WO2014042328A1 - 광경화 조성물, 이를 포함하는 장벽층 및 이를 포함하는 봉지화된 장치 - Google Patents

광경화 조성물, 이를 포함하는 장벽층 및 이를 포함하는 봉지화된 장치 Download PDF

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WO2014042328A1
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unsubstituted
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barrier layer
meth
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이창민
이연수
최승집
권지혜
하경진
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제일모직 주식회사
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Definitions

  • the present invention relates to a photocurable composition, a barrier layer comprising the same and an encapsulated device comprising the same.
  • the organic light emitting diode is a structure in which a functional organic layer is inserted between an anode and a cathode, and generates high energy excitons by recombination of holes injected into the anode and electrons injected into the cathode. To form. The excitons formed move to the ground state and generate light of a specific wavelength.
  • the organic light emitting unit has advantages of self light emission, high speed response, wide viewing angle, ultra-thin, high definition, and durability.
  • the organic material and / or the electrode material may be oxidized by moisture or oxygen introduced from the outside or by outgas generated from the outside or the inside, thereby degrading performance and lifespan.
  • a method of applying a photocurable sealing agent, attaching a transparent or opaque absorbent, or forming a frit to a substrate on which an organic light emitting unit is formed has been proposed.
  • Another object of the present invention is to provide a photocurable composition capable of realizing a layer which can extend the life of the device member upon encapsulation of the device member.
  • a photocurable composition which is an aspect of the present invention, may include (A) a photocurable monomer and (B) a monomer of Formula 1 below:
  • Y is one of the following Chemical Formulas 2 to 4,
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , X 5 , X 6 , m, n are as defined in the following detailed description).
  • An encapsulated device which is another aspect of the present invention, includes a device member and a barrier stack formed on the device member and including an inorganic barrier layer and an organic barrier layer, wherein the organic barrier layer has an outgas generation amount of about 2000 ppm. It may be as follows.
  • An encapsulated device which is another aspect of the present invention, includes a device member and a barrier stack formed on the device member and comprising an inorganic barrier layer and an organic barrier layer, wherein the organic barrier layer has a coating thickness in the thickness direction.
  • the moisture vapor permeability measured at 37.8 ° C., 100% relative humidity, and 24 hour conditions for 5 ⁇ m can be about 4.0 g / m 2 ⁇ 24hr or less.
  • the present invention provides a photocurable composition capable of realizing a layer having a significantly low moisture permeability and an outgas generation after curing to prevent a performance degradation of the device during sealing and to extend a lifespan.
  • the present invention provides a photocurable composition that can implement a layer having a high degree of hardening does not occur when sealing the device.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an encapsulated device of one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of an encapsulated device of another embodiment of the present invention.
  • 'hetero' means that the carbon atom is substituted with any one atom selected from the group consisting of N, O, S and P.
  • '*' represents the connection site of the element.
  • the photocurable composition of one aspect of the present invention may include (A) a photocurable monomer and (B) a monomer of the formula (1) or an oligomer thereof.
  • the photocurable monomer may include a non-heterocycle monomer that does not include a heterocycle, or a non-epoxy monomer that does not include an epoxy group.
  • the photocurable monomer is a non-oxirane group containing no oxirane group, a non-oxetane group containing no oxetane group, or a non-epoxycyclo group containing no epoxycycloalkyl group. It may be an alkyl monomer.
  • the photocurable monomer means a monomer except the monomer of the following Chemical Formula 1.
  • the photocurable monomer may include a monofunctional monomer having a unsaturated group, a polyfunctional monomer, or a mixture thereof.
  • the photocurable monomer may comprise a monomer having about 1 to 30, preferably about 1 to 20, more preferably about 1 to 6 photocurable functional groups.
  • the photocurable functional group may include a substituted or unsubstituted vinyl group, acrylate group, or methacrylate group.
  • the photocurable monomer may include a mixture of a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.
  • the monofunctional monomer: multifunctional monomer in the mixture is included in a weight ratio of about 1: 0.1 to 1: 4, preferably about 1: 1 to 1: 4, more preferably about 1: 2 to 1: 4. Can be.
  • the photocurable monomer is an aromatic hydrocarbon compound having 6 to 20 carbon atoms having a substituted or unsubstituted vinyl group; Unsaturated carboxylic esters having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, or a hydroxy group and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; Unsaturated carboxylic esters having an amino alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; Vinyl esters of saturated or unsaturated carboxylic acids having 1 to 20 carbon atoms; Vinyl cyanide compounds; Unsaturated amide compounds; Mono- or polyfunctional (meth) acrylates of mono alcohols or polyhydric alcohols.
  • the 'polyhydric alcohol' may refer to an alcohol having about 2 or more hydroxyl groups, having about 2-20, preferably about 2-10, more preferably about 2-6.
  • the photocurable monomer may include an aromatic hydrocarbon compound having 6 to 20 carbon atoms having an alkenyl group including a vinyl group such as styrene, alpha-methyl styrene, vinyl toluene, vinyl benzyl ether, and vinyl benzyl methyl ether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, Octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decanyl (meth) acrylate, undecanyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) Unsaturated carboxylic acid esters including (methyrene
  • the photocurable monomer is a (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a di (meth) acrylate of a diol having 2 to 20 carbon atoms, and a tri (meth) acryl having a triol having 3 to 20 carbon atoms. And tetra (meth) acrylate of tetraol of 4-20 carbon atoms.
  • the photocurable monomer may be included in an amount of about 1-99 parts by weight, preferably about 50-90 parts by weight, based on solids, based on 100 parts by weight of (A) + (B) of the composition. Within this range, it is possible to achieve low outgas and moisture permeability with a higher photocuring effect.
  • the monomer of Formula 1 or an oligomer thereof may be a photocurable monomer or an oligomer thereof having a photocurable functional group.
  • the photocurable functional group may include a substituted or unsubstituted vinyl group, acrylate group, or methacrylate group.
  • the monomer of Formula 1 may be represented by Formula 1:
  • R 3 is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • Y is one of the following Chemical Formulas 2-4.
  • X 1 , X 2 are the same or different and O, S, NR (R is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), or a substituted or unsubstituted (R ') C (R ") (R ', R "is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms),
  • One of X 1 , X 2 is O, S, or NR,
  • R 1 is a substituted or unsubstituted C 1-30 alkylene group, a substituted or unsubstituted C 1-30 alkyl ether group, a substituted or unsubstituted C 1-30 alkyleneoxy group, a substituted or unsubstituted carbon number 1-30 alkylamine group, substituted or unsubstituted C1-C30 alkylthio group, substituted or unsubstituted C6-30 arylene group, substituted or unsubstituted C7-30 arylalkylene group or substituted Or an unsubstituted alkoxylene group having 1 to 20 carbon atoms)
  • X 3 , X 4 , X 5 are the same or different and are O, S, NR (R is hydrogen or a substituted or unsubstituted C1-5 alkyl group), or a substituted or unsubstituted (R ') C ( R ′′) (R ′, R ′′ is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms),
  • At least one of X 3 , X 4 , X 5 is O, S, or NR,
  • R 1 is as defined above,
  • R 2 is hydrogen, a substituted or unsubstituted C1-30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-30 alkylether group, a substituted or unsubstituted C1-30 alkylamine group or dialkylamine group, Substituted or unsubstituted C1-C30 alkylthio group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C6-C30 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 Alkoxy group)
  • X 6 is O, S, or NR (R is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms),
  • R 1 is as defined above,
  • R 4 is a substituted or unsubstituted C 1-30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 1-30 alkyl ether group, a substituted or unsubstituted C 1-30 alkylamine group or dialkylamine group, substituted or Unsubstituted C1-C30 alkylthio group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C6-C30 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group ego,
  • n is an integer from 1 to 5
  • m is an integer from 0 to n + 1)
  • X 1 is O and X 2 may be —CH 2 —.
  • X 4 is O and X 3 and X 5 may each be —CH 2 —.
  • R 1 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
  • R 2 may be hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • n can be an integer from 1 to 2.
  • the monomer of Formula 1 is glycidyl (meth) acrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate It may include one or more of.
  • the monomer of Formula 1 or an oligomer thereof may be included in the photocurable composition together with the photocurable monomer to implement a layer having a significantly low moisture permeability and outgas generation after curing, and increase the degree of curing.
  • the monomer of Formula 1 when the monomer of Formula 1 is included in the organic barrier layer, damage of the device member from the plasma used for deposition of the inorganic barrier layer may be minimized.
  • the monomer of Formula 1 or an oligomer thereof may be included in an amount of about 1-99 parts by weight, preferably about 10-50 parts by weight, based on solids, based on 100 parts by weight of (A) + (B) of the composition. Within this range, it is possible to achieve low outgas and moisture permeability with a higher photocuring effect.
  • composition may further comprise an initiator.
  • the initiator may include one or more of a photopolymerization initiator and a photo acid generator.
  • the photopolymerization initiator may include any conventional photopolymerization initiator capable of performing a photocurable reaction without limitation.
  • the photopolymerization initiator may include triazine, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, phosphorus, oxime or mixtures thereof.
  • Triazines include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ', 4'-dimethoxy sty Reyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxy naphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( p-methoxy phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-r Phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho-1-yl) -4,
  • acetophenone type 2,2'- diethoxy acetophenone, 2,2'- dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl propiophenone, pt-butyl trichloro acetophenone, pt-butyl dichloro Acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholino propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethyl amino-1- (4-morpholino phenyl) -butan-1-one, or mixtures thereof.
  • benzophenones include benzophenone, benzoyl benzoic acid, benzoyl benzoic acid methyl, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethyl amino) benzophenone, and 4,4'-dichloro benzo Phenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxy benzophenone or mixtures thereof.
  • Thioxanthones include thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone or Mixtures thereof.
  • the benzoin system may be benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal or mixtures thereof.
  • Phosphorus-based may be bisbenzoylphenyl phosphine oxide, benzoyldiphenyl phosphine oxide or mixtures thereof.
  • oximes examples include 2- (o-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione and 1- (o-acetyloxime) -1- [9-ethyl-6- ( 2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, or mixtures thereof.
  • the photopolymerization initiator is about 0.1-20 parts by weight, preferably about 1-10 parts by weight, more preferably about 2-8 parts by weight, based on 100 parts by weight of (A) + (B) solids in the composition Preferably about 2-5 parts by weight. Within this range, photopolymerization can occur sufficiently during exposure, and the transmittance can be prevented from being lowered due to the unreacted initiator remaining after the photopolymerization.
  • the photoacid generator may increase the photocuring effect by generating an acid and curing an epoxy group simultaneously with the radical polymerization reaction by the photopolymerization initiator.
  • the photoacid generator may include any conventional photoacid generator without limitation.
  • the photoacid generator may be carbazole-based, diketone-based, sulfonium-based, iodonium-based, diazo-based, biimidazole-based, or mixtures thereof.
  • the photoacid generator may be included in an amount of about 0.001-10 parts by weight, preferably about 0.01-5 parts by weight, and more preferably about 0.1-2 parts by weight, based on 100 parts by weight of (A) + (B), based on solids in the composition. Can be. Within this range, photopolymerization can occur sufficiently during exposure, and the transmittance can be prevented from being lowered due to the unreacted photoacid generator remaining after the photopolymerization.
  • the initiator may be included in an amount of about 0.1 to 20 parts by weight, preferably about 0.5 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of (A) + (B), based on solids in the composition. Within this range, photopolymerization can occur sufficiently during exposure, and the transmittance can be prevented from being lowered due to the unreacted photoacid generator remaining after the photopolymerization.
  • the photocurable composition may be formed by mixing the photocurable monomer, the monomer of Formula 1 or an oligomer thereof, or by further mixing an initiator.
  • it can be formed by the solventless type which does not contain a solvent.
  • the photocurable composition may have a degree of curing of at least about 90%, preferably about 90-99%, for example about 92.5-98.5%. In the above range, the curing shrinkage stress after curing is low, thereby implementing a layer in which no shift occurs, thereby making it possible to use the device for sealing purposes.
  • Members for devices in particular for display devices, can be decomposed or defective by the permeation of gases or liquids in the surrounding environment, for example oxygen and / or moisture in the atmosphere and / or water vapor and chemicals used in processing electronics. have.
  • the member for the device needs to be encapsulated or encapsulated.
  • Such device members include organic light emitting diodes (OLEDs), lighting devices, flexible organic light emitting diodes, metal sensor pads, microdisk lasers, electrochromic devices, photochromic devices, microelectromechanical systems, solar cells, integrated circuits, Charge coupling devices, light emitting polymers, light emitting diodes, and the like, but is not limited thereto.
  • OLEDs organic light emitting diodes
  • lighting devices flexible organic light emitting diodes
  • metal sensor pads microdisk lasers
  • electrochromic devices electrochromic devices
  • photochromic devices microelectromechanical systems
  • solar cells integrated circuits
  • Charge coupling devices Charge coupling devices, light emitting polymers, light emitting diodes, and the like, but is not limited thereto.
  • the photocurable composition of the present invention can form an organic barrier layer used for encapsulation or encapsulation of the device member, in particular, an organic light emitting device or a flexible organic light emitting device.
  • the barrier layer which is another aspect of the present invention, is an organic barrier layer, having a water vapor transmission rate of about 37.8 ° C., 100% relative humidity, and 24 hours with respect to a coating thickness of 5 ⁇ m. It may be 4.0g / m 2 ⁇ 24hr or less. In the above range, it can be used for sealing the member for the device.
  • the water vapor transmission rate may be about 1.0-4.0g / m 2 24hr and, for example, about 1.2-3.6g / m 2 and 24hr.
  • the barrier layer which is another aspect of the present invention, may be about 2000 ppm or less of outgas generation amount as an organic barrier layer.
  • the effect is small when applied to the member for the device, there can be an effect that can maintain the life of the device member for a long time.
  • the outgas generation amount may be about 10-1000 ppm.
  • the barrier layer may include a cured product of the photocurable composition.
  • the barrier layer may be formed by photocuring the photocurable composition.
  • the photocurable composition may be prepared by coating a thickness of about 0.1 ⁇ m-20 ⁇ m, preferably about 1 ⁇ m-10 ⁇ m, and curing by irradiating at about 10-500 mW / cm 2 for about 1 second to 50 seconds. have.
  • the barrier layer has the above-described moisture permeability and an outgassing amount, and forms a barrier stack together with the following inorganic barrier layer, so that the barrier layer can be used for sealing the device member.
  • a barrier stack may include the organic barrier layer and the inorganic barrier layer.
  • the inorganic barrier layer may have a different component from the organic barrier layer, thereby compensating the effect of the organic barrier layer.
  • the inorganic barrier layer is not particularly limited as long as the inorganic barrier layer is excellent in light transmittance and excellent in moisture and / or oxygen barrier property.
  • the inorganic barrier layer may be a metal, an intermetallic compound or alloy, an oxide of a metal or a mixed metal, a fluoride of a metal or a mixed metal, a nitride of a metal or a mixed metal, an oxygen nitride of a metal or a mixed metal, a metal, or a metal.
  • borides of mixed metals oxygen borides of metals or mixed metals, silicides of metals or mixed metals, or mixtures thereof.
  • the metal is silicon (Si), aluminum (Al), selenium (Se), zinc (Zn), antimony (Sb), indium (In), germanium (Ge), tin (Sn), bismuth (Bi) ), Transition metals, lanthanide metals, and the like, but are not limited thereto.
  • the inorganic barrier layer may be silicon oxide, silicon nitride, silicon oxygen nitride, ZnSe, ZnO, Sb 2 O 3 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SnO 2 .
  • the organic barrier layer may secure the moisture permeability and the outgas generation amount. As a result, when the organic barrier layer is deposited alternately with the inorganic barrier layer, it is possible to secure the smoothing characteristics of the inorganic barrier layer. In addition, the organic barrier layer can prevent the defect of the inorganic barrier layer from propagating to another inorganic barrier layer.
  • the organic barrier layer may include a cured product of the photocurable composition.
  • the barrier stack includes the organic barrier layer and the inorganic barrier layer, but the number of barrier stacks is not limited.
  • the combination of barrier stacks may vary depending on the level of permeation resistance to oxygen and / or moisture and / or water vapor and / or chemicals.
  • the organic barrier layer and the inorganic barrier layer may be deposited alternately. This is due to the effect on the organic barrier layer produced due to the physical properties of the above-described composition. For this reason, the organic barrier layer and the inorganic barrier layer can supplement or enhance the sealing effect of the device member.
  • the organic barrier layer and the inorganic barrier layer may be formed in alternating two or more layers, each of about 10 or less layers (e.g., about 2-10 layers), preferably about 7 or less layers (e.g., about 2 layers). -7 layers).
  • the thickness of one organic barrier layer may be about 0.1 ⁇ m-20 ⁇ m, preferably about 1 ⁇ m-10 ⁇ m, and the thickness of one inorganic barrier layer may be about 5 nm-500 nm, preferably about 5 nm-50 nm. have.
  • the barrier stack is a thin film encapsulant and may have a thickness of about 5 ⁇ m or less, preferably about 1.5 ⁇ m-5 ⁇ m.
  • the inorganic barrier layer can be formed by a vacuum process such as sputtering, chemical vapor deposition, plasma chemical vapor deposition, evaporation, sublimation, electron cyclotron resonance-plasma vapor deposition and combinations thereof.
  • the organic barrier layer may be deposited by the same method as the inorganic barrier layer, or may be formed by coating and curing the photocurable composition.
  • An encapsulated device which is another aspect of the present invention, may include a device member and a barrier stack formed on the device member and including an inorganic barrier layer and an organic barrier layer.
  • the organic barrier layer may have a moisture permeability measured at 37.8 ° C., 100% relative humidity, and 24 hour conditions with respect to a coating film thickness of 5 ⁇ m, of about 4.0 g / m 2 ⁇ 24hr or less.
  • the organic barrier layer may have an outgas generation amount of about 2000 ppm or less.
  • the organic barrier layer may include a cured product of the photocurable composition.
  • the organic barrier layer may mean a sealing layer that protects a member for a device including an organic light emitting unit, an organic solar cell, and the like.
  • the organic barrier layer can prevent the device member from being decomposed or oxidized by an external environment against moisture, oxygen, or the like.
  • the organic barrier layer can significantly reduce the outgas generation even under high humidity or high temperature and high humidity, thereby minimizing the effect of outgas on the device member, thereby preventing the performance of the device member from being reduced and shortening the lifespan.
  • the organic barrier layer may be formed on or under the inorganic barrier layer.
  • the inorganic barrier layer may mean a sealing layer that protects a member for a device including an organic light emitting unit, an organic solar cell, and the like.
  • the inorganic barrier layer may seal the element by contacting the device member or seal the inner space in which the device member is accommodated without contacting the device member.
  • the inorganic barrier layer can prevent the device member from being decomposed or damaged by blocking contact of the device with external oxygen or moisture.
  • the inorganic barrier layer may be formed on the device member, on the organic barrier layer, or under the organic barrier layer.
  • the device is sealed by an inorganic barrier layer and an organic barrier layer, which are barrier layers having different properties. At least one of the inorganic barrier layer and the organic barrier layer may be associated with the substrate for sealing the device.
  • the inorganic barrier layer and the organic barrier layer may be included two or more times in the device.
  • the inorganic barrier layer and the organic barrier layer may be alternately deposited, such as an inorganic barrier layer / organic barrier layer / inorganic barrier layer / organic barrier layer.
  • the inorganic barrier layer and the organic barrier layer may be included in total of about 10 or less (eg, about 2-10 layers), more preferably about 7 or less (eg, about 2-7 layers).
  • the substrate may be included depending on the type of the device member.
  • the substrate is not particularly limited as long as it is a substrate on which device members can be laminated.
  • the substrate may be made of a material such as transparent glass, plastic sheet, silicon or metal substrate.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an encapsulated device of one embodiment of the present invention.
  • the encapsulated device 100 is formed on a substrate 10, a device member 20 formed on the substrate 10, a device member 20, and an inorganic barrier layer 31 and an organic material. It consists of the barrier stack 30 containing the barrier layer 32, and the inorganic barrier layer 31 is in contact with the device member 20. As shown in FIG.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of an encapsulated device of another embodiment of the present invention.
  • the encapsulated device 200 is formed on a substrate 10, a device member 20 formed on the substrate 10, a device member 20, and an inorganic barrier layer 31 and an organic material. It is composed of a barrier stack 30 including a barrier layer 32, and the inorganic barrier layer 31 may seal the internal space 40 in which the device member 20 is accommodated.
  • FIGS. 1 and 2 illustrate a structure in which the inorganic barrier layer and the organic barrier layer are formed as a single layer, respectively, but the inorganic barrier layer and the organic barrier layer may be formed a plurality of times.
  • sealants and / or substrates may be further formed on the side and / or top of the composite barrier layer composed of an inorganic barrier layer and an organic barrier layer (not shown in FIGS. 1 and 2).
  • the encapsulated device can be manufactured by conventional methods.
  • a device member is formed on the substrate and an inorganic barrier layer is formed.
  • the photocurable composition may be applied to a thickness of about 1 ⁇ m-5 ⁇ m using a spin coating method or a slit coating method and irradiated with light to form an organic barrier layer.
  • the process of forming the inorganic barrier layer and the organic barrier layer may be repeated (preferably about 10 times or less).
  • the encapsulated device may be, but is not limited to, an organic light emitting display device including an organic light emitting unit, a display device including a liquid crystal display device, a solar cell, and the like.
  • Photocurable monomer (A1) hexyl acrylate, (A2) hexanediol diacrylate, (A3) pentaerythritol tetraacrylate (above, Aldrich)
  • (C) initiator (C1) photopolymerization initiator Darocur TPO (BASF), (C2) photoacid generator: Irgacure PAG 121 (BASF)
  • Water vapor permeability Use a moisture permeability meter (PERMATRAN-W 3/33, MOCON). The photocurable composition was sprayed onto the Al sample holder and irradiated at 100 mW / cm 2 for 10 seconds to UV cured to form a cured specimen having a coating thickness of 5 ⁇ m. The moisture permeability is measured for 24 hours at 37.8 ° C. and 100% relative humidity using a moisture permeability meter (PERMATRAN-W 3/33, MOCON) for a coating thickness of 5 ⁇ m.
  • PERMATRAN-W 3/33, MOCON moisture permeability meter
  • the split ratio is 20: 1, the temperature conditions are maintained for 3 minutes at 40 °C, then heated up at a rate of 10 °C / min and maintained at 320 °C 6 minutes.
  • Out size is glass size 20cm x 20cm
  • collection vessel is Tedlar bag
  • collection temperature is 90 °C
  • collection time is 30 minutes
  • N 2 purge flow rate is 300mL / min
  • adsorbent is Tenax GR (5% phenylmethylpolysiloxane) ) To capture.
  • a calibration curve is prepared with 150 ppm, 400 ppm, and 800 ppm of toluene solution in n-hexane, and an R2 value of 0.9987 is obtained.
  • Table 1 summarized in Table 1 below.
  • A is the ratio of the intensity of the absorption peak in the vicinity of 1635 cm ⁇ 1 to the intensity of the absorption peak in the vicinity of 1720 cm ⁇ 1 for the cured film
  • B is the ratio of the intensity of the absorption peak in the vicinity of 1635 cm ⁇ 1 to the intensity of the absorption peak in the vicinity of 1720 cm ⁇ 1 for the photocurable composition
  • the coating film formed of the photocurable composition of the present invention had a low water vapor transmission rate, a significantly low outgas generation amount during the outgas evaluation, and a high degree of curing.
  • the coating film formed of the photocurable composition of Comparative Example 1, which does not include the monomer of Formula 1, has a significantly higher water vapor transmission rate, a higher outgas generation rate, and a lower curing degree than the present invention.

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Abstract

본 발명은 (A)광경화성 모노머 및 (B)화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머를 포함하는 광경화 조성물, 이를 포함하는 장벽층 및 이를 포함하는 봉지화된 장치에 관한 것이다.

Description

광경화 조성물, 이를 포함하는 장벽층 및 이를 포함하는 봉지화된 장치
본 발명은 광경화 조성물, 이를 포함하는 장벽층 및 이를 포함하는 봉지화된 장치에 관한 것이다.
유기전계발광부(OLED, organic light emitting diode)는 양극과 음극 사이에 기능성 유기물 층이 삽입된 구조로서, 양극에 주입된 정공과 음극에 주입된 전자의 재결합에 의해 에너지가 높은 여기자(exiton)를 형성하게 된다. 형성된 여기자가 기저 상태(ground state)로 이동하면서 특정 파장의 빛을 발생하게 된다. 유기전계발광부는 자체 발광, 고속 응답, 광 시야각, 초박형, 고화질, 내구성의 장점을 갖고 있다.
그러나, 유기전계발광부는 밀봉하더라도 외부에서 유입되는 수분 또는 산소나, 외부 또는 내부에서 발생되는 아웃가스에 의해 유기 재료 및/또는 전극 재료의 산화가 일어나 성능과 수명이 저하되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 극복하기 위하여, 유기전계발광부가 형성된 기판에 광경화형 실링제를 도포하거나, 투명 또는 불투명 흡습제를 부착시키거나, 프릿(frit)을 형성하는 방법이 제안되고 있다.
관련 선행기술로는 한국공개특허 2005-0021054호(발명의 명칭:유기 전계 발광 소자 및 그 제조 방법) 등이 있다.
본 발명의 목적은 경화 후 투습도 및 아웃가스 발생량이 현저하게 낮고, 경화도가 높고, 경화 후 경화 수축 응력으로 인한 쉬프트(shift)가 발생되지 않는 층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 장치용 부재의 봉지 시에 장치용 부재의 수명을 연장시킬 수 있는 층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 광경화 조성물의 경화물을 포함하는 장벽층 및 이를 포함하는 봉지화된 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 관점인 광경화 조성물은 (A)광경화성 모노머 및 (B)하기 화학식 1의 모노머를 포함할 수 있다:
<화학식 1>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000001
(상기 식에서, Y는 하기 화학식 2 내지 4 중 하나이고,
<화학식 2>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000002
<화학식 3>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000003
<화학식 4>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000004
상기에서, R1,R2,R3,R4,X1,X2,X3,X4,X5,X6,m,n은 하기 상세한 설명에서 정의한 바와 같다).
본 발명의 다른 관점인 봉지화된 장치는 장치용 부재, 및 상기 장치용 부재 위에 형성되고 무기 장벽층과 유기 장벽층을 포함하는 장벽 스택을 포함하고,상기 유기 장벽층은 아웃가스 발생량이 약 2000ppm 이하가 될 수 있다.
본 발명의 또 다른 관점인 봉지화된 장치는 장치용 부재, 및 상기 장치용 부재 위에 형성되고 무기 장벽층과 유기 장벽층을 포함하는 장벽 스택을 포함하고, 상기 유기 장벽층은 두께 방향으로 도막 두께 5㎛에 대하여 37.8℃, 100% 상대 습도, 및 24시간 조건에서 측정된 투습도가 약 4.0g/m2ㆍ24hr 이하가 될 수 있다.
본 발명은 경화 후 투습도 및 아웃가스 발생량이 현저하게 낮은 층을 구현하여 소자 밀봉 시에 소자의 성능 저하를 막고 수명을 연장시킬 수 있는 층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하였다. 또한 본 발명은 경화도가 높아 소자 밀봉 시에 쉬프트가 발생되지 않는 층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하였다.
도 1은 본 발명 일 구체예의 봉지화된 장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 구체예의 봉지화된 장치의 단면도이다.
본 명세서에서 '치환된'은 별도의 정의가 없는 한, 본 발명의 작용기 중 하나 이상의 수소 원자가 할로겐(F, Cl, Br 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 이미노기(=NH, =NR, R은 탄소수 1-10의 알킬기이다), 아미노기(-NH2, -NH(R'), -N(R")(R"'), R',R",R"'은 각각 독립적으로 탄소수 1-10의 알킬기이다), 아미디노기, 히드라진 또는 히드라존기, 카르복시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3-30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3-30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2-30의 헤테로시클로알킬기로 치환되는 것을 의미할 수 있다.
본 명세서에서 '헤테로'는 탄소 원자가 N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 원자로 치환된 것을 의미한다.
본 명세서에서, '*'은 원소의 연결 부위를 나타낸다.
본 발명의 일 관점인 광경화 조성물은 (A)광경화성 모노머 및 (B)하기 화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머를 포함할 수 있다.
(A)광경화성 모노머
상기 광경화성 모노머는 헤테로사이클을 포함하지 않는 비-헤테로사이클계 모노머, 또는 에폭시기를 포함하지 않는 비-에폭시계 모노머를 포함할 수 있다.
구체예에서, 상기 광경화성 모노머는 옥시란(oxirane)기를 포함하지 않는 비-옥시란계, 옥세탄(oxetane)기를 포함하지 않는 비-옥세탄계, 또는 에폭시시클로알킬기를 포함하지 않는 비-에폭시시클로알킬계 모노머가 될 수 있다.
상기 광경화성 모노머는 하기 화학식 1의 모노머를 제외한 모노머를 의미한다.
상기 광경화성 모노머는 불포화기를 갖는 단관능 모노머, 다관능 모노머, 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 구체예에서, 상기 광경화성 모노머는 광경화성 작용기를 약 1 내지 30개, 바람직하게는 약 1 내지 20개, 더 바람직하게는 약 1 내지 6개 갖는 모노머를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 작용기는 치환 또는 비치환된 비닐기, 아크릴레이트기, 또는 메타아크릴레이트기를 포함할 수 있다.
상기 광경화성 모노머는 단관능 모노머와 다관능 모노머의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 혼합물 중 단관능 모노머:다관능 모노머는 약 1:0.1 내지 1:4의 중량비, 바람직하게는 약 1:1 내지 1:4, 더 바람직하게는 약 1:2 내지 1:4의 중량비로 포함될 수 있다.
상기 광경화성 모노머는 치환 또는 비치환된 비닐기를 갖는 탄소수 6-20의 방향족 탄화수소 화합물; 탄소수 1-20의 알킬기, 탄소수 3-20의 시클로알킬기, 탄소수 6-20의 방향족기, 또는 히드록시기 및 탄소수 1-20의 알킬기를 갖는 불포화 카르본산 에스테르; 탄소수 1-20의 아미노 알킬기를 갖는 불포화 카르본산 에스테르; 탄소수 1-20의 포화 또는 불포화 카르본산의 비닐 에스테르; 시안화 비닐 화합물; 불포화 아미드 화합물; 모노 알코올 또는 다가 알코올의 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트 등이 될 수 있다. 상기 '다가 알코올'은 수산기를 약 2개 이상 갖는 알코올로서, 약 2-20개, 바람직하게는 약 2-10개, 더 바람직하게는 약 2-6개 갖는 갖는 알코올을 의미할 수 있다.
구체예에서, 상기 광경화성 모노머는 스티렌, 알파-메틸 스티렌, 비닐 톨루엔, 비닐 벤질 에테르, 비닐 벤질 메틸 에테르 등의 비닐기를 포함하는 알케닐기를 갖는 탄소수 6-20의 방향족 탄화수소 화합물; 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 노닐 (메타)아크릴레이트, 데카닐 (메타)아크릴레이트, 운데카닐 (메타)아크릴레이트, 도데실 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에스테르를 포함하는 불포화 카르본산 에스테르; 2-아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르본산 아미노 알킬 에스테르; 비닐 아세테이트, 비닐 벤조에이트 등의 포화 또는 불포화 카르본산 비닐 에스테르; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 옥틸디올 디(메타)아크릴레이트, 노닐디올 디(메타)아크릴레이트, 데카닐디올 디(메타)아크릴레이트, 운데카닐디올 디(메타)아크릴레이트, 도데실디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리(프로필렌글리콜) 디(메타)아크릴레이트, 폴리(프로필렌글리콜) 디(메타)아크릴레이트 등을 포함하는 모노 알코올 또는 다가 알코올의 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트 등이 될 수 있고, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 '다가 알코올'은 수산기를 약 2개 이상 갖는 알코올로서, 약 2-20개, 바람직하게는 약 2-10개, 더 바람직하게는 약 2-6개 갖는 알코올을 의미할 수 있다.
바람직하게는, 상기 광경화성 모노머는 탄소수 1-20의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트, 탄소수 2-20의 디올의 디(메타)아크릴레이트, 탄소수 3-20의 트리올의 트리(메타)아크릴레이트, 탄소수 4-20의 테트라올의 테트라(메타)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 광경화성 모노머는 고형분 기준으로 상기 조성물의 (A) + (B) 100중량부 중 약 1-99중량부, 바람직하게는 약 50-90중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 보다 높은 광경화 효과로 낮은 아웃가스 및 투습도를 구현할 수 있다.
(B)화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머
상기 화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머는 광경화성 작용기를 갖는 광경화성 모노머 또는 그의 올리고머일 수 있다. 상기 광경화성 작용기는 치환 또는 비치환된, 비닐기, 아크릴레이트기, 또는 메타아크릴레이트기를 포함할 수 있다.
구체예에서, 상기 화학식 1의 모노머는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다:
<화학식 1>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000005
(상기 식에서, R3은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기이며,
Y는 하기 화학식 2 내지 4 중 하나이다.
<화학식 2>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000006
(상기에서, *는 상기 화학식 1 중 -O-에 대한 연결 부위이고,
X1, X2는 동일하거나 다르고, O, S, N-R(R은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다), 또는 치환 또는 비치환된 (R')C(R")(R',R"은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다)이고,
X1, X2 중 하나는 O, S, 또는 N-R이고,
R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬렌옥시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬아민기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알콕실렌기이다)
<화학식 3>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000007
(상기에서 *는 상기 화학식 1 중 -O-에 대한 연결 부위이고,
X3, X4, X5는 동일하거나 다르고, O, S, N-R(R은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다), 또는 치환 또는 비치환된 (R')C(R")(R',R"은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다)이고,
X3, X4, X5 중 하나 이상은 O, S, 또는 N-R이고,
R1은 상기에서 정의한 바와 같고,
R2는 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬아민기 또는 디알킬아민기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알콕시기이다)
<화학식 4>
Figure PCTKR2013002861-appb-I000008
(상기에서, *는 상기 화학식 1 중 -O-에 대한 연결 부위이고,
X6은 O, S, 또는 N-R(R은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다)이고,
R1은 상기에서 정의한 바와 같고,
R4는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬아민기 또는 디알킬아민기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알콕시기이고,
n은 1 내지 5의 정수이고, m은 0 내지 n+1의 정수이다))
바람직하게는, X1은 O이고, X2는 -CH2-가 될 수 있다.
바람직하게는, X4는 O이고, X3과 X5는 각각 -CH2-가 될 수 있다.
바람직하게는 R1은 탄소수 1-10의 알킬렌기, 더 바람직하게는 탄소수 1-6의 알킬렌기이다.
바람직하게는, R2는 수소, 탄소수 1-10의 알킬기, 더 바람직하게는 탄소수 1-6의 알킬기가 될 수 있다.
바람직하게는, n은 1 내지 2의 정수가 될 수 있다.
구체예에서, 상기 화학식 1의 모노머는 글리시딜 (메타)아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세탄일) 메틸 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머는 상기 광경화성 모노머와 함께 광경화 조성물에 포함되어, 경화 후 투습도와 아웃가스 발생량이 현저하게 낮은 층을 구현할 수 있고, 경화도를 높일 수 있다. 또한, 상기 화학식 1의 모노머는 유기 장벽층에 포함시 무기 장벽층의 증착시 사용되는 플라즈마로부터 장치용 부재가 받는 손상(damage)를 최소화할 수 있다.
상기 화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머는 고형분 기준으로 상기 조성물의 (A) + (B) 100중량부 중 약 1-99중량부, 바람직하게는 약 10-50중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 보다 높은 광경화 효과로 낮은 아웃가스 및 투습도를 구현할 수 있다.
상기 조성물은 개시제를 더 포함할 수 있다.
(C)개시제
상기 개시제는 광중합 개시제, 광산 발생제(photo acid generator) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 광경화성 반응을 수행할 수 있는 통상의 광중합 개시제를 제한없이 포함할 수 있다. 예를 들면, 광중합 개시제는 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 인계, 옥심계 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.
트리아진계로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시 페닐)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로 메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시 나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2,4-트리클로로 메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2,4-(트리클로로 메틸(4'-메톡시 스티릴)-6-트리아진 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
아세토페논계로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸 프로피오페논, p-t-부틸 트리클로로 아세토페논, p-t-부틸 디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노 프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸 아미노-1-(4-모폴리노 페닐)-부탄-1-온, 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
벤조페논계로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-디클로로 벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시 벤조페논 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
티오크산톤계로는 티오크산톤, 2-메틸 티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로 티오크산톤 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
벤조인계로는 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질 디메틸 케탈 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
인계로는 비스벤조일페닐 포스핀옥시드, 벤조일디페닐 포스핀옥시드 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
옥심계로는 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온 및 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
상기 광중합 개시제는 조성물 중 고형분 기준으로 (A) + (B) 100중량부에 대하여 약 0.1-20중량부, 바람직하게는 약 1-10중량부, 더욱 바람직하게는 약 2-8중량부, 가장 바람직하게는 약 2-5중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 노광시 광중합이 충분히 일어날 수 있고, 광중합 후 남은 미반응 개시제로 인하여 투과율이 저하되는 것을 막을 수 있다.
상기 광산 발생제는 광중합 개시제에 의한 라디칼 중합 반응과 동시에 산을 발생시켜 에폭시기를 경화시킴으로써 광경화 효과를 높일 수 있다.
상기 광산 발생제는 통상의 광산 발생제를 제한없이 포함할 수 있다. 예를 들면, 광산 발생제는 카바졸계, 디케톤계, 술포늄계, 요오드늄계, 디아조계, 비이미다졸계 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
상기 광산 발생제는 조성물 중 고형분 기준으로 (A) + (B) 100중량부에 대하여 약 0.001-10중량부, 바람직하게는 약 0.01-5중량부, 더욱 바람직하게는 약 0.1-2중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 노광시 광중합이 충분히 일어날 수 있고, 광중합 후 남은 미반응 광산 발생제로 인하여 투과율이 저하되는 것을 막을 수 있다.
상기 개시제는 조성물 중 고형분 기준으로 (A) + (B) 100중량부에 대해 약 0.1 내지 20중량부, 바람직하게는 약 0.5 내지 10중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 노광시 광중합이 충분히 일어날 수 있고, 광중합 후 남은 미반응 광산 발생제로 인하여 투과율이 저하되는 것을 막을 수 있다.
상기 광경화 조성물은 상기 광경화성 모노머, 화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머를 혼합하거나, 개시제를 더 혼합하여 형성할 수 있다. 바람직하게는, 용제를 포함하지 않는 무용제 타입으로 형성할 수 있다.
상기 광경화 조성물은 경화도가 약 90% 이상, 바람직하게는 약 90-99%, 예를 들면 약 92.5-98.5%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 경화 후 경화 수축 응력이 낮아 쉬프트가 발생되지 않은 층을 구현함으로써, 소자의 밀봉 용도로 사용할 수 있게 한다.
장치용 부재 특히 디스플레이 장치용 부재는 주변 환경의 기체 또는 액체, 예를 들면 대기 중의 산소 및/또는 수분 및/또는 수증기와 전자제품으로 가공시 사용된 화학물질의 투과에 의해 분해되거나 불량이 될 수 있다. 이를 위해 장치용 부재는 봉지 또는 캡슐화될 필요가 있다.
이러한 장치용 부재는 유기발광소자(OLED), 조명 장치, 플렉시블(flexible) 유기발광소자, 금속 센서 패드, 마이크로디스크 레이저, 전기변색 장치, 광변색장치, 마이크로전자기계 시스템, 태양전지, 집적 회로, 전하 결합 장치, 발광 중합체, 발광 다이오드 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
본 발명의 광경화 조성물은 상기 장치용 부재 특히 유기발광소자 또는 플렉시블(flexible) 유기발광소자의 봉지 또는 캡슐화 용도로 사용되는 유기 장벽층을 형성할 수 있다.
본 발명의 다른 관점인 장벽층(barrier layer)은 유기 장벽층으로서 도막 두께 5㎛에 대하여 37.8℃, 100% 상대 습도, 및 24시간 조건에서 측정된 투습도(수분투과도, water vapor transmission rate)가 약 4.0g/m2ㆍ24hr 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 장치용 부재의 밀봉용으로 사용될 수 있다. 예를 들면, 투습도는 약 1.0-4.0g/m2ㆍ24hr, 예를 들면 약 1.2-3.6g/m2ㆍ24hr가 될 수 있다.
본 발명의 다른 관점인 장벽층은 유기 장벽층으로서 아웃가스 발생량이 약 2000ppm 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 장치용 부재에 적용 시 영향이 미미하고, 장치용 부재의 수명을 장시간 유지할 수 있는 효과가 있을 수 있다. 예를 들면, 아웃가스 발생량은 약 10-1000ppm이 될 수 있다.
상기 장벽층은 상기 광경화 조성물의 경화물을 포함할 수 있다.
구체예에서, 상기 장벽층은 상기 광경화 조성물을 광 경화시켜 형성할 수 있다. 제한되지 않지만, 광경화 조성물을 약 0.1㎛-20㎛ 바람직하게는 약 1㎛-10㎛ 두께로 코팅하고, 약 10-500mW/cm2에서 약 1초-50초동안 조사하여 경화시켜 제조할 수 있다.
상기 장벽층은 상술한 투습도와 아웃가스발생량을 가져, 하기 무기 장벽층과 함께 장벽 스택을 형성하여 장치용 부재의 봉지 용도로 사용될 수 있다.
본 발명의 또 다른 관점인 장벽 스택(barrier stack)은 상기 유기 장벽층과 무기 장벽층을 포함할 수 있다.
상기 무기 장벽층은 상기 유기 장벽층과 구성 성분이 상이함으로써, 유기 장벽층의 효과를 보완할 수 있다.
상기 무기 장벽층은 광투과성이 우수하고, 수분 및/또는 산소 차단성이 우수한 무기층이라면 특별히 제한되지 않는다.
예를 들면, 상기 무기 장벽층은 금속, 금속간 화합물 또는 합금, 금속 또는 혼합 금속의 산화물, 금속 또는 혼합 금속의 불화물, 금속 또는 혼합 금속의 질화물, 금속 탄화물, 금속 또는 혼합 금속의 산소질화물, 금속 또는 혼합 금속의 붕소화물, 금속 또는 혼합 금속의 산소붕소화물, 금속 또는 혼합 금속의 실리사이드 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.
구체예에서, 상기 금속은 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 셀레늄(Se), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 인듐(In), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 비스무트(Bi), 전이금속, 란탄족 금속, 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
구체적으로, 상기 무기 장벽층은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산소 질화물, ZnSe, ZnO, Sb2O3, Al2O3, In2O3, SnO2가 될 수 있다.
상기 유기 장벽층은 상술한 투습도와 아웃가스 발생량을 확보할 수 있다. 그 결과, 유기 장벽층은 무기 장벽층과 교대로 증착시, 무기 장벽층의 평활화 특성을 확보할 수 있다. 또한, 유기 장벽층은 무기 장벽층의 결함이 또 다른 무기 장벽층으로 전파되는 것을 막을 수 있다.
상기 유기 장벽층은 상기 광경화 조성물의 경화물을 포함할 수 있다.
장벽 스택은 상기 유기 장벽층과 무기 장벽층을 포함하되, 장벽 스택의 수는 제한되지 않는다. 장벽 스택의 조합은 산소 및/또는 수분 및/또는 수증기 및/또는 화학 물질에 대한 투과 저항성의 수준에 따라 변경할 수 있다.
장벽 스택에서 유기 장벽층과 무기 장벽층은 교대로 증착될 수 있다. 이는 상술한 조성물이 갖는 물성으로 인해 생성된 유기 장벽층에 대한 효과 때문이다. 이로 인해, 유기 장벽층과 무기 장벽층은 장치용 부재의 봉지 효과를 보완 또는 강화할 수 있다.
바람직하게는, 유기 장벽층과 무기 장벽층은 각각 2층 이상 교대로 형성될 수 있고, 전체 약 10층 이하(예:약 2-10층), 바람직하게는 약 7층 이하(예:약 2-7층)로 형성될 수 있다.
장벽 스택에서, 유기 장벽층 하나의 두께는 약 0.1㎛-20㎛, 바람직하게는 약 1㎛-10㎛, 무기 장벽층 하나의 두께는 약 5nm-500nm, 바람직하게는 약 5nm-50nm가 될 수 있다.
장벽 스택은 박막 봉지제로서, 두께는 약 5㎛ 이하, 바람직하게는 약 1.5㎛-5㎛가 될 수 있다.
무기 장벽층은 진공 공정, 예를 들면 스퍼터링, 화학기상증착, 플라즈마화학기상증착, 증발, 승화, 전자사이클로트론공명-플라즈마증기증착 및 이의 조합으로 형성될 수 있다.
유기 장벽층은 상기 무기 장벽층과 동일한 방법으로 증착하거나, 광경화 조성물의 코팅 및 경화에 의해 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 관점인 봉지화된 장치는 장치용 부재, 및 상기 장치용 부재 위에 형성되고 무기 장벽층과 유기 장벽층을 포함하는 장벽 스택을 포함할 수 있다.
구체예에서, 상기 유기 장벽층은 도막 두께 5㎛에 대하여 37.8℃, 100% 상대 습도, 및 24시간 조건에서 측정된 투습도가 약 4.0g/m2ㆍ24hr 이하가 될 수 있다.
다른 구체예에서, 상기 유기 장벽층은 아웃가스 발생량이 약 2000ppm 이하가 될 수 있다.
상기 유기 장벽층은 상기 광경화 조성물의 경화물을 포함할 수 있다.
상기 유기 장벽층은 유기전계발광부, 유기태양전지 등을 포함하는 장치용 부재를 보호하는 밀봉층을 의미할 수 있다. 상기 유기 장벽층은 상기 장치용 부재가 수분, 산소 등에 대한 외부 환경에 의해 분해되거나 산화되는 것을 막을 수 있다. 또한, 유기 장벽층은 고습 또는 고온 고습 하에서도 아웃가스 발생량이 현저하게 적어 장치용 부재에 대한 아웃가스 영향을 최소화함으로써 장치용 부재의 성능이 저하되고 수명이 단축되는 것을 막을 수 있다.
상기 유기 장벽층은 무기 장벽층의 상부 또는 하부에 형성될 수 있다.
상기 무기 장벽층은 유기전계발광부, 유기태양전지 등을 포함하는 장치용 부재를 보호하는 밀봉층을 의미할 수 있다. 무기 장벽층은 장치용 부재와 접촉함으로써 소자를 밀봉하거나, 장치용 부재와 접촉없이 장치용 부재가 수용된 내부 공간을 밀봉할 수도 있다. 무기 장벽층은 외부의 산소 또는 수분과 소자의 접촉을 차단함으로써, 장치용 부재가 분해 또는 손상되는 것을 예방할 수 있다.
상기 무기 장벽층은 장치용 부재 상부, 유기 장벽층의 상부, 또는 유기 장벽층의 하부에 형성될 수 있다.
봉지화된 장치는 서로 다른 성질을 갖는 장벽층인 무기 장벽층과 유기 장벽층에 의해 소자가 밀봉되어 있다. 무기 장벽층과 유기장벽층 중 하나 이상은 소자 밀봉을 위하여 기판과 결합되어 있을 수 있다.
상기 무기 장벽층과 유기 장벽층은 상기 장치에 2회 이상 복수 회 포함될 수 있다. 일 구체예에서, 무기 장벽층과 유기 장벽층은 무기 장벽층/유기 장벽층/무기 장벽층/유기 장벽층과 같이 교대로 증착될 수 있다. 바람직하게는, 무기 장벽층과 유기 장벽층은 전체 약 10층 이하(예:약 2-10층), 더 바람직하게는 약 7층 이하(예: 약 2-7층)로 포함될 수 있다.
유기 장벽층과 무기 장벽층에 대한 상세 내용은 상기에서 상술한 바와 같다.
장치용 부재의 종류에 따라 기판이 포함될 수 있다.
상기 기판은 장치용 부재가 적층될 수 있는 기판이라면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 기판은 투명 유리, 플라스틱 시트, 실리콘 또는 금속 기판 등과 같은 물질로 이루어질 수 있다.
도 1은 본 발명 일 구체예의 봉지화된 장치의 단면도이다.
도 1에 따르면, 봉지화된 장치(100)는 기판(10), 상기 기판(10) 위에 형성된 장치용 부재(20), 장치용 부재(20) 위에 형성되고, 무기 장벽층(31)과 유기 장벽층(32)을 포함하는 장벽 스택(30)으로 구성되어 있고, 무기 장벽층(31)은 장치용 부재(20)와 접촉하는 상태로 되어 있다.
도 2는 본 발명 다른 구체예의 봉지화된 장치의 단면도이다.
도 2에 따르면, 봉지화된 장치(200)는 기판(10), 상기 기판(10) 위에 형성된 장치용 부재(20), 장치용 부재(20) 위에 형성되고, 무기 장벽층(31)과 유기 장벽층(32)을 포함하는 장벽 스택(30)으로 구성되어 있고, 무기 장벽층(31)은 장치용 부재(20)가 수용된 내부 공간(40)을 밀봉할 수 있다.
도 1과 도 2는 무기 장벽층과 유기 장벽층이 각각 단일층으로 형성된 구조를 도시하였으나, 무기 장벽층과 유기 장벽층은 복수회 형성될 수 있다. 또한, 무기 장벽층과 유기 장벽층으로 구성되는 복합 장벽층 측면 및/또는 상부에는 실란트 및/또는 기판이 더 형성될 수 있다(도 1과 도 2에서는 도시하지 않았음).
봉지화된 장치는 통상의 방법으로 제조될 수 있다. 기판 위에 장치용 부재를 형성하고 무기 장벽층을 형성한다. 광경화 조성물을 스핀 도포, 슬릿 도포 등의 방법을 사용하여 약 1㎛-5㎛의 두께로 도포하고 광을 조사하여 유기 장벽층을 형성할 수 있다. 무기 장벽층과 유기 장벽층의 형성 과정은 반복될 수 있다(바람직하게는 약 10회 이하).
구체예에서, 봉지화된 장치는 유기전계발광부를 포함하는 유기전계발광표시장치, 액정표시장치 등을 포함하는 디스플레이 장치, 태양 전지 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
하기 실시예와 비교예에서 사용한 성분의 구체적인 사양은 다음과 같다.
(A)광경화성 모노머: (A1)헥실 아크릴레이트, (A2)헥산디올 디아크릴레이트, (A3)펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트(이상, Aldrich사)
(B)화학식 1의 모노머:(B1)글리시딜 메타아크릴레이트(Aldrich, 화학식 2 포함), (B2) (3-Ethyl-3-oxetanyl)methyl Acrylate OXE-10(Osaka Yuki사, 화학식 3 포함), (B3) 7-Oxabicyclo[4,1,0]hept-3-ylmethyl methacrylate, Cyclomer M100(Daicel사, 화학식 4 포함)
(C)개시제:(C1)광중합 개시제 Darocur TPO(BASF사), (C2)광산 발생제:Irgacure PAG 121(BASF사)
실시예 1-6과 비교예 1
용매 없이 (A)광경화성 모노머, (B)화학식 1의 모노머, (C)개시제를 하기 표 2에 기재된 함량(단위:중량부)으로 125ml 갈색 폴리프로필렌병에 넣고, 쉐이커를 이용하여 3시간 동안 혼합하여 조성물을 제조하였다.
상기 실시예와 비교예에서 제조한 조성물에 대해 하기의 물성을 평가하고 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
물성 평가 방법
1.투습도: 투습도 측정기(PERMATRAN-W 3/33, MOCON사)를 이용한다. Al 샘플 홀더(sample holder)위에 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 100mW/cm2으로 10초동안 조사하여 UV 경화시켜 도막 두께 5㎛의 경화된 시편을 형성한다. 도막 두께 5㎛에 대해 투습도 측정기(PERMATRAN-W 3/33, MOCON사)를 이용하고, 37.8℃ 및 100% 상대 습도 조건에서 24시간 동안 투습도를 측정한다.
2.유기 장벽층의 아웃가스 발생량:유리 기판 위에 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 100mW/cm2으로 10초동안 조사하여 UV 경화시켜, 20cm x 20cm x 3㎛(가로 x 세로 x 두께)의 유기 장벽층 시편을 얻는다. 시편에 대하여, GC/MS 기기(Perkin Elmer Clarus 600)을 이용한다. GC/MS는 칼럼으로 DB-5MS 칼럼(길이:30m, 지름:0.25mm, 고정상 두께:0.25㎛)을 사용하고, 이동상으로 헬륨 가스(플로우 레이트:1.0mL/min, average velocity = 32 cm/s)를 이용하고, split ratio는 20:1, 온도 조건은 40℃에서 3분 유지하고, 그 다음에 10℃/분의 속도로 승온한 후 320℃에서 6분 유지한다. 아웃 가스는 glass size 20 cm x 20cm, 포집 용기는 Tedlar bag, 포집 온도는 90℃, 포집 시간은 30분, N2 퍼지(purge) 유량은 300mL/분, 흡착제는 Tenax GR(5% 페닐메틸폴리실록산)을 이용하여 포집한다. 표준 용액으로 n-헥산 중 톨루엔 용액 150ppm, 400ppm, 800ppm으로 검량선을 작성하고 R2값을 0.9987로 얻는다. 이상의 조건을 요약하면 하기 표 1과 같다.
표 1
구분 세부사항
포집 조건 Glass size : 20cm x 20cm
포집 용기 : Tedlar bag
포집 온도 : 90℃
포집 시간 : 30min
N2 purge 유량 : 300 mL/min
흡착제 : Tenax GR
검량선 작성 조건 표준 용액 : Toluene in n-Hexane
농도 범위 : 150ppm, 400ppm, 800ppm
R2 : 0.9987
GC/MS 조건 GC/MS Column DB-5MS → 30m x 0.25mm x 0.25㎛(5% phenylmethylpolysiloxane)
GC/MS 이동상 He
GC/MS Flow 1.0 mL/min (average velocity = 32 cm/s)
GC/MS Split Split ratio = 20:1
GC/MS Method 40℃(3 min) 에서 10℃/min으로 320℃(6 min)
3.경화도:광경화 조성물에 대하여 FT-IR(NICOLET 4700, Thermo사)을 사용하여 1635cm-1 부근(C=C), 1720cm-1 부근(C=O)에서의 흡수 피크의 강도를 측정한다. 유리 기판 위에 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 100mW/cm2으로 10초 동안 조사하여 UV 경화시켜, 20cm x 20cm x 3㎛(가로 x 세로 x 두께)의 시편을 얻는다. 경화된 필름을 분취하고, FT-IR(NICOLET 4700, Thermo사)를 이용하여 1635cm-1 부근(C=C), 1720cm-1 부근(C=O)에서의 흡수 피크의 강도를 측정한다. 경화도는 하기 식 1에 따라 계산한다.
<식 1>
경화도(%)= ｜1-(A/B)｜ x 100
(상기에서, A는 경화된 필름에 대해 1720cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도에 대한 1635cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도의 비이고,
B는 광경화 조성물에 대해 1720cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도에 대한 1635cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도의 비이다)
표 2
실시예 비교예
1 2 3 4 5 6 1
(A) (A1) 20 20 20 - - - 50
(A2) 60 60 60 40 40 40 40
(A3) 10 10 10 10 10 10 10
(B) (B1) 10 - - 50 - - -
(B2) - 10 - - 50 - -
(B3) - - 10 - - 50 -
(C) (C1) 5 5 5 5 5 5 5
(C2) 1 1 1 1 1 1 1
투습도(g/m2. 24hr) 3.6 3.2 2.2 2.3 2.1 1.2 12.5
아웃가스 발생량(ppm) 830 880 320 630 540 180 8540
경화도(%) 92.5 94 93 95 98 94 83
상기 표 2에서 나타난 바와 같이, 본 발명의 광경화 조성물로 형성되는 도막은 투습도가 낮았고, 아웃가스 평가시 아웃가스 발생량이 현저하게 낮았고, 경화도가 현저하게 높았다.
반면에, 상기 화학식 1의 모노머를 포함하지 않는 비교예 1의 광경화 조성물로 형성된 도막은 투습도가 본 발명에 비해 현저하게 높았고 아웃가스 발생량도 높았으며 경화도도 본 발명에 비해 낮았다.
본 발명은 상기 실시예 및 도면에 의해 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태가 될 수 있고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예와 도면은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야 한다.

Claims (19)

  1. (A)광경화성 모노머 및 (B)하기 화학식 1의 모노머 또는 그의 올리고머를 포함하는 광경화 조성물:
    <화학식 1>
    Figure PCTKR2013002861-appb-I000009
    (상기 식에서, R3은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기이고,
    Y는 하기 화학식 2 내지 4 중 하나이다
    <화학식 2>
    Figure PCTKR2013002861-appb-I000010
    (상기에서, *는 상기 화학식 1 중 -O-에 대한 연결 부위이고,
    X1, X2는 동일하거나 다르고, O, S, N-R(R은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다), 또는 치환 또는 비치환된 (R')C(R")(R',R"은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다)이고,
    X1, X2 중 하나는 O, S, 또는 N-R이고,
    R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬렌옥시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬아민기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬렌기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알콕실렌기이다)
    <화학식 3>
    Figure PCTKR2013002861-appb-I000011
    (상기에서 *는 상기 화학식 1 중 -O-에 대한 연결 부위이고,
    X3, X4, X5는 동일하거나 다르고, O, S, N-R(R은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다), 또는 치환 또는 비치환된 (R')C(R")(R',R"은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다)이고,
    X3, X4, X5 중 하나 이상은 O, S, 또는 N-R이고,
    R1은 상기에서 정의한 바와 같고,
    R2는 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬아민기 또는 디알킬아민기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알콕시기이다)
    <화학식 4>
    Figure PCTKR2013002861-appb-I000012
    (상기에서, *는 상기 화학식 1 중 -O-에 대한 연결 부위이고,
    X6은 O, S, 또는 N-R(R은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기이다)이고,
    R1은 상기에서 정의한 바와 같고,
    R4는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬아민기 또는 디알킬아민기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알콕시기이고,
    n은 1 내지 5의 정수이고, m은 0 내지 n+1의 정수이다)).
  2. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 모노머는 글리시딜 (메타)아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세탄일) 메틸 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함하는 광경화 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 (A)광경화성 모노머는 치환 또는 비치환된 비닐기, 아크릴레이트기, 또는 메타아크릴레이트기를 약 1-30개 갖는 모노머를 포함하는 광경화 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 (A)광경화성 모노머는 탄소수 1-20의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트, 탄소수 2-20의 디올의 디(메타)아크릴레이트, 탄소수 3-20의 트리올의 트리(메타)아크릴레이트, 탄소수 4-20의 테트라올의 테트라(메타)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함하는 광경화 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 고형분 기준으로 상기 (A)와 (B)의 합 (A) + (B) 100중량부 중 상기 (A) 약 1-99중량부, 상기 (B) 약 1-99중량부를 포함하는 광경화 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 (C)개시제를 더 포함하는 광경화 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 상기 (C)개시제는 광중합 개시제, 광산 발생제 중 하나 이상을 포함하는 광경화 조성물.
  8. 제6항에 있어서, 상기 조성물은 고형분 기준으로 상기 (A)와 (B)의 합 (A) + (B) 100중량부 중 상기 (A) 약 1-99중량부, 상기 (B) 약 1-99중량부, 및 상기 (A) + (B) 100중량부에 대하여 상기 (C) 약 0.1 내지 20중량부를 포함하는 광경화 조성물.
  9. 제7항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 상기 (A)와 (B)의 합 (A) + (B) 100중량부에 대해 약 0.05-19중량부로 포함되는 광경화 조성물.
  10. 제7항에 있어서, 상기 광산 발생제는 상기 (A)와 (B)의 합 (A) + (B) 100중량부에 대해 약 0.001-10중량부로 포함되는 광경화 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 광경화 조성물을 사용하여 밀봉된 장치용 부재.
  12. 장치용 부재, 및
    상기 장치용 부재 위에 형성되고, 무기 장벽층과 유기 장벽층을 포함하는 장벽 스택을 포함하고,
    상기 유기 장벽층은 아웃가스 발생량이 약 2000ppm 이하인 봉지화된 장치.
  13. 장치용 부재, 및
    상기 장치용 부재 위에 형성되고, 무기 장벽층과 유기 장벽층을 포함하는 장벽 스택을 포함하고,
    상기 유기 장벽층은 두께 방향으로 도막 두께 5㎛에 대하여 37.8℃, 100% 상대 습도, 및 24시간 조건에서 측정된 투습도가 약 4.0g/m2ㆍ24hr 이하인 봉지화된 장치.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 무기 장벽층은 금속, 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 탄화물, 금속 산소질화물, 금속 산소붕소화물, 또는 이들의 혼합물을 포함하고, 상기 금속은 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 셀레늄(Se), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 인듐(In), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 비스무트(Bi), 전이금속, 란탄족 금속 중 하나 이상을 포함하는 봉지화된 장치.
  15. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 장벽 스택 중 상기 유기 장벽층과 상기 무기 장벽층은 교대로 형성되는 봉지화된 장치.
  16. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 장벽 스택 중 상기 무기 장벽층과 상기 유기 장벽층은 전체 약 10층 이하로 형성된 봉지화된 장치.
  17. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 유기 장벽층 하나의 두께는 약 0.1㎛-20㎛, 상기 무기 장벽층 하나의 두께는 약 5nm-500nm인 봉지화된 장치.
  18. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 장치용 부재는 플렉시블(flexible) 유기발광소자, 유기발광소자, 조명 장치, 금속 센서 패드, 마이크로디스크 레이저, 전기변색 장치, 광변색장치, 마이크로전자기계 시스템, 태양전지, 집적 회로, 전하 결합 장치, 발광 중합체 또는 발광 다이오드를 포함하는 봉지화된 장치.
  19. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 유기 장벽층은 제1항의 광경화 조성물의 경화물을 포함하는 봉지화된 장치.
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