騰水試験(95℃以上)の結果を示している。より詳しくは、熱水試験では、固形物濃度3質量%のコーティング液をガラス基板に塗布(ディップ法)した後、90℃で30分の乾燥により反射防止膜1を成膜した。また、沸騰水試験では、固形物濃度3質量%のコーティング液をガラス基板に塗布(スプレー法)した後、90℃で30分の乾燥により反射防止膜1を成膜した。熱水試験及び沸騰水試験共に、種々のモル比(Si/Ti)で試験を行った。なお、図中の記号は、×:5H未満、△:5H、〇:6H、◎:7H以上を示す。
図6の結果から分かるように、コロイダルシリカとチタニア-シリカを含有するコーティング液でガラス基板上に成膜される反射防止膜1が、熱水及び沸騰水試験において要求物性を満たすには、モル比(Si/Ti)を24以上、好ましくは30以上(とりわけ36以上)にするのがよい。沸騰水という過酷な条件の場合、突沸による振動で膜が弱体化、脆弱化、剥離等が起こり得るが、モル比(Si/Ti)を30以上(とりわけ36以上)にすることで要求物性を満たすことができる。なお、スプレー法で塗布すると初期硬度が発現し難いが、ディップ法で塗布すると初期硬度が発現し易い。より確実に初期硬度を発現させるためには水溶性シリカを添加するのがよい。
図7は、水溶性シリカを添加した反射防止膜1の冷水試験(22.5±2.5℃)の結果を示している。より詳しくは、固形物濃度3質量%のコーティング液をガラス基板に塗布(スプレー法)した後、90℃で30分の乾燥により反射防止膜1を成膜した。評価方法は、熱水試験及び沸騰水試験と同様である。さらに、本試験でも種々のモル比(Si/Ti)で試験を行っているが、図7に示すモル比(Si/Ti)は、水溶性シリカのケイ素元素も含めている。本試験では、コロイダルシリカとチタニア-シリカのモル比(Si/Ti)が3、36、48となる配合とし、コーティング液の固形分を1としたときに、0.1,0.3,0.5,0.7,1.0の割合となるように水溶性シリカを添加した。
図7の結果から分かるように、水溶性シリカを添加した反射防止膜1は、初期硬度が早期に発現して要求物性を満たす。そして、モル比(Si/Ti)を46以上にすることで耐水試験において要求物性を満たすことができる。なお、このモル比の内訳は、コロイダルシリカとチタニア-シリカのモル比(Si/Ti)が36の配合であり、これに水溶性シリカのSiが加わって46となっている。
最後に、ペルオキソ型のチタニア微粒子を分散させたチタニア溶液、及び前記ペルオキソ型のチタニア微粒子を原料にしてアナタース型のチタニア微粒子を分散させたチタニア溶液を調製する好ましい一例について、図8を参照しながら説明する。
図4のフローチャートと対比すれば明らかなように、ペルオキソ型のチタニア微粒子を分散させたチタニア溶液は、TEOSとEtOHを加えないチタニアのゲル体を上記過酸化水素による二次処理を行ってチタニアのゾル体にしたことを除けば、チタニア-シリカと同様の手順で調製することができる。さらに、アナタース型のチタニア微粒子は、得られたペルオキソ型のチタニア微粒子をアナタース化することによって調製することができる。この方法で得られたペルオキソ型のチタニア、アナタース型のチタニアは、目的に応じてコーティング液に添加することができる。一例として、バインダー機能を志向する場合はペルオキソ型のチタニアを添加し、光触媒機能を志向する場合はアナタース型のチタニアを添加する。
以上、本発明を具体的な実施形態に則して詳細に説明したが、形式や細部についての種々の置換、変形、変更等が、特許請求の範囲の記載により規定されるような本発明の精神及び範囲から逸脱することなく行われることが可能であることは、当該技術分野における通常の知識を有する者には明らかである。従って、本発明の範囲は、前述の実施形態及び添付図面に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載及びこれと均等なものに基づいて定められるべきである。
1 反射防止膜
2 基板
2 基板
Claims (12)
- 太陽電池の発電用採光部分の表面をコートする反射防止膜を形成するためのコーティング液であって、
コロイダルシリカとチタニア-シリカが溶媒に分散しており、前記チタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含み、該溶液を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が24以上(Si/Ti≧24)であることを特徴とするコーティング液。 - 前記モル比(Si/Ti)が24~60の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載のコーティング液。
- 前記モル比(Si/Ti)が30~55であることを特徴とする請求項1に記載のコーティング液。
- 前記コロイダルシリカが、水ガラスを原料として精製し、アルカリ金属イオンが5000ppm以下の物であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のコーティング液。
- 前記コロイダルシリカが、ケイ素(Si)の有機塩を原料としたコロイダルシリカであることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のコーティング液。
- 水溶性の珪酸アルカリ塩をさらに含むことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のコーティング液。
- 前記水溶性の珪酸アルカリ塩が、珪酸アンモニウム、珪酸リチウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸ルビジウム、珪酸セシウムのいずれか1種以上であることを特徴とする請求項6に記載のコーティング液。
- 前記溶液を組成するペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載のコーティング液。
- ペルオキソ型のチタニアをさらに含有し、
前記溶液を組成するペルオキソ基の割合が0.0005質量%~0.1質量%であることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載のコーティング液。 - 前記請求項1~9のいずれか1項に記載のコーティング液を太陽電池の発電用採光部分の表面に塗布し、乾燥して成膜された反射防止膜であって、
前記コロイダルシリカに由来するシリカとチタニア-シリカを膜組成物に含有し、前記チタニア-シリカがペルオキソ型のチタニア-シリカを含み、前記反射防止膜を組成する全ケイ素元素と全チタン元素のモル比(Si/Ti)が24以上(Si/Ti≧24)であることを特徴とする反射防止膜。 - 前記モル比(Si/Ti)が24~60の範囲内であることを特徴とする請求項10に記載の反射防止膜。
- 前記モル比(Si/Ti)が30~55であることを特徴とする請求項10に記載の反射防止膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013-019967 | 2013-02-04 | ||
JP2013019967A JP5343172B1 (ja) | 2013-02-04 | 2013-02-04 | コーティング液及び反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2014119710A1 true WO2014119710A1 (ja) | 2014-08-07 |
Family
ID=49679222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2014/052215 WO2014119710A1 (ja) | 2013-02-04 | 2014-01-31 | コーティング液及び反射防止膜 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5343172B1 (ja) |
WO (1) | WO2014119710A1 (ja) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP5343172B1 (ja) | 2013-11-13 |
JP2014152180A (ja) | 2014-08-25 |
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