WO2014021071A1 - 高圧放電ランプ点灯装置 - Google Patents

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WO2014021071A1
WO2014021071A1 PCT/JP2013/068899 JP2013068899W WO2014021071A1 WO 2014021071 A1 WO2014021071 A1 WO 2014021071A1 JP 2013068899 W JP2013068899 W JP 2013068899W WO 2014021071 A1 WO2014021071 A1 WO 2014021071A1
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pulse wave
frequency
pulse
discharge lamp
output
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PCT/JP2013/068899
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French (fr)
Inventor
福田 稔
今村 篤史
Original Assignee
ウシオ電機株式会社
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Publication date
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B41/00Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
    • H05B41/14Circuit arrangements
    • H05B41/30Circuit arrangements in which the lamp is fed by pulses, e.g. flash lamp
    • H05B41/34Circuit arrangements in which the lamp is fed by pulses, e.g. flash lamp to provide a sequence of flashes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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    • H05B41/26Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc
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    • H05B41/288Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters with semiconductor devices and specially adapted for lamps without preheating electrodes, e.g. for high-intensity discharge lamps, high-pressure mercury or sodium lamps or low-pressure sodium lamps
    • H05B41/2885Static converters especially adapted therefor; Control thereof
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02BCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
    • Y02B20/00Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps

Definitions

  • the present invention relates to a lighting device of a high pressure discharge lamp suitably used for a light source such as a projector.
  • a high-pressure discharge lamp in which 0.2 mg / mm 3 or more of mercury is enclosed inside a transparent glass discharge vessel, and the pressure in the vessel at the time of lighting is 200 atmospheres or more. It is done. By increasing the mercury vapor pressure, it is possible to obtain light in the visible wavelength range with high output.
  • FIG. 10A and 10B show schematic cross-sectional views of a high pressure discharge lamp.
  • FIG. 10B is a schematic sectional view in which the vicinity of the electrode tip end of FIG. 10A is enlarged.
  • the high pressure discharge lamp 10 has the substantially spherical light emission part 11 formed of the discharge container.
  • the pair of electrodes 20a and 20b are disposed to face each other at an extremely small distance of 2 mm or less.
  • sealing portion 12 is formed on both ends of the light emitting portion 11.
  • a conductive metal foil 13 is airtightly embedded in the sealing portion 12, and at one end of the metal foil 13, shaft portions (30 a, 30 b) of the electrodes 20 a, 20 b are joined.
  • the external lead 14 is joined to the other end of the metal foil 13 and power is supplied from a power supply unit (not shown).
  • protrusions 21 are formed on the tip side surfaces of the pair of electrodes 20a and 20b disposed opposite to each other in the light emitting portion 11 of the light emitting tube during lighting. Is maintained, a stable lighting state is maintained (see FIG. 11A).
  • a plurality of minute projections 23 may be formed due to high temperature, or minute unevenness may be generated on the tip surface of the electrode (FIG. 11B). reference).
  • the minute projections 23 and the projections and depressions are formed by melting of a material (for example, tungsten) constituting the electrodes 20 a and 20 b and aggregation of a compound generated by combining with the gas enclosed in the light emitting portion 11. This presence changes the shape of the surface of the electrode tip. Along with this, it is known that the starting point of the arc moves, the discharge position becomes unstable, and the illuminance decrease and flicker occur.
  • Patent Document 1 listed below supplies a current waveform of a pulse wave P1 of a predetermined frequency (fundamental frequency) to a high pressure discharge lamp and generates a pulse wave P2 having a frequency lower than the fundamental frequency.
  • a lighting system of a discharge lamp is disclosed in which a current waveform is intermittently or periodically inserted into a pulse wave of the fundamental frequency (see FIG. 12). More specifically, the fundamental frequency is one frequency selected from the range of 60 to 1000 Hz, and the low frequency frequency is one frequency selected from the range of 5 to 200 Hz. Then, the time for supplying the fundamental frequency is controlled to be gradually increased or decreased every predetermined time. That is, the generation frequency of the low frequency pulse wave is changed according to the time.
  • the frequency of the pulse wave By setting the frequency of the pulse wave to a low frequency, a period in which one electrode is fixed to the anode and the other electrode is fixed to the cathode, that is, a period in which a high voltage is applied between both electrodes is extended.
  • the degree of heating of the electrode is increased, and heat can be transmitted not only to the electrode tip but also to a location away from the tip. Therefore, while a low frequency pulse wave is applied, heat is also transmitted to a place away from the tip of the electrode, and it is possible to melt and evaporate the microprotrusions and irregularities formed at the place.
  • FIG. 1A is a schematic cross-sectional view enlarging the vicinity of the electrode tip in a state where the discharge arc 22 is formed and the lighting state is stably maintained, as in FIG. 11A.
  • the increase in the formable region of the microprotrusions 23 may cause a situation in which a plurality of microprotrusions 23 formed at close positions are combined and moved (see FIG. 1C).
  • the projections 21 maintaining the arcs 22 do not always maintain a solid state, and the surface or the like may be melted due to high temperature. Further, since the microprotrusions 23 have small volumes themselves, they have a small heat capacity and are in a state of being easily melted. Then, when the protrusions 21 maintaining the arc 22 and the minute protrusions 23 are both melted, they are coupled by a force such as surface tension, and the positions themselves of the protrusions 21 move. As a result, the starting point of the arc 22 is moved, and the length of the arc 22 is extended.
  • FIG. 1C A comparison of FIG. 1A and FIG. 1C shows that in FIG. 1C, the protrusions 21 do not completely face each other, and as a result, the arcs 22 are formed obliquely. Thereby, it is understood that the length of the arc 22 is extended in the state of FIG. 1C as compared with the state of FIG. 1A. This leads to a decrease in light collection efficiency and brightness.
  • the present invention can eliminate such microprotrusions while maintaining a stable arc discharge even when microprotrusions are formed at a location farther from the tip of the electrode than conventional. It is an object of the present invention to realize a lighting device for a high pressure discharge lamp.
  • the high pressure discharge lamp lighting device is configured to supply an alternating current to a high pressure discharge lamp in which a pair of electrodes are disposed opposite to each other in a discharge vessel in which a predetermined gas is sealed.
  • a pulse generation unit that generates a pulse wave;
  • a power supply unit is provided, which is supplied with a direct current voltage, is converted into an alternating current according to the frequency of the pulse wave, and supplies the alternating current to the high pressure discharge lamp.
  • the pulse generation unit After outputting the first pulse wave for the first period, the cycle of outputting a second pulse wave having a frequency lower than that of the first pulse wave is repeated for a second period shorter than the first period, and After outputting a third pulse wave having a frequency lower than that of the second pulse wave at a predetermined timing, the cycle is restored.
  • the pulse generation unit outputs the third pulse wave whose frequency is lower than that of the second pulse wave at a certain timing. Therefore, a voltage of a predetermined polarity continues to be applied from one electrode of the high pressure discharge lamp to the other electrode for a longer time than while the second pulse wave is being output.
  • the heating time of the electrode is longer than during the output of the second pulse wave, and the heat does not reach by the voltage application during the output of the second pulse wave, and the heat is dissipated to the place away from the electrode tip It can be transmitted.
  • by coupling such a minute projection with a projection serving as the arc starting point it is possible to prevent the occurrence of movement of the projection serving as the arc starting point.
  • this configuration is configured to output the third pulse wave instead of the second pulse wave, generation of pulse waves (second pulse wave, third pulse wave) having a frequency lower than that of the first pulse wave It does not increase the frequency significantly. For this reason, there is no possibility that the projection of the electrode tip necessary for arc generation may be overheated and melted or extinguished. Therefore, according to the present configuration, it is possible to eliminate the microprotrusions formed at the periphery or at a distant position of the projection while maintaining the projection of the electrode tip and maintaining the stable arc discharge.
  • the pulse generation unit changes the frequency of the third pulse wave to a predetermined frequency at each predetermined timing. Do.
  • the frequency of the third pulse wave is made different according to the timing, the heating time to the electrode changes for each timing. Therefore, since the heat transfer area changes, the microprotrusions formed at various places can be reliably eliminated.
  • the pulse generation unit may be configured to detect the arrival of the predetermined timing according to an elapsed time since the start of the output of the pulse wave.
  • the pulse generation unit may be configured to detect the arrival of the predetermined timing according to the number of cycles after the start of the output of the pulse wave.
  • the frequency control unit may adjust the frequency of the pulse wave output from the pulse generation unit.
  • the high pressure discharge lamp lighting device of the present invention includes a frequency control unit for adjusting the frequency of the pulse wave in addition to the above configuration, and the frequency control unit The control is repeated to set a first frequency which is the frequency of the first pulse wave over the first period, and subsequently to set a second frequency which is the frequency of the second pulse wave over the second period, When the arrival of the predetermined timing is detected by the elapsed time since the start of the output of the pulse wave or the number of switching of the first period and the second period, the third frequency is replaced with the second frequency. It can be set as the structure which performs control to set.
  • a pair of electrodes are disposed opposite to each other in a discharge vessel in which a predetermined gas is sealed, and the alternating current is supplied from the high pressure discharge lamp lighting device having the above features. And discharge is generated between the pair of electrodes to light up.
  • FIG. 5 is a block diagram schematically illustrating an exemplary configuration of a frequency control unit.
  • FIG. 6 shows another example of the lamp current waveform of the high pressure discharge lamp of the present invention in another time zone. It is a cross-sectional schematic diagram of a high pressure discharge lamp.
  • the high pressure discharge lamp lighting device of the present invention can be used to control lighting of a discharge lamp of a type in which the electrode size is larger than that of the conventional one.
  • the electrode size is larger than that of the conventional one.
  • the high pressure discharge lamp 10 has a substantially spherical light emitting portion 11 formed by a discharge vessel made of quartz glass.
  • the material of the discharge vessel is not limited to quartz glass, and may be made of other materials.
  • the pair of electrodes 20a and 20b are disposed opposite to each other at an extremely small distance of, for example, 2 mm or less.
  • the sealing part 12 is formed in the both ends of the light emission part 11.
  • a conductive metal foil 13 made of molybdenum or the like is airtightly embedded by, for example, a shrink seal.
  • the axial parts of the electrodes 20a and 20b are joined to one end of the metal foil 13, the external lead 14 is joined to the other end of the metal foil 13, and power is supplied from the high pressure discharge lamp lighting device of the present invention described later. It is the composition supplied.
  • Mercury is for obtaining radiation of a necessary visible light wavelength, for example, a wavelength of 360 to 780 nm, and specifically stated, 0.20 mg / mm 3 or more is enclosed.
  • the amount of sealing varies depending on the temperature conditions, the internal pressure of the light emitting portion at the time of lighting realizes a high vapor pressure of 200 atmospheres or more.
  • argon gas As a rare gas, for example, about 13 kPa of argon gas is enclosed. Its function is to improve lighting startability.
  • halogen gas iodine, bromine, chlorine or the like is enclosed in the form of a compound with mercury or another metal.
  • the amount of halogen is selected from the range of 10 ⁇ 6 ⁇ mol / mm 3 to 10 ⁇ 2 ⁇ mol / mm 3 .
  • the main reason for enclosing the halogen is to extend the life of the discharge lamp utilizing the so-called halogen cycle.
  • the high-pressure discharge lamp 10 of the present invention the one with a very small size and a very high operating vapor pressure can obtain the effect of preventing the discharge container from devitrification by sealing the halogen.
  • Devitrification means that crystallization progresses from a metastable glassy state, and changes to an aggregate of crystal grains grown from many crystal nuclei. If such a phenomenon occurs, light is scattered at the grain boundaries of the crystal, and the discharge vessel becomes opaque.
  • the gas sealed in the light emitting unit 11 is not limited to the above gas.
  • the maximum outer diameter of the light emitting portion is 9.4 mm
  • the distance between the electrodes is 1.0 mm
  • the internal volume of the discharge vessel is 55 mm 3
  • the rated voltage 70 V the rated power 180 W Can be configured.
  • the high-pressure discharge lamp 10 is assumed to be incorporated in a projector whose miniaturization is in progress, so that the overall size is required to be extremely miniaturized, and, on the other hand, a high amount of emitted light is also required. For this reason, the thermal influence in the light emitting part becomes extremely severe, and the lamp load value of the lamp becomes 0.8 to 2.5 W / mm 2 , specifically 2.4 W / mm 2 .
  • the high-pressure discharge lamp 10 having a high mercury vapor pressure and a tube wall load value is mounted on a presentation device such as a projector or an overhead projector, thereby providing radiation having good color rendering to the presentation device. can do.
  • the electrode 20a is composed of a head 29a and a shaft 30a
  • the electrode 20b is composed of a head 29b and a shaft 30b.
  • a protrusion 21 is formed at the tip of each of the electrode 20a and the electrode 20b.
  • the protrusions 21 are formed by aggregation of the melted electrode material at the electrode tip when the lamp is lit.
  • the electrodes 20a and 20b are both described as being made of tungsten, the material is not limited to this.
  • the electrodes 20a and 20b When the electrodes 20a and 20b are energized, they are heated to a high temperature, and the tungsten constituting them is sublimed. The sublimated tungsten is combined with the enclosed halogen gas in the inner wall surface region of the light emitting portion 11 which is a relatively low temperature portion to form tungsten halide. Since the vapor pressure of tungsten halide is relatively high, it moves again in the gaseous state near the tips of the electrodes 20a and 20b. When heated again at this point, the tungsten halide is separated into halogen and tungsten. Among these, tungsten is returned to the tip of the electrode 20 a and the electrode 20 b and aggregated, and the halogen is returned as the halogen gas in the light emitting unit 11. This is called a halogen cycle. The aggregated tungsten adheres to the vicinity of the tip of the electrode 20a and the electrode 20b, whereby the protrusion 21 is formed.
  • the region S to which tungsten aggregated from tungsten halide can be attached is increased, so the minute projections 23 are greatly separated from the projections 21 as the starting point of the arc 22. It will be formed (see FIG. 1B).
  • the configuration of the lighting device of the present invention which can eliminate such microprotrusions 23 while leaving the projections 21 as the starting point of the arc 22 will be described below.
  • FIG. 2 is a circuit block diagram schematically showing the configuration of the high pressure discharge lamp lighting device of the present invention.
  • the lighting device 1 is configured to include a power supply unit 3 and a pulse generation unit 4.
  • the alternating current generated by the power supply unit 3 based on the pulse wave P output from the pulse generation unit 4 is supplied to the high pressure discharge lamp 10, and the high pressure discharge lamp 10 is lit.
  • the feed unit 3 includes a step-down chopper unit 31, a DC / AC conversion unit 32, and a starter unit 33.
  • the step-down chopper unit 31 steps down the supplied DC voltage Vdc to a desired low voltage and outputs it to the DC / AC conversion unit 32 in the subsequent stage.
  • the step-down chopper unit 31 includes a switching element Qx, a reactor Lx, a diode Dx, a smoothing capacitor Cx, and a resistor Rx.
  • the switching element Qx has one end connected to the + side power supply terminal to which the DC voltage Vdc is supplied, and the other end connected to one end of the reactor Lx.
  • the cathode terminal of the diode Dx is connected to the connection point of the switching element Qx and the reactor Lx, and the anode terminal is connected to the negative side power supply terminal.
  • One end of the smoothing capacitor Cx is connected to the output side terminal of the reactor Lx, and the other end ( ⁇ side terminal) is connected to the output side terminal of the resistor Rx.
  • the resistor Rx is connected between the negative terminal of the smoothing capacitor Cx and the anode terminal of the diode Dx to realize the function of current detection.
  • the switching element Qx is driven by the gate signal Gx output from the power control unit 34.
  • the step-down chopper unit 31 steps down the input DC voltage Vdc to a voltage corresponding to the duty according to the duty of the gate signal Gx and outputs the voltage to the DC / AC conversion unit 32 in the subsequent stage.
  • the DC / AC conversion unit 32 converts the input DC voltage into an AC voltage of a desired frequency, and outputs the AC voltage to the subsequent stage starter unit 33.
  • the DC / AC conversion unit 32 is shown to be configured of switching elements Q1 to Q4 connected in a bridge shape (full bridge circuit).
  • the switching element Q1 is driven by the gate signal G1 output from the driver 35.
  • the switching element Q2 is driven by the gate signal G2
  • the switching element Q3 is driven by the gate signal G3
  • the switching element Q4 is driven by the gate signal G4.
  • the driver 35 outputs a gate signal so as to alternately turn on / off to the pair of switching elements Q1 and Q4 and the set of switching elements Q2 and Q3 arranged diagonally.
  • a rectangular wave alternating voltage is generated between the connection point of the switching elements Q1 and Q2 and the connection point of the switching elements Q3 and Q4.
  • the starter unit 33 is a circuit unit for boosting the AC voltage supplied from the DC / AC unit 32 at the start of the high pressure discharge lamp and supplying the same to the high pressure discharge lamp 10.
  • the starter unit 33 is illustrated as being configured of a coil Lh and a capacitor Ch.
  • an AC voltage of high switching frequency for example, several hundreds kHz
  • the resonance frequency of the LC series circuit including the coil Lh and the capacitor Ch is applied from the DC / AC unit 32.
  • the high voltage required to start the discharge lamp is generated, which is supplied to the high-pressure discharge lamp 10.
  • the frequency of the AC voltage supplied from the DC / AC unit 32 is shifted to a steady frequency (for example, 60 to 1000 Hz), and a steady lighting operation is performed.
  • This stationary frequency corresponds to the frequency of the pulse wave P1 described later.
  • the change of the frequency of the AC voltage supplied to the starter unit 33 is a cycle of on / off switching of a set of switching elements Q1 and Q4 and a set of switching elements Q2 and Q3 in the DC / AC section 32. Can be achieved by adjusting the Further, the change of the peak value of the AC voltage supplied to the starter unit 33 can be achieved by adjusting the operation duty of the switching element Qx in the step-down chopper unit 31.
  • the switching element Qx of the step-down chopper unit 31 is turned on / off at a switching frequency corresponding to the duty of the gate signal Gx output from the power control unit 34, whereby the power supplied to the high pressure discharge lamp 10 changes.
  • the power control unit 34 performs control to lower the duty of the gate signal Gx so as to obtain a desired power value.
  • the pulse generation unit 4 includes a pulse generation circuit 41 and a frequency control unit 43, and outputs the generated pulse signal P to the driver 35 of the DC / AC unit 32. As described above, based on this pulse signal, switching control of the switching elements Q1 to Q4 of the DC / AC unit 32 is performed.
  • the pulse generation circuit 41 generates a pulse signal of a frequency specified by the frequency control unit 43.
  • the frequency control unit 43 may be configured by a microcomputer or the like together with the power control unit 34 described above.
  • FIGS. 3A and 3B are diagrams showing an example of the waveform of the pulse signal P output from the pulse generator 4 in different time zones, that is, the lamp current waveform of the high pressure discharge lamp 10.
  • FIG. 3A and 3B are diagrams showing an example of the waveform of the pulse signal P output from the pulse generator 4 in different time zones, that is, the lamp current waveform of the high pressure discharge lamp 10.
  • the pulse generator 4 of the present invention outputs a pulse wave that approximates the pulse waveform described above with reference to FIG. 12 in a time zone in which the waveform shown in FIG. 3A is output. That is, in this period, after the pulse wave P1 of the fundamental frequency (corresponding to the "first pulse wave") is output for a predetermined period T1, the pulse wave P2 ("second pulse wave") whose frequency is lower than the fundamental frequency is output. Cycle is repeated for a predetermined period T2 shorter than that.
  • the frequency (fundamental frequency) of the pulse wave P1 corresponds to the fundamental frequency when the high pressure discharge lamp 10 is lit steadily, and is one frequency selected from the range of 60 to 1000 Hz.
  • the pulse wave P2 is a low frequency intermittently inserted after the period T1 has elapsed, and its frequency is one frequency selected from the range of 5 to 200 Hz lower than the fundamental frequency.
  • the pulse wave P2 is preferably inserted at a time interval of 0.01 seconds or more and 120 seconds or less. In other words, it is preferable to set the period T1 in the range of 0.01 seconds to 120 seconds. Note that it is more preferable to set the period T1 in the range of 0.01 seconds to 2 seconds. If the pulse wave P2 is inserted at a time interval shorter than 0.01 seconds, the projection 21 serving as the arc starting point may be excessively heated, and the shape may be deformed or may disappear in some cases. On the other hand, if the time interval is too wide, the state in which the microprotrusions are formed at the peripheral position of the projections 21 is maintained for a long time, and an arc starting from the microprotrusions may be formed during this time. is there.
  • the period T2 in which the pulse wave P2 is output is set to a half period of the pulse wave P2. That is, in the period T2, the output of the pulse wave P2 is fixed at either positive polarity or negative polarity.
  • the pulse generation unit 4 of the present invention outputs a low frequency pulse wave P3 (corresponding to a “third pulse wave”) at a predetermined timing in place of the low frequency pulse wave P2, and Return to the cycle of FIG. 3B shows a waveform of a time zone including a time during which the pulse wave P3 is output.
  • the period T3 in which the pulse wave P3 is output is set to a half period of the pulse wave P3. That is, in the period T3, the output of the pulse wave P3 is fixed at either positive polarity or negative polarity.
  • the pulse wave P output from the pulse generation unit 4 in the present embodiment has a pulse wave P1 whose positive and negative polarities are repeated under the fundamental frequency over the period T1, and a value of positive or negative polarity over the period T2.
  • the pulse wave P3 has a frequency further lower than that of the pulse wave P2, and in other words, the period T3 fixed with either positive polarity or negative polarity is set longer than the period T2 in the pulse wave P2.
  • the pulse generator 4 first outputs the pulse wave P1 of the fundamental frequency for the period T1, and then outputs the low frequency pulse wave P2 for the period T2 of a half cycle of the pulse wave P2. After that, the pulse wave P1 of the fundamental frequency is output again over the period T1, and then the low frequency pulse wave P2 is fixed at the opposite polarity to the pulse wave P2 immediately before for the period T2 of the half cycle of the pulse wave P2. Output with Hereinafter, the above cycle is repeated.
  • a lower frequency pulse wave P3 having a longer cycle is outputted over a half cycle period T3 of the pulse wave P3.
  • the pulse wave P3 of positive polarity fixation and the pulse wave P3 of negative polarity fixation immediately thereafter are the pulse generating portion 4
  • the pulse waveform of the state currently output from is shown. After that, the cycle of the pulse wave P1 and the pulse wave P2 is restored again.
  • FIG. 4 is a table showing the output time of the pulse wave P3 as a ratio to the output time of the pulse wave P2 at each timing when the pulse wave P3 is output.
  • n is a natural number.
  • the pulse generation unit 4 replaces the pulse wave P2 by seven times the wavelength (frequency 1/7).
  • the pulse generator 4 repeatedly returns the output of the pulse wave P1 for the period T1 and the output of the pulse wave P2 for the period T2.
  • the pulse wave P3 having a wavelength 6 times (frequency 1/6) is substituted for the pulse wave P2 over a half cycle of the pulse wave P3, ie T3 ( Output for a period of 6T2).
  • the pulse generation unit 4 returns to the repetition of the output of the pulse wave P1 for the period T1 and the output of the pulse wave P2 for the period T2.
  • the frequency of the pulse wave P generated from the pulse generation unit 4 is similarly changed.
  • the pulse generation unit 4 is configured to output a pulse wave P3 having a frequency lower than that of the pulse wave P2 in accordance with a predetermined timing, and to change this frequency for each timing.
  • FIG. 5A, FIG. 5B, and FIG. 5C are figures which show typically the mode of the heat transfer to electrode tip vicinity in case the pulse waves P from the pulse generation part 4 are P1, P2, and P3, respectively.
  • a darkly filled portion indicates an area to which heat is being transmitted.
  • the pulse wave P3 by outputting the pulse wave P3 at a certain timing of the pulse generation unit 4, from one electrode to the other electrode over a period T3 longer than the period T2.
  • a voltage of a predetermined polarity continues to be applied. Since the time for which the pulse wave P3 is applied is longer than the application time for the pulse wave P2, the heating time of the electrode is extended, and heat is transferred from the vicinity of the electrode tip which did not reach by application of the pulse wave P2 Can. As a result, the microprotrusions 23 formed at positions away from the protrusions 21 can also be eliminated (see FIG. 5C).
  • the heating time to the electrodes changes because the frequency of the pulse wave P3 is made different according to the timing. Therefore, since the heat transfer area changes, the microprotrusions 23 formed at various locations can be surely eliminated and the movement of the projections 21 due to coupling with the microprotrusions 23 can be avoided.
  • the frequency control unit 43 performs frequency control so that the pulse generation circuit 41 outputs a pulse wave as referred to in FIGS. 3A and 3B.
  • FIG. 6A is a block diagram schematically showing one configuration example of the frequency control unit 43. As shown in FIG. As illustrated in FIG. 6A, the frequency control unit 43 includes a time measurement unit 51, a memory unit 52, and a frequency determination unit 53.
  • the time measurement unit 51 corresponds to a timer that measures an elapsed time from when the output of the pulse wave is started.
  • the memory unit 52 is, for example, a ROM, and the frequency f1 of the pulse wave P1, the continuous output time T1 of the pulse wave P1, the frequency f2 of the pulse wave P2, the continuous output time T2 of the pulse wave P2, and the data table shown in FIG. Stores various information on
  • the frequency determination unit 53 performs an operation based on the information on the elapsed time supplied from the time measurement unit 51 and the information stored in the memory unit 52, determines the frequency of the pulse wave P, and outputs it to the pulse generation circuit 41. Do. According to the example of FIGS. 3A and 3B, the time T2 is set to the half cycle length of the pulse wave P2.
  • the frequency determination unit 53 sets the pulse generation circuit 41 to output a pulse wave of frequency f1 at the start of pulse generation.
  • the frequency determination unit 53 reads the frequency f2 of the pulse wave P2 stored in the memory unit 52, and the pulse wave of this frequency f2 is read. Set to output.
  • the frequency f1 of the pulse wave P1 stored in the memory unit 52 is read out and the pulse wave of the frequency f1 is output again.
  • the frequency control unit 43 repeats such control as follows.
  • the frequency determination unit 53 stores the frequency f3 of the pulse wave P3 corresponding to the timing in the memory unit 52. It reads out from the data table and sets so as to output the pulse wave of this frequency f3.
  • the information on the frequency f3 of the pulse wave P3 is described as a ratio to the frequency f2 of the pulse wave P2, but it may be described as the value of the frequency f3 itself.
  • FIG. 6B is a block diagram schematically showing a configuration example of a frequency control unit different from FIG. 6A.
  • the frequency control unit 43 shown in FIG. 6B has a pulse count unit 54 in place of the time measurement unit 51.
  • the pulse count unit 54 receives the pulse wave P output from the pulse generation circuit 41, and measures the wave number and the cycle number.
  • the wave number is a value obtained by dividing the total wavelength of pulse waves continuously output from a certain time by the period length, and corresponds to how many periods of waves have been output.
  • the number of cycles refers to the number of combinations when the combination of the pulse wave P1 and the pulse wave P2 is one cycle.
  • the memory unit 52 includes various kinds of data related to the frequency f1 of the pulse wave P1, the continuous output wave number N1 of the pulse wave P1, the frequency f2 of the pulse wave P2, the continuous output wave number N2 of the pulse wave P2, and the data table shown in FIG. It stores information.
  • FIG. 7 is a table showing the output time of the pulse wave P3 as a ratio to the output time of the pulse wave P2 at each timing of outputting the pulse wave P3.
  • the data table of FIG. 7 differs from FIG. 4 in that the output timing of the pulse wave P3 is represented by the number of cycles rather than the elapsed time from the start of the output of the pulse wave.
  • the wavelength is changed to 6 times instead of the pulse wave P2 (frequency 1
  • the pulse generator 4 repeatedly returns the output of the pulse wave P1 for the time T1 and the output of the pulse wave P2 for the time T2.
  • the frequency of the pulse wave P generated from the pulse generator 4 is similarly changed.
  • the frequency determination unit 53 sets the pulse generation circuit 41 to output a pulse wave of frequency f1 at the start of pulse generation.
  • the frequency determining unit 53 reads the frequency f2 of the pulse wave P2 stored in the memory unit 52, The pulse wave of this frequency f2 is set to be output.
  • the frequency f1 of the pulse wave P1 stored in the memory unit 52 is read out, and the pulse wave of the frequency f1 is read again.
  • the frequency control unit 43 repeats such control as follows.
  • the frequency determining unit 53 stores the frequency f3 of the pulse wave P3 corresponding to the timing in the memory unit 52. It is read out from the data table being set, and the pulse wave of this frequency f3 is set to be output.
  • N2 is set to 1/2.
  • the frequency determining unit 53 may be configured to recognize the frequency of the pulse wave P as the current number of cycles by the number of times set to the frequency f2.
  • the pulse wave P1, the pulse wave P2, and the pulse wave P3 are all output from the same pulse generation circuit 41.
  • the pulse generation unit 4 separately has a first pulse generation circuit that generates a pulse wave P1 of frequency f1 and a second pulse generation circuit that generates a pulse wave P2 of frequency f2.
  • the circuit for generating the pulse wave may be switched from the first or second pulse generation circuit when the continuous time elapses or when the continuous output wave number is reached.
  • the pulse wave P1 of the same frequency f1 is always generated from the first pulse generation circuit. Also, when the timing described in the timetable shown in FIG. 4 or 7 comes, the frequency of the pulse wave output from the second pulse generation circuit is changed from f2 to a frequency f3 according to the timing. , And then reset again to the frequency f2.
  • the pulse generation unit 4 may include a processing unit that stretches the pulse length by a designated multiple in the subsequent stage of the second pulse generation circuit.
  • the stretching multiple is set to 1 in normal times, and is set to a multiple according to the timing described in the time table when it comes. According to this configuration, it is possible to output pulse waves of fixed frequencies from the first and second pulse generation circuits.
  • FIG. 8 is a graph comparing temporal changes in inter-electrode voltage when the high-pressure discharge lamp is turned on by the lighting device of the present invention and the conventional lighting device. The specifications of the lamp and the lamp operating conditions are shown below.
  • the lighting device of the present invention in addition to these, at predetermined timing (for example, see FIG. 4 and FIG. 7)
  • the pulse wave P3 of the frequency designated by the frequency ratio to the wave P2 is output.
  • the conventional lighting device does not perform such processing, but merely repeats the cycle of the pulse waves P1 and P2.
  • the horizontal axis indicates the elapsed time from the start of lighting
  • the vertical axis indicates the inter-electrode voltage of the high pressure discharge lamp.
  • the results of the lighting device of the present invention are indicated by a solid line, and the results of the conventional lighting device are indicated by a broken line.
  • the formation of the microprotrusions 23 and the movement of the protrusions 21 serving as the starting point of the arc 22 cause discharges at a plurality of places or make the discharge positions unstable.
  • the discharge at a plurality of locations leads to an increase in the voltage between the electrodes, and the movement of the protrusion 21 causes the voltage between the electrodes to fluctuate largely in the vertical direction.
  • the large fluctuation of the voltage in the graph of the conventional example indicates that the projection 21 has moved at that time.
  • the inter-electrode voltage of the high-pressure discharge lamp lit by the lighting device of the present invention is a lower voltage overall than that lit by the conventional lighting device, and the vertical fluctuation is suppressed. It is understood that it is done.
  • the lighting device of the present invention has the effect of eliminating the micro-protrusion while holding the projection that is the starting point of the arc.
  • the interval for outputting the low frequency pulse wave P3 instead of the pulse wave P2 is 5 seconds or more and 300 seconds or less for time control and 5 cycles or more and 5000 cycles or less for cycle number control. It is suitable. If the time interval for outputting the pulse wave P3 is too narrow, the projection 21 which is the starting point of the arc may be overheated and may deform its shape or may disappear in some cases. On the contrary, if the time interval is too wide, the state in which the microprotrusions are formed at the position away from the projections 21 may be maintained for a long time, or the effect of preventing the movement of the projections 21 may not be obtained. is there.
  • the pulse generation unit 4 outputs the pulse wave P1 for a predetermined period T1
  • the low frequency pulse wave P2 is output for a half cycle length T2 and time
  • the pulse wave P2 is changed in polarity as before to output the half cycle length T2.
  • the output mode of the pulse wave P2 is not limited to such a mode.
  • the pulse generation unit 4 outputs the pulse wave T1 for a predetermined period T1
  • the cycle of outputting the low frequency pulse wave P2 for one cycle length T2 may be repeated.
  • the pulse wave P3 for one cycle may be output instead of the pulse wave P2 for one cycle.
  • the pulse wave P3 to be inserted instead of the pulse wave P2 may be set to only a half cycle time.
  • the low frequency pulse wave P2 included in the pulse signal output from the pulse generation unit 4 may be included for a period of one or more cycles, such as 1.5 cycles of the pulse wave P2.
  • the electrode may be heated excessively and the shape of the projection 21 serving as the arc starting point may change, so that the low frequency pulse wave is generated in one cycle. It is preferable to keep P2 within one cycle.
  • the timing to change to the pulse wave P2 is described as being fixed.
  • the timing to switch from the pulse wave P1 to the pulse wave P2 The configuration may be changed as appropriate. As a result, the region where the electrode is heated can be further changed, and the effect of keeping the shape of the projection optimal can be further enhanced. In this case, it is preferable to gradually increase or decrease the switching of the timing in order to prevent flickering of the lamp.
  • a power supply is required to drive the high side switches Q1 and Q4.
  • a bootstrap circuit can be used as this power supply, and when the high side switches Q1 and Q4 are turned off, the bootstrap capacitor (not shown) is charged.
  • the switches Q1 and Q4 can not be turned ON because the power supply voltage is insufficient. Therefore, for the purpose of charging the capacitor, it may be exceptionally configured to insert the pulse wave P1 of about 1 cycle to 2 cycles.
  • Another object relates to the case where a light source including the lighting device of the present invention is used in, for example, a DLP (registered trademark) projector.
  • a DLP projector it is usual to perform control to reverse the polarity according to the movement of the color wheel so that the image to be projected is not adversely affected, and the capacitor is charged at the time of this polarity inversion.
  • a configuration may be adopted in which a pulse wave P1 having a period of about 2 or more is inserted.
  • the content described in the other embodiment ⁇ 4> is to output the pulse wave P1 of a short time exceptionally during the output period of the pulse wave P3 to the last, and except for this exception, the pulse wave P3 is output.
  • the polarity does not reverse. Therefore, after the output period of the pulse wave P3 has elapsed, the output of the pulse wave P1 for the period T1 and the output of the pulse wave P2 for the period T2 may be repeated.

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Abstract

 従来に比べて電極先端から離れた箇所に微小突起が形成されるような場合においても、安定したアーク放電を維持しながらかかる微小突起を消滅させることを可能にする高圧放電ランプの点灯装置、及び高圧放電ランプを実現する。高圧放電ランプの点灯装置1は、パルス波を発生するパルス発生部4と、直流電圧Vdcが供給され、前記パルス波の周波数に応じた交流電流に変換して高圧放電ランプ10に交流電流を供給する給電部3とを備える。パルス発生部4は、第1期間にわたって第1パルス波を出力した後、前記第1期間より短い第2期間にわたって前記第1パルス波よりも周波数の低い第2パルス波を出力するというサイクルを繰り返すと共に、所定のタイミングで、前記第2パルス波に代えて前記第2パルス波よりも更に周波数の低い第3パルス波を出力した後、前記サイクルに復帰する。

Description

高圧放電ランプ点灯装置
 本発明はプロジェクタ等の光源に好適に使用される高圧放電ランプの点灯装置に関する。
 プロジェクタ等の光源用ランプには、透明なガラス製放電容器の内部に水銀が0.2mg/mm以上封入されて、点灯時の容器内の圧力が200気圧以上にもなる高圧放電ランプが使用されている。水銀蒸気圧を高くすることにより、可視波長域の光を高い出力で得ることが可能になる。
 図10A及び図10Bに、高圧放電ランプの断面模式図を示す。図10Bは、図10Aの電極先端付近を拡大した断面模式図である。
 図10Aに示すように、高圧放電ランプ10は、放電容器によって形成されたほぼ球形の発光部11を有する。この発光部11の中には、一対の電極20a、20bが2mm以下という極めて小さい間隔で対向して配置されている。
 また、発光部11の両端には封止部12が形成される。封止部12には、導電用の金属箔13が気密に埋設されており、金属箔13の一端には、電極20a、20bの軸部(30a、30b)が接合している。また、金属箔13の他端には、外部リード14が接合し、図示しない給電部から電力が供給される。
 このような高圧放電ランプ10は、点灯中、発光管の発光部11内に対向配置された一対の電極20a、20bの先端側表面にそれぞれ突起21が形成され、この突起21間に放電アーク22が保持されることにより、安定的な点灯状態が維持される(図11A参照)。
 一方、高圧放電ランプ10を長期間同じ状態で点灯した場合には、高温により微小な突起23が複数形成されたり、電極の先端表面部に微小な凹凸が発生したりすることがある(図11B参照)。これら微小突起23や凹凸は、電極20a、20bを構成する材料(例えばタングステン)が溶融し、発光部11内に封入されたガスと結合して生じた化合物が凝集して生じたものであり、この存在が電極先端の表面部の形状を変化させる。これに伴ってアークの起点が移動し、放電位置が不安定となり、照度低下やチラツキが発生することが知られている。
 このような問題を解決するため、下記特許文献1には、所定の周波数(基本周波数)のパルス波P1の電流波形を高圧放電ランプに供給すると共に、基本周波数よりも低周波のパルス波P2の電流波形を前記基本周波数のパルス波に間欠的又は周期的に挿入する放電ランプの点灯方式が開示されている(図12参照)。より詳細には、基本周波数を60~1000Hzの範囲から選択された一の周波数とし、低周波の周波数を5~200Hzの範囲から選択された一の周波数とする。そして、基本周波数を供給する時間を所定時間毎に漸次増減するように制御する。つまり、低周波のパルス波の発生頻度を時間に応じて変更させる構成である。
 パルス波の周波数を低周波とすることで、一方の電極が陽極に、他方の電極が陰極に固定化される期間、つまり両電極間に高電圧が印加される期間が長くなる。この結果、電極に対する加熱の度合いが高まり、電極先端のみならず先端から離れた箇所に対しても熱を伝達させることができる。よって、低周波のパルス波が印加される間、電極先端から離れた箇所に対しても熱が伝達され、かかる箇所に生じていた微小突起や凹凸を溶融、蒸発させることができる。これにより、アーク起点となるべき突起ではなく、むしろ悪影響を及ぼし兼ねない電極先端部以外の突起や凹凸を消滅させることができる。
特開2011-210564号公報
 上記特許文献1に記載の点灯方式によれば、アーク起点となるべき突起21のみを生成、維持するとともに、当該突起21以外の余計な微小突起23を消失させることができる。
 ところで、昨今、プロジェクタに使用されるランプは、市場のニーズにより明るさの増加が求められており、そのためにランプへの投入電力が増加傾向にある。そしてランプ電力の増加に伴ってアークで発生する熱も増加するので、温度条件を満たすために熱容量を確保すべく電極のサイズ自体も増加傾向にある。
 そして、電極のサイズが大型化することによって、突起の移動という新たな問題が生じるようになった。これについて図1A~図1Cを参照して説明する。
 図1Aは、図11Aと同様に、放電アーク22が形成されて安定的に点灯状態が維持されている状態における電極先端付近を拡大した断面模式図である。
 上述したように、放電が所定時間継続すると、電極20a、20bの構成材料(タングステンなど)を含む化合物の再凝集により、アーク22の起点となる突起21の周辺には微小突起23が形成される(図1B参照)。特に電極サイズの大型化により、電極先端面において突起が形成されていない領域Sが増加している。つまり、従来と比較して電極先端から更に離れた箇所に、このような微小突起23が形成され得る状態となっている。特許文献1に記載された点灯制御方式では、このような箇所に形成された微小突起23を溶融、蒸発させるのに必要な熱エネルギーを供給することができない。
 また、微小突起23の形成可能領域が増えたことで、近接した位置に形成された複数の微小突起23が結合して移動するという事態も生じ得る(図1C参照)。
 アーク22を維持している突起21は、常に固体の状態を維持しているわけではなく、高温によって表面等が溶融している場合がある。また、微小突起23は体積そのものが小さいので熱容量が小さく、溶融しやすい状態にある。すると、アーク22を維持していた突起21と、微小突起23がともに溶融した状態となると、表面張力等の力により結合し、突起21の位置そのものが移動してしまう。これにより、アーク22の起点が移動してしまい、アーク22の長さが延びる。
 図1Aと図1Cを比較すると、図1Cは突起21同士が完全に対向しておらず、その結果アーク22が斜め方向に形成されていることが分かる。これにより、図1Aの状態と比べて、図1Cの状態はアーク22の長さが伸びていることが分かる。このことは、集光効率及び明るさの低下を招く。
 上記の課題を解決する方法として、電極先端から離れた位置にまで熱エネルギーが届くように、低周波の交流電流を供給する時間を長くすることが考えられる。しかし、この方法を採用すると、突起21に対して供給される熱エネルギーが大きくなりすぎ、本来必要である突起21自体を溶融、蒸発させてしまう。この結果、安定したアーク22が維持できなくなるため、かかる方法を採用することはできない。
 本発明は、上記の課題に鑑み、従来に比べて電極先端から離れた箇所に微小突起が形成されるような場合においても、安定したアーク放電を維持しながらかかる微小突起を消滅させることを可能にする高圧放電ランプの点灯装置を実現することを目的とする。
 本発明の高圧放電ランプ点灯装置は、所定のガスが封入された放電容器内に一対の電極が対向配置された高圧放電ランプに対して交流電流を供給する構成であって、
 パルス波を発生するパルス発生部と、
 直流電圧が供給され、前記パルス波の周波数に応じた交流電流に変換して前記高圧放電ランプに前記交流電流を供給する給電部とを備える。
 そして、前記パルス発生部は、
  第1期間にわたって第1パルス波を出力した後、前記第1期間より短い第2期間にわたって前記第1パルス波よりも周波数の低い第2パルス波を出力するというサイクルを繰り返すと共に、
  所定のタイミングで、前記第2パルス波に代えて前記第2パルス波よりも更に周波数の低い第3パルス波を出力した後、前記サイクルに復帰する構成である。
 上記構成によれば、パルス発生部が、あるタイミングで、第2パルス波よりも更に周波数の低い第3パルス波を出力する。従って、第2パルス波が出力されている間よりも更に長い時間にわたって、高圧放電ランプの一方の電極から他方の電極に対して所定極性の電圧が印加され続ける。この結果、第2パルス波が出力されている間よりも電極の加熱時間が伸び、第2パルス波が出力されている間の電圧印加では届かなかった、電極先端付近から離れた箇所まで熱を伝達させることができる。これにより、アークの起点となる突起から離れた位置に形成されていた微小突起も消滅させることができる。また、このような微小突起がアークの起点となる突起と結合することでアークの起点となる突起が移動する事態の招来を防ぐことができる。
 更に、本構成は、第2パルス波に代えて第3パルス波を出力させる構成であるため、第1パルス波よりも低周波であるパルス波(第2パルス波、第3パルス波)の発生頻度を著しく高めるものでない。このため、アーク発生に必要な電極先端の突起が過熱されて溶融、消滅するというおそれがない。よって、本構成によれば、電極先端の突起を維持して安定したアーク放電を保ちつつ、この突起の周辺又は離れた位置に形成される微小突起を消滅させることができる。
 本発明の高圧放電ランプ点灯装置は、上記構成に加えて、前記パルス発生部が、前記第3パルス波の周波数を前記所定のタイミング毎に予め定められた周波数に変化させることを別の特徴とする。
 上記構成によれば、タイミングに応じて第3パルス波の周波数を異ならせるため、タイミング毎に電極への加熱時間が変化する。従って、熱が伝達する領域が変化するので、様々な箇所に形成される微小突起を確実に消滅させることができる。
 ここで、前記パルス発生部は、前記パルス波の出力を開始してからの経過時間に応じて前記所定のタイミングの到来を検知する構成としても構わない。また、前記パルス発生部は、前記パルス波の出力を開始してからの前記サイクルの数に応じて前記所定のタイミングの到来を検知する構成としても構わない。
 また、パルス発生部から出力されるパルス波の周波数については、周波数制御部が調整する構成としても構わない。
 すなわち、本発明の高圧放電ランプ点灯装置は、上記構成に加えて前記パルス波の周波数を調整する周波数制御部を備え、この周波数制御部が、
  前記第1期間にわたって前記第1パルス波の周波数である第1周波数を設定し、引き続き前記第2期間にわたって前記第2パルス波の周波数である第2周波数を設定するという制御を繰り返すと共に、
  前記パルス波の出力を開始してからの経過時間、又は前記第1期間と前記第2期間の切替数によって前記所定のタイミングの到来を検知すると、前記第2周波数に代えて前記第3周波数を設定する制御を行う構成とすることができる。
 また、本発明の高圧放電ランプは、所定のガスが封入された放電容器内に一対の電極が対向配置され、上記の特徴を有した高圧放電ランプ点灯装置から前記交流電流が供給されることで、前記一対の電極間に放電が生じて点灯することを特徴とする。
 本発明の構成によれば、従来に比べて電極先端から離れた箇所に微小突起が形成されるような場合においても、安定したアーク放電を維持しながらかかる微小突起を消滅させることができる。また、これにより、微小突起がアークの起点となる突起と結合することでアークの起点となる突起が移動するといった事態を回避する効果が得られる。
高圧放電ランプにおいて、放電アークが形成されて安定的に点灯状態が維持されている状態における電極先端付近を拡大した断面模式図である。 高圧放電ランプにおいて、電極先端から離れた位置に微小突起が形成されている状態における電極先端付近を拡大した断面模式図である。 高圧放電ランプにおいて、微小突起と結合することで電極先端が移動した状態における電極先端付近を拡大した断面模式図である。 高圧放電ランプ点灯装置の構成を模式的に示す回路ブロック図である。 ある時間帯における本発明の高圧放電ランプのランプ電流波形の一例を示す図である。 別のある時間帯における本発明の高圧放電ランプのランプ電流波形の一例を示す図である。 パルス波P3を出力するタイミング毎に、パルス波P3の出力時間をパルス波P2の出力時間との比率で示した表である。 パルス波P1が出力されている状態の電極先端付近への熱伝達の様子を模式的に示す図である。 パルス波P2が出力されている状態の電極先端付近への熱伝達の様子を模式的に示す図である。 パルス波P3が出力されている状態の電極先端付近への熱伝達の様子を模式的に示す図である。 周波数制御部の一構成例を模式的に示すブロック図である。 周波数制御部の別の構成例を模式的に示すブロック図である。 パルス波P3を出力するタイミング毎に、パルス波P3の出力時間をパルス波P2の出力時間との比率で示した別の表である。 本発明の点灯装置と従来の点灯装置でそれぞれ高圧放電ランプを点灯させたときの電極間電圧の経時的な変化を比較したグラフである。 ある時間帯における本発明の高圧放電ランプのランプ電流波形の別の一例を示す図である。 別の時間帯における本発明の高圧放電ランプのランプ電流波形の別の一例を示す図である。 高圧放電ランプの断面模式図である。 高圧放電ランプの電極先端付近を拡大した断面模式図である。 放電アークが形成されて安定的に点灯状態が維持されている状態における電極先端付近を拡大した断面模式図である。 電極先端以外の箇所に微小突起が形成されている状態における電極先端付近を拡大した断面模式図である。 従来のランプ電流波形の一例を示す図である。
 本発明の高圧放電ランプ点灯装置の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、各図において図面の寸法比と実際の寸法比は必ずしも一致しない。
 また、本発明の高圧放電ランプ点灯装置は、後述するように、特に従来よりも電極サイズが大きいタイプの放電ランプに対する点灯制御に利用可能である。しかし、従来サイズの電極を有する放電ランプに対して利用することも可能であり、このような利用態様を排除する趣旨ではない。
 [ランプの構成]
 ランプの構成自体は、図10A及び図10Bと同様であるので、以下これらの図面を参照して説明する。ただし、前述したように、電極のサイズが大型化されていても構わない。
 高圧放電ランプ10は、石英ガラスからなる放電容器によって形成された、ほぼ球形の発光部11を有する。放電容器の材料は石英ガラスに限定されず、他の材料で構成されていても構わない。
 この発光部11の中には、一対の電極20a、20bが例えば2mm以下という極めて小さい間隔で対向配置している。
 また、発光部11の両端部には封止部12が形成される。この封止部12には、モリブデン等よりなる導電用の金属箔13が、例えばシュリンクシールにより気密に埋設されている。金属箔13の一端には電極20a、20bの軸部が接合しており、また、金属箔13の他端には外部リード14が接合し、後述する本発明の高圧放電ランプ点灯装置から電力が供給される構成である。
 本実施形態における高圧放電ランプ10の発光部11には、水銀、希ガス、及びハロゲンガスが封入されている。
 水銀は、必要な可視光波長、例えば、波長360~780nmの放射光を得るためのものであり、具体的数値でいうと、0.20mg/mm以上封入されている。この封入量は温度条件によっても異なるが、点灯時における発光部内部の圧力を200気圧以上という高い蒸気圧を実現するものである。また、水銀をより多く封入することで点灯時の水銀蒸気圧250気圧以上、300気圧以上という高い水銀蒸気圧の高圧放電ランプを作ることができ、水銀蒸気圧が高くなるほどプロジェクタに適した光源を実現できる。
 希ガスとしては、例えばアルゴンガスが約13kPa封入される。その機能は点灯始動性を改善することにある。
 また、ハロゲンガスとしては、ヨウ素、臭素、塩素などが水銀又はその他の金属との化合物形態で封入される。ハロゲンの封入量は、10-6μmol/mm~10-2μmol/mmの範囲から選択される。ハロゲンを封入する最大の理由は、いわゆるハロゲンサイクルを利用した放電ランプの長寿命化のためである。また、本発明の高圧放電ランプ10のように極めて小型できわめて高い点灯蒸気圧のものは、ハロゲンを封入することで、放電容器の失透防止という作用も得られる。失透とは、準安定のガラス状態から結晶化が進行し、多くの結晶核から成長した結晶粒の集合体へと変化することをいう。仮にこのような現象が生じると、結晶の粒界で光が散乱されて放電容器が不透明になってしまう。
 なお、本発明において、同様の機能を実現できるのであれば、発光部11に封入されるガスは上記ガスに限定されるものではない。
 高圧放電ランプ10の一実施例としては、発光部の最大外径9.4mm、電極間距離1.0mm、放電容器内容積55mm、定格電圧70V、定格電力180Wであり交流方式で電力が供給される構成とすることができる。
 また、高圧放電ランプ10は、小型化が進行するプロジェクタに内蔵されることが想定されており、全体寸法として極めて小型化が要請され、その一方で高い発光光量も要求される。このため、発光部内の熱的影響は極めて厳しいものとなり、ランプの管壁負荷値は0.8~2.5W/mm、具体的には2.4W/mmとなる。このように、高い水銀蒸気圧や管壁負荷値を有する高圧放電ランプ10が、プロジェクタやオーバーヘッドプロジェクタのようなプレゼンテーション用機器に搭載されることで、プレゼンテーション用機器に演色性の良い放射光を提供することができる。
 [電極先端の形状]
 図10Bに示すように、電極20aは頭部29aと軸部30aによって構成され、電極20bは頭部29bと軸部30bによって構成される。そして、電極20a及び電極20bには、いずれも先端に突起21が形成されている。この突起21は、ランプ点灯時、電極先端において溶融した電極材料が凝集して形成されるものである。本実施形態では、電極20a及び電極20bがいずれもタングステンで構成されるものとして説明するが、材料はこれに限定されるものではない。
 電極20a及び電極20bに対して通電がされると、白熱して高温化され、これらを構成するタングステンが昇華する。昇華したタングステンは、比較的に低温部である発光部11の内壁面領域において、封入されていたハロゲンガスと結合して、ハロゲン化タングステンを形成する。ハロゲン化タングステンの蒸気圧は比較的高いことから、ガスの状態で再び電極20a及び電極20bの先端付近に再び移動する。そして、この箇所で再度加熱されると、ハロゲン化タングステンはハロゲンとタングステンに分離される。このうちタングステンは、電極20a及び電極20bの先端に戻って凝集され、ハロゲンは発光部11内のハロゲンガスとして復帰する。これをハロゲンサイクルと呼ぶ。なお、この凝集されたタングステンが、電極20a及び電極20bの先端近傍に付着することで、突起21が形成される。
 なお、上述したように、電極のサイズが大型化すると、ハロゲン化タングステンから凝集したタングステンが付着できる領域Sが増加するため、アーク22の起点となる突起21から大きく離れた箇所に微小突起23が形成されてしまう(図1B参照)。アーク22の起点となる突起21を残しつつ、このような微小突起23を消滅させることのできる本発明の点灯装置の構成につき、以下で説明する。
 [点灯装置の構成]
 図2は、本発明の高圧放電ランプ点灯装置の構成を模式的に示す回路ブロック図である。図2に示すように、点灯装置1は、給電部3とパルス発生部4を含んで構成される。パルス発生部4から出力されたパルス波Pに基づいて給電部3で生成された交流電流が、高圧放電ランプ10に供給されることで、高圧放電ランプ10が点灯する。
  〈給電部〉
 給電部3は、降圧チョッパ部31、DC/AC変換部32、及びスタータ部33を備える。
 降圧チョッパ部31は、供給される直流電圧Vdcを所望の低電圧に降圧し、後段のDC/AC変換部32に出力する。図2では、具体的な構成例として、降圧チョッパ部31は、スイッチング素子Qx、リアクトルLx、ダイオードDx、平滑コンデンサCx、及び抵抗Rxを有するものが図示されている。
 スイッチング素子Qxは、直流電圧Vdcが供給される+側電源端子に一端が接続され、他端がリアクトルLxの一端に接続される。ダイオードDxは、カソード端子がスイッチング素子Qx及びリアクトルLxの接続点に接続され、アノード端子が-側電源端子に接続される。平滑コンデンサCxは、一端がリアクトルLxの出力側端子に接続され、他端(-側端子)が抵抗Rxの出力側端子に接続される。抵抗Rxは、平滑コンデンサCxの-側端子とダイオードDxのアノード端子の間に接続され、電流検出の機能を実現している。
 スイッチング素子Qxは、電力制御部34が出力するゲート信号Gxによって駆動される。このゲート信号Gxのデューティにより、降圧チョッパ部31は入力直流電圧Vdcをこのデューティに応じた電圧に降圧して後段のDC/AC変換部32に出力する。
 DC/AC変換部32は、入力された直流電圧を所望の周波数の交流電圧に変換して、後段のスタータ部33に出力する。図2では、具体的な構成例として、DC/AC変換部32が、ブリッジ状に接続したスイッチング素子Q1~Q4から構成されたものが図示されている(フルブリッジ回路)。
 スイッチング素子Q1は、ドライバ35から出力されるゲート信号G1によって駆動される。同様に、スイッチング素子Q2はゲート信号G2によって駆動され、スイッチング素子Q3はゲート信号G3によって駆動され、スイッチング素子Q4はゲート信号G4によって駆動される。ドライバ35は、対角に配置されたスイッチング素子Q1及びQ4の組と、スイッチング素子Q2及びQ3の組に対して、交互にオン/オフを繰り返すようにゲート信号を出力する。これにより、スイッチング素子Q1及びQ2の接続点と、スイッチング素子Q3及びQ4の接続点の間に、矩形波状の交流電圧が発生する。
 スタータ部33は、高圧放電ランプ始動時にDC/AC部32から供給される交流電圧を昇圧して高圧放電ランプ10に供給するための回路部である。図2では、具体的な構成例として、スタータ部33が、コイルLh及びコンデンサChで構成されたものが図示されている。高圧放電ランプ始動時に、コイルLh、コンデンサChからなるLC直列回路の共振周波数近傍の高いスイッチング周波数(例えば数百kHz)の交流電圧をDC/AC部32から印加することで、スタータ部33の2次側において放電ランプの始動に必要な高い電圧が生成され、これが高圧放電ランプ10に供給される。なお、高圧放電ランプが点灯した後はDC/AC部32から供給される交流電圧の周波数を定常周波数(例えば60~1000Hz)に移行し、定常点灯動作が行われる。この定常周波数は、後述するパルス波P1の周波数に対応する。
 なお、上記回路において、スタータ部33に供給される交流電圧の周波数の変更は、DC/AC部32におけるスイッチング素子Q1及びQ4の組と、スイッチング素子Q2及びQ3の組のオン/オフ切替の周期を調整することで達成できる。また、スタータ部33に供給される交流電圧の波高値の変更は、降圧チョッパ部31におけるスイッチング素子Qxの動作デューティを調整することで達成できる。
 すなわち、降圧チョッパ部31のスイッチング素子Qxは、電力制御部34が出力するゲート信号Gxのデューティに応じたスイッチング周波数でオン/オフし、これによって高圧放電ランプ10に供給される電力が変化する。例えば高圧放電ランプ10への供給電力を上昇させたい場合、電力制御部34は、所望の電力値となるようにゲート信号Gxのデューティを下げる制御を行う。
  〈パルス発生部〉
 パルス発生部4は、パルス発生回路41及び周波数制御部43を備え、発生したパルス信号PをDC/AC部32のドライバ35に出力する。前述したように、このパルス信号に基づいて、DC/AC部32のスイッチング素子Q1~Q4に対するスイッチング制御が行われる。
 パルス発生回路41は、周波数制御部43から指定された周波数のパルス信号を生成する。周波数制御部43は、上述した電力制御部34と共に、マイコン等によって構成されるものとして構わない。
 以下、パルス発生部4から出力されるパルス信号Pの周波数について、図3A及び図3Bを参照して詳細に説明する。図3A及び図3Bは、それぞれ別の時間帯におけるパルス発生部4から出力されるパルス信号Pの波形、すなわち、高圧放電ランプ10のランプ電流波形の一例を示す図である。
 本発明のパルス発生部4は、図3Aに示す波形を出力する時間帯においては、図12を参照して上述したパルス波形に近似するパルス波を出力する。すなわち、この期間では、基本周波数のパルス波P1(「第1パルス波」に対応)を所定期間T1の間出力した後、基本周波数よりも低周波のパルス波P2(「第2パルス波」に対応)をそれよりも短時間の所定期間T2の間出力するというサイクルを繰り返す。
 ここで、パルス波P1の周波数(基本周波数)とは、高圧放電ランプ10を定常的に点灯する際の基本周波数に相当し、60~1000Hzの範囲から選択された一の周波数である。また、パルス波P2は、期間T1経過後に間欠的に挿入される低周波であり、その周波数は、基本周波数よりも低周波の5~200Hzの範囲から選択された一の周波数である。
 パルス波P2は、0.01秒以上120秒以下の時間間隔で挿入されるのが好適である。言い換えれば、期間T1を0.01秒以上120秒以下の範囲に設定するのが好適である。なお、期間T1を0.01秒以上2秒以下の範囲に設定するのがより好適である。パルス波P2を0.01秒より短い時間間隔で挿入すると、アークの起点となる突起21が加熱され過ぎてしまい、その形状が変形したり場合によっては消滅したりするおそれがあるためである。逆に、時間間隔をあまりに広くすると、突起21の周辺位置に微小突起が形成されたままの状態が長く維持されてしまい、この間に微小突起を起点とするアークが形成されるおそれがあるためである。
 なお、図3Aの例では、パルス波P2が出力される期間T2は、当該パルス波P2の半周期の期間に設定されている。つまり、この期間T2内において、パルス波P2の出力は、正極性又は負極性のいずれかで固定されている。
 そして、本発明のパルス発生部4は、所定のタイミングで、この低周波のパルス波P2に代えて、更に低周波のパルス波P3(「第3パルス波」に対応)を出力した後、前記のサイクルに復帰する。このパルス波P3を出力している時間を含む時間帯の波形を示したのが図3Bである。
 図3Bの例においても、パルス波P2と同様に、パルス波P3が出力される期間T3は、当該パルス波P3の半周期の期間に設定されている。つまり、この期間T3内において、パルス波P3の出力は正極性又は負極性のいずれかで固定されている。
 つまり、本実施形態におけるパルス発生部4から出力されるパルス波Pは、期間T1にわたって基本周波数の下で正極性と負極性が繰り返されるパルス波P1と、期間T2にわたって正極性又は負極性の値で固定化されるパルス波P2、及び期間T3にわたって正極性又は負極性の値で固定化されるパルス波P3を有する構成である。そして、パルス波P3は、パルス波P2よりも更に低周波であり、言い換えれば正極性又は負極性のいずれかで固定されている期間T3がパルス波P2における期間T2よりも長く設定されている。
 パルス発生部4は、まず基本周波数のパルス波P1を期間T1にわたって出力した後、低周波のパルス波P2を当該パルス波P2の半周期の期間T2にわたって出力する。その後、再び基本周波数のパルス波P1を期間T1にわたって出力した後、低周波のパルス波P2を、当該パルス波P2の半周期の期間T2にわたって、直前のパルス波P2と反対の極性で固定した状態で出力する。以下、上記のサイクルを繰り返す。
 そして、あるタイミング下で、パルス波P2に代えて、更に低周波、すなわち周期の長いパルス波P3を当該パルス波P3の半周期の期間T3にわたって出力する。図3Bでは、正極性固定のパルス波P2とその直後の負極性固定のパルス波P2に代えて、正極性固定のパルス波P3とその直後の負極性固定のパルス波P3が、パルス発生部4から出力されている状態のパルス波形が示されている。その後は、再び、パルス波P1とパルス波P2のサイクルに復帰している。
 更に、本実施形態のパルス発生部4は、タイミングに応じて、パルス波P2に代えて出力するパルス波P3の周波数を変更する。図4は、パルス波P3を出力するタイミング毎に、そのパルス波P3の出力時間をパルス波P2の出力時間との比率で示した表である。なお、図4においてnは自然数とする。
 図4に示される例によれば、パルス発生部4は、最初のパルス波Pの出力を開始してから13秒経過した後、パルス波P2に代えて波長を7倍(周波数1/7)にしたパルス波P3を同パルス波の半周期にわたって、すなわちT3(=7T2)の期間にわたって出力する。その後、パルス発生部4は、期間T1にわたるパルス波P1の出力と期間T2にわたるパルス波P2の出力を繰り返しに復帰する。
 次に、前回パルス波P3を出力してから10秒経過した後、パルス波P2に代えて波長を6倍(周波数1/6)のパルス波P3を同パルス波の半周期にわたって、すなわちT3(=6T2)の期間にわたって出力する。その後、パルス発生部4は、期間T1にわたるパルス波P1の出力と期間T2にわたるパルス波P2の出力の繰り返しに復帰する。以下、図4に示す表に基づき、パルス発生部4から発生されるパルス波Pの周波数は同様に変更される。
 つまり、パルス発生部4は、所定のタイミングに応じてパルス波P2に代えてそれよりも低周波のパルス波P3を出力すると共に、この周波数もタイミング毎に変更する構成である。
 図5A、図5B、及び図5Cは、それぞれパルス発生部4からのパルス波PがP1、P2、及びP3である場合における電極先端付近への熱伝達の様子を模式的に示す図である。各図面において、濃く塗りつぶされている箇所は熱が伝達されている領域を示している。
 上述したように、通常の点灯動作時における標準周波数f1のパルス波P1が出力されている間は、アーク22の起点となる突起21に対して短時間の間熱が伝達される。このため、その周辺領域に対しては熱が伝達されず、突起21の周辺位置又は離れた位置に微小突起23が形成される(図5A参照)。
 標準周波数f1よりも低い周波数f2のパルス波P2が出力されている間(期間T2)、高圧放電ランプ10の2つの電極21間に印加される電圧の正負が反転しない。このため、当該期間T2にわたって、一方の電極から他方の電極に対して所定の極性の電圧が印加され続ける。これにより、加熱領域が拡大し、突起21の周辺位置に対しても熱が伝達され、この位置に形成されていた微小突起23は昇華されて消滅する。しかし、突起21から離れた位置までは熱が伝達されないため、かかる位置に形成されていた微小突起は依然として残存している(図5B参照)。
 そして、上述したように、本発明の構成によれば、パルス発生部4があるタイミングでパルス波P3を出力することで、期間T2よりも更に長い期間T3にわたって、一方の電極から他方の電極に対して所定の極性の電圧が印加され続ける。パルス波P3が印加される時間は、パルス波P2の印加時間よりも長いため、電極の加熱時間が伸び、パルス波P2の印加では届かなかった電極先端付近から離れた箇所まで熱を伝達させることができる。これにより、突起21から離れた位置に形成されていた微小突起23も消滅させることができる(図5C参照)。
 しかも、本発明の構成によれば、タイミングに応じてパルス波P3の周波数を異ならせるため、電極への加熱時間が変化する。従って、熱が伝達する領域が変化するので、様々な箇所に形成される微小突起23を確実に消滅させることができると共に、微小突起23と結合することによる突起21の移動を回避できる。
 周波数制御部43は、図3A、図3Bで参照したようなパルス波をパルス発生回路41から出力させるように周波数制御を行う。図6Aは、周波数制御部43の一構成例を模式的に示すブロック図である。図6Aに示すように、周波数制御部43は、時間計測部51、メモリ部52、及び周波数決定部53を備える。
 時間計測部51は、パルス波の出力を開始してからの経過時間を測定するタイマに対応する。メモリ部52は、例えばROMで構成され、パルス波P1の周波数f1、パルス波P1の連続出力時間T1、パルス波P2の周波数f2、パルス波P2の連続出力時間T2、及び図4に示すデータテーブルに関する各種情報を記憶している。周波数決定部53は、時間計測部51から与えられる経過時間に関する情報と、メモリ部52に記憶されている情報に基づいて演算を行い、パルス波Pの周波数を決定してパルス発生回路41に出力する。なお、図3A及び図3Bの例によれば、時間T2はパルス波P2の半周期長に設定される。
 周波数決定部53は、まず、パルス発生開始時において、パルス発生回路41に対し、周波数f1のパルス波を出力させるよう設定する。次に、時間計測部51からの情報により、時間T1の経過を検知すると、周波数決定部53は、メモリ部52に記憶されているパルス波P2の周波数f2を読み出し、この周波数f2のパルス波を出力させるように設定する。更に、時間計測部51からの情報により、時間T2の経過を検知すると、メモリ部52に記憶されているパルス波P1の周波数f1を読み出し、再び周波数f1のパルス波を出力させるよう設定する。周波数制御部43は、以下このような制御を繰り返す。
 また、時間計測部51からの情報により、データテーブルに記載された所定の時間の経過を検知すると、周波数決定部53は、当該タイミングに対応したパルス波P3の周波数f3をメモリ部52に記憶されているデータテーブルから読み出し、この周波数f3のパルス波を出力させるように設定する。
 なお、図4に示したデータテーブルでは、パルス波P3の周波数f3に関する情報がパルス波P2の周波数f2に対する比率で記載されているが、周波数f3の値そのもので記載されていても構わない。
  〈周波数制御部の別構成例〉
 上述の実施形態では、周波数制御部43が、パルス発生からの経過時間によって周波数を変更する制御を行うものとしたが、他の方法を採用することも可能である。図6Bは、図6Aとは別の周波数制御部の構成例を模式的に示すブロック図である。
 図6Bに示す周波数制御部43は、時間計測部51に代えてパルスカウント部54を有している。パルスカウント部54は、パルス発生回路41から出力されるパルス波Pが入力され、波数やサイクル数を計測する。ここで、波数とは、ある時刻から連続して出力したパルス波の総波長を周期長で割った値であり、何周期分の波を出力したかに対応している。また、サイクル数とはパルス波P1とパルス波P2の組み合わせを1サイクルとしたときの、組み合わせ回数を指す。
 本構成では、メモリ部52は、パルス波P1の周波数f1、パルス波P1の連続出力波数N1、パルス波P2の周波数f2、パルス波P2の連続出力波数N2、及び図7に示すデータテーブルに関する各種情報を記憶している。図7は、図4と同様に、パルス波P3を出力するタイミング毎に、そのパルス波P3の出力時間をパルス波P2の出力時間との比率で示した表である。図7のデータテーブルは、図4とは異なり、パルス波P3の出力タイミングを、パルス波の出力開始からの経過時間ではなくサイクル数で表している。
 図7に示される例によれば、パルス発生部4は、最初のパルス波Pの出力を開始してから50回サイクルが経過した後、すなわちパルス波P1とパルス波P2の組み合わせを50回繰り返した後、パルス波P2に代えて波長を5倍(周波数1/5)のパルス波P3を同パルス波の半周期にわたって、すなわちT3(=5T2)の時間にわたって出力する。その後、パルス発生部4は、時間T1にわたるパルス波P1の出力と時間T2にわたるパルス波P2の出力を繰り返しに復帰する。
 次に、前回パルス波P3を出力してから100回サイクルが経過した後、すなわちパルス波P1とパルス波P2の組み合わせを100回繰り返した後、パルス波P2に代えて波長を6倍(周波数1/6)のパルス波P3を同パルス波の半周期にわたって、すなわちT3(=6T2)の時間にわたって出力する。その後、パルス発生部4は、時間T1にわたるパルス波P1の出力と時間T2にわたるパルス波P2の出力を繰り返しに復帰する。以下、図7に示す表に基づき、パルス発生部4から発生されるパルス波Pの周波数は同様に変更される。
 周波数決定部53は、まず、パルス発生開始時において、パルス発生回路41に対し、周波数f1のパルス波を出力させるよう設定する。次に、パルスカウント部54からの情報により、パルス波P1を連続N1波だけ出力したことを検知すると、周波数決定部53は、メモリ部52に記憶されているパルス波P2の周波数f2を読み出し、この周波数f2のパルス波を出力させるように設定する。更に、時間計測部51からの情報により、パルス波P2を連続N2波だけ出力したことを検知すると、メモリ部52に記憶されているパルス波P1の周波数f1を読み出し、再び周波数f1のパルス波を出力させるよう設定する。周波数制御部43は、以下このような制御を繰り返す。
 また、パルスカウント部54からの情報により、データテーブルに記載された所定のサイクル数の経過を検知すると、周波数決定部53は、当該タイミングに対応したパルス波P3の周波数f3をメモリ部52に記憶されているデータテーブルから読み出し、この周波数f3のパルス波を出力させるように設定する。
 なお、図3A及び図3Bの例によれば、N2は1/2に設定される。また、サイクル数については、周波数決定部53においてパルス波Pの周波数を周波数f2に設定した回数をもって現在のサイクル数と認定する構成としても構わない。
  〈パルス発生部の別構成例〉
 上記実施形態では、パルス波P1、パルス波P2、及びパルス波P3は、全て同一のパルス発生回路41から出力されるものとした。これに対し、パルス発生部4が、周波数f1のパルス波P1を生成する第1のパルス発生回路と、周波数f2のパルス波P2を生成する第2のパルス発生回路を個別に有し、設定されている連続時間経過又は連続出力波数に達した段階で、パルス波を発生させる回路を前記第1又は第2のパルス発生回路の中から切り換えるものとしても構わない。
 この場合、第1のパルス発生回路からは常に同一の周波数f1のパルス波P1が生成される。また、図4又は図7に示したタイムテーブルに記載されたタイミングが到来した時点で、第2のパルス発生回路から出力されるパルス波の周波数がf2から当該タイミングに応じた周波数f3に変更され、その後再び周波数f2に再設定される。
 なお、パルス発生部4が、第2のパルス発生回路の後段において、パルス長を指定された倍数だけ引き伸ばす処理部を備えるものとしても構わない。この場合、処理部では、通常時は引き伸ばし倍数が1倍に設定され、タイムテーブルに記載されたタイミングが到来した時点で当該タイミングに応じた倍数に設定される。この構成によれば、第1及び第2のパルス発生回路からは、それぞれ固定の周波数のパルス波が出力されるものとすることができる。
 [実施例]
 図8は、本発明の点灯装置と従来の点灯装置でそれぞれ高圧放電ランプを点灯させたときの電極間電圧の経時的な変化を比較したグラフである。以下に、ランプの仕様及びランプ動作条件を示す。
 (ランプの仕様)
 ・定格電力:450W
 ・定格電圧:85V
 ・発光部の内容積:250mm
 ・電極間距離:1.5mm
 ・封入物:水銀0.29mg/mm、アルゴンガス13kPa、ハロゲン10-6~10-2μmol/mm
 (ランプ動作条件)
 ・パルス波P1の周波数:370Hz
 ・パルス波P2の周波数:90Hz
 なお、ランプ動作条件に関し、本発明の点灯装置による場合は、上述したように、これらに加えて、所定のタイミング(例えば図4、図7参照)でパルス波P2に代えて、タイミング毎にパルス波P2に対する周波数比率で指定された周波数のパルス波P3を出力する。一方、従来の点灯装置は、このような処理を行わず、パルス波P1とP2のサイクルを単に繰り返しているだけである。
 図8において、横軸は点灯開始からの経過時間、縦軸は高圧放電ランプの電極間電圧を示している。本発明の点灯装置による結果を実線で、従来の点灯装置による結果を破線で表している。
 微小突起23の形成やアーク22の起点となる突起21の移動は、複数箇所での放電を生じさせたり、放電位置を不安定にさせる。複数箇所での放電は、電極間電圧の上昇につながり、また、突起21の移動は電極間電圧を上下に大きく変動させる要因となる。図8において、従来例のグラフで電圧が大きく上下に変動しているのは、その時点で突起21が移動したことを示唆するものである。
 図8によれば、本発明の点灯装置によって点灯をされた高圧放電ランプの電極間電圧は、従来の点灯装置によって点灯されたものと比べて、全体的に低い電圧となり、また上下変動が抑制されていることが分かる。これにより、本発明の点灯装置によって、アークの起点となる突起を保持しつつ、微小突起を消滅させる効果が得られていることが分かる。
 なお、パルス波P2に代えて更に低周波のパルス波P3を出力させる間隔は、時間制御の場合は5秒以上300秒以下、またサイクル数制御の場合は5サイクル以上5000サイクル以下とするのが好適である。パルス波P3を出力させる時間間隔をあまりに狭くすると、アークの起点となる突起21が過熱されてその形状を変形したり場合によっては消滅させてしまうおそれがあるためである。逆に、時間間隔をあまりに広くすると、突起21から離れた位置に微小突起が形成されたままの状態が長く維持されたり、突起21の移動を防止するという効果が得られないおそれがあるためである。
 [別実施形態]
 以下、別実施形態について説明する。
 〈1〉 図3Aを参照して説明した上記実施形態では、パルス発生部4が所定期間T1だけパルス波P1を出力した後、低周波のパルス波P2を半周期長T2だけ出力し、更に時間T1だけパルス波P1を出力した後、パルス波P2を先ほどと極性を変えて半周期長T2だけ出力するものとした。しかし、パルス波P2の出力態様は、このような形態に限られるものではない。
 例えば、図9Aに示すように、パルス発生部4が所定期間T1だけパルス波T1を出力した後、低周波のパルス波P2を1周期長T2だけ出力するというサイクルを繰り返すものとしても構わない。この場合、パルス波P3を出力するタイミングが到来すると、図9Bに示すように、この1周期分のパルス波P2に代えて、1周期分のパルス波P3を出力するものとして構わない。また、この場合においても、図3Bと同様に、パルス波P2に代えて挿入するパルス波P3については半周期長の時間だけに設定しても構わない。
 更に、パルス発生部4から出力されるパルス信号に含まれる低周波のパルス波P2を、パルス波P2の1.5周期など、1周期以上の時間にわたって含ませる構成としても構わない。ただし、低周波のパルス波P2の印加時間を伸ばし過ぎると、電極が加熱され過ぎてアーク起点となる突起21の形状が変化してしまうおそれがあるので、1サイクル内には低周波のパルス波P2を1周期以内に留めるのが好適である。
 〈2〉 図4や図7の例では、データテーブル上において所定のタイミングで出力させるパルス波P3の周波数を、パルス波P2の周波数に対する比率で指定されているものとして説明した。しかし、パルス波P3として出力させるべき周波数の値そのものを指定しても構わない。また、これらの表では、各タイミングでのパルス波P3の周波数が、少しずつ上昇し或いは少しずつ減少している例が示されているが、このような変化態様に限られずランダムに変化する態様でも構わない。なお、図4や図7に示した数値はあくまで一例であり、当然にこの値に限定されるものではない。
 〈3〉 上述の実施形態では、パルス波P1を連続して出力した後、パルス波P2に変更するタイミングについては、固定されているものとして説明したが、パルス波P1からパルス波P2に切り替えるタイミングについても適宜変更する構成としても構わない。これにより、電極が加熱される領域を更に変化させることができ、突起の形状を最適に保つ効果を更に高めることができる。なお、この場合、ランプのチラツキを防ぐべく、タイミングの切替は徐々に増減させるのが好適である。
 〈4〉 上述の実施形態では、パルス波P2に代えてパルス波P3を出力した後、再び期間T1にわたるパルス波P1の出力と期間T2にわたるパルス波P2の出力の繰り返しに復帰するものとして説明した。ただし、点灯開始からの経過時間が長くなってきた場合に、パルス波P3の出力中に、例外的に1周期~2周期程度のパルス波P1を挿入する構成としても構わない。これは、例えば以下のような目的である。
 図2に示したように、AC/DC部32がフルブリッジ・インバータ回路である場合には、ハイサイドのスイッチQ1及びQ4を駆動するための電源が必要となる。この電源としては例えばブートストラップ回路を用いることができ、ハイサイドのスイッチQ1及びQ4がOFF時に、不図示のブートストラップ用コンデンサに充電を行う。ただし、このコンデンサの充電量が不足すると、電源電圧が不足することでスイッチQ1及びQ4をON駆動できなくなる。このため、当該コンデンサを充電する目的で、例外的に1周期~2周期程度のパルス波P1を挿入する構成とするものとして構わない。
 別の目的としては、本発明の点灯装置を含む光源が例えばDLP(登録商標)方式のプロジェクタに用いられる場合に関するものである。DLP方式のプロジェクタにおいては、映し出される映像に悪影響が及ばないよう、カラーホイールの動きに応じて極性を反転させる制御が行われるのが通常であり、この極性反転時にコンデンサへの充電が行われる。上記と同様の理由により、点灯開始からの経過時間が長くなり、コンデンサへの充電量が不足してきた場合には、パルス波P3の出力中に、コンデンサへの充電を目的として、例外的に1周期~2周期程度のパルス波P1を挿入する構成としても構わない。
 別実施形態〈4〉で説明した内容は、あくまでパルス波P3の出力期間中に、例外的に短時間のパルス波P1を出力するというものであり、この例外時を除いてはパルス波P3の出力中は、極性が反転することはない。従って、パルス波P3の出力期間が経過後は、期間T1にわたるパルス波P1の出力と期間T2にわたるパルス波P2の出力の繰り返しに復帰する構成であるものとして構わない。
    1   :  点灯装置
    3   :  給電部
    4   :  パルス発生部
   10   :  高圧放電ランプ
   11   :  発光部
   12   :  封止部
   13   :  金属箔
   14   :  外部リード
   20a、20b   :  電極
   21   :  突起
   22   :  放電アーク
   23   :  微小突起
   29a、29b   :  電極の頭部
   30a、30b   :  電極の軸部
   31   :  降圧チョッパ部
   32   :  DC/AC変換部
   33   :  スタータ部
   34   :  電力制御部
   35   :  ドライバ
   41   :  パルス発生回路
   43   :  周波数制御部
   51   :  時間計測部
   52   :  メモリ部
   53   :  周波数決定部
   54   :  パルスカウント部

Claims (5)

  1.  所定のガスが封入された放電容器内に一対の電極が対向配置された高圧放電ランプに対して交流電流を供給する高圧放電ランプ点灯装置であって、
     パルス波を発生するパルス発生部と、
     直流電圧が供給され、前記パルス波の周波数に応じた交流電流に変換して前記高圧放電ランプに前記交流電流を供給する給電部とを備え、
     前記パルス発生部は、
      第1期間にわたって第1パルス波を出力した後、前記第1期間より短い第2期間にわたって前記第1パルス波よりも周波数の低い第2パルス波を出力するというサイクルを繰り返すと共に、
      所定のタイミングで、前記第2パルス波に代えて前記第2パルス波よりも更に周波数の低い第3パルス波を出力した後、前記サイクルに復帰することを特徴とする高圧放電ランプ点灯装置。
  2.  前記パルス発生部は、前記第3パルス波の周波数を、前記所定のタイミング毎に予め定められた周波数に変化させることを特徴とする請求項1に記載の高圧放電ランプ点灯装置
  3.  前記パルス発生部は、前記パルス波の出力を開始してからの経過時間に応じて前記所定のタイミングの到来を検知して前記第2パルス波に代えて前記第3パルス波を出力する構成であることを特徴とする請求項1又は2に記載の高圧放電ランプ点灯装置。
  4.  前記パルス発生部は、前記パルス波の出力を開始してからの前記サイクルの数に応じて前記所定のタイミングの到来を検知して前記第2パルス波に代えて前記第3パルス波を出力する構成であることを特徴とする請求項1又は2に記載の高圧放電ランプ点灯装置。
  5.  前記パルス波の周波数を調整する周波数制御部を備え、
     前記周波数制御部は、
      前記第1期間にわたって前記第1パルス波の周波数である第1周波数を設定し、引き続き前記第2期間にわたって前記第2パルス波の周波数である第2周波数を設定するという制御を繰り返すと共に、
      前記パルス波の出力を開始してからの経過時間、又は前記第1期間と前記第2期間の切替数によって前記所定のタイミングの到来を検知すると、前記第2周波数に代えて前記第3周波数を設定する制御を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の高圧放電ランプ点灯装置。
     
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